KR20020024723A - Barrier forming method for plasma display panel - Google Patents
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Abstract
본 발명은 PDP용 격벽을 성형하기 위한 방법에 관한 것이다. 본 발명에 의한 격벽성형방법은, 평면을 가지는 금형의 상면에, 격벽형성을 위한 홈을 선형으로 성형하는 과정; 상기 홈을 가지는 금형의 상면에 실리콘러버를 전사하여, 대응하는 홈을 가지는 제1실리콘러버몰드를 성형하는 과정; 그리고 글래스페이스트가 일정한 두께로 도포된 하판글래스에, 상기 제1실리콘러버몰드를 가압하여 하판그래스에 격벽을 성형하는 과정을 포함하고 있다. 금형에 의하여 얻어지는 실리콘러버몰드를 이용하여 하판그래스에 격벽을 성형함으로써, 보다 간단하게 격벽이 성형함과 동시에, 하판그래스의 굴곡에도 추종하면서 격벽을 성형할 수 있는 장점을 기대할 수 있게 된다.The present invention relates to a method for forming a partition for PDP. The partition wall forming method according to the present invention comprises the steps of linearly forming a groove for partition wall formation on an upper surface of a mold having a plane; Transferring a silicon rubber to an upper surface of the mold having the groove to form a first silicon rubber mold having a corresponding groove; And pressing the first silicon rubber mold onto the lower plate glass coated with a predetermined thickness of glass space to form a partition wall on the lower plate glass. By forming the partition wall on the bottom plate grass using the silicon rubber mold obtained by the mold, it is possible to expect the advantage that the partition wall can be formed more easily and the partition wall can be formed while following the bending of the bottom plate grass.
Description
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma display panel: 이하에서는 PDP 라고 칭함)의 격벽 성형 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 금형을 이용하여 PDP의 하판글래스에 격벽을 성형할 수 있도록 구성되는 격벽 성형 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a partition wall forming method of a plasma display panel (hereinafter referred to as PDP), and more particularly, to a partition wall forming method configured to form a partition wall on a lower plate glass of a PDP using a mold. It is about.
PDP는 차세대 디스플레이 장치로서, 디스플레이하는 영상 자체의 뛰어난 품질로 인하여, 기존의 CRT, LCD의 뒤를 이어 향후 디스플레이 분야에 있어서는 가장 넓게 사용될 것으로 예상되는 디스플레이 장치이다.PDP is the next generation display device, which is expected to be widely used in the future display field following the existing CRTs and LCDs due to the excellent quality of the displayed image itself.
개략적인 PDP의 기능을 살펴보면, 상판 및 하판글래스 사이에서 일정한 방전 공간을 형성하고, 이러한 방전공간에 방전가스를 충진시키고 있다. 이러한 방전공간에 방전전극을 이용하여 방전을 일으키고 이러한 방전에 의하여 그 내부의 방전공간의 일측에 도포된 형광층을 여기시켜 사람이 인식할 수 있는 화상을 형성하는 장치이다.Looking at the function of the schematic PDP, a constant discharge space is formed between the upper plate and the lower plate glass, and the discharge gas is filled in the discharge space. A discharge electrode is used to generate a discharge in such a discharge space and excites a fluorescent layer applied to one side of the discharge space therein to form an image that can be recognized by a person.
그리고 통상 방전공간의 형성을 위하여, 하판글래스에는 격벽이 성형되어 있다. 이러한 격벽은 상하판 글래스 사이의 방전공간을 형성하면서, 인접하는 부분과의 상호 혼신을 전기적, 광학적으로 방지는 기능을 가지고 있다.In order to form a discharge space, partition walls are formed on the bottom glass. Such a partition wall has a function of electrically and optically preventing mutual interference with adjacent portions while forming a discharge space between the upper and lower plate glass.
이와 같은 격벽의 성형방법은 스크린 프린팅법, 샌드블래스팅법, 감광성유리법 등 여러가지 방법을 이용하여 현재 성형되고 있는 실정이다. 그러나 상술한 바와 같은 격벽을 형성하기 위한 종래의 방법은, 그 공정이 매우 복잡하고 정밀성을 요구하는 것이어서, 생산단가 및 생산성의 측면에서 바람직하지 못한 단점이 있는 것이다.Such a partitioning method is currently being formed using various methods such as screen printing, sandblasting, photosensitive glass, and the like. However, the conventional method for forming the partition wall as described above is that the process is very complicated and requires precision, which is undesirable in terms of production cost and productivity.
본 발명은, 보다 간단하면서도 생산성이 높은 PDP의 격벽 성형방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a simpler and more productive method for forming partition walls of PDP.
본 발명의 다른 목적은, 하판그래스와의 이형성을 확보하면서, 하판그래스의 평탄도와 굴곡에 상관 없이 균일한 격벽성형이 가능한 격벽 성형방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a partition wall forming method capable of forming a uniform partition wall regardless of the flatness and bending of the bottom plate grass while ensuring releasability with the bottom plate grass.
도 1은 일반적인 다이싱 쏘 블레이드의 단면도.1 is a cross-sectional view of a general dicing saw blade.
도 2는 다이싱 쏘가 금형을 가공하는 상태를 보인 예시도.2 is an exemplary view showing a state in which a dicing saw processes a mold.
도 3a는 본 발명의 제1실시예에 의하여 완성된 금형의 사시도.Figure 3a is a perspective view of the mold completed according to the first embodiment of the present invention.
도 3b는 본 발명의 제2실시예에 의하여 완성된 금형의 사시도.Figure 3b is a perspective view of the mold completed by the second embodiment of the present invention.
도 4a는 본 발명의 제1실시예에 의하여 완성되는 실리콘러버몰드의 공정도.Figure 4a is a process diagram of the silicon rubber mold completed by the first embodiment of the present invention.
도 4b는 본 발명의 제2실시예에 의하여 완성되는 실리콘러버몰드의 공정도.Figure 4b is a process diagram of a silicon rubber mold completed by a second embodiment of the present invention.
도 5는 본 발명의 제2실시예에 의하여 완성되는 제2실리콘러버몰드의 공정도.5 is a process diagram of a second silicon rubber mold completed by a second embodiment of the present invention.
도 6은 본 발명의 실리콘러버몰드를 이용하여 격벽을 형성하는 공정도.6 is a process chart for forming a partition wall using the silicon rubber mold of the present invention.
도 7은 본 발명에 의하여 완성된 하판그래스의 측면도.Figure 7 is a side view of the bottom plate glass completed by the present invention.
도 8은 본 발명에 의하여 완성된 하판그래스의 측면도.Figure 8 is a side view of the bottom plate glass completed by the present invention.
도 9는 본 발명의 공정을 보인 플로챠트.9 is a flow chart showing the process of the present invention.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 의한 PDP용 격벽성형방법은, 평면을 가지는 금형의 상면에, 격벽형성을 위한 홈을 선형으로 성형하는 과정; 상기 홈을 가지는 금형의 상면에 실리콘러버를 전사하여, 대응하는 홈을 가지는 제1실리콘러버몰드를 성형하는 과정; 그리고 글래스페이스트가 일정한 두께로 도포된 하판글래스에, 상기 제1실리콘러버몰드를 가압하여 하판그래스에 격벽을 성형하는 과정을 포함하여 구성되는 것을 기술적 요지로 하고 있다.PDP bulkhead forming method according to the present invention for achieving the above object, the process of linearly forming a groove for forming the partition on the upper surface of the mold having a plane; Transferring a silicon rubber to an upper surface of the mold having the groove to form a first silicon rubber mold having a corresponding groove; The technical gist of the present invention includes a process of forming a partition wall on the bottom plate glass by pressing the first silicon rubber mold onto the bottom plate glass coated with a predetermined thickness.
그리고 본 발명의 다른 실시예에 의한 PDP용 격벽성형방법은, 평면을 가지는 금형의 상면에, 격벽형성을 위한 홈을 선형으로 성형하는 과정; 상기 홈을 가지는 금형의 상면에 실리콘러버를 전사하여, 대응하는 홈을 가지는 제1실리콘러버몰드를 성형하는 과정; 상기 제1실리콘러버몰드의 상면에 실리콘러버를 전사하여, 대응하는 홈을 가지는 제2실리콘러버몰드를 성형하는 과정; 그리고 상기 글래스페이스트가 일정한 두께로 도포된 하판글래스에, 상기 제2실리콘러버몰드를 가압하여 하판그래스에 격벽을 성형하는 과정을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.And a partition wall forming method for PDP according to another embodiment of the present invention, the process of linearly forming a groove for forming the partition on the upper surface of the mold having a plane; Transferring a silicon rubber to an upper surface of the mold having the groove to form a first silicon rubber mold having a corresponding groove; Transferring a silicon rubber to an upper surface of the first silicon rubber mold to form a second silicon rubber mold having a corresponding groove; And forming a partition wall on the bottom plate glass by pressing the second silicon rubber mold onto the bottom plate glass coated with the predetermined thickness.
그리고 상기 금형은 초경합금재질로 만들어지거나, 유리 또는 실리콘카바이드 등으로 만들어질 수 있다. 그리고 이와 같은 금형에 형성되는 홈은 다이싱 쏘 블레이드를 이용하여 성형하는 것이 바람직하다.The mold may be made of cemented carbide, glass, or silicon carbide. And it is preferable to shape | mold the groove | channel formed in such a metal mold | die using a dicing saw blade.
이상과 같은 본 발명에 의하면, PDP용 격벽을 성형함에 있어서, 실리콘러버몰드를 사용하여 간단한 공정으로 제조할 수 있게 되는 특징이 있음과 동시에, 실리콘러버로 만들어지는 특성상 유연성을 가지고 있어서, 하판그래스의 굴곡에 추종하면서도 균일한 격벽을 성형하는 것이 가능하게 되는 효과를 기대할 수 있게 된다.According to the present invention as described above, in forming the PDP partition wall, there is a feature that can be manufactured by a simple process using a silicon rubber mold, and has the flexibility in the characteristics made of silicon rubber, It is possible to expect the effect of being able to form a uniform partition wall while following the bending.
다음에는 도면에 도시한 바와 같은 실시예에 기초하면서, 본 발명에 대하여 더욱 상세하게 설명하고자 한다.Next, the present invention will be described in more detail with reference to the embodiments as shown in the drawings.
이하 본 발명의 설명에 있어서, 전체적인 공정에 관한 것은 도 9에 도시한 플로챠트에 기초하고, 각각의 공정에 의하여 완성되는 금형 및 본 발명에 의한 격벽에 대해서는 도 1 내지 도 8를 참고하여 설명하기로 한다.In the following description of the present invention, the overall process is based on the flowchart shown in FIG. 9, and the mold and the partition wall according to the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 8. Shall be.
본 발명에 의한 PDP 격벽 성형방법은, 격벽을 구현하기 위한 금형을 성형하는 단계(도 9의 제110단계)에서 시작된다. 본 발명에 의한 금형의 성형에 있어서는 다이싱 쏘 블레이드를 이용하여 만들게 되는데, 일반적인 다이싱 쏘 블레이드가 도 1에 도시되어 있다. 다이싱 쏘는, 일반적으로 반도체 웨이퍼를 절단하기 위한 부분에 사용되고 있는 것이다.The PDP partition wall forming method according to the present invention starts at the step of forming a mold for implementing the partition wall (step 110 of FIG. 9). In the molding of the mold according to the present invention, a dicing saw blade is used. A general dicing saw blade is illustrated in FIG. 1. Dicing saws are generally used for parts for cutting semiconductor wafers.
일반적으로 다이싱 쏘는, 원반형의 본체(4)와 상기 원반형 본체의 외주면에 부착되는 블레이드(2)로 구성된다. 상기 원반형의 본체(4)는, 회전하는 장치에 부착되어 회전하게 되는데, 이러한 회전시 상기 블레이드(2)는 공작물에 접촉하면서 공작물에 대하여 일정한 홈을 형성하면서 절단하게 되는 것이다.The dicing saw generally consists of a disc shaped body 4 and a blade 2 attached to the outer peripheral surface of the disc shaped body. The disc-shaped main body 4 is attached to a rotating device to rotate. In this rotation, the blade 2 is cut while forming a constant groove with respect to the workpiece while contacting the workpiece.
이러한 블레이드(2)는, 통상 다이아몬드 블레이드를 사용하게 된다. 이렇게 다이아몬드 블레이드를 사용하는 다이싱 쏘 블레이드는, 화합물 반도체(GaAs), 실리콘(Si), 페라이트(Ferrite) 등의 재료에 대하여 한정적으로 사용되고 있으며, 반도체에 있어서, 적층, 선택, 제거 등과 같은 모든 반도체 공정을 마친 실리콘 웨이퍼를 일정한 칩단위로 절단하는 경우에 주로 사용되는 장치이다. 여기서 다이아몬드 블레이드(2)는, 실제 가공에 참여하는 부분으로, 통상 다이아몬드가 전착되어 사용되고 있다. 그리고 고속 회전하여, 미세한 다이아몬드 하나하나의 절삭 저항을 줄여, 치핑을 방지할 수 있는 것이 다이아몬드 블레이드의 장점이다.Such a blade 2 usually uses a diamond blade. Dicing saw blades using diamond blades are used for materials such as compound semiconductors (GaAs), silicon (Si), ferrite, etc., and all semiconductors, such as lamination, selection, and removal, are used. It is a device mainly used to cut the silicon wafer after the process by a certain chip unit. The diamond blade 2 is a part which participates in actual processing, and diamond is electrodeposited and used normally. In addition, the high-speed rotation can reduce the cutting resistance of each fine diamond, preventing chipping is an advantage of the diamond blade.
그리고 본 발명에 있어서, 상술한 바와 같은 다이싱 쏘 블레이드 이외에도 연삭휠을 사용하는 것이 가능하다. 즉, 본 발명에 의하면, 후술하는 바와 같은 금형을 형성할 수 있는 것이라면, 다이싱 쏘 블레이드 또는 연삭휠과 같은 장치를 이용하는 것이 가능하게 된다.In the present invention, it is possible to use a grinding wheel in addition to the dicing saw blade as described above. That is, according to the present invention, it is possible to use a device such as a dicing saw blade or a grinding wheel as long as it can form a mold as described later.
그리고 도 2에는 이러한 다이아몬드 블레이드를 이용하여, 공작물(W)에 일정한 홈을 가공하는 상태를 예시하고 있다. 본 발명에 의하면, 상기 공작물(W)은, 후술하는 실리콘러버몰딩(41,51)을 형성하기 위한 금형이 되고, 그것에 의하여 성형되는 홈(BG)는 후술하는 바와 같이 격벽형성을 위한 홈이 될 것이다.And in FIG. 2, the state which processes a certain groove | channel in the workpiece | work W is illustrated using this diamond blade. According to the present invention, the workpiece W becomes a mold for forming the silicon rubber moldings 41 and 51 to be described later, and the grooves BG formed thereby become grooves for forming the partition as described later. will be.
더욱이 도 2에서 알 수 있는 바와 같이, 다이아몬드 블레이드를 이용하여, 금형(W)의 상면에 성형되는 격벽형성홈(BG)은 직사각형의 단면형상을 가지게 되는데, 이는 다른 어떠한 장치를 이용하는 것보다 정확한 직사각형을 만들 수 있게 된다.Further, as can be seen in Figure 2, using a diamond blade, the partition wall forming groove (BG) formed on the upper surface of the mold (W) has a rectangular cross-sectional shape, which is more accurate than using any other device You will be able to create
본 발명에 의한 격벽 형성용 금형은, 일정한 내화학적 내마모성 재질을 충분히 구비하는 것을 사용하는 것이 바람직한 것으로, 초경합금을 그 대표적인 예로 들 수 있다. 실제 가공에 있어서, 금형의 가공시 발생하는 가스에 대응하기 위하여 금형의 재료는 일정한 내화학적 성질을 갖추어야 하고, 본 발명에 의한 격벽 형성 공정이 반복되는 경우에 지속적으로 정확한 형상을 유지하기 위하여 내마모성이 구비되어야 한다. 이러한 성질을 구비하고 있는 것으로써 대표적으로 초경합금을 들 수 있을 것이다. 또는 상기와 같은 금형을 완성할 수 있는 것은, 초경합금 이외에도, 유리, 실리콘(실리콘 웨이퍼), 실리콘카바이드 등도 가능하다.It is preferable to use what has sufficient constant chemical-wear-resistant material for the partition wall formation metal mold | die which concerns on this invention, and a cemented carbide is the typical example. In actual processing, in order to cope with the gas generated during processing of the mold, the material of the mold must have a certain chemical resistance property, and wear resistance is required to maintain a consistently accurate shape when the partition wall formation process according to the present invention is repeated. Should be provided. Carbide alloys may be cited as one having such properties. Alternatively, in addition to the cemented carbide, glass, silicon (silicon wafer), silicon carbide, and the like can be completed in addition to the cemented carbide.
상기와 같은 과정을 거치는 것에 의하여, 완성되는 금형이 도 3에 도시되어 있다. 도 3a에 도시한 금형(31)은, 완성될 하판그래스에서 격벽(64)(도 7 참조) 사이의 간격에 해당하는 홈(33)이 상술한 다이싱 쏘 블레이드에 의하여 성형된 것이다. 그리고 도 3b에 도시한 금형(32)은, 완성될 하판그래스의 격벽(64)(도 7 참조)에 해당하는 홈(34)이 상기 다이싱 쏘 블레이드에 의하여 완성된 것이다.By going through the above process, the completed mold is shown in FIG. In the mold 31 shown in Fig. 3A, a groove 33 corresponding to a gap between the partition walls 64 (see Fig. 7) in the bottom plate grass to be completed is formed by the dicing saw blade described above. In the mold 32 shown in FIG. 3B, the groove 34 corresponding to the partition wall 64 (see FIG. 7) of the bottom plate grass to be completed is completed by the dicing saw blade.
이와 같이 금형(31)이 완성되면 다음에는 연성을 가진 재료를 이용하여 유연성이 있는 몰드를 성형하는 과정이 진행된다. 먼저 유연성이 있는 몰드를 대표하는 일실시예로서 실리콘러버몰드를 형성하는 과정을 통하여, 본 발명을 설명한다.As such, when the mold 31 is completed, a process of molding a flexible mold using a ductile material is performed. First, the present invention will be described through a process of forming a silicone rubber mold as an exemplary embodiment of a flexible mold.
상기 과정을 거쳐 금형(31,32)이 완성되면, 상기 과정에서 홈(33,34) 가공된 금형을 이용하여 실리콘러버 재질로 실리콘러버몰드(41,42)를 성형하게 된다(도 9의 제120단계).When the molds 31 and 32 are completed through the above process, the silicon rubber molds 41 and 42 are formed of a silicon rubber material by using the grooves 33 and 34 processed in the process (see FIG. 9). Step 120).
도 4a에 도시한 실리콘러버몰드(41)를 형성하는 것은, 도 3a의 금형(31)의 상부에 액상의 실리콘러버를 부어서 완성되는 것이다. 이러한 과정을 살펴보면, 실리콘러버에 경화재를 일정한 비율(예를 들면 약 10중량%) 정도를 완전히 희석시킨 다음에, 적절한 온도(예를 들면 약 38℃ 전후)에서, 상기 금형(31)의 상부에 부어서, 일정한 시간(예를 들면 24시간 시간 정도)이 경과하게 되면, 상기 실리콘러버몰드(41)가 완성될 수 있게 된다.Forming the silicon rubber mold 41 shown in FIG. 4A is completed by pouring a liquid silicon rubber on the upper part of the metal mold 31 of FIG. 3A. Looking at this process, after completely diluting a predetermined ratio (for example, about 10% by weight) of the curing material in the silicone rubber, and then at an appropriate temperature (for example, about 38 ℃), the upper portion of the mold 31 Poured, when a predetermined time (for example, about 24 hours) elapses, the silicon rubber mold 41 can be completed.
여기서 도 3a에 도시한 금형(31)의 홈(33)은 하판그래스의 격벽(64)(도 7 참조) 사이의 간격에 해당하는 것이기 때문에, 실제로 도 4a에 도시한 바와 같이 상기 금형(31)을 이용하여 완성되는 실리콘러버몰드(41)는, 도 6에 도시한 바와 같이 직접 하판그래스(62)의 격벽(64)를 형성할 수 있는 것이다. 따라서 도 3a에 도시한 금형(31)을 이용하여 완성되는 실리콘러버몰드(41)의 하측면에는, PDP의 하판그래스의 격벽을 형성할 수 있는 격벽성형홈(43)이 완성되는 것이다.Since the grooves 33 of the mold 31 shown in FIG. 3A correspond to the gaps between the partition walls 64 (see FIG. 7) of the bottom plate grass, the mold 31 is actually shown in FIG. 4A. As shown in FIG. 6, the silicon rubber mold 41 completed by using the above can directly form the partition 64 of the bottom plate grass 62. Therefore, the partition wall forming groove 43 which can form the partition wall of the bottom plate grass of a PDP is completed in the lower surface of the silicon rubber mold 41 completed using the metal mold 31 shown in FIG. 3A.
그리고 도 3b에 도시한 금형(32)을 이용하여, 상술한 방법으로 1차적으로 실리콘러버몰드(42)를 만들게 되면, 도 4b에 도시한 바와 같은 실리콘러버몰드(42)가 완성된다. 이러한 실리콘러버몰드(42)의 저면에 성형되는 홈(44)은 격벽사이의 간격에 해당하는 것이어서, 이러한 실리콘러버몰드(42)로써는 직접 하판그래스의 격벽을 성형할 수 없기 때문에, 도 5에 도시한 바와 같은 과정을 다시한번 거치게 된다.When the silicon rubber mold 42 is made primarily by the above-described method using the mold 32 shown in Fig. 3B, the silicon rubber mold 42 as shown in Fig. 4B is completed. Since the grooves 44 formed on the bottom surface of the silicon rubber mold 42 correspond to the gaps between the partition walls, the silicon rubber mold 42 cannot directly form the partition wall of the bottom plate grass, and thus is shown in FIG. 5. You will go through the same process once again.
즉, 도시한 바와 같이, 도 4b에 도시한 상태의 실리콘러버몰드(42)를 이용하여, 다시한번 실리콘러버몰드(51)를 완성하게 되면, 실질적으로 상기 실리콘러버몰드(51)은, 도 4a의 실리콘러버몰드(41)과 동일한 형상이 되는 것이다.That is, as shown in FIG. 4B, when the silicon rubber mold 51 is completed once again using the silicon rubber mold 42 in the state shown in FIG. 4B, the silicon rubber mold 51 is substantially shown in FIG. 4A. It becomes the same shape as the silicon rubber mold 41 of.
여기서, 상기 도 3b에 도시한 금형(32)은, PDP의 하판그래스의 격벽에 해당하는 홈(34)을 형성하고 있기 때문에, 실리콘러버몰드(42)를 1차적으로 성형한 다음, 다시한번 상기 실리콘러버몰드(42)를 이용하여, 도 5에 도시한 실리콘러버몰드(51)를 형성하는 2차과정을 거친 후에야, PDP의 하판그래스에 격벽을 형성할 수 있는 실리콘러버몰드(51)이 완성되는 것이다. 이와 같이 동일한 재질인 실리콘을 이용하여 실리콘러버몰드(51)를 전사하는 과정에 있어서는, 실리콘러버몰드(42)와 실리콘러버몰드(51) 사이의 이형성을 확보하기 위하여, 이형제막(52)를 필요로 하게 된다. 따라서 도 5에 도시한 바와 같이, 2차에 걸쳐 실리콘러버몰드를 완성하는 경우에는, 각각의 실리콘러버몰드의 경계선에는 이형제막(52)을 형성할 수 있도록, 이형제를 도포한 다음 실리콘러버몰드(51)를 형성하는 과정이 진행되어야 할 것이다.Here, since the mold 32 shown in FIG. 3B forms the grooves 34 corresponding to the partition walls of the lower plate glass of the PDP, the silicon rubber mold 42 is primarily formed, and then, once again, After the secondary process of forming the silicon rubber mold 51 shown in FIG. 5 using the silicon rubber mold 42, the silicon rubber mold 51 capable of forming a partition on the bottom plate grass of the PDP is completed. Will be. In the process of transferring the silicon rubber mold 51 using silicon of the same material as described above, the release agent film 52 is required to secure the release property between the silicon rubber mold 42 and the silicon rubber mold 51. Done. Therefore, as shown in FIG. 5, in the case of completing the silicone rubber mold over the secondary, the release agent film 52 is formed on the boundary line of each silicone rubber mold, and then the silicone rubber mold ( 51) The process of forming will have to go on.
이상과 같은 과정을 거쳐서 완성되는 실리콘러버몰드(41,51)는, 도 6에 도시한 바와 같이, 격벽성형홈(43)을 하면에 구비하고 있음을 알 수 있다.As shown in FIG. 6, the silicon rubber molds 41 and 51 completed through the above process can be seen that the partition wall forming groove 43 is provided on the lower surface thereof.
이상에서는 금형(31)을 이용하여 실리콘러버몰드(41,51)를 완성하는 실시예를 통하여 본 발명을 설명하였다. 그러나 본 발명에 있어서 PDP의 하판그래스를 성형하기 위하여 사용되는 몰드는, 실리콘러버몰드에 한정될 수는 없다. 실리콘러버몰드와 같이 일정한 유연성을 가지는 것이면 다른 재질의 것을 사용하여 몰드를 성형하는 것도 가능하다.In the above, the present invention has been described through an embodiment in which the silicon rubber molds 41 and 51 are completed using the mold 31. However, in the present invention, the mold used for molding the bottom plate grass of the PDP cannot be limited to the silicon rubber mold. As long as it has a certain flexibility, such as silicone rubber mold, it is also possible to mold the mold using a different material.
예를 들면 실리콘 러버몰드를 대신하여, 일정한 유연성을 가지는 합성수지재 몰드를 사용할 수 있을 것이다. 합성수지재 몰드를 성형하는 것은, 상술한 공정과 거의 동일하게 구성될 수 있을 것이다. 그리고 합성수지재 몰드를 사용하는 경우에는, 상술한 몰드 성형을 위한 과정 또는 후술하는 바와 같이 그라스페이스트를 이용하여 PDP의 하판그래스를 형성하는 과정에서, 이형성이 필요하기 때문에, 합성수지재로 몰드를 만드는 경우에는 이형성이 확보되는 합성수지재로 성형하는 것이 가장 바람직하다. 따라서 예를 들면 PTEE, PFA, FEP, ETFE 등과 같은 불소계수지를 이용하는 것이 가장 바람직할 것이다. 그리고 합성수지를 이용하여 몰드를 성형하는 경우에는, 본 발명에 의한 공정 전체에서 필요로 하는 내열성 등과 같은 조건을 만족시키는 것을 선택해야 함은 물론이다.For example, a synthetic resin mold having a certain flexibility may be used instead of the silicone rubber mold. Molding the synthetic resin mold may be configured in almost the same manner as described above. In the case of using the synthetic resin mold, when the mold is made of the synthetic resin because mold release is necessary in the process for forming the mold described above or in the process of forming the bottom plate grass of the PDP using graspers as described below. It is most preferable that the molding is made of a synthetic resin material to ensure releasability. Therefore, it will be most preferable to use a fluorine resin such as, for example, PTEE, PFA, FEP, ETFE and the like. And when molding a mold using a synthetic resin, of course, it must be selected to satisfy the conditions, such as heat resistance required in the whole process according to the present invention.
또는 몰드 전체를 상기와 같은 불소계수지를 이용하는 것도 가능함은 물론이지만, 일반적인 합성수지재를 사용하여 몰드를 성형하되, 표면에는 불소코팅처리를 수행하거나, 표면에서 일정한 깊이 만큼은 상기와 같은 불소계수지를 이용하여 성형하는 것도 가능할 것이다.Alternatively, the entire mold may be used as the fluorine resin as described above, but the mold may be formed using a general synthetic resin material, but the fluorine coating may be performed on the surface, or the fluorine resin may be used at a predetermined depth from the surface. It will also be possible to mold.
따라서 본 발명에 의한 몰드는, 상술한 바와 같은 실리콘러버몰드를 사용하는 것도 가능하고, 합성수지재(바람직하기로는 불소계 합성수지재)를 이용하는 것도 가능하다. 이러한 실리콘러버몰드 및 합성수지재 몰드는, 적어도 본 발명에서 추종하고 있는 유연성을 가지고 있는 것으로 판단된다.Therefore, the mold according to the present invention can also use the silicone rubber mold as described above, or can use a synthetic resin material (preferably a fluorine-based synthetic resin material). Such a silicone rubber mold and a synthetic resin mold are considered to have at least the flexibility followed by the present invention.
그리고 이하 본 발명의 설명에 있어서는, 실리콘러버몰드를 사용하여 공정을 진행하는 것으로 설명하고자 한다. 그러나 이하의 설명에 있어서도, 상기 실리콘러버몰드는 합성수지재 몰드로 대체될 수 있음은 자명하다.In the following description of the present invention, a process using a silicon rubber mold will be described. However, in the following description, it is obvious that the silicone rubber mold can be replaced with a synthetic resin mold.
다음에는 이와 같은 실리콘러버몰드(41,51)를 이용하여, PDP의 하판그래스(62)에 격벽을 형성하는 과정이 진행된다(도 9의 제130단계).Next, a process of forming a partition on the bottom plate glass 62 of the PDP using the silicon rubber molds 41 and 51 is performed (step 130 of FIG. 9).
먼저, PDP의 하판그래스(62)의 상면에, 그래스페이스트(61)를 일정한 두께로 균일하게 도포한다. 이 때 상기 그래스페이스트(61)는 유동성을 가지고 있는 상태이고, 실제로는 소정 성분의 바인더가 소량 함유된 상태이다. 그리고 이러한 바인더는 가열하는 것에 의하여 고체화되는 성질을 가지고 있다.First, the graphite 61 is uniformly coated on the upper surface of the lower plate 62 of the PDP with a constant thickness. At this time, the graphite 61 is in a state of fluidity, and in reality, a small amount of a binder of a predetermined component is contained. And such a binder has the property of solidifying by heating.
따라서 상술한 실리콘러버몰드(41,51)를 이용하여 하판그래스(62)의 상면에 도포된 그래스페이스트(61)를 적절한 압력으로 가압하게 되고, 이와 동시에 상술한 바인더의 경화를 위하여 필요로 하는 적절한 온도조건을 부여하는 것이 바람직하다. 즉, 바인더의 경화를 위한 온도조건과, 하판그래스의 격벽성형을 위한 압력조건을 만족시킬 수 있는 분위기 하에서, 상기 실리콘러버몰드(41,51)를 그래스페이스트(61)의 상면에 가압하게 된다.Therefore, using the above-described silicon rubber mold (41, 51) to press the graphite 61 applied to the upper surface of the bottom plate grass 62 at an appropriate pressure, and at the same time suitable for the curing of the binder described above It is desirable to impart temperature conditions. That is, the silicon rubber molds 41 and 51 are pressed onto the upper surface of the grasp 61 under an atmosphere capable of satisfying a temperature condition for curing the binder and a pressure condition for forming the partition wall of the bottom plate glass.
그리고 상기 실리콘러버몰드(41,51)를 이형시키게 되면, 도 7에 도시한 바와 같이, 하판그래스(62)의 상면에 소정간격을 가지는 스트라이프 형상의 격벽(64)이 완성될 수 있을 것이다.When the silicon rubber molds 41 and 51 are released, as shown in FIG. 7, a stripe-shaped partition wall 64 having a predetermined interval may be completed on the upper surface of the bottom plate 62.
본 발명에서, 격벽(64)을 형성하기 위하여 사용하는 것은, 예를 들면 초경합금 또는 유리 등과 같은 고체상태의 금형이 아니라, 실리콘러버몰드(41,51)를 이용하고 있다. 실리콘러버몰드(41,51)는, 상술한 바와 같이 실리콘러버를 이용하여 만들어지는 것이기 때문에, 유연성을 가지고 있음은 당연하다. 본 발명에서, PDP의 하판그래스를 성형하기 위한 것으로, 유연성을 구비하고 있는 실리콘러버몰드(41,51)를 이용하는 것에 의하여 다음과 같은 장점을 기대할 수 있게 된다.In the present invention, the silicon rubber molds 41 and 51 are used to form the partition wall 64 instead of a solid mold such as cemented carbide or glass. Since the silicone rubber molds 41 and 51 are made using the silicone rubber as described above, it is natural that the silicone rubber molds 41 and 51 have flexibility. In the present invention, for forming the bottom plate grass of the PDP, the following advantages can be expected by using the silicone rubber molds 41 and 51 having flexibility.
도 8은 PDP의 하판그래스(62a)가 일정한 웨이브를 가지는 상태를 도시하고 있다. 이와 같이 일정한 하판그래스(62a)가 웨이브니스(waveness)를 가지고 있는 경우에도, 본 발명에 의한 실리콘러버몰드(41,51)를 이용하여, 격벽(64a)를 충분하게 성형할 수 있을 것이다. 즉, 본 발명에 의한 실리콘러버몰드(41,51)는, 하판그래스(62a)의 웨이브니스에 추종하면서, 그 상면에 격벽(64a)를 성형할 수 있게 되는 장점이 있다.Fig. 8 shows a state in which the lower plate grass 62a of the PDP has a constant wave. Even in the case where the constant lower plate grass 62a has a waveness, the partition 64a can be sufficiently formed by using the silicon rubber molds 41 and 51 according to the present invention. That is, the silicon rubber molds 41 and 51 according to the present invention have the advantage of being able to form the partition 64a on the upper surface thereof while following the waveiness of the lower plate grass 62a.
이상에서 살펴본 바와 같은 본 발명은, 예를 들면 텅스턴카바이드와 같은 초경합금을 이용하여 실리콘러버몰드(41,51) 또는 합성수지재 몰드를 성형한 후, 이를 이용하여 PDP의 하판그래스를 성형하는 것을 기본적인 기술적 사상으로 하고 있음을 알 수 있다.As described above, the present invention is, for example, after molding a silicon rubber mold (41, 51) or a synthetic resin mold using a cemented carbide, such as tungsten carbide, and then using it to form the bottom plate of the PDP It can be seen that the technical idea.
이러한 점은 두가지 측면에서 의미를 가질 수 있는데, 먼저 연삭 및 다이싱가공에 의하여, 초경합금의 표면을 PDP의 격막에 대응하는 홈형상을 높은 표면정도로 성형하고 이를 이용하여 실리콘러버몰드를 성형함으로써, 아주 정교한 실리콘러버몰드를 성형할 수 있다는 점과, 유연성있는 실리콘러버몰드를 이용하여 PDP의 하판그래스의 격벽을 형성하는 것에 의하여, 표면의 웨이브니스를 추종하면서 격벽을 형성할 수 있다는 점이다. 본 발명은 이와 같은 두가지 관점에서 중요한 의미를 가지는 것이다.This can be meaningful in two aspects. First, by grinding and dicing, the surface of the cemented carbide is formed into a groove shape corresponding to the diaphragm of the PDP to a high surface degree, and then the silicon rubber mold is formed. The fine silicon rubber mold can be formed, and by forming the partition wall of the bottom plate grass of the PDP using the flexible silicon rubber mold, the partition wall can be formed while following the waveiness of the surface. The present invention has an important meaning in these two aspects.
그리고 이와 같은 본 발명이 속하는 기본적인 기술적 사상의 범주 내에서, 당업계의 통상의 기술자에게 있어서는 다른 많은 변형 가능한 실시예를 구현하는 것이 가능할 것이다. 이와 같은 본 발명은, 첨부한 특허청구의 범위에 의하여 해석되어야 할 것임은 당연하다.And within the scope of the basic technical spirit to which the present invention pertains, it will be possible for those skilled in the art to implement many other embodiments that can be modified. As such, the present invention should be construed in accordance with the appended claims.
이상과 같이 구성되는 본 발명에 의하면, 종래의 격벽형성방법에 비하여, 과정상 간단하여, 생산성이 높은 하판글래스를 제공할 수 있음을 알 수 있다. 즉, 금형 및 실리콘러버몰드를 이용한 간단한 방법과 공정의 단순화로 인하여, 하판글래스 제조의 코스트다운을 실현할 수 있음과 동시에 신뢰성 있는 격벽을 성형하는 것이 가능하게 되는 잇점이 있는 것이다.According to this invention comprised as mentioned above, compared with the conventional partition wall formation method, it turns out that it is simple in process and can provide the lower plate glass with high productivity. That is, due to the simple method and process using the mold and the silicon rubber mold, it is possible to realize the cost reduction of the bottom plate glass manufacturing and to form a reliable partition wall.
또한 실리콘러버몰드를 이용하는 것에 의하여, 하판그래스의 웨이브니스에 추종하여 어떠한 곡면 상에서도, 격벽을 성형하는 것이 가능한 잇점을 기대할 수 있게 된다.Moreover, by using a silicon rubber mold, the advantage which can form a partition on any curved surface following the waveiness of the bottom plategrass can be expected.
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