KR20020016574A - 세라마이드 및(또는) 글리코세라마이드를 사용한 케라틴섬유의 보호 - Google Patents
세라마이드 및(또는) 글리코세라마이드를 사용한 케라틴섬유의 보호 Download PDFInfo
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Abstract
본 발명은 세라마이드 및 글리코세라마이드에서 선택되는 하나 이상의 화합물, 하나 이상의 양이온성 중합체, 및 하나 이상의 양쪽성 중합체를 함유하는 케라틴 섬유 보호용 조성물; 및 화학적 트리트먼트에 앞서 세라마이드 및 글리코세라마이드에서 선택되는 하나 이상의 화합물을 포함하는 잔류형 조성물을 케라틴 섬유에 도포함으로써 화학적 트리트먼트에 의해 초래되는 손상으로부터 케라틴 섬유를 보호하는 방법 및 키트에 관한 것이다.
Description
본 발명은 세라마이드 및 글리코세라마이드에서 선택되는 하나 이상의 화합물, 하나 이상의 양이온성 중합체, 및 하나 이상의 양쪽성 중합체를 함유하는 케라틴 섬유의 보호용 조성물에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 세라마이드 및 글리코세라마이드에서 선택된 하나 이상의 화합물을 함유하는 잔류형(leave-in) 조성물을 사용하는 케라틴 섬유의 보호 방법에 관한 것이다.
케라틴 섬유, 특히 인간 모발이 대기 작용제의 작용과 염색, 탈색, 파마, 또는 릴렉싱/스트레이트닝과 같은 다양한 화학적 트리트먼트의 작용에 의해, 특히 이러한 화학적 트리트먼트의 시간에 따른 반복된 사용에 의해, 다양한 정도로 손상, 예를 들면 예민해지거나 또는 약해진다는 것은 잘 알려져 있다. 이렇게되면, 모발은 엉킴을 풀거나 스타일링하기 어렵게되고 또한 감촉이 거칠게 된다.
화학적 트리트먼트 동안 모발을 보호하기 위해, 화학적 트리트먼트 조성물에 다양한 보호 화합물을 포함시키는 것이 공지되었다. 세라마이드가 모발용 보호제로서 공지되어 있으나 이들은 때때로 알칼리 제형에서 불안정하다는 결점을 가질수 있다. 이것은 염색, 탈색, 파마 또는 릴렉싱/스트레이트닝과 같은 모발용 화학적 트리트먼트가 일반적으로 알칼리이기 때문에 문제가 될 수 있다. 상기 불안정성은 세라마이드 보호제를 함유하는 화학적 트리트먼트 조성물의 가사 수명과 보관에 특별한 난점을 초래할 수 있다. 따라서, 사용되는 화학적 트리트먼트 제형의 안정성과 상충되지 않는 모발용 보호제로서 세라마이드를 사용하는 것이 바람직할 것이다.
보호 외에, 화학적 트리트먼트 이후에 모발에 바람직한 스타일링 특성, 외관 및 촉감을 제공하는 것이 바람직하다. 엉킴을 방지하고 모발의 부드러움과 촉감을 개선하기 위하여, 또한 모발 섬유의 보호를 위하여 양이온성 중합체가 사용되었다. 그러나, 양이온성 중합체는 단독으로 사용할 경우, 특히 다른 화학적 트리트먼트가 모발위에 중첩될 때 모발 외관이 곱슬곱슬하지 않고 기름지게 만드는 경향과 같은 많은 단점을 가질 수 있다. 또한, 양쪽성 중합체도 사용되어 왔으나 그 자체만으로 사용되는 경우 마찬가지로 충분한 부드러움과 엉킴방지를 제공하지 못하였다.
따라서, 화학적 트리트먼트에 의해 초래될 수 있는 손상으로부터 모발을 보호하고, 모발이 우수한 스타일링 특성, 촉감 및 외관을 갖도록 할 수 있는 안정한 조성물에 대한 필요가 있다.
본 발명자들은 놀랍게도 화학적 트리트먼트에 앞서, 즉 예비-트리트먼트 조성물로서 케라틴 섬유에 세라마이드 및 글리코세라마이드에서 선택된 하나 이상의화합물을 함유하는 조성물을 도포함으로써 화학적 트리트먼트의 파괴로부터의 섬유 보호를 향상시킬 수 있다는 것을 발견하였다. 달리 말하면, 트리트먼트 조성물 그 자체에 세라마이드 및 글리코세라마이드에서 선택된 하나 이상의 화합물을 포함시키지 않음으로써 불안정성의 문제를 피할 수 있다. 본 발명의 한 구현예에서, 예비-트리트먼트 조성물은 예를 들면 화학적 트리트먼트에 앞서 섬유를 헹구지 않음으로써 케라틴 섬유에 잔류한다. 케라틴 섬유는 모발, 특히 인간 모발일 수 있다.
본 발명자들은 또한 세라마이드 및 글리코세라마이드에서 선택된 하나 이상의 화합물, 하나 이상의 양이온성 중합체, 및 하나 이상의 양쪽성 중합체의 배합물이, 본 발명의 특정한 구현예에서 화학적 트리트먼트가 수행된 케라틴 섬유에 우수한 보호, 촉감 및 전체적인 건강한 외관을 제공할 수 있는 조성물을 형성한다는 것을 발견하였다.
결과적으로, 본 발명의 한 주제는 세라마이드 및 글리코세라마이드에서 선택된 하나 이상의 화합물, 하나 이상의 양이온성 중합체 및 하나 이상의 양쪽성 중합체를 포함하는 케라틴 섬유 보호용 조성물이다.
본 발명의 또 다른 주제는 세라마이드 및 글리코세라마이드에서 선택된 하나 이상의 화합물을 포함하는 잔류형 조성물을 케라틴 섬유에 도포하고, 이어서 염색 조성물, 탈색 조성물, 릴렉싱 조성물 또는 파마 조성물과 같은 화학적 트리트먼트를 도포하는 것을 포함하는 케라틴 섬유의 보호 방법이다. 상기 조성물은 하나 이상의 양이온성 중합체 및 하나 이상의 양쪽성 중합체에서 선택된 하나 이상의 중합체를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 또 다른 주제는 둘 이상의 분리된 격실을 가지며, 제1 격실은 세라마이드 및 글리코세라마이드에서 선택된 하나 이상의 화합물을 포함하는 조성물을 함유하며, 제2 격실은 섬유의 화학적 트리트먼트용, 예를 들면 염색, 탈색, 파마 또는 릴렉싱용 조성물을 함유하는 케라틴 섬유의 화학적 트리트먼트용 다중-격실 키트이다. 제1 격실은 또한 하나 이상의 양이온성 중합체 및 하나 이상의 양쪽성 중합체에서 선택된 하나 이상의 중합체를 더 함유할 수 있다.
본 발명의 다른 주제는 하기 상세한 설명 및 실시예를 읽음으로써 자명해질 것이다.
세라마이드 및 글리코세라마이드
본 발명의 조성물에 사용될 수 있는 세라마이드 및 글리코세라마이드 화합물은 천연 및 합성 세라마이드, 천연 및 합성 글리코세라마이드, 천연 및 합성 유사세라마이드 및 천연 및 합성 네오세라마이드에서 선택될 수 있다.
본 발명에 따라 사용될 수 있는 대표적인 천연 및 합성 세라마이드 또는 글리코세라마이드 화합물은 하기 화학식 1을 갖는 것을 포함한다.
식 중, R1은
- 선형 및 분지의 포화 및 불포화 C5-C50탄화수소 라디칼 [여기서, 탄화수소 라디칼은 산 R6COOH (여기서, R6은 모노히드록실화 또는 폴리히드록실화될 수 있는 포화 및 불포화의 선형 및 분지된 C1-C35탄화수소 라디칼에서 선택되며, R6의 탄화수소 라디칼이 모노- 또는 폴리히드록실화된 경우, 상기 히드록실기는 모노히드록실화 또는 폴리히드록실화될 수 있는 포화 및 불포화의 선형 및 분지된 C1-C35지방산에서 선택된 화합물로 에스테르화될 수 있음)으로 선택적으로 에스테르화될 수 있는 하나 이상의 히드록실기로 치환될 수 있음],
- R"-(NR-CO)-R' 라디칼 [여기서, R은 수소 원자, 및 모노- 및 폴리히드록실화, 예를 들면 모노히드록실화, C1-C20탄화수소 라디칼에서 선택되고, R' 및 R"는 탄소수의 합이 9 내지 30의 범위인 탄화수소 라디칼에서 선택되며, R'는 이가 라디칼임], 및
- R7-O-CO-(CH2)a라디칼 [여기서, R7은 C1-C20탄화수소 라디칼에서 선택되며, a는 1 내지 12의 정수임]에서 선택되고,
R2는 수소 원자, 및 (글리코실)b, (갈락토실)c, 술포갈락토실, 포스포릴에틸아민 및 포스포릴에틸암모늄 라디칼 (여기서, b는 1 내지 4의 정수이고, c는 1 내지 8의 정수임)에서 선택되며,
R3은 수소 원자, 및 포화 및 불포화의 히드록실화 및 비-히드록실화 C1-C33탄화수소 라디칼 [여기서, 히드록실화 탄화수소 라디칼은 식 R6COOH (여기서, R6은 상기에서 정의됨)의 무기산 및 유기산에서 선택된 산으로 에스테르화될 수 있고, 또한 히드록실화 탄화수소 라디칼은 (글리코실)b, (갈락토실)c, 술포갈락토실, 포스포릴에틸아민 및 포스포릴에틸암모늄 라디칼 (여기서, b 및 c는 상기에서 정의됨)에서 선택된 라디칼로 에테르화될 수 있음]에서 선택되고, 또한 R3은 하나 이상의 C1-C14알킬 라디칼로 치환될 수 있으며, 한 구현예에서 R3은 히드록실기가 선택적으로 C16-C30α-히드록시산으로 에스테르화될 수 있는 C15-C26α-히드록시알킬 라디칼에서 선택되며,
R4는 수소 원자, 메틸 라디칼, 에틸 라디칼, 포화 및 불포화의 선형 및 분지의 선택적으로 히드록실화된 C3-C50탄화수소 라디칼, 및 -CH2-CHOH-CH2-O-R8(여기서, R8은 C10-C26탄화수소 라디칼에서 선택됨) 및 라디칼 R7-O-CO-(CH2)a라디칼 (여기서, R7은 C1-C20탄화수소 라디칼에서 선택되며, a는 1 내지 12의 정수임)에서 선택되며,
R5는 수소 원자, 및 포화 및 불포화의 선형 및 분지된, 선택적으로 모노- 및 폴리히드록실화된 C1-C30탄화수소 라디칼 [여기서, 히드록시 라디칼은 (글리코실)b, (갈락토실)c, 술포갈락토실, 포스포릴에틸아민 및 포스포릴에틸암모늄 라디칼 (여기서, b 및 c는 상기에서 정의됨)에서 선택된 라디칼로 에테르화될 수 있음]에서 선택되며,
단, R3및 R5가 수소 원자이거나, 또는 R3이 수소 원자이고 R5가 메틸 라디칼인 경우, R4는 수소 원자, 메틸 또는 에틸 라디칼이 아니다.
상기 화학식 1의 화합물 중에서, 당 분야의 숙련자는 본원에 참고로 도입되는 문헌 (Downing, Journal of Lipid Research, Vol. 35 (1994), pages 2060-2068) 또는 프랑스 특허 출원 제FR-2,673,179호에서 설명된 구조를 갖는 세라마이드 및(또는) 글리코세라마이드를 선택할 수 있다. 이들 세라마이드 및(또는) 글리코세라마이드의 구조는 하기 나타낸 7개의 세라마이드 구조에서 선택될 수 있다.
본 발명에 따른 세라마이드 및(또는) 글리코세라마이드 화합물은 R1이 C14-C22지방산 유래의 선택적으로 히드록실화된 포화 및 불포화 알킬 라디칼에서 선택되고, R2가 수소 원자이고, R3이 선택적으로 히드록실화된 선형의 포화 C11-C17라디칼, 예를 들면 C13-C15라디칼에서 선택되는 화학식 1의 화합물에서 선택될 수 있다.
이러한 화합물은, 예를 들면
- N-리놀레오일디히드로스핑고신,
- N-올레오일디히드로스핑고신,
- N-팔미토일디히드로스핑고신,
- N-스테아로일디히드로스핑고신,
- N-베헤노일디히드로스핑고신,
- N-2-히드록시팔미토일디히드로스핑고신,
- N-스테아로일파이토스핑고신,
- N-팔미트아미도헥사데칸디올,
- 2-올레아미도-1,3-옥타데칸디올, 및 이들 화합물의 혼합물이다.
또 다른 구현예에서, 세라마이드는 예를 들면 키멕스에서 MEXANYL GZ으로 판매하는 2-올레아미도-1,3-옥타데칸디올 (CTFA 명칭) 및 예를 들면 키멕스에서 MEXANYL GAA로 판매하는 N-2-히드록시팔미토일디히드로스핑고신 (CTFA 명칭: 히드록시팔미토일스핑아닌)에서 선택될 수 있다.
세라마이드 및 글리코세라마이드에서 선택된 하나 이상의 화합물은 일반적으로 케라틴 섬유에 개선된 보호를 제공하기에 효과적인 양으로 본 발명의 조성물에 존재한다. 한 구현예에서, 세라마이드 및 글리코세라마이드에서 선택된 하나 이상의 화합물은 조성물의 총 중량에 대하여 일반적으로 약 0.0005 내지 약 2 중량% 범위의 양으로 조성물에 존재한다. 또 다른 구현예에서, 세라마이드 및 글리코세라마이드에서 선택된 하나 이상의 화합물은 조성물의 총 중량에 대하여 일반적으로약 0.001 내지 약 1 중량% 범위의 양으로 조성물에 존재한다.
양이온성 중합체
본 발명의 목적상, 표현 "양이온성 중합체"는 양이온기 및(또는) 양이온기로 이온화될 수 있는 기를 함유하는 임의의 중합체를 나타낸다.
본 발명에 따라 사용될 수 있는 양이온성 중합체는 예를 들면 유럽 특허 출원 제EP-A-337354호 및 제EP-A-557203호와 프랑스 특허 제2,270,846호, 제2,383,660호, 제2,598,611호, 제2,470,596호 및 제2,519,863호에 설명된 것에서 선택될 수 있다.
본 발명의 조성물에 사용될 수 있는 양이온성 중합체는 1급, 2급, 3급, 및 4급 아민기에서 선택된 아민기를 포함하는 단량체 단위를 함유하는 것에서 선택될 수 있으며, 여기서 아민기는 중합체 주쇄의 부분을 형성할 수도 있고, 주쇄에 직접 연결된 측쇄 치환체에 포함될 수도 있다.
사용되는 양이온성 중합체는 일반적으로 약 500 내지 약 5,000,000 범위 또는 다른 구현예에서 약 1000 내지 약 3,000,000 범위의 수-평균 분자량을 가질 수 있다.
본 발명의 조성물에 사용될 수 있는 양이온성 중합체 중에 폴리아민, 폴리아미노 아미드 및 폴리4급 암모늄 중합체와 같은 중합체가 있다. 이들 유형의 중합체는 예를 들면 프랑스 특허 제2,505,348호 또는 제2,542,997호에서 설명된다. 이러한 중합체에는 하기 군 (1) 내지 (14)의 중합체가 포함될 수 있으나, 이들에 제한되지 않는다.
(1) 아크릴산 및 메타크릴산 에스테르 및 아미드에서 선택되는 하나 이상의 단량체로부터 유래되고(거나) 하기 화학식 2, 3, 4 또는 5의 단위 중 하나 이상을 포함하는 단독중합체 및 공중합체:
여기서, A는 동일하거나 상이할 수 있으며, 탄소수 1 내지 6, 예를 들면 탄소수 2 또는 3의 선형 및 분지된 알킬기에서 선택되며, 선형 및 분지된 알킬기는 예를 들면 탄소수 1 내지 4의 히드록시알킬기에서 선택될 수 있고,
R9및 R10은 동일하거나 상이할 수 있으며, 수소 및 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 예를 들면 메틸 또는 에틸에서 선택되며,
R11은 동일하거나 상이할 수 있으며, 수소 원자 및 메틸 라디칼에서 선택되고,
R12, R13및 R14는 동일하거나 상이할 수 있으며, 탄소수 1 내지 18, 예를 들면 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 및 벤질 라디칼에서 선택되며,
X-는 메토술페이트 음이온과 같이 무기산 및 유기산에서 선택되는 산 유래의 음이온, 또는 염소 이온 또는 브롬 이온과 같은 할로겐 이온이다.
군 (1)의 중합체는 또한 아크릴아미드, 메타크릴아미드, 디아세톤 아크릴아미드, 질소상에서 저급 (C1-C4) 알킬로 치환된 아크릴아미드 및 메타크릴아미드, 아크릴산 및 메타크릴산, 및 상기 산의 에스테르, 비닐피롤리돈, 비닐카프로락탐과 같은 비닐락탐 및 비닐 에스테르에서 선택될 수 있는 공단량체 유래의 하나 이상의 단위를 함유할 수 있다.
따라서, 언급될 수 있는 이들 군 (1)의 중합체에는 다음의 것들이 포함된다.
- 허큘러스에 의해 HERCOFLOC라는 상품명으로 판매되는 디메틸 술페이트 또는 디메틸 할로겐화물로 4급화된 아크릴아미드 및 디메틸아미노에틸 메타크릴레이트의 공중합체.
- 예를 들면 유럽 특허 출원 제EP-A-080976호에서 설명되고, 예를 들면 시바 가이기에서 BINA QUAT P100라는 상품명으로 판매되는 아크릴아미드 및 메타크릴로일옥시에틸트리메틸암모늄 클로라이드의 공중합체.
- 허큘러스에서 RETEN이라는 상품명으로 판매되는 것과 같은 아크릴아미드및 메타크릴로일옥시에틸트리메틸암모늄 메토술페이트의 공중합체.
- ISP에서 GAFQUAT, 예를 들면 GAFQUAT 734 또는 GAFQUAT 755라는 상품명으로 판매되는, 또는 제품명 COPOLYMER 845, 958 및 937이라는 상품명으로 판매되는 것과 같은 4급화된, 또는 비-4급화된 비닐피롤리돈/디알킬아미노알킬 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트 공중합체. 이들 공중합체는 프랑스 특허 제2,077,143호 및 제2,393,573호에서 자세하게 설명된다.
- ISP에 의하여 GAFFIX VC713이라는 상품명으로 판매되는 것과 같은 디메틸아미노메틸 메타크릴레이트/비닐카프로락탐/비닐피롤리돈 3원 중합체.
- 예를 들면, ISP에서 STYLEZE CC10이라는 상품명으로 판매되는 비닐피롤리돈/메타크릴아미도프로필디메틸아민 공중합체, 및
- ISP에서 GAFQUAT HS100이라는 상품명으로 판매되는 것과 같은 4급화된 비닐피롤리돈/디메틸아미노프로필메타크릴아미드 공중합체.
(2) 프랑스 특허 제1,492,597호에서 설명되며, 예를 들면 유니온 카바이드에서 명칭 "JR" (JR400, JR125, JR30M) 또는 "LR" (LR400, LR30M)으로 판매되는 4급 암모늄기를 함유하는 셀룰로오스 에테르 유도체. 이들 중합체는 또한 CTFA 사전에서 트리메틸암모늄기로 치환된 에폭시드와 반응한 히드록시에틸셀룰로오스의 4급 암모늄으로 정의된다.
(3) 예컨대 메타크릴로일에틸트리메틸암모늄, 메타크릴아미도프로필트리메틸암모늄 또는 디메틸디알릴암모늄 염과 그래프트된 히드록시메틸-, 히드록시에틸- 또는 히드록시프로필셀룰로오스 등의 히드록시알킬셀룰로오스와 같이 4급 암모늄의수용성 단량체와 그래프트되고, 특히 미국 특허 제4,131,576호에서 설명된 셀룰로오스 공중합체 또는 셀룰로오스 유도체와 같은 양이온성 셀룰로오스 유도체. 이러한 정의에 해당하는 상업적인 제품에는 내셔널 스타치에서 판매되는 CELQUAT L200 및 CELQUAT H100이 포함된다.
(4) 더욱 구체적으로 미국 특허 제3,589,578호 및 제4,031,307호에서 설명된, 양이온성 트리알킬암모늄기를 함유하는 구아 검과 같은 양이온성 폴리사카라이드. 예를 들면, 2,3-에폭시프로필트리메틸암모늄의 염 (예, 염화물)으로 변형된 구아 검이 사용된다. 이러한 제품은 예를 들면 Meyhall에서 "JAGUAR", 예컨대 JAGUAR C15, JAGUAR C17 및 JAGUAR C162이라는 이름으로 판매된다.
(5) 피페라지닐 단위를 포함하며, 선택적으로 산소, 황 또는 질소원자, 또는 방향족 또는 헤테로시클릭 고리가 개재된 직쇄 또는 분지쇄의 이가의 알킬렌 또는 히드록시알킬렌 라디칼의 중합체 뿐만 아니라, 이들 중합체의 산화 및(또는) 4급화 산물. 이러한 중합체는 특히 프랑스 특허 제2,162,025호 및 제2,280,361호에서 설명된다.
(6) 특히 산성 화합물과 폴리아민의 중축합에 의해 제조된 수용성 폴리아미노 아미드. 이들 폴리아미노 아미드는 에피할로히드린, 디에폭시드, 디안히드리드, 불포화 디안히드리드, 비스-불포화 유도체, 비스-할로히드린, 비스-아제티디늄, 비스-할로아실디아민, 비스-알킬 할리드로 가교결합되거나 또는 이외에 비스-할로히드린, 비스-아제티디늄, 비스-할로아실디아민, 비스-알킬 할리드, 에피할로히드린, 디에폭시드 또는 비스-불포화 유도체와 반응성인 이가의 화합물의 반응으로 생성되는 올리고머로 가교결합될 수 있다. 가교결합제는 폴리아미노 아미드의 아민기 당 약 0.025 내지 약 0.35 몰 범위의 비율로 사용된다. 이들 폴리아미노 아미드는 알킬화 될 수 있거나, 또는 이들이 하나 이상의 3급 아민 관능기를 함유하는 경우 4급화될 수 있다. 이러한 중합체는 특히 프랑스 특허 제2,252,840호 및 제2,368,508호에서 설명된다.
(7) 폴리알킬렌 폴리아민과 폴리카르복실산의 중축합에 이어 이관능성 화합물에 의한 알킬화에 의해 생성되는 폴리아미노 아미드 유도체. 예를 들면, 아디프산/디알킬아미노히드록시알킬디알킬렌트리아민 중합체 (여기서, 알킬 라디칼은 1 내지 4의 탄소원자를 함유하며, 예를 들면 메틸, 에틸 또는 프로필임)가 언급될 수 있다. 이러한 중합체는 구체적으로 프랑스 특허 제1,583,363호에서 설명된다.
이러한 중합체 중에서, 더욱 구체적으로 산도즈 회사에서 상품명 CARTARETINE F, F4 또는 F8로 판매되는 아디프산/디메틸아미노히드록시프로필/디에틸렌트리아민 중합체가 언급될 수 있다.
(8) 두 개의 1급 아민기 및 하나 이상의 2급 아민기를 함유하는 폴리알킬렌 폴리아민과 디글리콜산 및 탄소수 3 내지 8의 포화 지방족 디카르복실산에서 선택되는 디카르복실산과의 반응에 의해 수득되는 중합체. 폴리알킬렌 폴리아민 대 디카르복실산의 몰 비는 약 0.8:1 내지 약 1.4:1의 범위이다. 이로부터 생성되는 폴리아미노 아미드는 폴리아미노 아미드의 2급 아민기에 대한 에피클로로히드린의 몰비가 약 0.5:1 내지 약 1.8:1의 범위로 에피클로로히드린과 반응시킨다. 이러한 중합체는 구체적으로 미국 특허 제3,227,615호 및 제2,961,347호에서 설명되며, 허큘러스에서 상품명 HERCOSETT 57로 판매되거나, 또는 아디프산/에폭시프로필/디에틸렌트리아민의 공중합체인 경우 상품명 PD170 또는 DELSETTE 101로 판매된다.
(9) 사슬의 주 성분으로서 하기 화학식 6 또는 7에 해당하는 단위를 함유하는 단독중합체 또는 공중합체와 같은 알킬디알릴아민 또는 디알킬디알릴암모늄의 시클로중합체:
식 중, d 및 e는 0 또는 1이고, d+e의 합은 1이며,
R17은 수소 원자 및 메틸 라디칼에서 선택되고,
R15및 R16은 동일하거나 상이할 수 있으며, 비치환된 C1-C22알킬기, C1-C5히드록시알킬기, 및 C1-C4아미도알킬기에서 선택되거나, 또는 R15및 R16은 그들이 부착된 질소원자와 함께 피페리딜 및 모르폴리닐과 같은 헤테로시클릭기를 형성할 수 있으며,
X1 -는 브롬 이온, 염소 이온, 아세테이트, 보레이트, 시트레이트, 타르트레이트, 비술페이트, 비술파이트, 술페이트 또는 포스페이트와 같은 음이온이다.
이들 중합체는 구체적으로 프랑스 특허 제2,080,759호 및 그의 부가 증명 제2,190,406호에서 설명된다. 상기 정의된 중합체 중에서, 한 예는 칼곤에서 상품명 MERQUAT 100으로 판매되는 디메틸디알릴 암모늄 클로라이드의 단독중합체 (및 저분자량의 상동체) 및 칼곤에서 상품명 MERQUAT 550으로 판매되는 디메틸디알릴 암모늄 클로라이드 및 아크릴아미드의 공중합체이다.
(10) 하기 화학식 8에 해당하는 반복 단위를 함유하는 4급 디암모늄 중합체:
식 중, R18, R19, R20및 R21은 동일하거나 상이할 수 있으며, 탄소수 1 내지 20의 지방족, 알리시클릭 및 아릴지방족 라디칼, 및 C1-C4히드록시알킬지방족 라디칼에서 선택되거나, 또는 R18, R19, R20및 R21은 함께 또는 개별적으로 그들이 부착된 질소원자와 함께 선택적으로 질소 이외의 제2 헤테로원자를 함유하는 헤테로시클을 구성하거나, 또는 R18, R19, R20및 R21은 동일하거나 상이할 수 있으며 니트릴기, 에스테르기, 아실기, 아미드기 및 -CO-O-R22-D 기 및 -CO-NH-R22-D 기 (여기서, R22는 알킬렌이고, D는 4급 암모늄기임)에서 선택되는 하나 이상의 치환체로 치환된 선형 및 분지의 (C1-C6) 알킬일 수 있고,
A1및 B1은 동일하거나 상이할 수 있으며, 탄소수 2 내지 20의 선형 및 분지의 포화 및 불포화 폴리메틸렌기에서 선택되고, 방향족 고리, 산소 및 황 원자 및 술폭시드, 술폰, 디술피드, 아미노, 알킬아미노, 히드록실, 4급 암모늄, 우레이도, 아미드 및 에스테르기에서 선택되는 하나 이상의 잔기를 주쇄에 연결되거나 또는 개재된 상태로 함유할 수 있으며,
X2 -는 무기산 및 유기산에서 선택되는 산 유래의 음이온, 및 염소 이온 또는 브롬 이온과 같은 할로겐 음이온에서 선택되는 음이온이며,
A1, R18및 R20는 그들이 부착된 두 질소원자와 함께 피페라진 고리를 형성할 수 있다. 이외에, A1이 선형 및 분지의 포화 및 불포화된 알킬렌 및 히드록시알킬렌 라디칼에서 선택되면, B1은 또한 기 -(CH2)f-CO-E-OC-(CH2)f-에서 선택될 수 있고,
여기서, f는 1 내지 100, 예를 들면 1 내지 50의 정수이며,
E는
a) 식 -O-G-O- [여기서, G는 선형 및 분지의 탄화수소 라디칼 및 식 -(CH2-CH2-O)g-CH2-CH2-, -(CH2-CH(CH3)-O)h-CH2-CH(CH3)- (여기서, g 및 h는 각각 1 내지 4의 정수로, 한정된 독특한 중합도를 나타내거나, 또는 평균 중합도를 나타내는 1 내지 4의 임의의 수임)에서 선택됨]의 글리콜 잔기,
b) 피페라진 유도체와 같은 비스-2급 디아민 잔기,
c) 식 -NH-J-NH- (여기서, J는 선형 및 분지의 탄화수소 라디칼에서 선택됨)의 비스-1급 디아민 잔기 또는 2가의 라디칼 -CH2-CH2-S-S-CH2-CH2- 및
d) 식 -NH-CO-NH-의 우레일렌기에서 선택된다.
이들 중합체는 일반적으로 약 1,000 내지 약 100,000의 수평균 분자량 범위를 가질 수 있다.
이러한 유형의 중합체는 예를 들면 프랑스 특허 제2,320,330호, 제2,270,846호, 제2,316,271호, 2,336,434호 및 제2,413,907호 및 미국 특허 제2,273,780호, 제2,375,853호, 제2,388,614호, 제2,454,547호, 제3,206,462호, 제2,261,002호, 제2,271,378호, 제3,874,870호, 제4,001,432호, 제3,929,990호, 제3,966,904호, 제4,005,193호, 제4,025,617호, 제4,025,627호, 제4,025,653호, 제4,026,945호 및 제4,027,020호에서 설명된다.
본 발명의 조성물에 사용될 수 있는 중합체에는 하기 화학식 9에 해당하는 반복 단위를 포함하는 것이 포함된다.
식 중, R23, R24, R25및 R26은 동일하거나 상이할 수 있으며, 탄소수 1 내지 4의 알킬 및 히드록시알킬 라디칼에서 선택되고,
j 및 k는 2 내지 20의 정수이고,
X3 -는 무기산 및 유기산에서 선택된 산 유래의 음이온이다.
이러한 중합체에는 키멕스에서 상품명 MEXOMERE PAK로 판매하는 폴리쿼터늄-34 및 키멕스에서 IONENE G 또는 MEXOMERE PO로 판매하는 헥사디메트린 클로라이드가 포함된다.
(11) 하기 화학식 10의 단위를 포함하는 폴리4급 암모늄 중합체:
식 중, m은 1 내지 6의 정수이고,
L은 단일 결합 및 -(CH2)n-CO- 기 (여기서, n은 4 또는 7에서 선택되는 정수임)에서 선택되는 기이고,
X4 -는 음이온이다.
이러한 중합체는 미국 특허 제4,157,388호, 제4,702,906호 및 제4,719,282호 및 유럽 특허 출원 제EP-A-122324호에서 설명된 절차에 따라 제조될 수 있다. 이들 중, 예를 들면 로디아에서 판매하는 MIRAPOL A15 (폴리쿼터늄-2), MIRAPOL AD1, MIRAPOL AZ1 및 MIRAPOL 175가 언급될 수 있다.
(12) 바스프에서 상품명 LUVIQUAT FC905, FC550, 및 FC370으로 판매되는 것과 같은 비닐피롤리돈 및 비닐이미다졸의 4급 중합체.
(13) CTFA 사전에서 폴리에틸렌 글리콜 (15) 탈로우 폴리아민으로 언급되고, 예를 들면 헨켈에서 POLYQUARTH로 판매되는 제품과 같은 폴리아민.
(14) 염화메틸로 4급화된 디메틸아미노에틸 메타크릴레이트의 단독중합반응, 또는 아크릴아미드와 염화메틸로 4급화된 디메틸아미노에틸 메타크릴레이트의 공중합반응과, 뒤 이은 올레핀계 불포화를 함유하는 화합물, 특히 메틸렌비스아크릴아미드를 사용한 가교결합에 의해 수득되는 중합체와 같은 메타크릴로일옥시 (C1-C4)알킬트리(C1-C4)알킬암모늄염의 가교결합된 중합체. 더욱 구체적으로는 아크릴아미드/메타크릴로일옥시에틸트리메틸암모늄 클로라이드 (20/80 중량비) 가교결합된 공중합체를 광유 중의 상기 공중합체 50 중량%를 함유하는 분산액의 형태로 사용하는것이 가능하다. 상기 분산액은 얼라이드 콜로이드사에서 SALCARE (등록상표) SC92로 판매된다. 또한, 광유 또는 액체 에스테르 증에 약 50 중량%의 단독중합체를 함유하는 메타크릴로일옥시에틸트리메틸암모늄 클로라이드의 가교결합된 단독중합체를 사용하는 것도 가능하다. 이러한 분산액은 얼라이드 콜로이드사에서 SALCARE (등록상표) SC95 및 SALCARE (등록상표) SC96으로 판매된다.
본 발명의 맥락에서 사용될 수 있는 다른 양이온성 중합체는 폴리알킬렌이민, 특히 폴리에틸린이민, 비닐피리딘 또는 비닐피리디늄 단위를 함유하는 중합체, 폴리아민과 에피클로로히드린의 축합물, 폴리4급 우레일렌 및 키틴 유도체이다.
본 발명에 따라 사용될 수 있는 양이온성 중합체 중에서, 예를 들면 다음과 같은 군 (1), (9), (10), (11) 및 (14)의 중합체를 사용할 수 있다.
- 프랑스 특허 제2,270,846호에서 설명되고 제조된, 하기 화학식 11에 해당하는 반복 단위를 포함하는 폴리(4급 암모늄) 유형의 중합체로, 한 구현예에서 겔 투과 크로마토그래피에 의해 측정하였을 때 중량-평균 분자량이 약 9500 내지 약 9900의 범위인 중합체.
- 프랑스 특허 제2,270,846호에서 설명되고 제조된, 하기 화학식 12에 해당하는 반복 단위를 포함하는 폴리(4급 암모늄) 유형의 중합체로, 한 구현예에서 겔투과 크로마토그래피에 의해 측정하였을 때 중량-평균 분자량이 약 1200인 중합체.
군 (10) 및 (11)의 양이온성 중합체에는 헥사디메트린 클로라이드, 폴리쿼터늄-2 및 폴리쿼터늄-34가 포함될 수 있다.
하나 이상의 양이온성 중합체는 일반적으로 케라틴 섬유에 개선된 스타일링을 제공하기에 충분한 양으로, 케라틴 섬유에 개선된 보호를 제공하기에 효과적인 양으로 존재하는 세라마이드 및 글리코세라마이드에서 선택된 하나 이상의 화합물을 함유하는 본 발명의 조성물에 존재한다. 한 구현예에서, 하나 이상의 양이온성 중합체는 조성물 총 중량에 대하여 약 0.01 내지 약 5 중량% 범위의 양으로 본 발명의 조성물에 존재할 수 있다. 또 다른 구현예에서, 하나 이상의 양이온성 중합체는 조성물 총 중량에 대하여 약 0.05 내지 약 2 중량% 범위의 양으로 존재할 수 있다.
양쪽성 중합체
본 발명에 따라 사용될 수 있는 양쪽성 중합체는 중합체 사슬에 불규칙하게 분포된 하기 하나 이상의 단위 K 및 하나 이상의 단위 M을 함유하는 중합체에서 선택될 수 있으며, 여기서
K는 하나 이상의 염기성 질소원자를 함유하는 단량체 유래의 단위에서 선택되고, M은 카르복실 및 술폰기에서 선택된 하나 이상의 기를 함유하는 산 단량체 유래의 단위에서 선택되거나, 또는
K 및 M은 동일하거나 상이할 수 있으며, 카르복시베타인 및 술포베타인 쯔비터이온성 단량체에서 선택된 단량체 유래의 단위에서 선택될 수 있거나, 또는
K 및 M은 동일하거나 상이할 수 있으며, 1급, 2급, 3급, 및 4급 아민기에서 선택된 하나 이상의 아민기 (여기서, 아민기들 중 적어도 하나는 탄화수소 라디칼을 통하여 아민에 연결된 카르복실 및 술폰기에서 선택된 기를 함유함)를 함유하는 양이온성 중합체 사슬에서 선택될 수 있거나, 또는
K 및 M은 카르복실기 중 하나가 1급 및 2급 아민기에서 선택된 하나 이상의 기를 함유하는 폴리아민과 반응한 α,β-디카르복실에틸렌 단위를 가진 중합체의 부분을 형성한다.
상기 주어진 정의에 해당하는 양쪽성 중합체는 하기 중합체에서 선택될 수 있다:
(1) (a) 아크릴산, 메타크릴산, 말레산, α-클로로아크릴산과 같은 카르복실기를 함유하는 비닐 화합물 유래의 하나 이상의 단량체와 (b) 디알킬아미노알킬 메타크릴레이트 및 아크릴레이트, 디알킬아미노알킬메타크릴아미드 및 -아크릴아미드와 같이 하나 이상의 염기성 원자를 함유하는 치환된 비닐 화합물 유래의 하나 이상의 염기성 단량체와의 공중합반응에 의해 생성되는 중합체. 이러한 화합물은 미국특허 제3,836,537호에서 설명된다. 헨켈 사에서 POLYQUART KE3033으로 판매되는 나트륨 아크릴레이트/아크릴아미도프로필트리메틸암모늄 클로라이드 공중합체가 언급될 수 있다.
비닐 화합물은 또한 디에틸디알릴암모늄 클로라이드와 같은 디알킬디알릴암모늄염일 수 있다. 이러한 공중합체에는 예를 들면 칼곤 사에서 상품명 MERQUAT 280 DRY (CTFA 명칭: 폴리쿼터늄-22)로 판매되는 디알릴디메틸암모늄 클로라이드/아크릴산 (80/20) 공중합체; 칼곤 사에서 상품명 MERQUAT 295 DRY (CTFA 명칭: 폴리쿼터늄-22)로 판매되는 디알릴디메틸암모늄 클로라이드/아크릴산 (95/5) 공중합체; 칼곤 사에서 상품명 MERQUAT 2001 (CTFA 명칭: 폴리쿼터늄-47)로 판매되는 메타크릴아미도프로필트리모늄 클로라이드, 아크릴산 및 메틸 아크릴레이트의 공중합체; 및 칼곤 사에서 상품명 MERQUAT PLUS3330 DRY (CTFA 명칭: 폴리쿼터늄-39)로 판매되는 아크릴아미드/디메틸디알릴암모늄 클로라이드/아크릴산 3원 중합체가 포함된다.
한 구현예에서, 공중합체는 디알릴디메틸암모늄 클로라이드/아크릴산 공중합체이다.
(2) a) 질소 상에 알킬 라디칼로 치환된 아크릴아미드 및 메타크릴아미드에서 선택된 하나 이상의 단량체,
b) 하나 이상의 반응성 카르복실기를 함유하는 하나 이상의 산성 공단량체, 및
c) 아크릴산 및 메타크릴산의 1급, 2급, 3급 및 4급 아민 치환체를 함유하는 에스테르, 및 디메틸 또는 디에틸 술페이트를 사용한 디메틸아미노에틸 메타크릴레이트의 4급화 산물와 같은 하나 이상의 염기성 공단량체에서 유래되는 단위를 함유하는 중합체.
N-치환된 아크릴아미드 또는 메타크릴아미드는 알킬 라디칼이 2 내지 12개의 탄소원자를 함유하는 기로, 예를 들면 N-에틸아크릴아미드, N-t-부틸아크릴아미드, N-t-옥틸아크릴아미드, N-옥틸아크릴아미드, N-데실아크릴아미드, N-도데실아크릴아미드 및 상응하는 메타크릴아미드이다.
산성의 공단량체는 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산, 이타콘산, 말레산 및 푸마르산 공단량체, 및 말레산, 푸마르산, 말레산 무수물 및 푸마르산 무수물 중 하나 이상의 C1-C4알킬 모노에스테르에서 선택될 수 있다.
염기성 공단량체는 아미노에틸, 부틸아미노에틸, N,N'-디메틸아미노에틸 및 N-t-부틸아미노에틸 메타크릴레이트에서 선택될 수 있다. 예를 들면, CTFA 명칭 (4판, 1991)이 옥틸아크릴아미드/아크릴레이트/부틸아미노에틸 메타크릴레이트 공중합체이고, 내셔널 스타치 사에서 상품명 AMPHOMER 또는 LOVOCRYL 47로 판매되는 공중합체가 사용될 수 있다.
(3) 하기 화학식 13의 폴리아미노 아미드로부터 부분적 또는 전체적으로 유래된 가교결합되고 알킬화된 폴리아미노 아미드:
식 중, R27은 포화 디카르복실산, 에틸렌계 이중 결합을 함유하는 지방족 모노- 및디카르복실산, 임의의 이들 산의 C1-C6알칸올 에스테르, 및 비스(1급) 및 비스(2급) 아민에서 선택된 아민에 대한 임의의 이들 산의 부가반응으로부터 유래된 라디칼에서 선택된 것 유래의 2가의 라디칼에서 선택된다. 포화 카르복실산은 예를 들면 아디프산, 2,2,4-트리메틸아디프산 및 2,4,4-트리메틸아디프산과 같은 탄소수 6 내지 10의 산, 테레프탈산, 및 예를 들면 아크릴산, 메타크릴산 및 이타콘산과 같은 에틸렌계 이중 결합을 함유하는 산에서 선택될 수 있다.
Q는 비스(1급), 모노- 및 비스(2급) 폴리알킬렌-폴리아민 라디칼에서 선택되며, 하기 비율로 존재할 수 있다.
a) 디에틸렌트리아민, 트리에틸렌테트라아민 및 디프로필렌트리아민에서 선택되는 것으로부터 유래될 수 있는 하기 화학식 14의 라디칼 60 내지 100 몰%,
(식 중, p는 2이고 q는 2 또는 3이거나, 또는 p는 3이고 q는 2임)
b) 에틸렌디아민 또는 피페라진유래의 라디칼로부터 유래된 화학식 14의 라디칼 (여기서, p는 2이고, q는 1임) 0 내지 40 몰%,
c) 헥사메틸렌디아민으로부터 유래된 화학식 14의 라디칼 (여기서, p는 6이고, q는 1임) 0 내지 20 몰%.
여기서, 폴리알킬렌-폴리아민 라디칼 Q는 에피할로히드린, 디에폭시드, 디안히드리드 및 비스-불포화 유도체에서 선택된 이관능성의 가교결합제를 일반적으로 폴리아미노 아미드의 아민기 당 약 0.025 내지 약 0.35 몰의 가교결합제 비율로 첨가하여 가교결합되고, 아크릴산, 클로로아세트산, 알칸 술톤, 및 상기 알킬화제의 염에서 선택된 알킬화제의 작용에 의하여 알킬화될 수 있다. 알킬화에 사용되는 알칸 술톤은 프로판 술톤 또는 부탄 술톤일 수 있으며, 알킬화제의 염은 나트륨 또는 칼륨 염일 수 있다.
(4) 하기 화학식 15의 쯔비터이온성 단위를 함유하는 중합체:
식 중, R28은 아크릴레이트, 메타크릴레이트, 아크릴아미드 또는 메타크릴아미드기와 같은 중합가능한 불포화기에서 선택되며,
r 및 s는 동일하거나 상이할 수 있으며, 1 내지 3의 정수에서 선택되고,
R29및 R30은 동일하거나 상이할 수 있으며, 수소 원자, 메틸, 에틸 및 프로필 라디칼에서 선택되며,
R31및 R32는 동일하거나 상이할 수 있으며, R31과 R32에 있는 탄소원자의 합이 10을 초과하지 않도록 수소 원자 및 알킬 라디칼에서 선택된다.
이러한 단위를 포함하는 중합체는 또한 디메틸- 또는 디에틸아미노에틸 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트 또는 알킬 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트, 아크릴아미드 또는 메타크릴아미드 또는 비닐 아세테이트와 같은 비-쯔비터이온성 단량체 유래의 단위를 함유할 수 있다.
예로서, 산도즈에서 DIAFORMER Z301로 판매되는 메틸 메타크릴레이트/디메틸 카르복시메틸암모니오 메틸 에틸메타크릴레이트의 공중합체가 언급될 수 있다.
(5) 하기 화학식 16, 17 및 18에 해당하는 단량체 단위를 함유하는 키토산 유래의 중합체뿐만 아니라 이들 화합물과 염기 또는 산에 의하여 형성된 염:
여기서, 단위 16은 일반적으로 0 내지 약 30 % 범위 비율로 존재하고, 단위 17은 일반적으로 약 5 내지 약 50%의 비율로 존재하며, 단위 18은 일반적으로 약 30 내지 약 90%의 비율로 존재하고, 단위 18에서 R33은 하기 화학식 19의 라디칼에서 선택되는 것으로 이해된다.
식 중, t가 0이면, R34, R35및 R36각각은 동일하거나 상이할 수 있으며, 수소 원자, 메틸 라디칼, 히드록시 라디칼, 아세톡시 라디칼, 아미노 잔기, 및 선택적으로 하나 이상의 질소원자가 개재되고(거나) 선택적으로 아민기, 히드록실기, 카르복실기, 알킬티오기, 술폰기, 알킬티오 잔기 (여기서, 알킬 잔기는 아미노 잔기를 함유함)에서 선택된 하나 이상의 치환체로 치환된 모노알킬아민 잔기 및 디알킬아민 잔기에서 선택되고, R34, R35및 R36중 하나 이상이 수소 원자이거나,
t가 1이면, R34, R35및 R36각각은 수소 원자이다.
(6) 잔 데커에서 상품명 EVALSAN으로 판매되는 N-카르복시메틸키토산 또는 N-카르복시부틸키토산과 같은 키토산의 N-카르복시알킬화에서 유래되는 중합체.
(7) 예를 들면, 프랑스 특허 제1,400,366호에서 설명되는 하기 일반식 20에 해당하는 중합체:
식 중, u는 최종 중합체 분자량이 약 500 내지 약 5,000,000, 예를 들면 약 1000 내지 약 3,000,000이 되도록 하는 값이고,
R37은 수소 원자, CH3O 라디칼, CH3CH2O 라디칼 및 페닐 라디칼에서 선택되며,
R38은 수소 및 메틸 또는 에틸과 같은 C1-C4알킬 라디칼에서 선택되고,
R39는 수소 및 메틸 또는 에틸과 같은 C1-C4알킬 라디칼에서 선택되고,
R40은 메틸 또는 에틸과 같은 C1-C4알킬 라디칼 및 식 -R41-N(R39)2(여기서, R39는 상기에서 정의되고, R41은 하기에서 정의됨)에 해당하는 라디칼에서 선택되며,
R41은 -CH2-CH2-, -CH2-CH2-CH2- 및 -CH2-CH(CH3)- 기 뿐만 아니라, 탄소수 6 이하의 이들 라디칼의 고급 동족체에서 선택된다.
(8) a) 식 -Y-Z-Y-Z-Y-의 단위를 하나 이상 함유하는 화합물에 대하여 클로로아세트산 또는 나트륨 클로로아세테이트의 작용에 의해 수득되는 중합체:
[여기서, Y는 라디칼를 나타내고, Z은 동일하거나 상이할 수 있으며, T 및 T'에서 선택될 수 있으며, T 및 T'는 동일하거나 상이할 수 있으며, 주쇄의 탄소수가 7 이하인 직쇄 또는 분지쇄를 함유하는 비치환되거나 히드록실기로 치환된 2가의 알킬렌 라디칼 (여기서, 상기 라디칼은 히드록실, 벤질아민, 아민 옥시드, 4급 암모늄, 아미드, 이미드, 알콜, 에스테르 및 우레탄기에서 선택되는 기, 및 산소, 질소, 및 황 원자에서 선택된 하나 이상의 원자를 함유할 수 있고, 1 내지 3개의 방향족 및(또는) 헤테로시클릭 고리를 더 함유할 수 있으며, 산소, 질소 및 황원자는 에테르, 티오에테르, 술폭시드, 술폰, 술포늄, 알킬아민 및 알케닐아민기의 형태로 존재할 수 있음)에서 선택됨]
b) 식 -Y-Z-Y-Z-의 중합체:
[여기서, Y는 라디칼를 나타내고, Z은 동일하거나 상이할 수 있으며, T 및 T'에서 선택될 수 있으며, 하나 이상의 Z는 T'이고, 여기서 T는 주쇄의 탄소수가 7 이하인 직쇄 또는 분지쇄를 함유하는 비치환되거나 히드록실기로 치환된 2가의 알킬렌 라디칼 (여기서, 상기 라디칼은 히드록실, 벤질아민, 아민 옥시드, 4급 암모늄, 아미드, 이미드, 알콜, 에스테르 및 우레탄기에서 선택되는 기, 및 산소, 질소, 및 황 원자에서 선택된 하나 이상의 원자를 함유할 수 있고, 1 내지 3개의 방향족 및(또는) 헤테로시클릭 고리를 더 함유할 수 있고, 산소, 질소 및 황원자는 에테르, 티오에테르, 술폭시드, 술폰, 술포늄, 알킬아민 및 알케닐아민기의 형태로 존재할 수 있음)에서 선택되고;
T'는 주쇄의 탄소수가 7 이하인 직쇄 또는 분지쇄를 갖는 비치환되거나 하나 이상의 히드록실기로 치환된 2가의 알킬렌 라디칼에서 선택되며, 상기 라디칼은 하나 이상의 질소원자를 함유하고, 질소원자는 산소원자가 선택적으로 개재된 알킬기로 치환되며, T'은 카르복실 및 히드록실 관능기에서 선택된 하나 이상의 관능기를 필수적으로 함유하고, T'은 클로로아세트산 또는 나트륨 클로로아세테이트와의 반응으로 베타인화됨]에서 선택되는 유형 -Y-Z-Y-Z의 양쪽성 중합체.
(9) N,N-디메틸아미노프로필아민과 같은 N,N-디알킬아미노알킬아민을 사용한 반아미드화 또는 N,N-디알칸올아민을 사용한 반에스테르화에 의해 부분적으로 개질된 (C1-C5)알킬 비닐 에테르/말레산 무수물 공중합체. 이들 공중합체는 또한 비닐카프로락탐과 같은 다른 비닐 공단량체를 함유할 수 있다.
본 발명에 따라 사용될 수 있는 양쪽성 중합체 중에서 예를 들면 군 (1)의 중합체를 사용할 수 있다.
하나 이상의 양쪽성 중합체는 일반적으로 케라틴 섬유에 개선된 보호를 제공하기에 효과적인 양으로 존재하는 세라마이드 및 글리코세라마이드에서 선택되는 하나 이상의 화합물을 함유하는 본 발명의 조성물에 케라틴 섬유에 개선된 스타일링을 제공하기에 충분한 양으로 존재한다. 한 구현예에서, 하나 이상의 양쪽성 중합체는 조성물의 총 중량에 대하여 약 0.01 내지 약 5 중량% 범위의 양으로 본 발명의 조성물에 존재할 수 있다. 또 다른 구현예에서, 하나 이상의 양쪽성 중합체는 조성물의 총 중량에 대하여 약 0.05 내지 약 2 중량% 범위의 양으로 본 발명의 조성물에 존재한다.
본 발명의 조성물은 또한 음이온성, 양이온성, 비이온성 및 양쪽성 계면활성제와 같은 계면활성제, 상기 논의된 양이온성 및 양쪽성 중합체 이외의 음이온성, 양이온성, 비이온성 및 양쪽성 중합체에서 선택되는 중합체, 무기 및 유기 증점제에서 선택되는 증점제, 산화방지제, 안정화제, 추진제, 포획제, 연화약, 습윤제,방향제, 산성 및 염기성화제, 태양광 차단제, 비타민, 필수 지방산, 단백질 및 단백질 유도체, 방부제, 및 불투명화제와 같은, 그러나 이들에 제한되지 않는, 모발 트리트먼트용 조성물에 통상적으로 사용되는 각종 보조제를 함유할 수 있다. 말할 필요도 없이, 당 분야의 숙련자는 본 발명과 고유하게 관련된 이로운 특성이 계획하는 첨가에 의하여 불리하게 영향을 받지 않도록, 또는 실질적으로 영향을 받지 않도록 선택적인 보조제를 선택하는 데 주의를 기울일 것이다.
본 발명의 조성물은 수성 에멀션, 겔, 분무액, 에어로졸 발포체, 크림 및 히드로알콜성 로션에서 선택된 형태일 수 있다.
본 발명은 또한 케라틴 섬유에 세라마이드 및 글리코세라마이드에서 선택된 하나 이상의 화합물을 포함하는 잔류형 조성물을 도포하고, 이어서, 헹굼없이 케라틴 섬유에 화학적 트리트먼트 조성물을 도포함으로써 파마, 릴렉싱, 탈색, 및 염색과 같은 화학적 트리트먼트에 의한 손상으로부터 인간 모발과 같은 케라틴 섬유를 보호하는 방법에 대한 것이다. 한 구현예에서, 본 발명의 방법에 사용되는 잔류형 조성물은 상기 설명된 것처럼 하나 이상의 양이온성 중합체 및 하나 이상의 양쪽성 중합체에서 선택된 하나 이상의 중합체를 더 포함한다.
본 발명은 또한 둘 이상의 별도의 격실을 포함하며, 제1 격실은 세라마이드 및 글리코세라마이드에서 선택된 하나 이상의 화합물을 포함하는 조성물을 함유하고, 제2 격실은 케라틴 섬유의 화학적 트리트먼트용 조성물을 함유하는, 케라틴 섬유의 화학적 트리트먼트용 다중-격실 키트에 대한 것이다. 한 구현예에서, 제1 격실은 또한 상기 설명한 것처럼 하나 이상의 양이온성 중합체 및 하나 이상의 양쪽성 중합체에서 선택된 하나 이상의 중합체를 함유할 수 있다.
순전히 서술의 목적이며, 어떠한 제한적인 것도 아닌, 하기 주어진 실시예가 본 발명을 더욱 명확히 이해되도록 할 것이다.
<실시예>
<실시예 1>
릴렉서 예비-트리트먼트
미용사가 하기 성분을 갖는 예비-트리트먼트 조성물을 두발 절반에 도포하고, 균일하게 분포시켰다. 상기 조성물은 우수한 촉감을 가지며, 분포시키기 쉽고, 모발에 우수한 촉감을 준다는 것이 인지되었다. 다른 두발 절반은 처리하지 않았다. 예비-트리트먼트는 이러한 방식으로 7명의 대상자에게 도포하였다.
| 성분 | %활성 물질 |
| 2-올레아미도-1,3-옥타데칸디올(키멕스에서 MEXANYL GZ으로 판매) | 0.001 |
| 헥사디메트린 클로라이드(IONENE G (키멕스)로 판매, 60% 수용액) | 1 |
| 폴리쿼터늄-22(MERQUAT-280 (칼곤)로 판매, 40% 수용액) | 0.75 |
| 유화제 및 계면활성제 | 2.6 |
| 연화약 | 0.2 |
| 습윤제 | 3 |
| 포획제 | 0.15 |
| 방부제 | 1 |
| 증점제 | 0.75 |
| pH 조정제 | pH 4.6 ±0.3으로의 적량 |
| 방향제 | 0.5 |
| 물 | 100 잔량 |
모발의 헹굼없이, 미용사가 릴렉서 조성물을 각 대상자의 전체 머리에 도포하고, 원하는 정도의 모발의 릴렉스에 충분한 시간 동안 두발 상에 조성물을 잔류시켰다. 그 후, 모발을 완전히 헹구고, 중화 샴푸로 세척하고, 다시 헹구고, 스타일링하였다. 세척 단계 전후의 모발을 평가하였다.
샴푸하기 전에, 예비-트리트먼트를 하고 릴렉스된 모발이 더 부드러운 촉감 및 더 우수한 빗질능을 가진다는 것을 발견하였다. 샴푸 후에, 릴렉스된 예비-트리트먼트된 모발이 미처리된 모발에 비해 더욱 우수한 빗질능, 더욱 평탄한 표피, 더욱 부드러운 촉감, 더 높은 수준의 광택을 가진다는 것은 발견하였다. 그 결과를 하기 표에 나타내었다. 숙련된 미용사에 의해 수행된 평가는 1 내지 5의 등급 시스템 (여기서, 1은 불량, 2는 적당, 3은 우수, 4는 매우 우수 및 5는 탁월)을 기준으로 하였다. 하기 열거된 숫자는 실험동안 수득된 7명의 머리에서 실제 읽은 값을 바탕으로 한 평균이다. ±0.3 이하의 값 차이는 값의 유의한 차이로 고려되지 않는다.
| 릴렉서의 헹굼동안 및 후, 샴푸에 앞서 | 예비-트리트먼트 있음 | 예비-트리트먼트 없음 |
| 물 하의 습윤 촉감 | 4 | 3.4 |
| 습윤 모발 촉감 | 4.2 | 3.4 |
| 엉킴 | 3.8 | 3.2 |
| 매끄러움 | 3.9 | 3.3 |
| 중화 샴푸 사용 후의 모발 | ||
| 습윤 모발 촉감 | 4.2 | 3.6 |
| 엉킴 | 4.3 | 3.6 |
| 매끄러움 | 4.3 | 3.7 |
| 부드러움 | 4.3 | 3.6 |
| 광택 | 3.8 | 3.3 |
<실시예 2>
모발 염색 예비-트리트먼트
미용사가 0.50%의 방향제가 없는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 예비-트리트먼트 조성물을 두발 절반에 도포하고, 균일하게 분포시켰다. 조성물이 모발 사이로 용이하게 도포된 것이 인식되었다. 다른 두발 절반은 처리하지 않았다. 세 대상자의 두발을 유사한 방식으로 처리하였다.
모발의 헹굼없이, 미용사가 모발 염색 조성물 (산화 염료)을 전체 머리에 도포하고, 30분 이상 동안 방치하여 목적 색상을 얻었다. 이 후, 헹군 물이 깨끗해질 때까지 모발을 완전히 헹구고, 세척 샴푸로 세척하고, 다시 헹구고, 건조하였다. 샴푸 전 및 건조 후에 모발을 평가하였다.
샴푸후에, 예비-트리트먼트를 한 염색된 모발이 습윤 모발의 엉킴방지, 습윤 모발의 매끄러움, 및 습윤 모발 촉감의 특성이 현저히 개선됨을 발견하였다. 건조 후, 염색된 예비-트리트먼트된 모발이 예비-트리트먼트되지 않은 모발에 비해 더욱 우수한 정전기 건조 모발의 매끄러움, 건조 모발 촉감, 세팅/스타일링의 용이함, 모발 탄력, 모발 작업성, 및 광택 특성을 가진 다는 것을 발견하였다. 숙련된 미용사에 의해 수행된 평가는 1 내지 5의 등급 시스템 (여기서, 1은 불량, 2는 적당, 3은 우수, 4는 매우 우수, 5는 탁월)을 기준으로 하였다. 하기 열거된 숫자는 실험동안 수득된 3명의 머리에서 실제 읽은 값을 바탕으로 한 평균이다. ±0.5 미만의 값 차이는 값의 유의한 차이로 고려되지 않는다.
| 염모제의 헹굼 후, 샴푸에 앞서 | 예비-트리트먼트 있음 | 예비-트리트먼트 없음 |
| 습윤 모발 엉킴 | 3 | 3.3 |
| 습윤 모발의 매끄러움 | 3.3 | 2.7 |
| 습윤 모발 촉감 | 3.3 | 3.3 |
| 습윤 모발의 부드러움 | 3.3 | 3.3 |
| 샴푸 사용 후의 모발 | ||
| 습윤 모발 엉킴 | 3.7 | 3 |
| 습윤 모발의 매끄러움 | 3.7 | 3 |
| 습윤 모발 촉감 | 3.3 | 2.7 |
| 모발의 부드러움 | 3 | 3.3 |
| 건조 후 모발 | ||
| 건조 모발 엉킴 | 3.3 | 3.3 |
| 정전기 | 4.7 | 3.7 |
| 건조 모발의 매끄러움 | 4 | 3.7 |
| 건조 모발의 촉감 | 3.7 | 3.3 |
| 세팅/스타일링의 용이함 | 3.7 | 3 |
| 가시적인 부피감 | 3.3 | 3 |
| 모발 탄력성 | 4 | 3 |
| 모발 작업성 | 3.7 | 3 |
| 광택 | 4 | 3.3 |
| 건조 모발의 부드러움 | 3.3 | 3 |
<실시예 3>
예비-트리트먼트 조성물
모발의 화학적 트리트먼트에 앞서 잔류형 조성물로서 사용하기 위하여 하기 예비-트리트먼트 조성물을 제조하였다.
| 성분 | %활성 물질 |
| 2-올레아미도-1,3-옥타데칸디올(키멕스에서 MEXANYL GZ으로 판매) | 0.001 |
| 헥사디메트린 클로라이드(IONENE G (키멕스)로 판매, 60% 수용액) | 0.3 |
| 폴리쿼터늄-22(MERQUAT-280 (칼곤)로 판매, 40% 수용액) | 0.15 |
| 유화제 및 계면활성제 | 5.2 |
| 연화약 | 0.05 |
| 습윤제 | 3 |
| 방부제 | 1 |
| 포획제 | 0.06 |
| pH 조정제 | pH 4.6 ±0.3으로의 적량 |
| 방향제 | 0.5 |
| 물 | 100 잔량 |
<실시예 4>
예비-트리트먼트 조성물
모발의 화학적 트리트먼트에 앞서 잔류형 조성물로서 사용하기 위하여 하기 예비-트리트먼트 조성물을 제조하였다.
| 성분 | %활성 물질 |
| 2-올레아미도-1,3-옥타데칸디올(키멕스에서 MEXANYL GZ으로 판매) | 0.001 |
| 헥사디메트린 클로라이드(IONENE G (키멕스)로 판매, 60% 수용액) | 0.06 |
| 폴리쿼터늄-22(MERQUAT-280 (칼곤)로 판매, 40% 수용액) | 0.03 |
| 유화제 및 계면활성제 | 3.7 |
| 연화약 | 0.05 |
| 습윤제 | 3 |
| 방부제 | 1 |
| 포획제 | 0.06 |
| pH 조정제 | pH 4.6 ±0.3으로의 적량 |
| 물 | 100 잔량 |
상기 기록된 설명은 본 발명의 다양한 구현예와 관련된다. 하기 청구 범위에서 정의된 본 발명의 취지 및 범위로부터 벗어남 없이 많은 변경 및 변형이 이루어질 수 있다.
본 발명에 따라, 화학적 트리트먼트에 의해 초래될 수 있는 손상으로부터 모발을 보호하고, 모발이 우수한 스타일링 특성, 촉감 및 외관을 갖도록 할 수 있는 안정한 조성물이 제공된다.
Claims (52)
- 세라마이드 및 글리코세라마이드에서 선택된 하나 이상의 화합물,하나 이상의 양이온성 중합체, 및하나 이상의 양쪽성 중합체를 포함하는 케라틴 섬유 보호용 조성물.
- 제1항에 있어서, 상기 세라마이드 및 글리코세라마이드가 천연 및 합성 세라마이드, 천연 및 합성 글리코세라마이드, 천연 및 합성 유사세라마이드, 및 천연 및 합성 네오세라마이드에서 선택되는 조성물.
- 제1항에 있어서, 상기 천연 및 합성 세라마이드 및 천연 및 합성 글리코세라마이드가 하기 화학식 1에 해당하는 조성물.<화학식 1>식 중, R1은- 선형 및 분지의 포화 및 불포화 C5-C50탄화수소 라디칼 [여기서, 탄화수소 라디칼은 산 R6COOH (여기서, R6은 모노히드록실화 또는 폴리히드록실화될 수 있는포화 및 불포화의 선형 및 분지된 C1-C35탄화수소 라디칼에서 선택되며, R6의 탄화수소 라디칼이 모노- 또는 폴리히드록실화된 경우, 히드록실기는 모노히드록실화 또는 폴리히드록실화될 수 있는 포화 및 불포화의 선형 및 분지된 C1-C35지방산에서 선택된 화합물로 에스테르화될 수 있음)으로 선택적으로 에스테르화될 수 있는 하나 이상의 히드록실기로 치환될 수 있음],- R"-(NR-CO)-R' 라디칼 [여기서, R은 수소 원자, 및 모노- 및 폴리히드록실화 C1-C20탄화수소 라디칼에서 선택되고, R' 및 R"는 탄소수의 합이 9 내지 30의 범위인 탄화수소 라디칼에서 선택되며, R'는 이가 라디칼임], 및- R7-O-CO-(CH2)a라디칼 [여기서, R7은 C1-C20탄화수소 라디칼에서 선택되며, a는 1 내지 12의 정수임]에서 선택되고,R2는 수소 원자, 및 (글리코실)b, (갈락토실)c, 술포갈락토실, 포스포릴에틸아민 및 포스포릴에틸암모늄 라디칼 (여기서, b는 1 내지 4의 정수이고, c는 1 내지 8의 정수임)에서 선택되며,R3은 수소 원자, 및 포화 및 불포화의 히드록실화 및 비-히드록실화 C1-C33탄화수소 라디칼 [여기서, 히드록실화 탄화수소 라디칼은 식 R6COOH (여기서, R6은 상기에서 정의됨)의 무기산 및 유기산에서 선택된 산으로 에스테르화될 수 있고, 또한 히드록실화 탄화수소 라디칼은 (글리코실)b, (갈락토실)c, 술포갈락토실, 포스포릴에틸아민 및 포스포릴에틸암모늄 라디칼 (여기서, b 및 c는 상기에서 정의됨)에서 선택된 라디칼로 에테르화될 수 있음]에서 선택되고, 또한 R3은 하나 이상의 C1-C14알킬 라디칼로 치환될 수 있으며,R4는 수소 원자, 메틸 라디칼, 에틸 라디칼, 포화 및 불포화의 선형 및 분지의 선택적으로 히드록실화된 C3-C50탄화수소 라디칼, 및 라디칼 -CH2-CHOH-CH2-O-R8(여기서, R8은 C10-C26탄화수소 라디칼에서 선택됨) 및 라디칼 R7-O-CO-(CH2)a라디칼 (여기서, R7은 C1-C20탄화수소 라디칼에서 선택되며, a는 1 내지 12의 정수임)에서 선택되며,R5는 수소 원자, 및 포화 및 불포화의 선형 및 분지의 선택적으로 모노- 및 폴리히드록실화된 C1-C30탄화수소 라디칼 [여기서, 히드록시 라디칼은 (글리코실)b, (갈락토실)c, 술포갈락토실, 포스포릴에틸아민 및 포스포릴에틸암모늄 라디칼 (여기서, b 및 c는 상기에서 정의됨)에서 선택된 라디칼로 에테르화될 수 있음]에서 선택되며,단, R3및 R5가 수소 원자이거나, 또는 R3이 수소 원자이고 R5가 메틸 라디칼인 경우, R4는 수소 원자, 메틸 또는 에틸 라디칼이 아니다.
- 제3항에 있어서, 상기 라디칼 R"-(NR-CO)-R'에서, R이 모노히드록실화 C1-C20탄화수소 라디칼에서 선택되는 조성물.
- 제3항에 있어서, 상기 화학식 1에서 R3이 히드록실기가 선택적으로 C16-C30α-히드록시산으로 에스테르화될 수 있는 C15-C26α-히드록시알킬 라디칼에서 선택되는 조성물.
- 제3항에 있어서, 상기 화학식 1에서 R1이 C14-C22지방산 유래의 선택적으로 히드록실화된 포화 또는 불포화의 알킬 라디칼이고, R2가 수소 원자이고, R3은 선택적으로 히드록실화된 선형의 포화 C11-C17라디칼인 조성물.
- 제6항에 있어서, 상기 R3이 선택적으로 히드록실화된 선형의 포화 C13-C15라디칼인 조성물.
- 제1항에 있어서, 상기 세라마이드 및 글리코세라마이드에서 선택된 하나 이상의 화합물이- N-리놀레오일디히드로스핑고신,- N-올레오일디히드로스핑고신,- N-팔미토일디히드로스핑고신,- N-스테아로일디히드로스핑고신,- N-베헤노일디히드로스핑고신,- N-2-히드록시팔미토일디히드로스핑고신,- N-스테아로일파이토스핑고신,- 2-올레아미도-1,3-옥타데칸디올, 및- N-팔미트아미도헥사데칸디올에서 선택되는 조성물.
- 제8항에 있어서, 상기 세라마이드 및 글리코세라마이드에서 선택된 하나 이상의 화합물이 2-올레아미도-1,3-옥타데칸디올 및 N-2-히드록시팔미토일디히드로스핑고신에서 선택되는 조성물.
- 제1항에 있어서, 상기 하나 이상의 양이온성 중합체가 1급, 2급, 3급, 및 4급 아민기에서 선택되는 아민기를 포함하는 단량체 단위를 함유하는 양이온성 중합체에서 선택되며, 여기서 아민기는 중합체 주쇄의 부분을 형성하거나, 또는 주쇄에 직접 연결된 측쇄 치환체에 포함될 수 있는 조성물.
- 제10항에 있어서, 상기 하나 이상의 양이온성 중합체가 폴리아민, 폴리아미노 아미드 및 폴리4급 암모늄 중합체에서 선택되는 조성물.
- 제1항에 있어서, 상기 하나 이상의 양이온성 중합체가 폴리쿼터늄-2, 폴리쿼터늄-34 및 헥사디메트린 클로라이드에서 선택되는 조성물.
- 제1항에 있어서, 상기 하나 이상의 양쪽성 중합체가 중합체 사슬에 불규칙하게 분포된 하나 이상의 단위 K 및 하나 이상의 단위 M을 함유하는 중합체에서 선택되며,여기서, K는 하나 이상의 염기성 질소원자를 함유하는 단량체 유래의 단위에서 선택되고, M은 카르복실 및 술폰기에서 선택된 하나 이상의 기를 함유하는 산 단량체 유래의 단위에서 선택되거나, 또는K 및 M은 동일하거나 상이할 수 있으며, 카르복시베타인 및 술포베타인 쯔비터이온성 단량체에서 선택된 단량체 유래의 단위에서 선택될 수 있거나, 또는K 및 M은 동일하거나 상이할 수 있으며, 1급, 2급, 3급, 및 4급 아민기에서 선택된 하나 이상의 아민기 (여기서, 아민기들 중 적어도 하나는 탄화수소 라디칼을 통하여 아민에 연결된 카르복실 및 술폰기에서 선택된 기를 함유함)를 함유하는 양이온성 중합체 사슬에서 선택될 수 있거나, 또는K 및 M은 카르복실기 중 하나가 1급 및 2급 아민기에서 선택된 하나 이상의 기를 함유하는 폴리아민과 반응한 α,β-디카르복실에틸렌 단위를 가진 중합체의 부분을 형성하는 조성물.
- 제13항에 있어서, 상기 하나 이상의 양쪽성 중합체가 디알킬아미노알킬 메타크릴레이트, 디알킬아미노알킬 아크릴레이트, 디알킬아미노알킬메타크릴아미드 및디알킬아미노알킬 아크릴아미드 공중합체, 및 디알킬디알릴암모늄 염에서 선택되는 조성물.
- 제14항에 있어서, 상기 하나 이상의 양쪽성 중합체가 폴리쿼터늄-22인 조성물.
- 제1항에 있어서, 상기 세라마이드 및 글리코세라마이드에서 선택되는 하나 이상의 화합물이 케라틴 섬유에 개선된 보호를 제공하기에 효과적인 양으로 존재하는 조성물.
- 제1항에 있어서, 상기 세라마이드 및 글리코세라마이드에서 선택된 하나 이상의 화합물이 조성물의 총 중량에 대하여 약 0.0005 중량% 내지 약 2 중량% 범위의 양으로 존재하는 조성물.
- 제17항에 있어서, 상기 세라마이드 및 글리코세라마이드에서 선택된 하나 이상의 화합물이 조성물의 총 중량에 대하여 약 0.001 중량% 내지 약 1 중량% 범위의 양으로 존재하는 조성물.
- 제1항에 있어서, 상기 하나 이상의 양이온성 중합체가 케라틴 섬유에 개선된 스타일링을 제공하기에 효과적인 양으로 존재하며, 또한 케라틴 섬유에 개선된 보호를 제공하기에 효과적인 양으로 존재하는 세라마이드 및 글리코세라마이드에서 선택된 하나 이상의 화합물을 함유하는 조성물.
- 제1항에 있어서, 상기 하나 이상의 양이온성 중합체가 조성물의 총 중량에 대하여 약 0.01 중량% 내지 약 5 중량% 범위의 양으로 존재하는 조성물.
- 제20항에 있어서, 상기 하나 이상의 양이온성 중합체가 조성물의 총 중량에 대하여 약 0.05 중량% 내지 약 2 중량% 범위의 양으로 존재하는 조성물.
- 제1항에 있어서, 상기 하나 이상의 양쪽성 중합체가 케라틴 섬유에 개선된 스타일링을 제공하기에 효과적인 양으로 존재하며, 케라틴 섬유에 개선된 보호를 제공하기에 효과적인 양으로 존재하는 세라마이드 및 글리코세라마이드에서 선택되는 하나 이상의 화합물을 함유하는 조성물.
- 제1항에 있어서, 상기 하나 이상의 양쪽성 중합체가 조성물의 총 중량에 대하여 약 0.01 중량% 내지 약 5 중량% 범위의 양으로 존재하는 조성물.
- 제23항에 있어서, 상기 하나 이상의 양쪽성 중합체가 조성물의 총 중량에 대하여 약 0.05 중량% 내지 약 2 중량% 범위의 양으로 존재하는 조성물.
- 제1항에 있어서, 음이온성, 양이온성, 비이온성 및 양쪽성 계면활성제에서 선택된 계면활성제, 음이온성, 비이온성, 및 추가의 양이온성 및 추가의 양쪽성 중합체에서 선택되는 중합체, 무기 및 유기 증점제에서 선택되는 증점제, 산화방지제, 안정화제, 추진제, 포획제, 연화약, 습윤제, 방향제, 산성 및 염기성화제, 태양광 차단제, 비타민, 필수 지방산, 단백질 및 단백질 유도체, 방부제, 및 불투명화제에서 선택되는 하나 이상의 보조제를 더 포함하는 조성물.
- 제1항에 있어서, 수성 에멀션, 겔, 분무액 또는 히드로알콜성 로션의 형태인 조성물.
- - 세라마이드 및 글리코세라마이드에서 선택된 하나 이상의 화합물을 포함하는 잔류형 조성물을 케라틴 섬유에 도포하는 단계,- 상기 케라틴 섬유의 화학적 트리트먼트를 위한 화학적 트리트먼트 조성물을 상기 잔류형 조성물을 갖는 케라틴 섬유에 도포하는 단계를 포함하는, 케라틴 섬유의 화학적 트리트먼트에 의해 초래되는 손상으로부터 케라틴 섬유를 보호하는 방법.
- 제27항에 있어서, 상기 화학적 트리트먼트가 염색, 탈색, 릴렉싱 및 파마에서 선택되는 방법.
- 제27항에 있어서, 상기 세라마이드 및 글리코세라마이드가 천연 또는 합성 세라마이드, 글리코세라마이드, 유사세라마이드 및 네오세라마이드에서 선택되는 방법.
- 제29항에 있어서, 상기 천연 또는 합성 세라마이드 및 글리코세라마이드가 하기 화학식 1에 해당하는 방법.<화학식 1>식 중, R1은- 선형 및 분지의 포화 및 불포화 C5-C50탄화수소 라디칼 [여기서, 탄화수소 라디칼은 산 R6COOH (여기서, R6은 모노히드록실화 또는 폴리히드록실화될 수 있는 포화 및 불포화의 선형 및 분지된 C1-C35탄화수소 라디칼에서 선택되며, R6의 탄화수소 라디칼이 모노- 또는 폴리히드록실화된 경우, 상기 히드록실기는 모노히드록실화 또는 폴리히드록실화될 수 있는 포화 및 불포화의 선형 및 분지된 C1-C35지방산에서 선택된 화합물로 에스테르화될 수 있음)로 선택적으로 에스테르화될 수 있는 하나 이상의 히드록실기로 치환될 수 있음],- R"-(NR-CO)-R' 라디칼 [여기서, R은 수소 원자, 및 모노- 및 폴리히드록실화 C1-C20탄화수소 라디칼에서 선택되고, R' 및 R"는 탄소수의 합이 9 내지 30의 범위인 탄화수소 라디칼에서 선택되며, R'는 이가 라디칼임], 및- R7-O-CO-(CH2)a라디칼 [여기서, R7은 C1-C20탄화수소 라디칼에서 선택되며, a는 1 내지 12의 정수임]에서 선택되고,R2는 수소 원자, 및 (글리코실)b, (갈락토실)c, 술포갈락토실, 포스포릴에틸아민 및 포스포릴에틸암모늄 라디칼 (여기서, b는 1 내지 4의 정수이고, c는 1 내지 8의 정수임)에서 선택되며,R3은 수소 원자, 및 포화 및 불포화의 히드록실화 및 비-히드록실화 C1-C33탄화수소 라디칼 [여기서, 히드록실화 탄화수소 라디칼은 식 R6COOH (여기서, R6은 상기에서 정의됨)의 무기산 및 유기산에서 선택된 산으로 에스테르화될 수 있고, 또한 히드록실화 탄화수소 라디칼은 (글리코실)b, (갈락토실)c, 술포갈락토실, 포스포릴에틸아민 및 포스포릴에틸암모늄 라디칼 (여기서, b 및 c는 상기에서 정의됨)에서 선택된 라디칼로 에테르화될 수 있음]에서 선택되고, 또한 R3은 하나 이상의 C1-C14알킬 라디칼로 치환될 수 있으며,R4는 수소 원자, 메틸 라디칼, 에틸 라디칼, 포화 및 불포화의 선형 및 분지의 선택적으로 히드록실화된 C3-C50탄화수소 라디칼, 및 라디칼 -CH2-CHOH-CH2-O-R8(여기서, R8은 C10-C26탄화수소 라디칼에서 선택됨) 및 라디칼 R7-O-CO-(CH2)a라디칼 (여기서, R7은 C1-C20탄화수소 라디칼에서 선택되며, a는 1 내지 12의 정수임)에서 선택되며,R5는 수소 원자, 및 포화 및 불포화의 선형 및 분지의 선택적으로 모노- 및 폴리히드록실화된 C1-C30탄화수소 라디칼 [여기서, 히드록시 라디칼은 (글리코실)b, (갈락토실)c, 술포갈락토실, 포스포릴에틸아민 및 포스포릴에틸암모늄 라디칼 (여기서, b 및 c는 상기에서 정의됨)에서 선택된 라디칼로 에테르화될 수 있음]에서 선택되며,단, R3및 R5가 수소 원자이거나, 또는 R3이 수소 원자이고 R5가 메틸 라디칼인 경우, R4는 수소 원자, 메틸 또는 에틸 라디칼이 아니다.
- 제30항에 있어서, 상기 라디칼 R"-(NR-CO)-R'에서, R이 모노히드록실화 C1-C20탄화수소 라디칼에서 선택되는 방법.
- 제30항에 있어서, 상기 화학식 1에서 R3이 히드록실기가 선택적으로 C16-C30α-히드록시산으로 에스테르화될 수 있는 C15-C26α-히드록시알킬 라디칼에서 선택되는 방법.
- 제30항에 있어서, 상기 화학식 1에서 R1이 C14-C22지방산 유래의 선택적으로 히드록실화된 포화 또는 불포화의 알킬 라디칼이고, R2는 수소 원자이며, R3은 선택적으로 히드록실화된 선형의 포화 C11-C17라디칼인 방법.
- 제33항에 있어서, 상기 R3이 선택적으로 히드록실화된 선형의 포화 C13-C15라디칼인 방법.
- 제27항에 있어서, 상기 세라마이드 및 글리코세라마이드에서 선택되는 하나 이상의 화합물이- N-리놀레오일디히드로스핑고신,- N-올레오일디히드로스핑고신,- N-팔미토일디히드로스핑고신,- N-스테아로일디히드로스핑고신,- N-베헤노일디히드로스핑고신,- N-2-히드록시팔미토일디히드로스핑고신,- N-스테아로일파이토스핑고신,- 2-올레아미도-1,3-옥타데칸디올, 및- N-팔미트아미도헥사데칸디올에서 선택되는 방법.
- 제35항에 있어서, 상기 세라마이드 및 글리코세라마이드에서 선택되는 하나 이상의 화합물이 2-올레아미도-1,3-옥타데칸디올 및 N-2-히드록시팔미토일디히드로스핑고신에서 선택되는 방법.
- 제27항에 있어서, 상기 잔류형 조성물이 하나 이상의 양이온성 중합체 및 하나 이상의 양쪽성 중합체에서 선택되는 하나 이상의 중합체를 더 포함하는 방법.
- 제37항에 있어서, 상기 하나 이상의 양이온성 중합체가 1급, 2급, 3급, 및 4급 아민기에서 선택되는 아민기를 포함하는 단량체 단위를 함유하는 양이온성 중합체에서 선택되며, 여기서 아민기는 중합체 주쇄의 부분을 형성하거나, 또는 주쇄에 직접 연결된 측쇄 치환체에 포함될 수 있는 방법.
- 제38항에 있어서, 상기 하나 이상의 양이온성 중합체가 폴리아민, 폴리아미노 아미드 및 폴리4급 암모늄 중합체에서 선택되는 방법.
- 제39항에 있어서, 상기 하나 이상의 양이온성 중합체가 폴리쿼터늄-2, 폴리쿼터늄-34 및 헥사디메트린 클로라이드에서 선택되는 방법.
- 제37항에 있어서, 상기 하나 이상의 양쪽성 중합체가 중합체 사슬에 불규칙하게 분포된 하나 이상의 단위 K 및 하나 이상의 단위 M을 함유하는 중합체에서 선택되며,여기서, K는 하나 이상의 염기성 질소원자를 함유하는 단량체 유래의 단위에서 선택되고, M은 카르복실 및 술폰기에서 선택되는 하나 이상의 기를 함유하는 산 단량체 유래의 단위에서 선택되거나, 또는K 및 M은 동일하거나 상이할 수 있으며, 카르복시베타인 및 술포베타인 쯔비터이온성 단량체에서 선택된 단량체 유래의 단위에서 선택될 수 있거나, 또는K 및 M은 동일하거나 상이할 수 있으며, 1급, 2급, 3급, 및 4급 아민기에서 선택된 하나 이상의 아민기 (여기서, 아민기들 중 적어도 하나는 탄화수소 라디칼을 통하여 아민에 연결된 카르복실 및 술폰기에서 선택된 기를 함유함)를 함유하는 양이온성 중합체 사슬에서 선택될 수 있거나, 또는K 및 M은 카르복실기 중 하나가 1급 및 2급 아민기에서 선택된 하나 이상의 기를 함유하는 폴리아민과 반응한 α,β-디카르복실에틸렌 단위를 가진 중합체의 부분을 형성하는 방법.
- 제41항에 있어서, 상기 하나 이상의 양쪽성 중합체가 디알킬아미노알킬 메타크릴레이트, 디알킬아미노알킬 아크릴레이트, 디알킬아미노알킬메타크릴아미드 및 디알킬아미노알킬 아크릴아미드 공중합체, 및 디알킬디알릴암모늄 염에서 선택되는 방법.
- 제42항에 있어서, 상기 하나 이상의 양쪽성 중합체가 폴리쿼터늄-22인 방법.
- 제27항에 있어서, 상기 세라마이드 및 글리코세라마이드에서 선택되는 하나 이상의 화합물이 케라틴 섬유에 개선된 보호를 제공하기에 효과적인 양으로 조성물에 존재하는 방법.
- 제27항에 있어서, 상기 세라마이드 및 글리코세라마이드에서 선택된 하나 이상의 화합물이 조성물의 총 중량에 대하여 약 0.0005 중량% 내지 약 2 중량% 범위의 양으로 조성물에 존재하는 방법.
- 제27항에 있어서, 상기 하나 이상의 양이온성 중합체가 케라틴 섬유에 개선된 스타일링을 제공하기에 효과적인 양으로 조성물에 존재하며, 또한 상기 조성물이 케라틴 섬유에 개선된 보호를 제공하기에 효과적인 양으로 존재하는 세라마이드 및 글리코세라마이드에서 선택된 하나 이상의 화합물을 함유하는 방법.
- 제27항에 있어서, 상기 하나 이상의 양이온성 중합체가 조성물의 총 중량에 대하여 약 0.01 중량% 내지 약 5 중량% 범위의 양으로 조성물에 존재하는 방법.
- 제27항에 있어서, 상기 하나 이상의 양쪽성 중합체가 케라틴 섬유에 개선된 스타일링을 제공하기에 효과적인 양으로 조성물에 존재하며, 상기 조성물이 케라틴섬유에 개선된 보호를 제공하기에 효과적인 양으로 존재하는 세라마이드 및 글리코세라마이드에서 선택되는 하나 이상의 화합물을 함유하는 방법.
- 제27항에 있어서, 상기 하나 이상의 양쪽성 중합체가 조성물의 총 중량에 대하여 약 0.01 중량% 내지 약 5 중량% 범위의 양으로 조성물에 존재하는 방법.
- 둘 이상의 별도의 격실을 포함하며,제1 격실은 세라마이드 및 글리코세라마이드에서 선택된 하나 이상의 화합물을 포함하는 조성물을 함유하고,제2 격실은 케라틴 섬유의 화학적 트리트먼트용 조성물을 함유하는, 케라틴 섬유의 화학적 트리트먼트용 다중-격실 키트.
- 제50항에 있어서, 상기 케라틴 섬유의 화학적 트리트먼트용 조성물이 염색 조성물, 탈색 조성물, 파마 조성물 및 릴렉싱 조성물에서 선택되는 다중-격실 키트.
- 제51항에 있어서, 상기 세라마이드 및 글리코세라마이드에서 선택되는 하나 이상의 화합물을 포함하는 조성물이 하나 이상의 양이온성 중합체 및 하나 이상의 양쪽성 중합체에서 선택되는 하나 이상의 중합체를 더 포함하는 다중-격실 키트.
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