KR20020007386A

KR20020007386A - 망간 및 알칼리 토금속 또는 희토류 금속 기재의 ＮＯｘ트랩용 조성물 및 배기 가스 처리에 있어서의 그의 용도

Info

Publication number: KR20020007386A
Application number: KR1020017013538A
Authority: KR
Inventors: 씨에리 비르쉠; 까뜨린 헤뒹; 씨에리 세구엘롱
Original assignee: 트롤리에 모리스, 다니엘 델로스; 로디아 쉬미
Priority date: 1999-04-23
Filing date: 2000-04-18
Publication date: 2002-01-26
Anticipated expiration: 2020-04-18
Also published as: FR2792547B1; WO2000064580A1; KR100420909B1; BR0009995A; NO20015161L; NO20015161D0; JP2002542029A; CN1351518A; EP1181094A1; CA2371276A1; FR2792547A1; CN1132681C; ZA200108713B

Abstract

본 발명은 배기 가스의 처리에 있어서 NO_x트랩으로서 사용할 수 있는 조성물에 관한 것이다. 상기 조성물은 지지체 및 활성상을 포함하고, 상기 활성상이 알칼리-토금속 및 희토류 금속 중에서 선택된 하나 이상의 원소 A 및 망간을 기재로 하며, 800℃에서 8시간 동안 하소한 후 비표면적이 10 m²/g 이상이거나 이상일 수 있는 것을 특징으로 한다. 상기 지지체는 알루미나, 또는 실리콘, 지르코늄, 바륨 또는 희토류 금속으로 안정화된 알루미나를 기재로 할 수 있거나, 실리카 또는 실리카 및 티타늄 산화물을 기재로 할 수 있다.

Description

망간 및 알칼리 토금속 또는 희토류 금속 기재의 ＮＯｘ 트랩용 조성물 및 배기 가스 처리에 있어서의 그의 용도 {Compositions Usable as NOx Trap, Based on Manganese and an Alkaline-Earth or a Rare Earth and Use in the Treatment of Exhaust Gases}

본 발명은 망간 및 알칼리 토금속 또는 희토류 토금속 기재의 NO_x트랩으로서 사용하기 위한 조성물, 및 배기 가스의 처리에 있어서의 그의 용도에 관한 것이다.

특히 자동차 엔진으로부터 배출된 배기 가스에 포함된 질소 산화물의 배출은 혼합물에 존재하는 환원성 가스를 화학량론적으로 사용하는 "3기능 (three-way)" 촉매를 사용하여 감소시킬 수 있다. 과량의 산소는 촉매 성능을 실질적으로 감소시킨다.

그러나, 디젤 엔진 또는 린번 (lean burn) 가솔린 엔진과 같은 일부 엔진은 연료 소비면에서 경제적이지만, 주로 과량의 산소, 예컨대, 5% 이상의 산소를 함유하는 배기 가스를 배출한다. 따라서, 3기능 촉매는 이 경우 NO_x배출에 유용하지 못하다. 또한, NO_x배출은 현재 상기 엔진까지 영향을 미치는 자동차 연소 후 조절의 강화에 의해 반드시 제한된다.

이러한 문제점을 극복하기 위해, NO를 NO₂로 산화시킨 후 형성된 NO₂를 흡수할 수 있는 NO_x트랩으로서 공지된 시스템이 제안된 바 있다. 특정 조건 하에서, NO₂가 누출된 후 배기 가스에 함유된 환원종에 의해 N₂로 환원된다. 그러나, 이들 NO_x트랩은 많은 단점을 갖고 있다. 이들 NO_x트랩은, 고온에 노출될 때, 보다 덜 만족스럽게 작동하는 한에 있어서만 노화되지 않는다. 또한, 이들 NO_x트랩은 약한 술페이션 (sulphation) 저항성을 갖을 수 있다.

따라서, 본 발명의 목적은 내노화성이 개선된 NO_x트랩을 제공하는 것이다.

또한, 본 발명의 목적은 술페이션 저항성이 개선된 NO_x트랩을 제공하는 것이다.

NO_x트랩으로서 사용할 수 있는 본 발명의 조성물은 지지체 및 활성상을 포함하고, 상기 활성상은 망간과, 알칼리 토금속 및 희토류 금속 중에서 선택된 하나 이상의 원소 A를 기재로 하고 있으며, 800℃에서 8시간 동안 하소한 후 비표면적이 10 m²/g 이상이거나 이상일 수 있는 것을 특징으로 한다.

본 발명의 다른 특징, 상세한 설명 및 장점은 하기 설명 및 기재된 비제한적 실시예로부터 더욱 명백해질 것이다.

본 발명의 조성물은 지지체 및 활성상을 포함한다. 용어 "지지체"는 조성물 중에서 촉매 활성이나 트랩 활성이 없는 주원소 또는 주원소들, 및(또는) 활성상의촉매 활성이나 트랩 활성과 동일하지 않은 촉매 활성이나 트랩 활성이 있는 주원소또는 주원소들을 지칭하는 광범위한 의미로 이해해야 하고, 기타 원소 또는 원소들이 상기 지지체에 침착된다. 단순화시키기 위해, 상세한 설명의 나머지는 지지체 및 활성상 또는 지지된 상에 대해 논의할 것이지만, 본 발명의 범주는 활성상 또는 지지된 상의 일부를 형성하는 것으로 기재된 원소가 지지체에 존재하는 경우, 예컨대, 지지체 자체의 제조 동안 원소가 지지체에 도입되는 경우도 포함하는 것으로 이해해야 한다.

본 발명의 활성상은 망간 및 하나 이상의 원소 A를 기재로 한다. 이 원소 A는 알칼리 토금속 또는 희토류 금속일 수 있다. 알칼리 토금속 원소로는 바륨을 언급할 수 있다. 보다 구체적으로, 희토류 금속은 세륨, 테르븀, 가돌리늄, 사마륨, 네오디뮴 및 프라세오디뮴으로부터 선택할 수 있다. 망간, 알칼리 토금속 또는 희토류 금속의 총 함량은 1% 내지 50%, 보다 구체적으로는 5% 내지 30%일 수 있다. 이 비는 지지된 상에 함유된 지지체 및 원소들의 산화물(들)의 총 몰수에 대한 원자%로 나타낸다. 망간, 알칼리 토금속 또는 희토류 금속의 각 함량은 넓은 범위내에 있을 수도 있는데, 구체적으로 망간의 함량은 원소 A의 함량과 같거나 비슷할 수 있다.

본 발명은 활성상이 본질적으로 망간과, 알칼리 토금속 및 희토류 금속 중에서 선택된 하나 이상의 다른 원소 A로 구성되어 있는 경우를 포함한다. "본질적으로 구성되어 있다"라는 것은 본 발명의 조성물이 망간 및 원소(들) A를 제외한 임의의 원소, 예컨대, 통상적으로 촉매 작용에 사용되는 고가의 금속 또는 기타 금속타입 원소의 활성상의 부재하에 NO_x트랩 활성을 나타낼 수 있음을 의미한다.

상기와 같이, 본 조성물의 한 특징은 800℃에서 8시간 동안 하소한 후 비표면적이 10 m²/g 이상이거나 이상일 수 있다는 점이다. 이 표면은 특히, 동일한 온도에서 동일한 시간 동안 하소한 후 20 m²/g 이상일 수 있다. 보다 구체적으로, 이 비표면적은 800℃에서 8시간 동안 하소한 후 80 m²/g 이상이고 보다 더 구체적으로 100 m²/g 이상이다.

용어 "비표면적"은 정기 간행물 ["The Journal of the American Chemical Society" 60, 309 (1938)]에 기재된 BRUNAUER-EMMETT-TELLER 방법으로부터 확립된 표준 ASTM D 3663-78에 따른 질소 흡착에 의해 측정된 BET 비표면적을 의미한다.

이 표면의 특성은 비표면적이 충분히 높은 적당한 지지체를 선택함으로써 얻는다.

이 지지체는 알루미나를 기재로 할 수 있다. 촉매 작용에 사용하기에 충분한 특정 표면을 제공할 수 있는 임의의 타입의 알루미나를 사용할 수 있다. 언급할 수 있는 알루미나의 예로는 바이에라이트 (bayerite), 히드라르길라이트 (hydragillite) 또는 기브사이트 (gibbsite), 노르드스트란다이트 (nordstrandite)와 같은 하나 이상의 수산화알루미늄; 및 (또는) 보헤마이트 (boehmite), 슈도보헤마이트 (pseudoboehmite) 및 디아스포어 (diaspore)와 같은 하나 이상의 알루미늄 옥시히드록사이드의 급속 탈수로부터 형성된 알루미나가 있다.

본 발명의 한 특정 실시양태에서, 안정화된 알루미나가 사용된다. 안정화 원소로는 희토류 금속, 바륨, 실리콘, 티타늄 및 지르코늄이 있을 수 있다. 희토류 금속으로는 특히, 세륨, 란타늄 또는 란타늄-네오디뮴의 혼합물이 있을 수 있다.

안정화된 알루미나는 구체적으로, 알루미나를 상기 안정화 원소의 염, 예컨대, 질산염의 용액으로 함침하거나 알루미나의 전구체와 이들 원소의 염을 함께 건조한 후 하소함으로써 통상적으로 제조한다.

언급할 수 있는 안정화된 알루미나의 또다른 제조 방법은 수산화알루미늄 또는 알루미늄 옥시히드록사이드를 급속 탈수시켜 형성된 알루미나 분말을 란타늄 화합물 및, 임의로, 네오디뮴 화합물, 보다 구체적으로 이들 화합물의 염으로 구성된 안정화제의 존재하에서 시효시키는 방법이다. 시효는 알루미나를 물에 현탁시킨 후 예를 들어, 70℃ 내지 110℃에서 가열함으로써 수행할 수 있다. 시효 후, 알루미나를 열 처리한다.

추가 제조는 유사하지만 바륨을 사용하는 처리로 구성된다.

안정화된 알루미나에 대한 안정화 산화물의 중량으로서 나타내는 안정화제의 양은 일반적으로 1.5% 내지 15%, 보다 구체적으로 2.5% 내지 11%이다.

지지체는 실리카를 기재로 할 수도 있다.

지지체는 Ti/Ti+Si의 원자비가 0.1% 내지 15%인 실리카 및 티타늄 산화물을 기재로 할 수도 있다. 보다 구체적으로, 이 비는 0.1% 내지 10%일 수 있다. 이러한 지지체는 국제 특허 WO99/01216 (이 특허의 내용은 본원에 포함되는 것으로 함)에 기재되어 있다.

사용할 수 있는 다른 적당한 지지체는 산화세륨 및 산화지르코늄을 기재로 한 것이고, 이들 산화물은 혼합된 산화물, 산화세륨 중의 산화지르코늄 고상 용액 또는 산화지르코늄 중의 산화세륨 고상 용액의 형태로 존재할 수 있다. 이들 지지체는 산화지르코늄 및 산화세륨을 포함하는 혼합물을 형성하고 이 혼합물을 2개 이상의 탄소 원자를 함유하는 알콕실화 화합물로 세척하거나 함침하는 단계를 포함하는 첫 번째 유형의 방법으로 수득한다. 이어서, 함침된 혼합물을 하소한다.

알콕실화 화합물은 R₁-((CH₂)_x-O)_n-R₂(화학식 2)의 화합물 (식 중, R₁및 R₂는 직쇄 또는 비직쇄 알킬기, H, OH, Cl, Br 또는 I이고, n은 1 내지 100의 정수이고, x는 1 내지 4의 정수임); (R₃,R₄)-v-((CH₂)x-O)_n-OH (화학식 3)의 화합물 (식 중, v는 벤젠 고리를 나타내고, R₃및 R₄는 수소, 탄소 원자수가 1 내지 20인 직쇄 또는 비직쇄 알킬기를 나타내는, 고리 상의 동일한 또는 상이한 치환체이고, x 및 n은 상기 정의된 바와 같음); R₄O-((CH₂)_x-O)_n-H (화학식 4)의 화합물 (식 중, R₄가 1 내지 20개의 탄소 원자를 함유하는 직쇄 또는 비직쇄 알콜을 나타내고, x 및 n은 상기 정의된 바와 같음); 및 R₅-S-((CH₂)_x-O)_n-H (화학식 5)의 화합물 (식 중, R₅는 탄소 원자수가 1 내지 20인 직쇄 또는 비직쇄 알킬기를 나타내고, x 및 n은 상기 정의된 바와 같음)로부터 선택될 수 있다. 이들 화합물은 국제 특허 WO98/16472 (그 내용은 본 명세서에 포함되는 것으로 함)에 기재되어 있다.

이들 지지체는 세륨염의 용액, 지르코늄염의 용액, 및 음이온 계면활성제, 비이온 계면활성제, 폴리에틸렌 글리콜, 카르복실산 및 이들의 염으로부터 선택된 첨가제를 반응시키는 단계 (염기 및(또는) 산화제의 존재하에 반응시킬 수도 있음)를 포함하는 두 번째 유형의 방법에 의해 수득할 수도 있다.

사용할 수 있는 보다 구체적인 음이온 계면활성제는 카르복실레이트, 포스페이트, 술페이트 및 술포네이트이다. 사용할 수 있는 바람직한 비이온 계면활성제는 에톡실화 알킬 페놀 및 에톡실화 아민이다.

지르코늄염과 세륨염은 열가수분해 반응에서 염을 함유하는 용액을 가열함으로써 반응시킬 수 있다. 또한, 지르코늄염과 세륨염은 염기를 염 함유 용액내로 도입하여 침전시킴으로써 반응시킬 수 있다.

이들 생성물은 국제 특허 WO98/45212 (그 내용은 본원에 포함되는 것으로 함)에 기재되어 있다.

본 발명의 조성물은 지지체를 망간 및 하나 이상의 원소 A와 접촉시키거나 망간 및 하나 이상의 원소 A의 전구체와 접촉시킨 후, 전구체 또는 원소가 산화물로 변형되기에 충분한 온도에서 하소하는 방법으로 제조할 수 있다. 일반적으로, 이 온도는 500℃ 이상, 보다 구체적으로 600℃ 이상이다.

상기 접촉에 사용할 수 있는 한 방법은 함침이다. 따라서, 우선, 지지된 상의 원소의 염 또는 화합물의 용액 또는 슬러리를 형성한다.

염은 니트레이트, 술페이트 또는 클로라이드와 같은 무기산 염으로부터 선택할 수 있다.

유기산의 염, 구체적으로 포화된 지방족 카르복실산의 염 또는 히드록시카르복실산의 염도 사용할 수 있다. 언급할 수 있는 유기산의 예로는 포르메이트, 아세테이트, 프로피오네이트, 옥살레이트 및 시트레이트가 있다.

그 다음으로, 지지체를 상기 용액 또는 슬러리로 함침한다.

보다 구체적으로, 건조 함침을 이용한다. 건조 함침은 함침될 고체의 공극 부피와 동일한 부피의 원소 수용액을 함침될 생성물에 첨가하는 것을 포함한다.

활성상의 원소를 두 단계로 침착시키는 것이 바람직할 수 있다. 따라서, 바람직하게는, 망간을 제1 단계에서 침착시킨 후 원소 A를 제2 단계에서 침착시킨다.

함침 후, 지지체를 임의로 건조한 후 하소한다. 함침 전에 하소된 적이 없는 지지체를 사용해야 한다는 것을 인지해야 한다.

활성상은 활성상 및 지지체의 원소의 염 또는 화합물을 기재로 한 현탁액을 분무 건조함으로써 침착시킬 수도 있다. 그 다음으로, 수득된 분무 건조 생성물을 하소한다.

상기에 기재된 바와 같은 본 발명의 조성물은 분말 형태이지만, 임의로 다양한 치수의 과립, 비드, 실린더 또는 벌집모양체로 형성될 수 있다.

또한, 본 발명은 본 발명의 조성물을 사용하여 질소 산화물의 배출을 줄이는 가스 처리 방법에 관한 것이다.

본 발명에서 처리할 수 있는 가스는 예를 들면, 가스 터빈, 발전소 용광로 또는 내연 기관으로부터의 가스이다. 내연 기관은 디젤 엔진 또는 린번 엔진일 수 있다.

본 발명의 조성물은 고함량의 산소 함유 가스와 접촉하는 경우 NO_X트랩으로 작용한다. 용어 "고함량의 산소 함유 가스"는 연료의 화학량론적 연소에 요구되는 양에 비해 과량의 산소를 함유하는 가스, 더 정확하게는 화학량론적 값 λ=1에 비해 과량의 산소 함유 가스, 즉 λ값이 1 이상인 가스를 의미한다. 값 λ는 특히 내연 기관에서 공지된 방식으로 공기/연료 비와 상호관련되어 있다. 이러한 가스는 예를 들면 2% 이상의 산소 함량을 포함하는 린번 엔진의 가스, 및 산소의 함량이 더 높은 가스, 예컨대, 디젤 타입 엔진으로부터의 가스, 즉 5% 이상, 보다 구체적으로 10% 이상, 특히 5% 내지 20%의 산소를 함유하는 가스일 수 있다.

또한, 본 발명은 예컨대, 10%의 양으로 물을 추가로 함유할 수 있는 상기 언급한 타입의 가스에도 적용할 수 있다.

본 발명의 조성물은 황 함유 연료, 즉 황의 함량이 50 ppm 이상, 보다 구체적으로 200 ppm 이상 (황 원소로서 나타냄)인 연료를 사용하여 내연 기관으로부터의 배기 가스를 처리하는 데 사용할 수 있다. 용어 "황"은 가장 넓은 의미로 이해해야 하는데, 즉 연료에 존재하는 황 및 황 함유 화합물을 지칭하는 것으로 이해해야 한다.

본 발명은 본 발명에 따른 조성물을 포함하는 내연 기관으로부터의 배기 가스를 처리하기 위한 촉매 시스템에 관한 것이기도 하다. 보다 구체적으로, 이 시스템은 촉매성이 있는 워시코트를 포함하고, 예컨대, 단일체 금속 또는 세라믹 타입 기재 상의 이들 조성물을 기재로 한다.

또한, 본 발명은 이러한 촉매 시스템의 제작에 있어서 상기 조성물의 용도에 관한 것이다.

지금부터 실시예가 기재될 것이다.

실시예에서, 조성물은 다음과 같이 제조하였다.

조성물의 제조

질산망간 Mn(NO₃)₂ㆍ4H₂O, 99.5% 질산칼륨 KNO₃및 99.5% 질산바륨 Ba(NO₃)₂를 사용하였다.

사용된 지지체는 콘데아사(Condea)로부터 구입가능한 SB3 알루미나였다.

침착은 두 단계로 수행하였다.

1 단계: 제1 활성 원소의 침착

이 단계는 [Mn]/([Mn]+[Al₂O₃])=0.10의 식으로 계산된 10 원자%의 비로 활성 원소 Mn을 침착하는 것으로 구성되었다.

2 단계: 제2 활성 원소의 침착

이 단계는 [X]/([Mn]+[X]+[Al₂O₃])=0.10의 식으로 계산된 10 원자%의 비로 제2 활성 원소 X (X는 Ba일 수 있고, 비교 조성물의 경우에는 K일 수도 있음)을 침작시키는 것으로 구성되었다.

침착 후 건조 함침을 수행하였다. 이 방법은 용액에 용해될 활성상의 원소를 고려하면서 부피가 지지체의 공극 부피 (물 중에서 측정된 부피: 0.5 cm³/g)와 동일하고 농도가 원하는 농도를 달성할 수 있는 농도인 용액으로 지지체를 함침하는 것으로 구성되어 있다.

본 발명에서, 하기 시행 프로토콜을 이용하여 원소를 지지체내로 차례대로 함침하였다.

·제1 원소의 건조 함침,

·오븐 건조(110℃, 2시간)

·2시간 동안 500℃에서 하소

·제2 원소의 건조 함침

·오븐 건조(110℃, 2시간)

·850℃에서 2시간 동안 하소

생성된 조성물

조성물	활성상	BET 표면적 (850℃에서 2시간 동안 하소한 후)
1 (비교예)	10% Mn, 10% K	148 m²/g
2	10% Mn, 10% Ba	112 m²/g

<실시예 1>

이 실시예는 본 발명의 조성물의 내노화성을 입증한다.

이 실시예에서, 촉매 시험은 하기와 같이 수행하였다.

분말 형태의 상기 각 NO_X트랩용 조성물 0.15 g을 석영 반응기내에 충전시켰다. 사용된 분말을 압착한 후 연마하고 체질하여 입자 크기가 0.125 내지 0.25mm인 분획으로 단리하였다.

반응기 입구에 있는 반응 혼합물의 조성(부피비)은 다음과 같다.

·NO: 300vpm

·O₂: 10%

·CO₂: 10%

·H₂O: 10%

·N₂: 100%

전체 유속은 30Nl/h이다.

HSV는 약 150000h^-1이다.

NO 및 NO_X신호(NO_X=NO+NO₂)는 반응기 내의 온도에 따라 연속적으로 기록한다.

NO_X트랩은 트랩상이 포화될 때까지 흡착된 NO_X의 총량 (NSC) (트랩 또는 활성상 1g 당 NO의 양 (mg)으로 나타냄)을 측정하여 평가한다. 실험을 250℃에서 수행하였다.

또한, 본 조성물은 하기 프로토콜을 이용하여 열수 산화환원 타입의 노화에 노출시켰다.

조성물의 온도를 N₂하에 950℃까지 60분에 걸쳐 상승시켰다. 이어서, 조성물을 이 온도에서 6시간 동안 방치한 다음, 질소 중의 산소 및 수분, 그리고 질소 중의 수소 및 수분의 대기하에서 각각 15분의 방치를 24회 번갈아 수행하였다. 처리 말기에 온도를 H₂/N₂중에서 80℃까지 하강시킨 후 N₂중에서 방치하였다.

결과는 하기 표에 기재되어 있다.

조성물	NSC, 노화되지 않은 생성물	NSC, 노화된 생성물	차이
1 (비교예)	9.2	2.9	-68%
2	7.0	3.6	-45%

본 발명의 조성물의 내노화성이 개선되었음을 알 수 있다.

<실시예 2>

이 실시예는 본 발명의 조성물의 술페이션 저항성을 입증한다.

실시예 1에 사용된 것과 동일한 조성물 (노화되지 않은 것)을 사용하였다. 반응기 입구에서의 반응 혼합물의 조성은 실시예 1에서와 동일하거나 SO₂가 30 ppm 추가되어 있다.

그 결과는 하기 표에 기재하였다.

조성물	NSC, SO₂없음	NSC, SO₂있음	차이
1 (비교예)	9.2	6.2	-33%
2	7.0	5.4	-22%

본 발명의 조성물의 SO₂에 대한 저항성이 개선되었음을 알 수 있다.

Claims

활성상이 망간과, 알칼리 토금속 및 희토류 금속 중에서 선택된 하나 이상의 원소 A를 기재로 하고 있으며, 800℃에서 8시간 동안 하소한 후 비표면적이 10 m²/g 이상, 특히 20 m²/g 이상이거나 이상일 수 있는 것을 특징으로 하는, 지지체 및 활성상을 포함하는 NO_x트랩으로서 사용하기 위한 조성물.
제1항에 있어서, 800℃에서 8시간 동안 하소한 후 비표면적이 80 m²/g 이상, 특히 100 m²/g 이상이거나 이상일 수 있는 것을 특징으로 하는 조성물.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 원소 A가 바륨인 것을 특징으로 하는 조성물.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 지지체가 알루미나, 또는 실리콘, 지르코늄, 바륨 또는 희토류 금속에 의해 안정화된 알루미나를 기재로 한 것임을 특징으로 하는 조성물.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 지지체가 실리카를 기재로 하는 것임을 특징으로 하는 조성물.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 지지체가 0.1% 내지 15%의 Ti/Ti+Si 원자비로 실리카 및 티타늄 산화물을 기재로 하는 것임을 특징으로 하는 조성물.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 지지체가 산화세륨 및 산화지르코늄을 기재로 하고 있으며, 상기 지지체는 산화지르코늄 및 산화세륨을 포함하는 혼합물을 형성하고 이 혼합물을 3개 이상의 탄소 원자를 함유하는 알콕실화 화합물로 세척 또는 함침하는 방법에 의해 수득되는 것임을 특징으로 하는 조성물.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 지지체가 산화세륨 및 산화지르코늄을 기재로 하고 있으며, 상기 지지체는 세륨염 용액, 지르코늄염 용액, 및 음이온 계면활성제, 비이온 계면활성제, 폴리에틸렌 글리콜, 카르복실산 및 이들의 염으로부터 선택된 첨가제를 임의로는 염기 및(또는) 산화제의 존재하에서 반응시키는 방법에 의해 수득되는 것임을 특징으로 하는 조성물.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 따른 조성물을 사용하는 것을 특징으로 하는, 질소 산화물의 배출을 감소시키기 위한 가스 처리 방법.
제9항에 있어서, 내연 기관으로부터의 배기 가스를 처리하는 것을 특징으로하는 방법.
제10항에 있어서, 화학량론적 값에 비해 과량의 산소를 함유하는 가스를 처리하는 것을 특징으로 하는 방법.
제10항 또는 제11항에 있어서, 가스 중의 산소 함량이 2 부피% 이상인 것을 특징으로 하는 방법.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 따른 조성물을 포함하는 것을 특징으로 하는, 내연 기관으로부터 배출된 배기 가스 처리용 촉매 시스템.
내연 기관으로부터 배출된 배기 가스 처리용 촉매 시스템을 제작하기 위한, 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 따른 조성물의 용도.