KR20010002220A - A pad arrangement structure of semiconductor device - Google Patents
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Abstract
본 발명에 따른 반도체 장치는 반도체 장치의 가장 자리에 형성된 제 1 그룹의 패드들뿐만 아니라, 반도체 장치 중앙 부분에 형성된 제 2 그룹의 패드들을 가진다. 상기 패드들은 외부로부터의 전원 전압 및 교류 신호 등을 반도체 장치의 중앙 부분에 형성된 내부 회로로 전달한다. 이로써, 반도체 중앙 부분의 회로에서 발생되는 전원 전압 강하와 교류 신호의 신호 지연 및 노이즈가 방지됨으로써, 반도체 장치가 오동작되거나 페일되는 것이 방지된다.The semiconductor device according to the present invention has not only the first group of pads formed at the edge of the semiconductor device but also the second group of pads formed at the central portion of the semiconductor device. The pads transmit a power supply voltage, an AC signal, and the like from the outside to an internal circuit formed in a central portion of the semiconductor device. This prevents power supply voltage drop and signal delay and noise of the AC signal generated in the circuit in the central portion of the semiconductor, thereby preventing the semiconductor device from malfunctioning or failing.
Description
본 발명은 반도체 장치에 관한 것으로서, 더 구체적으로는 전원 전압의 강하를 방지하는 반도체 장치의 패드 배열 구조에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device, and more particularly, to a pad arrangement structure of a semiconductor device for preventing a drop in power supply voltage.
최근, 반도체 기술이 발달하고, 고성능(high performance)이 필요로 되는 칩들이 요구되어짐에 따라, 반도체 장치 즉, 칩의 사이즈가 점차적으로 증가되는 추세에 있다. 물론, 칩의 사이즈는 작게 설계될 수 있지만, 반도체 장치의 고성능을 추구하자면, 칩의 사이즈는 상대적으로 증가될 수밖에 없다.Recently, as semiconductor technology develops and chips requiring high performance are required, the size of a semiconductor device, that is, a chip, has gradually increased. Of course, the size of the chip can be designed small, but to pursue the high performance of the semiconductor device, the size of the chip is inevitably increased.
도 1 및 도 2를 참조하면, 일반적인 반도체 장치는 가장 자리에 형성된 패드들(P1, P2, ..., P37, P38)의 영역을 가진다. 상기 패드들(P1, P2, ..., P37, P38)은 외부로부터의 전원 전압(power supply; 이하, VCC라 칭함), 클럭(clock), 어드레스(address), 데이터(data), 명령(command) 등을 반도체 장치 즉, 칩의 내부로 전달하는 역할을 한다. 그런데, 반도체 장치의 사이즈가 증가되면서, 도 1과 같이, 반도체 장치의 가장 자리에 패드들(P1, P2, ..., P37, P38)이 형성되는 경우에는, 패드들(P1, P2, ..., P37, P38)이 반도체 장치의 가장 자리에 형성됨으로 인해서 도 2와 같이 반도체 장치의 중앙에 공급되는 전원 전압(VCC)이 강하되는 현상이 발생된다. 이러한 현상은 패드들(P1, P2, ..., P37, P38)과 반도체 장치의 중앙에 형성된 내부 회로(도시되지 않음) 사이를 연결하는 배선의 저항에 의해 발생되며, 배선의 길이가 길어질 수록 옴(ohm)의 법칙에 의해 그 전압 강하의 양이 증가된다.1 and 2, a general semiconductor device has regions of pads P1, P2,..., P37, and P38 formed at edges. The pads P1, P2,..., P37, and P38 may be externally supplied with a power supply voltage (hereinafter referred to as VCC), a clock, an address, data, and a command. command), etc., to the inside of the semiconductor device, that is, the chip. However, as the size of the semiconductor device increases, when the pads P1, P2,..., P37, P38 are formed at the edges of the semiconductor device as shown in FIG. 1, the pads P1, P2,. Since the P37 and P38 are formed at the edges of the semiconductor device, the power supply voltage VCC supplied to the center of the semiconductor device drops as shown in FIG. 2. This phenomenon is caused by the resistance of the wiring connecting the pads (P1, P2, ..., P37, P38) and the internal circuit (not shown) formed in the center of the semiconductor device, the longer the length of the wiring Ohm's law increases the amount of the voltage drop.
특히, 고성능 마이크로 프로세서(micro processor)에서는 전류가 많이 흐르기 때문에, 전압 강하 현상은 더욱 심각한 문제점으로 대두된다. 또한, 반도체 장치 전체에 공급되는 클럭도 마찬가지로 상기 패드들(P1, P2, ..., P37, P38)에서 멀어질수록 신호가 지연되고 그리고 노이즈가 발생되는 문제점이 있다. 이러한 문제점들은 직류(direct current; DC) 페일(fail), 기능 페일(function fail) 등의 유발함으로써, 반도체 장치가 페일되는 주 원인이 된다.In particular, since a large amount of current flows in a high performance microprocessor, the voltage drop phenomenon becomes a more serious problem. In addition, as the clock supplied to the entire semiconductor device moves away from the pads P1, P2,..., P37, and P38, a signal is delayed and noise is generated. These problems cause a direct current (DC) fail, a function fail, and the like, which is the main cause of the semiconductor device failing.
따라서, 본 발명의 목적은 외부 전원 및 외부 교류 신호를 반도체 장치로 손실없이 효율적으로 전달하는 반도체 장치의 패드 배열 구조를 제공하는 것이다.Accordingly, it is an object of the present invention to provide a pad arrangement structure of a semiconductor device that efficiently transfers an external power supply and an external alternating signal to a semiconductor device without loss.
도 1은 일반적인 반도체 장치의 패드 구조를 보여주는 도면;1 illustrates a pad structure of a general semiconductor device;
도 2는 도 1의 반도체 장치에서 발생되는 전원 전압 강하를 보여주는 도면;2 is a diagram illustrating a power supply voltage drop generated in the semiconductor device of FIG. 1;
도 3은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 반도체 장치의 패드 구조를 보여주는 도면;3 shows a pad structure of a semiconductor device according to a first embodiment of the present invention;
도 4는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 반도체 장치의 패드 구조를 보여주는 도면 및;4 illustrates a pad structure of a semiconductor device according to a second embodiment of the present invention;
도 5는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 반도체 장치에서 발생되는 전원 전압 강하를 보여주는 도면이다.5 is a diagram illustrating a power supply voltage drop generated in the semiconductor device according to the first embodiment of the present invention.
(구성)(Configuration)
상술한 바와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일특징에 의하면, 본 발명에 따른 반도체 장치는 반도체 장치는 제 1 및 제 2 그룹들의 패드들을 포함한다. 상기 제 1 그룹의 패드들 각각은 상기 반도체 장치의 가장 자리에 형성된다. 상기 제 2 그룹의 패드들은 상기 반도체 장치의 중앙에 형성된다. 그리고 상기 제 2 그룹의 패드들은 외부로부터의 전원을 상기 반도체 장치 내로 전달하고 그리고 외부로부터의 교류 신호를 상기 반도체 장치로 전달한다.According to one aspect of the present invention for achieving the above object, the semiconductor device according to the present invention includes a first and second groups of pads. Each of the pads of the first group is formed at an edge of the semiconductor device. The pads of the second group are formed in the center of the semiconductor device. The pads of the second group deliver power from the outside into the semiconductor device and transmit an AC signal from the outside to the semiconductor device.
본 발명의 다른 특징에 의하면, 본 발명에 따른 반도체 장치는 제 1 및 제 2 그룹들의 패드들을 포함한다. 상기 제 1 그룹의 패드들은 상기 반도체 장치의 가장 자리에 형성된다. 상기 제 2 그룹의 패드들은 상기 제 1 패드 영역들이 형성된 부분 이외의 소정 부분에 형성된다. 그리고, 상기 제 2 패드 그룹의 패드들 각각은 외부로부터의 전원 및 교류 신호를 상기 반도체 장치 내로 전달한다.According to another feature of the invention, the semiconductor device according to the invention comprises first and second groups of pads. The pads of the first group are formed at edges of the semiconductor device. The pads of the second group are formed at predetermined portions other than a portion where the first pad regions are formed. Each of the pads of the second pad group transfers power and AC signals from the outside into the semiconductor device.
(작용)(Action)
이와 같은 장치에 의해서, 반도체 장치의 중앙 부분에 패드들이 위치됨으로써, 외부로부터의 전원 및 교류 신호가 반도체 장치 전체로 손실없이 효율적으로 전달된다.With such a device, the pads are located in the central portion of the semiconductor device, whereby power and AC signals from the outside are efficiently transmitted to the entire semiconductor device without loss.
(실시예)(Example)
이하, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 참조도면 도 3 내지 도 5에 의거하여 상세히 설명한다.Hereinafter, reference will be described in detail with reference to FIGS. 3 to 5 according to a preferred embodiment of the present invention.
도 3을 참조하면, 본 발명에 따른 반도체 장치는 반도체 장치의 가장 자리에 형성된 제 1 그룹의 패드들(P1, P2, ..., P37, P38)뿐만 아니라, 반도체 장치 중앙 부분에 형성된 제 2 그룹의 패드들(P39, P40, P41, P42)을 가진다. 상기 제 2 그룹의 패드들(P39, P40, P41, P42)은 외부로부터의 전원 전압(VCC) 및 교류 신호 등을 반도체 장치의 중앙 부분에 형성된 내부 회로로 전달한다. 이로써, 반도체 중앙 부분의 회로에서 발생되는 전압 강하 및 교류 신호의 노이즈가 방지됨으로써, 반도체 장치가 오동작되거나 페일되는 것이 방지된다.Referring to FIG. 3, the semiconductor device according to the present invention may include not only the first groups of pads P1, P2,... Has pads P39, P40, P41, P42 in the group. The pads P39, P40, P41, and P42 of the second group transfer an external power supply voltage VCC and an AC signal to an internal circuit formed in a central portion of the semiconductor device. This prevents the voltage drop and the noise of the AC signal generated in the circuit in the central portion of the semiconductor, thereby preventing the semiconductor device from malfunctioning or failing.
도 3을 참조하면, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 반도체 장치는 제 1 및 제 2 그룹들의 패드들(P1, P2, ..., P41, P42)을 포함한다. 상기 제 1 그룹의 패드들(P1, P2, ..., P37, P38)은 상기 반도체 장치의 가장 자리 부분에 형성되는 리드 프레임들(도시되지 않음)과 연결되며, 외부로부터의 전원 전압(VCC), 교류 신호(예를 들어, 클럭, 어드레스 등), 데이터 등을 상기 반도체 장치 내의 내부 회로들(도시되지 않음)로 전달한다. 상기 제 2 그룹의 패드들(P39, P40, P41, P42)은 상기 반도체 장치의 중앙 부분에 형성되는 리드 프레임들(도시되지 않음)과 연결되며, 전원 전압(VCC) 및 교류 신호를 상기 반도체 장치의 중앙 부분에 위치된 내부 회로들(도시되지 않음)로 전달한다.Referring to FIG. 3, the semiconductor device according to the first embodiment of the present invention includes first and second groups of pads P1, P2,..., P41, and P42. The pads P1, P2,..., P37, and P38 of the first group are connected to lead frames (not shown) formed at edge portions of the semiconductor device, and receive a power supply voltage VCC from the outside. ), An AC signal (eg, a clock, an address, etc.), data, and the like are transferred to internal circuits (not shown) in the semiconductor device. The pads P39, P40, P41, and P42 of the second group are connected to lead frames (not shown) formed at a central portion of the semiconductor device, and supply a power voltage VCC and an AC signal to the semiconductor device. Transfer to internal circuits (not shown) located in the central portion of the.
도 4를 참조하면, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 반도체 장치는 제 1, 제 2 및 제 3 그룹들의 패드들(P1, P2, ..., P45, P46)을 포함한다. 상기 제 1 그룹의 패드들(P1, P2, ..., P37, P38)은 상기 반도체 장치의 가장 자리 부분에 형성되는 리드 프레임들(도시되지 않음)과 연결되며, 외부로부터의 전원 전압(VCC), 교류 신호, 데이터 등을 상기 반도체 장치 내의 내부 회로들(도시되지 않음)로 전달한다. 상기 제 2 그룹의 패드들(P39, P40, P41, P42)은 상기 반도체 장치의 중앙 부분에 형성되는 리드 프레임들(도시되지 않음)과 연결되며, 외부로부터의 전원 전압(VCC) 및 교류 신호를 상기 반도체 장치의 중앙 부분에 위치된 내부 회로들(도시되지 않음)로 전달한다. 상기 제 3 그룹의 패드들(P43, P44, P45, P46)은 상기 반도체 장치의 제 1 및 제 2 그룹들의 패드들(P1, P2, ...P41, P42) 사이에 형성된 리드들(도시되지 않음)과 연결되며, 외부로부터의 전원 전압(VCC) 및 교류 신호를 상기 반도체 장치의 내부 회로들로 전달한다.Referring to FIG. 4, the semiconductor device according to the second embodiment of the present invention includes first, second, and third groups of pads P1, P2,..., P45, and P46. The pads P1, P2,..., P37, and P38 of the first group are connected to lead frames (not shown) formed at edge portions of the semiconductor device, and receive a power supply voltage VCC from the outside. ), AC signals, data, and the like are transferred to internal circuits (not shown) in the semiconductor device. The pads P39, P40, P41, and P42 of the second group are connected to lead frames (not shown) formed in a central portion of the semiconductor device, and receive a power voltage VCC and an AC signal from an external source. Transfer to internal circuits (not shown) located in the central portion of the semiconductor device. The pads P43, P44, P45, and P46 of the third group may include leads formed between the pads P1, P2,..., P41, P42 of the first and second groups of the semiconductor device (not shown). And a power supply voltage (VCC) and an alternating current signal from the outside to the internal circuits of the semiconductor device.
도 2 및 도 5를 참조하면, 본 발명에 따른 반도체 장치의 중앙부분에서 발생되는 전압 강하 현상이 일반적인 반도체 장치에서 발생되는 전압 강하 현상보다 현저하게 줄어든 것을 볼 수 있다. 이것은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 반도체 장치가 상기한 바와 같은 패드 구조를 가짐으로써, 반도체 장치의 중앙 부분으로 갈수록 증가되는 배선 저항, 콘택 저항 그리고 RC 지연(resistor capacitor delay) 등에 의해 발생되는 전원 전압(VCC) 강하, 신호 지연 그리고 노이즈 발생의 방지 효과를 가지기 때문이다.2 and 5, it can be seen that the voltage drop occurring in the center portion of the semiconductor device according to the present invention is significantly reduced than the voltage drop occurring in the general semiconductor device. This is because the semiconductor device according to the first embodiment of the present invention has the pad structure as described above, so that power generated by wiring resistance, contact resistance and RC capacitor (resistor capacitor delay) which increases toward the center portion of the semiconductor device. This has the effect of preventing voltage (VCC) drop, signal delay and noise generation.
예를 들어, 도 2에서와 같이, 일반적인 패드 배열 구조를 가지는 반도체 장치의 중앙 부분에서 0.5 볼트(V)의 전압 강하가 발생된다고 가정하면, 본 발명에 따른 패드 배열 구조를 가지는 반도체 장치의 중앙 부분에는 전압 강하 현상이 발생되지 않고, 반도체 장치의 가장 자리 부분과 중앙 부분 사이 부분에 미약한 전압 강하(예를 들어, 0.1V ∼ 0.2V) 현상이 발생된다. 물론, 이러한 현상은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 반도체 장치의 패드 배열 구조로 극복될 수 있다.For example, assuming that a voltage drop of 0.5 volts (V) occurs in a central portion of a semiconductor device having a general pad arrangement structure, as shown in FIG. 2, a central portion of a semiconductor device having a pad arrangement structure according to the present invention. The voltage drop phenomenon does not occur, and a slight voltage drop (for example, 0.1 V to 0.2 V) occurs in a portion between the edge portion and the center portion of the semiconductor device. Of course, this phenomenon can be overcome with the pad arrangement structure of the semiconductor device according to the second embodiment of the present invention.
이상에서, 본 발명에 따른 반도체 장치를 상기한 설명 및 도면에 따라 도시하였지만, 이는 예를 들어 설명한 것에 불과하며, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 다양한 변화 및 변경이 가능함은 물론이다.In the above, although the semiconductor device according to the present invention has been shown in accordance with the above description and drawings, this is merely an example, and various changes and modifications are possible without departing from the technical idea of the present invention.
상기한 바와 같이, 반도체 장치의 중앙 부분에 패드들이 위치됨으로써, 외부로부터의 전원 및 교류 신호가 반도체 장치 전체로 손실없이 효율적으로 전달된다.As described above, the pads are positioned in the central portion of the semiconductor device, so that power and AC signals from the outside are efficiently transmitted to the entire semiconductor device without loss.
Claims (3)
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KR1019990021913A KR20010002220A (en) | 1999-06-12 | 1999-06-12 | A pad arrangement structure of semiconductor device |
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US7536037B2 (en) | 2003-11-19 | 2009-05-19 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Apparatus and method for human distinction using infrared light |
KR101147293B1 (en) * | 2005-08-25 | 2012-05-18 | 에스케이하이닉스 주식회사 | Memory device |
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