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KR20000035404A - Liquid Crystal Aligning Agent and Liquid Crystal Display Device - Google Patents

Liquid Crystal Aligning Agent and Liquid Crystal Display Device Download PDF

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KR20000035404A
KR20000035404A KR1019990049835A KR19990049835A KR20000035404A KR 20000035404 A KR20000035404 A KR 20000035404A KR 1019990049835 A KR1019990049835 A KR 1019990049835A KR 19990049835 A KR19990049835 A KR 19990049835A KR 20000035404 A KR20000035404 A KR 20000035404A
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liquid crystal
polyamic acid
polyimide
initial polymer
crystal aligning
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교유 야스다
가즈히로 에구찌
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마쯔모또 에이찌
제이에스알 가부시끼가이샤
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Abstract

본 발명은, 분출 안정성, 액정 배향막의 성능 안정성 및 잉크젯 장치에 대한 안정성이 우수한 액정 배향제를 제공하는 것이다.This invention provides the liquid crystal aligning agent which was excellent in ejection stability, the performance stability of a liquid crystal aligning film, and the stability with respect to an inkjet apparatus.

또한, 제1 폴리이미드 블록과 제2 폴리아믹산 블록을 분자 중에 함유하여 이루어진 블록 공중합체로 구성되는 액정 배향제에 관한 것이다.Moreover, it is related with the liquid crystal aligning agent comprised from the block copolymer which contains the 1st polyimide block and the 2nd polyamic acid block in a molecule | numerator.

Description

액정 배향제 및 액정 표시 소자 {Liquid Crystal Aligning Agent and Liquid Crystal Display Device}Liquid crystal aligning agent and liquid crystal display device {Liquid Crystal Aligning Agent and Liquid Crystal Display Device}

본 발명은, 액정 배향막의 형성제로서 적합한 액정 배향제 및 그것을 이용한 액정 표시 소자에 관한 것이다. 더욱 상세하게는, 본 발명은 특정 구조의 블록 공중합체를 함유함으로써, 잉크젯 인쇄법에 의해 기판에 도포할 때 우수한 도포 안정성, 막 두께 균일성을 나타내는 액정 배향제 및 그것을 이용한 액정 표시 소자에 관한 것이다.This invention relates to the liquid crystal aligning agent suitable as a formation agent of a liquid crystal aligning film, and the liquid crystal display element using the same. More specifically, the present invention relates to a liquid crystal aligning agent exhibiting excellent coating stability and film thickness uniformity when applied to a substrate by an inkjet printing method by containing a block copolymer of a specific structure, and a liquid crystal display device using the same. .

현재, 액정 표시 소자로서는 투명 도전막이 설치되어 있는 기판의 해당 표면에 폴리이미드 등으로 이루어지는 액정 배향막을 형성하여 액정 표시 소자용 기판으로 하고, 그 두장을 대향 배치하여 그 간극 내에 예를 들어 양의 유전 이방성을 갖는 네마틱형 액정층을 형성하여 샌드위치 구조의 셀로 하고, 해당 액정 분자의 장축이 한쪽 기판에서 다른쪽 기판을 향하여 연속적으로 90도 비틀리도록 한, 이른바 TN(Twisted Nematic)형 액정셀을 갖는 TN형 액정 표시 소자가 알려져 있다. 이 TN형 액정 표시 소자를 TFT 구동에 의해 동작시킨 이른바 TFT 액정 패널이 종래의 브라운관 모니터를 대신하여 널리 보급되고 있다.At present, as a liquid crystal display element, the liquid crystal aligning film which consists of polyimide etc. is formed in the surface of the board | substrate with which the transparent conductive film is provided, it is set as a board | substrate for liquid crystal display elements, and the two sheets are mutually arrange | positioned, for example, positive dielectric TN having a so-called TN (Twisted Nematic) liquid crystal cell in which a nematic liquid crystal layer having anisotropy was formed to form a sandwich cell, and the long axis of the liquid crystal molecules was continuously twisted by 90 degrees from one substrate to the other substrate. Type liquid crystal display elements are known. The so-called TFT liquid crystal panel which operated this TN type liquid crystal display element by TFT drive is widely used instead of the conventional CRT monitor.

이 액정 소자에서 액정의 배향을 제어하고 있는 것이 액정 배향막이다. 액정 배향막은 폴리이미드의 전구체인 폴리아믹산 용액 및 용제에 가용인 폴리이미드 용액을 플렉소 인쇄법에 의해 기판에 도포-소성하여 성막하고 있다.The liquid crystal aligning film is controlling the orientation of the liquid crystal in this liquid crystal element. The liquid crystal aligning film apply | coats and bakes the polyamic-acid solution which is a precursor of polyimide, and the polyimide solution soluble in a solvent to a board | substrate by the flexographic printing method.

그러나, 최근 플렉소 인쇄법에서는 기판에 따라 인쇄판을 교환해야 하는 등, 인쇄판 관리에 있어서 번잡함이 문제시되며, 잉크젯 인쇄법이 주목을 받고 있다. 잉크젯법에서는 인쇄판의 수월한 관리, 인쇄의 패턴 설정이 자유로운 것, 액정 배향제 용액이 소량이어도 좋은 것 등의 장점이 있어, 액정 패널의 비용 절감, 수율 개선이 기대되고 있다.However, in recent years, the flexographic printing method has a problem of complicated management in printing plate management, such as the need to replace a printing plate depending on a substrate, and the inkjet printing method has attracted attention. The inkjet method has advantages such as easy management of a printing plate, free setting of printing patterns, and a small amount of a liquid crystal aligning agent solution. The cost reduction and yield improvement of a liquid crystal panel are expected.

잉크젯 인쇄법은, 상술한 바와 같은 장점은 있지만, 이에 적합한 액정 배향제는 아직 제안되어 있지 않으며, 종래의 폴리이미드, 폴리아믹산에 있어서는 사용되는 용제에 따른 잉크젯 인쇄기의 손상, 폴리이미드, 폴리아믹산 용액의 점도 특성 등의 관점에서 안정된 인쇄 상태를 유지할 수 없다는 문제점이 있었다.Although the inkjet printing method has the advantages as described above, a liquid crystal aligning agent suitable for this has not been proposed yet, and in the conventional polyimide and polyamic acid, damage of the inkjet printing machine according to the solvent used, polyimide, polyamic acid solution There was a problem in that it was not possible to maintain a stable printing state in view of the viscosity characteristics and the like.

(1) 잉크젯 인쇄법에서는 미세한 노즐로부터 액정 배향제를 고속으로 분출시킬 필요가 있어 액정 배향제의 점도 특성이 중요한 요인이 된다. 즉, 용액에 강한 외력을 가했을 때의 저항이 적고 유동성이 우수한 것 등이다. 또한, 노즐 부재에는 일부 유기 재료가 사용되는 경우가 있어, 액정 배향제가 이 유기 재료를 침범하지 않는 것도 중요하며, 종래부터 액정 배향제의 용제로서 사용되어 온 N-메틸피롤리돈 등 용해성이 강한 용제 함량을 적게 할 필요가 있다. 이러한 관점에서, 각종 용제에 대한 용해성이 높은 폴리아믹산계 재료가 적합하다고 생각된다.(1) In the inkjet printing method, it is necessary to eject a liquid crystal aligning agent at a high speed from a fine nozzle, and the viscosity characteristic of a liquid crystal aligning agent becomes an important factor. That is, the resistance at the time of applying a strong external force to a solution is excellent, and fluidity is excellent. Moreover, some organic materials may be used for a nozzle member, and it is also important that a liquid crystal aligning agent does not invade this organic material, and it has strong solubility, such as N-methylpyrrolidone conventionally used as a solvent of a liquid crystal aligning agent. It is necessary to reduce the solvent content. In view of this, it is considered that polyamic acid-based materials having high solubility in various solvents are suitable.

(2) 한편, 액정 배향막으로서의 요구 성능은 점점 더 고도화되고 있고, 단일 재료로는 고전압 유지율, 고프리틸트각, 저잔류 DC 등이 충족시킬 수 없었다. 이들 요구 성능을 모두 충족시키기 위한 수단으로서 저잔류 DC가 우수한 폴리아믹산과 고전압 유지율, 고프리틸트각이 우수한 폴리이미드를 혼합하는 기술이 알려져 있다.(2) On the other hand, the required performance as a liquid crystal aligning film is becoming more advanced, and high voltage holding ratio, high pretilt angle, low residual DC, etc. could not be satisfied with a single material. As a means for satisfying all of these required performances, a technique is known in which a polyamic acid excellent in low residual DC and a polyimide excellent in high voltage retention and high pretilt angle are mixed.

상기 (1),(2)의 상황으로부터, 유동성, 용해성이 우수한 폴리아믹산과 폴리이미드 복합체가 잉크젯 인쇄용으로서 바람직하다는 것이 예상된다. 그러나, 본 발명자의 연구에 의해, 단순히 폴리아믹산과 폴리이미드를 혼합한 것에서는, 잉크젯 인쇄시의 전단 및 열에 의해 양자가 분리되어, 분출 안정성, 액정 배향막으로서의 성능 안정성이 결여되는 원인이 되는 것으로 밝혀졌다. 따라서, 본 발명에서는 특정한 구조를 함유하는 폴리아믹산과 폴리이미드를 블록 공중합이라는 수법을 사용하여 복합화시킴으로써, 분출 안정성, 액정 배향막의 성능 안정성, 잉크젯 장치에 대한 안정성이 우수한 액정 배향제의 제조에 성공하였다.From the situation of said (1), (2), it is anticipated that the polyamic acid and polyimide composite excellent in fluidity | liquidity and solubility are preferable for inkjet printing. However, studies by the present inventors have found that simply mixing polyamic acid and polyimide results in separation of both by shearing and heat during inkjet printing, resulting in lack of ejection stability and performance stability as a liquid crystal alignment film. lost. Therefore, in the present invention, by combining a polyamic acid and a polyimide containing a specific structure using a method called block copolymerization, the present invention succeeded in producing a liquid crystal aligning agent excellent in ejection stability, performance stability of the liquid crystal alignment film, and stability to an inkjet device. .

즉, 본 발명의 목적은 신규한 액정 배향제 및 그것을 이용한 액정 표시 소자를 제공하는 것에 있다.That is, an object of the present invention is to provide a novel liquid crystal aligning agent and a liquid crystal display element using the same.

본 발명의 다른 목적은, 폴리아믹산 블록과 폴리이미드 블록으로 이루어지는 블록 공중합체를 함유하여 이루어진 액정 배향제 및 그것을 이용한 액정 표시 소자를 제공하는 것에 있다.Another object of the present invention is to provide a liquid crystal aligning agent comprising a block copolymer composed of a polyamic acid block and a polyimide block and a liquid crystal display element using the same.

본 발명의 또 다른 목적은, 분출 안정성, 액정 배향막의 성능 안정성 및 잉크젯 장치에 대한 안정성이 우수한 액정 배향제 및 그것을 이용한 액정 표시 소자를 제공하는 것에 있다.Still another object of the present invention is to provide a liquid crystal aligning agent having excellent ejection stability, performance stability of a liquid crystal alignment film, and stability to an inkjet device, and a liquid crystal display element using the same.

본 발명의 또 다른 목적 및 잇점은, 이하의 설명으로부터 확실해질 것이다.Still other objects and advantages of the present invention will be apparent from the following description.

본 발명에 따르면, 본 발명의 상기 목적 및 잇점은 제1 폴리이미드 블록과 제2 폴리아믹산 블록을 분자 중에 함유하여 이루어지는 블록 공중합체로서, 상기 제1 폴리이미드 블록은 하기 화학식 1로 표시되는 반복 단위 및 하기 화학식 2로 표시되는 반복 단위로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 반복 단위를 함유하여 이루어지고, 또한 상기 제2 폴리아믹산 블록은 하기 화학식 3으로 표시되는 반복 단위 및 하기 화학식 4로 표시되는 반복 단위로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 반복 단위를 함유하여 이루어지는 블록 공중합체를 함유하는 것을 특징으로 하는 액정 배향제에 의해 달성된다.According to the present invention, the object and the advantages of the present invention is a block copolymer comprising a first polyimide block and a second polyamic acid block in a molecule, wherein the first polyimide block is a repeating unit represented by the following formula (1) And one or more repeating units selected from the group consisting of repeating units represented by the following formula (2), wherein the second polyamic acid block is a repeating unit represented by the following formula (3) and a repeat represented by the following formula (4) It is achieved by the liquid crystal aligning agent characterized by containing the block copolymer which consists of 1 or more types of repeating units chosen from the group which consists of units.

상기 식에서,Where

R1, R4, R6은 수소 원자 또는 알킬기를 나타내고,R 1 , R 4 , R 6 represent a hydrogen atom or an alkyl group,

R2, R3, R5, R7은 2가의 유기기를 나타내며,R 2 , R 3 , R 5 , and R 7 represent a divalent organic group,

l은 1 내지 4의 정수를 나타내고,l represents an integer of 1 to 4,

m, n, p 및 q는 반복 단위수를 나타내는 양수이다.m, n, p and q are positive numbers indicating the number of repeat units.

이하, 본 발명에 대하여 구체적으로 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, this invention is demonstrated concretely.

본 발명의 액정 배향제는, 상기 화학식 1 및(또는) 화학식 2로 표시되는 반복 단위를 갖는 제1 폴리이미드 블록과, 이와 결합한 상기 화학식 3 및(또는) 화학식 4로 표시되는 반복 단위를 갖는 제2 폴리아믹산 블록으로 이루어지는 블록 공중합체를 함유하여 이루어진다.The liquid crystal aligning agent of this invention is a agent which has the 1st polyimide block which has a repeating unit represented by the said Formula (1) and / or Formula (2), and the repeating unit represented by the said Formula (3) and / or Formula (4) combined with It consists of the block copolymer which consists of 2 polyamic-acid blocks.

상기 화학식 1에서, R1은 수소 원자 또는 알킬기이다. 알킬기는 직쇄상일 수도, 분지쇄상일 수도 있고, 바람직하게는 탄소수 1 내지 30의 알킬기를 들 수 있다. 또한, R2는 2가의 유기기이고, 바람직하게는 2가의 지환식기 또는 2가의 방향족기이다. 2가의 지환식기 또는 2가의 방향족기로서는, 예를 들어 후술하는 지환식 디아민 또는 방향족 디아민에서 아미노기를 제외한 2가의 잔기를 들 수 있다. 반복 단위수 n은 바람직하게는 통상 3 내지 2,000이고, 보다 바람직하게는 3 내지 100이다.In Formula 1, R 1 is a hydrogen atom or an alkyl group. An alkyl group may be linear or branched, Preferably, a C1-C30 alkyl group is mentioned. R 2 is a divalent organic group, preferably a divalent alicyclic group or a divalent aromatic group. As a bivalent alicyclic group or a bivalent aromatic group, the bivalent residue remove | excluding the amino group from the alicyclic diamine or aromatic diamine mentioned later is mentioned, for example. The repeating unit number n is preferably 3 to 2,000, more preferably 3 to 100.

상기 화학식 2에서, R3은 2가의 유기기이고, 바람직하게는 2가의 지환식기 또는 2가의 방향족기이다. 이들의 구체예로서는, 상기 R2의 그것과 동일한 것을 들 수 있다. 반복 단위수 m은 바람직하게는 3 내지 2,000이고, 보다 바람직하게는 3 내지 100이다.In Formula 2, R 3 is a divalent organic group, preferably a divalent alicyclic group or a divalent aromatic group. As these specific examples, the same thing as the thing of said R <2> can be mentioned. The number of repeating units m is preferably 3 to 2,000, more preferably 3 to 100.

또한, 상기 화학식 3에서 R6은 수소 원자 또는 알킬기이다. 알킬기는 직쇄상일 수도, 분지쇄상일 수도 있고, 바람직하게는 탄소수 1 내지 30의 알킬기를 들 수 있다.In addition, in Formula 3, R 6 is a hydrogen atom or an alkyl group. An alkyl group may be linear or branched, Preferably, a C1-C30 alkyl group is mentioned.

R7은 2가의 유기기이고, 바람직하게는 2가의 지환식기 또는 2가의 방향족기이다. 2가의 지환식기 또는 2가의 방향족기로서는, 예를 들면 후술하는 지환식 디아민 또는 방향족 디아민에서 아미노기를 제외한 2가의 잔기를 들 수 있다. 반복 단위수 q는 바람직하게는 2 내지 1,000이고, 보다 바람직하게는 2 내지 100이다.R 7 is a divalent organic group, preferably a divalent alicyclic group or a divalent aromatic group. As a bivalent alicyclic group or bivalent aromatic group, the bivalent residue remove | excluding the amino group from the alicyclic diamine or aromatic diamine mentioned later is mentioned, for example. The number of repeating units q is preferably 2 to 1,000, more preferably 2 to 100.

또한, 화학식 4에서 R4는 수소 원자 또는 알킬기이다. 알킬기는 직쇄상일 수도, 분지쇄상일 수도 있으며, 바람직하게는 탄소수 1 내지 30의 알킬기를 들 수 있다.In formula (4), R 4 is a hydrogen atom or an alkyl group. The alkyl group may be linear or branched, and preferably includes an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms.

R5는 2가의 유기기이고, 바람직하게는 2가의 지환식기 또는 2가의 방향족기이다. 이들의 구체예로서는, 상기 R7의 그것과 동일한 것을 들 수 있다. 반복 단위수 p는 바람직하게는 2 내지 1,000이고, 보다 바람직하게는 2 내지 100이다.R 5 is a divalent organic group, preferably a divalent alicyclic group or a divalent aromatic group. As these specific examples, the same ones as those of the above R 7 may be mentioned. The repeating unit number p is preferably 2 to 1,000, and more preferably 2 to 100.

또한, 블록 공중합체 중의 제1 폴리이미드 블록의 중량비(ρ1)와 제2 폴리아믹산 블록의 중량비(ρ2)는, ρ1〈ρ2인 것이 바람직하고, ρ1〉ρ2에서는 높은 전단에서의 점도가 과대하여 잉크젯 도포에 적합하지 않고, 통상의 플렉소 인쇄법에 있어서도 평준화가 불량하여 막 두께 균일성이 뒤떨어지는 경우가 있다.Further, the weight ratio ρ 1 of the first polyimide block and the weight ratio ρ 2 of the second polyamic acid block in the block copolymer is preferably ρ 12 , and at ρ 1 > ρ 2 at a high shear. The viscosity of the film is excessive, which is not suitable for inkjet coating, and even in the usual flexographic printing method, the leveling is poor and the film thickness uniformity may be inferior.

〈블록 공중합체의 제조 방법〉<Method for Producing Block Copolymer>

이어서, 본 발명의 블록 공중합체의 제조 방법에 대해서 설명한다. 본 발명의 블록 공중합체는, ① 분자 말단에 아미노기를 갖는 폴리아믹산 초기 중합체(A)를 제조하기 위한「공정 A」, ② 분자 말단에 테트라카르복실산류에 유래하는 반응성기를 갖는 폴리이미드 초기 중합체(B)를 제조하기 위한「공정 B」및 상기 폴리아믹산 초기 중합체(A)와 상기 폴리이미드 초기 중합체(B)를 반응시키는「공정 C」를 실행함으로써 제조할 수 있다. 또한, 테트라카르복실산 말단의 폴리아믹산 초기 중합체와 아미노기 말단의 폴리이미드 초기 중합체로부터 본 발명의 블록 공중합체를 얻는 것도 가능하지만, 초기 중합체의 반복 단위수가 시간 경과에 따라 변화하기 쉽기 때문에 공정 A, B, C의 방법이 바람직하다. 이하 공정 A, B, C를 설명한다.Next, the manufacturing method of the block copolymer of this invention is demonstrated. The block copolymer of the present invention comprises: (1) "Step A" for producing a polyamic acid initial polymer (A) having an amino group at the molecular end, and 2) a polyimide initial polymer having a reactive group derived from tetracarboxylic acids at the molecular end ( It can manufacture by performing "process B" for manufacturing B) and "process C" which makes the said polyamic-acid initial polymer (A) and the said polyimide initial polymer (B) react. Moreover, although it is also possible to obtain the block copolymer of this invention from the polyamic-acid initial polymer of a tetracarboxylic-acid terminal and the polyimide initial polymer of an amino-group terminal, since the number of repeat units of an initial polymer tends to change with time, Process A, The method of B and C is preferable. Process A, B, and C are demonstrated below.

〈공정 A〉<Process A>

이 공정 A에서는, 하기 반응식 1에 나타낸 바와 같이 유기기 RA를 갖는 테트라카르복실산류 및 유기기 QA를 갖는 디아민을 반응시킨다. 사용되는 테트라카르복실산의 몰 수에 대하여, 디아민을 그 몰수가 예를 들어 1.001 내지 2배가 되도록 당몰량을 초과한 과잉량으로 사용함으로써, 분자 말단에 아미노기를 갖는 반복 단위수 β의 폴리아믹산 초기 중합체(A)를 제조한다.In this step A, tetracarboxylic acids having an organic group RA and a diamine having an organic group QA are reacted as shown in Scheme 1 below. The polyamic acid initial stage of the repeating unit number (beta) which has an amino group at the terminal of a molecule | numerator by using the diamine in excess in excess of molar amount with respect to the mole number of the tetracarboxylic acid used, for example, the mole number becomes 1.001-2 times. Polymer (A) is prepared.

공정 B:Process B:

이 공정 B에서는, 하기 반응식 2에 나타낸 바와 같이 유기기 RB를 갖는 테트라카르복실산류 및 유기기 QB를 갖는 디아민을 반응시킨다. 사용되는 디아민의 몰수에 대하여, 테트라카르복실산을 그 몰수가 예를 들어 1.001 내지 2배가 되도록 당몰량을 초과한 과잉량으로 사용함으로써, 분자 말단에 테트라카르복실산류에 유래하는 반응성기를 갖는 폴리아믹산을 제조한다. 이어서, 후술하는 이미드화 처리를 행하여, 반복 단위수 α의 폴리이미드 초기 중합체(B)를 얻는다.In this step B, tetracarboxylic acids having an organic group RB and a diamine having an organic group QB are reacted as shown in Scheme 2 below. Regarding the number of moles of diamine used, the polyamic acid having a reactive group derived from tetracarboxylic acids at the terminal of the molecule is used by using an excess amount exceeding the molar amount of tetracarboxylic acid such that the number of moles thereof is, for example, 1.001 to 2 times. To prepare. Next, the imidation process mentioned later is performed and the polyimide initial polymer (B) of repeating unit number (alpha) is obtained.

공정 C:Process C:

이 공정 C 에서는, 공정 A에서 얻어진 폴리아믹산 초기 중합체(A)의 말단 아미노기와 공정 B에서 얻어진 폴리이미드 초기 중합체(B)의 말단 테트라카르복실산에 유래하는 반응성기를 공정 A 또는 공정 B와 동일하게 반응시킴으로써, 하기 반응식 3에서 나타낸 바와 같이, 핵 원자단 RA에 2가의 결합기(-CO-NH-)를 개재시키고 결합한 유기기 QA와의 결합체를 반복 단위로 하는 폴리아믹산 블록(A) 및 동일한 핵 원자단 RB와 유기기 QB와의 결합체를 반복 단위로 하는 폴리이미드 블록(B)가 결합되어 이루어지는 블록 공중합체를 제조한다.In this step C, the terminal amino group of the polyamic acid initial polymer (A) obtained in step A and the reactive group derived from the terminal tetracarboxylic acid of the polyimide initial polymer (B) obtained in step B are the same as step A or step B. By reacting, the polyamic acid block (A) and the same nuclear atom group RB having repeating units of a bond with the organic group QA bonded to each other via a bivalent bonding group (-CO-NH-) in the nuclear atom group RA as shown in Scheme 3 below And a block copolymer in which a polyimide block (B) having a binder of an organic group QB as a repeating unit is bonded.

또한, 공정 C에서는, 다음의 방법으로 얻어지는 블록 공중합체를 분자량이 조절된 말단 수식형 블록 공중합체로 할 수도 있다. 이 말단 수식형 블록 공중합체는 도포 특성 등의 개선에 이용할 수 있다. 이러한 말단 수식형의 것은 공정 C의 반응계에 산일무수물, 모노아민 화합물, 모노이소시아네이트 화합물 등을 첨가함으로써 합성할 수 있다. 여기에서, 산일무수물로서는, 예를 들어 무수 말레산, 무수 프탈산, 무수 이타콘산, n-데실숙신산 무수물, n-도데실숙신산 무수물, n-테트라데실숙신산 무수물, n-헥사데실숙신산 무수물 등을 들 수 있다. 또한, 모노아민 화합물로서는, 예를 들어 아닐린, 시클로헥실아민, n-부틸아민, n-펜틸아민, n-헥실아민, n-헵틸아민, n-옥틸아민, n-노닐아민, n-데실아민, n-운데실아민, n-도데실아민, n-트리데실아민, n-테트라데실아민, n-펜타데실아민, n-헥사데실아민, n-헵타데실아민, n-옥타데실아민, n-에이코실아민, 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 2-아미노프로필트리메톡시실란, 2-아미노프로필트리에톡시실란, 3-우레이도프로필트리메톡시실란, 3-우레이도프로필트리에톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, 3-아미노프로필디메틸에톡시실란, 3-아미노프로필메틸디에톡시실란, p-[N-(2-아미노에틸)아미노메틸]페네틸트리메톡시실란, N,N-비스 [3-(트리메톡시실릴)프로필]에틸렌디아민, N-3-트리메톡시실릴프로필-m-페닐렌디아민 등을 들 수 있다. 또한, 모노이소시아네이트 화합물로서는, 예를 들어 페닐이소시아네이트, 나프틸이소시아네이트, 3-이소시아네이트프로필트리에톡시실란 등을 들 수 있다.In addition, in the process C, the block copolymer obtained by the following method can also be made into the terminal modified block copolymer by which molecular weight was adjusted. This terminal modified block copolymer can be used for improvement of application characteristics, etc. Such terminal-modified forms can be synthesized by adding an acid anhydride, a monoamine compound, a monoisocyanate compound, or the like to the reaction system of Step C. Here, as an acid anhydride, maleic anhydride, a phthalic anhydride, itaconic anhydride, n-decyl succinic anhydride, n-dodecyl succinic anhydride, n- tetradecyl succinic anhydride, n-hexadecyl succinic anhydride, etc. are mentioned, for example. Can be. As the monoamine compound, for example, aniline, cyclohexylamine, n-butylamine, n-pentylamine, n-hexylamine, n-heptylamine, n-octylamine, n-nonylamine, n-decylamine , n-undecylamine, n-dodecylamine, n-tridecylamine, n-tetradecylamine, n-pentadecylamine, n-hexadecylamine, n-heptadecylamine, n-octadecylamine, n -Ecosilamine, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 2-aminopropyltrimethoxysilane, 2-aminopropyltriethoxysilane, 3-ureidopropyltrimethoxysilane , 3-ureidopropyltriethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, 3-amino Propyldimethylethoxysilane, 3-aminopropylmethyldiethoxysilane, p- [N- (2-aminoethyl) aminomethyl] phenethyltrimethoxysilane, N, N-bis [3- (trimethoxysilyl) prop Phil] ethylenediamine, N-3-trimethoxysilylpropyl-m-phenylenediamine, etc. are mentioned. Moreover, as a monoisocyanate compound, phenyl isocyanate, naphthyl isocyanate, 3-isocyanate propyl triethoxysilane, etc. are mentioned, for example.

공정 A 또는 공정 B에서 사용하는 테트라카르복실산, 디아민으로서는 이하에 예시하는 화합물 중에서 복수의 화합물을 병용하여 사용하는 것이 가능하다. 또한, 공정 A 또는 공정 B와 동일하게 제조된 폴리아믹산 초기 중합체 및(또는) 폴리이미드 초기 중합체의 1종 이상을 공정 C에서 반응시킴으로써, 또는 공정 C와 동일하게 반응시킴으로써, 3종 이상의 블록이 포함되어 이루어지는 블록 공중합체를 제조할 수도 있다.As tetracarboxylic acid and diamine used at a process A or a process B, it is possible to use together a some compound from the compound illustrated below. In addition, three or more blocks are included by reacting at least one of the polyamic acid initial polymer and / or the polyimide initial polymer prepared in the same manner as in Process A or Process B in Step C, or by reacting in the same manner as Step C. It is also possible to produce a block copolymer.

공정 A에서 사용되는 테트라카르복실산 이무수물의 구체예로서는, 1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복실산 이무수물, 1,2-디메틸-1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복실산 이무수물, 1,3-디메틸-1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복실산 이무수물, 1,2,3,4-테트라메틸-1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복실산 이무수물, 피로멜리트산 이무수물에서 선택되는 1종 이상을 바람직하게 사용할 수 있다.Specific examples of the tetracarboxylic dianhydride used in Step A include 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride and 1,2-dimethyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxyl Acid dianhydride, 1,3-dimethyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-tetramethyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarb 1 or more types chosen from an acid dianhydride and a pyromellitic dianhydride can be used preferably.

또한, 공정 B에서 사용되는 테트라카르복실산 이무수물의 구체예로서는, 1,3,3a,4,5,9b-헥사히드로-5(테트라히드로-2,5-디옥소-3-푸라닐)-나프토[1,2-c]-푸란-1,3-디온, 1,3,3a,4,5,9b-헥사히드로-5-메틸-5(테트라히드로-2,5-디옥소-3-푸라닐)-나프토[1,2-c]-푸란-1,3-디온, 1,3,3a,4,5,9b-헥사히드로-5-에틸-5(테트라히드로-2,5-디옥소-3-푸라닐)-나프토[1,2-c]-푸란-1,3-디온, 1,3,3a,4,5,9b-헥사히드로-7-메틸-5(테트라히드로-2,5-디옥소-3-푸라닐)-나프토[1,2-c]-푸란-1,3-디온, 1,3,3a,4,5,9b-헥사히드로-7-에틸-5(테트라히드로-2,5-디옥소-3-푸라닐)-나프토[1,2-c]-푸란-1,3-디온, 1,3,3a,4,5,9b-헥사히드로-8-메틸-5(테트라히드로-2,5-디옥소 -3-푸라닐)-나프토[1,2-c]-푸란-1,3-디온, 1,3,3a,4,5,9b-헥사히드로-8-에틸-5(테트라히드로-2,5-디옥소-3-푸라닐)-나프토[1,2-c]-푸란-1,3-디온, 1,3,3a,4,5,9b-헥사히드로-5,8-디메틸-5(테트라히드로-2,5-디옥소-3-푸라닐)-나프토[1,2-c]-푸란-1,3-디온, 2,3,5-트리카르복시시클로펜틸아세트산 이무수물에서 선택되는 1종 이상을 바람직하게 사용할 수 있다.Moreover, as a specific example of the tetracarboxylic dianhydride used at process B, 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-5 (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naph Earth [1,2-c] -furan-1,3-dione, 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-5-methyl-5 (tetrahydro-2,5-dioxo-3- Furanyl) -naphtho [1,2-c] -furan-1,3-dione, 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-5-ethyl-5 (tetrahydro-2,5- Dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] -furan-1,3-dione, 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-7-methyl-5 (tetrahydro -2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] -furan-1,3-dione, 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-7-ethyl -5 (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] -furan-1,3-dione, 1,3,3a, 4,5,9b-hexa Hydro-8-methyl-5 (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] -furan-1,3-dione, 1,3,3a, 4, 5,9b-hexahydro-8-ethyl-5 (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] -furan-1,3-dione, 1,3 , 3a, 4,5,9b-hexahydro-5,8-dimethyl-5 (te Selected from trahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] -furan-1,3-dione, 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic dianhydride 1 or more types can be used preferably.

또한, 공정 A 및 공정 B에서는, 본 발명의 특징을 해치지 않는 범위, 바람직하게는 전체 테트라카르복실산 이무수물의 20 몰%이하의 사용량으로 이들 산이무수물과 후술하는 테트라카르복실산 이무수물을 병용하여 사용할 수 있다.In addition, in step A and step B, these acid dianhydrides and tetracarboxylic dianhydrides to be described later are used in combination within a range that does not impair the characteristics of the present invention, preferably 20 mol% or less of all tetracarboxylic dianhydrides. Can be used.

공정 A 및(또는) 공정 B에서 병용하여 사용되는 테트라카르복실산 무수물로서는, 이하에 예시하는 지환식 테트라카르복실산 이무수물 및 방향족 테트라카르복실산 이무수물을 들 수 있다. 또한, 공정 A에서는 공정 B에서 사용되는 것으로서 예시된 테트라카르복실산 이무수물을, 또한 공정 B에서는 공정 A에서 사용되는 것으로서 예시된 테트라카르복실산 이무수물을 각각 20 몰% 이하의 사용량으로 사용할 수도 있다.Examples of the tetracarboxylic anhydride used in combination with Step A and / or Step B include alicyclic tetracarboxylic dianhydrides and aromatic tetracarboxylic dianhydrides exemplified below. In addition, in step A, the tetracarboxylic dianhydride exemplified as used in step B, and in step B, the tetracarboxylic dianhydride exemplified as used in step A may also be used in an amount of up to 20 mol%. have.

지환식 테트라카르복실산 이무수물로서는, 예를 들어 1,3-디클로로-1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복실산 이무수물, 1,2,3,4-시클로펜탄테트라카르복실산 이무수물, 1,2,4,5-시클로헥산테트라카르복실산 이무수물, 3,3',4,4'-디시클로헥실테트라카르복실산 이무수물, 3,5,6-트리카르복시노르보르난-2-아세트산 이무수물, 2,3,4,5-테트라히드로푸란테트라카르복실산 이무수물, 5-(2,5-디옥소테트라히드로푸랄)-3-메틸-3-시클로헥센-1,2-디카르복실산 이무수물, 비시클로[2,2,2]-옥토-7-엔-2,3,5,6-테트라카르복실산 이무수물 및 하기 화학식 5, 6으로 표시되는 화합물 등을 들 수 있다.As alicyclic tetracarboxylic dianhydride, it is 1, 3- dichloro- 1, 2, 3, 4- cyclobutane tetracarboxylic dianhydride, 1,2,3, 4- cyclopentane tetracarboxylic acid, for example. Dianhydrides, 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydrides, 3,3 ', 4,4'-dicyclohexyltetracarboxylic dianhydrides, 3,5,6-tricarboxynorborne L-2-acetic acid dianhydride, 2,3,4,5-tetrahydrofurantetracarboxylic dianhydride, 5- (2,5-dioxotetrahydrofural) -3-methyl-3-cyclohexene-1 , 2-dicarboxylic dianhydride, bicyclo [2,2,2] -octo-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride and a compound represented by the following formulas 5 and 6 Etc. can be mentioned.

식 중, R1및 R3은 방향족을 갖는 2가의 유기기를 나타내고, R2및 R4는 수소 원자 또는 알킬기를 나타내고, 복수개 존재하는 R2및 R4는 각각 동일하거나 상이할 수 있다.In formula, R <1> and R <3> represents the divalent organic group which has an aromatic, R <2> and R <4> represents a hydrogen atom or an alkyl group, and two or more R <2> and R <4> may be same or different, respectively.

방향족 테트라카르복실산 이무수물로서는, 예를 들어 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르복실산 이무수물, 3,3',4,4'-비페닐술폰테트라카르복실산 이무수물, 1,4,5,8-나프탈렌테트라카르복실산 이무수물, 2,3,6,7-나프탈렌테트라카르복실산 이무수물, 3,3',4,4'-비페닐에테르테트라카르복실산 이무수물, 3,3',4,4'-디메틸디페닐실란테트라카르복실산 이무수물, 3,3',4,4'-테트라페닐실란테트라카르복실산 이무수물, 1,2,3,4-푸란테트라카르복실산 이무수물, 4,4'-비스(3,4-디카르복시페녹시)디페닐술피드 이무수물, 4,4'-비스(3,4-디카르복시페녹시)디페닐술폰 이무수물, 4,4'-비스(3,4-디카르복시페녹시)디페닐프로판 이무수물, 3,3',4,4'-퍼플루오로이소프로필리덴디프탈산 이무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르복실산 이무수물, 비스(프탈산)페닐포스핀옥시드 이무수물, p-페닐렌-비스(트리페닐프탈산) 이무수물, m-페닐렌-비스(트리페닐프탈산) 이무수물, 비스(트리페닐프탈산)-4,4'-디페닐에테르 이무수물, 비스(트리페닐프탈산)-4,4'-디페닐메탄 이무수물, 에틸렌글리콜-비스 (안히드로트리멜리트산), 프로필렌글리콜-비스(안히드로트리멜리트산), 1,4-부탄디올-비스(안히드로트리멜리트산), 1,6-헥산디올-비스(안히드로트리멜리트산), 1,8-옥탄디올-비스(안히드로트리멜리트산), 2,2-비스(4-히드록시페닐)프로판-비스(안히드로트리멜리트산) 및 하기 화학식 7 내지 10으로 표시되는 화합물 등을 들 수 있다.As aromatic tetracarboxylic dianhydride, it is 3,3 ', 4,4'- benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-biphenylsulfontetracarboxylic dianhydride, for example. , 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-biphenylethertetracarboxylic acid Dianhydrides, 3,3 ', 4,4'-dimethyldiphenylsilanetetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-tetraphenylsilanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3, 4-furantetetracarboxylic dianhydride, 4,4'-bis (3,4-dicarboxyphenoxy) diphenylsulfide dianhydride, 4,4'-bis (3,4-dicarboxyphenoxy) di Phenylsulfone dianhydride, 4,4'-bis (3,4-dicarboxyphenoxy) diphenylpropane dianhydride, 3,3 ', 4,4'-perfluoroisopropylidenediphthalic dianhydride, 3, 3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, bis (phthalic acid) phenylphosphineoxide dianhydride, p-phenylene-r (Triphenylphthalic acid) dianhydride, m-phenylene-bis (triphenylphthalic acid) dianhydride, bis (triphenylphthalic acid) -4,4'-diphenylether dianhydride, bis (triphenylphthalic acid) -4,4 '-Diphenylmethane dianhydride, ethylene glycol-bis (anhydrotrimellitic acid), propylene glycol-bis (anhydrotrimellitic acid), 1,4-butanediol-bis (anhydrotrimellitic acid), 1,6 -Hexanediol-bis (anhydrotrimellitic acid), 1,8-octanediol-bis (anhydrotrimellitic acid), 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane-bis (anhydrotrimellitic acid And the compounds represented by the following formulas (7) to (10).

공정 A 및(또는) 공정 B에서 사용되는 디아민 화합물로서는, 지방족 디아민 화합물, 방향족 디아민 화합물 등을 들 수 있다.As a diamine compound used at the process A and / or the process B, an aliphatic diamine compound, an aromatic diamine compound, etc. are mentioned.

지방족 디아민 화합물로서는, 예를 들어 1,1-메타크실릴렌디아민, 1,3-프로판디아민, 테트라메틸렌디아민, 펜타메틸렌디아민, 헥사메틸렌디아민, 헵타메틸렌디아민, 옥타메틸렌디아민, 노나메틸렌디아민, 4,4-디아미노헵타메틸렌디아민 등의 지방족디아민; 1,4-디아미노시클로헥산, 이소포론디아민, 테트라히드로디시클로펜타디에닐렌디아민, 헥사히드로-4,7-메타노인다닐렌디메틸렌디아민, 트리시클로 [6.2.1.02,7]-운데실렌디메틸디아민, 4,4'-메틸렌비스(시클로헥실아민), 1,3-비스아미노메틸시클로헥산, 2,5-비스(아미노메틸)비시클로[2.2.1]헵탄, 2,6-비스(아미노메틸)비시클로[2.2.1]헵탄 등의 지환식 디아민; 및 하기 화학식 11로 표시되는 디아미노오르가노실록산 등을 들 수 있다.As an aliphatic diamine compound, for example, 1,1-methacrylylenediamine, 1,3-propanediamine, tetramethylenediamine, pentamethylenediamine, hexamethylenediamine, heptamethylenediamine, octamethylenediamine, nonamethylenediamine, 4 Aliphatic diamines such as, 4-diaminoheptamethylenediamine; 1,4-diaminocyclohexane, isophoronediamine, tetrahydrodicyclopentadienylenediamine, hexahydro-4,7-methanoindenylenedimethylenediamine, tricyclo [6.2.1.0 2,7 ] -undecylenedimethyl Diamine, 4,4'-methylenebis (cyclohexylamine), 1,3-bisaminomethylcyclohexane, 2,5-bis (aminomethyl) bicyclo [2.2.1] heptane, 2,6-bis (amino Alicyclic diamines such as methyl) bicyclo [2.2.1] heptane; And diamino organosiloxane represented by the following formula (11).

상기 식에서, R9는 탄소수 1 내지 12의 탄화수소기를 나타내고, 복수개 존재하는 R9는 각각 동일하거나 상이할 수 있고, r은 1 내지 3의 정수이고, s는 1 내지 20의 정수이다.In the above formula, R 9 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and a plurality of R 9 's may be the same or different, r is an integer of 1 to 3, and s is an integer of 1 to 20.

방향족 디아민 화합물로서는, p-페닐렌디아민, m-페닐렌디아민, 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐에탄, 4,4'-디아미노디페닐술피드, 4,4'-디아미노페닐술폰, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 3,5-디아미벤조산, 1-헥사데카녹시-2,4-디아미노벤젠, 3,3'-디메틸-4,4'-디아미노비페닐, 4,4'-디아미노벤즈아닐리드, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 1,5-디아미노나프탈렌, 3,3-디메틸-4,4'-디아미노비페닐, 5-아미노-1-(4'-아미노페닐)-1,3,3-트리메틸인단, 6-아미노-1-(4'-아미노페닐) -1,3,3-트리메틸인단, 3,4'-디아미노디페닐에테르, 3,3'-디아미노벤조페논, 3,4'-디아미노벤조페논, 4,4'-디아미노벤조페논, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]헥사플루오로프로판, 2,2-비스(4-아미노페닐)-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로판, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]술폰, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,3-비스(3-아미노페녹시)벤젠, 9,9-비스(4-아미노페닐)-10-히드로안트라센, 2,7-디아미노플루오렌, 9,9-비스(4-아미노페닐)플루오렌, 4,4'-메틸렌-비스(2-클로로아닐린), 2,2',5,5'-테트라클로로-4,4'-디아미노비페닐, 2,2'-디클로로-4,4'-디아미노-5,5'-디메톡시비페닐, 3,3'-디메톡시-4,4'-디아미노비페닐, 3,3'-디카르복시-4,4'-디아미노비페닐, 3,3'-디히드록시-4,4'-디아미노비페닐, 4,4'-(p-페닐렌디이소프로필리덴)디아닐린, 4,4'-(m-페닐렌디이소프로필리덴)디아닐린, 2,2'-비스[4-(4-아미노-2-트리플루오로메틸페녹시)페닐]헥사플루오로프로판, 4,4'-디아미노-2,2'-비스(트리플루오로메틸)비페닐, 4,4'-비스[(4-아미노-2-트리플루오로메틸)페녹시]-옥타플루오로비페닐 등의 방향족 디아민;As an aromatic diamine compound, p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 4,4'- diamino diphenylmethane, 4,4'- diamino diphenyl ethane, 4,4'- diamino diphenyl sulfide , 4,4'-diaminophenylsulfone, 4,4'-diaminodiphenylether, 3,5-diamibenzoic acid, 1-hexadecanooxy-2,4-diaminobenzene, 3,3'- Dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 4,4'-diaminobenzanilide, 4,4'-diaminodiphenylether, 1,5-diaminonaphthalene, 3,3-dimethyl-4,4 '-Diaminobiphenyl, 5-amino-1- (4'-aminophenyl) -1,3,3-trimethylindane, 6-amino-1- (4'-aminophenyl) -1,3,3- Trimethylindan, 3,4'-diaminodiphenylether, 3,3'-diaminobenzophenone, 3,4'-diaminobenzophenone, 4,4'-diaminobenzophenone, 2,2-bis [ 4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane, 2,2-bis (4-aminophenyl) -1,1 , 1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) Nil] sulfone, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 9,9- Bis (4-aminophenyl) -10-hydroanthracene, 2,7-diaminofluorene, 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene, 4,4'-methylene-bis (2-chloroaniline) , 2,2 ', 5,5'-tetrachloro-4,4'-diaminobiphenyl, 2,2'-dichloro-4,4'-diamino-5,5'-dimethoxybiphenyl, 3 , 3'-dimethoxy-4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dicarboxy-4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dihydroxy-4,4'-dia Minobiphenyl, 4,4 '-(p-phenylenediisopropylidene) dianiline, 4,4'-(m-phenylenediisopropylidene) dianiline, 2,2'-bis [4- (4- Amino-2-trifluoromethylphenoxy) phenyl] hexafluoropropane, 4,4'-diamino-2,2'-bis (trifluoromethyl) biphenyl, 4,4'-bis [(4 Aromatic diamines such as -amino-2-trifluoromethyl) phenoxy] -octafluorobiphenyl;

2,3-디아미노피리딘, 2,6-디아미노피리딘, 3,4-디아미노피리딘, 2,4-디아미노피리미딘, 5,6-디아미노-2,3-디시아노피라진, 5,6-디아미노-2,4-디히드록시피리미딘, 2,4-디아미노-6-디메틸아미노-1,3,5-트리아진, 1,4-비스(3-아미노프로필)피페라진, 2,4-디아미노-6-이소프로폭시-1,3,5-트리아진, 2,4-디아미노-6-메톡시-1,3,5-트리아진, 2,4-디아미노-6-페닐-1,3,5-트리아진, 2,4-디아미노-6-메틸-s-트리아진, 2,4-디아미노-1,3,5-트리아진, 4,6-디아미노-2-비닐-s-트리아진, 2,4-디아미노-5-페닐티아졸, 2,6-디아미노푸린, 5,6-디아미노-1,3-디메틸우라실, 3,5-디아미노-1,2,4-트리아졸, 6,9-디아미노-2-에톡시아크리딘락테이트, 3,8-디아미노-6-페닐페난트리딘, 1,4-디아미노피페라진, 3,6-디아미노아크리딘, 비스(4-아미노페닐)페닐아민 및 하기 화학식 12 및 13으로 표시되는 화합물 등의 분자 내에 2개의 1급 아미노기 및 이 1급 아미노기 이외의 질소 원자를 갖는 디아민;2,3-diaminopyridine, 2,6-diaminopyridine, 3,4-diaminopyridine, 2,4-diaminopyrimidine, 5,6-diamino-2,3-dicyanopyrazine, 5, 6-diamino-2,4-dihydroxypyrimidine, 2,4-diamino-6-dimethylamino-1,3,5-triazine, 1,4-bis (3-aminopropyl) piperazine, 2,4-diamino-6-isopropoxy-1,3,5-triazine, 2,4-diamino-6-methoxy-1,3,5-triazine, 2,4-diamino- 6-phenyl-1,3,5-triazine, 2,4-diamino-6-methyl-s-triazine, 2,4-diamino-1,3,5-triazine, 4,6-dia Mino-2-vinyl-s-triazine, 2,4-diamino-5-phenylthiazole, 2,6-diaminopurine, 5,6-diamino-1,3-dimethyluracil, 3,5- Diamino-1,2,4-triazole, 6,9-diamino-2-ethoxyacridine lactate, 3,8-diamino-6-phenylphenanthtridine, 1,4-diaminopiperazine, 2, in a molecule such as 3,6-diaminoacridine, bis (4-aminophenyl) phenylamine and the compounds represented by the following formulas (12) and (13) Of a diamine having a nitrogen atom other than the primary amino group and a primary amino group;

상기 식에서, Rl0은 피리딘, 피리미딘, 트리아진, 피페리딘 및 피페라진에서 선택되는 질소 원자를 포함하는 환 구조를 가진 1가의 유기기를 나타내고, X는 2가의 유기기를 나타낸다. Wherein R 10 represents a monovalent organic group having a ring structure containing a nitrogen atom selected from pyridine, pyrimidine, triazine, piperidine and piperazine, and X represents a divalent organic group.

상기 식에서, Rl1은 피리딘, 피리미딘, 트리아진, 피페리딘 및 피페라진에서 선택되는 질소 원자를 포함하는 환 구조를 가진 2가의 유기기를 나타내고, X는 2가의 유기기를 나타내며, 복수개 존재하는 X는 동일하거나 상이할 수 있다.In the above formula, R 1 represents a divalent organic group having a ring structure containing a nitrogen atom selected from pyridine, pyrimidine, triazine, piperidine and piperazine, X represents a divalent organic group, and a plurality of X May be the same or different.

하기 화학식 14로 표시되는 모노 치환 페닐렌디아민류;Mono-substituted phenylenediamines represented by the following formula (14);

상기 식에서, R12는 -O-, -COO-, -OCO-, -NHCO-, -CONH- 및 -CO-에서 선택되는 2가의 유기기를 나타내고, R13은 스테로이드 골격, 트리플루오로메틸기 및 플루오로기에서 선택되는 기를 가진 1가의 유기기 또는 탄소수 6 내지 30의 알킬기를 나타낸다.In the above formula, R 12 represents a divalent organic group selected from -O-, -COO-, -OCO-, -NHCO-, -CONH- and -CO-, and R 13 represents a steroid skeleton, a trifluoromethyl group and a fluorine group. Monovalent organic group or group having 6 to 30 carbon atoms having a group selected from the group.

하기 화학식 15 내지 27로 표시되는 화합물 등을 들 수 있다. 이들 디아민 화합물은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.And compounds represented by the following formulas (15) to (27). These diamine compounds can be used individually or in combination of 2 or more types.

상기 식에서, y는 2 내지 12의 정수이고, z는 1 내지 5의 정수이다.Wherein y is an integer from 2 to 12 and z is an integer from 1 to 5.

이들 중, 1,4-디아미노시클로헥산, 이소포론디아민, 1-헥사데카녹시-2,4-디아미노벤젠, 테트라히드로디시클로펜타디에닐렌디아민, 헥사히드로-4,7-메타노인다닐렌디메틸렌디아민, 트리시클로[6.2.1.02,7]-운데실렌디메틸디아민, 4,4'-메틸렌비스(시클로헥실아민), 1,3-비스아미노메틸시클로헥산, 2,5-비스(아미노메틸)비시클로[2.2.1]헵탄, 2,6-비스(아미노메틸)비시클로[2.2.1]헵탄, 4,4'-디아미노디페닐술피드, 4,4'-디아미노디페닐술폰, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 3,5-디아미노벤조산, 2,2-비스(4-아미노페닐)-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로판, p-페닐렌디아민, 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐에탄, 3,3'-디메틸-4,4'-디아미노비페닐, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,3-비스(3-아미노페녹시)벤젠, 9,9-비스(4-아미노페닐)-10-히드로안트라센, 2,7-디아미노플루오렌, 9,9-비스(4-아미노페닐)플루오렌, 3,3' -디메톡시-4,4'-디아미노비페닐, 4,4'-(p-페닐렌디이소프로필리덴)디아닐린, 4,4' -(m-페닐렌디이소프로필리덴)디아닐린, 1,1-메타크실릴렌디아민, 1,3-프로판디아민, 테트라메틸렌디아민, 펜타메틸렌디아민, 헥사메틸렌디아민, 헵타메틸렌디아민, 옥타메틸렌디아민, 노나메틸렌디아민, 4,4-디아미노헵타메틸렌디아민 및 상기 화학식 15 내지 27로 표시되는 화합물이 바람직하다.Among them, 1,4-diaminocyclohexane, isophoronediamine, 1-hexadecanoxy-2,4-diaminobenzene, tetrahydrodicyclopentadienylenediamine, hexahydro-4,7-methanoindanyl Ethylenedimethylenediamine, tricyclo [6.2.1.0 2,7 ] -undecylenedimethyldiamine, 4,4'-methylenebis (cyclohexylamine), 1,3-bisaminomethylcyclohexane, 2,5-bis (amino Methyl) bicyclo [2.2.1] heptane, 2,6-bis (aminomethyl) bicyclo [2.2.1] heptane, 4,4'-diaminodiphenylsulfide, 4,4'-diaminodiphenyl Sulfone, 4,4'-diaminodiphenylether, 3,5-diaminobenzoic acid, 2,2-bis (4-aminophenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, p-phenylenediamine, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylethane, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (3- Aminophenoxy) bene Zen, 9,9-bis (4-aminophenyl) -10-hydroanthracene, 2,7-diaminofluorene, 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene, 3,3'-dimethoxy- 4,4'-diaminobiphenyl, 4,4 '-(p-phenylenediisopropylidene) dianiline, 4,4'-(m-phenylenediisopropylidene) dianiline, 1,1-methac Silylenediamine, 1,3-propanediamine, tetramethylenediamine, pentamethylenediamine, hexamethylenediamine, heptamethylenediamine, octamethylenediamine, nonamethylenediamine, 4,4-diaminoheptamethylenediamine and the above formulas 15 to 27 The compound represented by is preferable.

이들 디아민은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.These diamines can be used individually or in combination of 2 or more types.

공정 A, 공정 B 및 공정 C에서의 반응은 유기 용매 중에서 바람직하게는 0내지 200 ℃, 보다 바람직하게는 0 내지 100 ℃의 온도 조건하에서 행해진다.The reaction in the step A, the step B and the step C is carried out in an organic solvent under temperature conditions of preferably 0 to 200 ° C, more preferably 0 to 100 ° C.

이 반응에 사용하는 유기 용매로서는 생성하는 폴리아믹산을 용해할 수 있는 것이면 특히 제한되지 않고, 예를 들어 N-메틸-2-피롤리돈, N,N-디메틸아세트아미드, N,N-디메틸포름아미드, 디메틸술폭시드, γ-부티로락톤, 테트라메틸요소, 헥사메틸포스폴트리아미드 등의 비양성자성 극성 용매; m-크레졸, 크실레놀, 페놀, 할로겐화페놀 등의 페놀계 용매를 들 수 있다. 유기 용매의 사용량은, 테트라카르복실산류 및 디아민의 총량이 반응 용액의 전량에 대하여 0.1 내지 30 중량%의 비율이 되는 양인 것이 바람직하다.The organic solvent used for this reaction is not particularly limited as long as it can dissolve the polyamic acid produced. For example, N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylform Aprotic polar solvents such as amide, dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, tetramethylurea, and hexamethylphospholtriamide; Phenol solvents, such as m-cresol, xylenol, a phenol, and a halogenated phenol, are mentioned. It is preferable that the usage-amount of an organic solvent is an amount whose total amount of tetracarboxylic acids and diamine becomes a ratio of 0.1-30 weight% with respect to the whole quantity of a reaction solution.

이 유기 용매에는, 빈용매인 알코올류, 케톤류, 에스테르류, 에테르류, 할로겐화 탄화수소류, 탄화수소류를 생성하는 폴리아믹산 초기 중합체가 석출되지 않을 정도의 비율로 병용할 수 있다. 이러한 빈용매로서는, 예를 들어 에틸알코올, 시클로헥산올, 프로필렌글리콜, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 말론산디에틸, 디에틸에테르, 에틸렌글리콜메틸에테르, 에틸렌글리콜에틸에테르, 에틸렌글리콜-프로필에테르, 에틸렌글리콜에틸에테르아세테이트, 테트라히드로푸란, 디클로로에탄, 클로로벤젠, 헥산, 헵탄, 톨루엔, 크실렌 등을 들 수 있다.The organic solvent can be used in combination at a rate such that the polyamic acid initial polymer that produces alcohols, ketones, esters, ethers, halogenated hydrocarbons, and hydrocarbons as poor solvents does not precipitate. As such a poor solvent, for example, ethyl alcohol, cyclohexanol, propylene glycol, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, ethyl acetate, butyl acetate, diethyl malonate, diethyl ether, ethylene glycol methyl Ether, ethylene glycol ethyl ether, ethylene glycol-propyl ether, ethylene glycol ethyl ether acetate, tetrahydrofuran, dichloroethane, chlorobenzene, hexane, heptane, toluene, xylene and the like.

공정 B에서의 이미드화 반응은, 반응식 2에서의 중간 생성물(폴리아믹산)을 유기 용매에 용해하고, 이 용액 중에 탈수제 및 탈수 폐환 촉매를 첨가하여 필요에 따라 가열하는 방법에 의해 행해진다. 또한, 공정 B에서 탈수 폐환 반응 조건을 선택함으로써, 부분적으로 탈수 폐환 반응된 폴리이미드도 바람직하게 사용할 수 있다. 탈수제로서는, 예를 들어 무수 아세트산, 무수 프로피온산, 무수 트리플루오로아세트산 등의 산무수물을 사용할 수 있다. 탈수제의 사용량은, 폴리아믹산의 반복 단위 1 몰에 대하여 0.01 내지 20 몰로 하는 것이 바람직하다. 또한, 탈수 폐환 촉매로서는, 예를 들어 피리딘, 콜리딘, 루티딘, 트리에틸아민 등의 3급 아민을 사용할 수 있다. 그러나, 이들로 한정되는 것은 아니다. 탈수 폐환 촉매의 사용량은 사용하는 탈수제 1 몰에 대하여 0.01 내지 10 몰로 하는 것이 바람직하다. 또한, 탈수 폐환 반응에 사용되는 유기 용매로서는, 앞서 예시한 유기 용매를 들 수 있다. 그리고, 탈수 폐환 반응의 반응 온도는 통상 0 내지 180 ℃, 바람직하게는 10 내지 150 ℃가 된다.The imidation reaction in process B is performed by the method of melt | dissolving the intermediate | middle product (polyamic acid) in Reaction Formula 2 in an organic solvent, adding a dehydrating agent and a dehydration ring closure catalyst to this solution, and heating as needed. In addition, by selecting the dehydration ring-closure reaction conditions in step B, a partially dehydrated ring-closure reaction polyimide can also be preferably used. As the dehydrating agent, for example, acid anhydrides such as acetic anhydride, propionic anhydride and trifluoroacetic anhydride can be used. It is preferable that the usage-amount of a dehydrating agent shall be 0.01-20 mol with respect to 1 mol of repeating units of a polyamic acid. As the dehydration ring closure catalyst, tertiary amines such as pyridine, collidine, lutidine and triethylamine can be used, for example. However, it is not limited to these. It is preferable that the usage-amount of a dehydration ring-closure catalyst shall be 0.01-10 mol with respect to 1 mol of dehydrating agents used. Moreover, the organic solvent mentioned above is mentioned as an organic solvent used for dehydration ring-closure reaction. And the reaction temperature of a dehydration ring-closure reaction is 0-180 degreeC normally, Preferably it is 10-150 degreeC.

그러나, 이들 블록 공중합체는 상호 구조가 다른 2종 또는 3종 이상의 복수종류의 폴리이미드계 블록, 폴리아믹산계 블록이 결합된 것이기 때문에, 기본적으로 폴리아믹산 또는 폴리이미드로서의 본래적인 특성을 가짐과 동시에, 각 블록에 관한 폴리아믹산 또는 폴리이미드의 단독중합체가 갖는 복수 종류의 특성을 갖춘 것이 된다. 즉, 예를 들어 제1 폴리이미드 성분과 제2 폴리아믹산 성분이 각각 블록으로서 분자 중에 공존함으로써, 해당 제1 블록을 구성하는 폴리이미드의 단독중합체가 갖는 제1 특성과, 제2 블록을 구성하는 폴리아믹산의 단독중합체가 갖는 제2 특성을 동시에 갖는 것이 된다. 또는, 해당 블록 공중합체의 특성은, 일정 블록을 구성하는 폴리이미드의 단독중합체 특성이 상이한 블록을 구성하는 폴리 아믹산의 단독중합체 특성에 의해 변성된 상태의 것이 된다고 할 수 있다.However, since these block copolymers are a combination of two or three or more kinds of polyimide-based blocks and polyamic acid-based blocks having different mutual structures, they have inherent properties as polyamic acids or polyimides. And the polyamic acid or polyimide homopolymer of each block. That is, for example, the first polyimide component and the second polyamic acid component coexist in a molecule as a block, whereby the first characteristics of the homopolymer of the polyimide constituting the first block and the second block It becomes what has the 2nd characteristic which the homopolymer of polyamic acid has simultaneously. Or it can be said that the characteristic of this block copolymer is a state denatured by the homopolymer characteristic of the polyamic acid which comprises the block from which the homopolymer characteristic of the polyimide which comprises a fixed block differs.

이러한 특성은, 제1 폴리이미드와 제2 폴리아믹산의 단순한 혼합물에 의해서는 얻을 수 없는 것이며, 또한, 제1 폴리이미드와 제2 폴리아믹산을 얻기 위해서 사용되는 모든 테트라카르복실산류와 디아민을, 예를 들어 일괄적으로 반응시킨 경우에도 얻을 수 없는 것이다.Such a property cannot be obtained by a simple mixture of the first polyimide and the second polyamic acid, and all tetracarboxylic acids and diamines used to obtain the first polyimide and the second polyamic acid may be exemplified. For example, even if the reaction is carried out in a batch.

즉, 본 발명의 블록 공중합체는, 통상의 수단으로서는 동시에 얻을 수 없는 복수의 양호한 특성을 함께 갖는 공중합체라고 할 수 있다.That is, the block copolymer of this invention can be said to be a copolymer which has several favorable characteristic which cannot be obtained simultaneously by a normal means.

본 발명의 블록 공중합체의 특성은, 그것을 구성하는 각 블록에서의 반복 단위의 구조 여하와, 그 반복 단위수 또는 그 비율에 의해 결정된다. 따라서, 그들 요소를 제어함으로써, 최종적으로 얻어지는 폴리이미드계 블록 공중합체의 특성을 제어하는 것이 가능하다.The characteristic of the block copolymer of this invention is determined by the structure of the repeating unit in each block which comprises it, the number of the repeating units, or its ratio. Therefore, by controlling these elements, it is possible to control the characteristic of the polyimide-type block copolymer finally obtained.

즉, 각 블록의 생성에 사용되는 테트라카르복실산, 디아민의 종류를 선택하고, 그 사용량 또는 사용 비율을 조정함으로써 얻어지는 블록 공중합체를 구성해야 할 블록 수, 각각의 종류 및 그들의 비율을 제어하면, 이에 따라 최종적으로 얻어지는 블록 공중합체의 특성을 제어하는 것이 가능하다.That is, if the kind of tetracarboxylic acid and diamine used for generation | occurrence | production of each block is selected, and the number of blocks, each kind, and their ratio which should comprise the block copolymer obtained by adjusting the usage amount or usage ratio are controlled, Thereby, it is possible to control the characteristic of the block copolymer finally obtained.

〈액정 배향제〉<Liquid crystal aligning agent>

이어서, 상기 블록 공중합체를 사용한 액정 배향제에 대해서 설명한다. 본 발명의 액정 배향제에 있어서의 블록 중합체의 함유 비율은 점성, 휘발성 등을 고려하여 선택되지만, 바람직하게는 액정 배향제 전체에 대하여 0.1 내지 20 중량%, 더욱 바람직하게는 1 내지 10 중량%의 범위가 된다. 즉, 중합체 용액으로 이루어지는 액정 배향제는 인쇄법, 스핀 코트법 등에 의해 기판 표면에 도포되고, 이어서 이것을 건조함으로써 배향막 재료인 피막이 형성되는데, 중합체의 함유 비율이 0.1 중량% 미만인 경우에는, 이 피막의 막 두께가 너무 얇아 양호한 액정 배향막을 얻지 못하는 경우가 있고, 20 중량%를 넘는 경우에는 피막의 막 두께가 너무 두꺼워 양호한 액정 배향막을 얻기 어렵고, 또한, 액정 배향제의 점도가 증대하여 도포 특성이 뒤떨어지는 것이 되는 경우가 있다.Next, the liquid crystal aligning agent using the said block copolymer is demonstrated. Although the content rate of the block polymer in the liquid crystal aligning agent of this invention is selected in consideration of viscosity, volatility, etc., Preferably it is 0.1-20 weight% with respect to the whole liquid crystal aligning agent, More preferably, it is 1-10 weight% Range. That is, the liquid crystal aligning agent which consists of a polymer solution is apply | coated to the surface of a board | substrate by the printing method, the spin coat method, etc., and then this film is dried and the film which is an oriented film material is formed, but when the content rate of a polymer is less than 0.1 weight%, When the film thickness is too thin, a good liquid crystal aligning film may not be obtained, and when it exceeds 20% by weight, the film thickness of the film is too thick, so that a good liquid crystal aligning film is difficult to obtain, and the viscosity of the liquid crystal aligning agent is increased, resulting in poor application characteristics. There may be a thing falling.

또한, 본 발명에서 사용되는 액정 배향제는 특정 구조의 블록 공중합체를 포함하는 것을 특징으로 하지만, 본 발명의 효과를 해치지 않는 범위에서 다른 구조의 폴리아믹산 및(또는) 폴리이미드를 혼합하여 사용할 수도 있다.In addition, the liquid crystal aligning agent used in the present invention is characterized in that it comprises a block copolymer of a specific structure, it is also possible to use a mixture of polyamic acid and / or polyimide of another structure in a range that does not impair the effects of the present invention. have.

중합체를 용해시키는 유기 용매로서는 중합체를 용해할 수 있는 것이면 특히 제한되지 않으며, 예를 들어 폴리아믹산의 합성 반응 및 탈수 폐환 반응에 사용되는 것으로서 예시한 용매를 들 수 있다. 또한, 폴리아믹산의 합성 반응시 병용할 수 있는 것으로서 예시한 빈용매도 적절히 선택하여 병용할 수 있다. 또한, 본 발명의 액정 배향제를 잉크젯법에 의해 도포하는 경우 장치 부재의 손상을 억제하는 관점에서 N-메틸피롤리돈의 함유량을 전체 용매량의 20 중량% 이하로 하는 것이 바람직하다.The organic solvent for dissolving the polymer is not particularly limited as long as it can dissolve the polymer, and examples thereof include solvents exemplified as those used in the synthesis reaction of polyamic acid and the dehydration ring closure reaction. Moreover, the poor solvent illustrated as what can be used together at the time of the synthesis reaction of a polyamic acid can also be selected suitably, and can be used together. Moreover, when apply | coating the liquid crystal aligning agent of this invention by the inkjet method, it is preferable to make content of N-methylpyrrolidone into 20 weight% or less of the total solvent quantity from a viewpoint of suppressing the damage of an apparatus member.

본 발명에 사용되는 액정 배향제는 중합체와 도포되는 기판 표면과의 접착성을 더욱 향상시키는 관점에서 관능성 실란 함유 화합물 및 에폭시 화합물이 배합되어 있을 수도 있다. 이러한 관능성 실란 함유 화합물로서는, 예를 들어 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 2-아미노프로필트리메톡시실란, 2-아미노프로필트리에톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, 3-우레이도프로필트리메톡시실란, 3-우레이도프로필트리에톡시실란, N-에톡시카르보닐-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-에톡시카르보닐-3-아미노프로필트리에톡시실란, N-트리에톡시실릴프로필트리에틸렌트리아민, N-트리메톡시실릴프로필트리에틸렌트리아민, 10-트리메톡시실릴-1,4,7-트리아자데칸, 10-트리에톡시실릴-1,4,7-트리아자데칸, 9-트리메톡시실릴-3,6-디아자노닐아세테이트, 9-트리에톡시실릴-3,6-디아자노닐아세테이트, N-벤질-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-벤질-3-아미노프로필트리에톡시실란, N-페닐-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-페닐-3-아미노프로필트리에톡시실란, N-비스(옥시에틸렌)-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-비스(옥시에틸렌)-3-아미노프로필트리에톡시실란 등을 들 수 있다.The liquid crystal aligning agent used for this invention may mix | blend a functional silane containing compound and an epoxy compound from a viewpoint of further improving the adhesiveness of a polymer and the surface of the board | substrate apply | coated. As such a functional silane containing compound, 3-aminopropyl trimethoxysilane, 3-aminopropyl triethoxysilane, 2-aminopropyl trimethoxysilane, 2-aminopropyl triethoxysilane, N- ( 2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, 3-ureidopropyltrimethoxysilane, 3-ureidopropyltrier Methoxysilane, N-ethoxycarbonyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-ethoxycarbonyl-3-aminopropyltriethoxysilane, N-triethoxysilylpropyltriethylenetriamine, N-tri Methoxysilylpropyltriethylenetriamine, 10-trimethoxysilyl-1,4,7-triazadecan, 10-triethoxysilyl-1,4,7-triazadecan, 9-trimethoxysilyl- 3,6-diazanyl acetate, 9-triethoxysilyl-3,6-diazanyl acetate, N-benzyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-ben Jyl-3-aminopropyltriethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltriethoxysilane, N-bis (oxyethylene) -3-aminopropyltri Methoxysilane, N-bis (oxyethylene) -3-aminopropyltriethoxysilane, etc. are mentioned.

또한, 에폭시기 함유 화합물로서는, 예를 들어 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 폴리에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 트리프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 폴리프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 네오펜틸글리콜디글리시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 글리세린디글리시딜에테르, 2,2-디브로모네오펜틸글리콜디글리시딜에테르, 1,3,5,6-테트라글리시딜-2,4-헥산디올, N,N,N',N',-테트라글리시딜-m-크실렌디아민, 1,3-비스(N,N-디글리시딜아미노메틸)시클로헥산, N,N,N',N',-테트라글리시딜-4,4'-디아미노디페닐메탄, 3-(N-알릴-N-글리시딜)아미노프로필트리메톡시실란, 3-(N,N-디글리시딜)아미노프로필트리메톡시실란 등을 바람직한 것으로서 들 수 있다. 이들 중, 분자 내에 3급 질소 원자를 갖는 화합물이 바람직하다. 이들 화합물의 배합 비율은 중합체 100 중량부에 대하여 통상 40 중량부 이하, 바람직하게는 0.1 내지 30중량부이다.As the epoxy group-containing compound, for example, ethylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, tripropylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl Ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, glycerin diglycidyl ether, 2,2-dibromoneopentyl glycol diglycidyl ether, 1,3, 5,6-tetraglycidyl-2,4-hexanediol, N, N, N ', N',-tetraglycidyl-m-xylenediamine, 1,3-bis (N, N-diglycid Dylaminomethyl) cyclohexane, N, N, N ', N',-tetraglycidyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3- (N-allyl-N-glycidyl) aminopropyltri Methoxysilane, 3- (N, N- diglycidyl) aminopropyltrimethoxysilane, etc. are mentioned as a preferable thing. Among these, compounds having a tertiary nitrogen atom in the molecule are preferable. The compounding ratio of these compounds is usually 40 parts by weight or less, preferably 0.1 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polymer.

〈액정 표시 소자〉<Liquid crystal display element>

본 발명에서의 액정 배향제를 사용하여 얻어지는 본 발명의 액정 표시 소자는, 예를 들어 이하의 방법에 의해 제조할 수 있다.The liquid crystal display element of this invention obtained using the liquid crystal aligning agent in this invention can be manufactured by the following method, for example.

(1) 패터닝된 투명 도전막이 설치된 기판의 투명 도전막측에, 액정 배향제를 예를 들어 롤 코터법, 스핀너법, 인쇄법 등의 방법에 의해 도포하고, 이어서 도포면을 가열함으로써 피막을 형성한다. 여기에서 기판으로서는, 예를 들어 플로트 유리, 소다 유리 등의 유리, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에테르술폰, 폴리카르보네이트 등의 플라스틱 필름 등으로 이루어지는 투명 기판을 사용할 수 있다. 기판의 일면에 설치된 투명 도전막으로서는, 예를 들어 SnO2로 이루어지는 NESA막, In2O3-SnO2로 이루어지는 ITO막 등을 사용할 수 있다. 이들 투명 도전막의 패터닝에는 포토·에칭법, 미리 마스크를 사용하는 방법 등이 이용된다.(1) The liquid crystal aligning agent is apply | coated to the transparent conductive film side of the board | substrate with which the patterned transparent conductive film was installed, for example by methods, such as a roll coater method, a spinner method, and a printing method, and a film is formed by heating a coating surface then. As the substrate, for example, a transparent substrate made of glass such as float glass or soda glass, plastic film such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyether sulfone, polycarbonate, or the like can be used. As the transparent conductive film provided on one surface of the substrate, for example, an NESA film made of SnO 2 , an ITO film made of In 2 O 3 -SnO 2 , and the like can be used. The photoetching method, the method of using a mask beforehand, etc. are used for the patterning of these transparent conductive films.

액정 배향제의 도포에 있어서는, 기판 및 투명 도전막과 도막과의 접착성을 더욱 양호하게 하기 위하여, 기판 및 투명 도전막상에 미리 관능성 실란 함유 화합물, 티타네이트 등을 도포할 수도 있다. 도포 방식은 종래부터 플렉소 인쇄법이 주류였지만, 본 발명의 액정 배향제에 있어서는 플렉소 인쇄법은 물론, 잉크젯 인쇄법에서도 도포가 가능하다. 또한, 도포막의 건조 온도는 바람직하게는 80 내지 250 ℃이고, 보다 바람직하게는 120 내지 200 ℃이다. 형성되는 피막의 막 두께는, 통상 0.001 내지 1 ㎛, 바람직하게는 0.005 내지 0.5 ㎛이다.In application | coating of a liquid crystal aligning agent, in order to make adhesiveness of a board | substrate, a transparent conductive film, and a coating film further favorable, you may apply | coat a functional silane containing compound, titanate, etc. on a board | substrate and a transparent conductive film previously. Although the flexographic printing method has been the mainstream in the coating method conventionally, in the liquid crystal aligning agent of this invention, application | coating is possible not only the flexographic printing method but also the inkjet printing method. Moreover, the drying temperature of a coating film becomes like this. Preferably it is 80-250 degreeC, More preferably, it is 120-200 degreeC. The film thickness of the formed film is 0.001-1 micrometer normally, Preferably it is 0.005-0.5 micrometer.

형성된 피막은 피막 표면을 예를 들어 나일론, 레이온, 면 등의 섬유로 이루어지는 천을 감은 롤러로 일정 방향으로 문지르는 러빙 처리를 행함으로써, 액정 분자의 배향능이 피막에 부여되어 액정 배향막이 된다. 또한, 러빙 처리시에 발생하는 미분체(이물)를 제거하여 피막 표면을 깨끗한 상태로 하기 위하여, 형성된 액정 배향막을 이소프로필알코올 등으로 세정하는 것이 바람직하다. 또한, 러빙 처리에 의한 방법 이외에, 피막 표면에 편광 자외선, 이온 빔, 전자 빔 등을 조사하여 배향능을 부여하는 방법 및 일축 연신법, 랑뮤어·블로젯트(Langmuir Blodgett)법 등으로 피막을 얻는 방법 등에 의해, 액정 배향막을 형성할 수도 있다.The formed film is subjected to a rubbing treatment of rubbing the film surface in a predetermined direction with a roller wound around a film made of fibers such as nylon, rayon, cotton, etc., whereby the alignment ability of the liquid crystal molecules is imparted to the film, thereby forming a liquid crystal alignment film. Moreover, in order to remove the fine powder (foreign substance) which arises at the time of a rubbing process, and to make a film surface clean, it is preferable to wash the formed liquid crystal aligning film with isopropyl alcohol etc. Moreover, in addition to the method by a rubbing process, a film is obtained by irradiating polarizing ultraviolet-ray, an ion beam, an electron beam, etc. to the film surface, and providing an orientation capability, and obtaining a film by the uniaxial stretching method, the Langmuir Blodgett method, etc. By the method etc., a liquid crystal aligning film can also be formed.

또한, 상기 처리에 의해 형성된 액정 배향막에, 예를 들어 일본 특허 공개 제(평)8-234207호, 제(평)7-168187호, 제(평)6-222366호 또는 일본 특허 공개 제(평)6-281937호에 개시되어 있는 자외선, 이온 빔, 전자 빔을 부분적으로 조사함으로써, 프리틸트각을 변화시키는 처리를 행하는 방법, 또는 일본 특허 공개 제(평)5-107544호에 개시되어 있는 상기 배향 처리된 액정 배향막상에 레지스트막을 부분적으로 형성하고, 선행의 액정 배향 방향과는 다른 방향으로 배향 처리를 행한 후, 상기 레지스트막을 제거하고, 액정 배향막의 배향능을 변화시키는 처리를 행하는 방법에 의해, 액정 표시 소자의 시계 특성을 개선하는 것이 가능하다.Moreover, for example, Unexamined-Japanese-Patent No. 8-234207, No. 7-168187, No. 6-222366, or Japan Patent Publication ) A method of changing the pretilt angle by partially irradiating ultraviolet rays, ion beams, and electron beams disclosed in 6-281937, or the above-mentioned disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. Hei 5-107544. By forming a resist film partially on the alignment-processed liquid crystal aligning film, performing an alignment process in a direction different from the preceding liquid crystal alignment direction, removing the said resist film and performing the process which changes the alignment capability of a liquid crystal aligning film It is possible to improve the clock characteristics of the liquid crystal display element.

(3) 상기한 바와 같이 하여 액정 배향막이 형성된 기판을 두장 제작하고, 각각의 액정 배향막에서의 프리틸트각의 방향이 직교 또는 역평행이 되도록, 두장의 기판을 간극(셀 간격)을 끼워 대향시키고, 두장의 기판 주변부를 밀봉제를 사용하여 접합시키고, 기판의 표면 및 밀봉제에 의해 구획된 셀 갭내에 액정을 충전하고, 충전 구멍을 밀봉하여 액정 셀을 구성한다. 그리고, 액정 셀의 외표면, 즉 액정셀을 구성하는 각각의 기판 다른 면측에, 편광판을 그 편광 방향이 해당 기판의 일면에 형성된 액정 배향막의 액정 배향 방향과 일치 또는 직교하도록 접합시킴으로써, 액정 표시 소자를 얻을 수 있다.(3) Two board | substrates with a liquid crystal aligning film were produced as mentioned above, and two board | substrates were opposingly spaced so that the direction of the pretilt angle in each liquid crystal aligning film might be orthogonal or antiparallel. The two peripheral portions of the substrate are bonded together using a sealant, the liquid crystal is filled in the cell gap partitioned by the surface of the substrate and the sealant, and the filling hole is sealed to form a liquid crystal cell. And a liquid crystal display element is bonded to the outer surface of the liquid crystal cell, ie, the other surface side of each board | substrate which comprises a liquid crystal cell so that the polarizing direction may coincide with or perpendicular to the liquid crystal aligning direction of the liquid crystal aligning film formed in one surface of the said board | substrate. Can be obtained.

상기 밀봉제로서는, 예를 들어 경화제 및 스페이서로서의 산화알루미늄구를 함유한 에폭시 수지 등을 사용할 수 있다.As the sealant, for example, an epoxy resin containing aluminum oxide spheres as a curing agent and a spacer can be used.

상기 액정으로서는, 예를 들어 네마틱형 액정, 스멕틱형 액정을 들 수 있다. 그 중에서도 네마틱형 액정이 바람직하고, 예를 들어 시프 베이스계 액정, 아족시계 액정, 비페닐계 액정, 페닐시클로헥산계 액정, 에스테르계 액정, t-페닐계 액정, 비페닐시클로헥산계 액정, 피리미딘계 액정, 디옥산계 액정, 비시클로옥탄계 액정, 큐반계 액정 등이 사용된다. 또한, 이들 액정에 예를 들어 콜레스틸클로라이드, 콜레스테릴노나에이트, 콜레스테릴카르보네이트 등의 콜레스테릭 액정 및 상 품명 "C-15", "CB-15"(멜크사 제조)로서 판매되고 있는 키랄제 등을 첨가하여 사용할 수도 있다. 또한, p-데실록시벤질리덴-p-아미노-2-메틸부틸신나메이트 등의 강유전성 액정도 사용할 수 있다.As said liquid crystal, a nematic liquid crystal and a smectic liquid crystal are mentioned, for example. Especially, a nematic type liquid crystal is preferable, for example, a Schiff base type liquid crystal, a subfamily clock liquid crystal, a biphenyl type liquid crystal, a phenyl cyclohexane type liquid crystal, an ester type liquid crystal, a t-phenyl type liquid crystal, a biphenyl cyclohexane type liquid crystal, a flute Midine type liquid crystals, dioxane type liquid crystals, bicyclooctane type liquid crystals, cuban type liquid crystals, etc. are used. In addition, these liquid crystals are, for example, cholesteric liquid crystals such as cholesteryl chloride, cholesteryl nonate, cholesteryl carbonate, and product names "C-15" and "CB-15" (manufactured by Melk Co., Ltd.). The chiral agent sold etc. can also be added and used. Ferroelectric liquid crystals such as p-decyloxybenzylidene-p-amino-2-methylbutylcinnamate can also be used.

또한, 액정 셀의 외측에 사용되는 편광판으로서는, 폴리비닐알코올을 연신 배향시키면서 요오드를 흡수시킨 H막이라고 불리우는 편광막을 아세트산셀룰로오스 보호막 사이에 끼운 편광판 또는 H막 그 자체로 이루어지는 편광판 등을 들 수 있다.Moreover, as a polarizing plate used on the outer side of a liquid crystal cell, the polarizing plate called the H film which absorbed iodine while extending-stretching polyvinyl alcohol, the polarizing plate which sandwiched the cellulose acetate protective film, or the polarizing plate which consists of H film itself, etc. are mentioned.

〈실시예〉<Example>

이하, 본 발명을 실시예에 의해 더욱 구체적으로 설명하겠지만, 본 발명은 이들 실시예로 제한되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples.

이하의 실시예 및 비교예에 의해 제작된 액정 배향제의 성질, 액정 표시 소자 용도로 사용할 때의 성능 평가 방법을 이하에 나타낸다.The performance evaluation method at the time of using for the property of the liquid crystal aligning agent produced by the following example and the comparative example and a liquid crystal display element use is shown below.

[블록 공중합체의 용해성][Solubility of Block Copolymer]

고형분 농도 4 중량%의 γ-부티로락톤 용액으로서 조정된 액정 배향제 50 g에 그 빈용매가 되는 부틸셀로솔브를 침전이 생성될 때까지 첨가하고, 부틸셀로솔브를 어느 정도 첨가할 수 있는가를 용해성의 지표로 삼았다. 첨가량이 많을 수록 용해성은 양호하다.To 50 g of the liquid crystal aligning agent adjusted as a γ-butyrolactone solution having a solid content concentration of 4% by weight, butyl cellosolve serving as the poor solvent was added until precipitation occurred, and butyl cellosolve could be added to some extent. Presence was used as an indicator of solubility. The higher the amount added, the better the solubility.

[잉크젯 도포성][Inkjet coating property]

고형분 농도 2 중량%로 조정된 배향제 용액을 JET-CM 연속식 잉크젯 프린터(기슈 기껭 고교 주식회사 제조) 장치를 사용하여, 액정 배향제를 ITO 기판으로 건조막 두께가 800 Å이 되는 액량으로 도포하였다. 이어서, 180 ℃에서 건조시키고, 건조막의 요철을 촉침식 막 두께 측정계로 측정하여, 최대 막 두께와 최저 막 두께의 차이를 막 두께 균일성으로 하여 평가하였다. 또한, 잉크젯 도포의 개시시와 5시간 연속 도포 시점에서의 막 두께 균일성을 비교함으로써 인쇄의 안정성을 평가하고, 개시시와 5시간 후의 차이가 50 Å 이하의 경우를 양호하다고 하였다.The liquid crystal aligning agent was apply | coated to the ITO board | substrate in the liquid amount which a dry film thickness becomes 800 Pa using the JET-CM continuous inkjet printer (made by Kishu Kikyo Kogyo Co., Ltd.) apparatus adjusted to solid content concentration 2 weight%. . Subsequently, it dried at 180 degreeC, the unevenness | corrugation of a dry film was measured with the stylus type film thickness meter, and the difference between the largest film thickness and the lowest film thickness was evaluated as film thickness uniformity. Moreover, the stability of printing was evaluated by comparing the film thickness uniformity at the time of start of inkjet coating and the time of continuous application for 5 hours, and it was considered that the case where the difference between the time of start and 5 hours after 50 kPa or less was favorable.

[액정의 배향성][Orientation of Liquid Crystal]

액정 표시 소자에 전압을 온·오프시켰을 때의 액정 셀 중의 이상 도메인의 유무를 현미경으로 관찰하고, 이상 도메인이 없는 경우를 "양호"하다고 판단하였다.The presence or absence of the abnormal domain in the liquid crystal cell when the voltage was turned on and off in the liquid crystal display element was observed under a microscope, and it was judged as "good" that there was no abnormal domain.

[액정 표시 소자의 프리틸트각][Pretilt Angle of Liquid Crystal Display Element]

문헌 (T.J. Schffer, et.al., J. App1. Phys., vol. 19, 2013(1980))에 기재된 방법에 따라 He-Ne 레이저광을 사용하는 결정 회전법에 의해 측정하였다.It was measured by the crystal rotation method using He-Ne laser light according to the method described in T. J. Schffer, et. Al., J. Appl. Phys., Vol. 19, 2013 (1980).

[액정 표시 소자의 전압 유지율][Voltage retention rate of liquid crystal display element]

액정 표시 소자에 5 V의 전압을 60 마이크로초의 인가 시간, 500 밀리초의 스판으로 인가한 후, 인가 해제로부터 500 밀리초 후의 전압 유지율을 측정하였다. 측정 장치는 주식회사 도요 테크니카 제조 VHR-1를 사용하여, 60 ℃에서 행하였다.After applying a voltage of 5 V to the liquid crystal display element with an application time of 60 microseconds and a span of 500 milliseconds, the voltage retention after 500 milliseconds from the release of the application was measured. The measurement apparatus was performed at 60 degreeC using VHR-1 by Toyo Technica Corporation.

[액정 표시 소자의 잔상 소거 시간]Afterimage erasing time of liquid crystal display element

액정 표시 소자에 직류 전압 20 V를 24시간 인가한 후, 전압을 오프하고 육안으로 잔상이 소거될 때까지의 시간을 측정하였다.After applying DC voltage 20V to a liquid crystal display element for 24 hours, the time until the voltage was turned off and an afterimage was visually erased was measured.

〈합성예 1〉<Synthesis example 1>

〈공정 A〉 폴리아믹산 초기 중합체의 제조<Step A> Preparation of the polyamic acid initial polymer

피로멜리트산 이무수물 64.14 g, 1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복실산 이무수물 134.56 및 4,4'-디아미노디페닐메탄 198.27 g을 N-메틸-2-피롤리돈 1600 g에 용해시키고, 이 용액을 20 ℃에서 6시간 반응시켰다. 이어서, 얻어진 반응 용액을 과량의 아세톤에 넣어 반응 생성물을 침전시키고, 반응 생성물의 침전·분리·세정·건조를 행함으로써, 대수 점도(ηln) 1.8 d1/g의 분자 말단에 아미노기를 갖는 폴리아믹산 초기 중합체(A-1) 400.3 g을 얻었다.64.14 g of pyromellitic dianhydride, 134.56 of 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 198.27 g of 4,4'-diaminodiphenylmethane, 1600 g of N-methyl-2-pyrrolidone It dissolved in and reacted this solution at 20 degreeC for 6 hours. Subsequently, the obtained reaction solution was put in an excess of acetone to precipitate the reaction product, and the reaction product was precipitated, separated, washed, and dried to carry out a polyamic acid initial stage having an amino group at a molecular terminal having a logarithmic viscosity (ηln) of 1.8 d1 / g. 400.3 g of polymer (A-1) was obtained.

〈공정 B〉 폴리이미드 초기 중합체의 제조<Step B> Preparation of the polyimide initial polymer

1,3,3a,4,5,9b-헥사히드로-8-메틸-5-(테트라히드로-2,5-디옥소-3-푸라닐)-나프토[1,2-c]푸란-1,3-디온 146.48 g, p-페닐렌디아민 46.56 g 및 상기 화학식 16으로 표시되는 화합물 6.96 g을 N-메틸-2-피롤리돈 800 g에 용해시키고, 이 용액을 20 ℃에서 26시간 반응시켰다. 이어서, 얻어진 반응 용액을 과량의 아세톤에 넣어 반응 생성물(폴리아믹산 초기 중합체)을 침전시켰다. 얻어진 폴리아믹산 초기 중합체 120.0 g을 γ-부티로락톤 600 g에 용해시키고, 피리딘 44 g 및 무수 아세트산 56 g을 첨가하여 60 ℃에서 2시간 탈수 폐환시켰다. 이어서, 반응 생성물의 침전·분리·세정·건조를 행함으로써, 대수 점도(ηln) 0.76 dl/g, 이미드화율 90 %의 분자 말단에 산무수물기를 갖는 폴리이미드 초기 중합체(B-1) 97.2 g을 얻었다.1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-8-methyl-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] furan-1 146.48 g of, 3-dione, 46.56 g of p-phenylenediamine and 6.96 g of the compound represented by the above formula (16) were dissolved in 800 g of N-methyl-2-pyrrolidone, and the solution was reacted at 20 ° C. for 26 hours. . The reaction solution obtained was then placed in excess acetone to precipitate the reaction product (polyamic acid initial polymer). 120.0 g of the obtained polyamic acid initial polymer was dissolved in 600 g of γ-butyrolactone, and 44 g of pyridine and 56 g of acetic anhydride were added and dehydrated and closed for 2 hours at 60 ° C. Subsequently, by precipitation, separation, washing and drying of the reaction product, 97.2 g of a polyimide initial polymer (B-1) having an acid anhydride group at a molecular terminal having a logarithmic viscosity (ηln) of 0.76 dl / g and an imidation ratio of 90%. Got.

〈공정 C〉 블록 공중합체의 제조<Step C> Preparation of the block copolymer

공정 A에서 얻어진 폴리아믹산 초기 중합체(A-1) 80 g 및 공정 B에서 얻어진 폴리이미드 초기 중합체(B-1) 20 g을 γ-부티로락톤에 용해시켜 고형분 농도 4 중량%의 용액으로 만들었다 용액의 점도는 17 mPa·s였다. 이것을 40 ℃에서 24시간 반응시켜, 블록 공중합체의 용액을 얻었다. 반응 후의 용액 점도는 20 mPa·s이고, 얻어진 블록 공중합체(1)의 대수 점도(η1n)는 1.64 d1/g이었다.80 g of the polyamic acid initial polymer (A-1) obtained in step A and 20 g of the polyimide initial polymer (B-1) obtained in step B were dissolved in γ-butyrolactone to give a solution having a solid content of 4% by weight. The viscosity of was 17 mPa · s. This was reacted at 40 degreeC for 24 hours, and the solution of the block copolymer was obtained. The solution viscosity after reaction was 20 mPa * s, and the logarithmic viscosity ((eta) 1n) of the obtained block copolymer (1) was 1.64 d1 / g.

〈합성예 2〉<Synthesis example 2>

〈공정 A〉 폴리아믹산 초기 중합체의 제조<Step A> Preparation of the polyamic acid initial polymer

합성예 1의 공정 A와 동일하게 하여, 폴리아믹산 초기 중합체(A-1)을 얻었다.In the same manner as in Step A of Synthesis Example 1, a polyamic acid initial polymer (A-1) was obtained.

〈공정 B〉 폴리이미드 초기 중합체의 제조<Step B> Preparation of the polyimide initial polymer

합성에 사용하는 원료를 1,3,3a,4,5,9b-헥사히드로-8-메틸-5-(테트라히드로 -2,5-디옥소-3-푸라닐)-나프토[1,2-c]푸란-1,3-디온 132.31 g, 4,4'-디아미노디페닐메탄 11.92 g, p-페닐렌디아민 30.35 g 및 상기 화학식 20으로 표시되는 화합물 25.4 g으로 변경한 것 이외는 합성예 1의 공정 B와 동일하게 반응을 행하여, 대수 점도(η1n) 0.73 d1/g, 이미드화율 94 %의 분자 말단에 산무수물기를 갖는 폴리이미드 초기 중합체(B-2) 25.3 g을 얻었다.The raw materials used in the synthesis were 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-8-methyl-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2 -c] Synthesis except for changing 132.31 g of furan-1,3-dione, 11.92 g of 4,4'-diaminodiphenylmethane, 30.35 g of p-phenylenediamine, and 25.4 g of the compound represented by the above formula (20). The reaction was carried out in the same manner as in Step B of Example 1, to obtain 25.3 g of a polyimide initial polymer (B-2) having an acid anhydride group at a molecular terminal having a logarithmic viscosity (? 1n) of 0.73 d1 / g and an imidation ratio of 94%.

〈공정 C〉 블록 공중합체의 제조<Step C> Preparation of the block copolymer

공정 A에서 얻어진 폴리아믹산 초기 중합체(A-1) 80 g 및 공정 B에서 얻어진 폴리이미드 초기 중합체(B-2) 20 g을 γ-부티로락톤에 용해시켜 고형분 농도 4 중량%의 용액으로 만들었다 용액의 점도는 17 mPa·s였다. 이것을 40 ℃에서 24시간 반응시켜, 블록 공중합체의 용액을 얻었다. 반응 후의 용액 점도는 20 mPa·s이고, 얻어진 블록 공중합체(2)의 대수 점도(η1n)는 1.65 d1/g이었다.80 g of the polyamic acid initial polymer (A-1) obtained in step A and 20 g of the polyimide initial polymer (B-2) obtained in step B were dissolved in γ-butyrolactone to give a solution having a solid content of 4% by weight. The viscosity of was 17 mPa · s. This was reacted at 40 degreeC for 24 hours, and the solution of the block copolymer was obtained. The solution viscosity after reaction was 20 mPa * s, and the logarithmic viscosity ((eta) 1n) of the obtained block copolymer (2) was 1.65 d1 / g.

〈합성예 3〉<Synthesis example 3>

〈공정 A〉 폴리아믹산 초기 중합체의 제조<Step A> Preparation of the polyamic acid initial polymer

합성예 1의 공정 A와 동일하게 하여, 폴리아믹산 초기 중합체(A-1)을 얻었다.In the same manner as in Step A of Synthesis Example 1, a polyamic acid initial polymer (A-1) was obtained.

〈공정 B〉 폴리이미드 초기 중합체의 제조<Step B> Preparation of the polyimide initial polymer

1,3,3a,4,5,9b-헥사히드로-8-메틸-5-(테트라히드로-2,5-디옥소-3-푸라닐)-나프토[1,2-c]푸란-1,3-디온 267.16 g, 2,3,5-트리카르복시시클로펜틸아세트산 이무수물 33.63 g, p-페닐렌디아민 72.1 g, 4,4'-디아미노디페닐메탄 47.21 g 및 상기 화학식 16으로 표시되는 화합물 24.9 g을 N-메틸-2-피롤리돈 1800 g에 용해시키고, 이 용액을 20 ℃에서 26시간 반응시켰다. 이어서, 얻어진 반응 용액을 과량의 아세톤에 넣어 반응 생성물(폴리아믹산 초기 중합체)을 침전시켰다. 얻어진 폴리아믹산 초기 중합체 30.0 g을 γ-부티로락톤 150 g에 용해시키고, 피리딘 11 g 및 무수 아세트산 14 g을 첨가하여 60 ℃에서 2시간 탈수 폐환시켰다. 이어서, 반응 생성물의 침전·분리·세정·건조를 행함으로써, 대수 점도(η1n) 0.66 dl/g, 이미드화율 90 %의 분자 말단에 산무수물기를 갖는 폴리이미드 초기 중합체(B-3) 29.3 g을 얻었다.1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-8-methyl-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] furan-1 267.16 g of 3,3-dione, 33.63 g of 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic dianhydride, 72.1 g of p-phenylenediamine, 47.21 g of 4,4'-diaminodiphenylmethane and represented by the above formula (16) 24.9 g of the compound was dissolved in 1800 g of N-methyl-2-pyrrolidone, and the solution was reacted at 20 ° C. for 26 hours. The reaction solution obtained was then placed in excess acetone to precipitate the reaction product (polyamic acid initial polymer). 30.0 g of the obtained polyamic acid initial polymer was dissolved in 150 g of γ-butyrolactone, and 11 g of pyridine and 14 g of acetic anhydride were added and dehydrated and closed for 2 hours at 60 ° C. Subsequently, by precipitation, separation, washing and drying of the reaction product, 29.3 g of a polyimide initial polymer (B-3) having an acid anhydride group at a molecular terminal having a logarithmic viscosity (η 1 n) of 0.66 dl / g and an imidation ratio of 90% Got.

〈공정 C〉 블록 공중합체의 제조<Step C> Preparation of the block copolymer

공정 A에서 얻어진 폴리아믹산 초기 중합체(A-1) 80 g 및 공정 B에서 얻어진 폴리이미드 초기 중합체(B-3) 20 g을 γ-부티로락톤에 용해시켜 고형분 농도 4 중량%의 용액으로 만들었다 용액의 점도는 16 mPa·s였다. 이것을 40 ℃에서 24시간 반응시켜, 블록 공중합체의 용액을 얻었다. 반응 후의 용액 점도는 20 mPa·s이고, 얻어진 블록 공중합체(3)의 대수 점도(η1n)는 1.61 d1/g이었다.80 g of the polyamic acid initial polymer (A-1) obtained in step A and 20 g of the polyimide initial polymer (B-3) obtained in step B were dissolved in γ-butyrolactone to give a solution having a solid content of 4% by weight. The viscosity of was 16 mPa · s. This was reacted at 40 degreeC for 24 hours, and the solution of the block copolymer was obtained. The solution viscosity after reaction was 20 mPa * s, and the logarithmic viscosity ((eta) 1n) of the obtained block copolymer (3) was 1.61 d1 / g.

〈합성예 4〉<Synthesis example 4>

〈공정 A〉 폴리아믹산 초기 중합체의 제조<Step A> Preparation of the polyamic acid initial polymer

합성예 1의 공정 A와 동일하게 하여,폴리아믹산 초기 중합체(A-1)을 얻었다.In the same manner as in Step A of Synthesis Example 1, a polyamic acid initial polymer (A-1) was obtained.

〈공정 B〉 폴리이미드 초기 중합체의 제조<Step B> Preparation of the polyimide initial polymer

2,3,5-트리카르복시시클로펜틸아세트산 이무수물 224.2 g, p-페닐렌디아민 92.7 g 및 상기 화학식 16으로 표시되는 화합물 49.78 g을 N-메틸-2-피롤리돈 2000 g에 용해시키고, 이 용액을 60 ℃에서 6시간 반응시켰다. 이어서, 얻어진 반응 용액을 과량의 아세톤에 넣어 반응 생성물(폴리아믹산 초기 중합체)을 침전시켰다. 얻어진 폴리아믹산 초기 중합체 30.0 g을 N-메틸-2-피롤리돈 200 g에 용해시키고, 피리딘 17 g 및 무수 아세트산 11 g을 첨가하여 110 ℃에서 4시간 탈수 폐환시켰다. 이어서, 반응 생성물의 침전·분리·세정·건조를 행함으로써, 대수 점도 (η1n) 0.5 dl/g, 이미드화율 80 %의 분자 말단에 산무수물기를 갖는 폴리이미드 초기 중합체(B-4) 28.3 g을 얻었다.224.2 g of 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic dianhydride, 92.7 g of p-phenylenediamine and 49.78 g of the compound represented by the above formula (16) were dissolved in 2000 g of N-methyl-2-pyrrolidone, The solution was reacted at 60 ° C. for 6 hours. The reaction solution obtained was then placed in excess acetone to precipitate the reaction product (polyamic acid initial polymer). 30.0 g of the obtained polyamic acid initial polymer was dissolved in 200 g of N-methyl-2-pyrrolidone, and 17 g of pyridine and 11 g of acetic anhydride were added to dehydrate and close the ring at 110 ° C for 4 hours. Subsequently, by precipitating, separating, washing and drying the reaction product, 28.3 g of a polyimide initial polymer (B-4) having an acid anhydride group at a molecular terminal having a logarithmic viscosity (η 1 n) of 0.5 dl / g and an imidation ratio of 80% Got.

〈공정 C〉 블록 공중합체의 제조<Step C> Preparation of the block copolymer

공정 A에서 얻어진 폴리아믹산 초기 중합체(A-1) 80 g 및 공정 B에서 얻어진 폴리이미드 초기 중합체(B-4) 20 g을 γ-부티로락톤에 용해시켜 고형분 농도 4 중량%의 용액으로 만들었다 용액의 점도는 15 mPa·s였다. 이것을 40 ℃에서 24시간 반응시켜, 블록 공중합체의 용액을 얻었다. 반응 후의 용액 점도는 18 mPa·s이고, 얻어진 블록 공중합체(4)의 대수 점도(η1n)는 1.60 d1/g이었다.80 g of the polyamic acid initial polymer (A-1) obtained in Step A and 20 g of the polyimide initial polymer (B-4) obtained in Step B were dissolved in γ-butyrolactone to give a solution having a solid content of 4% by weight. The viscosity of was 15 mPa · s. This was reacted at 40 degreeC for 24 hours, and the solution of the block copolymer was obtained. The solution viscosity after reaction was 18 mPa * s, and the logarithmic viscosity ((eta) 1n) of the obtained block copolymer (4) was 1.60 d1 / g.

〈합성예 5〉<Synthesis example 5>

〈공정 A〉 폴리아믹산 초기 중합체의 제조<Step A> Preparation of the polyamic acid initial polymer

합성예 1의 공정 A와 동일하게 하여, 폴리아믹산 초기 중합체(A-1)을 얻었다.In the same manner as in Step A of Synthesis Example 1, a polyamic acid initial polymer (A-1) was obtained.

〈공정 B〉 폴리이미드 초기 중합체의 제조<Step B> Preparation of the polyimide initial polymer

합성예 1의 공정 B와 동일하게 하여, 폴리이미드 초기 중합체(B-1)을 얻었다.In the same manner as in Step B of Synthesis Example 1, a polyimide initial polymer (B-1) was obtained.

〈공정 C〉 블록 공중합체의 제조<Step C> Preparation of the block copolymer

공정 A에서 얻어진 폴리아믹산 초기 중합체(A-1) 60 g 및 공정 B에서 얻어진 폴리이미드 초기 중합체(B-1) 40 g을 γ-부티로락톤에 용해시켜 고형분 농도 4 중량%의 용액으로 만들었다 용액의 점도는 18 mPa·s였다. 이것을 40 ℃에서 24시간 반응시켜, 블록 공중합체의 용액을 얻었다. 반응 후의 용액 점도는 23 mPa·s이고, 얻어진 블록 공중합체(5)의 대수 점도(η1n)는 1.70 d1/g이었다60 g of the polyamic acid initial polymer (A-1) obtained in step A and 40 g of the polyimide initial polymer (B-1) obtained in step B were dissolved in γ-butyrolactone to give a solution having a solid content of 4% by weight. The viscosity of was 18 mPa · s. This was reacted at 40 degreeC for 24 hours, and the solution of the block copolymer was obtained. The solution viscosity after reaction was 23 mPa * s, and the logarithmic viscosity ((eta) 1n) of the obtained block copolymer (5) was 1.70 d1 / g.

〈합성예 6〉<Synthesis example 6>

〈공정 A〉 폴리아믹산 초기 중합체의 제조<Step A> Preparation of the polyamic acid initial polymer

합성예 1의 공정 A와 동일하게 하여, 폴리아믹산 초기 중합체(A-1)을 얻었다.In the same manner as in Step A of Synthesis Example 1, a polyamic acid initial polymer (A-1) was obtained.

〈공정 B〉 폴리이미드 초기 중합체의 제조<Step B> Preparation of the polyimide initial polymer

합성예 1의 공정 B와 동일하게 하여, 폴리이미드 초기 중합체(B-1)을 얻었다.In the same manner as in Step B of Synthesis Example 1, a polyimide initial polymer (B-1) was obtained.

〈공정 C〉 블록 공중합체의 제조<Step C> Preparation of the block copolymer

공정 A에서 얻어진 폴리아믹산 초기 중합체(A-1) 30 g 및 공정 B에서 얻어진 폴리이미드 초기 중합체(B-1) 70 g을 γ-부티로락톤에 용해시켜 고형분 농도 4 중량%의 용액으로 만들었다 용액의 점도는 16 mPa·s였다. 이것을 40 ℃에서 24시간 반응시켜, 블록 공중합체의 용액을 얻었다. 반응 후의 용액 점도는 22 mPa·s이고, 얻어진 블록 공중합체(6)의 대수 점도(η1n)는 1.60 d1/g이었다30 g of the polyamic acid initial polymer (A-1) obtained in step A and 70 g of the polyimide initial polymer (B-1) obtained in step B were dissolved in γ-butyrolactone to give a solution having a solid content of 4% by weight. The viscosity of was 16 mPa · s. This was reacted at 40 degreeC for 24 hours, and the solution of the block copolymer was obtained. The solution viscosity after reaction was 22 mPa * s, and the logarithmic viscosity ((eta) 1n) of the obtained block copolymer (6) was 1.60 d1 / g.

〈합성예 7〉<Synthesis example 7>

〈공정 A〉 폴리아믹산 초기 중합체의 제조<Step A> Preparation of the polyamic acid initial polymer

피로멜리트산 이무수물 51.88 g 및 4,4'-디아미노디페닐메탄 48.12 g을 N-메틸-2-피롤리돈 600 g에 용해시키고, 이 용액을 20 ℃에서 6시간 반응시켰다. 이어서, 얻어진 반응 용액을 과량의 아세톤에 넣어 반응 생성물을 침전시키고, 반응 생성물의 침전·분리·세정·건조를 행함으로써, 대수 점도(ηln) 1.4 dl/g의 분자말단에 아미노기를 갖는 폴리아믹산 초기 중합체(A-2) 95 g을 얻었다.51.88 g of pyromellitic dianhydride and 48.12 g of 4,4'-diaminodiphenylmethane were dissolved in 600 g of N-methyl-2-pyrrolidone, and the solution was reacted at 20 ° C for 6 hours. Subsequently, the obtained reaction solution was put in an excess of acetone to precipitate the reaction product, and the reaction product was precipitated, separated, washed, and dried to obtain an initial polyamic acid having an amino group at the molecular end of logarithmic viscosity (ηln) of 1.4 dl / g. 95 g of polymer (A-2) was obtained.

〈공정 B〉 폴리이미드 초기 중합체의 제조<Step B> Preparation of the polyimide initial polymer

합성예 1의 공정 B와 동일하게 하여, 폴리이미드 초기 중합체(B-1)을 얻었다.In the same manner as in Step B of Synthesis Example 1, a polyimide initial polymer (B-1) was obtained.

〈공정 C〉 블록 공중합체의 제조<Step C> Preparation of the block copolymer

공정 A에서 얻어진 폴리아믹산 초기 중합체(A-2) 80 g 및 공정 B에서 얻어진 폴리이미드 초기 중합체(B-1) 20 g을 γ-부티로락톤에 용해시켜 고형분 농도 4 중량%의 용액으로 만들었다 용액의 점도는 15 mPa·s였다. 이것을 40 ℃에서 24시간 반응시켜 블록 공중합체의 용액을 얻었다. 반응 후의 용액 점도는 18 mPa·s이고, 얻어진 블록 공중합체(7)의 대수 점도(η1n)는 1.55 d1/g이었다.80 g of the polyamic acid initial polymer (A-2) obtained in step A and 20 g of the polyimide initial polymer (B-1) obtained in step B were dissolved in γ-butyrolactone to give a solution having a solid content of 4% by weight. The viscosity of was 15 mPa · s. This was reacted at 40 degreeC for 24 hours, and the solution of the block copolymer was obtained. The solution viscosity after reaction was 18 mPa * s, and the logarithmic viscosity ((eta) 1n) of the obtained block copolymer (7) was 1.55 d1 / g.

〈합성예 8〉<Synthesis example 8>

〈공정 A〉 폴리아믹산 초기 중합체의 제조<Step A> Preparation of the polyamic acid initial polymer

합성예 1의 공정 A와 동일하게 하여, 폴리아믹산 초기 중합체(A-1)을 얻었다.In the same manner as in Step A of Synthesis Example 1, a polyamic acid initial polymer (A-1) was obtained.

〈공정 B-1〉 제1 폴리이미드 초기 중합체의 제조<Step B-1> Preparation of the First Polyimide Initial Polymer

합성예 1의 공정 B와 동일하게 하여, 폴리이미드 초기 중합체(B-1)을 얻었다. 〈공정 B-2〉 제2 폴리이미드 초기 중합체의 제조In the same manner as in Step B of Synthesis Example 1, a polyimide initial polymer (B-1) was obtained. <Step B-2> Preparation of the Second Polyimide Initial Polymer

합성예4의 공정 B와 동일하게 하여, 폴리이미드 초기 중합체(B-4)를 얻었다.In the same manner as in Process B of Synthesis Example 4, a polyimide initial polymer (B-4) was obtained.

〈공정 C〉 블록 공중합체의 제조<Step C> Preparation of the block copolymer

공정 A에서 얻어진 폴리아믹산 초기 중합체(A-1) 80 g 및 공정 B-1에서 얻어진 폴리이미드 초기 중합체(B-1) 15 g 및 공정 B-2에서 얻어진 폴리이미드 초기 중합체(B-4) 5 g을 γ-부티로락톤에 용해시켜 고형분 농도 4 중량%의 용액으로 만들었다 용액의 점도는 16 mPa·s였다. 이것을 40 ℃에서 24시간 반응시켜, 3원의 블록 공중합체의 용액을 얻었다. 반응 후의 용액 점도는 19 mPa·s이고, 얻어진 블록 공중합체(8)의 대수 점도(η1n)는 1.70 d1/g이었다80 g of polyamic acid initial polymer (A-1) obtained in step A and 15 g of polyimide initial polymer (B-1) obtained in step B-1 and polyimide initial polymer (B-4) obtained in step B-2 5 g was dissolved in γ-butyrolactone to give a solution having a solid content of 4% by weight. The viscosity of the solution was 16 mPa · s. This was reacted at 40 degreeC for 24 hours, and the solution of a ternary block copolymer was obtained. The solution viscosity after reaction was 19 mPa * s, and the logarithmic viscosity ((eta) 1n) of the obtained block copolymer (8) was 1.70 d1 / g.

〈합성예 9〉<Synthesis example 9>

〈공정 A-1〉 제1 폴리아믹산 초기 중합체의 제조<Step A-1> Preparation of the first polyamic acid initial polymer

합성예 1의 공정 A와 동일하게 하여, 폴리아믹산 초기 중합체(A-1)을 얻었다.In the same manner as in Step A of Synthesis Example 1, a polyamic acid initial polymer (A-1) was obtained.

〈공정 A-2〉 제2 폴리아믹산 초기 중합체의 제조<Step A-2> Preparation of the second polyamic acid initial polymer

2,3,5-트리카르복시시클로펜틸아세트산 이무수물 224.17 g, 비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]술폰 432.5 g을 γ-부티로락톤 6000 g에 용해시키고, 이 용액을 60 ℃에서 6시간 반응시켰다. 이어서, 얻어진 반응 용액을 과량의 아세톤에 넣어 반응 생성물을 침전시키고, 반응 생성물의 침전·분리·세정·건조를 행함으로써, 대수 점도(η1n) 1.5 d1/g의 분자 말단에 아미노기를 갖는 폴리아믹산 초기 중합체 (A-3) 650 g을 얻었다.224.17 g of 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic dianhydride and 432.5 g of bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone are dissolved in 6000 g of γ-butyrolactone, and the solution is heated at 60 ° C. The reaction was carried out for 6 hours. Subsequently, the obtained reaction solution was put in an excess of acetone to precipitate the reaction product, and the reaction product was precipitated, separated, washed, and dried to obtain an initial polyamic acid having an amino group at a molecular terminal having a logarithmic viscosity (η 1 n) of 1.5 d 1 / g. 650 g of a polymer (A-3) was obtained.

〈공정 B〉 폴리이미드 초기 중합체의 제조<Step B> Preparation of the polyimide initial polymer

합성예 1의 공정 B와 동일하게 하여, 폴리이미드 초기 중합체(B-1)을 얻었다. 〈공정 C〉 블록 공중합체의 제조In the same manner as in Step B of Synthesis Example 1, a polyimide initial polymer (B-1) was obtained. <Step C> Preparation of the block copolymer

공정 A-1에서 얻어진 폴리아믹산 초기 중합체(A-1) 60 g 및 공정 A-2에서 얻어진 폴리아믹산 초기 중합체(A-3) 20 g 및 공정 B에서 얻어진 폴리이미드 초기 중합체(B-1) 20 g을 γ-부티로락톤에 용해시켜 고형분 농도 4 중량%의 용액으로 만들었다 용액의 점도는 18 mPa·s였다. 이것을 40 ℃에서 24시간 반응시켜, 3원의 블록 공중합체의 용액을 얻었다. 반응 후의 용액 점도는 20 mPa·s이고, 얻어진 블록 공중합체(9)의 대수 점도(η1n)는 1.63 d1/g이었다60 g of polyamic acid initial polymer (A-1) obtained in step A-1 and 20 g of polyamic acid initial polymer (A-3) obtained in step A-2 and polyimide initial polymer (B-1) 20 obtained in step B 20 g was dissolved in γ-butyrolactone to give a solution having a solid content of 4% by weight. The viscosity of the solution was 18 mPa · s. This was reacted at 40 degreeC for 24 hours, and the solution of a ternary block copolymer was obtained. The solution viscosity after reaction was 20 mPa * s, and the logarithmic viscosity ((eta) 1n) of the obtained block copolymer (9) was 1.63 d1 / g.

〈합성예 10〉<Synthesis example 10>

〈공정 A〉 폴리아믹산 초기 중합체의 제조<Step A> Preparation of the polyamic acid initial polymer

피로멜리트산 이무수물 26.37 g, 1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복실산 이무수물 23.71 g 및 4,4'-디아미노디페닐에테르 49.92 g을 N-메틸-2-피롤리돈 900 g에 용해시키고, 이 용액을 20 ℃에서 6시간 반응시켰다. 이어서, 얻어진 반응 용액을 과량의 아세톤에 넣어 반응 생성물을 침전시키고, 반응 생성물의 침전·분리·세정·건조를 행함으로써, 대수 점도(η1n) 1.6 dl/g의 분자 말단에 아미노기를 갖는 폴리아믹산 초기 중합체(A-4) 96.3 g을 얻었다.26.37 g of pyromellitic dianhydride, 23.71 g of 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride and 49.92 g of 4,4'-diaminodiphenylether were added N-methyl-2-pyrrolidone 900 It dissolved in g and made this solution react at 20 degreeC for 6 hours. Subsequently, the obtained reaction solution was put in an excess of acetone to precipitate the reaction product, and the reaction product was precipitated, separated, washed, and dried to carry out a polyamic acid initial stage having an amino group at a molecular terminal having a logarithmic viscosity (η 1 n) of 1.6 dl / g. 96.3 g of polymer (A-4) was obtained.

〈공정 B〉 폴리이미드 초기 중합체의 제조<Step B> Preparation of the polyimide initial polymer

1,3,3a,4,5,9b-헥사히드로-8-메틸-5-(테트라히드로-2,5-디옥소-3-푸라닐)-나프토[1,2-c]푸란-1,3-디온 52.778 g, 2,3,5-트리카르복시시클로펜틸아세트산 이무수물 6.64 g, p-페닐렌디아민 12.44 g, 4,4'-(p-페닐렌디이소프로필리덴)디아닐린 23.13 g 및 상기 화학식 16으로 표시되는 화합물 5.01 g을 N-메틸-2-피롤리돈 800 g에 용해시키고, 이 용액을 20 ℃에서 26시간 반응시켰다. 이어서, 얻어진 반응 용액을 과량의 아세톤에 넣어 반응 생성물(폴리아믹산 초기 중합체)을 침전시켰다. 얻어진 폴리아믹산 초기 중합체 100.0 g을 γ-부티로락톤 900 g에 용해시키고, 피리딘 62 g 및 무수 아세트산 141 g을 첨가하여 60 ℃에서 2시간 탈수 폐환시켰다. 이어서, 반응 생성물의 침전·분리·세정·건조를 행함으로써, 대수 점도 (ηln) 0.73 d1/g, 이미드화율 90 %의 분자 말단에 산무수물기를 갖는 폴리이미드 초기 중합체(B-5) 97.2 g을 얻었다.1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-8-methyl-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] furan-1 52.778 g, 3-dione, 6.64 g 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic dianhydride, 12.44 g p-phenylenediamine, 23.13 g 4,4 '-(p-phenylenediisopropylidene) dianiline and 5.01 g of the compound represented by Chemical Formula 16 was dissolved in 800 g of N-methyl-2-pyrrolidone, and the solution was reacted at 20 ° C. for 26 hours. The reaction solution obtained was then placed in excess acetone to precipitate the reaction product (polyamic acid initial polymer). 100.0 g of the obtained polyamic acid initial polymer was dissolved in 900 g of γ-butyrolactone, and 62 g of pyridine and 141 g of acetic anhydride were added to dehydrate and close the ring for 2 hours at 60 ° C. Subsequently, by precipitating, separating, washing and drying the reaction product, 97.2 g of a polyimide initial polymer (B-5) having an acid anhydride group at a molecular terminal having a logarithmic viscosity (ηln) of 0.73 d1 / g and an imidation ratio of 90%. Got.

〈공정 C〉 블록 공중합체의 제조<Step C> Preparation of the block copolymer

공정 A에서 얻어진 폴리아믹산 초기 중합체(A-4) 75 g 및 공정 B에서 얻어진 폴리이미드 초기 중합체(B-5) 25 g을 γ-부티로락톤에 용해시켜 고형분 농도 4 중량%의 용액으로 만들었다 용액의 점도는 20 mPa·s였다. 이것을 30 ℃에서 48시간 반응시켜, 블록 공중합체의 용액을 얻었다. 반응 후의 용액 점도는 27 mPa·s이고, 얻어진 블록 공중합체(10)의 대수 점도(η1n)는 1.8 dl/g이었다.75 g of the polyamic acid initial polymer (A-4) obtained in Step A and 25 g of the polyimide initial polymer (B-5) obtained in Step B were dissolved in γ-butyrolactone to give a solution having a solid content of 4% by weight. The viscosity of was 20 mPa · s. This was reacted at 30 degreeC for 48 hours, and the solution of the block copolymer was obtained. The solution viscosity after reaction was 27 mPa * s, and the logarithmic viscosity ((eta) 1n) of the obtained block copolymer 10 was 1.8 dl / g.

〈합성예 11〉<Synthesis example 11>

〈공정 A〉 폴리아믹산 초기 중합체의 제조<Step A> Preparation of the polyamic acid initial polymer

1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복실산 이무수물 40.72 g 및 4,4'-디아미노디페닐에테르 51.28 g을 N-메틸-2-피롤리돈 900 g에 용해시키고, 이 용액을 20 ℃에서 6시간 반응시켰다. 이어서, 얻어진 반응 용액을 과량의 아세톤에 넣어 반응 생성물을 침전시키고, 반응 생성물의 침전·분리·세정·건조를 행함으로써, 대수 점도(η1n) 1.6 dl/g의 분자 말단에 아미노기를 갖는 폴리아믹산 초기 중합체(A-5) 93 g을 얻었다.40.72 g of 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride and 51.28 g of 4,4'-diaminodiphenyl ether are dissolved in 900 g of N-methyl-2-pyrrolidone, and the solution is The reaction was carried out at 20 ° C. for 6 hours. Subsequently, the obtained reaction solution was put in an excess of acetone to precipitate the reaction product, and the reaction product was precipitated, separated, washed, and dried to carry out a polyamic acid initial stage having an amino group at a molecular terminal having a logarithmic viscosity (η 1 n) of 1.6 dl / g. 93 g of polymer (A-5) was obtained.

〈공정 B〉 폴리이미드 초기 중합체의 제조<Step B> Preparation of the polyimide initial polymer

1,3,3a,4,5,9b-헥사히드로-8-메틸-5-(테트라히드로-2,5-디옥소-3-푸라닐)-나프토[1,2-c]푸란-1,3-디온 59.19 g, 2,3,5-트리카르복시시클로펜틸아세트산 이무수물 4.69 g, p-페닐렌디아민 13.44 g, 2,2-비스(4-아미노페닐)-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로판 10.39 g, 4,4'-디아미노디페닐메탄 9.04 g 및 상기 화학식 16으로 표시되는 화합물 3.25 g을 N-메틸-2-피롤리돈 300 g에 용해시키고, 이 용액을 20 ℃에서 26시간 반응시켰다. 이어서, 얻어진 반응 용액을 과량의 아세톤에 넣어 반응 생성물(폴리아믹산 초기 중합체)을 침전시켰다. 얻어진 폴리아믹산 초기 중합체 100.0 g을 γ-부티로락톤 900 g에 용해시키고, 피리딘 65.2 g 및 무수 아세트산 84.2 g을 첨가하여 60 ℃에서 2시간 탈수 폐환시켰다. 이어서, 반응 생성물의 침전·분리·세정·건조를 행함으로써, 대수 점도(η1n) 0.58 dl/g, 이미드화율 95 %의 분자 말단에 산무수물기를 갖는 폴리이미드 초기 중합체(B-6) 94 g을 얻었다.1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-8-methyl-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] furan-1 , 3-dione 59.19 g, 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic dianhydride 4.69 g, p-phenylenediamine 13.44 g, 2,2-bis (4-aminophenyl) -1,1,1,3 10.39 g of 3,3-hexafluoropropane, 9.04 g of 4,4'-diaminodiphenylmethane and 3.25 g of the compound represented by Formula 16 are dissolved in 300 g of N-methyl-2-pyrrolidone, This solution was reacted at 20 ° C for 26 hours. The reaction solution obtained was then placed in excess acetone to precipitate the reaction product (polyamic acid initial polymer). 100.0 g of the obtained polyamic acid initial polymer was dissolved in 900 g of γ-butyrolactone, and 65.2 g of pyridine and 84.2 g of acetic anhydride were added and dehydrated and closed for 2 hours at 60 ° C. Subsequently, by precipitation, separation, washing and drying of the reaction product, 94 g of a polyimide initial polymer (B-6) having an acid anhydride group at a molecular terminal having a logarithmic viscosity (η 1 n) of 0.58 dl / g and an imidation ratio of 95% Got.

〈공정 C〉 블록 공중합체의 제조<Step C> Preparation of the block copolymer

공정 A에서 얻어진 폴리아믹산 초기 중합체(A-5) 75 g 및 공정 B에서 얻어진 폴리이미드 초기 중합체(B-6) 25 g을 γ-부티로락톤에 용해시켜 고형분 농도 4 중량%의 용액으로 만들었다 용액의 점도는 14 mPa·s였다. 이것을 50 ℃에서 4시간 반응시켜, 블록 공중합체의 용액을 얻었다. 반응 후의 용액 점도는 21 mPa·s이고, 얻어진 블록 공중합체(11)의 대수 점도(η1n)는 1.6 dl/g이었다.75 g of the polyamic acid initial polymer (A-5) obtained in step A and 25 g of the polyimide initial polymer (B-6) obtained in step B were dissolved in γ-butyrolactone to give a solution having a solid content of 4% by weight. The viscosity of was 14 mPa · s. This was reacted at 50 degreeC for 4 hours, and the solution of a block copolymer was obtained. The solution viscosity after reaction was 21 mPa * s, and the logarithmic viscosity ((eta) 1n) of the obtained block copolymer 11 was 1.6 dl / g.

〈비교 합성예 1〉<Comparative Synthesis Example 1>

1,3,3a,4,5,9b-헥사히드로-5-(테트라히드로-2,5-디옥소-3-푸라닐)-나프토[1,2-c]푸란-1,3-디온 34.7 g, p-페닐렌디아민 10.41 g, 1-헥사데카녹시-2,4-디아미노벤젠 3.84 g 및 3-아미노프로필메틸디에톡시실란 1.05 g을 N-메틸-2-피롤리돈 200 g에 용해시키고, 이 용액을 20 ℃에서 24시간 반응시켰다. 이어서, 얻어진 반응 용액을 과량의 아세톤에 넣어 반응 생성물을 침전시켰다. 얻어진 중합체 50.0 g을 γ-부티로락톤 450 g에 용해시키고, 피리딘 5.0 g 및 무수 아세트산 10.8 g을 첨가하여 50 ℃에서 3시간 탈수 폐환시켰다. 이어서, 반응 생성물의 침전·분리·세정·건조를 행함으로써, 대수 점도(ηln) 0.72 d1/g, 이미드화율 90 %의 가용성폴리이미드 중합체(b) 47 g을 얻었다.1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] furan-1,3-dione 34.7 g, 10.41 g of p-phenylenediamine, 3.84 g of 1-hexadecanoxy-2,4-diaminobenzene and 1.05 g of 3-aminopropylmethyldiethoxysilane, 200 g of N-methyl-2-pyrrolidone It dissolved in and reacted this solution at 20 degreeC for 24 hours. Subsequently, the obtained reaction solution was put into excess acetone to precipitate the reaction product. 50.0 g of the obtained polymer was dissolved in 450 g of γ-butyrolactone, and 5.0 g of pyridine and 10.8 g of acetic anhydride were added to dehydrate and close the ring for 3 hours at 50 ° C. Subsequently, 47 g of soluble polyimide polymers (b) having a logarithmic viscosity (ηln) of 0.72 d1 / g and an imidation ratio of 90% were obtained by precipitating, separating, washing, and drying the reaction product.

〈비교 합성예 2〉<Comparative Synthesis Example 2>

〈공정 A〉 폴리아믹산 초기 중합체의 제조<Step A> Preparation of the polyamic acid initial polymer

합성예 10의 공정 A-2와 동일하게 하여, 폴리아믹산 초기 중합체(A-3)을 얻었다.In the same manner as in Step A-2 of Synthesis Example 10, a polyamic acid initial polymer (A-3) was obtained.

〈공정 B〉 폴리이미드 초기 중합체의 제조<Step B> Preparation of the polyimide initial polymer

합성예 1의 공정 B와 동일하게 하여, 폴리이미드 초기 중합체(B-1)을 얻었다.In the same manner as in Step B of Synthesis Example 1, a polyimide initial polymer (B-1) was obtained.

〈공정 C〉 블록 공중합체의 제조<Step C> Preparation of the block copolymer

공정 A에서 얻어진 폴리아믹산 초기 중합체(A-3) 80 g 및 공정 B에서 얻어진 폴리이미드 초기 중합체(B-1) 20 g을 γ-부티로락톤에 용해시켜 고형분 농도 4 중량%의 용액으로 만들었다 용액의 점도는 15 mPa·s였다. 이것을 40 ℃에서 24시간 반응시켜, 블록 공중합체의 용액을 얻었다. 반응 후의 용액 점도는 18 mPa·s이고, 얻어진 블록 공중합체(i)의 대수 점도(η1n)는 1.50 d1/g이었다.80 g of the polyamic acid initial polymer (A-3) obtained in step A and 20 g of the polyimide initial polymer (B-1) obtained in step B were dissolved in γ-butyrolactone to give a solution having a solid content of 4% by weight. The viscosity of was 15 mPa · s. This was reacted at 40 degreeC for 24 hours, and the solution of the block copolymer was obtained. The solution viscosity after reaction was 18 mPa * s, and the logarithmic viscosity ((eta) 1n) of the obtained block copolymer (i) was 1.50 d1 / g.

〈실시예 1〉<Example 1>

합성예 1에서 얻어진 블록 공중합체(1)을 γ-부티로락톤에 용해시켜 고형분 농도 4 중량%의 용액으로 하고, 이 용액을 세공 직경 1 ㎛의 필터로 여과하여 액정 배향제를 제조하였다. 이 액정 배향제 50 g에 침전이 생길 때까지 부틸셀로솔브를 첨가하였다. 첨가할 수 있는 부틸셀로솔브 양은 20 g이고, 생성된 블록 공중합체는 용해성이 우수한 것이었다.The block copolymer (1) obtained in Synthesis Example 1 was dissolved in γ-butyrolactone to obtain a solution having a solid content of 4% by weight, and the solution was filtered through a filter having a pore diameter of 1 μm to prepare a liquid crystal aligning agent. Butyl cellosolve was added to 50 g of this liquid crystal aligning agent until precipitation occurred. The amount of butyl cellosolve that could be added was 20 g, and the resulting block copolymer was excellent in solubility.

또한, 얻어진 액정 배향제를 고형분 농도 2 중량%로 희석하여 잉크젯 인쇄기로 인쇄했더니, 최대막 두께와 최저막 두께의 차(막 두께 균일성)은 70 Å으로 양호하였다. 이어서, 연속 잉크젯 인쇄성을 테스트했더니, 도포 불량은 보이지 않고, 인쇄 개시와 종료시의 막 두께 균일성 차이(연속 인쇄성)도 30 Å으로 매우 안정되어 있었다.Moreover, when the obtained liquid crystal aligning agent was diluted to 2 weight% of solid content concentration, and printed by the inkjet printing machine, the difference (film thickness uniformity) of the maximum film thickness and the minimum film thickness was 70 kPa, and was favorable. Subsequently, when the continuous inkjet printability was tested, application | coating defect was not seen and the film thickness uniformity difference (continuous printing property) at the time of printing start and end was also very stable at 30 kPa.

액정 배향제를 액정 배향막 도포용 인쇄기를 사용하여 ITO막으로 이루어진 투명 전극이 있는 유리 기판의 투명 전극면에 도포하고, 180 ℃의 가열 플레이트상에서 10분간 건조하여 건조 평균 막 두께 600 Å의 피막을 형성하였다. 이 피막에 레이온제 천을 감은 롤러를 가진 러빙 머신에 의해, 롤 회전수 400 rpm, 스테이지의 이동 속도 3 cm/초, 털 압입 길이 0.4 mm로 러빙 처리를 행하였다. 상기 배향막 도포 기판을 이소프로필알코올 중에 1분간 침지한 후, 양쪽 기판을 100 ℃의 가열 플레이트상에서 5분간 건조하였다.The liquid crystal aligning agent was apply | coated to the transparent electrode surface of the glass substrate with a transparent electrode which consists of an ITO film | membrane using the printing machine for apply | coating a liquid crystal aligning film, and it dried on a heating plate of 180 degreeC for 10 minutes, and formed the film of 600 mm of dry average film thickness It was. By the rubbing machine which has the roller which wound the cloth made from rayon on this film, the rubbing process was performed by roll rotation speed 400rpm, the movement speed of a stage 3cm / sec, and hair indentation length 0.4mm. After immersing the said oriented film coating board | substrate in isopropyl alcohol for 1 minute, both board | substrates were dried for 5 minutes on the 100 degreeC heating plate.

이어서, 한쌍의 대향 처리된 액정 협지 기판의 액정 배향막을 갖는 각각의 외연에 직경 5.5 ㎛의 산화알루미늄구가 있는 에폭시 수지 접착제를 스크린 인쇄 도포한 후, 한쌍의 액정 협지 기판을 액정 배향막면이 마주보도록, 또한 러빙 방향이 직행하도록 겹쳐서 압착하고, 접착제를 경화시켰다. 이어서, 액정 주입구로부터 한쌍의 기판 사이로 네마틱형 액정(멜크사 제조, MLC-5081)을 충전한 후, 아크릴계 광 경화 접착제로 액정 주입구를 밀봉하고, 기판의 외측 양면에 편광판을 편광판의 편광 방향이 각각의 기판의 액정 배향막 러빙 방향과 일치하도록 접합시켜, 액정 표시 소자를 제작하였다.Subsequently, after screen-printing and apply | coating the epoxy resin adhesive which has a 5.5-micrometer diameter aluminum oxide sphere to each outer edge which has a liquid crystal aligning film of a pair of opposing liquid crystal aligning substrate, a pair of liquid crystal aligning substrates may face a liquid crystal aligning film surface. Moreover, it crimped | bonded so that the rubbing direction might go straight, and hardened the adhesive agent. Subsequently, the nematic liquid crystal (MLC-5081, manufactured by Melk Co., Ltd.) was charged from the liquid crystal injection hole to the pair of substrates, and then the liquid crystal injection hole was sealed with an acrylic photocuring adhesive, and the polarizing directions of the polarizing plates were respectively placed on both sides of the substrate. It bonded together so that it might correspond to the liquid crystal aligning film rubbing direction of the board | substrate of, and produced the liquid crystal display element.

얻어진 액정 표시 소자의 액정 배향성, 프리틸트각, 전압 유지율 및 잔상 소거에 대하여 평가했더니, 액정의 배향성은 양호하고, 잔상 소거 시간은 1분으로 짧았으며, 액정 배향막으로서의 요구 특성을 충족하고 있었다. 이들 결과를 표 1 및 표 2에 나타내었다.When the liquid crystal alignability, the pretilt angle, the voltage retention, and the afterimage erasing of the obtained liquid crystal display element were evaluated, the orientation of the liquid crystal was good, the afterimage erasing time was short at 1 minute, and the required characteristics as the liquid crystal alignment film were satisfied. These results are shown in Table 1 and Table 2.

〈실시예 2 내지 12, 비교예 1 내지 4〉<Examples 2 to 12, Comparative Examples 1 to 4>

표 1에 나타낸 처방에 따라, 합성예 2 내지 11 및 비교 합성예 1 내지 2에서 얻어진 중합체, 첨가제를 사용한 액정 배향제를 조정하고, 실시예 4에서 액정을 MLC-2012로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 배향 처리를 행하고, 실시예 1과 동일하게 하여 액정 표시 소자를 제작하였다. 얻어진 액정 표시 소자의 각각에 대하여 액정의 배향성, 잔상 소거 시간 등에 대하여 평가하였다. 결과를 표 1 및 표 2에 나타내었다.According to the prescription shown in Table 1, it carried out except adjusting the liquid crystal aligning agent using the polymer obtained by the synthesis examples 2-11 and comparative synthesis examples 1-2, and an additive, and changing the liquid crystal to MLC-2012 in Example 4. An orientation treatment was performed in the same manner as in Example 1, and a liquid crystal display device was produced in the same manner as in Example 1. Each of the obtained liquid crystal display elements was evaluated for the orientation of liquid crystal, the afterimage erasing time, and the like. The results are shown in Table 1 and Table 2.

실시예 1 내지 12와 비교예 1 내지 4로부터 이하의 효과가 인정된다.The following effects are recognized from Examples 1-12 and Comparative Examples 1-4.

즉, 폴리아믹산, 폴리이미드를 단량체로 사용하거나, 또는 단순히 혼합한 액정 배향제는 잉크젯 인쇄시의 도포 불량, 인쇄 품위 불량, 액정 표시 소자로서의 성능 등의 문제가 있지만, 본 발명의 블록 공중합체에 따르면 잉크젯 인쇄성, 액정 표시 소자로서의 여러 특성 모두 높은 수준으로 만족시킬 수 있다.That is, the liquid crystal aligning agent which uses a polyamic acid and polyimide as a monomer, or simply mixed, has problems, such as the coating defect at the time of inkjet printing, the print quality defect, the performance as a liquid crystal display element, etc. According to this, the inkjet printability and various characteristics as the liquid crystal display element can all be satisfied at a high level.

따라서, 본 발명에 따르면 액정 패널의 수율 개선, 비용 절감을 위해 잉크젯 인쇄에 적절하고, 또한 액정 표시 소자에 요구되는 프리틸트각, 전압 유지율, 잔상 특성을 높은 수준으로 만족할 수 있기 때문에, TN형 및 STN형 액정 표시 소자에 적합하게 사용할 수 있는 것 외에, 사용하는 액정을 선택함으로써 SH(Super Homeotropic)형, IPS(In-Plane Switching)형, 강유전성 및 반강유전성의 액정 표시 소자 등에도 적합하게 사용할 수 있다. 또한, 특히 실시예 12에서 사용한 블록 공중합체(11)은 투명성도 우수하기 때문에, 반사형 LCD 및 프로젝터 용도로 적합하다.Therefore, according to the present invention, since it is suitable for inkjet printing in order to improve the yield of the liquid crystal panel and reduce the cost, and can satisfy the high level of pretilt angle, voltage retention, and afterimage characteristic required for the liquid crystal display device, In addition to being suitable for STN type liquid crystal display elements, by selecting the liquid crystal to be used, it can be suitably used for SH (Super Homeotropic) type, IPS (In-Plane Switching) type, ferroelectric and antiferroelectric liquid crystal display elements, and the like. have. In addition, the block copolymer 11 used in Example 12 is also excellent in transparency, and thus is suitable for reflective LCD and projector applications.

또한, 본 발명 방법에 의해 제조한 액정 배향막을 갖는 액정 표시 소자는 여러 장치에 유효하게 사용할 수 있어, 예를 들어 탁상 계산기, 손목 시계, 탁상 시계, 계수 표시판, 워드 프로세서, 퍼스널 컴퓨터, 액정 텔레비젼 등의 표시 장치로 사용할 수 있다.Moreover, the liquid crystal display element which has the liquid crystal aligning film manufactured by the method of this invention can be effectively used for various apparatuses, For example, a table calculator, a wristwatch, a table clock, a counting plate, a word processor, a personal computer, a liquid crystal television, etc. It can be used as a display device.

Claims (2)

제1의 폴리이미드 블록과 제2의 폴리아믹산 블록을 분자 중에 함유하는 블록 공중합체를 포함하며, 상기 제1의 폴리이미드 블록은 하기 화학식 1로 표시되는 반복 단위 및 하기 화학식 2로 표시되는 반복 단위로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 반복 단위를 함유하며, 상기 제2의 폴리아믹산 블록은 하기 화학식 3으로 표시되는 반복 단위 및 하기 화학식 4로 표시되는 반복 단위로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 반복 단위를 함유하는 것을 특징으로 하는 액정 배향제.A block copolymer containing a first polyimide block and a second polyamic acid block in a molecule, wherein the first polyimide block is a repeating unit represented by the following formula (1) and a repeating unit represented by the following formula (2) At least one repeating unit selected from the group consisting of: wherein the second polyamic acid block comprises at least one repeating unit selected from the group consisting of repeating units represented by the following formula (3) and repeating units represented by the following formula (4): A unit is contained, The liquid crystal aligning agent characterized by the above-mentioned. 〈화학식 1〉<Formula 1> 〈화학식 2〉<Formula 2> 〈화학식 3〉<Formula 3> 〈화학식 4〉<Formula 4> 상기 식에서,Where R1, R4, R6은 수소 원자 또는 알킬기를 나타내고,R 1 , R 4 , R 6 represent a hydrogen atom or an alkyl group, R2, R3, R5및 R7은 2가의 유기기이고,R 2 , R 3 , R 5 and R 7 are divalent organic groups, l은 1 내지 4의 정수를 나타내고,l represents an integer of 1 to 4, m, n, p 및 q는 반복 단위수를 나타내는 양수이다.m, n, p and q are positive numbers indicating the number of repeat units. 제1항에 기재한 액정 배향제를 사용하여 얻어지는 액정 배향막을 갖는 것을 특징으로 하는 액정 표시 소자.It has a liquid crystal aligning film obtained using the liquid crystal aligning agent of Claim 1, The liquid crystal display element characterized by the above-mentioned.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100480826B1 (en) * 2002-12-11 2005-04-07 엘지.필립스 엘시디 주식회사 Alignment Film Printing Device for Liquid Crystal Display Device
KR100732643B1 (en) * 2003-03-12 2007-06-27 세이코 엡슨 가부시키가이샤 Liquid crystal device production method
KR100850242B1 (en) * 2004-01-27 2008-08-04 제이에스알 가부시끼가이샤 Liquid crystal alignment agent, liquid crystal alignment film and liquid crystal display device

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002155138A (en) * 2000-11-21 2002-05-28 Jsr Corp Polymer, its manufacturing method, liquid crystal orientating agent and liquid crystal orientated film
JP4779208B2 (en) * 2001-01-26 2011-09-28 Jnc株式会社 Method for forming liquid crystal alignment film and liquid crystal display element
KR100459491B1 (en) 2001-11-12 2004-12-03 엘지전선 주식회사 Triazine ring based polymers for photoinduced liquid crystal alignment, liquid crystal alignment layer containing the same, liquid crystal element using the alignment layer and method of manufacturing the same
JP2004264354A (en) * 2003-02-12 2004-09-24 Nissan Chem Ind Ltd Method for forming liquid crystal alignment layer
JP4433175B2 (en) * 2004-07-01 2010-03-17 Jsr株式会社 Liquid crystal alignment agent for inkjet coating
JP4844721B2 (en) * 2006-03-22 2011-12-28 Jsr株式会社 Liquid crystal alignment agent, liquid crystal alignment film, and liquid crystal display element
JP4993973B2 (en) * 2006-09-08 2012-08-08 株式会社ジャパンディスプレイイースト Liquid crystal display
TWI348474B (en) * 2006-09-26 2011-09-11 Jsr Corp Liquid crystal alignment agent and liquid crystal display element
TW201531499A (en) * 2014-02-13 2015-08-16 Tosoh Corp Hydrophilic polymer, manufacturing method of the same, and application of hydrophilic polymer
JP6500479B2 (en) * 2014-02-13 2019-04-17 東ソー株式会社 Hydrophilic polymer, method for producing the same, binder using the same, and electrode
JP6617529B2 (en) * 2015-11-20 2019-12-11 Jsr株式会社 Liquid crystal aligning agent, liquid crystal aligning film, liquid crystal element, and method for producing liquid crystal aligning film
WO2021182267A1 (en) * 2020-03-13 2021-09-16 日産化学株式会社 Polyimide varnish
CN114524938B (en) * 2021-10-28 2024-02-09 江苏三月科技股份有限公司 Polymer, photosensitive resin composition, cured film prepared from polymer and photosensitive resin composition, and electronic element
WO2024228237A1 (en) * 2023-05-01 2024-11-07 株式会社レゾナック Block copolymer, method for producing block copolymer, insulating material, polyimide, and printed circuit board

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3389718B2 (en) * 1994-12-16 2003-03-24 ジェイエスアール株式会社 Liquid crystal alignment agent
JP3584457B2 (en) * 1996-02-06 2004-11-04 Jsr株式会社 Diamine compound, polyamic acid, polyimide, liquid crystal aligning agent and liquid crystal display device
KR100412080B1 (en) * 1996-07-08 2004-05-24 삼성에스디아이 주식회사 Composition for Forming Alignment Film of Liquid Crystal Display Device
KR100241494B1 (en) * 1996-12-24 2000-03-02 유현식 Silicone-containing polyimide resin composition

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100480826B1 (en) * 2002-12-11 2005-04-07 엘지.필립스 엘시디 주식회사 Alignment Film Printing Device for Liquid Crystal Display Device
KR100732643B1 (en) * 2003-03-12 2007-06-27 세이코 엡슨 가부시키가이샤 Liquid crystal device production method
US7499143B2 (en) 2003-03-12 2009-03-03 Seiko Epson Corporation Liquid crystal discharging method, and liquid crystal discharging device
US8780317B2 (en) 2003-03-12 2014-07-15 Seiko Epson Corporation Film forming method, film forming device, liquid crystal arrangement method, liquid crystal arrangement device, liquid crystal device, liquid crystal device production method and electronic equipment
KR100850242B1 (en) * 2004-01-27 2008-08-04 제이에스알 가부시끼가이샤 Liquid crystal alignment agent, liquid crystal alignment film and liquid crystal display device

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