KR19990014314A - 방전가공용 다공성 전극선의 제조방법 및 그 구조 - Google Patents

Abstract

본 발명은 방전가공용 다공성 전극선에 관한 것으로, 전극선은, 통상의 아연도금된 선에 비해서 적어도 선에 비해서 적어도 15% 이상의 가공속도의 향상되고, 이러한 가공속도의 개선은 전극선 표면의 다공성 구조로 인하여 표면적이 증가되어 가공액에 의한 냉각속도가 빨라지기 때문이다. 한편 상기 다공성 전극선의 표면은 전체적으로 균일한 원주표면을 유지하면서 표면형태가 돌출부를 포함하지 않으므로 가공의 정밀도에 불리한 영향을 미치지 않고 오히려 다공성으로 인하여 가공시 발생하는 부스러기들이 쉽게 제거될 수 있으므로 세정력이 우수하므로 가공 정밀도의 향상이 기대된다. 따라서 본 발명에 의한 전극선의 제조방법에 따르면, 종래의 방법에 비교해서 추가공정의 필요없이 가공속도와 세정력이 종래의 아연도금 전극선에 비해서 향상된 다공성 도금전극선이 제공을 제공할 수 있다.

Description

방전가공용 다공성 전극선의 제조방법 및 그 구조

본 발명은 방전가공용 다공성 전극선의 제조방법 및 그 구조에 관한 것으로, 더 상세히는 개선된 가공속도를 갖는 방전가공용 다공성전극선의 제조방법 및 그 구조에 관한 것이다.

도 1은 일반적인 방전가공방법을 개략적으로 설명한 것이다.

이 방전가공방법은, 피가공물(1)에 미리 뚫어놓은 개시구멍(starting hole : 7)에 전극선(2)을 삽입관통시키고, 이 전극선(2)을 삽입관통방향으로 주행시키면서, 전극선(2)과 개시구멍(7)의 내벽면과의 사이에 고주파전압을 인가함으로써, 그 사이에 아크를 발생시켜, 피가공물(1)을 용융하고 가공액 및 전극선, 피가공물 등의 순간적인 기화폭발력에 의해 용융물을 제거하는 것으로, 소정의 형상으로 가공하는 방법이다. 이러한 방전가공의 원리에 따라 방전가공기에는 전원공급장치, 전극선이송장치, 피가공물의 이송장치 그리고 가공액 순환장치가 설치되어 있다.

피가공물 이송장치는, 화살표에 나타난 바와 같이 전극선(2)에 대해서 직교하는 방향으로 이동되고, 전극선(2)는 공급릴 (3)으로부터 연속적으로 송출되어, 피가공물의 양단의 가이드 롤러(5,5')를 걸쳐 권취릴(4)에 감겨진다.

이때, 피가공물(1)과 전극선(2) 사이에 고주파 전압이 인가되어 절삭가공이 이루어지며, 가공시 발생하는 열을 제거하기 위해서 탈이온 순수가 가공부분에 가공액으로 공급된다. 방전가공의 효율, 특히 가공속도는 가공액의 공급유속, 가공 전류밀도, 그리고 방전파형 및 주파수등에 밀접한 관계가 있고, 이러한 인자들의 조절에 의해 개선이 가능하다고 알려져 있다.

종래부터 전극선으로서는 순동선이 사용되어 왔는데, 순동은 연신율이 우수하여 세선가공이 용이하고, 전기 전도성이 좋기 때문이다. 그러나 순동선은 인장강도가 낮으므로 방전가공시에 인장력을 그다지 크게 걸수 없기 때문에 전극선의 진동을 억제할 수 없고, 가공정도가 나쁘고, 또 쉽게 단선되고, 더욱, 가공속도가 늦는 등의 여러 결점이 있었다. 때문에 특수가공용으로는 몰리브덴선, 텅스텐선 등의 정밀가공용 고강도선이 사용되기도 하고, 또 일반 가공용으로는 65/35 황동선을 대표로 하는 황동전극선이 널리 사용되게 되었다.

황동 전극선은 순동에 비해서 약 2배 이상의 인장강도가 있고, 또 그 합금성분인 아연의 존재에 의해 방전안정성, 기화폭발력 등이 향상하고, 때문에 가공속도를 빠르게 할 수 있다는 장점을 가지고 있다.

그러나, 최근, 방전가공의 이용확대에 따라 한층 인장강도 및 가공속도 향상의 요망이 강하고, 황동에 Al, Si 등의 미량원소를 첨가하여 인장강도와 가공속도를 향상시킨 전극선 등이 개발되었다.

황동합금에서 아연의 함량이 높아질수록 가공속도는 증가할 것으로 기대되나 아연함량이 40%를 넘으면 취약한 β상이 형성되므로 세선으로서의 인발이 용이하지 않게 된다.

미합중국 특허 4,278,404호에는 동선, 황동선의 표면에 아연을 피복한 전극선을 개시하고 있다. 즉, 동, 황동 또는 철 등의 인장강도나 전기전도도가 비교적 높은 재료로 심선을, 이들보다도 기화온도가 낮은 아연, 카드뮴, 주석, 납, 안티몬 비스무스 및 그 합금 등의 재료를 심선의 도금층으로 전기도금된 전극선 및 그 제조방법이 나타나 있다. 이것에 의해, 전극선에 요구되는 기계적 강도와 통전은 심선이 담당하고, 기화온도가 낮은 재료의 도금에 의해서 냉각속도 및 세정력(flushability)을 향상시켜서 가공속도를 더욱 증가시킬 수 있다. 또한, 도금층은, 가공시 열에 의해서 쉽게 기화하므로 심선을 열충격으로부터 보호하는 역할을 하기도 한다. 이와 같이 아연 도금 전극선의 제조방법은 최종 인발된 세선에 전기도금방법에 의한 아연도금 등을 제공할수도 있고, 적당한 직경의 선재에 아연 등을 전기도금한 후 최종 세선을 위한 인발작업도 가능하다.

또 다른 가공속도의 개선방법은 미합중국 특허 4,977,303호에 개시되어 있다. 이 방법에 의하면 금속심선에, 열처리 후 심선과의 확산반응을 통해 혼합합금층을 형성할 수 있는 아연, 카드뮴 또는 그 합금의 도금하는 단계와, 도금된 심선을 적어도 700℃ 이상 산화분위기에서 열처리하여 심선금속과 도금금속간에 확산을 발생시켜서 혼합합금층, 예를 들면, 동-아연 합금층을 형성하는 단계와, 상기 열처리된 도금선의 가공경화가 수반되는 세선단계를 포함하고 있다. 이때 전극선의 구조는 심선과 심선을 감싸는 혼합합금층과 최외각 산화층으로 구성된다. 이때 산화층은 방전가공시의 전극선과 피가공물 사이의 단락을 개선하는 역할을 하므로, 가공속도와는 실질적으로 무관하고, 상기와 같은 구조를 갖는 도금된 전극선의 가공속도 개선은 상기와 같은 동-아연 합금층을 형성하는 열처리 단계에 있다고 하나 그 원인은 명확히 알려져있지 않다.

또, 미합중국 특허 4,686,153에는 아연합금이 도금된 동복강선을 개시하고 있다. 심선내의 강선에 의해 기계적 강도를 높여서 우수한 가공정밀도를 제공하며, 피복된 동을 사용하여 우수한 전기전도도를 제공할 수 있다. 이러한 동복강선에 아연이 전기도금, 또는 용융도금된후 열처리 단계를 통해서 동-아연의 합금층을 형성한 것이다. 특히 아연함량 40 - 50중량%일 때 단순히 아연도금된 동복강선보다 향상된 가공속도를 얻었다. 이러한 아연도금된 동복강선과 동이 피복된 심선과, 동아연 합금층으로 구성되고, 이때의 아연의 함량은 10 - 50중량%의 범위이나, 바람직하기로는 40 - 50중량%이다. 이와 같은 전극선의 제조방법은 동복강선의 심선을 제공하는 단계와, 아연을 상기 심선에 전기도금하는 단계와, 상기 아연도금된 심선을 세선으로 인발하는 단계와, 가열하여 아연도금층을 동-아연 합금층으로 전환시켜 아연농도가 10 - 50중량%의 범위이고 바람직하기로는 40 - 50중량%로, 심선로부터 원주방향으로 점진적으로 아연농도가 증가하도록 하는 열처리단계를 포함한다. 또 상기 세선단계에 앞서 열처리 단계가 수행될 수도 있고, 아연도금은 용융도금에 의해서 형성될 수도 있다.

상기와 같이, 종래기술에서는 아연과 같은 용융점과 기화온도가 심선금속 보다 낮은 재료로 심선에 도금하여 가공속도를 향상시키고, 더욱 아연층을 열처리하여 동을 포함하는 심선금속과 확산반응을 통해서 동-아연 합금층을 형성함으로써 더욱 개선된 가공속도를 얻을 수 있었다. 그러나 이들 특허에 개시된 기술들은 도금재료, 즉 심선보다 기화온도가 낮은 금속의 선택에 의해 가공속도를 향상시키는 것이기 때문에, 재료의 고유한 성질에 따라 가공속도의 향상이 제한되었다.

본 발명은, 전극선의 표면적을 크게 하여 가공액과의 접촉면적을 증가시켜 냉각속도를 더욱 빠르게 하여 가공속도를 개선한 방전가공용 전극선을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.

또, 본 발명은 가공액이 와이어의 외부 뿐만 아니라 내부에서도 접촉하여 냉각속도를 빠르게 하여 가공속도를 개선한 방전가공용 전극선을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.

또, 발명은 다공성 도금 와이어의 제조에 있어서, 부가적인 단계를 필요로 하지 않으면서도 전극선의 표면적을 크게하는 제조방법을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.

또, 본 발명은 가공정밀도를 저해하지 않고 가공시 세정력이 향상된 전극선을 제공하는데 있다.

[과제를 해결하기 위한 수단]

이러한 본 발명의 목적들은, 동을 포함하는 제1 금속으로 되어있는 제1 직경의 선재를 제공하는 단계와; 상기 선재를 상기 제1 금속보다 낮은 기화온도를 갖는 제2 금속이 용융되어 있는 도금조를 일정시간 통과시켜 상기 선재의 표면에 상기 제1 금속과 제2 금속의 확산반응에 의해, 상기 제1 금속 및 제2 금속 보다 경도가 높고 연신율이 낮은 합금층을 형성하고 그 위에 제2 금속으로 된 도금층을 형성하기위한 용융도금단계와; 상기 합금층과 도금층이 형성된 상기 선재를 제2직경으로 되도록 인발하여 상기 합금층의 높은 경도와 낮은 연신율에의해 상기 합금층 및 도금층에 크랙을 형성시키는 단계를 포함한다.

이때, 제1 금속은 순수한 동, 또는 63 - 67중량%의 동과 33-37중량%의 아연으로된 황동이 사용될 수 있다. 또, 제2 금속으로는 아연, 알루미늄 또는 주석이 사용될 수 있다.

특히 본 발명에서, 제1 금속으로 된 제1 직경의 선재에 제2 금속이 일정두께로 도금되도록 도금조에 일정시간 담겨져 있을 필요성이있는데, 이러한 일정시간은 도금조의 길이와 제1 직경의 선재를 권취하는 속도에 의해 정해진다. 따라서, 빨리 감는다면 도금조의 길이가 길어야 하고, 도금조의 길이가 짧다면 천천히 감아야 한다. 이러한 감는속도와 도금조의 길이는, 제1 직경의 선재에 두께 3 - 10㎛정도의 도금층을 형성할 수 있으면 된다.

이러한 전극선의 제조방법은 전극선의 기계적 성질을 안정화시키기 위해 제조된 전극선을 열처리하는 단계를 더 걸치게 할 수 있다.

또 필요에 따라 합금층위에 제2 금속층, 즉 도금층을 제거하는 단계를 걸칠 수 있다.

이러한 방법에 의해 제조된 방전가공용 전극선은, 심선과, 상기 심선위에 형성된 합금층을 포함하고; 상기 심선층은 동을 포함하는 제1금속으로 이루어지며; 상기 상기 심선 위에 형성되는 합금층은 용융도금과정에서 상기 제1 금속과 상기 제1 금속 보다 낮은 기화온도를 갖는 제2 금속의 확산반응에 의해 형성되어 상기 층들 중 가장 높은 경도를 가지며; 상기 합금층은 전극선의 길이방향에 대해 직교하는 크랙을 포함하고 있다.

이러한 구조는 제1 직경의 선재가 제1 금속 보다 낮은 기화온도를 갖는 제2 금속이 용융되어 있는 도금조를 일정시간 통과하면서 선재의 외곽에 상기 제1 금속과 제2 금속의 확산반응에 의해 상기 제1 금속 및 제2 금속 보다 경도가 높고 연신율이 낮은 합금층이 되고 그 위에 제2 금속으로 된 도금층이 형성된 선재를 제2 직경으로 되도록 인발하여 형성되므로, 이때 최종제품에서는 합금층 및 도금층으로 둘러싸인 제1 금속부분이 심선으로 된다.

이러한 구조에서 상기 합금층 및 상기 도금층의 크랙을 포함하는 다공은 상기 심선이 인발되면서 형성된 것이다.

방전가공용 전극선로서, 도금층이 제거된 방전가공용 전극선은 심선, 상기 심선위에 형성된 합금층을 포함하고; 상기 심선층은 동을 포함하는 제1 금속으로 이루어지며; 상기 상기 심선 위에 형성되는 합금층은 용융도금과정에서 상기 제1 금속과 상기 제1 금속 보다 낮은 기화온도를 갖는 제2 금속의 확산반응에 의해 형성되어 상기 층들 중가장 높은 경도를 가지며; 상기 합금층은 전극선의 길이방향에 대해 직각을 이루는 크랙을 포함하는 다공성으로 된 구조를 갖는다.

도1은 일반적인 방전가공기의 구성 및 그 원리를 나타내는 개략적인 도면이다.

도2는 방전가공용 다공성 전극선의 제조방법을 나타내는 도면이다.

도3a는 황동으로 된 중간선재에 아연층이 도금된 단면사진이다.

도3b는 도 3a의 사진을 일부분을 확대한 사진이다.

도4a는 본 발명에 의한 다공성 전극와이어의 표면사진이다.

도4b는 본 발명에 의한 다공성 전극선의 단면사진이다.

이러한 본 발명을 실시예를 들어 상세히 설명한다.

도 2는 방전가공용 다공성 전극선의 제조방법을 나타내는 도면이다.

이 도면을 참조하면, 0.9㎜의 직경으로 된 아연 35중량%, 동 65중량%로 된 황동의 중간선재(12)가 제공된다. 이 황동선재(12)를 황동 보다 낮은 기화온도를 갖는 아연이 용융되어 있는 도금조(10)를 일정시간 통과시켜 황동선재(12)의 외곽에 아연으로 된 도금층을 용융도금하는데, 이때, 황동선재(12)는 그 계면에서 도금조(10)에 용융되어 있는 아연과 황동의 확산반응에 의해 황동 및 아연 보다 경도가 높고 연신율이 낮은 합금층이 형성되고, 그 위에 아연 도금층이 형성된다. 이렇게 형성된 합금층은 가장 높은 경도를 갖는다.

도3a는 황동으로 된 중간선재에 아연층이 도금된 단면사진이고,

도3b는 도 3a의 일부분을 확대한 사진인데, 도 3b를 참조하면, 황동선재(12)에 합금층과 아연 도금층이 차례로 형성되어 있는 것을 볼 수 있다.

합금층 및 아연도금층이 형성된 중간선재(12)는 인발장치(14)를 걸쳐 적절한 직경, 예를 들면 0.05 내지 0.35㎜으로 인발된다. 이때, 중간선재(12)와 아연 도금층 사이의 합금층은 가장 강한 경도를 가지고있어, 다른 층과 경도 및 연신율이 다름으로써 이 합금층이 인발되면서 아연도금층에는 인발되는 방향에 대해 대략 직교을 이루는 크랙이 발생하고 스폰지 모양의 다공성 구조로 된다.

이러한 세선은 열처리단계를 걸쳐 기계적 성질을 더욱 안정화시킬 수 있다.

도4a는 이와 같이 하여 인발된 다공성 전극선의 표면을 나타내는 사진이고, 도4b는 본 발명에 의한 다공성 전극선의 단면사진이다

도4a를 참조하면, 전극선의 표면에는 전극선의 길이방향에 대해 대략 직각방향으로 크랙이 발생되어 있음을 알 수 있다. 이러한 크랙은 합금층이 인발되면서 발생하고, 도4b에서 보이는 것과 같이 이 크랙에 의해 합금층 및 아연도금층은 스펀지형상의 다공층되어 있는 것을 볼 수 있다.

이러한 구조의 다공성 전극선은 황동으로 만들어지는 심선(21)와이를 둘러싸고 있는 아연도금층(23)을 포함한다. 여기에 사용되는 심선(21)의 재료는 동 또는 황동 등 동을 포함하는 금속이면 충분하고, 이 심선(21)를 통해서 전극선로써 요구되는 전기 전도도 및 기계적 강도가 충족되며 아연도금층(23)은 심선(21)에 사용되는 재료보다 아연과 같이 용융점 및 기화온도가 낮은 재료를 사용하여 방전가공시 심선을 보호하고 가공속도를 향상시킨다. 이와 동시에 상기 도금층(23)은 다공성 구조를 가지므로 종래의 전극선 보다 월등한 냉각속도를 얻을 수있다. 이것은 다공성 구조로 인한 전극선의 표면적이 상당히 증가하여 방전가공시 가공액과의 접촉면적이 증가하기 때문이다. 동일한 재료에 있어서 이와 같은 냉각능력의 향상은 방전가공시 전극선의 온도를 종래의 전극선보다 동일한 조건에서 더욱 낮게 유지할 수 있기 때문에 1)상대적 전기전도도를 향상시키므로 가공속도를 더욱 향상시킬 수 있고, 또한 2) 심선(21)의 기계적 강도를 고온에 비해서 상대적으로 향상시킬수 있다. 따라서, 본 발명에 의한 냉각능력이 향상된 다공성 도금 전극선은 종래의 도금전극선 보다 적어도 15% 이상의 가공속도의 향상 및 가공 정밀도의 향상을 가져온다. 도금에 사용되는 재료에 요구되는 성질은 용융점 및 기화온도가 심선 보다 낮고, 동 또는 황동의 심선금속에 용융도금될 수 있으며, 용융도금시 동과 확산반응을 통해서 비교적 경도가 높은 합금층을 형성할 수 있는 금속이어야 한다. 이러한 금속으로는 아연, 알루미늄, 주석 등이 포함된다. 따라서 이와 같은 도금전극선는 세선으로 인발가공될 때 심선와 도금층 사이의 연신율 차이로 인하여 도금층에 다공성 구조를 형성할 수 있다.

도 3a와 같이 이 전극선의 표면에는 비교적 균일한 분포의 크랙이 형성되어 있다. 이러한 크랙은 대체로 전극선의 길이방향에 수직한방향으로 형성되어 있으며, 크랙은 또한 부분적으로는 입간으로 형성되는 것도 있지만, 대개는 입계크랙인 것은 알 수 있다. 한편 전극선의 표면은 날카로운 돌출부를 보이지 않으며, 대개 균일한 전극선의 외주면을 갖고 있다. 따라서 방전가공시 전극선에서 부스러기 등이 발생할 가능성이 적고 오히려 이러한 크랙을 갖는 다공성 구조로 인하여 가공시 피가공물에서 발생한 부스러기 등이 크랙을 통해서 제거될 수 있으므로 세정력이 종래의 도금전극선에 비해서 더욱 증가할 것으로 기대된다.

[실시예]

63 - 67 중량%의 동과 33 - 37 중량%의 아연 성분비를 갖는 직경 0.9㎜의 황동 전극선을, 중간선재로 준비한다. 이 중간선재에 용융도금을 실시한다. 용융도금의 재료는 아연, 알루미늄, 주석 및 이들의 합금이 사용될 수 있으며, 특히 아연 용융도금이 바람직하다. 통상적인 용융도금의 공정으로 도금될 중간선재는 산세 및 알칼리 탈지 욕조를 통과하여 전처리된 후 염화암모늄 플럭스 욕조를 통과한다. 이러한 플럭스 처리된 중간선재는 아연 용융욕을 통과하여 용융아연이 도금되는데, 이 욕의 온도는 400-500℃로 유지되며 중간선재는 1 - 10 초 동안 도금되어 소정의 아연층 및 동-아연의 합금층이 형성된다. 이때 중간선재와 아연이 접촉하는 경계면에서는 확산반응에 의하여 동-아연 합금층이 생기며, 그 위에는 아연층이 생기는 형태로 된다. 이때 형성되는 동-아연 합금층은 선재 중에서 가장 경도가 높은 부분이며 심선 보다 연신율이 낮다.

이때, 황동선재의 표면에는 3 - 8㎛의 동-아연 합금층이 형성되며 최외각에 1 - 2㎛의 아연층이 형성된다. 이들 아연 및 동-아연 합금층은 조밀한 아연도금층이다. 이 합금층의 형성으로 용융 아연 도금층은 중간선재와 우수한 밀착성을 제공하는 한편, 이들 합금층은 비교적경도가 높은 성질을 갖게 된다.

상기와 같은 용융 아연도금된 중간선재는 공기중에 냉각된 후 인발을 통해서 0.05 - 0.3㎜ 등의 요구되는 직경을 갖는 세선이 만들어진다. 인발단계에서 일부분의 최외각 아연층이 제거될 수도 있다. 이때 인발된 세선의 도금층은 심선 보다 연신율이 낮고 경도가 높으므로 인발을 통한 세선이 공중에 도금층에 균일하게 크랙을 발생시켜서 다공성 구조를 형성하게 된다. 이러한 크랙은 주로 입계로 전파되며 또한 이들 크랙의 방향은 인발가공이 전극선의 길이 방향으로 일어나므로 전극선 길이방향에 대개 수직한 방향으로 형성된다. 그후 세선 가공된 와이어는 300 - 600℃의 온도 분위기에서 약 1 - 2초간 열처리되어 심선의 기계적 성질을 안정화시켜서 다공성의 도금 전극선이 완성된다.

이와 같은 전극선은 통상의 아연도금된 전극선에 비해서 적어도 15% 이상의 가공속도의 향상이 이루어지는 것이 확인되고 있으며, 이러한 가공속도의 개선은 전극선 표면의 다공성 구조로 인하여 표면적이 증가되어 가공액에 의한 냉각속도가 빨라지기 때문이다. 한편 상기 다공성 전극선의 표면은 전체적으로 균일한 원주표면을 유지하면서 표면형태가 돌출부를 포함하지 않으므로 가공의 정밀도에 불리한 영향을 미치지 않고 오히려 다공성으로 인하여 가공시 발생하는 부스러기들이 쉽게 제거될 수 있으므로 세정력이 우수하므로 가공 정밀도의 향상이 기대된다. 따라서 본 발명에 의한 전극선의 제조방법에 따르면, 종래의 방법에 비교해서 추가공정의 필요없이 가공속도와 세정력이 종래의 아연도금 전극선에 비해서 향상된 다공성 도금전극선이 제공된다.

Claims (23)

1. 방전가공기에 사용되는 전극선의 제조방법에 있어서,

   동을 포함하는 제1 금속으로 되어 있으며 제1 직경으로 된 선재를 제공하는 단계와;

   상기 선재를 상기 제1 금속 보다 낮은 기화온도를 갖는 제2 금속이 용융되어 있는 도금조를 일정시간 통과시켜 상기 선재의 외곽에 상기 제1 금속과 제2 금속의 확산반응에 의해 상기 제1 금속 및 제2 금속 보다 경도가 높고 연신율이 낮은 합금층을 형성하고 그 위에 제2 금속으로 된 도금층을 형성시키기 위한 용융도금단계와;

   상기 합금층과 도금층이 형성된 상기 선재를 제2 직경으로 되도록 인발하여 상기 합금층의 높은 경도와 낮은 연신율에 의해 상기 합금층및 도금층에 크랙을 형성시키는 단계를 포함하는 전극선의 제조방법.
2. 제1항에 있어서, 상기 전극선의 제조방법은; 상기 세선의 기계적 성질을 안정화시키기 위한 열처리단계를 더 포함하는 전극선의 제조방법.
3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 제1 금속은 황동인 전극선의 제조방법.
4. 제3항에 있어서, 상기 제2 금속은 아연, 알루미늄 또는 주석인 전극선의 제조방법.
5. 제4항에 있어서, 상기 일정시간은 상기 선재에 3 - 10㎛의 두께의 도금층을 형성하기에 충분한 시간인 전극선의 제조방법.
6. 제1항에 있어서, 상기 제2 금속은 아연, 알루미늄 또는 주석인 전극선의 제조방법.
7. 제6항에 있어서, 상기 일정시간은 상기 선재에 3 - 10㎛의 두께의 도금층을 형성하기에 충분한 시간인 전극선의 제조방법.
8. 제1항에 있어서, 상기 일정시간은 상기 선재에 3 - 10㎛의 두께의 도금층을 형성하기에 충분한 시간인 전극선의 제조방법.
9. 제1항에 있어서, 상기 전극선의 제조방법은 합금층 위에 형성된 제2 금속층을 제거하는 단계를 더 포함하는 전극선의 제조방법.
10. 제9항에 있어서, 상기 제1 금속은 황동인 전극선의 제조방법.
11. 제9항 또는 제10항에 있어서, 상기 제2 금속은 아연, 알루미늄 또는 주석인 전극선의 제조방법.
12. 제11항에 있어서, 상기 일정시간은 상기 선재에 3 - 10μm의 두께의 도금층을 형성하기에 충분한 시간인 전극선의 제조방법.
13. 제9항 또는 제10항에 있어서, 상기 일정시간은 상기 선재에 3 - 10㎛의 두께의 도금층을 형성하기에 충분한 시간인 전극선의 제조방법.
14. 방전가공용 전극선로, 상기 전극선은, 심선, 상기 심선위에 형성된 합금층, 그리고 상기 합금층 위에 형성되며 상기 심선 보다 낮은 기화온도를 갖는 제2 금속으로 된 도금층을 포함하고;

    상기 도금층은 동을 포함하는 제1 금속으로 이루어지며;

    상기 심선 위에 형성되는 합금층은 용융도금과정에서 상기 제1 금속과 제2 금속의 확산반응에 의해 형성되어 상기 층들 중 가장 높은 경도를 가지며;

    상기 합금층 및 상기 도금층은 전극선의 길이방향에 대해 대략 직각을 이루는 크랙을 포함하는 다공성으로 된 전극선.
15. 제14항에 있어서, 상기 합금층 및 상기 도금층의 크랙은 상기 심선이 전극선의 길이방향으로 인발되면서 형성된 것인 전극선.
16. 제14항 또는 제15항에 있어서, 상기 제1 금속은 황동인 전극선.
17. 제16항에 있어서, 상기 제2 금속은 아연, 알루미늄 또는 주석인 전극선.
18. 제15항에 있어서, 상기 제2 금속은 아연, 알루미늄 또는 주석인 전극선.
19. 방전가공용 전극선로, 상기 전극선은, 심선, 상기 심선위에 형성된 합금층을 포함하고;

    상기 심선층은 동을 포함하는 제1 금속으로 이루어지며;

    상기 상기 심선 위에 형성되는 합금층은 용융도금과정에서 상기 제1금속과 상기 제1 금속 보다 낮은 기화온도를 갖는 제2 금속의 확산반응에 의해 형성되어 상기 층들 중 가장 높은 경도를 가지며;

    상기 합금층은 전극선의 길이방향에 대해 직각을 이루는 크랙을 포함하는 다공성으로 된 전극선.
20. 제19항에 있어서, 상기 합금층의 크랙은 상기 심선이 전극선의 길이방향으로 인발되면서 형성된 것인 전극선.
21. 제19항 또는 제20항에 있어서, 상기 제1 금속은 황동인 전극선.
22. 제21항에 있어서, 상기 제2 금속은 아연, 알루미늄 또는 주석인 전극선.
23. 제20항에 있어서, 상기 제2 금속은 아연, 알루미늄 또는 주석인 전극선.