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KR102917179B1 - A Composition for improving acne comprising colloidal sulfur complex and a manufacturing method thereof - Google Patents

A Composition for improving acne comprising colloidal sulfur complex and a manufacturing method thereof

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KR102917179B1
KR102917179B1 KR1020230115726A KR20230115726A KR102917179B1 KR 102917179 B1 KR102917179 B1 KR 102917179B1 KR 1020230115726 A KR1020230115726 A KR 1020230115726A KR 20230115726 A KR20230115726 A KR 20230115726A KR 102917179 B1 KR102917179 B1 KR 102917179B1
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colloidal sulfur
composition
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Abstract

본 발명은 콜로이달 설퍼 복합물을 유효성분으로 포함하는 여드름 개선용 조성물 및 이의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명의 본 발명의 설퍼(sulfur), 헤스페리딘(hesperidin), 및 숙신산(succinic acid)을 유효성분으로 포함하는 조성물을 이용하는 경우, 과도하게 생성된 피지를 억제하고, 과도한 피지 생성을 조절할 수 있다. 또한, 본 발명의 설퍼, 헤스페리딘, 및 숙신산을 유효성분으로 포함하는 조성물은 여드름 발생균인 C. acnes에 대한 항균 효과가 매우 우수한 바, 이를 포함하는 여드름 개선 기능성화장품 및 여드름 치료제로서 유용하게 사용할 수 있다. The present invention relates to an acne-improving composition comprising a colloidal sulfur complex as an active ingredient and a method for preparing the same. When the composition comprising sulfur, hesperidin, and succinic acid as active ingredients of the present invention is used, excessive sebum production can be suppressed and excessive sebum production can be controlled. In addition, the composition comprising sulfur, hesperidin, and succinic acid as active ingredients of the present invention has an excellent antibacterial effect against C. acnes, an acne-causing bacteria, and thus can be usefully used as an acne-improving functional cosmetic and an acne treatment product containing the same.

Description

콜로이달 설퍼 복합물을 유효성분으로 포함하는 여드름 개선용 조성물 및 그의 제조방법 {A Composition for improving acne comprising colloidal sulfur complex and a manufacturing method thereof}{A composition for improving acne comprising colloidal sulfur complex and a manufacturing method thereof}

본 발명은 콜로이달 설퍼(colloidal sulfur) 복합물을 유효성분으로 포함하는 여드름 개선용 조성물 및 그의 제조방법에 관한 것이다. 구체적으로, 설퍼(sulfur), 헤스페리딘(hesperidin), 및 숙신산(succinic acid)을 유효성분으로 포함하는 여드름 개선용 조성물 및 그의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to an acne improvement composition comprising a colloidal sulfur complex as an active ingredient and a method for preparing the same. Specifically, the present invention relates to an acne improvement composition comprising sulfur, hesperidin, and succinic acid as active ingredients and a method for preparing the same.

피지세포(sebocyte)는 피지선을 구성하는 세포로서, 완전분비(holocrine)를 통해 피지(sebum)를 분비한다. 피지는 주로 세포 파괴물(cell debris) 및 트리글리세라이드(triglycerides), 왁스(wax), 에스테르(esters), 스쿠알렌(squalene), 콜레스테롤(cholesterol) 및 유리지방산(free fatty acids)과 같은 중성지질(neutral lipid)로 구성되어 있다. 피지는 피지세포로 이루어진 피지 주머니에서 분비되고, 피지가 정상 수준보다 과도하게 분비되면 병목현상이 일어나 면포(comedone)를 형성하며, 피지가 가득 찬 상태로 산화가 일어나면 블랙헤드가 생성된다. 자외선 및 열과 같은 외부자극에 의해 과도하게 생성된 피지는 여드름균의 먹이가 되며, 여드름균의 증식으로 인해 염증성 여드름(또는 화농성 여드름)과 같은 피부 트러블이 야기될 수 있다.Sebocytes are cells that make up the sebaceous glands and secrete sebum through a holocrine process. Sebum is mainly composed of cell debris and neutral lipids such as triglycerides, wax, esters, squalene, cholesterol, and free fatty acids. Sebum is secreted from sebaceous sacs made of sebocytes. When sebum is secreted excessively, a bottleneck occurs, forming a comedone. When sebum is filled and oxidized, a blackhead is formed. Excessive sebum produced by external stimuli such as UV rays and heat becomes food for acne bacteria, and the proliferation of acne bacteria can cause skin problems such as inflammatory acne (or pustular acne).

피지의 과잉 분비에 대한 유도물질(inducer)로 알려진 남성호르몬 안드로겐(androgen)은 피지선 증식을 증가시키는 직접적인 요인 중 하나이다. 안드로겐은 안드로겐 수용체(androgen receptor, AR)에 결합함으로써 네트워크 프로세스(network process)가 일어나게 되며, 안드로겐 매개 신호전달(androgen mediated signaling)은 피지세포 분화 및 피지 분비 지질 생성(sebaceous lipogenesis)의 극대화에 기여한다고 알려져 있다. 임상적으로 증명된 바에 따르면, 안드로겐 매개 신호전달을 조절하는 것은 여성 여드름 환자에게 피지 과분비(sebum hyper-secretion) 조절뿐만 아니라 여드름 치료에 매우 중요한 역할을 한다고 발표된 바 있다.Androgen, a male hormone known as an inducer of sebum hypersecretion, is one of the direct factors that increases sebaceous gland proliferation. Androgen binds to the androgen receptor (AR), triggering a network process. Androgen-mediated signaling is known to contribute to maximizing sebocyte differentiation and sebaceous lipogenesis. Clinical studies have demonstrated that modulating androgen-mediated signaling plays a crucial role not only in controlling sebum hypersecretion in female acne patients but also in the treatment of acne.

아세틸조효소 A 카르복실라아제(acetyl-coenzyme A carboxylase, ACC)는 지질 대사(lipid metabolism)를 조절하는데 매우 중요한 역할을 하는 인자 중 하나이다. 궁극적으로, 지방산은 피지 구성 성분 중 가장 많이 차지하는 성분이기 때문에, ACC는 피지 생성의 주요 조절자(regulator)로써 작용한다. ACC는 스테롤 조절요소 결합단백질(sterol regulatory element-binding protein, SREBP)에 의해 조절되는데, 한 연구에 따르면, 암컷 햄스터에 안드로겐을 처리하였을 때, SREBP-1이 활성화되고 피지세포의 크기가 증가하며, 지질 합성이 증가하는 것으로 보고되었다. 또한, 지방산을 합성하는 데 관여하는 ACC와 같은 유전자의 발현이 뚜렷하게 증가하는 것으로 나타났다.Acetyl-coenzyme A carboxylase (ACC) is a crucial factor in regulating lipid metabolism. Ultimately, since fatty acids comprise the largest component of sebum, ACC acts as a key regulator of sebum production. ACC is regulated by sterol regulatory element-binding protein (SREBP). One study reported that androgen treatment of female hamsters activated SREBP-1, increased sebum cell size, and increased lipid synthesis. Furthermore, the expression of genes involved in fatty acid synthesis, such as ACC, was significantly increased.

지방산 합성 효소(fatty acid synthase, FAS)는 지방산 합성에 필수적인 효소로 안드로겐에 의해 유도되어 지질합성 경로를 촉진시킨다. 피지의 구성성분 중 중성지방인 트리글리세라이드(글리세롤 1+지방산 3)는 약 50%를 차지하며, 중성지방에 포함되지 않은 지방산은 약 30%를 차지하여 피지의 대부분을 구성한다. 지방산은 박테리아의 트리글리세라이드 분해로 과잉 생산되어 염증성 여드름을 유발하게 된다. Fatty acid synthase (FAS) is an enzyme essential for fatty acid synthesis and is induced by androgens to promote the lipid synthesis pathway. Among the components of sebum, triglycerides (1 glycerol + 3 fatty acids) account for approximately 50%, while fatty acids not included in triglycerides account for approximately 30%, making up the majority of sebum. Fatty acids are overproduced by bacterial breakdown of triglycerides, leading to inflammatory acne.

지질 대사(lipid metabolism)를 조절하는 주요 인자인 ACC는 지방산 사슬 신장(chain elongation)에서 FAS 형성을 촉매하며, 지방산 산화를 증가시킨다. 지방산을 포함하는 피지는 산화되면 초기 여드름 형성과 면포를 유도하는 트리거 역할을 하게 되고, 이후 박테리아에 의해 염증성 여드름이 유발된다. 여드름의 주요 발병 원인은 피지의 과잉 생산과 불균형이기 때문에 이러한 지질 생성 (lipid production)을 조절하는 것이 여드름 환자에게 굉장히 중요한 치료 방법 중 하나이다. 즉, ACC 또는 FAS와 같이 피지 생합성과 관련된 경로의 유전자 발현을 저해시킴으로써 피지 생성 조절 효능을 확인할 수 있다.ACC, a key factor regulating lipid metabolism, catalyzes the formation of FAS through fatty acid chain elongation and increases fatty acid oxidation. When sebum, which contains fatty acids, is oxidized, it triggers the initial formation of acne and the formation of comedones, which are then induced by bacteria to cause inflammatory acne. Because the primary cause of acne is sebum overproduction and imbalance, regulating lipid production is a crucial treatment option for acne patients. Specifically, inhibiting gene expression in pathways related to sebum biosynthesis, such as ACC or FAS, can be effective in regulating sebum production.

연구에 따르면, 여드름이 발생함에 따라 전염증성 사이토카인(pro-inflammatory cytokine) IL-1α의 발현은 높은 수준으로 증가된 것으로 보고되었다. 특히, 그람양성균(e.g. Cutibacterium acnes)을 감싸고 있는 성분 중 대표적으로 PAMs(pathogen-associated molecular patterns) 및 LPS(lipopolysaccharide)는 TLR(toll like receptor)인 TLR-2, TLR-4, 및 TLR-9를 활성화시키고, NF-κB-dependent mechanism을 통해 IL-1α와 같은 사이토카인을 분비한다. 이중 특히 TLR-2는 그람양성균 C. acnes에 대한 수용체로 활동하며 염증성 여드름 형성에 기여하는 인자로 작용한다. C. acnes에 의해 TLR-2가 활성화되면, 다양한 염증성 유전자가 발현되고 면역세포에 침투를 야기시켜 염증성 여드름 발생에 결정적으로 작용하게 된다.Studies have shown that the expression of the pro-inflammatory cytokine IL-1α is highly increased as acne develops. In particular, representative components of the gram-positive bacteria (e.g., Cutibacterium acnes ), such as pathogen-associated molecular patterns (PAMs) and lipopolysaccharide (LPS), activate toll-like receptors (TLRs) TLR-2, TLR-4, and TLR-9, and secrete cytokines such as IL-1α through an NF-κB-dependent mechanism. Among these, TLR-2 in particular acts as a receptor for the gram-positive bacteria C. acnes and acts as a factor contributing to the formation of inflammatory acne. When TLR-2 is activated by C. acnes , various inflammatory genes are expressed and induce the infiltration of immune cells, which plays a critical role in the development of inflammatory acne.

본 발명자들은 여드름 개선 효능, 피지 분비 조절 효능 및 모공수렴 효능을 가지는 소재를 연구한 결과, 안정화시킨 콜로이달 설퍼 복합물이 과도하게 생성된 피지를 억제하고 과도한 피지 생성을 조절한다는 것을 확인하였다. 또한, 콜로이달 설퍼 복합물이 염증성 여드름에 기여하는 TLR-2의 발현을 저해시키고 여드름 발생균인 C. acnes의 성장을 억제함을 확인하여, 안정화시킨 콜로이달 설퍼 복합물이 여드름 개선용 화장료 조성물로 사용될 수 있음을 규명함으로써, 본 발명을 완성하였다.The present inventors studied a material having acne improvement efficacy, sebum secretion control efficacy, and pore tightening efficacy, and confirmed that a stabilized colloidal sulfur complex suppresses excessive sebum production and regulates excessive sebum production. In addition, the inventors confirmed that the colloidal sulfur complex inhibits the expression of TLR-2, which contributes to inflammatory acne, and inhibits the growth of C. acnes , an acne-causing bacteria, thereby elucidating that the stabilized colloidal sulfur complex can be used as a cosmetic composition for acne improvement, thereby completing the present invention.

대한민국 공개특허 제10-2021-0034797호 (2021.03.31 공개)Republic of Korea Patent Publication No. 10-2021-0034797 (published on March 31, 2021)

본 발명자들은 여드름 개선 효능 및 피지 분비 조절 효능을 가지는 소재를 개발하고자 예의 연구 노력하였다. 그 결과, 설퍼, 헤스페리딘, 및 숙신산을 포함하는 조성물이 과도하게 생성된 피지를 조절하고, 여드름 발생균인 C. acnes에 대한 성장을 억제시켜 여드름을 효과적으로 개선, 예방 또는 치료할 수 있음을 규명함으로써, 본 발명을 완성하게 되었다. The inventors of the present invention have diligently researched and developed a material with acne-improving and sebum-regulating properties. As a result, they discovered that a composition containing sulfur, hesperidin, and succinic acid can effectively improve, prevent, or treat acne by controlling excessive sebum production and inhibiting the growth of the acne-causing bacteria , C. acnes. This discovery led to the completion of the present invention.

따라서, 본 발명의 목적은 설퍼(sulfur), 헤스페리딘(hesperidin), 및 숙신산(succinic acid)을 유효성분으로 포함하는 피지 분비 조절용 또는 여드름 개선용 화장료 조성물을 제공하는 것이다.Accordingly, the purpose of the present invention is to provide a cosmetic composition for controlling sebum secretion or improving acne, which contains sulfur, hesperidin, and succinic acid as active ingredients.

본 발명의 다른 목적은 설퍼, 헤스페리딘, 및 숙신산을 유효성분으로 포함하는 여드름 예방 또는 치료용 약제학적 조성물을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a pharmaceutical composition for preventing or treating acne, comprising sulfur, hesperidin, and succinic acid as active ingredients.

본 발명의 또 다른 목적은 설퍼, 헤스페리딘, 및 숙신산을 유효성분으로 포함하는 큐티박테리움 아크네스(Cutibacterium acnes)에 대한 항균용 조성물을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide an antibacterial composition against Cutibacterium acnes comprising sulfur, hesperidin, and succinic acid as active ingredients.

본 발명의 또 다른 목적은 설퍼, 헤스페리딘, 및 숙신산을 포함하는 조성물의 제조방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a method for preparing a composition comprising sulfur, hesperidin, and succinic acid.

상술한 문제를 해결하기 위하여, 본 발명자들은 여드름 개선 효능 및 피지 분비 조절 효능을 가지는 소재를 개발하고자 예의 연구 노력하였다. 그 결과, 설퍼, 헤스페리딘, 및 숙신산을 포함하는 조성물이 과도하게 생성된 피지를 조절하고, 여드름 발생균인 C. acnes에 대한 성장을 억제시켜 여드름을 효과적으로 개선, 예방 또는 치료할 수 있음을 규명함으로써, 본 발명을 완성하게 되었다. To address the above-described problems, the inventors of the present invention have conducted extensive research to develop a material with acne-improving and sebum-regulating effects. As a result, they have discovered that a composition comprising sulfur, hesperidin, and succinic acid can effectively improve, prevent, or treat acne by controlling excessive sebum production and inhibiting the growth of the acne-causing bacteria , C. acnes , thereby completing the present invention.

본 발명의 일 양태에 따르면, 본 발명은 설퍼(sulfur), 헤스페리딘(hesperidin), 및 숙신산(succinic acid)을 유효성분으로 포함하는 피지 분비 조절용 또는 여드름 개선용 화장료 조성물을 제공한다.According to one aspect of the present invention, the present invention provides a cosmetic composition for controlling sebum secretion or improving acne, comprising sulfur, hesperidin, and succinic acid as active ingredients.

본 발명에 있어서, "설퍼(sulfur)"는 미세하게 분쇄된 옅은 노란색의 분말로, 통증완화작용, 염증제거작용, 해독작용 및 멸균작용을 갖는다. 설퍼는 열독성이 있으므로, 법제하여 사용하여야 하며, 법제방법에 따라 수용성 설퍼와 지용성 설퍼로 구분된다. In the present invention, "sulfur" is a finely ground, pale yellow powder with pain-relieving, anti-inflammatory, detoxifying, and sterilizing effects. Sulfur is heat-toxic and must be processed before use. Depending on the processing method, it is classified into water-soluble and fat-soluble sulfur.

본 발명의 일 구현예에 있어서, 본 발명의 설퍼(sulfur)는 조성물 내 콜로이드 상태로 분산된 것이다. 기존 설퍼 대비 입자가 작고, 물에 더 잘 녹는 특성을 갖는다.In one embodiment of the present invention, the sulfur of the present invention is dispersed in a colloidal state within the composition. Compared to existing sulfur, the particles are smaller and have better solubility in water.

본 발명의 설퍼는 콜로이드 형태뿐만 아니라 비용매화된 형태로 존재할 수도 있다. 또한, 본 발명의 설퍼는 결정형 또는 무정형 형태로 존재할 수 있으며, 이러한 모든 물리적 형태는 본 발명의 범위에 포함된다.The sulfur of the present invention may exist in a non-solvated form as well as a colloidal form. Furthermore, the sulfur of the present invention may exist in a crystalline or amorphous form, and all such physical forms are included within the scope of the present invention.

본 발명에 있어서, "헤스페리딘(hesperidin)"은 하기 화학식 1로 표기되는 화합물로, 플라보노이드계 색소 중 플라바논(flavanone) 배당체이다. 연한 노란색의 결정 또는 결정성 분말로, 노화지연, 항산화 효능을 갖는다:In the present invention, "hesperidin" is a compound represented by the following chemical formula 1 and is a flavanone glycoside among flavonoid pigments. It is a light yellow crystal or crystalline powder and has anti-aging and antioxidant properties:

[화학식 1][Chemical Formula 1]

. .

본 발명에 있어서, "숙신산(succinic acid)"은 하기 화학식 2로 표기되는 화합물로, 무색 무취의 주상 또는 판상의 결정성 고체이다:In the present invention, “succinic acid” is a compound represented by the following chemical formula 2, which is a colorless, odorless, columnar or plate-shaped crystalline solid:

[화학식 2][Chemical Formula 2]

. .

본 발명에서 이용되는 설퍼, 헤스페리딘, 및 숙신산은 획득 방법에 특별히 한정되지 않으며, 당업계에 공지된 방법으로 화학적으로 합성하거나, 시판되는 물질을 사용할 수 있다.The sulfur, hesperidin, and succinic acid used in the present invention are not particularly limited in their acquisition method, and may be chemically synthesized by a method known in the art, or commercially available materials may be used.

본 발명에서 용어 "유효성분으로 포함하는"이란, 상기 설퍼, 헤스페리딘, 및 숙신산의 효능 또는 활성을 달성하는데 충분한 양을 포함하는 것을 의미한다.In the present invention, the term “comprising as an active ingredient” means including an amount sufficient to achieve the efficacy or activity of the sulfur, hesperidin, and succinic acid.

본 발명에서 용어 "여드름"이란, 안면, 상흉부, 배부 및 상지에 폐쇄성 또는 개방성 면포, 구진, 농포, 낭종, 결절 등 다양한 피부병변을 나타내는 모낭피지선의 염증성 피부질환을 의미한다. 여드름의 주요 원인으로는 피지의 과다분비, 비정상적인 모낭각화, 큐티박테리움 아크네스(Cutibacterium acnes)의 증식 및 염증 등에 의해 발생하며, 그 외 호르몬이나 면역학적 요소가 관여할 수 있다. 상기 요인들은 복합적으로 작용하여 여드름 병변을 일으키게 된다.The term "acne" in the present invention refers to an inflammatory skin disease of the sebaceous glands that presents with various skin lesions such as closed or open comedones, papules, pustules, cysts, and nodules on the face, upper chest, back, and upper limbs. The main causes of acne include excessive sebum secretion, abnormal follicular keratinization, proliferation and inflammation of Cutibacterium acnes , and other hormonal or immunological factors may be involved. The above factors act in a complex manner to cause acne lesions.

본 발명에서 용어 "개선"이란 본 발명에 따른 설퍼, 헤스페리딘, 및 숙신산을 유효성분으로 포함하는 조성물의 투여로 여드름 증상의 정도를 적어도 감소시키는 모든 행위를 의미한다.In the present invention, the term "improvement" means any action that at least reduces the degree of acne symptoms by administering a composition comprising sulfur, hesperidin, and succinic acid as active ingredients according to the present invention.

본 발명에서 용어 "피지 분비 조절"이란 본 발명에 따른 설퍼, 헤스페리딘, 및 숙신산을 유효성분으로 포함하는 조성물의 투여로 과도하게 생성된 피지 또는 피지 생성 정도를 적어도 감소시키는 모든 행위를 의미한다.In the present invention, the term "sebum secretion control" means any action that at least reduces excessive sebum or the degree of sebum production by administering a composition comprising sulfur, hesperidin, and succinic acid as active ingredients according to the present invention.

본 발명에서 용어 "콜로이달 설퍼 복합물(colloidal sulfur complex)"이란, 설퍼, 헤스페리딘, 및 숙신산이 하기의 비율로 포함되어 분산을 통해 가용화된 혼합물을 의미한다.In the present invention, the term "colloidal sulfur complex" means a mixture in which sulfur, hesperidin, and succinic acid are contained in the following ratios and solubilized through dispersion.

본 발명의 일 구현예에 있어서, 상기 설퍼는 조성물 총 중량에 대해 0.001 중량% 내지 30 중량%의 비율로 포함될 수 있다. 보다 구체적으로, 조성물 총 중량에 대해 0.001 중량% 내지 30 중량%, 0.001 중량% 내지 25 중량%, 0.001 중량% 내지 20 중량%, 0.001 중량% 내지 15 중량%, 0.001 중량% 내지 10 중량%, 0.001 중량% 내지 7 중량%, 0.001 중량% 내지 5 중량%, 0.01 중량% 내지 30 중량%, 0.01 중량% 내지 25 중량%, 0.01 중량% 내지 20 중량%, 0.01 중량% 내지 15 중량%, 0.01 중량% 내지 10 중량%, 0.01 중량% 내지 7 중량%, 0.01 중량% 내지 5 중량%, 0.1 중량% 내지 30 중량%, 0.1 중량% 내지 25 중량%, 0.1 중량% 내지 20 중량%, 0.1 중량% 내지 15 중량%, 0.1 중량% 내지 10 중량%, 0.1 중량% 내지 10 중량%, 0.1 중량% 내지 7 중량%, 0.1 중량% 내지 5 중량%, 1 중량% 내지 30 중량%, 1 중량% 내지 25 중량%, 1 중량% 내지 20 중량%, 1 중량% 내지 15 중량%, 1 중량% 내지 10 중량%, 1 중량% 내지 7 중량%, 1 중량% 내지 5 중량%의 비율로 포함될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 0.001 중량% 미만을 함유하는 경우에는 설퍼의 효능이 미비하고, 30 중량%를 초과하는 경우에는 피부자극에 대한 우려와 용해되기도 어렵고 분리될 수 있어 안정성 및 효능저하의 문제가 발생할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the sulfur may be included in a proportion of 0.001 wt% to 30 wt% based on the total weight of the composition. More specifically, 0.001 wt% to 30 wt%, 0.001 wt% to 25 wt%, 0.001 wt% to 20 wt%, 0.001 wt% to 15 wt%, 0.001 wt% to 10 wt%, 0.001 wt% to 7 wt%, 0.001 wt% to 5 wt%, 0.01 wt% to 30 wt%, 0.01 wt% to 25 wt%, 0.01 wt% to 20 wt%, 0.01 wt% to 15 wt%, 0.01 wt% to 10 wt%, 0.01 wt% to 7 wt%, 0.01 wt% to 5 wt%, 0.1 wt% to 30 wt%, 0.1 wt% to 25 wt%, 0.1 wt% to 20 It may be included in a ratio of, but is not limited to, 0.1 wt% to 15 wt%, 0.1 wt% to 10 wt%, 0.1 wt% to 10 wt%, 0.1 wt% to 7 wt%, 0.1 wt% to 5 wt%, 1 wt% to 30 wt%, 1 wt% to 25 wt%, 1 wt% to 20 wt%, 1 wt% to 15 wt%, 1 wt% to 10 wt%, 1 wt% to 7 wt%, 1 wt% to 5 wt%. If it contains less than 0.001 wt%, the efficacy of sulfur is insufficient, and if it exceeds 30 wt%, there may be concerns about skin irritation and problems of stability and efficacy reduction due to difficulty in dissolving and separation.

본 발명의 일 구현예에 있어서, 상기 헤스페리딘은 설퍼 총 중량에 대해 0.001 중량% 내지 30 중량%의 비율로 포함될 수 있다. 보다 구체적으로, 설퍼 총 중량에 대해 0.001 중량% 내지 30 중량%, 0.001 중량% 내지 25 중량%, 0.001 중량% 내지 20 중량%, 0.001 중량% 내지 15 중량%, 0.001 중량% 내지 10 중량%, 0.001 중량% 내지 7 중량%, 0.001 중량% 내지 5 중량%, 0.01 중량% 내지 30 중량%, 0.01 중량% 내지 25 중량%, 0.01 중량% 내지 20 중량%, 0.01 중량% 내지 15 중량%, 0.01 중량% 내지 10 중량%, 0.01 중량% 내지 7 중량%, 0.01 중량% 내지 5 중량%, 0.1 중량% 내지 30 중량%, 0.1 중량% 내지 25 중량%, 0.1 중량% 내지 20 중량%, 0.1 중량% 내지 15 중량%, 0.1 중량% 내지 10 중량%, 0.1 중량% 내지 10 중량%, 0.1 중량% 내지 7 중량%, 0.1 중량% 내지 5 중량%, 1 중량% 내지 30 중량%, 1 중량% 내지 25 중량%, 1 중량% 내지 20 중량%, 1 중량% 내지 15 중량%, 1 중량% 내지 10 중량%, 1 중량% 내지 7 중량%, 1 중량% 내지 5 중량%의 비율로 포함될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 헤스페리딘을 설퍼의 총 중량에 대하여 0.001 중량% 미만으로 함유시에는 기대하는 여드름성 피부개선효과를 얻기가 쉽지 않고, 30 중량%를 초과하여 함유시에는 추가적인 여드름성 피부개선 효능의 증가를 기대하기가 어렵다.In one embodiment of the present invention, the hesperidin may be included in a proportion of 0.001 wt% to 30 wt% based on the total weight of sulfur. More specifically, 0.001 wt% to 30 wt%, 0.001 wt% to 25 wt%, 0.001 wt% to 20 wt%, 0.001 wt% to 15 wt%, 0.001 wt% to 10 wt%, 0.001 wt% to 7 wt%, 0.001 wt% to 5 wt%, 0.01 wt% to 30 wt%, 0.01 wt% to 25 wt%, 0.01 wt% to 20 wt%, 0.01 wt% to 15 wt%, 0.01 wt% to 10 wt%, 0.01 wt% to 7 wt%, 0.01 wt% to 5 wt%, 0.1 wt% to 30 wt%, 0.1 wt% to 25 wt%, 0.1 wt% to Hesperidin may be included in a ratio of 20 wt%, 0.1 wt% to 15 wt%, 0.1 wt% to 10 wt%, 0.1 wt% to 10 wt%, 0.1 wt% to 7 wt%, 0.1 wt% to 5 wt%, 1 wt% to 30 wt%, 1 wt% to 25 wt%, 1 wt% to 20 wt%, 1 wt% to 15 wt%, 1 wt% to 10 wt%, 1 wt% to 7 wt%, 1 wt% to 5 wt%, but is not limited thereto. When hesperidin is included in an amount of less than 0.001 wt% based on the total weight of sulfur, it is not easy to obtain the expected acne-prone skin improvement effect, and when it is included in an amount exceeding 30 wt%, it is difficult to expect an additional increase in acne-prone skin improvement effect.

본 발명의 일 구현예에 있어서, 상기 숙신산은 설퍼 총 중량에 대해 0.001 중량% 내지 30 중량%의 비율로 포함될 수 있다. 보다 구체적으로, 설퍼 총 중량에 대해 0.001 중량% 내지 30 중량%, 0.001 중량% 내지 25 중량%, 0.001 중량% 내지 20 중량%, 0.001 중량% 내지 15 중량%, 0.001 중량% 내지 10 중량%, 0.001 중량% 내지 7 중량%, 0.001 중량% 내지 5 중량%, 0.01 중량% 내지 30 중량%, 0.01 중량% 내지 25 중량%, 0.01 중량% 내지 20 중량%, 0.01 중량% 내지 15 중량%, 0.01 중량% 내지 10 중량%, 0.01 중량% 내지 7 중량%, 0.01 중량% 내지 5 중량%, 0.1 중량% 내지 30 중량%, 0.1 중량% 내지 25 중량%, 0.1 중량% 내지 20 중량%, 0.1 중량% 내지 15 중량%, 0.1 중량% 내지 10 중량%, 0.1 중량% 내지 10 중량%, 0.1 중량% 내지 7 중량%, 0.1 중량% 내지 5 중량%, 1 중량% 내지 30 중량%, 1 중량% 내지 25 중량%, 1 중량% 내지 20 중량%, 1 중량% 내지 15 중량%, 1 중량% 내지 10 중량%, 1 중량% 내지 7 중량%, 1 중량% 내지 5 중량%의 비율로 포함될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 숙신산을 설퍼의 총 중량에 대하여 0.001 중량% 미만으로 함유시에는 기대하는 여드름성 피부개선효과를 얻기가 쉽지 않고, 30 중량%를 초과하여 함유시에는 추가적인 여드름성 피부개선 효능의 증가를 기대하기가 어렵다.In one embodiment of the present invention, the succinic acid may be included in a proportion of 0.001 wt% to 30 wt% based on the total weight of sulfur. More specifically, 0.001 wt% to 30 wt%, 0.001 wt% to 25 wt%, 0.001 wt% to 20 wt%, 0.001 wt% to 15 wt%, 0.001 wt% to 10 wt%, 0.001 wt% to 7 wt%, 0.001 wt% to 5 wt%, 0.01 wt% to 30 wt%, 0.01 wt% to 25 wt%, 0.01 wt% to 20 wt%, 0.01 wt% to 15 wt%, 0.01 wt% to 10 wt%, 0.01 wt% to 7 wt%, 0.01 wt% to 5 wt%, 0.1 wt% to 30 wt%, 0.1 wt% to 25 wt%, 0.1 wt% to It may be included in a ratio of 20 wt%, 0.1 wt% to 15 wt%, 0.1 wt% to 10 wt%, 0.1 wt% to 10 wt%, 0.1 wt% to 7 wt%, 0.1 wt% to 5 wt%, 1 wt% to 30 wt%, 1 wt% to 25 wt%, 1 wt% to 20 wt%, 1 wt% to 15 wt%, 1 wt% to 10 wt%, 1 wt% to 7 wt%, 1 wt% to 5 wt%, but is not limited thereto. When succinic acid is included in an amount of less than 0.001 wt% based on the total weight of sulfur, it is not easy to obtain the expected acne-prone skin improvement effect, and when it is included in an amount exceeding 30 wt%, it is difficult to expect an additional increase in acne-prone skin improvement effect.

본 발명에서 상기 설퍼, 헤스페리딘, 및 숙신산을 포함하는 조성물은 ACC(acetyl-coenzyme A carboxylase), FAS(fatty acid synthase), AR(androgen receptor)의 발현량을 감소시키는 것일 수 있다.In the present invention, the composition comprising the sulfur, hesperidin, and succinic acid may reduce the expression levels of ACC (acetyl-coenzyme A carboxylase), FAS (fatty acid synthase), and AR (androgen receptor).

본 발명에서 용어 "아세틸 조효소 A 카르복실라아제(acetyl-coenzyme A carboxylase, ACC)"는, 지방산 합성의 속도제한 효소 중 하나로, 아세틸 조효소 A에 카르복실기를 붙여 말로닐-조효소 A로 합성하고, 말로닐-조효소 A는 또 다른 아세틸 조효소 A와 결합하여 긴 사슬을 지닌 지방산(long-chain fatty acid)을 생성한다.In the present invention, the term "acetyl-coenzyme A carboxylase (ACC)" is one of the rate-limiting enzymes of fatty acid synthesis, which synthesizes malonyl-coenzyme A by attaching a carboxyl group to acetyl-coenzyme A, and malonyl-coenzyme A combines with another acetyl-coenzyme A to produce a long-chain fatty acid.

본 발명의 일 실시예에서는 DHT (dihydrotestosterone)가 처리된 피지세포 군에 설퍼, 헤스페리딘, 및 숙신산을 포함하는 조성물을 처리한 결과, 설퍼, 헤스페리딘, 및 숙신산을 포함하는 조성물을 처리하지 않은 군에 비해 ACC 발현량이 유의하게 감소되었음을 확인하였다.In one embodiment of the present invention, when a group of sebum cells treated with DHT (dihydrotestosterone) was treated with a composition containing sulfur, hesperidin, and succinic acid, it was confirmed that the amount of ACC expression was significantly reduced compared to a group that was not treated with the composition containing sulfur, hesperidin, and succinic acid.

본 발명에서 용어 "지방산 합성 효소(fatty acid synthase, FAS)"는, 지방산 합성을 담당하는 효소로, NADPH를 사용하여 아세틸 조효소 A와 말로닐 조효소 A로부터 팔미트산을 합성한다.In the present invention, the term "fatty acid synthase (FAS)" is an enzyme responsible for fatty acid synthesis, which synthesizes palmitic acid from acetyl coenzyme A and malonyl coenzyme A using NADPH.

본 발명의 일 실시예에서는 DHT가 처리된 피지세포 군에 설퍼, 헤스페리딘, 및 숙신산을 포함하는 조성물을 처리한 결과, 설퍼, 헤스페리딘, 및 숙신산을 포함하는 조성물을 처리하지 않은 군에 비해 FAS 발현량이 유의하게 감소되었음을 확인하였다.In one embodiment of the present invention, when a composition containing sulfur, hesperidin, and succinic acid was treated on a group of sebum cells treated with DHT, it was confirmed that the amount of FAS expression was significantly reduced compared to a group that was not treated with the composition containing sulfur, hesperidin, and succinic acid.

본 발명에서 용어 "안드로겐 수용체 (androgen receptor, AR)"는, 피지선 증식을 증가시키는 직접적인 요인인 남성호르몬 안드로겐의 수용체로서, 안드로겐은 안드로겐 수용체에 결합함으로서 피지세포 분화 및 피지 분비 지질 생성을 증가시킨다.In the present invention, the term "androgen receptor (AR)" refers to a receptor of the male hormone androgen, which is a direct factor that increases sebaceous gland proliferation, androgen increases sebum cell differentiation and sebum secretion lipid production by binding to the androgen receptor.

본 발명의 일 실시예에서는 DHT가 처리된 피지세포 군에 설퍼, 헤스페리딘, 및 숙신산을 포함하는 조성물을 처리한 결과, 설퍼, 헤스페리딘, 및 숙신산을 포함하는 조성물을 처리하지 않은 군에 비해 AR 발현량이 유의하게 감소되었음을 확인하였다.In one embodiment of the present invention, when a composition containing sulfur, hesperidin, and succinic acid was treated on a group of sebum cells treated with DHT, it was confirmed that the amount of AR expression was significantly reduced compared to a group that was not treated with the composition containing sulfur, hesperidin, and succinic acid.

따라서, 설퍼, 헤스페리딘, 및 숙신산을 포함하는 조성물이 과잉 생성된 피지에 대한 억제활성 또는 피지 생성 억제활성을 가짐을 확인하였다.Therefore, it was confirmed that a composition containing sulfur, hesperidin, and succinic acid has an inhibitory activity against excessive sebum production or an inhibitory activity against sebum production.

본 발명에서 상기 설퍼, 헤스페리딘, 및 숙신산을 포함하는 조성물은 TLR-2의 발현량을 감소시키는 것일 수 있다.In the present invention, the composition comprising the sulfur, hesperidin, and succinic acid may reduce the expression level of TLR-2.

본 발명에서 용어 "톨유사수용체-2(toll-like receptor-2, TLR-2)"는, 큐티박테리움 아크네스에 대한 수용체로 활동하며 염증성 여드름 형성에 기여하는 인자로 작용한다.In the present invention, the term "toll-like receptor-2 (TLR-2)" acts as a receptor for Cutibacterium acnes and acts as a factor contributing to the formation of inflammatory acne.

본 발명의 일 실시예에서는 LPS가 처리된 피지세포 군에 설퍼, 헤스페리딘, 및 숙신산을 포함하는 조성물을 처리한 결과, 설퍼, 헤스페리딘, 및 숙신산을 포함하는 조성물을 처리하지 않은 군에 비해 TLR-2 발현량이 유의하게 감소되었음을 확인하였다.In one embodiment of the present invention, when a composition containing sulfur, hesperidin, and succinic acid was treated on a group of sebum cells treated with LPS, it was confirmed that the expression level of TLR-2 was significantly reduced compared to a group that was not treated with the composition containing sulfur, hesperidin, and succinic acid.

본 발명의 화장료 조성물은 당업계에서 통상적으로 제조되는 어떠한 제형으로도 제조될 수 있으며, 예를 들어, 용액, 현탁액, 유탁액, 페이스트, 겔, 크림, 로션, 파우더, 비누, 계면활성제-함유 클렌징, 오일, 분말 파운데이션, 유탁액 파운데이션, 왁스 파운데이션 및 스프레이 등으로 제형화될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 보다 상세하게는, 유연 화장수, 영양 화장수, 로션, 영양 크림, 마사지 크림, 에센스, 아이 크림, 클렌징 크림, 클렌징 폼, 클렌징 워터, 팩, 스프레이 또는 파우더의 제형으로 제조될 수 있다.The cosmetic composition of the present invention can be manufactured into any formulation commonly manufactured in the art, and for example, can be formulated into a solution, suspension, emulsion, paste, gel, cream, lotion, powder, soap, surfactant-containing cleansing, oil, powder foundation, emulsion foundation, wax foundation, and spray, but is not limited thereto. More specifically, it can be manufactured into the formulation of a flexible toner, a nourishing toner, a lotion, a nourishing cream, a massage cream, an essence, an eye cream, a cleansing cream, a cleansing foam, a cleansing water, a pack, a spray, or a powder.

본 발명의 화장료 조성물은 유효성분 이외에 화장료 제제에 있어서 수용가능한 담체를 포함할 수 있다. 상기 "화장료 제제에 있어서 수용가능한 담체"란 화장료 제제에 포함될 수 있는 것으로 공지되어 사용되며, 유효 성분의 주된 효능을 유의하게 감쇄시키거나, 인체에 대한 부작용을 나타내지 않으면서, 유효 성분의 피부에 대한 적용, 사용자의 사용 편의성 및 선호도를 개선시킬 수 있는 부가 성분을 의미한다.The cosmetic composition of the present invention may include, in addition to the active ingredient, a carrier acceptable for use in cosmetic formulations. The term "acceptable carrier for use in cosmetic formulations" refers to an additional ingredient known and used to be capable of being included in cosmetic formulations, and which can improve the application of the active ingredient to the skin, user convenience, and preference without significantly reducing the primary efficacy of the active ingredient or causing adverse effects on the human body.

상기 담체는 본 발명의 조성물의 전체 중량에 대하여 약 1 중량% 내지 약 99.99 중량%, 바람직하게는 조성물 전체 중량의 약 50 중량% 내지 약 99 중량%로 포함될 수 있다. 그러나 상기 담체의 함량은 화장료의 제형, 구체적인 적용 부위 및 바람직한 적용량 등에 따라 적절하게 조절될 수 있으며, 특별히 제한되지 않는다. The carrier may be included in an amount of about 1 wt% to about 99.99 wt%, preferably about 50 wt% to about 99 wt%, of the total weight of the composition of the present invention. However, the content of the carrier may be appropriately adjusted depending on the formulation of the cosmetic, the specific application site, the desired application amount, etc., and is not particularly limited.

본 발명의 제형이 페이스트, 크림, 로션, 또는 겔인 경우에는 담체 성분으로서 동물성유, 식물성유, 왁스, 파라핀, 전분, 트라가칸트 검, 셀룰로오스 유도체, 폴리에틸렌 글라이콜, 실리콘, 벤토나이트, 실리카, 탈크 또는 산화아연 등이 이용될 수 있다.When the formulation of the present invention is a paste, cream, lotion, or gel, animal oil, vegetable oil, wax, paraffin, starch, tragacanth gum, cellulose derivative, polyethylene glycol, silicone, bentonite, silica, talc, or zinc oxide may be used as a carrier component.

본 발명의 제형이 파우더 또는 스프레이인 경우에는 담체 성분으로서 락토오스, 탈크, 실리카, 알루미늄 하이드록사이드, 칼슘 실리케이트 또는 폴리아마이드 파우더가 이용될 수 있고, 특히 스프레이인 경우에는 추가적으로 클로로플루오로하이드로카본, 프로판/부탄 또는 디메틸 에테르와 같은 추진체를 포함할 수 있다.When the formulation of the present invention is a powder or spray, lactose, talc, silica, aluminum hydroxide, calcium silicate or polyamide powder may be used as a carrier component, and particularly in the case of a spray, a propellant such as chlorofluorohydrocarbon, propane/butane or dimethyl ether may be additionally included.

본 발명의 제형이 용액 또는 유탁액인 경우에는 담체 성분으로서 용매, 용해화제 또는 유탁화제가 이용되고, 예컨대 물, 에탄올, 아이소프로판올, 에틸 카보네이트, 에틸 아세테이트, 벤질 알코올, 벤질 벤조에이트, 프로필렌 글라이콜, 1,3-부틸글라이콜 오일, 글리세롤 지방족 에스테르, 폴리에틸렌 글라이콜 또는 소르비탄의 지방산 에스테르가 있다.When the formulation of the present invention is a solution or emulsion, a solvent, solubilizer or emulsifier is used as a carrier component, and examples thereof include water, ethanol, isopropanol, ethyl carbonate, ethyl acetate, benzyl alcohol, benzyl benzoate, propylene glycol, 1,3-butyl glycol oil, glycerol aliphatic ester, polyethylene glycol or fatty acid ester of sorbitan.

본 발명의 제형이 현탁액인 경우에는 담체 성분으로서 물, 에탄올 또는 프로필렌 글라이콜과 같은 액상의 희석제, 에톡실화 아이소스테아릴 알코올, 폴리옥시에틸렌 소르비톨 에스테르 및 폴리옥시에틸렌 소르비탄 에스테르와 같은 현탁제, 미소결정성 셀룰로오스, 알루미늄 메타하이드록사이드, 벤토나이트, 아가 또는 트라가칸트 검 등이 이용될 수 있다.When the formulation of the present invention is a suspension, a liquid diluent such as water, ethanol or propylene glycol, a suspending agent such as ethoxylated isostearyl alcohol, polyoxyethylene sorbitol ester and polyoxyethylene sorbitan ester, microcrystalline cellulose, aluminum metahydroxide, bentonite, agar or gum tragacanth, etc. can be used as a carrier component.

본 발명의 제형이 계면-활성제 함유 클렌징인 경우에는 담체 성분으로서 지방족 알코올 설페이트, 지방족 알코올 에테르 설페이트, 설포숙신산 모노에스테르, 이세티오네이트, 이미다졸리늄 유도체, 메틸타우레이트, 사르코시네이트, 지방산 아미드 에테르 설페이트, 알킬아미도베타인, 지방족 알코올, 지방산 글리세라이드, 지방산 디에탄올아마이드, 식물성 유, 라놀린 유도체 또는 에톡실화 글리세롤 지방산 에스테르 등이 이용될 수 있다.When the formulation of the present invention is a surfactant-containing cleansing agent, a fatty alcohol sulfate, a fatty alcohol ether sulfate, a sulfosuccinic acid monoester, an isethionate, an imidazolinium derivative, a methyl taurate, a sarcosinate, a fatty acid amide ether sulfate, an alkyl amidobetaine, a fatty alcohol, a fatty acid glyceride, a fatty acid diethanolamide, a vegetable oil, a lanolin derivative, or an ethoxylated glycerol fatty acid ester may be used as a carrier component.

본 발명의 화장료 조성물에 포함되는 성분은 유효 성분과 담체 성분 이외에, 화장료 조성물에 통상적으로 이용되는 성분들을 포함하며, 예컨대 항산화제, 안정화제, 용해화제, 비타민, 안료 및 향료와 같은 통상적인 보조제를 포함할 수 있다.The components included in the cosmetic composition of the present invention include, in addition to the active ingredient and the carrier component, components commonly used in cosmetic compositions, and may include conventional auxiliary agents such as antioxidants, stabilizers, solubilizers, vitamins, pigments, and fragrances.

본 실시예의 화장료 조성물은, 분산력이 높아 안정적인 제형을 가지며, 우수한 피부 개선 효과를 구현할 수 있다.The cosmetic composition of this example has a stable formulation with high dispersing power and can achieve an excellent skin improvement effect.

본 발명의 일 양태에 따르면, 본 발명은 설퍼, 헤스페리딘, 및 숙신산을 유효성분으로 포함하는 여드름 예방 또는 치료용 약제학적 조성물을 제공한다.According to one aspect of the present invention, the present invention provides a pharmaceutical composition for preventing or treating acne, comprising sulfur, hesperidin, and succinic acid as active ingredients.

본 발명의 조성물이 약제학적 조성물로 제공되는 경우, 본 발명의 약제학적 조성물은 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있는 방법에 따라, 약제학적으로 허용되는 담체 및/또는 부형제를 이용하여 제제화 함으로써 단위 용량 형태로 제조되거나 또는 다용량 용기내에 내입시켜 제조될 수 있다. 구체적으로 예를 들어, 상기 부형제로서 윤활제, 습윤제, 감미제, 향미제, 유화제, 현탁제, 보존제 등을 추가로 포함할 수 있다.When the composition of the present invention is provided as a pharmaceutical composition, the pharmaceutical composition of the present invention may be prepared in unit dose form or may be prepared by inserting it into a multi-dose container by formulating it using a pharmaceutically acceptable carrier and/or excipient according to a method that can be easily performed by a person of ordinary skill in the art to which the present invention pertains. Specifically, for example, the excipients may additionally include a lubricant, a wetting agent, a sweetener, a flavoring agent, an emulsifier, a suspending agent, a preservative, etc.

본 발명의 바람직한 구현예에 의하면, 본 발명의 약제학적 조성물은 피부외용 제형 형태를 갖는다. 상기 피부 외용 제형은 특별히 한정되지 않으나, 파우더, 젤, 연고, 크림, 액체 또는 에어로졸 제형이 바람직하다.According to a preferred embodiment of the present invention, the pharmaceutical composition of the present invention has a form of a topical skin formulation. The topical skin formulation is not particularly limited, but is preferably a powder, gel, ointment, cream, liquid, or aerosol formulation.

본 발명에서 피부외용제형의 겔 기재로는 카보폴 (Carbopol), 카보머(Carbomer), 폴리에틸렌 글라이콜(Polyethylene glycol), 폴리프로필렌 글라이콜 (Polypropylene glycol), 폴리아크릴산(Polyacrylic acid), 카르복시메틸 셀룰로오스(Carboxymethyl cellulose), 하이드록시메틸셀룰로오스 (Hydroxymethyl cellulose), 폴리비닐피롤리돈 (Polyvinyl pyrrolidone), 젤라틴 (Gelatin), 알지네이트 염 (Alginate Salt), 키틴 (Chitin) 또는 키토산 (Chitosan) 유도체, 히알루론산 (hyaluronic acid), 콜라겐 (collagen) 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상을 사용할 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.In the present invention, as a gel base material of a skin external preparation, one or more selected from among Carbopol, Carbomer, Polyethylene glycol, Polypropylene glycol, Polyacrylic acid, Carboxymethyl cellulose, Hydroxymethyl cellulose, Polyvinyl pyrrolidone, Gelatin, Alginate Salt, Chitin or Chitosan derivatives, hyaluronic acid, and collagen may be used, but is not limited thereto.

본 발명의 약제학적 조성물의 적합한 투여량은 유효 성분의 함량, 투여 방식, 환자의 연령, 체중, 성, 병적 상태, 음식, 투여 시간, 투여 경로, 배설 속도 및 반응 감응성과 같은 요인들에 의해 다양하게 처방될 수 있다. 한편, 본 발명의 약제학적 조성물의 투여량은 바람직하게는 1일 당 0.001-100 mg/kg(체중)이고, 상술한 투여량의 약제학적 조성물을 적용을 원하는 부위에 대해, 적용 목적에 따라 국소적으로 또는 광범위하게 피부외용 제형의 형태로 적용할 수 있다.The appropriate dosage of the pharmaceutical composition of the present invention may be prescribed in various ways depending on factors such as the content of the active ingredient, the method of administration, the patient's age, body weight, sex, pathological condition, food, administration time, administration route, excretion rate, and reaction sensitivity. Meanwhile, the dosage of the pharmaceutical composition of the present invention is preferably 0.001-100 mg/kg (body weight) per day, and the pharmaceutical composition of the above dosage can be applied locally or extensively in the form of an external skin formulation to the desired area, depending on the purpose of application.

본 발명의 일 양태에 따르면, 설퍼, 헤스페리딘, 및 숙신산을 유효성분으로 포함하는 큐티박테리움 아크네스 (Cutibacterium acnes)에 대한 항균용 조성물을 제공한다.According to one aspect of the present invention, an antibacterial composition for Cutibacterium acnes is provided, comprising sulfur, hesperidin, and succinic acid as active ingredients.

본 발명에 있어서, "큐티박테리움 아크네스 (Cutibacterium acnes, C. acnes)"는 모낭 내에 상주하는 그람양성균으로, 여드름 원인균 중 하나이다. 큐티박테리움 아크네스가 분비하는 지방분해효소는 피지선에서 분비되는 지방산을 분해하여 유리지방산을 형성하고 모낭을 자극하며 여드름의 염증 반응에 기여한다.In the present invention, " Cutibacterium acnes (C. acnes )" is a gram-positive bacterium that resides in hair follicles and is one of the acne-causing bacteria. The lipolytic enzyme secreted by Cutibacterium acnes breaks down fatty acids secreted from sebaceous glands to form free fatty acids, stimulates hair follicles, and contributes to the inflammatory response of acne.

본 발명에서 용어 "항균"은 미생물을 포함하는 균의 생육 또는 증식을 억제하여 균의 감염을 예방 또는 치료하는 활성을 의미한다.In the present invention, the term “antibacterial” means an activity that prevents or treats bacterial infection by inhibiting the growth or proliferation of bacteria including microorganisms.

상기 설퍼, 헤스페리딘, 및 숙신산을 포함하는 조성물은 큐티박테리움 아크네스 (Cutibacterium acnes)에 대한 항균 효능을 갖는 것일 수 있다.The composition comprising the above sulfur, hesperidin, and succinic acid may have an antibacterial effect against Cutibacterium acnes.

본 발명의 구체적인 일 실시예에서 큐티박테리움 아크네스에 대한 설퍼, 헤스페리딘, 및 숙신산을 포함하는 조성물의 항균 활성을 실험한 결과, 설퍼, 헤스페리딘, 및 숙신산을 포함하는 조성물 처리시 큐티박테리움 아크네스 성장이 억제되어 균수가 감소된 것을 확인하였다. 따라서, 설퍼, 헤스페리딘, 및 숙신산을 포함하는 조성물이 큐티박테리움 아크네스 균주에 대한 특이적인 항균 활성을 가짐을 확인하였다. In a specific embodiment of the present invention, the antibacterial activity of a composition comprising sulfur, hesperidin, and succinic acid against Cutibacterium acnes was tested, and it was confirmed that when the composition comprising sulfur, hesperidin, and succinic acid was treated, the growth of Cutibacterium acnes was inhibited and the bacterial count was reduced. Therefore, it was confirmed that the composition comprising sulfur, hesperidin, and succinic acid has specific antibacterial activity against Cutibacterium acnes strains.

본 발명의 일 양태에 따르면, 본 발명은 다음 단계를 포함하는 설퍼, 헤스페리딘, 및 숙신산을 포함하는 조성물의 제조방법을 제공한다:According to one aspect of the present invention, the present invention provides a method for preparing a composition comprising sulfur, hesperidin, and succinic acid, comprising the following steps:

(a) 설퍼를 수성용매에 분산하여 분산액을 제조하는 단계;(a) a step of preparing a dispersion by dispersing sulfur in an aqueous solvent;

(b) 상기 단계 (a)에서 수득된 분산액에 헤스페리딘 및 숙신산을 첨가하여 용해하는 단계; 및(b) a step of adding hesperidin and succinic acid to the dispersion obtained in step (a) and dissolving them; and

(c) 상기 단계 (b)에서 수득된 용액을 고압분산시키는 단계.(c) A step of high-pressure dispersing the solution obtained in step (b).

본 발명의 일 구현예에 있어서, 상기 단계 (a)는 초음파(ultra sonication)를 이용하여 분산시킨다.In one embodiment of the present invention, the step (a) is dispersed using ultrasonication.

본 발명의 일 구현예에 있어서, 상기 단계 (a)는 1 kHz 내지 30 kHz의 주파수로 0.5시간 내지 5시간 동안 수행되는 것이다. 상기 주파수는 보다 구체적으로, 1 kHz 내지 30 kHz, 5 kHz 내지 30 kHz, 10 kHz 내지 30 kHz, 15 kHz 내지 30 kHz, 20 kHz 내지 30 kHz, 1 kHz 내지 25 kHz, 5 kHz 내지 25 kHz, 10 kHz 내지 25 kHz, 15 kHz 내지 25 kHz, 20 kHz 내지 25 kHz, 1 kHz 내지 20 kHz, 5 kHz 내지 20 kHz, 10 kHz 내지 20 kHz, 또는 15 kHz 내지 20 kHz일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.In one embodiment of the present invention, step (a) is performed for 0.5 to 5 hours at a frequency of 1 kHz to 30 kHz. More specifically, the frequency may be, but is not limited to, 1 kHz to 30 kHz, 5 kHz to 30 kHz, 10 kHz to 30 kHz, 15 kHz to 30 kHz, 20 kHz to 30 kHz, 1 kHz to 25 kHz, 5 kHz to 25 kHz, 10 kHz to 25 kHz, 15 kHz to 25 kHz, 20 kHz to 25 kHz, 1 kHz to 20 kHz, 5 kHz to 20 kHz, 10 kHz to 20 kHz, or 15 kHz to 20 kHz.

본 발명의 일 구현예에 있어서, 상기 수성용매는 물, 프로필렌 글라이콜(propylene glycol), 펜틸렌 글라이콜(pentylene glycol), 및 부틸렌 글라이콜(butylene glycol)로 이루어진 군으로부터 선택된다.In one embodiment of the present invention, the aqueous solvent is selected from the group consisting of water, propylene glycol, pentylene glycol, and butylene glycol.

본 발명의 일 구현예에 있어서, 상기 단계 (b)는 균질기(homogenizer)를 이용하여 용해시킨다.In one embodiment of the present invention, step (b) is dissolved using a homogenizer.

본 발명의 일 구현예에 있어서, 상기 단계 (b)는 1,000 rpm 내지 5,000 rpm의 회전수로 0.5시간 내지 5시간 동안 수행되는 것이다. 상기 회전수는 보다 구체적으로, 1,000 rpm 내지 5,000 rpm, 1,500 rpm 내지 5,000 rpm, 2,000 rpm 내지 5,000 rpm, 2,500 rpm 내지 5,000 rpm, 3,000 rpm 내지 5,000 rpm, 1,000 rpm 내지 4,500 rpm, 1,500 rpm 내지 4,500 rpm, 2,000 rpm 내지 4,500 rpm, 2,500 rpm 내지 4,500 rpm, 3,000 rpm 내지 4,500 rpm, 1,000 rpm 내지 4,000 rpm, 1,500 rpm 내지 4,000 rpm, 2,000 rpm 내지 4,000 rpm, 2,500 rpm 내지 4,000 rpm, 3,000 rpm 내지 4,000 rpm, 1,000 rpm 내지 3,500 rpm, 1,500 rpm 내지 3,500 rpm, 2,000 rpm 내지 3,500 rpm, 2,500 rpm 내지 3,500 rpm, 3,000 rpm 내지 3,500 rpm, 1,000 rpm 내지 3,000 rpm, 1,500 rpm 내지 3,000 rpm, 2,000 rpm 내지 3,000 rpm, 또는 2,500 rpm 내지 3,000 rpm일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.In one embodiment of the present invention, step (b) is performed at a rotation speed of 1,000 rpm to 5,000 rpm for 0.5 to 5 hours. The rotation speed is more specifically 1,000 rpm to 5,000 rpm, 1,500 rpm to 5,000 rpm, 2,000 rpm to 5,000 rpm, 2,500 rpm to 5,000 rpm, 3,000 rpm to 5,000 rpm, 1,000 rpm to 4,500 rpm, 1,500 rpm to 4,500 rpm, 2,000 rpm to 4,500 rpm, 2,500 rpm to 4,500 rpm, 3,000 rpm to 4,500 rpm, 1,000 rpm to 4,000 rpm, 1,500 rpm to 4,000 rpm, 2,000 rpm to 4,000 rpm, It may be, but is not limited to, 2,500 rpm to 4,000 rpm, 3,000 rpm to 4,000 rpm, 1,000 rpm to 3,500 rpm, 1,500 rpm to 3,500 rpm, 2,000 rpm to 3,500 rpm, 2,500 rpm to 3,500 rpm, 3,000 rpm to 3,500 rpm, 1,000 rpm to 3,000 rpm, 1,500 rpm to 3,000 rpm, 2,000 rpm to 3,000 rpm, or 2,500 rpm to 3,000 rpm.

본 발명의 일 구현예에 있어서, 상기 단계 (b)는 40℃ 내지 90℃에서 동안 수행되는 것이다. 상기 온도는 보다 구체적으로, 40℃ 내지 90℃, 45℃ 내지 90℃, 50℃ 내지 90℃, 55℃ 내지 90℃, 60℃ 내지 90℃, 65℃ 내지 90℃, 70℃ 내지 90℃, 75℃ 내지 90℃, 80℃ 내지 90℃, 40℃ 내지 85℃, 45℃ 내지 85℃, 50℃ 내지 85℃, 55℃ 내지 85℃, 60℃ 내지 85℃, 65℃ 내지 85℃, 70℃ 내지 85℃, 75℃ 내지 85℃, 80℃ 내지 85℃, 40℃ 내지 80℃, 45℃ 내지 80℃, 50℃ 내지 80℃, 55℃ 내지 80℃, 60℃ 내지 80℃, 65℃ 내지 80℃, 70℃ 내지 80℃, 또는 75℃ 내지 80℃일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.In one embodiment of the present invention, step (b) is performed at a temperature of 40°C to 90°C. The temperature is more specifically 40°C to 90°C, 45°C to 90°C, 50°C to 90°C, 55°C to 90°C, 60°C to 90°C, 65°C to 90°C, 70°C to 90°C, 75°C to 90°C, 80°C to 90°C, 40°C to 85°C, 45°C to 85°C, 50°C to 85°C, 55°C to 85°C, 60°C to 85°C, 65°C to 85°C, 70°C to 85°C, 75°C to 85°C, 80°C to 85°C, 40°C to 80°C, 45°C to 80°C, 50°C to 80°C, 55°C to 80°C, 60°C to 80°C, 65°C to It may be, but is not limited to, 80°C, 70°C to 80°C, or 75°C to 80°C.

본 발명의 일 구현예에 있어서, 상기 단계 (c)는 100 bar 내지 1,500 bar의 압력에서 1 내지 5 cycle 동안 수행되는 것이다. 상기 압력은 보다 구체적으로, 100 bar 내지 1,500 bar, 200 bar 내지 1,500 bar, 300 bar 내지 1,500 bar, 400 bar 내지 1,500 bar, 500 bar 내지 1,500 bar, 600 bar 내지 1,500 bar, 700 bar 내지 1,500 bar, 800 bar 내지 1,500 bar, 900 bar 내지 1,500 bar, 1,000 bar 내지 1,500 bar, 100 bar 내지 1,400 bar, 200 bar 내지 1,400 bar, 300 bar 내지 1,400 bar, 400 bar 내지 1,400 bar, 500 bar 내지 1,400 bar, 600 bar 내지 1,400 bar, 700 bar 내지 1,400 bar, 800 bar 내지 1,400 bar, 900 bar 내지 1,400 bar, 1,000 bar 내지 1,400 bar, 100 bar 내지 1,300 bar, 200 bar 내지 1,300 bar, 300 bar 내지 1,300 bar, 400 bar 내지 1,300 bar, 500 bar 내지 1,300 bar, 600 bar 내지 1,300 bar, 700 bar 내지 1,300 bar, 800 bar 내지 1,300 bar, 900 bar 내지 1,300 bar, 1,000 bar 내지 1,300 bar, 100 bar 내지 1,200 bar, 200 bar 내지 1,200 bar, 300 bar 내지 1,200 bar, 400 bar 내지 1,200 bar, 500 bar 내지 1,200 bar, 600 bar 내지 1,200 bar, 700 bar 내지 1,200 bar, 800 bar 내지 1,200 bar, 900 bar 내지 1,200 bar, 1,000 bar 내지 1,200 bar, 100 bar 내지 1,100 bar, 200 bar 내지 1,100 bar, 300 bar 내지 1,100 bar, 400 bar 내지 1,100 bar, 500 bar 내지 1,100 bar, 600 bar 내지 1,100 bar, 700 bar 내지 1,100 bar, 800 bar 내지 1,100 bar, 900 bar 내지 1,100 bar, 1,000 bar 내지 1,100 bar, 100 bar 내지 1,500 bar, 200 bar 내지 1,000 bar, 300 bar 내지 1,000 bar, 400 bar 내지 1,000 bar, 500 bar 내지 1,000 bar, 600 bar 내지 1,000 bar, 700 bar 내지 1,000 bar, 800 bar 내지 1,000 bar, 또는 900 bar 내지 1,000 bar일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.In one embodiment of the present invention, step (c) is performed for 1 to 5 cycles at a pressure of 100 bar to 1,500 bar. The pressure is more specifically 100 bar to 1,500 bar, 200 bar to 1,500 bar, 300 bar to 1,500 bar, 400 bar to 1,500 bar, 500 bar to 1,500 bar, 600 bar to 1,500 bar, 700 bar to 1,500 bar, 800 bar to 1,500 bar, 900 bar to 1,500 bar, 1,000 bar to 1,500 bar, 100 bar to 1,400 bar, 200 bar to 1,400 bar, 300 bar to 1,400 bar, 400 bar to 1,400 bar, 500 bar to 1,400 bar, 600 bar to 1,400 bar, 700 bar to 1,400 bar, 800 bar to 1,400 bar, 900 bar to 1,400 bar, 1,000 bar to 1,400 bar, 100 bar to 1,300 bar, 200 bar to 1,300 bar, 300 bar to 1,300 bar, 400 bar to 1,300 bar, 500 bar to 1,300 bar, 600 bar to 1,300 bar, 700 bar to 1,300 bar, 800 bar to 1,300 bar, 900 bar to 1,300 bar, 1,000 bar to 1,300 bar, 100 bar to 1,200 bar, 200 bar to 1,200 bar, 300 bar to 1,200 bar, 400 bar to 1,200 bar, 500 bar to 1,200 bar, 600 bar to 1,200 bar, 700 bar to 1,200 bar, 800 bar to 1,200 bar, 900 bar to 1,200 bar, 1,000 bar to 1,200 bar, 100 bar to 1,100 bar, 200 bar to 1,100 bar, 300 bar to 1,100 bar, 400 bar to 1,100 bar, 500 bar to 1,100 bar, 600 bar to 1,100 bar, 700 bar to 1,100 bar, 800 bar to 1,100 bar, 900 bar to 1,100 bar, 1,000 bar to 1,100 bar, 100 bar to It may be, but is not limited to, 1,500 bar, 200 bar to 1,000 bar, 300 bar to 1,000 bar, 400 bar to 1,000 bar, 500 bar to 1,000 bar, 600 bar to 1,000 bar, 700 bar to 1,000 bar, 800 bar to 1,000 bar, or 900 bar to 1,000 bar.

상술한 본 발명의 각 양태에 따른 조성물과 방법은 설퍼, 헤스페리딘, 및 숙신산을 공통적인 유효성분으로 포함하는 조성물과 상기 조성물을 제조하는 방법에 관한 것으로서, 각 발명들 간에 공통되는 구성요소에 관한 특징, 정의 및 한정사항은 각 발명들 간에 공통적으로 적용가능하다.The composition and method according to each aspect of the present invention described above relate to a composition comprising sulfur, hesperidin, and succinic acid as common active ingredients and a method for producing the composition, and the features, definitions, and limitations regarding the components common to each invention are commonly applicable to each invention.

본 발명의 구체적인 구현예에서 입증된 바와 같이, 본 발명의 조성물은 모공 내 피지 합성을 억제하여 피지 분비를 억제하는 효과가 있다. 상기 피지 합성 억제 효과는 설퍼, 헤스페리딘, 및 숙신산을 포함하는 조성물의 농도의존적이다.As demonstrated in specific embodiments of the present invention, the composition of the present invention has the effect of suppressing sebum secretion by inhibiting sebum synthesis within pores. The sebum synthesis suppression effect is concentration-dependent of the composition comprising sulfur, hesperidin, and succinic acid.

또한, 본 발명의 조성물은 여드름 또는 염증 생성을 억제시키는 효과가 있다.In addition, the composition of the present invention has an effect of suppressing acne or inflammation production.

상기 결과로부터, 본 발명의 설퍼, 헤스페리딘, 및 숙신산을 포함하는 조성물은 과도하게 분비되는 피지로 인한 피부 번들거림이나 여드름 개선 또는 치료 등에 도움을 주는 것을 알 수 있다.From the above results, it can be seen that the composition comprising sulfur, hesperidin, and succinic acid of the present invention helps improve or treat skin shine or acne caused by excessive sebum secretion.

또한, 본 발명의 설퍼, 헤스페리딘, 및 숙신산을 포함하는 조성물은 분산성 및 제형 안정성이 우수하다.In addition, the composition comprising sulfur, hesperidin, and succinic acid of the present invention has excellent dispersibility and formulation stability.

본 발명의 특징 및 이점을 요약하면 다음과 같다:The features and advantages of the present invention are summarized as follows:

(a) 본 발명은 설퍼(sulfur), 헤스페리딘(hesperidin), 및 숙신산(succinic acid)을 유효성분으로 포함하는 피지 분비 조절용 또는 여드름 개선용 화장료를 제공한다. (a) The present invention provides a cosmetic for controlling sebum secretion or improving acne, comprising sulfur, hesperidin, and succinic acid as active ingredients.

(b) 본 발명은 설퍼, 헤스페리딘, 및 숙신산을 유효성분으로 포함하는 여드름 예방 또는 치료용 약제학적 조성물을 제공한다.(b) The present invention provides a pharmaceutical composition for preventing or treating acne, comprising sulfur, hesperidin, and succinic acid as active ingredients.

(c) 본 발명은 설퍼, 헤스페리딘, 및 숙신산을 유효성분으로 포함하는 큐티박테리움 아크네스(Cutibacterium acnes)에 대한 항균용 조성물을 제공한다.(c) The present invention provides an antibacterial composition for Cutibacterium acnes containing sulfur, hesperidin, and succinic acid as active ingredients.

(d) 본 발명은 설퍼, 헤스페리딘, 및 숙신산을 포함하는 조성물의 제조방법을 제공한다.(d) The present invention provides a method for preparing a composition comprising sulfur, hesperidin, and succinic acid.

(e) 본 발명의 설퍼(sulfur), 헤스페리딘(hesperidin), 및 숙신산(succinic acid)을 유효성분으로 포함하는 조성물을 이용하는 경우, 과도하게 생성된 피지를 억제하고, 과도한 피지 생성을 조절할 수 있다. 또한, 본 발명의 설퍼, 헤스페리딘, 및 숙신산을 유효성분으로 포함하는 조성물은 여드름 발생균인 C. acnes에 대한 항균 효과가 매우 우수한 바, 이를 포함하는 여드름 개선 기능성화장품 및 여드름 치료제로서 유용하게 사용할 수 있다.(e) When using a composition comprising sulfur, hesperidin, and succinic acid of the present invention as active ingredients, excessive sebum production can be suppressed and excessive sebum production can be controlled. In addition, the composition comprising sulfur, hesperidin, and succinic acid of the present invention as active ingredients has an excellent antibacterial effect against C. acnes , an acne-causing bacteria, and thus can be usefully used as an acne-improving functional cosmetic and an acne treatment product containing the same.

도 1은 콜로이달 설퍼 복합물 분산 방법에 따른 안정성 비교 결과를 나타낸다.
도 2는 DHT에 의해 피지 과잉 생성이 유도된 피지세포에서 콜로이달 설퍼 복합물 처리에 따른 ACC의 mRNA 발현 수준 측정 결과를 나타낸다.
도 3은 DHT에 의해 피지 과잉 생성이 유도된 피지세포에서 콜로이달 설퍼 복합물 처리에 따른 FAS의 mRNA 발현 수준 측정 결과를 나타낸다.
도 4는 DHT에 의해 피지 과잉 생성이 유도된 피지세포에서 콜로이달 설퍼 복합물 처리에 따른 AR의 mRNA 발현 수준 측정 결과를 나타낸다.
도 5는 인체 피부에서 공제형 대비 콜로이달 설퍼 복합물의 각질 개선에 미치는 영향을 나타낸다.
도 6은 인체 피부에서 공제형 및 콜로이달 설퍼 복합물 처리에 따른 각질 면적 이미지를 나타낸다.
도 7은 LPS에 의해 유도된 피지세포에서 콜로이달 설퍼 복합물 처리에 따른 TLR-2의 mRNA 발현 수준 측정 결과를 나타낸다.
도 8은 Cutibacterium acnes 항균력 테스트의 대조구 이미지를 나타낸다.
도 9는 Cutibacterium acnes 항균력 테스트의 시험구 이미지를 나타낸다.
도 10은 본 발명에 따른 실시예 1 및 비교예 1을 적용한 에센스 화장료 조성물의 분산 안정성을 확인한 결과를 나타낸다.
도 11는 본 발명에 따른 실시예 1 및 비교예 1을 적용한 에센스 화장료 조성물의 가속 안정성을 확인한 결과를 나타낸다.
Figure 1 shows the results of a comparison of stability according to the method of dispersing a colloidal sulfur complex.
Figure 2 shows the results of measuring the mRNA expression level of ACC in sebum cells induced to produce excessive sebum by DHT following treatment with a colloidal sulfur complex.
Figure 3 shows the results of measuring the mRNA expression level of FAS in sebum cells induced to produce excessive sebum by DHT following treatment with a colloidal sulfur complex.
Figure 4 shows the results of measuring the mRNA expression level of AR in sebum cells induced to produce excessive sebum by DHT following treatment with a colloidal sulfur complex.
Figure 5 shows the effect of colloidal sulfur complex on improving keratin in human skin compared to the conventional one.
Figure 6 shows an image of the keratin area according to treatment with a colloidal sulfur complex and a colloidal sulfur complex on human skin.
Figure 7 shows the results of measuring the mRNA expression level of TLR-2 in sebaceous cells induced by LPS following treatment with a colloidal sulfur complex.
Figure 8 shows a control image of the Cutibacterium acnes antibacterial activity test.
Figure 9 shows an image of a test specimen for the Cutibacterium acnes antibacterial activity test.
Figure 10 shows the results of confirming the dispersion stability of the essence cosmetic composition applying Example 1 and Comparative Example 1 according to the present invention.
Figure 11 shows the results of confirming the accelerated stability of the essence cosmetic composition applying Example 1 and Comparative Example 1 according to the present invention.

이하, 실시예를 통하여 본 발명을 더욱 상세히 설명하고자 한다. 이들 실시예는 오로지 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위한 것으로, 본 발명의 요지에 따라 본 발명의 범위가 이들 실시예에 의해 제한되지 않는다는 것은 당업계에서 통상의 지식을 가진 자에 있어서 자명할 것이다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail through examples. These examples are intended solely to illustrate the present invention more specifically, and it will be apparent to those skilled in the art that the scope of the present invention is not limited by these examples, in accordance with the gist of the present invention.

본 명세서 전체에 걸쳐, 특정 물질의 농도를 나타내기 위하여 사용되는 “%“는 별도의 언급이 없는 경우, 고체/고체는 (중량/중량) %, 고체/액체는 (중량/부피) %, 그리고 액체/액체는 (부피/부피) %이다.Throughout this specification, “%” used to indicate the concentration of a particular substance is (weight/weight) % for solid/solid, (weight/volume) % for solid/liquid, and (volume/volume) % for liquid/liquid, unless otherwise stated.

실시예Example

실시예 1: 콜로이달 설퍼 복합물(colloidal sulfur complex) 제조Example 1: Preparation of colloidal sulfur complex

본 발명자들은 콜로이달 설퍼 복합물(colloidal sulfur complex)을 유효성분으로 포함하는 여드름 개선용 화장료 조성물을 개발하기 위해, 콜로이달 설퍼 복합물을 제조하였다.The present inventors prepared a colloidal sulfur complex to develop a cosmetic composition for improving acne, which contains a colloidal sulfur complex as an active ingredient.

구체적으로, 콜로이달 설퍼(colloidal sulfur) 50 g에 1,3-부틸렌 글라이콜(1,3-butylene glycol) 300 g을 첨가하여 초음파 20 kHz, 1시간 조건 하에 1차 분산을 진행하였다. 1차 분산액을 기계식 균질기(homogenizer)를 이용하여 80℃ 내지 90℃에서 4,000rpm 조건하에 교반을 진행하면서 정제수 649 g을 서서히 첨가하였고, 헤스페리딘(hesperidin) 0.5 g 및 숙신산(succinic acid) 0.5 g을 첨가하여 1시간 동안 추가적으로 용해하였다. 상기 용해액을 고압분산기(microfluidizer)를 이용하여 1,000 bar에서 3회 cycle을 진행한 후 150 mesh로 여과하여 콜로이달 설퍼 복합물(colloidal sulfur complex)을 제조하였다. 콜로이달 설퍼 복합물의 성분 함량은 표 1에 나타내었다.Specifically, 300 g of 1,3-butylene glycol was added to 50 g of colloidal sulfur, and primary dispersion was performed under ultrasonic conditions of 20 kHz, 1 hour. The primary dispersion was stirred using a mechanical homogenizer at 80°C to 90°C at 4,000 rpm, while 649 g of purified water was slowly added, and 0.5 g of hesperidin and 0.5 g of succinic acid were added and additionally dissolved for 1 hour. The solution was cycled three times at 1,000 bar using a high-pressure disperser (microfluidizer), and then filtered through 150 mesh to prepare a colloidal sulfur complex. The component contents of the colloidal sulfur complex are shown in Table 1.

성분명Ingredient name 함량 (%)Content (%) 정제수(Water)Purified water 64.9%64.9% 1,3-부틸렌 글라이콜(1,3-Butylene Glycol)1,3-Butylene Glycol 30.0%30.0% 콜로이달 설퍼(Colloidal Sulfur)Colloidal Sulfur 5.0%5.0% 헤스페리딘(Hesperidin)Hesperidin 0.05%0.05% 숙신산(Succinic acid)Succinic acid 0.05%0.05%

비교예 1: 초음파, 고압분산기를 이용하지 않은 콜로이달 설퍼 복합물Comparative Example 1: Colloidal sulfur complex without using ultrasonic or high-pressure disperser

본 발명자들은 콜로이달 설퍼 복합물의 분산 방법에 따른 안정성을 비교하기 위해, 상기 초음파, 고압분산기 이용을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일하게 하여 비교예 1을 제조하였다.In order to compare the stability of the colloidal sulfur complex according to the dispersion method, the inventors prepared Comparative Example 1 in the same manner as Example 1 except for using the ultrasonic and high-pressure disperser.

구체적으로, 콜로이달 설퍼 50 g, 헤스페리딘 0.5 g, 숙신산 0.5 g에 정제수 649 g과 1,3-부틸렌 글라이콜 300 g을 첨가하였고, 80℃ 내지 90℃에서 균질기를 이용하여 용해 후 150 mesh로 여과하여 비교예 1을 제조하였다.Specifically, 649 g of purified water and 300 g of 1,3-butylene glycol were added to 50 g of colloidal sulfur, 0.5 g of hesperidin, and 0.5 g of succinic acid, and the mixture was dissolved using a homogenizer at 80°C to 90°C and then filtered through 150 mesh to prepare Comparative Example 1.

비교예 2: 고압분산기를 이용하지 않은 콜로이달 설퍼 복합물Comparative Example 2: Colloidal sulfur composite without using a high-pressure disperser

본 발명자들은 콜로이달 설퍼 복합물의 분산 방법에 따른 안정성을 비교하기 위해, 상기 고압분산기 이용을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일하게 하여, 비교예 2를 제조하였다.In order to compare the stability of the colloidal sulfur complex according to the dispersion method, the inventors prepared Comparative Example 2 in the same manner as Example 1 except for using the high-pressure disperser.

구체적으로, 콜로이달 설퍼 50 g에 1,3-부틸렌 글라이콜 300 g을 첨가하여 초음파 20 kHz, 1시간 조건하에 1차 분산을 진행하였다. 1차 분산액을 기계식 균질기를 이용하여 80℃ 내지 90℃에서 4,000 rpm 조건하에 교반을 진행하면서 정제수 649 g을 서서히 첨가하였고, 헤스페리딘 0.5 g과 숙신산 0.5 g을 첨가하여 1시간 동안 추가적으로 용해하였다. 위 용해액을 150 mesh로 여과하여 비교예 2를 제조하였다.Specifically, 300 g of 1,3-butylene glycol was added to 50 g of colloidal sulfur, and primary dispersion was performed under ultrasonic conditions of 20 kHz, 1 hour. While stirring the primary dispersion using a mechanical homogenizer at 4,000 rpm at 80°C to 90°C, 649 g of purified water was slowly added, and 0.5 g of hesperidin and 0.5 g of succinic acid were added and additionally dissolved for 1 hour. The above solution was filtered through 150 mesh to prepare Comparative Example 2.

실시예 1, 비교예 1 및 2의 제조방법에 따른 안정성 비교 결과는 도 1에 나타내었다.The stability comparison results according to the manufacturing methods of Example 1, Comparative Examples 1 and 2 are shown in Fig. 1.

도 1에 나타낸 바와 같이, 고온에서 균질기를 이용하여 용해한 비교예 1 및 초음파와 균질기로 용해 후, 고압분산기를 적용하지 않은 비교예 2 대비 실시예 1로 제조하였을 때, 가장 안정한 제형을 갖는 것을 확인할 수 있었다.As shown in Fig. 1, it was confirmed that Example 1 had the most stable formulation when prepared compared to Comparative Example 1, which was dissolved using a homogenizer at high temperature, and Comparative Example 2, which was dissolved using ultrasound and a homogenizer but did not use a high-pressure disperser.

비교예 3: 헤스페리딘과 숙신산이 첨가되지 않은 콜로이달 설퍼Comparative Example 3: Colloidal sulfur without hesperidin and succinic acid added

본 발명자들은 콜로이달 설퍼 복합물의 효능을 비교하기 위해, 상기 실시예 1과 동일한 제조방법으로 분산 및 제조되나, 헤스페리딘과 숙신산를 첨가하지 않은 비교예 3을 제조하였다.In order to compare the efficacy of colloidal sulfur complexes, the present inventors prepared Comparative Example 3, which was dispersed and prepared using the same manufacturing method as Example 1, but without adding hesperidin and succinic acid.

콜로이달 설퍼 50 g에 1,3-부틸렌 글라이콜 300 g을 첨가하여 초음파 20 kHz, 1시간 조건하에 1차 분산을 진행하였다. 1차 분산액을 기계식 균질기를 이용하여 80℃ 내지 90℃에서 4,000 rpm 조건하에 교반을 진행하면서 정제수 649 g을 서서히 첨가하여 용해하였다. 상기 용해액을 고압분산기를 이용하여 1,000 bar에서 3회 cycle을 진행한 후 150 mesh로 여과하여 비교예 3을 제조하였다.300 g of 1,3-butylene glycol was added to 50 g of colloidal sulfur, and primary dispersion was performed under ultrasonic conditions of 20 kHz, 1 hour. The primary dispersion was dissolved by slowly adding 649 g of purified water while stirring the dispersion using a mechanical homogenizer at 4,000 rpm at 80°C to 90°C. The solution was cycled 3 times at 1,000 bar using a high-pressure disperser, and then filtered through 150 mesh to prepare Comparative Example 3.

실시예 1, 비교예 3, 헤스페리딘 처리군, 및 숙신산 처리군의 anti-oily efficacy test 결과는 표 2에 나타내었다.The results of the anti-oily efficacy test of Example 1, Comparative Example 3, the hesperidin treatment group, and the succinic acid treatment group are shown in Table 2.

샘플sample 농도(%)density(%) DHT 처리DHT treatment 피지 평균량(%)Average amount of sebum (%) 표준편차standard deviation 표준오차standard error P-valueP-value Normal skinNormal skin -- 100.0100.0 0.000.00 0.000.00 1.00001.0000 Oily skinOily skin ++ 187.8187.8 6.766.76 3.903.90 0.00000.0000 살리실산salicylic acid 500 μg/ml500 μg/ml -- 95.695.6 6.696.69 3.863.86 0.31380.3138 실시예 1Example 1 1%1% ++ 183.2183.2 8.858.85 5.115.11 0.00010.0001 2%2% ++ 102.8102.8 8.328.32 4.804.80 0.59050.5905 3%3% ++ 65.265.2 2.202.20 1.271.27 0.00000.0000 비교예 3Comparative Example 3 1%1% ++ 192.7192.7 9.249.24 3.743.74 0.00040.0004 2%2% ++ 148.2148.2 8.388.38 4.964.96 0.68710.6871 3%3% ++ 109.4109.4 4.124.12 2.122.12 0.00000.0000 HesperidinHesperidin 0.05%0.05% ++ 174.3174.3 6.436.43 3.723.72 0.43210.4321 Succinic acidSuccinic acid 0.05%0.05% ++ 161.8161.8 8.968.96 6.936.93 0.01430.0143

표 2에서 나타낸 바와 같이, 헤스페리딘 및 숙신산을 첨가하지 않은 비교예 3 대비 실시예 1의 방법으로 제조된 샘플이 피지 억제능이 뛰어난 것을 확인할 수 있었으며, 헤스페리딘 및 숙신산 처리군 대비 실시예 1에서 피지 억제능이 뛰어난 것을 확인할 수 있었다. As shown in Table 2, it was confirmed that the sample manufactured by the method of Example 1 had superior sebum suppression ability compared to Comparative Example 3 without adding hesperidin and succinic acid, and it was confirmed that the sebum suppression ability was superior in Example 1 compared to the hesperidin and succinic acid treated group.

따라서, 이러한 결과는, 콜로이달 설퍼, 헤스페리딘 및 숙신산 단독 처리군 대비 콜로이달 설퍼 복합물이 시너지 효과에 의해 높은 피지 억제능을 나타낸다는 것을 의미한다.Therefore, these results indicate that the colloidal sulfur complex exhibits a higher sebum suppression ability through a synergistic effect compared to the colloidal sulfur, hesperidin, and succinic acid treatment groups alone.

실험예 1: pore care: anti-oily efficacy test - ACC(Acetyl-coenzyme A carboxylase) mRNA 발현 확인Experimental Example 1: Pore Care: Anti-Oil Efficacy Test - Confirmation of ACC (Acetyl-coenzyme A carboxylase) mRNA Expression

본 발명자들은 콜로이달 설퍼 복합물의 피지 생합성 관련 유전자 ACC에 대한 저해 효능을 확인하기 위해, Real time PCR을 이용하여 콜로이달 설퍼 복합물 처리에 따른 ACC의 mRNA 발현량을 확인하였다.In order to confirm the inhibitory effect of colloidal sulfur complex on the sebum biosynthesis-related gene ACC, the present inventors used real-time PCR to confirm the mRNA expression level of ACC according to treatment with colloidal sulfur complex.

구체적으로, 60 mm plate에 인간 피지 세포주(human sebocyte)를 접종하여 37℃, 5%, CO2 incubator에서 24시간 동안 배양하였다. 그 후, 배양된 세포의 배지를 serum free 배지 (DMEM/Ham's F12 1:1(gibco))로 교체하고, 시료를 세포에 처리하여 24시간 동안 배양하였다(37℃, 5%, CO2 incubator). 과잉 피지 생성을 유도하는 inducer로서 디하이드로테스토스테론(dihydrotestosterone, DHT)을 사용하였다. 배양한 세포를 QIAzolTM Lysis Reagent(Qiagen)로 모아 제조사의 방법에 따라 RNA를 분리하였으며, 분리된 RNA를 정량한 뒤 cDNA를 합성하여 Real time-PCR을 실시하였다.Specifically, human sebocytes were seeded on a 60 mm plate and cultured for 24 hours in a 37°C, 5% CO2 incubator. After that, the cultured cell medium was replaced with serum-free medium (DMEM/Ham's F12 1:1 (gibco)), and the cells were treated with the sample and cultured for 24 hours (37°C, 5% CO2 incubator). Dihydrotestosterone (DHT) was used as an inducer that induces excessive sebum production. The cultured cells were collected with QIAzol TM Lysis Reagent (Qiagen), and RNA was isolated according to the manufacturer's method. The isolated RNA was quantified, cDNA was synthesized, and real-time PCR was performed.

그 결과는 도 2 및 표 3에 나타내었다.The results are shown in Fig. 2 and Table 3.

샘플sample 농도(%)density(%) DHT 처리DHT treatment ACC 유전자 발현량(%)ACC gene expression level (%) 표준편차standard deviation 표준오차standard error P-valueP-value Normal skinNormal skin -- 100.0100.0 0.000.00 0.000.00 1.00001.0000 Oily skinOily skin ++ 153.9153.9 6.206.20 3.583.58 0.00010.0001 실시예 1Example 1 1%1% ++ 142.9142.9 9.319.31 5.375.37 0.00310.0031 2%2% ++ 106.6106.6 6.726.72 3.883.88 0.16500.1650 3%3% ++ 79.579.5 10.3810.38 5.995.99 0.02690.0269 비교예 3Comparative Example 3 1%1% ++ 148.4148.4 4.864.86 3.343.34 0.00120.0012 2%2% ++ 121.7121.7 8.728.72 6.546.54 0.07540.0754 3%3% ++ 98.398.3 11.2711.27 4.974.97 0.04640.0464 HesperidinHesperidin 0.05%0.05% ++ 131.7131.7 5.435.43 3.293.29 0.00120.0012 Succinic acidSuccinic acid 0.05%0.05% ++ 129.4129.4 7.107.10 4.624.62 0.08940.0894

도 2 및 표 3에 나타낸 바와 같이, DHT 유도에 따라 증가된 ACC에 대해 colloidal sulfur complex 2% 농도 이상부터 normal skin(untreated group) 수준까지 ACC 저해 효능이 나타났다. 또한, 콜로이달 설퍼, 헤스페리딘 및 숙신산 단독 처리군 대비 콜로이달 설퍼 복합물에서 ACC 저해 효능이 뛰어난 것을 확인할 수 있었다.As shown in Figure 2 and Table 3, ACC inhibition efficacy was observed at concentrations of 2% or higher of colloidal sulfur complex, reaching levels comparable to those of normal skin (untreated group) following DHT induction. Furthermore, the ACC inhibition efficacy of the colloidal sulfur complex was superior to that of the colloidal sulfur, hesperidin, and succinic acid groups treated alone.

따라서, 이러한 결과는, 콜로이달 설퍼, 헤스페리딘 및 숙신산 단독 처리군 대비 콜로이달 설퍼 복합물이 시너지 효과에 의해 ACC를 효과적으로 저해시킬 수 있으며, Therefore, these results indicate that the colloidal sulfur complex can effectively inhibit ACC through a synergistic effect compared to the group treated with colloidal sulfur, hesperidin, and succinic acid alone.

콜로이달 설퍼 복합물은 DHT에 유도된 ACC를 효과적으로 저해시킴으로써 호르몬 불균형에 의해 야기되는 과잉 피지 생성을 조절시켜주는 것으로 확인되었다.Colloidal sulfur complex has been shown to effectively inhibit DHT-induced ACC, thereby regulating excessive sebum production caused by hormonal imbalance.

실험예 2: Pore care: Anti-oily efficacy test - FAS (fatty acid synthase) mRNA expressionExperimental Example 2: Pore care: Anti-oil efficacy test - FAS (fatty acid synthase) mRNA expression

본 발명자들은 콜로이달 설퍼 복합물의 과잉피지 생성에 대한 조절능을 확인하기 위해, 지방산 합성 효소 FAS의 과발현을 유도하고, Real time PCR을 이용하여 콜로이달 설퍼 복합물 처리에 따른 FAS의 mRNA 발현량을 확인하였다.To confirm the ability of the colloidal sulfur complex to regulate excessive sebum production, the inventors induced overexpression of the fatty acid synthase FAS and confirmed the mRNA expression level of FAS according to treatment with the colloidal sulfur complex using real-time PCR.

구체적으로, 60 mm plate에 인간 피지 세포주(human sebocyte)를 접종하여 37℃, 5%, CO2 incubator에서 24시간 동안 배양하였다. 배양 후, 배양된 세포의 배지를 serum free 배지 (DMEM/Ham's F12 1:1(gibco))로 교체하고, 시료를 세포에 처리하여 24시간 동안 배양하였다(37℃, 5%, CO2 incubator). 과잉 피지 생성을 유도하는 inducer로는 DHT를 사용하였다. 배양한 세포를 QIAzolTM Lysis Reagent(Qiagen)로 모아 제조사의 방법에 따라 RNA를 분리하였으며, 분리된 RNA를 정량한 뒤 cDNA를 합성하여 Real time-PCR을 실시하였다.Specifically, human sebocytes were seeded on a 60 mm plate and cultured for 24 hours in a 37°C, 5% CO2 incubator. After culture, the cultured cell medium was replaced with serum-free medium (DMEM/Ham's F12 1:1 (gibco)), and the cells were treated with the sample and cultured for 24 hours (37°C, 5% CO2 incubator). DHT was used as an inducer that induces excessive sebum production. The cultured cells were collected with QIAzol Lysis Reagent (Qiagen), and RNA was isolated according to the manufacturer's method. The isolated RNA was quantified, cDNA was synthesized, and real-time PCR was performed.

그 결과는 도 3 및 표 4에 나타내었다.The results are shown in Fig. 3 and Table 4.

샘플sample 농도(%)density(%) DHT 처리DHT treatment FAS 유전자 발현량(%)FAS gene expression level (%) 표준편차standard deviation 표준오차standard error P-valueP-value Normal skinNormal skin -- 100.0100.0 0.000.00 0.000.00 1.00001.0000 Oily skinOily skin ++ 187.8187.8 6.766.76 3.903.90 0.00000.0000 살리실산salicylic acid 500 μg/ml500 μg/ml ++ 95.695.6 6.696.69 3.863.86 0.31380.3138 실시예 1Example 1 1%1% ++ 183.2183.2 8.858.85 5.115.11 0.00010.0001 2%2% ++ 102.8102.8 8.328.32 4.804.80 0.59050.5905 3%3% ++ 65.265.2 2.202.20 1.271.27 0.00000.0000 비교예 3Comparative Example 3 1%1% ++ 175.2175.2 6.866.86 4.414.41 0.00120.0012 2%2% ++ 134.7134.7 7.647.64 6.566.56 0.06590.0659 3%3% ++ 112.2112.2 9.429.42 5.945.94 0.01450.0145 HesperidinHesperidin 0.05%0.05% ++ 148.6148.6 2.942.94 3.213.21 0.02650.0265 Succinic acidSuccinic acid 0.05%0.05% ++ 154.7154.7 6.486.48 4.844.84 0.14850.1485

도 3 및 표 4에 나타낸 바와 같이, DHT 유도에 따라 증가된 FAS는 콜로이달 설퍼 복합물 2% 농도 이상부터 normal skin (untreated group) 수준과 유사하게 뚜렷한 감소 경향이 나타났다. 또한, 콜로이달 설퍼, 헤스페리딘 및 숙신산 단독 처리군과 비교하여 콜로이달 설퍼 복합물 처리군에서 FAS 발현량이 뚜렷하게 감소된 것을 확인할 수 있었다.As shown in Figure 3 and Table 4, the increased FAS induced by DHT showed a marked decrease similar to the level of normal skin (untreated group) from 2% concentration or higher of the colloidal sulfur complex. In addition, it was confirmed that the level of FAS expression was markedly reduced in the colloidal sulfur complex treatment group compared to the group treated with colloidal sulfur, hesperidin, and succinic acid alone.

따라서, 콜로이달 설퍼, 헤스페리딘 및 숙신산 처리군 대비 콜로이달 설퍼 복합물 처리군은 시너지 효과에 의해 FAS 발현을 효과적으로 저해시킬 수 있으며, Therefore, the colloidal sulfur complex treatment group can effectively inhibit FAS expression through a synergistic effect compared to the colloidal sulfur, hesperidin, and succinic acid treatment groups.

이러한 결과를 통해, 콜로이달 설퍼 복합물은 과잉 피지 생성을 조절하여 모공을 깨끗하고 건강하게 유지시켜 줄 수 있는 원료로 사용될 수 있을 것으로 판단된다.Based on these results, it is believed that colloidal sulfur complex can be used as a raw material that can control excessive sebum production and keep pores clean and healthy.

실험예 3: Pore care: Anti-oily efficacy test - AR mRNA expressionExperimental Example 3: Pore care: Anti-oil efficacy test - AR mRNA expression

본 발명자들은 콜로이달 설퍼 복합물의 안드로겐 수용체 (androgen receptor, AR) 발현 저해를 통한 피지 조절 효능을 확인하기 위해, Real time PCR을 이용하여 콜로이달 설퍼 복합물 처리에 따른 AR의 mRNA 발현량을 확인하였다.In order to confirm the sebum control effect of the colloidal sulfur complex through inhibition of androgen receptor (AR) expression, the inventors of the present invention used real-time PCR to confirm the mRNA expression level of AR according to treatment with the colloidal sulfur complex.

구체적으로, 60 mm plate에 인간 피지 세포주(human sebocyte)를 접종하여 37℃, 5%, CO2 incubator에서 24시간 동안 배양하였다. 배양 후, 배양된 세포의 배지를 serum free 배지 (DMEM/Ham's F12 1:1(gibco))로 교체하고, 시료를 세포에 처리하여 24시간 동안 배양하였다(37℃, 5%, CO2 incubator). 과잉 피지 생성을 유도하는 inducer로는 DHT를 사용하였다. 배양한 세포를 QIAzolTM Lysis Reagent(Qiagen)로 모아 제조사의 방법에 따라 RNA를 분리하였으며, 분리된 RNA를 정량한 뒤 cDNA를 합성하여 Real time-PCR을 실시하였다.Specifically, human sebocytes were seeded on a 60 mm plate and cultured for 24 hours in a 37°C, 5% CO2 incubator. After culture, the cultured cell medium was replaced with serum-free medium (DMEM/Ham's F12 1:1 (gibco)), and the cells were treated with the sample and cultured for 24 hours (37°C, 5% CO2 incubator). DHT was used as an inducer that induces excessive sebum production. The cultured cells were collected with QIAzol Lysis Reagent (Qiagen), and RNA was isolated according to the manufacturer's method. The isolated RNA was quantified, cDNA was synthesized, and real-time PCR was performed.

그 결과는 도 4 및 표 5에 나타내었다.The results are shown in Fig. 4 and Table 5.

샘플sample 농도(%)density(%) DHT 처리DHT treatment AR 유전자 발현량(%)AR gene expression level (%) 표준편차standard deviation 표준오차standard error P-valueP-value Normal skinNormal skin -- 100.0100.0 0.000.00 0.000.00 1.00001.0000 Oily skinOily skin ++ 186.8186.8 21.8621.86 12.6212.62 0.00230.0023 살리실산salicylic acid 500 μg/ml500 μg/ml ++ 92.292.2 13.9313.93 8.048.04 0.36860.3686 실시예 1Example 1 1%1% ++ 184.8184.8 8.848.84 5.115.11 0.00010.0001 2%2% ++ 159.4159.4 9.129.12 5.275.27 0.00040.0004 3%3% ++ 87.387.3 10.6110.61 6.136.13 0.10630.1063 비교예 3Comparative Example 3 1%1% ++ 185.4185.4 10.2410.24 5.675.67 0.04180.0418 2%2% ++ 167.5167.5 9.399.39 7.917.91 0.19430.1943 3%3% ++ 142.7142.7 11.7511.75 4.824.82 0.01890.0189 HesperidinHesperidin 0.05%0.05% ++ 137.2137.2 6.386.38 4.354.35 0.02150.0215 Succinic acidSuccinic acid 0.05%0.05% ++ 146.8146.8 8.19August 19 6.756.75 0.00980.0098

표 5 및 도 4에 나타낸 바와 같이, 콜로이달 설퍼 복합물 3%의 농도에서 DHT에 의해 유도된 AR 발현이 뚜렷하게 감소된 것으로 나타났다. 또한, 콜로이달 설퍼, 헤스페리딘 및 숙신산 단독 처리군 대비 콜로이달 설퍼 복합물 처리군에서 AR 발현 저해 효능이 뛰어난 것을 확인할 수 있었다.As shown in Table 5 and Figure 4, DHT-induced AR expression was significantly reduced at a 3% concentration of the colloidal sulfur complex. Furthermore, the colloidal sulfur complex treatment group demonstrated superior AR expression inhibition efficacy compared to the colloidal sulfur, hesperidin, and succinic acid treatment groups alone.

따라서, 이러한 결과는, 콜로이달 설퍼 복합물은 DHT의 수용체 AR에 대한 초기 경로 (AR-mediated signaling)를 저해시킴으로써 뚜렷한 피지 조절 효능을 나타냄을 의미한다.Therefore, these results indicate that colloidal sulfur complexes exhibit a marked sebum-regulating effect by inhibiting the early pathway (AR-mediated signaling) of DHT to its receptor AR.

실험예 4: Pore care: Skin exfoliation test - Clinical (인체피부간이임상평가)Experimental Example 4: Pore Care: Skin Exfoliation Test - Clinical (Human Skin Brief Clinical Evaluation)

본 발명자들은 임상수준에서 콜로이달 설퍼 복합물의 각질개선 효능을 확인하기 위해, 32세(±4.5 years) 피험자 3명(Female)을 대상으로 콜로이달 설퍼 복합물을 인체 피부에 적용하여 간이임상평가를 진행하였다. In order to confirm the keratin improvement efficacy of the colloidal sulfur complex at the clinical level, the inventors of the present invention conducted a simple clinical evaluation by applying the colloidal sulfur complex to human skin of three female subjects aged 32 years (±4.5 years).

구체적으로, 각질이 많은 부위 (하박 내측)에 각질을 채취하는 테이프 (B-squam tape)을 이용하여 tape stripping 하였고, 콜로이달 설퍼 복합물을 도포하기 전과 후에 채취한 각질을 비교하였다. Skin scope (Moritex, Japan)를 이용하여 각질을 확대하여 촬영하고 (×200 배율), Image J program을 이용하여 각질에 대한 면적을 정량화 하였다.Specifically, tape stripping was performed using a tape (B-squam tape) to collect keratin from an area with a lot of keratin (inner forearm), and the keratin collected before and after application of the colloidal sulfur complex was compared. The keratin was enlarged and photographed (×200 magnification) using a skin scope (Moritex, Japan), and the area of keratin was quantified using the Image J program.

그 결과는 도 5, 도 6, 및 표 6에 나타내었다.The results are shown in Fig. 5, Fig. 6, and Table 6.

SampleSample ApplicationApplication 각질면적Keratinous surface area Percent (%)Percent (%) VehicleVehicle BeforeBefore 165.006165.006 100100 AfterAfter 126.66126.66 76.7676.76 Colloidal sulfur complex 5%Colloidal sulfur complex 5% BeforeBefore 169.46169.46 100100 AfterAfter 73.4873.48 43.3643.36

도 5, 도 6, 및 표 6에 나타낸 바와 같이, 콜로이달 설퍼 복합물 처리 시, 공제형 (vehicle) 대비 43.5% 감소시킨 것으로 나타났다. 공제형 대비 개선율은 다음과 같이 계산되었다.As shown in Figures 5, 6, and Table 6, when treating with a colloidal sulfur complex, a 43.5% reduction was observed compared to the vehicle type. The improvement rate compared to the vehicle type was calculated as follows.

공제형 대비 개선율 (%)=(76.76/76.76*100)-(43.36/76.76*100)Improvement rate compared to the public offering (%) = (76.76/76.76*100)-(43.36/76.76*100)

(공제형 각질 면적 76.76%을 100%로 두고, 시료 처리 후 각질 면적 43.36%에 대해 계산함)(The keratin area of 76.76% of the sample is set as 100%, and the calculation is made for the keratin area of 43.36% after sample processing)

따라서, 이러한 결과를 통해 콜로이달 설퍼 복합물은 각질을 개선시켜 줄 수 있는 효능을 가진 원료로 판단된다.Therefore, based on these results, the colloidal sulfur complex is judged to be a raw material with the ability to improve keratin.

실험예 5: Anti-acne efficacy test - TLR-2 mRNA expressionExperimental Example 5: Anti-acne efficacy test - TLR-2 mRNA expression

본 발명자들은 콜로이달 설퍼 복합물의 TLR-2 (Toll-like receptor-2) 발현 저해를 통한 항여드름 효능을 확인하기 위해, Real time PCR을 이용하여 콜로이달 설퍼 복합물 처리에 따른 TLR-2의 mRNA 발현량을 확인하였다.In order to confirm the anti-acne efficacy of the colloidal sulfur complex through inhibition of TLR-2 (Toll-like receptor-2) expression, the inventors of the present invention used real-time PCR to confirm the mRNA expression level of TLR-2 according to treatment with the colloidal sulfur complex.

구체적으로, 60 mm plate에 인간 피지 세포주(human sebocyte)를 접종하여 37℃, 5%, CO2 incubator에서 24시간 동안 배양하였다. 배양 후, 배양된 세포의 배지를 serum free 배지 (DMEM/Ham's F12 1:1(gibco))로 교체하고, 시료를 세포에 처리하여 24시간 동안 배양하였다(37℃, 5%, CO2 incubator). TLR-2의 과발현을 일으키는 inducer로서 LPS를 사용하였다. 배양한 세포를 QIAzolTM Lysis Reagent(Qiagen)로 모아 제조사의 방법에 따라 RNA를 분리하였으며, 분리된 RNA를 정량한 뒤 cDNA를 합성하여 Real time-PCR을 실시하였다.Specifically, human sebocytes were seeded on a 60 mm plate and cultured for 24 hours at 37°C, 5% CO2 incubator. After culture, the cultured cell medium was replaced with serum-free medium (DMEM/Ham's F12 1:1 (gibco)), and the cells were treated with the sample and cultured for 24 hours (37°C, 5% CO2 incubator). LPS was used as an inducer that causes overexpression of TLR-2. The cultured cells were collected with QIAzol Lysis Reagent (Qiagen), and RNA was isolated according to the manufacturer's method. The isolated RNA was quantified, cDNA was synthesized, and real-time PCR was performed.

그 결과는 도 7 및 표 7에 나타내었다.The results are shown in Fig. 7 and Table 7.

샘플sample 농도(%)density(%) LPS 처리LPS treatment TLR-2 유전자 발현량(%)TLR-2 gene expression level (%) 표준편차standard deviation 표준오차standard error P-valueP-value Normal skinNormal skin -- 100.0100.0 0.000.00 0.000.00 1.00001.0000 Oily skinOily skin ++ 167.8167.8 12.4212.42 7.177.17 0.00070.0007 실시예 1Example 1 1%1% ++ 140.5140.5 15.5415.54 8.978.97 0.01070.0107 2%2% ++ 125.1125.1 10.2410.24 5.915.91 0.01330.0133 3%3% ++ 87.587.5 6.316.31 3.643.64 0.02640.0264 비교예 3Comparative Example 3 1%1% ++ 153.7153.7 8.16August 16 5.905.90 0.04150.0415 2%2% ++ 139.4139.4 6.756.75 4.524.52 0.01150.0115 3%3% ++ 117.5117.5 12.7312.73 8.778.77 0.12720.1272 HesperidinHesperidin 0.05%0.05% ++ 153.8153.8 10.6810.68 7.387.38 0.02550.0255 Succinic acidSuccinic acid 0.05%0.05% ++ 132.1132.1 7.967.96 5.995.99 0.10870.1087

도 7 및 표 7에 나타낸 바와 같이, 콜로이달 설퍼 복합물 3% 농도에서 LPS 유도에 따라 과발현된 TLR-2에 대해 untreated group 수준까지 저해 효능이 나타나는 것으로 확인되었다. 또한, 콜로이달 설퍼, 헤스페리딘 및 숙신산 단독 처리군 대비 콜로이달 설퍼 복합물 처리군에서 TLR-2 발현량이 뚜렷하게 감소된 것을 확인할 수 있었다.As shown in Figure 7 and Table 7, it was confirmed that the inhibitory effect of the colloidal sulfur complex at a concentration of 3% was shown for TLR-2 overexpressed by LPS induction, reaching the level of the untreated group. In addition, it was confirmed that the expression level of TLR-2 was significantly reduced in the colloidal sulfur complex treatment group compared to the group treated with colloidal sulfur, hesperidin, and succinic acid alone.

따라서, 콜로이달 설퍼 복합물은 LPS에 의해 유도된 TLR-2의 발현을 저해시킴으로써, 염증성 여드름 생성을 억제할 수 있는 항여드름 효능을 가진 원료로 판단된다.Therefore, the colloidal sulfur complex is considered to be a raw material with anti-acne efficacy that can suppress the formation of inflammatory acne by inhibiting the expression of TLR-2 induced by LPS.

실험예 6: Experimental Example 6: Cutibacterium acnesCutibacterium acnes 에 대한 항균력 테스트Antibacterial activity test for

본 발명자들은 여드름균인 Cutibacterium acnes에 대한 콜로이달 설퍼 복합물의 항균력을 확인하기 위해, 콜로이달 설퍼 복합물 처리에 따른 균 감소율을 측정하였다.In order to confirm the antibacterial effect of a colloidal sulfur complex against Cutibacterium acnes , the inventors measured the bacterial reduction rate according to treatment with the colloidal sulfur complex.

구체적으로, Cutibacteria acnes 균주를 37℃, 혐기성 조건에서 5% blood TSA에 5일 동안 배양하였다. C. acnes의 배양조건은 표 8에 나타내었다.Specifically, Cutibacteria acnes strains were cultured in 5% blood TSA at 37°C under anaerobic conditions for 5 days. The culture conditions for C. acnes are shown in Table 8.

배양조건Culture conditions 균주명Strain name 배양조건Culture conditions 대기조건Waiting conditions 배양시간Incubation time 배지badge Cutibacterium acnesCutibacterium acnes 37℃37℃ AnaerobicAnaerobic 5일5 days 5% blood TSA5% blood TSA

균수를 조정한 균액을 시험구와 대조구 (펩톤수)에 첨가한 후 10초간 교반시킨 후 실온에서 30분 방치하였다. 그 후, 13,000 rpm의 조건으로 2분간 원심분리하여 상층액을 제거하고, PBS를 첨가하여 2회 세척하였다. 원액을 단계희석하여 배지에 접종하고 CFU를 개수하여 균 감소율을 측정하였으며, 감소율은 아래와 같이 계산되었다.The adjusted bacterial solution was added to the test group and the control group (peptone water), stirred for 10 seconds, and left at room temperature for 30 minutes. The supernatant was removed by centrifugation at 13,000 rpm for 2 minutes, and washed twice with PBS. The stock solution was serially diluted and inoculated onto media, and the CFU was counted to determine the bacterial reduction rate, which was calculated as follows.

감소율 (%) = {(접종수-시간경과 후 균주)/접종수}×100Reduction rate (%) = {(number of inoculations - strain after time) / number of inoculations} × 100

그 결과는 도 8, 도 9 및 표 9에 나타내었다.The results are shown in Fig. 8, Fig. 9 and Table 9.

시험항목Test items 접종수 (CFU/mL)Inoculum (CFU/mL) 결과값 (CFU/mL)Result value (CFU/mL) 감소율 (%)Decrease rate (%) 항균력 테스트Cutibacterium acnes ATCC 6919Antibacterial activity test: Cutibacterium acnes ATCC 6919 7.55×104 7.55×10 4 5959 99.999.9

도 8 및 도 9에 나타낸 바와 같이, 대조구 대비 시험구에서 뚜렷하게 C. acnes가 감소된 것을 확인하였다. 또한, 표 9에 나타낸 바와 같이, 7.55×104 CFU/mL 접종수가 59 CFU/mL의 접종수로 감소되었으며, 99.9%의 감소율을 보였다.As shown in Figures 8 and 9, it was confirmed that C. acnes was significantly reduced in the test group compared to the control group. In addition, as shown in Table 9, the inoculum of 7.55×10 4 CFU/mL was reduced to 59 CFU/mL, showing a reduction rate of 99.9%.

따라서, 콜로이달 설퍼 복합물은 여드름균을 억제할 수 있는 항여드름 효능을 가진 원료로 판단된다.Therefore, colloidal sulfur complex is considered to be a raw material with anti-acne efficacy that can suppress acne bacteria.

제조예 1: 화장료의 제조Manufacturing Example 1: Manufacturing of cosmetics

1-1. 에센스의 제조1-1. Preparation of essence

본 발명의 콜로이달 설퍼 복합물을 유효성분으로 함유하는 에센스는 하기 표 10의 조성과 같이 제조하였다.An essence containing the colloidal sulfur complex of the present invention as an active ingredient was prepared according to the composition shown in Table 10 below.

구체적으로, 다이소듐이디티에이, 글리세린, 프로판다이올, 소듐폴리아크릴로일 다이메틸타우레이트를 정제수에 분산시켜 70℃ 내지 75℃로 가열하고 아지믹서로 5분간 교반하였다. 45℃에서 1,2-헥산다이올, 에틸헥실글리세린을 투입하고 3분간 교반한 후 30℃까지 냉각하였다. 그 후 실시예 1 및 비교예 1를 투입하고, 3분간 교반 및 탈포하여 에센스 제형을 제조하였다.Specifically, disodium EDTA, glycerin, propanediol, and sodium polyacryloyl dimethyl taurate were dispersed in purified water, heated to 70°C to 75°C, and stirred for 5 minutes in an azimuth mixer. 1,2-hexanediol and ethylhexylglycerin were added at 45°C, stirred for 3 minutes, and then cooled to 30°C. Thereafter, Example 1 and Comparative Example 1 were added, stirred for 3 minutes, and defoamed to prepare an essence formulation.

조성furtherance 제형예 1Formulation Example 1 비교제형예 1Comparative formulation example 1 중량%weight% 실시예 1Example 1 1010 -- 비교예 1Comparative Example 1 -- 1010 정제수purified water 잔량Remaining amount 잔량Remaining amount 글리세린glycerin 55 55 프로판다이올propanediol 22 22 1,2-헥산다이올1,2-hexanediol 22 22 소듐폴리아크릴로일다이메틸타우레이트Sodium polyacryloyldimethyltaurate 0.20.2 0.20.2 에틸헥실글리세린Ethylhexylglycerin 0.050.05 0.050.05 다이소듐이디티에이Disodium EDTA 0.020.02 0.020.02 합계total 100100 100100

실험예 7. 분산 안정성 평가Experimental Example 7. Evaluation of Dispersion Stability

본 발명자들은 상기 제형예 1 및 비교제형예 1의 조성으로 제조된 에센스의 분산 상태를 비교하기 위해, 다중광산란(multiple light scattering) 원리를 이용하여 분산 안정성을 평가하였다.In order to compare the dispersion state of the essence manufactured with the compositions of Formulation Example 1 and Comparative Formulation Example 1, the inventors evaluated the dispersion stability using the principle of multiple light scattering.

분산 안정성을 정량화 하기 위해, 입도분산성측정기 (formulaction사, turbiscan)를 사용하였으며, 투과율(transmission) 및 후방 산란(backscattering)되는 양(flux, %)으로 측정한 후 분산 상태를 비교하였다. To quantify the dispersion stability, a particle size dispersity meter (Formulaction, Turbiscan) was used, and the dispersion state was compared after measuring the transmission and backscattering amount (flux, %).

구체적으로, 제조된 제형예 1 및 비교제형예 1을 원통형 유리병(vial)에 채운 후 40˚C에서 4시간 동안 25초에 1회씩 총 577회 측정하였고, 측정된 투과율 및 후방 산란의 결과를 도 10의 A 및 B에 나타내었다. Specifically, manufactured Formulation Example 1 and Comparative Formulation Example 1 were filled into a cylindrical glass vial, and then measured 577 times in total, once every 25 seconds for 4 hours at 40˚C, and the results of the measured transmittance and backscattering are shown in A and B of Fig. 10.

도 10의 X축은 측정용 유리병의 높이를 나타내며, Y축은 각 높이에 따른 투과율 및 후방 산란 값을 나타내는데, 4시간 기준으로 측정된 30mm 높이에서의 투과율 및 후방 산란 값을 확인하였고, 이를 하기 표 11에 나타내었다. The X-axis of Fig. 10 represents the height of the measuring glass bottle, and the Y-axis represents the transmittance and backscattering values according to each height. The transmittance and backscattering values at a height of 30 mm measured over a 4-hour period were confirmed, and are shown in Table 11 below.

투과율 (%)Transmittance (%) 후방 산란 (%)Backscatter (%) 제형예 1Formulation Example 1 88.70175188.701751 -- 비교제형예 1Comparative formulation example 1 0.0146850.014685 25.11733625.117336

도 10 및 표 11에 나타낸 바와 같이, 비교 제형예 1은 투과율이 낮고, 후방 산란이 높은 반면, 제형예 1은 투과율이 높아 제형 내 분산 향상 효과가 우수한 것으로 나타났다.As shown in Figure 10 and Table 11, Comparative Formulation Example 1 had low transmittance and high backscattering, whereas Formulation Example 1 had high transmittance and showed an excellent effect of improving dispersion within the formulation.

실험예 8. 가속 안정성 평가Experimental Example 8. Acceleration Stability Evaluation

본 발명자들은 상기 제형예 1 및 비교제형예 1의 조성으로 제조된 에센스제형의 안정성을 확인하기 위해, 원심력 하에서 제형의 재분리되는 정도를 측정하는 가속 안정성 평가를 수행하였다.In order to confirm the stability of the essence formulations manufactured with the compositions of Formulation Example 1 and Comparative Formulation Example 1, the present inventors performed an accelerated stability evaluation to measure the degree of re-separation of the formulations under centrifugal force.

제형의 가속 안정성을 평가하기 위해, 원심력 하에서 시료의 안정성을 분석하는 장비인 LumiSizer Dispersion Analyse를 활용하였고, 50℃에서 약 4시간 동안 4000 rpm 조건에서 분석하였다. To evaluate the acceleration stability of the formulation, a LumiSizer Dispersion Analyzer, a device that analyzes the stability of samples under centrifugal force, was used, and the analysis was performed at 50°C for approximately 4 hours at 4000 rpm.

시료의 분산 안정성 정도를 불안정성 지수(Instabiity Index) 수치로 나타내었으며, 시료 간 분산 안정성 정도를 비교 측정한 결과는 도 11의 A 및 B와 표 12에 나타내었다. The degree of dispersion stability of the sample was expressed as an instability index, and the results of comparing and measuring the degree of dispersion stability between samples are shown in Figures 11A and B and Table 12.

불안정성 지수Instability Index
(Instability Index)(Instability Index)
제형예 1Formulation Example 1 0.2800.280 비교제형예 1Comparative formulation example 1 0.3020.302

도 11에 나타낸 바와 같이, 제형예 1인 경우, 원심력에 의한 빛 투과도의 변화가 적은 반면, 비교제형예 1인 경우, 원심력에 의한 빛 투과도의 변화가 크게 나타남을 확인할 수 있었다. As shown in Fig. 11, in the case of Formulation Example 1, it was confirmed that the change in light transmittance due to centrifugal force was small, whereas in the case of Comparative Formulation Example 1, the change in light transmittance due to centrifugal force was large.

또한, 표 12에 나타낸 바와 같이, 제형예 1의 불안정성 지수가 비교제형예 1보다 불안정성 지수 수치가 낮게 측정되었으며, In addition, as shown in Table 12, the instability index of Formulation Example 1 was measured to be lower than that of Comparative Formulation Example 1.

이러한 결과, 제형예 1이 상대적으로 안정성이 더 우수한 것을 의미한다.These results indicate that Formulation Example 1 has relatively better stability.

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Claims (15)

콜로이달 설퍼(colloidal sulfur), 헤스페리딘(hesperidin), 및 숙신산(succinic acid)을 유효성분으로 포함하는 피지 분비 조절용 또는 여드름 개선용 화장료 조성물로서,
상기 콜로이달 설퍼(colloidal sulfur), 헤스페리딘(hesperidin), 및 숙신산(succinic acid)은 고압분산을 통해 분산된 것을 특징으로 하는, 화장료 조성물.
A cosmetic composition for controlling sebum secretion or improving acne, comprising colloidal sulfur, hesperidin, and succinic acid as active ingredients.
A cosmetic composition characterized in that the colloidal sulfur, hesperidin, and succinic acid are dispersed through high-pressure dispersion.
삭제delete 제1항에 있어서, 상기 콜로이달 설퍼는 조성물 총 중량에 대해 0.001 중량% 내지 30%의 비율로 포함되는 것을 특징으로 하는, 화장료 조성물.
A cosmetic composition, characterized in that in claim 1, the colloidal sulfur is included in a proportion of 0.001 wt% to 30 wt% based on the total weight of the composition.
제1항에 있어서, 상기 헤스페리딘은 콜로이달 설퍼 100중량부에 대해 0.001 내지 30 중량부의 비율로 포함되는 것을 특징으로 하는, 화장료 조성물.
A cosmetic composition characterized in that, in claim 1, the hesperidin is included in a ratio of 0.001 to 30 parts by weight per 100 parts by weight of colloidal sulfur.
제1항에 있어서, 상기 숙신산은 콜로이달 설퍼 100중량부에 대해 0.001 내지 30 중량부의 비율로 포함되는 것을 특징으로 하는, 화장료 조성물.
A cosmetic composition according to claim 1, characterized in that the succinic acid is included in a ratio of 0.001 to 30 parts by weight per 100 parts by weight of colloidal sulfur.
콜로이달 설퍼, 헤스페리딘, 및 숙신산을 유효성분으로 포함하는 여드름 예방 또는 치료용 약제학적 조성물로서,
상기 콜로이달 설퍼, 헤스페리딘, 및 숙신산은 고압분산을 통해 분산된 것을 특징으로 하는, 약제학적 조성물.
A pharmaceutical composition for preventing or treating acne, comprising colloidal sulfur, hesperidin, and succinic acid as active ingredients,
A pharmaceutical composition characterized in that the colloidal sulfur, hesperidin, and succinic acid are dispersed through high pressure dispersion.
콜로이달 설퍼, 헤스페리딘, 및 숙신산을 유효성분으로 포함하는 큐티박테리움 아크네스 (Cutibacterium acnes)에 대한 항균용 조성물로서,
상기 콜로이달 설퍼, 헤스페리딘, 및 숙신산은 고압분산을 통해 분산된 것을 특징으로 하는, 항균용 조성물.
An antibacterial composition for Cutibacterium acnes comprising colloidal sulfur, hesperidin, and succinic acid as active ingredients,
An antibacterial composition characterized in that the colloidal sulfur, hesperidin, and succinic acid are dispersed through high-pressure dispersion.
다음 단계를 포함하는 콜로이달 설퍼, 헤스페리딘, 및 숙신산을 포함하는 조성물의 제조방법:
(a) 콜로이달 설퍼를 수성용매에 분산하여 분산액을 제조하는 단계;
(b) 상기 단계 (a)에서 수득된 분산액에 헤스페리딘 및 숙신산을 첨가하여 용해하는 단계; 및
(c) 상기 단계 (b)에서 수득된 용액을 고압분산시키는 단계.
A method for preparing a composition comprising colloidal sulfur, hesperidin, and succinic acid, comprising the following steps:
(a) a step of preparing a dispersion by dispersing colloidal sulfur in an aqueous solvent;
(b) a step of adding hesperidin and succinic acid to the dispersion obtained in step (a) and dissolving them; and
(c) A step of high-pressure dispersing the solution obtained in step (b).
제8항에 있어서, 상기 단계 (a)는 초음파(ultra sonication)를 이용하여 분산시키는 것을 특징으로 하는, 제조방법.
A manufacturing method characterized in that, in the 8th paragraph, step (a) disperses using ultrasonication.
제9항에 있어서, 상기 단계 (a)는 1,000 Hz 내지 30,000 Hz의 주파수로 0.5시간 내지 5시간 동안 수행되는 것을 특징으로 하는, 제조방법.
A manufacturing method, characterized in that in claim 9, step (a) is performed for 0.5 to 5 hours at a frequency of 1,000 Hz to 30,000 Hz.
제8항에 있어서, 상기 수성용매는 물, 프로필렌 글라이콜(propylene glycol), 펜틸렌 글라이콜(pentylene glycol), 및 부틸렌 글라이콜(butylene glycol)로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 수성용매인, 제조방법.
A manufacturing method in claim 8, wherein the aqueous solvent is at least one aqueous solvent selected from the group consisting of water, propylene glycol, pentylene glycol, and butylene glycol.
제8항에 있어서, 상기 단계 (b)는 균질기(homogenizer)를 이용하여 용해시키는 것을 특징으로 하는, 제조방법.
A manufacturing method characterized in that, in the 8th paragraph, step (b) dissolves using a homogenizer.
제12항에 있어서, 상기 단계 (b)는 1,000 rpm 내지 5,000 rpm의 회전수로 0.5시간 내지 5시간 동안 수행되는 것을 특징으로 하는, 제조방법.
A manufacturing method, characterized in that in claim 12, step (b) is performed at a rotation speed of 1,000 rpm to 5,000 rpm for 0.5 to 5 hours.
제8항에 있어서, 상기 단계 (b)는 40℃ 내지 90℃에서 수행되는 것을 특징으로 하는, 제조방법.
A manufacturing method, characterized in that in claim 8, step (b) is performed at 40°C to 90°C.
제8항에 있어서, 상기 단계 (c)는 100 bar 내지 1,500 bar의 압력에서 1 내지 5 cycle 동안 수행되는 것을 특징으로 하는, 제조방법.
A manufacturing method, characterized in that in claim 8, step (c) is performed for 1 to 5 cycles at a pressure of 100 bar to 1,500 bar.
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