KR102774103B1 - The method for manufacturing the printed circuit board - Google Patents
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Abstract
실시 예에 따른 인쇄회로기판은 캐비티를 포함하는 제1 절연부; 상기 제1 절연부의 상면 위에 배치된 제2 절연부; 상기 제1 절연부의 하면 아래에 배치된 제3 절연부; 및 상기 캐비티 내에 배치된 전자 소자를 포함하고, 상기 캐비티는, 상기 제3 절연부와 마주보는 면의 제1 부분과, 상기 제1 부분과 반대되는 면의 제2 부분을 포함하고, 상기 제1 부분의 폭은, 상기 제2 부분의 폭보다 크다.A printed circuit board according to an embodiment includes a first insulating portion including a cavity; a second insulating portion arranged on an upper surface of the first insulating portion; a third insulating portion arranged below a lower surface of the first insulating portion; and an electronic component arranged within the cavity, wherein the cavity includes a first portion on a surface facing the third insulating portion and a second portion on a surface opposite to the first portion, and a width of the first portion is greater than a width of the second portion.
Description
실시 예는 인쇄회로기판에 관한 것으로, 특히 전자소자 내장형 인쇄회로기판 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a printed circuit board, and more particularly, to a printed circuit board with built-in electronic components and a method for manufacturing the same.
수동소자와 능동소자가 인쇄회로기판의 표면을 공유하고 있는 종래의 인쇄회로기판과는 달리 임베디드(Embedded) 인쇄회로기판(Printed Circuit Board)은 저항이나 커패시터 등과 같은 소자가 기판에 내장되어 있어 인쇄회로기판의 표면에 여유공간을 확보할 수 있어 종래의 인쇄회로기판에 비하여 배선밀도를 높일 수 있어 더욱 컴팩트한 전자기기의 개발이 가능하게 된다.Unlike conventional printed circuit boards in which passive and active components share the surface of the printed circuit board, embedded printed circuit boards have components such as resistors and capacitors built into the board, allowing for free space on the surface of the printed circuit board, which allows for higher wiring density than conventional printed circuit boards, enabling the development of more compact electronic devices.
또한, 이러한 임베디드 인쇄회로기판은 소자가 수직방향으로 연결되어 배선 길이가 크게 감소되어 고주파 신호를 사용하는 전자기기에서 기생효과(Parasitic Effect)에 의한 임피던스 발생 및 신호지연 등의 문제를 줄이는 효과가 있다.In addition, these embedded printed circuit boards have the effect of reducing problems such as impedance generation and signal delay caused by parasitic effects in electronic devices that use high-frequency signals, as the components are connected vertically, greatly reducing the wiring length.
이러한, 임베디드 인쇄회로기판의 핵심기술은, 기판 내부에 소자를 내장하는 기술과, 상기 내장되는 소자와 배선 회로를 정밀하게 연결하는 기술이다.The core technologies of these embedded printed circuit boards are the technology for embedding components inside the board and the technology for precisely connecting the embedded components and wiring circuits.
일반적으로, 임베디드 인쇄회로기판은 절연층을 형성한 후에 소자 실장 영역을 제거하는 캐비티 형성 공정을 진행한다. 그리고, 종래에서는 상기 형성된 캐비티 내에 소자를 실장시키고, 상기 소자가 실장된 절연층의 상부 및 하부에 각각 추가 절연층을 적층하는 공정을 진행하여 임베디드 인쇄회로기판을 제조한다.In general, embedded printed circuit boards are manufactured by performing a cavity forming process in which an insulating layer is formed and then a component mounting area is removed. Then, conventionally, a component is mounted in the formed cavity, and an additional insulating layer is laminated on top and bottom of the insulating layer on which the component is mounted, thereby manufacturing an embedded printed circuit board.
실시 예에서는 새로운 구조의 인쇄회로기판 및 이의 제조 방법을 제공하도록 한다.The present invention provides a printed circuit board having a novel structure and a method for manufacturing the same.
또한, 실시 예에서는 캐비티 내에 레진을 채우는 과정에서 발생하는 칩 쉬프트 현상을 최소화할 수 있는 인쇄회로기판 및 이의 제조 방법을 제공하도록 한다.In addition, the embodiment provides a printed circuit board and a method for manufacturing the same that can minimize the chip shift phenomenon that occurs during the process of filling a resin within a cavity.
실시 예에서는 비대칭 구조의 전자소자 내장형 인쇄회로기판 및 이의 제조 방법을 제공하도록 한다.In an embodiment, a printed circuit board having an asymmetrical structure and an electronic component embedded therein and a method for manufacturing the same are provided.
또한, 실시 예에서는 기판의 두께를 줄이면서 디자인 자유도를 향상시킬 수 있는 전자소자 내장형 인쇄회로기판 및 이의 제조 방법을 제공하도록 한다.In addition, the embodiment provides a printed circuit board with built-in electronic components and a method for manufacturing the same, which can improve the degree of design freedom while reducing the thickness of the board.
제안되는 실시 예에서 이루고자 하는 기술적 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 제안되는 실시 예가 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The technical problems to be achieved in the proposed embodiment are not limited to the technical problems mentioned above, and other technical problems not mentioned can be clearly understood by a person having ordinary skill in the technical field to which the proposed embodiment belongs from the description below.
실시 예에 따른 인쇄회로기판은 캐비티를 포함하는 제1 절연부; 상기 제1 절연부의 상면 위에 배치된 제2 절연부; 상기 제1 절연부의 하면 아래에 배치된 제3 절연부; 및 상기 캐비티 내에 배치된 전자 소자를 포함하고, 상기 캐비티는, 상기 제3 절연부와 마주보는 면의 제1 부분과, 상기 제1 부분과 반대되는 면의 제2 부분을 포함하고, 상기 제1 부분의 폭은, 상기 제2 부분의 폭보다 크다.A printed circuit board according to an embodiment includes a first insulating portion including a cavity; a second insulating portion arranged on an upper surface of the first insulating portion; a third insulating portion arranged below a lower surface of the first insulating portion; and an electronic component arranged within the cavity, wherein the cavity includes a first portion on a surface facing the third insulating portion and a second portion on a surface opposite to the first portion, and a width of the first portion is greater than a width of the second portion.
또한, 상기 제2 절연부는, 상기 캐비티 내에 배치되는 제1 파트와, 상기 제1 절연부 및 상기 제1 파트 위에 배치되는 제2 파트를 포함한다.Additionally, the second insulating part includes a first part disposed within the cavity, and a second part disposed over the first insulating part and the first part.
또한, 상기 제3 절연부는, 상기 제1 절연부의 하면 및 상기 제2 절연부의 상기 제1 파트의 하면 아래에 배치된다.Additionally, the third insulating portion is disposed below the lower surface of the first insulating portion and below the lower surface of the first part of the second insulating portion.
또한, 상기 제1 부분의 폭은, 상기 제2 부분의 폭의 1.5배 내지 2.5배 사이의 범위를 가진다.Additionally, the width of the first portion has a range of 1.5 to 2.5 times the width of the second portion.
또한, 상기 제1 절연부는, 적어도 하나의 제1 절연층; 상기 제1 절연층의 하부에 매립된 제1 회로 패턴; 상기 제1 절연층의 상면 위로 돌출된 제2 회로 패턴; 및 상기 제1 절연층 내에 배치되고, 상기 제1 및 제2 회로 패턴을 연결하는 제1 비아를 포함한다.In addition, the first insulating portion includes at least one first insulating layer; a first circuit pattern embedded in a lower portion of the first insulating layer; a second circuit pattern protruding above an upper surface of the first insulating layer; and a first via disposed within the first insulating layer and connecting the first and second circuit patterns.
또한, 상기 제1 절연층은, 유리 섬유를 포함하는 프리프레그를 포함한다.Additionally, the first insulating layer includes a prepreg including glass fiber.
또한, 상기 제2 절연부는, 상기 캐비티의 내부 및 상기 제1 절연층 위에 배치되는 제2 절연층; 상기 제2 절연층의 상면 위에 배치된 제3 회로 패턴; 및 상기 제2 절연층 내에 배치되고, 상기 제2 및 제3 회로 패턴을 연결하는 제2 비아를 포함하며, 상기 제2 절연층은 상기 제1 절연층과 다른 절연물질을 포함한다.In addition, the second insulating portion includes a second insulating layer disposed inside the cavity and on the first insulating layer; a third circuit pattern disposed on an upper surface of the second insulating layer; and a second via disposed within the second insulating layer and connecting the second and third circuit patterns, wherein the second insulating layer includes an insulating material different from that of the first insulating layer.
또한, 상기 제2 절연층은, RCC(Resin Coated Cu)로 구성된다.Additionally, the second insulating layer is composed of RCC (Resin Coated Cu).
또한, 상기 제3 절연부는, 상기 제1 절연층 아래에 배치된 제3 절연층; 상기 제3 절연층 내에 배치된 제3 비아; 및 상기 제3 절연층의 하면 아래에 배치된 제4 회로 패턴;을 포함하고 상기 제3 절연층은, 상기 제1 및 제2 절연층과 다른 절연물질을 포함한다.In addition, the third insulating portion includes a third insulating layer disposed under the first insulating layer; a third via disposed within the third insulating layer; and a fourth circuit pattern disposed under a lower surface of the third insulating layer; and the third insulating layer includes an insulating material different from the first and second insulating layers.
또한, 상기 제3 절연층은, ABF(Aginomoto Build-up Film) 또는 PID(Photo Imagable Dielectric)를 포함한다.Additionally, the third insulating layer includes ABF (Aginomoto Build-up Film) or PID (Photo Imagable Dielectric).
또한, 상기 제3 절연층은, 상기 제1 절연층 및 상기 제2 절연층의 각각의 두께보다 작은 두께를 가진다.Additionally, the third insulating layer has a thickness smaller than each of the first insulating layer and the second insulating layer.
또한, 상기 제3 비아는, 상기 전자소자와 수직 방향으로 오버랩되고, 상기 전자 소자의 단자와 직접 연결되는 제 1 서브 제3 비아와, 상기 전자 소자와 수직 방향으로 오버랩되지 않는 위치에 배치되는 제2 서브 제3 비아를 포함하고, 상기 제1 서브 제3 비아는, 상기 제2 서브 제3 비아의 폭보다 작은 폭을 가진다.In addition, the third via includes a first sub-third via that vertically overlaps the electronic component and is directly connected to a terminal of the electronic component, and a second sub-third via that is positioned at a position that does not vertically overlap the electronic component, and the first sub-third via has a width smaller than a width of the second sub-third via.
또한, 상기 전자 소자는, 상기 캐비티 내에 상호 일정 간격 이격되어 배치되는 제1 및 제2 전자 소자를 포함한다.Additionally, the electronic element includes first and second electronic elements that are arranged at a set interval from each other within the cavity.
한편, 실시 예에 따른 인쇄회로기판의 제조 방법은 제1 절연부를 형성하는 단계; 상기 제1 절연부를 관통하는 캐비티를 형성하는 단계; 상기 제1 절연부의 일면에 필름층을 형성하는 단계; 상기 캐비티를 통해 노출된 상기 필름층 상에 전자 소자를 부착하는 단계; 상기 제1 절연부 상에 상기 캐비티를 채우는 제2 절연부를 형성하는 단계; 상기 필름층을 제거하는 단계; 및 상기 제1 절연부 및 상기 캐비티 내에 배치된 제2 절연부 아래에 제3 절연부를 형성하는 단계를 포함하고, 상기 캐비티는, 상기 필름층과 마주보는 면의 제1 부분과, 상기 제1 부분과 반대되는 면의 제2 부분을 포함하고, 상기 제1 부분의 폭은, 상기 제2 부분의 폭보다 크며, 상기 제2 절연부를 구성하는 절연물질은, 상기 캐비티의 상기 제2 부분을 통해 투입된다.Meanwhile, a method for manufacturing a printed circuit board according to an embodiment includes a step of forming a first insulating portion; a step of forming a cavity penetrating the first insulating portion; a step of forming a film layer on one surface of the first insulating portion; a step of attaching an electronic component on the film layer exposed through the cavity; a step of forming a second insulating portion filling the cavity on the first insulating portion; a step of removing the film layer; and a step of forming a third insulating portion below the first insulating portion and the second insulating portion arranged in the cavity, wherein the cavity includes a first portion of a surface facing the film layer and a second portion of a surface opposite to the first portion, a width of the first portion is greater than a width of the second portion, and an insulating material constituting the second insulating portion is introduced through the second portion of the cavity.
또한, 상기 제2 절연부는, 상기 캐비티 내에 배치되는 제1 파트와, 상기 제1 절연부 및 상기 제1 파트 위에 배치되는 제2 파트를 포함하고, 상기 제3 절연부는, 상기 제1 절연부의 하면 및 상기 제2 절연부의 상기 제1 파트의 하면 아래에 배치된다.In addition, the second insulating portion includes a first part disposed within the cavity, and a second part disposed above the first insulating portion and the first part, and the third insulating portion is disposed below a lower surface of the first insulating portion and a lower surface of the first part of the second insulating portion.
또한, 상기 제1 부분의 폭은, 상기 제2 부분의 폭의 1.5배 내지 2.5배 사이의 범위를 가진다.Additionally, the width of the first portion has a range of 1.5 to 2.5 times the width of the second portion.
실시 예에 따르면, 인쇄회로기판은 전자소자가 배치되는 캐비티가 형성된 제1 절연부를 포함한다. 이때, 상기 캐비티는 중앙의 수평 라인을 중심으로 상하가 비대칭 구조를 가진다. 명확하게, 상기 캐비티는 상기 캐비티 내를 채우는 절연물질이 투입되는 일면(예를 들어, 상부)의 폭이 이의 반대면의 폭보다 크도록 한다. 이에 따르면, 상기 캐비티를 절연물질로 채울 시, 전자 소자의 양측의 가장자리부터 상기 절연물질이 채워질 수 있으며, 이에 따라 레진 흐름에 의하여 상기 전자 소자의 위치가 이동하는 현상을 방지할 수 있다. 다시 말해서, 실시 예에서는 상하부의 폭이 서로 다른 캐비티 내에 전자 소자를 배치한다. 그리고, 실시 예에서는 상대적으로 폭이 작은 부분에서 레진을 투입하여 상기 전자 소자를 매립하는 절연부를 형성한다. 이에 따르면, 전자소자의 쉬프트 방지를 통한 패드와 비아 홀 사이의 상호 접속도를 향상시킬 수 있으며, 연결 불량 최소화에 따른 공정 이슈 저하 및 수율을 확보하면서, 재품 신뢰성 및 내구성을 확보할 수 있다. According to an embodiment, a printed circuit board includes a first insulating portion in which a cavity in which an electronic component is placed is formed. At this time, the cavity has an asymmetrical structure with respect to a horizontal line in the center. Specifically, the cavity has a width of one side (e.g., the upper side) into which an insulating material filling the cavity is injected is greater than a width of the opposite side. Accordingly, when the cavity is filled with an insulating material, the insulating material can be filled from edges on both sides of the electronic component, thereby preventing the phenomenon in which the position of the electronic component moves due to resin flow. In other words, in the embodiment, an electronic component is placed in a cavity in which the upper and lower sides have different widths. In addition, in the embodiment, a resin is injected into a portion having a relatively small width to form an insulating portion in which the electronic component is embedded. Accordingly, the interconnectivity between a pad and a via hole can be improved by preventing shifting of the electronic component, and the reliability and durability of the product can be secured while reducing process issues and securing yields by minimizing connection failures.
또한, 실시 예에 따르면, 인쇄회로기판은 회로 패턴이나 패드가 상기 제1 절연부 내에 매립되어 배치되도록 한다. 이에 따르면, 상기 회로 패턴이나 패드가 상기 제1 절연부 내에 매립되어 배치됨에 따라 종래 대비 회로 패턴의 두께만큼 인쇄회로기판의 두께를 감소시킬 수 있으며, 디자인 자유도를 향상시킬 수 있다. 또한, 상기 제1 절연부는 유리 섬유(Glass Fiber)를 포함하는 프리프레그를 사용하기 때문에 얇은 기판 제작시에 발생하는 패널 깨짐이나 휨 발생을 최소화할 수 있다.In addition, according to an embodiment, the printed circuit board is arranged so that the circuit pattern or pad is embedded in the first insulating portion. Accordingly, since the circuit pattern or pad is embedded in the first insulating portion, the thickness of the printed circuit board can be reduced by the thickness of the circuit pattern compared to the prior art, and the degree of design freedom can be improved. In addition, since the first insulating portion uses a prepreg containing glass fiber, it is possible to minimize panel breakage or warping that occurs when manufacturing a thin substrate.
또한, 실시 예에 따르면, 인쇄회로기판은 제1 절연부 아래에 제2 절연부가 배치된다. 이때, 상기 제2 절연부는 상기 제1 절연부와 직접 접촉하는 영역에는 필름 타입의 레진(예를 들어, ABF(Aginomoto Build-up Film)나 감광성 절연재료인 PID(Photo Imagable Dielectric))을 이용하여 절연층을 구성하도록 한다. 이에 따르면, 실시 예에서는 기존 대비 상기 제2 절연부의 절연층 두께를 감소시킬 수 있으며, 디자인 자유도를 향상시킬 수 있다.In addition, according to an embodiment, the printed circuit board has a second insulating portion arranged under the first insulating portion. At this time, the second insulating portion forms an insulating layer using a film-type resin (for example, ABF (Aginomoto Build-up Film) or PID (Photo Imagable Dielectric), which is a photosensitive insulating material) in an area in direct contact with the first insulating portion. According to this, in the embodiment, the thickness of the insulating layer of the second insulating portion can be reduced compared to the prior art, and the degree of design freedom can be improved.
또한, 실시 예에 따르면 상기 제1 절연부와 직접 접촉하는 영역 상의 제2 절연부를 필름 타입의 레진으로 형성함에 따라 스몰 비아(small via) 형성이 가능하며, 이에 따른 파인 패턴(fine pattern) 구현이 가능하다.In addition, according to an embodiment, by forming the second insulating portion on the area in direct contact with the first insulating portion using a film-type resin, a small via can be formed, and thus a fine pattern can be implemented.
도 1a 및 도 1b는 비교 예에 따른 인쇄회로기판을 설명하기 위한 도면이다.
도 2는 실시 예에 따른 인쇄회로기판의 구조를 설명하기 위한 도면이다.
도 3 내지 도 15는 도 2의 인쇄회로기판의 제조 방법을 공정 순으로 설명하기 위한 도면이다.FIG. 1a and FIG. 1b are drawings for explaining a printed circuit board according to a comparative example.
Figure 2 is a drawing for explaining the structure of a printed circuit board according to an embodiment.
Figures 3 to 15 are drawings for explaining the manufacturing method of the printed circuit board of Figure 2 in process order.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다. Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the attached drawings.
다만, 본 발명의 기술 사상은 설명되는 일부 실시 예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있고, 본 발명의 기술 사상 범위 내에서라면, 실시 예들간 그 구성 요소들 중 하나 이상을 선택적으로 결합, 치환하여 사용할 수 있다.However, the technical idea of the present invention is not limited to some of the embodiments described, but can be implemented in various different forms, and within the scope of the technical idea of the present invention, one or more of the components among the embodiments can be selectively combined or substituted for use.
또한, 본 발명의 실시 예에서 사용되는 용어(기술 및 과학적 용어를 포함)는, 명백하게 특별히 정의되어 기술되지 않는 한, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 일반적으로 이해될 수 있는 의미로 해석될 수 있으며, 사전에 정의된 용어와 같이 일반적으로 사용되는 용어들은 관련 기술의 문맥상의 의미를 고려하여 그 의미를 해석할 수 있을 것이다. 또한, 본 발명의 실시예에서 사용된 용어는 실시 예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다.In addition, terms (including technical and scientific terms) used in the embodiments of the present invention can be interpreted as having a meaning that can be generally understood by a person having ordinary skill in the technical field to which the present invention belongs, unless explicitly and specifically defined and described, and terms that are commonly used, such as terms defined in a dictionary, can have their meanings interpreted in consideration of the contextual meaning of the related technology. In addition, terms used in the embodiments of the present invention are for the purpose of describing the embodiments and are not intended to limit the present invention.
본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함할 수 있고, "A 및(와) B, C중 적어도 하나(또는 한 개 이상)"로 기재되는 경우 A, B, C로 조합할 수 있는 모든 조합 중 하나 이상을 포함 할 수 있다. 또한, 본 발명의 실시 예의 구성 요소를 설명하는 데 있어서, 제1, 제2, A, B, (a), (b) 등의 용어를 사용할 수 있다.In this specification, the singular may also include the plural unless specifically stated in the phrase, and when it is described as "A and (or) at least one (or more) of B, C", it may include one or more of all combinations that can be combined with A, B, C. In addition, in describing components of embodiments of the present invention, terms such as first, second, A, B, (a), (b), etc. may be used.
이러한 용어는 그 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하기 위한 것일 뿐, 그 용어에 의해 해당 구성 요소의 본질이나 차례 또는 순서 등으로 한정되지 않는다. 그리고, 어떤 구성 요소가 다른 구성요소에 '연결', '결합' 또는 '접속'된다고 기재된 경우, 그 구성 요소는 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결, 결합 또는 접속되는 경우 뿐만아니라, 그 구성 요소와 그 다른 구성요소 사이에 있는 또 다른 구성 요소로 인해 '연결', '결합' 또는 '접속'되는 경우도 포함할 수 있다.These terms are only intended to distinguish the component from other components, and are not intended to limit the nature, order, or sequence of the component by the terms. In addition, when a component is described as being "connected," "coupled," or "connected" to another component, it may include not only cases where the component is directly connected, coupled, or connected to the other component, but also cases where the component is "connected," "coupled," or "connected" by another component between the component and the other component.
또한, 각 구성 요소의 " 상(위) 또는 하(아래)"에 형성 또는 배치되는 것으로 기재되는 경우, 상(위) 또는 하(아래)는 두개의 구성 요소들이 서로 직접 접촉되는 경우뿐만 아니라 하나 이상의 또 다른 구성 요소가 두 개의 구성 요소들 사이에 형성 또는 배치되는 경우도 포함한다. 또한, "상(위) 또는 하(아래)"으로 표현되는 경우 하나의 구성 요소를 기준으로 위쪽 방향뿐만 아니라 아래쪽 방향의 의미도 포함할 수 있다.Also, when it is described as being formed or arranged "above or below" each component, above or below includes not only the cases where the two components are in direct contact with each other, but also the cases where one or more other components are formed or arranged between the two components. Also, when it is expressed as "above or below", it can include the meaning of the downward direction as well as the upward direction based on one component.
도 1a 및 도 1b는 비교 예에 따른 인쇄회로기판을 설명하기 위한 도면이다.FIG. 1a and FIG. 1b are drawings for explaining a printed circuit board according to a comparative example.
도 1a 및 도 1b에 따른 인쇄회로기판은 제1 절연층(1), 제2 절연층(2), 회로 패턴(3) 및 비아(4)를 포함한다.The printed circuit board according to FIGS. 1a and 1b includes a first insulating layer (1), a second insulating layer (2), a circuit pattern (3), and a via (4).
제1 절연층(1)과 제2 절연층(2)은 상호 적층 구조를 가지며, 전자 소자(6, 7)가 배치될 캐비티(Ca)를 포함한다. The first insulating layer (1) and the second insulating layer (2) have a mutually laminated structure and include a cavity (Ca) in which electronic elements (6, 7) are arranged.
그리고, 제1 절연층(1) 및 제2 절연층(2)의 표면 중 적어도 하나에는 회로 패턴(3)이 배치된다. And, a circuit pattern (3) is arranged on at least one of the surfaces of the first insulating layer (1) and the second insulating layer (2).
또한, 상기 제1 절연층(1) 및 제2 절연층(2) 내에는 서로 다른 층에 배치된 회로패턴을 전기적으로 연결하기 위한 비아(4)가 배치된다.Additionally, vias (4) are arranged within the first insulating layer (1) and the second insulating layer (2) to electrically connect circuit patterns arranged in different layers.
이때, 전자 소자 내장형 인쇄회로기판의 경우, 기판내부에 전자 소자를 삽입하기 위해, 상기 전자 소자(6, 7)가 삽입될 영역을 레이저로 가공하여 해당 영역을 제거하는 공정이 필요하다. 그리고, 이러한 공정을 캐비티 가공이라고 한다.At this time, in the case of a printed circuit board with built-in electronic components, a process of removing the area where the electronic components (6, 7) are to be inserted by processing the area with a laser is necessary in order to insert the electronic components inside the board. And, this process is called cavity processing.
또한, 상기와 같이 제1 절연층(1) 및 제2 절연층(2)에 캐비티(Ca)가 형성되면, 상기 캐비티(Ca)의 일면을 막는 캐리어 필름(5)을 배치한다.In addition, when a cavity (Ca) is formed in the first insulating layer (1) and the second insulating layer (2) as described above, a carrier film (5) that blocks one side of the cavity (Ca) is placed.
상기 캐리어 필름(5)은 상기 캐비티(Ca)의 일면을 폐쇄하여 상기 전자 소자(6, 7)가 상기 캐비티(Ca) 내에 고정 배치될 수 있도록 한다.The carrier film (5) closes one side of the cavity (Ca) so that the electronic element (6, 7) can be fixedly placed within the cavity (Ca).
그리고, 상기 캐리어 필름(5)이 배치된 상태에서, 상기 캐비티(Ca)의 상부에 절연물질을 충진하여 상기 캐비티(Ca)를 절연물질로 채우는 공정을 진행한다.And, with the carrier film (5) placed, a process of filling the cavity (Ca) with an insulating material by filling the upper portion of the cavity (Ca) with an insulating material is performed.
이때, 도 1a에 따른 비교 예에서의 인쇄회로기판은 캐비티(Ca)의 양면을 중심으로 캐리어 필름(5)이 배치된 면의 폭이 이의 반대면의 폭보다 좁다. 다시 말해서, 캐비티(Ca) 내를 채우는 절연물질이 투입되는 부분의 폭이 이의 반대 부분의 폭보다 크다. At this time, in the printed circuit board in the comparative example according to Fig. 1a, the width of the surface on which the carrier film (5) is arranged centered on both sides of the cavity (Ca) is narrower than the width of the opposite surface. In other words, the width of the portion where the insulating material filling the cavity (Ca) is injected is larger than the width of the opposite portion.
또한, 도 1b에 따른 비교 예에서의 캐비티(Ca)의 경우, 캐비티(Ca)는 상하부의 폭이 서로 동일한 대칭 구조를 가지고, 이에 따라 캐비티(Ca)의 내벽은 실질적으로 수직에 가까운 형상을 가지고 있다. In addition, in the case of the cavity (Ca) in the comparative example according to Fig. 1b, the cavity (Ca) has a symmetrical structure in which the upper and lower widths are the same, and accordingly, the inner wall of the cavity (Ca) has a shape that is substantially close to vertical.
이때, 상기와 같은 도 1a 및 도 1b에서의 비교 예의 캐비티(Ca)의 경우, 상기 절연물질의 적층 과정에서 압력을 가할 시, 상기 캐비티(Ca)의 가장자리 영역보다 상기 전자 소자(6, 7)가 위치한 방향으로 보다 많은 양의 절연물질이 투입될 수 있고, 상기 절연물질의 흐름에 의해 상기 전자 소자(6, 7)가 처음 위치에서 중앙쪽으로 이동하는 쉬프트 문제가 발생하게 된다.At this time, in the case of the cavity (Ca) of the comparative example in FIGS. 1A and 1B as above, when pressure is applied during the lamination process of the insulating material, a larger amount of insulating material may be injected in the direction where the electronic element (6, 7) is located than in the edge region of the cavity (Ca), and a shift problem occurs in which the electronic element (6, 7) moves from the initial position toward the center due to the flow of the insulating material.
다시 말해서, 비교 예의 캐비티(Ca)는 절연 물질의 적층 시에, 상기 캐비티(Ca)가 가지는 형상의 특성에 의해, 중앙쪽보다 상기 전자 소자(6, 7)의 양쪽으로 많은 양의 레진 흐름이 발생하고, 상기 레진 흐름에 의해 상기 캐리어 필름(5)에 의해 고정된 전자 소자(6, 7)의 위치가 쉬프트되는 문제가 발생한다. In other words, when the cavity (Ca) of the comparative example is laminated with an insulating material, a large amount of resin flows to both sides of the electronic element (6, 7) rather than the center due to the shape characteristics of the cavity (Ca), and a problem occurs in which the position of the electronic element (6, 7) fixed by the carrier film (5) shifts due to the resin flow.
또한, 상기 전자 소자(6, 7)의 위치가 쉬프트되는 경우, 상기 전자 소자(6, 7)와 연결되는 패드나 비아의 정렬에 틀어짐이 발생하게 되며, 이에 따른 전기 접속 신뢰성에 치명적인 문제를 일으키게 된다.In addition, when the position of the electronic element (6, 7) shifts, a misalignment occurs in the pad or via connected to the electronic element (6, 7), which causes a fatal problem in the reliability of the electrical connection.
도 2는 실시 예에 따른 인쇄회로기판의 구조를 설명하기 위한 도면이다.Figure 2 is a drawing for explaining the structure of a printed circuit board according to an embodiment.
도 2를 참조하면, 인쇄회로기판은 제1 절연부, 제2 절연부 및 제3 절연부를 포함할 수 있다. 제1 절연부는 중앙 절연층을 포함할 수 있고, 제2 절연부는 제1 절연부 위에 배치되는 상부 절연층을 포함할 수 있으며, 제3 절연부는 제1 절연부 아래에 배치되는 하부 절연층을 포함할 수 있다.Referring to FIG. 2, the printed circuit board may include a first insulating portion, a second insulating portion, and a third insulating portion. The first insulating portion may include a central insulating layer, the second insulating portion may include an upper insulating layer disposed over the first insulating portion, and the third insulating portion may include a lower insulating layer disposed under the first insulating portion.
제1 절연부는 전자 소자(300a, 300b)가 내부에 매립되는 절연층을 포함한다. 이를 위해, 제1 절연부는 제1 절연층(110) 및 제2 절연층(125)을 포함할 수 있다. 그리고, 제1 절연층(110) 및 제2 절연층(125)에는 전자소자(300)가 배치되는 캐비티(C)가 형성될 수 있다. 이때, 제1 절연부는 코어 절연부라고도 할 수 있으며, 이에 따라 제1 절연층(110) 및 제2 절연층(125)은 코어 절연층이라 할 수 있다.The first insulating portion includes an insulating layer in which electronic elements (300a, 300b) are embedded. To this end, the first insulating portion may include a first insulating layer (110) and a second insulating layer (125). In addition, a cavity (C) in which the electronic elements (300) are placed may be formed in the first insulating layer (110) and the second insulating layer (125). At this time, the first insulating portion may also be referred to as a core insulating portion, and accordingly, the first insulating layer (110) and the second insulating layer (125) may be referred to as core insulating layers.
제1 절연층(110) 및 제2 절연층(125)은 배선을 변경할 수 있는 전기 회로가 편성되어 있는 기판으로, 표면에 적어도 하나의 회로 패턴을 형성할 수 있는 절연 재료로 만들어진 프린트, 배선판, 절연 기판을 모두 포함할 수 있다. The first insulating layer (110) and the second insulating layer (125) are substrates on which electric circuits capable of changing wiring are formed, and may include all of a print, wiring board, and insulating substrate made of an insulating material capable of forming at least one circuit pattern on the surface.
제1 절연층(110) 및 제2 절연층(125)은 유리 또는 플라스틱을 포함할 수 있다. 자세하게, 상기 제1 절연층(110) 및 제2 절연층(125)은 소다라임유리(soda lime glass) 또는 알루미노실리케이트유리 등의 화학 강화/반강화유리를 포함하거나, 폴리이미드(Polyimide, PI), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(polyethylene terephthalate, PET), 프로필렌 글리콜(propylene glycol, PPG) 폴리 카보네이트(PC) 등의 강화 혹은 연성 플라스틱을 포함하거나 사파이어를 포함할 수 있다.The first insulating layer (110) and the second insulating layer (125) may include glass or plastic. In detail, the first insulating layer (110) and the second insulating layer (125) may include chemically strengthened/semi-strengthened glass such as soda lime glass or aluminosilicate glass, or may include reinforced or flexible plastic such as polyimide (PI), polyethylene terephthalate (PET), propylene glycol (PPG), polycarbonate (PC), or may include sapphire.
이때, 제1 절연층(110) 및 제2 절연층(125)의 표면에는 복수의 회로 패턴이 배치될 수 있다.At this time, a plurality of circuit patterns can be arranged on the surfaces of the first insulating layer (110) and the second insulating layer (125).
제1 절연층(110)의 하부에는 제1 회로 패턴(105)이 매립될 수 있다. 제1 절연층(110)의 상면 위에는 제2 회로 패턴(120)이 배치될 수 있다. 또한, 제2 절연층(125)의 상면 위에는 제3 회로 패턴(135)이 배치될 수 있다. 이때, 제1 절연층(110) 및 제2 절연층(125)을 하나의 절연층으로 보았을 때, 하부에 배치되는 회로 패턴은 절연층 내에 매립되어 배치되고, 상부에 배치되는 회로 패턴은 절연층 상에 돌출되어 배치된다. 즉, 도 1a 및 도 1b에서와 같이, 비교 예에서의 인쇄회로기판은 절연층을 중심으로 상부 및 하부에 배치되는 회로 패턴이 모두 절연층의 상면 및 하면으로부터 돌출되어 형성되었다. 이에 반하여, 실시 예에서는 제1 회로 패턴(105)이 상기 제1 절연층(110)의 하부에 매립될 수 있도록 한다. 이에 따라, 실시 예에서는 상기 제1 절연층(110) 아래에 배치되는 절연층(추후 설명, 150)의 두께를 상기 제1 회로 패턴(105)의 두께만큼 줄일 수 있도록 한다.즉, 절연층은 기본적으로 회로 패턴을 덮으면서 배치되기 때문에 상기 회로 패턴의 두께가 기본 옵셋 두께로 결정된다. 반면, 실시 예에서는 상기 제1 회로 패턴(105)이 상기 제1 절연층(110) 하부에 매립 배치됨에 따라, 추후 상기 제1 절연층(110) 아래에 적층될 절연층의 두께를 종래 대비 12~18㎛ 정도 감소시킬 수 있다.A first circuit pattern (105) may be embedded in the lower part of the first insulating layer (110). A second circuit pattern (120) may be arranged on the upper surface of the first insulating layer (110). In addition, a third circuit pattern (135) may be arranged on the upper surface of the second insulating layer (125). At this time, when the first insulating layer (110) and the second insulating layer (125) are viewed as one insulating layer, the circuit pattern arranged on the lower part is arranged to be embedded in the insulating layer, and the circuit pattern arranged on the upper part is arranged to be protruded on the insulating layer. That is, as shown in FIGS. 1A and 1B, in the printed circuit board of the comparative example, the circuit patterns arranged on the upper and lower parts with the insulating layer as the center are both formed to protrude from the upper and lower surfaces of the insulating layer. In contrast, in the embodiment, the first circuit pattern (105) may be embedded in the lower part of the first insulating layer (110). Accordingly, in the embodiment, the thickness of the insulating layer (to be described later, 150) disposed under the first insulating layer (110) can be reduced by the thickness of the first circuit pattern (105). That is, since the insulating layer is basically disposed while covering the circuit pattern, the thickness of the circuit pattern is determined by the basic offset thickness. On the other hand, in the embodiment, since the first circuit pattern (105) is disposed buried under the first insulating layer (110), the thickness of the insulating layer to be later laminated under the first insulating layer (110) can be reduced by about 12 to 18 ㎛ compared to the prior art.
또한, 제1 회로 패턴(105), 제2 회로 패턴(120) 및 제3 회로 패턴(135)은 전기적 신호를 전달하는 배선으로, 전기 전도성이 높은 금속물질로 형성될 수 있다. 이를 위해, 상기 제1 회로 패턴(105), 제2 회로 패턴(120) 및 제3 회로 패턴(135)은 금(Au), 은(Ag), 백금(Pt), 티타늄(Ti), 주석(Sn), 구리(Cu) 및 아연(Zn) 중에서 선택되는 적어도 하나의 금속 물질로 형성될 수 있다. 또한 제1 회로 패턴(105), 제2 회로 패턴(120) 및 제3 회로 패턴(135)은 본딩력이 우수한 금(Au), 은(Ag), 백금(Pt), 티타늄(Ti), 주석(Sn), 구리(Cu), 아연(Zn) 중에서 선택되는 적어도 하나의 금속 물질을 포함하는 페이스트 또는 솔더 페이스트로 형성될 수 있다. 바람직하게, 제1 회로 패턴(105), 제2 회로 패턴(120) 및 제3 회로 패턴(135)은 전기전도성이 높으면서 가격이 비교적 저렴한 구리(Cu)로 형성될 수 있다. In addition, the first circuit pattern (105), the second circuit pattern (120), and the third circuit pattern (135) are wirings that transmit electrical signals and may be formed of a metal material having high electrical conductivity. To this end, the first circuit pattern (105), the second circuit pattern (120), and the third circuit pattern (135) may be formed of at least one metal material selected from gold (Au), silver (Ag), platinum (Pt), titanium (Ti), tin (Sn), copper (Cu), and zinc (Zn). In addition, the first circuit pattern (105), the second circuit pattern (120), and the third circuit pattern (135) may be formed of a paste or solder paste including at least one metal material selected from gold (Au), silver (Ag), platinum (Pt), titanium (Ti), tin (Sn), copper (Cu), and zinc (Zn) having excellent bonding strength. Preferably, the first circuit pattern (105), the second circuit pattern (120), and the third circuit pattern (135) can be formed of copper (Cu), which has high electrical conductivity and is relatively inexpensive.
제1 회로 패턴(105), 제2 회로 패턴(120) 및 제3 회로 패턴(135)은 통상적인 인쇄회로기판의 제조 공정인 어디티브 공법(Additive process), 서브트렉티브 공법(Subtractive Process), MSAP(Modified Semi Additive Process) 및 SAP(Semi Additive Process) 공법 등으로 가능하며 여기에서는 상세한 설명은 생략한다. The first circuit pattern (105), the second circuit pattern (120), and the third circuit pattern (135) can be manufactured using conventional printed circuit board manufacturing processes such as the additive process, the subtractive process, the MSAP (Modified Semi Additive Process), and the SAP (Semi Additive Process), and a detailed description thereof is omitted here.
제1 절연층(110) 내에는 제1 비아(115)가 형성된다. 그리고, 제2 절연층(125) 내에는 제2 비아(130)가 형성된다. 제1 비아(115) 및 제2 비아(130)는 서로 다른 층에 배치된 회로 패턴을 상호 전기적으로 연결한다. 제1 비아(115)는 제1 회로 패턴(105)과 제2 회로 패턴(120)을 전기적으로 연결할 수 있다. 또한, 제2 비아(130)는 제2 회로 패턴(120)과 제3 회로 패턴(135)을 전기적으로 연결할 수 있다.A first via (115) is formed within a first insulating layer (110). In addition, a second via (130) is formed within a second insulating layer (125). The first via (115) and the second via (130) electrically connect circuit patterns arranged in different layers to each other. The first via (115) can electrically connect the first circuit pattern (105) and the second circuit pattern (120). In addition, the second via (130) can electrically connect the second circuit pattern (120) and the third circuit pattern (135).
제1 비아(115) 및 제2 비아(130)는 제1 절연층(110) 및 제2 절연층(125) 중 어느 하나의 절연층만을 관통할 수 있으며, 이와 다르게 상기 복수의 절연층 중 적어도 2개의 절연층을 공통으로 관통하며 형성될 수도 있다. 이에 따라, 제1 비아(115) 및 제2 비아(130)는 서로 다른 절연층의 표면에 배치되어 있는 회로 패턴을 상호 전기적으로 연결한다.The first via (115) and the second via (130) may penetrate only one of the first insulating layer (110) and the second insulating layer (125), or alternatively, may be formed to commonly penetrate at least two insulating layers among the plurality of insulating layers. Accordingly, the first via (115) and the second via (130) electrically connect circuit patterns disposed on the surfaces of different insulating layers to each other.
제1 비아(115) 및 제2 비아(130)는 제1 절연층(110) 및 제2 절연층(125) 중 적어도 하나의 절연층을 관통하는 관통 홀(도시하지 않음) 내부를 전도성 물질로 충진하여 형성할 수 있다.The first via (115) and the second via (130) can be formed by filling the interior of a through hole (not shown) penetrating at least one of the first insulating layer (110) and the second insulating layer (125) with a conductive material.
상기 관통 홀은 기계, 레이저 및 화학 가공 중 어느 하나의 가공 방식에 의해 형성될 수 있다. 상기 관통 홀이 기계 가공에 의해 형성되는 경우에는 밀링(Milling), 드릴(Drill) 및 라우팅(Routing) 등의 방식을 사용할 수 있고, 레이저 가공에 의해 형성되는 경우에는 UV나 CO2 레이저 방식을 사용할 수 있으며, 화학 가공에 의해 형성되는 경우에는 아미노실란, 케톤류 등을 포함하는 약품을 이용하여 상기 복수의 절연층 중 적어도 하나의 절연층을 개방할 수 있다.The above through hole can be formed by any one of mechanical, laser and chemical processing methods. When the through hole is formed by mechanical processing, methods such as milling, drilling and routing can be used, and when the through hole is formed by laser processing, a UV or CO2 laser method can be used, and when the through hole is formed by chemical processing, a chemical agent including aminosilane, ketones, etc. can be used to open at least one of the plurality of insulating layers.
한편, 상기 레이저에 의한 가공은 광학 에너지를 표면에 집중시켜 재료의 일부를 녹이고 증발시켜, 원하는 형태를 취하는 절단 방법으로, 컴퓨터 프로그램에 의한 복잡한 형성도 쉽게 가공할 수 있고, 다른 방법으로는 절단하기 어려운 복합 재료도 가공할 수 있다. Meanwhile, the processing by the laser is a cutting method that focuses optical energy on a surface to melt and vaporize part of the material, thereby forming a desired shape. It can easily process complex shapes using a computer program, and can also process composite materials that are difficult to cut using other methods.
또한, 상기 레이저에 의한 가공은 절단 직경이 최소 0.005mm까지 가능하며, 가공 가능한 두께 범위로 넓은 장점이 있다.In addition, the processing using the laser has the advantage of a cutting diameter of at least 0.005 mm and a wide range of processable thicknesses.
상기 레이저 가공 드릴로, YAG(Yttrium Aluminum Garnet)레이저나 CO2 레이저나 자외선(UV) 레이저를 이용하는 것이 바람직하다. YAG 레이저는 동박층 및 절연층 모두를 가공할 수 있는 레이저이고, CO2 레이저는 절연층만 가공할 수 있는 레이저이다.For the above laser processing drill, it is preferable to use a YAG (Yttrium Aluminum Garnet) laser, a CO2 laser, or an ultraviolet (UV) laser. The YAG laser is a laser that can process both the copper layer and the insulating layer, and the CO2 laser is a laser that can process only the insulating layer.
상기 관통 홀이 형성되면, 상기 관통 홀 내부를 전도성 물질로 충진하여 제1 비아(115) 및 제2 비아(130)를 형성할 수 있다. 제1 비아(115) 및 제2 비아(130)를 형성하는 금속 물질은 구리(Cu), 은(Ag), 주석(Sn), 금(Au), 니켈(Ni) 및 팔라듐(Pd) 중에서 선택되는 어느 하나의 물질일 수 있으며, 상기 전도성 물질 충진은 무전해 도금, 전해 도금, 스크린 인쇄(Screen Printing), 스퍼터링(Sputtering), 증발법(Evaporation), 잉크젯팅 및 디스펜싱 중 어느 하나 또는 이들의 조합된 방식을 이용할 수 있다.When the above through hole is formed, the inside of the through hole can be filled with a conductive material to form a first via (115) and a second via (130). The metal material forming the first via (115) and the second via (130) can be any one material selected from copper (Cu), silver (Ag), tin (Sn), gold (Au), nickel (Ni), and palladium (Pd), and the filling of the conductive material can utilize any one of electroless plating, electrolytic plating, screen printing, sputtering, evaporation, inkjetting, and dispensing, or a combination thereof.
제1 절연층(110) 및 제2 절연층(125)에 공통으로 형성된 캐비티(C)에는 전자소자(300a, 300b)가 내장될 수 있다. 즉, 캐비티(C) 내에는 상호 일정 간격 이격되며 제1 전자 소자(300a) 및 제2 전자 소자(300b)가 내장될 수 있다.Electronic elements (300a, 300b) may be embedded in a cavity (C) commonly formed in the first insulating layer (110) and the second insulating layer (125). That is, a first electronic element (300a) and a second electronic element (300b) may be embedded in the cavity (C) at a set distance from each other.
상기 전자소자(300a, 300b)는 칩과 같은 전자 부품일 수 있으며, 이는 능동 소자와 수동 소자로 구분될 수 있다. 그리고, 상기 능동 소자는 비선형 부분을 적극적으로 이용한 소자이고, 수동 소자는 선형 및 비선형 특성이 모두 존재하여도 비선형 특성은 이용하지 않는 소자를 의미한다. 그리고, 상기 수동 소자에는 트랜지스터, IC 반도체 칩 등이 포함될 수 있으며, 상기 수동 소자에는 콘덴서, 저항 및 인덕터 등을 포함할 수 있다. 상기 수동 소자는 능동 소자인 반도체 칩의 신호 처리 속도를 높이거나, 필터링 기능 등을 수행하기 위해, 통상의 인쇄회로기판에 실장된다.The above electronic components (300a, 300b) may be electronic parts such as chips, and may be divided into active components and passive components. In addition, the active components are components that actively utilize nonlinear portions, and the passive components refer to components that do not utilize nonlinear characteristics even though both linear and nonlinear characteristics exist. In addition, the passive components may include transistors, IC semiconductor chips, and the like, and the passive components may include capacitors, resistors, inductors, and the like. The passive components are mounted on a typical printed circuit board to increase the signal processing speed of the active component semiconductor chip, or to perform a filtering function, and the like.
상기 전자소자(300a, 300b)는 인쇄회로기판이 적용되는 어플리케이션에 따라 달라질 수 있으며, 예를 들어, 스마트폰에 적용되는 낸드 플래쉬(nand flash) 메모리 제품에 적용될 경우, 전자소자(300a, 300b)는 제어소자 부품일 수 있다.The above electronic components (300a, 300b) may vary depending on the application to which the printed circuit board is applied. For example, when applied to a NAND flash memory product applied to a smartphone, the electronic components (300a, 300b) may be control components.
전자소자(300a, 300b)의 하면에는 각각 단자(310a, 310b)가 형성될 수 있다. 이때, 단자(310a, 310b)는 하면이 제1 절연층(110)의 하면과 동일 평면 상에 배치될 수 있다. 상기 단자(310a, 310b)는 하면이 제1 회로 패턴(105)의 하면과 동일 평면 상에 배치될 수 있다. 한편, 전자소자(300a, 300b)의 상면은 제2 절연층(125)의 상면과 동일 평면 상에 배치될 수 있다. 바람직하게, 전자소자(300a, 300b)의 상면은 제2 절연층(125)의 상면보다 낮게 배치될 수 있다. 즉, 상기 캐비티(C)는 전자소자(300a, 300b)의 두께와 동일할 수 있으며, 신뢰성 향상을 위해 상기 전자소자(300a, 300b)의 두께보다 큰 두께를 가질 수 있다. 바람직하게, 캐비티(C)는 전자소자(300a, 300b)의 두께보다 10㎛ 정도 큰 두께를 가질 수 있다. 따라서, 전자소자(300a, 300b)의 상면은 제2 절연층(125)의 상면보다 낮게 위치할 수 있다. 또한, 캐비티(C)의 폭은 전자소자(300a, 300b)의 안정적인 배치를 위해, 전자소자(300a, 300b)가 가지는 총 폭보다 큰 폭을 가질 수 있다.Terminals (310a, 310b) may be formed on the lower surfaces of the electronic components (300a, 300b), respectively. At this time, the lower surfaces of the terminals (310a, 310b) may be arranged on the same plane as the lower surface of the first insulating layer (110). The lower surfaces of the terminals (310a, 310b) may be arranged on the same plane as the lower surface of the first circuit pattern (105). Meanwhile, the upper surfaces of the electronic components (300a, 300b) may be arranged on the same plane as the upper surface of the second insulating layer (125). Preferably, the upper surfaces of the electronic components (300a, 300b) may be arranged lower than the upper surface of the second insulating layer (125). That is, the cavity (C) may have the same thickness as the electronic component (300a, 300b), and may have a thickness greater than the thickness of the electronic component (300a, 300b) in order to improve reliability. Preferably, the cavity (C) may have a thickness greater than the thickness of the electronic component (300a, 300b) by about 10 ㎛. Accordingly, the upper surface of the electronic component (300a, 300b) may be positioned lower than the upper surface of the second insulating layer (125). In addition, the width of the cavity (C) may have a width greater than the total width of the electronic component (300a, 300b) in order to ensure stable placement of the electronic component (300a, 300b).
여기에서, 상기 제1 절연부는 기존 구조와 비교하여, 제1 회로 패턴(105)이 제1 절연층(110)의 하면으로 돌출된 구조가 아닌, 상기 제1 절연층(110)의 하부에 매립된 구조를 가지도록 한다. 이는, 일반적인 인쇄회로기판의 제조 공정이 아닌 실시 예에서의 차별화된 제조 공정에 의해 달성될 수 있다. 이에 대해서는 하기에서 더욱 상세히 설명하기로 한다.Here, the first insulating portion has a structure in which the first circuit pattern (105) is embedded in the lower part of the first insulating layer (110), rather than a structure in which the first circuit pattern (105) protrudes from the lower surface of the first insulating layer (110) as compared to the existing structure. This can be achieved by a differentiated manufacturing process in the embodiment, rather than a general printed circuit board manufacturing process. This will be described in more detail below.
실시 예에 따르면, 인쇄회로기판은 전자소자가 배치되는 캐비티가 형성된 제1 절연부를 포함한다. 그리고, 회로 패턴이나 패드가 상기 제1 절연부 내에 매립되어 배치되도록 한다. 이에 따르면, 상기 회로 패턴이나 패드가 상기 제1 절연부 내에 매립되어 배치됨에 따라 종래 대비 회로 패턴의 두께만큼 인쇄회로기판의 두께를 감소시킬 수 있으며, 디자인 자유도를 향상시킬 수 있다. 또한, 상기 제1 절연부는 유리 섬유(Glass Fiber)를 포함하는 프리프레그를 사용하기 때문에 얇은 기판 제작시에 발생하는 패널 깨짐이나 휨 발생을 최소화할 수 있다.According to an embodiment, a printed circuit board includes a first insulating portion having a cavity formed in which an electronic component is arranged. Then, a circuit pattern or a pad is disposed so as to be embedded in the first insulating portion. Accordingly, since the circuit pattern or pad is disposed so as to be embedded in the first insulating portion, the thickness of the printed circuit board can be reduced by the thickness of the circuit pattern compared to a conventional one, and the degree of design freedom can be improved. In addition, since the first insulating portion uses a prepreg including glass fiber, it is possible to minimize panel breakage or warping that occurs when manufacturing a thin substrate.
한편, 상기와 같이 실시 예에서의 캐비티(C)는 상부폭이 하부폭보다 작을 수 있다. 바람직하게, 캐비티(C)를 채우는 절연물질이 적층되는 부분의 폭이 이의 반대부분의 폭보다 작을 수 있다. 이에 대해서는 하기에서 더욱 상세히 설명하기로 한다.Meanwhile, as described above, the cavity (C) in the embodiment may have an upper width smaller than a lower width. Preferably, the width of the portion where the insulating material filling the cavity (C) is laminated may be smaller than the width of the opposite portion. This will be described in more detail below.
제1 절연부 상에는 제2 절연부가 배치되고, 제1 절연부 아래에는 제3 절연부가 배치될 수 있다. 이때, 일 실시 예에서의 제2 절연부는 단일 절연층으로 구성될 수 있고, 제3 절연부는 복수 개의 절연층으로 구성될 수 있다. A second insulating portion may be arranged on the first insulating portion, and a third insulating portion may be arranged below the first insulating portion. In this case, in one embodiment, the second insulating portion may be composed of a single insulating layer, and the third insulating portion may be composed of a plurality of insulating layers.
이때, 제2 절연부를 구성하는 절연층과, 제3 절연부를 구성하는 일부 절연층, 그리고 제1 절연부를 구성하는 절연층은 모두 다른 절연물질로 구성될 수 있다. 즉, 상기와 같이 제1 절연부의 제1 절연층(110) 및 제2 절연층(125)은 유리 섬유를 포함하는 프리프레그로 형성될 수 있다.At this time, the insulating layer constituting the second insulating portion, some insulating layers constituting the third insulating portion, and the insulating layer constituting the first insulating portion may all be composed of different insulating materials. That is, as described above, the first insulating layer (110) and the second insulating layer (125) of the first insulating portion may be formed of a prepreg including glass fiber.
이와 다르게, 제2 절연부를 구성하는 제3 절연층(140)은 RCC(Resin Coated Cu)로 구성될 수 있다. 이때, 제3 절연층(140)은 제2 절연층(125) 상에 배치되면서, 상기 제2 절연층(125) 및 제1 절연층(110)에 형성된 캐비티(C) 내에도 배치된다. 즉, 제3 절연층(140)은 상기 캐비티(C)를 채우면서, 상기 제2 절연층(125) 상에 일정 두께를 가지고 배치될 수 있다. In contrast, the third insulating layer (140) constituting the second insulating portion may be composed of RCC (Resin Coated Cu). At this time, the third insulating layer (140) is disposed on the second insulating layer (125), while also being disposed within the cavity (C) formed in the second insulating layer (125) and the first insulating layer (110). That is, the third insulating layer (140) may be disposed on the second insulating layer (125) with a certain thickness while filling the cavity (C).
여기에서, 상기 제3 절연층(140)이 상기 캐비티(C)를 채우면서, 상기 제2 절연층(125)에 배치된다는 의미는, 상기 제1 절연부를 중심으로, 하부에 배치된 제3 절연부보다 상기 제2 절연부가 먼저 적층되었음을 의미한다. Here, the meaning that the third insulating layer (140) is placed on the second insulating layer (125) while filling the cavity (C) means that the second insulating part is laminated before the third insulating part placed below the first insulating part.
다시 말해서, 상기 캐비티(C) 내의 절연물질의 적층은, 상기 제2 절연부가 위치한 방향에서 이루어졌음을 의미한다.In other words, this means that the lamination of the insulating material within the cavity (C) was performed in the direction in which the second insulating portion is located.
이때, 상기 캐비티(C)는 상기 제2 절연부를 향하는 부분의 폭이 상기 제3 절연부를 향하는 부분의 폭보다 작다. 다시 말해서, 상기 캐비티(C)의 상부는 제1 폭(W1)을 가지고, 상기 캐비티(C)의 하부는 상기 제1 폭(W1)보다 큰 제2 폭(W2)을 가질 수 있다. At this time, the width of the portion of the cavity (C) facing the second insulating portion is smaller than the width of the portion facing the third insulating portion. In other words, the upper portion of the cavity (C) may have a first width (W1), and the lower portion of the cavity (C) may have a second width (W2) greater than the first width (W1).
상기와 같이, 실시 예에서는 캐비티(C)의 상부의 폭이 하부의 폭보다 작도록하고, 그에 따라 상기 폭이 작은 상부에서 상기 캐비티(C) 내를 채우는 제2 절연부를 적층하도록 한다. 이에 따르면, 상기 캐비티(C)의 상부의 공간보다 하부의 공간이 상대적으로 크고, 이에 따라 상기 캐비티(C)의 가장자리 영역에서부터 천천히 상기 제2 절연부를 구성하는 절연물질이 채워지게 되며, 이에 따라 레진 흐름에 의해 상기 전자 소자(300a, 300b)가 중앙쪽으로 이동하는 것을 방지할 수 있다. As described above, in the embodiment, the width of the upper part of the cavity (C) is made smaller than the width of the lower part, and accordingly, the second insulating part filling the cavity (C) is laminated from the upper part where the width is smaller. Accordingly, the space at the lower part of the cavity (C) is relatively larger than the space at the upper part, and accordingly, the insulating material forming the second insulating part is slowly filled from the edge area of the cavity (C), and accordingly, the electronic element (300a, 300b) can be prevented from moving toward the center due to the resin flow.
이때, 상기 제2 폭(W2)은 상기 제1 폭(W1)의 1.5배 내지 2.5배 사이의 범위를 가지도록 한다. 상기 제2 폭(W2)이 상기 제1 폭(W1)의 1.5배보다 작은 경우, 캐비티(C)의 가장자리 영역으로 상기 레진의 흐름 방향을 형성할 수 없으며, 이에 따른 전자 소자의 쉬프트가 발생하는 문제가 발생하 수 있다. 또한, 상기 제2 폭(W2)이 제1 폭(W1)의 2.5배보다 크면, 상기 캐비티(C)의 면적이 증가하게 되며, 이에 따라 상기 캐비티(C) 내를 채우기 위한 절연물질의 낭비가 발생할 수 있다. 또한, 또한, 상기 제2 폭(W2)이 제1 폭(W1)의 2.5배보다 크면, 아래에 설명하는 바와 같은 상기 제3 절연층(140)의 상면에 굴곡이 발생할 수 있고, 이에 따른 신뢰성에 문제가 발생할 수 있다.At this time, the second width (W2) is set to have a range of 1.5 to 2.5 times the first width (W1). If the second width (W2) is smaller than 1.5 times the first width (W1), the flow direction of the resin cannot be formed in the edge area of the cavity (C), and thus, a problem of shifting of the electronic component may occur. In addition, if the second width (W2) is larger than 2.5 times the first width (W1), the area of the cavity (C) increases, and thus, waste of the insulating material for filling the cavity (C) may occur. In addition, if the second width (W2) is larger than 2.5 times the first width (W1), a bend may occur on the upper surface of the third insulating layer (140) as described below, and thus, a problem of reliability may occur.
또한, 상기와 같이 제3 절연층(140)은 상기 캐비티(C)를 안정적으로 채우면서, 균일한 두께를 가지고 상기 제2 절연층(125) 상에 배치되어야 한다. 이때, 상기 캐비티(C)의 면적에 따라 상기 제3 절연층(140)의 상면에 일정 굴곡이 형성될 수 있다. 이는, 캐비티(C)가 존재하는 영역과 그 이외의 영역에서의 제3 절연층(140)의 두께가 서로 다르기 때문이다. 이에 따라 실시 예에서는 상기 제3 절연층(140)을 상기와 같은 RCC 타입으로 형성하여, 상기와 같은 문제를 해결하면서, 신뢰성 있는 기판을 제조할 수 있도록 한다.In addition, as described above, the third insulating layer (140) should be disposed on the second insulating layer (125) with a uniform thickness while stably filling the cavity (C). At this time, a certain curvature may be formed on the upper surface of the third insulating layer (140) depending on the area of the cavity (C). This is because the thickness of the third insulating layer (140) in the area where the cavity (C) exists and the other area are different from each other. Accordingly, in the embodiment, the third insulating layer (140) is formed in the RCC type as described above, thereby solving the above problems and manufacturing a reliable substrate.
제3 절연층(140)의 상면에는 제4 회로 패턴(145)이 배치될 수 있다. 또한, 제3 절연층(140)에는 상기 제3 절연층(140)을 관통하면서 제3 비아가 배치될 수 있다. 제3 비아는 제2 절연층(125) 상에 배치된 제3 회로 패턴(135)과 상기 제3 절연층(140) 상에 배치된 제4 회로 패턴(145)을 전기적으로 연결할 수 있다.A fourth circuit pattern (145) may be arranged on the upper surface of the third insulating layer (140). In addition, a third via may be arranged through the third insulating layer (140). The third via may electrically connect the third circuit pattern (135) arranged on the second insulating layer (125) and the fourth circuit pattern (145) arranged on the third insulating layer (140).
또한, 상기 제3 절연층(140) 상에는 제1 외부 절연층(170)이 배치될 수 있다. 그리고, 상기 제1 외부 절연층(170)의 상면에는 제1 외부 회로패턴(175)이 배치될 수 있고, 상기 제1 외부 절연층(170) 내에는 비아(180)가 배치될 수 있다.In addition, a first external insulating layer (170) may be arranged on the third insulating layer (140). In addition, a first external circuit pattern (175) may be arranged on the upper surface of the first external insulating layer (170), and a via (180) may be arranged within the first external insulating layer (170).
한편, 제1 절연부 아래에는 제3 절연부가 배치된다. 제3 절연부는 제2 절연부와는 다르게 복수의 절연층 구조를 가진다. 이에 따라, 실시 예에서는 전자소자(300a, 300b)가 배치되는 제1 절연부를 중심으로 대칭 구조를 가질 수 있고, 이와 다르게 비대칭 구조를 가질 수도 있다.Meanwhile, a third insulating portion is arranged under the first insulating portion. Unlike the second insulating portion, the third insulating portion has a multiple insulating layer structure. Accordingly, in the embodiment, the first insulating portion on which the electronic elements (300a, 300b) are arranged may have a symmetrical structure, or may have an asymmetrical structure.
제3 절연부는 제1 절연층(110) 아래에 배치된 제4 절연층(150)과, 제4 절연층(150) 아래에 배치된 제2 외부 절연층(170)을 포함할 수 있다. The third insulating member may include a fourth insulating layer (150) positioned under the first insulating layer (110) and a second outer insulating layer (170) positioned under the fourth insulating layer (150).
이때, 상기 제4 절연층(150) 및 제2 외부 절연층(170)은 서로 동일한 절연물질로 형성될 수 있고, 이와 다르게 서로 다른 절연 물질로 형성될 수 있다.At this time, the fourth insulating layer (150) and the second outer insulating layer (170) may be formed of the same insulating material, or may be formed of different insulating materials.
바람직하게, 제4 절연층(150)은 상기 제2 외부 절연층(170)과는 다른 절연물질로 형성될 수 있다. Preferably, the fourth insulating layer (150) may be formed of a different insulating material than the second outer insulating layer (170).
제2 외부 절연층(170)은 상기 제1 절연층(110) 및 제2 절연층(125)가 동일한 절연 물질로 형성될 수 있다. The second outer insulating layer (170) may be formed of the same insulating material as the first insulating layer (110) and the second insulating layer (125).
상기 제2 외부 절연층(170)은 유리 섬유 또는 플라스틱을 포함할 수 있다. 자세하게, 상기 제2 외부 절연층(170)은 소다라임유리(soda lime glass) 또는 알루미노실리케이트유리 등의 화학 강화/반강화유리를 포함하거나, 폴리이미드(Polyimide, PI), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(polyethylene terephthalate, PET), 프로필렌 글리콜(propylene glycol, PPG) 폴리 카보네이트(PC) 등의 강화 혹은 연성 플라스틱을 포함하거나 사파이어를 포함할 수 있다.The second outer insulating layer (170) may include glass fiber or plastic. In detail, the second outer insulating layer (170) may include chemically strengthened/semi-strengthened glass such as soda lime glass or aluminosilicate glass, or may include reinforced or flexible plastic such as polyimide (PI), polyethylene terephthalate (PET), propylene glycol (PPG), polycarbonate (PC), or may include sapphire.
그리고, 제4 절연층(150)은 필름 타입의 레진으로 형성될 수 있다. 바람직하게, 제4 절연층(150)은 필름 타입의 프리프레그로 형성될 수 있다. 바람직하게, 제4 절연층(150)은 ABF(Aginomoto Build-up Film) 또는 감광성 절연재료인 PID(Photo Imagable Dielectric)로 형성될 수 있다.And, the fourth insulating layer (150) can be formed of a film type resin. Preferably, the fourth insulating layer (150) can be formed of a film type prepreg. Preferably, the fourth insulating layer (150) can be formed of ABF (Aginomoto Build-up Film) or PID (Photo Imagable Dielectric), which is a photosensitive insulating material.
제4 절연층(150)은 일정 두께를 가지고 상기 제1 절연층(110) 아래에 배치된다. 이때, 제1 절연층(110)에는 하면을 통해 돌출된 회로 패턴이 존재하지 않는다. 즉, 제1 회로 패턴(105)은 상기 제1 절연층(110)의 하부에 매립되어 형성된다. 따라서, 상기 제4 절연층(150)은 회로 패턴의 두께를 고려하지 않고 형성할 수 있다. 즉, 일반적인 절연층은 회로 패턴을 덮으면서 안정적인 층간 절연을 위해 배치되며, 이를 위해 회로 패턴의 두께를 기준으로 최종 두께가 결정될 수 있다. 예를 들어, 제3 절연층(140)의 경우, 상기 제2 절연층(125) 상에 배치된 제3 회로 패턴(135)의 두께를 고려하여 두께가 결정되어야 한다. 즉, 제3 회로 패턴(135)의 두께가 12㎛일 경우, 상기 제3 절연층(140)의 두께는 20㎛일 수 있다. 또한, 제3 절연층(140)의 두께가 10㎛일 경우, 상기 제3 절연층(140)의 두께는 15㎛일 수 있다. 반면, 제4 절연층(150)은 회로 패턴의 두께를 고려하지 않고 형성될 수 있으며, 이에 따라 10㎛ 정도의 얇은 두께로도 형성이 가능하다.The fourth insulating layer (150) has a certain thickness and is arranged under the first insulating layer (110). At this time, the first insulating layer (110) does not have a circuit pattern protruding through the lower surface. That is, the first circuit pattern (105) is formed by being buried under the first insulating layer (110). Therefore, the fourth insulating layer (150) can be formed without considering the thickness of the circuit pattern. That is, a general insulating layer is arranged to cover the circuit pattern while providing stable interlayer insulation, and for this purpose, the final thickness can be determined based on the thickness of the circuit pattern. For example, in the case of the third insulating layer (140), the thickness should be determined in consideration of the thickness of the third circuit pattern (135) arranged on the second insulating layer (125). That is, when the thickness of the third circuit pattern (135) is 12 μm, the thickness of the third insulating layer (140) can be 20 μm. In addition, when the thickness of the third insulating layer (140) is 10 ㎛, the thickness of the third insulating layer (140) may be 15 ㎛. On the other hand, the fourth insulating layer (150) may be formed without considering the thickness of the circuit pattern, and thus may be formed with a thin thickness of about 10 ㎛.
즉, 제4 절연층(150)의 두께는 제1 절연층(110), 제2 절연층(125), 제3 절연층(140), 제1 외부 절연층(170), 제2 외부 절연층(170)이 가지는 각각이 두께보다 작다.That is, the thickness of the fourth insulating layer (150) is smaller than the thicknesses of the first insulating layer (110), the second insulating layer (125), the third insulating layer (140), the first external insulating layer (170), and the second external insulating layer (170).
제4 절연층(150)의 하면에는 제5 회로 패턴(160)이 배치될 수 있다. 또한, 제4 절연층(150) 내에는 제4 비아(155a) 및 제5 비아(155b)를 포함할 수 있다. A fifth circuit pattern (160) may be arranged on the lower surface of the fourth insulating layer (150). In addition, a fourth via (155a) and a fifth via (155b) may be included within the fourth insulating layer (150).
이때, 제4 절연층(150)의 하면에 형성된 제5 회로 패턴(160)은 다른 회로 패턴과는 다른 선폭을 가질 수 있다. 바람직하게, 제5 회로 패턴(160)은 다른 층에 배치된 회로 패턴들보다 작은 선폭을 가질 수 있다. 또한, 제5 회로 패턴(160)은 다른 층에 배치된 회로 패턴들보다 피치가 작을 수 있다. 이는, 상기 제5 절연층(165)이 가지는 물성에 의해 달성될 수 있다. At this time, the fifth circuit pattern (160) formed on the lower surface of the fourth insulating layer (150) may have a different line width from the other circuit patterns. Preferably, the fifth circuit pattern (160) may have a smaller line width than the circuit patterns arranged in other layers. In addition, the fifth circuit pattern (160) may have a smaller pitch than the circuit patterns arranged in other layers. This can be achieved by the physical properties of the fifth insulating layer (165).
한편, 제4 절연층(150)에는 제4 비아(155a) 및 제5 비아(155b)가 형성된다. 제4 비아(155a)는 전자소자(300)의 단자(310)와 직접 연결되는 비아이고, 제5 절연층(165)는 제1 회로 패턴(105)과 연결되는 비아이다. 바람직하게, 제4 비아(155a)는 수직 방향으로 전자소자(300a, 300b)와 오버랩될 수 있고, 제5 비아(155b)는 수직 방향으로 전자소자(300)와 오버랩되지 않을 수 있다. 그리고, 제4비아(155a) 및 제5 비아(155b)는 서로 다른 폭을 가질 수 있다. 즉, 제4 절연층(150)에 형성되는 비아의 폭은 다른 층에 형성되는 비아보다 작게 형성될 수 있다. 이때, 상기 제4 절연층(150)에 배치되는 모든 비아를 스몰 비아로 형성하는 경우, 다른 층에 배치된 비아와의 정렬에 문제가 발생할 수 있다. 이와 다르게 상기 제4 절연층(150)에 배치되는 모든 비아를 다른 층에 배치되는 비아와 동일 폭으로 형성하는 경우, 상기 전자소자(300)의 단자(310a, 310b)와 연결되는 비아에서의 신뢰성이 떨어질 수 있다. 이에 따라, 실시 예에서는 동일 층 내에 배치되는 제4 비아(155a) 및 제5 비아(155b)를 각각의 기능에 따라 서로 다른 폭으로 형성하도록 한다. 즉, 제5 비아(155b)는 다른 층의 비아들과 연결됨에 따라, 상기 다른 층의 비아들과 동일한 폭을 가지도록 할 수 있다. 이에 따라, 제5 비아(155b)는 최소 폭이 40㎛을 가질 수 있다. 바람직하게, 제5 비아(155b)는 40㎛ 내지 100㎛ 사이의 폭을 가질 수 있다.Meanwhile, a fourth via (155a) and a fifth via (155b) are formed in the fourth insulating layer (150). The fourth via (155a) is a via directly connected to the terminal (310) of the electronic device (300), and the fifth insulating layer (165) is a via connected to the first circuit pattern (105). Preferably, the fourth via (155a) may overlap with the electronic device (300a, 300b) in the vertical direction, and the fifth via (155b) may not overlap with the electronic device (300) in the vertical direction. In addition, the fourth via (155a) and the fifth via (155b) may have different widths. That is, the width of the via formed in the fourth insulating layer (150) may be formed smaller than that of the via formed in other layers. At this time, if all vias arranged in the fourth insulating layer (150) are formed as small vias, a problem may occur in alignment with vias arranged in other layers. In contrast, if all vias arranged in the fourth insulating layer (150) are formed with the same width as vias arranged in other layers, the reliability of the vias connected to the terminals (310a, 310b) of the electronic device (300) may decrease. Accordingly, in the embodiment, the fourth via (155a) and the fifth via (155b) arranged in the same layer are formed with different widths according to their respective functions. That is, since the fifth via (155b) is connected to the vias of other layers, it may have the same width as the vias of the other layers. Accordingly, the fifth via (155b) may have a minimum width of 40 μm. Preferably, the fifth via (155b) may have a width of between 40 μm and 100 μm.
한편, 제4 비아(155a)는 전자소자(300a, 300b)의 단자(310a, 310b)와 직접 연결됨에 따라 스몰 비아로 형성되도록 한다. 바람직하게, 제4 비아(155a)는 제5 비아(155b)보다 작은 폭을 가지도록 한다. 예를 들어, 제4 비아(155a)는 10㎛ 내지 35㎛의 폭을 가질 수 있다. 예를 들어, 제4 비아(155a)는 20㎛ 내지 25㎛의 폭을 가질 수 있다. Meanwhile, the fourth via (155a) is formed as a small via as it is directly connected to the terminal (310a, 310b) of the electronic device (300a, 300b). Preferably, the fourth via (155a) has a smaller width than the fifth via (155b). For example, the fourth via (155a) may have a width of 10 μm to 35 μm. For example, the fourth via (155a) may have a width of 20 μm to 25 μm.
제1 및 제2 외부 절연층(170) 상에는 보호층(190)이 배치될 수 있다. A protective layer (190) may be placed on the first and second outer insulating layers (170).
보호층(190)은 SR(Solder Resist), 산화물 및 Au 중 어느 하나 이상을 이용하여, 적어도 하나 이상의 층으로 형성될 수 있다.The protective layer (190) can be formed of at least one layer using one or more of SR (Solder Resist), oxide, and Au.
실시 예에 따르면, 인쇄회로기판은 전자소자가 배치되는 캐비티가 형성된 제1 절연부를 포함한다. 이때, 상기 캐비티는 중앙의 수평 라인을 중심으로 상하가 비대칭 구조를 가진다. 명확하게, 상기 캐비티는 상기 캐비티 내를 채우는 절연물질이 투입되는 일면(예를 들어, 상부)의 폭이 이의 반대면의 폭보다 크도록 한다. 이에 따르면, 상기 캐비티를 절연물질로 채울 시, 전자 소자의 양측의 가장자리부터 상기 절연물질이 채워질 수 있으며, 이에 따라 레진 흐름에 의하여 상기 전자 소자의 위치가 이동하는 현상을 방지할 수 있다. 다시 말해서, 실시 예에서는 상하부의 폭이 서로 다른 캐비티 내에 전자 소자를 배치한다. 그리고, 실시 예에서는 상대적으로 폭이 작은 부분에서 레진을 투입하여 상기 전자 소자를 매립하는 절연부를 형성한다. 이에 따르면, 전자소자의 쉬프트 방지를 통한 패드와 비아 홀 사이의 상호 접속도를 향상시킬 수 있으며, 연결 불량 최소화에 따른 공정 이슈 저하 및 수율을 확보하면서, 재품 신뢰성 및 내구성을 확보할 수 있다. According to an embodiment, a printed circuit board includes a first insulating portion in which a cavity in which an electronic component is placed is formed. At this time, the cavity has an asymmetrical structure with respect to a horizontal line in the center. Specifically, the cavity has a width of one side (e.g., the upper side) into which an insulating material filling the cavity is injected, which is greater than a width of the opposite side. Accordingly, when the cavity is filled with an insulating material, the insulating material can be filled from edges on both sides of the electronic component, thereby preventing the phenomenon in which the position of the electronic component moves due to the resin flow. In other words, in the embodiment, an electronic component is placed in a cavity in which the upper and lower sides have different widths. In addition, in the embodiment, a resin is injected into a portion having a relatively small width to form an insulating portion in which the electronic component is embedded. Accordingly, the interconnectivity between a pad and a via hole can be improved by preventing shifting of the electronic component, and the reliability and durability of the product can be secured while reducing process issues and securing yields by minimizing connection failures.
또한, 실시 예에 따르면, 인쇄회로기판은 회로 패턴이나 패드가 상기 제1 절연부 내에 매립되어 배치되도록 한다. 이에 따르면, 상기 회로 패턴이나 패드가 상기 제1 절연부 내에 매립되어 배치됨에 따라 종래 대비 회로 패턴의 두께만큼 인쇄회로기판의 두께를 감소시킬 수 있으며, 디자인 자유도를 향상시킬 수 있다. 또한, 상기 제1 절연부는 유리 섬유(Glass Fiber)를 포함하는 프리프레그를 사용하기 때문에 얇은 기판 제작시에 발생하는 패널 깨짐이나 휨 발생을 최소화할 수 있다.In addition, according to an embodiment, the printed circuit board is arranged so that the circuit pattern or pad is embedded in the first insulating portion. Accordingly, since the circuit pattern or pad is embedded in the first insulating portion, the thickness of the printed circuit board can be reduced by the thickness of the circuit pattern compared to the prior art, and the degree of design freedom can be improved. In addition, since the first insulating portion uses a prepreg containing glass fiber, it is possible to minimize panel breakage or warping that occurs when manufacturing a thin substrate.
또한, 실시 예에 따르면, 인쇄회로기판은 제1 절연부 아래에 제2 절연부가 배치된다. 이때, 상기 제2 절연부는 상기 제1 절연부와 직접 접촉하는 영역에는 필름 타입의 레진(예를 들어, ABF(Aginomoto Build-up Film)나 감광성 절연재료인 PID(Photo Imagable Dielectric))을 이용하여 절연층을 구성하도록 한다. 이에 따르면, 실시 예에서는 기존 대비 상기 제2 절연부의 절연층 두께를 감소시킬 수 있으며, 디자인 자유도를 향상시킬 수 있다.In addition, according to an embodiment, the printed circuit board has a second insulating portion arranged under the first insulating portion. At this time, the second insulating portion forms an insulating layer using a film-type resin (for example, ABF (Aginomoto Build-up Film) or PID (Photo Imagable Dielectric), which is a photosensitive insulating material) in an area in direct contact with the first insulating portion. According to this, in the embodiment, the thickness of the insulating layer of the second insulating portion can be reduced compared to the prior art, and the degree of design freedom can be improved.
또한, 실시 예에 따르면 상기 제1 절연부와 직접 접촉하는 영역 상의 제2 절연부를 필름 타입의 레진으로 형성함에 따라 스몰 비아(small via) 형성이 가능하며, 이에 따른 파인 패턴(fine pattern) 구현이 가능하다.In addition, according to an embodiment, by forming the second insulating portion on the area in direct contact with the first insulating portion using a film-type resin, a small via can be formed, and thus a fine pattern can be implemented.
이하에서는 도 2에 도시된 인쇄회로기판의 제조 공정에 대해 설명하기로 한다. 실시 예에서의 인쇄회로기판의 제조 방법은 제1 회로 패턴이 제1 절연층(110) 내에 매립 배치되도록 하는 구조를 가지기 위한 제1 공정과, 전자소자(300a, 300b)를 제1 절연부 내에 배치하는 제2 공정과, 제1 절연부를 중심으로 상하에 각각 제2 및 3 절연부를 적층하는 제3 공정을 포함할 수 있다.Hereinafter, a manufacturing process of the printed circuit board illustrated in FIG. 2 will be described. The manufacturing method of the printed circuit board in the embodiment may include a first process for having a structure in which a first circuit pattern is embedded and arranged within a first insulating layer (110), a second process for arranging electronic components (300a, 300b) within a first insulating portion, and a third process for laminating second and third insulating portions above and below the first insulating portion, respectively.
도 3 내지 도 15는 도 2의 인쇄회로기판의 제조 방법을 공정 순으로 설명하기 위한 도면이다.Figures 3 to 15 are drawings for explaining the manufacturing method of the printed circuit board of Figure 2 in process order.
도 3을 참조하면, 우선적으로 제1 절연부를 제조하기 위한 캐리어 보드(CB)를 준비한다. 캐리어 보드(CB)은 인쇄회로기판의 제조에 기초가 되는 기판일 수 있다. 캐리어 보드(CB)는 지지 기판(10)을 중심으로 양면에 금속층(20)이 형성된 구조를 가질 수 있다. Referring to Fig. 3, first, a carrier board (CB) for manufacturing the first insulating part is prepared. The carrier board (CB) may be a substrate that serves as a basis for manufacturing a printed circuit board. The carrier board (CB) may have a structure in which a metal layer (20) is formed on both sides with a support substrate (10) as the center.
캐리어 보드(CB)는 일반적인 지지 기판으로서, CCL(Copper Claded Laminate)를 이용할 수 있다.Carrier board (CB) is a general support substrate and can use CCL (Copper Claded Laminate).
한편, 캐리어 보드(CB)의 금속층(20)의 표면에는 추후 제1 절연부와의 분리를 용이하게 하기 위한 표면 처리가 진행될 수 있다. Meanwhile, the surface of the metal layer (20) of the carrier board (CB) may be subjected to surface treatment to facilitate subsequent separation from the first insulating portion.
다음으로, 도 5을 참조하면, 캐리어 보드(CB) 상에 제1 회로 패턴(105)을 형성한다. 제1 회로 패턴(105)은 상기 캐리어 보드(CB)의 양면에 각각 형성될 수 있다.Next, referring to Fig. 5, a first circuit pattern (105) is formed on a carrier board (CB). The first circuit pattern (105) can be formed on each of both sides of the carrier board (CB).
제1 회로 패턴(105)은 상기 금속층(20)을 시드층으로 상기 금속층(20) 상에 금속 물질을 도금하여 형성할 수 있다. 이와 다르게, 제1 회로 패턴(105)은 상기 금속층(20) 상에 도금층(도시하지 않음)을 형성하고, 상기 형성된 도금층을 식각하여 형성할 수도 있을 것이다.The first circuit pattern (105) can be formed by plating a metal material on the metal layer (20) using the metal layer (20) as a seed layer. Alternatively, the first circuit pattern (105) can be formed by forming a plating layer (not shown) on the metal layer (20) and etching the formed plating layer.
상기 제1 회로 패턴(105)은 금(Au), 은(Ag), 백금(Pt), 티타늄(Ti), 주석(Sn), 구리(Cu) 및 아연(Zn) 중에서 선택되는 적어도 하나의 금속 물질로 형성될 수 있다. 또한 제1 회로 패턴(105)은 본딩력이 우수한 금(Au), 은(Ag), 백금(Pt), 티타늄(Ti), 주석(Sn), 구리(Cu), 아연(Zn) 중에서 선택되는 적어도 하나의 금속 물질을 포함하는 페이스트 또는 솔더 페이스트로 형성될 수 있다. 바람직하게, 제1 회로 패턴(105)은 전기전도성이 높으면서 가격이 비교적 저렴한 구리(Cu)로 형성될 수 있다. The first circuit pattern (105) may be formed of at least one metal material selected from gold (Au), silver (Ag), platinum (Pt), titanium (Ti), tin (Sn), copper (Cu), and zinc (Zn). In addition, the first circuit pattern (105) may be formed of a paste or solder paste including at least one metal material selected from gold (Au), silver (Ag), platinum (Pt), titanium (Ti), tin (Sn), copper (Cu), and zinc (Zn) having excellent bonding strength. Preferably, the first circuit pattern (105) may be formed of copper (Cu) which has high electrical conductivity and is relatively inexpensive.
제1 회로 패턴(105)은 통상적인 인쇄회로기판의 제조 공정인 어디티브 공법(Additive process), 서브트렉티브 공법(Subtractive Process), MSAP(Modified Semi Additive Process) 및 SAP(Semi Additive Process) 공법 등으로 가능하며 여기에서는 상세한 설명은 생략한다.The first circuit pattern (105) can be manufactured using conventional printed circuit board manufacturing processes such as the additive process, subtractive process, MSAP (Modified Semi Additive Process), and SAP (Semi Additive Process), and a detailed description thereof is omitted here.
다음으로, 도 6을 참조하면, 상기 제1 회로 패턴(105)이 형성된 금속층(20) 상에 제1 절연층(110)을 형성한다. 이때, 제1 절연층(110) 상에는 동박층이 존재할 수 있다. Next, referring to Fig. 6, a first insulating layer (110) is formed on the metal layer (20) on which the first circuit pattern (105) is formed. At this time, a copper layer may be present on the first insulating layer (110).
상기 제1 절연층(110)은 유리 섬유(Glass Fiber)를 포함하는 프리프레그로 형성될 수 있다.The above first insulating layer (110) can be formed of a prepreg containing glass fiber.
바람직하게, 제1 절연층(110)은 유리 또는 플라스틱을 포함할 수 있다. 자세하게, 상기 제1 절연층(110)은 소다라임유리(soda lime glass) 또는 알루미노실리케이트유리 등의 화학 강화/반강화유리를 포함하거나, 폴리이미드(Polyimide, PI), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(polyethylene terephthalate, PET), 프로필렌 글리콜(propylene glycol, PPG) 폴리 카보네이트(PC) 등의 강화 혹은 연성 플라스틱을 포함하거나 사파이어를 포함할 수 있다.Preferably, the first insulating layer (110) may include glass or plastic. In detail, the first insulating layer (110) may include chemically strengthened/semi-strengthened glass such as soda lime glass or aluminosilicate glass, or may include reinforced or flexible plastic such as polyimide (PI), polyethylene terephthalate (PET), propylene glycol (PPG), polycarbonate (PC), or may include sapphire.
그리고, 제1 절연층(110) 내에 제1 비아(115)를 형성할 수 있다. And, a first via (115) can be formed within the first insulating layer (110).
상기 제1 비아(115)는 제1 절연층(110)을 관통하는 관통 홀(도시하지 않음) 내부를 전도성 물질로 충진하여 형성할 수 있다. 상기 관통 홀은 기계, 레이저 및 화학 가공 중 어느 하나의 가공 방식에 의해 형성될 수 있다. 상기 관통 홀이 기계 가공에 의해 형성되는 경우에는 밀링(Milling), 드릴(Drill) 및 라우팅(Routing) 등의 방식을 사용할 수 있고, 레이저 가공에 의해 형성되는 경우에는 UV나 CO2 레이저 방식을 사용할 수 있으며, 화학 가공에 의해 형성되는 경우에는 아미노실란, 케톤류 등을 포함하는 약품을 이용하여 상기 복수의 절연층 중 적어도 하나의 절연층을 개방할 수 있다.The first via (115) above can be formed by filling the inside of a through hole (not shown) penetrating the first insulating layer (110) with a conductive material. The through hole can be formed by any one of mechanical, laser, and chemical processing methods. When the through hole is formed by mechanical processing, methods such as milling, drilling, and routing can be used, and when the through hole is formed by laser processing, a UV or CO 2 laser method can be used, and when the through hole is formed by chemical processing, a chemical agent including aminosilane, ketones, etc. can be used to open at least one of the plurality of insulating layers.
한편, 상기 레이저에 의한 가공은 광학 에너지를 표면에 집중시켜 재료의 일부를 녹이고 증발시켜, 원하는 형태를 취하는 절단 방법으로, 컴퓨터 프로그램에 의한 복잡한 형성도 쉽게 가공할 수 있고, 다른 방법으로는 절단하기 어려운 복합 재료도 가공할 수 있다. Meanwhile, the processing by the laser is a cutting method that focuses optical energy on a surface to melt and vaporize part of the material, thereby forming a desired shape. It can easily process complex shapes using a computer program, and can also process composite materials that are difficult to cut using other methods.
또한, 상기 레이저에 의한 가공은 절단 직경이 최소 0.005mm까지 가능하며, 가공 가능한 두께 범위로 넓은 장점이 있다.In addition, the processing using the laser has the advantage of a cutting diameter of at least 0.005 mm and a wide range of processable thicknesses.
상기 레이저 가공 드릴로, YAG(Yttrium Aluminum Garnet)레이저나 CO2 레이저나 자외선(UV) 레이저를 이용하는 것이 바람직하다. YAG 레이저는 동박층 및 절연층 모두를 가공할 수 있는 레이저이고, CO2 레이저는 절연층만 가공할 수 있는 레이저이다.For the above laser processing drill, it is preferable to use a YAG (Yttrium Aluminum Garnet) laser, a CO2 laser, or an ultraviolet (UV) laser. The YAG laser is a laser that can process both the copper layer and the insulating layer, and the CO2 laser is a laser that can process only the insulating layer.
상기 관통 홀이 형성되면, 상기 관통 홀 내부를 전도성 물질로 충진하여 제1 비아(115)를 형성할 수 있다. 제1 비아(115)를 형성하는 금속 물질은 구리(Cu), 은(Ag), 주석(Sn), 금(Au), 니켈(Ni) 및 팔라듐(Pd) 중에서 선택되는 어느 하나의 물질일 수 있으며, 상기 전도성 물질 충진은 무전해 도금, 전해 도금, 스크린 인쇄(Screen Printing), 스퍼터링(Sputtering), 증발법(Evaporation), 잉크젯팅 및 디스펜싱 중 어느 하나 또는 이들의 조합된 방식을 이용할 수 있다.When the above through hole is formed, the inside of the through hole can be filled with a conductive material to form a first via (115). The metal material forming the first via (115) can be any one material selected from copper (Cu), silver (Ag), tin (Sn), gold (Au), nickel (Ni), and palladium (Pd), and the filling of the conductive material can utilize any one of electroless plating, electrolytic plating, screen printing, sputtering, evaporation, inkjetting, and dispensing, or a combination thereof.
다음으로, 상기 제1 비아(115)가 형성되면, 상기 제1 절연층(110)의 상면에 제2 회로 패턴(120)을 형성할 수 있다. Next, when the first via (115) is formed, a second circuit pattern (120) can be formed on the upper surface of the first insulating layer (110).
이때, 상기 제1 절연층(110), 제1 비아(115) 및 제2 회로 패턴(120)의 형성 공정은 상기 캐리어 보드(CB)의 양면에서 동시에 진행될 수 있다.At this time, the formation process of the first insulating layer (110), the first via (115), and the second circuit pattern (120) can be performed simultaneously on both sides of the carrier board (CB).
다음으로, 도 6을 참조하면, 상기 제1 절연층(110) 상에 제2 절연층(125)을 적층한다. 그리고, 제2 절연층(125) 내에 제2 비아(120)를 형성한다. 또한, 제2 절연층(125)의 상면에 제3 회로 패턴(135)을 형성한다. 이때, 상기 제2 절연층(125)은 상기 제1 절연층(110)과 동일한 유리 섬유를 포함한 프리프레그로 형성될 수 있다.Next, referring to FIG. 6, a second insulating layer (125) is laminated on the first insulating layer (110). Then, a second via (120) is formed in the second insulating layer (125). In addition, a third circuit pattern (135) is formed on the upper surface of the second insulating layer (125). At this time, the second insulating layer (125) may be formed of a prepreg including the same glass fiber as the first insulating layer (110).
이때, 상기 제2 절연층(125), 제2 비아(120) 및 제3 회로 패턴(135)의 형성 공정은 상기 캐리어 보드(CB)의 양면에서 동시에 진행될 수 있다.At this time, the formation process of the second insulating layer (125), the second via (120), and the third circuit pattern (135) can be performed simultaneously on both sides of the carrier board (CB).
다음으로, 도 7을 참조하면, 상기 캐리어 보드(CB)로부터 상부 및 하부에 각각 형성된 제1 절연부를 분리하는 공정을 진행할 수 있다. 이에 따라, 실시 예에서는 한번의 공정으로 복수의 제1 절연부를 동시에 제조할 수 있다. 또한, 실시 예에 따르면, 제1 절연층(110)의 하부에는 제1 회로 패턴(105)이 매립될 수 있다. 제1 절연층(110)의 상면 위에는 제2 회로 패턴(120)이 배치될 수 있다. 또한, 제2 절연층(125)의 상면 위에는 제3 회로 패턴(135)이 배치될 수 있다. 이때, 제1 절연층(110) 및 제2 절연층(125)을 하나의 절연층으로 보았을 때, 하부에 배치되는 회로 패턴은 절연층 내에 매립되어 배치되고, 상부에 배치되는 회로 패턴은 절연층 상에 돌출되어 배치된다. 즉, 종래에는 상기 상부 및 하부에 배치되는 회로 패턴이 모두 절연층의 상면 및 하면으로부터 돌출되어 형성되었다. 이에 반하여, 실시 예에서는 제1 회로 패턴(105)이 상기 제1 절연층(110)의 하부에 매립될 수 있도록 한다. 이에 따라, 실시 예에서는 상기 제1 절연층(110) 아래에 배치되는 제4 절연층(150)의 두께를 상기 제1 회로 패턴(105)의 두께만큼 줄일 수 있도록 한다. 즉, 절연층은 기본적으로 회로 패턴을 덮으면서 배치되기 때문에 상기 회로 패턴의 두께가 기본 옵셋 두께로 결정된다. 반면, 실시 예에서는 상기 제1 회로 패턴(105)이 상기 제1 절연층(110) 하부에 매립 배치됨에 따라, 추후 상기 제1 절연층(110) 아래에 적층될 절연층의 두께를 종래 대비 12~18㎛ 정도 감소시킬 수 있다.Next, referring to FIG. 7, a process of separating the first insulating portions formed at the upper and lower portions from the carrier board (CB) may be performed. Accordingly, in the embodiment, a plurality of first insulating portions may be manufactured simultaneously in one process. In addition, according to the embodiment, a first circuit pattern (105) may be embedded in the lower portion of the first insulating layer (110). A second circuit pattern (120) may be arranged on the upper surface of the first insulating layer (110). In addition, a third circuit pattern (135) may be arranged on the upper surface of the second insulating layer (125). At this time, when the first insulating layer (110) and the second insulating layer (125) are viewed as one insulating layer, the circuit pattern arranged at the lower portion is arranged while being embedded in the insulating layer, and the circuit pattern arranged at the upper portion is arranged while protruding on the insulating layer. That is, in the past, both the circuit patterns arranged at the upper and lower portions were formed while protruding from the upper and lower surfaces of the insulating layer. In contrast, in the embodiment, the first circuit pattern (105) can be embedded in the lower portion of the first insulating layer (110). Accordingly, in the embodiment, the thickness of the fourth insulating layer (150) disposed under the first insulating layer (110) can be reduced by the thickness of the first circuit pattern (105). That is, since the insulating layer is basically disposed while covering the circuit pattern, the thickness of the circuit pattern is determined by the basic offset thickness. In contrast, in the embodiment, since the first circuit pattern (105) is embedded in the lower portion of the first insulating layer (110), the thickness of the insulating layer to be laminated under the first insulating layer (110) in the future can be reduced by about 12 to 18 ㎛ compared to the prior art.
상기 제1 절연부가 제조되면, 상기 제1 절연부에 캐비티(C)를 형성할 수 있다. 상기 캐비티(C)는 상기 제1 절연층(110) 및 제2 절연층(125)을 공통으로 관통하여 형성될 수 있다. 즉, 상기 캐비티(C)는 전자소자(300)의 두께와 동일할 수 있으며, 신뢰성 향상을 위해 상기 전자소자(300a, 300b)의 두께보다 큰 두께를 가질 수 있다. 바람직하게, 캐비티(C)는 전자소자(300a, 300b)의 두께보다 10㎛ 정도 큰 두께를 가질 수 있다. 따라서, 전자소자(300)의 상면은 제2 절연층(125)의 상면보다 낮게 위치할 수 있다. 또한, 캐비티(C)의 폭은 전자소자(300)의 안정적인 배치를 위해, 전자소자(300a, 300b)가 가지는 폭보다 큰 폭을 가질 수 있다. 상기 캐비티(C)는 기계, 레이저 및 화학 가공 중 어느 하나의 가공 방식에 의해 형성될 수 있다. 상기 관통 홀이 기계 가공에 의해 형성되는 경우에는 밀링(Milling), 드릴(Drill) 및 라우팅(Routing) 등의 방식을 사용할 수 있고, 레이저 가공에 의해 형성되는 경우에는 UV나 CO2 레이저 방식을 사용할 수 있으며, 화학 가공에 의해 형성되는 경우에는 아미노실란, 케톤류 등을 포함하는 약품을 이용하여 상기 제1 절연층(110) 및 제2 절연층(125)을 개방할 수 있다.When the first insulating portion is manufactured, a cavity (C) can be formed in the first insulating portion. The cavity (C) can be formed by commonly penetrating the first insulating layer (110) and the second insulating layer (125). That is, the cavity (C) can have the same thickness as the electronic device (300), and can have a thickness greater than the thickness of the electronic device (300a, 300b) in order to improve reliability. Preferably, the cavity (C) can have a thickness greater than the thickness of the electronic device (300a, 300b) by about 10 ㎛. Therefore, the upper surface of the electronic device (300) can be positioned lower than the upper surface of the second insulating layer (125). In addition, the width of the cavity (C) may be larger than the width of the electronic components (300a, 300b) for stable placement of the electronic components (300). The cavity (C) may be formed by any one of mechanical, laser, and chemical processing methods. When the through hole is formed by mechanical processing, methods such as milling, drilling, and routing may be used, and when it is formed by laser processing, a UV or CO 2 laser method may be used, and when it is formed by chemical processing, a chemical agent including aminosilane, ketones, etc. may be used to open the first insulating layer (110) and the second insulating layer (125).
이때, 상기 캐비티(C)는 상기 제2 절연부를 향하는 부분의 폭이 상기 제3 절연부를 향하는 부분의 폭보다 작다. 다시 말해서, 상기 캐비티(C)의 상부는 제1 폭(W1)을 가지고, 상기 캐비티(C)의 하부는 상기 제1 폭(W1)보다 큰 제2 폭(W2)을 가질 수 있다. At this time, the width of the portion of the cavity (C) facing the second insulating portion is smaller than the width of the portion facing the third insulating portion. In other words, the upper portion of the cavity (C) may have a first width (W1), and the lower portion of the cavity (C) may have a second width (W2) greater than the first width (W1).
상기와 같이, 실시 예에서는 캐비티(C)의 상부의 폭이 하부의 폭보다 작도록하고, 그에 따라 상기 폭이 작은 상부에서 상기 캐비티(C) 내를 채우는 제2 절연부를 적층하도록 한다. 이에 따르면, 상기 캐비티(C)의 상부의 공간보다 하부의 공간이 상대적으로 크고, 이에 따라 상기 캐비티(C)의 가장자리 영역에서부터 천천히 상기 제2 절연부를 구성하는 절연물질이 채워지게 되며, 이에 따라 레진 흐름에 의해 상기 전자 소자(300a, 300b)가 중앙쪽으로 이동하는 것을 방지할 수 있다. As described above, in the embodiment, the width of the upper part of the cavity (C) is made smaller than the width of the lower part, and accordingly, the second insulating part filling the cavity (C) is laminated from the upper part where the width is smaller. Accordingly, the space at the lower part of the cavity (C) is relatively larger than the space at the upper part, and accordingly, the insulating material forming the second insulating part is slowly filled from the edge area of the cavity (C), and accordingly, the electronic element (300a, 300b) can be prevented from moving toward the center due to the resin flow.
이때, 상기 제2 폭(W2)은 상기 제1 폭(W1)의 1.5배 내지 2.5배 사이의 범위를 가지도록 한다. 상기 제2 폭(W2)이 상기 제1 폭(W1)의 1.5배보다 작은 경우, 캐비티(C)의 가장자리 영역으로 상기 레진의 흐름 방향을 형성할 수 없으며, 이에 따른 전자 소자의 쉬프트가 발생하는 문제가 발생하 수 있다. 또한, 상기 제2 폭(W2)이 제1 폭(W1)의 2.5배보다 크면, 상기 캐비티(C)의 면적이 증가하게 되며, 이에 따라 상기 캐비티(C) 내를 채우기 위한 절연물질의 낭비가 발생할 수 있다. 또한, 또한, 상기 제2 폭(W2)이 제1 폭(W1)의 2.5배보다 크면, 아래에 설명하는 바와 같은 상기 제3 절연층(140)의 상면에 굴곡이 발생할 수 있고, 이에 따른 신뢰성에 문제가 발생할 수 있다.At this time, the second width (W2) is set to have a range of 1.5 to 2.5 times the first width (W1). If the second width (W2) is smaller than 1.5 times the first width (W1), the flow direction of the resin cannot be formed in the edge area of the cavity (C), and thus, a problem of shifting of the electronic component may occur. In addition, if the second width (W2) is larger than 2.5 times the first width (W1), the area of the cavity (C) increases, and thus, waste of the insulating material for filling the cavity (C) may occur. In addition, furthermore, if the second width (W2) is larger than 2.5 times the first width (W1), a bend may occur on the upper surface of the third insulating layer (140) as described below, and thus, a problem of reliability may occur.
여기에서, 상기 제1 폭(W1)을 가지는 부분은, 추후 필름층(A)이 배치되는 면의 반대면을 의미한다. 그리고, 상기 제1 폭(W1)보다 큰 제2 폭(W2)을 가지는 부분은, 추후 필름층(A)이 배치되는(또는 부착되는) 면을 의미한다.Here, the portion having the first width (W1) means the surface opposite to the surface on which the film layer (A) is later placed. And, the portion having the second width (W2) larger than the first width (W1) means the surface on which the film layer (A) is later placed (or attached).
다음으로, 도 8을 참조하면, 상기 제1 절연층(110)의 하면에 필름층(A)을 형성한다. 상기 필름층(A)은 상기 제1 절연층(110)의 하면에 부착되며, 그에 따라 상기 캐비티(C)의 하부를 덮으며 배치될 수 있다. 상기 필름층(A)은 상기 캐비티(C) 내에 전자소자(300)를 배치 및 고정시키기 위해, 상기 캐비티(C)의 일면을 덮으며 배치될 수 있다. 상기 필름층(A)은 폴리이미드 필름을 사용할 수 있으나, 이에 한정되지는 않는다.Next, referring to FIG. 8, a film layer (A) is formed on the lower surface of the first insulating layer (110). The film layer (A) is attached to the lower surface of the first insulating layer (110), and thus can be arranged to cover the lower portion of the cavity (C). The film layer (A) can be arranged to cover one surface of the cavity (C) in order to arrange and fix an electronic device (300) within the cavity (C). The film layer (A) can use a polyimide film, but is not limited thereto.
바람직하게, 상기 필름층(A)은 상기 캐비티(C)의 상부 및 하부 중 상대적으로 큰 폭을 가지는 부분에 부착될 수 있다. 즉, 상기 캐비티(C)의 상부는 제1 폭(W1)을 가지고, 캐비티(C)의 하부는 상기 제1 폭(W1)보다 큰 제2 폭(W2)을 가지며, 이에 따라 상기 필름층(A)은 상기 큰 폭을 가지는 캐비티(C)의 하부를 폐쇄하며 상기 제1 절연층(110)의 하면에 부착될 수 있다.Preferably, the film layer (A) can be attached to a portion having a relatively large width among the upper and lower portions of the cavity (C). That is, the upper portion of the cavity (C) has a first width (W1), and the lower portion of the cavity (C) has a second width (W2) larger than the first width (W1), and accordingly, the film layer (A) closes the lower portion of the cavity (C) having the large width and can be attached to the lower surface of the first insulating layer (110).
다음으로 도 9를 참조하면, 상기 캐비티(C)의 일면을 통해 노출된 상기 필름층(A) 상에 전자소자(300a, 300b)를 부착한다. 상기 전자소자(300a, 300b)는 칩과 같은 전자 부품일 수 있으며, 이는 능동 소자와 수동 소자로 구분될 수 있다. 그리고, 상기 능동 소자는 비선형 부분을 적극적으로 이용한 소자이고, 수동 소자는 선형 및 비선형 특성이 모두 존재하여도 비선형 특성은 이용하지 않는 소자를 의미한다. 그리고, 상기 수동 소자에는 트랜지스터, IC 반도체 칩 등이 포함될 수 있으며, 상기 수동 소자에는 콘덴서, 저항 및 인덕터 등을 포함할 수 있다. 상기 수동 소자는 능동 소자인 반도체 칩의 신호 처리 속도를 높이거나, 필터링 기능 등을 수행하기 위해, 통상의 인쇄회로기판에 실장된다.Next, referring to FIG. 9, electronic components (300a, 300b) are attached on the film layer (A) exposed through one surface of the cavity (C). The electronic components (300a, 300b) may be electronic components such as chips, and may be divided into active components and passive components. In addition, the active components are components that actively utilize nonlinear portions, and the passive components refer to components that do not utilize nonlinear characteristics even though both linear and nonlinear characteristics exist. In addition, the passive components may include transistors, IC semiconductor chips, and the like, and the passive components may include capacitors, resistors, inductors, and the like. The passive components are mounted on a typical printed circuit board in order to increase the signal processing speed of the active component semiconductor chip, or to perform a filtering function, and the like.
상기 전자소자(300a, 300b)는 인쇄회로기판이 적용되는 어플리케이션에 따라 달라질 수 있으며, 예를 들어, 스마트폰에 적용되는 낸드 플래쉬(nand flash) 메모리 제품에 적용될 경우, 전자소자(300a, 300b)는 제어소자 부품일 수 있다.The above electronic components (300a, 300b) may vary depending on the application to which the printed circuit board is applied. For example, when applied to a NAND flash memory product applied to a smartphone, the electronic components (300a, 300b) may be control components.
전자소자(300a, 300b)의 하면에는 단자(310a, 310b)가 형성될 수 있다. 이때, 단자(310a, 310b)는 하면이 제1 절연층(110)의 하면과 동일 평면 상에 배치될 수 있다. 상기 단자(310a, 310b)는 하면이 제1 회로 패턴(105)의 하면과 동일 평면 상에 배치될 수 있다. 한편, 전자소자(300a, 300b)의 상면은 제2 절연층(125)의 상면과 동일 평면 상에 배치될 수 있다. 바람직하게, 전자소자(300a, 300b)의 상면은 제2 절연층(125)의 상면보다 낮게 배치될 수 있다. 즉, 상기 캐비티(C)는 전자소자(300a, 300b)의 두께와 동일할 수 있으며, 신뢰성 향상을 위해 상기 전자소자(300a, 300b)의 두께보다 큰 두께를 가질 수 있다. 바람직하게, 캐비티(C)는 전자소자(300a, 300b)의 두께보다 10㎛ 정도 큰 두께를 가질 수 있다. 따라서, 전자소자(300a, 300b)의 상면은 제2 절연층(125)의 상면보다 낮게 위치할 수 있다. 또한, 캐비티(C)의 폭은 전자소자(300a, 300b)의 안정적인 배치를 위해, 전자소자(300a, 300b)가 가지는 폭보다 큰 폭을 가질 수 있다.A terminal (310a, 310b) may be formed on the lower surface of the electronic component (300a, 300b). At this time, the lower surface of the terminal (310a, 310b) may be arranged on the same plane as the lower surface of the first insulating layer (110). The lower surface of the terminal (310a, 310b) may be arranged on the same plane as the lower surface of the first circuit pattern (105). Meanwhile, the upper surface of the electronic component (300a, 300b) may be arranged on the same plane as the upper surface of the second insulating layer (125). Preferably, the upper surface of the electronic component (300a, 300b) may be arranged lower than the upper surface of the second insulating layer (125). That is, the cavity (C) may have the same thickness as the electronic component (300a, 300b), and may have a thickness greater than the thickness of the electronic component (300a, 300b) in order to improve reliability. Preferably, the cavity (C) may have a thickness greater than the thickness of the electronic component (300a, 300b) by about 10 ㎛. Accordingly, the upper surface of the electronic component (300a, 300b) may be positioned lower than the upper surface of the second insulating layer (125). In addition, the width of the cavity (C) may have a width greater than the width of the electronic component (300a, 300b) in order to ensure stable placement of the electronic component (300a, 300b).
다만, 실시 예는 이에 한정되지 않으며, 상기 전자 소자(300a, 300b)는 단자(310a, 310b)가 위로 향하도록 상기 필름층(A) 상에 부착될 수 있다. 여기에서, 중요한 것은 본 실시 예에서의 필름층(A)은 상대적으로 큰 폭을 가지는 캐비티(C)의 일면을 폐쇄하며 배치된다는 것이고, 상대적으로 작은 폭을 가지는 캐비티(C)의 타면 상에 상기 캐비티(C)를 채우는 절연물질을 적층한다는 것이다.However, the embodiment is not limited thereto, and the electronic components (300a, 300b) may be attached on the film layer (A) such that the terminals (310a, 310b) face upward. Here, what is important is that the film layer (A) in the present embodiment is arranged to close one side of a cavity (C) having a relatively large width, and an insulating material filling the cavity (C) is laminated on the other side of the cavity (C) having a relatively small width.
다음으로, 도 10 참조하면, 상기 제1 절연부 상에 제2 절연부를 형성한다. 즉, 상기 전자소자(300a, 300b)의 배치 공정이 완료되면, 상기 제2 절연층(125) 위에 제3 절연층(140)을 형성한다. 상기 제3 절연층(140)은 RCC(Resin Coated Cu)로 구성될 수 있다. 이때, 제3 절연층(140)은 제2 절연층(125) 상에 배치되면서, 상기 제2 절연층(125) 및 제1 절연층(110)에 형성된 캐비티(C) 내에도 배치된다. 즉, 제3 절연층(140)은 상기 캐비티(C)를 채우면서, 상기 제2 절연층(125) 상에 일정 두께를 가지고 배치될 수 있다. Next, referring to FIG. 10, a second insulating portion is formed on the first insulating portion. That is, when the process of arranging the electronic components (300a, 300b) is completed, a third insulating layer (140) is formed on the second insulating layer (125). The third insulating layer (140) may be composed of RCC (Resin Coated Cu). At this time, the third insulating layer (140) is arranged on the second insulating layer (125), while also being arranged in the cavity (C) formed in the second insulating layer (125) and the first insulating layer (110). That is, the third insulating layer (140) may be arranged on the second insulating layer (125) with a certain thickness while filling the cavity (C).
즉, 상기와 같이 제3 절연층(140)은 상기 캐비티(C)를 안정적으로 채우면서, 균일한 두께를 가지고 상기 제2 절연층(125) 상에 배치되어야 한다. 이때, 상기 캐비티(C)의 면적에 따라 상기 제3 절연층(140)의 상면에 일정 굴곡이 형성될 수 있다. 이는, 캐비티(C)가 존재하는 영역과 그 이외의 영역에서의 제3 절연층(140)의 두께가 서로 다르기 때문이다. 이에 따라 실시 예에서는 상기 제3 절연층(140)을 상기와 같은 RCC 타입으로 형성하여, 상기와 같은 문제를 해결하면서, 신뢰성 있는 기판을 제조할 수 있도록 한다.That is, as described above, the third insulating layer (140) should be placed on the second insulating layer (125) with a uniform thickness while stably filling the cavity (C). At this time, a certain curvature may be formed on the upper surface of the third insulating layer (140) depending on the area of the cavity (C). This is because the thickness of the third insulating layer (140) in the area where the cavity (C) exists and the other area are different from each other. Accordingly, in the embodiment, the third insulating layer (140) is formed in the RCC type as described above, thereby solving the above-described problem and manufacturing a reliable substrate.
또한, 상기 제3 절연층(140)은 상기와 같이 상대적으로 작은 폭을 가지는 캐비티(C)의 타면을 통해 적층됨으로써, 상기 제3 절연층(140)을 구성하는 레진의 흐름에 의해 상기 필름층(A) 상에 부착된 전자 소자(300a, 300b)의 쉬프트 문제를 해결할 수 있다.In addition, the third insulating layer (140) is laminated through the other surface of the cavity (C) having a relatively small width as described above, thereby solving the shift problem of the electronic elements (300a, 300b) attached on the film layer (A) due to the flow of the resin constituting the third insulating layer (140).
그리고, 상기 제3 절연층(140) 상에는 구리로 코팅된 코팅층(141)이 형성될 수 있다. 상기 코팅층(141)은 추후 제4 회로 패턴(145)을 형성하기 위한 금속층일 수 있다.In addition, a copper-coated coating layer (141) may be formed on the third insulating layer (140). The coating layer (141) may be a metal layer for forming a fourth circuit pattern (145) later.
다음으로, 도 11에 도시된 바와 같이, 상기 제3 절연층(140)의 형성이 완료되면, 상기 제2 절연층(125) 아래에 부착된 필름층(A)을 제거한다.Next, as shown in Fig. 11, when the formation of the third insulating layer (140) is completed, the film layer (A) attached under the second insulating layer (125) is removed.
다음으로, 도 12를 참조하면, 상기 제1 절연층(110) 아래에 제4 절연층(150)을 형성한다. 이때, 상기 제4 절연층(150)은 제1 절연층(110), 제2 절연층(125) 및 제3 절연층(140)과는 다른 절연물질로 형성될 수 있다. 바람직하게, 제4 절연층(150)은 필름 타입의 레진으로 형성될 수 있다. 바람직하게, 제4 절연층(150)은 필름 타입의 프리프레그로 형성될 수 있다. 바람직하게, 제4 절연층(150)은 ABF(Aginomoto Build-up Film) 또는 감광성 절연재료인 PID(Photo Imagable Dielectric)로 형성될 수 있다.Next, referring to FIG. 12, a fourth insulating layer (150) is formed under the first insulating layer (110). At this time, the fourth insulating layer (150) may be formed of an insulating material different from the first insulating layer (110), the second insulating layer (125), and the third insulating layer (140). Preferably, the fourth insulating layer (150) may be formed of a film-type resin. Preferably, the fourth insulating layer (150) may be formed of a film-type prepreg. Preferably, the fourth insulating layer (150) may be formed of an ABF (Aginomoto Build-up Film) or a PID (Photo Imagable Dielectric), which is a photosensitive insulating material.
제4 절연층(150)은 일정 두께를 가지고 상기 제1 절연층(110) 아래에 배치된다. 이때, 제1 절연층(110)에는 하면을 통해 돌출된 회로 패턴이 존재하지 않는다. 즉, 제1 회로 패턴(105)은 상기 제1 절연층(110)의 하부에 매립되어 형성된다. 따라서, 상기 제4 절연층(150)은 회로 패턴의 두께를 고려하지 않고 형성할 수 있다. 즉, 일반적인 절연층은 회로 패턴을 덮으면서 안정적인 층간 절연을 위해 배치되며, 이를 위해 회로 패턴의 두께를 기준으로 최종 두께가 결정될 수 있다. 예를 들어, 제3 절연층(140)의 경우, 상기 제2 절연층(125) 상에 배치된 제3 회로 패턴(135)의 두께를 고려하여 두께가 결정되어야 한다. 즉, 제3 회로 패턴(135)의 두께가 12㎛일 경우, 상기 제3 절연층(140)의 두께는 20㎛일 수 있다. 또한, 제3 절연층(140)의 두께가 10㎛일 경우, 상기 제3 절연층(140)의 두께는 15㎛일 수 있다. 반면, 제4 절연층(150)은 회로 패턴의 두께를 고려하지 않고 형성될 수 있으며, 이에 따라 10㎛ 정도의 얇은 두께로도 형성이 가능하다.The fourth insulating layer (150) has a certain thickness and is arranged under the first insulating layer (110). At this time, the first insulating layer (110) does not have a circuit pattern protruding through the lower surface. That is, the first circuit pattern (105) is formed by being buried under the first insulating layer (110). Therefore, the fourth insulating layer (150) can be formed without considering the thickness of the circuit pattern. That is, a general insulating layer is arranged to cover the circuit pattern while providing stable interlayer insulation, and for this purpose, the final thickness can be determined based on the thickness of the circuit pattern. For example, in the case of the third insulating layer (140), the thickness should be determined in consideration of the thickness of the third circuit pattern (135) arranged on the second insulating layer (125). That is, when the thickness of the third circuit pattern (135) is 12 μm, the thickness of the third insulating layer (140) can be 20 μm. In addition, when the thickness of the third insulating layer (140) is 10 ㎛, the thickness of the third insulating layer (140) may be 15 ㎛. On the other hand, the fourth insulating layer (150) may be formed without considering the thickness of the circuit pattern, and thus may be formed with a thin thickness of about 10 ㎛.
즉, 제4 절연층(150)의 두께는 제1 절연층(110), 제2 절연층(125), 제3 절연층(140)의 각각의 두께보다 작을 수 있다.That is, the thickness of the fourth insulating layer (150) may be smaller than each of the thicknesses of the first insulating layer (110), the second insulating layer (125), and the third insulating layer (140).
다음으로, 제4 절연층(150)의 하면에 제5 회로 패턴(160)을 형성할 수 있다. 또한, 상기 제4 절연층(150) 내에 제4 비아(155a) 및 제5 비아(155b)를 각각 형성할 수 있다.Next, a fifth circuit pattern (160) can be formed on the lower surface of the fourth insulating layer (150). In addition, a fourth via (155a) and a fifth via (155b) can be formed within the fourth insulating layer (150).
이때, 제4 절연층(150)의 하면에 형성된 제5 회로 패턴(160)은 다른 회로 패턴과는 다른 선폭을 가질 수 있다. 바람직하게, 제5 회로 패턴(160)은 다른 층에 배치된 회로 패턴들보다 작은 선폭을 가질 수 있다. 또한, 제5 회로 패턴(160)은 다른 층에 배치된 회로 패턴들보다 피치가 작을 수 있다. 이는, 상기 제5 절연층(165)이 가지는 물성에 의해 달성될 수 있다. At this time, the fifth circuit pattern (160) formed on the lower surface of the fourth insulating layer (150) may have a different line width from the other circuit patterns. Preferably, the fifth circuit pattern (160) may have a smaller line width than the circuit patterns arranged in other layers. In addition, the fifth circuit pattern (160) may have a smaller pitch than the circuit patterns arranged in other layers. This may be achieved by the physical properties of the fifth insulating layer (165).
한편, 제4 절연층(150)에는 제4 비아(155a) 및 제5 비아(155b)가 형성된다. 제4 비아(155a)는 전자소자(300a, 300b)의 단자(310a, 310b)와 직접 연결되는 비아이고, 제5 비아(155b)는 제1 회로 패턴(105)과 연결되는 비아이다. 바람직하게, 제4 비아(155a)는 수직 방향으로 전자소자(300a, 300b)와 오버랩될 수 있고, 제5 비아(155b)는 수직 방향으로 전자소자(300a, 300b)와 오버랩되지 않을 수 있다. 그리고, 제4비아(155a) 및 제5 비아(155b)는 서로 다른 폭을 가질 수 있다. 즉, 제4 절연층(150)에 형성되는 비아의 폭은 다른 층에 형성되는 비아보다 작게 형성될 수 있다. 이때, 상기 제4 절연층(150)에 배치되는 모든 비아를 스몰 비아로 형성하는 경우, 다른 층에 배치된 비아와의 정렬에 문제가 발생할 수 있다. 이와 다르게 상기 제4 절연층(150)에 배치되는 모든 비아를 다른 층에 배치되는 비아와 동일 폭으로 형성하는 경우, 상기 전자소자(300)의 단자(310)와 연결되는 비아에서의 신뢰성이 떨어질 수 있다. 이에 따라, 실시 예에서는 동일 층 내에 배치되는 제4 비아(155a) 및 제5 비아(155b)를 각각의 기능에 따라 서로 다른 폭으로 형성하도록 한다. 즉, 제5 비아(155b)는 다른 층의 비아들과 연결됨에 따라, 상기 다른 층의 비아들과 동일한 폭을 가지도록 할 수 있다. 일 예로, 제5 비아(155b)는 최소 폭이 40㎛을 가질 수 있다. 바람직하게, 제5 비아(155b)는 40㎛ 내지 100㎛ 사이의 폭을 가질 수 있다.Meanwhile, a fourth via (155a) and a fifth via (155b) are formed in the fourth insulating layer (150). The fourth via (155a) is a via directly connected to a terminal (310a, 310b) of an electronic device (300a, 300b), and the fifth via (155b) is a via connected to the first circuit pattern (105). Preferably, the fourth via (155a) may overlap with the electronic device (300a, 300b) in the vertical direction, and the fifth via (155b) may not overlap with the electronic device (300a, 300b) in the vertical direction. In addition, the fourth via (155a) and the fifth via (155b) may have different widths. That is, the width of the via formed in the fourth insulating layer (150) may be formed smaller than the vias formed in other layers. At this time, if all the vias arranged in the fourth insulating layer (150) are formed as small vias, a problem may occur in alignment with the vias arranged in other layers. In contrast, if all the vias arranged in the fourth insulating layer (150) are formed with the same width as the vias arranged in other layers, the reliability of the vias connected to the terminal (310) of the electronic device (300) may be reduced. Accordingly, in the embodiment, the fourth via (155a) and the fifth via (155b) arranged in the same layer are formed with different widths according to their respective functions. That is, since the fifth via (155b) is connected to the vias of other layers, it may have the same width as the vias of the other layers. For example, the fifth via (155b) may have a minimum width of 40 μm. Preferably, the fifth via (155b) may have a width of between 40 μm and 100 μm.
한편, 제4 비아(155a)는 전자소자(300a, 300b)의 단자(310a, 310b)와 직접 연결됨에 따라 스몰 비아로 형성되도록 한다. 바람직하게, 제4 비아(155a)는 제5 비아(155b)보다 작은 폭을 가지도록 한다. 예를 들어, 제4 비아(155a)는 10㎛ 내지 35㎛의 폭을 가질 수 있다. 예를 들어, 제4 비아(155a)는 20㎛ 내지 25㎛의 폭을 가질 수 있다. Meanwhile, the fourth via (155a) is formed as a small via as it is directly connected to the terminal (310a, 310b) of the electronic device (300a, 300b). Preferably, the fourth via (155a) has a smaller width than the fifth via (155b). For example, the fourth via (155a) may have a width of 10 μm to 35 μm. For example, the fourth via (155a) may have a width of 20 μm to 25 μm.
다음으로, 도 13을 참조하면, 상기 제3 절연층(140)의 위 및 제4 절연층(150) 아래에 각각 제1 및 제2 외부 절연층(170)을 적층한다. 이때, 상기 제1 및 제2 외부 절연층(170)의 표면에는 금속층(171)이 형성될 수 있다. Next, referring to Fig. 13, the first and second external insulating layers (170) are laminated above the third insulating layer (140) and below the fourth insulating layer (150), respectively. At this time, a metal layer (171) may be formed on the surfaces of the first and second external insulating layers (170).
다음으로, 도 14를 참조하면, 상기 제1 및 제2 외부 절연층(170) 제6 비아(180)를 형성하는 공정을 진행할 수 있다. 또한, 상기 금속층(171)을 이용하여 상기 제1 및 제2 외부 절연층(170)의 표면에 제1 및 제2 외부 회로 패턴(175)을 형성하는 공정을 진행할 수 있다.Next, referring to FIG. 14, a process of forming the sixth via (180) of the first and second external insulating layers (170) can be performed. In addition, a process of forming the first and second external circuit patterns (175) on the surfaces of the first and second external insulating layers (170) can be performed using the metal layer (171).
다음으로, 도 15를 참조하면, 제1 및 제2 외부 절연층(170) 상에 제1 보호층(215)을 형성하고, 제7 절연층(195) 아래에 제2 보호층(220)을 배치하는 공정을 진행할 수 있다. Next, referring to FIG. 15, a process of forming a first protective layer (215) on the first and second outer insulating layers (170) and placing a second protective layer (220) under the seventh insulating layer (195) can be performed.
제1 보호층(215) 및 제2 보호층(220)은 SR(Solder Resist), 산화물 및 Au 중 어느 하나 이상을 이용하여, 적어도 하나 이상의 층으로 형성될 수 있다.The first protective layer (215) and the second protective layer (220) can be formed of at least one layer using one or more of SR (Solder Resist), oxide, and Au.
실시 예에 따르면, 인쇄회로기판은 전자소자가 배치되는 캐비티가 형성된 제1 절연부를 포함한다. 이때, 상기 캐비티는 중앙의 수평 라인을 중심으로 상하가 비대칭 구조를 가진다. 명확하게, 상기 캐비티는 상기 캐비티 내를 채우는 절연물질이 투입되는 일면(예를 들어, 상부)의 폭이 이의 반대면의 폭보다 크도록 한다. 이에 따르면, 상기 캐비티를 절연물질로 채울 시, 전자 소자의 양측의 가장자리부터 상기 절연물질이 채워질 수 있으며, 이에 따라 레진 흐름에 의하여 상기 전자 소자의 위치가 이동하는 현상을 방지할 수 있다. 다시 말해서, 실시 예에서는 상하부의 폭이 서로 다른 캐비티 내에 전자 소자를 배치한다. 그리고, 실시 예에서는 상대적으로 폭이 작은 부분에서 레진을 투입하여 상기 전자 소자를 매립하는 절연부를 형성한다. 이에 따르면, 전자소자의 쉬프트 방지를 통한 패드와 비아 홀 사이의 상호 접속도를 향상시킬 수 있으며, 연결 불량 최소화에 따른 공정 이슈 저하 및 수율을 확보하면서, 재품 신뢰성 및 내구성을 확보할 수 있다. According to an embodiment, a printed circuit board includes a first insulating portion in which a cavity in which an electronic component is placed is formed. At this time, the cavity has an asymmetrical structure with respect to a horizontal line in the center. Specifically, the cavity has a width of one side (e.g., the upper side) into which an insulating material filling the cavity is injected is greater than a width of the opposite side. Accordingly, when the cavity is filled with an insulating material, the insulating material can be filled from edges on both sides of the electronic component, thereby preventing the phenomenon in which the position of the electronic component moves due to resin flow. In other words, in the embodiment, an electronic component is placed in a cavity in which the upper and lower sides have different widths. In addition, in the embodiment, a resin is injected into a portion having a relatively small width to form an insulating portion in which the electronic component is embedded. Accordingly, the interconnectivity between a pad and a via hole can be improved by preventing shifting of the electronic component, and the reliability and durability of the product can be secured while reducing process issues and securing yields by minimizing connection failures.
또한, 실시 예에 따르면, 인쇄회로기판은 회로 패턴이나 패드가 상기 제1 절연부 내에 매립되어 배치되도록 한다. 이에 따르면, 상기 회로 패턴이나 패드가 상기 제1 절연부 내에 매립되어 배치됨에 따라 종래 대비 회로 패턴의 두께만큼 인쇄회로기판의 두께를 감소시킬 수 있으며, 디자인 자유도를 향상시킬 수 있다. 또한, 상기 제1 절연부는 유리 섬유(Glass Fiber)를 포함하는 프리프레그를 사용하기 때문에 얇은 기판 제작시에 발생하는 패널 깨짐이나 휨 발생을 최소화할 수 있다.In addition, according to an embodiment, the printed circuit board is arranged so that the circuit pattern or pad is embedded in the first insulating portion. Accordingly, since the circuit pattern or pad is embedded in the first insulating portion, the thickness of the printed circuit board can be reduced by the thickness of the circuit pattern compared to the prior art, and the degree of design freedom can be improved. In addition, since the first insulating portion uses a prepreg containing glass fiber, it is possible to minimize panel breakage or warping that occurs when manufacturing a thin substrate.
또한, 실시 예에 따르면, 인쇄회로기판은 제1 절연부 아래에 제2 절연부가 배치된다. 이때, 상기 제2 절연부는 상기 제1 절연부와 직접 접촉하는 영역에는 필름 타입의 레진(예를 들어, ABF(Aginomoto Build-up Film)나 감광성 절연재료인 PID(Photo Imagable Dielectric))을 이용하여 절연층을 구성하도록 한다. 이에 따르면, 실시 예에서는 기존 대비 상기 제2 절연부의 절연층 두께를 감소시킬 수 있으며, 디자인 자유도를 향상시킬 수 있다.In addition, according to an embodiment, the printed circuit board has a second insulating portion arranged under the first insulating portion. At this time, the second insulating portion forms an insulating layer using a film-type resin (for example, ABF (Aginomoto Build-up Film) or PID (Photo Imagable Dielectric), which is a photosensitive insulating material) in an area in direct contact with the first insulating portion. According to this, in the embodiment, the thickness of the insulating layer of the second insulating portion can be reduced compared to the prior art, and the degree of design freedom can be improved.
또한, 실시 예에 따르면 상기 제1 절연부와 직접 접촉하는 영역 상의 제2 절연부를 필름 타입의 레진으로 형성함에 따라 스몰 비아(small via) 형성이 가능하며, 이에 따른 파인 패턴(fine pattern) 구현이 가능하다.In addition, according to an embodiment, by forming the second insulating portion on the area in direct contact with the first insulating portion using a film-type resin, a small via can be formed, and thus a fine pattern can be implemented.
이상에서 실시예들에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 적어도 하나의 실시예에 포함되며, 반드시 하나의 실시예에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 각 실시예에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 실시예들이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의해 다른 실시예들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다. 따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 실시예의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.The features, structures, effects, etc. described in the embodiments above are included in at least one embodiment, and are not necessarily limited to one embodiment. Furthermore, the features, structures, effects, etc. exemplified in each embodiment can be combined or modified and implemented in other embodiments by a person having ordinary knowledge in the field to which the embodiments belong. Therefore, the contents related to such combinations and modifications should be interpreted as being included in the scope of the embodiments.
이상에서 실시예를 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 실시예를 한정하는 것이 아니며, 실시예가 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시예에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부된 청구 범위에서 설정하는 실시예의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.Although the above description focuses on examples, these are only examples and do not limit the examples, and those with ordinary knowledge in the field to which the examples belong will recognize that various modifications and applications not exemplified above are possible without departing from the essential characteristics of the present examples. For example, each component specifically shown in the examples can be modified and implemented. In addition, the differences related to such modifications and applications should be interpreted as being included in the scope of the embodiments set forth in the appended claims.
Claims (16)
상기 제1 절연부의 상면 위에 배치된 제2 절연부;
상기 제1 절연부의 하면 아래에 배치된 제3 절연부; 및
상기 캐비티 내에 배치된 적어도 하나의 전자 소자를 포함하고,
상기 캐비티는 수평 방향의 폭이 상기 제3 절연부를 향할수록 넓어지도록 경사진 경사면을 포함하고,
상기 제2 절연부는 상기 캐비티 내에 배치된 돌출부를 포함하고,
상기 돌출부의 폭은 상기 제3 절연부를 향할수록 수평 방향의 폭이 넓어지는 회로기판.
A first insulating member comprising a cavity;
A second insulating member arranged on the upper surface of the first insulating member;
A third insulating part arranged below the lower surface of the first insulating part; and
comprising at least one electronic element disposed within the cavity;
The above cavity includes an inclined surface so that the width in the horizontal direction becomes wider as it approaches the third insulating portion,
The second insulating portion includes a protrusion disposed within the cavity,
A circuit board in which the width of the protrusion increases in the horizontal direction as it approaches the third insulating portion.
상기 제3 절연부는,
상기 제1 절연부의 하면 및 상기 돌출부의 하면 아래에 배치되는
회로기판.In the first paragraph,
The third insulating part is,
Positioned below the lower surface of the first insulating part and the lower surface of the protrusion
Circuit board.
상기 제3 절연부와 마주보는 면의 제1 부분과,
상기 제1 부분과 반대되는 면의 제2 부분을 포함하고,
상기 제1 부분의 폭은,
상기 제2 부분의 폭의 1.5배 내지 2.5배 사이의 범위를 가지는
회로기판.In the first paragraph,
The first part of the surface facing the third insulating part,
Including a second part opposite to the first part,
The width of the above first part is,
Having a range of between 1.5 and 2.5 times the width of the second portion
Circuit board.
상기 제1 절연부는,
적어도 하나의 제1 절연층;
상기 제1 절연층의 하부에 매립된 제1 회로 패턴;
상기 제1 절연층의 상면 위로 돌출된 제2 회로 패턴; 및
상기 제1 절연층 내에 배치되고, 상기 제1 및 제2 회로 패턴을 연결하는 제1 비아를 포함하는
회로기판.In the first paragraph,
The above first insulating part,
At least one first insulating layer;
A first circuit pattern embedded in the lower portion of the first insulating layer;
A second circuit pattern protruding above the upper surface of the first insulating layer; and
A first via disposed within the first insulating layer and connecting the first and second circuit patterns.
Circuit board.
상기 제1 절연층은, 유리 섬유를 포함하는 프리프레그를 포함하는
회로기판.In paragraph 5,
The first insulating layer comprises a prepreg comprising glass fibers.
Circuit board.
상기 제2 절연부는,
상기 캐비티의 내부 및 상기 제1 절연층 위에 배치되는 제2 절연층;
상기 제2 절연층의 상면 위에 배치된 제3 회로 패턴; 및
상기 제2 절연층 내에 배치되고, 상기 제2 및 제3 회로 패턴을 연결하는 제2 비아를 포함하며,
상기 제2 절연층은 상기 제1 절연층과 다른 절연물질을 포함하는
회로기판.In paragraph 5,
The above second insulating part,
A second insulating layer disposed inside the cavity and over the first insulating layer;
A third circuit pattern disposed on the upper surface of the second insulating layer; and
A second via is disposed within the second insulating layer and connects the second and third circuit patterns,
The second insulating layer comprises an insulating material different from that of the first insulating layer.
Circuit board.
상기 제2 절연층은,
RCC(Resin Coated Cu)로 구성되는
회로기판.In Article 7,
The second insulating layer is,
Composed of RCC (Resin Coated Cu)
Circuit board.
상기 제3 절연부는,
상기 제1 절연층 아래에 배치된 제3 절연층;
상기 제3 절연층 내에 배치된 제3 비아; 및
상기 제3 절연층의 하면 아래에 배치된 제4 회로 패턴;을 포함하고
상기 제3 절연층은,
상기 제1 및 제2 절연층과 다른 절연물질을 포함하는
회로기판.In Article 7,
The third insulating part is,
A third insulating layer disposed under the first insulating layer;
a third via disposed within the third insulating layer; and
A fourth circuit pattern is disposed below the lower surface of the third insulating layer;
The third insulating layer is,
Including an insulating material other than the first and second insulating layers
Circuit board.
상기 제3 절연층은,
ABF(Aginomoto Build-up Film) 또는 PID(Photo Imagable Dielectric)를 포함하는
회로기판.In Article 9,
The third insulating layer is,
Containing ABF (Aginomoto Build-up Film) or PID (Photo Imagable Dielectric)
Circuit board.
상기 제3 절연층은,
상기 제1 절연층 및 상기 제2 절연층의 각각의 두께보다 작은 두께를 가지는
회로기판.In Article 9,
The third insulating layer is,
having a thickness smaller than the thickness of each of the first insulating layer and the second insulating layer;
Circuit board.
상기 제3 비아는,
상기 전자 소자와 수직 방향으로 오버랩되고, 상기 전자 소자의 단자와 직접 연결되는 제 1 서브 제3 비아와,
상기 전자 소자와 수직 방향으로 오버랩되지 않는 위치에 배치되는 제2 서브 제3 비아를 포함하고,
상기 제1 서브 제3 비아는,
상기 제2 서브 제3 비아의 폭보다 작은 폭을 가지는
회로기판.In Article 9,
The above third via,
A first sub-third via that overlaps the electronic component in a vertical direction and is directly connected to a terminal of the electronic component,
Including a second sub-third via arranged at a position that does not vertically overlap with the electronic component;
The above first sub-third via,
Having a width smaller than the width of the second sub-third via
Circuit board.
상기 전자 소자는,
상기 캐비티 내에 상호 일정 간격 이격되어 배치되는 제1 및 제2 전자 소자를 포함하는
회로기판.In the first paragraph,
The above electronic components,
Including first and second electronic elements spaced apart from each other within the cavity.
Circuit board.
상기 제1 절연부를 관통하는 캐비티를 형성하는 단계;
상기 제1 절연부의 일면에 필름층을 형성하는 단계;
상기 캐비티를 통해 노출된 상기 필름층 상에 전자 소자를 부착하는 단계;
상기 제1 절연부 상에 상기 캐비티를 채우는 제2 절연부를 형성하는 단계;
상기 필름층을 제거하는 단계; 및
상기 제1 절연부 및 상기 캐비티 내에 배치된 제2 절연부 아래에 제3 절연부를 형성하는 단계를 포함하고,
상기 캐비티는,
상기 캐비티는 수평 방향의 폭이 상기 제3 절연부를 향할수록 넓어지도록 경사진 경사면을 포함하고,
상기 제2 절연부는 상기 캐비티 내에 배치된 돌출부를 포함하고,
상기 돌출부의 폭은 상기 제3 절연부를 향할수록 수평 방향의 폭이 넓어지고,
상기 제2 절연부를 구성하는 절연물질은, 상기 캐비티로 유입되어 상기 돌출부를 형성하는
회로기판의 제조 방법.Step of forming a first insulating part;
A step of forming a cavity penetrating the first insulating portion;
A step of forming a film layer on one surface of the first insulating part;
A step of attaching an electronic component on the film layer exposed through the cavity;
A step of forming a second insulating part filling the cavity on the first insulating part;
a step of removing the above film layer; and
A step of forming a third insulating member under the first insulating member and the second insulating member arranged within the cavity is included.
The above cavity is,
The above cavity includes an inclined surface so that the width in the horizontal direction becomes wider as it approaches the third insulating portion,
The second insulating portion includes a protrusion disposed within the cavity,
The width of the above protrusion becomes wider in the horizontal direction as it approaches the third insulating portion.
The insulating material forming the second insulating portion is introduced into the cavity to form the protrusion.
Method for manufacturing a circuit board.
상기 제3 절연부는,
상기 제1 절연부의 하면 및 상기 돌출부의 하면 아래에 배치되는
회로기판의 제조 방법.In Article 14,
The third insulating part is,
Positioned below the lower surface of the first insulating part and the lower surface of the protrusion
Method for manufacturing a circuit board.
상기 필름층과 마주보는 면의 제1 부분과,
상기 제1 부분과 반대되는 면의 제2 부분을 포함하고
상기 제1 부분의 폭은,
상기 제2 부분의 폭의 1.5배 내지 2.5배 사이의 범위를 가지는
회로기판의 제조 방법.In Article 14,
A first portion of the surface facing the above film layer,
Including a second part opposite to the first part above;
The width of the above first part is,
Having a range of between 1.5 and 2.5 times the width of the second portion
Method for manufacturing a circuit board.
Priority Applications (1)
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