KR102758192B1 - Adhesive composition - Google Patents
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Abstract
높은 신뢰성이 얻어지는 접착제 조성물을 제공한다. 접착제 조성물은, 실리콘계 입자와, 실란 커플링제와, 중합성 화합물과, 경화제를 함유하고, 상기 실리콘계 입자의 평균 입자경으로부터 산출되는 진구 입자의 표면적의 합계가, 당해 조성물 100 g 당 10 × 103 ㎡ 이상이다. 이로써, 투습성이 향상되고, 높은 신뢰성을 얻을 수 있다.An adhesive composition is provided which achieves high reliability. The adhesive composition contains silicone particles, a silane coupling agent, a polymerizable compound, and a curing agent, and the total surface area of spherical particles calculated from the average particle diameter of the silicone particles is 10 × 10 3 m2 or more per 100 g of the composition. As a result, moisture permeability is improved and high reliability can be achieved.
Description
본 기술은, 예를 들어 IC (Integrated Circuit) 칩과 플렉시블 배선판을 접속시키는 접착제 조성물에 관한 것이다. 본 출원은, 일본에 있어서 2019년 3월 29일에 출원된 일본 특허출원 번호 특원 2019-068612를 기초로 하여 우선권을 주장하는 것으로, 이 출원은 참조됨으로써, 본 출원에 원용된다.The present technology relates to, for example, an adhesive composition for connecting an IC (Integrated Circuit) chip and a flexible wiring board. This application claims priority from Japanese Patent Application No. Special Application No. 2019-068612, filed in Japan on March 29, 2019, which is incorporated herein by reference.
종래, 예를 들어 LCD (Liquid Crystal Display) 드라이버 IC 를 플렉시블 배선판에 접속시킨 디바이스에 있어서, 디바이스가 가열되면, 디바이스 내부에 침입한 수분이 급격하게 팽창하여 디바이스를 파괴시키는 경우가 있었다.In the past, for example, in a device that connected an LCD (Liquid Crystal Display) driver IC to a flexible wiring board, when the device was heated, there were cases where moisture that had entered the device expanded rapidly and destroyed the device.
이것을 해결하기 위해서, 특허문헌 1 에는, 디스플레이 패널의 내부로부터 인출되고, 노출된 배선에 대하여, 투습도가 5 ∼ 6 g/㎡·24 h 이하인 봉지재를 사용하는 것이 제안되어 있다.To solve this problem, Patent Document 1 proposes using a sealant having a moisture permeability of 5 to 6 g/㎡·24 h or less for exposed wiring drawn out from the inside of a display panel.
또한, 특허문헌 2 에는, 플렉시블 배선판의 전극 접속부의 베이스 필름 상에 투습 방지재를 형성하고, 그 위에 리드 전극을 형성하는 형태, 플렉시블 배선 기판의 전극 접속부에 형성되어 있는 리드 전극의 사이를 투습 방지재로 피복하는 형태 등이 기재되고, 투습 방지재로서, 투습도가 10 g/㎡·24 h 이하인 것을 사용하는 것이 제안되어 있다.In addition, Patent Document 2 describes a form in which a moisture-proof material is formed on a base film of an electrode connection portion of a flexible wiring board and a lead electrode is formed thereon, a form in which the space between lead electrodes formed in the electrode connection portion of a flexible wiring board is covered with a moisture-proof material, and it is proposed to use a moisture-proof material having a moisture permeability of 10 g/㎡·24 h or less as the moisture-proof material.
전술한 특허문헌 1, 2 에 기재된 방법은, 배선 (아우터 리드) 에 투습도가 낮은 봉지 수지를 사용하여 내습성을 향상시키는 것이다. 그러나, 투습도가 낮은 봉지 수지의 사용에서는, 재료 점수의 증가나 재료 선정의 한계가 발생하게 되기 때문에, 내습성 평가의 시험법의 하나인 HAST (Highly Accelerated Temperature and Humidity Stress Test) 에 있어서, 높은 신뢰성을 얻는 것은 곤란하다.The methods described in the above-mentioned patent documents 1 and 2 improve moisture resistance by using a sealing resin with low moisture permeability for wiring (outer lead). However, when using a sealing resin with low moisture permeability, an increase in the material score or limitations in material selection occur, so it is difficult to obtain high reliability in the HAST (Highly Accelerated Temperature and Humidity Stress Test), which is one of the test methods for evaluating moisture resistance.
본 기술은, 전술한 과제를 해결하는 것으로, 높은 신뢰성이 얻어지는 접착제 조성물을 제공한다.The present technology provides an adhesive composition that achieves high reliability by solving the aforementioned problems.
본 발명자는, 디바이스 내부에 침입한 수분을 즉석에서 배출시키기 위해서, 높은 투습도가 얻어지는 접착제 조성물의 배합의 연구를 진행시켰다. 그 결과, 소정량의 실리콘계 입자와, 실란 커플링제를 배합함으로써, 투습성이 향상된다는 지견에 기초하여, 본 기술을 완성하기에 이르렀다.The inventor of the present invention has conducted research on the formulation of an adhesive composition that can obtain high moisture permeability in order to immediately discharge moisture that has entered the inside of a device. As a result, the inventor has completed this technology based on the finding that moisture permeability is improved by blending a predetermined amount of silicone particles and a silane coupling agent.
즉, 본 기술에 관련된 접착제 조성물은, 실리콘계 입자와, 실란 커플링제와, 중합성 화합물과, 경화제를 함유하고, 상기 실리콘계 입자의 평균 입자경으로부터 산출되는 진구 입자의 표면적의 합계가, 당해 조성물 100 g 당 10 × 103 ㎡ 이상이다.That is, the adhesive composition related to the present technology contains silicone particles, a silane coupling agent, a polymerizable compound, and a curing agent, and the sum of the surface areas of the spherical particles calculated from the average particle diameter of the silicone particles is 10 × 10 3 m2 or more per 100 g of the composition.
또한, 본 기술에 관련된 접속체의 제조 방법은, 실리콘계 입자와, 실란 커플링제와, 중합성 화합물과, 경화제를 함유하고, 상기 실리콘계 입자의 평균 입자경으로부터 산출되는 진구 입자의 표면적의 합계가, 당해 조성물 100 g 당 10 × 103 ㎡ 이상인 접착제 조성물을 개재하여 제 1 전자 부품과 제 2 전자 부품을 배치하는 배치 공정과, 압착 툴에 의해 상기 제 2 전자 부품을 상기 제 1 전자 부품에 압착시킴과 함께, 상기 접착제 조성물을 경화시키는 경화 공정을 갖는다.In addition, a method for manufacturing a connector related to the present technology includes a placing step of placing a first electronic component and a second electronic component through an adhesive composition containing silicon particles, a silane coupling agent, a polymerizable compound, and a curing agent, wherein the total surface area of spherical particles calculated from the average particle diameter of the silicon particles is 10 × 10 3 m2 or more per 100 g of the composition, and a curing step of pressing the second electronic component to the first electronic component using a pressing tool and curing the adhesive composition.
또한, 본 기술에 관련된 접속체는, 제 1 전자 부품과, 제 2 전자 부품과, 상기 제 1 전자 부품과 상기 제 2 전자 부품이 접착된 접착막을 구비하고, 상기 접착막은, 실리콘계 입자와, 실란 커플링제와, 중합성 화합물과, 경화제를 함유하고, 상기 실리콘계 입자의 평균 입자경으로부터 산출되는 진구 입자의 표면적의 합계가, 당해 조성물 100 g 당 10 × 103 ㎡ 이상인 접착제 조성물이 경화하여 이루어지고, 투습도가 80 g/㎡·24 hr 이상이다.In addition, a connector related to the present technology comprises a first electronic component, a second electronic component, and an adhesive film in which the first electronic component and the second electronic component are adhered, wherein the adhesive film is formed by curing an adhesive composition containing silicon particles, a silane coupling agent, a polymerizable compound, and a curing agent, and wherein the total surface area of spherical particles calculated from the average particle diameter of the silicon particles is 10 × 10 3 m2 or more per 100 g of the composition, and has a moisture permeability of 80 g/m2·24 hr or more.
본 기술에 의하면, 소정량의 실리콘계 입자와, 실란 커플링제를 배합함으로써, 투습성이 향상되고, 높은 신뢰성을 얻을 수 있다.According to this technology, by mixing a predetermined amount of silicone particles and a silane coupling agent, moisture permeability is improved and high reliability can be obtained.
도 1 은, 본 실시형태에 관련된 접속체의 제조 방법의 배치 공정을 모식적으로 나타내는 단면도이다.Fig. 1 is a cross-sectional view schematically showing the arrangement process of a method for manufacturing a connecting body according to the present embodiment.
이하, 본 기술의 실시형태에 대하여, 도면을 참조하면서 하기 순서대로 상세하게 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present technology will be described in detail in the following order with reference to the drawings.
1. 접착제 조성물1. Adhesive composition
2. 접속체의 제조 방법2. Manufacturing method of connector
3. 실시예3. Example
<1. 접착제 조성물><1. Adhesive composition>
본 실시형태에 관련된 접착제 조성물은, 실리콘계 입자와, 실란 커플링제와, 중합성 화합물과, 경화제를 함유하고, 실리콘계 입자의 평균 입자경으로부터 산출되는 진구 입자의 표면적의 합계가, 당해 조성물 100 g 당 10 × 103 ㎡ 이상이다. 이로써, 투습성이 향상되고, 내습성 평가의 시험법의 하나인 HAST (Highly Accelerated Temperature and Humidity Stress Test) 에 있어서, 높은 신뢰성을 얻을 수 있다.An adhesive composition related to the present embodiment contains silicone particles, a silane coupling agent, a polymerizable compound, and a curing agent, and the total surface area of the spherical particles calculated from the average particle diameter of the silicone particles is 10 × 10 3 m2 or more per 100 g of the composition. As a result, moisture permeability is improved, and high reliability can be obtained in the HAST (Highly Accelerated Temperature and Humidity Stress Test), which is one of the test methods for evaluating moisture resistance.
접착제 조성물은, 필름상, 또는 페이스트상 중 어느 것이어도 된다. 취급의 용이함으로부터는 필름상인 것이 바람직하고, 비용의 면으로부터는 페이스트상인 것이 바람직하다. 또한, 접착제 조성물의 경화형으로는, 열 경화형, 광 경화형, 광열 병용 경화형 등을 들 수 있고, 용도에 따라 적절히 선택할 수 있다.The adhesive composition may be either a film or a paste. From the standpoint of ease of handling, a film is preferable, and from the standpoint of cost, a paste is preferable. In addition, as the curing type of the adhesive composition, examples thereof include a heat curing type, a photocuring type, a photothermal combined curing type, etc., and can be appropriately selected depending on the intended use.
이하, 열 경화형의 접착제 조성물을 예로 들어 설명한다. 열 경화형으로는, 예를 들어, 카티온 경화형, 아니온 경화형, 라디칼 경화형, 또는 이것들을 병용할 수 있다. 중합성 화합물로는, 이온 중합기 (카티온 중합, 아니온 중합) 를 갖는 에폭시 화합물, 옥세탄 화합물, 라디칼 중합기를 갖는 (메트)아크릴 화합물 등을 들 수 있고, 이것들을 단독 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 또한, 실란 커플링제로는, 에폭시기, (메트)아크릴기, 비닐기 등의 관능기를 갖는 실란 커플링제를 들 수 있고, 중합성 화합물의 종류에 따라 적절히 선택할 수 있다.Hereinafter, a heat-curable adhesive composition will be described as an example. As the heat-curable type, for example, a cation-curable type, an anion-curable type, a radical-curable type, or a combination thereof can be used. As the polymerizable compound, an epoxy compound having an ionic polymerization group (cation polymerization, an anion polymerization), an oxetane compound, a (meth)acrylic compound having a radical polymerization group, etc. can be mentioned, and these can be used alone or in combination of two or more. In addition, as the silane coupling agent, a silane coupling agent having a functional group such as an epoxy group, a (meth)acrylic group, or a vinyl group can be mentioned, and it can be appropriately selected depending on the type of the polymerizable compound.
열 경화형의 구체예로서, 아니온 경화형의 에폭시계 수지 조성물을 나타낸다. 구체예로서 나타내는 접착제 조성물은, 실리콘계 입자와, 에폭시계 실란 커플링제와, 에폭시 화합물과, 에폭시 경화제를 함유한다. 이로써, 높은 투습도를 갖는 에폭시계 접착제를 얻을 수 있다.As a specific example of a heat-curable type, an anion-curable epoxy resin composition is shown. The adhesive composition shown as a specific example contains silicone particles, an epoxy silane coupling agent, an epoxy compound, and an epoxy curing agent. Thereby, an epoxy adhesive having high moisture permeability can be obtained.
실리콘계 입자로는, 예를 들어, 오르가노폴리실록산을 가교한 구조를 갖는 실리콘 고무 파우더, 실록산 결합이 (RSiO3/2)n 으로 나타내는 삼차원 망목상으로 가교한 구조를 갖는 실리콘 레진 파우더, 구상 실리콘 고무 파우더의 표면을 실리콘 레진으로 피복한 구상 분말인 실리콘 복합 파우더 등을 들 수 있고, 이들 중에서 1 종을 단독으로, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 이것들 중에서도 분산성의 관점에서, 실리콘계 입자는, 실리콘 복합 파우더를 포함하는 것이 바람직하다. 시장에서 입수 가능한 실리콘 복합 파우더의 구체예로는, 신에츠 화학 공업 (주) 의 상품명 「KMP-600」, 「KMP-605」, 「X-52-7030」 등을 들 수 있다.Examples of the silicone particles include silicone rubber powder having a cross-linked structure of organopolysiloxane, silicone resin powder having a three-dimensional network-like structure in which siloxane bonds are cross-linked as (RSiO 3/2 ) n , and silicone composite powder which is a spherical powder in which the surface of a spherical silicone rubber powder is covered with silicone resin. One of these can be used alone or two or more can be used in combination. Of these, from the viewpoint of dispersibility, it is preferable that the silicone particles include a silicone composite powder. Specific examples of silicone composite powders available on the market include product names such as “KMP-600”, “KMP-605”, and “X-52-7030” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
실리콘계 입자의 평균 입자경은, 바람직하게는 5 ㎛ 이하, 보다 바람직하게는 3 ㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 1 ㎛ 이하이다. 이로써, 접착제 조성물 중의 실리콘계 입자의 평균 입자경으로부터 산출되는 진구 입자의 표면적의 합계치를 크게 하는 것이 가능해진다.The average particle size of the silicone particles is preferably 5 ㎛ or less, more preferably 3 ㎛ or less, and even more preferably 1 ㎛ or less. This makes it possible to increase the total surface area of the spherical particles calculated from the average particle size of the silicone particles in the adhesive composition.
실리콘계 입자의 평균 입자경으로부터 산출되는 진구 입자의 표면적의 합계는, 조성물 100 g 당 10 × 103 ㎡ 이상, 보다 바람직하게는 조성물 100 g 당 25 × 103 ㎡ 이상 150 × 103 ㎡ 이하, 더욱 바람직하게는 조성물 100 g 당 50 × 103 ㎡ 이상 150 × 103 ㎡ 이하이다. 실리콘계 입자의 평균 입자경으로부터 산출되는 진구 입자의 표면적의 합계가 커질수록, 투습도가 높아지지만 접착 강도가 저하하는 경향이 있다.The sum of the surface areas of the spherical particles calculated from the average particle diameter of the silicone particles is 10 × 10 3 m2 or more per 100 g of the composition, more preferably 25 × 10 3 m2 or more and 150 × 10 3 m2 or less per 100 g of the composition, and even more preferably 50 × 10 3 m2 or more and 150 × 10 3 m2 or less per 100 g of the composition. As the sum of the surface areas of the spherical particles calculated from the average particle diameter of the silicone particles increases, the moisture permeability increases, but the adhesive strength tends to decrease.
또한, 접착제 조성물 중의 실리콘계 입자의 평균 입자경으로부터 산출되는 진구 입자의 표면적의 합계는, 예를 들어, 실리콘계 입자의 비표면적과, 실리콘계 입자의 첨가량으로부터 산출할 수 있다. 또한, 실리콘계 입자의 비표면적은, 예를 들어, 평균 입자경으로부터 산출한 입자 1 개 당 표면적과, 평균 입자경 및 진비중으로부터 산출한 입자 1 개 당 질량으로부터 구할 수 있다.In addition, the sum of the surface areas of the spherical particles calculated from the average particle diameter of the silicone particles in the adhesive composition can be calculated from, for example, the specific surface area of the silicone particles and the amount of the silicone particles added. In addition, the specific surface area of the silicone particles can be obtained from, for example, the surface area per particle calculated from the average particle diameter and the mass per particle calculated from the average particle diameter and the true specific gravity.
실리콘계 입자의 배합량은, 실리콘계 입자를 제외한 접착제 조성물 100 질량부에 대하여, 예를 들어 1 ∼ 30 질량부로 하는 것이 바람직하고, 5 ∼ 30 질량부로 하는 것이 보다 바람직하고, 10 ∼ 30 질량부로 하는 것이 더욱 바람직하다. 또한, 접착제 조성물에 도전 입자를 배합하는 경우에는, 도전 입자를 제외한 접착제 조성물 100 질량부에 대한 질량부의 범위이다.The amount of silicone particles blended is preferably 1 to 30 parts by mass, for example, based on 100 parts by mass of the adhesive composition excluding the silicone particles, more preferably 5 to 30 parts by mass, and even more preferably 10 to 30 parts by mass. In addition, when conductive particles are blended into the adhesive composition, the range is the mass parts based on 100 parts by mass of the adhesive composition excluding the conductive particles.
에폭시계 실란 커플링제는, 에폭시기와, 가수 분해성기의 양자를 갖는 유기 규소 화합물이고, 실리콘계 입자와 매트릭스 수지인 에폭시 수지를 화학 결합시켜, 분산성을 향상시킨다.An epoxy-based silane coupling agent is an organic silicon compound having both an epoxy group and a hydrolyzable group, and chemically bonds silicon particles and an epoxy resin, which is a matrix resin, to improve dispersibility.
에폭시계 실란 커플링제로는, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란 등의 에폭시 구조를 갖는 실란 화합물을 들 수 있다. 시장에서 입수 가능한 에폭시계 실란 커플링제의 구체예로는, 모멘티브·퍼포먼스·매터리얼즈·재팬 (합) 의 「A-187」 등을 들 수 있다.Examples of epoxy-based silane coupling agents include silane compounds having an epoxy structure, such as 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane and 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane. Specific examples of epoxy-based silane coupling agents available on the market include “A-187” from Momentive Performance Materials Japan (Co., Ltd.).
에폭시계 실란 커플링제의 배합량은, 실리콘계 입자를 제외한 접착제 조성물 100 질량부에 대하여, 예를 들어 0.1 ∼ 10 질량부로 하는 것이 바람직하고, 0.1 ∼ 5 질량부로 하는 것이 보다 바람직하고, 0.5 ∼ 1 질량부로 하는 것이 더욱 바람직하다.The amount of the epoxy silane coupling agent blended is preferably 0.1 to 10 parts by mass, more preferably 0.1 to 5 parts by mass, and even more preferably 0.5 to 1 part by mass, per 100 parts by mass of the adhesive composition excluding the silicone particles.
에폭시 화합물로는, 특별히 한정되지 않고, 나프탈렌형 에폭시 화합물, 글리시딜에테르형 에폭시 화합물, 글리시딜에스테르형 에폭시 화합물, 지환형 에폭시 화합물, 비스페놀 A 형 에폭시 화합물, 비스페놀 F 형 에폭시 화합물, 디시클로펜타디엔형 에폭시 화합물, 노볼락페놀형 에폭시 화합물, 비페닐형 에폭시 화합물 등을 들 수 있고, 이것들 중에서 1 종을 단독으로, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 시장에서 입수 가능한 나프탈렌형 2 관능성 에폭시 수지의 구체예로는, DIC (주) 의 「HP4032D] 등을 들 수 있다.As the epoxy compound, examples thereof include, but are not limited to, naphthalene-type epoxy compounds, glycidyl ether-type epoxy compounds, glycidyl ester-type epoxy compounds, alicyclic epoxy compounds, bisphenol A-type epoxy compounds, bisphenol F-type epoxy compounds, dicyclopentadiene-type epoxy compounds, novolacphenol-type epoxy compounds, biphenyl-type epoxy compounds, and the like. One of these may be used singly, or two or more may be used in combination. Specific examples of naphthalene-type difunctional epoxy resins available on the market include "HP4032D" from DIC Co., Ltd.
에폭시 화합물의 배합량은, 실리콘계 입자를 제외한 접착제 조성물 100 질량부에 대하여, 예를 들어 1 ∼ 30 질량부로 하는 것이 바람직하고, 1 ∼ 20 질량부로 하는 것이 보다 바람직하고, 1 ∼ 10 질량부로 하는 것이 더욱 바람직하다.The amount of the epoxy compound blended is preferably 1 to 30 parts by mass, more preferably 1 to 20 parts by mass, and even more preferably 1 to 10 parts by mass, per 100 parts by mass of the adhesive composition excluding the silicone particles.
에폭시 경화제로는, 이미다졸류, 다가 페놀류, 산 무수물류, 아민류, 히드라지드류, 폴리메르캅탄, 루이스산-아민 착물 등을 들 수 있고, 이들 중에서 1 종을 단독으로, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 이것들 중에서도 보존 안정성과 경화물의 내열성의 관점에서, 에폭시 경화제는, 이미다졸류를 포함하는 것이 보다 바람직하다. 또한, 보존 안정성, 사용 가능 시간의 관점에서, 에폭시 경화제를 폴리우레탄계, 폴리에스테르계의 고분자 물질 등으로 피복하여 마이크로 캡슐화한 마이크로 캡슐형의 잠재성 경화제를 사용하는 것이 바람직하다. 시장에서 입수 가능한 이미다졸계의 잠재성 경화제로는, 아사히 화성 케미컬즈 (주) 의 「HP3941」 등을 들 수 있다.Examples of the epoxy curing agent include imidazoles, polyhydric phenols, acid anhydrides, amines, hydrazides, polymercaptans, and Lewis acid-amine complexes, and one of these may be used alone or in combination of two or more. Among these, from the viewpoints of storage stability and heat resistance of the cured product, it is more preferable that the epoxy curing agent contains imidazoles. Furthermore, from the viewpoints of storage stability and usable time, it is preferable to use a microcapsule-type latent curing agent in which the epoxy curing agent is coated with a polyurethane- or polyester-based polymer material and microcapsulated. Examples of imidazole-based latent curing agents available on the market include "HP3941" from Asahi Kasei Chemicals Co., Ltd.
에폭시 경화제의 배합량은, 실리콘계 입자를 제외한 접착제 조성물 100 질량부에 대하여, 예를 들어 5 ∼ 70 질량부로 하는 것이 바람직하고, 10 ∼ 60 질량부로 하는 것이 보다 바람직하고, 20 ∼ 50 질량부로 하는 것이 더욱 바람직하다.The amount of the epoxy curing agent to be mixed is preferably 5 to 70 parts by mass, more preferably 10 to 60 parts by mass, and even more preferably 20 to 50 parts by mass, per 100 parts by mass of the adhesive composition excluding the silicone particles.
또한, 구체예로서 나타내는 접착제 조성물은, 폴리머, 고무 성분을 함유하는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable that the adhesive composition shown as a specific example contains a polymer and rubber component.
폴리머로는, 비스페놀 A 형 페녹시 수지, 비스페놀 F 형 페녹시 수지, 비스페놀 S 형 페녹시 수지, 플루오렌 골격을 갖는 페녹시 수지, 폴리스티렌, 폴리아크릴로니트릴, 폴리페닐렌술파이드, 폴리테트라플루오로에틸렌, 폴리카보네이트 등을 들 수 있고, 이것들은 단독 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 이것들 중에서도, 막 형성 상태, 접속 신뢰성 등의 관점에서 비스페놀 A 형 페녹시 수지가 바람직하게 사용된다. 페녹시 수지는, 비스페놀류와 에피클로르히드린으로부터 합성되는 폴리하이드록시폴리에테르이다. 시장에서 입수 가능한 페녹시 수지의 구체예로는, 신닛테츠 주금 화학 (주) 의 상품명 「YP-50」 등을 들 수 있다.Examples of the polymer include bisphenol A type phenoxy resin, bisphenol F type phenoxy resin, bisphenol S type phenoxy resin, phenoxy resin having a fluorene skeleton, polystyrene, polyacrylonitrile, polyphenylene sulfide, polytetrafluoroethylene, polycarbonate, etc., and these can be used alone or in combination of two or more. Among these, bisphenol A type phenoxy resin is preferably used from the viewpoints of film formation state, connection reliability, etc. Phenoxy resin is a polyhydroxypolyether synthesized from bisphenols and epichlorohydrin. Specific examples of phenoxy resins available on the market include the trade name "YP-50" of Nippon-Steel Sumitomo Chemical Co., Ltd.
폴리머의 배합량은, 실리콘계 입자를 제외한 접착제 조성물 100 질량부에 대하여, 예를 들어 질량부로 하는 것이 바람직하고, 10 ∼ 60 질량부로 하는 것이 보다 바람직하고, 20 ∼ 50 질량부로 하는 것이 더욱 바람직하다.The amount of the polymer blended is preferably, for example, parts by mass, more preferably 10 to 60 parts by mass, and even more preferably 20 to 50 parts by mass, per 100 parts by mass of the adhesive composition excluding the silicone particles.
고무 성분으로는, 아크릴 고무 (ACR), 부타디엔 고무 (BR), 니트릴 고무 (NBR) 등을 들 수 있고, 이것들은 단독 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 이것들 중에서도, 막 형성 상태, 접속 신뢰성 등의 관점에서 아크릴 고무가 바람직하게 사용된다. 시장에서 입수 가능한 아크릴 고무의 구체예로는, 나가세 켐텍스 (주) 의 상품명 「SG80H」 등을 들 수 있다.Examples of rubber components include acrylic rubber (ACR), butadiene rubber (BR), nitrile rubber (NBR), etc., and these can be used alone or in combination of two or more. Among these, acrylic rubber is preferably used from the viewpoints of film formation state, connection reliability, etc. Specific examples of acrylic rubber available on the market include the product name "SG80H" of Nagase Chemtex Co., Ltd.
또한, 고무 성분으로서, 탄성 입자를 함유하는 것이 바람직하다. 탄성 입자는, 내부 응력을 흡수할 수 있고, 또한, 경화 저해를 일으키지 않기 때문에, 높은 접속 신뢰성을 부여할 수 있다. 탄성 입자로는, 가교 아크릴로니트릴부타디엔 고무 입자, 가교 스티렌부타디엔 고무 입자, 아크릴 고무 입자, 실리콘 입자 등을 들 수 있다. 시장에서 입수 가능한 가교 아크릴로니트릴부타디엔 고무 입자의 구체예로는, XER-91 (평균 입자경 0.5 ㎛, JSR 사 제조) 등을 들 수 있다.In addition, it is preferable to contain elastic particles as the rubber component. The elastic particles can absorb internal stress and, furthermore, do not cause curing inhibition, so that high connection reliability can be imparted. Examples of the elastic particles include crosslinked acrylonitrile butadiene rubber particles, crosslinked styrene butadiene rubber particles, acrylic rubber particles, silicone particles, and the like. Specific examples of crosslinked acrylonitrile butadiene rubber particles available on the market include XER-91 (average particle size 0.5 ㎛, manufactured by JSR).
고무 성분의 배합량은, 실리콘계 입자를 제외한 접착제 조성물 100 질량부에 대하여, 예를 들어 1 ∼ 30 질량부로 하는 것이 바람직하고, 5 ∼ 25 질량부로 하는 것이 보다 바람직하고, 10 ∼ 20 질량부로 하는 것이 더욱 바람직하다.The amount of the rubber component blended is preferably 1 to 30 parts by mass, more preferably 5 to 25 parts by mass, and even more preferably 10 to 20 parts by mass, per 100 parts by mass of the adhesive composition excluding the silicone particles.
접착제 조성물의 최저 용융 점도는, 1 ∼ 100000 ㎩·s 인 것이 바람직하고, 10 ∼ 10000 ㎩·s 인 것이 보다 바람직하다. 최저 용융 점도가 지나치게 높으면, 열 압착시에 전극간의 바인더를 충분히 배제할 수 없기 때문에, 접속 저항이 상승하는 경향이 있다. 한편, 최저 용융 점도가 지나치게 낮으면, 열 압착시의 가중에 의한 접착제 조성물의 변형이 커지기 때문에, 가압 해방시에 접착제 조성물의 복원력이 접속부 계면 등에 박리 방향의 힘으로서 가해진다. 이 때문에, 열 압착 직후에 접속 저항이 상승하거나, 접속부에 기포가 발생하는 경향이 있다.The minimum melting viscosity of the adhesive composition is preferably 1 to 100,000 ㎩ s, more preferably 10 to 10,000 ㎩ s. If the minimum melting viscosity is too high, the binder between the electrodes cannot be sufficiently excluded during thermal compression, so that the connection resistance tends to increase. On the other hand, if the minimum melting viscosity is too low, the deformation of the adhesive composition due to weighting during thermal compression becomes large, so that when the pressure is released, the restoring force of the adhesive composition is applied as a force in the peeling direction to the interface of the connection part, etc. For this reason, the connection resistance tends to increase immediately after thermal compression, or air bubbles tend to form at the connection part.
이와 같은 구성의 접착제 조성물은, 경화 후의 40 ℃ 의 온도 및 90 % 의 상대 습도의 조건으로 측정되는 투습도가, 바람직하게는 80 g/㎡·24 hr 이상, 보다 바람직하게는 85 g/㎡·24 hr 이상, 더욱 바람직하게는 90 g/㎡·24 hr 이상이다. 이로써, 접착제 조성물로 접착한 디바이스 내부에 침입한 수분을 즉석에서 배출시킬 수 있고, HAST 에 있어서, 높은 신뢰성을 얻을 수 있다. 또한, 투습도는, JIS Z 0208 의 방습 포장 재료의 투습도 시험 방법 (컵법) 에 준거하여, 40 ℃, 상대 습도 90 % 의 조건으로 측정할 수 있다.An adhesive composition having such a configuration has a moisture permeability measured under the conditions of a temperature of 40° C. and a relative humidity of 90% after curing of preferably 80 g/m2·24 hr or more, more preferably 85 g/m2·24 hr or more, and even more preferably 90 g/m2·24 hr or more. Thereby, moisture that has penetrated into the inside of a device bonded with the adhesive composition can be immediately discharged, and high reliability in HAST can be obtained. In addition, the moisture permeability can be measured under the conditions of 40° C. and a relative humidity of 90% in accordance with the moisture permeability test method for moisture-proof packaging materials (cup method) of JIS Z 0208.
이와 같은 접착제 조성물에 의하면, 디바이스 내부에 침입한 수분을 즉석에서 배출시킬 수 있기 때문에, 우수한 접속 신뢰성을 얻을 수 있다. 내수성을 갖게 한 경우에는, 침입한 수분이 체류하게 된다. 본 발명 양태를 환언하면, 일정한 수분의 침입을 허용하는 대신에, 접착성의 열화를 과도하게 진행시키는 수분의 유지는 허용하지 않는 것이라고도 말할 수 있다. 요구되는 내수 조건을 조정할 수 있는 점에서, 디바이스 및 그것을 장착하는 기기류의 설계 조건의 선택성을 확대하는 효과가 있다. 예를 들어, 내후성이 요구되는 휴대 단말이나 웨어러블 단말 이외에도, 보다 높은 내후성이 요구되는 것으로 상정되는 바이크나 자동차, 비행 장치 (드론이나 비행기 등), 선박류와 같은 이동체, 탈 것의 전장에 사용할 수 있는 이점을 들 수 있다.According to such an adhesive composition, since moisture that has penetrated into the device can be immediately discharged, excellent connection reliability can be obtained. In the case of imparting water resistance, the penetrated moisture remains. In other words, it can be said that instead of allowing a certain amount of moisture to penetrate, retention of moisture that excessively promotes deterioration of the adhesiveness is not permitted. Since the required water resistance conditions can be adjusted, there is an effect of expanding the selectivity of the design conditions of the device and the equipment mounting it. For example, in addition to portable terminals and wearable terminals that require weather resistance, there is an advantage that it can be used in the battlefield of vehicles such as motorcycles, automobiles, flying devices (such as drones and airplanes), and ships that are assumed to require higher weather resistance.
또한, 접착제 조성물은, 실리콘계 입자의 평균 입자경보다 큰 평균 입자경을 갖는 도전 입자를 추가로 함유한 도전성 접착제로 해도 된다. 도전 입자를 함유하는 경우, 도전 입자의 평균 입자경은, 협지를 저해하지 않도록, 도전 입자 이외의 고형 배합물의 평균 입자경보다 큰 것이 바람직하다. 실리콘 입자의 평균 입자경에 대한 도전 입자의 평균 입자경의 비는, 도전성의 관점에서, 바람직하게는 1.5 이상, 보다 바람직하게는 2.0 이상, 더욱 바람직하게는 3.5 이상이다. 이것은, 실리콘계 입자가 도전 입자의 압축이나 편평화를 저해하지 않기 위해서는 수치는 큰 것이 바람직하다. 한편, 도전 입자가 전극간에 협지되는 경우에, 전극 상의 산화물 등을 찢는 것을 보조하기 위해서는, 압축이나 편평화한 도전 입자와 함께 실리콘계 입자를 협지하는 것이 바람직한 경우도 있기 때문에, 수치는 작은 것이 바람직한 경우도 있다. 바람직하게는 1.1 이하, 보다 바람직하게는 1.07 이하, 더욱 보다 바람직하게는 1.05 이하이다. 이것들은, 목적에 맞추어 적절히 조정하면 된다.In addition, the adhesive composition may be a conductive adhesive that additionally contains conductive particles having an average particle diameter larger than the average particle diameter of the silicone particles. When containing conductive particles, the average particle diameter of the conductive particles is preferably larger than the average particle diameter of the solid compound other than the conductive particles so as not to interfere with the pinching. The ratio of the average particle diameter of the conductive particles to the average particle diameter of the silicone particles is preferably 1.5 or more, more preferably 2.0 or more, and even more preferably 3.5 or more, from the viewpoint of conductivity. This is preferably a large value so that the silicone particles do not interfere with the compression or flattening of the conductive particles. On the other hand, when the conductive particles are pinched between the electrodes, in order to assist in tearing oxides, etc. on the electrodes, it is sometimes desirable to pinch the silicon particles together with the compressed or flattened conductive particles, so the value is sometimes desirable to be small. It is preferably 1.1 or less, more preferably 1.07 or less, and even more preferably 1.05 or less. These may be appropriately adjusted according to the purpose.
도전성 접착제는, 필름상의 도전성 필름, 또는 페이스트상의 도전성 페이스트 중 어느 것이어도 된다. 취급의 용이함으로부터는 도전성 필름이 바람직하고, 비용의 면에서는 도전성 페이스트가 바람직하다. 또한, 도전 접착제 및 도전성 필름은, 이방성 도전 접착제 및 이방성 도전 필름으로서 사용할 수도 있다. 또한, 이것들의 구조체는, 이방성 접속 구조체여도 된다.The conductive adhesive may be either a film-shaped conductive film or a paste-shaped conductive paste. From the standpoint of ease of handling, a conductive film is preferable, and from the standpoint of cost, a conductive paste is preferable. In addition, the conductive adhesive and the conductive film may be used as an anisotropic conductive adhesive and an anisotropic conductive film. In addition, the structure of these may be an anisotropic connection structure.
도전 입자로는, 도전성 필름에 있어서 사용되고 있는 공지된 도전 입자를 사용할 수 있다. 예를 들어, 니켈, 철, 구리, 알루미늄, 주석, 납, 크롬, 코발트, 은, 금 등의 각종 금속이나 금속 합금의 입자, 금속 산화물, 카본, 그라파이트, 유리, 세라믹, 플라스틱 등의 입자의 표면에 금속을 코트한 것, 이것들 입자의 표면에 추가로 절연 박막을 코트시키거나, 절연성 미립자를 부착시키는, 것과 같은 절연 처리를 한 것 등을 들 수 있다. 이것들 중에서 2 종 이상을 혼재시켜도 된다. 수지 입자의 표면에 금속을 코트한 것인 경우, 수지 입자로는, 예를 들어, 에폭시 수지, 페놀 수지, 아크릴 수지, 아크릴로니트릴·스티렌 (AS) 수지, 벤조구아나민 수지, 디비닐벤젠계 수지, 스티렌계 수지 등의 입자를 사용할 수 있다.As the conductive particles, known conductive particles used in conductive films can be used. For example, particles of various metals such as nickel, iron, copper, aluminum, tin, lead, chromium, cobalt, silver, and gold, or metal alloys; particles of metal oxides, carbon, graphite, glass, ceramics, and plastics, etc., whose surfaces are coated with metal; particles whose surfaces are further coated with an insulating film or in which insulating fine particles are attached, etc., are subjected to an insulating treatment. Two or more of these may be mixed. In the case of resin particles whose surfaces are coated with metal, particles of epoxy resin, phenol resin, acrylic resin, acrylonitrile-styrene (AS) resin, benzoguanamine resin, divinylbenzene-based resin, and styrene-based resin, for example, can be used as the resin particles.
도전 입자의 평균 입경으로는, 통상적으로 1 ∼ 30 ㎛, 바람직하게는 2 ∼ 20 ㎛, 보다 바람직하게는 2.5 ∼ 15 ㎛ 이다. 또한, 바인더 수지 중의 도전 입자의 평균 입자 밀도는, 접속 신뢰성 및 절연 신뢰성의 관점에서, 바람직하게는 100 ∼ 100000 개/㎟, 보다 바람직하게는 500 ∼ 80000 개/㎟ 이다. 예를 들어, 필름상으로 하여 필름면을 광학 현미경이나 금속 현미경에 의해 얻어진 관찰 결과를, 화상 해석 소프트 WinROOF (미타니 상사 (주)) 에 의해, 구할 수 있다.The average particle size of the conductive particles is usually 1 to 30 ㎛, preferably 2 to 20 ㎛, and more preferably 2.5 to 15 ㎛. In addition, the average particle density of the conductive particles in the binder resin is preferably 100 to 100,000 pieces/mm2, and more preferably 500 to 80,000 pieces/mm2 from the viewpoints of connection reliability and insulation reliability. For example, the observation results of the film surface obtained by an optical microscope or a metallurgical microscope in a film form can be obtained by image analysis software WinROOF (Mitani Corporation).
또한, 도전 입자는, 절연성 수지 중에 분산되어 있어도 되고, 필름상인 경우에는, 필름 평면에서 보았을 때에 있어서 개개로 독립적으로 있어도 되고, 또한 임의로 배치되어 존재하고 있어도 된다. 도전 입자가 배치되는 경우, 접속되는 전극의 사이즈나 레이아웃에 따라, 개수 밀도나 도전 입자간 거리 등을 설정할 수 있다. 이 때문에, 포착 향상, 쇼트 억제 등에 효과가 있고, 수율의 향상 등 비용 삭감 효과도 전망된다.In addition, the conductive particles may be dispersed in the insulating resin, and in the case of a film, they may be individually independent when viewed from the film plane, or they may be arbitrarily arranged and exist. When the conductive particles are arranged, the number density and the distance between the conductive particles can be set according to the size or layout of the connected electrode. For this reason, it is effective in improving capture, suppressing short circuits, etc., and cost reduction effects such as improved yields are also expected.
도전성 접착제의 최저 용융 점도는, 1 ∼ 100000 ㎩·s 인 것이 바람직하고, 10 ∼ 10000 ㎩·s 인 것이 보다 바람직하다. 최저 용융 점도의 적합성화는, 도전 입자의 압축 변형 특성에도 의존하지만, 최저 용융 점도가 지나치게 높으면, 열 압착시에 도전 입자와 전극 사이의 바인더를 충분히 배제할 수 없기 때문에, 접속 저항이 상승하는 경향이 있다. 특히, 돌기를 갖는 도전 입자는, 열 압착시에 도전 입자와 전극 사이의 바인더를 충분히 배제하는 것이 곤란해진다. 한편, 최저 용융 점도가 지나치게 낮으면, 열 압착시의 가중에 의한 도전성 접착제의 변형이 커지기 때문에, 가압 해방시에 도전성 접착제의 복원력이 접속부 계면 등에 박리 방향의 힘으로서 가해진다. 이 때문에, 열 압착 직후에 접속 저항이 상승하거나, 접속부에 기포가 발생하는 경향이 있다.The minimum melting viscosity of the conductive adhesive is preferably 1 to 100,000 ㎩ s, more preferably 10 to 10,000 ㎩ s. The suitability of the minimum melting viscosity also depends on the compression deformation characteristics of the conductive particles, but if the minimum melting viscosity is too high, the binder between the conductive particles and the electrode cannot be sufficiently excluded during thermal compression, so that the connection resistance tends to increase. In particular, for conductive particles having protrusions, it is difficult to sufficiently exclude the binder between the conductive particles and the electrode during thermal compression. On the other hand, if the minimum melting viscosity is too low, the deformation of the conductive adhesive due to the weight during thermal compression becomes large, so that when the pressure is released, the restoring force of the conductive adhesive is applied to the interface of the connection part as a force in the peeling direction. For this reason, the connection resistance tends to increase immediately after thermal compression, or bubbles tend to occur at the connection part.
이와 같은 구성의 도전성 접착제는, 경화 후의 40 ℃ 의 온도 및 90 % 의 상대 습도의 조건으로 측정되는 투습도가, 바람직하게는 80 g/㎡·24 hr 이상, 보다 바람직하게는 85 g/㎡·24 hr 이상, 더욱 바람직하게는 90 g/㎡·24 hr 이상이다. 이로써, 도전성 접착제로 접착한 디바이스 내부에 침입한 수분을 즉석에서 배출시킬 수 있고, HAST 에 있어서, 높은 신뢰성을 얻을 수 있다. 또한, 투습도는, JIS Z 0208 의 방습 포장 재료의 투습도 시험 방법 (컵법) 에 준거하여, 40 ℃, 상대 습도 90 % 의 조건으로 측정할 수 있다.A conductive adhesive having such a configuration has a moisture permeability measured under the conditions of a temperature of 40° C. and a relative humidity of 90% after curing of preferably 80 g/m2·24 hr or more, more preferably 85 g/m2·24 hr or more, and even more preferably 90 g/m2·24 hr or more. Thereby, moisture that has penetrated into the inside of a device bonded with the conductive adhesive can be instantly discharged, and high reliability in HAST can be obtained. In addition, the moisture permeability can be measured under the conditions of 40° C. and a relative humidity of 90% in accordance with the moisture permeability test method for moisture-proof packaging materials (cup method) of JIS Z 0208.
이와 같은 도전성 접착제에 의하면, 디바이스 내부에 침입한 수분을 즉석에서 배출시킬 수 있기 때문에, 우수한 접속 신뢰성을 얻을 수 있다.With this type of challenging adhesive, moisture that has entered the device can be immediately discharged, thereby achieving excellent connection reliability.
<2. 접속체의 제조 방법><2. Manufacturing method of connector>
본 실시형태에 관련된 접속체의 제조 방법은, 실리콘계 입자와, 실란 커플링제와, 중합성 화합물과, 경화제를 함유하고, 실리콘계 입자의 평균 입자경으로부터 산출되는 진구 입자의 표면적의 합계가, 조성물 100 g 당 10 × 103 ㎡ 이상인 접착제 조성물을 개재하여 제 1 전자 부품과 제 2 전자 부품을 배치하는 배치 공정과, 압착 툴에 의해 제 2 전자 부품을 제 1 전자 부품에 압착시킴과 함께, 접착제 조성물을 경화시키는 경화 공정을 갖는다. 여기서, 압착 툴이란, 제 1 전자 부품 혹은 제 2 전자 부품, 또는 그 양방으로부터 가압하는 것을 가리킨다. 또한, 압착 툴의 형상이나 재질은 특별히 한정은 되지 않지만, 일례로서, 가열 기구를 구비한 금속제의 평탄상의 것을 들 수 있다. 이것은, 공지된 열 압착 장치에 사용되는 것이어도 된다. 또한, 광을 조사하는 기구를 구비해도 된다.A method for manufacturing a connector according to the present embodiment comprises a placing step of placing a first electronic component and a second electronic component through an adhesive composition containing silicon particles, a silane coupling agent, a polymerizable compound, and a curing agent, wherein the total surface area of spherical particles calculated from the average particle diameter of the silicon particles is 10 × 10 3 m2 or more per 100 g of the composition, and a curing step of pressing the second electronic component to the first electronic component using a pressing tool, while curing the adhesive composition. Here, the pressing tool refers to something that applies pressure from the first electronic component or the second electronic component, or both. In addition, the shape or material of the pressing tool is not particularly limited, and as an example, a flat metal tool equipped with a heating mechanism can be exemplified. This may be one used in a known thermal pressing device. In addition, a mechanism that irradiates light may be provided.
또한, 본 실시형태에 관련된 접속체는, 제 1 전자 부품과, 제 2 전자 부품과, 제 1 전자 부품과 제 2 전자 부품이 접착된 접착막을 구비하고, 접착막은, 실리콘계 입자와, 실란 커플링제와, 중합성 화합물과, 경화제를 함유하고, 실리콘계 입자의 평균 입자경으로부터 산출되는 진구 입자의 표면적의 합계가, 당해 조성물 100 g 당 10 × 103 ㎡ 이상인 접착제 조성물이 경화하여 이루어지고, 투습도가 80 g/㎡·24 hr 이상이다.In addition, a connecting body related to the present embodiment comprises a first electronic component, a second electronic component, and an adhesive film in which the first electronic component and the second electronic component are adhered, wherein the adhesive film is formed by curing an adhesive composition containing silicone particles, a silane coupling agent, a polymerizable compound, and a curing agent, and wherein the total surface area of spherical particles calculated from the average particle diameter of the silicone particles is 10 × 10 3 m2 or more per 100 g of the composition, and has a moisture permeability of 80 g/m2·24 hr or more.
본 실시형태에 관련된 접속체는, 제 1 전자 부품과 제 2 전자 부품이 접착된 접착막이, 높은 투습도를 갖기 때문에, 디바이스 내부에 침입한 수분을 즉석에서 배출시킬 수 있고, HAST 에 있어서, 높은 신뢰성을 얻을 수 있다.The connector related to the present embodiment can instantly discharge moisture that has entered the inside of the device because the adhesive film through which the first electronic component and the second electronic component are adhered has high moisture permeability, and can obtain high reliability in HAST.
이하, 접착 필름을 사용한 접속체의 제조 방법에 대하여 설명한다. 도 1 은, 본 실시형태에 관련된 접속체의 제조 방법의 배치 공정을 모식적으로 나타내는 단면도이다. 또한, 접착 필름을 구성하는 접착제 조성물은, 전술한 것과 동일하기 때문에, 여기서는 설명을 생략한다.Hereinafter, a method for manufacturing a connector using an adhesive film will be described. Fig. 1 is a cross-sectional view schematically showing the arrangement process of a method for manufacturing a connector related to the present embodiment. In addition, since the adhesive composition constituting the adhesive film is the same as that described above, its description is omitted here.
[배치 공정 (S1)][Batch process (S1)]
도 1 에 나타내는 바와 같이, 배치 공정 (S1) 에서는, 제 1 전자 부품 (10) 상에 실리콘계 입자 (21) 를 함유하는 접착 필름 (20) 을 배치한다. 제 1 전자 부품 (10) 은, 제 1 단자열 (11) 을 구비한다. 제 1 전자 부품 (10) 은, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있다. 제 1 전자 부품 (10) 으로는, 예를 들어, LCD (Liquid Crystal Display) 패널, 유기 EL (OLED) 등의 플랫 패널 디스플레이 (FPD) 용도, 터치 패널 용도 등의 투명 기판, 프린트 배선판 (PWB), 플렉시블 기판 (FPC : Flexible Printed Circuits) 등을 들 수 있다. 프린트 배선판의 재질은, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, FR-4 기재 등의 유리 에폭시여도 되고, 열 가소성 수지 등의 플라스틱, 세라믹 등도 사용할 수 있다. 또한, 투명 기판은, 투명성이 높은 것이면 특별히 한정은 없고, 유리 기판, 플라스틱 기판 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 내열성의 관점에서 세라믹 기판이 바람직하게 사용된다.As shown in Fig. 1, in the arrangement process (S1), an adhesive film (20) containing silicon particles (21) is arranged on a first electronic component (10). The first electronic component (10) has a first terminal row (11). The first electronic component (10) is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose. Examples of the first electronic component (10) include transparent substrates for use in flat panel displays (FPDs) such as LCD (Liquid Crystal Display) panels, organic EL (OLED) panels, touch panels, printed wiring boards (PWBs), flexible substrates (FPCs: Flexible Printed Circuits), etc. The material of the printed wiring board is not particularly limited, and may be, for example, glass epoxy such as FR-4 substrate, plastic such as thermoplastic resin, ceramics, etc. In addition, the transparent substrate is not particularly limited as long as it has high transparency, and examples thereof include glass substrates, plastic substrates, etc. Among these, ceramic substrates are preferably used from the viewpoint of heat resistance.
또한, 제 1 전자 부품에 대향하는 제 2 전자 부품으로는, IC 나 플렉시블 기판 등의 도금 범프가 형성되어 있는 것이 바람직하다. 도금 범프는, 딤플이 낮거나, 혹은 없는 것이 바람직하고, 또는 표면이 플랫한 것이 바람직하다. 또한, 도금 범프의 표면은, 압착시에 접촉 면적을 증대시키는 관점에서 레벨링되어 있는 것이 바람직하다. 또한, 배선 기판에는, 스터드 범프가 형성되어 있어도 된다.In addition, it is preferable that the second electronic component facing the first electronic component has a plating bump formed on an IC or a flexible substrate. It is preferable that the plating bump has a low dimple or no dimple, or a flat surface. In addition, it is preferable that the surface of the plating bump is leveled from the viewpoint of increasing the contact area during pressing. In addition, a stud bump may be formed on the wiring substrate.
접착 필름 (20) 은, 전술한 접착제 조성물을 필름상으로 한 것이기 때문에, 여기서는 상세한 설명을 생략한다. 접착 필름 (20) 의 두께는, 1 ∼ 100 ㎛ 인 것이 바람직하고, 10 ∼ 50 ㎛ 인 것이 보다 바람직하다. 단층인 경우에도, 다층으로 했을 경우에 있어서도, 이 범위는 동일하게 된다. 또한, 페이스트상인 경우에는, 접속에 사용할 때의 두께를 가리킨다.Since the adhesive film (20) is a film-shaped adhesive composition as described above, a detailed description thereof is omitted here. The thickness of the adhesive film (20) is preferably 1 to 100 µm, and more preferably 10 to 50 µm. This range is the same whether it is a single layer or a multilayer. In addition, in the case of a paste-shaped adhesive, it refers to the thickness when used for connection.
[경화 공정 (S2)][Hardening process (S2)]
경화 공정 (S2) 에서는, 접착 필름 (20) 상에 제 2 전자 부품을 배치하고, 압착 툴에 의해 제 2 전자 부품을 제 1 전자 부품 (10) 에 가압하고, 열을 가하면서 압착시킨다. 또한, 경화 공정 (S2) 에서는, 압착 툴을 사용하여, 바람직하게는 250 ℃ 이하의 온도, 보다 바람직하게는 220 ℃ 이하의 온도, 더욱 바람직하게는 200 ℃ 이하의 온도에서 압압한다. 이로써, 압착 툴의 열에 의해 수지가 용융되고, 압착 툴에 의해 제 2 전자 부품이 충분히 압입되어, 수지가 열 경화하기 때문에, 우수한 접착성을 얻을 수 있다. 이 경우, 압착 툴에는, 가열 기구가 장착되어 있는 것을 전제로 하고 있지만, 압착 툴에 가열 기구가 장착되어 있지 않은 방법에 의해 접착 필름 (20) 을 가열시켜 경화시켜도 된다.In the curing process (S2), the second electronic component is placed on the adhesive film (20), and the second electronic component is pressed against the first electronic component (10) by a pressing tool, and pressed while applying heat. In addition, in the curing process (S2), the pressing tool is used to press at a temperature of preferably 250° C. or lower, more preferably 220° C. or lower, and even more preferably 200° C. or lower. Thereby, the resin is melted by the heat of the pressing tool, the second electronic component is sufficiently pressed by the pressing tool, and the resin is thermally cured, so that excellent adhesiveness can be obtained. In this case, it is assumed that the pressing tool is equipped with a heating mechanism, but the adhesive film (20) may be heated and cured by a method in which the pressing tool is not equipped with a heating mechanism.
제 2 전자 부품은, 제 1 단자열 (11) 에 대향하는 제 2 단자열을 구비한다. 제 2 전자 부품은, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있다. 제 2 전자 부품으로는, 예를 들어, IC (Integrated Circuit), 플렉시블 기판 (FPC : Flexible Printed Circuits), 테이프 캐리어 패키지 (TCP) 기판 등을 들 수 있다. IC 를 FPC 에 실장한 경우에는, COF (Chip On Film) 가 된다.The second electronic component has a second terminal row facing the first terminal row (11). The second electronic component is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose. Examples of the second electronic component include an IC (Integrated Circuit), a flexible substrate (FPC: Flexible Printed Circuits), a tape carrier package (TCP) substrate, and the like. When an IC is mounted on an FPC, it becomes a COF (Chip On Film).
또한, 경화 공정 (S2) 에서는, 압착 툴과 제 2 전자 부품 사이에 완충재를 사용해도 된다. 완충재로는, 폴리테트라플루오로에틸렌 (PTFE : polytetrafluoroethylene), 폴리이미드, 유리 크로스, 실리콘 러버 등을 사용할 수 있다.In addition, in the curing process (S2), a buffer material may be used between the pressing tool and the second electronic component. As the buffer material, polytetrafluoroethylene (PTFE), polyimide, glass cloth, silicone rubber, etc. can be used.
이와 같은 접속체의 제조 방법에 의하면, 제 1 전자 부품과 제 2 전자 부품을 접착시키는 접착막이, 높은 투습도를 갖는 것이 되기 때문에, 디바이스 내부에 침입한 수분을 즉석에서 배출시킬 수 있고, HAST 에 있어서, 높은 신뢰성을 얻을 수 있다.According to the manufacturing method of such a connector, since the adhesive film that bonds the first electronic component and the second electronic component has high moisture permeability, moisture that has entered the inside of the device can be discharged immediately, and high reliability can be obtained in HAST.
[변형예][Variation]
또한, 상기 서술한 실시형태에서는, 접착 필름을 사용하여 제 1 전자 부품과 제 2 전자 부품을 접속하는 것으로 했지만, 이것에 한정되지 않고, 도전 입자를 함유한 도전성 접착 필름을 사용하여 제 1 전자 부품과 제 2 전자 부품을 접속하도록 해도 된다. 또한, 도전성 접착 필름은, 도전 입자를 함유하는 층 (편의적으로, 도전 입자 함유층이라고 한다) 과, 도전 입자를 함유하지 않는 층 (편의적으로, 도전 입자 비함유층이라고 한다) 로 이루어지는 2 층 이상의 구성이어도 된다. 또한, 페이스트상인 경우에도, 접속시에 동일한 구성을 취할 수 있다.In addition, in the above-described embodiment, the first electronic component and the second electronic component are connected using an adhesive film, but the present invention is not limited thereto, and the first electronic component and the second electronic component may be connected using a conductive adhesive film containing conductive particles. In addition, the conductive adhesive film may have a two-layer configuration consisting of a layer containing conductive particles (for convenience, referred to as a conductive particle-containing layer) and a layer not containing conductive particles (for convenience, referred to as a conductive particle-free layer). In addition, even in the case of a paste form, the same configuration can be taken at the time of connection.
<3. 실시예><3. Example>
실시예Example
이하, 본 기술의 실시예에 대하여 설명한다. 제 1 실시예에서는, 접착제 조성물의 일 형태로서 접착 필름을 제작하고, 접속체를 제작하였다. 그리고, 경화 후의 접착 필름의 투습도, 접속체의 초기의 접착 강도, 및 신뢰성 시험 후의 접착 강도, 그리고, 접속체의 초기의 도통 저항, 및 신뢰성 시험 후의 도통 저항을 측정하였다.Hereinafter, examples of the present technology will be described. In the first example, an adhesive film was produced as one form of an adhesive composition, and a connecting body was produced. Then, the moisture permeability of the adhesive film after curing, the initial adhesive strength of the connecting body, the adhesive strength after a reliability test, and the initial electrical resistance of the connecting body and the electrical resistance after a reliability test were measured.
[접착 필름의 제작, 및 투습도의 측정][Production of adhesive film and measurement of moisture permeability]
표 1 에 나타내는 재료를 배합하여 두께 35 ㎛ 의 접착 필름을 제작하였다. 또한, 투습도의 측정을 위해서, 접착 필름을 온도 200 ℃ 에서 경화시켜 시료 필름을 제작하였다. 투습도는, JIS Z 0208 의 방습 포장 재료의 투습도 시험 방법 (컵법) 에 준거하여, 40 ℃, 상대 습도 90 % 의 조건으로 측정하였다. 구체적으로는, 컵에 염화칼슘 (무수) 을 봉입하고, 시료 필름으로 커버한 컵을, 항온 항습 상태에 정치 (靜置) 하고, 일정 시간마다 칭량 조작을 반복하여, 컵의 질량 증가를 수증기의 투과량으로서 평가하였다.The materials shown in Table 1 were mixed to produce an adhesive film having a thickness of 35 ㎛. In addition, in order to measure the moisture permeability, the adhesive film was cured at a temperature of 200°C to produce a sample film. The moisture permeability was measured under the conditions of 40°C and a relative humidity of 90% in accordance with the moisture permeability test method for moisture-proof packaging materials (cup method) of JIS Z 0208. Specifically, calcium chloride (anhydrous) was sealed in a cup, the cup covered with the sample film was placed still in a constant temperature and humidity state, and the weighing operation was repeated at regular intervals, and the mass increase of the cup was evaluated as the amount of water vapor permeability.
[접속체의 제작][Creating a connector]
베어 칩 (IC 칩) 은, 두께 0.4 ㎜, 폭 6 ㎜, 길이 6 ㎜ (6 ㎜ × 6 ㎜) 이고, 도통 측정용 배선 (범프 사이즈 : 50 × 50 ㎛, 피치 : 85 ㎛ (범프간 스페이스 35 ㎛), 금 범프 높이 h = 15 ㎛) 을 형성한 측정용 TEG (Test Element Group) 를 사용하였다. 금 범프는, 도금 범프이고, 딤플이 없는 평활한 것을 사용하였다.A bare chip (IC chip) with a thickness of 0.4 mm, a width of 6 mm, and a length of 6 mm (6 mm × 6 mm) was used, and a measurement TEG (Test Element Group) was used on which a wiring for conductivity measurement (bump size: 50 × 50 ㎛, pitch: 85 ㎛ (space between bumps: 35 ㎛), gold bump height h = 15 ㎛) was formed. The gold bumps were plated bumps, and smooth ones without dimples were used.
플렉시블 배선판 (FPC : Flexible Printed Circuits) 은, 기재가 폴리이미드이고, 두께가 25 ㎛, 피치 : 85 ㎛ (L/S = 45/40), Top : 40 ㎛ 인 도통 측정용 배선을 형성한 측정용 TEG 를 사용하였다.A measurement TEG was used to form a flexible printed circuit (FPC) for conducting measurement with a polyimide substrate, a thickness of 25 ㎛, a pitch of 85 ㎛ (L/S = 45/40), and a top of 40 ㎛.
접착 필름을 사용하여 플렉시블 배선판 상에 베어 칩을 실장하였다. 열 압착 조건은, 온도 200 ℃, 압력 100 ㎫, 10 sec 로 하였다. 또한, 열 압착시에, 완충재로서 두께 50 ㎛ 의 폴리테트라플루오로에틸렌 시트를 베어 칩 상에 배치하였다.A bare chip was mounted on a flexible wiring board using an adhesive film. The thermal compression conditions were a temperature of 200°C, a pressure of 100 MPa, and 10 sec. In addition, a polytetrafluoroethylene sheet having a thickness of 50 μm was placed on the bare chip as a cushioning material during the thermal compression.
[접착 강도의 측정][Measurement of adhesive strength]
접속체의 플렉시블 배선판을 인장 속도 50 ㎜/sec 로 90°방향으로 박리하고, 그 박리에 필요로 한 필 강도의 최대치를 접착 강도로 하였다. 초기의 접속체, 및 신뢰성 시험 후의 접속체에 대하여 측정하였다. 신뢰성 시험은, JEDEC (JESD22-A110) 에 준거하여, 온도 110 ℃, 습도 85 %, 시간 264 hr 의 조건으로 하였다.The flexible wiring board of the joint was peeled in the 90° direction at a tensile speed of 50 mm/sec, and the maximum peel strength required for the peeling was taken as the bonding strength. The measurement was made for the initial joint and the joint after the reliability test. The reliability test was conducted under the conditions of temperature 110°C, humidity 85%, and time 264 hr in accordance with JEDEC (JESD22-A110).
[도통 저항의 측정][Measurement of the resistance of the conductor]
베어 칩과 플렉시블 배선판의 접속 상태에 대하여, 디지털 멀티 미터를 사용하여, 접속 초기 및 신뢰성 시험 후에 있어서의 도통 저항 (Ω) 을 측정하였다. 도통 저항치의 측정은, 베어 칩의 범프에 접속된 플렉시블 배선판의 배선에 디지털 멀티 미터를 접속하고, 4 단자법으로 전류를 1 ㎃ 흘려 도통 저항치를 측정하였다. 신뢰성 시험은, JEDEC (JESD22-A110) 에 준거하여, 온도 110 ℃, 습도 85 %, 시간 264 hr 의 조건으로 하였다.Regarding the connection status of the bare chip and the flexible wiring board, the conduction resistance (Ω) at the initial connection and after the reliability test was measured using a digital multimeter. To measure the conduction resistance, the digital multimeter was connected to the wiring of the flexible wiring board connected to the bump of the bare chip, and the conduction resistance was measured by flowing 1 mA of current using the 4-terminal method. The reliability test was conducted under the conditions of a temperature of 110°C, a humidity of 85%, and a time of 264 hr in accordance with JEDEC (JESD22-A110).
폴리머 : YP-50 (신닛테츠 주금 화학 (주))Polymer: YP-50 (Nittetsu Sumitomo Chemical Co., Ltd.)
에폭시 경화제 : HP3941 (아사히 화성 케미컬즈 (주))Epoxy hardener: HP3941 (Asahi Kasei Chemicals Co., Ltd.)
에폭시 화합물 : HP4032D (DIC (주))Epoxy compound: HP4032D (DIC Co., Ltd.)
고무 입자 : XER-91 (JSR (주))Rubber particles: XER-91 (JSR Co., Ltd.)
고무 성분 : SG80H (나가세 켐텍스 (주))Rubber component: SG80H (Nagase Chemtex Co., Ltd.)
커플링제 : A-187 (모멘티브·퍼포먼스·매터리얼즈·재팬 (합))Coupling agent: A-187 (Momentive Performance Materials Japan (compound))
실리콘계 입자 A : X-52-7030 (신에츠 실리콘 (주)), 평균 입자경 0.8 ㎛, 진비중 1.01Silicone particle A: X-52-7030 (Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.), average particle size 0.8 ㎛, true specific gravity 1.01
실리콘계 입자 B : KMP-605 (신에츠 실리콘 (주))), 평균 입자경 2 ㎛, 진비중 0.99Silicon particle B: KMP-605 (Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.)), average particle size 2 ㎛, true specific gravity 0.99
실리콘계 입자 C : KMP-600 (신에츠 실리콘 (주))), 평균 입자경 5 ㎛, 진비중 0.99Silicon particle C: KMP-600 (Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.)), average particle size 5 ㎛, true specific gravity 0.99
또한, 실리콘계 입자의 비표면적은, 평균 입자경으로부터 산출한 입자 1 개 당 표면적과, 평균 입자경 및 진비중으로부터 산출한 입자 1 개 당 질량으로부터 구하였다.In addition, the specific surface area of the silicon particles was obtained from the surface area per particle calculated from the average particle diameter and the mass per particle calculated from the average particle diameter and true specific gravity.
표 1 에 나타내는 바와 같이, 실리콘계 입자의 평균 입자경으로부터 산출되는 진구 입자의 표면적의 합계가, 조성물 100 g 당 10 × 103 ㎡ 이상임으로써 (실시예 1 ∼ 8), 80 g/㎡·24 hr 이상의 투습도를 얻을 수 있었다. 또한, 실리콘계 입자의 평균 입자경으로부터 산출되는 진구 입자의 표면적의 합계가, 조성물 100 g 당 50 × 103 ㎡ 이상임으로써 (실시예 5 ∼ 7), 90 g/㎡·24 hr 이상의 투습도를 얻을 수 있었다. 실리콘계 입자를 배합하지 않는 경우, 투습도는 75 g/㎡·24 hr 가 되었다 (비교예 1).As shown in Table 1, since the sum of the surface areas of the spherical particles calculated from the average particle diameter of the silicone particles was 10 × 10 3 m2 or more per 100 g of the composition (Examples 1 to 8), a moisture permeability of 80 g/m2·24 hr or more could be obtained. Furthermore, since the sum of the surface areas of the spherical particles calculated from the average particle diameter of the silicone particles was 50 × 10 3 m2 or more per 100 g of the composition (Examples 5 to 7), a moisture permeability of 90 g/m2·24 hr or more could be obtained. When the silicone particles were not mixed, the moisture permeability was 75 g/m2·24 hr (Comparative Example 1).
[제 2 실시예][Example 2]
제 2 실시예에서는, 접착제 조성물의 일 형태로서 도전성 필름을 제작하고, 접속체를 제작하였다. 그리고, 경화 후의 도전성 필름의 투습도, 접속체의 초기의 접착 강도, 및 신뢰성 시험 후의 접착 강도, 그리고, 접속체의 초기의 도통 저항, 및 신뢰성 시험 후의 도통 저항을 측정하였다.In the second embodiment, a conductive film was produced as one form of an adhesive composition, and a connector was produced. Then, the moisture permeability of the conductive film after curing, the initial adhesive strength of the connector, the adhesive strength after a reliability test, and the initial electrical resistance of the connector and the electrical resistance after a reliability test were measured.
[도전성 필름의 제작, 및 투습도의 측정][Production of challenge film and measurement of moisture permeability]
표 1 에 나타내는 재료를 배합하여 두께 35 ㎛ 의 도전성 필름을 제작하였다. 또한, 투습도의 측정을 위해서, 도전성 필름을 온도 200 ℃ 에서 경화시켜 시료 필름을 제작하였다. 투습도는, JIS Z 0208 의 방습 포장 재료의 투습도 시험 방법 (컵법) 에 준거하여, 40 ℃, 상대 습도 90 % 의 조건으로 측정하였다. 구체적으로는, 컵에 염화칼슘 (무수) 을 봉입하고, 시료 필름으로 커버한 컵을, 항온 항습 상태에 정치하고, 일정 시간마다 칭량 조작을 반복하여, 컵의 질량 증가를 수증기의 투과량으로서 평가하였다.A conductive film having a thickness of 35 ㎛ was produced by mixing the materials shown in Table 1. In addition, in order to measure the moisture permeability, the conductive film was cured at a temperature of 200°C to produce a sample film. The moisture permeability was measured under the conditions of 40°C and a relative humidity of 90% in accordance with the moisture permeability test method for moisture-proof packaging materials (cup method) of JIS Z 0208. Specifically, calcium chloride (anhydrous) was sealed in a cup, the cup covered with the sample film was left to stand in a constant temperature and humidity state, and the weighing operation was repeated at regular intervals, and the mass increase of the cup was evaluated as the amount of water vapor permeability.
[접속체의 제작][Creating a connector]
베어 칩 (IC 칩) 은, 두께 0.4 ㎜, 폭 6 ㎜, 길이 6 ㎜ (6 ㎜ × 6 ㎜) 이고, 도통 측정용 배선 (범프 사이즈 : 50 × 50 ㎛, 피치 : 85 ㎛ (범프간 스페이스 35 ㎛), 금 범프 높이 h = 15 ㎛) 을 형성한 측정용 TEG (Test Element Group) 를 사용하였다. 금 범프는, 도금 범프이고, 딤플이 없는 평활한 것을 사용하였다.A bare chip (IC chip) with a thickness of 0.4 mm, a width of 6 mm, and a length of 6 mm (6 mm × 6 mm) was used, and a measurement TEG (Test Element Group) was used on which a wiring for conductivity measurement (bump size: 50 × 50 ㎛, pitch: 85 ㎛ (space between bumps: 35 ㎛), gold bump height h = 15 ㎛) was formed. The gold bumps were plated bumps, and smooth ones without dimples were used.
도전성 필름을 사용하여 플렉시블 배선판 상에 베어 칩을 실장하였다. 열 압착 조건은, 온도 200 ℃, 압력 100 ㎫, 10 sec 로 하였다. 또한, 열 압착시에, 완충재로서 두께 200 ㎛ 의 실리콘 러버를 베어 칩 상에 배치하였다.A bare chip was mounted on a flexible wiring board using a conductive film. The thermal compression conditions were a temperature of 200°C, a pressure of 100 MPa, and 10 sec. In addition, during the thermal compression, a silicone rubber having a thickness of 200 μm was placed on the bare chip as a cushioning material.
[접착 강도의 측정][Measurement of adhesive strength]
접속체의 플렉시블 배선판을 인장 속도 50 ㎜/sec 로 90°방향으로 박리하고, 그 박리에 필요로 한 필 강도의 최대치를 접착 강도로 하였다. 초기의 접속체, 및 신뢰성 시험 후의 접속체에 대하여 측정하였다. 신뢰성 시험은, JEDEC (JESD22-A110) 에 준거하여, 온도 110 ℃, 습도 85 %, 시간 264 hr 의 조건으로 하였다.The flexible wiring board of the joint was peeled in the 90° direction at a tensile speed of 50 mm/sec, and the maximum peel strength required for the peeling was taken as the bonding strength. The measurement was made for the initial joint and the joint after the reliability test. The reliability test was conducted under the conditions of temperature 110°C, humidity 85%, and time 264 hr in accordance with JEDEC (JESD22-A110).
[도통 저항의 측정][Measurement of the resistance of the conductor]
베어 칩과 플렉시블 배선판의 접속 상태에 대하여, 디지털 멀티 미터를 사용하여, 접속 초기 및 신뢰성 시험 후에 있어서의 도통 저항 (Ω) 을 측정하였다. 도통 저항치의 측정은, 베어 칩의 범프에 접속된 플렉시블 배선판의 배선에 디지털 멀티 미터를 접속하고, 4 단자법으로 전류를 1 ㎃ 흘려 도통 저항치를 측정하였다. 신뢰성 시험은, JEDEC (JESD22-A110) 에 준거하여, 온도 110 ℃, 습도 85 %, 시간 264 hr 의 조건으로 하였다.Regarding the connection status of the bare chip and the flexible wiring board, the conduction resistance (Ω) at the initial connection and after the reliability test was measured using a digital multimeter. To measure the conduction resistance, the digital multimeter was connected to the wiring of the flexible wiring board connected to the bump of the bare chip, and the conduction resistance was measured by flowing 1 mA of current using the 4-terminal method. The reliability test was conducted under the conditions of a temperature of 110°C, a humidity of 85%, and a time of 264 hr in accordance with JEDEC (JESD22-A110).
폴리머 : YP-50 (신닛테츠 주금 화학 (주))Polymer: YP-50 (Nittetsu Sumitomo Chemical Co., Ltd.)
에폭시 경화제 : HP3941 (아사히 화성 케미컬즈 (주))Epoxy hardener: HP3941 (Asahi Kasei Chemicals Co., Ltd.)
에폭시 화합물 : HP4032D (DIC (주))Epoxy compound: HP4032D (DIC Co., Ltd.)
고무 입자 : XER-91 (JSR (주))Rubber particles: XER-91 (JSR Co., Ltd.)
고무 성분 : SG80H (나가세 켐텍스 (주))Rubber component: SG80H (Nagase Chemtex Co., Ltd.)
커플링제 : A-187 (모멘티브·퍼포먼스·매터리얼즈·재팬 (합))Coupling agent: A-187 (Momentive Performance Materials Japan (compound))
도전 입자 A : Ni/Au 도금 아크릴 수지 입자, 평균 입자경 5 ㎛, 닛폰 화학 (주)Challenge particle A: Ni/Au plated acrylic resin particles, average particle size 5 ㎛, Nippon Chemical Co., Ltd.
도전 입자 B : Ni/Au 도금 아크릴 수지 입자, 평균 입자경 3.5 ㎛, 닛폰 화학 (주)Challenge particle B: Ni/Au plated acrylic resin particles, average particle size 3.5 μm, Nippon Chemical Co., Ltd.
도전 입자 C : Ni/Au 도금 아크릴 수지 입자, 평균 입자경 3 ㎛, 닛폰 화학 (주)Challenge particle C: Ni/Au plated acrylic resin particles, average particle size 3 ㎛, Nippon Chemical Co., Ltd.
실리콘계 입자 A : X-52-7030 (신에츠 실리콘 (주)), 평균 입자경 0.8 ㎛, 진비중 1.01Silicone particle A: X-52-7030 (Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.), average particle size 0.8 ㎛, true specific gravity 1.01
실리콘계 입자 B : KMP-605 (신에츠 실리콘 (주))), 평균 입자경 2 ㎛, 진비중 0.99Silicon particle B: KMP-605 (Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.)), average particle size 2 ㎛, true specific gravity 0.99
실리콘계 입자 C : KMP-600 (신에츠 실리콘 (주))), 평균 입자경 5 ㎛, 진비중 0.99Silicon particle C: KMP-600 (Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.)), average particle size 5 ㎛, true specific gravity 0.99
또한, 실리콘계 입자의 비표면적은, 평균 입자경으로부터 산출한 입자 1 개 당 표면적과, 평균 입자경 및 진비중으로부터 산출한 입자 1 개 당 질량으로부터 구하였다.In addition, the specific surface area of the silicon particles was obtained from the surface area per particle calculated from the average particle diameter and the mass per particle calculated from the average particle diameter and true specific gravity.
표 2 에 나타내는 바와 같이, 실리콘계 입자의 평균 입자경이, 도전 입자의 평균 입자경보다 작고, 실리콘계 입자의 평균 입자경으로부터 산출되는 진구 입자의 표면적의 합계가, 조성물 100 g 당 10 × 103 ㎡ 이상임으로써 (실시예 9 ∼ 17), 80 g/㎡·24 hr 이상의 투습도를 얻을 수 있었다. 또한, 실리콘계 입자의 평균 입자경으로부터 산출되는 진구 입자의 표면적의 합계가, 100 g 당 50 × 103 ㎡ 이상임으로써 (실시예 13 ∼ 15), 90 g/㎡·24 hr 이상의 투습도를 얻을 수 있었다. 실리콘계 입자를 배합하지 않는 경우, 투습도는 75 g/㎡·24 hr 가 되었다 (비교예 2). 또한, 실리콘계 입자의 평균 입자경이, 도전 입자의 평균 입자경 이상인 경우, 저항치가 높아졌다 (비교예 3, 4).As shown in Table 2, when the average particle diameter of the silicone particles was smaller than the average particle diameter of the conductive particles, and the sum of the surface areas of the spherical particles calculated from the average particle diameter of the silicone particles was 10 × 10 3 m2 or more per 100 g of the composition (Examples 9 to 17), a moisture permeability of 80 g/m2·24 hr or more could be obtained. In addition, when the sum of the surface areas of the spherical particles calculated from the average particle diameter of the silicone particles was 50 × 10 3 m2 or more per 100 g (Examples 13 to 15), a moisture permeability of 90 g/m2·24 hr or more could be obtained. When the silicone particles were not mixed, the moisture permeability was 75 g/m2·24 hr (Comparative Example 2). In addition, when the average particle diameter of the silicone particles was equal to or larger than the average particle diameter of the conductive particles, the resistance value increased (Comparative Examples 3 and 4).
실시예 9 ∼ 17 과 같이 도전막의 투습도를 80 g/㎡·24 hr 이상으로 함으로써, 신뢰성 시험 후의 저항 상승을 억제할 수 있었다. 이것은, 도전막의 높은 투습도에 의해, 디바이스 내부에 침입한 수분을 즉석에서 배출시킬 수 있었기 때문인 것으로 생각된다.By setting the moisture permeability of the conductive film to 80 g/㎡·24 hr or more as in Examples 9 to 17, it was possible to suppress the increase in resistance after the reliability test. This is thought to be because the high moisture permeability of the conductive film enabled moisture that had entered the inside of the device to be immediately discharged.
10 ; 제 1 전자 부품
11 ; 제 1 단자열
20 ; 접착 필름
21 ; 실리콘계 입자10; 1st electronic component
11; 1st terminal row
20 ; Adhesive film
21; Silicon particles
Claims (14)
상기 실리콘계 입자의 평균 입자경으로부터 산출되는 진구 입자의 표면적의 합계가, 당해 조성물 100 g 당 10 × 103 ㎡ 이상이고,
상기 고무 성분이, 아크릴 고무와, 탄성 입자를 포함하고,
상기 고무 성분의 배합량이, 당해 접착제 조성물 100 질량부에 대하여, 1 ~ 30 질량부이고,
당해 조성물의 경화 후의 40 ℃ 의 온도 및 90 % 의 상대 습도의 조건에서 측정되는 투습도가, 80 g/㎡·24 hr 이상인 접착제 조성물.Containing silicone particles, a silane coupling agent, a polymerizable compound, a curing agent, and two or more types of rubber components excluding the silicone particles,
The sum of the surface areas of the spherical particles calculated from the average particle diameter of the above silicone particles is 10 × 10 3 m2 or more per 100 g of the composition,
The above rubber component comprises acrylic rubber and elastic particles,
The amount of the above rubber component is 1 to 30 parts by mass per 100 parts by mass of the adhesive composition.
An adhesive composition having a moisture permeability of 80 g/㎡·24 hr or more as measured under conditions of a temperature of 40°C and a relative humidity of 90% after curing of the composition.
상기 실리콘계 입자의 평균 입자경으로부터 산출되는 진구 입자의 표면적의 합계가, 당해 조성물 100 g 당 50 × 103 ㎡ 이상인 접착제 조성물.In paragraph 1,
An adhesive composition wherein the sum of the surface areas of spherical particles calculated from the average particle diameter of the above silicone particles is 50 × 10 3 m2 or more per 100 g of the composition.
상기 실리콘계 입자의 평균 입자경이, 5 ㎛ 이하인 접착제 조성물.In paragraph 1,
An adhesive composition wherein the average particle diameter of the silicone particles is 5 ㎛ or less.
상기 실리콘계 입자가, 구상 실리콘 고무 파우더의 표면을 실리콘 레진으로 피복한 구상 분말인 실리콘 복합 파우더를 포함하는 접착제 조성물.In paragraph 1,
An adhesive composition comprising a silicone composite powder, wherein the silicone particles are spherical powders in which the surface of a spherical silicone rubber powder is covered with silicone resin.
상기 중합성 화합물이, 에폭시 화합물이고,
상기 경화제가, 에폭시 경화제이고,
상기 실란 커플링제가, 에폭시계 실란 커플링제인 접착제 조성물.In paragraph 1,
The above polymerizable compound is an epoxy compound,
The above hardener is an epoxy hardener,
An adhesive composition wherein the above silane coupling agent is an epoxy-based silane coupling agent.
도전 입자를 추가로 함유하고,
상기 실리콘계 입자의 평균 입자경이, 상기 도전 입자의 평균 입자경보다 작은 접착제 조성물.In paragraph 1,
Contains additional challenging particles,
An adhesive composition wherein the average particle diameter of the silicone particles is smaller than the average particle diameter of the conductive particles.
필름상인 접착제 조성물.In any one of paragraphs 1, 4 to 7 and 9,
Film-forming adhesive composition.
상기 고무 성분이, 아크릴 고무와, 탄성 입자를 포함하고,
상기 고무 성분의 배합량이, 당해 접착제 조성물 100 질량부에 대하여, 1 ~ 30 질량부이고,
상기 실리콘계 입자의 평균 입자경으로부터 산출되는 진구 입자의 표면적의 합계가, 당해 조성물 100 g 당 10 × 103 ㎡ 이상이고,
당해 조성물의 경화 후의 40 ℃ 의 온도 및 90 % 의 상대 습도의 조건에서 측정되는 투습도가, 80 g/㎡·24 hr 이상인 접착제 조성물을 개재하여 제 1 전자 부품과 제 2 전자 부품을 배치하는 배치 공정과,
압착 툴에 의해 상기 제 2 전자 부품을 상기 제 1 전자 부품에 압착시킴과 함께, 상기 접착제 조성물을 경화시키는 경화 공정
을 갖는 접속체의 제조 방법.Containing silicone particles, a silane coupling agent, a polymerizable compound, a curing agent, and two or more types of rubber components excluding the silicone particles,
The above rubber component comprises acrylic rubber and elastic particles,
The amount of the above rubber component is 1 to 30 parts by mass per 100 parts by mass of the adhesive composition.
The sum of the surface areas of the spherical particles calculated from the average particle diameter of the above silicone particles is 10 × 10 3 m2 or more per 100 g of the composition,
A placement process for placing a first electronic component and a second electronic component by interposing an adhesive composition having a moisture permeability of 80 g/㎡·24 hr or more as measured under conditions of a temperature of 40°C and a relative humidity of 90% after curing of the composition;
A curing process for curing the adhesive composition while pressing the second electronic component onto the first electronic component by a pressing tool.
A method for manufacturing a connection body having a .
상기 접착제 조성물이, 도전 입자를 추가로 함유하는 접속체의 제조 방법.In Article 11,
A method for producing a connector, wherein the adhesive composition further contains conductive particles.
상기 접착막은, 실리콘계 입자와, 실란 커플링제와, 중합성 화합물과, 경화제와, 상기 실리콘계 입자를 제외한 2 종 이상의 고무 성분을 함유하고, 상기 고무 성분이, 아크릴 고무와, 탄성 입자를 포함하고, 상기 고무 성분의 배합량이, 당해 접착제 조성물 100 질량부에 대하여, 1 ~ 30 질량부이고, 상기 실리콘계 입자의 평균 입자경으로부터 산출되는 진구 입자의 표면적의 합계가, 당해 조성물 100 g 당 10 × 103 ㎡ 이상이고, 당해 조성물의 경화 후의 40 ℃ 의 온도 및 90 % 의 상대 습도의 조건에서 측정되는 투습도가, 80 g/㎡·24 hr 이상인 접착제 조성물이 경화하여 이루어지고, 투습도가 80 g/㎡·24 hr 이상인 접속체.It comprises a first electronic component, a second electronic component, and an adhesive film to which the first electronic component and the second electronic component are adhered,
A connector formed by curing an adhesive composition in which the adhesive film contains silicone particles, a silane coupling agent, a polymerizable compound, a curing agent, and two or more kinds of rubber components excluding the silicone particles, wherein the rubber components include acrylic rubber and elastic particles, the blending amount of the rubber component is 1 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the adhesive composition, the sum of surface areas of spherical particles calculated from the average particle diameter of the silicone particles is 10 × 10 3 m2 or more per 100 g of the composition, and the moisture permeability measured under conditions of a temperature of 40° C. and a relative humidity of 90% after curing of the composition is 80 g/m2·24 hr or more.
상기 접착제 조성물이, 도전 입자를 추가로 함유하는 접속체.In Article 13,
A connector wherein the adhesive composition further contains conductive particles.
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