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KR102750795B1 - Photocurable composition, photocurable layer formed from the same, and image display device including the photocurable layer - Google Patents

Photocurable composition, photocurable layer formed from the same, and image display device including the photocurable layer Download PDF

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KR102750795B1
KR102750795B1 KR1020210161520A KR20210161520A KR102750795B1 KR 102750795 B1 KR102750795 B1 KR 102750795B1 KR 1020210161520 A KR1020210161520 A KR 1020210161520A KR 20210161520 A KR20210161520 A KR 20210161520A KR 102750795 B1 KR102750795 B1 KR 102750795B1
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KR
South Korea
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meth
film
photocurable
chemical formula
photocurable composition
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최윤정
양원기
이진서
백용구
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한인정밀화학(주)
주식회사 테크늄
백용구
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Publication date
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Abstract

본 발명은 광경화성 조성물, 이로부터 형성된 광경화막 및 이를 포함하는 화상 표시 장치에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 불화 탄화수소기, 에스테르기 및 적어도 2개의 (메타)아크릴로일기를 갖는 불소 함유 (메타)아크릴레이트 화합물을 포함하는 광경화성 조성물에 관한 것이다. 상술한 광경화성 조성물을 사용하여, 저반사율 및 고투과율의 광학 특성을 가지며, 방오성, 경도, 표면 내찰성 및 유연성 등의 기계적 물성이 우수한 광경화막 및 이를 포함하는 화상 표시 장치를 제공할 수 있다.The present invention relates to a photocurable composition, a photocurable film formed therefrom, and an image display device including the same. More specifically, the present invention relates to a photocurable composition including a fluorine-containing (meth)acrylate compound having a fluorinated hydrocarbon group, an ester group, and at least two (meth)acryloyl groups. By using the above-described photocurable composition, a photocurable film having optical characteristics such as low reflectivity and high transmittance, and excellent mechanical properties such as antifouling properties, hardness, surface abrasion resistance, and flexibility, and an image display device including the same can be provided.

Description

광경화성 조성물, 이로부터 형성된 광경화막 및 이를 포함하는 화상 표시 장치{PHOTOCURABLE COMPOSITION, PHOTOCURABLE LAYER FORMED FROM THE SAME, AND IMAGE DISPLAY DEVICE INCLUDING THE PHOTOCURABLE LAYER}Photocurable composition, photocurable layer formed therefrom, and image display device including the same {PHOTOCURABLE COMPOSITION, PHOTOCURABLE LAYER FORMED FROM THE SAME, AND IMAGE DISPLAY DEVICE INCLUDING THE PHOTOCURABLE LAYER}

본 발명은 광경화성 조성물, 이로부터 형성된 광경화막 및 이를 포함하는 화상 표시 장치에 관한 것이다. 보다 상세하게는, (메타)아크릴레이트계 화합물을 포함하는 광경화성 조성물, 이로부터 형성된 광경화막 및 이를 포함하는 화상 표시 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a photocurable composition, a photocurable film formed therefrom, and an image display device including the same. More specifically, the present invention relates to a photocurable composition including a (meth)acrylate compound, a photocurable film formed therefrom, and an image display device including the same.

최근 정보화 사회가 발전함에 따라 디스플레이 분야에 대한 요구도 다양한 형태로 제시되고 있다. 예를 들면, 박형화, 경량화, 저소비 전력화 등의 특징을 지닌 액정표시장치(Liquid Crystal Display device), 플라즈마표시장치(Plasma Display Panel device), 전계발광표시장치(Electro Luminescent Display device), 유기발광다이오드표시장치(Organic Light-Emitting Diode Display device) 등이 연구되고 있다.Recently, as the information society has developed, demands for the display field have been presented in various forms. For example, liquid crystal display devices, plasma display panel devices, electroluminescent display devices, and organic light-emitting diode display devices with features such as thinness, weight reduction, and low power consumption are being studied.

상기 화상 표시 장치를 스크래치, 낙하 충격, 외부 습기, 유분 등과 같은 외부 환경으로부터 보호하기 위해 디스플레이 패널 상에, 예를 들면 강화 유리 재질의 윈도우 필름을 형성할 수 있다. 그러나, 상기 윈도우 필름은 강화 유리의 특성 상 디스플레이 패널 또는 화상 표시 장치의 경량화에 불리하며, 외부 충격에 쉽게 깨지기 쉽다. 또한, 구부리거나(bendable) 접을 수 있는(foldable) 기능을 통한 플렉시블(flexible) 특성 구현에 한계가 있다.In order to protect the above-mentioned image display device from external environments such as scratches, impacts from falling, external moisture, oil, etc., a window film made of, for example, tempered glass may be formed on the display panel. However, the window film is disadvantageous in reducing the weight of the display panel or image display device due to the characteristics of tempered glass, and is easily broken by external impact. In addition, there is a limit to implementing flexible characteristics through bendable or foldable functions.

또한, 고분자 필름을 윈도우 필름으로 사용하는 경우, 고분자 필름의 높은 굴절률 및 낮은 반사 방지 특성에 의하여 화상 표시 장치의 이미지 품질이 저하될 수 있다. 이 경우, 윈도우 필름의 표면에서 발생하는 외부 광의 반사를 방지할 수 없어 화상 표시 장치의 야외 시인성이 저하될 수 있다.In addition, when a polymer film is used as a window film, the image quality of the image display device may deteriorate due to the high refractive index and low anti-reflection properties of the polymer film. In this case, the reflection of external light occurring on the surface of the window film cannot be prevented, so the outdoor visibility of the image display device may deteriorate.

따라서, 최근에는 유연성 및 내충격성을 확보할 수 있으며, 우수한 광학 특성을 가져 상기 강화 유리 재질의 윈도우 필름을 대체할 수 있는, 광학용 플라스틱 또는 수지 재질의 윈도우 필름에 대한 연구가 진행되고 있다.Accordingly, research is being conducted recently on window films made of optical plastic or resin materials that can secure flexibility and impact resistance and have excellent optical properties and can replace window films made of the above-mentioned reinforced glass material.

한국공개특허 제10-2015-0145141호는 (메타)아크릴레이트 계열의 단량체 혼합물을 포함한 하드코팅층 형성용 조성물을 개시하고 있다.Korean Patent Publication No. 10-2015-0145141 discloses a composition for forming a hard coating layer including a mixture of (meth)acrylate series monomers.

한국공개특허 제10-2015-0145141호Korean Patent Publication No. 10-2015-0145141

본 발명의 일 과제는 저굴절률 및 저반사 특성을 가지며, 고경도를 갖는 광경화막을 형성할 수 있는 광경화성 조성물을 제공하는 것이다.One object of the present invention is to provide a photocurable composition capable of forming a photocurable film having low refractive index and low reflection characteristics and high hardness.

본 발명의 일 과제는 높은 광투과율 및 향상된 기계적 물성을 가지며, 야외 시인성이 개선된 광경화막 및 이를 포함하는 화상 표시 장치를 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide a photocurable film having high light transmittance and improved mechanical properties and improved outdoor visibility, and an image display device including the same.

예시적인 실시예들에 따른 광경화성 조성물은 불소 함유 (메타)아크릴레이트 화합물을 포함하는 광중합성 화합물, 및 용매를 포함한다. 상기 불소 함유 (메타)아크릴레이트 화합물은 불화 탄화수소기, 에스테르기 및 적어도 2개의 (메타)아크릴로일기를 가질 수 있다. A photocurable composition according to exemplary embodiments comprises a photopolymerizable compound comprising a fluorine-containing (meth)acrylate compound, and a solvent. The fluorine-containing (meth)acrylate compound may have a fluorinated hydrocarbon group, an ester group, and at least two (meth)acryloyl groups.

예를 들면, 상기 불소 함유 (메타)아크릴레이트 화합물은 적어도 2개의 (메타)아크릴로일기를 포함하는 중합성 관능기, 불화 탄화수소기, 및 상기 중합성 관능기 및 상기 불화 탄화수소기를 연결하는 에스테르기를 가질 수 있다.For example, the fluorine-containing (meth)acrylate compound may have a polymerizable functional group including at least two (meth)acryloyl groups, a fluorinated hydrocarbon group, and an ester group connecting the polymerizable functional group and the fluorinated hydrocarbon group.

예시적인 실시예들에 따르면, 상기 불화 탄화수소기는 적어도 하나의 수소 원자가 불소 원자로 치환된 탄소수 1 내지 12의 알킬기일 수 있다. 일 실시예에 있어서, 상기 불화 탄화수소기는 모든 수소 원자가 불소 원자로 치환된 탄소수 1 내지 12의 알킬기일 수 있다.According to exemplary embodiments, the fluorinated hydrocarbon group may be an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms in which at least one hydrogen atom is replaced with a fluorine atom. In one embodiment, the fluorinated hydrocarbon group may be an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms in which all hydrogen atoms are replaced with fluorine atoms.

예시적인 실시예들에 따르면, 상기 불소 함유 (메타)아크릴레이트 화합물은 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함할 수 있다.According to exemplary embodiments, the fluorine-containing (meth)acrylate compound may include a compound represented by the following chemical formula 1.

[화학식 1][Chemical Formula 1]

상기 화학식 1에서, R1은 탄소수 1 내지 10의 지방족 탄화수소기 또는 적어도 하나의 탄소 원자가 산소 원자로 치환된 탄소수 1 내지 10의 지방족 탄화수소기일 수 있다. Ay는 각각 독립적으로 하기 화학식 2로 표시되는 관능기일 수 있다.In the above chemical formula 1, R 1 may be an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms in which at least one carbon atom is substituted with an oxygen atom. Ay may each independently be a functional group represented by the following chemical formula 2.

[화학식 2][Chemical formula 2]

상기 화학식 2에서, R2는 수소 원자 또는 메틸기일 수 있으며, *은 결합손일 수 있다. In the above chemical formula 2, R 2 can be a hydrogen atom or a methyl group, and * can be a bond.

Ay는 각각 독립적으로 R1의 탄소 원자 중 적어도 하나에 연결될 수 있다. 예를 들면, 상기 화학식 2 중 *은 상기 화학식 1의 R1의 탄소 원자 중 적어도 하나에 연결될 수 있다. Ay can be independently linked to at least one of the carbon atoms of R 1 . For example, * in the above chemical formula 2 can be linked to at least one of the carbon atoms of R 1 in the above chemical formula 1.

상기 화학식 1에서, n은 1 내지 10의 정수일 수 있으며, m은 2 내지 5의 정수일 수 있다.In the above chemical formula 1, n can be an integer from 1 to 10, and m can be an integer from 2 to 5.

일부 실시예들에 있어서, 상기 불소 함유 (메타)아크릴레이트 화합물은 하기 화학식 3 내지 9로 표시되는 화합물들 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.In some embodiments, the fluorine-containing (meth)acrylate compound may include at least one of the compounds represented by the following chemical formulas 3 to 9.

[화학식 3][Chemical Formula 3]

[화학식 4][Chemical Formula 4]

[화학식 5][Chemical Formula 5]

[화학식 6][Chemical formula 6]

[화학식 7][Chemical formula 7]

[화학식 8][Chemical formula 8]

[화학식 9][Chemical formula 9]

일부 실시예들에 있어서, 상기 불소 함유 (메타)아크릴레이트 화합물의 함량은 광경화성 조성물 총 중량 중 10 내지 90중량%일 수 있다.In some embodiments, the content of the fluorine-containing (meth)acrylate compound may be 10 to 90 wt% of the total weight of the photocurable composition.

일부 실시예들에 있어서, 상기 광중합성 화합물은 불소 미함유 (메타)아크릴레이트 화합물을 더 포함할 수 있다.In some embodiments, the photopolymerizable compound may further comprise a fluorine-free (meth)acrylate compound.

예시적인 실시예들에 따르면, 상기 광경화성 조성물은 광중합 개시제 또는 무기 나노 입자를 더 포함할 수 있다.According to exemplary embodiments, the photocurable composition may further comprise a photopolymerization initiator or inorganic nanoparticles.

일부 실시예들에 있어서, 상기 무기 나노 입자는 금속 산화물을 포함하는 코어 입자를 포함할 수 있다. 일 실시예에 있어서, 상기 코어 입자의 표면의 적어도 일부에는 광중합성 관능기가 결합될 수 있다.In some embodiments, the inorganic nanoparticle may comprise a core particle comprising a metal oxide. In one embodiment, a photopolymerizable functional group may be bonded to at least a portion of a surface of the core particle.

예를 들면, 상기 광중합성 관능기는 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 비닐에테르기, 글리시딜기 및 히드록시기 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.For example, the photopolymerizable functional group may include at least one of an acryloyl group, a methacryloyl group, a vinyl ether group, a glycidyl group, and a hydroxy group.

일부 실시예들에 있어서, 상기 광경화성 조성물 총 중량 중, 상기 광중합 개시제의 함량은 0.1 내지 5중량%일 수 있으며, 상기 무기 나노 입자의 함량은 5 내지 40중량%일 수 있다.In some embodiments, the content of the photopolymerization initiator may be 0.1 to 5 wt%, and the content of the inorganic nanoparticles may be 5 to 40 wt%, of the total weight of the photocurable composition.

예시적인 실시예들에 따른 광경화막은 상술한 광경화성 조성물의 경화물을 포함할 수 있다. The photocurable film according to exemplary embodiments may include a cured product of the photocurable composition described above.

일부 실시예들에 있어서, 상기 광경화막은 기재 필름, 및 상기 기재 필름 상에 배치되며, 상기 경화물을 포함하는 하드코팅 층을 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 광경화막은 화상 표시 장치 내에서 하드 코팅 필름으로 사용될 수 있다.In some embodiments, the photocurable film may include a substrate film, and a hard coating layer disposed on the substrate film and including the cured product. For example, the photocurable film may be used as a hard coating film in an image display device.

일부 실시예들에 있어서, 상기 하드코팅 층의 굴절률은 1.5 이하일 수 있다. In some embodiments, the refractive index of the hard coating layer may be 1.5 or less.

예시적인 실시예들에 따른 화상 표시 장치는 상술한 광경화막을 포함할 수 있다.An image display device according to exemplary embodiments may include the photocurable film described above.

일부 실시예들에 있어서, 상기 화상 표시 장치는 표시 패널, 상기 표시 패널 상에 배치된 편광층, 및 상기 편광층 상에 배치되며, 상기 광경화막을 포함하는 하드코팅 필름을 포함할 수 있다.In some embodiments, the image display device may include a display panel, a polarizing layer disposed on the display panel, and a hard coating film disposed on the polarizing layer and including the photocuring film.

예시적인 실시예들에 따른 광경화성 조성물은 불화 탄화수소기 및 복수개의 (메타)아크릴로일기를 갖는 불소 함유 (메타)아크릴레이트 화합물을 포함한다. 불소 함유 (메타)아크릴레이트 화합물이 2관능 이상의 광중합성 관능기를 가짐에 따라, 광경화성 조성물의 중합 반응성이 향상될 수 있으며, 광경화막의 가교 밀도 및 경화도가 향상될 수 있다. 또한, 광경화성 조성물의 가교 네트워크 형성이 촉진되어 이로부터 형성된 경화물이 조밀한 구조를 가질 수 있으며, 광경화막이 저굴절률 및 저반사율을 가질 수 있다.According to exemplary embodiments, a photocurable composition includes a fluorine-containing (meth)acrylate compound having a fluorinated hydrocarbon group and a plurality of (meth)acryloyl groups. Since the fluorine-containing (meth)acrylate compound has a photopolymerizable functional group of two or more functional groups, the polymerization reactivity of the photocurable composition can be improved, and the crosslinking density and curing degree of a photocurable film can be improved. In addition, the formation of a crosslinking network of the photocurable composition is promoted, so that a cured product formed thereby can have a dense structure, and the photocurable film can have a low refractive index and low reflectivity.

또한, 불소 함유 (메타)아크릴레이트 화합물이 분자 구조의 말단에 불화 탄화수소기를 가짐에 따라, 광경화막의 굴절률 및 광 반사율이 낮아질 수 있다. 따라서, 상기 광경화성 조성물로부터 높은 광투과율을 갖는 광경화막이 형성될 수 있다. 일 실시예에 있어서, 상기 불화 탄화수소기는 모든 수소 원자가 불소 원자로 치환될 수 있다. 이 경우, 광경화막 내 불소 원자의 함량이 증가하여 광경화막의 광학 특성이 향상될 수 있으며, 내지문성 및 방오성이 보다 증진될 수 있다.In addition, since the fluorine-containing (meth)acrylate compound has a fluorinated hydrocarbon group at the terminal of the molecular structure, the refractive index and light reflectance of the photocurable film can be lowered. Therefore, a photocurable film having high light transmittance can be formed from the photocurable composition. In one embodiment, the fluorinated hydrocarbon group may have all hydrogen atoms substituted with fluorine atoms. In this case, the content of fluorine atoms in the photocurable film increases, so that the optical properties of the photocurable film can be improved, and the anti-fingerprint and anti-stain properties can be further enhanced.

또한, 불소 함유 (메타)아크릴레이트 화합물은 분자 구조 내에 에스테르 결합을 포함할 수 있다. 따라서, 광중합성 화합물의 유연성이 향상될 수 있으며, 광경화막이 우수한 굽힘 특성 및 굴곡 특성을 가질 수 있다.In addition, the fluorine-containing (meth)acrylate compound may include an ester bond in its molecular structure. Accordingly, the flexibility of the photopolymerizable compound may be improved, and the photocured film may have excellent bending properties and flexural properties.

예를 들면, 상기 불소 함유 (메타)아크릴레이트 화합물은 소정의 화학식으로 표시되는 화합물을 포함할 수 있다. 이 경우, 내마모성, 내찰성 등의 기계적 특성 및 고투과율 등의 광학적 특성이 우수한 광경화막이 제공될 수 있다.For example, the fluorine-containing (meth)acrylate compound may include a compound represented by a given chemical formula. In this case, a photocurable film having excellent mechanical properties such as wear resistance and abrasion resistance and optical properties such as high transmittance can be provided.

상술한 경화성 조성물로 형성된 경화물은 경도, 유연성 등의 우수한 기계적 특성 및 광 투과율 등의 우수한 광학적 특성을 가짐에 따라 화상 표시 장치 내에서 보호층 또는 코팅층으로 적용될 수 있다. 예를 들면, 플렉서블 디스플레이의 적용되어 반복적인 접힘 또는 굽힘 등의 동작에서도 향상된 기계적 내구성을 유지할 수 있으며, 외부 광의 난반사를 방지하여 야외 시인성을 개선할 수 있다.The cured product formed by the above-described curable composition has excellent mechanical properties such as hardness and flexibility and excellent optical properties such as light transmittance, and thus can be applied as a protective layer or coating layer in an image display device. For example, when applied to a flexible display, it can maintain improved mechanical durability even when repeatedly folded or bent, and can improve outdoor visibility by preventing diffuse reflection of external light.

도 1은 예시적인 실시예들에 따른 하드코팅 필름을 설명하기 위한 개략적인 단면도이다.
도 2 및 도 3은 각각 예시적인 실시예들에 따른 화상 표시 장치를 설명하기 위한 개략적인 단면도이다.
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view illustrating a hard coating film according to exemplary embodiments.
FIGS. 2 and 3 are schematic cross-sectional views each illustrating an image display device according to exemplary embodiments.

본 발명의 실시예들은 불소 함유 (메타)아크릴레이트 화합물을 포함하는 광중합성 화합물, 및 용매를 포함하는 광경화성 조성물을 제공한다. 상기 불소 함유 (메타)아크릴레이트 화합물은 불화 탄화수소기, 에스테르기, 및 적어도 2개의 (메타)아크릴로일기를 가질 수 있다.Embodiments of the present invention provide a photocurable composition comprising a photopolymerizable compound including a fluorine-containing (meth)acrylate compound, and a solvent. The fluorine-containing (meth)acrylate compound may have a fluorinated hydrocarbon group, an ester group, and at least two (meth)acryloyl groups.

상기 광경화성 조성물의 경화물을 포함하는 광경화막은 우수한 기계적 물성 및 광학 특성을 가질 수 있으며, 화상 표시 장치의 유기막 보호층, 하드코팅 층, 오버코팅 층, 윈도우 등으로 적용될 수 있다.A photocurable film including a cured product of the above photocurable composition can have excellent mechanical properties and optical properties, and can be applied as an organic film protective layer, a hard coating layer, an overcoating layer, a window, etc. of an image display device.

이하, 본 발명을 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.

<광경화성 조성물><Photocurable composition>

예시적인 실시예들에 따른 광경화성 조성물은 불소 함유 (메타)아크릴레이트 화합물을 포함하는 광중합성 화합물을 포함할 수 있다. 본 명세서에서 사용된 용어 "(메타)아크릴레이트"는 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트를 포괄하는 의미로 사용된다. 본 명세서에서 사용된 용어 "(메타)아크릴로일기"는 아크릴로일기 또는 메타크릴로일기를 포괄하는 의미로 사용된다.The photocurable composition according to exemplary embodiments may include a photopolymerizable compound including a fluorine-containing (meth)acrylate compound. The term "(meth)acrylate" as used herein is used to encompass acrylates or methacrylates. The term "(meth)acryloyl group" as used herein is used to encompass acryloyl groups or methacryloyl groups.

예시적인 실시예들에 따르면, 상기 불소 함유 (메타)아크릴레이트 화합물은 불화 탄화수소기, 에스테르기 및 적어도 2개의 (메타)아크릴로일기를 가질 수 있다.According to exemplary embodiments, the fluorine-containing (meth)acrylate compound may have a fluorinated hydrocarbon group, an ester group, and at least two (meth)acryloyl groups.

예를 들면, 상기 불소 함유 (메타)아크릴레이트 화합물은 적어도 2개의 (메타)아크릴로일기를 포함하는 중합성 관능기, 불화 탄화수소기, 및 상기 중합성 관능기 및 상기 불화 탄화수소기를 연결하는 에스테르기를 가질 수 있다.For example, the fluorine-containing (meth)acrylate compound may have a polymerizable functional group including at least two (meth)acryloyl groups, a fluorinated hydrocarbon group, and an ester group connecting the polymerizable functional group and the fluorinated hydrocarbon group.

상기 불소 함유 (메타)아크릴레이트 화합물이 2개 이상의 (메타)아크릴로일기를 포함하는 중합성 관능기를 가짐에 따라, 광경화물이 높은 가교도 및 경화도를 가질 수 있다. 예를 들면, 상기 (메타)아크릴로일기는 광경화성 조성물에 조사된 광에 반응하여 중합 반응을 일으킬 수 있으며, 인접하는 광중합성 화합물과 가교 네트워크를 형성할 수 있다.Since the above-mentioned fluorine-containing (meth)acrylate compound has a polymerizable functional group including two or more (meth)acryloyl groups, the photocured product can have a high degree of crosslinking and curing. For example, the above-mentioned (meth)acryloyl group can cause a polymerization reaction in response to light irradiated to the photocurable composition, and can form a crosslinking network with an adjacent photopolymerizable compound.

이 경우, 광경화성 조성물로부터 형성된 경화물이 높은 가교 밀도 및 낮은 경화 수축률을 가짐에 따라, 표면 경도가 우수할 수 있으며, 컬(curl) 및 크랙(crack)의 발생이 억제될 수 있다. 또한, 경화물이 조밀한 가교 구조를 가짐에 따라, 굴절률이 낮아질 수 있으며, 저반사 특성 및 고투과율을 갖는 광경화막이 제공될 수 있다.In this case, since the cured product formed from the photocurable composition has a high crosslinking density and a low curing shrinkage, the surface hardness can be excellent, and the occurrence of curls and cracks can be suppressed. In addition, since the cured product has a dense crosslinking structure, the refractive index can be lowered, and a photocurable film having low reflection characteristics and high transmittance can be provided.

상기 불소 함유 (메타)아크릴레이트 화합물이 불화 탄화수소기를 가짐에 따라, 이로부터 형성된 광경화막이 저반사율 및 고투과울의 광학 특성을 가질 수 있으며, 광경화막의 구조적 안정성이 우수할 수 있다. Since the above-mentioned fluorine-containing (meth)acrylate compound has a fluorinated hydrocarbon group, a photocured film formed therefrom can have optical properties of low reflectivity and high transmittance, and the structural stability of the photocured film can be excellent.

예를 들면, 불소 원자는 탄소 원자와 강한 공유 결합력을 가지고 있으며, 탄소-탄소 결합 및 탄소-수소 결합에 비해 원자 간 결합 안정성이 우수할 수 있다. 또한, 서로 인접하는 불소 원자들 간의 반발력에 의해 불화 탄화수소기가 예를 들면, 나선형의 비틀어진(twist) 구조를 가질 수 있다. 이 경우, 불화 탄화수소기의 탄소-탄소 결합이 불소 원자에 의해 둘러싸인 구조를 가질 수 있으며, 탄소 원자로 이루어진 분자의 주쇄(main chain)가 불소 원자에 의해 보호받을 수 있다. 따라서, 광경화막 내 가교된 분자가 구조적으로 안정될 수 있으며, 광경화막의 내구성 및 화학적 안정성이 향상될 수 있다.For example, fluorine atoms have a strong covalent bond with carbon atoms, and the interatomic bond stability may be superior to carbon-carbon bonds and carbon-hydrogen bonds. In addition, the fluorinated hydrocarbon group may have, for example, a helical twisted structure due to the repulsion between adjacent fluorine atoms. In this case, the carbon-carbon bond of the fluorinated hydrocarbon group may have a structure in which it is surrounded by fluorine atoms, and the main chain of the molecule composed of carbon atoms may be protected by the fluorine atoms. Therefore, the crosslinked molecule in the photocurable film may be structurally stable, and the durability and chemical stability of the photocurable film may be improved.

본 명세서에서 사용된 용어 "주쇄"란 어떠한 분자 구조 내에서 원자의 연쇄로 이루어진 가장 긴 부분을 의미할 수 있다.The term "backbone" as used herein may mean the longest portion of a chain of atoms within any molecular structure.

또한, 상기 불소 함유 (메타)아크릴레이트 화합물이 일 말단에 상기 불화 탄화수소기를 가짐에 따라, 광경화막의 경도의 저하를 방지하면서 광학 특성이 향상될 수 있다. 예를 들면, 이 경우, 상기 불소 함유 (메타)아크릴레이트 화합물이 가교되어 형성된 폴리머가 관능기로서 저굴절 특성을 갖는 불화 탄화수소기를 포함할 수 있다. 따라서, 광경화막의 광 투과율이 높아질 수 있으며, 야외광의 반사를 억제할 수 있어 예를 들면, 화상 표시 장치의 시인성을 개선할 수 있다.In addition, since the fluorine-containing (meth)acrylate compound has the fluorinated hydrocarbon group at one terminal, the optical properties can be improved while preventing the hardness of the photocured film from decreasing. For example, in this case, the polymer formed by crosslinking the fluorine-containing (meth)acrylate compound can include a fluorinated hydrocarbon group having low refractive index properties as a functional group. Accordingly, the light transmittance of the photocured film can be increased, and reflection of outdoor light can be suppressed, so that, for example, the visibility of an image display device can be improved.

또한, 상기 불화 탄화수소기에 의해 광경화막의 표면에서 불소 원자의 함량이 높아질 수 있으며, 이에 따라, 광경화막 표면의 표면 에너지가 낮아질 수 있다. 따라서, 광경화막이 높은 표면 수접촉각을 가질 수 있으며, 우수한 방오성 및 내지문성을 가질 수 있다.In addition, the content of fluorine atoms on the surface of the photocured film can be increased by the fluorinated hydrocarbon group, and accordingly, the surface energy of the surface of the photocured film can be lowered. Accordingly, the photocured film can have a high surface water contact angle and excellent antifouling and antifingerprint properties.

일부 실시예들에 있어서, 상기 불화 탄화수소기는 적어도 하나의 수소 원자가 탄소 원자로 치환된 탄소수 1 내지 12의 알킬기일 수 있다. 바람직하게는, 상기 불화 탄화수소기는 모든 수소 원자가 탄소 원자로 치환된 탄소수 1 내지 12의 알킬기일 수 있다.In some embodiments, the fluorinated hydrocarbon group may be an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms in which at least one hydrogen atom is replaced with a carbon atom. Preferably, the fluorinated hydrocarbon group may be an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms in which all hydrogen atoms are replaced with carbon atoms.

이 경우, 광경화성 조성물 내 포함되는 불소 원자의 함량이 높아질 수 있으며, 높은 농도의 불소 원자로 인하여 광경화막의 굴절률이 낮아질 수 있다. 따라서, 상기 광경화성 조성물로부터 고투과율, 저반사율 및 내지문성을 갖는 광경화막이 제공될 수 있다.In this case, the content of fluorine atoms included in the photocurable composition may increase, and the refractive index of the photocurable film may decrease due to the high concentration of fluorine atoms. Accordingly, a photocurable film having high transmittance, low reflectivity, and anti-fingerprint properties can be provided from the photocurable composition.

상기 불소 함유 (메타)아크릴레이트 화합물이 에스테르기를 가짐에 따라, 분자의 유연성이 향상될 수 있다. 예를 들면, 상기 불소 함유 (메타)아크릴레이트 화합물은 (메타)아크릴로일기 및 불화 탄화수소기가 에스테르 결합을 매개로 연결된 구조를 가질 수 있다. Since the above fluorine-containing (meth)acrylate compound has an ester group, the flexibility of the molecule can be improved. For example, the above fluorine-containing (meth)acrylate compound can have a structure in which a (meth)acryloyl group and a fluorinated hydrocarbon group are connected via an ester bond.

에스테르기에 의해 광중합성 화합물의 유연성이 향상될 수 있으며, 상기 광경화성 조성물로부터 형성된 광경화막이 우수한 굴곡 특성 및 굽힘 특성을 가질 수 있다. 따라서, 반복적인 굽힘 혹은 접힘 동작에서도 우수한 내구성 및 형상 신뢰성을 가질 수 있다.The flexibility of a photopolymerizable compound can be improved by an ester group, and a photocurable film formed from the photocurable composition can have excellent bending and flexural properties. Accordingly, it can have excellent durability and shape reliability even in repeated bending or folding operations.

예시적인 실시예들에 따르면, 상기 불소 함유 (메타)아크릴레이트 화합물은 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함할 수 있다.According to exemplary embodiments, the fluorine-containing (meth)acrylate compound may include a compound represented by the following chemical formula 1.

[화학식 1][Chemical Formula 1]

상기 화학식 1에서, R1은 탄소수 1 내지 10의 지방족 탄화수소기 또는 적어도 하나의 탄소 원자가 산소 원자로 치환된 탄소수 1 내지 10의 지방족 탄화수소기일 수 있다. 예를 들면, R1은 탄소수 1 내지 10의 m+1가의 지방족 탄화수소기 또는 적어도 하나의 탄소 원자가 산소 원자로 치환된 m+1가의 탄소수 1 내지 10의 지방족 탄화수소기일 수 있다.In the above chemical formula 1, R 1 may be an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms in which at least one carbon atom is replaced by an oxygen atom. For example, R 1 may be an m+1-valent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or an m+1-valent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms in which at least one carbon atom is replaced by an oxygen atom.

예를 들면, 상기 R1은 탄소수 1 내지 10의 직쇄의 지방족 탄화수소기, 또는 탄소수 3 내지 10의 분지쇄의 지방족 탄화수소기일 수 있다. 예를 들면, 상기 R1은 에테르 결합을 포함하는 탄소수 1 내지 10의 직쇄의 지방족 탄화수소기, 또는 에테르 결합을 포함하는 탄소수 3 내지 10의 분지쇄의 지방족 탄화수소기일 수 있다.For example, the R 1 may be a straight-chain aliphatic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, or a branched-chain aliphatic hydrocarbon group having 3 to 10 carbon atoms. For example, the R 1 may be a straight-chain aliphatic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms and containing an ether bond, or a branched-chain aliphatic hydrocarbon group having 3 to 10 carbon atoms and containing an ether bond.

상기 화학식 1에서 n은 1 내지 10의 정수일 수 있다. 상술한 바와 같이, 불소 함유 (메타)아크릴레이트 화합물이 모든 수소 원자가 불소 원자로 치환된 불화 탄화수소기를 가짐에 따라, 상기 광경화성 조성물로부터 형성된 광경화막이 저굴절률 및 고투과율의 광학 특성을 가질 수 있다.In the chemical formula 1 above, n can be an integer from 1 to 10. As described above, since the fluorine-containing (meth)acrylate compound has a fluorinated hydrocarbon group in which all hydrogen atoms are replaced with fluorine atoms, a photocurable film formed from the photocurable composition can have optical properties of low refractive index and high transmittance.

Ay는 하기 화학식 2로 표시되는 관능기일 수 있다.Ay may be a functional group represented by the following chemical formula 2.

[화학식 2][Chemical formula 2]

상기 화학식 2에서, R2는 수소 원자 또는 메틸기일 수 있으며, *은 결합손일 수 있다. In the above chemical formula 2, R 2 can be a hydrogen atom or a methyl group, and * can be a bond.

복수개의 Ay는 각각 독립적으로 R1의 탄소 원자 중 적어도 하나에 연결될 수 있다. 예를 들면, 상기 화학식 2 중 *은 상기 화학식 1의 R1의 탄소 원자 중 적어도 하나에 연결될 수 있다. A plurality of Ay can be independently linked to at least one of the carbon atoms of R 1 . For example, * in the above chemical formula 2 can be linked to at least one of the carbon atoms of R 1 in the above chemical formula 1.

상기 화학식 1에서, m은 2 내지 5의 정수일 수 있다. 상술한 바와 같이, 불소 함유 (메타)아크릴레이트 화합물이 2개 이상의 (메타)아크릴로일기를 가짐에 따라, 광경화성 조성물 내에서 가교 사이트(site)가 증가할 수 있으며, 광경화막이 높은 가교 밀도를 가질 수 있다. 따라서, 광경화막의 구조적 안정성 및 광학 특성이 우수할 수 있다.In the chemical formula 1, m can be an integer from 2 to 5. As described above, since the fluorine-containing (meth)acrylate compound has two or more (meth)acryloyl groups, the crosslinking sites in the photocurable composition can increase, and the photocurable film can have a high crosslinking density. Accordingly, the structural stability and optical properties of the photocurable film can be excellent.

일부 실시예들에 있어서, 상기 불소 함유 (메타)아크릴레이트 화합물은 하기 화학식 3 내지 9로 표시되는 화합물들 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.In some embodiments, the fluorine-containing (meth)acrylate compound may include at least one of the compounds represented by the following chemical formulas 3 to 9.

[화학식 3][Chemical Formula 3]

[화학식 4][Chemical Formula 4]

[화학식 5][Chemical Formula 5]

[화학식 6][Chemical formula 6]

[화학식 7][Chemical formula 7]

[화학식 8][Chemical formula 8]

[화학식 9][Chemical formula 9]

불소 함유 (메타)아크릴레이트 화합물이 상기 화학식 3 내지 화학식 9로 표시되는 화합물들 중 적어도 하나를 포함함에 따라, 복수개의 광중합성 관능기, 예를 들면, (메타)아크릴로일기에 의하여 높은 가교 밀도가 제공될 수 있다. 또한, 분자 구조의 말단에 위치한 불화 탄화수소기로 인하여 광경화막의 굴절률이 낮아질 수 있으며, 고투과율을 갖는 코팅층이 제공될 수 있다.Since the fluorine-containing (meth)acrylate compound includes at least one of the compounds represented by the chemical formulae 3 to 9, a high crosslinking density can be provided by a plurality of photopolymerizable functional groups, for example, a (meth)acryloyl group. In addition, due to the fluorinated hydrocarbon group located at the terminal of the molecular structure, the refractive index of the photocurable film can be lowered, and a coating layer having high transmittance can be provided.

일부 실시예들에 있어서, 상기 불소 함유 (메타)아크릴레이트 화합물의 함량은 광경화성 조성물 총 중량 중 10 내지 90중량%일 수 있으며, 바람직하게는 30 내지 80중량%일 수 있다. 상기 불소 함유 (메타)아크릴레이트 화합물의 함량이 10중량% 미만인 경우, 낮은 굴절률이 제공되지 않을 수 있으며, 광경화막의 반사율이 높아질 수 있다. 상기 불소 함유 (메타)아크릴레이트 화합물의 함량이 90중량% 초과인 경우, 광경화막의 유연성이 지나치게 증가할 수 있으며, 경도 및 내스크래치성 등과 같은 기계적 물성이 저하될 수 있다.In some embodiments, the content of the fluorine-containing (meth)acrylate compound may be 10 to 90 wt% of the total weight of the photocurable composition, and preferably 30 to 80 wt%. When the content of the fluorine-containing (meth)acrylate compound is less than 10 wt%, a low refractive index may not be provided, and the reflectivity of the photocurable film may increase. When the content of the fluorine-containing (meth)acrylate compound exceeds 90 wt%, the flexibility of the photocurable film may excessively increase, and mechanical properties such as hardness and scratch resistance may deteriorate.

일부 실시예들에 있어서, 상기 광중합성 화합물은 상기 불소 함유 (메타)아크릴레이트 화합물 외에 다른 광중합성 단량체를 더 포함할 수 있다. In some embodiments, the photopolymerizable compound may further comprise another photopolymerizable monomer in addition to the fluorine-containing (meth)acrylate compound.

예를 들면, 상기 광중합성 화합물은 분자 구조 내에 불소 원자를 함유하지 않는 불소 미함유 (메타)아크릴레이트 화합물을 더 포함할 수 있다. 이 경우, 광경화막의 가교 밀도가 높아질 수 있으며, 컬링(curilng) 발생이 억제될 수 있다. 따라서, 광경화막이 우수한 내구성, 표면 경도 및 내스크래치성을 가질 수 있다.For example, the photopolymerizable compound may further include a fluorine-free (meth)acrylate compound that does not contain a fluorine atom in its molecular structure. In this case, the crosslinking density of the photocuring film may be increased, and curling may be suppressed. Accordingly, the photocuring film may have excellent durability, surface hardness, and scratch resistance.

예를 들면, 상기 불소 미함유 (메타)아크릴레이트 화합물은 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜 타(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라(메타)아크릴레이트, (메타)아크릴릭에스테르, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 글리세롤 트리(메타)아크릴레이트, 트리스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트 트리(메타)아크릴레이트, 에틸렌클리콜디(메타)아크릴레이트, 프로필렌 글리콜(메타)아크릴레이트, 1,3-부탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,4- 부탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 디에 틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌클리콜디(메타)아크릴레이트, 디프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 비스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트디(메타)아크릴레이트, 히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 이소옥틸(메타)아크릴레이트, 이소-덱실(메타)아크릴레이트, 스테아릴(메타)아크릴레이트, 테트라히드로퍼푸릴(메타)아크릴레이트, 페녹시에틸(메타)아크릴레이트 또는 이소보네올(메타)아크릴레이트를 포함할 수 있다. 이들은 단독으로 혹은 2 이상이 조합되어 사용될 수 있다.For example, the fluorine-free (meth)acrylate compound may be dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, ditrimethylolpropane tetra(meth)acrylate, (meth)acrylic ester, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, glycerol tri(meth)acrylate, tris(2-hydroxyethyl)isocyanurate tri(meth)acrylate, ethylene glycol di(meth)acrylate, propylene glycol (meth)acrylate, 1,3-butanediol di(meth)acrylate, 1,4-butanediol di(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, It may include neopentyl glycol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, triethylene glycol di(meth)acrylate, dipropylene glycol di(meth)acrylate, bis(2-hydroxyethyl)isocyanurate di(meth)acrylate, hydroxyethyl (meth)acrylate, hydroxypropyl (meth)acrylate, hydroxybutyl (meth)acrylate, isooctyl (meth)acrylate, iso-dexyl (meth)acrylate, stearyl (meth)acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth)acrylate, phenoxyethyl (meth)acrylate or isoborneol (meth)acrylate. These may be used alone or in combination of two or more.

일부 실시예들에 있어서, 상기 불소 미함유 (메타)아크릴레이트 화합물의 함량은 상기 광경화성 조성물 총 중량 중 5 내지 70중량%일 수 있다. 상기 범위 내에서 광경화막의 광학적 특성을 저하시키지 않으면서 경도 및 내스크래치성이 우수할 수 있다.In some embodiments, the content of the fluorine-free (meth)acrylate compound may be 5 to 70 wt% of the total weight of the photocurable composition. Within this range, the hardness and scratch resistance of the photocurable film may be excellent without deteriorating the optical properties.

일 실시예에 있어서, 상기 광중합성 화합물이 상기 불소 함유 (메타)아크릴레이트 화합물 외에 다른 광중합성 단량체, 예를 들면 불소 미함유 (메타)아크릴레이트 화합물을 더 포함하는 경우, 상기 불소 함유 (메타)아크릴레이트 화합물의 함량은 광중합성 화합물 총 중량 중 30중량% 이상일 수 있으며, 바람직하게는 50중량% 이상, 더욱 바람직하게는 80중량% 이상일 수 있다. 예를 들면, 상기 불소 함유 (메타)아크릴레이트 화합물의 함량은 광중합성 화합물 총 중량 중 50 내지 95중량%일 수 있다. In one embodiment, when the photopolymerizable compound further includes another photopolymerizable monomer, for example, a fluorine-free (meth)acrylate compound, in addition to the fluorine-containing (meth)acrylate compound, the content of the fluorine-containing (meth)acrylate compound may be 30 wt% or more of the total weight of the photopolymerizable compound, preferably 50 wt% or more, and more preferably 80 wt% or more. For example, the content of the fluorine-containing (meth)acrylate compound may be 50 to 95 wt% of the total weight of the photopolymerizable compound.

상기 범위 내에서 광경화성 조성물 내에서 불소 원자의 함량이 증가하여 광경화막의 굴절률이 낮아질 수 있다. 따라서, 광경화막이 높은 광투과율을 가질 수 있으며, 광경화막의 표면에서 외부광 반사가 방지될 수 있다. Within the above range, the content of fluorine atoms in the photocurable composition may increase, thereby lowering the refractive index of the photocurable film. Accordingly, the photocurable film may have high light transmittance, and external light reflection on the surface of the photocurable film may be prevented.

예시적인 실시예들에 따르면, 상기 광경화성 조성물은 광중합 개시제를 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 광중합 개시제는 분자 구조 내에 광활성 그룹을 가지고 있으며, 광에 반응하여 활성을 나타내어 광경화성 조성물의 중합 반응을 개시할 수 있다.According to exemplary embodiments, the photocurable composition may include a photopolymerization initiator. For example, the photopolymerization initiator has a photoactive group in its molecular structure and can exhibit activity in response to light to initiate a polymerization reaction of the photocurable composition.

일부 실시예들에 있어서, 상기 광중합 개시제는 아세토페논계, 벤조페논계, 트리아진계, 티오크산톤계, 옥심계, 벤조인계, 안트라센계, 안트라퀴논계, 포스핀옥사이드계 및 비이미다졸계 화합물 등을 포함할 수 있다. 이들은 단독으로 혹은 2 이상이 조합되어 사용될 수 있다. In some embodiments, the photopolymerization initiator may include acetophenone-based, benzophenone-based, triazine-based, thioxanthone-based, oxime-based, benzoin-based, anthracene-based, anthraquinone-based, phosphine oxide-based, and biimidazole-based compounds. These may be used alone or in combination of two or more.

예를 들면, 상기 광중합 개시제로서 2-메틸-1-(4-메틸설파닐-페닐)-2-몰포린-4-일-프로판-1-온, 1-[4-(2-히드록시-에틸설파닐)-페닐]-2-메틸-2-몰포린-4-일-프로판-1-온, 2-메틸-2-몰포린-4-일-1-(4-펜틸설파닐-페닐)-프로판-1-온, 2-메틸-2-몰포린-4-일-1-(4-페닐설파닐-페닐)-프로판-1-온, 1-(4-에틸설파닐페닐)-2-메틸-2-몰포린-4-일-프로판-1-온, 2-에틸-1-(4-메틸설파닐-페닐)-2-몰포린-4-일-헥산-1-온, 2-메틸-2-몰포린-4-일-1-(4-p-토일설파닐-페닐)-프로판-1-온 및 1-(4-시클로헥실설파닐-페닐)-2-메틸-2-몰포린-4-일-프로판-1-온, 디페닐케톤 벤질디메틸케탈, 디메톡시-2-페닐아테토페논, 트리페닐아민, 벤조페논, 벤조일 안식향산, 벤조일 안식향산 메틸, 4-페닐 벤조페논, 히드록시 벤조페논, 4,4'-비스(디메틸 아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸 아미노)벤조페논, 포스핀옥사이드 페닐비스(2,4,5-트리메틸벤조일) 또는 다이페닐(2,4,6-트리메틸벤조일)포스핀 옥사이드 등을 들 수 있다.For example, as the photopolymerization initiator, 2-methyl-1-(4-methylsulfanyl-phenyl)-2-morpholin-4-yl-propan-1-one, 1-[4-(2-hydroxy-ethylsulfanyl)-phenyl]-2-methyl-2-morpholin-4-yl-propan-1-one, 2-methyl-2-morpholin-4-yl-1-(4-pentylsulfanyl-phenyl)-propan-1-one, 2-methyl-2-morpholin-4-yl-1-(4-phenylsulfanyl-phenyl)-propan-1-one, 1-(4-ethylsulfanylphenyl)-2-methyl-2-morpholin-4-yl-propan-1-one, 2-ethyl-1-(4-methylsulfanyl-phenyl)-2-morpholin-4-yl-hexan-1-one, Examples thereof include 2-methyl-2-morpholin-4-yl-1-(4-p-toylsulfanyl-phenyl)-propan-1-one and 1-(4-cyclohexylsulfanyl-phenyl)-2-methyl-2-morpholin-4-yl-propan-1-one, diphenyl ketone benzyldimethyl ketal, dimethoxy-2-phenylatetophenone, triphenylamine, benzophenone, benzoyl benzoate, methyl benzoyl benzoate, 4-phenyl benzophenone, hydroxy benzophenone, 4,4'-bis(dimethylamino)benzophenone, 4,4'-bis(diethylamino)benzophenone, phosphine oxide phenylbis(2,4,5-trimethylbenzoyl) or diphenyl(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphine oxide.

일부 실시예들에 있어서, 상기 광중합 개시제의 함량은 광경화성 조성물 총 중량 중 0.1 내지 5중량%일 수 있으며, 바람직하게는 1 내지 3중량%일 수 있다. 상기 광중합 개시제의 함량이 0.1중량% 미만인 경우, 광경화막의 가교도가 저하될 수 있으며, 경도 및 내마모성 등의 기계적 물성이 저하될 수 있다. 상기 광중합 개시제의 함량이 5중량% 초과인 경우, 과다 가교로 인하여 광경화막의 수축률이 높아질 수 있으며, 광경화막에 크랙, 컬 및 표면 불균일이 발생할 수 있다.In some embodiments, the content of the photopolymerization initiator may be 0.1 to 5 wt% of the total weight of the photocurable composition, and preferably 1 to 3 wt%. When the content of the photopolymerization initiator is less than 0.1 wt%, the crosslinking degree of the photocured film may be reduced, and mechanical properties such as hardness and wear resistance may be reduced. When the content of the photopolymerization initiator exceeds 5 wt%, the shrinkage rate of the photocured film may be increased due to excessive crosslinking, and cracks, curls, and surface unevenness may occur in the photocured film.

일 실시예에 있어서, 상기 광경화성 조성물의 감도를 향상시키기 위해 중합 개시 보조제가 추가적으로 포함될 수 있다. 중합 개시 보조제는 광 조사에 따른 광경화성 조성물의 중합 반응성을 높여줄 수 있으며, 광경화막의 생산성이 향상될 수 있다. 상기 중합 개시 보조제의 예로서, 아민 화합물, 카르복실산 화합물, 티올기를 갖는 유기 황화합물 등을 들 수 있다.In one embodiment, a polymerization initiation aid may be additionally included to improve the sensitivity of the photocurable composition. The polymerization initiation aid may increase the polymerization reactivity of the photocurable composition upon light irradiation, and the productivity of the photocured film may be improved. Examples of the polymerization initiation aid include amine compounds, carboxylic acid compounds, and organic sulfur compounds having a thiol group.

예시적인 실시예들에 따르면, 상기 광경화성 조성물은 무기 나노 입자를 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 무기 나노 입자는 광경화막의 굴절률을 낮춰줄 수 있으며, 내마모성 및 표면 경도를 향상시킬 수 있다. According to exemplary embodiments, the photocurable composition may include inorganic nanoparticles. For example, the inorganic nanoparticles may lower the refractive index of the photocurable film and improve wear resistance and surface hardness.

일부 실시예들에 있어서, 상기 무기 나노 입자는 금속 산화물을 포함하는 코어 입자를 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 금속 산화물은 Al2O3, SiO2, ZnO, ZrO2, BaTiO3, TiO2, Ta2O5, Ti3O5, ITO, IZO, ATO, ZnO-Al, Nb2O3, SnO 또는 MgO 등을 포함할 수 있다.In some embodiments, the inorganic nanoparticle may comprise a core particle comprising a metal oxide. For example, the metal oxide may include Al 2 O 3 , SiO 2 , ZnO, ZrO 2 , BaTiO 3 , TiO 2 , Ta 2 O 5 , Ti 3 O 5 , ITO, IZO, ATO, ZnO-Al, Nb 2 O 3 , SnO, or MgO.

상기 무기 나노 입자가 상술한 금속 산화물을 포함함에 따라, 광경화막 내에 조사된 광의 굴절률이 낮아질 수 있으며, 광경화막이 저반사 특성 및 고투과율을 가질 수 있다. 또한, 금속 산화물을 포함하는 코어 입자에 의해 경화 수축률이 낮아질 수 있으며, 광경화막의 표면 균일도가 우수하며, 컬 발생이 억제될 수 있다.Since the above-described inorganic nanoparticles include the above-described metal oxide, the refractive index of light irradiated into the photocuring film can be lowered, and the photocuring film can have low reflection characteristics and high transmittance. In addition, the curing shrinkage rate can be lowered by the core particles including the metal oxide, the surface uniformity of the photocuring film can be excellent, and curling can be suppressed.

일부 실시예들에 있어서, 상기 무기 나노 입자는 상기 코어 입자의 표면의 적어도 일부에 결합된 광중합성 관능기를 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 무기 나노 입자는 상기 광중합성 관능기에 의해 인접하는 광중합성 화합물 또는 다른 무기 나노 입자와 가교 네트워크를 형성할 수 있다. 이 경우, 광경화성 조성물의 가교 밀도의 저하를 방지할 수 있으며, 저굴절률, 높은 광투과도 및 경도를 갖는 광경화막이 제공될 수 있다.In some embodiments, the inorganic nanoparticle may include a photopolymerizable functional group bonded to at least a portion of the surface of the core particle. For example, the inorganic nanoparticle may form a crosslinking network with an adjacent photopolymerizable compound or other inorganic nanoparticle by the photopolymerizable functional group. In this case, a decrease in the crosslinking density of the photocurable composition may be prevented, and a photocurable film having a low refractive index, high light transmittance, and hardness may be provided.

일 실시예에 있어서, 상기 광중합성 관능기는 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 비닐에테르기, 글리시딜기 및 히드록시기 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. In one embodiment, the photopolymerizable functional group may include at least one of an acryloyl group, a methacryloyl group, a vinyl ether group, a glycidyl group, and a hydroxy group.

일부 실시예들에 있어서, 상기 무기 나노 입자의 평균 입경은 1 내지 100nm일 수 있으며, 바람직하게는 10 내지 50nm일 수 있다. 예를 들면, 상기 평균 입경은 무기 나노 입자의 체적 분포 곡선에 있어서 체적분율 50%에서의 입장의 최장 직경을 의미할 수 있다.In some embodiments, the average particle diameter of the inorganic nanoparticles may be 1 to 100 nm, and preferably 10 to 50 nm. For example, the average particle diameter may mean the longest diameter at a volume fraction of 50% in a volume distribution curve of the inorganic nanoparticles.

예를 들면, 상기 무기 나노 입자의 평균 입경이 1nm 미만인 경우, 조성물 내에서 무기 나노 입자의 응집이 발생할 수 있으며, 광경화막의 균일성 및 코팅성이 저하될 수 있다. 예를 들면, 상기 무기 나노 입자의 평균 입경이 100nm 초과인 경우, 광경화막의 굴절률이 높아질 수 있으며, 투과율이 저하될 수 있다. 또한, 무기 나노 입자가 광경화성 조성물 내에서 차지하는 체적 비율이 높아짐에 따라, 광경화막의 기계적 물성이 저하될 수 있다.For example, when the average particle diameter of the inorganic nanoparticles is less than 1 nm, agglomeration of the inorganic nanoparticles may occur within the composition, and the uniformity and coatability of the photocurable film may deteriorate. For example, when the average particle diameter of the inorganic nanoparticles is more than 100 nm, the refractive index of the photocurable film may increase and the transmittance may decrease. In addition, as the volume ratio of the inorganic nanoparticles within the photocurable composition increases, the mechanical properties of the photocurable film may deteriorate.

일부 실시예들에 있어서, 상기 무기 나노 입자의 함량은 광경화성 조성물 총 중량 중 5 내지 40중량%일 수 있으며, 바람직하게는 10 내지 30중량%일 수 있다. 상기 무기 나노 입자의 함량이 광경화성 조성물 총 중량 중 5중량% 미만인 경우, 무기 나노 입자에 의한 내마모성 또는 내스크래치성이 충분히 제공되지 않을 수 있다. 상기 무기 나노 입자의 함량이 광경화성 조성물 총 중량 중 40중량% 초과인 경우, 무기 나노 입자가 광경화성 조성물 내에서 과도하게 응집할 수 있으며, 광경화막의 내구성 및 기계적 물성이 저하될 수 있다.In some embodiments, the content of the inorganic nanoparticles may be 5 to 40 wt% of the total weight of the photocurable composition, and preferably 10 to 30 wt%. When the content of the inorganic nanoparticles is less than 5 wt% of the total weight of the photocurable composition, the wear resistance or scratch resistance may not be sufficiently provided by the inorganic nanoparticles. When the content of the inorganic nanoparticles is more than 40 wt% of the total weight of the photocurable composition, the inorganic nanoparticles may excessively aggregate within the photocurable composition, and the durability and mechanical properties of the photocurable film may deteriorate.

용매는 상술한 조성물의 성분들 혹은 후술할 첨가제들을 용해 또는 분산시킬 수 있는 화합물을 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 용매는 광경화성 조성물의 점도를 낮춰주며, 광경화막의 코팅 균일성, 밀착성 및 도포성을 향상시킬 수 있다. The solvent may include a compound capable of dissolving or dispersing the components of the composition described above or the additives described below. For example, the solvent may lower the viscosity of the photocurable composition and improve the coating uniformity, adhesion, and application properties of the photocurable film.

예를 들면, 상기 용매는 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, 메틸셀루소브, 에틸솔루소브 등의 알코올류; 메틸에틸케톤, 메틸부틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 디에틸케톤, 디프로필케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류; 헥산, 헵탄, 옥탄 등의 헥산류; 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 메시틸렌 등의 방향족 탄화수소류; 2-히드록시에틸 프로피오네이트, 2-히드록시-2-메틸에틸 프로피오네이트, 히드록시에틸 아세테이트, 메틸 2-히드록시-3-메틸부타노에이트 등의 에스테르류; 테트라히드로푸란, 피란 등의 고리형 에테르류; γ-부티로락톤 등의 고리형 에스테르류; 에틸렌글리콜모노알킬에테르류; 디에틸렌글리콜디알킬에테르류; 에틸렌글리콜알킬에테르아세테이트류; 알킬렌글리콜알킬에테르아세테이트류; 프로필렌글리콜모노알킬에테르류; 프로필렌글리콜디알킬에테르류; 프로필렌글리콜알킬에테르프로피오네이트류; 부틸디올모노알킬에테르류; 부탄디올모노알킬에테르아세테이트류; 부탄디올모노알킬에테르프로피오네이트류; 디프로필렌글리콜디메틸에테르, 디프로필렌글리콜디알킬에테르류 등을 포함할 수 있다. 이들은 단독으로 혹은 2 이상이 조합되어 사용될 수 있다. For example, the solvent may be an alcohol such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol, methylcellusob, ethylsolusob, etc.; a ketone such as methyl ethyl ketone, methyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone, diethyl ketone, dipropyl ketone, cyclohexanone, etc.; a hexane such as hexane, heptane, etc., etc.; an aromatic hydrocarbon such as benzene, toluene, xylene, etc., mesitylene, etc.; an ester such as 2-hydroxyethyl propionate, 2-hydroxy-2-methylethyl propionate, hydroxyethyl acetate, etc., methyl 2-hydroxy-3-methylbutanoate, etc.; a cyclic ether such as tetrahydrofuran, pyran, etc.; a cyclic ester such as γ-butyrolactone, etc.; an ethylene glycol monoalkyl ether, etc.; a diethylene glycol dialkyl ether, etc. It may include ethylene glycol alkyl ether acetates; alkylene glycol alkyl ether acetates; propylene glycol monoalkyl ethers; propylene glycol dialkyl ethers; propylene glycol alkyl ether propionates; butyldiol monoalkyl ethers; butanediol monoalkyl ether acetates; butanediol monoalkyl ether propionates; dipropylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol dialkyl ethers, etc. These may be used alone or in combination of two or more.

일 실시예에 있어서, 상기 용매의 함량은 광경화성 조성물 총 중량 중 5 내지 90중량%일 수 있다. 상기 용매의 함량이 5중량% 미만인 경우, 광경화성 조성물의 점도가 높아 도포성, 작업성 및 코팅성이 떨어질 수 있다. 상기 용매의 함량이 90중량% 초과인 경우, 광경화막의 가교 밀도가 저하될 수 있으며, 두께의 조절이 어려워 광경화막의 수율 및 생산성이 저하될 수 있다.In one embodiment, the content of the solvent may be 5 to 90 wt% of the total weight of the photocurable composition. When the content of the solvent is less than 5 wt%, the viscosity of the photocurable composition may be high, thereby reducing the applicability, workability, and coatability. When the content of the solvent is more than 90 wt%, the crosslinking density of the photocurable film may be reduced, and it may be difficult to control the thickness, thereby reducing the yield and productivity of the photocurable film.

예시적인 실시예들에 따른 광경화성 조성물은 필요에 따라 상기 성분들 이외에도 상기 성분들의 특성을 저해하지 않는 범위에서 당 분야에서 일반적으로 사용되는 첨가제를 더 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 광경화성 조성물은 상술한 불소 함유 (메타)아크릴레이트 화합물의 효과를 저해하지 않는 범위 내에서 레벨링제, 자외선 안정제, 계면활성제, 대전방지제, 자외선 흡수제, 광안정제, 광자극제, 연쇄 이동제, 윤활제, 응집 방지제, 안료 또는 염료 등의 착색제 등을 더 포함할 수 있다. 상기 첨가제의 함량은 광경화성 조성물 총 중량 중 0.01 내지 5중량%일 수 있다.The photocurable composition according to the exemplary embodiments may further include additives generally used in the art, in addition to the above components, as needed, within a range that does not impair the properties of the above components. For example, the photocurable composition may further include a leveling agent, an ultraviolet stabilizer, a surfactant, an antistatic agent, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, a light stimulant, a chain transfer agent, a lubricant, an anti-coagulant, a colorant such as a pigment or a dye, etc., within a range that does not impair the effect of the above-described fluorine-containing (meth)acrylate compound. The content of the additive may be 0.01 to 5 wt% of the total weight of the photocurable composition.

<광경화막><Photographic Curing Screen>

예시적인 실시예들에 따른 광경화막은 상술한 광경화성 조성물의 경화물을 포함할 수 있다. 예를 들면, 상술한 광경화성 조성물을 기재 필름 상에 도포한 후 경화시켜 광경화막을 제조할 수 있다.The photocurable film according to exemplary embodiments may include a cured product of the photocurable composition described above. For example, the photocurable composition described above may be applied onto a base film and then cured to produce a photocurable film.

일부 실시예들에 있어서, 상기 광경화막은 우수한 내마모성, 경도 및 광학 특성을 가짐으로써, 액정 표시 장치, 유기 발광 표시 장치 등의 화상 표시 장치에 유용하게 사용될 수 있다. 예를 들면, 화상 표시 장치의 기판 상 또는 하부 기재 상에 유기 보호막으로서 기능할 수 있으며, 하드코팅 층, 오버코팅 층, 윈도우 등으로서 사용될 수 있다.In some embodiments, the photocurable film has excellent wear resistance, hardness, and optical properties, and thus can be usefully used in image display devices such as liquid crystal displays and organic light emitting diode displays. For example, it can function as an organic protective film on a substrate or a lower substrate of an image display device, and can be used as a hard coating layer, an overcoating layer, a window, etc.

이하, 도면을 참고하여 본 발명의 실시예들을 보다 구체적으로 설명하도록 한다. 다만, 본 명세서에 첨부되는 다음의 도면들은 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 것이며, 전술한 발명의 내용과 함께 본 발명의 기술사상을 더욱 이해시키는 역할을 하는 것이므로, 본 발명은 그러한 도면에 기재된 사항에만 한정되어 해석되어서는 아니된다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to the drawings. However, the following drawings attached to this specification illustrate preferred embodiments of the present invention, and serve to further understand the technical idea of the present invention together with the contents of the invention described above, so the present invention should not be interpreted as being limited to matters described in such drawings.

도 1은 예시적인 실시예들에 따른 광경화막을 나타내는 개략적인 단면도이다.FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a photocurable film according to exemplary embodiments.

도 1을 참조하면, 광경화막은 기재(100), 및 기재(100) 상에 형성된 하드코팅 층(110)을 포함할 수 있다. 예를 들면, 하드코팅 층(100)은 상술한 광경화성 조성물의 경화물을 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 광경화막은 화상 표시 장치의 하드코팅 필름으로 기능할 수 있다.Referring to FIG. 1, the photocurable film may include a substrate (100) and a hard coating layer (110) formed on the substrate (100). For example, the hard coating layer (100) may include a cured product of the photocurable composition described above. For example, the photocurable film may function as a hard coating film of an image display device.

상기 기재(100)는 플렉시블 디스플레이에 적용될 수 있도록 투명 고분자 필름을 사용할 수 있다. 예를 들면, 기재는 트리아세틸 셀룰로오스, 아세틸 셀룰로오스부틸레이트, 에틸렌-아세트산비닐공중합체, 프로피오닐 셀룰오로스, 부티릴 셀룰로오스, 아세틸 프로피오닐 셀룰로오스, 폴리에스테르, 폴리스티렌, 폴리아미드, 폴리에테르이미드, 폴리아크릴, 폴리이미드, 폴리에테르술폰, 폴리술폰, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리메틸펜텐, 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴, 폴리비닐알콜, 폴리비닐아세탈, 폴리에테르케톤, 폴리에테르에테르케톤, 폴리에테르술폰, 폴리메틸메타아크릴레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리카보네이트 등의 고분자 필름을 포함할 수 있다. 이들은 단독으로 혹은 2 이상이 조합되어 사용될 수 있다. The above substrate (100) may use a transparent polymer film so that it can be applied to a flexible display. For example, the substrate may include a polymer film such as triacetyl cellulose, acetyl cellulose butyrate, ethylene-vinyl acetate copolymer, propionyl cellulose, butyryl cellulose, acetyl propionyl cellulose, polyester, polystyrene, polyamide, polyetherimide, polyacrylic, polyimide, polyethersulfone, polysulfone, polyethylene, polypropylene, polymethylpentene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polyvinyl acetal, polyether ketone, polyether ether ketone, polyether sulfone, polymethyl methacrylate, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, or polycarbonate. These may be used alone or in combination of two or more.

일 실시예들에 있어서, 하드코팅 층(110)과의 밀착력 개선을 위해 기재(100) 상에 플라즈마 처리, 코로나 처리 등의 표면 처리를 수행할 수 있다.In some embodiments, surface treatment such as plasma treatment or corona treatment may be performed on the substrate (100) to improve adhesion with the hard coating layer (110).

일부 실시예들에 있어서, 상기 하드코팅 층(110)은 상술한 광경화성 조성물을 기재(100) 상에 도포한 후, 광을 조사하여 경화시킴으로써 제조될 수 있다. 예를 들면, 상기 광경화성 조성물을 기재(100) 또는 별도의 이형 필름 상에 도포하여 코팅막을 형성한 후, 건조 및 노광 공정을 수행하여 하드코팅 층(100)을 형성할 수 있다.In some embodiments, the hard coating layer (110) may be manufactured by applying the photocurable composition described above on a substrate (100) and then curing it by irradiating it with light. For example, the photocurable composition may be applied on a substrate (100) or a separate release film to form a coating film, and then a drying and exposure process may be performed to form the hard coating layer (100).

상기 도포 방법의 예로서, 스핀 코트, 유연 도포법, 롤 도포법, 슬릿 앤드 스핀 코팅, 슬릿 코팅법, 다이코터, 에어 나이프, 리버스 롤, 스프레이 등을 들 수 있다. 이 후, 프리 베이킹(pre-baking) 공정을 수행하여 용매 등의 휘발 성분을 제거할 수 있다.Examples of the above coating method include spin coating, flexible coating, roll coating, slit and spin coating, slit coating, die coater, air knife, reverse roll, spray, etc. After this, a pre-baking process can be performed to remove volatile components such as solvents.

이 후, 상기 코팅막에 대하여 노광 공정을 수행하여 하드코팅 층(110)을 형성할 수 있다. 상기 노광 공정에 있어서, 고압 수은 램프 등과 같은 자외선 광원이 사용될 수 있다. 일 실시예에 있어서, 현상 공정이 더 수행되어 상기 광경화막을 패턴화할 수 있다.Thereafter, an exposure process may be performed on the coating film to form a hard coating layer (110). In the exposure process, an ultraviolet light source such as a high-pressure mercury lamp may be used. In one embodiment, a development process may be further performed to pattern the photocuring film.

예를 들면, 노광 공정 시 목적하는 형상을 갖는 패턴을 형성하기 위해 코팅막 상에 소정 형태의 노광 마스크를 배치할 수 있다. 예를 들면, 코팅막 중 상기 노광 마스크가 배치되지 않은 부분에 자외선이 조사될 수 있으며, 자외선이 조사된 부분, 예를 들면, 노광부에서 경화 반응이 일어날 수 있다. 상기 자외선으로는 g선(파장: 436nm), h선(파장: 405nm), i선(파장: 365nm) 등을 사용할 수 있다.For example, in order to form a pattern having a desired shape during an exposure process, an exposure mask having a predetermined shape can be placed on the coating film. For example, ultraviolet rays can be irradiated to a portion of the coating film where the exposure mask is not placed, and a curing reaction can occur in the portion irradiated with ultraviolet rays, for example, the exposed portion. As the ultraviolet rays, g-line (wavelength: 436 nm), h-line (wavelength: 405 nm), i-line (wavelength: 365 nm), etc. can be used.

일 실시예에 있어서, 상기 노광 공정 후, 현상 공정을 수행하여 목적하는 패턴을 형성할 수 있다. 예를 들면, 알칼리성 현상액을 이용하여 비노광부를 제거함으로써 경화 패턴이 형성될 수 있다. 상기 현상 공정은 액첨가법, 디핑법, 스프레이법 등을 들 수 있다. 상기 노광 공정 또는 현상 공정 후에는 포스트 베이킹(post-baking) 공정이 더 수행될 수 있다.In one embodiment, after the exposure process, a development process may be performed to form a desired pattern. For example, a cured pattern may be formed by removing an unexposed portion using an alkaline developer. The development process may include a liquid addition method, a dipping method, a spray method, etc. After the exposure process or the development process, a post-baking process may be further performed.

예시적인 실시예들에 따른 하드코팅 층(110)은 상술한 광경화성 조성물의 경화물을 포함함에 따라, 경화 공정에 의한 수축이 억제되며, 밀착력이 우수하여 컬(curl) 발생이 억제될 수 있다. 또한, 경도 및 내구성이 향상되어 고온/다습의 가혹 조건에 장시간 노출된 경우에도 황변 및 백탁 현상의 발생을 최소화할 수 있다.The hard coating layer (110) according to exemplary embodiments includes a cured product of the photocurable composition described above, so that shrinkage due to the curing process is suppressed, and the adhesion is excellent so that curling can be suppressed. In addition, since the hardness and durability are improved, the occurrence of yellowing and whitening can be minimized even when exposed to harsh conditions of high temperature and high humidity for a long time.

또한, 광중합성 화합물로서 상술한 불소 함유 (메타)아크릴레이트 화합물을 포함함으로써, 저굴절률, 높은 광투과율 및 우수한 방오성을 가질 수 있다. 따라서, 상기 광경화막은 화상 표시 장치 내에서 반사 방지 막(Anti-reflection film)으로 기능할 수 있다.In addition, by including the fluorine-containing (meth)acrylate compound described above as a photopolymerizable compound, it can have low refractive index, high light transmittance, and excellent antifouling properties. Therefore, the photocurable film can function as an anti-reflection film in an image display device.

일 실시예에 있어서, 상기 하드코팅 층(110)은 가시광 영역에서의 광투과율이 80% 이상일 수 있으며, 바람직하게는 90% 이상일 수 있다. 예를 들면, 상기 광투과율은 두께 5㎛의 하드코팅 층(110)에 대하여 BYK 가드너(Gardner) 투과도 측정기를 이용하여 측정한 것일 수 있다.In one embodiment, the hard coating layer (110) may have a light transmittance of 80% or more, and preferably 90% or more, in the visible light range. For example, the light transmittance may be measured using a BYK Gardner transmittance meter for a hard coating layer (110) having a thickness of 5 μm.

일 실시예에 있어서, 상기 하드코팅 층(110)의 굴절률은 1.5 이하일 수 있으며, 바람직하게는 1.4 이하일 수 있다. 구체적으로 상기 하드코팅 층(110)의 굴절률은 1.2 내지 1.5일 수 있다. 예를 들면, 상기 하드코팅 층(110)의 굴절률은 1.5 이하일 수 있다. 예를 들면, 상기 굴절률은 두께 5㎛의 하드코팅 층(110)에 대하여 리플렉토미터(reflectometer)를 이용하여 측정한 값일 수 있다.In one embodiment, the refractive index of the hard coating layer (110) may be 1.5 or less, and preferably 1.4 or less. Specifically, the refractive index of the hard coating layer (110) may be 1.2 to 1.5. For example, the refractive index of the hard coating layer (110) may be 1.5 or less. For example, the refractive index may be a value measured using a reflectometer for a hard coating layer (110) having a thickness of 5 μm.

광경화막이 상술한 낮은 굴절률을 가짐에 따라, 예를 들면, 화상 표시 장치 내에서 구조물간 계면에서의 광반사가 감소될 수 있으며, 인접하는 구조물들의 굴절률 차이에 따른 광학적 간섭이 방지될 수 있다. 따라서, 광경화막이 예를 들면, 하드코팅 층 또는 윈도우로 적용되는 경우, 우수한 투명성 및 시각 특성을 구현할 수 있다.Since the photocurable film has the low refractive index described above, for example, light reflection at the interface between structures in an image display device can be reduced, and optical interference due to the difference in refractive index of adjacent structures can be prevented. Accordingly, when the photocurable film is applied as, for example, a hard coating layer or a window, excellent transparency and visual characteristics can be realized.

일부 실시예들에 있어서, 상기 하드코팅 층(110)의 두께는 5 내지 100㎛일 수 있다. 상기 두께 범위 내에서 경화막이 우수한 경도, 내마모성 및 유연성을 가질 수 있으며, 경화 후 수축 현상 또는 컬링 현상을 방지할 수 있다. In some embodiments, the thickness of the hard coating layer (110) may be 5 to 100 μm. Within the thickness range, the cured film may have excellent hardness, wear resistance, and flexibility, and may prevent shrinkage or curling after curing.

<화상 표시 장치><Video display device>

예시적인 실시예들에 따른 화상 표시 장치는 상술한 광경화막을 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 광경화막은 화상 표시 장치의 최외각 보호층 혹은 최외면의 윈도우로 적용될 수 있다. 이 경우, 광경화막 또는 하드코팅 층이 사용자의 시인측으로 배치될 수 있다.The image display device according to the exemplary embodiments may include the photocuring film described above. For example, the photocuring film may be applied as an outermost protective layer or an outermost window of the image display device. In this case, the photocuring film or the hard coating layer may be positioned toward the user's viewing side.

본 명세서에 있어서, "시인측"은 광경화막이 화상 표시 장치에 사용될 경우, 사용자가 바라보는 방향에 인접한 면을 지칭할 수 있다. In this specification, the “viewing side” may refer to a side adjacent to the direction in which the user is looking when the photocuring film is used in an image display device.

도 2는 예시적인 실시예들에 따른 화상 표시 장치를 나타내는 개략적인 단면도이다.FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing an image display device according to exemplary embodiments.

도 2를 참조하면, 표시 패널(200), 상기 표시 패널(200) 상에 배치된 편광층(210), 및 상기 편광층(210) 상에 배치된 하드코팅 필름을 포함할 수 있다. 하드코팅 필름은 하드코팅층(230)이 사용자의 시인 측을 향하도록 배치될 수 있으며, 디스플레이 윈도우로 기능할 수 있다.Referring to FIG. 2, it may include a display panel (200), a polarizing layer (210) disposed on the display panel (200), and a hard coating film disposed on the polarizing layer (210). The hard coating film may be disposed such that the hard coating layer (230) faces the user's viewing side, and may function as a display window.

상기 하드코팅 필름은 표면 경도, 유연성 및 광학적 특성이 우수하며, 유리에 비해 가볍고 내충격성이 우수하므로, 화상 표시 장치에 적용되어 광 투과율 및 이미지 품질의 저하 없이 우수한 내마모성 및 굽힘 특성을 확보할 수 있다.The above hard coating film has excellent surface hardness, flexibility and optical properties, is lighter than glass and has excellent impact resistance, so it can be applied to a display device to secure excellent wear resistance and bending properties without deterioration of light transmittance and image quality.

일 실시예들에 있어서, 상기 하드코팅 층(230)은 상술한 광경화성 조성물을 편광층(210) 상에 직접 도포 및 경화되어 형성될 수 있다.In some embodiments, the hard coating layer (230) may be formed by directly applying and curing the photocurable composition described above on the polarizing layer (210).

상기 편광층(210)은 폴리비닐알코올계 편광자 또는 상기 편광자의 적어도 일면에 부착된 보호필름을 포함하는 편광판을 포함할 수 있다. 또는, 편광층(210)은 액정 화합물을 포함하는 액정층을 포함하며, 상기 액정층에 배향성을 부여하기 위한 배향층을 포함할 수도 있다. The polarizing layer (210) may include a polyvinyl alcohol-based polarizer or a polarizing plate including a protective film attached to at least one surface of the polarizer. Alternatively, the polarizing layer (210) may include a liquid crystal layer including a liquid crystal compound, and may include an alignment layer for imparting alignment to the liquid crystal layer.

상기 편광층 상에는 적어도 하나의 위상차 필름이 형성될 수도 있다. At least one phase difference film may be formed on the polarizing layer.

도 3은 예시적인 실시예들에 따른 화상 표시 장치를 나타내는 개략적인 단면도이다.FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing an image display device according to exemplary embodiments.

도 3을 참조하면, 상기 화상 표시 장치는 표시 패널(200), 상기 표시 패널(200) 상에 배치된 위상차 필름, 상기 위상차 필름 상에 배치된 편광층(210), 상기 편광층(210) 상에 배치된 하드코팅 필름을 포함할 수 있다.Referring to FIG. 3, the image display device may include a display panel (200), a phase difference film disposed on the display panel (200), a polarizing layer (210) disposed on the phase difference film, and a hard coating film disposed on the polarizing layer (210).

예를 들면, 상기 위상차 필름은 이분파장(λ/2) 위상차 층(214)을 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 위상차 필름은 사분파장 위상차(λ/4) 층(212) 및 이분파장 위상차 층(214)의 복층 구조를 가질 수 있다. 이 경우, 사분파장 위상차 층(212) 및 사분파장 위상차 층(214)은 표시 패널(200)로부터 순차적으로 적층될 수 있다. 상기 사분파장 위상차 필름(212) 및 상기 이분파장 위상차 필름(214)이 함께 사용될 경우, 가시광 전 영역에 걸쳐 실질적으로 위상 지연 효과가 구현되어 빛샘 등의 현상이 개선될 수 있다. For example, the phase difference film may include a half-wave (λ/2) phase difference layer (214). For example, the phase difference film may have a multi-layer structure of a quarter-wave (λ/4) layer (212) and a half-wave phase difference layer (214). In this case, the quarter-wave phase difference layer (212) and the quarter-wave phase difference layer (214) may be sequentially laminated from the display panel (200). When the quarter-wave phase difference film (212) and the half-wave phase difference film (214) are used together, a phase delay effect can be substantially implemented over the entire visible light region, so that phenomena such as light leakage can be improved.

예를 들면, 상기 화상 표시 장치는 표시 패널(200), 상기 표시 패널(200) 상에 배치되는 사분파장 위상차 층(212), 상기 사분파장 위상차 층(214) 상에 배치되는 이분파장 위상차 층(214), 상기 이분파장 위상차 층(214) 상에 배치되는 편광층(210) 및 상기 편광층(210) 상에 배치되는 하드코팅 필름을 포함할 수 있다.For example, the image display device may include a display panel (200), a quarter-wave phase difference layer (212) disposed on the display panel (200), a dihedral phase difference layer (214) disposed on the quarter-wave phase difference layer (214), a polarizing layer (210) disposed on the half-wave phase difference layer (214), and a hard coating film disposed on the polarizing layer (210).

상기 표시 패널(200)은 액정 표시 소자 또는 유기 발광 다이오드(OLED) 소자를 포함할 수 있으며, 평판 디스플레이, 플렉서블 디스플레이 또는 폴더블 디스플레이로서 이용될 수 있다. 예를 들면, 표시 패널(200)은 패널 기판 상에 배치된 화소 전극, 화소 정의막, 표시층, 대향 전극 및 인캡슐레이션 층을 포함할 수 있다.The display panel (200) may include a liquid crystal display element or an organic light emitting diode (OLED) element, and may be used as a flat panel display, a flexible display, or a foldable display. For example, the display panel (200) may include a pixel electrode, a pixel defining film, a display layer, a counter electrode, and an encapsulation layer arranged on a panel substrate.

상기 화상 표시 장치는 액정 표시 장치, 전계 발광 표시 장치, 플라스마 표시 장치, 전계 방출 표시 장치 등의 각종 화상 표시 장치를 포함할 수 있으며, 예를 들면, 유연성 및 굽힘 특성을 보유한 플렉시블 디스플레이 장치 또는 폴더블 디스플레이 장치일 수 있다.The above image display device may include various image display devices such as a liquid crystal display device, an electroluminescent display device, a plasma display device, a field emission display device, and the like, and may be, for example, a flexible display device or a foldable display device having flexibility and bending characteristics.

이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 구체적인 실시예들 및 비교예들을 포함하는 실험예를 제시하나, 이는 본 발명을 예시하는 것일 뿐 첨부된 특허청구범위를 제한하는 것이 아니며, 본 발명의 범주 및 기술사상 범위 내에서 실시예에 대한 다양한 변경 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속하는 것도 당연한 것이다.Hereinafter, in order to help understanding of the present invention, experimental examples including specific examples and comparative examples are presented; however, these are only illustrative of the present invention and do not limit the scope of the appended claims. It will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications to the examples are possible within the scope and technical idea of the present invention, and it is natural that such changes and modifications fall within the scope of the appended claims.

합성예: (메타)아크릴레이트 화합물Synthetic example: (meth)acrylate compound

합성예 1: A-1Synthesis Example 1: A-1

환류기가 장착된 플라스크에 펜타에리스리톨 트리아크릴레이트 73g(0.25mol), 다이아이소프로필 에틸 아민 80g(0.61mol) 및 다이클로로메테인 250mL를 첨가한 후 혼합하였다. 3,3,3-트리플루오로프로파노일 클로라이드(3,3,3-trifluoropropionyl chloride) 30g(0.2mol)를 다이클로로메테인 50mL에 용해한 후 플라스크에 천천히 투입하였다. 이 후, 상온에서 5시간 동안 교반하여 반응시켰다. 반응이 종결되면 증류수 300mL를 투입하여 유기층을 추출하고, 추출된 유기층에 무수 황산 마그네슘 10g을 넣고 수분을 제거하였다. 필터 여과하여 유기층 내 고체를 제거하고 모아진 유기층을 감압 농축하였다. 정제는 실리카겔 컬럼 크로마토그래피를 사용하였다(다이클로로메테인/헥세인, 기울기 용리 0~50% 다이클로로메테인]. 이에 따라, 하기 화학식 3으로 표시되는 (메타)아크릴레이트 화합물 20g을 수득하였다.In a flask equipped with a reflux device, 73 g (0.25 mol) of pentaerythritol triacrylate, 80 g (0.61 mol) of diisopropyl ethyl amine, and 250 mL of dichloromethane were added and mixed. 30 g (0.2 mol) of 3,3,3-trifluoropropanoyl chloride was dissolved in 50 mL of dichloromethane, and then slowly added to the flask. After this, the mixture was stirred and reacted at room temperature for 5 hours. When the reaction was complete, 300 mL of distilled water was added to extract the organic layer, and 10 g of anhydrous magnesium sulfate was added to the extracted organic layer to remove moisture. The solid in the organic layer was removed by filtering, and the collected organic layer was concentrated under reduced pressure. Purification was performed using silica gel column chromatography (dichloromethane/hexane, gradient elution 0-50% dichloromethane]. Accordingly, 20 g of a (meth)acrylate compound represented by the following chemical formula 3 was obtained.

[화학식 3][Chemical Formula 3]

상기 얻어진 화학식 3의 화합물에 대하여 NMR 분석을 실시하였으며, 이에 따라 측정된 NMR data는 아래와 같다.NMR analysis was performed on the compound of chemical formula 3 obtained above, and the NMR data measured thereby are as follows.

1H-NMR (400 MHz, CDCl3): δ= 2.77 (2H, m), 3.94 (2H, m), 4.01 (6H, m), 5.83 (3H, dd, J = 16 Hz), 6.12 (3H, dd, J = 16 Hz), 6.41(3H, dd, J = 16 Hz). 1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ): δ= 2.77 (2H, m), 3.94 (2H, m), 4.01 (6H, m), 5.83 (3H, dd, J = 16 Hz), 6.12 (3H) , dd, J = 16 Hz), 6.41(3H, dd, J = 16 Hz).

LRMS (ESI): [M + H]+ 409.33.LRMS (ESI): [M + H]+ 409.33.

합성예 2: A-2Synthesis Example 2: A-2

반응 단량체로서 3,3,3-트리플루오로프로파노일 클로라이드 대신 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-트리데카플루오로옥타노일 클로라이드 (3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluorooctanoyl chloride) 40g(0.1mol)을 사용한 것을 제외하고는 합성예 1과 동일한 방법으로 합성을 진행하였다. 이에 따라, 하기 화학식 5로 표시되는 (메타)아크릴레이트 화합물(A-2) 23g을 수득하였다.The synthesis was carried out in the same manner as in Synthesis Example 1, except that 40 g (0.1 mol) of 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluorooctanoyl chloride was used instead of 3,3,3-trifluoropropanoyl chloride as a reaction monomer. Accordingly, 23 g of a (meth)acrylate compound (A-2) represented by the following chemical formula 5 was obtained.

[화학식 5][Chemical Formula 5]

상기 얻어진 화학식 5의 화합물에 대하여 NMR 분석을 실시하였으며, 이에 따라 측정된 NMR data는 아래와 같다.NMR analysis was performed on the compound of chemical formula 5 obtained above, and the NMR data measured accordingly are as follows.

1H-NMR (400 MHz, CDCl3): δ= 2.58 (2H, m), 3.93 (2H, m), 4.03 (6H, m), 5.85 (3H, dd, J = 16 Hz), 6.15 (3H, dd, J = 16 Hz), 6.43(3H, dd, J = 16 Hz). 1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ): δ= 2.58 (2H, m), 3.93 (2H, m), 4.03 (6H, m), 5.85 (3H, dd, J = 16 Hz), 6.15 (3H) , dd, J = 16 Hz), 6.43(3H, dd, J = 16 Hz).

LRMS (ESI): [M + H]+ 659.09.LRMS (ESI): [M + H]+ 659.09.

합성예 3: A-3Synthesis Example 3: A-3

반응 단량체로서 펜타에리스리톨 트리아크릴레이트 대신 2-히드록시프로판-1,3-디일 디아크릴레이트(2-hydroxypropane-1,3-diyl diacrylate) 19g(0.1mol)을 사용하고, 3,3,3-트리플루오로프로파노일 클로라이드 대신 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-트리데카플루오로옥타노일 클로라이드 (3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluorooctanoyl chloride) 30g(0.08 mol)을 사용한 것을 제외하고는 합성예 1과 동일한 방법으로 합성을 진행하였다. 이에 따라, 하기 화학식 6으로 표시되는 (메타)아크릴레이트 화합물(A-3) 21g을 수득하였다.Except that 19 g (0.1 mol) of 2-hydroxypropane-1,3-diyl diacrylate was used instead of pentaerythritol triacrylate as a reaction monomer, and 30 g (0.08 mol) of 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluorooctanoyl chloride was used instead of 3,3,3-trifluoropropanoyl chloride, the synthesis was carried out using the same method as in Synthesis Example 1. Accordingly, 21 g of a (meth)acrylate compound (A-3) represented by the following chemical formula 6 was obtained.

[화학식 6][Chemical formula 6]

상기 얻어진 화학식 6의 화합물에 대하여 NMR 분석을 실시하였으며, 이에 따라 측정된 NMR data는 아래와 같다.NMR analysis was performed on the compound of chemical formula 6 obtained above, and the NMR data measured thereby are as follows.

1H-NMR (400 MHz, CDCl3): δ= 2.57 (2H, m), 4.44 (4H, m), 5.86 (1H, m), 5.87 (2H, m), 6.12 (2H, dd, J = 16 Hz), 6.41(2H, dd, J = 16 Hz). 1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ): δ= 2.57 (2H, m), 4.44 (4H, m), 5.86 (1H, m), 5.87 (2H, m), 6.12 (2H, dd, J = 16 Hz), 6.41(2H, dd, J = 16 Hz).

LRMS (ESI): [M + H]+ 561.05.LRMS (ESI): [M + H]+ 561.05.

합성예 4: A-4Synthesis Example 4: A-4

반응 단량체로서 3,3,3-트리플루오로프로파노일 클로라이드 대신 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10-헵타데카플루오로데카노일 클리라이드 (3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10-heptadecafluorodecanoyl chloride) 50g(0.1mol)을 사용한 것을 제외하고는 합성예 1과 동일한 방법으로 합성을 진행하였다. 이에 따라, 하기 화학식 8로 표시되는 (메타)아크릴레이트 화합물(A-4) 25g을 수득하였다.The synthesis was carried out in the same manner as in Synthesis Example 1, except that 50 g (0.1 mol) of 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10-heptadecafluorodecanoyl chloride was used instead of 3,3,3-trifluoropropanoyl chloride as a reaction monomer. Accordingly, 25 g of a (meth)acrylate compound (A-4) represented by the following chemical formula 8 was obtained.

[화학식 8][Chemical formula 8]

상기 얻어진 화학식 8의 화합물에 대하여 NMR 분석을 실시하였으며, 이에 따라 얻어진 NMR data는 아래와 같다.NMR analysis was performed on the compound of chemical formula 8 obtained above, and the NMR data obtained thereby are as follows.

1H-NMR (400 MHz, CDCl3): δ= 2.65 (2H, m), 4.01 (2H, m), 4.05 (6H, m), 5.85 (3H, dd, J = 16 Hz), 6.15 (3H, dd, J = 16 Hz), 6.45 (3H, dd, J = 16 Hz). 1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ): δ= 2.65 (2H, m), 4.01 (2H, m), 4.05 (6H, m), 5.85 (3H, dd, J = 16 Hz), 6.15 (3H) , dd, J = 16 Hz), 6.45 (3H, dd, J = 16 Hz).

LRMS (ESI): [M + H]+ 759.08.LRMS (ESI): [M + H]+ 759.08.

합성예 5: A-5Synthesis Example 5: A-5

반응 단량체로서 펜타에리스리톨 트리아크릴레이트 대신 2-((3-(아크릴로일옥시)-2,2-비스((아크릴로일옥시)메틸)프로필옥시)메틸)-2-(히드록시메틸)프로판-1,3-디일 디아크릴레이트(2-((3-(acryloyloxy)-2,2-bis((acryloyloxy)methyl)propoxy)methyl)-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diyl diacrylate) 66g(0.13mol)을 사용하고, 3,3,3-트리플루오로프로파노일 클로라이드 대신 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-트리데카플루오로옥타노일 클로라이드(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluorooctanoyl chloride) 40g(0.1mol)을 사용한 것을 제외하고는 합성예 1과 동일한 방법으로 합성을 진행하였다. 이에 따라, 하기 화학식 9로 표시되는 (메타)아크릴레이트 화합물(A-5) 32g을 수득하였다.Instead of pentaerythritol triacrylate as a reactive monomer, 2-((3-(acryloyloxy)-2,2-bis((acryloyloxy)methyl)propyloxy)methyl)-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diyl diacrylate (66 g, 0.13 mol) was used, and instead of 3,3,3-trifluoropropanoyl chloride, 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluorooctanoyl chloride (3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluorooctanoyl chloride) The synthesis was carried out in the same manner as in Synthesis Example 1, except that 40 g (0.1 mol) was used. Accordingly, 32 g of a (meth)acrylate compound (A-5) represented by the following chemical formula 9 was obtained.

[화학식 9][Chemical formula 9]

상기 얻어진 화학식 9의 화합물에 대하여 NMR 분석을 실시하였으며, 이에 따라 얻어진 NMR data는 아래와 같다.NMR analysis was performed on the compound of chemical formula 9 obtained above, and the NMR data obtained thereby are as follows.

1H-NMR (400 MHz, CDCl3): δ= 2.62 (2H, m), 3.85 (4H, m), 4.08 (2H, m), 4.10 (10H, m), 5.87 (5H, dd, J = 16 Hz), 6.15 (5H, dd, J = 16 Hz), 6.47 (5H, dd, J = 16 Hz). 1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ): δ= 2.62 (2H, m), 3.85 (4H, m), 4.08 (2H, m), 4.10 (10H, m), 5.87 (5H, dd, J = 16 Hz), 6.15 (5H, dd, J = 16 Hz), 6.47 (5H, dd, J = 16 Hz).

LRMS (ESI): [M + H]+ 885.17.LRMS (ESI): [M + H]+ 885.17.

실시예 및 비교예Examples and Comparative Examples

(1) 광경화성 조성물의 제조(1) Preparation of photocurable composition

하기 표 1에 기재된 성분들을 해당 함량(중량%)으로 혼합하여 광경화성 조성물을 제조하였다.A photocurable composition was prepared by mixing the components listed in Table 1 below in the corresponding contents (weight %).

구분
(중량%)
division
(weight%)
광중합성 화합물
(A)
Photopolymerizable compound
(A)
광중합 개시제
(B)
Photopolymerization initiator
(B)
무기 나노 입자
(C)
Inorganic Nanoparticles
(C)
용매
(D)
menstruum
(D)
실시예 1Example 1 40(A-1)
20(A-7)
40(A-1)
20(A-7)
55 -- 3535
실시예 2Example 2 40(A-2)
20(A-7)
40(A-2)
20(A-7)
55 -- 3535
실시예 3Example 3 40(A-3)
20(A-7)
40(A-3)
20(A-7)
55 -- 3535
실시예 4Example 4 40(A-4)
20(A-7)
40(A-4)
20(A-7)
55 -- 3535
실시예 5Example 5 40(A-5)
20(A-7)
40(A-5)
20(A-7)
55 -- 3535
실시예 6Example 6 10(A-2)
50(A-7)
10(A-2)
50(A-7)
55 -- 3535
실시예 7Example 7 30(A-2)
30(A-7)
30(A-2)
30(A-7)
55 -- 3535
실시예 8Example 8 50(A-2)
10(A-7)
50(A-2)
10(A-7)
55 -- 3535
실시예 9Example 9 40(A-2)
20(A-8)
40(A-2)
20(A-8)
55 -- 3535
실시예 10Example 10 10(A-2)
50(A-8)
10(A-2)
50(A-8)
55 -- 2525
실시예 11Example 11 40(A-2)
20(A-7)
40(A-2)
20(A-7)
55 1010 2525
실시예 12Example 12 40(A-2)
20(A-8)
40(A-2)
20(A-8)
55 1010 2525
비교예 1Comparative Example 1 40(A-6)
20(A-7)
40(A-6)
20(A-7)
55 -- 3535
비교예 2Comparative Example 2 40(A-7)
20(A-8)
40(A-7)
20(A-8)
55 -- 3535
비교예 3Comparative Example 3 60
(A-7)
60
(A-7)
55 -- 3535
비교예 4Comparative Example 4 60
(A-8)
60
(A-8)
55 -- 3535
비교예 5Comparative Example 5 40(A-6)
20(A-7)
40(A-6)
20(A-7)
55 1010 2525
비교예 6Comparative Example 6 40(A-7)
20(A-8)
40(A-7)
20(A-8)
55 1010 2525

상기 표 1에 기재된 구체적인 성분명은 아래와 같다.The specific ingredient names listed in Table 1 above are as follows.

광중합성 화합물(A)Photopolymerizable compound (A)

A-1) 상기 합성예 1로 제조된 (메타)아크릴레이트 화합물A-1) (Meth)acrylate compound manufactured by the above synthesis example 1

A-2) 상기 합성예 2로 제조된 (메타)아크릴레이트 화합물A-2) (Meth)acrylate compound manufactured by the above synthesis example 2

A-3) 상기 합성예 3으로 제조된 (메타)아크릴레이트 화합물A-3) (Meth)acrylate compound manufactured by the above synthesis example 3

A-4) 상기 합성예 4로 제조된 (메타)아크릴레이트 화합물A-4) (Meth)acrylate compound manufactured by the above synthesis example 4

A-5) 상기 합성예 5로 제조된 (메타)아크릴레이트 화합물A-5) (Meth)acrylate compound manufactured by the above synthesis example 5

A-6) 하기 화학식 10으로 표시되는 (메타)아크릴레이트 화합물A-6) (Meth)acrylate compound represented by the following chemical formula 10

[화학식 10][Chemical Formula 10]

A-7) 펜타에리트리톨 테트라아크릴레이트A-7) Pentaerythritol tetraacrylate

A-8) 테트라에틸렌글리콜 펜타에리트리톨 테트라아크릴레이트(M4004, 미원사)A-8) Tetraethylene glycol pentaerythritol tetraacrylate (M4004, Miwonsa)

광중합 개시제(B)Photopolymerization initiator (B)

2,4,6-트리메틸벤조일-디페닐-포스핀옥사이드(TPO, Ciba 제)2,4,6-Trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide (TPO, Ciba)

무기 나노 입자(C)Inorganic nanoparticles (C)

MEK-AC-2140(고형분 농도 40%, 닛산화학 제)MEK-AC-2140 (solids concentration 40%, Nissan Chemical)

용매(D)Solvent (D)

메틸에틸케톤(MEK, 대정화금 제)Methyl ethyl ketone (MEK, Daejung Chemical)

(2) 광경화막의 제조(2) Manufacturing of photocuring film

상기 제조된 실시예 및 비교예의 광경화성 조성물을 두께 80㎛의 투명기재 필름(TAC) 상에 바코팅법으로 건조하고, 두께 5㎛가 되도록 도포한 후에, 100℃에서 1분간 건조하였다. 이 후, 자외선 광원은 초고압 수은 램프(USH-250D, 우시오 덴끼(주) 제조)를 이용하여 대기 분위기하에 500mJ/cm3의 광량으로 365nm 파장의 광을 조사하여 광경화막을 제조하였다.The photocurable compositions of the above-mentioned manufactured examples and comparative examples were dried by bar coating on a transparent substrate film (TAC) having a thickness of 80 μm, applied to a thickness of 5 μm, and then dried at 100°C for 1 minute. Thereafter, an ultraviolet light source was used to irradiate light of a wavelength of 365 nm at a light amount of 500 mJ/cm 3 in an air atmosphere using an ultrahigh-pressure mercury lamp (USH-250D, manufactured by Ushio Denki Co., Ltd.) to manufacture a photocurable film.

실험예Experimental example

(1) 연필 경도 평가(1) Pencil hardness evaluation

실시예 및 비교예의 광경화막에 대하여, JIS K5600에 준거하여, 연필 경도 시험기로 500g 하중 및 45°의 각도로 연필 경도 시험을 수행하였다. 연필은 미쯔비시 제품을 사용하고 한 연필 경도 당 5회씩 실험을 수행하여 스크래치가 2개 이하로 나타난 최대 연필 경도를 해당 광경화막의 연필 경도로 나타내었다.For the photocured films of the examples and comparative examples, a pencil hardness test was performed at a load of 500 g and an angle of 45° using a pencil hardness tester in accordance with JIS K5600. A Mitsubishi product was used as the pencil, and the test was performed five times for each pencil hardness, and the maximum pencil hardness at which two or fewer scratches appeared was expressed as the pencil hardness of the corresponding photocured film.

평가 결과는 하기 표 2에 나타내었다.The evaluation results are shown in Table 2 below.

(2) 내스크래치성 평가(2) Scratch resistance evaluation

실시예 및 비교예의 광경화막에 대하여 스틸울 테스트기(WT-LCM100, 한국 프로텍 사제)를 사용하여 표면 스크래치 평가를 수행하였다. 스틸울은 #0000s 레벨을 사용하였으며, 광경화막의 상면에 대해 1kg/(2cm × 2cm)의 하중을 주어 10회 왕복 운동시켜 내스크래치성을 시험하였다. The surface scratch evaluation was performed on the photocuring films of the examples and comparative examples using a steel wool tester (WT-LCM100, Korea Protec). Steel wool of level #0000s was used, and the scratch resistance was tested by applying a load of 1 kg/(2 cm × 2 cm) to the upper surface of the photocuring film and performing 10 reciprocating movements.

평가 후 광경화막을 암실 조건에서 형광등 불빛에 비추어 표면에 생긴 긁힌 자국의 개수를 측정하였다. 평가 결과는 하기 표 2에 나타내었다.After evaluation, the photocured film was exposed to fluorescent light in a darkroom and the number of scratches on the surface was measured. The evaluation results are shown in Table 2 below.

평가 기준은 아래와 같다.The evaluation criteria are as follows.

<평가 기준><Evaluation criteria>

ⓞ: 10개 미만ⓞ: Less than 10

○: 10개 이상 및 20개 미만○: 10 or more and less than 20

△: 20 내지 40개△: 20 to 40

×: 40개 초과×: More than 40

(3) 굴절률 측정(3) Refractive index measurement

두께 100㎛의 강화 유리(EAGLE X, 코닝 제)에 상술한 실시예 및 비교예에 따른 광경화성 조성물을 도포한 후 70℃에서 1분간 건조하였다. 이 후, 초고압 수은 램프(USH-250D, 우시오 덴끼(주) 제조)를 이용하여 대기 분위기하에 500mJ/cm3의 광량으로 365nm 파장의 광을 조사하여 두께 10㎛의 광경화막을 제조하였다.The photocurable compositions according to the examples and comparative examples described above were applied to 100 ㎛ thick tempered glass (EAGLE X, Corning), and then dried at 70° C. for 1 minute. Thereafter, light having a wavelength of 365 nm was irradiated at a light dose of 500 mJ/cm 3 in an air atmosphere using an ultra-high pressure mercury lamp (USH-250D, Ushio Denki Co., Ltd.) to produce a 10 ㎛ thick photocurable film.

상기 제조된 광경화막에 대해 25℃의 온도에서 리플렉토미터(ST4000-DLX, K-MAC 제)를 이용하여 굴절률을 측정하였다. The refractive index of the photocuring film manufactured above was measured using a reflectometer (ST4000-DLX, manufactured by K-MAC) at a temperature of 25°C.

평가 결과는 하기 표 2에 나타내었다.The evaluation results are shown in Table 2 below.

(4) 수접촉각 평가(4) Water contact angle evaluation

실시예 및 비교예의 광경화막에 대하여 접촉각 측정기(DSA 100, KRUSS사 제)를 이용하여 표면의 수 접촉각을 측정하였다. 구체적으로, 실시예 및 비교예의 광경화막에 대하여 초순수로 30초간 세정한 후 질소로 건조시켰다. 이 후, 상온에서 광경화막의 표면에 초순수의 방울 1㎕를 떨어뜨려 접촉각을 측정하였다.The water contact angle of the surface of the photocured films of the examples and comparative examples was measured using a contact angle measuring device (DSA 100, manufactured by KRUSS). Specifically, the photocured films of the examples and comparative examples were washed with ultrapure water for 30 seconds and then dried with nitrogen. Thereafter, 1 ㎕ of a drop of ultrapure water was dropped on the surface of the photocured film at room temperature, and the contact angle was measured.

평가 결과는 하기 표 2에 나타내었다.The evaluation results are shown in Table 2 below.

(5) 방오성 평가(5) Evaluation of water resistance

실시예 및 비교예의 광경화막의 표면에 동일한 흑색 유성펜으로 5cm의 직선을 그린 이 후, 클린 페이퍼(clean paper)(ULTIMA Ⅱ, 한송)로 그려진 직선을 닦아서 지워지는 횟수를 통해 방오성을 평가하였다. 평가 결과는 하기 표 2에 나타내었다.A 5 cm straight line was drawn on the surface of the photocuring film of the examples and comparative examples with the same black oil-based pen, and then the stain resistance was evaluated by counting the number of times the straight line was erased by wiping it with clean paper (ULTIMA Ⅱ, Hansong). The evaluation results are shown in Table 2 below.

평가 기준은 아래와 같다.The evaluation criteria are as follows.

<평가 기준><Evaluation criteria>

○: 10번 이하의 닦는 횟수에서 지워짐○: Erased after wiping 10 times or less

△: 11 내지 20번의 닦는 횟수에서 지워짐△: Erased after 11 to 20 wipes

×: 21번 이상의 닦는 횟수에서 지워지거나 혹은 지워지지 않음×: Erased or not erased after wiping 21 or more times

구분division 연필 경도Pencil hardness 내스크래치성Scratch resistance 굴절률Refractive index 수접촉각(°)Water contact angle (°) 방오성Waterproofing 실시예 1Example 1 2H2H 1.451.45 103.5103.5 실시예 2Example 2 1H1H 1.401.40 105.3105.3 실시예 3Example 3 1H1H 1.381.38 108.7108.7 실시예 4Example 4 1H1H 1.381.38 108.9108.9 실시예 5Example 5 2H2H 1.421.42 104.5104.5 실시예 6Example 6 3H3H 1.481.48 101.1101.1 실시예 7Example 7 2H2H 1.441.44 103.7103.7 실시예 8Example 8 1H1H 1.381.38 109.1109.1 실시예 9Example 9 1H1H 1.401.40 106.5106.5 실시예 10Example 10 1H1H 1.481.48 103.2103.2 실시예 11Example 11 1H1H 1.361.36 109.3109.3 실시예 12Example 12 1H1H 1.371.37 109.1109.1 비교예 1Comparative Example 1 1B1B ХX 1.401.40 109.1109.1 비교예 2Comparative Example 2 3H3H 1.531.53 93.593.5 ХX 비교예 3Comparative Example 3 4H4H 1.521.52 94.194.1 ХX 비교예 4Comparative Example 4 2H2H 1.541.54 93.293.2 ХX 비교예 5Comparative Example 5 2B2B 1.381.38 107.1107.1 비교예 6Comparative Example 6 1H1H 1.471.47 95.595.5 ХX

예시적인 실시예들에 따른 광경화막은 전체적으로 연필 경도, 내스크래치성 및 광투과율이 우수한 것을 확인할 수 있다. 광중합성 화합물이 불화 탄화수소기를 갖는 불소 함유 (메타)아크릴레이트 화합물을 포함함으로써, 광경화막의 굴절률이 낮아질 수 있으며, 저반사 특성 및 우수한 방오성을 갖는 광경화막이 제공될 수 있다. 또한, 상기 불소 함유 (메타)아크릴레이트 화합물은 2관능 이상의 (메타)아크릴로일기를 가짐에 따라, 광경화막의 가교 밀도가 높아질 수 있으며, 표면 경도 및 내스크래치성이 우수할 수 있다.It can be confirmed that the photocuring film according to the exemplary embodiments has excellent pencil hardness, scratch resistance, and light transmittance overall. Since the photopolymerizable compound includes a fluorine-containing (meth)acrylate compound having a fluorinated hydrocarbon group, the refractive index of the photocuring film can be lowered, and a photocuring film having low reflection characteristics and excellent antifouling properties can be provided. In addition, since the fluorine-containing (meth)acrylate compound has a (meth)acryloyl group having two or more functional groups, the crosslinking density of the photocuring film can be increased, and the surface hardness and scratch resistance can be excellent.

비교예들에 따른 광경화막은 실시예들에 비해 전체적으로 경도 및 내스크래치성 등의 기계적 물성 및 투과율, 방오성 등의 광학적 특성이 열화인 것을 확인할 수 있다.It can be confirmed that the photocuring films according to the comparative examples have overall worse mechanical properties such as hardness and scratch resistance, and optical properties such as transmittance and antifouling properties compared to the examples.

광중합성 화합물로서 단관능의 불소 함유 (메타)아크릴레이트 화합물을 포함하는 비교예의 경우, 광경화막의 가교 밀도가 저하됨에 따라, 경도 및 내스크래치성이 열화인 것을 확인할 수 있다. In the case of a comparative example containing a monofunctional fluorine-containing (meth)acrylate compound as a photopolymerizable compound, it can be confirmed that the hardness and scratch resistance deteriorate as the crosslinking density of the photocured film decreases.

광중합성 화합물이 불화 탄화수소기를 포함하지 않는 비교예의 경우, 광경화막이 고굴절률을 가짐에 따라, 투과율 및 반사 방지 특성이 열화임을 확인할 수 있다. 또한, 광경화막이 낮은 수접촉각을 가지며, 방오성이 저하된 것을 확인할 수 있다.In the case of a comparative example in which the photopolymerizable compound does not contain a fluorinated hydrocarbon group, it can be confirmed that the transmittance and antireflection properties are deteriorated because the photocured film has a high refractive index. In addition, it can be confirmed that the photocured film has a low water contact angle and that the antifouling properties are reduced.

100: 기재 필름 110: 하드코팅 층
200: 표시 패널 210: 편광층
212: 이분파장 위상차 층 214: 사분파장 위상차 층
220: 기재층 230: 하드코팅 층
100: Base film 110: Hard coating layer
200: Display panel 210: Polarizing layer
212: Bi-wave phase difference layer 214: Quarter-wave phase difference layer
220: Base layer 230: Hard coating layer

Claims (16)

적어도 2개의 (메타)아크릴로일기를 포함하는 중합성 관능기, 불화 탄화수소기, 및 상기 중합성 관능기 및 상기 불화 탄화수소기를 연결하는 에스테르기를 갖는 불소 함유 (메타)아크릴레이트 화합물을 포함하는 광중합성 화합물; 및
용매를 포함하고,
상기 불소 함유 (메타)아크릴레이트 화합물은 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는, 광경화성 조성물:
[화학식 1]

(상기 화학식 1에서, R1은 탄소수 1 내지 10의 지방족 탄화수소기 또는 적어도 하나의 탄소 원자가 산소 원자로 치환된 탄소수 1 내지 10의 지방족 탄화수소기이며,
Ay는 각각 독립적으로 하기 화학식 2로 표시되는 관능기이고, R1의 탄소 원자 중 적어도 하나에 연결되며,
m은 2 내지 5의 정수이고, n은 1 내지 10의 정수임)
[화학식 2]

(상기 화학식 2에서, R2는 수소 원자 또는 메틸기이며, *은 결합손임).
A photopolymerizable compound comprising a fluorine-containing (meth)acrylate compound having a polymerizable functional group including at least two (meth)acryloyl groups, a fluorinated hydrocarbon group, and an ester group connecting the polymerizable functional group and the fluorinated hydrocarbon group; and
Containing a solvent,
The above fluorine-containing (meth)acrylate compound is a photocurable composition comprising a compound represented by the following chemical formula 1:
[Chemical Formula 1]

(In the above chemical formula 1, R 1 is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms in which at least one carbon atom is substituted with an oxygen atom,
Ay is a functional group independently represented by the following chemical formula 2 and is connected to at least one of the carbon atoms of R 1 ,
m is an integer from 2 to 5, and n is an integer from 1 to 10)
[Chemical formula 2]

(In the above chemical formula 2, R 2 is a hydrogen atom or a methyl group, and * is a bond.)
삭제delete 삭제delete 삭제delete 청구항 1에 있어서, 상기 불소 함유 (메타)아크릴레이트 화합물은 하기 화학식 3 내지 9로 표시되는 화합물들 중 적어도 하나를 포함하는, 광경화성 조성물:
[화학식 3]

[화학식 4]

[화학식 5]

[화학식 6]

[화학식 7]

[화학식 8]

[화학식 9]
.
In claim 1, the fluorine-containing (meth)acrylate compound is a photocurable composition comprising at least one of the compounds represented by the following chemical formulas 3 to 9:
[Chemical Formula 3]

[Chemical Formula 4]

[Chemical Formula 5]

[Chemical formula 6]

[Chemical formula 7]

[Chemical formula 8]

[Chemical formula 9]
.
청구항 1에 있어서, 상기 불소 함유 (메타)아크릴레이트 화합물의 함량은 광경화성 조성물 총 중량 중 10 내지 90중량%인, 광경화성 조성물.
A photocurable composition according to claim 1, wherein the content of the fluorine-containing (meth)acrylate compound is 10 to 90 wt% of the total weight of the photocurable composition.
청구항 1에 있어서, 상기 광중합성 화합물은 불소 미함유 (메타)아크릴레이트 화합물을 더 포함하는, 광경화성 조성물.
A photocurable composition according to claim 1, wherein the photopolymerizable compound further comprises a fluorine-free (meth)acrylate compound.
청구항 1에 있어서, 광중합 개시제 또는 무기 나노 입자를 더 포함하는, 광경화성 조성물.
A photocurable composition according to claim 1, further comprising a photopolymerization initiator or inorganic nanoparticles.
청구항 8에 있어서, 상기 무기 나노 입자는 금속 산화물을 포함하는 코어 입자, 및 상기 코어 입자의 표면의 적어도 일부에 결합된 광중합성 관능기를 포함하는, 광경화성 조성물.
A photocurable composition according to claim 8, wherein the inorganic nanoparticle comprises a core particle comprising a metal oxide, and a photopolymerizable functional group bonded to at least a portion of a surface of the core particle.
청구항 9에 있어서, 상기 광중합성 관능기는 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 비닐에테르기, 글리시딜기 및 히드록시기 중 적어도 하나를 포함하는, 광경화성 조성물.
A photocurable composition according to claim 9, wherein the photopolymerizable functional group comprises at least one of an acryloyl group, a methacryloyl group, a vinyl ether group, a glycidyl group, and a hydroxy group.
청구항 8에 있어서, 광경화성 조성물 총 중량 중,
상기 광중합 개시제의 함량은 0.1 내지 5중량%이고,
상기 무기 나노 입자의 함량은 5 내지 40중량%인, 광경화성 조성물.
In claim 8, among the total weight of the photocurable composition,
The content of the above photopolymerization initiator is 0.1 to 5 wt%,
A photocurable composition having a content of the above inorganic nanoparticles of 5 to 40 wt%.
청구항 1에 따른 광경화성 조성물의 경화물을 포함하는, 광경화막.
A photocurable film comprising a cured product of the photocurable composition according to claim 1.
청구항 12에 있어서,
기재 필름; 및
상기 기재 필름 상에 배치되며, 상기 경화물을 포함하는 하드코팅 층을 포함하는, 광경화막.
In claim 12,
substrate film; and
A photocurable film comprising a hard coating layer including the cured material and disposed on the above-described substrate film.
청구항 13에 있어서, 상기 하드코팅 층의 굴절률은 1.5 이하인, 광경화막.
A photocurable film according to claim 13, wherein the refractive index of the hard coating layer is 1.5 or less.
청구항 12에 따른 광경화막을 포함하는 화상 표시 장치.
An image display device comprising a photocurable film according to claim 12.
청구항 15에 있어서,
표시 패널;
상기 표시 패널 상에 배치된 편광층; 및
상기 편광층 상에 배치되며, 상기 광경화막을 포함하는 하드코팅 필름을 포함하는, 화상 표시 장치.
In claim 15,
display panel;
a polarizing layer disposed on the above display panel; and
An image display device comprising a hard coating film disposed on the polarizing layer and including the photocuring film.
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