KR102735982B1 - Organic light emitting display device - Google Patents
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Abstract
본 발명은 유기 발광 표시 장치 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 유기 발광 표시 장치는 애노드 전극의 일측 및 타측에 구비된 제1뱅크, 제1뱅크의 가장자리를 노출시키도록 구비된 제2뱅크, 및 애노드 전극의 상면과 제1뱅크의 상면에 구비된 유기발광층을 포함하고, 제1뱅크와 제2뱅크는 유기 물질로 구비된다. 또한, 본 발명에 따른 유기 발광 표시 장치의 제조방법은 애노드 전극의 일측 및 타측에 제1뱅크를 형성하고 제1뱅크의 가장자리를 노출시키도록 제1뱅크 상에 제2뱅크를 형성하는 공정을 포함하고, 노출된 제1뱅크의 상면까지 유기 발광층을 형성하는 것을 특징으로 한다. 이를 통해 뱅크를 형성하는 과정에서 애노드 전극이 손상되는 것을 방지하고, 애노드 전극의 상면에서 유기 발광층을 평탄하게 형성하여 균일한 휘도를 구현할 수 있다.The present invention relates to an organic light-emitting display device and a manufacturing method thereof. The organic light-emitting display device according to the present invention includes a first bank provided on one side and the other side of an anode electrode, a second bank provided to expose an edge of the first bank, and an organic light-emitting layer provided on an upper surface of the anode electrode and an upper surface of the first bank, wherein the first bank and the second bank are formed of an organic material. In addition, the manufacturing method of the organic light-emitting display device according to the present invention includes a process of forming a first bank on one side and the other side of an anode electrode and forming a second bank on the first bank to expose an edge of the first bank, and is characterized by forming an organic light-emitting layer up to an upper surface of the exposed first bank. Through this, the anode electrode can be prevented from being damaged during the process of forming the banks, and the organic light-emitting layer can be formed flatly on the upper surface of the anode electrode to realize uniform brightness.
Description
본 발명은 표시 장치에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 유기 발광 표시 장치 및 그의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a display device, and more specifically, to an organic light emitting display device and a method for manufacturing the same.
평판 표시장치에는 액정 표시장치(LCD: Liquid Crystal Display Device), 플라즈마 표시장치(PDP: Plasma Display Panel Device), 유기발광 표시장치(OLED: Organic Light Emitting Display Device) 등이 있으며, 최근에는 전기영동 표시장치(EPD: Electrophoretic Display Device)도 널리 이용되고 있다.Flat panel displays include liquid crystal display devices (LCDs), plasma display panel devices (PDPs), and organic light emitting display devices (OLEDs). Recently, electrophoretic display devices (EPDs) have also been widely used.
이 중에서 유기 발광 표시 장치는 자발광 소자로서, 소비전력이 낮고, 고속의 응답 속도, 높은 발광 효율, 높은 휘도 및 광시야각을 가지고 있기 때문에, 차세대 평판 표시 장치로 주목받고 있다.Among these, organic light-emitting display devices are attracting attention as next-generation flat panel display devices because they are self-luminous elements and have low power consumption, high-speed response speed, high luminance efficiency, high brightness, and wide viewing angle.
특히, 최근 들어 유기 발광 표시 장치의 제조 공정의 편의성 및 효율성을 높이기 위해서 가용성(Soluble)의 특성을 갖는 물질로 유기 발광층을 형성하는 유기 발광 표시 장치가 개발되고 있다.In particular, in order to increase the convenience and efficiency of the manufacturing process of organic light-emitting display devices, organic light-emitting display devices are being developed in which an organic light-emitting layer is formed using a material having soluble characteristics.
도 1은 종래의 가용성 유기 발광 표시 장치의 개략적인 단면도이다.Figure 1 is a schematic cross-sectional view of a conventional available organic light emitting display device.
도 1에서 알 수 있듯이, 기판(미도시) 상에는 평탄화층(1), 애노드 전극(2), 제1뱅크(3), 제2뱅크(4), 유기 발광층(5) 및 캐소드 전극(6)이 차례로 형성되어 있다.As can be seen in Fig. 1, a planarization layer (1), an anode electrode (2), a first bank (3), a second bank (4), an organic light-emitting layer (5), and a cathode electrode (6) are formed in sequence on a substrate (not shown).
상기 평탄화층(1)은 상기 기판 상에 구비되는 박막 트랜지스터층(미도시)을 평탄화하는 역할을 하고, 상기 애노드 전극(2)은 상기 평탄화층(1) 상에 형성되어 있다.The above-mentioned planarization layer (1) serves to planarize a thin film transistor layer (not shown) provided on the substrate, and the anode electrode (2) is formed on the above-mentioned planarization layer (1).
상기 제1뱅크(3) 및 제2뱅크(4)는 상기 애노드 전극(2) 상에 형성되어 화소 영역을 정의한다. 상기 제1뱅크(3) 및 제2뱅크(4)는 상기 애노드 전극(2)의 상면을 노출시키면서 상기 애노드 전극(2)의 일측 및 타측 상에 형성된다. 이 때, 상기 제1뱅크(3)는 무기 물질로 형성된다.The first bank (3) and the second bank (4) are formed on the anode electrode (2) to define a pixel area. The first bank (3) and the second bank (4) are formed on one side and the other side of the anode electrode (2) while exposing the upper surface of the anode electrode (2). At this time, the first bank (3) is formed of an inorganic material.
상기 유기 발광층(5)은 상기 제1뱅크(3) 및 제2뱅크(4)에 의해 정의된 화소 영역 내에 형성되어 있고, 상기 캐소드 전극(6)은 상기 유기 발광층(5) 상에 형성되어 있다.The above organic light-emitting layer (5) is formed within the pixel area defined by the first bank (3) and the second bank (4), and the cathode electrode (6) is formed on the organic light-emitting layer (5).
구체적으로, 가용성 유기 발광 표시 장치에서는 제조 공정의 편의성 및 효율성을 높이기 위해서 잉크젯 인쇄 방식으로 가용성의 특성을 갖는 유기 발광물질을 상기 제1뱅크(3) 및 제2뱅크(4)에 의해 정의된 화소 영역으로 분사 혹은 드랍한 후 경화시킴으로써 상기 유기 발광층(5)을 형성한다.Specifically, in the available organic light-emitting display device, in order to increase the convenience and efficiency of the manufacturing process, an organic light-emitting material having the property of availability is sprayed or dropped onto the pixel area defined by the first bank (3) and the second bank (4) using an inkjet printing method and then cured to form the organic light-emitting layer (5).
특히, 종래의 가용성 유기 발광 표시 장치는 상기 유기 발광층(5)의 파일 업(pile up) 현상을 방지할 수 있도록 상기와 같이 뱅크를 제1뱅크(3)와 제2뱅크(4)의 다중층으로 형성한다.In particular, the conventional available organic light emitting display device forms the bank as a multi-layer of the first bank (3) and the second bank (4) as described above so as to prevent the pile up phenomenon of the organic light emitting layer (5).
파일 업 현상이란, 잉크젯 인쇄 방식으로 유기 발광물질을 분사하는 경우에 이격된 뱅크들 사이의 중심부 보다 뱅크와 인접하는 가장자리에서 상기 유기 발광층(5)이 두껍게 형성되는 것을 의미한다. 이와 같이 유기 발광층(5)이 평탄하지 않게 형성될 경우 화소 영역에서 휘도 불균일이 발생하기 때문에, 종래에는 파일 업 현상을 방지하기 위해 뱅크를 다중층으로 형성하고 제1뱅크(3)의 상면에도 유기 발광물질을 분사함으로써, 상기 애노드 전극(2)의 상면에서 상기 유기 발광층(5)이 평탄하게 형성되도록 하고 있다.The pile-up phenomenon means that when spraying organic light-emitting material using an inkjet printing method, the organic light-emitting layer (5) is formed thicker at the edge adjacent to the bank than at the center between the spaced banks. When the organic light-emitting layer (5) is formed unevenly like this, brightness unevenness occurs in the pixel area. Therefore, in order to prevent the pile-up phenomenon, banks are formed in multiple layers and organic light-emitting material is sprayed on the upper surface of the first bank (3) as well, so that the organic light-emitting layer (5) is formed flat on the upper surface of the anode electrode (2).
이와 같은 종래의 가용성 유기 발광 표시 장치는 다음과 같은 문제가 있다.Conventional available organic light emitting display devices have the following problems:
전술한 바와 같이, 상기 평탄화층(1) 및 박막 트랜지스터층 등이 형성된 이후에 무기 물질의 제1뱅크(3)를 증착해야 하는데, 고온으로 CVD(Chemical Vapor Deposition)를 진행할 경우 하부에 형성된 레이어들의 성능이 저하될 수 있기 때문에 종래에는 210℃ 정도의 저온 상태에서 CVD를 진행하여 상기 제1뱅크(3)를 형성하고 있었다.As described above, after the planarization layer (1) and the thin film transistor layer, etc. are formed, the first bank (3) of the inorganic material must be deposited. However, if CVD (Chemical Vapor Deposition) is performed at a high temperature, the performance of the layers formed underneath may deteriorate, so in the past, CVD was performed at a low temperature of about 210°C to form the first bank (3).
그리고 이와 같이, 저온 상태에서 CVD를 진행함에 따라 상기 제1뱅크는(3)는 고온 상태에서 형성되었을 때에 비해서 막질 및 접착력이 저하되었고 이로 인해 완성된 제품에서 상기 제1뱅크(3)가 필링(peeling)되는 문제가 발생하고 있었다.And as the CVD was conducted in a low-temperature state, the film quality and adhesive strength of the first bank (3) were lowered compared to when it was formed in a high-temperature state, and as a result, a problem of peeling of the first bank (3) occurred in the finished product.
또한, CVD를 진행하여 상기 제1뱅크(3)를 형성하는 과정에서 건식 식각 또는 습식 식각 공정을 통해 상기 제1뱅크(3)를 패터닝해야 하기 때문에, 식각 공정에서 상기 애노드 전극(2)이 손상되는 문제가 발생하고 있었다.In addition, in the process of forming the first bank (3) by performing CVD, the first bank (3) must be patterned through a dry etching or wet etching process, so there was a problem of the anode electrode (2) being damaged during the etching process.
또한, 종래와 같이 뱅크를 다중층으로 형성함에 따라 뱅크를 단일층으로 형성하는 경우에 비해서 발광영역에서의 휘도 불균일을 어느 정도는 해소할 수 있었지만 발광영역에 형성된 유기 발광층(5)이 여전히 평탄하지 않게 형성되는 문제가 있었다.In addition, since the bank is formed in multiple layers as in the conventional method, the luminance unevenness in the light-emitting area can be resolved to some extent compared to the case where the bank is formed in a single layer, but there is still a problem that the organic light-emitting layer (5) formed in the light-emitting area is not formed flat.
본 발명은 전술한 종래의 문제점을 해결하기 위해 고안된 것으로서, 본 발명은 애노드 전극 상에 형성된 뱅크를 형성하는 과정에서 애노드 전극이 손상되는 것을 방지하고, 완성된 제품에서 뱅크의 필링을 방지할 수 있는 유기 발광 표시 장치 및 그 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been designed to solve the above-mentioned conventional problems, and an object of the present invention is to provide an organic light-emitting display device and a manufacturing method thereof capable of preventing damage to an anode electrode during the process of forming a bank formed on an anode electrode and preventing peeling of the bank in a finished product.
또한, 본 발명은 균일한 휘도를 구현할 수 있도록 애노드 전극 상에서 유기 발광층이 평탄하게 구비되는 유기 발광 표시 장치 및 그 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.In addition, the present invention aims to provide an organic light-emitting display device and a manufacturing method thereof in which an organic light-emitting layer is provided flatly on an anode electrode so as to realize uniform brightness.
상기 목적을 달성하기 위해서, 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치는 애노드 전극의 일측 및 타측에 구비된 제1뱅크, 제1뱅크의 가장자리를 노출시키도록 구비된 제2뱅크, 및 애노드 전극의 상면과 제1뱅크의 상면에 구비된 유기발광층을 포함하고, 제1뱅크와 제2뱅크는 유기 물질로 구비된다.To achieve the above object, an organic light-emitting display device according to one embodiment of the present invention includes a first bank provided on one side and the other side of an anode electrode, a second bank provided to expose an edge of the first bank, and an organic light-emitting layer provided on an upper surface of the anode electrode and an upper surface of the first bank, wherein the first bank and the second bank are provided with an organic material.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 제조방법은 애노드 전극의 일측 및 타측에 뱅크를 형성하는 공정 및 애노드 전극의 상면에 유기 발광층을 형성하는 공정을 포함하고, 뱅크를 형성하는 공정 시에 하프톤 마스크를 이용하여 애노드 전극의 일측 및 타측에 제1뱅크를 형성하고 제1뱅크의 가장자리를 노출시키도록 제1뱅크 상에 제2뱅크를 형성하고, 유기 발광층을 형성하는 공정 시에 노출된 제1뱅크의 상면까지 유기 발광층을 형성한다.In addition, a method for manufacturing an organic light-emitting display device according to an embodiment of the present invention includes a process for forming banks on one side and the other side of an anode electrode, and a process for forming an organic light-emitting layer on an upper surface of the anode electrode, and in the process for forming the banks, a first bank is formed on one side and the other side of the anode electrode using a halftone mask, and a second bank is formed on the first bank so as to expose an edge of the first bank, and in the process for forming the organic light-emitting layer, the organic light-emitting layer is formed on an upper surface of the exposed first bank.
또한, 본 발명의 다른 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 제조방법은 애노드 전극의 일측 및 타측에 유기 물질로 구비되는 제1뱅크를 형성하는 공정, 제1뱅크의 가장자리를 노출시키도록 제1뱅크 상에 유기 물질로 구비되는 제2뱅크를 형성하는 공정, 및 애노드 전극의 상면과 노출된 제1뱅크의 상면에 유기 발광층을 형성하는 공정을 포함한다.In addition, a method for manufacturing an organic light-emitting display device according to another embodiment of the present invention includes a process of forming a first bank provided with an organic material on one side and the other side of an anode electrode, a process of forming a second bank provided with an organic material on the first bank so as to expose an edge of the first bank, and a process of forming an organic light-emitting layer on an upper surface of the anode electrode and an upper surface of the exposed first bank.
이상과 같은 본 발명에 따르면 다음과 같은 효과가 있다. According to the present invention as described above, the following effects are achieved.
본 발명의 실시예에 따르면, 애노드 전극의 상면에 패터닝되는 뱅크를 유기 물질로 형성함으로써, 뱅크를 형성하는 과정에서 애노드 전극이 손상되는 것을 방지하고 뱅크의 필링을 방지할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, by forming a bank patterned on the upper surface of an anode electrode with an organic material, the anode electrode can be prevented from being damaged during the process of forming the bank, and peeling of the bank can be prevented.
또한, 본 발명의 실시예에 따르면, 단차 구조를 갖는 뱅크의 상부는 소수성 물질로 구비하고 뱅크의 하부는 친수성 물질로 구비함으로써, 애노드 전극의 상면에서 유기 발광층이 평탄하게 형성될 수 있고 균일한 휘도를 구현할 수 있다.In addition, according to an embodiment of the present invention, the upper part of the bank having a step structure is provided with a hydrophobic material and the lower part of the bank is provided with a hydrophilic material, so that an organic light-emitting layer can be formed flatly on the upper surface of the anode electrode and uniform brightness can be implemented.
또한, 본 발명의 실시예에 따르면, 제1뱅크의 가장자리를 노출시키도록 형성되는 제2뱅크의 측면이 기판의 표면에 대해 경사지게 구비함으로써, 애노드 전극의 상면에서 유기 발광층을 더욱 평탄하게 형성하여 균일한 휘도를 구현할 수 있다.In addition, according to an embodiment of the present invention, the side of the second bank formed to expose the edge of the first bank is inclined with respect to the surface of the substrate, thereby forming the organic light-emitting layer more flatly on the upper surface of the anode electrode, thereby realizing uniform brightness.
도 1은 종래의 가용성 유기 발광 표시 장치의 개략적인 단면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 단면도이다.
도 3은 도 2에 도시된 A영역을 나타낸 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 개략적인 단면도이다.
도 4는 도 2에 도시된 A 영역을 나타낸 본 발명의 다른 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 개략적인 단면도이다.
도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 개략적인 단면도이다.
도 6a 내지 도 6j는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 제조방법을 보여주는 공정 단면도이다.
도 7a 내지 도 7g는 본 발명의 다른 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 뱅크를 형성하는 제조방법을 보여주는 공정 단면도이다.Figure 1 is a schematic cross-sectional view of a conventional available organic light emitting display device.
FIG. 2 is a cross-sectional view of an organic light emitting display device according to one embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of an organic light emitting display device according to one embodiment of the present invention, showing area A illustrated in FIG. 2.
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of an organic light emitting display device according to another embodiment of the present invention, showing area A illustrated in FIG. 2.
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of an organic light emitting display device according to another embodiment of the present invention.
FIGS. 6A to 6J are process cross-sectional views showing a method for manufacturing an organic light-emitting display device according to one embodiment of the present invention.
FIGS. 7A to 7G are process cross-sectional views showing a manufacturing method for forming a bank of an organic light-emitting display device according to another embodiment of the present invention.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. The advantages and features of the present invention, and the methods for achieving them, will become clear with reference to the embodiments described in detail below together with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but may be implemented in various different forms, and these embodiments are provided only to make the disclosure of the present invention complete and to fully inform a person having ordinary skill in the art to which the present invention belongs of the scope of the invention, and the present invention is defined only by the scope of the claims.
본 발명의 실시예를 설명하기 위한 도면에 개시된 형상, 크기, 비율, 각도, 개수 등은 예시적인 것이므로 본 발명이 도시된 사항에 한정되는 것은 아니다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다. 본 명세서 상에서 언급한 '포함한다', '갖는다', '이루어진다' 등이 사용되는 경우 '~만'이 사용되지 않는 이상 다른 부분이 추가될 수 있다. 구성 요소를 단수로 표현한 경우에 특별히 명시적인 기재 사항이 없는 한 복수를 포함하는 경우를 포함한다.The shapes, sizes, ratios, angles, numbers, etc. disclosed in the drawings for explaining embodiments of the present invention are exemplary, and therefore the present invention is not limited to the matters illustrated. Like reference numerals refer to like elements throughout the specification. In addition, in describing the present invention, if it is determined that a detailed description of a related known technology may unnecessarily obscure the gist of the present invention, the detailed description will be omitted. When the terms “includes,” “has,” “consists of,” etc. are used in this specification, other parts may be added unless “only” is used. When a component is expressed in the singular, it includes a case where the plural is included unless there is a specifically explicit description.
구성 요소를 해석함에 있어서, 별도의 명시적 기재가 없더라도 오차 범위를 포함하는 것으로 해석한다.When interpreting a component, it is interpreted as including the error range even if there is no separate explicit description.
위치 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~상에', '~상부에', '~하부에', '~옆에' 등으로 두 부분의 위치 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 두 부분 사이에 하나 이상의 다른 부분이 위치할 수도 있다.When describing a positional relationship, for example, when the positional relationship between two parts is described as 'on ~', 'upper ~', 'lower ~', 'next to ~', etc., one or more other parts may be located between the two parts, unless 'right' or 'directly' is used.
시간 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~후에', '~에 이어서', '~다음에', '~전에' 등으로 시간적 선후 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 연속적이지 않은 경우도 포함할 수 있다.When describing a temporal relationship, for example, when describing a temporal relationship using phrases such as 'after', 'following', 'next to', or 'before', it can also include cases where there is no continuity, as long as 'right away' or 'directly' is not used.
제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않는다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성 요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수도 있다.Although the terms first, second, etc. are used to describe various components, these components are not limited by these terms. These terms are only used to distinguish one component from another. Accordingly, a first component referred to below may also be a second component within the technical concept of the present invention.
본 발명의 여러 실시예들의 각각 특징들이 부분적으로 또는 전체적으로 서로 결합 또는 조합 가능하고, 기술적으로 다양한 연동 및 구동이 가능하며, 각 실시예들이 서로에 대하여 독립적으로 실시 가능할 수도 있고 연관 관계로 함께 실시할 수도 있다. The individual features of the various embodiments of the present invention may be partially or wholly combined or combined with each other, and may be technically linked and driven in various ways, and each embodiment may be implemented independently of each other or may be implemented together in a related relationship.
이하, 도면을 참조로 본 발명의 바람직한 실시예에 대해서 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 단면도이다.FIG. 2 is a cross-sectional view of an organic light emitting display device according to one embodiment of the present invention.
도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치는 기판(100) 상에 박막 트랜지스터층(T), 패시베이션층(165), 평탄화층(170), 제1애노드 전극(180)과 제2애노드 전극(190), 뱅크(200), 유기 발광층(210), 및 캐소드 전극(220)이 형성되어 있다.As illustrated in FIG. 2, an organic light-emitting display device according to one embodiment of the present invention includes a thin film transistor layer (T), a passivation layer (165), a planarization layer (170), a first anode electrode (180), a second anode electrode (190), a bank (200), an organic light-emitting layer (210), and a cathode electrode (220) formed on a substrate (100).
상기 박막 트랜지스터층(T)은 액티브층(110), 게이트 절연막(120), 게이트 전극(130), 층간 절연막(140), 소스 전극(150) 및 드레인 전극(160)을 포함하여 이루어진다.The above thin film transistor layer (T) is composed of an active layer (110), a gate insulating film (120), a gate electrode (130), an interlayer insulating film (140), a source electrode (150), and a drain electrode (160).
상기 액티브층(110)은 상기 게이트 전극(130)과 중첩되도록 상기 기판(100) 상에 형성된다. 상기 액티브층(110)은 실리콘계 반도체 물질로 이루어질 수도 있고 산화물계 반도체 물질로 이루어질 수도 있다. 도시하지는 않았지만, 상기 기판(100)과 상기 액티브층(110) 사이에 차광막이 추가로 형성될 수 있으며, 이 경우 상기 기판(100)의 하면을 통해서 입사되는 외부광이 상기 차광막에 의해서 차단됨으로써 상기 액티브층(110)이 외부광에 의해서 손상되는 문제가 방지될 수 있다.The active layer (110) is formed on the substrate (100) so as to overlap the gate electrode (130). The active layer (110) may be formed of a silicon-based semiconductor material or an oxide-based semiconductor material. Although not shown, a light-shielding film may be additionally formed between the substrate (100) and the active layer (110). In this case, external light incident through the lower surface of the substrate (100) is blocked by the light-shielding film, thereby preventing the active layer (110) from being damaged by external light.
상기 게이트 절연막(120)은 상기 액티브층(110) 상에 형성된다. 상기 게이트 절연막(120)은 상기 액티브층(110)과 게이트 전극(130)을 절연시키는 기능을 수행한다. 상기 게이트 절연막(120)은 무기 절연 물질 예를 들어, 실리콘 산화막(SiOX), 실리콘 질화막(SiNX), 또는 이들의 다중막으로 이루어질 수 있으나, 반드시 그에 한정되는 것은 아니다.The gate insulating film (120) is formed on the active layer (110). The gate insulating film (120) performs a function of insulating the active layer (110) and the gate electrode (130). The gate insulating film (120) may be formed of an inorganic insulating material, for example, a silicon oxide film (SiOX), a silicon nitride film (SiNX), or a multi-film thereof, but is not necessarily limited thereto.
상기 게이트 전극(130)은 상기 게이트 절연막(120) 상에 형성된다. 상기 게이트 전극(130)은 상기 게이트 절연막(120)을 사이에 두고 상기 액티브층(110)과 중첩되도록 형성된다. 상기 게이트 전극(130)은 몰리브덴(Mo), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 금(Au), 티타늄(Ti), 니켈(Ni), 네오디뮴(Nd) 및 구리(Cu) 중 어느 하나 또는 이들의 합금으로 이루어진 단일층 또는 다중층일 수 있으나, 반드시 그에 한정되는 것은 아니다.The gate electrode (130) is formed on the gate insulating film (120). The gate electrode (130) is formed to overlap the active layer (110) with the gate insulating film (120) therebetween. The gate electrode (130) may be a single layer or multiple layers made of one or an alloy of molybdenum (Mo), aluminum (Al), chromium (Cr), gold (Au), titanium (Ti), nickel (Ni), neodymium (Nd), and copper (Cu), but is not necessarily limited thereto.
상기 층간 절연막(140)은 상기 게이트 전극(130) 상에 형성된다. 상기 층간 절연막(140)은 상기 게이트 절연막(120)과 동일한 무기 절연 물질 예를 들어, 실리콘 산화막(SiOX), 실리콘 질화막(SiNX), 또는 이들의 다중막으로 형성될 수 있지만, 반드시 그에 한정되는 것은 아니다.The interlayer insulating film (140) is formed on the gate electrode (130). The interlayer insulating film (140) may be formed of the same inorganic insulating material as the gate insulating film (120), for example, a silicon oxide film (SiOX), a silicon nitride film (SiNX), or a multi-film thereof, but is not necessarily limited thereto.
상기 소스 전극(150) 및 드레인 전극(160)은 상기 층간 절연막(140) 상에서 서로 마주하도록 형성된다. 전술한 게이트 절연막(120)과 층간 절연막(140)에는 상기 액티브층(110)의 일단 영역을 노출시키는 제1콘택홀(CH1) 및 상기 액티브층(110)의 타단 영역을 노출시키는 제2콘택홀(CH2)이 구비되어 있고, 상기 소스 전극(150)은 상기 제2콘택홀(CH2)을 통해서 상기 액티브층(110)의 타단 영역과 연결되고, 상기 드레인 전극(160)은 상기 제1콘택홀(CH1)을 통해서 상기 액티브층(110)의 일단 영역과 연결된다.The source electrode (150) and the drain electrode (160) are formed to face each other on the interlayer insulating film (140). The gate insulating film (120) and the interlayer insulating film (140) described above are provided with a first contact hole (CH1) exposing one end region of the active layer (110) and a second contact hole (CH2) exposing the other end region of the active layer (110), and the source electrode (150) is connected to the other end region of the active layer (110) through the second contact hole (CH2), and the drain electrode (160) is connected to one end region of the active layer (110) through the first contact hole (CH1).
상기 소스 전극(150)은 하부 소스 전극(151) 및 상부 소스 전극(152)을 포함하는 다중층(Multi Layer)으로 이루어질 수 있다. The above source electrode (150) may be formed of a multi-layer including a lower source electrode (151) and an upper source electrode (152).
상기 하부 소스 전극(151)은 상기 층간 절연막(140)과 상기 상부 소스 전극(152) 사이에 형성되어 상기 층간 절연막(140)과 상기 상부 소스 전극(152) 사이의 접착력을 증진시키는 역할을 할 수 있다. 또한, 상기 하부 소스 전극(151)은 상기 상부 소스 전극(152)의 하면을 보호함으로써 상기 상부 소스 전극(152)의 하면이 부식되는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 상기 하부 소스 전극(151)의 산화도는 상기 상부 소스 전극(152)의 산화도보다 작을 수 있다. 즉, 상기 하부 소스 전극(151)을 이루는 물질이 상기 상부 소스 전극(152)을 이루는 물질보다 내식성이 강한 물질로 이루어질 수 있다. 이와 같이, 상기 하부 소스 전극(151)은 접착력 증진층 또는 부식 방지층의 역할을 수행하는 것으로서, 몰리브덴과 티타늄의 합금(MoTi)으로 이루어질 수 있지만, 반드시 그에 한정되는 것은 아니다. The lower source electrode (151) may be formed between the interlayer insulating film (140) and the upper source electrode (152) to enhance the adhesive strength between the interlayer insulating film (140) and the upper source electrode (152). In addition, the lower source electrode (151) may protect the lower surface of the upper source electrode (152), thereby preventing the lower surface of the upper source electrode (152) from being corroded. Therefore, the oxidation degree of the lower source electrode (151) may be lower than that of the upper source electrode (152). That is, the material forming the lower source electrode (151) may be formed of a material having stronger corrosion resistance than the material forming the upper source electrode (152). In this way, the lower source electrode (151) functions as an adhesive strength enhancing layer or a corrosion preventing layer, and may be formed of an alloy of molybdenum and titanium (MoTi), but is not necessarily limited thereto.
상기 상부 소스 전극(152)은 상기 하부 소스 전극(151)의 상면에 형성된다. 상기 상부 소스 전극(152)은 저항이 낮은 금속인 구리(Cu)로 이루어질 수 있지만, 반드시 그에 한정되는 것은 아니다. 상기 상부 소스 전극(152)은 상기 하부 소스 전극(151)에 비하여 상대적으로 저항이 낮은 금속으로 이루어질 수 있다. 상기 소스 전극(150)의 전체 저항을 줄이기 위해서 상기 상부 소스 전극(152)의 두께는 상기 하부 소스 전극(151)의 두께보다 두껍게 형성되는 것이 바람직할 수 있다. The upper source electrode (152) is formed on the upper surface of the lower source electrode (151). The upper source electrode (152) may be formed of copper (Cu), which is a metal having low resistance, but is not necessarily limited thereto. The upper source electrode (152) may be formed of a metal having relatively low resistance compared to the lower source electrode (151). In order to reduce the overall resistance of the source electrode (150), it may be preferable that the thickness of the upper source electrode (152) be formed thicker than the thickness of the lower source electrode (151).
상기 드레인 전극(160)은 전술한 소스 전극(150)과 유사하게 하부 드레인 전극(161) 및 상부 드레인 전극(162)을 포함하는 다중층으로 이루어질 수 있다. The above drain electrode (160) may be formed of a multilayer including a lower drain electrode (161) and an upper drain electrode (162), similar to the above-described source electrode (150).
상기 하부 드레인 전극(161)은 상기 층간 절연막(140)과 상기 상부 드레인 전극(162) 사이에 형성되어 상기 층간 절연막(140)과 상기 상부 드레인 전극(162) 사이의 접착력을 증진시키는 역할을 수행하며 또한 상기 상부 드레인 전극(162)의 하면이 부식되는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 상기 하부 드레인 전극(161)의 산화도는 상기 상부 드레인 전극(162)의 산화도보다 작을 수 있다. 즉, 상기 하부 드레인 전극(161)을 이루는 물질이 상기 상부 드레인 전극(162)을 이루는 물질보다 내식성이 강한 물질로 이루어질 수 있다. 이와 같이, 상기 하부 드레인 전극(161)은 전술한 하부 소스 전극(151)과 동일한 몰리브덴과 티타늄의 합금(MoTi)으로 이루어질 수 있지만, 반드시 그에 한정되는 것은 아니다. The lower drain electrode (161) is formed between the interlayer insulating film (140) and the upper drain electrode (162) to enhance the adhesion between the interlayer insulating film (140) and the upper drain electrode (162) and also prevent the lower surface of the upper drain electrode (162) from being corroded. Therefore, the oxidation degree of the lower drain electrode (161) may be lower than that of the upper drain electrode (162). That is, the material forming the lower drain electrode (161) may be formed of a material having stronger corrosion resistance than the material forming the upper drain electrode (162). As such, the lower drain electrode (161) may be formed of an alloy of molybdenum and titanium (MoTi) which is the same as the lower source electrode (151) described above, but is not necessarily limited thereto.
상기 상부 드레인 전극(162)은 상기 하부 드레인 전극(161)의 상면에 형성되며, 전술한 상부 소스 전극(152)과 동일한 구리(Cu)로 이루어질 수 있지만, 반드시 그에 한정되는 것은 아니다. 상기 상부 드레인 전극(162)의 두께는 상기 하부 드레인 전극(161)의 두께보다 두껍게 형성되는 것이 상기 드레인 전극(160)의 전체 저항을 줄이는데 바람직할 수 있다. The upper drain electrode (162) is formed on the upper surface of the lower drain electrode (161), and may be made of the same copper (Cu) as the upper source electrode (152) described above, but is not necessarily limited thereto. It may be desirable for the thickness of the upper drain electrode (162) to be formed thicker than the thickness of the lower drain electrode (161) to reduce the overall resistance of the drain electrode (160).
상기 상부 드레인 전극(162)은 상기 상부 소스 전극(152)과 동일한 물질 및 동일한 두께로 형성될 수 있고, 상기 하부 드레인 전극(161)은 상기 하부 소스 전극(151)과 동일한 물질 및 동일한 두께로 형성될 수 있으며, 이 경우 드레인 전극(160)과 소스 전극(150)을 동일한 공정을 통해 동시에 형성할 수 있는 장점이 있다. The upper drain electrode (162) can be formed of the same material and the same thickness as the upper source electrode (152), and the lower drain electrode (161) can be formed of the same material and the same thickness as the lower source electrode (151). In this case, there is an advantage in that the drain electrode (160) and the source electrode (150) can be formed simultaneously through the same process.
이상과 같은 박막 트랜지스터층(T)의 구성은 도시된 구조로 한정되지 않고, 당업자에게 공지된 구성으로 다양하게 변형 가능하다. 예로서, 도면에는 게이트 전극(130)이 액티브층(110)의 위에 형성되는 탑 게이트 구조(Top Gate) 구조를 도시하였지만, 게이트 전극(130)이 액티브층(110)의 아래에 형성되는 바텀 게이트 구조(Bottom Gate) 구조로 이루어질 수도 있다.The configuration of the thin film transistor layer (T) as described above is not limited to the structure shown, and can be modified in various ways to a configuration known to those skilled in the art. For example, although the drawing shows a top gate structure in which the gate electrode (130) is formed on top of the active layer (110), it may also be formed as a bottom gate structure in which the gate electrode (130) is formed below the active layer (110).
상기 패시베이션층(165)은 상기 박막 트랜지스터층(T) 상에, 보다 구체적으로는, 상기 소스 전극(150) 및 드레인 전극(160)의 상면 상에 형성되어 있다. 상기 패시베이션층(165)은 상기 박막 트랜지스터층(T)을 보호하는 기능을 하며, 이와 같은 패시베이션층(165)은 무기 절연 물질 예를 들어, 실리콘 산화막(SiOX) 또는 실리콘 질화막(SiNX)으로 이루어질 수 있으나, 반드시 그에 한정되는 것은 아니다.The passivation layer (165) is formed on the thin film transistor layer (T), more specifically, on the upper surface of the source electrode (150) and the drain electrode (160). The passivation layer (165) functions to protect the thin film transistor layer (T), and the passivation layer (165) may be formed of an inorganic insulating material, for example, a silicon oxide film (SiOX) or a silicon nitride film (SiNX), but is not necessarily limited thereto.
상기 평탄화층(170)은 상기 패시베이션층(165) 상에 형성된다. 상기 평탄화층(170)은 상기 박막 트랜지스터(T)가 구비되어 있는 상기 기판(100) 상부를 평탄하게 해주는 기능을 수행한다. 상기 평탄화층(170)은 아크릴 수지(acryl resin), 에폭시 수지(epoxy resin), 페놀 수지(phenolic resin), 폴리아미드 수지(polyamide resin), 폴리이미드 수지(polyimide resin) 등의 유기 절연물로 이루어질 수 있으나, 반드시 그에 한정되는 것은 아니다The above-mentioned planarization layer (170) is formed on the above-mentioned passivation layer (165). The above-mentioned planarization layer (170) performs the function of planarizing the upper portion of the substrate (100) on which the thin film transistor (T) is provided. The above-mentioned planarization layer (170) may be made of an organic insulating material such as an acrylic resin, an epoxy resin, a phenolic resin, a polyamide resin, a polyimide resin, etc., but is not necessarily limited thereto.
상기 제1애노드 전극(180)은 상기 평탄화층(170) 상에 형성되어 있다. 전술한 패시베이션층(165)과 평탄화층(170)에는 상기 소스 전극(150)을 노출시키는 제3콘택홀(CH3)이 구비되어 있으며, 상기 제3콘택홀(CH3)을 통하여 상기 소스 전극(150)과 상기 제1애노드 전극(180)이 연결된다.The above first anode electrode (180) is formed on the planarization layer (170). The above-described passivation layer (165) and the planarization layer (170) are provided with a third contact hole (CH3) that exposes the source electrode (150), and the source electrode (150) and the first anode electrode (180) are connected through the third contact hole (CH3).
상기 제1애노드 전극(180)은 제1하부 애노드 전극(181) 및 제1상부 애노드 전극(182)을 포함하여 이루어질 수 있다.The above first anode electrode (180) may include a first lower anode electrode (181) and a first upper anode electrode (182).
상기 제1하부 애노드 전극(181)은 상기 평탄화층(170)과 상기 제1상부 애노드 전극(182) 사이에 형성되어 상기 평탄화층(170)과 상기 제1상부 애노드 전극(182) 사이의 접착력을 증진시키는 역할을 할 수 있다. 또한, 상기 제1하부 애노드 전극(181)은 상기 제1상부 애노드 전극(182)의 하면을 보호함으로써 상기 제1상부 애노드 전극(182)의 하면이 부식되는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 상기 제1하부 애노드 전극(181)의 산화도는 상기 제1상부 애노드 전극(182)의 산화도보다 작을 수 있다. 즉, 상기 제1하부 애노드 전극(181)을 이루는 물질이 상기 제1상부 애노드 전극(182)을 이루는 물질보다 내식성이 강한 물질로 이루어질 수 있다. The first lower anode electrode (181) may be formed between the planarization layer (170) and the first upper anode electrode (182) to enhance the adhesive strength between the planarization layer (170) and the first upper anode electrode (182). In addition, the first lower anode electrode (181) may protect the lower surface of the first upper anode electrode (182), thereby preventing the lower surface of the first upper anode electrode (182) from being corroded. Accordingly, the oxidation degree of the first lower anode electrode (181) may be lower than the oxidation degree of the first upper anode electrode (182). That is, the material forming the first lower anode electrode (181) may be formed of a material having stronger corrosion resistance than the material forming the first upper anode electrode (182).
또한, 상기 제1하부 애노드 전극(181)은 상기 상부 소스 전극(152)의 상면을 보호함으로써 상기 상부 소스 전극(152)의 상면이 부식되는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 상기 제1하부 애노드 전극(181)의 산화도는 상기 상부 소스 전극(152)의 산화도보다 작을 수 있다. 즉, 상기 제1하부 애노드 전극(181)을 이루는 물질이 상기 상부 소스 전극(152)을 이루는 물질보다 내식성이 강한 물질로 이루어질 수 있다. In addition, the first lower anode electrode (181) can prevent the upper surface of the upper source electrode (152) from being corroded by protecting the upper surface of the upper source electrode (152). Therefore, the oxidation degree of the first lower anode electrode (181) can be lower than the oxidation degree of the upper source electrode (152). That is, the material forming the first lower anode electrode (181) can be made of a material having stronger corrosion resistance than the material forming the upper source electrode (152).
이와 같이, 상기 제1하부 애노드 전극(181)이 상기 상부 소스 전극(152)의 상면 부식을 방지할 수 있기 때문에, 상기 소스 전극(150)을 전술한 2층 구조로 형성하는 것이 가능하다. 상기 제1하부 애노드 전극(181)은 접착력 증진층 또는 부식 방지층의 역할을 수행하는 것으로서, 몰리브덴과 티타늄의 합금(MoTi)으로 이루어질 수 있지만, 반드시 그에 한정되는 것은 아니다. In this way, since the first lower anode electrode (181) can prevent corrosion of the upper surface of the upper source electrode (152), it is possible to form the source electrode (150) in the two-layer structure described above. The first lower anode electrode (181) serves as an adhesion promoting layer or a corrosion preventing layer, and may be formed of an alloy of molybdenum and titanium (MoTi), but is not necessarily limited thereto.
상기 제1상부 애노드 전극(182)은 상기 제1하부 애노드 전극(181)의 상면에 형성된다. 상기 제1상부 애노드 전극(182)은 저항이 낮은 금속인 구리(Cu)로 이루어질 수 있지만, 반드시 그에 한정되는 것은 아니다. 상기 제1상부 애노드 전극(182)은 상기 제1하부 애노드 전극(181)에 비하여 상대적으로 저항이 낮은 금속으로 이루어질 수 있다. 상기 제1애노드 전극(180)의 전체 저항을 줄이기 위해서 상기 제1상부 애노드 전극(182)의 두께는 상기 제1하부 애노드 전극(181)의 두께보다 두껍게 형성되는 것이 바람직할 수 있다.The first upper anode electrode (182) is formed on the upper surface of the first lower anode electrode (181). The first upper anode electrode (182) may be formed of copper (Cu), which is a metal having a low resistance, but is not necessarily limited thereto. The first upper anode electrode (182) may be formed of a metal having a relatively low resistance compared to the first lower anode electrode (181). In order to reduce the overall resistance of the first anode electrode (180), it may be preferable that the thickness of the first upper anode electrode (182) be formed thicker than the thickness of the first lower anode electrode (181).
상기 제2애노드 전극(190)은 상기 제1애노드 전극(180)의 상면에 형성된다. 상기 제2애노드 전극(190)은 상기 제1애노드 전극(180)의 상면 및 측면 전체와 접촉하도록 형성된다. 즉, 상기 제2애노드 전극(190)과 상기 제1애노드 전극(180) 사이에 별도의 절연층이 형성되지 않으며, 그에 따라 절연층 및 콘택홀 형성 공정이 생략될 수 있는 장점이 있다. 상기 제2애노드 전극(190)은 상기 유기 발광층(210)에서 발광된 광을 상부 방향으로 반사시키는 역할을 하며, 따라서, 반사도가 우수한 물질을 포함하여 이루어진다. 또한, 상기 제2애노드 전극(190)은 상기 제1애노드 전극(180)의 상면과 측면을 덮도록 형성됨으로써, 상기 제1애노드 전극(180)의 상면과 측면이 부식되는 것을 방지하는 역할도 수행한다.The second anode electrode (190) is formed on the upper surface of the first anode electrode (180). The second anode electrode (190) is formed so as to come into contact with the entire upper surface and side surface of the first anode electrode (180). That is, a separate insulating layer is not formed between the second anode electrode (190) and the first anode electrode (180), and thus, there is an advantage in that the insulating layer and contact hole formation process can be omitted. The second anode electrode (190) serves to reflect light emitted from the organic light-emitting layer (210) upward, and therefore, is formed by including a material having excellent reflectivity. In addition, the second anode electrode (190) is formed so as to cover the upper surface and side surface of the first anode electrode (180), and thus also serves to prevent the upper surface and side surface of the first anode electrode (180) from being corroded.
이와 같은 제2애노드 전극(190)은 제2하부 애노드 전극(191), 제2중앙 애노드 전극(192), 및 제2상부 애노드 전극(193)을 포함하여 이루어질 수 있다.Such a second anode electrode (190) may include a second lower anode electrode (191), a second central anode electrode (192), and a second upper anode electrode (193).
상기 제2하부 애노드 전극(191)은 상기 제1애노드 전극(180)과 상기 제2중앙 애노드 전극(192) 사이에 형성된다. 상기 제2하부 애노드 전극(191)은 상기 제1애노드 전극(180)의 상면 및 측면을 덮도록 형성됨으로써 상기 제1애노드 전극(180)이 부식되는 것을 방지한다. 따라서, 상기 제2하부 애노드 전극(191)의 산화도는 상기 제1애노드 전극(180)을 구성하는 제1 하부 애노드 전극(181) 및 제1 상부 애노드 전극(182)의 산화도보다 작을 수 있다. 즉, 상기 제2하부 애노드 전극(191)을 이루는 물질이 상기 제1 하부 애노드 전극(181) 및 제1 상부 애노드 전극(182)을 이루는 물질보다 내식성이 강한 물질로 이루어질 수 있다. The second lower anode electrode (191) is formed between the first anode electrode (180) and the second central anode electrode (192). The second lower anode electrode (191) is formed to cover the upper surface and the side surface of the first anode electrode (180), thereby preventing the first anode electrode (180) from being corroded. Therefore, the oxidation degree of the second lower anode electrode (191) may be lower than the oxidation degrees of the first lower anode electrode (181) and the first upper anode electrode (182) constituting the first anode electrode (180). That is, the material constituting the second lower anode electrode (191) may be formed of a material having stronger corrosion resistance than the material constituting the first lower anode electrode (181) and the first upper anode electrode (182).
또한, 상기 제2하부 애노드 전극(191)은 상기 제2중앙 애노드 전극(192)의 하면을 보호함으로써 상기 제2중앙 애노드 전극(192)의 하면이 부식되는 것을 방지한다. 따라서, 상기 제2하부 애노드 전극(191)의 산화도는 상기 제2중앙 애노드 전극(192)의 산화도보다 작을 수 있다. 즉, 상기 제2하부 애노드 전극(191)을 이루는 물질이 상기 제2중앙 애노드 전극(192)을 이루는 물질보다 내식성이 강한 물질로 이루어질 수 있다. 이와 같은 제2하부 애노드 전극(191)은 ITO와 같은 투명 도전물로 이루어질 수 있지만, 반드시 그에 한정되는 것은 아니다.In addition, the second lower anode electrode (191) protects the lower surface of the second central anode electrode (192), thereby preventing the lower surface of the second central anode electrode (192) from being corroded. Therefore, the oxidation degree of the second lower anode electrode (191) may be lower than the oxidation degree of the second central anode electrode (192). That is, the material forming the second lower anode electrode (191) may be made of a material having stronger corrosion resistance than the material forming the second central anode electrode (192). The second lower anode electrode (191) may be made of a transparent conductive material such as ITO, but is not necessarily limited thereto.
상기 제2중앙 애노드 전극(192)은 상기 제2하부 애노드 전극(191)과 상기 제2상부 애노드 전극(193) 사이에 형성된다. 상기 제2중앙 애노드 전극(192)은 상기 제2하부 애노드 전극(191) 및 상기 제2상부 애노드 전극(193)보다 저항이 낮고 반사도가 우수한 물질로 이루어지며, 예로서 은(Ag)으로 이루어질 수 있지만, 반드시 그에 한정되는 것은 아니다. 상대적으로 저항이 낮은 제2중앙 애노드 전극(192)의 두께는 상대적으로 저항이 높은 제2하부 애노드 전극(191) 및 제2상부 애노드 전극(193) 각각의 두께보다 두껍게 형성되는 것이 제2애노드 전극(190)의 전체 저항을 줄일 수 있어 바람직할 수 있다.The second central anode electrode (192) is formed between the second lower anode electrode (191) and the second upper anode electrode (193). The second central anode electrode (192) is made of a material having lower resistance and better reflectivity than the second lower anode electrode (191) and the second upper anode electrode (193), and may be made of silver (Ag) as an example, but is not necessarily limited thereto. The thickness of the second central anode electrode (192), which has relatively low resistance, may be preferably formed thicker than the thickness of each of the second lower anode electrode (191) and the second upper anode electrode (193), which have relatively high resistance, so that the overall resistance of the second anode electrode (190) can be reduced.
상기 제2상부 애노드 전극(193)은 상기 제2중앙 애노드 전극(192)의 상면에 형성되어, 상기 제2중앙 애노드 전극(192)의 상면이 부식되는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 상기 제2상부 애노드 전극(193)의 산화도는 상기 제2중앙 애노드 전극(192)의 산화도보다 작을 수 있다. 즉, 상기 제2상부 애노드 전극(193)을 이루는 물질이 상기 제2중앙 애노드 전극(192)을 이루는 물질보다 내식성이 강한 물질로 이루어질 수 있다. 이와 같은 제2상부 애노드 전극(193)은 ITO와 같은 투명 도전물로 이루어질 수 있지만, 반드시 그에 한정되는 것은 아니다.The second upper anode electrode (193) is formed on the upper surface of the second central anode electrode (192), and can prevent the upper surface of the second central anode electrode (192) from being corroded. Therefore, the oxidation degree of the second upper anode electrode (193) may be lower than the oxidation degree of the second central anode electrode (192). That is, the material forming the second upper anode electrode (193) may be formed of a material having stronger corrosion resistance than the material forming the second central anode electrode (192). The second upper anode electrode (193) may be formed of a transparent conductive material such as ITO, but is not necessarily limited thereto.
상기에서는 애노드 전극이 제1애노드 전극(180)과 제2애노드 전극(190)과 같이 복수의 층으로 형성되고 각각이 이중층 또는 삼중층으로 형성되는 것으로 도시하였으나, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니므로 단일층으로 형성되는 것도 가능하다.In the above, the anode electrode is formed of multiple layers, such as the first anode electrode (180) and the second anode electrode (190), and each is formed as a double layer or triple layer. However, the present invention is not limited thereto, and it is also possible to form it as a single layer.
상기 뱅크(200)는 상기 제2애노드 전극(190) 상에 형성된다.The above bank (200) is formed on the second anode electrode (190).
상기 뱅크(200)는 상기 제2애노드 전극(190)의 상면을 노출시키면서 상기 제2애노드 전극(190)의 일측 및 타측 상에 형성된다. 상기 뱅크(200)가 상기 제2애노드 전극(190)의 상면을 노출시키도록 형성됨으로써 화상이 디스플레이되는 영역을 확보할 수 있다. 또한, 상기 뱅크(200)가 상기 제2애노드 전극(190)의 일측 및 타측 상에 형성됨으로써, 부식에 취약한 상기 제2애노드 전극(190)의 측면이 외부로 노출되는 것이 방지되어 상기 제2애노드 전극(190)의 측면이 부식되는 것을 방지할 수 있다. 이 때, 상기 제2애노드 전극(190)의 상면에 상기 유기 발광층(210) 및 캐소드 전극(220)이 형성되는데, 상기 유기 발광층(210) 및 캐소드 전극(220)이 형성되기 위한 상기 제2애노드 전극(190)의 노출된 영역이 발광 영역(EA)에 해당한다.The above bank (200) is formed on one side and the other side of the second anode electrode (190) while exposing the upper surface of the second anode electrode (190). Since the bank (200) is formed to expose the upper surface of the second anode electrode (190), an area where an image is displayed can be secured. In addition, since the bank (200) is formed on one side and the other side of the second anode electrode (190), the side surface of the second anode electrode (190), which is vulnerable to corrosion, is prevented from being exposed to the outside, thereby preventing the side surface of the second anode electrode (190) from being corroded. At this time, the organic light-emitting layer (210) and the cathode electrode (220) are formed on the upper surface of the second anode electrode (190), and the exposed area of the second anode electrode (190) for forming the organic light-emitting layer (210) and the cathode electrode (220) corresponds to the light-emitting area (EA).
이와 같은 뱅크(200)는 폴리이미드 수지(polyimide resin), 아크릴 수지(acryl resin), 벤조사이클로뷰텐(BCB) 등과 같은 유기절연물로 이루어질 수 있으나, 반드시 그에 한정되는 것은 아니다.A bank (200) like this may be made of an organic insulating material such as polyimide resin, acrylic resin, benzocyclobutene (BCB), etc., but is not necessarily limited thereto.
특히, 본 발명의 실시예에 따른 뱅크(200)는 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 제2애노드 전극(190)의 상면을 노출시키도록 상기 제1애노드 전극(180) 및 제2애노드 전극(190)의 일측 및 타측 상에 구비된 제1뱅크(201), 및 상기 제1뱅크(201)의 상면을 노출시키도록 상기 제1뱅크(201) 상에 구비된 제2뱅크(202)를 포함한다. 특히, 상기 제2뱅크(202)는 상기 제1뱅크(201)의 가장자리 상면을 노출시킬 수 있도록 구비된다.In particular, the bank (200) according to the embodiment of the present invention includes, as illustrated in FIG. 2, a first bank (201) provided on one side and the other side of the first anode electrode (180) and the second anode electrode (190) so as to expose the upper surface of the second anode electrode (190), and a second bank (202) provided on the first bank (201) so as to expose the upper surface of the first bank (201). In particular, the second bank (202) is provided so as to expose the upper surface of the edge of the first bank (201).
이와 같이, 본 발명의 실시예에서 상기 제2뱅크(202)는 상기 제1뱅크(201)의 가장자리를 노출시키면서 상기 제1뱅크(201) 상에 구비됨에 따라, 상기 뱅크(200)는 전체적으로 도 2에 도시된 바와 같이 상기 제1애노드 전극(180) 및 제2애노드 전극(190) 상에서 단차를 갖는 형상으로 구비된다.In this way, in the embodiment of the present invention, the second bank (202) is provided on the first bank (201) while exposing the edge of the first bank (201), so that the bank (200) is provided in a shape having a step on the first anode electrode (180) and the second anode electrode (190) as shown in FIG. 2.
본 발명의 실시예에서, 상기 제2뱅크(202)가 상기 제1뱅크(201)의 가장자리를 노출시키면서 상기 제1뱅크(201) 상에 구비되는 것은 상기 유기 발광층(210)의 파일 업(Pile up) 현상을 방지하기 위한 것이다.In an embodiment of the present invention, the second bank (202) is provided on the first bank (201) while exposing the edge of the first bank (201) to prevent a pile up phenomenon of the organic light-emitting layer (210).
파일 업 현상이란, 잉크젯 인쇄 방식으로 상기 유기 발광층(210)을 형성하는 경우에 상기 유기 발광층(210)을 구성하는 유기 발광물질을 상기 제2애노드 전극(190) 상에 분사 혹은 드랍한 후 건조시키는 공정을 진행하는데, 상기 유기 발광물질이 건조되어 경화되는 과정을 거친 후 상기 제2애노드 전극(190)의 상면에 형성된 유기 발광층(210) 보다 상기 뱅크(200)와 접촉하는 영역에 형성된 유기 발광층(210)의 두께가 두껍게 형성되어 두께 편차가 발생하는 것을 의미한다.The pile-up phenomenon means that when forming the organic light-emitting layer (210) by an inkjet printing method, the organic light-emitting material constituting the organic light-emitting layer (210) is sprayed or dropped onto the second anode electrode (190) and then dried. After the organic light-emitting material is dried and hardened, the thickness of the organic light-emitting layer (210) formed in the area in contact with the bank (200) is formed thicker than that of the organic light-emitting layer (210) formed on the upper surface of the second anode electrode (190), resulting in a thickness deviation.
결과적으로, 상기 유기 발광층(210)은 상기 발광 영역(EA)의 중심부에서는 평탄하게 형성되고 상기 뱅크(200)와 인접한 부분으로 갈수록 점차 두께가 증가하는 형태의 단면을 갖게 된다. 그리고, 이와 같이 상기 유기 발광층(210)이 상기 제2애노드 전극(190) 상에서 평탄하지 않게 형성될 경우 휘도 불균일이 발생하는 문제가 있다.As a result, the organic light-emitting layer (210) has a cross-section that is formed flat in the center of the light-emitting area (EA) and gradually increases in thickness as it approaches the portion adjacent to the bank (200). In addition, if the organic light-emitting layer (210) is formed unevenly on the second anode electrode (190) in this way, there is a problem of luminance unevenness occurring.
따라서, 본 발명의 실시예에서 상기 제1애노드 전극(180) 및 제2애노드 전극(190)의 일측 및 타측에 구비된 상기 뱅크(200)가 계단 형상의 단차를 갖도록 상기 제1뱅크(201) 및 제2뱅크(202)를 포함함으로써, 상기와 같은 파일 업 현상을 방지한다.Therefore, in the embodiment of the present invention, the first bank (201) and the second bank (202) are included so that the banks (200) provided on one side and the other side of the first anode electrode (180) and the second anode electrode (190) have step-shaped steps, thereby preventing the pile-up phenomenon as described above.
이와 같이, 상기 제1뱅크(201) 및 제2뱅크(202)가 계단 형상의 단차를 갖도록 구비된 상태에서 상기 제1뱅크(201)에 의해 노출된 제2애노드 전극(190)의 상면과 상기 제2뱅크(202)에 의해 노출된 제1뱅크(201)의 상면으로 유기 발광물질을 분사함에 따라 상기 발광 영역(EA)에 해당하는 상기 제2애노드 전극(190) 상에서 상기 유기 발광층(210)은 평탄하게 형성될 수 있다. 즉, 본 발명의 실시예에서는 상기 제1뱅크(201)의 가장자리 상면에 상기 유기 발광층(210)이 형성되도록 함으로써 상기 발광 영역(EA)에서 상기 유기 발광층(210)을 평탄하게 형성할 수 있다. In this way, when the first bank (201) and the second bank (202) are provided with step-shaped differences, the organic light-emitting material is sprayed onto the upper surface of the second anode electrode (190) exposed by the first bank (201) and the upper surface of the first bank (201) exposed by the second bank (202), so that the organic light-emitting layer (210) can be formed flat on the second anode electrode (190) corresponding to the light-emitting area (EA). That is, in the embodiment of the present invention, the organic light-emitting layer (210) can be formed flat in the light-emitting area (EA) by forming the organic light-emitting layer (210) on the upper surface of the edge of the first bank (201).
이를 위해, 상기 제1뱅크(201)는 전체적으로 친수성의 특성을 갖도록 형성되고, 상기 제2뱅크(202)는 전체적으로 소수성의 특성을 갖거나 상부만 소수성의 특성을 갖도록 형성될 수 있다. 즉, 전술한 바와 같이, 본 발명의 실시예에서는 상기 발광 영역(EA)에 해당하는 상기 제2애노드 전극(190)이 노출된 영역에서 파일 업 현상이 발생하지 않도록 상기 제1뱅크(201)의 상면까지 상기 유기 발광층(210)이 형성되어야 한다.To this end, the first bank (201) may be formed to have hydrophilic characteristics overall, and the second bank (202) may be formed to have hydrophobic characteristics overall or to have hydrophobic characteristics only in the upper portion. That is, as described above, in the embodiment of the present invention, the organic light-emitting layer (210) must be formed up to the upper surface of the first bank (201) so that a pile-up phenomenon does not occur in the area where the second anode electrode (190) corresponding to the light-emitting area (EA) is exposed.
따라서, 상기 제1뱅크(201)는 친수성의 물질로 형성되어 상면에 상기 유기 발광층(210)이 형성될 수 있고, 상기 제2뱅크(202)는 화소 영역을 정의할 수 있도록 상기 유기 발광층(210)이 형성되는 영역을 제한할 수 있도록 소수성의 물질로 형성된다. 다만, 상기 제2뱅크(202)의 상부에만 상기 유기 발광층(210)이 형성되지 않으면 화소 영역이 정의될 수 있으므로, 상기 제2뱅크(202)는 상부만 소수성의 물질로 형성될 수 있으나 본 발명은 이에 한정되지 않으므로 전체적으로 소수성의 물질로 형성되는 것도 가능하다.Accordingly, the first bank (201) is formed of a hydrophilic material so that the organic light-emitting layer (210) can be formed on the upper surface, and the second bank (202) is formed of a hydrophobic material so that the area where the organic light-emitting layer (210) is formed can be limited so as to define a pixel area. However, since the pixel area can be defined even if the organic light-emitting layer (210) is not formed only on the upper portion of the second bank (202), the second bank (202) may be formed of a hydrophobic material only on the upper portion, but the present invention is not limited thereto, and thus the entire bank may be formed of a hydrophobic material.
또한, 상기 제1뱅크(201) 및 제2뱅크(202)는 유기 물질로 형성된다. 즉, 종래에는 상기 제2애노드 전극(190) 상에 형성되는 제1뱅크(201)를 무기 물질로 형성하였는데 이 경우 하부 층에 형성된 상기 평탄화층(170) 및 박막 트랜지스터층(T)의 성능 저하를 방지하기 위해 저온 상태에서 CVD를 진행할 수 밖에 없었기 때문에 완성된 제품에서 상기 제1뱅크(201)가 필링되는 문제가 있었다. 또한, 식각 공정을 통해 상기 제1뱅크(201)를 패터닝하는 과정에서 식각액에 의해 상기 제2애노드 전극(190)이 손상되는 문제가 있었다.In addition, the first bank (201) and the second bank (202) are formed of an organic material. That is, in the past, the first bank (201) formed on the second anode electrode (190) was formed of an inorganic material. In this case, in order to prevent performance degradation of the planarization layer (170) and the thin film transistor layer (T) formed in the lower layer, CVD had to be performed at a low temperature, so there was a problem that the first bank (201) was peeled off in the finished product. In addition, there was a problem that the second anode electrode (190) was damaged by the etchant during the process of patterning the first bank (201) through an etching process.
따라서, 본 발명의 실시예에서는 이러한 품질 저하 및 제2애노드 전극(190)의 손상을 방지하기 위해 상기 제1뱅크(201) 및 제2뱅크(202)를 모두 유기 물질로 구비함으로써 공정을 단순화하고 생산성을 향상시킬 수 있다. 보다 구체적인 상기 제1뱅크(201) 및 제2뱅크(202)의 제조 과정에 대해서는 후술하기로 한다.Therefore, in order to prevent such quality deterioration and damage to the second anode electrode (190), in the embodiment of the present invention, the first bank (201) and the second bank (202) are both made of organic materials, thereby simplifying the process and improving productivity. A more specific manufacturing process of the first bank (201) and the second bank (202) will be described later.
상기 유기 발광층(210)은 상기 제2애노드 전극(190) 상에 형성된다. 상기 유기 발광층(210)은 정공 주입층(Hole Injecting Layer), 정공 수송층(Hole Transporting Layer), 발광층(Emitting Layer), 전자 수송층(Electron Transporting Layer), 및 전자 주입층(Electron Injecting Layer)을 포함하여 이루어질 수 있다. 상기 유기 발광층(210)의 구조는 당업계에 공지된 다양한 형태로 변경될 수 있다.The organic light-emitting layer (210) is formed on the second anode electrode (190). The organic light-emitting layer (210) may include a hole injection layer, a hole transport layer, an emitting layer, an electron transport layer, and an electron injection layer. The structure of the organic light-emitting layer (210) may be changed into various forms known in the art.
특히, 상기 유기 발광층(210)을 구성하는 상기 정공 주입층, 상기 정공 수송층, 상기 발광층, 상기 전자 수송층, 및 상기 전자 주입층은 중 적어도 하나 이상의 레이어는 가용성 프로세스(Soluble process)를 통해 형성될 수 있다. 일례로, 상기 정공 주입층, 정공 수송층, 및 발광층은 가용성 프로세스를 통해 형성하고 상기 전자 수송층 및 상기 전자 주입층은 기상 증착 방식 등으로 형성할 수 있으나, 본 발명은 이에 한정되지 않는다.In particular, at least one layer among the hole injection layer, the hole transport layer, the light emitting layer, the electron transport layer, and the electron injection layer constituting the organic light emitting layer (210) may be formed through a soluble process. For example, the hole injection layer, the hole transport layer, and the light emitting layer may be formed through a soluble process, and the electron transport layer and the electron injection layer may be formed by a vapor deposition method, but the present invention is not limited thereto.
가용성 프로세스는 전술한 바와 같이 가용성의 유기 발광물질을 잉크젯 인쇄 방식으로 상기 제2애노드 전극(190) 상에 분사하고 이를 경화시킴으로써 상기 유기 발광층(210)을 형성하는 공정으로 유기 발광 표시 장치의 제조 공정의 편의성 및 효율성을 높이기 위해서 이용되고 있다.The availability process is a process of forming the organic light-emitting layer (210) by spraying the available organic light-emitting material onto the second anode electrode (190) using an inkjet printing method as described above and curing it, and is used to increase the convenience and efficiency of the manufacturing process of an organic light-emitting display device.
특히, 상기 유기 발광층(210)은 상기 제2뱅크(202)에 의해 노출된 상기 제1뱅크(201)의 상면까지 연장될 수 있다. 다만, 상기 유기 발광층(210)은 상기 제2뱅크(202)의 상면을 가리면서 상기 제2뱅크(202)의 상면까지 연장되지는 않는다.In particular, the organic light-emitting layer (210) may extend to the upper surface of the first bank (201) exposed by the second bank (202). However, the organic light-emitting layer (210) does not extend to the upper surface of the second bank (202) while covering the upper surface of the second bank (202).
이를 위해 전술한 바와 같이, 상기 제1뱅크(201)는 전체적으로 친수성의 물질로 형성되고, 상기 제2뱅크(202)는 전체적으로 소수성의 물질로 형성되거나 상부만 소수성의 물질로 형성될 수 있다.To this end, as described above, the first bank (201) may be formed entirely of a hydrophilic material, and the second bank (202) may be formed entirely of a hydrophobic material or only the upper portion may be formed of a hydrophobic material.
상기 캐소드 전극(220)은 상기 유기 발광층(210) 상에 형성되어 있다. 상기 캐소드 전극(220)은 광이 방출되는 면에 형성되기 때문에 투명한 도전물질로 이루어진다.The above cathode electrode (220) is formed on the organic light-emitting layer (210). Since the cathode electrode (220) is formed on the surface from which light is emitted, it is made of a transparent conductive material.
도면에 도시되지는 않았으나, 상기 캐소드 전극(220) 상에는 밀봉층(encapsulation layer)이 추가로 형성되어 수분의 침투를 방지할 수 있다. 상기 밀봉층은 당업계에 공지된 다양한 재료가 이용될 수 있다. 또한, 도시하지는 않았지만, 상기 캐소드 전극(220) 상에 각 화소별로 컬러 필터가 추가로 형성될 수도 있으며, 이 경우에는 상기 유기 발광층(210)에서 화이트(white) 광이 발광될 수 있다.Although not shown in the drawing, an encapsulation layer may be additionally formed on the cathode electrode (220) to prevent moisture penetration. Various materials known in the art may be used for the encapsulation layer. In addition, although not shown, a color filter may be additionally formed for each pixel on the cathode electrode (220), and in this case, white light may be emitted from the organic light-emitting layer (210).
본 발명의 실시예에서는 유기 발광층(210)에서 발생된 빛이 상기 캐소드 전극(220)을 통해 외부로 방출되는 상부 발광 방식의 구조를 예로 들었으나, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니므로 유기 발광층(201)에서 발생된 빛이 상기 제1애노드 전극(180)과 제2애노드 전극(190)을 통해 외부로 방출되는 하부 발광 방식으로 구성될 수도 있다.In the embodiment of the present invention, a top emission type structure in which light generated from an organic light-emitting layer (210) is emitted to the outside through the cathode electrode (220) was taken as an example, but the present invention is not limited thereto, and may be configured in a bottom emission type in which light generated from an organic light-emitting layer (201) is emitted to the outside through the first anode electrode (180) and the second anode electrode (190).
도 3은 도 2에 도시된 A영역을 나타낸 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 개략적인 단면도이다.FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of an organic light emitting display device according to one embodiment of the present invention, showing area A illustrated in FIG. 2.
도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 기판 상에는 제2애노드 전극(190), 뱅크(200), 유기 발광층(210), 및 캐소드 전극(220)이 형성되어 있다.As illustrated in FIG. 3, a second anode electrode (190), a bank (200), an organic light-emitting layer (210), and a cathode electrode (220) are formed on a substrate of an organic light-emitting display device according to one embodiment of the present invention.
상기 제2애노드 전극(190), 뱅크(200), 유기 발광층(210), 및 캐소드 전극(220)은 도 2에 따른 유기 발광 표시 장치와 동일하게 적층된 것이므로, 동일한 구성에 대해서는 동일한 도면부호를 부여하였고 이하에서는 상이한 구조로 적층된 구성에 대해서만 설명하기로 한다.Since the above second anode electrode (190), bank (200), organic light-emitting layer (210), and cathode electrode (220) are laminated in the same manner as in the organic light-emitting display device according to FIG. 2, the same drawing reference numerals are given to the same configurations, and only configurations laminated in different structures will be described below.
상기 뱅크(200)는 상기 제2애노드 전극(190)의 상면을 노출시키도록 상기 제2애노드 전극(190)의 일측 및 타측 상에 구비된 제1뱅크(201), 및 상기 상기 제1뱅크(201)의 가장자리를 노출시킬 수 있도록 상기 제1뱅크(201) 상에 구비된 제2뱅크(202)를 포함한다. 상기 제1뱅크(201)는 1.5㎛이하의 두께로 구비될 수 있고, 상기 제2뱅크(202)는 2.0㎛이하의 두께로 구비되어, 상기 제2뱅크(202)가 상기 제1뱅크(201)에 비해서 두껍게 구비될 수 있다. 즉, 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 제1뱅크(201)는 상기 제2애노드 전극(190) 상에서 유기 발광층(190)이 평탄하게 형성될 수 있도록 상면에 유기 발광층(190)이 형성되기만 하면 되므로 상대적으로 얇은 두께로 구비될 수 있지만, 상기 제2뱅크(202)는 상기 유기 발광층(210)이 형성되는 영역을 제한하면서 화소 영역을 정의할 수 있어야 하므로 상기 제1뱅크(201)에 비해서 상대적으로 두꺼운 두께로 구비됨이 타당하다.The above bank (200) includes a first bank (201) provided on one side and the other side of the second anode electrode (190) so as to expose the upper surface of the second anode electrode (190), and a second bank (202) provided on the first bank (201) so as to expose the edge of the first bank (201). The first bank (201) may be provided with a thickness of 1.5 ㎛ or less, and the second bank (202) may be provided with a thickness of 2.0 ㎛ or less, so that the second bank (202) may be provided thicker than the first bank (201). That is, as illustrated in FIG. 3, the first bank (201) can be formed with a relatively thin thickness because the organic light-emitting layer (190) only needs to be formed on the upper surface so that the organic light-emitting layer (190) can be formed flatly on the second anode electrode (190), but the second bank (202) should be formed with a relatively thick thickness compared to the first bank (201) because it must be able to define a pixel area while limiting the area where the organic light-emitting layer (210) is formed.
즉, 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 제2뱅크(202)는 상기 제1뱅크(201)의 가장자리 상면을 노출시킬 수 있도록 구비되기 때문에, 도 3에 도시된 바와 같이 상기 유기 발광층(210)은 상기 제2애노드 전극(190)의 상면뿐만 아니라 상기 제1뱅크(201)의 상면에도 형성될 수 있다.That is, as illustrated in FIG. 3, since the second bank (202) is provided so as to expose the upper surface of the edge of the first bank (201), as illustrated in FIG. 3, the organic light-emitting layer (210) can be formed not only on the upper surface of the second anode electrode (190) but also on the upper surface of the first bank (201).
따라서, 잉크젯 인쇄 방식으로 유기 발광물질을 분사하더라도 상기 제1뱅크(201)의 가장자리 상면에 추가로 유기 발광물질이 형성되기 때문에 상기 제2애노드 전극(190)의 상면에서 상기 유기 발광층(210)은 평탄하게 형성될 수 있다. 따라서, 본 발명의 실시예에서는 화소의 모든 영역에서 균일한 발광이 가능하다.Accordingly, even if the organic light-emitting material is sprayed using an inkjet printing method, the organic light-emitting layer (210) can be formed flat on the upper surface of the second anode electrode (190) because the organic light-emitting material is additionally formed on the upper surface of the edge of the first bank (201). Accordingly, in the embodiment of the present invention, uniform light emission is possible in all areas of the pixel.
또한, 상기 제2뱅크(202)는 측면(202a)이 상기 기판의 표면을 기준으로 소정의 각도로 경사지게 구비될 수 있다. 구체적으로, 도 3에 도시된 바와 같이 상기 제2뱅크(202)의 측면(202a)이 상기 기판의 표면과 이루는 사이각(α)은 45° 이하로 구비될 수 있다.In addition, the second bank (202) may be provided such that the side surface (202a) is inclined at a predetermined angle with respect to the surface of the substrate. Specifically, as illustrated in FIG. 3, the angle (α) between the side surface (202a) of the second bank (202) and the surface of the substrate may be provided to be 45° or less.
즉, 상기 유기 발광층(210)이 완만한 경사로 구비된 제2뱅크(202)의 측면(202a)에 형성될 경우 유기 발광층(210)의 두께의 편차는 줄어들고, 상기 유기 발광층(210)이 가파른 경사로 구비된 제2뱅크(202)의 측면(202a)에 형성될 경우 유기 발광층(210)의 두께의 편차가 증가하게 되므로, 본 발명의 실시예에서는 상기 제2뱅크(202)의 측면(202a)을 완만한 각도로 구비함으로써 상기 제2애노드 전극(190) 상에 구비된 유기 발광층(210)을 평탄하게 형성할 수 있다. 이 때, 상기 사이각(α)은 전술한 각도에 한정되는 것은 아니고, 유기 발광물질의 점성이나 상기 제2뱅크(202)에 의해 노출되는 상기 제1뱅크(201)의 상면의 면적 등에 따라 다르게 구비될 수 있다. 그리고, 상기 제1뱅크(201)의 가장자리 상면에는 상기 유기 발광층(210)이 형성되기 때문에 상기 제1뱅크(201)의 측면(201a)이 상기 기판의 표면과 이루는 사이각은 특정한 값으로 제한되지 않는다.That is, when the organic light-emitting layer (210) is formed on the side surface (202a) of the second bank (202) having a gentle slope, the variation in the thickness of the organic light-emitting layer (210) is reduced, and when the organic light-emitting layer (210) is formed on the side surface (202a) of the second bank (202) having a steep slope, the variation in the thickness of the organic light-emitting layer (210) is increased. Therefore, in the embodiment of the present invention, by forming the side surface (202a) of the second bank (202) at a gentle angle, the organic light-emitting layer (210) formed on the second anode electrode (190) can be formed flat. At this time, the angle (α) is not limited to the angle described above, and may be formed differently depending on the viscosity of the organic light-emitting material or the area of the upper surface of the first bank (201) exposed by the second bank (202). And, since the organic light-emitting layer (210) is formed on the upper surface of the edge of the first bank (201), the angle formed between the side surface (201a) of the first bank (201) and the surface of the substrate is not limited to a specific value.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면 상기 제1뱅크(201)는 전체적으로 친수성의 특성을 갖도록 형성되고, 상기 제2뱅크(202)는 전체적으로 소수성의 특성을 갖도록 형성된다. 즉, 본 발명의 실시예에서는 상기 발광 영역에서 유기 발광층(210)의 두께가 일정하게 형성될 수 있도록 상기 제2뱅크(202)에 의해 노출된 제1뱅크(201)의 상면까지 유기 발광층(210)이 형성되어야 한다.In addition, according to one embodiment of the present invention, the first bank (201) is formed to have hydrophilic characteristics overall, and the second bank (202) is formed to have hydrophobic characteristics overall. That is, in the embodiment of the present invention, the organic light-emitting layer (210) must be formed up to the upper surface of the first bank (201) exposed by the second bank (202) so that the thickness of the organic light-emitting layer (210) can be formed uniformly in the light-emitting region.
따라서, 상기 제1뱅크(201)는 친수성의 물질로 형성되어 상면에 상기 유기 발광층(210)이 형성될 수 있고, 상기 제2뱅크(202)는 화소 영역을 정의할 수 있도록 상기 유기 발광층(210)이 형성되는 영역을 제한하기 위해 소수성의 물질로 형성된다.Accordingly, the first bank (201) is formed of a hydrophilic material so that the organic light-emitting layer (210) can be formed on the upper surface, and the second bank (202) is formed of a hydrophobic material to limit the area where the organic light-emitting layer (210) is formed so as to define a pixel area.
또한, 상기 제1뱅크(201) 및 제2뱅크(202)는 유기 물질로 형성된다. 즉, 종래에는 상기 제2애노드 전극(190) 상에 형성되는 제1뱅크(201)를 무기 물질로 형성하였는데 이 경우 하부 층에 형성된 상기 평탄화층(170) 및 박막 트랜지스터층(T)의 성능 저하를 방지하기 위해 저온 상태에서 CVD를 진행할 수 밖에 없었기 때문에 완성된 제품에서 상기 제1뱅크(201)가 필링되는 문제가 있었다. 또한, 식각 공정을 통해 상기 제1뱅크(201)를 패터닝하는 과정에서 식각액에 의해 상기 제2애노드 전극(190)이 손상되는 문제가 있었다.In addition, the first bank (201) and the second bank (202) are formed of an organic material. That is, in the past, the first bank (201) formed on the second anode electrode (190) was formed of an inorganic material. In this case, in order to prevent performance degradation of the planarization layer (170) and the thin film transistor layer (T) formed in the lower layer, CVD had to be performed at a low temperature, so there was a problem that the first bank (201) was peeled off in the finished product. In addition, there was a problem that the second anode electrode (190) was damaged by the etchant during the process of patterning the first bank (201) through an etching process.
따라서, 본 발명의 실시예에서는 이러한 품질 저하 및 제2애노드 전극(190)의 손상을 방지하기 위해 1차 마스크 공정을 통해 유기 물질로 형성되는 상기 제1뱅크(201)를 패터닝하고, 2차 마스크 공정을 통해 유기 물질로 형성되는 제2뱅크(202)를 패터닝함으로써 무기 물질을 증착하는 공정에 비해 공정을 단순화하고 생산성을 향상시킬 수 있다. 보다 구체적인 상기 제1뱅크(201) 및 제2뱅크(202)의 제조 과정에 대해서는 후술하기로 한다.Therefore, in the embodiment of the present invention, in order to prevent such quality deterioration and damage to the second anode electrode (190), the first bank (201) formed of an organic material is patterned through a first mask process, and the second bank (202) formed of an organic material is patterned through a second mask process, thereby simplifying the process and improving productivity compared to the process of depositing an inorganic material. A more specific manufacturing process of the first bank (201) and the second bank (202) will be described later.
이와 같이, 본 발명의 일 실시예에서는 친수성의 물질로 형성된 상기 제1뱅크(201)와 소수성의 물질로 형성된 상기 제2뱅크(202)를 포함하는 뱅크(200)가 전체적으로 계단 형상의 단차를 갖도록 구비하여 상기 제2애노드 전극(190) 상에 평탄한 유기 발광층(210)을 형성함으로써 균일한 휘도를 구현할 수 있고, 상기 제1뱅크(201)와 제2뱅크(202)를 유기 물질로 형성함으로써 저온 상태로 진행되는 CVD로 인한 제2애노드 전극(190)의 손상 및 품질 저하를 방지할 수 있다.As such, in one embodiment of the present invention, the bank (200) including the first bank (201) formed of a hydrophilic material and the second bank (202) formed of a hydrophobic material is provided to have a step-like shape overall, thereby forming a flat organic light-emitting layer (210) on the second anode electrode (190), thereby realizing uniform brightness, and by forming the first bank (201) and the second bank (202) of an organic material, damage and quality deterioration of the second anode electrode (190) due to CVD performed at a low temperature can be prevented.
도 4은 도 2에 도시된 A 영역을 나타낸 본 발명의 다른 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 개략적인 단면도로서, 뱅크(200)의 구성이 변경된 것을 제외하고 전술한 도 3에 따른 유기 발광 표시 장치와 동일하다. 따라서, 동일한 구성에 대해서는 동일한 도면부호를 부여하였고, 이하에서는 상이한 구성에 대해서만 설명하기로 한다.FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of an organic light emitting display device according to another embodiment of the present invention, showing area A illustrated in FIG. 2, which is identical to the organic light emitting display device according to FIG. 3 described above, except that the configuration of the bank (200) is changed. Accordingly, the same reference numerals are given to the same configurations, and only different configurations will be described below.
특히, 본 발명의 다른 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치에서 상기 제1뱅크(201)는 전체적으로 친수성의 특성을 갖도록 형성되고, 상기 제2뱅크(202)는 상부만 소수성의 특성을 갖도록 형성된다.In particular, in an organic light-emitting display device according to another embodiment of the present invention, the first bank (201) is formed to have hydrophilic characteristics overall, and the second bank (202) is formed to have hydrophobic characteristics only in the upper portion.
즉, 전술한 바와 같이, 본 발명의 실시예에서는 발광 영역에서 유기 발광층(210)의 두께가 일정하게 형성될 수 있도록 상기 제2뱅크(202)에 의해 노출된 제1뱅크(201)의 상면까지 유기 발광층(210)이 형성되어야 한다.That is, as described above, in the embodiment of the present invention, the organic light-emitting layer (210) must be formed up to the upper surface of the first bank (201) exposed by the second bank (202) so that the thickness of the organic light-emitting layer (210) can be formed uniformly in the light-emitting region.
따라서, 상기 제1뱅크(201)는 상면에 유기 발광층(210)이 형성되어야 하므로 전체적으로 친수성의 물질로 형성되어야 하지만, 상기 제2뱅크(202)는 화소 영역을 정의하기 위한 것이므로 측면(202a)까지 상기 유기 발광층(210)이 형성될 수 있다. 따라서 본 발명의 다른 실시예에 따르면 상기 제2뱅크(202)는 전체가 아닌 상부만 소수성의 물질로 형성될 수 있다. 구체적으로, 본 발명의 다른 실시예에서는 상기 제1뱅크(201) 및 제2뱅크(202)를 패터닝하는 과정에서 상기 제2뱅크(202)의 상부만을 소수성으로 형성할 수 있으며, 구체적인 과정에 대해서는 후술하기로 한다.Accordingly, the first bank (201) must be formed entirely of a hydrophilic material since the organic light-emitting layer (210) must be formed on the upper surface thereof, but the second bank (202) may be formed with the organic light-emitting layer (210) up to the side surface (202a) since the second bank (202) is intended to define a pixel area. Accordingly, according to another embodiment of the present invention, only the upper portion, not the entire second bank (202), may be formed of a hydrophobic material. Specifically, in another embodiment of the present invention, during the process of patterning the first bank (201) and the second bank (202), only the upper portion of the second bank (202) may be formed hydrophobic, and the specific process will be described later.
또한, 본 발명의 다른 실시예에 따르면, 상기 제1뱅크(201)와 상기 제2뱅크(202)는 동일한 유기 물질을 이용한 동일한 마스크 공정을 통해 패턴 형성될 수 있다. 즉, 도 3에 따른 본 발명의 일 실시예에서는 1차 마스크 공정을 통해 상기 제1뱅크(201)를 형성하고, 2차 마스크 공정을 통해 상기 제2뱅크(202)를 형성하는 두 번의 마스크 공정을 통해 상기 제1뱅크(201)와 상기 제2뱅크(202)를 형성하였으나, 본 발명의 다른 실시예에서는 하나의 마스크 공정을 통해 상기 제1뱅크(201)와 상기 제2뱅크(202)를 형성할 수 있기 때문에, 마스크 공정 회수를 줄일 수 있다.In addition, according to another embodiment of the present invention, the first bank (201) and the second bank (202) can be pattern-formed through the same mask process using the same organic material. That is, in one embodiment of the present invention according to FIG. 3, the first bank (201) and the second bank (202) are formed through two mask processes, in which the first bank (201) is formed through a first mask process and the second bank (202) is formed through a second mask process. However, in another embodiment of the present invention, the first bank (201) and the second bank (202) can be formed through one mask process, and therefore the number of mask processes can be reduced.
이와 같이, 본 발명의 다른 실시예에서는 친수성의 물질로 형성된 상기 제1뱅크(201)와 소수성의 물질로 형성된 상기 제2뱅크(202)를 포함하는 뱅크(200)가 전체적으로 계단 형상의 단차를 갖도록 구비하여 상기 제2애노드 전극(190) 상에 평탄한 유기 발광층(210)을 형성함으로써 균일한 휘도를 구현할 수 있고, 상기 제1뱅크(201)와 제2뱅크(202)를 유기 물질로 형성함으로써 저온 상태로 진행되는 CVD로 인한 제2애노드 전극(190)의 손상 및 품질 저하를 방지할 수 있으며, 하나의 마스크 공정을 통해 전술한 특징을 갖는 제1뱅크(201)와 제2뱅크(202)를 형성함으로써 마스크 공정 회수를 줄일 수 있다.In this way, in another embodiment of the present invention, the bank (200) including the first bank (201) formed of a hydrophilic material and the second bank (202) formed of a hydrophobic material is provided to have an overall step-like shape so that a flat organic light-emitting layer (210) is formed on the second anode electrode (190), thereby realizing uniform brightness, and by forming the first bank (201) and the second bank (202) of an organic material, damage and quality deterioration of the second anode electrode (190) due to CVD performed at a low temperature can be prevented, and by forming the first bank (201) and the second bank (202) having the above-described characteristics through a single mask process, the number of mask processes can be reduced.
도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 개략적인 단면도로서, 뱅크(200)의 구성이 변경된 것을 제외하고 전술한 도 4에 따른 유기 발광 표시 장치와 동일하다. 따라서, 동일한 구성에 대해서는 동일한 도면부호를 부여하였고, 이하에서는 상이한 구성에 대해서만 설명하기로 한다.FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of an organic light emitting display device according to another embodiment of the present invention, which is the same as the organic light emitting display device according to FIG. 4 described above, except that the configuration of the bank (200) is changed. Therefore, the same reference numerals are given to the same configurations, and only different configurations will be described below.
본 발명의 또 다른 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치에서 뱅크(200)는 제1뱅크(201), 제2뱅크(202), 및 제3뱅크(203)를 포함할 수 있다. 즉, 도 4에 도시된 바와 같이 상기 뱅크(200)는 2단의 계단 형상의 단차를 갖도록 형성될 수 있을 뿐만 아니라, 도 5에 도시된 바와 같이 3단의 계단 형상의 단차를 갖도록 형성될 수도 있다. 또한, 상기 뱅크(200)의 단차 구조는 도시된 바에 한정되지 않으므로 4단 이상의 계단 형상의 단차를 갖도록 형성되는 것도 가능하다.In an organic light emitting display device according to another embodiment of the present invention, the bank (200) may include a first bank (201), a second bank (202), and a third bank (203). That is, as illustrated in FIG. 4, the bank (200) may be formed to have a two-step-shaped step, and as illustrated in FIG. 5, it may also be formed to have a three-step-shaped step. In addition, the step structure of the bank (200) is not limited to that illustrated, and may be formed to have a four or more-step-shaped step.
일례로, 상기 뱅크(200)가 제1뱅크(201), 제2뱅크(202), 및 제3뱅크(203)를 포함하는 경우, 상기 제3뱅크(203)는 상기 제2뱅크(202)의 가장자리를 노출시키도록 상기 제2뱅크(202) 상에 구비될 수 있고, 상기 유기 발광층(210)은 상기 제2뱅크(202)에 의해 노출된 상기 제1뱅크(201)의 상면뿐만 아니라, 상기 제3뱅크(203)에 의해 노출된 상기 제2뱅크(202)의 상면까지 연장되어 형성될 수 있다. 즉, 상기 유기 발광층(210)이 상기 노출된 제2뱅크(202)의 상면까지 형성되는 경우 상기 유기 발광층(210)은 제1뱅크(201) 및 제2뱅크(202)의 상면을 따라 완만하게 형성될 수 있으므로, 결과적으로 발광 영역에서 상기 유기 발광층(210)의 두께는 더욱 일정하게 구비된다.For example, when the bank (200) includes a first bank (201), a second bank (202), and a third bank (203), the third bank (203) may be provided on the second bank (202) so as to expose an edge of the second bank (202), and the organic light-emitting layer (210) may be formed to extend not only to the upper surface of the first bank (201) exposed by the second bank (202), but also to the upper surface of the second bank (202) exposed by the third bank (203). That is, when the organic light-emitting layer (210) is formed up to the upper surface of the exposed second bank (202), the organic light-emitting layer (210) can be gently formed along the upper surfaces of the first bank (201) and the second bank (202), and as a result, the thickness of the organic light-emitting layer (210) in the light-emitting area is provided more consistently.
또한, 상기 뱅크(200)가 제1뱅크(201), 제2뱅크(202), 및 제3뱅크(203)를 포함하는 경우, 상기 제1뱅크(201)와 상기 제2뱅크(202)는 전체적으로 친수성의 특성을 갖도록 형성되고, 상기 제3뱅크(203)는 전체적으로 소수성의 특성을 갖거나 상부만 소수성의 특성을 갖도록 형성된다. 즉, 전술한 바와 같이 상기 발광 영역에서 상기 유기 발광층(210)의 두께가 일정하게 형성될 수 있도록 상기 제3뱅크(203)에 의해 노출된 제2뱅크(202)의 상면까지 유기 발광층(210)이 형성되어야 하므로 상기 제2뱅크(202)는 친수성 물질로 구비되고, 상기 제3뱅크(203)는 상기 유기 발광층(210)이 형성되는 영역을 제한하여 화소 영역을 정의할 수 있도록 적어도 상부는 소수성 물질로 구비될 수 있다.In addition, when the bank (200) includes the first bank (201), the second bank (202), and the third bank (203), the first bank (201) and the second bank (202) are formed to have hydrophilic characteristics overall, and the third bank (203) is formed to have hydrophobic characteristics overall or to have hydrophobic characteristics only on the upper portion. That is, as described above, in order for the thickness of the organic light-emitting layer (210) to be formed uniformly in the light-emitting region, the organic light-emitting layer (210) must be formed up to the upper surface of the second bank (202) exposed by the third bank (203), so that the second bank (202) is formed of a hydrophilic material, and the third bank (203) can be formed of at least a hydrophobic material on the upper portion so as to limit the region where the organic light-emitting layer (210) is formed and define a pixel region.
이와 같이, 상기 뱅크(200)가 3단 이상의 계단 형상의 단차를 갖도록 구비되는 경우 가장 상부에 구비되는 뱅크만 소수성 물질로 구비되어 화소 영역을 정의하고, 하부에 구비되는 나머지 뱅크는 친수성 물질로 구비되어 상기 유기 발광층(210)이 완만하게 형성되도록 함으로써 발광 영역에서 유기 발광층(210)의 두께 편차를 줄일 수 있다.In this way, when the bank (200) is provided to have a step-shaped difference of three or more steps, only the bank provided at the top is provided with a hydrophobic material to define a pixel area, and the remaining banks provided at the bottom are provided with a hydrophilic material to allow the organic light-emitting layer (210) to be formed smoothly, thereby reducing the thickness deviation of the organic light-emitting layer (210) in the light-emitting area.
또한, 전술한 바와 같이 상기 제2뱅크(202)의 측면(202a)과 상기 제3뱅크(203)의 측면(203a)이 상기 기판의 표면과 이루는 사이각은 45° 이하의 완만한 각도로 구비되어 발광 영역에서 상기 유기 발광층(210)은 평탄하게 형성될 수 있다.In addition, as described above, the angle between the side surface (202a) of the second bank (202) and the side surface (203a) of the third bank (203) and the surface of the substrate is provided at a gentle angle of 45° or less, so that the organic light-emitting layer (210) can be formed flat in the light-emitting area.
도 6a 내지 도 6j는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 제조방법을 보여주는 공정 단면도로서, 이는 전술한 도 3에 따른 유기 발광 표시 장치의 제조방법에 관한 것이다.FIGS. 6A to 6J are process cross-sectional views showing a method for manufacturing an organic light-emitting display device according to one embodiment of the present invention, which relate to the method for manufacturing an organic light-emitting display device according to FIG. 3 described above.
우선, 도 6a에서 알 수 있듯이, 기판(100) 상에 액티브층(110), 게이트 절연막(120), 게이트 전극(130), 층간 절연막(140), 소스 전극(150) 및 드레인 전극(160)을 차례로 형성한다. First, as can be seen in Fig. 6a, an active layer (110), a gate insulating film (120), a gate electrode (130), an interlayer insulating film (140), a source electrode (150), and a drain electrode (160) are sequentially formed on a substrate (100).
보다 구체적으로 설명하면, 상기 기판(100) 상에 상기 액티브층(110)을 형성하고, 상기 액티브층(110) 상에 상기 게이트 절연막(120)을 형성하고, 상기 게이트 절연막(120) 상에 상기 게이트 전극(130)을 형성하고, 상기 게이트 전극(130) 상에 상기 층간 절연막(140)을 형성하고, 상기 게이트 절연막(120) 및 상기 층간 절연막(140)에 제1콘택홀(CH1)과 제2콘택홀(CH2)을 형성하고, 그 후 상기 제1콘택홀(CH1)을 통해서 상기 액티브층(110)의 일단 영역과 연결되는 상기 드레인 전극(160), 상기 제2콘택홀(CH2)을 통해 상기 액티브층(110)의 타단 영역과 연결되는 상기 소스 전극(150)을 형성한다. To explain more specifically, the active layer (110) is formed on the substrate (100), the gate insulating film (120) is formed on the active layer (110), the gate electrode (130) is formed on the gate insulating film (120), the interlayer insulating film (140) is formed on the gate electrode (130), a first contact hole (CH1) and a second contact hole (CH2) are formed in the gate insulating film (120) and the interlayer insulating film (140), and then the drain electrode (160) connected to one end region of the active layer (110) through the first contact hole (CH1) and the source electrode (150) connected to the other end region of the active layer (110) through the second contact hole (CH2) are formed.
상기 소스 전극(150)은 하부 소스 전극(151)과 상부 소스 전극(152)으로 이루어지고, 상기 드레인 전극(160)은 하부 드레인 전극(161)과 상부 드레인 전극(162)으로 이루어진다. 이와 같은 소스 전극(150) 및 드레인 전극(160)은 동일한 물질로 동일한 패터닝 공정에 의해서 동시에 형성할 수 있다. The above source electrode (150) is composed of a lower source electrode (151) and an upper source electrode (152), and the above drain electrode (160) is composed of a lower drain electrode (161) and an upper drain electrode (162). The source electrode (150) and the drain electrode (160) can be formed simultaneously using the same material and through the same patterning process.
다음, 도 6b에서 알 수 있듯이, 상기 소스 전극(150) 및 상기 드레인 전극(160) 상에 패시베이션층(165)을 형성하고, 상기 패시베이션층(165) 상에 평탄화층(170)을 형성한다. Next, as can be seen in Fig. 6b, a passivation layer (165) is formed on the source electrode (150) and the drain electrode (160), and a planarization layer (170) is formed on the passivation layer (165).
상기 패시베이션층(165)과 상기 평탄화층(170)은 제3콘택홀(CH3)을 구비하도록 형성되어, 상기 제3콘택홀(CH3)을 통해 상기 소스 전극(150)이 외부로 노출된다. The above passivation layer (165) and the above planarization layer (170) are formed to have a third contact hole (CH3), so that the source electrode (150) is exposed to the outside through the third contact hole (CH3).
다음, 도 6c에서 알 수 있듯이, 상기 평탄화층(170) 상에 제1애노드 전극(180)과 제2애노드 전극(190)을 순차적으로 형성한다.Next, as can be seen in Fig. 6c, a first anode electrode (180) and a second anode electrode (190) are sequentially formed on the flattening layer (170).
상기 제1애노드 전극(180)은 상기 제3콘택홀(CH3)을 통해서 상기 소스 전극(150)과 연결되도록 형성한다.The above first anode electrode (180) is formed to be connected to the source electrode (150) through the third contact hole (CH3).
상기 제1애노드 전극(180)은 제1하부 애노드 전극(181) 및 제1상부 애노드 전극(182)으로 이루어지고, 상기 제2애노드 전극(190)은 제2하부 애노드 전극(191), 제2중앙 애노드 전극(192), 및 제2상부 애노드 전극(193)으로 이루어진다. The first anode electrode (180) is composed of a first lower anode electrode (181) and a first upper anode electrode (182), and the second anode electrode (190) is composed of a second lower anode electrode (191), a second central anode electrode (192), and a second upper anode electrode (193).
다음, 도 6d에서 알 수 있듯이, 상기 제2애노드 전극(190) 상에 친수성의 유기 물질로 이루어진 제1뱅크층(BK1)을 형성한다. 보다 구체적으로 상기 제2애노드 전극(190)을 포함하는 액티브 영역 전면에 상기 제1뱅크층(BK1)을 형성한다. 특히, 본 발명의 실시예에 따른 상기 제1뱅크층(BK1)은 네가티브 타입의 감광성 물질로 이루어질 수 있다.Next, as can be seen in FIG. 6d, a first bank layer (BK1) made of a hydrophilic organic material is formed on the second anode electrode (190). More specifically, the first bank layer (BK1) is formed on the entire surface of the active area including the second anode electrode (190). In particular, the first bank layer (BK1) according to an embodiment of the present invention may be made of a negative type photosensitive material.
즉, 상기 제1뱅크층(BK1)은 네가티브 타입의 감광성 물질로 이루어지기 때문에, 노광 시 자외선이 조사된 영역은 현상 공정 후 남아 있게 되고, 노광 시 광이 차단된 영역은 현상 공정 후 제거되는 특성을 갖는다.That is, since the first bank layer (BK1) is made of a negative type photosensitive material, the area irradiated with ultraviolet rays during exposure remains after the development process, and the area blocked from light during exposure has the characteristic of being removed after the development process.
다음, 도 6e에서 알 수 있듯이, 상기 제1뱅크층(BK1) 상에 제1포토 레지스트 패턴(M1)을 형성하여 정렬시킨다. 특히 상기 제1포토 레지스트 패턴(M1)은 노광 시 광이 모두 투과되는 제1투과 패턴(M1-1) 및 노광 시 광을 모두 차단하는 제2차광 패턴(M1-2)을 포함할 수 있다.Next, as can be seen in FIG. 6e, a first photoresist pattern (M1) is formed and aligned on the first bank layer (BK1). In particular, the first photoresist pattern (M1) may include a first transmitting pattern (M1-1) that transmits all light during exposure and a second blocking pattern (M1-2) that blocks all light during exposure.
이와 같이 상기 제1포토 레지스트 패턴(M1)을 정렬시킨 후 상기 제1포토 레지스트 패턴(M1)을 마스크로 하여 상기 제1뱅크층(BK1)에 대해 노광 및 현상 공정을 수행한다.After aligning the first photo resist pattern (M1) in this manner, an exposure and development process is performed on the first bank layer (BK1) using the first photo resist pattern (M1) as a mask.
상기 제1포토 레지스트 패턴(M1)은 상기 제1투과 패턴(M1-1) 및 제2차광 패턴(M1-2)을 포함하기 때문에, 상기 제1투과 패턴(M1-1)의 하부에 위치하는 상기 제1뱅크층(BK1)으로는 자외선이 모두 조사되고, 상기 제2차광 패턴(M1-2)의 하부에 위치하는 상기 제1뱅크층(BK1)으로는 자외선이 조사되지 않는다.Since the first photoresist pattern (M1) includes the first transparent pattern (M1-1) and the second blocking pattern (M1-2), ultraviolet rays are completely irradiated to the first bank layer (BK1) located below the first transparent pattern (M1-1), and ultraviolet rays are not irradiated to the first bank layer (BK1) located below the second blocking pattern (M1-2).
다음, 도 6f에서 알 수 있듯이, 상기 제1포토 레지스트 패턴(M1)을 스트립(strip) 공정을 통해 제거하여 상기 제1뱅크(201)와 상기 제2애노드 전극(190)이 외부로 노출된 기판(100)을 획득한다. 보다 구체적으로 상기 제2애노드 전극(190)의 일측 및 타측에 상기 제1뱅크(201)가 패터닝되고 상기 제1뱅크(201)가 형성되지 않은 영역에서 상기 제2애노드 전극(190)이 외부로 노출된다.Next, as can be seen in FIG. 6f, the first photoresist pattern (M1) is removed through a strip process to obtain a substrate (100) in which the first bank (201) and the second anode electrode (190) are exposed to the outside. More specifically, the first bank (201) is patterned on one side and the other side of the second anode electrode (190), and the second anode electrode (190) is exposed to the outside in an area where the first bank (201) is not formed.
즉, 전술한 바와 같이, 상기 제1뱅크층(BK1)이 네가티브 타입의 감광성 물질로 이루어지므로, 상기 제1투과 패턴(M1-1)에 대응되어 자외선이 모두 조사된 상기 제1뱅크층(BK1)은 모두 남아 있게 되어 제1뱅크(201)를 형성하고, 제2차광 패턴(M1-2)에 대응되어 자외선이 조사되지 않은 상기 제1뱅크층(BK1)은 모두 제거된다.That is, as described above, since the first bank layer (BK1) is made of a negative type photosensitive material, the first bank layer (BK1) that is fully irradiated with ultraviolet rays corresponding to the first transmitting pattern (M1-1) remains to form the first bank (201), and the first bank layer (BK1) that is not irradiated with ultraviolet rays corresponding to the second blocking pattern (M1-2) is completely removed.
다음, 도 6g에서 알 수 있듯이, 상기 제1뱅크(201) 상에 소수성의 유기 물질로 이루어진 제2뱅크층(BK2)을 형성한다. 보다 구체적으로 상기 제2애노드 전극(190) 및 제1뱅크(201)를 포함하는 액티브 영역 전면에 상기 제2뱅크층(BK2)을 형성한다. 특히, 본 발명의 실시예에 따른 상기 제2뱅크층(BK2)은 네가티브 타입의 감광성 물질로 이루어질 수 있다.Next, as can be seen in FIG. 6g, a second bank layer (BK2) made of a hydrophobic organic material is formed on the first bank (201). More specifically, the second bank layer (BK2) is formed on the entire surface of the active area including the second anode electrode (190) and the first bank (201). In particular, the second bank layer (BK2) according to an embodiment of the present invention may be made of a negative-type photosensitive material.
즉, 상기 제2뱅크층(BK2)은 네가티브 타입의 감광성 물질로 이루어지기 때문에, 노광 시 자외선이 조사된 영역은 현상 공정 후 남아 있게 되고, 노광 시 광이 차단된 영역은 현상 공정 후 제거되는 특성을 갖는다.That is, since the second bank layer (BK2) is made of a negative type photosensitive material, the area irradiated with ultraviolet rays during exposure remains after the development process, and the area blocked from light during exposure has the characteristic of being removed after the development process.
다음, 도 6h에서 알 수 있듯이, 상기 제2뱅크층(BK2) 상에 제2포토 레지스트 패턴(M2)을 형성하여 정렬시킨다. 특히 상기 제2포토 레지스트 패턴(M2)은 노광 시 광이 모두 투과되는 제2투과 패턴(M2-1) 및 노광 시 광을 모두 차단하는 제2차광 패턴(M2-2)을 포함할 수 있다.Next, as can be seen in FIG. 6h, a second photoresist pattern (M2) is formed and aligned on the second bank layer (BK2). In particular, the second photoresist pattern (M2) may include a second transmitting pattern (M2-1) that transmits all light during exposure and a second blocking pattern (M2-2) that blocks all light during exposure.
이와 같이 상기 제2포토 레지스트 패턴(M2)을 정렬시킨 후 상기 제2포토 레지스트 패턴(M2)을 마스크로 하여 상기 제2뱅크층(BK2)에 대해 노광 및 현상 공정을 수행한다.After aligning the second photo resist pattern (M2) in this manner, an exposure and development process is performed on the second bank layer (BK2) using the second photo resist pattern (M2) as a mask.
상기 제2포토 레지스트 패턴(M2)은 상기 제2투과 패턴(M2-1) 및 제2차광 패턴(M2-2)을 포함하기 때문에, 상기 제2투과 패턴(M2-1)의 하부에 위치하는 상기 제2뱅크층(BK2)으로는 자외선이 모두 조사되고, 상기 제2차광 패턴(M2-2)에 대응되는 상기 제2뱅크층(BK2)으로는 자외선이 조사되지 않는다.Since the second photoresist pattern (M2) includes the second transparent pattern (M2-1) and the second blocking pattern (M2-2), ultraviolet rays are completely irradiated to the second bank layer (BK2) located below the second transparent pattern (M2-1), and ultraviolet rays are not irradiated to the second bank layer (BK2) corresponding to the second blocking pattern (M2-2).
다음, 도 6i에서 알 수 있듯이, 상기 제2포토 레지스트 패턴(M2)을 스트립(strip) 공정을 통해 제거하여 상기 제1뱅크(201), 상기 제2뱅크(202) 및 상기 제2애노드 전극(190)이 외부로 노출된 기판(100)을 획득한다. 보다 구체적으로 상기 제2애노드 전극(190)의 일측 및 타측에 상기 제1뱅크(201) 및 상기 제2뱅크(202)가 패터닝되고 상기 제2뱅크(202)에 의해서 상기 제1뱅크(201)의 가장자리 및 상기 제2애노드 전극(190)이 외부로 노출된다.Next, as can be seen in FIG. 6i, the second photoresist pattern (M2) is removed through a strip process to obtain a substrate (100) in which the first bank (201), the second bank (202), and the second anode electrode (190) are exposed to the outside. More specifically, the first bank (201) and the second bank (202) are patterned on one side and the other side of the second anode electrode (190), and the edge of the first bank (201) and the second anode electrode (190) are exposed to the outside by the second bank (202).
즉, 전술한 바와 같이, 상기 제2뱅크층(BK2)이 네가티브 타입의 감광성 물질로 이루어지므로, 상기 제2투과 패턴(M2-1)에 대응되어 자외선이 모두 조사된 상기 제2뱅크층(BK2)은 모두 남아 있게 되어 제2뱅크(202)를 형성하고, 제2차광 패턴(M2-2)에 대응되어 자외선이 조사되지 않은 상기 제2뱅크층(BK2)은 모두 제거된다.That is, as described above, since the second bank layer (BK2) is made of a negative type photosensitive material, the second bank layer (BK2) that is fully irradiated with ultraviolet rays corresponding to the second transmitting pattern (M2-1) remains to form the second bank (202), and the second bank layer (BK2) that is not irradiated with ultraviolet rays corresponding to the second blocking pattern (M2-2) is completely removed.
특히, 본 발명의 실시예에서 상기 제2뱅크(202)는 상기 제1뱅크(201)의 가장자리를 노출시키도록 형성되어야 하므로, 상기 제2포토 레지스트 패턴(M2)에 포함된 상기 제2차광 패턴(M2-2)이 상기 제1포토 레지스트 패턴(M1)에 포함된 상기 제1차광 패턴(M1-2) 보다 더 큰 폭을 갖도록 구비된다.In particular, in the embodiment of the present invention, the second bank (202) must be formed to expose the edge of the first bank (201), so that the second light-shielding pattern (M2-2) included in the second photoresist pattern (M2) is provided to have a wider width than the first light-shielding pattern (M1-2) included in the first photoresist pattern (M1).
다음, 도 6j에서 알 수 있듯이, 상기 제2애노드 전극(190) 상에 유기 발광층(210) 및 캐소드 전극(220)을 순차적으로 형성한다. 상기 유기 발광층(210)은 잉크젯 인쇄 방식을 통해 가용성(Soluble)의 유기 발광물질을 분사하여 형성되며, 전술한 바와 같이 상기 제1뱅크(201)는 친수성 물질로 이루어지고 상기 제2뱅크(202)는 소수성 물질로 이루어지므로 상기 유기 발광층(210)은 상기 제2애노드 전극(190)의 상면, 및 상기 제2뱅크(202)에 의해 노출된 상기 제1뱅크(201)의 가장자리 상면에는 증착될 수 있지만 상기 제2뱅크(202)의 상면에는 증착되지 않게 된다.Next, as can be seen in FIG. 6j, an organic light-emitting layer (210) and a cathode electrode (220) are sequentially formed on the second anode electrode (190). The organic light-emitting layer (210) is formed by spraying a soluble organic light-emitting material using an inkjet printing method, and as described above, the first bank (201) is made of a hydrophilic material and the second bank (202) is made of a hydrophobic material, so the organic light-emitting layer (210) can be deposited on the upper surface of the second anode electrode (190) and the upper surface of the edge of the first bank (201) exposed by the second bank (202), but is not deposited on the upper surface of the second bank (202).
즉, 본 발명의 실시예에서는 전술한 바와 같이 친수성 물질로 이루어진 제1뱅크층(BK1)과 소수성 물질로 이루어진 제2뱅크층(BK2)을 이용하여 상기 제1뱅크(201)와 제2뱅크(202)를 형성함으로써, 상기 제1뱅크(201)에 의해 노출된 상기 제2애노드 전극(190)의 상면뿐만 아니라 상기 제2뱅크(202)에 의해 노출된 상기 제1뱅크(201)의 상면에도 상기 유기 발광층(210)이 형성될 수 있다. 그리고 이로 인해, 발광 영역에 해당하는 상기 제2애노드 전극(190)이 노출된 영역에서 상기 유기 발광층(210)은 평탄하게 형성될 수 있다.That is, in the embodiment of the present invention, by forming the first bank (201) and the second bank (202) using the first bank layer (BK1) made of a hydrophilic material and the second bank layer (BK2) made of a hydrophobic material as described above, the organic light-emitting layer (210) can be formed not only on the upper surface of the second anode electrode (190) exposed by the first bank (201) but also on the upper surface of the first bank (201) exposed by the second bank (202). As a result, the organic light-emitting layer (210) can be formed flat in the area where the second anode electrode (190) is exposed, which corresponds to the light-emitting area.
또한, 본 발명의 실시예에서는 전술한 바와 같이 유기 물질로 이루어진 제1뱅크층(BK1)과 제2뱅크층(BK2)을 이용하여 제1뱅크(201)와 제2뱅크(202)를 형성함으로써, 무기 물질로 뱅크를 형성하는 경우에 비해서 공정을 단순화하고 생산성을 향상시킬 수 있으며, 뱅크를 패터닝하는 과정에서 식각액에 의해 상기 제2애노드 전극(190)이 손상되는 것을 방지할 수 있다.In addition, in the embodiment of the present invention, by forming the first bank (201) and the second bank (202) using the first bank layer (BK1) and the second bank layer (BK2) made of organic materials as described above, the process can be simplified and productivity can be improved compared to the case where the bank is formed using an inorganic material, and the second anode electrode (190) can be prevented from being damaged by the etchant during the process of patterning the bank.
상기에서는 네가티브 타입의 감광성 물질로 이루어진 제1뱅크층(BK1) 및 제2뱅크층(BK2)를 통해 상기 제1뱅크(201) 및 제2뱅크(202)를 형성하는 것으로 기재하였으나, 본 발명은 이에 한정되지 않으므로 파지티브(positive) 타입의 감광성 물질로 이루어진 뱅크층을 이용해서 상기 제1뱅크(201) 및 제2뱅크(202)를 형성하는 것도 가능하다고 할 것이다.In the above, it has been described that the first bank (201) and the second bank (202) are formed through the first bank layer (BK1) and the second bank layer (BK2) made of a negative type photosensitive material, but the present invention is not limited thereto, and it will be possible to form the first bank (201) and the second bank (202) using a bank layer made of a positive type photosensitive material.
또한, 도시되지는 않았으나, 전술한 상기 제2뱅크(202)를 형성하는 공정(도 6i) 이후에, 상기 제2뱅크(202)의 가장자리를 노출시키도록 제3뱅크를 형성하는 공정이 추가될 수 있다. 그리고 이 경우 상기 유기 발광층(210)을 형성하는 공정(도 6j) 시에 제3뱅크에 의해 노출된 제2뱅크(202)의 상면까지 상기 유기 발광층(210)을 형성한다. 따라서, 상기 유기 발광층(210)은 상기 제1뱅크(201) 및 제2뱅크(202)의 상면을 따라 완만하게 형성될 수 있으므로, 결과적으로 발광 영역에서 상기 유기 발광층(210)의 두께는 더욱 일정하게 구비된다. 이와 같이, 상기 제2뱅크(202) 상에 제3뱅크를 추가로 형성하는 경우에는 상기 제1뱅크(201)와 제2뱅크(202)는 친수성을 갖는 물질을 이용하여 형성하고, 제3뱅크는 소수성을 갖는 물질을 이용하여 형성한다.In addition, although not illustrated, after the process of forming the second bank (202) described above (FIG. 6i), a process of forming a third bank may be added to expose the edge of the second bank (202). In this case, during the process of forming the organic light-emitting layer (210) (FIG. 6j), the organic light-emitting layer (210) is formed up to the upper surface of the second bank (202) exposed by the third bank. Accordingly, the organic light-emitting layer (210) can be gently formed along the upper surfaces of the first bank (201) and the second bank (202), and as a result, the thickness of the organic light-emitting layer (210) in the light-emitting region becomes more constant. In this way, when the third bank is additionally formed on the second bank (202), the first bank (201) and the second bank (202) are formed using a hydrophilic material, and the third bank is formed using a hydrophobic material.
도 7a 내지 도 7g는 본 발명의 다른 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 뱅크를 형성하는 제조방법을 보여주는 공정 단면도이다. 이는 전술한 도 4에 따른 유기 발광 표시 장치의 제조방법에 관한 것이다. 따라서, 동일한 구성에 대해서는 동일한 도면부호를 부여하였고, 각각의 구성의 물질 및 구조 등에 있어서 반복되는 부분에 대한 중복 설명은 생략된다.FIGS. 7A to 7G are process cross-sectional views showing a manufacturing method for forming a bank of an organic light-emitting display device according to another embodiment of the present invention. This relates to the manufacturing method of the organic light-emitting display device according to FIG. 4 described above. Therefore, the same reference numerals are assigned to the same components, and redundant descriptions of repetitive parts in materials and structures of each component are omitted.
우선, 도 7a에서 알 수 있듯이, 기판(100) 상에 액티브층(110), 게이트 절연막(120), 게이트 전극(130), 층간 절연막(140), 소스 전극(150) 및 드레인 전극(160)을 차례로 형성한다.First, as can be seen in Fig. 7a, an active layer (110), a gate insulating film (120), a gate electrode (130), an interlayer insulating film (140), a source electrode (150), and a drain electrode (160) are sequentially formed on a substrate (100).
보다 구체적으로 설명하면, 상기 기판(100) 상에 상기 액티브층(110)을 형성하고, 상기 액티브층(110) 상에 상기 게이트 절연막(120)을 형성하고, 상기 게이트 절연막(120) 상에 상기 게이트 전극(130)을 형성하고, 상기 게이트 전극(130) 상에 상기 층간 절연막(140)을 형성하고, 상기 게이트 절연막(120) 및 상기 층간 절연막(140)에 제1콘택홀(CH1)과 제2콘택홀(CH2)을 형성하고, 그 후 상기 제1콘택홀(CH1)을 통해서 상기 액티브층(110)의 일단 영역과 연결되는 상기 드레인 전극(160), 상기 제2콘택홀(CH2)을 통해 상기 액티브층(110)의 타단 영역과 연결되는 상기 소스 전극(150)을 형성한다. To explain more specifically, the active layer (110) is formed on the substrate (100), the gate insulating film (120) is formed on the active layer (110), the gate electrode (130) is formed on the gate insulating film (120), the interlayer insulating film (140) is formed on the gate electrode (130), a first contact hole (CH1) and a second contact hole (CH2) are formed in the gate insulating film (120) and the interlayer insulating film (140), and then the drain electrode (160) connected to one end region of the active layer (110) through the first contact hole (CH1) and the source electrode (150) connected to the other end region of the active layer (110) through the second contact hole (CH2) are formed.
상기 소스 전극(150)은 하부 소스 전극(151)과 상부 소스 전극(152)으로 이루어지고, 상기 드레인 전극(160)은 하부 드레인 전극(161)과 상부 드레인 전극(162)으로 이루어진다. 이와 같은 소스 전극(150) 및 드레인 전극(160)은 동일한 물질로 동일한 패터닝 공정에 의해서 동시에 형성할 수 있다.The above source electrode (150) is composed of a lower source electrode (151) and an upper source electrode (152), and the above drain electrode (160) is composed of a lower drain electrode (161) and an upper drain electrode (162). The source electrode (150) and the drain electrode (160) can be formed simultaneously using the same material and through the same patterning process.
다음, 도 7b에서 알 수 있듯이, 상기 소스 전극(150) 및 상기 드레인 전극(160) 상에 패시베이션층(165)을 형성하고, 상기 패시베이션층(165) 상에 평탄화층(170)을 형성한다. Next, as can be seen in Fig. 7b, a passivation layer (165) is formed on the source electrode (150) and the drain electrode (160), and a planarization layer (170) is formed on the passivation layer (165).
상기 패시베이션층(165)과 상기 평탄화층(170)은 제3콘택홀(CH3)을 구비하도록 형성되어, 상기 제3콘택홀(CH3)을 통해 상기 소스 전극(150)이 외부로 노출된다.The above passivation layer (165) and the above planarization layer (170) are formed to have a third contact hole (CH3), so that the source electrode (150) is exposed to the outside through the third contact hole (CH3).
다음, 도 7c에서 알 수 있듯이, 상기 평탄화층(170) 상에 제1애노드 전극(180)과 제2애노드 전극(190)을 순차적으로 형성한다.Next, as can be seen in Fig. 7c, a first anode electrode (180) and a second anode electrode (190) are sequentially formed on the flattening layer (170).
상기 제1애노드 전극(180)은 상기 제3콘택홀(CH3)을 통해서 상기 소스 전극(150)과 연결되도록 형성한다.The above first anode electrode (180) is formed to be connected to the source electrode (150) through the third contact hole (CH3).
상기 제1애노드 전극(180)은 제1하부 애노드 전극(181) 및 제1상부 애노드 전극(182)으로 이루어지고, 상기 제2애노드 전극(190)은 제2하부 애노드 전극(191), 제2중앙 애노드 전극(192), 및 제2상부 애노드 전극(193)으로 이루어진다.The first anode electrode (180) is composed of a first lower anode electrode (181) and a first upper anode electrode (182), and the second anode electrode (190) is composed of a second lower anode electrode (191), a second central anode electrode (192), and a second upper anode electrode (193).
다음, 도 7d에서 알 수 있듯이, 상기 제2애노드 전극(190) 상에 유기 물질로 이루어진 뱅크층(BK)을 형성한다. 보다 구체적으로 상기 제2애노드 전극(190)을 포함하는 액티브 영역 전면에 상기 뱅크층(BK)을 형성한다. 특히, 본 발명의 실시예에 따른 상기 뱅크층(BK)은 네가티브 타입의 감광성 물질로 이루어질 수 있다.Next, as can be seen in FIG. 7d, a bank layer (BK) made of an organic material is formed on the second anode electrode (190). More specifically, the bank layer (BK) is formed on the entire surface of the active region including the second anode electrode (190). In particular, the bank layer (BK) according to an embodiment of the present invention may be made of a negative type photosensitive material.
즉, 상기 뱅크층(BK)은 네가티브 타입의 감광성 물질로 이루어지기 때문에, 노광 시 자외선이 조사된 영역은 현상 공정 후 남아 있게 되고, 노광 시 광이 차단된 영역은 현상 공정 후 제거되는 특성을 갖는다.That is, since the above bank layer (BK) is made of a negative type photosensitive material, the area irradiated with ultraviolet rays during exposure remains after the development process, and the area blocked from light during exposure has the characteristic of being removed after the development process.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 상기 뱅크층(BK)은 노광 시 자외선(UV)이 조사되는 영역에서 가교 결합(cross linking)에 의해 소수성제(hydrophobic agent)가 바인딩될 수 있는 물질을 포함하여 이루어진다. 일례로, 상기 뱅크층(BK)은 아크릴 수지(acryl resin), 에폭시 수지(epoxy resin), 페놀 수지(phenolic resin), 폴리아미드 수지(polyamide resin), 폴리이미드 수지(polyimide resin) 등의 유기 물질에 소수성제에 해당하는 플루오린(fluorine)이 혼합된 물질일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 이하에서는 뱅크층(BK)이 플루오린을 포함하는 유기 물질인 경우를 예로 들어 설명하기로 한다.In addition, the bank layer (BK) according to an embodiment of the present invention is formed by including a material to which a hydrophobic agent can be bound by cross linking in a region where ultraviolet (UV) rays are irradiated during exposure. For example, the bank layer (BK) may be a material in which fluorine, which is a hydrophobic agent, is mixed with an organic material such as an acrylic resin, an epoxy resin, a phenolic resin, a polyamide resin, or a polyimide resin, but is not limited thereto. Hereinafter, a case in which the bank layer (BK) is an organic material including fluorine will be described as an example.
다음, 도 7e에서 알 수 있듯이, 상기 뱅크층(BK) 상에 포토 레지스트 패턴(M)을 형성하여 정렬시킨다. 그리고, 소프트 베이킹(soft-baking) 과정을 통해 상기 포토 레지스트 패턴(M)의 용제(solvent)를 제거하는데, 이 과정에서 상기 뱅크층(BK)에 포함된 플루오린이 표면으로 이동하게 된다.Next, as can be seen in Fig. 7e, a photoresist pattern (M) is formed and aligned on the bank layer (BK). Then, the solvent of the photoresist pattern (M) is removed through a soft baking process, and in this process, fluorine included in the bank layer (BK) moves to the surface.
특히 상기 포토 레지스트 패턴(M)은 노광 시 광이 모두 투과되는 투과 패턴(M1), 노광 시 광을 모두 차단하는 차광 패턴(M2), 및 노광 시 광이 절반만 투과되는 반투과 패턴(M3)을 포함할 수 있다. 이와 같이 상기 포토 레지스트 패턴(M)을 정렬시킨 후 상기 포토 레지스트 패턴(M)을 마스크로 하여 상기 뱅크층(BK)에 대해 노광 및 현상 공정을 수행한다.In particular, the photoresist pattern (M) may include a transparent pattern (M1) through which all light is transmitted during exposure, a light-blocking pattern (M2) through which all light is blocked during exposure, and a semi-transparent pattern (M3) through which only half of the light is transmitted during exposure. After aligning the photoresist pattern (M) in this manner, an exposure and development process is performed on the bank layer (BK) using the photoresist pattern (M) as a mask.
상기 포토 레지스트 패턴(M)은 상기 투과 패턴(M1), 차광 패턴(M2) 및 반투과 패턴(M3)을 포함하기 때문에, 상기 투과 패턴(M1)의 하부에 위치하는 상기 뱅크층(BK)으로는 자외선이 모두 조사되고, 상기 차광 패턴(M2)의 하부에 위치하는 상기 뱅크층(BK)으로는 자외선이 조사되지 않고, 상기 반투과 패턴(M3)의 하부에 위치하는 상기 뱅크층(BK)으로는 자외선이 일부만 조사된다. 그리고, 상기 뱅크층(BK)은 노광 시 가교 결합(cross linking)을 형성하는데 전술한 소프트 베이킹 과정에서 표면으로 이동한 플루오린이 가교 결합에 의해 표면에 고정된다. Since the above photoresist pattern (M) includes the transparent pattern (M1), the shielding pattern (M2), and the semi-transparent pattern (M3), the bank layer (BK) located under the transparent pattern (M1) is completely irradiated with ultraviolet rays, the bank layer (BK) located under the shielding pattern (M2) is not irradiated with ultraviolet rays, and only a portion of the bank layer (BK) located under the semi-transparent pattern (M3) is irradiated with ultraviolet rays. In addition, the bank layer (BK) forms cross linking during exposure, and the fluorine that has moved to the surface during the above-described soft baking process is fixed to the surface by cross linking.
따라서, 상기 투과 패턴(M1)의 하부에 위치하는 상기 뱅크층(BK)에서는 가교 결합이 형성되어 소수성제를 고정시킴에 따라 상부가 소수성을 띄게 되고, 상기 차광 패턴(M2)의 하부에 위치하는 상기 뱅크층(BK)에는 소수성제가 존재하지 않기 때문에 친수성을 띄게 된다. 또한, 상기 반투과 패턴(M3)의 하부에 위치하는 상기 뱅크층(BK)으로는 자외선이 일부만 조사되어 가교 결합이 제대로 형성되지 못하여 소수성제를 고정시키지 못하므로 해당 영역의 뱅크층(BK)은 친수성을 띄게 된다. 따라서, 노광 및 현상 공정이 수행되면 상기 투과 패턴(M1)의 하부에 위치하는 상기 뱅크층(BK)의 상부는 소수성 물질로 구비되고, 상기 차광 패턴(M2)과 반투과 패턴(M3)의 하부에 위치하는 상기 뱅크층(BK)은 친수성 물질로 구비된다. 이와 같이, 본 발명의 실시예에서는 소수성제를 포함하는 뱅크층을 이용함으로써 단일의 마스크 공정을 통해서 단차를 갖는 뱅크를 형성함과 동시에 상부만 소수성을 띄도록 할 수 있다.Accordingly, in the bank layer (BK) located below the transparent pattern (M1), cross-linking is formed to fix the hydrophobic agent, so that the upper part becomes hydrophobic, and since the hydrophobic agent does not exist in the bank layer (BK) located below the shading pattern (M2), it becomes hydrophilic. In addition, since only a portion of the bank layer (BK) located below the semi-transparent pattern (M3) is irradiated with ultraviolet rays, cross-linking is not properly formed, and thus the hydrophobic agent is not fixed, so the bank layer (BK) in the corresponding region becomes hydrophilic. Accordingly, when the exposure and development processes are performed, the upper part of the bank layer (BK) located below the transparent pattern (M1) is formed of a hydrophobic material, and the bank layer (BK) located below the shading pattern (M2) and the semi-transparent pattern (M3) is formed of a hydrophilic material. In this way, in an embodiment of the present invention, by using a bank layer including a hydrophobic agent, a bank having steps can be formed through a single mask process while making only the upper part hydrophobic.
다음, 도 7f에서 알 수 있듯이, 상기 포토 레지스트 패턴(M)을 스트립(strip) 공정을 통해 제거하여 상기 제1뱅크(201)의 가장자리, 상기 제2뱅크(202) 및 상기 제2애노드 전극(190)이 외부로 노출된 기판(100)을 획득한다. 보다 구체적으로 상기 제2애노드 전극(190)의 일측 및 타측에 상기 제1뱅크(201)가 패터닝되고 상기 제1뱅크(201)가 형성되지 않은 영역에서 상기 제2애노드 전극(190)이 외부로 노출되며, 상기 제1뱅크(201)의 가장자리 상면을 노출시키도록 상기 제1뱅크(201) 상에 상기 제2뱅크(202)가 형성된다.Next, as can be seen in FIG. 7f, the photoresist pattern (M) is removed through a strip process to obtain a substrate (100) in which the edge of the first bank (201), the second bank (202), and the second anode electrode (190) are exposed to the outside. More specifically, the first bank (201) is patterned on one side and the other side of the second anode electrode (190), and the second anode electrode (190) is exposed to the outside in an area where the first bank (201) is not formed, and the second bank (202) is formed on the first bank (201) so as to expose the upper surface of the edge of the first bank (201).
즉, 전술한 바와 같이, 상기 뱅크층(BK)이 네가티브 타입의 감광성 물질로 이루어지므로, 상기 투과 패턴(M1)에 대응되어 자외선이 모두 조사된 상기 뱅크층(BK)은 모두 남아 있게 되고, 상기 차광 패턴(M2)에 대응되어 자외선이 조사되지 않은 상기 뱅크층(BK)은 모두 제거되고, 상기 반투과 패턴(M3)에 대응되어 자외선이 일부만 조사된 상기 뱅크층(BK)은 절반만 남아 있게 된다. 따라서, 최종적으로 도 7f에 도시된 바와 같이 계단 형상의 단차 구조를 갖는 제1뱅크(201) 및 제2뱅크(202)가 형성된다. 이와 같이, 본 발명의 다른 실시예에서는 제1뱅크(201)와 제2뱅크(202)를 하나의 슬릿 마스크 또는 하프톤 마스크를 통해서 형성함으로써 마스크 공정 회수를 줄일 수 있다.That is, as described above, since the bank layer (BK) is made of a negative type photosensitive material, the bank layer (BK) that is fully irradiated with ultraviolet rays corresponding to the transparent pattern (M1) remains entirely, the bank layer (BK) that is not irradiated with ultraviolet rays corresponding to the light-shielding pattern (M2) is entirely removed, and the bank layer (BK) that is only partially irradiated with ultraviolet rays corresponding to the semi-transparent pattern (M3) remains only half. Accordingly, as finally illustrated in FIG. 7f, the first bank (201) and the second bank (202) having a step structure in the shape of a staircase are formed. In this way, in another embodiment of the present invention, the number of mask processes can be reduced by forming the first bank (201) and the second bank (202) through one slit mask or halftone mask.
다음, 도 7g에서 알 수 있듯이, 상기 제2애노드 전극(190) 상에 유기 발광층(210) 및 캐소드 전극(220)을 순차적으로 형성한다. 상기 유기 발광층(210)은 잉크젯 인쇄 방식을 통해 가용성(Soluble)의 유기 발광물질을 분사하여 형성되며, 전술한 바와 같이 상기 제1뱅크(201)와 제2뱅크(202)를 형성하는 공정의 노광에 의해 상기 제1뱅크(201)는 친수성 물질로 구비되고 상기 제2뱅크(202)는 상부만이 소수성 물질로 구비되므로 상기 유기 발광층(210)은 상기 제2애노드 전극(190)의 상면, 및 상기 제2뱅크(202)에 의해 노출된 상기 제1뱅크(201)의 가장자리 상면에는 증착될 수 있지만 상기 제2뱅크(202)의 상면에는 증착되지 않게 된다.Next, as can be seen in FIG. 7g, an organic light-emitting layer (210) and a cathode electrode (220) are sequentially formed on the second anode electrode (190). The organic light-emitting layer (210) is formed by spraying a soluble organic light-emitting material using an inkjet printing method, and as described above, the first bank (201) is formed of a hydrophilic material and the second bank (202) is formed of a hydrophobic material only in the upper part by the exposure process of forming the first bank (201) and the second bank (202). Therefore, the organic light-emitting layer (210) can be deposited on the upper surface of the second anode electrode (190) and the upper surface of the edge of the first bank (201) exposed by the second bank (202), but is not deposited on the upper surface of the second bank (202).
특히, 본 발명의 실시예에서는 전술한 바와 같이 네가티브 타입의 감광성 물질로 이루어진 뱅크층(BK)을 이용함으로써 상기 제1뱅크(201)는 친수성 물질로 구비하고 상기 제2뱅크(202)는 상부만을 소수성 물질로 구비할 수 있다. 이에 대해서 보다 구체적으로 설명하면 다음과 같다.In particular, in the embodiment of the present invention, by using a bank layer (BK) made of a negative type photosensitive material as described above, the first bank (201) can be provided with a hydrophilic material and the second bank (202) can be provided with a hydrophobic material only on the upper part. This will be described in more detail as follows.
만약, 파지티브 타입의 감광성 물질로 이루어진 뱅크층(BK)을 이용하여 전술한 공정을 거칠 경우, 상기 뱅크층(BK)은 노광 시 자외선이 조사된 영역은 현상 공정 후 제거되고, 노광 시 광이 차단된 영역은 현상 공정 후 남아 있게 된다. 즉, 자외선이 조사된 영역은 광 화학작용을 통해 현상액에 의해 제거될 수 있는 상태로 변화하게 되고, 자외선이 조사되지 않은 영역은 그대로 남아 있을 뿐이기 때문에 네가티브 타입의 감광성 물질을 이용한 노광 공정에서와 같이 가교 결합에 의해 소수성제가 표면에서 바인딩될 수 없다. 이와 같이, 파지티브 타입의 감광성 물질로 이루어진 뱅크층(BK)을 이용해서는 특정 뱅크의 상부만을 소수성으로 형성할 수 없기 때문에, 본 발명의 실시예에서는 네가티브 타입의 감광성 물질로 이루어진 뱅크층(BK)을 이용함으로써 상기와 같은 특성의 제1뱅크(201) 및 제2뱅크(202)를 형성할 수 있다.If the bank layer (BK) made of a positive type photosensitive material is used to carry out the above-described process, the area of the bank layer (BK) that has been irradiated with ultraviolet rays during exposure is removed after the development process, and the area that has been blocked from light during exposure remains after the development process. That is, the area that has been irradiated with ultraviolet rays changes into a state that can be removed by a developer through a photochemical reaction, and the area that has not been irradiated with ultraviolet rays remains as it is, so the hydrophobic agent cannot be bound to the surface by cross-linking as in the exposure process using a negative type photosensitive material. In this way, since it is impossible to form only the upper part of a specific bank hydrophobic by using the bank layer (BK) made of a positive type photosensitive material, in the embodiment of the present invention, the first bank (201) and the second bank (202) having the above-described characteristics can be formed by using the bank layer (BK) made of a negative type photosensitive material.
또한, 도시되지는 않았으나, 전술한 상기 제1뱅크(201)와 제2뱅크(202)를 형성하는 공정(도 7f) 시에, 상기 제2뱅크(202)의 가장자리를 노출시키도록 제3뱅크를 함께 형성할 수 있다. 그리고 이 경우 상기 유기 발광층(210)을 형성하는 공정(도 7g) 시에 제3뱅크에 의해 노출된 제2뱅크(202)의 상면까지 상기 유기 발광층(210)을 형성한다. 따라서, 상기 유기 발광층(210)은 상기 제1뱅크(201) 및 제2뱅크(202)의 상면을 따라 완만하게 형성될 수 있으므로, 결과적으로 발광 영역에서 상기 유기 발광층(210)의 두께는 더욱 일정하게 구비된다. 특히, 전술한 바와 같이 노광 시 자외선이 조사되는 영역에서 가교 결합에 의해 소수성제가 바인딩 될 수 있는 물질을 포함하는 뱅크층(BK)을 이용하여 상기 제1뱅크(201) 내지 제3뱅크를 형성하기 때문에, 상기 제1뱅크(201)와 제2뱅크(202)는 친수성 물질로 구비되고 제3뱅크는 상부만이 소수성 물질로 구비될 수 있다.In addition, although not shown, during the process of forming the first bank (201) and the second bank (202) described above (FIG. 7f), the third bank may be formed together to expose the edge of the second bank (202). In this case, during the process of forming the organic light-emitting layer (210) (FIG. 7g), the organic light-emitting layer (210) is formed up to the upper surface of the second bank (202) exposed by the third bank. Accordingly, the organic light-emitting layer (210) may be gently formed along the upper surfaces of the first bank (201) and the second bank (202), and as a result, the thickness of the organic light-emitting layer (210) in the light-emitting region is provided more consistently. In particular, since the first bank (201) to the third bank are formed using a bank layer (BK) including a material to which a hydrophobic agent can be bound by cross-linking in an area where ultraviolet rays are irradiated during exposure as described above, the first bank (201) and the second bank (202) can be formed of a hydrophilic material, and only the upper part of the third bank can be formed of a hydrophobic material.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 더욱 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 반드시 이러한 실시예로 국한되는 것은 아니고, 본 발명의 기술사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양하게 변형 실시될 수 있다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 그러므로, 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 본 발명의 보호 범위는 청구 범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.Although the embodiments of the present invention have been described in more detail with reference to the attached drawings, the present invention is not necessarily limited to these embodiments, and various modifications may be made without departing from the technical idea of the present invention. Accordingly, the embodiments disclosed in the present invention are not intended to limit the technical idea of the present invention, but to explain it, and the scope of the technical idea of the present invention is not limited by these embodiments. Therefore, it should be understood that the embodiments described above are exemplary in all aspects and not restrictive. The protection scope of the present invention should be interpreted by the claims, and all technical ideas within a scope equivalent thereto should be interpreted as being included in the scope of the rights of the present invention.
100: 기판 T: 박막 트랜지스터층
165: 패시베이션층 170: 평탄화층
180: 제1애노드 전극 190: 제2애노드 전극
201: 제1뱅크 202: 제2뱅크
210: 유기 발광층 220: 캐소드 전극100: Substrate T: Thin film transistor layer
165: Passivation layer 170: Flattening layer
180: 1st anode electrode 190: 2nd anode electrode
201: First Bank 202: Second Bank
210: Organic light-emitting layer 220: Cathode electrode
Claims (12)
상기 절연층에 구비된 컨택홀을 통해 상기 박막 트랜지스터와 연결되고 상기 절연층 상에 구비된 애노드 전극;
상기 애노드 전극의 가장자리를 덮으며 상기 절연층 상에 구비된 제1뱅크;
상기 제1뱅크의 가장자리를 노출시키도록 상기 제1뱅크 상에 구비된 제2뱅크;
상기 제1뱅크에 의해 노출된 애노드 전극의 상면과 상기 노출된 제1뱅크의 상면에 구비된 유기 발광층; 및
상기 유기 발광층 상에 구비된 캐소드 전극을 포함하고,
상기 제1뱅크 및 제2뱅크는 유기 물질로 구비되고,
상기 애노드 전극은
상기 박막 트랜지스터와 연결되고 상기 절연층 상에 구비된 복층 구조의 제1 애노드 전극; 및
상기 제1 애노드 전극과 접촉하며 상기 제1 애노드 전극의 상면 및 측면 전체를 덮는 복층 구조의 제2 애노드 전극을 구비하고,
상기 제1 애노드 전극의 가장자리 및 상기 제2 애노드 전극의 가장자리를 덮는 상기 제1 뱅크에 의해 마련된 발광 영역에서 상기 유기 발광층이 상기 제1 및 제2 애노드 전극의 중첩부와 접촉하고,
상기 제1뱅크와 제2뱅크의 측면은 상기 기판의 표면을 기준으로 소정의 각도로 경사지게 구비되고, 상기 제2 뱅크의 측면이 상기 기판의 표면과 이루는 제2 사이각은 제1 뱅크의 측면이 상기 기판의 표면과 이루는 제1 사이각보다 작고, 제2 사이각은 0도보다 크고 45도 이하로 작고,
상기 복층 구조의 제1 애노드 전극은,
제1 하부 애노드 전극과, 상기 제 1 하부 애노드 전극 위에 배치되고 상기 제1 하부 애노드 전극보다 낮은 저항 및 두꺼운 두께를 갖는 제1 상부 애노드 전극을 포함하고,
상기 복층 구조의 제 2 애노드 전극은,
제2 하부 애노드 전극 및 제2 상부 애노드 전극과, 상기 제2 하부 애노드 전극 및 상기 제2 상부 애노드 전극 사이에 배치되고, 상기 제2 하부 애노드 전극 및 상기 제2 상부 애노드 전극 각각보다 낮은 저항 및 두꺼운 두께를 갖는 제2 중앙 애노드 전극을 포함하는, 유기 발광 표시 장치.An insulating layer covering a thin film transistor provided on a substrate;
An anode electrode provided on the insulating layer and connected to the thin film transistor through a contact hole provided on the insulating layer;
A first bank provided on the insulating layer and covering the edge of the anode electrode;
A second bank provided on the first bank so as to expose an edge of the first bank;
An organic light-emitting layer provided on the upper surface of the anode electrode exposed by the first bank and on the upper surface of the exposed first bank; and
Including a cathode electrode provided on the organic light-emitting layer,
The above first bank and second bank are made of organic material,
The above anode electrode is
A first anode electrode having a multi-layer structure connected to the above thin film transistor and provided on the above insulating layer; and
A second anode electrode having a double-layer structure that is in contact with the first anode electrode and covers the entire upper surface and side surface of the first anode electrode,
In the light-emitting region provided by the first bank covering the edge of the first anode electrode and the edge of the second anode electrode, the organic light-emitting layer is in contact with the overlapping portion of the first and second anode electrodes,
The side surfaces of the first bank and the second bank are provided to be inclined at a predetermined angle with respect to the surface of the substrate, and the second angle formed between the side surface of the second bank and the surface of the substrate is smaller than the first angle formed between the side surface of the first bank and the surface of the substrate, and the second angle is larger than 0 degrees and smaller than 45 degrees.
The first anode electrode of the above-mentioned double-layer structure is,
A first lower anode electrode is included, and a first upper anode electrode is disposed on the first lower anode electrode and has lower resistance and thicker thickness than the first lower anode electrode.
The second anode electrode of the above-mentioned double-layer structure is,
An organic light emitting display device comprising a second lower anode electrode and a second upper anode electrode, and a second central anode electrode disposed between the second lower anode electrode and the second upper anode electrode and having lower resistance and thicker thickness than each of the second lower anode electrode and the second upper anode electrode.
상기 제1뱅크는 친수성을 갖는 물질로 구비되고, 상기 제2뱅크는 소수성을 갖는 물질로 구비된, 유기 발광 표시 장치.In the first paragraph,
An organic light-emitting display device, wherein the first bank is formed of a hydrophilic material, and the second bank is formed of a hydrophobic material.
상기 제2뱅크의 가장자리를 노출시키도록 상기 제2뱅크 상에 구비된 제3뱅크를 더 포함하고, 상기 유기 발광층은 상기 노출된 제2뱅크의 상면까지 구비되는, 유기 발광 표시 장치.In the first paragraph,
An organic light-emitting display device further comprising a third bank provided on the second bank so as to expose an edge of the second bank, wherein the organic light-emitting layer is provided up to an upper surface of the exposed second bank.
상기 제1뱅크와 제2뱅크는 친수성을 갖는 물질로 구비되고, 상기 제3뱅크는 소수성을 갖는 물질로 구비된, 유기 발광 표시 장치.In the third paragraph,
An organic light-emitting display device, wherein the first bank and the second bank are formed of a hydrophilic material, and the third bank is formed of a hydrophobic material.
상기 제3뱅크의 측면은 상기 기판의 표면을 기준으로 소정의 각도로 경사지게 구비된, 유기 발광 표시 장치.In the third paragraph,
An organic light-emitting display device, wherein the side of the third bank is inclined at a predetermined angle with respect to the surface of the substrate.
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---|---|---|---|
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