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KR102723373B1 - Novel compounds, potential additives and compositions containing the additives - Google Patents

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KR102723373B1
KR102723373B1 KR1020177032493A KR20177032493A KR102723373B1 KR 102723373 B1 KR102723373 B1 KR 102723373B1 KR 1020177032493 A KR1020177032493 A KR 1020177032493A KR 20177032493 A KR20177032493 A KR 20177032493A KR 102723373 B1 KR102723373 B1 KR 102723373B1
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group
compounds
carbon atoms
photosensitive composition
acid
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이즈미 마츠이
토모미 스즈키
미츠히로 오카다
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가부시키가이샤 아데카
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Abstract

하기 일반식(1)로 나타내는 화합물. 하기 일반식(1) 중, R1, R2, R3 및 R4가 -CO-O-R11인 것이 바람직하고, 특히, R11이 tert-부틸인 -CO-O-R11인 것이 바람직하다. 하기 일반식(1) 중, R1, R2, R3 및 R4가 -CO-O-R11로 나타내는 기인 것이 바람직하다. 하기 일반식(1)로 나타내는 화합물은 잠재성 첨가제로서 바람직하게 사용할 수 있다. 상기 잠재성 첨가제는 감광성 조성물에 바람직하게 사용된다.
A compound represented by the following general formula (1). In the following general formula (1), it is preferable that R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are -CO-OR 11 , and particularly, it is preferable that R 11 is -CO-OR 11 which is tert-butyl. In the following general formula (1), it is preferable that R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are a group represented by -CO-OR 11 . The compound represented by the following general formula (1) can be preferably used as a latent additive. The above-mentioned latent additive is preferably used in a photosensitive composition.

Description

신규 화합물, 잠재성 첨가제 및 그 첨가제를 함유하는 조성물Novel compounds, potential additives and compositions containing the additives

본 발명은, 신규 화합물, 상기 화합물로 이루어지는 상온에서는 불활성이고 소정의 온도로 가열함으로써 활성화되어 기능을 발현하는 잠재성 첨가제, 및 상기 잠재성 첨가제를 함유하는 조성물에 관한 것이다. 또한, 상기 조성물을 사용한 에너지 선에 의해 중합 가능한 착색 감광성 조성물 및 상기 착색 감광성 조성물을 사용한 컬러 필터에 관한 것이다.The present invention relates to a novel compound, a latent additive comprising the compound which is inactive at room temperature and is activated by heating to a predetermined temperature to exhibit a function, and a composition containing the latent additive. In addition, the present invention relates to a colored photosensitive composition polymerizable by energy rays using the composition, and a color filter using the colored photosensitive composition.

수지조성물의 내후성이나 내열성을 향상시키기 위한 방법으로는, 자외선 흡수제나 산화방지제를 첨가하여 안정화시키는 방법이 알려져 있다(특허문헌 1~4). As a method for improving the weather resistance or heat resistance of a resin composition, a method of stabilizing it by adding an ultraviolet absorber or antioxidant is known (Patent Documents 1 to 4).

페놀계 산화방지제는, 폴리머의 열화에 큰 영향을 미치는 라디칼을 트랩하는 작용이 있기 때문에, 산화방지제를 중합계 내에 첨가하면, 일반적으로 소위 중합 금지제로서 작용하고, 경화 저해를 일으키는 것이 문제가 되고 있어, 잠재성 첨가제가 개발되어 왔지만 만족하는 용해성이 얻어지지 않고 있다(특허문헌5). Phenolic antioxidants have the function of trapping radicals that have a significant effect on the deterioration of polymers. Therefore, when antioxidants are added to a polymerization system, they generally act as so-called polymerization inhibitors, causing curing inhibition, which is a problem. Potential additives have been developed, but satisfactory solubility has not been obtained (Patent Document 5).

일본 공개특허공보 평6-179798호Japanese Patent Publication No. 6-179798 일본 공개특허공보 평7-109380호Japanese Patent Publication No. 7-109380 일본 공개특허공보 평11-071355호Japanese Patent Publication No. 11-071355 일본 공개특허공보 2002-097224호Japanese Patent Publication No. 2002-097224 US2015/291772(A1)US2015/291772(A1)

따라서, 본 발명의 목적은, 상온에서는 불활성이고 소정의 온도로 가열하여 활성화되어 기능을 발현하는 용해성이 높은 잠재성 첨가제를 제공하는 것에 있다. 또한, 본 발명의 다른 목적은, 상기 잠재성 첨가제를 사용한 내열성의 조성물을 제공하는 것에 있다. 또한, 본 발명의 다른 목적은, 상기 조성물 및 착색제를 함유하는 착색 감광성 조성물, 특히 컬러 필터에 바람직한 착색 감광성 조성물을 제공하는 것에 있다. Accordingly, the purpose of the present invention is to provide a highly soluble latent additive that is inactive at room temperature and is activated by heating to a predetermined temperature to exhibit a function. In addition, another purpose of the present invention is to provide a heat-resistant composition using the latent additive. In addition, another purpose of the present invention is to provide a colored photosensitive composition containing the composition and a colorant, particularly a colored photosensitive composition suitable for a color filter.

본 발명자들은, 예의 검토를 거듭한 결과, 특정한 보호기를 가지는 화합물이 잠재성 첨가제로서 효율적으로 기능하고, 높은 용해성이 얻어져 핸들링성이 좋은 것, 및 이것을 사용한 조성물이 경화 저해를 일으키지 않고, 개시제 및 착색제의 열화가 방지되어 있기 때문에 내열성이 뛰어난 것을 지견하고, 또한, 상기 조성물 및 착색제를 함유하는 착색 감광성 조성물이 광학 필터(특히 컬러 필터)의 휘도를 저하시키지 않고, 액정표시 패널 등의 화상표시 장치용 컬러 필터에 바람직한 것을 지견하여, 본 발명에 도달하였다. The present inventors, as a result of repeated careful examination, have found that a compound having a specific protecting group functions efficiently as a latent additive, has high solubility and thus good handleability, and that a composition using the same does not cause curing inhibition and has excellent heat resistance because deterioration of an initiator and a colorant is prevented, and further that a colored photosensitive composition containing the composition and a colorant does not lower the brightness of an optical filter (particularly a color filter) and is suitable for a color filter for an image display device such as a liquid crystal display panel, and thus have arrived at the present invention.

본 발명은, 상기 지견에 기초하여 이루어진 것으로, 하기 일반식(1)로 나타내는 화합물을 제공하는 것이다. The present invention has been made based on the above knowledge and provides a compound represented by the following general formula (1).

(식 중, R1, R2, R3 및 R4는, 각각 독립적으로 치환기를 가지고 있는 경우도 있는 탄소 원자 수 1~20의 알킬기, 치환기를 가지고 있는 경우도 있는 탄소 원자 수 6~20의 아릴기, 치환기를 가지고 있는 경우도 있는 탄소 원자 수 7~20의 아릴알킬기, 치환기를 가지고 있는 경우도 있는 탄소 원자 수 2~20의 복소환 함유기, 트리알킬실릴기, -CO-O-R11 또는 -CO-S-R12를 나타내고, (In the formula, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represent an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may or may not have a substituent, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may or may not have a substituent, an arylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may or may not have a substituent, a heterocyclic group having 2 to 20 carbon atoms which may or may not have a substituent, a trialkylsilyl group, -CO-OR 11 or -CO-SR 12 ,

R11 및 R12는, 각각 독립적으로 수소 원자, 치환기를 가지고 있는 경우도 있는 탄소 원자 수 1~20의 알킬기, 치환기를 가지고 있는 경우도 있는 탄소 원자 수 6~20의 아릴기, 치환기를 가지고 있는 경우도 있는 탄소 원자 수 7~20의 아릴알킬기 또는 치환기를 가지고 있는 경우도 있는 탄소 원자 수 2~20의 복소환 함유기를 나타내며, R 11 and R 12 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may or may not have a substituent, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may or may not have a substituent, an arylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may or may not have a substituent, or a heterocyclic group having 2 to 20 carbon atoms which may or may not have a substituent.

R5, R6, R7, R8, R9 및 R10은, 각각 독립적으로 할로겐 원자, 시아노기, 수산기, 니트로기, 카르복실기, 치환기를 가지고 있는 경우도 있는 탄소 원자 수 1~20의 알킬기, 치환기를 가지고 있는 경우도 있는 탄소 원자 수 6~20의 아릴기, 치환기를 가지고 있는 경우도 있는 탄소 원자 수 7~20의 아릴알킬기 또는 치환기를 가지고 있는 경우도 있는 탄소 원자 수 2~20의 복소환 함유기를 나타내고, R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 each independently represent a halogen atom, a cyano group, a hydroxyl group, a nitro group, a carboxyl group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may or may not have a substituent, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may or may not have a substituent, an arylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may or may not have a substituent, or a heterocyclic group having 2 to 20 carbon atoms which may or may not have a substituent.

복수의 R5끼리, R6끼리, R7끼리 및 R8끼리는 결합하여 벤젠환 또는 나프탈렌환을 형성하고 있는 경우도 있으며, In some cases, multiple R 5 s, R 6 s, R 7 s, and R 8 s are combined to form a benzene ring or a naphthalene ring.

복수의 R5, R6, R7, R8, R9 및 R10은 각각 동일하거나 다른 경우도 있고, Plural R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 may be the same or different,

X1은, 직접 결합, 치환기를 가지고 있는 경우도 있는 탄소 원자 수 1~4의 알킬렌기, 치환기를 가지고 있는 경우도 있는 탄소 원자 수 3~20의 지환식 탄화수소기, -O-, -S-, -SO2-, -SS-, -SO-, -CO-, -OCO- 또는 하기 식(1-1), (1-2) 혹은 (1-3)으로 나타내는 치환기를 나타내며, X 1 represents a direct bond, an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms which may have a substituent, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms which may have a substituent, -O-, -S-, -SO 2 -, -SS-, -SO-, -CO-, -OCO-, or a substituent represented by the following formula (1-1), (1-2) or (1-3),

a, b, c 및 d는, 각각 독립적으로 0~4의 정수를 나타내고, e 및 f는, 각각 독립적으로 0~9의 정수를 나타낸다.) a, b, c, and d each independently represent an integer from 0 to 4, and e and f each independently represent an integer from 0 to 9.)

(상기 식 중, R71은 수소 원자, 치환기를 가지고 있는 경우도 있는 페닐기, 또는 치환기를 가지고 있는 경우도 있는 탄소 원자 수 3~10의 시클로알킬기를 나타내고, (In the above formula, R 71 represents a hydrogen atom, a phenyl group which may have a substituent, or a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms which may have a substituent,

R72는 치환기를 가지고 있는 경우도 있는 탄소 원자 수 1~10의 알킬기, 치환기를 가지고 있는 경우도 있는 탄소 원자 수 1~10의 알콕시기, 치환기를 가지고 있는 경우도 있는 탄소 원자 수 2~10의 알케닐기 또는 할로겐 원자를 나타내며, R 72 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, which may or may not have a substituent, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, which may or may not have a substituent, an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, which may or may not have a substituent, or a halogen atom.

i는 0~4의 정수이다. ) i is an integer from 0 to 4.)

(상기 식 중, R73 및 R74는, 각각 독립적으로 치환기를 가지고 있는 경우도 있는 탄소 원자 수 1~10의 알킬기, 치환기를 가지고 있는 경우도 있는 탄소 원자 수 6~20의 아릴기, 치환기를 가지고 있는 경우도 있는 탄소 원자 수 6~20의 아릴옥시기, 치환기를 가지고 있는 경우도 있는 탄소 원자 수 6~20의 아릴티오기, 치환기를 가지고 있는 경우도 있는 탄소 원자 수 6~20의 아릴알케닐기, 치환기를 가지고 있는 경우도 있는 탄소 원자 수 7~20의 아릴알킬기, 치환기를 가지고 있는 경우도 있는 탄소 원자 수 2~20의 복소환 함유기 또는 할로겐 원자를 나타내고, (In the above formulas, R 73 and R 74 each independently represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which may or may not have a substituent, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may or may not have a substituent, an aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms which may or may not have a substituent, an arylthio group having 6 to 20 carbon atoms which may or may not have a substituent, an arylalkenyl group having 6 to 20 carbon atoms which may or may not have a substituent, an arylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may or may not have a substituent, a heterocyclic group having 2 to 20 carbon atoms which may or may not have a substituent, or a halogen atom,

R73은, 인접하는 R73끼리 환을 형성하고 있는 경우도 있으며, R 73 sometimes forms a ring with adjacent R 73s .

p는 0~4의 수를 나타내고, p represents a number from 0 to 4,

q는 0~8의 수를 나타내며, q represents a number from 0 to 8,

g는 0~4의 수를 나타내고, g represents a number from 0 to 4,

h는 0~4의 수를 나타내며, h represents a number from 0 to 4,

g와 h의 수의 합계는 2~4이다.) The sum of the numbers of g and h is 2 to 4.)

또한, 본 발명은, 상기 일반식(1)로 나타내는 화합물의 1종 이상으로 이루어지는 잠재성 첨가제를 제공하는 것이다. In addition, the present invention provides a potential additive comprising at least one compound represented by the general formula (1).

또한, 본 발명은, 상기 잠재성 첨가제를 함유하는 감광성 조성물을 제공하는 것이다. In addition, the present invention provides a photosensitive composition containing the potential additive.

본 발명에 의하면, 실온에서는 불활성이고 소정의 온도로 가열함으로써 활성이 되는, 용해성이 높은 잠재성 첨가제를 제공할 수 있다. 또한, 상기 잠재성 첨가제를 함유하는 조성물은, 경화 저해를 일으키지 않고 내열성이 뛰어난 것이다. According to the present invention, it is possible to provide a highly soluble latent additive that is inactive at room temperature and becomes active by heating to a predetermined temperature. In addition, a composition containing the latent additive does not cause curing inhibition and has excellent heat resistance.

이하, 본 발명에 대해, 바람직한 실시형태에 기초하여 상세하게 설명한다. Hereinafter, the present invention will be described in detail based on preferred embodiments.

상기 일반식 (1)에서의 R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9, R10, R11 및 R12로 나타내는 탄소 원자 수 1~20의 알킬기로는, 메틸, 에틸, 프로필, iso-프로필, 부틸, sec-부틸, tert-부틸, iso-부틸, 아밀, iso-아밀, tert-아밀, 시클로펜틸, 헥실, 2-헥실, 3-헥실, 시클로헥실, 4-메틸시클로헥실, 헵틸, 2-헵틸, 3-헵틸, iso-헵틸, tert-헵틸, 1-옥틸, iso-옥틸, tert-옥틸, 아다만틸 등을 들 수 있다. Examples of the alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms represented by R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 and R 12 in the general formula (1) above include methyl, ethyl, propyl, iso-propyl, butyl, sec-butyl, tert-butyl, iso-butyl, amyl, iso-amyl, tert-amyl, cyclopentyl, hexyl, 2-hexyl, 3-hexyl, cyclohexyl, 4-methylcyclohexyl, heptyl, 2-heptyl, 3-heptyl, iso-heptyl, tert-heptyl, 1-octyl, iso-octyl, tert-octyl, adamantyl, etc.

R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9, R10, R11 및 R12로 나타내는 탄소 원자 수 6~20의 아릴기로는, 페닐, 나프틸, 안트라세닐 등을 들 수 있다.Aryl groups having 6 to 20 carbon atoms represented by R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 and R 12 include phenyl, naphthyl, anthracenyl, etc.

R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9, R10, R11 및 R12로 나타내는 탄소 원자 수 7~20의 아릴알킬기로는, 벤질, 페네틸, 디페닐메틸, 트리페닐메틸, 2-페닐프로필, 3-페닐프로필, 플루오레닐, 인데닐, 9-플루오레닐메틸기 등을 들 수 있다. Arylalkyl groups having 7 to 20 carbon atoms represented by R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 and R 12 include benzyl, phenethyl, diphenylmethyl, triphenylmethyl, 2-phenylpropyl, 3-phenylpropyl, fluorenyl, indenyl and 9-fluorenylmethyl groups.

R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9, R10, R11 및 R12로 나타내는 탄소 원자 수 2~20의 복소환 함유기로는, 피리딜, 피리미딜, 피리다질, 피페리딜, 피라닐, 피라졸릴, 트리아질, 피롤릴, 퀴놀릴, 이소퀴놀릴, 이미다졸릴, 벤조이미다졸릴, 트리아졸릴, 푸릴, 푸라닐, 벤조푸라닐, 티에닐, 티오페닐, 벤조티오페닐, 티아디아졸릴, 티아졸릴, 벤조티아졸릴, 옥사졸릴, 벤조옥사졸릴, 이소티아졸릴, 이소옥사졸릴, 인돌일, 2-피롤리디논-1-일, 2-피페리돈-1-일, 2,4-디옥시이미다졸리딘-3-일, 2,4-디옥시옥사졸리딘-3-일 등, 혹은 2가의 결합기를 통해 복소환이 결합하고 있는 기 등을 들 수 있다. The heterocyclic group containing 2 to 20 carbon atoms represented by R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 and R 12 is pyridyl, pyrimidyl, pyridazyl, piperidyl, pyranyl, pyrazolyl, triazyl, pyrrolyl, quinolyl, isoquinolyl, imidazolyl, benzoimidazolyl, triazolyl, furyl, furanyl, benzofuranyl, thienyl, thiophenyl, benzothiophenyl, thiadiazolyl, thiazolyl, benzothiazolyl, oxazolyl, benzoxazolyl, isothiazolyl, isoxazolyl, indolyl, 2-pyrrolidinon-1-yl, 2-piperidon-1-yl, Examples thereof include 2,4-deoxyimidazolidin-3-yl, 2,4-deoxyoxazolidin-3-yl, or a group in which a heterocycle is bonded through a divalent bonding group.

R1, R2, R3 및 R4로 나타내는 트리알킬실릴기로는, 트리메틸실란, 트리에틸실란, 에틸디메틸실란 등을 들 수 있다. Examples of trialkylsilyl groups represented by R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 include trimethylsilane, triethylsilane, and ethyldimethylsilane.

R5, R6, R7, R8, R9 및 R10으로 나타내는 할로겐 원자로는, 불소, 염소, 브롬, 요오드를 들 수 있고, Halogen atoms represented by R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 include fluorine, chlorine, bromine and iodine.

R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9, R10, R11 및 R12로 나타내는, 탄소 원자 수 1~20의 알킬기, 탄소 원자 수 6~20의 아릴기, 탄소 원자 수 7~20의 아릴알킬기 또는 탄소 원자 수 2~20의 복소환 함유기를 치환하는 치환기로는, 비닐, 알릴, 아크릴, 메타크릴 등의 에틸렌성 불포화기; 불소, 염소, 브롬, 요오드 등의 할로겐 원자; 아세틸, 2-클로로아세틸, 프로피오닐, 옥탄오일, 아크릴로일, 메타크릴로일, 페닐카르보닐(벤조일), 프탈로일, 4-트리플루오로메틸벤조일, 피발로일, 살리실로일, 옥사로일, 스테아로일, 메톡시카르보닐, 에톡시카르보닐, t-부톡시카르보닐, n-옥타데실옥시카르보닐, 카르바모일 등의 아실기; 아세틸옥시, 벤조일옥시 등의 아실옥시기; 아미노, 에틸아미노, 디메틸아미노, 디에틸아미노, 부틸아미노, 시클로펜틸아미노, 2-에틸헥실아미노, 도데실아미노, 아닐리노, 클로로페닐아미노, 톨루이디노, 아니시디노, N-메틸-아닐리노, 디페닐아미노, 나프틸아미노, 2-피리딜아미노, 메톡시카르보닐아미노, 페녹시카르보닐아미노, 아세틸아미노, 벤조일아미노, 포르밀아미노, 피발로일아미노, 라우로일아미노, 카르바모일아미노, N,N-디메틸아미노카르보닐아미노, N,N-디에틸아미노카르보닐아미노, 모르폴리노카르보닐아미노, 메톡시카르보닐아미노, 에톡시카르보닐아미노, t-부톡시카르보닐아미노, n-옥타데실옥시카르보닐아미노, N-메틸-메톡시카르보닐아미노, 페녹시카르보닐아미노, 술파모일아미노, N,N-디메틸아미노술포닐아미노, 메틸술포닐아미노, 부틸술포닐아미노, 페닐술포닐아미노 등의 치환 아미노기; 술폰아미드기, 술포닐기, 카르복실기, 시아노기, 술포기, 수산기, 니트로기, 메르캅토기, 이미드기, 카르바모일기, 술폰아미드기, 포스폰산기, 인산기 또는 카르복실기, 술포기, 포스폰산기, 인산기의 염 등을 들 수 있고, 그 치환 위치는 제한되지 않는다. Substituents substituting the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, the aryl group having 6 to 20 carbon atoms , the arylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms or the heterocyclic group having 2 to 20 carbon atoms, represented by R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 and R 12, include ethylenically unsaturated groups such as vinyl, allyl, acrylic and methacryl; halogen atoms such as fluorine, chlorine, bromine and iodine; Acyl groups such as acetyl, 2-chloroacetyl, propionyl, octanoyl, acryloyl, methacryloyl, phenylcarbonyl (benzoyl), phthaloyl, 4-trifluoromethylbenzoyl, pivaloyl, salicyloyl, oxaroyl, stearoyl, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, t-butoxycarbonyl, n-octadecyloxycarbonyl, and carbamoyl; acyloxy groups such as acetyloxy and benzoyloxy; Amino, ethylamino, dimethylamino, diethylamino, butylamino, cyclopentylamino, 2-ethylhexylamino, dodecylamino, anilino, chlorophenylamino, toluidino, anisidino, N-methyl-anilino, diphenylamino, naphthylamino, 2-pyridylamino, methoxycarbonylamino, phenoxycarbonylamino, acetylamino, benzoylamino, formylamino, pivaloylamino, lauroylamino, carbamoylamino, N,N-dimethylaminocarbonylamino, N,N-diethylaminocarbonylamino, morpholinocarbonylamino, methoxycarbonylamino, ethoxycarbonylamino, t-butoxycarbonylamino, n-octadecyloxycarbonylamino, N-methyl-methoxycarbonylamino, phenoxycarbonylamino, sulfamoylamino, Substituted amino groups such as N,N-dimethylaminosulfonylamino, methylsulfonylamino, butylsulfonylamino, and phenylsulfonylamino; sulfonamide groups, sulfonyl groups, carboxyl groups, cyano groups, sulfo groups, hydroxyl groups, nitro groups, mercapto groups, imide groups, carbamoyl groups, sulfonamide groups, phosphonic acid groups, phosphoric acid groups, or salts of carboxyl groups, sulfo groups, phosphonic acid groups, and phosphoric acid groups, and the substitution positions are not limited.

상기 일반식(1)로 나타내는 화합물에서는, R1, R2, R3 및 R4가 -CO-O-R11인 것이 용해성이 높고, 잠재성 첨가제로 사용했을 때, 그것을 함유하는 조성물의 경화물의 내열성이 높으므로 바람직하다. 또한, R11이 tert-부틸인 것이 용해성이 높고, 잠재성 첨가제로 사용했을 때, 그것을 함유하는 조성물의 경화물의 내열성이 높으므로 바람직하다. In the compound represented by the general formula (1), it is preferable that R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are -CO-OR 11 because this has high solubility and, when used as a latent additive, the cured product of a composition containing it has high heat resistance. In addition, it is preferable that R 11 is tert-butyl because this has high solubility and, when used as a latent additive, the cured product of a composition containing it has high heat resistance.

상기 일반식(1)에서의 X1로 나타내는 탄소 원자 수 1~4의 알킬렌기로는, 메틸렌, 에틸렌, 프로필리덴, 이소프로필리덴, 부틸리덴 등을 들 수 있다. Examples of the alkylene group having 1 to 4 carbon atoms represented by X 1 in the general formula (1) above include methylene, ethylene, propylidene, isopropylidene, butylidene, etc.

X1로 나타내는 탄소 원자 수 3~20의 지환식 탄화수소기로는, 시클로펜틸, 시클로헥실, 시클로펜틸메틸, 시클로펜틸에틸, 시클로헥실메틸, 시클로헥실에틸 등을 들 수 있다. Alicyclic hydrocarbon groups having 3 to 20 carbon atoms represented by X 1 include cyclopentyl, cyclohexyl, cyclopentylmethyl, cyclopentylethyl, cyclohexylmethyl, and cyclohexylethyl.

X1로 나타내는 탄소 원자 수 1~4의 알킬렌기 또는 탄소 원자 수 3~20의 지환식 탄화수소기를 치환하는 치환기로는, 상술한 R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9, R10, R11 및 R12로 나타내는, 탄소 원자 수 1~20의 알킬기, 탄소 원자 수 6~20의 아릴기, 탄소 원자 수 7~20의 아릴알킬기 또는 탄소 원자 수 2~20의 복소환 함유기를 치환하는 치환기로서 예시한 것을 들 수 있다. As a substituent substituting the alkylene group having 1 to 4 carbon atoms or the alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms represented by X 1 , examples thereof include those exemplified as substituents substituting the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, the aryl group having 6 to 20 carbon atoms, the arylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms or the heterocycle-containing group having 2 to 20 carbon atoms, represented by the above-mentioned R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 and R 12 .

상기 식(1-1)에서의 R71로 나타내는 탄소 원자 수 3~10의 시클로알킬기로는, 시클로프로필, 시클로부틸, 시클로펜틸, 시클로헵틸, 시클로옥틸 등을 들 수 있다. Cycloalkyl groups having 3 to 10 carbon atoms represented by R 71 in the above formula (1-1) include cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cycloheptyl, and cyclooctyl.

R72로 나타내는 탄소 원자 수 1~10의 알킬기 및 할로겐 원자로는, 상기 일반식(1)의 설명에서 예시한 알킬기 및 할로겐 원자 등을 들 수 있다. The alkyl group and halogen atom having 1 to 10 carbon atoms represented by R 72 may include the alkyl group and halogen atom exemplified in the explanation of the general formula (1) above.

R72로 나타내는 탄소 원자 수 1~10의 알콕시기로는, 메틸옥시, 에틸옥시, iso-프로필옥시, 부틸옥시, sec-부틸옥시, tert-부틸옥시, iso-부틸옥시, 아밀옥시, iso-아밀옥시, tert-아밀옥시, 헥실옥시, 2-헥실옥시, 3-헥실옥시, 시클로헥실옥시, 4-메틸시클로헥실옥시, 헵틸옥시, 2-헵틸옥시, 3-헵틸옥시, iso-헵틸옥시, tert-헵틸옥시, 1-옥틸옥시, iso-옥틸옥시, tert-옥틸옥시 등을 들 수 있다. Examples of the alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms represented by R 72 include methyloxy, ethyloxy, iso-propyloxy, butyloxy, sec-butyloxy, tert-butyloxy, iso-butyloxy, amyloxy, iso-amyloxy, tert-amyloxy, hexyloxy, 2-hexyloxy, 3-hexyloxy, cyclohexyloxy, 4-methylcyclohexyloxy, heptyloxy, 2-heptyloxy, 3-heptyloxy, iso-heptyloxy, tert-heptyloxy, 1-octyloxy, iso-octyloxy, tert-octyloxy, etc.

R72로 나타내는 탄소 원자 수 2~10의 알케닐기로는, 비닐, 알릴, 1-프로페닐, 이소프로페닐, 2-부테닐, 1,3-부타디에닐, 2-펜테닐, 2-옥테닐 등을 들 수 있다. Alkenyl groups having 2 to 10 carbon atoms represented by R 72 include vinyl, allyl, 1-propenyl, isopropenyl, 2-butenyl, 1,3-butadienyl, 2-pentenyl, and 2-octenyl.

R71로 나타내는, 페닐기 또는 탄소 원자 수 3~10의 시클로알킬기, 및 R72로 나타내는 탄소 원자 수 1~10의 알킬기, 탄소 원자 수 1~10의 알콕시기 또는 탄소 원자 수 2~10의 알케닐기를 치환하는 치환기로는, 상술한 R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9, R10, R11 및 R12로 나타내는, 탄소 원자 수 1~20의 알킬기, 탄소 원자 수 6~20의 아릴기, 탄소 원자 수 7~20의 아릴알킬기 또는 탄소 원자 수 2~20의 복소환 함유기를 치환하는 치환기로서 예시한 것을 들 수 있다. As a substituent substituting the phenyl group or the cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms represented by R 71 , and the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, the alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms or the alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms represented by R 72 , examples thereof include those exemplified as substituents substituting the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms , the aryl group having 6 to 20 carbon atoms , the arylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms or the heterocycle -containing group having 2 to 20 carbon atoms represented by the above-mentioned R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 and R 12 .

상기 식(1-3)에서의 R73 및 R74로 나타내는 탄소 원자 수 1~10의 알킬기, 탄소 원자 수 6~20의 아릴기, 탄소 원자 수 7~20의 아릴알킬기, 탄소 원자 수 2~20의 복소환 함유기 및 할로겐 원자로는, 상기의 설명에서 예시한 알킬기, 아릴기, 아릴알킬기, 탄소 원자 수 2~20의 복소환 함유기 및 할로겐 원자를 들 수 있다. As the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, the aryl group having 6 to 20 carbon atoms, the arylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms, the heterocyclic group having 2 to 20 carbon atoms, and the halogen atom represented by R 73 and R 74 in the above formula (1-3), examples thereof include the alkyl group, aryl group, arylalkyl group, heterocyclic group having 2 to 20 carbon atoms, and halogen atom exemplified in the above description.

R73 및 R74로 나타내는 탄소 원자 수 6~20의 아릴옥시기로는, 페닐옥시, 나프틸옥시, 2-메틸페닐옥시, 3-메틸페닐옥시, 4-메틸페닐옥시, 4-비닐페닐옥시, 3-iso-프로필페닐옥시, 4-iso-프로필페닐옥시, 4-부틸페닐옥시, 4-tert-부틸페닐옥시, 4-헥실페닐옥시, 4-시클로헥실페닐옥시, 4-옥틸페닐옥시, 4-(2-에틸헥실)페닐옥시, 2,3-디메틸페닐옥시, 2,4-디메틸페닐옥시, 2,5-디메틸페닐옥시, 2,6-디메틸페닐옥시, 3,4-디메틸페닐옥시, 3,5-디메틸페닐옥시, 2,4-디-tert-부틸페닐옥시, 2,5-디-tert-부틸페닐옥시, 2,6-디-tert-부틸페닐옥시, 2,4-디-tert-펜틸페닐옥시, 2,5-tert-아밀페닐옥시, 4-시클로헥실페닐옥시, 2,4,5-트리메틸페닐옥시, 페로세닐옥시 등의 기를 들 수 있다. Aryloxy groups having 6 to 20 carbon atoms represented by R 73 and R 74 include phenyloxy, naphthyloxy, 2-methylphenyloxy, 3-methylphenyloxy, 4-methylphenyloxy, 4-vinylphenyloxy, 3-iso-propylphenyloxy, 4-iso-propylphenyloxy, 4-butylphenyloxy, 4-tert-butylphenyloxy, 4-hexylphenyloxy, 4-cyclohexylphenyloxy, 4-octylphenyloxy, 4-(2-ethylhexyl)phenyloxy, 2,3-dimethylphenyloxy, 2,4-dimethylphenyloxy, 2,5-dimethylphenyloxy, 2,6-dimethylphenyloxy, 3,4-dimethylphenyloxy, 3,5-dimethylphenyloxy, 2,4-di-tert-butylphenyloxy, 2,5-di-tert-butylphenyloxy, Examples of such groups include 2,6-di-tert-butylphenyloxy, 2,4-di-tert-pentylphenyloxy, 2,5-tert-amylphenyloxy, 4-cyclohexylphenyloxy, 2,4,5-trimethylphenyloxy, and ferrocenyloxy.

R73 및 R74로 나타내는 탄소 원자 수 6~20의 아릴티오기로는, 상기 탄소 원자 수 6~20의 아릴옥시기의 산소 원자를 유황 원자로 치환한 기 등을 들 수 있다. Examples of the arylthio group having 6 to 20 carbon atoms represented by R 73 and R 74 include a group in which the oxygen atom of the aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms is replaced with a sulfur atom.

R73 및 R74로 나타내는 탄소 원자 수 8~20의 아릴알케닐기로는, 상기 탄소 원자 수 6-20의 아릴옥시기의 산소 원자를 비닐, 알릴, 1-프로페닐, 이소프로페닐, 2-부테닐, 1,3-부타디에닐, 2-펜테닐, 2-옥테닐 등의 알케닐기로 치환한 기 등을 들 수 있다. Examples of the arylalkenyl group having 8 to 20 carbon atoms represented by R 73 and R 74 include groups in which the oxygen atom of the aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms is substituted with an alkenyl group such as vinyl, allyl, 1-propenyl, isopropenyl, 2-butenyl, 1,3-butadienyl, 2-pentenyl, or 2-octenyl.

인접하는 R73끼리 형성하는 환으로는, 시클로펜탄환, 시클로헥산환, 시클로펜텐환, 벤젠환, 피페리딘환, 몰포린환, 락톤환, 락탐환 등을 들 수 있다. Rings formed by adjacent R 73s include a cyclopentane ring, a cyclohexane ring, a cyclopentene ring, a benzene ring, a piperidine ring, a morpholine ring, a lactone ring, and a lactam ring.

R73 및 R74로 나타내는, 탄소 원자 수 1~10의 알킬기, 탄소 원자 수 6~20의 아릴기, 탄소 원자 수 6~20의 아릴옥시기, 탄소 원자 수 6~20의 아릴티오기, 탄소 원자 수 6~20의 아릴 알케닐기, 탄소 원자 수 7~20의 아릴알킬기, 탄소 원자 수 2~20의 복소환 함유기를 치환하는 치환기로는, 상술한 R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9, R10, R11 및 R12로 나타내는, 탄소 원자 수 1~20의 알킬기, 탄소 원자 수 6~20의 아릴기, 탄소 원자 수 7~20의 아릴알킬기 또는 탄소 원자 수 2~20의 복소환 함유기를 치환하는 치환기로서 예시한 것을 들 수 있다. As a substituent substituting an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms, an arylthio group having 6 to 20 carbon atoms, an aryl alkenyl group having 6 to 20 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms, or a heterocycle-containing group having 2 to 20 carbon atoms, represented by R 73 and R 74, a substituent substituting an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms, or a heterocycle-containing group having 2 to 20 carbon atoms, represented by the above-mentioned R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 and R 12 Examples of substituents can be given.

상기 일반식(1)로 나타내는 화합물의 구체예로는, 하기 화학식들로 나타내는 화합물을 들 수 있지만, 본 발명은 이들 화합물에 제한되지 않는다. Specific examples of compounds represented by the above general formula (1) include compounds represented by the following chemical formulas, but the present invention is not limited to these compounds.

상기 일반식(1)로 나타내는 화합물의 제조 방법은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 일본 공개특허공보 소57-111375호, 일본 공개특허공보 평3-173843호, 일본 공개특허공보 평6-128195호, 일본 공개특허공보 평7-206771호, 일본 공개특허공보 평 7-252191호, 일본 공표특허공보 2004-501128호의 각 공보에 기재된 방법에 의해 제조된 페놀계 화합물과, 산무수물, 산염화물, Boc화 시약, 알킬할라이드 화합물, 실릴클로라이드 화합물, 알릴에테르 화합물 등을 반응시켜 얻을 수 있다. The method for producing the compound represented by the general formula (1) above is not particularly limited, but for example, the compound can be obtained by reacting a phenol compound produced by the method described in each of Japanese Patent Application Laid-Open No. 57-111375, Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-173843, Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-128195, Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-206771, Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-252191, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-501128 with an acid anhydride, an acid chloride, a Boc-forming reagent, an alkyl halide compound, a silyl chloride compound, an allyl ether compound, or the like.

상기 일반식(1)로 나타내는 화합물은, 반도체용, 감광성 사진용, 평판인쇄판용, 의약용 화합물의 중간체, 감열지(感熱紙)용, 잠재성 산화방지제, 잠재성 자외선 흡수제 등의 잠재성 첨가제로 사용할 수 있다. The compound represented by the above general formula (1) can be used as a latent additive for semiconductors, photosensitive photography, lithographic printing plates, intermediates of pharmaceutical compounds, thermal paper, latent antioxidants, latent ultraviolet absorbers, etc.

본 발명의 잠재성 첨가제는, 상기 일반식(1)인 화합물을 적어도 1종 이상 함유한다. The potential additive of the present invention contains at least one compound of the general formula (1).

상기 잠재성 첨가제란, 상온 혹은 150℃ 이하의 프리베이크 공정에서는 불활성이고, 100~250℃에서 가열하거나, 혹은 산/염기촉매 존재 하에서 80~200℃에서 가열함으로써 보호기가 이탈하여 활성이 되는 것이다. The above potential additive is inactive in a prebaking process at room temperature or below 150°C, and becomes active by removing the protective group when heated at 100 to 250°C or by heating at 80 to 200°C in the presence of an acid/base catalyst.

본 발명의 감광성 조성물은, 본 발명의 잠재성 첨가제를 함유한다. 본 발명의 감광성 조성물에서, 본 발명의 잠재성 첨가제의 함유량은, 0.001~20질량%가 바람직하고, 0.005~5질량%가 보다 바람직하다. The photosensitive composition of the present invention contains the latent additive of the present invention. In the photosensitive composition of the present invention, the content of the latent additive of the present invention is preferably 0.001 to 20 mass%, more preferably 0.005 to 5 mass%.

본 발명의 감광성 조성물은, 광 조사에 의해 성질이 변하는 조성물이며, 화학 반응에 대하여 가용(可溶)이 되는 것에 포지티브형 레지스트, 화학 반응에 대하여 불용(不溶)이 되는 것에 네가티브형 레지스트가 있다. 본 발명의 감광성 조성물은, 본 발명의 잠재성 첨가제를 잠재성 산화방지제로서 포함하는 외에, 산가를 가지는 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물 및 광 라디칼 중합 개시제를 함유한다. The photosensitive composition of the present invention is a composition whose properties change by light irradiation, and there is a positive type resist that is soluble in a chemical reaction, and a negative type resist that is insoluble in a chemical reaction. The photosensitive composition of the present invention contains, in addition to the latent additive of the present invention as a latent antioxidant, a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond having an acid value and a photoradical polymerization initiator.

상기 산가를 가지는 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물로는, (메타)아크릴산, α-클로로아크릴산, 이타콘산, 말레산, 시트라콘산, 프말산, 하이믹산, 크로톤산, 이소크로톤산, 비닐아세트산, 알릴아세트산, 계피산, 소르빈산, 메사콘산, 숙신산모노[2-(메타)아크릴로일록시에틸], 프탈산모노[2-(메타)아크릴로일록시에틸], ω-카르복시폴리카프로락톤모노(메타)아크릴레이트 등의 양 말단에 카르복시기와 수산기를 가지는 폴리머의 모노(메타)아크릴레이트, 하이드록시에틸(메타)아크릴레이트·말레이트, 하이드록시프로필(메타)아크릴레이트·말레이트, 디시클로펜타디엔·말레이트 혹은 1개의 카르복실기와 2개 이상의 (메타)아크릴로일기를 가지는 다관능(메타)아크릴레이트 등의 불포화 다염기산; 페놀 및/또는 크레졸노볼락 에폭시 수지, 비페닐 골격, 나프탈렌 골격을 가지는 노볼락 에폭시 수지, 비스페놀A 노볼락형 에폭시 화합물, 디시클로펜타디엔노볼락형 에폭시 화합물 등의 노볼락형 에폭시 화합물, 다관능 에폭시기를 가지는 폴리페닐메탄형 에폭시 수지, 하기 일반식(I)로 나타내는 에폭시 화합물 등의 에폭시 수지의 에폭시기에 불포화 1염기산을 작용시킨 수지, 하기 일반식(I)로 나타내는 에폭시 화합물 등의 에폭시 수지의 에폭시기에 불포화 1염기산을 작용시키고, 다염기산 무수물을 더 작용시켜 얻어진 수지, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트 등의 수산기 함유 다관능 아크릴레이트와 무수숙신산, 무수프탈산, 테트라하이드로 무수프탈산 등의 2염기산 무수물의 반응물인 산가를 가지는 다관능 아크릴레이트 등을 들 수 있다.Polymerizable compounds having an ethylenically unsaturated bond having the above acid value include (meth)acrylic acid, α-chloroacrylic acid, itaconic acid, maleic acid, citraconic acid, fumaric acid, hymic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, vinylacetic acid, allylacetic acid, cinnamic acid, sorbic acid, mesaconic acid, succinic acid mono[2-(meth)acryloyloxyethyl], phthalic acid mono[2-(meth)acryloyloxyethyl], ω-carboxypolycaprolactone mono(meth)acrylate, mono(meth)acrylate of a polymer having a carboxyl group and a hydroxyl group at both terminals, such as hydroxyethyl(meth)acrylate·maleate, hydroxypropyl(meth)acrylate·maleate, dicyclopentadiene·maleate, or one carboxyl group and two or more Unsaturated polybasic acids such as polyfunctional (meth)acrylates having a (meth)acryloyl group; Examples thereof include novolac-type epoxy compounds such as phenol and/or cresol novolac epoxy resins, novolac epoxy resins having a biphenyl skeleton or a naphthalene skeleton, bisphenol A novolac-type epoxy compounds, dicyclopentadiene novolac-type epoxy compounds, polyphenylmethane-type epoxy resins having a polyfunctional epoxy group, resins in which an unsaturated monobasic acid is reacted on an epoxy group of an epoxy resin such as an epoxy compound represented by the following general formula (I), resins obtained by reacting an unsaturated monobasic acid on an epoxy group of an epoxy resin such as an epoxy compound represented by the following general formula (I) and further reacting a polybasic acid anhydride, polyfunctional acrylates having a hydroxyl group such as pentaerythritol triacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate, and polyfunctional acrylates having an acid value which are reaction products of dibasic acid anhydrides such as succinic anhydride, phthalic anhydride, and tetrahydrophthalic anhydride.

(식 중, X41은 직접 결합, 치환기를 가지고 있는 경우도 있는 탄소 원자 수 1~4의 알킬렌기, 치환기를 가지고 있는 경우도 있는 탄소 원자 수 3~20의 지환식 탄화수소기, -O-, -S-, -SO2-, -SS-, -SO-, -CO-, -OCO- 또는 상기 (1-1)~(1-3)으로 나타내는 치환기를 나타내고, (In the formula, X 41 represents a direct bond, an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms which may have a substituent, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms which may have a substituent, -O-, -S-, -SO 2 -, -SS-, -SO-, -CO-, -OCO-, or a substituent represented by the above (1-1) to (1-3),

R41, R42, R43 및 R44는, 각각 독립적으로 수소 원자, 치환기를 가지고 있는 경우도 있는 탄소 원자 수 1~5의 알킬기, 치환기를 가지고 있는 경우도 있는 탄소 원자 수 1~8의 알콕시기, 치환기를 가지고 있는 경우도 있는 탄소 원자 수 2~5의 알케닐기 또는 할로겐 원자를 나타내며, R 41 , R 42 , R 43 and R 44 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms which may or may not have a substituent, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms which may or may not have a substituent, an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms which may or may not have a substituent, or a halogen atom.

m은 0~10의 정수이다.) m is an integer from 0 to 10.)

이들 산가를 가지는 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물은, 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 본 발명의 감광성 조성물에서의 산가를 가지는 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물의 함유량은, 고형분 중의 20~80질량%가 바람직하고, 고형분 중의 30~70질량%가 더 바람직하다. 또한, 산가를 가지지 않는 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물과 조합하여 사용할 수 있다. 2종 이상을 혼합하여 사용하는 경우에는, 그것들을 미리 공중합하여 공중합체로 사용해도 좋다. These polymerizable compounds having ethylenically unsaturated bonds with acid values can be used alone or in combination of two or more. The content of the polymerizable compound having ethylenically unsaturated bonds with acid values in the photosensitive composition of the present invention is preferably 20 to 80 mass% of the solid content, more preferably 30 to 70 mass% of the solid content. In addition, it can be used in combination with a polymerizable compound having ethylenically unsaturated bonds that do not have an acid value. When using two or more types in combination, they may be copolymerized in advance and used as a copolymer.

상기 산가를 가지지 않는 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물로는, 예를 들면, (메타)아크릴산-2-하이드록시에틸, (메타)아크릴산-2-하이드록시프로필, (메타)아크릴산글리시딜, 하기 화합물 No.A1~No.A4, (메타)아크릴산메틸, (메타)아크릴산부틸, (메타)아크릴산이소부틸, (메타)아크릴산-t-부틸, (메타)아크릴산시클로헥실, (메타)아크릴산n-옥틸, (메타)아크릴산이소옥틸, (메타)아크릴산이소노닐, (메타)아크릴산스테아릴, (메타)아크릴산라우릴, (메타)아크릴산메톡시에틸, (메타)아크릴산디메틸아미노메틸, (메타)아크릴산디메틸아미노에틸, (메타)아크릴산아미노프로필, (메타)아크릴산디메틸아미노프로필, (메타)아크릴산에톡시에틸, (메타)아크릴산폴리(에톡시)에틸, (메타)아크릴산부톡시에톡시에틸, (메타)아크릴산에틸헥실, (메타)아크릴산페녹시에틸, (메타)아크릴산테트라하이드로푸릴, (메타)아크릴산비닐, (메타)아크릴산알릴, (메타)아크릴산벤질, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 트리메틸롤에탄트리(메타)아크릴레이트, 트리메틸롤프로판트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 트리시클로데칸디메틸롤디(메타)아크릴레이트, 트리[(메타)아크릴로일에틸]이소시아누레이트, 폴리에스테르(메타)아크릴레이트올리고머 등의 불포화 1염기산 및 다가알코올 또는 다가페놀의 에스테르; (메타)아크릴산아연, (메타)아크릴산마그네슘 등의 불포화 다염기산의 금속염; 말레산무수물, 이타콘산무수물, 시트라콘산무수물, 메틸테트라하이드로무수프탈산, 테트라하이드로무수프탈산, 트리알킬테트라하이드로무수프탈산, 5-(2,5-디옥소테트라하이드로푸릴)-3-메틸-3-시클로헥센-1,2-디카르복실산무수물, 트리알킬테트라하이드로무수프탈산-무수말레산 부가물, 도데세닐무수숙신산, 무수메틸하이믹산 등의 불포화 다염기산의 산무수물; (메타)아크릴아미드, 메틸렌비스-(메타)아크릴아미드, 디에틸렌트리아민트리스(메타)아크릴아미드, 크실릴렌비스(메타)아크릴아미드, α-클로로아크릴아미드, N-2-하이드록시에틸(메타)아크릴아미드 등의 불포화 1염기산 및 다가 아민의 아미드; 아크롤레인 등의 불포화 알데히드; (메타)아크릴로니트릴, α-클로로아크릴로니트릴, 시안화비닐리덴, 시안화알릴 등의 불포화 니트릴; 스티렌, 4-메틸스티렌, 4-에틸스티렌, 4-메톡시스티렌, 4-하이드록시스티렌, 4-클로로스티렌, 디비닐벤젠, 비닐톨루엔, 비닐안식향산, 비닐페놀, 비닐술폰산, 4-비닐벤젠슬폰산, 비닐벤질메틸에테르, 비닐벤질글리시딜에테르 등의 불포화 방향족 화합물; 메틸비닐케톤 등의 불포화 케톤; 비닐아민, 알릴아민, N-비닐피롤리돈, 비닐피페리딘 등의 불포화 아민 화합물; 비닐메틸에테르, 비닐에틸에테르, n-부틸비닐에테르, 이소부틸비닐에테르, 알릴글리시딜에테르 등의 비닐에테르; 말레이미드, N-페닐말레이미드, N-시클로헥실말레이미드 등의 불포화 이미드류; 인덴, 1-메틸인덴 등의 인덴류; 1,3-부타디엔, 이소프렌, 클로로프렌 등의 지방족 공역디엔류; 폴리스티렌, 폴리메틸(메타)아크릴레이트, 폴리-n-부틸(메타)아크릴레이트, 폴리실록산 등의 중합체 분자쇄의 말단에 모노(메타)아크릴로일기를 가지는 매크로모노머류; (메타)아크릴로니트릴, 에틸렌, 프로필렌, 부틸렌, 염화비닐, 아세트산비닐 등의 그 외의 비닐 화합물, 및 폴리메틸메타크릴레이트 매크로모노머, 폴리스티렌매크로모노머 등의 매크로모노머류, 트리시클로데칸 골격의 모노메타크릴레이트, N-페닐말레이미드, 메타크릴로일옥시메틸-3-에틸옥세탄 등과, (메타)아크릴산의 공중합체 및 이들에 쇼와 덴코(주)사 제품 카렌즈(Karenz) MOI, AOI와 같은 불포화 결합을 가지는 이소시아네이트 화합물을 반응시킨 (메타)아크릴산의 공중합체나, 염화비닐, 염화비닐리덴, 디비닐숙시네이트, 디알릴프탈레이트, 트리알릴포스페이트, 트리알릴이소시아누레이트, 비닐티오에테르, 비닐이미다졸, 비닐옥사졸린, 비닐카르바졸, 비닐피롤리돈, 비닐피리딘, 수산기함유 비닐모노머 및 폴리이소시아네이트 화합물의 비닐우레탄 화합물, 수산기함유 비닐모노머 및 폴리에폭시 화합물의 비닐에폭시 화합물, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트 등의 수산기함유 다관능 아크릴레이트와 트릴렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트 등의 다관능 이소시아네이트의 반응물 등을 들 수 있다. As polymerizable compounds having an ethylenically unsaturated bond that does not have the above acid value, for example, (meth)acrylate-2-hydroxyethyl, (meth)acrylate-2-hydroxypropyl, (meth)acrylate glycidyl, the following compounds No. A1 to No. A4, (meth)acrylate methyl, (meth)acrylate butyl, (meth)acrylate isobutyl, (meth)acrylate-t-butyl, (meth)acrylate cyclohexyl, (meth)acrylate n-octyl, (meth)acrylate isooctyl, (meth)acrylate isononyl, (meth)acrylate stearyl, (meth)acrylate lauryl, (meth)acrylate methoxyethyl, (meth)acrylate dimethylaminomethyl, (meth)acrylate dimethylaminoethyl, (Meth)acrylic acid aminopropyl, (meth)acrylic acid dimethylaminopropyl, (meth)acrylic acid ethoxyethyl, (meth)acrylic acid poly(ethoxy)ethyl, (meth)acrylic acid butoxyethoxyethyl, (meth)acrylic acid ethylhexyl, (meth)acrylic acid phenoxyethyl, (meth)acrylic acid tetrahydrofuryl, (meth)acrylic acid vinyl, (meth)acrylic acid allyl, (meth)acrylic acid benzyl, ethylene glycol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, triethylene glycol di(meth)acrylate, polyethylene glycol di(meth)acrylate, propylene glycol di(meth)acrylate, 1,4-butanediol di(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, Esters of unsaturated monobasic acids and polyhydric alcohols or polyhydric phenols, such as trimethylolethane tri(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, tricyclodecanedimethylol di(meth)acrylate, tri[(meth)acryloylethyl]isocyanurate, and polyester (meth)acrylate oligomers; metal salts of unsaturated polybasic acids, such as zinc (meth)acrylate and magnesium (meth)acrylate; Acid anhydrides of unsaturated polybasic acids such as maleic anhydride, itaconic anhydride, citraconic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, trialkyltetrahydrophthalic anhydride, 5-(2,5-dioxotetrahydrofuryl)-3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride, trialkyltetrahydrophthalic anhydride-maleic anhydride adduct, dodecenylsuccinic anhydride, and methylhimic anhydride; Amides of unsaturated monobasic acids and polyhydric amines such as (meth)acrylamide, methylenebis-(meth)acrylamide, diethylenetriaminetris(meth)acrylamide, xylylenebis(meth)acrylamide, α-chloroacrylamide, and N-2-hydroxyethyl(meth)acrylamide; Unsaturated aldehydes such as acrolein; unsaturated nitriles such as (meth)acrylonitrile, α-chloroacrylonitrile, vinylidene cyanide, and allyl cyanide; unsaturated aromatic compounds such as styrene, 4-methylstyrene, 4-ethylstyrene, 4-methoxystyrene, 4-hydroxystyrene, 4-chlorostyrene, divinylbenzene, vinyltoluene, vinylbenzoic acid, vinylphenol, vinylsulfonic acid, 4-vinylbenzenesulfonic acid, vinylbenzyl methyl ether, and vinylbenzyl glycidyl ether; unsaturated ketones such as methyl vinyl ketone; unsaturated amine compounds such as vinylamine, allylamine, N-vinylpyrrolidone, and vinylpiperidine; vinyl ethers such as vinyl methyl ether, vinyl ethyl ether, n-butyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, and allyl glycidyl ether; Unsaturated imides such as maleimide, N-phenylmaleimide, and N-cyclohexylmaleimide; indenes such as indene and 1-methylindene; aliphatic conjugated dienes such as 1,3-butadiene, isoprene, and chloroprene; macromonomers having a mono(meth)acryloyl group at the terminal of the polymer molecular chain such as polystyrene, polymethyl(meth)acrylate, poly-n-butyl(meth)acrylate, and polysiloxane; (Meth)acrylonitrile, ethylene, propylene, butylene, vinyl chloride, vinyl acetate, and other vinyl compounds, and macromonomers such as polymethyl methacrylate macromonomer, polystyrene macromonomer, monomethacrylates having a tricyclodecane skeleton, N-phenylmaleimide, methacryloyloxymethyl-3-ethyloxetane, and the like, copolymers of (meth)acrylic acid, and copolymers of (meth)acrylic acid reacted with isocyanate compounds having unsaturated bonds such as Karenz MOI and AOI manufactured by Showa Denko Co., Ltd., vinyl chloride, vinylidene chloride, divinylsuccinate, diallyl phthalate, triallyl phosphate, triallyl isocyanurate, vinylthioether, vinylimidazole, vinyloxazoline, vinylcarbazole, Examples thereof include vinyl urethane compounds of vinyl pyrrolidone, vinyl pyridine, hydroxyl-containing vinyl monomers and polyisocyanate compounds, vinyl epoxy compounds of hydroxyl-containing vinyl monomers and polyepoxy compounds, reaction products of hydroxyl-containing polyfunctional acrylates such as pentaerythritol triacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate, and polyfunctional isocyanates such as tolylene diisocyanate and hexamethylene diisocyanate.

발명의 감광성 조성물에서의 산가를 가지지 않는 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물의 함유량은, 고형분 중의 20~80질량%가 바람직하고, 고형분 중의 30~60질량%가 더 바람직하다. The content of the polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond without an acid value in the photosensitive composition of the invention is preferably 20 to 80 mass% of the solid content, more preferably 30 to 60 mass% of the solid content.

산가 조정하여 상기 감광성 조성물의 현상성을 개량하기 때문에, 본 발명의 감광성 조성물에서는 상기 산가를 가지는 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물과 함께, 단관능 또는 다관능 에폭시 화합물을 더 사용할 수 있다. 상기 산가를 가지는 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물은, 고형분의 산가가 5~120㎎KOH/g의 범위인 것이 바람직하고, 단관능 또는 다관능 에폭시 화합물의 사용량은, 상기 산가를 충족시키도록 선택하는 것이 바람직하다. Since the developability of the photosensitive composition is improved by adjusting the acid value, in the photosensitive composition of the present invention, a monofunctional or polyfunctional epoxy compound can be further used together with the polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond having the acid value described above. The polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond having the acid value described above preferably has an acid value of 5 to 120 mgKOH/g in the solid content, and the amount of the monofunctional or polyfunctional epoxy compound used is preferably selected so as to satisfy the acid value described above.

상기 단관능 에폭시 화합물로는, 글리시딜메타크릴레이트, 메틸글리시딜에테르, 에틸글리시딜에테르, 프로필글리시딜에테르, 이소프로필글리시딜에테르, 부틸글리시딜에테르, 이소부틸글리시딜에테르, t-부틸글리시딜에테르, 펜틸글리시딜에테르, 헥실글리시딜에테르, 헵틸글리시딜에테르, 옥틸글리시딜에테르, 노닐글리시딜에테르, 데실글리시딜에테르, 운데실글리시딜에테르, 도데실글리시딜에테르, 트리데실글리시딜에테르, 테트라데실글리시딜에테르, 펜타데실글리시딜에테르, 헥사데실글리시딜에테르, 2-에틸헥실글리시딜에테르, 알릴글리시딜에테르, 프로파길글리시딜에테르, p-메톡시에틸글리시딜에테르, 페닐글리시딜에테르, p-메톡시글리시딜에테르, p-부틸페놀글리시딜에테르, 크레질글리시딜에테르, 2-메틸크레질글리시딜에테르, 4-노닐페닐글리시딜에테르, 벤질글리시딜에테르, p-쿠밀페닐글리시딜에테르, 트리틸글리시딜에테르, 2,3-에폭시프로필메타크릴레이트, 에폭시화 대두유, 에폭시화 아마인유(亞麻仁油, linseed oil), 글리시딜부틸레이트, 비닐시클로헥산모노옥시드, 1,2-에폭시-4-비닐시클로헥산, 스티렌옥시드, 피넨옥시드, 메틸스티렌옥시드, 시클로헥센옥시드, 프로필렌옥시드 등을 들 수 있다. The above monofunctional epoxy compounds include glycidyl methacrylate, methyl glycidyl ether, ethyl glycidyl ether, propyl glycidyl ether, isopropyl glycidyl ether, butyl glycidyl ether, isobutyl glycidyl ether, t-butyl glycidyl ether, pentyl glycidyl ether, hexyl glycidyl ether, heptyl glycidyl ether, octyl glycidyl ether, nonyl glycidyl ether, decyl glycidyl ether, undecyl glycidyl ether, dodecyl glycidyl ether, tridecyl glycidyl ether, tetradecyl glycidyl ether, pentadecyl glycidyl ether, hexadecyl glycidyl ether, 2-ethylhexyl glycidyl ether, allyl glycidyl ether, propargyl glycidyl ether, p-methoxyethyl glycidyl ether, phenyl glycidyl ether, Examples thereof include p-methoxyglycidyl ether, p-butylphenol glycidyl ether, cresyl glycidyl ether, 2-methylcresyl glycidyl ether, 4-nonylphenyl glycidyl ether, benzyl glycidyl ether, p-cumylphenyl glycidyl ether, trityl glycidyl ether, 2,3-epoxypropyl methacrylate, epoxidized soybean oil, epoxidized linseed oil, glycidyl butyrate, vinylcyclohexane monooxide, 1,2-epoxy-4-vinylcyclohexane, styrene oxide, pinene oxide, methylstyrene oxide, cyclohexene oxide, and propylene oxide.

상기 다관능 에폭시 화합물로는, 비스페놀형 에폭시 화합물 및 글리시딜에테르류로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 사용하면, 특성의 한층 양호한 착색 알칼리 현상성 감광성 조성물을 얻을 수 있으므로 바람직하다. 상기 비스페놀형 에폭시 화합물로는, 상기 일반식(I)로 나타내는 에폭시 화합물을 사용할 수 있는 외에, 예를 들면, 수첨(水添) 비스페놀형 에폭시 화합물 등의 비스페놀형 에폭시 화합물도 사용할 수 있다. 상기 글리시딜 에테르류로는, 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 1,4-부탄디올디글리시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 1,8-옥탄디올디글리시딜에테르, 1,10-데칸디올디글리시딜에테르, 2,2-디메틸-1,3-프로판디올디글리시딜에테르, 디에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 트리에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 테트라에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 헥사에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 1,4-시클로헥산디메탄올디글리시딜에테르, 1,1,1-트리(글리시딜옥시메틸)프로판, 1,1,1-트리(글리시딜옥시메틸)에탄, 1,1,1-트리(글리시딜옥시메틸)메탄, 1,1,1,1-테트라(글리시딜옥시메틸)메탄을 들 수 있다. As the above-mentioned multifunctional epoxy compound, it is preferable to use at least one selected from the group consisting of bisphenol-type epoxy compounds and glycidyl ethers, because a colored alkaline-developable photosensitive composition having even better properties can be obtained. As the above-mentioned bisphenol-type epoxy compound, in addition to the epoxy compound represented by the above-mentioned general formula (I), a bisphenol-type epoxy compound such as a hydrogenated bisphenol-type epoxy compound can also be used. The above glycidyl ethers include ethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, 1,8-octanediol diglycidyl ether, 1,10-decanediol diglycidyl ether, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol diglycidyl ether, diethylene glycol diglycidyl ether, triethylene glycol diglycidyl ether, tetraethylene glycol diglycidyl ether, hexaethylene glycol diglycidyl ether, 1,4-cyclohexanedimethanol diglycidyl ether, 1,1,1-tri(glycidyloxymethyl)propane, 1,1,1-tri(glycidyloxymethyl)ethane, 1,1,1-tri(glycidyloxymethyl)methane, Examples include 1,1,1,1-tetra(glycidyloxymethyl)methane.

그 외, 페놀노볼락형 에폭시 화합물, 비페닐노볼락형 에폭시 화합물, 크레졸노볼락형 에폭시 화합물, 비스페놀A 노볼락형 에폭시 화합물, 디시클로펜타디엔노볼락형 에폭시 화합물 등의 노볼락형 에폭시 화합물; 3,4-에폭시-6-메틸시클로헥실메틸-3,4-에폭시-6-메틸시클로헥산카르복실레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트, 1-에폭시에틸-3,4-에폭시시클로헥산 등의 지환식 에폭시 화합물; 프탈산디글리시딜에스테르, 테트라하이드로프탈산디글리시딜에스테르, 다이머산(Dimer acid)글리시딜에스테르 등의 글리시딜에스테르류; 테트라글리시딜디아미노디페닐메탄, 트리글리시딜-p-아미노페놀, N,N-디글리시딜아닐린 등의 글리시딜아민류; 1,3-디글리시딜-5,5-디메틸히단토인, 트리글리시딜이소시아누레이트 등의 복소환식 에폭시 화합물; 디시클로펜타디엔디옥시드 등의 디옥시드 화합물; 나프탈렌형 에폭시 화합물, 트리페닐메탄형 에폭시 화합물, 디시클로펜타디엔형 에폭시 화합물 등을 사용할 수도 있다. In addition, novolac-type epoxy compounds such as phenol novolac-type epoxy compounds, biphenyl novolac-type epoxy compounds, cresol novolac-type epoxy compounds, bisphenol A novolac-type epoxy compounds, and dicyclopentadiene novolac-type epoxy compounds; alicyclic epoxy compounds such as 3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl-3,4-epoxy-6-methylcyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, and 1-epoxyethyl-3,4-epoxycyclohexane; glycidyl esters such as phthalic acid diglycidyl ester, tetrahydrophthalic acid diglycidyl ester, and dimer acid glycidyl ester; Glycidylamines such as tetraglycidyldiaminodiphenylmethane, triglycidyl-p-aminophenol, N,N-diglycidylaniline; heterocyclic epoxy compounds such as 1,3-diglycidyl-5,5-dimethylhydantoin, triglycidyl isocyanurate; dioxide compounds such as dicyclopentadiene dioxide; naphthalene-type epoxy compounds, triphenylmethane-type epoxy compounds, dicyclopentadiene-type epoxy compounds, etc. can also be used.

상기 광 라디칼 중합 개시제는, 광 조사를 받음으로써 라디칼 중합을 개시시키는 것이 가능해지는 화합물이면 되고, 예를 들면, 아세트페논계 화합물, 벤질계 화합물, 벤조페논계 화합물, 티옥산톤계 화합물 등의 케톤계 화합물, 옥심계 화합물 등을 바람직한 것으로서 예시할 수 있다. The above-mentioned photo-radical polymerization initiator may be a compound capable of initiating radical polymerization by being irradiated with light, and examples thereof include ketone compounds such as acetophenone compounds, benzyl compounds, benzophenone compounds, and thioxanthone compounds, and oxime compounds.

아세트페논계 화합물로는 예를 들면, 디에톡시아세트페논, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 4'-이소프로필-2-하이드록시-2-메틸프로피오페논, 2-하이드록시메틸-2-메틸프로피오페논, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온, p-디메틸아미노아세트페논, p-터셔리부틸디클로로아세트페논, p-터셔리부틸트리클로로아세트페논, p-아지드벤잘아세트페논, 1-하이드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판온-1,2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄온-1, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인-n-부틸에테르, 벤조인이소부틸에테르, 1-[4-(2-하이드록시에톡시)-페닐]-2-하이드록시-2-메틸-1-프로판-1-온 등을 들 수 있다. Examples of acetophenone compounds include diethoxyacetphenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 4'-isopropyl-2-hydroxy-2-methylpropiophenone, 2-hydroxymethyl-2-methylpropiophenone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one, p-dimethylaminoacetphenone, p-tert-butyldichloroacetphenone, p-tert-butyltrichloroacetphenone, p-azidebenzalacetphenone, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2-methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropanone-1,2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butanone-1, benzoin, benzoin methyl ether, Examples thereof include benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin-n-butyl ether, benzoin isobutyl ether, and 1-[4-(2-hydroxyethoxy)-phenyl]-2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one.

벤질계 화합물로는, 벤질, 아니실 등을 들 수 있다. Benzyl compounds include benzyl and anisyl.

벤조페논계 화합물로는, 예를 들면, 벤조페논, o-벤조일안식향산메틸, 미히라케톤, 4,4'-비스디에틸아미노벤조페논, 4,4'-디클로로벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐술피드 등을 들 수 있다. Examples of benzophenone compounds include benzophenone, o-benzoyl methyl benzoate, Mihira's ketone, 4,4'-bisdiethylaminobenzophenone, 4,4'-dichlorobenzophenone, and 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl sulfide.

티옥산톤계 화합물로는, 티옥산톤, 2-메틸티옥산톤, 2-에틸티옥산톤, 2-클로로티옥산톤, 2-이소프로필티옥산톤, 2,4-디에틸티옥산톤 등을 들 수 있다. Examples of thioxanthone compounds include thioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, and 2,4-diethylthioxanthone.

옥심계 화합물로는, 특히, 하기 일반식(II)로 나타내는 화합물이 감도 및 내열성의 관점에서 바람직하다. Among oxime compounds, a compound represented by the following general formula (II) is particularly preferable from the viewpoints of sensitivity and heat resistance.

(식 중, R51 및 R52는, 각각 독립적으로 수소 원자, 시아노기, 치환기를 가지고 있는 경우도 있는 탄소 원자 수 1~20의 알킬기, 치환기를 가지고 있는 경우도 있는 탄소 원자 수 6~30의 아릴기, 치환기를 가지고 있는 경우도 있는 탄소 원자 수 7~30의 아릴알킬기 또는 치환기를 가지고 있는 경우도 있는 탄소 원자 수 2~20의 복소환 함유기를 나타내고, (In the formula, R 51 and R 52 each independently represent a hydrogen atom, a cyano group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may or may not have a substituent, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms which may or may not have a substituent, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms which may or may not have a substituent, or a heterocyclic group having 2 to 20 carbon atoms which may or may not have a substituent,

R53 및 R54는, 각각 독립적으로 할로겐 원자, 니트로기, 시아노기, 수산기, 카르복실기, R55, OR56, SR57, NR58R59, COR60, SOR61, SO2R62 또는 CONR63R64를 나타내고, R53 및 R54는, 서로 결합하여 환을 형성하고 있어도 되며, R 53 and R 54 each independently represent a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a hydroxyl group, a carboxyl group, R 55 , OR 56 , SR 57 , NR 58 R 59 , COR 60 , SOR 61 , SO 2 R 62 or CONR 63 R 64 , and R 53 and R 54 may be combined with each other to form a ring,

R55, R56, R57, R58, R59, R60, R61, R62, R63 및 R64는, 각각 독립적으로 치환기를 가지고 있는 경우도 있는 탄소 원자 수 1~20의 알킬기, 치환기를 가지고 있는 경우도 있는 탄소 원자 수 6~30의 아릴기, 치환기를 가지고 있는 경우도 있는 탄소 원자 수 7~30의 아릴알킬기 또는 치환기를 가지고 있는 경우도 있는 탄소 원자 수 2~20의 복소환 함유기를 나타내고, R 55 , R 56 , R 57 , R 58 , R 59 , R 60 , R 61 , R 62 , R 63 and R 64 each independently represent an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may or may not have a substituent, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms which may or may not have a substituent, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms which may or may not have a substituent, or a heterocyclic group having 2 to 20 carbon atoms which may or may not have a substituent.

X2는, 산소 원자, 유황 원자, 셀렌 원자, CR75R76, CO, NR77 또는 PR78을 나타내며, X 2 represents an oxygen atom, a sulfur atom, a selenium atom, CR 75 R 76 , CO, NR 77 or PR 78 ,

X3은, 단결합 또는 CO를 나타내고, X 3 represents a single bond or CO,

R51, R52, R55, R56, R57, R58, R59, R60, R65, R66, R67 및 R68 중의 탄소 원자 수 1~20의 알킬기, 탄소 원자 수 6~30의 아릴기 또는 탄소 원자 수 7~30의 아릴알킬기를 나타내며, 상기 알킬기 또는 아릴알킬기 중의 메틸렌기는, 할로겐 원자, 니트로기, 시아노기, 수산기, 카르복실기 또는 복소환 함유기로 치환되어 있어도 되고, -O-으로 치환되어 있어도 되며, R 51 , R 52 , R 55 , R 56 , R 57 , R 58 , R 59 , R 60 , R 65 , R 66 , R 67 and R 68 represent an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms or an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, and the methylene group in the alkyl group or arylalkyl group may be substituted with a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a hydroxyl group, a carboxyl group or a heterocyclic group, and may be substituted with -O-,

R53 및 R54는, 각각 독립적으로 인접하는 어느 쪽의 벤젠환과 함께 환을 형성하고 있어도 되고, R 53 and R 54 may each independently form a ring with either adjacent benzene ring,

a는, 0~4의 정수를 나타내고, a represents an integer from 0 to 4,

b는, 0~5의 정수를 나타낸다.) b represents an integer from 0 to 5.)

그 외의 광 라디칼 중합 개시제로는, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, 비스(시클로펜타디에닐)-비스[2,6-디플루오르-3-(필-1-일)]티타늄 등을 들 수 있다. Other photoradical polymerization initiators include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis(cyclopentadienyl)-bis[2,6-difluoro-3-(phenyl-1-yl)]titanium, etc.

이들 광 라디칼 중합 개시제는 1종 혹은 2종 이상의 것을 원하는 성능에 따라 배합하여 사용할 수 있다. These photo-radical polymerization initiators can be used in combination of one or more types depending on the desired performance.

이상과 같은 광 라디칼 중합 개시제는, 본 발명의 감광성 조성물의 고형분 중, 0.1~30질량%, 특히 0.5~10질량%가 바람직하다. 상기 광 라디칼 중합 개시제의 함유량이 0.1질량%보다 작으면, 노광에 의한 경화가 불충분해지는 경우가 있고, 30질량%보다 크면, 감광성 조성물 중에 광 라디칼 개시제가 석출되는 경우가 있다. The amount of the photo radical polymerization initiator as described above is preferably 0.1 to 30 mass%, particularly 0.5 to 10 mass%, of the solid content of the photosensitive composition of the present invention. If the amount of the photo radical polymerization initiator is less than 0.1 mass%, curing by exposure may become insufficient, and if it is greater than 30 mass%, the photo radical polymerization initiator may precipitate in the photosensitive composition.

본 발명에 의하면 착색 감광성 조성물도 제공된다. 이 착색 감광성 조성물은 상기 감광성 조성물 및 착색제를 함유하는 것이다. 상기 착색 감광성 조성물의 경화물은, 컬러 필터로서 바람직하게 사용된다. According to the present invention, a colored photosensitive composition is also provided. The colored photosensitive composition contains the photosensitive composition and a colorant. A cured product of the colored photosensitive composition is preferably used as a color filter.

상기 착색 감광성 조성물에서, 착색제의 함유량은, 0.01~50질량%가 바람직하고, 0.1~30질량%가 보다 바람직하다. In the above-mentioned colored photosensitive composition, the content of the colorant is preferably 0.01 to 50 mass%, more preferably 0.1 to 30 mass%.

상기 착색제로는, 염료 혹은 안료를 들 수 있다. 염료로는, 380~1200㎚에 흡수를 가지는 화합물이면 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 아조 화합물, 안토라퀴논 화합물, 인디고이드 화합물, 트리아릴메탄 화합물, 크산텐 화합물, 알리잘린 화합물, 아크리딘 화합물, 스틸벤 화합물, 티아졸 화합물, 나프톨 화합물, 퀴놀린 화합물, 니트로 화합물, 인다민 화합물, 옥사딘 화합물, 프탈로시아닌 화합물, 시아닌 화합물, 디임모늄 화합물, 시아노에텐일 화합물, 디시아노스티렌 화합물, 로다민 화합물, 페릴렌 화합물, 폴리엔나프토락탐 화합물, 쿠마린 화합물, 스쿠아릴륨 화합물, 크로코늄 화합물, 스피로피란 화합물, 스피로옥사딘 화합물, 메로시아닌 화합물, 옥소놀 화합물, 스티릴 화합물, 피릴륨 화합물, 로다닌 화합물, 옥사졸론 화합물, 프탈이미드 화합물, 신놀린 화합물, 나프토퀴논 화합물, 아자안트라퀴논 화합물, 포르피린 화합물, 아자포르피린 화합물, 피로메텐 화합물, 퀴나크리돈 화합물, 디케토피롤로피롤 화합물, 인디고 화합물, 아크리딘 화합물, 아진 화합물, 아조메틴 화합물, 아닐린 화합물, 퀴나크리돈 화합물, 퀴노프탈론 화합물, 퀴논이민 화합물, 이리듐 착체화합물, 유로퓸 착체화합물 등의 염료를 들 수 있고, 이들은 복수를 혼합하여 사용해도 좋다. The above coloring agent may include a dye or pigment. As a dye, there is no particular limitation as long as it is a compound having an absorption in the range of 380 to 1200 nm, and examples thereof include azo compounds, anthoraquinone compounds, indigoid compounds, triarylmethane compounds, xanthene compounds, alizalin compounds, acridine compounds, stilbene compounds, thiazole compounds, naphthol compounds, quinoline compounds, nitro compounds, indamine compounds, oxadine compounds, phthalocyanine compounds, cyanine compounds, diimmonium compounds, cyanoethenyl compounds, dicyanostyrene compounds, rhodamine compounds, perylene compounds, polyenenaphtholactam compounds, coumarin compounds, squarylium compounds, croconium compounds, spiropyran compounds, spiroxadine compounds, merocyanine compounds, oxonol compounds, styryl compounds, pyrylium compounds, rhodanine compounds, oxazolone compounds, phthalimide compounds, cinnoline compounds, naphthoquinone compounds, azaanthraquinone compounds, Examples of dyes include porphyrin compounds, azaporphyrin compounds, pyrromethene compounds, quinacridone compounds, diketopyrrolopyrrole compounds, indigo compounds, acridine compounds, azine compounds, azomethine compounds, aniline compounds, quinacridone compounds, quinophthalone compounds, quinone imine compounds, iridium complex compounds, and europium complex compounds, and these may be used in combination.

안료로는, 무기안료 혹은 유기안료를 사용할 수 있고, 예를 들면, 니트로소 화합물, 니트로 화합물, 아조 화합물, 디아조 화합물, 크산텐 화합물, 퀴놀린 화합물, 안트라퀴논 화합물, 쿠마린 화합물, 프탈로시아닌 화합물, 이소인돌리논 화합물, 이소인돌린 화합물, 퀴나크리돈 화합물, 안탄트론 화합물, 페리논 화합물, 페릴렌 화합물, 디케토피롤로피롤 화합물, 티오인디고 화합물, 디옥사딘 화합물, 트리페닐메탄 화합물, 퀴노프탈론 화합물, 나프탈렌테트라카르복실산; 아조 염료, 시아닌 염료의 금속착체 화합물; 레이크 안료; 퍼니스법(furnace method), 채널법(channel method) 또는 서멀(thermal method)법에 의해 얻어지는 카본블랙, 혹은 아세틸렌블랙, 케첸블랙 또는 램프블랙 등의 카본블랙; 상기 카본블랙을 에폭시 수지로 조정, 피복한 것, 상기 카본블랙을 미리 용매 중에서 수지로 분산 처리하고, 20~200mg/g의 수지를 흡착시킨 것, 상기 카본블랙을 산성 또는 알카리성 표면처리한 것, 평균 입경이 8㎚ 이상이고 DBP 흡유량이 90㎖/100g 이하인 것, 950℃에서의 휘발분 중의 CO, CO2로부터 산출한 전체 산소량이, 카본블랙의 표면적 100㎡당 9㎎ 이상인 것; 흑연, 흑연화 카본블랙, 활성탄, 탄소섬유, 카본 나노튜브, 카본 마이크로코일, 카본 나노혼, 카본 에어로겔, 풀러렌; 아닐린블랙, 피그먼트블랙7, 티탄블랙; 소수성 수지, 산화크롬 그린, 밀로리 블루(milori blue), 코발트 그린, 코발트 블루, 망간계, 페로시안화물, 인산염군청, 감청, 울트라마린, 세룰리안 블루, 비리디언(Viridian), 에메럴드 그린, 황산납, 황색납, 아연황, 벵갈라(적색산화철(III)), 카드뮴 레드, 합성철 블랙, 앰버(amber) 등의 유기 또는 무기안료를 사용할 수 있다. 이들의 안료는 단독으로 혹은 복수를 혼합하여 사용할 수 있다.As the pigment, an inorganic pigment or organic pigment can be used, and examples thereof include nitroso compounds, nitro compounds, azo compounds, diazo compounds, xanthene compounds, quinoline compounds, anthraquinone compounds, coumarin compounds, phthalocyanine compounds, isoindolinone compounds, isoindoline compounds, quinacridone compounds, anthanthrone compounds, perinone compounds, perylene compounds, diketopyrrolopyrrole compounds, thioindigo compounds, dioxadine compounds, triphenylmethane compounds, quinophthalone compounds, naphthalenetetracarboxylic acid; metal complex compounds of azo dyes and cyanine dyes; lake pigments; carbon black obtained by a furnace method, a channel method or a thermal method, or carbon black such as acetylene black, Ketjen black or lamp black; The carbon black above is adjusted and coated with an epoxy resin, the carbon black above is dispersed in advance with a resin in a solvent and 20 to 200 mg/g of the resin is adsorbed, the carbon black above is surface-treated with acid or alkali, the average particle size is 8 nm or more and the DBP absorption is 90 ml/100 g or less, the total oxygen amount calculated from CO and CO2 in the volatile matter at 950°C is 9 mg or more per 100 m2 of the surface area of the carbon black; graphite, graphitized carbon black, activated carbon, carbon fiber, carbon nanotube, carbon microcoil, carbon nanohorn, carbon aerogel, fullerene; aniline black, pigment black 7, titanium black; Organic or inorganic pigments such as hydrophobic resin, chromium oxide green, milori blue, cobalt green, cobalt blue, manganese, ferrocyanide, phosphate ultramarine, prussian blue, ultramarine, cerulean blue, viridian, emerald green, lead sulfate, yellow lead, zinc sulfur, bengala (red iron (III) oxide), cadmium red, synthetic iron black, and amber can be used. These pigments can be used alone or in combination.

상기 무기안료 또는 유기안료로는, 시판의 안료를 사용할 수도 있고, 예를 들면, 피그먼트 레드 1, 2, 3, 9, 10, 14, 17, 22, 23, 31, 38, 41, 48, 49, 88, 90, 97, 112, 119, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 169, 170, 171, 177, 179, 180, 184, 185, 192, 200, 202, 209, 215, 216, 217, 220, 223, 224, 226, 227, 228, 240, 254; 피그먼트 오렌지 13, 31, 34, 36, 38, 43, 46, 48, 49, 51, 52, 55, 59, 60, 61, 62, 64, 65, 71; 피그먼트 옐로우 1, 3, 12, 13, 14, 16, 17, 20, 24, 55, 60, 73, 81, 83, 86, 93, 95, 97, 98, 100, 109, 110, 113, 114, 117, 120, 125, 126, 127, 129, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 166, 168, 175, 180, 185; 피그먼트 그린 7, 10, 36; 피그먼트 불루 15, 15:1, 15:2, 15:3, 15:4, 15:5, 15:6, 22, 24, 56, 60, 61, 62, 64; 피그먼트 바이올렛 1, 19, 23, 27, 29, 30, 32, 37, 40, 50 등을 들 수 있다. As the above inorganic pigment or organic pigment, a commercially available pigment may be used, for example, Pigment Red 1, 2, 3, 9, 10, 14, 17, 22, 23, 31, 38, 41, 48, 49, 88, 90, 97, 112, 119, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 169, 170, 171, 177, 179, 180, 184, 185, 192, 200, 202, 209, 215, 216, 217, 220, 223, 224, 226, 227, 228, 240, 254; Pigment Orange 13, 31, 34, 36, 38, 43, 46, 48, 49, 51, 52, 55, 59, 60, 61, 62, 64, 65, 71; Pigment Yellow 1, 3, 12, 13, 14, 16, 17, 20, 24, 55, 60, 73, 81, 83, 86, 93, 95, 97, 98, 100, 109, 110, 113, 114, 117, 120, 125, 126, 127, 129, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 166, 168, 175, 180, 185; Pigment Green 7, 10, 36; Pigment Blue 15, 15:1, 15:2, 15:3, 15:4, 15:5, 15:6, 22, 24, 56, 60, 61, 62, 64; Pigment Violet 1, 19, 23, 27, 29, 30, 32, 37, 40, 50, etc.

본 발명의 착색 감광성 조성물에서는, 상기 착색제로서 염료를 사용하는 것이 바람직하고, 트리아릴메탄 화합물 및 시아노에텐일 화합물을 사용하는 것이 특히 바람직하다. 착색제로서, 염료, 특히 트리아릴메탄 화합물 및 시아노에텐일 화합물을 사용함으로써 착색제의 내열성이 보다 높아져, 그 결과, 착색 감광성 조성물의 소성 전후에서의 색도 변화가 보다 작은 것이 된다는 효과가 발휘된다. In the colored photosensitive composition of the present invention, it is preferable to use a dye as the colorant, and it is particularly preferable to use a triarylmethane compound and a cyanoethenyl compound. By using a dye, particularly a triarylmethane compound and a cyanoethenyl compound, as the colorant, the heat resistance of the colorant is further increased, and as a result, the effect of making the color change before and after firing of the colored photosensitive composition smaller is exerted.

상기 감광성 조성물 및 착색 감광성 조성물에는 용매를 더 첨가할 수 있다. 상기 용매로는, 통상, 필요에 따라 상기의 각 성분을 용해 또는 분산할 수 있는 용매, 예를 들면, 메틸에틸케톤, 메틸아밀케톤, 디에틸케톤, 아세톤, 메틸이소프로필케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논, 2-헵타논 등의 케톤류; 에틸에테르, 디옥산, 테트라하이드로푸란, 1,2-디메톡시에탄, 1,2-디에톡시에탄, 디프로필렌글리콜디메틸에테르 등의 에테르계 용매; 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산-n-프로필, 아세트산이소프로필, 아세트산n-부틸, 아세트산시클로헥실, 락트산에틸, 숙신산디메틸, 텍산올 등의 에스테르계 용매; 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르 등의 셀로솔브계 용매; 메탄올, 에탄올, 이소- 또는 n-프로판올, 이소- 또는 n-부탄올, 아밀알코올, 디아세톤알코올 등의 알코올계 용매; 에틸렌글리콜모노메틸아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸아세테이트, 프로필렌글리콜-1-모노메틸에테르-2-아세테이트(PGMEA), 디프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 3-메톡시부틸아세테이트, 에톡시에틸프로피오네이트, 1-t-부톡시-2-프로판올, 3-메톡시부틸아세테이트, 시클로헥산올아세테이트 등의 에테르에스테르계 용매; 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등의 BTX계 용매; 헥산, 헵탄, 옥탄, 시클로헥산 등의 지방족 탄화수소계 용매; 테레핀유, D-리모넨, 피넨 등의 테르펜계 탄화수소유; 미네랄스피릿, 스와졸 #310(코스모 마츠야마 세끼유(주)), 솔베소(Solvesso) #100(엑손가가쿠(주)) 등의 파라핀계 용매; 사염화탄소, 클로로포름, 트리클로로에틸렌, 염화메틸렌, 1,2-디클로로에탄 등의 할로겐화 지방족 탄화수소계 용매; 클로로벤젠 등의 할로겐화 방향족 탄화수소계 용매; 카르비톨계 용매; 아닐린; 트리에틸아민; 피리딘; 아세트산; 아세트니트릴; 이황화탄소; N,N-디메틸포름아미드; N,N-디메틸아세트아미드; N-메틸피롤리돈; 디메틸술폭시드; 물 등을 들 수 있고, 이들 용매는 1종 또는 2종 이상의 혼합 용매로 사용할 수 있다. 이들 중에서도, 케톤류, 에테르에스테르계 용매 등, 특히 프로필렌글리콜-1-모노메틸에테르-2-아세테이트, 시클로헥사논 등이, 감광성 조성물에서 레지스트와 광 라디칼 중합 개시제의 상용성이 좋으므로 바람직하다.A solvent may be further added to the above photosensitive composition and colored photosensitive composition. As the solvent, typically, a solvent capable of dissolving or dispersing each of the above components as necessary, for example, ketones such as methyl ethyl ketone, methyl amyl ketone, diethyl ketone, acetone, methyl isopropyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, and 2-heptanone; ether solvents such as ethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, 1,2-dimethoxyethane, 1,2-diethoxyethane, and dipropylene glycol dimethyl ether; ester solvents such as methyl acetate, ethyl acetate, n-propyl acetate, isopropyl acetate, n-butyl acetate, cyclohexyl acetate, ethyl lactate, dimethyl succinate, and taxanol; cellosolve solvents such as ethylene glycol monomethyl ether and ethylene glycol monoethyl ether; Alcohol solvents such as methanol, ethanol, iso- or n-propanol, iso- or n-butanol, amyl alcohol, diacetone alcohol, etc.; ether ester solvents such as ethylene glycol monomethyl acetate, ethylene glycol monoethyl acetate, propylene glycol-1-monomethyl ether-2-acetate (PGMEA), dipropylene glycol monomethyl ether acetate, 3-methoxybutyl acetate, ethoxyethyl propionate, 1-t-butoxy-2-propanol, 3-methoxybutyl acetate, cyclohexanol acetate, etc.; BTX solvents such as benzene, toluene, xylene, etc.; Aliphatic hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, octane, and cyclohexane; terpene hydrocarbon oils such as turpentine oil, D-limonene, and pinene; Examples thereof include paraffin solvents such as mineral spirits, Swasol #310 (Cosmo Matsuyama Sekiyu Co., Ltd.), and Solvesso #100 (Exxon Chemical Co., Ltd.); halogenated aliphatic hydrocarbon solvents such as carbon tetrachloride, chloroform, trichloroethylene, methylene chloride, and 1,2-dichloroethane; halogenated aromatic hydrocarbon solvents such as chlorobenzene; carbitol solvents; aniline; triethylamine; pyridine; acetic acid; acetonitrile; carbon disulfide; N,N-dimethylformamide; N,N-dimethylacetamide; N-methylpyrrolidone; dimethyl sulfoxide; and water. These solvents can be used alone or as a mixed solvent of two or more. Among these, ketones, ether ester solvents, etc., especially propylene glycol-1-monomethyl ether-2-acetate, cyclohexanone, etc. are preferable because they have good compatibility between the resist and the photoradical polymerization initiator in the photosensitive composition.

상기 감광성 조성물 및 상기 착색 감광성 조성물에는, 무기화합물을 더 함유시킬 수 있다. 상기 무기화합물로는, 예를 들면, 산화니켈, 산화철, 산화이리듐, 산화티탄, 산화아연, 산화마그네슘, 산화칼슘, 산화칼륨, 실리카, 알루미나 등의 금속산화물; 층상(層狀) 점토광물, 밀로리 블루, 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 코발트계, 망간계, 유리분말, 마이카, 탤크, 카올린, 페로시안화물, 각종 금속황산염, 황화물, 셀렌화물, 알루미늄 실리케이트, 칼슘 실리케이트, 수산화 알루미늄, 백금, 금, 은, 구리 등을 들 수 있다. The above photosensitive composition and the above colored photosensitive composition may further contain an inorganic compound. Examples of the above inorganic compound include metal oxides such as nickel oxide, iron oxide, iridium oxide, titanium oxide, zinc oxide, magnesium oxide, calcium oxide, potassium oxide, silica, and alumina; layered clay minerals, Milori blue, calcium carbonate, magnesium carbonate, cobalt-based, manganese-based, glass powder, mica, talc, kaolin, ferrocyanide, various metal sulfates, sulfides, selenides, aluminum silicate, calcium silicate, aluminum hydroxide, platinum, gold, silver, and copper.

상기 감광성 조성물 및 상기 착색 감광성 조성물에서, 안료 및/또는 무기화합물을 사용하는 경우, 분산제를 첨가할 수 있다. 상기 분산제로는 색재, 무기화합물을 분산, 안정화할 수 있는 것이면 무엇이든 좋고, 시판의 분산제, 예를 들면 빅 케미사 제품, BYK시리즈 등을 사용할 수 있으며, 염기성 관능기를 가지는 폴리에스테르, 폴리에테르, 폴리우레탄으로 이루어지는 고분자 분산제, 염기성 관능기로서 질소 원자를 가지고, 질소 원자를 가지는 관능기가 아민 및/또는 그 4급염이며, 아민가가 1~100㎎KOH/g인 것이 바람직하게 사용된다. In the above photosensitive composition and the above colored photosensitive composition, when a pigment and/or an inorganic compound is used, a dispersant can be added. As the dispersant, any material capable of dispersing and stabilizing a coloring material and an inorganic compound may be used, and commercially available dispersants, for example, products from Big Chemistry, BYK series, etc., can be used, and a polymer dispersant composed of polyester, polyether, and polyurethane having a basic functional group, a polymer dispersant having a nitrogen atom as the basic functional group, wherein the functional group having the nitrogen atom is an amine and/or a quaternary salt thereof, and an amine value of 1 to 100 mgKOH/g is preferably used.

또한, 상기 감광성 조성물 및 상기 착색 감광성 조성물에는, 필요에 따라, p-아니솔, 하이드로퀴논, 피로카테콜, t-부틸카테콜, 페노티아진 등의 열중합 억제제; 가소제; 접착촉진제; 충전제; 소포제(消泡劑); 레벨링제; 표면조정제; 페놀계 산화방지제, 포스페이트계 산화방지제, 티오에테르계 산화방지제 등의 산화방지제; 자외선흡수제; 분산조제; 응집방지제; 촉매; 효과촉진제; 가교제; 증점제 등의 관용의 첨가물을 더할 수 있다. In addition, the photosensitive composition and the colored photosensitive composition may contain, as necessary, conventional additives such as thermal polymerization inhibitors such as p-anisole, hydroquinone, pyrocatechol, t-butylcatechol, and phenothiazine; plasticizers; adhesion promoters; fillers; antifoaming agents; leveling agents; surface conditioners; antioxidants such as phenol antioxidants, phosphate antioxidants, and thioether antioxidants; ultraviolet absorbers; dispersing agents; anticoagulants; catalysts; effect accelerators; crosslinking agents, and thickeners.

또한, 상기 산가를 가지는 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물과 함께, 다른 유기중합체를 사용함으로써, 본 발명의 착색 감광성 조성물의 경화물의 특성을 개선할 수도 있다. 상기 유기 중합체로는, 예를 들면, 폴리스티렌, 폴리메틸메타크릴레이트, 메틸메타크릴레이트-에틸아크릴레이트 공중합체, 폴리(메타)아크릴산, 스티렌-(메타)아크릴산 공중합체, (메타)아크릴산-메틸메타크릴레이트 공중합체, 에틸렌-염화비닐 공중합체, 에틸렌-비닐 공중합체, 폴리염화비닐 수지, ABS수지, 나일론6, 나일론66, 나일론12, 우레탄 수지, 폴리카보네이트폴리비닐부티랄, 셀룰로오스에스테르, 폴리아크릴아미드, 포화폴리에스테르, 페놀 수지, 페녹시 수지, 폴리아미드이미드 수지, 폴리아믹산 수지, 에폭시 수지 등을 들 수 있고, 이들 중에서도, 폴리스티렌, (메타)아크릴산-메틸메타크릴레이트 공중합체, 에폭시 수지가 바람직하다.In addition, by using another organic polymer together with the polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond having the above acid value, the properties of the cured product of the colored photosensitive composition of the present invention can also be improved. Examples of the organic polymer include polystyrene, polymethyl methacrylate, methyl methacrylate-ethyl acrylate copolymer, poly(meth)acrylic acid, styrene-(meth)acrylic acid copolymer, (meth)acrylic acid-methyl methacrylate copolymer, ethylene-vinyl chloride copolymer, ethylene-vinyl copolymer, polyvinyl chloride resin, ABS resin, nylon 6, nylon 66, nylon 12, urethane resin, polycarbonate polyvinyl butyral, cellulose ester, polyacrylamide, saturated polyester, phenol resin, phenoxy resin, polyamideimide resin, polyamic acid resin, epoxy resin, and the like. Among these, polystyrene, (meth)acrylic acid-methyl methacrylate copolymer, and epoxy resin are preferable.

상기 감광성 조성물 및 상기 착색 감광성 조성물에는 또한, 연쇄이동제, 증감제, 계면활성제, 실란커플링제, 멜라민 등을 병용할 수 있다. The above photosensitive composition and the above colored photosensitive composition may also contain a chain transfer agent, a sensitizer, a surfactant, a silane coupling agent, melamine, etc.

상기 연쇄이동제 또는 증감제로는, 일반적으로 유황 원자 함유 화합물이 사용된다. 예를 들면 티오글리콜산, 티오사과산, 티오살리실산, 2-메르캅토프로피온산, 3-메르캅토프로피온산, 3-메르캅토부티르산, N-(2-메르캅토프로피오닐)글리신, 2-메르캅토니코틴산, 3-[N-(2-메르캅토에틸)카르바모일]프로피온산, 3-[N-(2-메르캅토에틸)아미노]프로피온산, N-(3-메르캅토프로피오닐)알라닌, 2-메르캅토에탄술폰산, 3-메르캅토프로판술폰산, 4-메르캅토부탄술폰산, 도데실(4-메틸티오)페닐에테르, 2-메르캅토에탄올, 3-메르캅토-1,2-프로판디올, 1-메르캅토-2-프로판올, 3-메르캅토-2-부탄올, 메르캅토페놀, 2-메르캅토에틸아민, 2-메르캅토이미다졸, 2-메르캅토벤조이미다졸, 2-메르캅토-3-피리디놀, 2-메르캅토벤조티아졸, 메르캅토아세트산, 트리메틸롤프로판트리스(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트) 등의 메르캅토 화합물, 상기 메르캅토 화합물을 산화하여 얻어지는 디술피드 화합물, 요오드아세트산, 요오드프로피온산, 2-요오드에탄올, 2-요오드에탄술폰산, 3-요오드프로판술폰산 등의 요오드화 알킬 화합물, 트리메틸롤프로판트리스(3-메르캅토이소부틸레이트), 부탄디올비스(3-메르캅토이소부틸레이트), 헥산디티올, 데칸디티올, 1,4-디메틸메르캅토벤젠, 부탄디올비스티오프로피오네이트, 부탄디올비스티오글리콜레이트, 에틸렌글리콜비스티오글리콜레이트, 트리메틸롤프로판트리스티오글리콜레이트, 부탄디올비스티오프로피오네이트, 트리메틸롤프로판트리스티오프로피오네이트, 트리메틸롤프로판트리스티오글리콜레이트, 펜타에리트리톨테트라키스티오프로피오네이트, 펜타에리트리톨테트라키스티오글리콜레이트, 트리스하이드록시에틸트리스티오프로피오네이트, 하기 화합물 No.C1, 트리메르캅토프로피온산트리스(2-하이드록시에틸)이소시아누레이트 등의 지방족 다관능 티올 화합물, 쇼와 덴코 제품 카렌즈 MT BD1, PE1, NR1 등을 들 수 있다.As the above chain transfer agent or sensitizer, a sulfur atom-containing compound is generally used. For example, thioglycolic acid, thiomalic acid, thiosalicylic acid, 2-mercaptopropionic acid, 3-mercaptopropionic acid, 3-mercaptobutyric acid, N-(2-mercaptopropionyl)glycine, 2-mercaptonicotinic acid, 3-[N-(2-mercaptoethyl)carbamoyl]propionic acid, 3-[N-(2-mercaptoethyl)amino]propionic acid, N-(3-mercaptopropionyl)alanine, 2-mercaptoethanesulfonic acid, 3-mercaptopropanesulfonic acid, 4-mercaptobutanesulfonic acid, dodecyl(4-methylthio)phenyl ether, 2-mercaptoethanol, 3-mercapto-1,2-propanediol, 1-mercapto-2-propanol, Mercapto compounds such as 3-mercapto-2-butanol, mercaptophenol, 2-mercaptoethylamine, 2-mercaptoimidazole, 2-mercaptobenzoimidazole, 2-mercapto-3-pyridinol, 2-mercaptobenzothiazole, mercaptoacetic acid, trimethylolpropane tris(3-mercaptopropionate), pentaerythritol tetrakis(3-mercaptopropionate), disulfide compounds obtained by oxidizing the above mercapto compounds, iodinated alkyl compounds such as iodoacetic acid, iodopropionic acid, 2-iodoethanol, 2-iodoethanesulfonic acid, and 3-iodopropanesulfonic acid, trimethylolpropane tris(3-mercaptoisobutyrate), butanediol bis(3-mercaptoisobutyrate), Examples thereof include aliphatic polyfunctional thiol compounds such as hexaneditiol, decaneditiol, 1,4-dimethylmercaptobenzene, butanediol bisthiopropionate, butanediol bisthioglycolate, ethylene glycol bisthioglycolate, trimethylolpropane tristhioglycolate, butanediol bisthiopropionate, trimethylolpropane tristhioglycolate, trimethylolpropane tristhioglycolate, pentaerythritol tetrakisthioglycolate, pentaerythritol tetrakisthioglycolate, trishydroxyethyl tristhiopropionate, the following Compound No. C1, trimercaptopropionate tris(2-hydroxyethyl)isocyanurate, Showa Denko products Karenz MT BD1, PE1, NR1, etc.

상기 계면활성제로는, 퍼플루오로알킬인산에스테르, 퍼플루오로알킬카르복실산염 등의 불소 계면활성제, 고급 지방산 알칼리염, 알킬술폰산염, 알킬황산염 등의 음이온계 계면활성제, 고급 아민할로겐산염, 제4급 암모늄염 등의 양이온계 계면활성제, 폴리에틸렌글리콜알킬에테르, 폴리에틸렌글리콜 지방산 에스테르, 소르비탄 지방산 에스테르, 지방산 모노글리세리드 등의 비(非)이온 계면활성제, 양성(兩性) 계면활성제, 실리콘계 계면활성제 등의 계면활성제를 사용할 수 있고, 이들은 조합하여 사용하여도 된다.As the above surfactant, fluorine surfactants such as perfluoroalkyl phosphate ester and perfluoroalkyl carboxylate, anionic surfactants such as higher fatty acid alkali salt, alkyl sulfonate and alkyl sulfate, cationic surfactants such as higher amine halogenate and quaternary ammonium salt, nonionic surfactants such as polyethylene glycol alkyl ether, polyethylene glycol fatty acid ester, sorbitan fatty acid ester and fatty acid monoglyceride, amphoteric surfactants, silicone surfactants and the like can be used, and these can also be used in combination.

상기 실란 커플링제로는, 예를 들면 신에쓰 가가꾸사 제품 실란 커플링제를 사용할 수 있고, 그 중에서도, KBE-9007, KBM-502, KBE-403 등, 이소시아네이트기, 메타크릴로일기, 에폭시기를 가지는 실란 커플링제가 바람직하게 사용된다.As the above silane coupling agent, for example, a silane coupling agent manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. can be used, and among these, a silane coupling agent having an isocyanate group, a methacryloyl group, or an epoxy group, such as KBE-9007, KBM-502, or KBE-403, is preferably used.

상기 멜라민 화합물로는, (폴리)메틸롤멜라민, (폴리)메틸롤글리콜우릴, (폴리)메틸롤벤조구아나민, (폴리)메틸롤우레아 등의 질소 화합물 중의 활성 메틸올기(CH2OH기)의 전부 또는 일부(적어도 2개)가 알킬에테르화된 화합물을 들 수 있다. 여기서, 알킬에테르를 구성하는 알킬기로는, 메틸기, 에틸기 또는 부틸기를 들 수 있고, 서로 동일하여도 되고, 달라도 된다. 또한, 알킬에테르화되어 있지 않은 메틸롤기는, 1분자 내에서 자기(自己)축합하고 있어도 되고, 2분자 사이에서 축합하여, 그 결과 올리고머 성분이 형성되어 있어도 된다. 구체적으로는, 헥사메톡시메틸멜라민, 헥사부톡시메틸멜라민, 테트라메톡시메틸글리콜우릴, 테트라부톡시메틸글리콜우릴 등을 사용할 수 있다. 이들 중에서도, 헥사메톡시메틸멜라민, 헥사부톡시메틸멜라민 등의 알킬에테르화된 멜라민이 바람직하다.As the above melamine compound, examples thereof include compounds in which all or part (at least two) of the active methylol groups (CH 2 OH groups) in nitrogen compounds such as (poly) methylol melamine, (poly) methylol glycoluril, (poly) methylol benzoguanamine, and (poly) methylol urea are alkyl etherified. Here, the alkyl groups constituting the alkyl ether include a methyl group, an ethyl group, and a butyl group, and they may be the same as or different from each other. In addition, a methylol group that is not alkyl etherified may self-condense within one molecule, or may condense between two molecules to form an oligomer component as a result. Specifically, hexamethoxymethylmelamine, hexabutoxymethylmelamine, tetramethoxymethylglycoluril, tetrabutoxymethylglycoluril, and the like can be used. Among these, alkyl etherified melamine such as hexamethoxymethylmelamine and hexabutoxymethylmelamine is preferable.

상기 감광성 조성물 및 착색 감광성 조성물은, 스핀 코터, 롤 코터, 바 코터, 다이 코터, 커튼 코터, 각종의 인쇄, 침지 등의 공지의 수단으로, 소다 유리, 석영 유리, 반도체기판, 금속, 종이, 플라스틱 등의 지지 기체(基體) 상에 적용할 수 있다. 또한, 일단 필름 등의 지지 기체 상에 실시한 후, 다른 지지 기체 상에 전사(轉寫)할 수도 있고, 그 적용 방법에 제한은 없다.The above photosensitive composition and colored photosensitive composition can be applied onto a support substrate such as soda glass, quartz glass, a semiconductor substrate, metal, paper, plastic, etc. by known means such as a spin coater, a roll coater, a bar coater, a die coater, a curtain coater, various printing, immersion, etc. In addition, after once applied onto a support substrate such as a film, it can also be transferred onto another support substrate, and there is no limitation on the application method.

또한, 상기 감광성 조성물 및 착색 감광성 조성물을 경화시킬 때에 사용되는 활성광의 광원으로는, 파장 300~450㎚의 광을 발광하는 것을 사용할 수 있고, 예를 들면, 초고압 수은, 수은증기 아크, 카본 아크, 크세논 아크 등을 사용할 수 있다. In addition, as a light source of the active light used when curing the photosensitive composition and the colored photosensitive composition, a light emitting light having a wavelength of 300 to 450 nm can be used, and examples thereof include ultra-high pressure mercury, mercury vapor arc, carbon arc, xenon arc, etc.

또한, 노광 광원에 레이저광을 사용함으로써, 마스크를 사용하지 않고, 컴퓨터 등의 디지털 정보로부터 직접 화상을 형성하는 레이저 직접 묘화법이, 생산성뿐만 아니라, 해상성이나 위치 정밀도 등의 향상도 도모할 수 있기 때문에 유용하고, 그 레이저광으로는, 340~430㎚의 파장의 광이 바람직하게 사용되지만, 아르곤이온레이저, 헬륨네온레이저, YAG레이저, 및 반도체 레이저 등의 가시로부터 적외 영역의 광을 발하는 것도 사용된다. 이들의 레이저를 사용하는 경우에는, 상기 감광성 조성물 및 착색 감광성 조성물에, 가시로부터 적외의 해당 영역을 흡수하는 증감색소가 더하여진다. In addition, by using laser light as an exposure light source, a laser direct drawing method that forms an image directly from digital information such as a computer without using a mask is useful because it can improve not only productivity but also resolution and positional accuracy, and as the laser light, light having a wavelength of 340 to 430 nm is preferably used, but lasers that emit light in the visible to infrared range, such as an argon ion laser, a helium-neon laser, a YAG laser, and a semiconductor laser, are also used. When these lasers are used, an intensifying dye that absorbs in the corresponding range from visible to infrared is added to the photosensitive composition and the colored photosensitive composition.

본 발명의 감광성 조성물 및 착색 감광성 조성물은, 2개의 감광성 조성물 또는 착색 감광성 조성물을 사용하여 두번으로 나누어 패터닝을 실시하는 더블 패터닝 프로세스를 거쳐 패터닝을 실시할 수도 있다. The photosensitive composition and colored photosensitive composition of the present invention can also be patterned through a double patterning process in which patterning is performed twice using two photosensitive compositions or colored photosensitive compositions.

상기 감광성 조성물 및 착색 감광성 조성물(또는 그 경화물)은, 광 경화성 도료 혹은 바니시, 광 경화성 접착제, 프린트 기판, 혹은 컬러TV, PC모니터, 휴대정보단말, 디지털카메라 등의 컬러 표시의 액정표시 패널에서의 컬러 필터, CCD 이미지 센서의 컬러 필터, 포토 스페이서, 블랙 컬럼 스페이서, 플라스마 표시 패널용의 전극재료, 터치패널, 터치센서, 분말코팅, 인쇄잉크, 인쇄판, 접착제, 치과용 조성물, 광 조형용 수지, 겔 코트, 전자공학용의 포토레지스트, 전기도금 레지스트, 에칭 레지스트, 액상 및 건조막의 쌍방, 솔더 레지스트, 다양한 표시 용도용의 컬러 필터를 제조하기 위한 혹은 플라스마 표시 패널, 전기발광 표시장치, 및 LCD의 제조 공정에서 구조를 형성하기 위한 레지스트, 전기 및 전자부품을 봉입하기 위한 조성물, 솔더 레지스트, 자기(磁氣)기록 재료, 미소(微小) 기계부품, 도파로(導波路), 광 스위치, 도금용 마스크, 에칭 마스크, 컬러 시험계, 유리섬유 케이블 코팅, 스크린 인쇄용 스텐실, 스테레오리소그래피로 3차원 물체를 제조하기 위한 재료, 홀로그래피 기록용 재료, 화상기록 재료, 미세전자회로, 탈색 재료, 화상기록 재료를 위한 탈색 재료, 마이크로캡슐을 사용하는 화상기록 재료용의 탈색 재료, 인쇄 배선판용 포토레지스트 재료, UV 및 가시 레이저 직접 화상계용의 포토레지스트 재료, 프린트 회로 기판의 순차 적층에서의 유전체층 형성에 사용하는 포토레지스트 재료, 3D실장용 포토레지스트 재료 혹은 보호막 등의 각종의 용도에 사용할 수 있고, 그 용도에 특별히 제한은 없다. The above photosensitive composition and the colored photosensitive composition (or the cured product thereof) are used in a photocurable paint or varnish, a photocurable adhesive, a printed circuit board, or a color filter in a liquid crystal display panel for color displays such as a color TV, a PC monitor, a portable information terminal, and a digital camera, a color filter of a CCD image sensor, a photo spacer, a black column spacer, an electrode material for a plasma display panel, a touch panel, a touch sensor, a powder coating, a printing ink, a printing plate, an adhesive, a dental composition, a resin for stereolithography, a gel coat, a photoresist for electronics, an electroplating resist, an etching resist, both liquid and dry films, a solder resist, a resist for manufacturing a color filter for various display purposes or for forming a structure in a manufacturing process of a plasma display panel, an electroluminescent display device, and an LCD, a composition for sealing electric and electronic components, a solder resist, a magnetic recording material, a microscopic mechanical component, It can be used for various purposes such as waveguides, optical switches, plating masks, etching masks, color test systems, glass fiber cable coatings, stencils for screen printing, materials for manufacturing three-dimensional objects by stereolithography, materials for holographic recording, image recording materials, microelectronic circuits, decolorizing materials, decolorizing materials for image recording materials, decolorizing materials for image recording materials using microcapsules, photoresist materials for printed wiring boards, photoresist materials for UV and visible laser direct imaging systems, photoresist materials used for forming dielectric layers in sequential lamination of printed circuit boards, photoresist materials for 3D mounting or as protective films, and there are no particular limitations on the uses.

본 발명의 감광성 조성물은, 경화시킴으로써, 투명 도전막, 반사막, 편광판, 보호막 등에 사용할 수 있고, 투명기판에 상술의 각 층을 순차 도포하여, 소정의 패턴 형상을 가지는 마스크를 통해 활성광을 조사하고, 노광 후의 피막을 현상액으로 현상하여, 현상 후의 피막을 가열함으로써 적층한 투명 적층체로 사용할 수 있다. 투명 적층체로는, 예를 들면, 투명 기재에, 산화 인듐과 산화 세륨의 복합 산화물로 이루어지는 투명 박막층과 금속 박막층이 교대로 되어 있는 것 등을 들 수 있다. 상술의 각 층 각각에, 본 발명의 화합물을 잠재성 첨가제로서 함유하는 감광성 조성물을 사용해도 되고, 어느 1 이상의 층에 상기 감광성 조성물을 사용해도 된다. 본 발명의 투명 적층체는, 표시 디바이스에 바람직하게 사용된다.The photosensitive composition of the present invention can be used for a transparent conductive film, a reflective film, a polarizing plate, a protective film, etc. by curing, and can be used as a transparent laminate by sequentially applying the above-mentioned respective layers to a transparent substrate, irradiating active light through a mask having a predetermined pattern shape, developing the exposed film with a developer, and heating the developed film. As the transparent laminate, for example, there can be mentioned one in which transparent thin film layers and metal thin film layers made of a composite oxide of indium oxide and cerium oxide are alternately formed on a transparent substrate. A photosensitive composition containing the compound of the present invention as a latent additive may be used for each of the above-mentioned layers, and the photosensitive composition may be used for one or more layers. The transparent laminate of the present invention is preferably used for a display device.

본 발명의 감광성 조성물은, 경화시킴으로써 투명 구조체로 사용할 수 있다. 투명 구조체로는, 예를 들면, 포토 스페이서(PS), 컬럼 스페이서(CS)라고 불리는 주형물(柱形物); (나노)임프린트의 미세 패턴; 대형 광고 간판 등의 제조나 액정 디스플레이용 컬러 필터나 배향막의 인쇄 등 전자 디바이스 제조에 사용하는 잉크젯 수용층 등을 들 수 있다. 본 발명의 투명 구조체는, 표시 디바이스에 바람직하게 사용된다. The photosensitive composition of the present invention can be used as a transparent structure by curing. As the transparent structure, examples thereof include: a columnar article called a photo spacer (PS) or a column spacer (CS); a fine pattern of (nano)imprinting; an inkjet receiving layer used in the manufacture of electronic devices such as the manufacture of large-scale advertising signboards, or the printing of color filters or alignment films for liquid crystal displays. The transparent structure of the present invention is preferably used in a display device.

상기 착색 감광성 조성물은, 컬러 필터의 화소를 형성할 목적으로 사용되고, 특히 액정표시 패널 등의 화상표시 장치용의 표시 디바이스용 컬러 필터를 형성하기 위한 감광성 조성물로서 유용하다. The above-mentioned colored photosensitive composition is used for the purpose of forming pixels of a color filter, and is particularly useful as a photosensitive composition for forming a color filter for a display device for an image display device such as a liquid crystal display panel.

상기 표시 디바이스용 컬러 필터는, (1) 상기 착색 감광성 조성물의 도막을 기판 상에 형성하는 공정, (2) 상기 도막에 소정의 패턴 형상을 가지는 마스크를 통해 활성광을 조사하는 공정, (3) 노광 후의 피막을 현상액으로 현상하는 공정, (4) 현상 후의 상기 피막을 가열하는 공정에 의해 바람직하게 형성된다. 또한, 본 발명의 착색 감광성 조성물은, 현상 공정이 없는 잉크젯 방식의 착색 감광성 조성물로서도 유용하다. The color filter for the above display device is preferably formed by (1) a step of forming a film of the above-described colored photosensitive composition on a substrate, (2) a step of irradiating the film with active light through a mask having a predetermined pattern shape, (3) a step of developing the film after exposure with a developer, and (4) a step of heating the film after development. In addition, the colored photosensitive composition of the present invention is also useful as a colored photosensitive composition for an inkjet method without a developing step.

상기 마스크로는, 하프톤(half tone) 마스크 또는 그레이 스케일(gray scale) 마스크 등의 다계조(多階調) 마스크를 사용할 수도 있다. As the above mask, a multi-level mask such as a halftone mask or a gray scale mask may be used.

실시예 Example

이하, 실시예 등을 들어 본 발명을 더 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이들의 실시예 등에 한정되는 것이 아니다. Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, etc., but the present invention is not limited to these examples, etc.

[실시예 1-1~1-3] 화합물 No.1~No. 3의 합성 [Examples 1-1 to 1-3] Synthesis of compounds No. 1 to No. 3

페놀 화합물 1당량의 아세트산에틸 용액(이론 수량의 3배량)에, 실온에서 4-디메틸아미노피리딘 0.2당량을 첨가하고, 10℃ 이하에서 2탄산디-tert-부틸 5당량을 적하하여, 질소 분위기 하에서 실온에서 2시간 교반하였다. 기름과 물의 분리를 실시하여, 유기층을 무수황산 나트륨으로 건조 후, 용매를 증류 제거하고, 실리카겔로 감점 성분을 제거한 후, 정석(晶析)을 실시하였다. 얻어진 고체를 60℃에서 3시간 감압 건조시켜, 목적물을 각각 얻었다. 얻어진 고체가 목적물인 것은 1H-㎚R, IR로 확인하였다. 결과를 [표 1]~[표 2]에 나타낸다. To an ethyl acetate solution of 1 equivalent of a phenol compound (3 times the theoretical amount), 0.2 equivalents of 4-dimethylaminopyridine were added at room temperature, and 5 equivalents of di-tert-butyl dicarbonate were added dropwise at 10°C or lower, and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours under a nitrogen atmosphere. Oil and water were separated, the organic layer was dried over anhydrous sodium sulfate, the solvent was distilled off, the viscosity-lowering component was removed with silica gel, and then crystallization was performed. The obtained solid was dried under reduced pressure at 60°C for 3 hours, and the target products were respectively obtained. That the obtained solid was the target product was confirmed by 1H -nmR and IR. The results are shown in [Table 1] to [Table 2].

[표 1][Table 1]

[표 2][Table 2]

[실시예 2-1~2-3 및 비교예 2-1~2-2] 감광성 조성물 No.1~No.3 및 비교 감광성 조성물 No.1~No.2의 조제 [Examples 2-1 to 2-3 and Comparative Examples 2-1 to 2-2] Preparation of Photosensitive Compositions No. 1 to No. 3 and Comparative Photosensitive Compositions No. 1 to No. 2

SPC-1000(쇼와 덴코사 제품, 고형분 29%의 PGMEA 용액) 50.9g, 아로닉스 M-450(도아고세이사 제품) 11.9g, OXE-01(BASF사 제품) 1.04g, PGMEA 34.0g, FZ2122(도오레 다우코닝사 제품, 고형분 1%의 PGMEA 용액) 2.9g 및 [표 3]에 기재된 화합물 0.81g을 혼합하고, 불용물이 없어질 때까지 교반하여, 감광성 조성물 No.1~No.3 및 비교 감광성 조성물 No.1~No.2를 얻었다. 비교 감광성 조성물 No.1에서 사용한 비교화합물 No.1은 하기의 비교화합물 No.1을 나타낸다. 50.9 g of SPC-1000 (PGMEA solution having a solid content of 29%, manufactured by Showa Denko), 11.9 g of Aronix M-450 (manufactured by Toagosei), 1.04 g of OXE-01 (manufactured by BASF), 34.0 g of PGMEA, 2.9 g of FZ2122 (PGMEA solution having a solid content of 1%, manufactured by Dow Corning Toray), and 0.81 g of the compound described in [Table 3] were mixed and stirred until the insoluble matter disappeared, thereby obtaining photosensitive compositions No. 1 to No. 3 and comparative photosensitive compositions No. 1 to No. 2. Comparative compound No. 1 used in comparative photosensitive composition No. 1 refers to the following comparative compound No. 1.

[표 3][Table 3]

[실시예 3-1~3-3 및 비교예 3-1~3-2] 착색 감광성 조성물 No.1~No.3 및 비교 착색 감광성 조성물 No.1~No.3의 조제 [Examples 3-1 to 3-3 and Comparative Examples 3-1 to 3-2] Preparation of colored photosensitive compositions No. 1 to No. 3 and comparative colored photosensitive compositions No. 1 to No. 3

SPC-1000(쇼와 덴코사 제품, 고형분 29%의 PGMEA용액) 1.26g, 아로닉스 M-450(도아고세이사 제품) 0.30g, OXE-01(BASF사 제품) 0.03g, PGMEA 0.85g, FZ2122(도오레 다우코닝사 제품, 고형분 1%의 PGMEA용액) 0.08g 및 [표 3(a)]에 기재된 잠재성 첨가제 0.02g을 혼합하여, 불용물이 없어질 때까지 교반하였다. 또한 [표 3A]에 기재된 착색제 0.05g에 PGMEA 0.95g을 첨가하고 교반하여 용해시킨 착색제 용액을 첨가하고 균일해질 때까지 교반하여, 착색 감광성 조성물 No.1~No.3 및 비교 착색 감광성 조성물 No.1~No.3을 얻었다. 1.26 g of SPC-1000 (PGMEA solution having a solid content of 29%, manufactured by Showa Denko), 0.30 g of Aronix M-450 (manufactured by Toagosei), 0.03 g of OXE-01 (manufactured by BASF), 0.85 g of PGMEA, 0.08 g of FZ2122 (PGMEA solution having a solid content of 1%, manufactured by Dow Corning Toray), and 0.02 g of the latent additive described in [Table 3(a)] were mixed and stirred until no insoluble matter disappeared. Further, 0.95 g of PGMEA was added to 0.05 g of the colorant described in [Table 3A], stirred, and dissolved. The resulting colorant solution was added and stirred until uniform, to obtain colored photosensitive compositions No. 1 to No. 3 and comparative colored photosensitive compositions No. 1 to No. 3.

[표 3A][Table 3A]

[표 3A]의 화합물 A~C는 각각, 하기의 화합물 A~C를 나타낸다. Compounds A to C in [Table 3A] represent compounds A to C below, respectively.

[평가예 1-1~1-3 및 비교 평가예 1-1~1-2] 소성에 의한 내열성 평가 [Evaluation examples 1-1 to 1-3 and comparative evaluation examples 1-1 to 1-2] Evaluation of heat resistance by sintering

실시예 2-1~2-3에서 조제한 감광성 조성물 No.1~No.3 및 비교예 2-1~2-2에서 조제한 비교 감광성 조성물 No.1~No.2를, 각각 유리 기판에 410rpm×7sec의 조건으로 도공하고, 핫플레이트에서 건조(90℃, 90sec)시켰다. 얻어진 도막에 초고압수은 램프로 노광(150mJ/㎠)하였다. 노광 후의 도막을, 230℃×30min의 조건으로 소성하였다. 소성 후의 도막의 400㎚에서의 투과율을 측정하여 평가하였다. 결과를 [표 4]에 나타낸다. The photosensitive compositions No. 1 to No. 3 prepared in Examples 2-1 to 2-3 and the comparative photosensitive compositions No. 1 to No. 2 prepared in Comparative Examples 2-1 to 2-2 were each coated on a glass substrate under the conditions of 410 rpm × 7 sec, and dried on a hot plate (90°C, 90 sec). The obtained coating film was exposed (150 mJ/cm2) with an ultra-high pressure mercury lamp. The coating film after exposure was fired under the conditions of 230°C × 30 min. The transmittance at 400 nm of the coating film after firing was measured and evaluated. The results are shown in [Table 4].

[표 4][Table 4]

상기 결과로부터, 본 발명의 화합물을 잠재성 첨가제로서 함유하는 감광성 조성물은, 비교화합물을 잠재성 첨가제로서 함유하는 비교 감광성 조성물과 비교하면, 소성 후의 투명성이 높은 채로 유지되고 있어, 내열성이, 비교 감광성 조성물 No.1과 동등하고 비교 감광성 조성물 No.2보다 뛰어나다고 할 수 있다. From the above results, it can be said that the photosensitive composition containing the compound of the present invention as a latent additive maintains a high level of transparency after firing, and that the heat resistance is equivalent to that of the comparative photosensitive composition No. 1 and superior to that of the comparative photosensitive composition No. 2, compared to the comparative photosensitive composition containing the comparative compound as a latent additive.

[평가예 2-1~2-3 및 비교평가예 2-1] 용해성의 측정 [Evaluation Examples 2-1 to 2-3 and Comparative Evaluation Example 2-1] Measurement of solubility

화합물 No.1~No.3 및 비교화합물 No.1에 대해, 프로필렌글리콜-1-모노메틸에테르-2-아세테이트(PGMEA)에 대한 용해성의 측정을 실시하였다. 결과를 [표 5]에 나타낸다. For compounds No. 1 to No. 3 and comparative compound No. 1, the solubility in propylene glycol-1-monomethyl ether-2-acetate (PGMEA) was measured. The results are shown in [Table 5].

[표 5][Table 5]

상기 결과로부터, 본 발명의 화합물은 용해성이 높고, 감광성 조성물에 사용한 경우, 핸들링성이 좋은 것은 분명하다. From the above results, it is clear that the compound of the present invention has high solubility and good handling properties when used in a photosensitive composition.

[평가예 3-1~3-3 및 비교평가예 3-1~3-3] 착색 감광성 조성물의 소성에 의한 내열성 평가 [Evaluation examples 3-1 to 3-3 and comparative evaluation examples 3-1 to 3-3] Evaluation of heat resistance by firing of colored photosensitive composition

실시예 3-1~3-3에서 조제한 착색 감광성 조성물 No.1~No.3 및 비교예 3-1~3-3에서 조제한 비교 착색 감광성 조성물 No.1~No.3을, 각각 유리 기판에 410rpm×7sec의 조건으로 도공하고, 핫플레이트에서 건조(90℃, 90sec)시켰다. 얻어진 도막에 초고압 수은 램프로 노광(150mJ/㎠)하였다. 노광 후의 도막을, 230℃×30min의 조건으로 소성하고, 소성 전후의 색차(ΔEab*)를 조사하였다. 결과를 [표 6]에 나타낸다. The colored photosensitive compositions No. 1 to No. 3 prepared in Examples 3-1 to 3-3 and the comparative colored photosensitive compositions No. 1 to No. 3 prepared in Comparative Examples 3-1 to 3-3 were each coated on a glass substrate under the conditions of 410 rpm × 7 sec, and dried on a hot plate (90°C, 90 sec). The obtained coating film was exposed (150 mJ/cm2) with an ultra-high pressure mercury lamp. The coated film after exposure was fired under the conditions of 230°C × 30 min, and the color difference (ΔE ab* ) before and after firing was investigated. The results are shown in [Table 6].

[표 6][Table 6]

상기 결과로부터, 본 발명의 화합물을 잠재성 첨가제로서 함유하는 착색 감광성 조성물은, 동일한 착색제를 함유하는 비교 감광성 조성물과 비교하면 소성 후의 색도 변화가 적고, 착색제의 내열성이 높은 채로 유지되고 있는 것을 알 수 있다. From the above results, it can be seen that the colored photosensitive composition containing the compound of the present invention as a potential additive has less change in color after firing and the heat resistance of the colorant remains high, compared to the comparative photosensitive composition containing the same colorant.

이상의 결과로부터, 본 발명의 화합물은 용해성이 높고, 상기 화합물을 잠재성 첨가제로 사용한 감광성 조성물은 내열성이 뛰어나고, 잠재성 첨가제로서 유용한 것은 분명하다. From the above results, it is clear that the compound of the present invention has high solubility, and a photosensitive composition using the compound as a latent additive has excellent heat resistance and is useful as a latent additive.

Claims (9)

하기 일반식(1)로 나타내는 화합물의 1종 이상으로 이루어지는 잠재성 첨가제, 산가를 가지는 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물, 광라디칼 중합 개시제 및 용매를 함유하는 경화성 감광성 조성물로서,
상기 조성물 중 상기 잠재성 첨가제의 함유량은 0.005~5질량%인 경화성 감광성 조성물.

(식 중, R1, R2, R3 및 R4는, 각각 독립적으로 -CO-O-R11를 나타내고,
R11은, 치환기를 가지고 있는 경우도 있는 탄소 원자 수 1~20의 알킬기를 나타내며,
R5, R6, R7, R8, R9 및 R10은, 각각 독립적으로 치환기를 가지고 있는 경우도 있는 탄소 원자 수 1~20의 알킬기를 나타내고,
복수의 R9 및 R10은 각각 동일하거나 다른 경우도 있고,
X1은, 치환기를 가지고 있는 경우도 있는 탄소 원자 수 1~4의 알킬렌기를 나타내며,
a, b, c 및 d는, 각각 독립적으로 1~4의 정수를 나타내고, e 및 f는, 각각 독립적으로 0~9의 정수를 나타내고,
R5, R6, R7, R8, R9, R10 및 R11로 나타내는, 탄소 원자 수 1~20의 알킬기를 치환하는 치환기는, 에틸렌성 불포화기, 할로겐 원자, 아실기, 아실옥시기, 치환 아미노기, 술폰아미드기, 술포닐기, 카르복실기, 시아노기, 술포기, 니트로기, 메르캅토기, 이미드기, 카르바모일기, 술폰아미드기, 포스폰산기 혹은 인산기 또는 카르복실기, 술포기, 포스폰산기, 혹은 인산기의 염이다.)
A curable photosensitive composition containing a latent additive comprising at least one compound represented by the following general formula (1), a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond having an acid value, a photoradical polymerization initiator, and a solvent,
A curable photosensitive composition wherein the content of the potential additive in the composition is 0.005 to 5 mass%.

(In the formula, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represent -CO-OR 11 ,
R 11 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, which may have a substituent.
R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 each independently represent an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, which may have a substituent,
Multiple R 9 and R 10 may be the same or different,
X 1 represents an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, which may have a substituent.
a, b, c and d each independently represent an integer from 1 to 4, e and f each independently represent an integer from 0 to 9,
The substituents substituting the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms represented by R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 and R 11 are an ethylenically unsaturated group, a halogen atom, an acyl group, an acyloxy group, a substituted amino group, a sulfonamide group, a sulfonyl group, a carboxyl group, a cyano group, a sulfo group, a nitro group, a mercapto group, an imide group, a carbamoyl group, a sulfonamide group, a phosphonic acid group or a phosphoric acid group, or a salt of a carboxyl group, a sulfo group, a phosphonic acid group or a phosphoric acid group.)
제1항에 기재된 경화성 감광성 조성물의 경화물을 사용하여 형성되는 투명 적층체. A transparent laminate formed using a cured product of the curable photosensitive composition described in claim 1. 제1항에 기재된 경화성 감광성 조성물의 경화물을 사용하여 형성되는 투명 구조체. A transparent structure formed using a cured product of the curable photosensitive composition described in claim 1. 제2항에 기재된 투명 적층체 또는 제3항에 기재된 투명 구조체를 적어도 일부에 구비하여 이루어지는 표시 디바이스. A display device comprising at least a portion of the transparent laminate described in claim 2 or the transparent structure described in claim 3. 제1항에 기재된 경화성 감광성 조성물 및 착색제를 함유하는 착색 감광성 조성물. A colored photosensitive composition containing the curable photosensitive composition described in claim 1 and a colorant. 제5항에 기재된 착색 감광성 조성물의 경화물을 사용하여 형성되는 컬러 필터. A color filter formed using a cured product of the colored photosensitive composition described in claim 5. 삭제delete 삭제delete 삭제delete
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