KR102713115B1 - Manufacturing method of encapsulation member for organic electronic device - Google Patents
Manufacturing method of encapsulation member for organic electronic device Download PDFInfo
- Publication number
- KR102713115B1 KR102713115B1 KR1020190110102A KR20190110102A KR102713115B1 KR 102713115 B1 KR102713115 B1 KR 102713115B1 KR 1020190110102 A KR1020190110102 A KR 1020190110102A KR 20190110102 A KR20190110102 A KR 20190110102A KR 102713115 B1 KR102713115 B1 KR 102713115B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- cutting
- layer
- knife
- composite sheet
- organic electronic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 54
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 title description 9
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims abstract description 154
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 88
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 87
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 67
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 67
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 63
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 63
- 238000010008 shearing Methods 0.000 claims description 51
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 31
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 claims description 29
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 14
- 238000003780 insertion Methods 0.000 claims description 11
- 230000037431 insertion Effects 0.000 claims description 11
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 claims description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 80
- 238000003698 laser cutting Methods 0.000 abstract description 26
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 207
- 239000004840 adhesive resin Substances 0.000 description 41
- 229920006223 adhesive resin Polymers 0.000 description 41
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 29
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 23
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 21
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 20
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 20
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 20
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 18
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 16
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 15
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 14
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 14
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 13
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 13
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- HMUNWXXNJPVALC-UHFFFAOYSA-N 1-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]-2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)C(CN1CC2=C(CC1)NN=N2)=O HMUNWXXNJPVALC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 9
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 9
- 239000002313 adhesive film Substances 0.000 description 8
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 7
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 7
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 7
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 6
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 5
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 5
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 5
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 5
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 5
- VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)-N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C(=O)NCCC(N1CC2=C(CC1)NN=N2)=O VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N Calcium oxide Chemical compound [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 4
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 4
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 4
- XJHCXCQVJFPJIK-UHFFFAOYSA-M caesium fluoride Chemical compound [F-].[Cs+] XJHCXCQVJFPJIK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 4
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 4
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 4
- 239000005022 packaging material Substances 0.000 description 4
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 4
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 4
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 3
- 229910000997 High-speed steel Inorganic materials 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 description 3
- OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L calcium sulfate Chemical compound [Ca+2].[O-]S([O-])(=O)=O OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 3
- 238000005108 dry cleaning Methods 0.000 description 3
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 3
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 3
- INHCSSUBVCNVSK-UHFFFAOYSA-L lithium sulfate Inorganic materials [Li+].[Li+].[O-]S([O-])(=O)=O INHCSSUBVCNVSK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 3
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 3
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 3
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 3
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- LDXJRKWFNNFDSA-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-1-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]ethanone Chemical compound C1CN(CC2=NNN=C21)CC(=O)N3CCN(CC3)C4=CN=C(N=C4)NCC5=CC(=CC=C5)OC(F)(F)F LDXJRKWFNNFDSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CCNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Natural products P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 101710137710 Thioesterase 1/protease 1/lysophospholipase L1 Proteins 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000010599 Verbascum thapsus Nutrition 0.000 description 2
- 244000178289 Verbascum thapsus Species 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 2
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 2
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002775 capsule Substances 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 230000009975 flexible effect Effects 0.000 description 2
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 2
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 2
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- AOLPZAHRYHXPLR-UHFFFAOYSA-I pentafluoroniobium Chemical compound F[Nb](F)(F)(F)F AOLPZAHRYHXPLR-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 2
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 2
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 2
- 238000007665 sagging Methods 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 229910001631 strontium chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- AHBGXTDRMVNFER-UHFFFAOYSA-L strontium dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Sr+2] AHBGXTDRMVNFER-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N tellanylidenegermanium Chemical compound [Te]=[Ge] JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003505 terpenes Chemical class 0.000 description 2
- 235000007586 terpenes Nutrition 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- OJOWICOBYCXEKR-KRXBUXKQSA-N (5e)-5-ethylidenebicyclo[2.2.1]hept-2-ene Chemical compound C1C2C(=C/C)/CC1C=C2 OJOWICOBYCXEKR-KRXBUXKQSA-N 0.000 description 1
- OBOSXEWFRARQPU-UHFFFAOYSA-N 2-n,2-n-dimethylpyridine-2,5-diamine Chemical compound CN(C)C1=CC=C(N)C=N1 OBOSXEWFRARQPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CXMYWOCYTPKBPP-UHFFFAOYSA-N 3-(3-hydroxypropylamino)propan-1-ol Chemical compound OCCCNCCCO CXMYWOCYTPKBPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L Calcium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ca+2] UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910004755 Cerium(III) bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020366 ClO 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L Magnesium chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].[Cl-] TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- MPCRDALPQLDDFX-UHFFFAOYSA-L Magnesium perchlorate Chemical compound [Mg+2].[O-]Cl(=O)(=O)=O.[O-]Cl(=O)(=O)=O MPCRDALPQLDDFX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007832 Na2SO4 Substances 0.000 description 1
- 229910019787 NbF5 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 229920002367 Polyisobutene Polymers 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910009523 YCl3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052925 anhydrite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- SGUXGJPBTNFBAD-UHFFFAOYSA-L barium iodide Chemical compound [I-].[I-].[Ba+2] SGUXGJPBTNFBAD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Chemical compound [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OOULUYZFLXDWDQ-UHFFFAOYSA-L barium perchlorate Chemical compound [Ba+2].[O-]Cl(=O)(=O)=O.[O-]Cl(=O)(=O)=O OOULUYZFLXDWDQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- LYQFWZFBNBDLEO-UHFFFAOYSA-M caesium bromide Chemical compound [Br-].[Cs+] LYQFWZFBNBDLEO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WGEFECGEFUFIQW-UHFFFAOYSA-L calcium dibromide Chemical compound [Ca+2].[Br-].[Br-] WGEFECGEFUFIQW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- MOOUSOJAOQPDEH-UHFFFAOYSA-K cerium(iii) bromide Chemical compound [Br-].[Br-].[Br-].[Ce+3] MOOUSOJAOQPDEH-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L cobalt(2+) sulfate Chemical compound [Co+2].[O-]S([O-])(=O)=O KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N dialuminum;dioxosilane;oxygen(2-);hydrate Chemical compound O.[O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3].O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000113 differential scanning calorimetry Methods 0.000 description 1
- XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M dilithium;hydroxide Chemical compound [Li+].[Li+].[OH-] XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWEUIGNSBFLMFL-UHFFFAOYSA-N diphosphonate Chemical compound O=P(=O)OP(=O)=O YWEUIGNSBFLMFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- SBDRYJMIQMDXRH-UHFFFAOYSA-N gallium;sulfuric acid Chemical compound [Ga].OS(O)(=O)=O SBDRYJMIQMDXRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- AMXOYNBUYSYVKV-UHFFFAOYSA-M lithium bromide Chemical compound [Li+].[Br-] AMXOYNBUYSYVKV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- OTCKOJUMXQWKQG-UHFFFAOYSA-L magnesium bromide Chemical compound [Mg+2].[Br-].[Br-] OTCKOJUMXQWKQG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- BLQJIBCZHWBKSL-UHFFFAOYSA-L magnesium iodide Chemical compound [Mg+2].[I-].[I-] BLQJIBCZHWBKSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001105 martensitic stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 229910052901 montmorillonite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000877 morphologic effect Effects 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- FAQJJMHZNSSFSM-UHFFFAOYSA-N phenylglyoxylic acid Chemical compound OC(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 FAQJJMHZNSSFSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N phosphorus pentoxide Inorganic materials O1P(O2)(=O)OP3(=O)OP1(=O)OP2(=O)O3 DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N sodium oxide Chemical compound [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- YRGLXIVYESZPLQ-UHFFFAOYSA-I tantalum pentafluoride Chemical compound F[Ta](F)(F)(F)F YRGLXIVYESZPLQ-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 1
- RBTVSNLYYIMMKS-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 3-aminoazetidine-1-carboxylate;hydrochloride Chemical compound Cl.CC(C)(C)OC(=O)N1CC(N)C1 RBTVSNLYYIMMKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- HDUMBHAAKGUHAR-UHFFFAOYSA-J titanium(4+);disulfate Chemical compound [Ti+4].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O HDUMBHAAKGUHAR-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- ZOYIPGHJSALYPY-UHFFFAOYSA-K vanadium(iii) bromide Chemical compound [V+3].[Br-].[Br-].[Br-] ZOYIPGHJSALYPY-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 description 1
- PCMOZDDGXKIOLL-UHFFFAOYSA-K yttrium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Y+3] PCMOZDDGXKIOLL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/84—Passivation; Containers; Encapsulations
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
본 발명은 유기전자장치용 봉지재 및 이를 제조하는 방법에 관한 것으로서, 좀 더 구체적으로 설명하면, 기존 레이저 컷팅의 의해 제조된 유기전자장치용 봉지재의 문제점을 해결하면서 생산성을 향상시킨 기계적 컷팅 방법을 도입하여 제조한 유기전자장치용 봉지재 및 이를 제조하는 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an encapsulating material for organic electronic devices and a method for manufacturing the same. More specifically, the present invention relates to an encapsulating material for organic electronic devices and a method for manufacturing the same, manufactured by introducing a mechanical cutting method that improves productivity while solving problems of an encapsulating material for organic electronic devices manufactured by conventional laser cutting.
Description
본 발명은 기존 레이저 컷팅의 의해 제조된 유기전자장치용 봉지재의 문제점을 해결하면서 생산성을 향상시킨 기계적 컷팅 방법을 통해 제조한 유기전자장치용 봉지재 및 이를 제조하는 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an encapsulating material for organic electronic devices manufactured through a mechanical cutting method that improves productivity while solving problems of encapsulating materials for organic electronic devices manufactured through conventional laser cutting, and a method for manufacturing the same.
유기발광다이오드(OLED: Organic Light Emitting Diode)는 발광층이 박막의 유기 화합물로 이루어지는 발광 다이오드로서, 형광성 유기 화합물에 전류를 통과시켜 빛을 발생시키는 전계 발광 현상을 이용한다. 이러한 유기발광다이오드는 일반적으로 3색(Red, Green, Blue) 독립화소 방식, 생변환 방식(CCM), 컬리 필터 방식 등으로 주요 컬러를 구현하며, 사용하는 발광재료에 포함된 유기물질의 양에 따라 저분자 유기발광다이오드와 고분자 유기발광다이오드로 구분된다. 또한, 구동방식에 따라 수동형 구동방식과 능동형 구동방식으로 구분될 수 있다.Organic light-emitting diodes (OLEDs) are light-emitting diodes in which the light-emitting layer is made of a thin film of organic compounds, and they use the electroluminescence phenomenon to generate light by passing electric current through a fluorescent organic compound. These organic light-emitting diodes generally implement main colors through three-color (Red, Green, Blue) independent pixel method, chemical conversion (CCM), and color filter method, and are classified into low-molecular organic light-emitting diodes and high-molecular organic light-emitting diodes depending on the amount of organic matter contained in the light-emitting material used. In addition, they can be classified into passive driving methods and active driving methods depending on the driving method.
이러한 유기발광다이오드는 자체 발광에 의한 고효율, 저전압 구동, 간단한 구동 등의 특징을 가지고 있어, 고화질의 동영상을 표현할 수 있는 장점이 있다. 또한, 유기물의 유연한 특성을 이용한 플렉서블 디스플레이 및 유기물 전자소자에 대한 응용도 기대되고 있는 실정이다.These organic light-emitting diodes have the advantages of being able to express high-definition video because they have the characteristics of high efficiency due to self-luminescence, low-voltage operation, and simple operation. In addition, applications to flexible displays and organic electronic devices utilizing the flexible properties of organic materials are also expected.
유기발광다이오드는 기판 상에 발광층인 유기 화합물을 박막의 형태로 적층하는 형태로 제조된다. 그러나, 유기발광다이오드에 사용되는 유기 화합물은 불순물, 산소 및 수분에 매우 민감하여 외부 노출 또는 수분, 산소 침투에 의해 특성이 쉽게 열화되는 문제를 안고 있다. 이러한 유기물의 열화현상은 유기발광다이오드의 발광특성에 영향을 미치고, 수명을 단축시키게 된다. 이러한 현상을 방지하기 위하여 유기전자장치의 내부로 산소, 수분 등이 유입되는 것을 방지하기 위한 박막봉지공정(Thin Film Encapsulation)이 요구된다.Organic light-emitting diodes are manufactured by laminating organic compounds as light-emitting layers in the form of thin films on a substrate. However, organic compounds used in organic light-emitting diodes are very sensitive to impurities, oxygen, and moisture, and thus have a problem in that their characteristics are easily deteriorated by external exposure or moisture and oxygen penetration. This deterioration of organic substances affects the light-emitting characteristics of organic light-emitting diodes and shortens their lifespan. In order to prevent this phenomenon, a thin film encapsulation process is required to prevent oxygen, moisture, etc. from entering the interior of the organic electronic device.
종래에는 금속 캔이나 유리를 홈을 가지도록 캡 형태로 가공하여 그 홈에 수분 흡수를 위한 건습제를 파우더 형태로 탑재하였으나, 이러한 방법은 봉지된 유기전자장치로 투습을 목적하는 수준으로 제거하고, 유기전자장치에 수분, 불순물 등의 불량원인 물질이 접근하지 못하도록 차단하며, 수분이 제거될 때 발생할 수 있는 층간 박리현상이 일어나지 않고, 내습성 및 내열성이 우수한 효과를 동시에 가지기 어려운 문제가 있었다.In the past, metal cans or glass were processed into a cap shape with a groove and a desiccant in powder form was loaded into the groove to absorb moisture. However, this method had the problem that it was difficult to simultaneously remove moisture permeation into the sealed organic electronic device to the desired level, block moisture, impurities, and other substances that cause defects from approaching the organic electronic device, prevent delamination that may occur when moisture is removed, and have excellent moisture resistance and heat resistance.
그리고, 기존 유기전자장치용 봉지재 제조시, CO2 레이저 컷팅 방식으로 봉지수지층과 이형층을 1차 커팅한 후, 광섬유(fiber) 레이저를 이용하여 메탈층을 2차 컷팅시키는 방법으로 봉지재를 제조하였는데, 이러한 기존 레이저 컷팅 방식은 생산 공정이 복잡 다단하여 생산시간이 오래 걸리고, 봉지수지층과 이형층 간에 열변형 영역(이형층 상부에 둔턱 형성 및 봉지수지층과 이형층 절단면에 잔사 발생)이 발생하여 이형층 제거가 어려운 문제가 있으며, 컷팅 단면에 버(burr)가 발생하고, 2차 커팅시 오픗셋(off-set)영역이 발생하기 때문에 오프셋 영역 만큼 유기전자장치의 수명이 단축되는 문제가 있었다.In addition, when manufacturing a conventional encapsulating material for organic electronic devices, the encapsulating resin layer and the release layer were first cut using a CO2 laser cutting method, and then the metal layer was cut a second time using a fiber laser to manufacture the encapsulating material. However, this conventional laser cutting method has a complex and multi-step production process, which takes a long time to produce, and there are problems such as a thermal deformation area (formation of a blunt surface on the upper side of the release layer and residue generation on the cut surface of the encapsulating resin layer and the release layer) occurring between the encapsulating resin layer and the release layer, making it difficult to remove the release layer, and a burr occurring on the cut surface and an off-set area occurring during the second cutting, which shortens the lifespan of the organic electronic device by the amount of the offset area.
본 발명은 상기 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 기존 레이저 컷팅 공정을 통해 제조된 봉지재의 문제점을 개선한 봉지재 제조방법 및 이를 통해 제조된 봉지재를 제공하고자 한다. The present invention has been made to solve the above problems, and aims to provide a method for manufacturing a packaging material that improves the problems of a packaging material manufactured through a conventional laser cutting process, and a packaging material manufactured through the method.
상기 과제를 해결하기 위한 본 발명은 유기전자장치용 봉지재의 제조방법에 관한 것으로서, 메탈층, 봉지수지층 및 이형층을 포함하는 복합시트를 준비하는 1단계; 상기 복합시트의 장변 방향 양변을 슬릿팅 컷팅(slitting cutting)을 수행하는 2단계; 및 슬릿팅 컷팅을 수행한 복합시트를 단변 방향으로 쉐어링 컷팅(shearing cutting)을 수행하는 3단계;를 포함하는 공정을 수행하며, 상기 2단계 및 3단계는 연속적인 공정으로 수행할 수 있다.The present invention for solving the above problems relates to a method for manufacturing a sealing material for an organic electronic device, comprising: a 1st step of preparing a composite sheet including a metal layer, a sealing resin layer, and a release layer; a 2nd step of performing slitting cutting on both sides of the composite sheet in the long direction; and a 3rd step of performing shearing cutting on the composite sheet that has undergone slitting cutting in the short direction. The 2nd and 3rd steps can be performed as a continuous process.
본 발명의 바람직한 일실시예로서, 1단계 복합시트의 상기 메탈층 및 봉지수지층 사이에는 메탈층 및 봉지수지층과와는 다른 성분의 층을 더 포함할 수도 있으며, 봉지수지층 및 이형층 사이에는 봉지수지층 및 이형층과는 다른 성분의 층을 더 포함할 수도 있다.As a preferred embodiment of the present invention, the first-stage composite sheet may further include a layer having a different component from the metal layer and the encapsulating resin layer, and may further include a layer having a different component from the encapsulating resin layer and the releasing layer, between the encapsulating resin layer and the releasing layer.
본 발명의 바람직한 일실시예로서, 상기 슬릿팅 컷팅은 상도 나이프(knife)가 원형 나이프이고, 하도 나이프는 상도 나이프의 삽입되는 삽입부가 형성된 슬릿팅 컷팅기로 수행할 수 있다.As a preferred embodiment of the present invention, the slitting cutting can be performed by a slitting cutting machine in which the upper knife is a circular knife and the lower knife is formed with an insertion portion into which the upper knife is inserted.
본 발명의 바람직한 일실시예로서, 상기 슬릿팅 컷팅시 상도 나이프에 가해지는 측압은 0.5 ~ 2.5 kgf/㎠일 수 있다.As a preferred embodiment of the present invention, the lateral pressure applied to the top knife during the slitting cutting may be 0.5 to 2.5 kgf/cm2.
본 발명의 바람직한 일실시예로서, 상기 슬릿팅 컷팅시 슬릿팅 컷팅에 사용되는 상도 나이프 및 하도 나이프 각각은 독립적으로 나이프의 랜드(land)값이 0.10 ~ 0.30 mm 일 수 있다.As a preferred embodiment of the present invention, in the slitting cutting, each of the upper knife and the lower knife used for the slitting cutting may independently have a knife land value of 0.10 to 0.30 mm.
본 발명의 바람직한 일실시예로서, 상기 쉐어링 컷팅은 칼날 각도(slope) 0.140°~ 0.300°인 상도 나이프(knife) 및 칼날 각도 0.005° 이하인 하도 나이프를 포함하는 쉐어링 컷팅기를 이용하여 수행할 수 있다.As a preferred embodiment of the present invention, the shearing cutting can be performed using a shearing cutting machine including an upper knife having a blade angle (slope) of 0.140° to 0.300° and a lower knife having a blade angle of 0.005° or less.
본 발명의 바람직한 일실시예로서, 쉐어링 컷팅에 사용되는 상기 상도 나이프의 랜드(land) 값은 0.10 ~ 2.0mm이다.As a preferred embodiment of the present invention, the land value of the cutting knife used for shear cutting is 0.10 to 2.0 mm.
본 발명의 바람직한 일실시예로서, 쉐어링 컷팅시, 상도 나이프 및 하도 나이프의 간격은 0.5㎛ ~ 50㎛일 수 있다.As a preferred embodiment of the present invention, when performing shear cutting, the gap between the upper knife and the lower knife may be 0.5 ㎛ to 50 ㎛.
본 발명의 바람직한 일실시예로서, 상기 쉐어링 컷팅시, 컷팅 속도는 150 ~ 300 mm/sec일 수 있다.As a preferred embodiment of the present invention, during the shear cutting, the cutting speed may be 150 to 300 mm/sec.
본 발명의 바람직한 일실시예로서, 상기 2단계에서 슬릿팅 컷팅 후, 연속적으로 복합시트의 슬릿팅 컷팅된 장변 부위를 습식 세정하는 공정을 더 수행할 수 있다.As a preferred embodiment of the present invention, after the slitting cutting in the second step, a process of continuously wet cleaning the slitting-cut long side portion of the composite sheet can be further performed.
본 발명의 바람직한 일실시예로서, 상기 3단계는 쉐어링 컷팅 후, 연속적으로 쉐어링 컷팅된 복합시트를 건식 면세정 공정을 더 수행할 수도 있다.As a preferred embodiment of the present invention, the above-mentioned third step may further include performing a dry surface washing process on the composite sheet that has been continuously shear-cut after shear cutting.
본 발명의 바람직한 일실시예로서, 본 발명의 유기전자장치용 봉지재는 장변이 슬릿팅 컷팅되고, 단변이 쉐어링 컷팅된 복합시트를 포함하며, 슬릿팅 컷팅된 복합시트의 장변 절단면과 쉐어링 컷팅된 복합시트의 단변 절단면은 하기 방정식 1을 만족하는 테이퍼 각도를 가질 수 있다.As a preferred embodiment of the present invention, the encapsulating material for an organic electronic device of the present invention includes a composite sheet having a long side slit-cut and a short side shear-cut, and the long side cut surface of the slit-cut composite sheet and the short side cut surface of the shear-cut composite sheet can have a taper angle satisfying the following equation 1.
[방정식 1][Equation 1]
단변 절단면의 평균 테이퍼 각도 ≤ 장변 절단면의 평균 테이퍼 각도Average taper angle of short-side cross-section ≤ Average taper angle of long-side cross-section
방정식 1에서, 상기 테이퍼 각도는 테이퍼 측정 대상 절단면의 측면 방향에서 보았을 때, 절단면의 최하부층 표면 기준으로 절단면의 최하부층의 최하부 표면 끝단과 절단면의 최상부층의 최상부 표면 끝단이 이루는 사이각을 의미한다.In Equation 1, the taper angle means the angle formed between the lowermost surface end of the lowermost layer of the cut surface and the uppermost surface end of the uppermost layer of the cut surface when viewed from the side direction of the cut surface to be measured for taper.
본 발명의 바람직한 일실시예로서, 쉐어링 컷팅된 복합시트의 단변 절단면은 제1단변 절단면 및 제2단변 절단면을 포함하며, 메탈층, 봉지수지층 및 이형층을 포함하는 복합시트의 경우, 제1단변 절단면 및 제2단변 절단면은 테이퍼 각도가 73˚~ 90˚일 수 있다.As a preferred embodiment of the present invention, the short-side cut surface of the shear-cut composite sheet includes a first short-side cut surface and a second short-side cut surface, and in the case of the composite sheet including a metal layer, a sealing resin layer, and a release layer, the first short-side cut surface and the second short-side cut surface may have a taper angle of 73˚ to 90˚.
본 발명의 바람직한 일실시예로서, 쉐어링 컷팅된 복합시트의 단변 절단면은 제1단변 절단면 및 제2단변 절단면을 포함하며, 이형층이 제거된 메탈층 및 봉지수지층을 포함하는 복합시트의 경우, 제1단변 절단면 및 제2단변 절단면은 테이퍼 각도가 67˚~ 90˚일 수 있다.As a preferred embodiment of the present invention, the short-side cut surface of the shear-cut composite sheet includes a first short-side cut surface and a second short-side cut surface, and in the case of the composite sheet including a metal layer and a sealing resin layer from which a release layer has been removed, the first short-side cut surface and the second short-side cut surface may have a taper angle of 67˚ to 90˚.
본 발명에서 사용하는 용어인 "테이퍼 각도"는 테이퍼 측정 대상 절단면의 측면 방향에서 보았을 때, 복합시트 하부층(또는 하부시트)의 최하부 표면 기준으로 복합시트 하부층(또는 하부시트) 절단면 최하부 표면 끝단과 복합시트 상부층(또는 상부시트) 절단면 최상부 표면 끝단이 이루는 사이각을 의미한다(도 7 참조).The term used in the present invention The term "taper angle" means the angle formed between the end of the lowermost surface of the cut surface of the composite sheet lower layer (or lower sheet) and the end of the uppermost surface of the cut surface of the composite sheet upper layer (or upper sheet) when viewed from the side direction of the cut surface to be measured for taper (see Fig. 7).
본 발명에서 사용하는 용어인 "빗살무늬"는 사선 방향으로 형성된 무늬를 의미한다. The term "comb pattern" used in the present invention means a pattern formed in a diagonal direction.
본 발명에서 사용하는 용어인 "테이퍼 길이"는 테이퍼 측정 대상 절단면의 측면 방향에서 보았을 때, 복합시트 절단면의 하부층(또는 하부시트) 최하부 표면 끝단과 상부층(또는 상부시트) 최상부 표면 끝단의 길이 차이를 의미한다(도 7 참조).The term "taper length" used in the present invention means the difference in length between the lowermost surface end of the lower layer (or lower sheet) and the uppermost surface end of the upper layer (or upper sheet) of the composite sheet cut surface when viewed from the side direction of the cut surface to be measured for taper (see Fig. 7).
본 발명의 유기전자장치용 봉지재는 기존 레이저 컷팅법이 아닌 기계적 컷팅 방법으로 제조하는 바, 생산 공정이 복잡한 레이저 컷팅과 비교하여 컷팅 공정 시간을 30% ~ 50% 단축시킬 수 있으며, 컷팅 부위의 열변형으로 인해 이형층의 컷팅면 부분에 둔턱 발생, 컷팅면에 잔사와 버(burr)가 발생 및 오프-셋(off-set) 영역이 발생하는 기존 레이저 컷팅의 문제점이 없기 때문에, 신뢰성이 우수하고, 이형층(또는 이형필름)의 초기 박리력이 낮고, 다량의 봉지재를 쌓아서 보관(또는 저장) 시 이형층 표면의 둔턱으로 인해 발생하는 공간 손실이 없기 때문에 제품 보관에 유리하며, 단변의 치수 공차가 작다.The encapsulating material for organic electronic devices of the present invention is manufactured by a mechanical cutting method rather than a conventional laser cutting method, and thus, compared to laser cutting with a complicated production process, the cutting process time can be shortened by 30% to 50%, and since there are no problems of conventional laser cutting, such as the occurrence of a blunt in the cut surface of the release layer due to thermal deformation of the cut portion, the occurrence of residues and burrs on the cut surface, and the occurrence of an off-set area, the reliability is excellent, the initial peeling force of the release layer (or release film) is low, and since there is no space loss due to the blunt on the surface of the release layer when a large amount of encapsulating materials is stacked and stored (or stored), it is advantageous for product storage, and the dimensional tolerance of the short side is small.
도 1의 A 및 B는 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 유기전자장치 봉지재의 개략적인 단면도이다.
도 2는 슬릿팅 컷팅의 개략도이다.
도 3a 및 도 3b는 쉐어링 컷팅 및 이에 사용되는 상도 및 하도 나이프의 모식도이며, 도 3c는 복합시트의 절단면 설명을 위한 개략도이다.
도 4는 슬릿팅 컷팅된 장변 절단면에 대한 SEM 측정 이미지이다.
도 5는 상도 및 하도 나이프에 의해 쉐어링 컷팅된 절단면의 SEM 측정 이미지이다.
도 6는 레이저 컷팅된 복합시트의 절단면에 대한 SEM 이미지 및 모식도를 나타낸 것이다.
도 7은 테이퍼 길이 및 테이퍼 각도에 대한 설명을 예시한 모식도이다.
도 8은 실험예 2에서 실시한 복합시트의 이형시트 초기 박리력 측정에 사용된 기기 및 수행 사진이다.
도 9는 실험예 2에서 실시한 복합시트의 이형시트 초기 박리력 측정 결과이다.
도 10a ~ 도 10f는 상도 나이프 측압을 달리하여 슬릿팅 컷팅된 복합시트 장변 절단면의 광학 현미경 측정 이미지이다.
도 11a는 쉐어링 컷팅의 하도 나이프에 의한 절단면에 대한 SEM 이미지이고, 도 11b는 이형시트의 단부로부터 내부 방향으로 발생되는 PET의 들뜸 발생을 확인한 이미지이다.FIGS. 1A and 1B are schematic cross-sectional views of an organic electronic device encapsulating material according to a preferred embodiment of the present invention.
Figure 2 is a schematic diagram of slitting cutting.
Figures 3a and 3b are schematic diagrams of shear cutting and the upper and lower knives used therefor, and Figure 3c is a schematic diagram for explaining the cross-section of a composite sheet.
Figure 4 is a SEM measurement image of the slit-cut long side cross-section.
Figure 5 is a SEM measurement image of the cross-section cut by the upper and lower knives.
Figure 6 shows an SEM image and schematic diagram of the cross-section of a laser-cut composite sheet.
Figure 7 is a schematic diagram illustrating the explanation of taper length and taper angle.
Figure 8 shows the equipment and photographs used to measure the initial peel strength of a composite sheet in Experimental Example 2.
Figure 9 shows the results of measuring the initial peel strength of the composite sheet in Experimental Example 2.
Figures 10a to 10f are optical microscope measurement images of the longitudinal cross-section of a composite sheet slit-cut by varying the lateral pressure of a flat knife.
Figure 11a is a SEM image of a cross-section by a shearing cutting knife, and Figure 11b is an image confirming the occurrence of PET lifting inward from the end of the heteromorphic sheet.
이하 본 발명을 더욱 자세하게 설명을 한다.The present invention is described in more detail below.
본 발명의 유기전자장치용 봉지재는 복합시트를 제조한 후, 이를 기계적 컷팅법에 의해 복합시트의 장변을 슬릿팅 컷팅을 통한 절단 가공 및 복합시트의 단변을 쉐어링 컷팅을 통한 절단 가공하여 제조한 것이다.The encapsulating material for an organic electronic device of the present invention is manufactured by manufacturing a composite sheet, and then cutting the long side of the composite sheet through slitting cutting and cutting the short side of the composite sheet through shearing cutting using a mechanical cutting method.
이러한, 본 발명의 유기전자장치용 봉지재(이하, "봉지재"로 칭함)는 바람직한 일 구현예로서 도 1의 A에 개략도로 나타낸 바와 같이, 메탈층(14), 봉지수지층(15) 및 이형층(13)를 포함하는 복합시트(10)를 포함할 수 있으며, 또는 이형층이 박리된, 메탈층(14) 및 봉지수지층(15)를 포함하는 복합시트를 포함할 수 있다.As a preferred embodiment, the encapsulating material for an organic electronic device of the present invention (hereinafter referred to as “encapsulating material”) may include a composite sheet (10) including a metal layer (14), an encapsulating resin layer (15), and a release layer (13), as schematically illustrated in FIG. 1A, or may include a composite sheet including a metal layer (14) and an encapsulating resin layer (15) from which the release layer is peeled off.
그리고, 복합시트는 복수의 단부에 절단면이 형성된 시트이며, 바람직하게는 4개의 단부를 포함하고, 각 단부에 절단면이 형성된 시트일 수 있다.And, the composite sheet is a sheet having cut surfaces formed at multiple ends, and preferably, it can be a sheet including four ends and having cut surfaces formed at each end.
상기 복합시트의 메탈층 및 봉지수지층 사이에는 메탈층 및 봉지수지층과는 다른 성분의 층 및/또는 역할을 하는 층(또는 시트)을 더 포함할 수도 있으며, 봉지수지층 및 이형층 사이에는 봉지수지층 및 이형층과는 다른 성분의 층 및/또는 역할을 하는 층(또는 시트)을 더 포함할 수도 있다.Between the metal layer and the encapsulating resin layer of the above composite sheet, a layer (or sheet) having a different component and/or function from the metal layer and the encapsulating resin layer may be further included, and between the encapsulating resin layer and the release layer, a layer (or sheet) having a different component and/or function from the encapsulating resin layer and the release layer may be further included.
그리고, 도 1의 A 및 B에 개략도로 나타낸 바와 같이, 봉지수지층은 단층의 감압점착제층 또는 2층 이상의 다층의 감압점착제층을 포함할 수 있으며, 봉지수지층이 다층의 감압점착제층으로 구성되는 경우, 감압점착제층 각층은 서로 다른 조성 및/또는 조성비의 감압점착 성분으로 구성될 수 있다. And, as schematically illustrated in A and B of FIG. 1, the sealing resin layer may include a single-layer pressure-sensitive adhesive layer or two or more multi-layer pressure-sensitive adhesive layers, and when the sealing resin layer is composed of multi-layer pressure-sensitive adhesive layers, each layer of the pressure-sensitive adhesive layers may be composed of pressure-sensitive adhesive components having different compositions and/or composition ratios.
본 발명의 봉지재에 있어서, 상기 절단면은 기계적 컷팅법에 의해 형성된 절단면으로서, 본 발명의 봉지재는 4개의 절단면을 가질 수 있고, 상기 4개의 절단면 중 2개의 절단면은 슬릿팅 컷팅된 장변 절단면이고, 다른 2개의 절단면은 쉐어링 컷팅된 단변 절단면일 수 있다.In the bagging material of the present invention, the cut surface is a cut surface formed by a mechanical cutting method, and the bagging material of the present invention may have four cut surfaces, and two of the four cut surfaces may be long-side cut surfaces that are slitting cut, and the other two cut surfaces may be short-side cut surfaces that are shearing cut.
상기 절단면은 하기 방정식 1을 만족하는 2개의 장변 절단면(슬릿팅 컷팅 절단면) 및 2개의 단변 절단면(쉐어링 컷팅 절단면)을 가질 수 있다.The above cross-section may have two long-side cross-sections (slitting cutting cross-sections) and two short-side cross-sections (shearing cutting cross-sections) satisfying the following equation 1.
[방정식 1][Equation 1]
단변 절단면의 평균 테이퍼 각도 ≤ 장변 절단면의 평균 테이퍼 각도Average taper angle of short-side cross-section ≤ Average taper angle of long-side cross-section
방정식 1에서, 상기 테이퍼 각도는 테이퍼 측정 대상 절단면의 측면 방향에서 보았을 때, 절단면의 최하부층 표면 기준으로 절단면의 최하부층의 최하부 표면 끝단과 절단면의 최상부층의 최상부 표면 끝단이 이루는 사이각을 의미한다.In Equation 1, the taper angle means the angle formed between the lowermost surface end of the lowermost layer of the cut surface and the uppermost surface end of the uppermost layer of the cut surface when viewed from the side direction of the cut surface to be measured for taper.
상기 2개의 장변 절단면은 슬릿팅 컷팅에 의해 형성된 절단면이며, 장변 절단면의 표면은 빗살무늬가 형성되어 있다. The above two longitudinal cross-sections are cross-sections formed by slitting cutting, and the surfaces of the longitudinal cross-sections have a comb-like pattern formed.
상기 2개의 장변 절단면 각각은 테이퍼 각도가 서로 같거나, 상이할 수 있으며, 또한, 상기 2개의 단변 절단면 각각은 테이퍼 각도가 서로 같거나, 상이할 수 있으며, 바람직하게는 상기 2개의 장변 절단면 및 상기 2개의 단변 절단면은 하기 방정식 2를 만족할 수 있다.Each of the two long-side cut surfaces may have taper angles that are equal to or different from each other, and further, each of the two short-side cut surfaces may have taper angles that are equal to or different from each other, and preferably, the two long-side cut surfaces and the two short-side cut surfaces may satisfy the following equation 2.
[방정식 2][Equation 2]
장변 절단면의 테이퍼 각도 편차 < 단변 절단면의 테이퍼 각도 편차Taper angle deviation of long side cross section < Taper angle deviation of short side cross section
방정식 2에서, 장변 절단면의 테이퍼 각도 편차는 2개의 장변 절단면 각각의 테이퍼 각도 차이를 의미하며, 단변 절단면의 테이퍼 각도 편차는 2개의 단변 절단면 각각의 테이퍼 각도 차이를 의미한다.In Equation 2, the taper angle deviation of the long-side cross-section means the taper angle difference between each of the two long-side cross-sections, and the taper angle deviation of the short-side cross-section means the taper angle difference between each of the two short-side cross-sections.
본 발명의 봉지재에 있어서, 상기 슬릿팅 컷팅에 의해 형성된 절단면인 상기 장변 절단면의 테이퍼 각도는 80˚ ~ 90˚, 바람직하게는 82˚~ 90˚ 일 수 있다. In the bag material of the present invention, the taper angle of the longitudinal cross-section formed by the slitting cutting may be 80˚ to 90˚, preferably 82˚ to 90˚.
좀 더 구체적으로는 메탈층, 봉지수지층 및 이형층을 포함하는 복합시트의 경우, 슬릿팅 컷팅된 절단면의 테이퍼 각도는 83˚~ 90˚, 바람직하게는 85˚~ 90˚일 수 있다. 또한, 이형층이 제거된 메탈층 및 봉지수지층을 포함하는 복합시트의 경우, 슬릿팅 컷팅된 절단면의 테이퍼 각도는 80˚~ 90˚, 바람직하게는 81˚~ 89˚일 수 있다.More specifically, in the case of a composite sheet including a metal layer, an encapsulating resin layer, and a release layer, the taper angle of the slitting-cut cross-section may be 83˚ to 90˚, preferably 85˚ to 90˚. In addition, in the case of a composite sheet including a metal layer and an encapsulating resin layer from which the release layer has been removed, the taper angle of the slitting-cut cross-section may be 80˚ to 90˚, preferably 81˚ to 89˚.
그리고, 장변 절단면의 테이퍼 길이는 20㎛ 이하이고, 장변 절단면의 잘려나간 스크랩(Scrap)은 스크랩 와인더(Scrap Winder)를 통하여 제거될 수 있다. In addition, the taper length of the longitudinal cross-section is 20㎛ or less, and the cut scrap of the longitudinal cross-section can be removed through a scrap winder.
그리고, 상기 메탈층, 봉지수지층 및 이형층을 포함하는 복합시트(봉지재)의 경우, 쉐어링 컷팅된 절단면은 쉐어링 컷팅 나이프의 하도 나이프에 의해 형성된 제1절단면과 쉐어링 컷팅 나이프의 상도 나이프에 의해 형성된 제2절단면을 가질 수 있으며, 상기 제1절단면은 테이퍼 각도가 73˚~ 90˚(또는 0 ˚~ -17 ˚)이고, 상기 제2 절단면은 테이퍼 각도가 73˚~ 90˚일 수 있다. 그리고, 이때, 상기 제1절단면의 테이퍼 길이는 0 ~ +60㎛, 바람직하게는 0 ~ +50㎛이고, 제2절단면의 테이퍼 길이는 0 ~ +60㎛(또는 0 ~ -60㎛), 바람직하게는 0 ~ +50㎛(또는 0 ~ -50㎛)일 수 있다. And, in the case of the composite sheet (encapsulating material) including the metal layer, the encapsulating resin layer, and the release layer, the shearing-cut cut surface may have a first cut surface formed by the lower knife of the shearing cutting knife and a second cut surface formed by the upper knife of the shearing cutting knife, and the first cut surface may have a taper angle of 73˚ to 90˚ (or 0˚ to -17˚), and the second cut surface may have a taper angle of 73˚ to 90˚. And, at this time, the taper length of the first cut surface may be 0 to +60㎛, preferably 0 to +50㎛, and the taper length of the second cut surface may be 0 to +60㎛ (or 0 to -60㎛), preferably 0 to +50㎛ (or 0 to -50㎛).
또한, 이형층이 제거된 메탈층 및 봉지수지층을 포함하는 복합시트(봉지재)의 경우, 상기 제1절단면은 테이퍼 각도가 67˚ ~ 90˚ (또는 0 ˚~ -23 ˚)이고, 상기 제2 절단면은 테이퍼 각도가 68˚~ 88˚일 수 있다. 이때, 제1절단면의 테이퍼 길이는 0 ~ +60㎛, 바람직하게는 0 ~ +50㎛이고, 제2절단면의 테이퍼 길이는 0 ~ +60㎛(또는 0 ~ -60㎛), 바람직하게는 0 ~ +50㎛(또는 0 ~ -50㎛)일 수 있다. In addition, in the case of a composite sheet (encapsulating material) including a metal layer and an encapsulating resin layer from which a heterogeneous layer has been removed, the first cut surface may have a taper angle of 67˚ to 90˚ (or 0˚ to -23˚), and the second cut surface may have a taper angle of 68˚ to 88˚. At this time, the taper length of the first cut surface may be 0 to +60㎛, preferably 0 to +50㎛, and the taper length of the second cut surface may be 0 to +60㎛ (or 0 to -60㎛), preferably 0 to +50㎛ (or 0 to -50㎛).
상기 장변 절단면 및 단변 절단면의 테이퍼 각도 및 테이퍼 길이는 레이저 컷팅법에 의해 형성된 절단면과 비교하여 상대적으로 높은 테이퍼 각도 및 낮은 테이퍼 길이이며, 이는 레이저 컷팅법에 의해 형성되는 오프-셋(off-set) 영역이 기계적 컷팅법의 절단면에서는 발생하지 않거나, 매우 낮기 때문이다.The taper angle and taper length of the long-side cut surface and the short-side cut surface are relatively high taper angles and low taper lengths compared to cut surfaces formed by a laser cutting method. This is because the off-set region formed by the laser cutting method does not occur in the cut surface of the mechanical cutting method or is very low.
바람직한 일례를 들면, 메탈층(14), 봉지수지층(15) 및 이형층(13)을 포함하는 복합시트(10)를 적정 크기로 가공하기 위해 기계적 컷팅시, 즉, 장변방향(길이방향)은 슬릿팅 컷팅을 수행하고, 단변방향은 쉐어링 컷팅을 수행하며며, 이렇게 제조된 봉지재는 4개의 단부 및 4개의 절단면을 가지며, 장변 절단면과 단변 절단면은 상이한 절단면 표면 형태, 테이퍼 각도, 테이퍼 길이를 가지며, 단변 절단면의 쉐어링 컷팅 나이프의 하도 나이프에 의해 형성된 제1단변 절단면과 쉐어링 컷팅 나이프의 상도 나이프에 의해 형성된 제2단변 절단면은 테이퍼 각도 및 테이퍼 길이가 상이할 수 있다.As a preferred example, in order to process a composite sheet (10) including a metal layer (14), a sealing resin layer (15), and a release layer (13) into an appropriate size, when mechanically cutting, that is, a slitting cut is performed in the long-side direction (length direction) and a shearing cut is performed in the short-side direction, the sealing material manufactured in this way has four end portions and four cut surfaces, and the long-side cut surfaces and the short-side cut surfaces have different cut surface surface shapes, taper angles, and taper lengths, and the first short-side cut surface formed by the lower knife of the shearing cutting knife of the short-side cut surface and the second short-side cut surface formed by the upper knife of the shearing cutting knife may have different taper angles and taper lengths.
그리고, 메탈층은 두께 60㎛ ~ 150㎛, 바람직하게는 70㎛ ~ 120㎛, 더욱 바람직하게는 75㎛ ~ 105㎛일 수 있다. And, the metal layer may have a thickness of 60 ㎛ to 150 ㎛, preferably 70 ㎛ to 120 ㎛, and more preferably 75 ㎛ to 105 ㎛.
그리고, 봉지수지층은 두께 30㎛ ~ 100㎛, 바람직하게는 40㎛ ~ 80㎛, 더욱 바람직하게는 45㎛ ~ 75㎛일 수 있다. And, the encapsulating resin layer may have a thickness of 30 ㎛ to 100 ㎛, preferably 40 ㎛ to 80 ㎛, and more preferably 45 ㎛ to 75 ㎛.
그리고, 이형층은 두께 15㎛ ~ 75㎛, 바람직하게는 25㎛ ~ 60㎛, 더욱 바람직하게는 35㎛ ~ 55㎛일 수 있다. And, the heteromorphic layer may have a thickness of 15 ㎛ to 75 ㎛, preferably 25 ㎛ to 60 ㎛, and more preferably 35 ㎛ to 55 ㎛.
본 발명의 봉지재는 전체 두께는 120㎛ ~ 280㎛, 바람직하게는 125 ~ 220㎛, 더욱 바람직하게는 128㎛ ~ 200㎛일 수 있다. The sealing material of the present invention may have an overall thickness of 120 ㎛ to 280 ㎛, preferably 125 ㎛ to 220 ㎛, and more preferably 128 ㎛ to 200 ㎛.
이러한 방법으로 제조된 본 발명의 봉지재는 지그 하강속도 및 상승속도 1.0 mm/sec, 드웰힘(dwell force) 800 gf 및 드웰시간(dwell time) 10.0 초 조건 하에서, UTM 방법에 의해 초기 박리력 측정시, 이형층 모서리의 초기 박리력은 200 ~ 400 gf, 바람직하게는 250 ~ 380 gf, 더욱 바람직하게는 300 ~ 370 gf일 수 있다. 이러한 봉지재의 초기 박리력 값은 레이저 컷팅에 의해 제조된 봉지재의 초기 박리력이 500 gf 이상인 것과 비교할 때, 상대적으로 매우 낮은 수치이며, 이는 레이저 컷팅시 이형층과 봉지수지층의 절단면에 발생 및 형성된 잔사 존부 차이 때문이다. The encapsulating material of the present invention manufactured by this method can have an initial peel force of 200 to 400 gf, preferably 250 to 380 gf, and more preferably 300 to 370 gf at the edge of the release layer when measured by the UTM method under the conditions of a jig lowering speed and rising speed of 1.0 mm/sec, a dwell force of 800 gf, and a dwell time of 10.0 sec. The initial peel force value of this encapsulating material is a relatively very low value compared to an encapsulating material manufactured by laser cutting having an initial peel force of 500 gf or more, and this is because of the difference in the presence or absence of a residue generated and formed on the cut surface of the release layer and the encapsulating resin layer during laser cutting.
본 발명의 봉지재는 상기 이형층 표면은 하기 수학식 1에 따른 높이 편차가 0 ~ 4㎛, 바람직하게는 0 ~ 2㎛, 더욱 바람직하게는 0 ~ 1.5㎛로 높이 편차가 거의 없다. 여기서, 상기 높이 편차의 높이는 봉지수지층과 이형층의 접합부위의 이형층 하부면으로부터 상기 이형층 하부면에 대응하는 상부면 표면까지의 수직 방향의 높이를 의미한다.The sealing material of the present invention has a height deviation of 0 to 4 ㎛, preferably 0 to 2 ㎛, and more preferably 0 to 1.5 ㎛ on the surface of the release layer according to the following mathematical formula 1, and thus has almost no height deviation. Here, the height of the height deviation refers to the height in the vertical direction from the lower surface of the release layer at the joint portion of the sealing resin layer and the release layer to the upper surface corresponding to the lower surface of the release layer.
[수학식 1][Mathematical formula 1]
높이 편차 = (이형층 가장자리 최대 높이) - (이형층 중심의 높이) Height deviation = (maximum height of the edge of the heteromorphic layer) - (height of the center of the heteromorphic layer)
수학식 1에서 상기 이형층 가장자리는 절단면으로부터 이형층 내부 방향으로 1mm까지의 이형층 표면 부위를 의미한다.In mathematical expression 1, the edge of the heteromorphic layer means a portion of the surface of the heteromorphic layer extending 1 mm from the cut surface toward the inside of the heteromorphic layer.
레이저 컷팅에 의해 제조된 봉지재는 열융합에 의해 이형층 끝단 부분에 둔턱이 형성되어 높이 편차가 큰 것과 비교할 때, 본 발명의 봉지재는 이러한 둔턱이 거의 발생하지 않기 때문에 높이 편차가 매우 낮거나 없는 것이다. Compared to the sealing material manufactured by laser cutting, which has a large height deviation due to the formation of a blunt protrusion at the end of the release layer by thermal fusion, the sealing material of the present invention has a very low or no height deviation because such a blunt protrusion hardly occurs.
[메탈층][Metal layer]
본 발명의 유기전자장치용 봉지재에 있어서, 상기 메탈층은 철(Fe), 비스무트(Bi), 주석(Sn), 인듐(In), 은(Ag), 구리(Cu), 아연(Zn), 안티몬(Sb), 니켈(Ni), 크롬(Cr), 알루미늄(Al), 코발트(Co), 망간(Mn), 티타늄(Ti), 몰리브덴(Mo), 규소(Si), 마그네슘(Mg), 텅스텐(W) 및 이들의 합금 중에서 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있다.In the encapsulating material for an organic electronic device of the present invention, the metal layer may include at least one selected from iron (Fe), bismuth (Bi), tin (Sn), indium (In), silver (Ag), copper (Cu), zinc (Zn), antimony (Sb), nickel (Ni), chromium (Cr), aluminum (Al), cobalt (Co), manganese (Mn), titanium (Ti), molybdenum (Mo), silicon (Si), magnesium (Mg), tungsten (W), and alloys thereof.
바람직한 일례를 들면, 비스무트(Bi), 주석(Sn), 인듐(In), 은(Ag), 구리(Cu), 아연(Zn), 안티몬(Sb), 니켈(Ni), 크롬(Cr) 등을 포함하는 스테인레스 스틸 재질의 메탈시트를 포함하며, 더욱 바람직하게는 니켈 34 ~ 38 중량% 및 잔량의 철(Fe)을 포함하는 합금을 포함하는 메탈시트(니켈, 철 외에 필수불가피한 불순물 포함)일 수 있다.A preferred example is a metal sheet made of stainless steel containing bismuth (Bi), tin (Sn), indium (In), silver (Ag), copper (Cu), zinc (Zn), antimony (Sb), nickel (Ni), chromium (Cr), and more preferably a metal sheet containing an alloy containing 34 to 38 wt% of nickel and the remainder of iron (Fe) (including essential impurities in addition to nickel and iron).
[봉지수지층][Bagjisuji layer]
또한, 본 발명의 유기전자장치용 봉지재에 있어서, 봉지수지층은 폴리올레핀계 접착수지를 포함하는 접착 조성물로 제조할 수 있으며, 상기 폴리올레핀계 수지는 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리프로필렌, 폴리이소부틸렌(Polyisobutylene) 등의 폴리(C2 ~ C6)알킬렌 수지; 및 에틸렌, 프로필렌 및/또는 디엔계 화합물이 공중합된 랜덤 공중합체 수지; 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상을 포함할 수 있다.In addition, in the sealing material for organic electronic devices of the present invention, the sealing resin layer can be manufactured from an adhesive composition including a polyolefin-based adhesive resin, and the polyolefin-based resin can include one or more selected from among poly(C 2 to C 6 ) alkylene resins such as polyethylene, polypropylene, polypropylene, and polyisobutylene; and random copolymer resins in which ethylene, propylene, and/or diene-based compounds are copolymerized.
바람직한 일례를 들면, 상기 폴리올레핀계 접착수지는 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함할 수 있다.As a preferred example, the polyolefin-based adhesive resin may include a compound represented by the following chemical formula 1.
[화학식 1][Chemical Formula 1]
상기 화학식 1에 있어서, R1는 수소원자 또는 C3 ~ C10의 직쇄형 알케닐기 또는 C4 ~ C10의 분쇄형 알케닐기이고, 바람직하게는 R1은 수소원자, C4 ~ C8의 직쇄형 알케닐기 또는 C4 ~ C8의 분쇄형 알케닐기 일 수 있다. 그리고, 상기 n은 화학식 1로 표시되는 화합물의 중량평균분자량 10,000 ~ 2,000,000을 만족시키는 유리수, 바람직하게는 중량평균분자량 30,000 ~ 1,550,000을 만족하는 유리수이고, 더욱 바람직하게는 중량평균분자량 40,000 ~ 1,500,000을 만족하는 유리수일 수 있다. 만일, 중량평균분자량이 10,000 미만이면 모듈러스 저하에 따른 패널 처짐 현상이 발생할 수 있고, 내열성이 저하될 수 있으며, 흡습제의 충진성이 저하됨에 따라 신뢰성이 저하될 수 있고, 기계적 물성이 저하될 수 있으며, 탄성 저하에 따른 흡습제 부피 팽창에 의한 기재와의 들뜸현상이 발생할 수 있다. 또한, 중량평균분자량이 2,000,000을 초과하면 젖음성 저하로 인해 기재와의 점착력이 저하될 수 있고, 모듈러스 증가에 따라 패널에 대한 합착성이 저하될 수 있다.In the chemical formula 1, R 1 is a hydrogen atom or a C 3 to C 10 straight-chain alkenyl group or a C 4 to C 10 branched alkenyl group, and preferably, R 1 may be a hydrogen atom, a C 4 to C 8 straight-chain alkenyl group or a C 4 to C 8 branched alkenyl group. In addition, n is a rational number that satisfies the weight average molecular weight of the compound represented by the chemical formula 1 of 10,000 to 2,000,000, preferably a rational number that satisfies the weight average molecular weight of 30,000 to 1,550,000, and more preferably a rational number that satisfies the weight average molecular weight of 40,000 to 1,500,000. If the weight average molecular weight is less than 10,000, panel sagging may occur due to a decrease in modulus, heat resistance may be reduced, reliability may be reduced due to a decrease in the filling property of the desiccant, mechanical properties may be reduced, and a lifting phenomenon with respect to the substrate may occur due to expansion of the desiccant volume due to a decrease in elasticity. In addition, if the weight average molecular weight exceeds 2,000,000, adhesive strength with the substrate may be reduced due to a decrease in wettability, and bonding to the panel may be reduced as the modulus increases.
상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 하기 측정방법으로 측정시 100℃~ 140℃바람직하게는 110 ~ 130℃더욱 바람직하게는 115℃~ 125℃의 결정화 온도를 가질 수 있다.The compound represented by the above chemical formula 1 can have a crystallization temperature of 100°C to 140°C, preferably 110 to 130°C, and more preferably 115°C to 125°C, when measured by the following measuring method.
[측정방법][measurement method]
200℃에서 -150℃의 온도까지 10℃의 속도로 냉각시키면서 시차 주사 열량측정기(Differential Scanning Calorimetry, DSC)로 측정한 열류량의 냉각곡선의 피크 분석을 통하여 결정화 온도(Tc)를 측정한 것이다.The crystallization temperature (T c ) was measured by peak analysis of the cooling curve of the heat flow measured using a differential scanning calorimeter (DSC) while cooling from 200℃ to -150℃ at a rate of 10℃.
또한, 상기 폴리올레핀계 접착수지는 에틸렌, 프로필렌 및 디엔계 화합물이 공중합된 랜덤 공중합체를 포함할 수 있다. 이 때, 에틸렌 및 프로필렌은 1 : 0.3 ~ 1.4의 중량비로, 바람직하게는 1 : 0.5 ~ 1.2의 중량비로 랜덤공중합될 수 있다. 만일 공중합되는 에틸렌 및 프로필렌의 중량비가 1 : 0.3 미만이면 모듈러스 및 경도 증가에 따른 패널 합착성 불량을 야기시킬 수 있고, 기재와의 점착력 및 저온에서의 물성 저하를 초래하는 문제가 발생하며 탄성률 저하에 따른 흡습제 부피 팽창에 불리하게 작용할 수 있으며, 중량비가 1 : 1.4를 초과하면 모듈러스 및 경도 저하에 따른 패널 처짐이 발생할 수 있으며, 기계적 물성의 저하는 제품의 기계적 물성의 저하로 연결되어지며, 흡습제의 고충진이 어려움에 따라 신뢰성이 저하되는 문제가 발생할 수 있다. 또한, 디엔계 화합물은 에틸렌, 프로필렌 및 디엔계 화합물이 공중합된 랜덤 공중합체 전체 중량에 대하여 2 ~ 15 중량%로, 바람직하게는 7 ~ 11 중량%로 포함될 수 있다. 만일 디엔계 화합물이 2 중량% 미만이면 낮은 경화속도 및 경화밀도로 인해 모듈러스가 저하됨에 따른 패널 처짐 문제를 야기할 수 있고, 내열성이 저하될 수 있으며, 탄성 저하에 따른 흡습제 부피 팽창에 의해 기재와의 들뜸현상이 발생할 수 있고, 15 중량%를 초과하면 높은 경화밀도로 인한 젖음성 부족으로 기재와의 점착력 저하, 수지 간의 상용성 저하, 높은 모듈러스에 의한 패널 합착성 저하 문제가 발생하며 열에 의한 황변 현상을 초래할 수 있다.In addition, the polyolefin-based adhesive resin may include a random copolymer in which ethylene, propylene, and a diene-based compound are copolymerized. At this time, ethylene and propylene may be randomly copolymerized in a weight ratio of 1:0.3 to 1.4, preferably in a weight ratio of 1:0.5 to 1.2. If the weight ratio of the copolymerized ethylene and propylene is less than 1:0.3, it may cause poor panel bonding due to an increase in modulus and hardness, and problems such as decreased adhesion with a substrate and decreased physical properties at low temperatures may occur, and it may adversely affect volume expansion of the moisture absorbent due to decreased elasticity, and if the weight ratio exceeds 1:1.4, panel sagging may occur due to a decrease in modulus and hardness, and the decrease in mechanical properties may lead to a decrease in the mechanical properties of the product, and a problem such as decreased reliability may occur due to difficulty in high filling of the moisture absorbent. In addition, the diene compound may be included in an amount of 2 to 15 wt%, preferably 7 to 11 wt%, based on the total weight of the random copolymer in which ethylene, propylene, and the diene compound are copolymerized. If the diene compound is included in an amount of less than 2 wt%, the panel may sag due to a decrease in modulus caused by a low curing speed and curing density, and heat resistance may be reduced. In addition, a lifting phenomenon with respect to the substrate may occur due to expansion of the volume of the moisture absorbent caused by a decrease in elasticity. If the diene compound is included in an amount of more than 15 wt%, the adhesive strength with the substrate may be reduced due to insufficient wettability caused by high curing density, compatibility between resins may be reduced, and panel bonding may be reduced due to high modulus. In addition, yellowing may occur due to heat.
상기 폴리올레핀계 접착수지는 탄성력 증대 등의 물성 향상 측면에서 2종의 접착수지를 혼합하여 사용할 수도 있으며, 이의 바람직한 일례를 들면, 상기 에틸렌, 프로필렌 및 디엔계 화합물이 공중합된 랜덤 공중합체(제1접착수지) 및 상기 화학식 1로 표시되는 화합물(제2접착수지)를 포함할 수 있으며, 바람직하게는 제1접착수지 및 제2접착수지를 1 : 0.1 ~ 10의 중량비, 바람직하게는 1 : 1 ~ 9의 중량비, 더욱 바람직하게는 1 : 1.1 ~ 5의 중량비로 포함할 수도 있다. 이때, 중량비가 1 : 10을 초과하면 탄성력이 저하되는 문제가 발생할 수 있으므로, 제1접착수지 및 제2접착수지를 혼합 사용시에는 상기 범위 내로 사용하는 것이 좋다. The above polyolefin-based adhesive resin may be used by mixing two types of adhesive resins in order to improve physical properties such as increased elasticity, and a preferred example thereof may include a random copolymer (first adhesive resin) in which the ethylene, propylene, and diene-based compounds are copolymerized, and a compound represented by the above chemical formula 1 (second adhesive resin). Preferably, the first adhesive resin and the second adhesive resin may be included in a weight ratio of 1:0.1 to 10, preferably a weight ratio of 1:1 to 9, and more preferably a weight ratio of 1:1.1 to 5. At this time, if the weight ratio exceeds 1:10, a problem of reduced elasticity may occur, and therefore, when the first adhesive resin and the second adhesive resin are mixed and used, it is preferable to use them within the above range.
봉지수지층 제조에 사용되는 접착 조성물은 앞서 설명한 폴리올레핀계 접착 수지 외에 점착부여제, 흡습제, 경화제, 광개시제, 산화방지제 등의 첨가제를 더 포함할 수 있다.The adhesive composition used in the manufacture of the sealing resin layer may further contain additives such as a tackifier, a moisture absorbent, a curing agent, a photoinitiator, and an antioxidant in addition to the polyolefin-based adhesive resin described above.
첨가제 중 상기 점착부여제는 통상적으로 유기전자장치 봉지재용 접착조성물에 사용되는 점착 수지라면 제한 없이 포함할 수 있으며, 바람직하게는 수첨 석유수지, 수첨 로진수지, 수첨 로진 에스테르 수지, 수첨 테르펜 수지, 수첨 테르펜 페놀 수지, 중합 로진 수지 및 중합 로진 에스테르 수지 중에서 선택된 1종 이상을 포함할 수 있다. 그리고, 점착부여제의 사용량은 폴리올레핀계 접착수지 100 중량부에 대하여, 50 ~ 300 중량부, 바람직하게는 80 ~ 280 중량부로 사용하는 것이 좋다. 만일 혼합수지 100 중량부에 대하여 점착부여제가 50 중량부 미만이면 내습성이 확보가 부족할 수 있고, 300 중량부를 초과 사용하면 탄성저하(Brittle)에 따른 내구성 및 내습성이 저하되는 문제가 발생할 수 있다.Among the additives, the tackifier may include, without limitation, any adhesive resin typically used in adhesive compositions for encapsulating organic electronic devices, and preferably may include at least one selected from hydrogenated petroleum resins, hydrogenated rosin resins, hydrogenated rosin ester resins, hydrogenated terpene resins, hydrogenated terpene phenol resins, polymerized rosin resins, and polymerized rosin ester resins. In addition, the amount of the tackifier used is preferably 50 to 300 parts by weight, and preferably 80 to 280 parts by weight, per 100 parts by weight of the polyolefin-based adhesive resin. If the amount of the tackifier is less than 50 parts by weight per 100 parts by weight of the mixed resin, moisture resistance may be insufficiently secured, and if it exceeds 300 parts by weight, durability and moisture resistance may be deteriorated due to brittleness.
첨가제 중 상기 흡습제는 통상적으로 유기전자장치의 패키징에 사용되는 흡습제라면 제한 없이 사용할 수 있고, 바람직하게는 제올라이트, 티타니아, 지르코니아 또는 몬모릴로나이트 등을 성분으로 포함하는 흡습제, 금속염 및 금속산화물 중 1종 이상을 포함할 수 있으며, 더욱 바람직하게는 금속산화물을 포함할 수 있다.Among the additives, the above-mentioned moisture absorbent may be used without limitation as long as it is a moisture absorbent commonly used in the packaging of organic electronic devices, and preferably, it may include at least one of a moisture absorbent including zeolite, titania, zirconia or montmorillonite as a component, a metal salt and a metal oxide, and more preferably, it may include a metal oxide.
금속산화물은 실리카(SiO2), 알루미나(Al2O3), 산화리튬(Li2O), 산화나트륨(Na2O), 산화바륨(BaO), 산화칼슘(CaO) 또는 산화마그네슘(MgO) 등의 금속산화물, 유기 금속산화물 및 오산화인(P2O5) 중 1종 이상을 포함할 수 있다.The metal oxide may include at least one of a metal oxide such as silica (SiO 2 ), alumina (Al 2 O 3 ), lithium oxide (Li 2 O), sodium oxide (Na2O), barium oxide (BaO), calcium oxide (CaO), or magnesium oxide (MgO), an organic metal oxide, and phosphorus pentoxide (P 2 O 5 ).
금속염은 황산리튬(Li2SO4), 황산나트륨(Na2SO4), 황산칼슘(CaSO4), 황산마그네슘(MgSO4), 황산코발트(CoSO4), 황산갈륨(Ga2(SO4)3), 황산티탄(Ti(SO4)2) 또는 황산니켈(NiSO4) 등의 황산염, 염화칼슘(CaCl2), 염화마그네슘(MgCl2), 염화스트론튬(SrCl2), 염화이트륨(YCl3), 염화구리(CuCl2), 불화세슘(CsF), 불화탄탈륨(TaF5), 불화니오븀(NbF5), 브롬화리튬(LiBr), 브롬화칼슘(CaBr2), 브롬화세슘(CeBr3), 브롬화셀레늄(SeBr4), 브롬화바나듐(VBr3), 브롬화마그네슘(MgBr2), 요오드화바륨(BaI2) 또는 요오드화마그네슘(MgI2) 등의 금속할로겐화물 및 과염소산바륨(Ba(ClO4)2) 또는 과염소산마그네슘(Mg(ClO4)2) 등의 금속염소산염 중 1종 이상을 포함할 수 있다.Metal salts include sulfates such as lithium sulfate ( Li2SO4 ), sodium sulfate ( Na2SO4 ), calcium sulfate ( CaSO4 ), magnesium sulfate ( MgSO4 ), cobalt sulfate ( CoSO4 ), gallium sulfate ( Ga2 ( SO4 ) 3 ), titanium sulfate (Ti( SO4 ) 2 ), or nickel sulfate ( NiSO4 ), calcium chloride ( CaCl2 ), magnesium chloride ( MgCl2 ), strontium chloride ( SrCl2 ), yttrium chloride ( YCl3 ), copper chloride ( CuCl2 ), cesium fluoride (CsF), tantalum fluoride ( TaF5 ), niobium fluoride ( NbF5 ), lithium bromide (LiBr), calcium bromide ( CaBr2 ), cesium bromide ( CeBr3 ), It may include at least one of metal halides such as selenium bromide (SeBr 4 ), vanadium bromide (VBr 3 ), magnesium bromide (MgBr 2 ), barium iodide (BaI 2 ) or magnesium iodide (MgI 2 ), and metal chlorates such as barium perchlorate (Ba(ClO 4 ) 2 ) or magnesium perchlorate (Mg(ClO 4 ) 2 ).
흡습제는 순도가 95% 이상을 사용하는 것이 좋으며, 순도 95% 미만인 경우 수분 흡수기능이 저하될 뿐 아니라 흡습제에 포함되는 물질이 불순물로 작용해 접착필름의 불량을 야기할 수 있고, 유기전자장치에도 영향을 줄 수 있으나, 이에 제한되지는 않는다.It is recommended to use a desiccant with a purity of 95% or higher. If the purity is less than 95%, not only will the moisture absorption function be reduced, but the substances contained in the desiccant may act as impurities, causing defects in the adhesive film and affecting organic electronic devices, but are not limited thereto.
흡습제 사용시 적정 사용량은 폴리올레핀계 접착수지 100 중량부에 대하여, 10 ~ 550 중량부, 바람직하게는 20 ~ 520 중량부를 포함할 수 있다. 만일 흡습제 사용량이 10 중량부 미만이면 유기전자장치의 내구성이 저하되고, 수분 제거 효과가 현저히 저하되는 등 목적하는 접착필름을 구현할 수 없고, 흡습제 사용량이 550 중량부를 초과하면 젖음성 부족으로 인해 접착필름과 유기전자장치와의 밀착력, 접착력 등 합착 불량으로 유기전자장치의 신뢰성이 저하되고, 수분 흡습 시 과도한 부피팽창으로 인해 들뜸 현상이 발생함에 따라, 유기전자장치의 수명이 단축되는 문제가 발생할 수 있다.When using a desiccant, the appropriate amount may include 10 to 550 parts by weight, preferably 20 to 520 parts by weight, per 100 parts by weight of the polyolefin-based adhesive resin. If the amount of the desiccant used is less than 10 parts by weight, the durability of the organic electronic device may deteriorate, the moisture removal effect may be significantly reduced, and the intended adhesive film may not be implemented. On the other hand, if the amount of the desiccant used exceeds 550 parts by weight, the reliability of the organic electronic device may deteriorate due to poor adhesion, such as adhesion between the adhesive film and the organic electronic device, due to insufficient wettability, and the lifespan of the organic electronic device may be shortened due to the occurrence of a lifting phenomenon caused by excessive volume expansion when absorbing moisture.
첨가제 중 상기 경화제는 통상적으로 경화제로 사용될 수 있는 물질이라면 제한없이 포함할 수 있으며, 바람직하게는 가교제의 역할을 함으로써 접착필름의 충분한 가교밀도를 확보할 수 있는 물질을 포함할 수 있으며, 보다 바람직하게는 중량평균분자량이 100 ~ 1500인 우레탄 아크릴레이트계 경화제 및 중량평균분자량이 100 ~ 1500인 아크릴레이트계 경화제 중에서 선택된 1종 이상을 포함할 수 있다. 만일 경화제의 중량평균분자량이 100 미만이면 경도 증가에 의해 패널 합착성 및 기재와의 점착력 저하하며 미반응 경화제의 아웃가스(Outgas) 문제가 발생할 수 있고, 중량평균분자량이 1500를 초과하면 연화성(Softness)증가에 의해 기계적 물성이 저하되는 문제가 발생할 수 있다. 그리고, 경화제의 적정 사용량은 폴리올레핀계 접착수지 100 중량부에 대하여 2 ~ 50 중량부, 바람직하게는 5 ~ 40 중량부를 사용할 수 있다. 만일 경화제를 2 중량부 미만으로 사용할 경우 목적하는 겔화율 및 모듈러스를 달성할 수 없고, 탄성력이 저하되는 문제가 발생할 수 있으며, 50 중량부를 초과하여 사용할 경우 높은 모듈러스 및 경도로 인해 패널 합착 불량, 젖음성 저하에 따른 점착력 저하 문제가 발생할 수 있다.Among the additives, the curing agent may include, without limitation, any substance that can be typically used as a curing agent, and preferably may include a substance that can secure sufficient crosslinking density of the adhesive film by acting as a crosslinking agent, and more preferably may include at least one selected from a urethane acrylate-based curing agent having a weight average molecular weight of 100 to 1,500 and an acrylate-based curing agent having a weight average molecular weight of 100 to 1,500. If the weight average molecular weight of the curing agent is less than 100, the panel bonding property and the adhesive strength with the substrate may deteriorate due to an increase in hardness, and an outgas problem of unreacted curing agent may occur, and if the weight average molecular weight exceeds 1,500, the mechanical properties may deteriorate due to an increase in softness. In addition, the appropriate amount of the curing agent to be used is 2 to 50 parts by weight, and preferably 5 to 40 parts by weight, per 100 parts by weight of the polyolefin-based adhesive resin. If less than 2 parts by weight of the hardener is used, the desired gelation rate and modulus cannot be achieved, and problems such as reduced elasticity may occur. If more than 50 parts by weight is used, problems such as poor panel bonding and reduced adhesiveness due to reduced wettability may occur due to high modulus and hardness.
첨가제 중 상기 광 개시제는 통상적으로 사용되는 광 개시제로 사용되는 것이라면 제한 없이 포함할 수 있으며, 바람직한 일례를 들면, 모노 아실 포스파인(Mono Acyl Phosphine), 비스 아실 포스파인(Bis Acyl Phosphine), α-히드록시케톤(α-Hydroxyketone), α-아미노케톤(α-Aminoketone), 페닐글리옥실레이트(Phenylglyoxylate), 벤질디메틸-케탈(Benzyldimethyl-ketal) 중에서 선택된 1종 이상을 포함할 수 있다. 그리고, 광개시제의 적정 사용량은 폴리올레핀계 접착수지 100 중량부에 대하여, 0.1 ~ 10 중량부, 바람직하게는 0.5 ~ 8 중량부로 사용할 수 있다. 만일 광 개시제를 0.1 중량부 미만으로 사용하게 되면 경화 불량에 따른 내열성이 좋지 않은 문제가 발생할 수 있고, 10 중량부를 초과하여 사용하게 되면 경화밀도 저하에 따른 내열성이 좋지 않은 문제가 발생할 수 있다.Among the additives, the photoinitiator may be included without limitation as long as it is a commonly used photoinitiator, and preferred examples thereof may include at least one selected from mono acyl phosphine, bis acyl phosphine, α-hydroxyketone, α-amino ketone, phenylglyoxylate, and benzyldimethyl-ketal. In addition, the appropriate amount of the photoinitiator to be used is 0.1 to 10 parts by weight, and preferably 0.5 to 8 parts by weight, per 100 parts by weight of the polyolefin-based adhesive resin. If the photoinitiator is used in an amount of less than 0.1 part by weight, poor heat resistance due to poor curing may occur, and if it is used in an amount of more than 10 parts by weight, poor heat resistance due to reduced curing density may occur.
봉지수지층 제조에 사용되는 상기 접착 조성물은 점도 100,000 ~ 300,000 Paㆍs(50℃), 바람직하게는 점도 120,000 ~ 280,000 Paㆍs(50℃)일 수 있다. 점도가 100,000 Paㆍs(50℃) 미만이면 점착성(Tack) 증가에 따라 공정성이 좋지 않게 되어 이형층(또는 이형시트)를 박리할 수 없는 문제가 발생할 수 있고, 점도가 300,000 Paㆍs(50℃)를 초과하면 점착성 저하에 따라 기판과의 점착력이 너무 낮은 문제가 발생할 수 있다.The adhesive composition used in the manufacture of the sealing resin layer may have a viscosity of 100,000 to 300,000 Paㆍs (50℃), preferably 120,000 to 280,000 Paㆍs (50℃). If the viscosity is less than 100,000 Paㆍs (50℃), the processability may become poor due to increased tack, which may cause a problem in that the release layer (or release sheet) cannot be peeled off, and if the viscosity exceeds 300,000 Paㆍs (50℃), the adhesive strength with the substrate may become too low due to decreased tack.
봉지수지층은 상기 접착 조성물을 이용하여 앞서 설명한 바와 같이 단층 또는 다층의 감압점착제층으로 제조할 수 있으며, 바람직한 일례를 들면, 하기와 같다. 하지만, 이를 본 발명의 이해를 돕기 위한 예시이며, 이에 본 발명을 한정하여 해석해서는 안된다.The sealing resin layer can be manufactured as a single-layer or multi-layer pressure-sensitive adhesive layer using the adhesive composition as described above, and a preferred example is as follows. However, this is an example to help understand the present invention, and the present invention should not be limited thereto.
봉지수지층이 단층 구조의 감압점착제층인 경우, 글래스(glass) 점착력이 1500 gf/25㎜ 이상, 바람직하게는 1600 gf/25㎜ 이상일 수 있다. 이때, 점착력은 핸드롤러(2Kg Hand Roller)를 통해 점착력 측정 테이프(7475, TESA)을 접착필름 상면에 라미네이션하고, 시료를 폭 25㎜ 및 길이 120㎜로 재단 후, 80℃에서 접착필름 하면을 글라스에 라미네이션한 후, 준비된 시료를 30분 상온 방치하고, 300㎜/min속도로 글래스 점착력을 측정한 것이다.When the sealing resin layer is a pressure-sensitive adhesive layer having a single-layer structure, the glass adhesion may be 1500 gf/25mm or more, preferably 1600 gf/25mm or more. At this time, the adhesion is measured by laminating an adhesion measuring tape (7475, TESA) on the upper surface of an adhesive film through a hand roller (2Kg Hand Roller), cutting the sample to a width of 25mm and a length of 120mm, laminating the lower surface of the adhesive film to the glass at 80℃, leaving the prepared sample at room temperature for 30 minutes, and measuring the glass adhesion at a speed of 300㎜/min.
그리고 봉지수지층의 메탈층 에 대한 점착력은 1000 gf/25㎜ 이상, 바람직하게는 1100 gf/25㎜ 이상일 수 있다. 이때, 메탈층 에 대한 점착력은 80℃에서 접착필름 상면을 두께 80㎛의 Ni 합금에 라미네이션하고, 핸드롤러(2Kg Hand Roller)를 통해 점착력 측정 테이프(7475, TESA)을 접착필름 하면에 라미네이션하여, 시료를 폭 25㎜ 및 길이 120㎜ 재단한 후, 준비된 시료를 30분 상온 방치하고, 300㎜/min속도로 점착력을 측정한 것이다.And the adhesion of the sealing resin layer to the metal layer may be 1000 gf/25mm or more, preferably 1100 gf/25mm or more. At this time, the adhesion to the metal layer is measured by laminating the upper surface of the adhesive film to a Ni alloy having a thickness of 80㎛ at 80℃, laminating an adhesion measuring tape (7475, TESA) to the lower surface of the adhesive film through a hand roller (2Kg Hand Roller), cutting the sample to a width of 25mm and a length of 120mm, leaving the prepared sample at room temperature for 30 minutes, and measuring the adhesion at a speed of 300mm/min.
또한, 봉지수지층은 도 1의 B에 개략도로 나타낸 바와 같이, 제1감압점착제층(11) 및 제2감압점착제층(12)의 2층 구조를 가지는 감압점착제층으로 형성될 수 있다.In addition, the sealing resin layer can be formed as a pressure-sensitive adhesive layer having a two-layer structure of a first pressure-sensitive adhesive layer (11) and a second pressure-sensitive adhesive layer (12), as schematically shown in B of FIG. 1.
상기 제1감압점착제층(11)은 유기전자장치에 직접적으로 접촉하는 층으로써, 제1혼합수지(11b), 점착부여제 및 제1흡습제(11a)를 포함하여 형성될 수 있다. 이때, 제1혼합수지(11b)는 제1접착수지 및 제2접착수지를 포함할 수 있으며, 점착부여제는 제1점착부여제를 포함할 수 있으며, 제2점착부여제를 더 포함할 수 있다.The above first pressure-sensitive adhesive layer (11) is a layer that directly contacts the organic electronic device, and may be formed by including a first mixed resin (11b), an adhesive agent, and a first moisture absorbent (11a). At this time, the first mixed resin (11b) may include a first adhesive resin and a second adhesive resin, and the adhesive agent may include a first adhesive agent and may further include a second adhesive agent.
제1감압점착제층의 폴리올레핀계 접착수지(11b)는 상기 제1접착수지 및 상기 제2접착수지를 포함할 수 있다. 그리고, 제1감압점착제층(11)의 점착부여제는 1종 또는 2종의 점착부여제(제1 및 제2 점착부여제)를 포함할 수 있다. 이때, 점착부여제는 앞서 설명한 종류를 사용할 수 있으며, 바람직하게는 연화점이 상이한 수첨 석유수지를 포함할 수 있다. 일례로, 연화점이 상이한 수첨 석유수지를 포함하는 경우, 제1점착부여제의 연화점은 제2점착부여제의 연화점 보다 작을 수 있으며, 제1점착부여제 및 제2점착부여제의 혼합 사용량은 1 : 0.5 ~ 1.5의 중량비로, 바람직하게는 1 : 0.6 ~ 1.4의 중량비로 포함할 수 있다. 만일 제1점착부여제 및 제2점착부여제의 중량비가 1 : 0.5 미만이면 내열 유지력이 저하되는 문제가 발생할 수 있고, 중량비가 1 : 1.5를 초과하면 점착 및 젖음성 저하로 인해 기재와의 점착력 저하 문제가 발생할 수 있다.The polyolefin-based adhesive resin (11b) of the first pressure-sensitive adhesive layer may include the first adhesive resin and the second adhesive resin. In addition, the tackifier of the first pressure-sensitive adhesive layer (11) may include one or two tackifiers (first and second tackifiers). At this time, the tackifier may use the type described above, and preferably may include hydrogenated petroleum resins having different softening points. For example, when hydrogenated petroleum resins having different softening points are included, the softening point of the first tackifier may be lower than the softening point of the second tackifier, and the mixed usage amount of the first tackifier and the second tackifier may be included in a weight ratio of 1:0.5 to 1.5, preferably in a weight ratio of 1:0.6 to 1.4. If the weight ratio of the first tackifier and the second tackifier is less than 1:0.5, a problem of reduced heat resistance may occur, and if the weight ratio exceeds 1:1.5, a problem of reduced adhesion to the substrate may occur due to reduced adhesion and wettability.
그리고, 제1감압점착제층 제조에 사용되는 제1흡습제(11a)는 통상적으로 흡습제로 사용할 수 있는 물질이라면 제한 없이 사용할 수 있으며, 바람직하게는 BET 비표면적이 2 ~ 20 m2/g, 바람직하게는 BET 비표면적이 3 ~ 14 m2/g, 더욱 바람직하게는 BET 비표면적이 4 ~ 8 m2/g인 실리카를 사용할 수 있다. 제1흡습제(11a)로 실리카를 사용함에 따라 수분 제거 성능이 우수하고, 유기전자장치와 봉지재의 분리가 방지될 수 있고, 유기전자장치의 내구성을 현저히 증가시킬 수 있다. And, the first moisture absorbent (11a) used in the manufacture of the first pressure-sensitive adhesive layer can be used without limitation as long as it is a material that can be commonly used as a moisture absorbent, and preferably silica having a BET specific surface area of 2 to 20 m 2 /g, preferably a BET specific surface area of 3 to 14 m 2 /g, and more preferably a BET specific surface area of 4 to 8 m 2 /g can be used. By using silica as the first moisture absorbent (11a), moisture removal performance is excellent, separation of the organic electronic device and the sealing material can be prevented, and the durability of the organic electronic device can be significantly increased.
상기 제2감압점착제층(12) 제조에 사용되는 접착 조성물은 폴리올레핀계 접착수지(12b), 점착부여제 및 제2흡습제(12a)를 포함할 수 있다. 이때, 폴리올레핀계 접착수지(12b)는 제1접착수지 및 제2접착수지를 포함할 수 있으며, 점착부여제는 2종의 점착부여제인 제1 및 제2 점착부여제를 혼합 사용하는 제1감압점착제층과 달리 상기 제1점착부여제만을 사용할 수 있다. 그리고, 흡습제로서 제1감압점착제층 제조에 사용되는 흡습제와 동일한 것을 사용할 수 있으며, 바람직하게는 산화칼슘을 사용할 수도 있다.The adhesive composition used in the manufacture of the second pressure-sensitive adhesive layer (12) may include a polyolefin-based adhesive resin (12b), a tackifier, and a second moisture absorbent (12a). At this time, the polyolefin-based adhesive resin (12b) may include a first adhesive resin and a second adhesive resin, and, unlike the first pressure-sensitive adhesive layer that uses a mixture of two types of tackifiers, the first and second tackifiers, the tackifier may use only the first tackifier. In addition, the same moisture absorbent as the moisture absorbent used in the manufacture of the first pressure-sensitive adhesive layer may be used, and calcium oxide may be preferably used.
[이형층][Heterogeneity]
본 발명의 유기전자장치용 봉지재에 있어서, 이형층의 이형시트(liner sheet) 소재로 당업계에서 일반적으로 사용하는 이형시트 소재를 사용할 수 있으며, 바람직한 일례를 들면, PET(polyethylene terephthalate), 종이(Paper), PI(Poly Imide) 및 PE(Poly Ester) 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상을 포함할 수 있다. In the encapsulating material for an organic electronic device of the present invention, a release sheet material generally used in the art can be used as the release sheet material of the release layer, and a preferred example thereof may include one or more selected from PET (polyethylene terephthalate), paper, PI (poly imide), and PE (poly ester).
앞서 설명한 본 발명의 유기전자장치용 봉지재를 제조하는 방법은 다음과 같다.The method for manufacturing the encapsulating material for the organic electronic device of the present invention described above is as follows.
본 발명의 유기전자장치용 봉지재는 복합시트를 준비하는 1단계; 상기 복합시트의 장변 방향 양변을 슬릿팅 컷팅을 수행하는 2단계; 및 슬릿팅 컷팅을 수행한 복합시트를 단변 방향으로 쉐어링 컷팅을 수행하는 3단계;를 포함하는 공정을 수행하여 유기전자장치용 봉지재를 제조할 수 있다. The encapsulating material for an organic electronic device of the present invention can be manufactured by performing a process including the following steps: 1) preparing a composite sheet; 2) performing slitting cutting on both sides in the long direction of the composite sheet; and 3) performing shearing cutting on the composite sheet that has undergone the slitting cutting in the short direction.
1단계의 상기 복합시트는 앞서 설명한 바와 같이, 메탈층, 봉지수지층 및 이형층을 포함하고, 이들 층 외에 메탈층 및 봉지수지층 사이에는 메탈층 및 봉지수지층과는 다른 성분의 층 및/또는 역할을 하는 층을 더 포함할 수도 있으며, 봉지수지층 및 이형층 사이에는 봉지수지층 및 이형층과는 다른 성분의 층 및/또는 역할을 하는 층을 더 포함할 수도 있다. 그리고, 메탈층, 봉지수지층 및 이형층의 조성, 물성, 특징 등은 앞서 설명한 바와 같다.The above composite sheet of step 1 includes, as described above, a metal layer, a sealing resin layer, and a release layer, and in addition to these layers, a layer having a different component and/or a layer having a different function from the metal layer and the sealing resin layer may be further included between the metal layer and the sealing resin layer, and a layer having a different component and/or a layer having a different function from the sealing resin layer and the release layer may be further included between the sealing resin layer and the release layer. In addition, the composition, physical properties, characteristics, etc. of the metal layer, the sealing resin layer, and the release layer are as described above.
본 발명의 1단계의 상기 복합시트는 당업계에서 사용하는 일반적인 방법으로 적층시켜 제조한 복합시트일 수 있으며, 바람직하게는 컬링 제어 시스템이 구비된 롤 라미네이션 기기를 이용하여 제조한 것일 수 있다. 상기 롤 라미네이션 기기는 도 2에 개략도로 나타낸 바와 같이, 고정롤, 서포팅 컬롤(supporting curl roll), 제1컬롤, 제2컬롤, 상단 롤 라미네이터, 하단 롤 라미네이터를 포함할 수 있다.The composite sheet of the first step of the present invention may be a composite sheet manufactured by laminating using a general method used in the art, and preferably may be manufactured using a roll lamination machine equipped with a curling control system. The roll lamination machine may include a fixed roll, a supporting curl roll, a first curl roll, a second curl roll, an upper roll laminator, and a lower roll laminator, as schematically shown in Fig. 2.
그리고, 상단 롤 라미네이터 및 하단 롤 라미네이터의 합지점을 기준으로 서포팅 롤 중심의 높이는 상기 합지점의 높이와 같거나 낮은 곳에 위치하며, 제1 컬롤의 중심 및 제2 컬롤 중심의 높이는 상기 서포팅 롤 중심의 높이 보다 낮은 곳에 위치하고 있으며, 합지시 메탈시트는 하단 롤 라미네이터 방향에서 공급되고, 봉지시트는 상단 롤 라미네이터 방향에서 공급될 수 있다.And, based on the joining point of the upper roll laminator and the lower roll laminator, the height of the center of the supporting roll is positioned at a position equal to or lower than the height of the joining point, and the heights of the center of the first curl roll and the center of the second curl roll are positioned lower than the height of the center of the supporting roll, and when joining, the metal sheet can be supplied from the direction of the lower roll laminator, and the bag sheet can be supplied from the direction of the upper roll laminator.
이러한, 봉지시트와 메탈시트의 장력, 적층(Lami). 온도, 압력에 의해서 컬(Curl)이 필연적으로 발생되는데, 봉지시트와 메탈시트의 인장강도의 차이로 컬의 방향은 봉지시트 방향으로 발생한다. 하지만, 상기 컬링 제어 시스템이 구비된 롤 라미네이션 기기를 통하여 컬을 제어함으로써 복합시트의 컬의 발생을 최소화시킬 수 있다.Curls inevitably occur due to the tension, lamination, temperature, and pressure of the bag sheet and the metal sheet, and the direction of the curls occurs in the direction of the bag sheet due to the difference in the tensile strength of the bag sheet and the metal sheet. However, by controlling the curl through a roll lamination machine equipped with the curling control system, the occurrence of curls in the composite sheet can be minimized.
2단계의 상기 슬릿팅 컷팅은 도 2에 개략도로 나타낸 바와 같이, 회전날 형태의 상도 나이프(knife)와 상도 나이프의 삽입되는 삽입부가 형성된 하도 나이프를 포함하는 슬릿팅 컷팅기로 수행할 수 있다. 그리고, 상기 상도 나이프는 하이스 재질인 것을 사용하는 것이, 하도 나이프는 초경 재질의 나이프를 사용하는 것이 재단 품질면에서 바람직하다. 또한, 슬릿팅 컷팅기의 상기 상도 나이프의 랜드(land)값은 각각 0.10 ~ 0.30 mm, 바람직하게는 0.15 ~ 0.25 mm, 더욱 바람직하게는 0.18 ~ 0.22mm인 것이 좋으며, 랜드값이 0.10 mm 미만이면 나이프의 내구성에 문제가 있을 수 있고, 랜드값이 0.30 mm를 초과하면 재단 품질에 문제가 있어서 테이퍼 각이 증가하는 문제가 있을 수 있다.The slitting cutting in the second step can be performed by a slitting cutting machine including a rotary blade-shaped top knife and a lower knife having an insertion portion formed into which the top knife is inserted, as schematically illustrated in FIG. 2. In addition, it is preferable to use a high-speed steel material for the top knife and a carbide material for the lower knife in terms of cutting quality. In addition, it is preferable that the land value of the top knife of the slitting cutting machine be 0.10 to 0.30 mm, preferably 0.15 to 0.25 mm, and more preferably 0.18 to 0.22 mm, respectively. If the land value is less than 0.10 mm, there may be a problem with the durability of the knife, and if the land value exceeds 0.30 mm, there may be a problem with the cutting quality, such that there may be a problem with the taper angle increasing.
슬릿팅 컷팅시 상도 나이프에 가해지는 측압은 0.5 ~ 2.5 kgf/㎠, 바람직하게는 측압 0.5 ~ 1.8 kgf/㎠, 더욱 바람직하게는 측압 0.8 ~ 1.2 kgf/㎠ 인 것이 좋으며, 이때, 측압이 0.5 kgf/㎠ 미만이면 재단면의 균일성에 문제가 있을 수 있고, 측압이 2.5 kgf/㎠를 초과하면 오프-셋 발생 영역이 증가하는 문제가 있을 수 있다.The lateral pressure applied to the cutting knife during slitting cutting is preferably 0.5 to 2.5 kgf/cm2, preferably 0.5 to 1.8 kgf/cm2, more preferably 0.8 to 1.2 kgf/cm2. At this time, if the lateral pressure is less than 0.5 kgf/cm2, there may be a problem with the uniformity of the cutting surface, and if the lateral pressure exceeds 2.5 kgf/cm2, there may be a problem with the increase in the offset occurrence area.
그리고, 상기 슬릿팅 컷팅시 상도 나이프의 하도 나이프에 대한 삽입 깊이는 0.3 ~ 2.0 mm, 바람직하게는 0.5 ~ 1.5 mm, 더욱 바람직하게는 0.6 ~ 1.3 mm 인 것이 좋으며, 이때, 삽입 깊이가 0.3 mm 이면 미컷팅이 되는 부분이 발생하는 문제가 있을 수 있고, 삽입 깊이가 2.0 mm를 초과하면 감압점착제층이 무너지는(뭉게지는) 문제가 있을 수 있다.In addition, the insertion depth of the upper knife into the lower knife during the slitting cutting is preferably 0.3 to 2.0 mm, preferably 0.5 to 1.5 mm, and more preferably 0.6 to 1.3 mm. At this time, if the insertion depth is 0.3 mm, there may be a problem that an uncut portion occurs, and if the insertion depth exceeds 2.0 mm, there may be a problem that the pressure-sensitive adhesive layer collapses (becomes lumpy).
그리고, 슬릿팅 컷팅시, 상도 나이프인 회전날의 회전 속도는 복합시트의 진행 속도와 동일한 속도로 회전하는 것이 바람직하다. And, when performing slitting cutting, it is desirable that the rotation speed of the rotary blade, which is a cutting knife, rotates at the same speed as the progress speed of the composite sheet.
또한, 2단계 슬릿팅 컷팅 후, 연속적으로 복합시트의 슬릿팅 컷팅된 장변 부위를 습식 세정하는 공정을 더 수행할 수 있다. In addition, after the two-step slitting cutting, a process of continuously wet cleaning the slit-cut long side portion of the composite sheet can be further performed.
상기 습식 세정은 당업계에서 사용하는 일반적인 습식 세정 방법으로 수행할 수 있으며, 바람직하게는 2조의 습식 세정기가 1 세트(set)를 구성하는 습식 세정 시스템으로 엣지 클리너 공정을 수행하며, 상기 습식 세정 시스템은 복합시트의 장변 부위 상하부 각각에 클램프(clamp)가 위치하고, 클램프와 복합시트 사이로 세정지가 연속적으로 공급되며, 상기 세정지의 공급 방향은 복합시트 진행 방향과 수직 방향으로 공급될 수 있다. The above wet cleaning can be performed by a general wet cleaning method used in the art, and preferably, the edge cleaner process is performed by a wet cleaning system in which two wet cleaners constitute one set, and the wet cleaning system has clamps positioned at each of the upper and lower long sides of the composite sheet, and a cleaning paper is continuously supplied between the clamps and the composite sheet, and the supply direction of the cleaning paper can be supplied in a direction perpendicular to the direction in which the composite sheet advances.
3단계의 상기 쉐어링 컷팅은 도 3a 및 도 3b에 개략도로 나타낸 바와 같이 칼날 각도(slope)가 0.30°이하인 상도 나이프 및 칼날 각도가 0.005° 이하인 하도 나이프로 구성된 쉐어링 컷팅기를 이용하여 수행할 수 있다. 상기 상도 나이프는 칼날 각도 0.140° ~ 0.300°바람직하게는 0.143° ~ 0.287°, 더욱 바람직하게는 0.143° ~ 0.225°인 것이 좋으며, 이때, 상도 나이프의 칼날 각도가 0.140° 미만이면 복합시트에 상처(Damage)가 가해지는 문제가 있을 수 있고, 상도 나이프의 칼날 각도가 0.300°을 초과하면, 재단면의 밀림 현상이 발생하여 치수 균일성의 문제가 있을 수 있다.The above-described three-step shearing cutting can be performed using a shearing cutter composed of an upper knife having a blade angle (slope) of 0.30° or less and a lower knife having a blade angle of 0.005° or less, as schematically illustrated in FIGS. 3a and 3b. The upper knife preferably has a blade angle of 0.140° to 0.300°, preferably 0.143° to 0.287°, and more preferably 0.143° to 0.225°. At this time, if the blade angle of the upper knife is less than 0.140°, there may be a problem of damage being applied to the composite sheet, and if the blade angle of the upper knife exceeds 0.300°, a pushing phenomenon of the cut surface may occur, which may cause a problem of dimensional uniformity.
그리고, 상도 나이프와 하도 나이프의 간격(gap)은 0.5㎛ ~ 50㎛, 바람직하게는 1㎛ ~ 25㎛, 더욱 바람직하게는 2㎛ ~ 10㎛인 것이 적절하며, 상기 간격이 50㎛를 초과하면 이형시트가 들뜨게 되는 문제가 있을 수 있다.In addition, the gap between the upper knife and the lower knife is suitably 0.5 ㎛ to 50 ㎛, preferably 1 ㎛ to 25 ㎛, and more preferably 2 ㎛ to 10 ㎛. If the gap exceeds 50 ㎛, there may be a problem of the release sheet being lifted.
그리고, 상도 나이프와 하도 나이프의 간격(gap)은 0.5㎛ ~ 50㎛, 바람직하게는 1㎛ ~ 25㎛, 더욱 바람직하게는 2㎛ ~ 10㎛인 것이 적절하며, 상기 간격이 50㎛를 초과하면 이형시트가 들뜨게 되는 문제가 있을 수 있다.In addition, the gap between the upper knife and the lower knife is suitably 0.5 ㎛ to 50 ㎛, preferably 1 ㎛ to 25 ㎛, and more preferably 2 ㎛ to 10 ㎛. If the gap exceeds 50 ㎛, there may be a problem of the release sheet being lifted.
그리고, 쉐어링 컷팅에 사용되는 상기 상도 나이프의 랜드(land) 값은 0.10 ~ 3.00mm, 바람직하게는 상도 나이프의 랜드 값은 0.10 ~ 2.00mm. 더욱 바람직하게는 0.15 ~ 2.00mm, 더 더욱 바람직하게는 상도 나이프의 랜드 값은 0.18 ~ 1.80mm인 것이 좋으며, 이때 상도 나이프의 랜드 값이 0.10mm 미만이면 나이프의 내구성에 문제가 있을 수 있고, 상도 나이프의 랜드 값이 3.0mm 를 초과하면 재단 품질에 문제가 있을 수 있다.And, the land value of the top surface knife used for sharing cutting is 0.10 to 3.00 mm, preferably, the land value of the top surface knife is 0.10 to 2.00 mm, more preferably, 0.15 to 2.00 mm, and even more preferably, the land value of the top surface knife is 0.18 to 1.80 mm. At this time, if the land value of the top surface knife is less than 0.10 mm, there may be a problem with the durability of the knife, and if the land value of the top surface knife exceeds 3.0 mm, there may be a problem with the cutting quality.
그리고, 쉐어링 컷팅 속도는 복합시트 진행 속도와 제조하고자 하는 복합시트의 크기에 따라 조절할 수 있으며, 바람직하게는 150 ~ 300 mm/sec, 더욱 바람직하게는 180 ~ 250 mm/sec 정도인 것이 적절하다. And, the sharing cutting speed can be adjusted according to the composite sheet progress speed and the size of the composite sheet to be manufactured, and is preferably about 150 to 300 mm/sec, more preferably about 180 to 250 mm/sec.
다음으로, 3단계의 쉐어링 컷팅 후에는 연속적으로 복합시트를 건식 면세정하는 공정을 수행할 수 있다. Next, after the three-step sharing cutting, a process of dry-cleaning the composite sheet can be performed continuously.
상기 건식 면세정은 당업계에서 사용하는 일반적인 건식 세정방법으로 수행할 수 있으며, 바람직하게는 상기 건식 면세정은 정전기 제거 공정, 에어 샤워 공정, 정전기 제거 공정, 털기 공정 및 정전기 제거 공정을 연속적으로 수행할 수 있으며, 바람직하게는 도 6의 개략도와 같이 구성된 건식 면세정기를 이용할 수 있다. 상기 건식 면세정기는 바람직하게는 이노나이져, 에어나이프, 회전 브러쉬 및 석션(suction)이 구비된 클리너 각각이 복합시트 상하에 구비된 허리케인 클리너(hurricane cleaner)를 사용하는 것이 좋다. The above dry cotton cleaning can be performed using a general dry cleaning method used in the art, and preferably, the dry cotton cleaning can sequentially perform a static electricity removal process, an air shower process, a static electricity removal process, a whisking process, and a static electricity removal process, and preferably, a dry cotton cleaning machine configured as in the schematic diagram of Fig. 6 can be used. It is preferable that the dry cotton cleaning machine use a hurricane cleaner in which each of a cleaner equipped with an inonizer, an air knife, a rotating brush, and suction is installed above and below a composite sheet.
상기 이노나이져는 에어 샤워 공정 전, 털기 공정 전 및 털기 공정 후에 이오나이져와 시트의 물리적 마찰을 통한 정전기 제거를 수행하기 위한 장치이다. The above ionizer is a device for removing static electricity through physical friction between the ionizer and the sheet before the air shower process, before the whisking process, and after the whisking process.
그리고, 에어나이프는 에어 샤워 공정을 수행하기 위한 장치이고, 회전 브러쉬는 털기 공정을 수행하기 위한 장치이다. 그리고, 석션은 에어 샤워 공정 및 털기 공정에서 발생하는 부유물을 외부로 배출하기 위한 장치이다. And, the air knife is a device for performing the air shower process, and the rotary brush is a device for performing the whisking process. And, the suction is a device for discharging floating matters generated during the air shower process and whisking process to the outside.
그리고, 상부 브러쉬 회전 방향은 시트 진행방향의 역방향(회전 속도 약 200 ~ 400 rpm)이고, 하부 브러쉬 회전 방향은 시트 진행 방향의 정방향(회전속도 약 200 ~ 400 rpm)이며, 석션 흡입 압력은 5 ~ 20 CMM 정도인 것이 좋다. Also, the upper brush rotation direction is in the opposite direction of the sheet moving direction (rotation speed of approximately 200 to 400 rpm), the lower brush rotation direction is in the forward direction of the sheet moving direction (rotation speed of approximately 200 to 400 rpm), and the suction suction pressure is preferably approximately 5 to 20 CMM.
이하, 실시예를 통하여 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하기로 한다. 그러나, 하기 실시예가 본 발명의 범위를 제한하는 것은 아니며, 이는 본 발명의 이해를 돕기 위한 것으로 해석되어야 할 것이다.Hereinafter, the present invention will be described more specifically through examples. However, the following examples do not limit the scope of the present invention, and should be interpreted as helping to understand the present invention.
[실시예][Example]
준비예 1-1: 유기전자장치 봉지재용 접착시트의 제조Preparation Example 1-1: Manufacturing of adhesive sheet for organic electronic device packaging
(1) 폴리올레핀계 접착수지의 제조(1) Manufacturing of polyolefin adhesive resin
에틸렌, 프로필렌 및 디엔계 화합물이 공중합된 랜덤 공중합체(제1접착수지) 및 하기 화학식 1로 표시되는 화합물(제2접착수지)을 1 : 2.33 중량비로 혼합하여 폴리올레핀계 접착수지를 제조하였다.A polyolefin adhesive resin was manufactured by mixing a random copolymer (first adhesive resin) in which ethylene, propylene, and a diene compound are copolymerized and a compound represented by the following chemical formula 1 (second adhesive resin) in a weight ratio of 1:2.33.
상기 제1접착수지는 에틸렌 및 프로필렌 단량체를 1 : 0.85 중량비로 공중합하고, 디엔계 화합물을 랜덤 공중합체 전체 중량에 대하여 9 중량%로 공중합하여 제조하였으며, 상기 디엔계 화합물은 에틸리덴 노보넨(ethylidene norbornene)을 사용하여 제조한 중량평균분자량 500,000 인 랜덤 공중합체이다.The above first adhesive resin was prepared by copolymerizing ethylene and propylene monomers in a weight ratio of 1:0.85 and copolymerizing a diene compound in an amount of 9 wt% based on the total weight of the random copolymer. The diene compound is a random copolymer having a weight average molecular weight of 500,000 prepared using ethylidene norbornene.
[화학식 1][Chemical Formula 1]
상기 화학식 1에 있어서, 상기 R1은 이소프렌이고, 상기 n은 화학식 1로 표시되는 화합물의 중량평균분자량 400,000를 만족시키는 유리수이다.In the chemical formula 1 above, R 1 is isoprene, and n is a rational number that satisfies the weight average molecular weight of 400,000 of the compound represented by the chemical formula 1.
제1접착수지 및 제2접착수지 각각에 대하여 200℃ 에서 -150℃의 온도까지 10℃의 속도로 냉각시키면서 시차 주사 열량측정기(Differential Scanning Calorimetry, DSC)로 측정한 열류량의 냉각곡선의 피크 분석을 통하여 결정화 온도 (Tc)를 측정하였으며, 제1접착수지는 결정화 온도가 측정되지 않았고, 제2접착수지는 120℃로 측정되었다 The crystallization temperature (Tc) was measured by peak analysis of the cooling curve of the heat flow measured by differential scanning calorimetry (DSC) while cooling from 200℃ to -150℃ at a rate of 10℃ for each of the first and second adhesive resins. The crystallization temperature of the first adhesive resin was not measured, and that of the second adhesive resin was measured at 120℃.
(2) 유기전자장치 봉지재용 접착시트의 제조(2) Manufacturing of adhesive sheets for packaging organic electronic devices
앞서 제조한 상기 폴리올레핀계 접착수지(제1접착수지) 100 중량부에 대하여 제1점착부여제(SU-90, 코오롱인더스트리) 80 중량부 및 제2점착부여제(SU-100, 코오롱인더스트리) 50 중량부, 경화제로 중량평균분자량 226 인 아크릴레이트(M200, 미원스페셜티케미칼) 11 중량부, 광 개시제(irgacure TPO, Ciba) 3 중량부 및 평균입경이 0.5 ㎛인 실리카 24 중량부를 투입한 후 교반하였다. 교반이 완료된 혼합물은 캡슐 필터를 통과시켜 이물질을 제거한 후 두께가 38㎛인 중박리 이형 PET(REL382, Toray advance Materials)에 슬롯 다이 코터를 이용하여 도포하고, 이후 120℃로 건조시켜서 용매를 제거한 후 최종 두께 10㎛인 제1감압점착제층을 형성시켰다.For 100 parts by weight of the polyolefin-based adhesive resin (first adhesive resin) manufactured above, 80 parts by weight of a first tackifier (SU-90, Kolon Industries), 50 parts by weight of a second tackifier (SU-100, Kolon Industries), 11 parts by weight of an acrylate (M200, Miwon Specialty Chemical) having a weight average molecular weight of 226 as a curing agent, 3 parts by weight of a photoinitiator (irgacure TPO, Ciba), and 24 parts by weight of silica having an average particle size of 0.5 ㎛ were added, and then stirred. After stirring, the mixture was passed through a capsule filter to remove foreign substances, and then applied to a 38 ㎛-thick, medium-release PET (REL382, Toray Advance Materials) using a slot die coater, and then dried at 120°C to remove the solvent, and a first pressure-sensitive adhesive layer having a final thickness of 10 ㎛ was formed.
다음으로, 앞서 제조한 상기 폴리올레핀계 접착수지(제2접착수지) 100 중량부에 대하여 제1점착부여제(SU-90, 코오롱인더스트리) 150 중량부, 경화제로 경화제로 중량평균분자량 226 인 아크릴레이트(M200, 미원스페셜티케미칼) 17 중량부, 광 개시제(irgacure TPO, Ciba) 3 중량부 및 평균입경이 3 ㎛인 산화칼슘 100 중량부를 투입한 후 교반하였다. 교반이 완료된 혼합물은 20℃에서 점도를 800cps로 맞추고 캡슐 필터를 통과시켜 이물질을 제거한 후 두께가 36um인 경박리 이형PET(TG65R, SKC)에 슬롯다이 코터를 이용하여 도포하고, 이후 120℃로 건조시켜서 용매를 제거한 후 최종 두께 40 ㎛인 제2감압점착제층을 형성시켰다.Next, 150 parts by weight of a first tackifier (SU-90, Kolon Industries), 17 parts by weight of an acrylate (M200, Miwon Specialty Chemical) having a weight average molecular weight of 226 as a hardener, 3 parts by weight of a photoinitiator (irgacure TPO, Ciba), and 100 parts by weight of calcium oxide having an average particle size of 3 ㎛ were added to 100 parts by weight of the polyolefin-based adhesive resin (second adhesive resin) manufactured previously, and then stirred. After stirring, the mixture was adjusted to have a viscosity of 800 cps at 20°C and passed through a capsule filter to remove foreign substances, and then applied to a 36 ㎛ thick, light-release PET (TG65R, SKC) using a slot die coater, and then dried at 120°C to remove the solvent and form a second pressure-sensitive adhesive layer having a final thickness of 40 ㎛.
상기 제조된 제1감압점착제층에 제2감압점착제층이 대면하도록 합지하여 70℃의 라미롤(lami. Roll)을 통과시켜서 유기전자장치 봉지재용 접착 시트를 제조하였다(도 1 b 참조).The first pressure-sensitive adhesive layer manufactured above is laminated with the second pressure-sensitive adhesive layer facing each other and passed through a lami-roll at 70°C to obtain an organic electronic device encapsulation material. An adhesive sheet was manufactured (see Fig. 1 b).
준비예 1-2: 유기전자장치 봉지재용 접착시트의 제조Preparation Example 1-2: Manufacturing of adhesive sheet for organic electronic device packaging
상기 준비예 1-1과 동일한 방법으로 유기전자장치 봉지재용 접착시트를 제조하되, 제2접착수지만을 사용하여 폴리올레핀계 접착수지를 제조하였으며, 이를 이용하여 제1감압점착제층 및 제2감압점착제층의 폴리올레핀계 접착 수지로 사용하였다. 또한, 제1감압점착제층 제조시 실리카 대신 제2감압점착제층 제조에 사용된 동일한 산화칼슘을 사용하여 제1감압점착제층을 형성한 후, 제2감압점착제층과 합지하여 유기전자장치 봉지재용 접착 시트를 제조하였다.An adhesive sheet for an organic electronic device encapsulation material was manufactured using the same method as in Preparation Example 1-1, except that only the second adhesive resin was used to manufacture a polyolefin-based adhesive resin, which was used as the polyolefin-based adhesive resin for the first pressure-sensitive adhesive layer and the second pressure-sensitive adhesive layer. In addition, when manufacturing the first pressure-sensitive adhesive layer, the same calcium oxide used in the manufacture of the second pressure-sensitive adhesive layer was used instead of silica to form the first pressure-sensitive adhesive layer, which was then laminated with the second pressure-sensitive adhesive layer to manufacture an adhesive sheet for an organic electronic device encapsulation material.
준비예 2: 메탈시트(Face Seal Metal) 시트 준비Preparation Example 2: Preparation of metal sheet (Face Seal Metal) sheet
Ni 약 36 중량% 및 잔량의 철(Fe) 함유(필수불가결한 불순물 포함함)하고, 밀도(d) 8.1 및 비커스 경도 200HV인 평균두께 80㎛의 메탈시트를 준비하였다.A metal sheet having an average thickness of 80 ㎛, containing approximately 36 wt% of nickel and the remainder of iron (Fe) (including essential impurities), a density (d) of 8.1, and a Vickers hardness of 200 HV was prepared.
준비예 3-1 : 복합시트(FSPM 시트)의 제조 1Preparation Example 3-1: Manufacturing of composite sheet (FSPM sheet) 1
준비예 1-1의 봉지시트 및 준비예 2의 메탈시트를 합지시켜서 복합시트인 FSPM 시트를 제조한 후, 합지된 시트를 롤로 권취하여. 3층 구조(메탈층(80㎛)-봉지수지층(50㎛)-이형층(38㎛))의 FSPM 시트(복합시트)를 제조하였다.The sealing sheet of Preparation Example 1-1 and the metal sheet of Preparation Example 2 were laminated to manufacture a composite sheet, an FSPM sheet, and then the laminated sheet was wound into a roll to manufacture an FSPM sheet (composite sheet) having a three-layer structure (metal layer (80 μm) - sealing resin layer (50 μm) - release layer (38 μm)).
준비예 3-2 : 복합시트(FSPM 시트)의 제조 2Preparation Example 3-2: Manufacturing of composite sheet (FSPM sheet) 2
상기 준비예 3-1과 동일한 방법으로 롤링된 복합시트를 제조하되, 준비예 1-1의 봉지시트 대신 준비예 1-2의 봉지시트를 사용하여 롤링된 복합시트(이하, "FSPM 시트"로 칭함)를 제조하였다.A rolled composite sheet was manufactured in the same manner as in Preparation Example 3-1, but the bag sheet of Preparation Example 1-2 was used instead of the bag sheet of Preparation Example 1-1 to manufacture a rolled composite sheet (hereinafter referred to as “FSPM sheet”).
실시예 1 : SSC(Slitting & Shearing Cutting) 공정을 통한 유기전자장치 봉지재의 제조Example 1: Manufacturing of Organic Electronic Device Encapsulation Material through SSC (Slitting & Shearing Cutting) Process
준비예 3-1의 롤링된 복합시트인 FSPM 시트를 SSC(Slitting & Shearing Cutting) 자동화 기기는 컷팅 대상물 공급부, 슬릿팅 컷팅부, 엣지 클리너(edge cleaner)부, 자동치수검사부, 쉐어링 컷팅부 및 건식 면세정부를 포함한다.The FSPM sheet, which is a rolled composite sheet of Preparation Example 3-1, includes a SSC (Slitting & Shearing Cutting) automated machine that includes a cutting target supply section, a slitting cutting section, an edge cleaner section, an automatic dimensional inspection section, a shearing cutting section, and a dry cleaning section.
(1) 슬릿팅 컷팅(slitting cutting) 공정(1) Slitting cutting process
도 2에 개략도로 나타낸 바와 같이, 상기 슬릿팅 컷팅부는 컷팅용 회전날로서 지름 150mm의 원형 나이프(Knife)인 상도 및 지름 150mm의 원형 나이프인 하도를 포함하며, 상기 상도는 하이스 재질이고, 하도는 초경 재질이며, 상도와 하도의 랜드(Land) 값은 각각 0.2mm 이다.As schematically illustrated in FIG. 2, the slitting cutting section includes a top knife, which is a circular knife with a diameter of 150 mm, and a bottom knife, which is a circular knife with a diameter of 150 mm, as a cutting rotary blade. The top knife is made of high-speed steel, the bottom knife is made of carbide, and the land values of the top knife and the bottom knife are each 0.2 mm.
컷팅 대상물 공급부에서 공급되는 롤링된 복합시트를 상기 슬릿팅 컷팅부에서의 길이방향인 양 장변을 동시에 슬릿팅 컷팅을 수행하였으며, 컷팅 시 FSPM 시트의 이형층이 상도 방향을 향하도록 컷팅을 수행하였다. 그리고, 슬릿팅 컷팅용 회전날에 가해지는 측압은 1.0 kgf/㎠이고, 컷팅 시 하도 표면 기준으로 상도인 회전날의 깊이는 0.8mm의 조건으로 재단하였다. 그리고, 잘려나간 스크랩(Scrap)은 스크랩 와인더(Scrap Winder)를 통하여 제거하였다. A rolled composite sheet supplied from a cutting target material supply section was slit-cut simultaneously along both long sides in the longitudinal direction of the slitting cutting section, and cutting was performed so that the release layer of the FSPM sheet faced the top surface direction during cutting. In addition, the lateral pressure applied to the slitting cutting rotary blade was 1.0 kgf/㎠, and the depth of the rotary blade, which is the top surface based on the bottom surface, was 0.8 mm when cutting. In addition, the cut scrap was removed through a scrap winder.
(2) 쉐어링 컷팅(Shearing cutting) 공정(2) Shearing cutting process
슬릿팅 컷팅을 수행한 FSPM 시트를 카메라를 통해 위치 값을 확인하여 치수보정을 수행하는 자동검사를 수행한 후, FSPM 시트의 단변을 컷팅하는 쉐어링(Shearing) 컷팅 공정을 수행하였다. After performing an automatic inspection to check the position value of the FSPM sheet that has undergone slitting cutting through a camera and perform dimensional correction, a shearing cutting process to cut the short side of the FSPM sheet was performed.
쉐어링 공정은 도 3a 및 도 3b에 개락도로 나타낸 바와 같이, 상도의 상하 운동을 통해 컷팅이 수행되며, 쉐어링 컷팅 공정 시 하도 나이프와 상도 나이프의 갭은 5㎛이고, 상도 나이프의 칼날 각도(Slope)는 0.143°이며, 하도 나이프는 각도(Slope)가 없다. 또한, 나이프의 재질은 상도 하이스 재질이고, 하도는 초경 재질이었다. 그리고, 컷팅 속도는 200mm/Sec 였다.As schematically illustrated in FIGS. 3a and 3b, the shearing process is performed by cutting through the up-and-down movement of the upper blade. During the shearing cutting process, the gap between the lower blade and the upper blade is 5 μm, the blade angle (Slope) of the upper blade is 0.143°, and the lower blade has no angle (Slope). In addition, the material of the knife is a high-speed steel material for the upper blade and a carbide material for the lower blade. And, the cutting speed was 200 mm/Sec.
제조된 유기전자장치용 봉지재의 슬릿팅 컷팅된 절단면(장변)의 SEM 측정 사진을 도 4에 나타내었다. The SEM measurement image of the slit-cut cross-section (long side) of the manufactured encapsulating material for organic electronic devices is shown in Fig. 4.
슬릿팅 컷팅된 절단면을 보면, 슬릿팅 컷팅 절단면에는 빗살무늬가 형성되며, 이는 회전날에 의해 형성된 것으로 판단된다.Looking at the slit cut cross-section, a comb pattern is formed on the slit cut cross-section, which is believed to have been formed by the rotating blade.
그리고, 제조된 유기전자장치용 봉지재의 쉐어링 컷팅된 절단면(하도 컷팅)의 SEM 측정 사진을 도 5a에 나타내었으며, 쉐어링 컷팅된 하도 및 상도 절단면에 대한 SEM 측정 사진을 도 5b에 나타내었다. And, the SEM measurement image of the shear-cut cross-section (bottom cut) of the manufactured organic electronic device packaging material is shown in Fig. 5a, and the SEM measurement images of the shear-cut bottom and top cut cross-sections are shown in Fig. 5b.
본 발명의 SSC 공정에 의해 봉지재 제조시, 복합시트(FSPM 시트)의 진행 방향으로 볼 때, 앞쪽 단변은 쉐어링 컷팅용 하도 나이프에 의해 절단면이 형성되며, 뒤쪽 단변은 쉐어링 컷팅용 상도 나이프에 의해 절단면이 형성된다. 따라서, 도 5를 살펴보면, 쉐어링 컷팅된 절단면은 슬릿팅 컷팅된 절단면과 달리 빗살무늬가 없으며, 수직방향으로 선 무늬가 형성되었다. 그리고, 상도 절단면과 하도 절단면의 단면 형태가 다른 것을 확인할 수 있으며, 단변의 하도 절단면은 오프-셋 영역이 거의 형성되지 않으며, 단변의 상도 절단면은 오프-셋 영역이 다소 발생하는 형태적 차이가 발생함을 확인할 수 있었다.When manufacturing a sealing material by the SSC process of the present invention, when looking in the progress direction of the composite sheet (FSPM sheet), the front short side has a cut surface formed by the shearing cutting lower coating knife, and the rear short side has a cut surface formed by the shearing cutting upper coating knife. Therefore, looking at Fig. 5, unlike the slitting cut section, the shearing cut section does not have a comb-like pattern, and a line pattern is formed in the vertical direction. In addition, it can be confirmed that the cross-sectional shapes of the upper coating cut surface and the lower coating cut surface are different, and it can be confirmed that the lower coating cut surface of the short side has almost no off-set region, while the upper coating cut surface of the short side has a morphological difference in that the off-set region is somewhat generated.
실시예 2 : SSC 공정을 통한 유기전자장치 봉지재의 제조Example 2: Manufacturing of organic electronic device encapsulation material through SSC process
실시예 1과 동일한 방법으로 SSC 공정을 통한 유기전자장치 봉지재를 제조하되, 준비예 3-1의 롤링된 복합시트 대신 준비예 3-2의 롤링된 복합시트를 사용하여 SSC 자동화 기기를 이용하여 유기전자장치 봉지재를 제조하였다.An organic electronic device encapsulating material was manufactured through the SSC process in the same manner as in Example 1, but the rolled composite sheet of Preparation Example 3-2 was used instead of the rolled composite sheet of Preparation Example 3-1, and an organic electronic device encapsulating material was manufactured using an SSC automated machine.
비교예 1Comparative Example 1
준비예 3의 롤링된 복합시트와 동일한 복합시트(FSPM 시트)를 준비하였다.A composite sheet (FSPM sheet) identical to the rolled composite sheet of Preparation Example 3 was prepared.
다음으로, 상기 복합시트를 CO2 레이저 컷팅 방식으로 봉지수지층과 이형층을 1차 컷팅하였다. Next, the composite sheet was first cut into the sealing resin layer and the release layer using a CO2 laser cutting method.
다음으로, 복합시트의 메탈층을 광광섬유(fiber) 레이저를 이용하여 2차 컷팅시켜서 레이저 컷팅 방식으로 제조한 봉지재를 제조하였다.Next, the metal layer of the composite sheet was cut a second time using a fiber laser to produce a sealing material manufactured using the laser cutting method.
이때, CO2 레이저 컷팅의 파워(Power)는 약 140 W/cm2였고, 광섬유 레이저 컷팅의 파워(Power)는 170 W/cm2 였다.At this time, the power of CO2 laser cutting was about 140 W/ cm2 , and the power of fiber laser cutting was 170 W/ cm2 .
제조한 봉지재의 SEM 측정사진을 도 6에 나타내었으며, SEM 이미지로부터 확인할 수 있는 이형층 끝단에 형성된 둔턱, 이형층과 봉지수지층에 존재하는 잔사 및 오프-셋(off-set)영역에 대한 개념도를 도 7에 나타내었다.The SEM measurement photograph of the manufactured encapsulating material is shown in Fig. 6, and the conceptual diagram of the blunt formed at the end of the release layer, the residue existing in the release layer and the encapsulating resin layer, and the off-set region that can be confirmed from the SEM image is shown in Fig. 7.
도 4 ~ 5를 살펴보면, 둔턱 및 잔사가 없고, 오프-셋 영역이 없거나 최소화된 실시예 1과는 달리 레이저 컷팅으로 제조한 비교예 1의 경우, 이형층 상부 표면에 둔턱이 형성되고, 이형층과 봉지수지층에 존재하는 잔사가 형성되어 있으며, 오프-셋(off-set)영역이 크게 형성되어 있음을 확인할 수 있었다. 이는 레이저 컷팅시 발생하는 열에 의한 이형층 및 봉지수지층의 열 변형에 의해 초래되는 것이다.Looking at Figures 4 and 5, unlike Example 1 in which there was no blunt edge and residue, and no or minimal off-set area, in Comparative Example 1 manufactured by laser cutting, it was confirmed that a blunt edge was formed on the upper surface of the release layer, residue was formed in the release layer and the encapsulating resin layer, and a large off-set area was formed. This is caused by thermal deformation of the release layer and the encapsulating resin layer due to heat generated during laser cutting.
실험예 1 : 테이퍼(Taper) 각 측정Experimental Example 1: Taper Angle Measurement
(1) 레이저 컷팅 공법으로 제조된 봉지재의 테이퍼 각 측정(1) Measurement of taper angle of bag material manufactured by laser cutting method
하기 표 1과 같은 두께를 가지는 복합시트를 제조한 후, 이를 비교예 1과 동일한 방법으로 레이저 컷팅을 수행하여 봉지재를 제조하였다. 이때, 상기 복합시트는 메탈층과 이형층의 두께를 달리하여 각각 제조한 것이다.After manufacturing a composite sheet having a thickness as shown in Table 1 below, a sealing material was manufactured by performing laser cutting using the same method as in Comparative Example 1. At this time, the composite sheet was manufactured by changing the thickness of the metal layer and the release layer, respectively.
그리고, 테이퍼 길이는 테이퍼 측정 대상 절단면의 측면 방향에서 보았을 때, 절단면의 메탈층 최하부 표면 끝단과 이형층 최상부 표면 끝단의 길이 차이이다(off-set 영역의 최장 길이).And, the taper length is the difference in length between the end of the lowest surface of the metal layer of the cut surface and the end of the uppermost surface of the non-forming layer when viewed from the side direction of the cut surface to be measured for taper (the longest length of the off-set area).
또한, 테이퍼 각도는 테이퍼 측정 대상 절단면의 측면 방향에서 보았을 때, 절단면의 메탈층 최하부 표면 기준으로 절단면의 메탈층 최하부 표면 끝단과 절단면의 이형층 최상부 표면 끝단이 이루는 사이각을 의미하며, 이해를 돕기 위해 테이퍼 길이와 테이퍼 각도 표현을 도 6(비교예 1) 및 도 5b(실시예 1의 상도 쉐어링 절단면)에 개략도로 나타내었다.In addition, the taper angle means the angle formed between the end of the lowest surface of the metal layer of the cut surface and the end of the uppermost surface of the heteromorphic layer of the cut surface when viewed from the side direction of the cut surface to be measured for taper, based on the lowest surface of the metal layer of the cut surface, and to help understanding, the taper length and taper angle expressions are schematically illustrated in Fig. 6 (Comparative Example 1) and Fig. 5b (top view shearing cut surface of Example 1).
그리고, 레이저 공정을 수행하여 제조한 봉지재 중 무작위로 10개를 선별하였으며, 이들의 평균 테이퍼길이 및 테이퍼 각도를 측정한 것을 하기 표 1에 나타내었다.In addition, 10 encapsulating materials manufactured by performing a laser process were randomly selected, and their average taper length and taper angle were measured, and the results are shown in Table 1 below.
테이퍼 각도(˚) 변화Off-Set area according to
Change in taper angle (˚)
길이Taper
length
상기 표 1을 살펴보면, FSPM 시트 두께가 두꺼울수록 테이퍼 각도가 증가하는 경향이 있으며, 테이퍼 길이가 증가할수록 테이퍼 각도가 감소하는 경향이 있음을 확인할 수 있다. 그리고, 레이저 컷팅법을 이용한 봉지재는 봉지재의 두께가 168 ~ 200㎛일 때, 33.9˚ ~ 84.30˚ 범위의 테이퍼 각을 가짐을 확인할 수 있었다.Looking at Table 1 above, it can be confirmed that as the FSPM sheet thickness increases, the taper angle tends to increase, and as the taper length increases, the taper angle tends to decrease. In addition, it was confirmed that the encapsulating material using the laser cutting method had a taper angle in the range of 33.9˚ to 84.30˚ when the thickness of the encapsulating material was 168 to 200㎛.
(2) SSC 공법으로 제조된 실시예 1 봉지재의 테이퍼 각 측정(2) Measurement of taper angle of the sealing material of Example 1 manufactured by the SSC method
하기 표 2와 같은 두께를 가지는 FSPM 시트를 제조한 후, 실시예 1과 동일한 방법으로 슬릿팅 컷팅 및 쉐어링 컷팅을 수행하여 봉지재를 제조하였다. 이때, 상기 FSPM 시트는 메탈층과 이형층의 두께를 달리하여 각각 제조한 것이다. 그리고, 상기 표 1과 동일한 방법으로 봉지재의 쉐어링 컷팅된 단변의 하도 및 상도 절단면에 대한 테이퍼 길이 및 테이퍼 각도를 각각 측정하였고, 이를 하기 표 2에 나타내었다.After manufacturing an FSPM sheet having a thickness as shown in Table 2 below, a sealing material was manufactured by performing slitting cutting and shearing cutting in the same manner as in Example 1. At this time, the FSPM sheet was manufactured by changing the thickness of the metal layer and the release layer, respectively. Then, the taper length and taper angle of the lower and upper cut surfaces of the shearing-cut short sides of the sealing material were measured in the same manner as in Table 1, and the results are shown in Table 2 below.
그리고, 슬릿팅 컷팅 및 쉐어링 컷팅 공정 등을 자동공정으로 수행하여 제조한 봉지재 중 무작위로 10개를 선별하였으며, 이들의 평균 테이퍼길이 및 테이퍼 각도를 측정한 것을 하기 표 2 ~ 표 3에 나타내었다.And, among the bag materials manufactured by performing the slitting cutting and shearing cutting processes as automatic processes, 10 were randomly selected, and the average taper length and taper angle of these were measured, and the results are shown in Tables 2 and 3 below.
테이퍼 각도(˚) 변화According to sharing cutting
Change in taper angle (˚)
길이Taper
length
하도 절단면Short story
Hadoe cross section
상도 절단면Short story
Cross section of the mountain
테이퍼 각도(˚) 변화According to slitting cutting
Change in taper angle (˚)
길이Taper
length
하도 절단면Long side
Hadoe cross section
그리고, 도 6(비교예 1) 및 도 5(실시예 1)에 실시예 1 및 비교예 1에서 제조한 봉지재 장변 절단면의 측면 방향에서의 SEM 측정 이미지를 각각 나타내었다.And, SEM measurement images of the side direction of the long side cross-section of the bag material manufactured in Example 1 and Comparative Example 1 are shown in FIG. 6 (Comparative Example 1) and FIG. 5 (Example 1), respectively.
도 6을 살펴보면, 레이저 컷팅으로 제조된 비교예 1의 경우, 버(burr)가 발생하고, 오프-셋 영역이 존재함을 확인할 수 있는데 반해, 실시예 1의 경우, 장변의 절단면 버가 존재하지 않을 뿐만 아니라, 오프-셋 영역이 존재하지 않음을 확인할 수 있었다.Looking at Figure 6, in the case of Comparative Example 1 manufactured by laser cutting, it can be confirmed that burrs occur and an off-set region exists, whereas in the case of Example 1, not only is there no burr on the long side of the cut surface, it can be confirmed that there is no off-set region.
또한, 상기 표 2를 살펴보면, SSC 공정으로 제조한 봉지재의 경우, 단변의 상도와 하도의 절단면은 오프-셋 영역의 길이인 테이퍼 길이가 없거나 매우 짧아서 테이퍼 각이 73˚~ 90˚ 임을 확인할 수 있으며, 이를 통하여 SSC 공정으로 제조한 봉지재는 레이저 컷팅 가공으로 제조한 봉지재와 달리 매우 낮은 오프-셋 영역을 가짐을 확인할 수 있었다.In addition, looking at Table 2 above, in the case of the encapsulating material manufactured by the SSC process, it can be confirmed that the taper length, which is the length of the offset region, of the cross-sections of the upper and lower coatings of the short sides is non-existent or very short, so that the taper angle is 73˚ to 90˚. Through this, it can be confirmed that the encapsulating material manufactured by the SSC process has a very low offset region, unlike the encapsulating material manufactured by the laser cutting process.
또한, 도 7을 살펴보면, 장변의 절단면의 상도 영역은 잘려나가게 되며, 발생된 스크랩(Scrap)은 스크랩 와인더(Scrap Winder)를 통하여 제거하게 되어, 하도의 재단면을 가지는 봉지재가 만들어 진다. 슬릿팅 절단면의 테이퍼 각도는 위의 표 3에 나타내었다. 이 때의 각도는 단변부 보다 적은 테이퍼 각인 83˚~ 90˚공차 범위를 확인할 수 있었다.Also, looking at Fig. 7, the upper surface area of the long side cross-section is cut off, and the generated scrap is removed through a scrap winder, so that a bag material having a lower surface is created. The taper angle of the slitting cross-section is shown in Table 3 above. At this time, it was confirmed that the tolerance range was 83˚ to 90˚, which is a smaller taper angle than the short side.
(3) SSC 공법으로 제조된 실시예 2 봉지재의 테이퍼 각 측정(3) Measurement of taper angle of the sealing material of Example 2 manufactured by the SSC method
상기 (2)와 동일한 방법으로 테이퍼 각도를 측정하되, 실시예 1의 봉지재 대신 실시예 2에서 제조한 봉지재의 테이퍼 각도를 측정하였고, 그 결과를 하기 표 4에 나타내었다. 그리고, 슬릿팅 컷팅 및 쉐어링 컷팅 공정 등을 자동공정으로 수행하여 제조한 봉지재 중 무작위로 10개를 선별하였으며, 이들의 평균 테이퍼길이 및 테이퍼 각도를 측정한 것을 하기 표 4 ~ 5에 나타내었다.The taper angle was measured in the same manner as in (2) above, but the taper angle of the encapsulating material manufactured in Example 2 was measured instead of the encapsulating material of Example 1, and the results are shown in Table 4 below. In addition, 10 encapsulating materials manufactured by performing the slitting cutting and shearing cutting processes as automatic processes were randomly selected, and the average taper length and taper angle of these were measured, and the results are shown in Tables 4 to 5 below.
테이퍼 각도(˚) 변화According to sharing cutting
Change in taper angle (˚)
길이Taper
length
하도 절단면Short story
Hadoe cross section
상도 절단면Short story
Cross section of the mountain
테이퍼 각도(˚) 변화According to slitting cutting
Change in taper angle (˚)
길이Taper
length
하도 절단면Long side
Hadoe cross section
상기 표 4 및 표 5의 테이퍼 각도 측정 결과와, 상기 표 2 ~ 표 3의 테이퍼 각도 측정 결과를 살펴보면, 거의 유사 내지 동일한 결과를 보였으며, 봉지수지층이 동일 두께인 경우, 봉지시트의 조성이 테이퍼 각도에 영향을 미치지는 않음을 확인할 수 있었다.When examining the taper angle measurement results of Tables 4 and 5 above and the taper angle measurement results of Tables 2 and 3 above, they showed almost similar or identical results, and it was confirmed that when the sealing resin layer has the same thickness, the composition of the sealing sheet does not affect the taper angle.
(4) 실시예 1 봉지재의 이형시트 제거된 후의 테이퍼 각 측정(4) Example 1: Measurement of taper angle after removal of release sheet of bag material
상기 실시예 1에서 제조 및 테이퍼 각도 측정한 봉지재의 이형시트를 제거한 후의 봉지재(메탈시트-봉지시트)의 장변 및 단변 절단면의 테이퍼 각을 측정하였으며, 그 결과를 하기 표 6 및 표 7에 나타내었다.After removing the release sheet of the sealing material manufactured and the taper angle measured in Example 1 above, the taper angle of the long and short side cut sections of the sealing material (metal sheet-sealing sheet) was measured, and the results are shown in Tables 6 and 7 below.
테이퍼 각도(˚) 변화According to sharing cutting
Change in taper angle (˚)
길이Taper
length
하도 절단면Short story
Hadoe cross section
상도 절단면Short story
Cross section of the mountain
테이퍼 각도(˚) 변화According to slitting cutting
Change in taper angle (˚)
길이Taper
length
하도 절단면Long side
Hadoe cross section
상기 표 6 및 표 7의 테이퍼 각을 상기 표 2 ~ 표 5와 비교해보면, 이형시트 제거로 인해, 테이퍼 각도가 다소 감소하는 경향이 있음을 확인할 수 있다.Comparing the taper angles of Tables 6 and 7 above with those of Tables 2 to 5 above, it can be confirmed that the taper angle tends to decrease somewhat due to the removal of the heteromorphic sheet.
그리고, 쉐어링 컷팅 절단면의 테이퍼 각도는 67˚~ 90˚였으며, 슬릿팅 컷팅 절단면의 테이퍼 각도는 80˚ ~ 90˚임을 확인할 수 있었다.In addition, it was confirmed that the taper angle of the sharing cutting surface was 67˚ to 90˚, and the taper angle of the slitting cutting surface was 80˚ to 90˚.
실험예 2 : 이형층 초기 박리력 측정Experimental Example 2: Measurement of the initial peel strength of the heteromorphic layer
실시예 1 및 비교예 1에서 제조한 복합시트(FSPM 시트)를 각각 준비하였다.Composite sheets (FSPM sheets) manufactured in Example 1 and Comparative Example 1 were prepared respectively.
다음으로, UTM을 이용하여 실시예 1 및 비교예 1의 FSPM 시트 각각의 모서리 4군데의 이형층(liner film)에 대한 초기 박리력을 프로브 택 테스트(probe tack test)를 통해 측정하였다. Next, the initial peel strength of the liner film at each of the four corners of the FSPM sheets of Example 1 and Comparative Example 1 was measured through a probe tack test using UTM.
측정 방법은 지그 하강속도 및 상승속도 1.0 mm/sec, 드웰힘(dwell force, 가압력) 800 gf 및 드웰시간(dwell time, 가압 유지 시간) 10 초였다.The measurement method was a jig lowering speed and rising speed of 1.0 mm/sec, a dwell force of 800 gf, and a dwell time of 10 seconds.
실험에 사용된 기기 및 실험 수행 사진을 도 8의 A와 B에 사진으로 나타내었으며, 도 8의 C에는 볼 형태의 지그가 시트 모서리에 접근, 접촉유지 및 이형층 분리 모식도를 나타내었다. 그리고, 실시예 1 및 비교예 1의 초기 박리력 측정 결과를 도 9의 A 및 B에 나타내었고, 도 12의 C에는 초기 박리력(gf) 평균값을 나타내었다. 도 9의 A, B에서 L/C-1 ~ L/C-5 및 SSC-1 ~ SSC-5 각각은 실시예 1 및/또는 비교예 1에서 제조된 봉지재를 임의로 선택하여 초기 박리력 측정한 봉지재를 의미한다. The equipment used in the experiment and the photographs of the experiment are shown in Figs. 8A and 8B, and Fig. 8C shows a schematic diagram of a ball-shaped jig approaching a sheet edge, maintaining contact, and separating a release layer. In addition, the results of measuring the initial peeling force of Example 1 and Comparative Example 1 are shown in Figs. 9A and B, and Fig. 12C shows the average value of the initial peeling force (gf). In Figs. 9A and 9B, L/C-1 to L/C-5 and SSC-1 to SSC-5 represent encapsulating materials manufactured in Example 1 and/or Comparative Example 1, respectively, for which the initial peeling force was measured.
도 9를 살펴보면, 레이저 컷팅 가공법에 의해 제조된 봉지재(비교예 1)의 경우, 이형층의 봉지수지층에 대한 초기 박리력이 500 ~ 500 gf인데 반해, SSC 가공법에 의해 제조된 봉지재(실시예 1)의 경우, 이형층의 봉지수지층에 대한 초기 박리력이 300 ~ 350 gf으로 초기 박리력이 크게 낮음을 확인할 수 있었다. 이러한 차이는 비교예 1의 경우, 레이저 컷팅시 이형층 및/또는 봉지수지층에 열변형이 발생하여, 이형층과 봉지수지층의 절단면 표면에 잔사가 형성되어 초기 박리력을 증대시키는 요인으로 작용했기 때문이기 때문이다.As shown in FIG. 9, in the case of the encapsulating material manufactured by the laser cutting processing method (Comparative Example 1), the initial peeling force for the encapsulating resin layer of the release layer was 500 to 500 gf, whereas in the case of the encapsulating material manufactured by the SSC processing method (Example 1), the initial peeling force for the encapsulating resin layer of the release layer was 300 to 350 gf, showing a significantly lower initial peeling force. This difference is because in the case of Comparative Example 1, thermal deformation occurred in the release layer and/or the encapsulating resin layer during laser cutting, which formed residue on the cut surfaces of the release layer and the encapsulating resin layer, which acted as a factor in increasing the initial peeling force.
비교예 2 : 슬릿팅 컷팅-슬릿팅 컷팅된 봉지재 제조Comparative Example 2: Slitting Cutting - Manufacturing of Slitting Cut Bag Material
상기 준비예 3-1의 3층 구조(메탈층(80㎛)-봉지수지층(50㎛)-이형층(38㎛))의 FSPM 시트를 실시예 1과 동일한 조건 및 방법으로 FSPM 시트의 장변(길이방향)을 슬릿팅 컷팅한 후, 단변 역시 동일한 조건 및 방법으로 슬릿팅 컷팅하여, 장변 및 단변 모두 슬릿팅 컷팅된 봉지재를 제조하였다.The FSPM sheet having the three-layer structure (metal layer (80 μm) - sealing resin layer (50 μm) - release layer (38 μm)) of the above Preparation Example 3-1 was slit-cut along the long side (length direction) of the FSPM sheet under the same conditions and method as Example 1, and then the short side was also slit-cut under the same conditions and method, thereby manufacturing a sealing material in which both the long side and the short side were slit-cut.
실시예 1과 비교할 때, 제조된 봉지재는 텐션이(tension)이 좋지 않고, 컷팅된 초기 부위에 꺽임이 발생한 부분이 있었으며, 실시예 1과 비교할 때, 생산 속도가 저하되었다.Compared with Example 1, the manufactured bag had poor tension, had a part where a bend occurred in the initial cut portion, and, compared with Example 1, the production speed was slow.
비교예 3 : 쉐어링 컷팅-쉐어링 컷팅된 봉지재 제조Comparative Example 3: Sharing Cutting - Manufacturing of Sharing Cut Bag Material
상기 준비예 3-1의 3층 구조(메탈층(80㎛)-봉지수지층(50㎛)-이형층(38㎛))의 FSPM 시트를 실시예 1과 동일한 조건 및 방법으로 FSPM 시트의 장변(길이방향)을 쉐어링 컷팅한 후, 단변 역시 동일한 조건 및 방법으로 슬릿팅 컷팅하여, 장변 및 단변 모두 쉐어링 컷팅된 봉지재를 제조하였다.The FSPM sheet having the three-layer structure (metal layer (80 μm) - sealing resin layer (50 μm) - release layer (38 μm)) of the above Preparation Example 3-1 was shear-cut along the long side (length direction) of the FSPM sheet under the same conditions and method as Example 1, and then the short side was also slit-cut under the same conditions and method to manufacture a sealing material in which both the long side and the short side were shear-cut.
실시예 1과 비교할 때, 제조된 봉지재는 장변을 절단하기 위한 공정이 복잡해져서 생산 속도가 저하되기 때문에, 쉐어링 컷팅 및 쉐어링 컷팅을 자동화 공정으로 적용이 실질적으로 어려운 문제가 있었다.Compared to Example 1, the manufactured bag material had a problem in that the process for cutting the long side was complicated, which slowed down the production speed, making it practically difficult to apply shear cutting and shear cutting as an automated process.
실시예 3Example 3
(1) 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 준비예 3-1의 롤링된 복합시트(FSPM 시트)를 SSC(Slitting & Shearing Cutting) 자동화 기기를 이용하여 유기전자장치 봉지재를 제조하되, 하기 표 8과 같이, 슬릿팅 컷팅시 측압 및 상도 나이프의 삽입 깊이를 달리하여 복합시트의 장변을 슬릿팅 컷팅을 수행하였으며, 슬릿팅 컷팅된 장변의 절단면 SEM 측정 사진을 도 10a ~ 도 10f에 나타내었다. 하기 표 5의 알파벳 부호는 도 10의 광학 현미경 측정 이미지를 표시한 것이다. 이때, 도 10의 이미지에서 하부층이 메탈층이다.(1) In the same manner as in Example 1, the rolled composite sheet (FSPM sheet) of Preparation Example 3-1 was used to manufacture an organic electronic device encapsulating material using an SSC (Slitting & Shearing Cutting) automated machine. However, as shown in Table 8 below, the lateral pressure and the insertion depth of the top knife were varied during the slitting cutting to perform slitting cutting on the long side of the composite sheet, and the SEM measurement photographs of the cross-section of the slitting-cut long side are shown in FIGS. 10a to 10f. The alphabet symbols in Table 5 below indicate the optical microscope measurement images of FIG. 10. At this time, the lower layer in the image of FIG. 10 is a metal layer.
나이프
삽입
깊이
(mm)highway
knife
insertion
depth
(mm)
도 10a ~ 도 10f를 살펴보면, 상도 나이프 삽입 깊이 2.0 mm를 초과한 2.2 mm의 경우, 감압점착제층이 무너지게 되며, 각 층의 구분이 불분명하여 컷팅 품질이 좋지 않음을 확인할 수 있다. 또한, 상도 나이프에 가해지는 측압이 2.5kgf를 초과한 2.7kgf의 경우, 테이퍼가 과하게 발생하며, 균일성이 떨어져 품질이 좋지 않은 문제가 있음을 확인할 수 있었다.Looking at FIGS. 10a to 10f, it can be seen that when the insertion depth of the top knife exceeds 2.0 mm and is 2.2 mm, the pressure-sensitive adhesive layer collapses and the distinction between each layer is unclear, resulting in poor cutting quality. In addition, it can be seen that when the lateral pressure applied to the top knife exceeds 2.5 kgf and is 2.7 kgf, excessive taper occurs and there is a problem of poor quality due to poor uniformity.
(2) 상도 나이프 조건에 따른 테이퍼 각도 (2) Taper angle according to the knife conditions
상기 표 8의 상도 나이프 삽입 깊이 및 측압 조건에 따라 슬릿 컷팅된 절단면의 하도 절단면에 대한 테이퍼 각도를 측정하였고, 그 결과를 하기 표 9에 나타내었다. 하기 표 9의 알파벳은 표 8의 상도 나이프 조건을 의미한다.The taper angle of the slit-cut section for the lower cut surface was measured according to the upper cut knife insertion depth and lateral pressure conditions of Table 8 above, and the results are shown in Table 9 below. The alphabets in Table 9 below indicate the upper cut knife conditions of Table 8.
테이퍼 각도(˚) 변화According to slitting cutting
Change in taper angle (˚)
상기 표 9를 살펴보면, 상도 나이프 삽입 깊이 2.0 mm를 초과한 2.2 mm의 경우, 또는 상도 나이프에 가해지는 측압이 2.5kgf를 초과한 경우, 테이퍼 길이(오프-셋 영역)이 증가하여 테이퍼 각도가 낮아지는 경향이 있음을 확인할 수 있다. Looking at Table 9 above, it can be confirmed that when the insertion depth of the top knife exceeds 2.0 mm, that is, 2.2 mm, or when the lateral pressure applied to the top knife exceeds 2.5 kgf, the taper length (off-set area) increases and the taper angle tends to decrease.
실시예 4Example 4
(1) 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 준비예 3-1의 롤링된 복합시트(FSPM 시트)를 SSC(Slitting & Shearing Cutting) 자동화 기기를 이용하여 유기전자장치 봉지재를 제조하되, 단변을 쉐어링 컷팅시 상도 나이프와 하도 나이프의 간격을 5㎛, 12.5㎛, 25㎛ 및 50㎛로 하여 쉐어링 컷팅을 수행하였으며, 쉐어링 컷팅의 하도 나이프에 의한 절단면의 광학 현미경 측정 이미지를 도 11a에 나타내었고, 복합시트의 PET 들뜸 여부는 광학 현미경 측정 이미지를 도 11b에 나타내었다. 도 14b의 Avg.(Average)값은 이형시트의 단부로부터 내부 방향으로 발생되는 PET의 들뜸 양에 대한 평균값을 의미하며, 들뜸 현상 발생 여부는 재단된 FSPM 시트를 이형층 위에서 현미경으로 확인한 것이다. 도 11b를 살펴보면, 상도 나이프와 하도 나이프의 갭 간격이 증가할수록 이형시트의 들뜸 현상 발생 부분이 증가하는 경향을 보임을 확인할 수 있었다(표 10 참조).(1) In the same manner as in Example 1, the rolled composite sheet (FSPM sheet) of Preparation Example 3-1 was used to manufacture an organic electronic device encapsulating material using an SSC (Slitting & Shearing Cutting) automated machine. However, the gaps between the upper and lower knives were set to 5 ㎛, 12.5 ㎛, 25 ㎛, and 50 ㎛ when performing shearing cutting on the short side, and the optical microscope measurement image of the cut surface by the lower knife in the shearing cutting is shown in Fig. 11a, and the optical microscope measurement image for whether or not PET was lifted of the composite sheet is shown in Fig. 11b. The Avg. (Average) value in Fig. 14b means the average value of the amount of PET lifting that occurs in the inward direction from the end of the release sheet, and the occurrence of the lifting phenomenon was checked under a microscope on the cut FSPM sheet on the release layer. Looking at Figure 11b, it was confirmed that as the gap distance between the upper and lower knives increased, the area where the lifting phenomenon of the heteromorphic sheet occurred tended to increase (see Table 10).
나이프
간격Up and down
knife
interval
(3) 쉐어링 컷팅 시, 상도 나이프의 칼날각도에 따른 쉐어링 컷팅 상도 절단면의 테이퍼 각도 (3) When cutting with a shear, the taper angle of the cutting surface of the shear cutting according to the blade angle of the shear knife
상기 실시예 1과 동일한 방법으로 준비예 3-1의 롤링된 복합시트(FSPM 시트)를 SSC(Slitting & Shearing Cutting) 자동화 기기를 이용하여 유기전자장치 봉지재를 제조하되, 단변을 쉐어링 컷팅시 상도 나이프의 칼날각도를 달리하여, 쉐어링 컷팅을 수행한 후, 쉐어링 컷팅된 단변 상도 절단면의 테이퍼 각도를 측정한 결과를 하기 표 11에 나타내었다.In the same manner as in Example 1, the rolled composite sheet (FSPM sheet) of Preparation Example 3-1 was used to manufacture an organic electronic device encapsulating material using an SSC (Slitting & Shearing Cutting) automated machine. However, when performing shearing cutting on the short side, the blade angle of the shearing knife was changed to perform shearing cutting. The results of measuring the taper angle of the short side shearing-cut section are shown in Table 11 below.
테이퍼 각도(˚) 변화According to sharing cutting
Change in taper angle (˚)
나이프
칼날각도highway
knife
Blade angle
(4) 쉐어링 컷팅 시, 상도 나이프의 랜드 값에 따른 쉐어링 컷팅 상도 절단면의 테이퍼 각도 (4) When cutting with a shear, the taper angle of the cutting surface of the shear cutting according to the land value of the shear knife
1) 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 준비예 3-1의 롤링된 복합시트(FSPM 시트)를 SSC(Slitting & Shearing Cutting) 자동화 기기를 이용하여 유기전자장치 봉지재를 제조하되, 단변을 쉐어링 컷팅시 상도 나이프의 랜드 값을 달리하여, 쉐어링 컷팅을 수행한 후, 쉐어링 컷팅된 단변 상도 절단면의 테이퍼 각도를 측정한 결과를 하기 표 12에 나타내었다. 이때, 하도 나이프의 랜드 값은 0.50mm로 고정하여 수행하였다.1) In the same manner as in Example 1, an organic electronic device encapsulating material was manufactured using an SSC (Slitting & Shearing Cutting) automated machine on the rolled composite sheet (FSPM sheet) of Preparation Example 3-1. However, when performing shearing cutting on the short side, the land value of the top knife was changed, and after performing shearing cutting, the taper angle of the short side top cut surface after shearing cutting was measured. The results are shown in Table 12 below. At this time, the land value of the bottom knife was fixed to 0.50 mm.
2) 쉐어링 나이프의 내구성 측정2) Measuring the durability of the sharing knife
실제 컷팅 공정에 적용되는 쉐어링 나이프는 수십 내지 수백만번으로 강도 높은 메탈시트를 포함하는 복합시트를 컷팅을 하게 되며, 따라서 나이프의 장기 내구 안정성은 매우 중요하다.The shearing knife applied in the actual cutting process cuts composite sheets containing high-strength metal sheets tens to millions of times, so the long-term durability of the knife is very important.
쉐어링 나이프의 내구성을 수십 내지 수백만번 실제 절단하여 내구성을 측정할 수 없는 바, 절단 대상으로서 본 발명의 복합시트가 아닌 기계적 강도가 높은 시트로 대체하여 쉐어링 상도 나이프의 내구성을 측정하였다.Since the durability of a shearing knife cannot be measured by actually cutting it tens to millions of times, the durability of the shearing knife was measured by replacing the composite sheet of the present invention with a sheet having high mechanical strength as the cutting target.
구체적으로 준비예 2의 메탈시트(두께 80㎛, 비커스 경도 200HV) 보다 2.5 ~ 3배 정오의 높은 경도를 가지는 마르텐사이트계 스테인레스 강인 SUS431의 시트(100 ㎛, Brinell 경도 약 400 ~ 400 Hb)를 준비한 후, 이를 하기 표 12의 랜드값이 다른 상도 나이프로 구성된 쉐어링 컷팅기로 상기 (3)과 동일한 방법으로 쉐어링 컷팅을 수행하였다. Specifically, a sheet of SUS431, a martensitic stainless steel having a hardness 2.5 to 3 times higher than that of the metal sheet of Preparation Example 2 (thickness 80 ㎛, Vickers hardness 200 HV) (100 ㎛, Brinell hardness approximately 400 to 400 Hb), was prepared, and then shearing cutting was performed on the sheet using a shearing cutter configured with different surface knives having land values as shown in Table 12 below in the same manner as in (3) above.
그리고, 내구성 평가는 SUS431 시트를 10,000번 쉐어링 컷팅한 후, 주사형 전자현미경으로 상도 나이프의 칼날 표면에 미세 크랙이 발생하였는지 여부로 평가하였다.In addition, durability was evaluated by shearing the SUS431 sheet 10,000 times and examining whether micro cracks occurred on the blade surface of the sandpaper knife using a scanning electron microscope.
테이퍼 각도(˚) 변화According to sharing cutting
Change in taper angle (˚)
측정durability
measurement
나이프
랜드값highway
knife
Land value
상기 표 12을 살펴보면, 상도 나이프의 랜드값이 높아질수록 테이퍼 각도가 낮아지는 것을 확인할 수 있었다. 랜드값이 2.0mm를 초과한 랜드값 2.2mm인 상도 나이프의 경우, 테이퍼 각도가 73˚ 미만인 문제가 있었으며, 랜드값이 0.10 mm 미만인 0.08 mm의 상도 나이프의 경우, 높은 테이퍼 각도를 가졌다. 하지만, 랜드값 0.08 mm의 상도 나이프의 경우 절단력이 매우 우수하나, 칼날 내구성이 약하여 메탈 시트를 포함하는 복합시트의 쉐어링 컷팅 나이프로 사용하기에는 부적합한 문제가 있음을 확인할 수 있었다.Looking at Table 12 above, it was confirmed that as the land value of the cutting knife increases, the taper angle decreases. In the case of a cutting knife with a land value of 2.2 mm, which exceeds 2.0 mm, there was a problem that the taper angle was less than 73˚, and in the case of a cutting knife with a land value of 0.08 mm, which is less than 0.10 mm, there was a high taper angle. However, in the case of a cutting knife with a land value of 0.08 mm, although the cutting power is excellent, it was confirmed that there is a problem that the blade durability is weak, making it unsuitable for use as a shearing cutting knife for composite sheets including metal sheets.
상기 실시예 및 실험예를 통하여, 본 발명은 기존 레이저 공법으로 제조된 봉지재의 문제점인 이형층의 컷팅면 부분에 둔턱 발생, 컷팅면에 잔사와 버(burr)가 발생 및 오프-셋(off-set) 영역 다량 발생이 해결된 유기전자장치용 봉지재를 제공할 수 있음을 확인할 수 있었다.Through the above examples and experimental examples, it was confirmed that the present invention can provide an encapsulating material for organic electronic devices, which solves the problems of encapsulating materials manufactured by conventional laser methods, such as the occurrence of blunt edges on the cut surface of the release layer, the occurrence of residues and burrs on the cut surface, and the occurrence of a large amount of off-set areas.
Claims (11)
상기 복합시트의 장변 방향 양변을 슬릿팅 컷팅(slitting cutting)을 수행하는 2단계; 및
슬릿팅 컷팅을 수행한 복합시트를 단변 방향으로 쉐어링 컷팅(shearing cutting)을 수행하는 3단계를 포함하는 공정을 수행하며,
상기 2단계 및 3단계는 연속적인 공정이고,
상기 쉐어링 컷팅은 상도 나이프 및 하도 나이프가 구비된 쉐어링 컷팅기를 이용하여 수행하며,
상기 상도 나이프의 랜드(land) 값은 0.10 ~ 2.0mm 인 것을 특징으로 하는 유기전자장치용 봉지재의 제조방법.
Step 1: preparing a composite sheet including a metal layer, a sealing resin layer, and a release layer;
Step 2: performing slitting cutting on both long sides of the composite sheet; and
A process including three steps of performing shearing cutting in the short-side direction on a composite sheet that has undergone slitting cutting is performed.
The above steps 2 and 3 are continuous processes,
The above sharing cutting is performed using a sharing cutting machine equipped with an upper knife and a lower knife.
The land value of the above-mentioned knife is characterized by being 0.10 to 2.0 mm. A method for manufacturing a sealing material for organic electronic devices.
슬릿팅 컷팅시 상도 나이프에 가해지는 측압은 0.5 ~ 2.5 kgf/㎠인 것을 특징으로 하는 유기전자장치용 봉지재의 제조방법.
In the first paragraph, the slitting cutting is performed by a slitting cutting machine in which the upper knife is a circular knife and the lower knife has an insertion portion formed into which the upper knife is inserted.
A method for manufacturing a sealing material for an organic electronic device, characterized in that the lateral pressure applied to a slitting knife during cutting is 0.5 to 2.5 kgf/cm2.
A method for manufacturing a sealing material for an organic electronic device, characterized in that in the first paragraph, the upper knife and the lower knife each independently have a land value of 0.10 to 0.30 mm during the slitting cutting.
A method for manufacturing a sealing material for an organic electronic device, characterized in that in the first paragraph, the shearing cutting is performed using a shearing cutting machine equipped with the upper knife having a blade angle (slope) of 0.140° to 0.300° and the lower knife having a blade angle of 0.005° or less.
A method for manufacturing a sealing material for an organic electronic device, characterized in that in claim 4, the gap between the upper knife and the lower knife during sharing cutting is 0.5 ㎛ to 50 ㎛.
A method for manufacturing a sealing material for an organic electronic device, characterized in that in the first paragraph, the cutting speed during the sharing cutting is 150 to 300 mm/sec.
A method for manufacturing a sealing material for an organic electronic device, characterized in that in the first paragraph, after the slitting cutting in the second step, a process of continuously wet cleaning the slitting-cut long side portion of the composite sheet is further performed.
A method for manufacturing a sealing material for an organic electronic device, characterized in that in the first paragraph, the third step further comprises performing a dry surface cleaning process on the composite sheet that has been continuously shear-cut after shear-cutting.
[방정식 1]
단변 절단면의 평균 테이퍼 각도 ≤ 장변 절단면의 평균 테이퍼 각도
방정식 1에서, 상기 테이퍼 각도는 테이퍼 측정 대상 절단면의 측면 방향에서 보았을 때, 절단면의 최하부층 표면 기준으로 절단면의 최하부층의 최하부 표면 끝단과 절단면의 최상부층의 최상부 표면 끝단이 이루는 사이각을 의미한다.
A method for manufacturing a sealing material for an organic electronic device, characterized in that in claim 1, the long-side cut surface of the slitting-cut composite sheet and the short-side cut surface of the shearing-cut composite sheet have a taper angle satisfying the following equation 1;
[Equation 1]
Average taper angle of short-side cross-section ≤ Average taper angle of long-side cross-section
In Equation 1, the taper angle refers to the angle formed between the lowermost surface end of the lowermost layer of the cut surface and the uppermost surface end of the uppermost layer of the cut surface when viewed from the side direction of the cut surface to be measured for taper.
메탈층, 봉지수지층 및 이형층을 포함하는 복합시트의 경우, 제1단변 절단면 및 제2단변 절단면은 테이퍼 각도가 73˚~ 90˚이며,
이형층이 제거된 메탈층 및 봉지수지층을 포함하는 복합시트의 경우, 제1단변 절단면 및 제2단변 절단면은 테이퍼 각도가 67˚~ 90˚인 것을 특징으로 하는 유기전자장치용 봉지재의 제조방법.In the first paragraph, the short-side cut surface of the shared-cut composite sheet includes a first short-side cut surface and a second short-side cut surface,
In the case of a composite sheet including a metal layer, a sealing resin layer, and a release layer, the first short-side cut surface and the second short-side cut surface have a taper angle of 73˚ to 90˚.
A method for manufacturing a sealing material for an organic electronic device, wherein, in the case of a composite sheet including a metal layer and a sealing resin layer from which a heterogeneous layer has been removed, the first short-side cut surface and the second short-side cut surface have a taper angle of 67˚ to 90˚.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020190110102A KR102713115B1 (en) | 2019-09-05 | 2019-09-05 | Manufacturing method of encapsulation member for organic electronic device |
CN202010788806.7A CN112349863B (en) | 2019-08-07 | 2020-08-07 | Packaging material for organic electronic device and method for producing same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020190110102A KR102713115B1 (en) | 2019-09-05 | 2019-09-05 | Manufacturing method of encapsulation member for organic electronic device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20210028938A KR20210028938A (en) | 2021-03-15 |
KR102713115B1 true KR102713115B1 (en) | 2024-10-04 |
Family
ID=75134560
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020190110102A Active KR102713115B1 (en) | 2019-08-07 | 2019-09-05 | Manufacturing method of encapsulation member for organic electronic device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR102713115B1 (en) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001337411A (en) * | 2000-03-21 | 2001-12-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | Method and device for cutting heat developable material |
WO2007049427A1 (en) * | 2005-10-28 | 2007-05-03 | Konica Minolta Holdings, Inc. | Process and apparatus for producing organic electroluminescent element |
JP2009006477A (en) * | 2001-04-23 | 2009-01-15 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | Optical polyvinyl alcohol film slitting method |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20060030718A (en) | 2004-10-06 | 2006-04-11 | 에스케이씨 주식회사 | Organic light emitting diode display device and encapsulation method |
CN107946477B (en) * | 2013-05-21 | 2020-09-25 | Lg化学株式会社 | Encapsulation film and method for encapsulating organic electronic devices using the same |
JP6478313B2 (en) | 2014-07-17 | 2019-03-06 | 日本化薬株式会社 | Liquid crystal sealant and liquid crystal display cell using the same |
-
2019
- 2019-09-05 KR KR1020190110102A patent/KR102713115B1/en active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001337411A (en) * | 2000-03-21 | 2001-12-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | Method and device for cutting heat developable material |
JP2009006477A (en) * | 2001-04-23 | 2009-01-15 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | Optical polyvinyl alcohol film slitting method |
WO2007049427A1 (en) * | 2005-10-28 | 2007-05-03 | Konica Minolta Holdings, Inc. | Process and apparatus for producing organic electroluminescent element |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20210028938A (en) | 2021-03-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101936600B1 (en) | Adhesive film for organic electronic device and encapsulation member comprising the same | |
KR101687334B1 (en) | Adhesive film for organic electronic device and encapsulation member comprising the same | |
KR102713112B1 (en) | Manufacturing method of encapsulation member for organic electronic device | |
KR102698631B1 (en) | Encapsulation member for organic electronic device and organic electronic device comprising the same | |
KR102736668B1 (en) | Encapsulation member of organic electronic device and Manufacturing method thereof | |
KR102823185B1 (en) | Encapsulation member of organic electronic device and Manufacturing method thereof | |
KR102152247B1 (en) | encapsulation member of organic electronic device | |
KR102713115B1 (en) | Manufacturing method of encapsulation member for organic electronic device | |
KR102713116B1 (en) | Manufacturing method of encapsulation member for organic electronic device | |
KR102698623B1 (en) | Curling control system for preparing complex sheet, Manufacturing method of complex | |
KR102713110B1 (en) | Edge cleaner system for sheet, Cleaning method of sheet using the same and Manufacturing method of encapsulation member for organic electronic device using the same | |
KR20210098167A (en) | encapsulation member for organic electronic device and organic electronic device comprising the same | |
CN112349863B (en) | Packaging material for organic electronic device and method for producing same | |
KR102261536B1 (en) | encapsulation member for organic electronic device and organic electronic device comprising the same | |
KR102325733B1 (en) | encapsulation member for organic electronic device for attaching at room temperature and organic electronic device comprising the same | |
CN112825347B (en) | Encapsulating material for organic electronic device and organic electronic device including the same | |
CN112909198B (en) | Packaging material for organic electronic device capable of being attached at normal temperature and organic electronic device | |
KR101763605B1 (en) | Adhesive film for organic electronic device and encapsulation member comprising the same | |
KR20210036558A (en) | Dry cleanging fo sheet system, Cleaning method of sheet using the same and Manufacturing method of encapsulation member for organic electronic device using the same | |
KR102188089B1 (en) | Adhesive film for organic electronic device and encapsulation member comprising the same | |
KR102325971B1 (en) | encapsulation member for organic electronic device and organic electronic device comprising the same | |
KR102305020B1 (en) | encapsulation member for organic electronic device and organic electronic device comprising the same | |
KR102350361B1 (en) | encapsulation member for organic electronic device and organic electronic device comprising the same | |
KR102325732B1 (en) | encapsulation member for organic electronic device for attaching at room temperature and organic electronic device comprising the same | |
KR102582822B1 (en) | Encapsulation member |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20190905 |
|
PG1501 | Laying open of application | ||
PA0201 | Request for examination |
Patent event code: PA02012R01D Patent event date: 20220208 Comment text: Request for Examination of Application Patent event code: PA02011R01I Patent event date: 20190905 Comment text: Patent Application |
|
E902 | Notification of reason for refusal | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20231122 Patent event code: PE09021S01D |
|
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20240807 |
|
GRNT | Written decision to grant | ||
PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20240927 Patent event code: PR07011E01D |
|
PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20240927 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
PG1601 | Publication of registration |