KR102616190B1 - Method for cleaning head, method for cleaning nozzle plate and apparatus for substrate - Google Patents
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Abstract
본 발명은 잉크를 토출하는 적어도 하나 이상의 노즐이 형성된 헤드를 세정하는 방법을 제공한다. 헤드 세정 방법은, 상기 노즐의 주변 영역에 부착된 상기 잉크를 경화시키는 경화 단계; 및 상기 노즐이 형성된 노즐 플레이트의 하면에 테이프인 제거 부재를 접촉시켜 경화된 상기 잉크를 상기 노즐 플레이트로부터 제거하는 제거 단계를 포함할 수 있다.The present invention provides a method for cleaning a head equipped with at least one nozzle that discharges ink. The head cleaning method includes a curing step of curing the ink attached to the surrounding area of the nozzle; and a removal step of removing the cured ink from the nozzle plate by contacting a removal member, which is a tape, with the lower surface of the nozzle plate on which the nozzle is formed.
Description
본 발명은 헤드 세정 방법, 노즐 세정 방법 및 기판 처리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a head cleaning method, a nozzle cleaning method, and a substrate processing device.
최근, 액정 디스플레이 소자, 유기 EL 디스플레이 소자 등과 같은 디스플레이 소자는 고해상도가 요구되고 있다. 고해상도를 가지는 디스플레이 소자를 제조하기 위해서는 기판 상에 단위 면적당 더 많은 픽셀을 형성해야 하며, 이와 같이 조밀하게 배치되는 픽셀들 각각에 잉크와 같은 약액을 정확히 토출하는 것이 중요하다. 그렇지 않은 경우 불량으로 제조되는 디스플레이 소자가 불량으로 판정될 수 있기 때문이다. 따라서, 관련 기술들에 따르면, 디스플레이 소자의 제조에서는 픽셀들 각각에 토출되는 약액의 토출 지점(예컨대, 타점), 그리고 약액의 토출 양을 정확하게 관리하는 것이 요구된다. Recently, display devices such as liquid crystal display devices and organic EL display devices are required to have high resolution. In order to manufacture a display device with high resolution, more pixels must be formed per unit area on the substrate, and it is important to accurately discharge a chemical solution such as ink into each of these densely arranged pixels. If this is not the case, the display element manufactured as a defect may be determined to be defective. Therefore, according to related technologies, in the manufacture of display elements, it is required to accurately manage the discharge point (eg, dot) of the chemical liquid discharged to each pixel and the discharge amount of the chemical liquid.
이와 같이 잉크의 토출 지점, 그리고 잉크의 토출 양을 정확하게 관리하기 위해서는, 잉크를 토출하는 노즐, 그리고 노즐이 형성된 노즐 플레이트에 부착된 잉크를 적절히 제거하는 것이 중요하다. 최근에는 픽셀들 각각에 토출되는 잉크의 토출 양이 적어짐에 따라, 노즐의 크기도 함께 작아진다. 이에, 노즐의 내부에 부착된 잉크를 제거하는 것이 어려워지고 있다. 노즐, 그리고 노즐 플레이트에 부착된 잉크를 적절히 제거하지 못하면, 노즐 플레이트에 부착된 잉크들은 피 처리물인 기판으로 전달되어 기판을 오염시킨다.
[선행기술문헌]
(특허문헌 1) KR 2020-0108950 A In order to accurately manage the ink discharge point and the ink discharge amount, it is important to properly remove ink attached to the nozzle that discharges ink and the nozzle plate on which the nozzle is formed. Recently, as the amount of ink ejected from each pixel decreases, the size of the nozzle also decreases. Accordingly, it is becoming difficult to remove ink attached to the inside of the nozzle. If the ink attached to the nozzle and the nozzle plate is not properly removed, the ink attached to the nozzle plate is transferred to the substrate to be processed and contaminates the substrate.
[Prior art literature]
(Patent Document 1) KR 2020-0108950 A
본 발명은 헤드에 대한 메인터넌스를 효과적으로 수행할 수 있는 헤드 세정 방법, 노즐 플레이트 세정 방법 및 기판 처리 장치를 제공하는 것을 일 목적으로 한다.One object of the present invention is to provide a head cleaning method, a nozzle plate cleaning method, and a substrate processing device that can effectively perform maintenance on the head.
또한, 본 발명은 헤드 또는 노즐 플레이트에 부착된 처리 액(예컨대, 잉크)를 효과적으로 제거할 수 있는 헤드 세정 방법, 노즐 플레이트 세정 방법 및 기판 처리 장치를 제공하는 것을 일 목적으로 한다.Another object of the present invention is to provide a head cleaning method, a nozzle plate cleaning method, and a substrate processing apparatus that can effectively remove processing liquid (eg, ink) attached to a head or nozzle plate.
또한, 본 발명은 기판에 전달되는 불순물을 최소화 할 수 있는 헤드 세정 방법, 노즐 플레이트 세정 방법 및 기판 처리 장치를 제공하는 것을 일 목적으로 한다.Another object of the present invention is to provide a head cleaning method, a nozzle plate cleaning method, and a substrate processing device that can minimize impurities transferred to a substrate.
본 발명의 목적은 여기에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재들로부터 통상의 기술자가 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The object of the present invention is not limited here, and other objects not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the description below.
본 발명은 잉크를 토출하는 적어도 하나 이상의 노즐이 형성된 헤드를 세정하는 방법을 제공한다. 헤드 세정 방법은, 상기 노즐의 주변 영역에 부착된 상기 잉크를 경화시키는 경화 단계; 및 상기 노즐이 형성된 노즐 플레이트의 하면에 테이프인 제거 부재를 접촉시켜 경화된 상기 잉크를 상기 노즐 플레이트로부터 제거하는 제거 단계를 포함할 수 있다. The present invention provides a method for cleaning a head equipped with at least one nozzle that discharges ink. The head cleaning method includes a curing step of curing the ink attached to the surrounding area of the nozzle; and a removal step of removing the cured ink from the nozzle plate by contacting a removal member, which is a tape, with the lower surface of the nozzle plate on which the nozzle is formed.
일 실시 예에 의하면, 상기 경화 단계에는, 상기 노즐 플레이트의 하면에 광을 조사하여 상기 잉크를 경화시킬 수 있다.According to one embodiment, in the curing step, the ink may be cured by irradiating light to the lower surface of the nozzle plate.
일 실시 예에 의하면, 상기 노즐 플레이트의 하면에 조사되는 상기 광은, 적외선 광, 그리고 자외선 광 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.According to one embodiment, the light irradiated to the lower surface of the nozzle plate may include at least one of infrared light and ultraviolet light.
일 실시 예에 의하면, 상기 제거 부재는, 비점착 테이프일 수 있다.According to one embodiment, the removal member may be a non-adhesive tape.
일 실시 예에 의하면, 상기 방법은, 상기 노즐이 형성된 상기 노즐 플레이트의 하면에 상기 잉크를 흡수 할 수 있는 흡수 부재를 접촉시켜 상기 잉크가 잔류하는 상기 노즐 플레이트를 세정하는 흡수 단계를 포함할 수 있다.According to one embodiment, the method may include an absorption step of cleaning the nozzle plate on which the ink remains by contacting an absorbing member capable of absorbing the ink with the lower surface of the nozzle plate on which the nozzle is formed. .
일 실시 예에 의하면, 상기 흡수 단계는, 상기 경화 단계 이전에 또는 상기 제거 단계 이후에 수행될 수 있다.According to one embodiment, the absorption step may be performed before the curing step or after the removal step.
일 실시 예에 의하면, 상기 제거 단계는, 복수 회 반복하여 수행될 수 있다.According to one embodiment, the removal step may be performed repeatedly multiple times.
또한, 본 발명은, 처리 액을 토출하는 노즐이 형성된 노즐 플레이트를 세정하는 방법을 제공한다. 노즐 플레이트 세정 방법은, 상기 노즐 플레이트의 하면에 광을 조사하여 상기 노즐의 주변 영역에 부착된 상기 처리 액을 경화시키는 경화 단계; 및 상기 노즐 플레이트의 하면에 테이프인 제거 부재를 접촉, 그리고 분리시켜 경화된 상기 처리 액을 상기 노즐 플레이트로부터 제거하는 제거 단계를 포함할 수 있다.Additionally, the present invention provides a method for cleaning a nozzle plate on which nozzles for discharging a processing liquid are formed. The nozzle plate cleaning method includes a curing step of curing the treatment liquid attached to the surrounding area of the nozzle by irradiating light to the lower surface of the nozzle plate; and a removal step of removing the hardened treatment liquid from the nozzle plate by contacting and separating a removal member, which is a tape, from the lower surface of the nozzle plate.
일 실시 예에 의하면, 상기 노즐 플레이트의 하면에 조사되는 상기 광은, 자외선 광을 포함할 수 있다.According to one embodiment, the light irradiated to the lower surface of the nozzle plate may include ultraviolet light.
일 실시 예에 의하면, 상기 제거 부재는, 비점착 테이프일 수 있다.According to one embodiment, the removal member may be a non-adhesive tape.
일 실시 예에 의하면, 상기 방법은, 상기 노즐이 형성된 상기 노즐 플레이트의 하면에 상기 처리 액을 흡수 할 수 있는 흡수 부재를 접촉시켜 상기 처리 액이 잔류하는 상기 노즐 플레이트를 세정하는 흡수 단계를 포함할 수 있다.According to one embodiment, the method may include an absorption step of cleaning the nozzle plate on which the processing liquid remains by contacting an absorbing member capable of absorbing the processing liquid with the lower surface of the nozzle plate on which the nozzle is formed. You can.
일 실시 예에 의하면, 상기 흡수 단계는, 상기 경화 단계 이전, 또는 상기 제거 단계 이후에 수행될 수 있다.According to one embodiment, the absorption step may be performed before the curing step or after the removal step.
일 실시 예에 의하면, 상기 제거 단계는, 복수 회 반복하여 수행될 수 있다.According to one embodiment, the removal step may be performed repeatedly multiple times.
또한, 본 발명은 기판을 처리하는 장치를 제공한다. 기판 처리 장치는, 기판으로 잉크를 토출하여 프린팅 공정을 수행하고, 상기 잉크를 토출하는 노즐이 형성된 노즐 플레이트를 가지는 헤드 유닛; 상기 노즐 플레이트의 하면에 광을 조사하는 조사 유닛; 및 상기 노즐의 주변 영역에 부착되며 상기 광에 의해 경화된 상기 잉크를 테이프인 제거 부재를 상기 노즐 플레이트와 접촉시켜 상기 노즐 플레이트로부터 경화된 상기 잉크를 제거하는 제거 유닛을 포함할 수 있다.Additionally, the present invention provides an apparatus for processing a substrate. A substrate processing apparatus includes: a head unit that performs a printing process by ejecting ink onto a substrate and has a nozzle plate on which nozzles for discharging the ink are formed; an irradiation unit that irradiates light to a lower surface of the nozzle plate; and a removal unit attached to a peripheral area of the nozzle and removing the ink cured by the light from the nozzle plate by bringing a removal member, which is a tape, into contact with the nozzle plate.
일 실시 예에 의하면, 상기 제거 유닛은, 상기 노즐 플레이트의 하면과 접촉되는 상기 제거 부재를 공급하는 공급 부; 상기 공급 부가 공급하는 상기 제거 부재를 회수하는 회수 부; 상기 공급 부와 상기 회수 부 사이에 배치되며, 상기 제거 부재를 지지하는 적어도 하나 이상의 지지 부; 및 상기 공급 부, 상기 회수 부, 그리고 상기 지지 부가 설치되는 몸체를 포함할 수 있다.According to one embodiment, the removal unit includes: a supply unit that supplies the removal member in contact with the lower surface of the nozzle plate; a recovery unit that recovers the removal member supplied by the supply unit; At least one support part disposed between the supply part and the recovery part and supporting the removal member; And it may include a body in which the supply part, the recovery part, and the support part are installed.
일 실시 예에 의하면, 상기 지지 부는, 상기 제거 부재의 하면을 지지하고, 실리콘을 포함하는 소재로 제공되는 적어도 하나 이상의 지지 컴포넌트; 및 상기 지지 컴포넌트를 상기 몸체에 결합시키는 지지 프레임을 포함할 수 있다.According to one embodiment, the support part supports a lower surface of the removal member and includes at least one support component made of a material containing silicon; and a support frame coupling the support component to the body.
일 실시 예에 의하면, 상기 제거 유닛은, 상기 공급 부가 공급하는 상기 제거 부재가 상기 노즐 플레이트와 접촉될 수 있도록 상기 공급 부, 상기 회수 부, 그리고 상기 지지 부 중 적어도 어느 하나를 승강시키는 승강 부를 더 포함할 수 있다.According to one embodiment, the removal unit further includes a lifting unit that elevates at least one of the supply unit, the recovery unit, and the support unit so that the removal member supplied by the supply unit can contact the nozzle plate. It can be included.
일 실시 예에 의하면, 상기 장치는, 상기 노즐 플레이트의 하면에 상기 잉크를 흡수할 수 있는 흡수 부재를 접촉시켜 상기 잉크가 잔류하는 상기 노즐 플레이트를 세정하는 흡수 유닛을 더 포함하고, 상기 흡수 유닛은, 상기 노즐 플레이트의 하면과 접촉되는 상기 흡수 부재를 공급하는 공급 부; 상기 공급 부가 공급하는 상기 흡수 부재를 회수하는 회수 부; 상기 공급 부와 상기 회수 부 사이에 배치되며, 상기 흡수 부재를 지지하는 적어도 하나 이상의 지지 부; 및 상기 공급 부, 상기 회수 부, 그리고 상기 지지 부가 설치되는 몸체를 포함할 수 있다.According to one embodiment, the device further includes an absorption unit that cleans the nozzle plate on which the ink remains by contacting an absorption member capable of absorbing the ink with a lower surface of the nozzle plate, the absorption unit , a supply unit that supplies the absorbent member in contact with the lower surface of the nozzle plate; a recovery unit that recovers the absorbent member supplied by the supply unit; At least one support part disposed between the supply part and the recovery part and supporting the absorbent member; And it may include a body in which the supply part, the recovery part, and the support part are installed.
일 실시 예에 의하면, 상기 장치는, 제어기를 더 포함하고, 상기 제어기는, 상기 조사 유닛이 상기 광을 상기 노즐 플레이트의 하면에 조사하여 상기 노즐의 주변 영역에 부착된 상기 잉크를 경화시키고, 상기 제거 부재를 상기 노즐 플레이트의 하면에 접촉시켜 상기 노즐 플레이트의 하면으로부터 경화된 상기 잉크를 제거하도록 상기 조사 유닛, 그리고 상기 제거 유닛을 제어할 수 있다.According to one embodiment, the device further includes a controller, wherein the irradiation unit irradiates the light to the lower surface of the nozzle plate to cure the ink attached to the peripheral area of the nozzle, The irradiation unit and the removal unit may be controlled to remove the hardened ink from the lower surface of the nozzle plate by bringing a removal member into contact with the lower surface of the nozzle plate.
일 실시 예에 의하면, 상기 장치는, 제어기를 더 포함하고, 상기 제어기는, 상기 조사 유닛이 상기 광을 상기 노즐 플레이트의 하면에 조사하여 상기 노즐의 주변 영역에 부착된 상기 잉크를 경화시키고, 상기 제거 부재를 상기 노즐 플레이트의 하면에 접촉시켜 상기 노즐 플레이트의 하면으로부터 경화된 상기 잉크를 제거하고, 상기 조사 유닛이 상기 광을 상기 노즐 플레이트의 하면에 조사하기 이전, 또는 상기 제거 부재가 상기 노즐 플레이트의 하면에 접촉된 이후에 상기 흡수 부재를 상기 노즐 플레이트의 하면에 접촉시켜 상기 노즐 플레이트를 세정하도록 상기 조사 유닛, 상기 제거 유닛, 그리고 상기 흡수 유닛을 제어할 수 있다.According to one embodiment, the device further includes a controller, wherein the irradiation unit irradiates the light to the lower surface of the nozzle plate to cure the ink attached to the peripheral area of the nozzle, The cured ink is removed from the lower surface of the nozzle plate by contacting a removal member with the lower surface of the nozzle plate, before the irradiation unit irradiates the light to the lower surface of the nozzle plate, or when the removal member is brought into contact with the lower surface of the nozzle plate. The irradiation unit, the removal unit, and the absorption unit can be controlled to clean the nozzle plate by bringing the absorbing member into contact with the lower surface of the nozzle plate.
본 발명의 일 실시 예에 의하면, 헤드에 대한 메인터넌스를 효과적으로 수행할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, maintenance on the head can be performed effectively.
또한, 본 발명의 일 실시 예에 의하면, 헤드 또는 노즐 플레이트에 부착된 처리 액(예컨대, 잉크)를 효과적으로 제거할 수 있다.Additionally, according to an embodiment of the present invention, processing liquid (eg, ink) attached to the head or nozzle plate can be effectively removed.
또한, 본 발명의 일 실시 예에 의하면, 기판에 전달되는 불순물을 최소화 할 수 있다.Additionally, according to an embodiment of the present invention, impurities transferred to the substrate can be minimized.
본 발명의 효과가 상술한 효과들로 한정되는 것은 아니며, 언급되지 않은 효과들은 본 명세서 및 첨부된 도면들로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확히 이해될 수 있을 것이다.The effects of the present invention are not limited to the effects described above, and effects not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from this specification and the accompanying drawings.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치를 보여주는 도면이다.
도 2는 도 1의 헤드 유닛, 흡수 유닛, 조사 유닛, 그리고 제거 유닛의 모습을 개략적으로 보여주는 도면이다.
도 3은 도 2의 헤드가 가지는 노즐 플레이트의 모습을 보여주는 도면이다.
도 4는 본 발명의 일 실시 예에 따른 헤드 세정 방법을 보여주는 도면이다.
도 5는 도 4의 흡수 단계를 수행하는 기판 처리 장치의 모습을 보여주는 도면이다.
도 6은 도 4의 흡수 단계가 수행된 상태의 노즐 플레이트를 보여주는 도면이다.
도 7은 도 4의 경화 단계를 수행하는 기판 처리 장치의 모습을 보여주는 도면이다.
도 8은 도 4의 경화 단계가 수행된 상태의 노즐 플레이트의 모습을 보여주는 도면이다.
도 9는 도 4의 제거 단계를 수행하는 기판 처리 장치의 모습을 보여주는 도면이다.
도 10은 도 4의 제거 단계에서 제거 부재가 노즐 플레이트와 접촉되는 모습을 보여주는 도면이다.
도 11은 도 4의 제거 단계가 수행된 상태의 노즐 플레이트의 모습을 보여주는 도면이다.
도 12, 그리고 도 13는 본 발명의 일 실시 예에 따른 헤드 세정 방법을 적용하지 않은 경우 노즐 플레이트의 모습을 보여주는 도면이다.
도 14, 그리고 도 15는 본 발명의 일 실시 예에 따른 헤드 세정 방법을 적용한 경우 노즐 플레이트의 모습을 보여주는 도면이다.
도 16은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 기판 처리 장치를 보여주는 도면이다.1 is a diagram showing a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a diagram schematically showing the head unit, absorption unit, irradiation unit, and removal unit of FIG. 1.
Figure 3 is a diagram showing the nozzle plate of the head of Figure 2.
Figure 4 is a diagram showing a head cleaning method according to an embodiment of the present invention.
FIG. 5 is a diagram showing a substrate processing apparatus performing the absorption step of FIG. 4.
Figure 6 is a diagram showing the nozzle plate in a state in which the absorption step of Figure 4 has been performed.
FIG. 7 is a diagram showing a substrate processing device performing the curing step of FIG. 4.
FIG. 8 is a view showing the nozzle plate in a state in which the curing step of FIG. 4 has been performed.
FIG. 9 is a diagram showing a substrate processing apparatus performing the removal step of FIG. 4.
Figure 10 is a diagram showing the removal member in contact with the nozzle plate in the removal step of Figure 4.
FIG. 11 is a diagram showing the nozzle plate in a state in which the removal step of FIG. 4 has been performed.
12 and 13 are views showing the nozzle plate when the head cleaning method according to an embodiment of the present invention is not applied.
Figures 14 and 15 are views showing the nozzle plate when the head cleaning method according to an embodiment of the present invention is applied.
16 is a diagram showing a substrate processing apparatus according to another embodiment of the present invention.
아래에서는 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시 예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시 예에 한정되지 않는다. 또한, 본 발명의 바람직한 실시예를 상세하게 설명함에 있어, 관련된 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략한다. 또한, 유사한 기능 및 작용을 하는 부분에 대해서는 도면 전체에 걸쳐 동일한 부호를 사용한다.Below, with reference to the attached drawings, embodiments of the present invention will be described in detail so that those skilled in the art can easily implement the present invention. However, the present invention may be implemented in many different forms and is not limited to the embodiments described herein. Additionally, when describing preferred embodiments of the present invention in detail, if it is determined that a detailed description of a related known function or configuration may unnecessarily obscure the gist of the present invention, the detailed description will be omitted. In addition, the same symbols are used throughout the drawings for parts that perform similar functions and actions.
어떤 구성요소를 '포함'한다는 것은, 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있다는 것을 의미한다. 구체적으로, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.'Including' a certain component does not mean excluding other components, but rather including other components, unless specifically stated to the contrary. Specifically, terms such as “comprise” or “have” are intended to designate the presence of features, numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof described in the specification, but are not intended to include one or more other features or It should be understood that this does not exclude in advance the possibility of the presence or addition of numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof.
단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 또한 도면에서 요소들의 형상 및 크기 등은 보다 명확한 설명을 위해 과장될 수 있다.Singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. Additionally, the shapes and sizes of elements in the drawings may be exaggerated for clearer explanation.
제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성 요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소로부터 구별하는 목적으로 사용될 수 있다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위로부터 이탈되지 않은 채 제1 구성 요소는 제2 구성 요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성 요소도 제1 구성 요소로 명명될 수 있다.Terms such as first, second, etc. may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. The above terms may be used for the purpose of distinguishing one component from another component. For example, a first component may be referred to as a second component, and similarly, the second component may also be referred to as a first component without departing from the scope of the present invention.
어떤 구성 요소가 다른 구성 요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성 요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성 요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성 요소가 다른 구성 요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접속되어" 있다고 언급된 때에는, 중간에 다른 구성 요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다. 구성 요소들 간의 관계를 설명하는 다른 표현들, 즉 "~사이에"와 "바로 ~사이에" 또는 "~에 이웃하는"과 "~에 직접 이웃하는" 등도 마찬가지로 해석되어야 한다.When a component is said to be “connected” or “connected” to another component, it is understood that it may be directly connected to or connected to that other component, but that other components may also exist in between. It should be. On the other hand, when it is mentioned that a component is “directly connected” or “directly connected” to another component, it should be understood that there are no other components in between. Other expressions that describe the relationship between components, such as "between" and "immediately between" or "neighboring" and "directly adjacent to" should be interpreted similarly.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미이다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 의미인 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Unless otherwise defined, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by a person of ordinary skill in the technical field to which the present invention pertains. Terms such as those defined in commonly used dictionaries should be interpreted as having a meaning consistent with the meaning in the context of the related technology, and unless clearly defined in the present application, should not be interpreted as having an ideal or excessively formal meaning. .
이하에서는, 도 2 내지 도 10을 참조하여 본 발명의 실시 예에 대하여 설명한다.Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 2 to 10.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치를 보여주는 도면이다. 도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치(100)는 기판(S) 상에 잉크(I)와 같은 처리 액을 공급하여 기판을 처리하는 잉크젯 장치일 수 있다. 예컨대, 기판 처리 장치(100)는 기판(S) 상에 잉크(I)를 토출하여 기판(S)에 대한 프린팅 공정을 수행할 수 있다. 또한, 기판(S)은 글라스(Glass) 기판일 수 있다. 그러나, 이에 한정되는 것은 아니고 기판(S)의 종류는 다양하게 변형될 수 있다.1 is a diagram showing a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG. 1, a
기판 처리 장치(100)는 프린팅 영역(10), 메인터넌스 영역(20), 겐트리(30), 헤드 유닛(40), 노즐 얼라인 부(50), 제4비전 부(60), 흡수 유닛(70), 조사 유닛(80), 제거 유닛(90), 그리고 제어기(200)를 포함할 수 있다.The
프린팅 영역(10)은 상부에서 바라볼 때, 그 길이 방향이 제1방향(X) 일 수 있다. 이하에서는, 상부에서 바라볼 때, 제1방향(X)과 수직한 방향을 제2방향(Y)이라 하고, 제1방향(X) 및 제2방향(Y)에 수직한 방향을 제3방향(Z)이라 한다. 제3방향(Z)은 지면에 수직한 방향일 수 있다. 또한, 제1방향(X)은 후술하는 기판(S)이 이송하는 방향일 수 있다. 프린팅 영역(10)에서는 후술하는 헤드 유닛(40)이 기판(S)으로 잉크를 토출하여 기판(S)에 대한 프린팅 공정이 이루어질 수 있다. When viewed from the top, the
또한, 프린팅 영역(10)에서 이송되는 기판(S)은 부상되는 상태를 유지할 수 있다. 이에, 프린팅 영역(10)에서는 기판(S)을 이송시 기판(S)을 부상시킬 수 있는 부상 스테이지가 구비될 수 있다. 또한, 프린팅 영역(10)에서는 기판(S)의 일 측면 또는 양 측면을 파지하여 이송시키는 이송 부가 더 구비될 수 있다. 언급한 이송 부는 부상 스테이지의 일 측 또는 양 측을 따라 구비되는 가이드 레일 및 기판(S)의 일 측면 또는 양 측면을 파지한 상태에서 가이드 레일을 따라 활주하는 그리퍼 등을 포함할 수 있다. 또한, 프린팅 영역(10)에서 이송되는 기판(S)은 제1방향(X)을 따라 이송될 수 있다.Additionally, the substrate S transferred from the
메인터넌스 영역(20)에서는 주로, 후술하는 헤드 유닛(40)에 대한 메인터넌스가 이루어질 수 있다. 예컨대, 메인터넌스 영역(20)에서는 헤드 유닛(40)의 상태를 확인하거나, 헤드 유닛(40)에 대한 세정이 수행될 수 있다. 메인터넌스 영역(20)은 상부에서 바라볼 때, 그 길이 방향이 제1방향(X)일 수 있다. 또한, 메인터넌스 영역(20)은 프린팅 영역(10)과 나란히 배치될 수 있다. 예컨대, 메인터넌스 영역(20)과 프린팅 영역(10)은 제2방향(Y)을 따라 나란히 배열될 수 있다. In the
또한, 메인터넌스 영역(20)의 경우에도 후술하는 헤드 유닛(40)이 토출하는 잉크(I)들의 타점 보정, 잉크(I) 액적의 볼륨 조절, 잉크(I) 토출량 제어 등을 위한 잉크(I) 토출이 이루어질 수 있기 때문에 프린팅 영역(10)과 동일 또는 유사한 공정 환경을 가질 수 있다.In addition, in the case of the
겐트리(30)는 후술하는 헤드 유닛(40) 또는 후술하는 제4비전 부(60)가 이 직선 왕복 이동을 할 수 있도록 구비될 수 있는 것이다. 겐트리(30)는 제1겐트리(31), 제2겐트리(32), 그리고 제3겐트리(33)를 포함할 수 있다. 제1겐트리(31)와 제2겐트리(32)는 프린팅 영역(10) 및 메인터넌스 영역(20)을 따라 연장되는 구조를 갖도록 구비될 수 있다. 또한, 제1겐트리(31)와 제2겐트리(32)는 제1방향(X)을 따라 서로 이격되어 배치될 수 있다. 즉, 제1겐트리(31)와 제2겐트리(32)는 후술하는 헤드 유닛(40)이 제2방향(Y)을 따라 이동할 수 있게 프린팅 영역(10) 및 메인터넌스 영역(20)이 배치되는 제2방향(Y)을 따라 연장되는 구조를 갖도록 구비될 수 있다.The
또한, 제3겐트리(33)는 프린팅 영역(10)을 제2방향(Y)을 따라 연장되는 구조를 갖도록 구비될 수 있다. 즉, 제3겐트리(33)는 제4비전 부(60)가 제2방향(Y)을 따라 이동할 수 있게 연장되는 구조를 갖도록 구비될 수 있다. 제4비전 부(60)는 제3겐트리(33)를 따라 왕복 이동하면서, 후술하는 헤드 유닛(40)이 메인터넌스 영역(20)에서 토출하는 잉크(I)의 타점, 잉크(I)의 토출 양을 확인할 수 있는 이미지를 획득할 수 있다. 예컨대, 헤드 유닛(40)은 메인터넌스 영역(20)에 제공될 수 있는 캘리브레이션 보드(미도시)에 잉크(I)를 토출하고, 캘리브레이션 보드는 제4비전 부(60)의 하부 영역으로 이동되고, 제4비전 부(60)는 잉크(I)가 토출된 캘리브레이션 보드의 이미지를 획득할 수 있다. 제4비전 부(60)가 획득한 이미지는 후술하는 제어기(200)로 전달될 수 있다. 제4비전 부(60)는 이미지 획득 모듈을 포함하는 카메라일 수 있다. Additionally, the
도 2는 도 1의 헤드 유닛, 흡수 유닛, 조사 유닛, 그리고 제거 유닛의 모습을 개략적으로 보여주는 도면이고, 도 3은 도 2의 헤드가 가지는 노즐 플레이트의 모습을 보여주는 도면이다. FIG. 2 is a diagram schematically showing the head unit, absorption unit, irradiation unit, and removal unit of FIG. 1, and FIG. 3 is a diagram showing the nozzle plate of the head of FIG. 2.
도 1 내지 도 3을 참조하면, 헤드 유닛(40)은 기판(S)으로 잉크(I) 액적을 토출할 수 있다. 헤드 유닛(40)은 기판(S)으로 잉크(I)를 토출하여 기판(S)에 대한 프린팅 공정을 수행할 수 있다. 예컨대, 헤드 유닛(40)은 제2방향(Y)을 따라 왕복 이동하면서 기판(S)으로 잉크 액적(I)을 토출하여 기판(S)에 대한 프린팅 공정을 수행할 수 있다. Referring to FIGS. 1 to 3 , the
헤드 유닛(40)은 헤드(42), 헤드 프레임(44), 헤드 인터페이스 보드(45), 제1비전 부(46), 그리고 제2비전 부(48)를 포함할 수 있다. The
헤드(42)는 복수로 제공될 수 있다. 복수의 헤드(42)는 제1방향(X)을 따라 나란히 배열될 수 있다. 복수의 헤드(42)들은 헤드 프레임(44)에 끼워질 수 있다. 또한, 헤드(42)는 잉크(I)를 토출하는 복수의 노즐(42b)이 형성된 노즐 플레이트(42a)를 포함할 수 있다.The
또한, 헤드 프레임(44)에는 헤드 인터페이스 보드(45)가 설치될 수 있다. 헤드 인터페이스 보드(45)는 헤드(42)를 제어하여, 헤드(42)가 토출하는 잉크(I)의 토출 양 및/또는 토출 시기 등을 제어할 수 있다. 헤드 인터페이스 보드(45)는 후술하는 제어기(200)로부터 제어 신호를 전달받고, 전달받은 신호에 근거하여 헤드(42)들을 제어할 수 있다.Additionally, a
제1비전 부(46)와 제2비전 부(48)는 후술하는 헤드 프레임(44)에 설치될 수 있다. 또한, 상부에서 바라볼 때 제1비전 부(46)와 제2비전 부(48)는 헤드(42)의 일 측에 결합될 수 있다. 제1비전 부(46)와 제2비전 부(48)는 헤드 유닛(40)이 기판(S)으로 토출하는 잉크(I)의 타점, 잉크(I)의 토출 양을 확인할 수 있는 이미지를 획득할 수 있다. 예컨대, 헤드 유닛(40)이 프린팅 영역(10)에 제공되는 기판(S)으로 잉크(I)를 토출하면, 제1비전 부(46)와 제2비전 부(48)는 기판(S)을 촬상하고, 촬상된 이미지는 후술하는 제어기(200)로 전달될 수 있다. 사용자는 제어기(200)로 전달된 제1비전 부(46)와 제2비전 부(48)가 촬상한 이미지를 통해 기판(S)에 토출된 잉크(I)의 타점, 또는 잉크(I)의 토출 양을 확인 수 있다. 제1비전 부(46)와 제2비전 부(48)는 제1방향(X)을 따라 나란히 배치될 수 있다. 제1비전 부(46)와 제2비전 부(48)는 헤드(42)가 토출하는 잉크(I)들을 확인할 수 있는 카메라일 수 있다.The
헤드(42)는 헤드 프레임(44)을 매개로 제1겐트리(31)와 제2겐트리(32)에 이동 가능하게 결합될 수 있다. 예컨대, 헤드(42)는 제1겐트리(31)와 제2겐트리(32)의 길이 방향인 제2방향(Y)을 따라 이동 가능하게 제공될 수 있다. 또한, 헤드(42)는 제1겐트리(31)와 제2겐트리(32)의 길이 방향인 제2방향(Y)을 따라 프린팅 영역(10), 그리고 메인터넌스 영역(20) 사이를 직선 왕복 이동할 수 있다. The
다시 도 1을 참조하면, 노즐 얼라인 부(50)는 메인터넌스 영역(20)에 제공될 수 있다. 노즐 얼라인 부(50)는 상부에서 바라볼 때 제1겐트리(31)와 제2겐트리(32) 사이에 제공될 수 있다. 이에, 노즐 얼라인 부(50)는 헤드(42)에 형성된 노즐(42b)들의 상태를 확인할 수 있다. 예컨대, 노즐 얼라인 부(50)는 이동 레일(52), 그리고 제3비전 부(54)를 포함할 수 있다. 이동 레일(52)은 그 길이 방향이 제1방향(X) 일 수 있다. 제3비전 부(54)는 이동 레일(52)의 길이 방향인 제1방향(X)을 따라 직선 왕복 이동할 수 있다. 제3비전 부(54)는 이동 레일(52)의 길이 방향을 따라 이동하면서 헤드(42)의 노즐(42b)들을 촬상할 수 있다.Referring again to FIG. 1, the
흡수 유닛(70)은 노즐 플레이트(42a)의 하면에 잉크(I)를 흡수할 수 있는 흡수 부재(71)를 접촉시켜 잉크(I)가 잔류하는 노즐 플레이트(42a)를 세정할 수 있다. 흡수 유닛(70)은 메인터넌스 영역(20)에 제공될 수 있다. 흡수 유닛(70)은 LM 가이드 등의 이동 레일을 통해 메인터넌스 영역(20)에서 제1방향(X)을 따라 이동될 수 있다. 흡수 유닛(70)의 구체적인 구조는 후술한다.The
조사 유닛(80)은 노즐 플레이트(42a)의 하면에 광(L)을 조사하여 노즐 플레이트(42a)에 부착된 잉크(I)를 경화시킬 수 있다. 조사 유닛(80)은 메인터넌스 영역(20)에 제공될 수 있다. 조사 유닛(80)은 LM 가이드 등의 이동 레일을 통해 메인터넌스 영역(20)에서 제1방향(X)을 따라 이동될 수 있다. 흡수 유닛(70)의 구체적인 구조는 후술한다.The
제거 유닛(90)은 노즐 플레이트(42a)에 형성된 노즐(42b)의 주변 영역에 부착되며, 조사 유닛(80)이 조사하는 광(L)에 의해 경화된 잉크(I)를 테이프인 제거 부재를 노즐 플레이트(42a)와 접촉시켜 노즐 플레이트(42a)로부터 경과된 잉크(I)를 제거할 수 있다. 제거 유닛(90)은 메인터넌스 영역(20)에 제공될 수 있다. 제거 유닛(90)은 LM 가이드 등의 이동 레일을 통해 메인터넌스 영역(20)에서 제1방향(X)을 따라 이동될 수 있다. 제거 유닛(90)의 구체적인 구조는 후술한다.The
또한, 흡수 유닛(70), 조사 유닛(80), 그리고 제거 유닛(90)은 제1방향(X)을 따라 순차적으로 배열될 수 있다. 예컨대, 흡수 유닛(70), 조사 유닛(80), 그리고 제거 유닛(90)이 이동시 순차적으로 헤드 유닛(40)의 하부 영역에 이를 수 있도록 흡수 유닛(70), 조사 유닛(80), 그리고 제거 유닛(90)은 제1방향(X)을 따라 순차적으로 배열될 수 있다.Additionally, the
제어기(200)는 기판 처리 장치(100)를 제어할 수 있다. 제어기(200)는 기판 처리 장치(100)가 기판(S)에 대한 프린팅 공정을 수행할 수 있도록 기판 처리 장치(100)를 제어할 수 있다. 또한, 제어기(200)는 기판 처리 장치(100)의 헤드 유닛(40)이 기판(S)으로 잉크(I)를 토출하여 기판(S)에 대한 프린팅 공정을 수행할 수 있도록 헤드 유닛(40)을 제어할 수 있다. 또한, 제어기(200)는 기판 처리 장치(100)가 헤드 유닛(40)에 대한 메인터넌스를 수행할 수 있도록 기판 처리 장치(100)를 제어할 수 있다. 예컨대, 제어기(200)는 흡수 유닛(70), 조사 유닛(80), 그리고 제거 유닛(90)이 헤드(42)를 세정할 수 있도록 흡수 유닛(70), 조사 유닛(80), 그리고 제거 유닛(90)을 제어할 수 있다. 또한, 제어기(200)는 흡수 유닛(70), 조사 유닛(80), 그리고 제어 유닛(90)이 노즐(42b)이 형성된 노즐 플레이트(42a)를 세정할 수 있도록 흡수 유닛(70), 조사 유닛(80), 그리고 제거 유닛(90)을 제어할 수 있다. 또한, 제어기(200)는 기판 처리 장치(100)가 이하에서 설명하는 헤드 세정 방법(예컨대, 노즐(42b)이 형성된 노즐 플레이트(42a)의 세정 방법)을 수행할 수 있도록 기판 처리 장치(100)를 제어할 수 있다.The
또한, 제어기(200)는 기판 처리 장치(100)의 제어를 실행하는 마이크로프로세서(컴퓨터)로 이루어지는 프로세스 컨트롤러와, 오퍼레이터가 기판 처리 장치(100)를 관리하기 위해서 커맨드 입력 조작 등을 행하는 키보드나, 기판 처리 장치(100)의 가동 상황을 가시화해서 표시하는 디스플레이 등으로 이루어지는 유저 인터페이스와, 기판 처리 장치(100)에서 실행되는 처리를 프로세스 컨트롤러의 제어로 실행하기 위한 제어 프로그램이나, 각종 데이터 및 처리 조건에 따라 각 구성부에 처리를 실행시키기 위한 프로그램, 즉 처리 레시피가 저장된 기억부를 구비할 수 있다. 또한, 유저 인터페이스 및 기억부는 프로세스 컨트롤러에 접속되어 있을 수 있다. 처리 레시피는 기억 부 중 기억 매체에 기억되어 있을 수 있고, 기억 매체는, 하드 디스크이어도 되고, CD-ROM, DVD 등의 가반성 디스크나, 플래시 메모리 등의 반도체 메모리 일 수도 있다. In addition, the
도 2를 참조하면, 흡수 유닛(70)은 제1공급 부(72), 제1회수 부(73), 제1-1롤러(74-1), 제1-2롤러(74-2), 제1지지 부(75), 제1승강 부(76), 그리고 제1몸체(77)를 포함할 수 있다. 흡수 유닛(70)은 상술한 바와 같이 노즐 플레이트(42a)의 하면에 잉크(I)를 흡수하는 흡수 부재(71)를 접촉시켜 잉크(I)가 잔류하는 노즐 플레이트(42a)를 세정할 수 있다. 흡수 부재(71)는 천 소재로 제공될 수 있다. 또한, 흡수 부재(71)는 폴리에스터(Polyster)를 포함하는 소재로 제공될 수 있다.Referring to FIG. 2, the
제1공급 부(72)는 노즐 플레이트(42a)의 하면과 접촉되는 흡수 부재(71)를 공급할 수 있다. 제1공급 부(72)는 회전 가능한 롤러일 수 있다. 제1회수 부(73)는 제1공급 부(72)가 공급하는 흡수 부재(71)를 회수할 수 있다. 제1회수 부(73)는 회전 가능한 롤러일 수 있다. 제1공급 부(72)에는 흡수 부재(71)가 감겨져 있을 수 있다. 제1공급 부(72)가 회전하면, 제1회수 부(73)도 함께 회전될 수 있다. 이에, 제1공급 부(72)에 감겨져 있던 흡수 부재(71)는 제1회수 부(73)에 감겨질 수 있다. 또한, 제1공급 부(72)와 제1회수 부(73)는 후술하는 제1몸체(77)에 설치될 수 있다.The
또한, 제1-1롤러(74-1), 제1-2롤러(74-2)는 상부에서 바라볼 때, 제1공급 부(72), 그리고 제1회수 부(73)의 외측에 배치될 수 있다. 제1-1롤러(74-1), 그리고 제1-2롤러(74-2)는 후술하는 제1몸체(77)에 설치될 수 있다. 또한, 제1-1롤러(74-1), 제1-2롤러(74-2)는 제1공급 부(72), 그리고 제1회수 부(73)의 상부에 배치될 수 있다. 제1-1롤러(74-1), 그리고 제1-2롤러(74-2)는 후술하는 제1지지 부(75)에 지지되는 흡수 부재(71)가 팽팽해 질 수 있게 한다.In addition, the 1-1 roller 74-1 and the 1-2 roller 74-2 are disposed outside the
제1지지 부(75)는 흡수 부재(71)가 이동하는 경로를 기준으로 제1공급 부(72), 그리고 제1회수 부(73) 사이에 배치될 수 있다. 제1지지 부(75)는 제1공급 부(72)가 공급하고, 제1회수 부(73)가 회수하는 흡수 부재(71)를 지지할 수 있다. 제1지지 부(75)는 후술하는 제1몸체(77)에 설치될 수 있다. 또한, 제1지지 부(75)는 헤드(42)의 노즐 플레이트(42a)의 하면과 대향되도록 배치될 수 있다. 또한, 제1지지 부(75)는 제1지지 컴포넌트(75-1), 그리고 제1지지 프레임(75-2)을 포함할 수 있다. 제1지지 프레임(75-2)은 후술하는 제1몸체(77)에 설치되고, 제1지지 컴포넌트(75-1)는 제1지지 프레임(75-2)에 설치될 수 있다. 제1지지 컴포넌트(75-1)는 적어도 하나 이상이 제1지지 프레임(75-2)에 설치될 수 있다. 예컨대, 제1지지 컴포넌트(75-1)는 복수로 제공될 수 있다. 또한, 제1지지 컴포넌트(75-1)들은 헤드(42)가 배열되는 방향과 동일한 방향으로 배열될 수 있다. 제1지지 컴포넌트(75-1)는 탄성을 가지는 소재로 제공될 수 있다. 예컨대, 제1지지 컴포넌트(75-1)는 실리콘을 포함하는 소재로 제공될 수 있다. 또한, 제1지지 컴포넌트(75-1)는 상단이 라운드 진 형상을 가질 수 있다. 이에, 흡수 부재(71)가 찢기거나, 노즐 플레이트(42a)의 하면에 스크래치 등을 발생시키는 문제점을 최소화 할 수 있다.The
제1승강 부(76)는 제1공급 부(72)가 공급하는 흡수 부재(71)가 노즐 플레이트(42a)와 접촉될 수 있도록 제1공급 부(72), 제1회수 부(73), 그리고 제1지지 부(75) 중 적어도 어느 하나를 승강시킬 수 있다. 예컨대, 제1승강 부(76)는 제1공급 부(72)가 공급하는 흡수 부재(71)가 노즐 플레이트(42a)와 접촉될 수 있도록 제1공급 부(72), 제1회수 부(73), 그리고 제1지지 부(75)를 승강시킬 수 있다.The
또한, 제1승강 부(76)는 제1공급 부(72), 제1회수 부(73), 제1-1롤러(74-1), 제1-2롤러(74-2), 그리고 제1지지 부(75)가 설치되는 제1몸체(77)의 하부에 설치될 수 있다. 예컨대, 제1승강 부(76)는 제1승강 플레이트(76-1), 그리고 제1구동 기(76-2)를 포함할 수 있다. 제1승강 플레이트(76-1)는 제1몸체(77)의 하면에 결합될 수 있다. 제1구동 기(76-2)는 제1승강 플레이트(76-1)를 상하 방향으로 이동시킬 수 있다. 제1구동 기(76-2)는 모터, 공압 실린더, 유압 실린더 중 어느 하나로 제공될 수 있다. 그러나, 이에 한정되는 것은 아니고 제1구동기(76-2)는 제1승강 플레이트(76-1)를 상하 방향으로 이동시킬 수 있는 공지된 장치로 다양하게 변형될 수 있다.In addition, the first elevating
조사 유닛(80)은 노즐 플레이트(42a)의 하면으로 광(L)을 조사할 수 있다. 조사 유닛(80)은 노즐 플레이트(42a)의 하면으로 광(L)을 조사하여, 노즐 플레이트(42a)에 존재하는 잉크(I)를 제거하기 용이한 고체로 경화시킬 수 있다. 조사 유닛(80)은 광원(81), 그리고 조사 부(83)를 포함할 수 있다. 광원(81)이 발생시키는 광(L)은 조사 부(83)로 전달되어 노즐 플레이트(42a)의 하면에 전달될 수 있다. 또한, 조사 유닛(80)이 조사하는 광(L)은 적외선 영역의 파장을 가지는 적외선 광, 자외선 영역의 파장을 가지는 자외선 광 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.The
제거 유닛(90)은 제2공급 부(92), 제2회수 부(93), 제2-1롤러(94-1), 제2-2롤러(94-2), 제2지지 부(95), 제2승강 부(96), 그리고 제2몸체(97)를 포함할 수 있다. 제거 유닛(90)은 상술한 바와 같이 노즐 플레이트(42a)의 노즐(42a)의 주변 영역에 부착되며, 조사 유닛(80)이 조사하는 광(L)에 의해 경화된 잉크(I)를 제거할 수 있다. 제거 유닛(90)은 테이프인 제거 부재(91)를 노즐 플레이트(42a)와 접촉시켜 노즐 플레이트(42a)로부터 경화된 잉크(I)를 제거할 수 있다. The
제거 부재(91)는 상술한 바와 같이 테이프 일 수 있다. 제거 부재(91)는 접착력이 다소 약한 비점착 테이프일 수 있다. 제거 부재(91)가 접착력이 강한 테이프인 경우, 제거 부재(91)에 제공되는 접착 물질이 노즐 플레이트(42a)의 하면에 전달되어 노즐 플레이트(42a)의 하면을 재오염시킬 수 있다. 그러나, 본원 발명의 제거 부재(91)가 비점착 테이프로 제공되어, 노즐 플레이트(42a)의 하면을 오염시키는 문제를 최소화 할 수 있다.The
제2공급 부(92)는 노즐 플레이트(42a)의 하면과 접촉되는 제거 부재(91)를 공급할 수 있다. 제2공급 부(92)는 회전 가능한 롤러일 수 있다. 제2회수 부(93)는 제2공급 부(92)가 공급하는 제거 부재(91)를 회수할 수 있다. 제2회수 부(93)는 회전 가능한 롤러일 수 있다. 제2공급 부(92)에는 제거 부재(91)가 감겨져 있을 수 있다. 제2공급 부(92)가 회전하면, 제2회수 부(93)도 함께 회전될 수 있다. 이에, 제2공급 부(92)에 감겨져 있던 제거 부재(91)는 제2회수 부(93)에 감겨질 수 있다. 또한, 제2공급 부(92)와 제2회수 부(93)는 후술하는 제2몸체(97)에 설치될 수 있다.The
또한, 제2-1롤러(94-1), 제2-2롤러(94-2)는 상부에서 바라볼 때, 제2공급 부(92), 그리고 제2회수 부(93)의 외측에 배치될 수 있다. 제2-1롤러(94-1), 그리고 제2-2롤러(94-2)는 후술하는 제2몸체(97)에 설치될 수 있다. 또한, 제2-1롤러(94-1), 제2-2롤러(94-2)는 제2공급 부(92), 그리고 제2회수 부(93)의 상부에 배치될 수 있다. 제2-1롤러(94-1), 그리고 제2-2롤러(94-2)는 후술하는 제2지지 부(95)에 지지되는 제거 부재(91)가 팽팽해 질 수 있게 한다.In addition, the 2-1 roller 94-1 and the 2-2 roller 94-2 are disposed outside the
제2지지 부(95)는 제거 부재(91)가 이동하는 경로를 기준으로 제2공급 부(92), 그리고 제2회수 부(93) 사이에 배치될 수 있다. 제2지지 부(95)는 제2공급 부(92)가 공급하고, 제2회수 부(93)가 회수하는 제거 부재(91)를 지지할 수 있다. 제2지지 부(95)는 후술하는 제2몸체(97)에 설치될 수 있다. 또한, 제2지지 부(95)는 헤드(42)의 노즐 플레이트(42a)의 하면과 대향되도록 배치될 수 있다. 또한, 제2지지 부(95)는 제2지지 컴포넌트(95-1), 그리고 제2지지 프레임(95-2)을 포함할 수 있다. 제2지지 프레임(95-2)은 후술하는 제2몸체(97)에 설치되고, 제2지지 컴포넌트(95-1)는 제2지지 프레임(95-2)에 설치될 수 있다. 제2지지 컴포넌트(95-1)는 적어도 하나 이상이 제2지지 프레임(95-2)에 설치될 수 있다. 예컨대, 제2지지 컴포넌트(95-1)는 복수로 제공될 수 있다. 또한, 제2지지 컴포넌트(95-1)들은 헤드(42)가 배열되는 방향과 동일한 방향으로 배열될 수 있다. 제2지지 컴포넌트(95-1)는 탄성을 가지는 소재로 제공될 수 있다. 예컨대, 제2지지 컴포넌트(95-1)는 실리콘을 포함하는 소재로 제공될 수 있다. 또한, 제2지지 컴포넌트(95-1)는 상단이 라운드 진 형상을 가질 수 있다. 이에, 제거 부재(91)가 찢기거나, 노즐 플레이트(42a)의 하면에 스크래치 등을 발생시키는 문제점을 최소화 할 수 있다.The
제2승강 부(96)는 제2공급 부(92)가 공급하는 제거 부재(91)가 노즐 플레이트(42a)와 접촉될 수 있도록 제2공급 부(92), 제2회수 부(93), 그리고 제2지지 부(95) 중 적어도 어느 하나를 승강시킬 수 있다. 예컨대, 제2승강 부(96)는 제2공급 부(92)가 공급하는 제거 부재(91)가 노즐 플레이트(42a)와 접촉될 수 있도록 제2공급 부(92), 제2회수 부(93), 그리고 제2지지 부(95)를 승강시킬 수 있다.The
또한, 제2승강 부(96)는 제2공급 부(92), 제2회수 부(93), 제2-1롤러(94-1), 제2-2롤러(94-2), 그리고 제2지지 부(95)가 설치되는 제2몸체(97)의 하부에 설치될 수 있다. 예컨대, 제2승강 부(96)는 제2승강 플레이트(96-1), 그리고 제2구동 기(96-2)를 포함할 수 있다. 제2승강 플레이트(96-1)는 제2몸체(97)의 하면에 결합될 수 있다. 제2구동 기(96-2)는 제2승강 플레이트(96-1)를 상하 방향으로 이동시킬 수 있다. 제2구동 기(96-2)는 모터, 공압 실린더, 유압 실린더 중 어느 하나로 제공될 수 있다. 그러나, 이에 한정되는 것은 아니고 제2구동 기(96-2)는 제2승강 플레이트(96-1)를 상하 방향으로 이동시킬 수 있는 공지된 장치로 다양하게 변형될 수 있다.In addition, the second elevating
이하에서는, 본 발명의 일 실시 예에 따른 헤드(42) 세정 방법(또는 노즐 플레이트(42a)의 세정 방법)에 대하여 설명한다. 도 4는 본 발명의 일 실시 예에 따른 헤드 세정 방법을 보여주는 도면이다. 도 4를 참조하면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 헤드 세정 방법은, 흡수 단계(S10), 경화 단계(S20), 그리고 제거 단계(S30)를 포함할 수 있다. 흡수 단계(S10), 경화 단계(S20), 그리고 제거 단계(S30)는 순차적으로 수행될 수 있다.Below, a method for cleaning the head 42 (or a method for cleaning the
흡수 단계(S10)에는 노즐 플레이트(42a)의 하면에 잉크(I)를 흡수 할 수 있는 흡수 부재(71)를 접촉시켜 잉크(I)가 잔류하는 노즐 플레이트(42a)를 세정할 수 있다(도 5 참조). 흡수 단계(S10)가 수행되면, 노즐 플레이트(42a)에 잔류하는 잉크(I)들은 대체로 노즐 플레이트(42a)로부터 제거될 수 있다(도 6 참조). 즉, 흡수 단계(S10)가 후술하는 경화 단계(S20) 이전에 수행됨으로써, 경화 단계(S20)에서 소요되는 시간을 효과적으로 단축시킬 수 있다. In the absorption step (S10), the nozzle plate (42a) on which the ink (I) remains can be cleaned by contacting the absorption member (71) capable of absorbing the ink (I) with the lower surface of the nozzle plate (42a) (Figure 5). When the absorption step (S10) is performed, the ink (I) remaining on the
경화 단계(S20)에는 노즐 플레이트(42a)의 하면으로 자외선 영역의 파장을 가지는 자외선 광(L)을 조사할 수 있다(도 7 참조). 자외선 광(L)이 노즐 플레이트(42a)의 하면에 조사되면, 노즐 플레이트(42a)에 부착된 잉크(I)들은 경화될 수 있다. 예컨대, 노즐(42b)의 주변 영역에 부착된 액체 상태의 잉크(I)를 고체 상태로 상전이 시킬 수 있다(도 8 참조). In the curing step (S20), ultraviolet light (L) having a wavelength in the ultraviolet region may be irradiated to the lower surface of the
제거 단계(S30)에는 제2승강 부(96)가 제2몸체(97)를 들어올려, 비점착 테이프인 제거 부재(91)를 노즐 플레이트(42a)의 하면과 접촉시킬 수 있다(도 9 참조). 또한, 제거 단계(S30)에는 제거 부재(91)가 위 방향으로 이동하여 노즐 플레이트(42a)의 하면과 접촉(도 10 참조)된 이후, 제거 부재(91)가 아래 방향으로 이동하여 노즐 플레이트(42a)의 하면으로부터 이격될 수 있다(도 11 참조). 이 경우, 비점착 테이프인 제거 부재(91)는 경화 단계(S20)에서 경화된 잉크(I)를 노즐 플레이트(42a)로부터 분리할 수 있다. 또한, 제거 단계(S30)는 복수 회 반복하여 수행될 수 있다. 즉, 제거 부재(91)가 위/아래 방향으로 반복하여 이동하여 노즐 플레이트(42a)로부터 고화된 잉크(I)를 제거할 수 있다.In the removal step (S30), the
노즐 플레이트(42a)에 잔류하는 잉크 또는 이물질은 노즐(42b)을 막거나, 표면 특성을 바꾼다. 이는 헤드(42)의 잉크(I) 토출성에 영향을 끼친다. 또한, 노즐(42b)에 잉크(I)가 잔존하게 되면, 잉크(I)의 종류를 변경하는 경우, 노즐(42b)에 잔존하는 잉크(I)와 변경된 잉크(I)가 서로 섞이는 문제가 발생할 수 있다. 이러한 문제를 해결하기 위해, 기존의 헤드 세정 방법은 에탄올 등의 유기 용매를 이용하여 노즐(42b)에 잔존하는 잉크(I)를 화학적으로 녹이거나, 와이퍼 또는 손으로 문지르는 방식으로 헤드(42)를 세정한다. 그러나, 이러한 방식은 노즐(42b)의 직경이 점차 작아짐에 따라 노즐(42b)에 잔류하는 미세 잉크(I)를 제거하기에 적합하지 않고, 와이퍼나 손으로 문지르는 방식은 노즐 플레이트(42a)의 하면을 재 오염시킬 가능성이 매우 높다(도 12, 그리고 도 13 참조). 또한, 와이퍼나 손으로 문지르는 방식은 작업자에 따라 세정 정도가 달라지는 문제를 발생시킨다.Ink or foreign substances remaining on the
그러나, 본 발명의 일 실시 예에 의하면, 자외선 광(L)을 조사하여 잉크(I)를 경화시키고, 경화된 잉크(I)를 비점착 테이프인 제거 부재(91)를 통해 제거한다. 잉크(I)가 경화됨에 따라 잉크(I)가 가지는 전체 체적은 줄어든다. 또한, 제거 부재(91)가 경화된 잉크(I)를 제거함에 따라 노즐(42b)이 미세한 크기를 가지더라도, 노즐(42b) 내에 잔류하는 잉크(I)를 효과적으로 제거할 수 있다(도 14, 그리고 도 15 참조).However, according to one embodiment of the present invention, the ink (I) is cured by irradiating ultraviolet light (L), and the cured ink (I) is removed through the
상술한 예에서는, 흡수 단계(S10)가 경화 단계(S20) 이전에 수행되는 것을 예로 들어 설명하였으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 예컨대, 도 16에 도시된 바와 같이 조사 유닛(80), 제거 유닛(90), 그리고 흡수 유닛(70)은 제1방향(X)을 따라 순차적으로 배열될 수 있다. 이 경우, 흡수 단계(S10)는 제거 단계(S30) 이후에 수행될 수 있다. 흡수 단계(S10)가 제거 단계(S30) 이후에 수행되는 경우, 제거 단계(S30)에서 미처 제거되지 못한 잉크(I)들을 흡수하여 헤드(42)에 대한 세정 효율을 보다 높일 수 있다.In the above example, the absorption step (S10) is performed before the curing step (S20), but it is not limited thereto. For example, as shown in FIG. 16, the
또한, 상술한 예에서는 경화 단계(S20)에서 노즐 플레이트(42a)의 하면에 광(L)을 조사하는 것을 예로 들어 설명하였으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 예컨대, 경화 단계(S20)는 잉크(I)의 자연 휘발에 의해 수행될 수 있고, 노즐 플레이트(42a)의 하면에 잉크(I)의 휘발을 촉진시키는 기체를 분사하여 수행될 수도 있다.In addition, in the above-described example, irradiation of light L to the lower surface of the
또한, 상술한 예에서는 제거 부재(91)가 비점착 테이프인 것을 예로 들어 설명하였으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 예컨대, 제거 부재(91)는 비점착 테이프 이외의 테이프로 제공될 수도 있다. 이 경우, 제거 부재(91)의 접착제 성분이 노즐 플레이트(42a)에 전이될 수 있으므로, 제거 부재(91)는 접착제 성분이 유기 용제 또는 알칼리 용액에 잘 녹을 수 있는 성질을 가지는 테이프를 사용하는 것이 적절하다.In addition, in the above-described example, the
이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내어 설명하는 것이며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 즉 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 저술한 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 구현하기 위한 최선의 상태를 설명하는 것이며, 본 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다. The above detailed description is illustrative of the present invention. Additionally, the foregoing is intended to illustrate preferred embodiments of the present invention, and the present invention can be used in various other combinations, modifications, and environments. That is, changes or modifications can be made within the scope of the inventive concept disclosed in this specification, a scope equivalent to the written disclosure, and/or within the scope of technology or knowledge in the art. The written examples illustrate the best state for implementing the technical idea of the present invention, and various changes required for specific application fields and uses of the present invention are also possible. Accordingly, the detailed description of the invention above is not intended to limit the invention to the disclosed embodiments. Additionally, the appended claims should be construed to include other embodiments as well.
기판 처리 장치 : 100
헤드 유닛 : 40
노즐 플레이트 : 42a
노즐 : 42b
흡수 유닛 : 70
흡수 부재 : 71
제1공급 부 : 72
제1회수 부 : 73
제1-1롤러 : 74-1
제1-2롤러 : 74-2
제1지지 부 : 75
제1지지 컴포넌트 : 75-1
제1지지 프레임 : 75-2
제1승강 부 : 76
제1승강 플레이트 : 76-1
제1구동기 : 76-2
제1몸체 : 77
조사 유닛 : 80
광원 : 81
조사 부 : 83
광 : L
제거 유닛 : 90
제거 부재 : 91
제2공급 부 : 92
제2회수 부 : 93
제2-1롤러 : 94-1
제2-2롤러 : 94-2
제2지지 부 : 95
제2지지 컴포넌트 : 95-1
제2지지 프레임 : 95-2
제2승강 부 : 96
제2승강 플레이트 : 96-1
제2구동기 : 96-2
제2몸체 : 97
흡수 단계 : S10
경화 단계 : S20
제거 단계 : S30Substrate processing units: 100
Head unit: 40
Nozzle plate: 42a
Nozzle: 42b
Absorption units: 70
Absorbent member: 71
1st supply section: 72
Part 1: 73
1-1 roller: 74-1
1st-2nd roller: 74-2
First support: 75
First support component: 75-1
First support frame: 75-2
1st elevator section: 76
1st lifting plate: 76-1
1st actuator: 76-2
First body: 77
Investigation units: 80
Light Source: 81
Investigation Department: 83
Light: L
Removal Units: 90
Removal member: 91
Second supply section: 92
Second recovery part: 93
2-1 roller: 94-1
2-2 roller: 94-2
Second support part: 95
Second support component: 95-1
Second support frame: 95-2
2nd lift section: 96
Second lifting plate: 96-1
Second actuator: 96-2
2nd body: 97
Absorption stage: S10
Curing stage: S20
Removal Steps: S30
Claims (20)
상기 노즐의 주변 영역에 부착된 상기 잉크를 경화시키는 경화 단계; 및
상기 노즐이 형성된 노즐 플레이트의 하면에 테이프인 제거 부재를 접촉시켜 경화된 상기 잉크를 상기 노즐 플레이트로부터 제거하는 제거 단계를 포함하되,
상기 경화 단계에는,
상기 노즐 플레이트의 하면에 광을 조사하여 상기 잉크를 경화시키는 헤드 세정 방법.In a method of cleaning a head provided with at least one nozzle that discharges ink,
A curing step of curing the ink attached to the peripheral area of the nozzle; and
A removal step of removing the cured ink from the nozzle plate by contacting a removal member, which is a tape, with the lower surface of the nozzle plate on which the nozzle is formed,
In the curing step,
A head cleaning method of curing the ink by irradiating light to the lower surface of the nozzle plate.
상기 노즐 플레이트의 하면에 조사되는 상기 광은,
적외선 광, 그리고 자외선 광 중 적어도 어느 하나를 포함하는 헤드 세정 방법.According to paragraph 1,
The light irradiated to the lower surface of the nozzle plate,
A head cleaning method comprising at least one of infrared light and ultraviolet light.
상기 노즐의 주변 영역에 부착된 상기 잉크를 경화시키는 경화 단계; 및
상기 노즐이 형성된 노즐 플레이트의 하면에 테이프인 제거 부재를 접촉시켜 경화된 상기 잉크를 상기 노즐 플레이트로부터 제거하는 제거 단계를 포함하고,
상기 제거 부재는,
비점착 테이프인 헤드 세정 방법.In a method of cleaning a head provided with at least one nozzle that discharges ink,
A curing step of curing the ink attached to the peripheral area of the nozzle; and
A removal step of removing the cured ink from the nozzle plate by contacting a removal member, which is a tape, with a lower surface of the nozzle plate on which the nozzle is formed,
The removal member is,
How to clean the non-adhesive tape head.
상기 노즐의 주변 영역에 부착된 상기 잉크를 경화시키는 경화 단계; 및
상기 노즐이 형성된 노즐 플레이트의 하면에 테이프인 제거 부재를 접촉시켜 경화된 상기 잉크를 상기 노즐 플레이트로부터 제거하는 제거 단계를 포함하되,
상기 방법은,상기 노즐이 형성된 상기 노즐 플레이트의 하면에 상기 잉크를 흡수할 수 있는 흡수 부재를 접촉시켜 상기 잉크가 잔류하는 상기 노즐 플레이트를 세정하는 흡수 단계를 포함하는 헤드 세정 방법.In a method of cleaning a head provided with at least one nozzle that discharges ink,
A curing step of curing the ink attached to the peripheral area of the nozzle; and
A removal step of removing the cured ink from the nozzle plate by contacting a removal member, which is a tape, with the lower surface of the nozzle plate on which the nozzle is formed,
The method includes an absorption step of cleaning the nozzle plate on which the ink remains by contacting an absorbing member capable of absorbing the ink with the lower surface of the nozzle plate where the nozzles are formed.
상기 흡수 단계는,
상기 경화 단계 이전에 또는 상기 제거 단계 이후에 수행되는 헤드 세정 방법.According to clause 5,
The absorption step is,
A head cleaning method performed before said curing step or after said removing step.
상기 제거 단계는,
복수 회 반복하여 수행되는 헤드 세정 방법.According to any one of paragraphs 1 and 3,
The removal step is,
A head cleaning method that is repeated multiple times.
상기 노즐 플레이트의 하면에 광을 조사하여 상기 노즐의 주변 영역에 부착된 상기 처리 액을 경화시키는 경화 단계; 및
상기 노즐 플레이트의 하면에 테이프인 제거 부재를 접촉, 그리고 분리시켜 경화된 상기 처리 액을 상기 노즐 플레이트로부터 제거하는 제거 단계를 포함하는 노즐 플레이트 세정 방법.In a method of cleaning a nozzle plate on which a nozzle for discharging a treatment liquid is formed,
A curing step of curing the treatment liquid attached to the surrounding area of the nozzle by irradiating light to the lower surface of the nozzle plate; and
A nozzle plate cleaning method comprising a removal step of contacting and separating a removal member, which is a tape, from a lower surface of the nozzle plate to remove the cured treatment liquid from the nozzle plate.
상기 노즐 플레이트의 하면에 조사되는 상기 광은,
자외선 광을 포함하는 노즐 플레이트 세정 방법.According to clause 8,
The light irradiated to the lower surface of the nozzle plate,
A nozzle plate cleaning method comprising ultraviolet light.
상기 제거 부재는,
비점착 테이프인 노즐 플레이트 세정 방법.According to clause 8 or 9,
The removal member is,
How to clean the nozzle plate with non-adhesive tape.
상기 방법은,
상기 노즐이 형성된 상기 노즐 플레이트의 하면에 상기 처리 액을 흡수 할 수 있는 흡수 부재를 접촉시켜 상기 처리 액이 잔류하는 상기 노즐 플레이트를 세정하는 흡수 단계를 포함하는 노즐 플레이트 세정 방법.According to clause 8 or 9,
The above method is,
A nozzle plate cleaning method comprising an absorption step of cleaning the nozzle plate in which the processing liquid remains by contacting an absorbing member capable of absorbing the processing liquid with a lower surface of the nozzle plate where the nozzles are formed.
상기 흡수 단계는,
상기 경화 단계 이전, 또는 상기 제거 단계 이후에 수행되는 노즐 플레이트 세정 방법.According to clause 11,
The absorption step is,
A nozzle plate cleaning method performed before the curing step or after the removing step.
상기 제거 단계는,
복수 회 반복하여 수행되는 노즐 플레이트 세정 방법.According to clause 8 or 9,
The removal step is,
A nozzle plate cleaning method performed multiple times.
기판으로 잉크를 토출하여 프린팅 공정을 수행하고, 상기 잉크를 토출하는 노즐이 형성된 노즐 플레이트를 가지는 헤드 유닛;
상기 노즐 플레이트의 하면에 광을 조사하는 조사 유닛; 및
상기 노즐의 주변 영역에 부착되며 상기 광에 의해 경화된 상기 잉크를 테이프인 제거 부재를 상기 노즐 플레이트와 접촉시켜 상기 노즐 플레이트로부터 경화된 상기 잉크를 제거하는 제거 유닛을 포함하는 기판 처리 장치.In a device for processing a substrate,
A head unit that performs a printing process by ejecting ink onto a substrate and has a nozzle plate on which nozzles for ejecting the ink are formed;
an irradiation unit that irradiates light to a lower surface of the nozzle plate; and
A substrate processing apparatus including a removal unit attached to a peripheral area of the nozzle and removing the ink cured by the light from the nozzle plate by contacting a removal member, which is a tape, with the nozzle plate.
상기 제거 유닛은,
상기 노즐 플레이트의 하면과 접촉되는 상기 제거 부재를 공급하는 공급 부;
상기 공급 부가 공급하는 상기 제거 부재를 회수하는 회수 부;
상기 공급 부와 상기 회수 부 사이에 배치되며, 상기 제거 부재를 지지하는 적어도 하나 이상의 지지 부; 및
상기 공급 부, 상기 회수 부, 그리고 상기 지지 부가 설치되는 몸체를 포함하는 기판 처리 장치.According to clause 14,
The removal unit,
a supply unit that supplies the removal member in contact with the lower surface of the nozzle plate;
a recovery unit that recovers the removal member supplied by the supply unit;
At least one support part disposed between the supply part and the recovery part and supporting the removal member; and
A substrate processing device including a body in which the supply unit, the recovery unit, and the support unit are installed.
상기 지지 부는,
상기 제거 부재의 하면을 지지하고, 실리콘을 포함하는 소재로 제공되는 적어도 하나 이상의 지지 컴포넌트; 및
상기 지지 컴포넌트를 상기 몸체에 결합시키는 지지 프레임을 포함하는 기판 처리 장치.According to clause 15,
The support part is,
At least one support component supporting a lower surface of the removal member and made of a material containing silicon; and
A substrate processing apparatus comprising a support frame coupling the support component to the body.
상기 제거 유닛은,
상기 공급 부가 공급하는 상기 제거 부재가 상기 노즐 플레이트와 접촉될 수 있도록 상기 공급 부, 상기 회수 부, 그리고 상기 지지 부 중 적어도 어느 하나를 승강시키는 승강 부를 더 포함하는 기판 처리 장치.According to clause 15,
The removal unit,
The substrate processing apparatus further includes a lifting part that elevates at least one of the supply part, the recovery part, and the support part so that the removal member supplied by the supply part can come into contact with the nozzle plate.
상기 장치는,
상기 노즐 플레이트의 하면에 상기 잉크를 흡수할 수 있는 흡수 부재를 접촉시켜 상기 잉크가 잔류하는 상기 노즐 플레이트를 세정하는 흡수 유닛을 더 포함하고,
상기 흡수 유닛은,
상기 노즐 플레이트의 하면과 접촉되는 상기 흡수 부재를 공급하는 공급 부;
상기 공급 부가 공급하는 상기 흡수 부재를 회수하는 회수 부;
상기 공급 부와 상기 회수 부 사이에 배치되며, 상기 흡수 부재를 지지하는 적어도 하나 이상의 지지 부; 및
상기 공급 부, 상기 회수 부, 그리고 상기 지지 부가 설치되는 몸체를 포함하는 기판 처리 장치.According to clause 14,
The device is,
It further comprises an absorption unit that cleans the nozzle plate on which the ink remains by contacting an absorption member capable of absorbing the ink with a lower surface of the nozzle plate,
The absorption unit is,
a supply unit that supplies the absorbing member in contact with the lower surface of the nozzle plate;
a recovery unit that recovers the absorbent member supplied by the supply unit;
At least one support part disposed between the supply part and the recovery part and supporting the absorbent member; and
A substrate processing device including a body in which the supply unit, the recovery unit, and the support unit are installed.
상기 장치는,
제어기를 더 포함하고,
상기 제어기는,
상기 조사 유닛이 상기 광을 상기 노즐 플레이트의 하면에 조사하여 상기 노즐의 주변 영역에 부착된 상기 잉크를 경화시키고,
상기 제거 부재를 상기 노즐 플레이트의 하면에 접촉시켜 상기 노즐 플레이트의 하면으로부터 경화된 상기 잉크를 제거하도록 상기 조사 유닛, 그리고 상기 제거 유닛을 제어하는 기판 처리 장치.According to any one of claims 14 to 18,
The device is,
further comprising a controller,
The controller is,
The irradiation unit irradiates the light to the lower surface of the nozzle plate to harden the ink attached to the surrounding area of the nozzle,
A substrate processing apparatus that controls the irradiation unit and the removal unit to remove the hardened ink from the lower surface of the nozzle plate by bringing the removal member into contact with the lower surface of the nozzle plate.
상기 장치는,
제어기를 더 포함하고,
상기 제어기는,
상기 조사 유닛이 상기 광을 상기 노즐 플레이트의 하면에 조사하여 상기 노즐의 주변 영역에 부착된 상기 잉크를 경화시키고,
상기 제거 부재를 상기 노즐 플레이트의 하면에 접촉시켜 상기 노즐 플레이트의 하면으로부터 경화된 상기 잉크를 제거하고,
상기 조사 유닛이 상기 광을 상기 노즐 플레이트의 하면에 조사하기 이전, 또는 상기 제거 부재가 상기 노즐 플레이트의 하면에 접촉된 이후에 상기 흡수 부재를 상기 노즐 플레이트의 하면에 접촉시켜 상기 노즐 플레이트를 세정하도록 상기 조사 유닛, 상기 제거 유닛, 그리고 상기 흡수 유닛을 제어하는 기판 처리 장치.
According to clause 18,
The device is,
further comprising a controller,
The controller is,
The irradiation unit irradiates the light to the lower surface of the nozzle plate to harden the ink attached to the surrounding area of the nozzle,
The cured ink is removed from the lower surface of the nozzle plate by contacting the removal member with the lower surface of the nozzle plate,
Before the irradiation unit irradiates the light to the lower surface of the nozzle plate, or after the removal member contacts the lower surface of the nozzle plate, the absorbing member is brought into contact with the lower surface of the nozzle plate to clean the nozzle plate. A substrate processing device that controls the irradiation unit, the removal unit, and the absorption unit.
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