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KR102553619B1 - 접착제 조성물, 필름형 접착제, 접착 시트 및 반도체 장치의 제조 방법 - Google Patents

접착제 조성물, 필름형 접착제, 접착 시트 및 반도체 장치의 제조 방법 Download PDF

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KR102553619B1
KR102553619B1 KR1020227031592A KR20227031592A KR102553619B1 KR 102553619 B1 KR102553619 B1 KR 102553619B1 KR 1020227031592 A KR1020227031592 A KR 1020227031592A KR 20227031592 A KR20227031592 A KR 20227031592A KR 102553619 B1 KR102553619 B1 KR 102553619B1
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KR
South Korea
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film
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component
wire
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KR1020227031592A
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신타로 하시모토
유키 나카무라
도모하루 야마자키
겐타 기쿠치
다이스케 마스노
Original Assignee
가부시끼가이샤 레조낙
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Publication date
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Abstract

열경화성 수지와 경화제와 엘라스토머를 함유하고, 열경화성 수지가 지환식 고리를 갖는 에폭시 수지를 포함하는 접착제 조성물이 개시된다. 또한, 이러한 접착제 조성물을 이용한 필름형 접착제가 개시된다. 또한, 이러한 필름형 접착제를 이용한 접착 시트 및 반도체 장치의 제조 방법이 제공된다.

Description

접착제 조성물, 필름형 접착제, 접착 시트 및 반도체 장치의 제조 방법{ADHESIVE COMPOSITION, FILMY ADHESIVE, ADHESIVE SHEET, AND PRODUCTION METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE}
본 발명은 접착제 조성물, 필름형 접착제, 접착 시트 및 반도체 장치의 제조 방법에 관한 것이다.
종래, 반도체 칩과 반도체 칩 탑재용의 지지 부재와의 접합에는, 주로 은 페이스트가 사용되고 있다. 그러나, 최근의 반도체 칩의 소형화·집적화에 따라, 사용되는 지지 부재에도 소형화, 세밀화가 요구되고 있다. 한편, 은 페이스트를 이용하는 경우에는, 페이스트의 비어져 나옴 또는 반도체 칩의 기울기에 기인하는 와이어 본딩 시에 있어서의 문제점의 발생, 막 두께 제어의 곤란성, 보이드 발생 등의 문제가 생기는 경우가 있다.
그 때문에, 최근, 반도체 칩과 지지 부재를 접합하기 위한 필름형 접착제가 사용되고 있다(예컨대, 특허문헌 1 참조). 다이싱 테이프와 다이싱 테이프 상에 적층된 필름형 접착제를 구비하는 접착 시트를 이용하는 경우, 반도체 웨이퍼의 이면에 필름형 접착제를 첩부하고, 다이싱에 의해 반도체 웨이퍼를 개편화함으로써, 필름형 접착제를 갖는 반도체 칩을 얻을 수 있다. 얻어진 필름형 접착제를 갖는 반도체 칩은, 필름형 접착제를 통해 지지 부재에 첩부하고, 열 압착에 의해 접합할 수 있다.
특허문헌 1: 일본 특허 공개 제2007-053240호 공보
그러나, 반도체 칩의 사이즈가 작아짐에 따라, 열 압착 시에 단위 면적당에 가해지는 힘이 커져, 필름형 접착제가 반도체 칩으로부터 비어져 나오는, 블리드라는 현상이 발생하는 경우가 있다.
또한, 필름형 접착제를 와이어 매립형 필름형 접착제인 FOW(Film Over Wire) 또는 반도체 칩 매립형 필름형 접착제인 FOD(Film Over Die)로서 이용하는 경우는, 매립성을 향상시키는 관점에서, 열 압착 시에 높은 유동성이 요구된다. 그 때문에, 블리드의 발생 빈도 및 양이 더욱 증대하는 경향이 있다. 경우에 따라서는, 블리드가 반도체 칩 상면에까지 생기는 경우가 있고, 이에 의해, 전기 불량 또는 와이어 본딩 불량으로 이어질 우려가 있다.
본 발명은, 이러한 실정을 감안하여 이루어진 것이며, 열 압착 시에 양호한 매립성을 가지면서, 블리드를 억제하는 것이 가능한 접착제 조성물을 제공하는 것을 주된 목적으로 한다.
본 발명의 일 측면은, 열경화성 수지와 경화제와 엘라스토머를 함유하고, 열경화성 수지가 지환식 고리를 갖는 에폭시 수지를 포함하는 접착제 조성물을 제공한다. 이러한 접착제 조성물에 의하면, 열 압착 시에 양호한 매립성을 가지면서, 블리드를 억제하는 것이 가능해진다.
경화제는, 페놀 수지를 포함하고 있어도 좋다. 또한, 엘라스토머는, 아크릴 수지를 포함하고 있어도 좋다.
열경화성 수지는, 지환식 고리를 갖지 않는 방향족 에폭시 수지를 더 포함하고 있어도 좋다. 지환식 고리를 갖지 않는 방향족 에폭시 수지는, 25℃에서 액체여도 좋다.
접착제 조성물은, 무기 필러를 더 함유하고 있어도 좋다. 또한, 접착제 조성물은, 경화 촉진제를 더 함유하고 있어도 좋다.
접착제 조성물은, 기판 상에 제1 와이어를 통해 제1 반도체 소자가 와이어 본딩 접속되며, 제1 반도체 소자 상에, 제2 반도체 소자가 압착되어 이루어지는 반도체 장치에 있어서, 제2 반도체 소자를 압착하며 제1 와이어의 적어도 일부를 매립하기 위해 이용되는 것이어도 좋다.
본 발명은 또한, 열경화성 수지와 경화제와 엘라스토머를 함유하고, 열경화성 수지가 지환식 고리를 갖는 에폭시 수지를 포함하는 조성물의, 기판 상에 제1 와이어를 통해 제1 반도체 소자가 와이어 본딩 접속되며, 제1 반도체 소자 상에, 제2 반도체 소자가 압착되어 이루어지는 반도체 장치에 있어서, 제2 반도체 소자를 압착하며 제1 와이어의 적어도 일부를 매립하기 위해 이용되는, 접착제로서의 응용 또는 접착제의 제조를 위한 응용에 관한 것이어도 좋다.
다른 측면에 있어서, 본 발명은, 전술한 접착제 조성물을 필름형으로 형성하여 이루어지는 필름형 접착제를 제공한다.
다른 측면에 있어서, 본 발명은, 기재와 기재 상에 마련된 전술한 필름형 접착제를 구비하는 접착 시트를 제공한다.
기재는, 다이싱 테이프여도 좋다. 또한, 본 명세서에 있어서, 기재가 다이싱 테이프인 접착 시트를 「다이싱 다이본딩 일체형 접착 시트」라고 하는 경우가 있다.
접착 시트는, 필름형 접착제의 기재와는 반대측의 면에 적층된 보호 필름을더 구비하여도 좋다.
또한, 다른 측면에 있어서, 본 발명은, 기판 상에 제1 와이어를 통해 제1 반도체 소자를 전기적으로 접속하는 와이어 본딩 공정과, 제2 반도체 소자의 편면에, 전술한 필름형 접착제를 첩부하는 라미네이트 공정과, 필름형 접착제가 첩부된 제2 반도체 소자를, 필름형 접착제를 통해 압착함으로써, 제1 와이어의 적어도 일부를 필름형 접착제에 매립하는 다이본드 공정을 구비하는, 반도체 장치의 제조 방법을 제공한다.
또한, 반도체 장치는, 반도체 기판 상에 제1 와이어를 통해 제1 반도체 칩이 와이어 본딩 접속되며, 제1 반도체 칩 상에, 제2 반도체 칩이 접착 필름을 통해 압착됨으로써, 제1 와이어의 적어도 일부가 접착 필름에 매립되어 이루어지는 와이어매립형의 반도체 장치여도 좋고, 제1 와이어 및 제1 반도체 칩이 접착 필름에 매립되어 이루어지는 칩 매립형의 반도체 장치여도 좋다.
본 발명에 따르면, 열 압착 시에 양호한 매립성을 가지면서, 블리드를 억제하는 것이 가능한 접착제 조성물이 제공된다. 그 때문에, 상기 접착제 조성물을 필름형으로 형성하여 이루어지는 필름형 접착제는, 반도체 칩 매립형 필름형 접착제인 FOD(Film Over Die) 또는 와이어 매립형 필름형 접착제인 FOW(Film Over Wire)로서 유용할 수 있다. 또한, 본 발명에 따르면, 이러한 필름형 접착제를 이용한 접착 시트 및 반도체 장치의 제조 방법이 제공된다.
도 1은 일 실시형태에 따른 필름형 접착제를 나타내는 모식 단면도이다.
도 2는 일 실시형태에 따른 접착 시트를 나타내는 모식 단면도이다.
도 3은 다른 실시형태에 따른 접착 시트를 나타내는 모식 단면도이다.
도 4는 일 실시형태에 따른 반도체 장치를 나타내는 모식 단면도이다.
도 5는 일 실시형태에 따른 반도체 장치의 제조 방법의 일련의 공정을 나타내는 모식 단면도이다.
도 6은 일 실시형태에 따른 반도체 장치의 제조 방법의 일련의 공정을 나타내는 모식 단면도이다.
도 7은 일 실시형태에 따른 반도체 장치의 제조 방법의 일련의 공정을 나타내는 모식 단면도이다.
도 8은 일 실시형태에 따른 반도체 장치의 제조 방법의 일련의 공정을 나타내는 모식 단면도이다.
도 9는 일 실시형태에 따른 반도체 장치의 제조 방법의 일련의 공정을 나타내는 모식 단면도이다.
이하, 도면을 적절하게 참조하면서, 본 발명의 실시형태에 대해서 설명한다. 단, 본 발명은 이하의 실시형태에 한정되는 것이 아니다.
본 명세서에 있어서, (메트)아크릴산은 아크릴산 또는 그에 대응하는 메타크릴산을 의미한다. (메트)아크릴로일기 등의 다른 유사 표현에 대해서도 동일하다.
[접착제 조성물]
본 실시형태에 따른 접착제 조성물은, (A) 열경화성 수지와, (B) 경화제와, (C) 엘라스토머를 함유한다. 접착제 조성물은, 열경화성이며, 반경화(B 스테이지) 상태를 거쳐, 경화 처리 후에 완전 경화물(C 스테이지) 상태가 될 수 있다.
<(A) 성분: 열경화성 수지>
열경화성 수지는, 접착성의 관점에서, 에폭시 수지를 포함하고 있어도 좋다. 본 실시형태에 따른 접착제 조성물은, 열경화성 수지로서, (A-1) 지환식 고리를 갖는 에폭시 수지를 포함한다.
(A-1) 성분은, 분자 내에 지환식 고리 및 에폭시기를 갖는 화합물이다. 에폭시기는, 상기 화합물의 지환식 고리 또는 지환식 고리 이외의 부위에, 단결합 또는 연결기(예컨대, 알킬렌기, 옥시알킬렌기 등)를 통해 결합하고 있어도 좋다. 또한, 상기 화합물은, 지환식 고리를 구성하는 2개의 탄소 원자와 함께 형성되는 에폭시기를 갖는 화합물(즉, 지환식 에폭시 화합물)이어도 좋다. 열경화성 수지로서 (A-1) 성분을 포함함으로써, 열 압착 시에 양호한 매립성을 가지면서, 블리드를 억제하는 것이 가능해진다.
(A-1) 성분의 에폭시 당량은, 특별히 제한되지 않지만, 90∼600 g/eq, 100∼500 g/eq, 또는 120∼450 g/eq여도 좋다. (A-1) 성분의 에폭시 당량이 이러한 범위에 있으면, 보다 양호한 반응성 및 유동성이 얻어지는 경향이 있다.
(A-1) 성분은, 예컨대, 하기 일반식 (1)∼(4)로 표시되는 에폭시 수지 중 어느 하나여도 좋다.
Figure 112022095635028-pat00001
식 (1) 중, E는 지환식 고리를 나타내고, G는 단결합 또는 알킬렌기를 나타내고, R1은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 1가의 탄화수소기를 나타낸다. n1은 1∼10의 정수를 나타내고, m은 1∼3의 정수를 나타낸다.
E의 탄소 원자수는, 4∼12, 5∼11, 또는 6∼10이어도 좋다. E는, 단환이어도, 다환이어도 좋지만, 다환인 것이 바람직하고, 디시클로펜타디엔 고리인 것이 보다 바람직하다. G에 있어서의 알킬렌기는, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기, 부틸렌기, 펜틸렌기 등의 탄소수 1∼5의 알킬렌기여도 좋다. G는, 단결합인 것이 바람직하다. R1에 있어서의 1가의 탄화수소기는, 예컨대, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기 등의 알킬기, 페닐기, 나프틸기 등의 아릴기, 피리딜기 등의 헤테로아릴기여도 좋다. R1은, 수소 원자인 것이 바람직하다.
일반식 (1)로 표시되는 에폭시 수지는, 하기 일반식 (1a)로 표시되는 에폭시 수지여도 좋다.
Figure 112022095635028-pat00002
식 (1a) 중, n1은 상기와 동의이다.
일반식 (1a)로 표시되는 에폭시 수지의 시판품으로서는, 예컨대, HP-7200L, HP-7200H, HP-7200(모두 DIC 가부시키가이샤 제조), XD-1000(니혼가야쿠 가부시키가이샤 제조) 등을 들 수 있다.
Figure 112022095635028-pat00003
식 (2) 중, R2는 2가의 탄화수소기를 나타낸다.
R2에 있어서의 2가의 탄화수소기는, 예컨대, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기, 부틸렌기, 펜틸렌기 등의 알킬렌기, 페닐렌기, 나프틸렌기 등의 아릴렌기, 피리딜렌기 등의 헤테로아릴렌기여도 좋다. R2는, 탄소 원자수 1∼5의 알킬렌기인 것이 바람직하다.
일반식 (2)로 표시되는 에폭시 수지의 시판품으로서는, 예컨대, 셀록사이드 2021P, 셀록사이드 2081(모두 가부시키가이샤 다이셀 제조) 등을 들 수 있다.
Figure 112022095635028-pat00004
식 (3) 중, R3, R4 및 R5는 각각 독립적으로 2가의 탄화수소기를 나타낸다.
R3, R4 및 R5에 있어서의 2가의 탄화수소기로서는, R2에 있어서의 2가의 탄화수소기로 예시한 것과 동일한 것을 들 수 있다.
일반식 (3)으로 표시되는 에폭시 수지의 시판품으로서는, 예컨대, Syna-Epoxy28(SYANASIA사 제조) 등을 들 수 있다.
Figure 112022095635028-pat00005
식 (4) 중, R6은 수소 원자 또는 1가의 탄화수소기를 나타내고, n2는 1∼10의 정수를 나타낸다.
R6에 있어서의 1가의 탄화수소기로서는, R1에 있어서의 1가의 탄화수소기로 예시한 것과 동일한 것을 들 수 있다.
일반식 (4)로 표시되는 에폭시 수지의 시판품으로서는, 예컨대, EHPE3150(가부시키가이샤 다이셀 제조) 등을 들 수 있다.
(A-1) 성분은, 내열성의 관점에서, 일반식 (1)로 표시되는 에폭시 수지인 것이 바람직하고, 일반식 (1a)로 표시되는 에폭시 수지인 것이 보다 바람직하다.
(A-1) 성분의 함유량은, (A) 성분 전량을 기준으로 하여, 15∼100 질량%여도 좋다. (A-1) 성분의 함유량은, 40 질량% 이상, 50 질량% 이상, 또는 60 질량% 이상이어도 좋다.
(A-1) 성분의 함유량은, 접착제 조성물 전량을 기준으로 하여, 5 질량% 이상, 10 질량% 이상, 또는 20 질량% 이상이어도 좋다. (A-1) 성분의 함유량은, 접착제 조성물 전량을 기준으로 하여, 5 질량% 이상이면, 열 압착 시에 더욱 양호한 매립성을 가지면서, 블리드를 잘 억제할 수 있는 경향이 있다.
(A) 성분은, (A-1) 성분에 더하여, (A-2) 지환식 고리를 갖지 않는 방향족 에폭시 수지를 더 포함하고 있어도 좋다. 여기서, 지환식 고리를 갖지 않는 방향족 에폭시 수지는, 분자 내에 방향 고리 및 에폭시기를 가지고, 또한 지환식 고리를 갖지 않는 화합물이다. (A-2) 성분으로서는, 예컨대, 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 비스페놀 S형 에폭시 수지, 페놀노볼락형 에폭시 수지, 크레졸노볼락형 에폭시 수지, 비스페놀 A 노볼락형 에폭시 수지, 비스페놀 F 노볼락형 에폭시 수지, 스틸벤형 에폭시 수지, 트리아진 골격 함유 에폭시 수지, 플루오렌 골격 함유 에폭시 수지, 트리페놀페놀메탄형 에폭시 수지, 비페닐형 에폭시 수지, 크실렌형 에폭시 수지, 페닐아랄킬형 에폭시 수지, 비페닐아랄킬형 에폭시 수지, 나프탈렌형 에폭시 수지, 다작용 페놀류, 안트라센 등의 다환 방향족류의 디글리시딜에테르 화합물 등을 들 수 있다. 이들은, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용하여도 좋다. 이들 중에서도, (A-2) 성분은, 25℃에서 액체여도 좋다.
(A-2) 성분의 에폭시 당량은, 특별히 제한되지 않지만, 90∼600 g/eq, 100∼500 g/eq, 또는 120∼450 g/eq여도 좋다. (A-2) 성분의 에폭시 당량이 이러한 범위에 있으면, 보다 양호한 반응성 및 유동성이 얻어지는 경향이 있다.
(A-2) 성분의 함유량은, (A) 성분 전량을 기준으로 하여, 0∼85 질량%여도 좋다. (A-2) 성분의 함유량은, 60 질량% 이하, 50 질량% 이하, 또는 40 질량% 이하여도 좋다.
<(B) 성분: 경화제>
(B) 성분은, 특별히 제한 없이, 열경화성 수지의 경화제로서 일반적으로 사용되고 있는 것을 이용할 수 있다. 열경화성 수지가 에폭시 수지를 포함하는 경우, (B) 성분으로서는, 예컨대, 페놀 수지, 에스테르 화합물, 방향족 아민, 지방족 아민, 산무수물 등을 들 수 있다. 이들은, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용하여도 좋다. 이들 중에서도, 반응성 및 경시 안정성의 관점에서, (B) 성분은 페놀 수지를 포함하고 있어도 좋다.
페놀 수지는, 분자 내에 페놀성 수산기를 갖는 것이면 특별히 제한 없이 이용할 수 있다. 페놀 수지로서는, 예컨대, 페놀, 크레졸, 레조르신, 카테콜, 비스페놀 A, 비스페놀 F, 페닐페놀, 아미노페놀 등의 페놀류 및/또는 α-나프톨, β-나프톨, 디히드록시나프탈렌 등의 나프톨류와 포름알데히드 등의 알데히드기를 갖는 화합물을 산성 촉매 하에서 축합 또는 공축합시켜 얻어지는 노볼락형 페놀 수지, 알릴화비스페놀 A, 알릴화비스페놀 F, 알릴화나프탈렌디올, 페놀노볼락, 페놀 등의 페놀류 및/또는 나프톨류와 디메톡시파라크실렌 또는 비스(메톡시메틸)비페닐로부터 합성되는 페놀아랄킬 수지, 나프톨아랄킬 수지, 비페닐아랄킬형 페놀 수지, 페닐 아랄킬형 페놀 수지 등을 들 수 있다. 이들은, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용하여도 좋다. 이들 중에서도, 내열성의 관점에서, 페놀 수지는, 85℃, 85% RH의 항온 항습조에 48시간의 조건에 있어서, 흡수율이 2 질량% 이하이며, 또한 열 중량 분석계(TGA)로 측정한 350℃에서의 가열 질량 감소율(승온 속도: 5℃/min, 분위기: 질소)이 5 질량% 미만인 것이 바람직하다.
페놀 수지의 시판품으로서는, 예컨대, 페놀라이트 KA 시리즈, TD 시리즈(DIC 가부시키가이샤 제조), 미렉스 XLC 시리즈, XL 시리즈(미츠이가가쿠 가부시키가이샤 제조), HE 시리즈(에어·워터 가부시키가이샤 제조) 등을 들 수 있다.
페놀 수지의 수산기 당량은, 특별히 제한되지 않지만, 80∼400 g/eq, 90∼350 g/eq, 또는 100∼300 g/eq여도 좋다. 페놀 수지의 수산기 당량이 이러한 범위에 있으면, 더욱 양호한 반응성 및 유동성이 얻어지는 경향이 있다.
(A) 성분이 에폭시 수지이고, (B) 성분이 페놀 수지인 경우의 에폭시 수지의 에폭시 당량과 페놀 수지의 수산기 당량의 비(에폭시 수지의 에폭시 당량/페놀 수지의 수산기 당량)는, 경화성의 관점에서, 0.30/0.70∼0.70/0.30, 0.35/0.65∼0.65/0.35, 0.40/0.60∼0.60/0.40, 또는 0.45/0.55∼0.55/0.45여도 좋다. 상기 당량비가 0.30/0.70 이상이면, 더욱 충분한 경화성이 얻어지는 경향이 있다. 상기 당량비가 0.70/0.30 이하이면, 점도가 지나치게 높아지는 것을 막을 수 있어, 더욱 충분한 유동성을 얻을 수 있다.
(A) 성분 및 (B) 성분의 합계의 함유량은, 접착제 조성물 전량을 기준으로 하여, 30∼70 질량%여도 좋다. (A) 성분 및 (B) 성분의 합계의 함유량은, 33 질량% 이상, 36 질량% 이상, 또는 40 질량% 이상이어도 좋고, 65 질량% 이하, 60 질량% 이하, 또는 55 질량% 이하여도 좋다. (A) 성분 및 (B) 성분의 합계의 함유량이, 접착제 조성물 전량을 기준으로 하여, 30 질량% 이상이면, 접착성이 향상하는 경향이 있다. (A) 성분 및 (B) 성분의 합계의 함유량이, 접착제 조성물 전량을 기준으로 하여, 70 질량% 이하이면, 점도가 지나치게 낮아지는 것을 막을 수 있어, 블리드를 더욱 억제할 수 있는 경향이 있다.
<(C) 성분: 엘라스토머>
본 실시형태에 따른 접착제 조성물은, (C) 엘라스토머를 함유한다. (C) 성분은, 엘라스토머를 구성하는 중합체의 유리 전이 온도(Tg)가 50℃ 이하인 것이 바람직하다.
(C) 성분으로서는, 예컨대, 아크릴 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리아미드 수지, 폴리이미드 수지, 실리콘 수지, 부타디엔 수지, 아크릴로니트릴 수지 및 이들의 변성체 등을 들 수 있다.
(C) 성분은, 용제에의 용해성, 유동성의 관점에서, 아크릴 수지를 포함하고 있어도 좋다. 여기서, 아크릴 수지란, (메트)아크릴산에스테르에서 유래하는 구성 단위를 포함하는 폴리머를 의미한다. 아크릴 수지는, 구성 단위로서, 에폭시기, 알코올성 또는 페놀성 수산기, 카르복시기 등의 가교성 작용기를 갖는 (메트)아크릴산에스테르에서 유래하는 구성 단위를 포함하는 폴리머인 것이 바람직하다. 또한, 아크릴 수지는, (메트)아크릴산에스테르와 아크릴니트릴의 공중합체 등의 아크릴 고무여도 좋다.
아크릴 수지의 유리 전이 온도(Tg)는, -50∼50℃ 또는 -30∼30℃여도 좋다. 아크릴 수지의 Tg가 -50℃ 이상이면, 접착제 조성물의 유연성이 지나치게 높아지는 것을 막을 수 있는 경향이 있다. 이에 의해, 웨이퍼 다이싱 시에 필름형 접착제를 절단하기 쉬워져, 버어의 발생을 막는 것이 가능해진다. 아크릴 수지의 Tg가 50℃ 이하이면, 접착제 조성물의 유연성의 저하를 억제할 수 있는 경향이 있다. 이에 의해, 필름형 접착제를 웨이퍼에 접착할 때에, 보이드를 충분히 매립하기 쉬워지는 경향이 있다. 또한, 웨이퍼의 밀착성의 저하에 의한 다이싱 시의 치핑을 막는 것이 가능해진다. 여기서, 유리 전이 온도(Tg)는, DSC(열 시차 주사 열량계)(예컨대, 가부시키가이샤 리가쿠 제조 「Thermo Plus 2」)를 이용하여 측정한 값을 의미한다.
아크릴 수지의 중량 평균 분자량(Mw)은, 10만∼300만 또는 50만∼200만이어도 좋다. 아크릴 수지의 Mw가 이러한 범위에 있으면, 필름 형성성, 필름형에 있어서의 강도, 가요성, 태크성 등을 적절하게 제어할 수 있으며, 리플로우성이 우수하여, 매립성을 향상시킬 수 있다. 여기서, Mw는, 겔 퍼미에이션 크로마토그래피(GPC)로 측정하고, 표준 폴리스티렌에 의한 검량선을 이용하여 환산한 값을 의미한다.
아크릴 수지의 시판품으로서는, 예컨대, SG-70L, SG-708-6, WS-023 EK30, SG-280 EK23, HTR-860P-3CSP, HTR-860P-3CSP-3DB(모두 나가세켐텍스 가부시키가이샤 제조)를 들 수 있다.
(C) 성분의 함유량은, (A) 성분 및 (B) 성분의 총량 100 질량부에 대하여, 20∼200 질량부 또는 30∼100 질량부여도 좋다. (C) 성분의 함유량이 (A) 성분 및 (B) 성분의 총량 100 질량부에 대하여, 20 질량부 이상이면, 필름형 접착제의 취급성(예컨대 절곡성 등)이 더욱 양호해지는 경향이 있다. (C) 성분의 함유량이 (A) 성분 및 (B) 성분의 총량 100 질량부에 대하여, 200 질량부 이하이면, 접착제 조성물의 유연성이 지나치게 높아지는 것을 더욱 막을 수 있는 경향이 있다. 이에 의해, 웨이퍼 다이싱 시에 필름형 접착제를 절단하기 쉬워져, 버어의 발생을 막는 것이 한층 더 가능해지는 경향이 있다.
<(D) 성분: 무기 필러>
본 실시형태에 따른 접착제 조성물은, (D) 무기 필러를 더 함유하고 있어도 좋다. 무기 필러로서는, 예컨대, 수산화알루미늄, 수산화마그네슘, 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 규산칼슘, 규산마그네슘, 산화칼슘, 산화마그네슘, 산화알루미늄, 질화알루미늄, 붕산알루미늄 위스커, 질화붕소, 결정성 실리카, 비정성 실리카 등을 들 수 있다. 이들은 1종을 단독으로 이용하여도 좋고, 2종 이상을 조합하여 이용하여도 좋다. 얻어지는 필름형 접착제의 열 전도성이 더욱 향상하는 관점에서, 무기 필러는, 산화알루미늄, 질화알루미늄, 질화붕소, 결정성 실리카 또는 비정성 실리카를 포함하고 있어도 좋다. 또한, 접착제 조성물의 용융 점도를 조정하는 관점 및 접착제 조성물에 틱소트로픽성을 부여하는 관점에서, 무기 필러는, 수산화알루미늄, 수산화마그네슘, 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 규산칼슘, 규산마그네슘, 산화칼슘, 산화마그네슘, 산화알루미늄, 결정성 실리카 또는 비정성 실리카를 포함하고 있어도 좋다.
(D) 성분의 평균 입경은, 접착성이 더욱 향상하는 관점에서, 0.005∼0.5 ㎛ 또는 0.05∼0.3 ㎛여도 좋다. 여기서, 평균 입경은, BET 비표면적으로부터 환산함으로써 구해지는 값을 의미한다.
(D) 성분은, 그 표면과 용제, 다른 성분 등과의 상용성, 접착 강도의 관점에서 표면 처리제에 의해 표면 처리되어 있어도 좋다. 표면 처리제로서는, 예컨대, 실란 커플링제 등을 들 수 있다. 실란 커플링제의 작용기로서는, 예컨대, 비닐기, (메트)아크릴로일기, 에폭시기, 메르캅토기, 아미노기, 디아미노기, 알콕시기, 에톡시기 등을 들 수 있다.
(D) 성분의 함유량은, (A) 성분, (B) 성분 및 (C) 성분의 총량 100 질량부에 대하여, 10∼90 질량부 또는 10∼50 질량부여도 좋다. (D) 성분의 함유량이, (A) 성분, (B) 성분 및 (C) 성분의 총량 100 질량부에 대하여, 10 질량부 이상이면, 경화 전의 접착층의 다이싱성이 향상하여, 경화 후의 접착층의 접착력이 향상하는 경향이 있다. (D) 성분의 함유량이, (A) 성분, (B) 성분 및 (C) 성분의 총량 100 질량부에 대하여, 90 질량부 이하이면, 유동성의 저하를 억제할 수 있어, 경화 후의 필름형 접착제의 탄성률이 지나치게 높아지는 것을 막는 것이 가능해진다.
<(E) 성분: 경화 촉진제>
본 실시형태에 따른 접착제 조성물은, (E) 경화 촉진제를 함유하고 있어도 좋다. 경화 촉진제는, 특별히 한정되지 않고, 일반적으로 사용되는 것을 이용할 수 있다. (E) 성분으로서는, 예컨대, 이미다졸류 및 그 유도체, 유기 인계 화합물, 제2급 아민류, 제3급 아민류, 제4급 암모늄염 등을 들 수 있다. 이들은, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용하여도 좋다. 이들 중에서도, 반응성의 관점에서 (E) 성분은 이미다졸류 및 그 유도체여도 좋다.
이미다졸류로서는, 예컨대, 2-메틸이미다졸, 1-벤질-2-메틸이미다졸, 1-시아노에틸-2-페닐이미다졸, 1-시아노에틸-2-메틸이미다졸 등을 들 수 있다. 이들은, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용하여도 좋다.
(E) 성분의 함유량은, (A) 성분, (B) 성분 및 (C) 성분의 총량 100 질량부에 대하여, 0.04∼3 질량부 또는 0.04∼0.2 질량부여도 좋다. (E) 성분의 함유량이 이러한 범위에 있으면, 경화성과 신뢰성을 양립할 수 있는 경향이 있다.
<그 외의 성분>
본 실시형태에 따른 접착제 조성물은, 그 외의 성분으로서, 항산화제, 실란 커플링제, 레올로지 컨트롤제 등을 더 함유하고 있어도 좋다. 이들 성분의 함유량은, (A) 성분, (B) 성분 및 (C) 성분의 총량 100 질량부에 대하여, 0.02∼3 질량부여도 좋다.
본 실시형태에 따른 접착제 조성물은, 용제로 희석된 접착제 바니시로서 이용하여도 좋다. 용제는, (D) 성분 이외의 성분을 용해할 수 있는 것이면 특별히 제한되지 않는다. 용제로서는, 예컨대, 톨루엔, 크실렌, 메시틸렌, 쿠멘, p-시멘 등의 방향족 탄화수소; 헥산, 헵탄 등의 지방족 탄화수소; 메틸시클로헥산 등의 환상 알칸; 테트라히드로푸란, 1,4-디옥산 등의 환상 에테르; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논, 4-히드록시-4-메틸-2-펜타논 등의 케톤; 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 젖산메틸, 젖산에틸, γ-부티로락톤 등의 에스테르; 에틸렌카보네이트, 프로필렌카보네이트 등의 탄산에스테르; N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸-2-피롤리돈 등의 아미드 등을 들 수 있다. 이들은, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용하여도 좋다. 이들 중, 용제는, 용해성 및 비점의 관점에서, 톨루엔, 크실렌, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 또는 시클로헥산이어도 좋다.
접착제 바니시 중의 고형 성분 농도는, 접착제 바니시의 전질량을 기준으로 하여, 10∼80 질량%여도 좋다.
접착제 바니시는, (A) 성분, (B) 성분, (C) 성분 및 용제와, 필요에 따라, (D) 성분, (E) 성분 및 그 외의 성분을 혼합, 혼련함으로써 조제할 수 있다. 혼합 및 혼련은, 통상의 교반기, 뢰궤기, 3본롤, 볼밀, 비드밀 등의 분산기를 적절하게, 조합하여 행할 수 있다. (D) 성분을 함유하는 경우, (D) 성분과 저분자량 성분을 미리 혼합한 후, 고분자량 성분을 배합함으로써, 혼합하는 시간을 단축할 수 있다. 또한, 접착제 바니시를 조제한 후, 진공 탈기 등에 의해 바니시 중의 기포를 제거하여도 좋다.
[필름형 접착제]
도 1은 일 실시형태에 따른 필름형 접착제를 나타내는 모식 단면도이다. 필름형 접착제(10)는, 전술한 접착제 조성물을 필름형으로 형성하여 이루어지는 것이다. 필름형 접착제(10)는, 반경화(B 스테이지) 상태여도 좋다. 이러한 필름형 접착제(10)는, 접착제 조성물을 지지 필름에 도포함으로써 형성할 수 있다. 접착제 바니시를 이용하는 경우는, 접착제 바니시를 지지 필름에 도포하고, 용제를 가열 건조하여 제거함으로써 필름형 접착제(10)를 형성할 수 있다.
지지 필름으로서는, 특별히 제한은 없고, 예컨대, 폴리테트라플루오로에틸렌, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리메틸펜텐 , 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리이미드 등의 필름을 들 수 있다. 지지 필름의 두께는, 예컨대, 60∼200 ㎛ 또는 70∼170 ㎛여도 좋다.
접착제 바니시를 지지 필름에 도포하는 방법으로서는, 공지의 방법을 이용할 수 있고, 예컨대, 나이프 코트법, 롤 코트법, 스프레이 코트법, 그라비아 코트법, 바 코트법, 커튼 코트법 등을 들 수 있다. 가열 건조 조건은, 사용한 용제가 충분히 휘발하는 조건이면 특별히 제한은 없지만, 예컨대, 50∼200℃에서 0.1∼90분간이어도 좋다.
필름형 접착제의 두께는, 용도에 맞추어, 적절하게 조정할 수 있다. 필름형 접착제의 두께는, 반도체 칩, 와이어, 기판의 배선 회로 등의 요철 등을 충분히 매립하는 관점에서, 20∼200 ㎛, 30∼200 ㎛, 또는 40∼150 ㎛여도 좋다.
[접착 시트]
도 2는 일 실시형태에 따른 접착 시트를 나타내는 모식 단면도이다. 접착 시트(100)는, 기재(20)와 기재 상에 마련된 전술한 필름형 접착제(10)를 구비한다.
기재(20)는, 특별히 제한되지 않지만, 기재 필름이어도 좋다. 기재 필름은, 전술한 지지 필름과 같은 것이어도 좋다.
기재(20)는, 다이싱 테이프여도 좋다. 이러한 접착 시트는, 다이싱 다이본딩 일체형 접착 시트로서 사용할 수 있다. 이 경우, 반도체 웨이퍼에의 라미네이트 공정이 1회가 되기 때문에, 작업의 효율화가 가능하다.
다이싱 테이프로서는, 예컨대, 폴리테트라플루오로에틸렌 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 폴리메틸펜텐 필름, 폴리이미드 필름 등의 플라스틱 필름 등을 들 수 있다. 또한, 다이싱 테이프는, 필요에 따라, 프라이머 도포, UV 처리, 코로나 방전 처리, 연마 처리, 에칭 처리 등의 표면 처리가 행해져 있어도 좋다. 다이싱 테이프는, 점착성을 갖는 것이 바람직하다. 이러한 다이싱 테이프는, 전술한 플라스틱 필름에 점착성을 부여한 것이어도 좋고, 전술한 플라스틱 필름의 편면에 점착제층을 마련한 것이어도 좋다.
접착 시트(100)는, 전술한 필름형 접착제를 형성하는 방법과 마찬가지로, 접착제 조성물을 기재 필름에 도포함으로써 형성할 수 있다. 접착제 조성물을 기재(20)에 도포하는 방법은, 전술한 접착제 조성물을 지지 필름에 도포하는 방법과 동일하여도 좋다.
접착 시트(100)는, 미리 제작한 필름형 접착제를 이용하여 형성하여도 좋다. 이 경우, 접착 시트(100)는, 롤 라미네이터, 진공 라미네이터 등을 이용하여 소정 조건[예컨대, 실온(20℃) 또는 가열 상태]에서 라미네이트함으로써 형성할 수 있다. 접착 시트(100)는, 연속적으로 제조를 할 수 있어, 효율이 좋기 때문에, 가열 상태에서 롤 라미네이터를 이용하여 형성하는 것이 바람직하다.
필름형 접착제(10)의 두께는, 반도체 칩, 와이어, 기판의 배선 회로 등의 요철 등의 매립성의 관점에서, 20∼200 ㎛, 30∼200 ㎛, 또는 40∼150 ㎛여도 좋다. 필름형 접착제(10)의 두께가 20 ㎛ 이상이면, 더욱 충분한 접착력이 얻어지는 경향이 있고, 필름형 접착제(10)의 두께가 200 ㎛ 이하이면, 경제적이고, 또한 반도체 장치의 소형화의 요구에 응하는 것이 가능해진다.
도 3은 다른 실시형태에 따른 접착 시트를 나타내는 모식 단면도이다. 접착 시트(110)는, 필름형 접착제(10)의 기재(20)와는 반대측의 면에 적층된 보호 필름(30)을 더 구비한다. 보호 필름(30)은, 전술한 지지 필름과 동일한 것이어도 좋다. 보호 필름의 두께는, 예컨대, 15∼200 ㎛ 또는 70∼170 ㎛여도 좋다.
[반도체 장치]
도 4는 일 실시형태에 따른 반도체 장치를 나타내는 모식 단면도이다. 반도체 장치(200)는, 기판(14)에, 제1 와이어(88)를 통해 1단째의 제1 반도체 소자(Wa)가 와이어 본딩 접속되며, 제1 반도체 소자(Wa) 상에, 제2 반도체 소자(Waa)가 필름형 접착제(10)를 통해 압착됨으로써, 제1 와이어(88)의 적어도 일부가 필름형 접착제(10)에 매립되어 이루어지는 반도체 장치이다. 반도체 장치는, 제1 와이어(88)의 적어도 일부가 매립되어 이루어지는 와이어 매립형의 반도체 장치여도, 제1 와이어(88) 및 제1 반도체 소자(Wa)가 매립되어 이루어지는 반도체 장치여도 좋다. 또한, 반도체 장치(200)에서는, 기판(14)과 제2 반도체 소자(Waa)가 또한 제2 와이어(98)를 통해 전기적으로 접속되며, 제2 반도체 소자(Waa)가 밀봉재(42)에 의해 밀봉되어 있다.
제1 반도체 소자(Wa)의 두께는, 10∼170 ㎛여도 좋고, 제2 반도체 소자(Waa)의 두께는, 20∼400 ㎛여도 좋다. 필름형 접착제(10) 내부에 매립되어 있는 제1 반도체 소자(Wa)는, 반도체 장치(200)를 구동하기 위한 컨트롤러 칩이다.
기판(14)은, 표면에 회로 패턴(84, 94)이 각각 2부위씩 형성된 유기 기판(90)을 포함한다. 제1 반도체 소자(Wa)는, 회로 패턴(94) 상에 접착제(41)를 통해 압착되어 있다. 제2 반도체 소자(Waa)는, 제1 반도체 소자(Wa)가 압착되어 있지 않은 회로 패턴(94), 제1 반도체 소자(Wa) 및 회로 패턴(84)의 일부가 덮이도록 필름형 접착제(10)를 통해 기판(14)에 압착되어 있다. 기판(14) 상의 회로 패턴(84, 94)에 기인하는 요철의 단차에는, 필름형 접착제(10)가 매립되어 있다. 그리고, 수지제의 밀봉재(42)에 의해, 제2 반도체 소자(Waa), 회로 패턴(84) 및 제2 와이어(98)가 밀봉되어 있다.
[반도체 장치의 제조 방법]
본 실시형태에 따른 반도체 장치의 제조 방법은, 기판 상에 제1 와이어를 통해 제1 반도체 소자를 전기적으로 접속하는 제1 와이어 본딩 공정과, 제2 반도체 소자의 편면에, 전술한 필름형 접착제를 첩부하는 라미네이트 공정과, 필름형 접착제가 첩부된 제2 반도체 소자를, 필름형 접착제를 통해 압착함으로써, 제1 와이어의 적어도 일부를 필름형 접착제에 매립하는 다이본드 공정을 포함한다.
도 5∼9는 일 실시형태에 따른 반도체 장치의 제조 방법의 일련의 공정을 나타내는 모식 단면도이다. 본 실시형태에 따른 반도체 장치(200)는, 제1 와이어(88) 및 제1 반도체 소자(Wa)가 매립되어 이루어지는 반도체 장치이며, 이하의 순서에 따라 제조된다. 먼저, 도 5에 나타내는 바와 같이, 기판(14) 상의 회로 패턴(94) 상에, 접착제(41)를 갖는 제1 반도체 소자(Wa)를 압착하고, 제1 와이어(88)를 통해 기판(14) 상의 회로 패턴(84)과 제1 반도체 소자(Wa)를 전기적으로 본딩 접속한다(제1 와이어 본딩 공정).
다음에, 반도체 웨이퍼(예컨대, 두께 100 ㎛, 사이즈: 8인치)의 편면에, 접착 시트(100)를 라미네이트하고, 기재(20)를 박리함으로써, 반도체 웨이퍼의 편면에 필름형 접착제(10)(예컨대, 두께 110 ㎛)를 접착한다. 그리고, 필름형 접착제(10)에 다이싱 테이프를 접합한 후, 소정의 크기(예컨대, 한 변이 7.5 ㎜인 사각형)로 다이싱함으로써, 도 6에 나타내는 바와 같이, 필름형 접착제(10)가 첩부된 제2 반도체 소자(Waa)를 얻는다(라미네이트 공정).
라미네이트 공정의 온도 조건은, 50∼100℃ 또는 60∼80℃여도 좋다. 라미네이트 공정의 온도가 50℃ 이상이면, 반도체 웨이퍼와 양호한 밀착성을 얻을 수 있다. 라미네이트 공정의 온도가 100℃ 이하이면, 라미네이트 공정 중에 필름형 접착제(10)가 과도하게 유동하는 것이 억제되기 때문에, 두께의 변화 등을 야기하는 것을 방지할 수 있다.
다이싱 방법으로서는, 예컨대, 회전날을 이용하는 블레이드 다이싱, 레이저에 의해 필름형 접착제 또는 웨이퍼와 필름형 접착제의 양방을 절단하는 방법 등을 들 수 있다.
그리고, 필름형 접착제(10)가 첩부된 제2 반도체 소자(Waa)를, 제1 반도체 소자(Wa)가 제1 와이어(88)를 통해 본딩 접속된 기판(14)에 압착한다. 구체적으로는, 도 7에 나타내는 바와 같이, 필름형 접착제(10)가 첩부된 제2 반도체 소자(Waa)를, 필름형 접착제(10)에 의해 제1 와이어(88) 및 제1 반도체 소자(Wa)가 덮이도록 배치하고, 계속해서, 도 8에 나타내는 바와 같이, 제2 반도체 소자(Waa)를 기판(14)에 압착시킴으로써 기판(14)에 제2 반도체 소자(Waa)를 고정한다(다이본드 공정). 다이본드 공정은, 필름형 접착제(10)를 80∼180℃, 0.01∼0.50 ㎫의 조건에서 0.5∼3.0초간 압착하는 것이 바람직하다. 다이본드 공정 후, 필름형 접착제(10)를 60∼175℃, 0.3∼0.7 ㎫의 조건에서, 5분간 이상 가압 및 가열한다.
계속해서, 도 9에 나타내는 바와 같이, 기판(14)과 제2 반도체 소자(Waa)를 제2 와이어(98)를 통해 전기적으로 접속한 후(제2 와이어 본딩 공정), 회로 패턴(84), 제2 와이어(98) 및 제2 반도체 소자(Waa)를 밀봉재(42)로 밀봉한다. 이러한 공정을 거침으로써 반도체 장치(200)를 제조할 수 있다.
다른 실시형태로서, 반도체 장치는, 제1 와이어(88)의 적어도 일부가 매립되어 이루어지는 와이어 매립형의 반도체 장치여도 좋다.
실시예
이하, 본 발명에 대해서 실시예를 들어 보다 구체적으로 설명한다. 단, 본 발명은 이들 실시예에 한정되는 것이 아니다.
(실시예 1∼8 및 비교예 1∼4)
<접착 시트의 제작>
이하에 나타내는 각 성분을 표 1 및 표 2에 나타낸 배합 비율(질량부)로 혼합하고, 용매로서 시클로헥사논을 이용하여 고형분 40 질량%의 접착제 조성물의 바니시를 조제하였다. 다음에, 얻어진 바니시를 100메쉬의 필터로 여과하여, 진공 탈포하였다. 진공 탈포 후의 바니시를, 기재 필름으로서, 두께 38 ㎛의 이형 처리를 실시한 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름 상에 도포하였다. 도포한 바니시를, 90℃에서 5분간, 계속해서 140℃에서 5분간의 2단계로 가열 건조하였다. 이와 같이 하여, 기재 필름 상에, 반경화(B 스테이지) 상태에 있는 두께 110 ㎛의 필름형 접착제를 구비하는 접착 시트를 얻었다.
또한, 표 1 및 표 2 중 각 성분은 이하와 같다.
(A) 열경화성 수지
(A-1) 지환식 고리를 갖는 에폭시 수지
A-1-1: 일반식 (1a)로 표시되는 에폭시 수지(디시클로펜타디엔 구조를 갖는 에폭시 수지), DIC 가부시키가이샤 제조, 상품명: HP-7200L, 에폭시 당량: 250∼280 g/eq
A-1-2: 일반식 (1a)로 표시되는 에폭시 수지(디시클로펜타디엔 구조를 갖는 에폭시 수지), 니혼가야쿠 가부시키가이샤 제조, 상품명: XD-1000, 에폭시 당량: 254 g/eq
A-1-3: 일반식 (2)로 표시되는 에폭시 수지(25℃에서 액체), 가부시키가이샤 다이셀 제조, 상품명: 셀록사이드 2021P, 에폭시 당량: 128∼145 g/eq
A-1-4: 일반식 (4)로 표시되는 에폭시 수지, 가부시키가이샤 다이셀 제조, 상품명: EHPE3150, 에폭시 당량: 170∼190 g/eq
(A-2) 지환식 고리를 갖지 않는 방향족 에폭시 수지
A-2-1: 다작용 방향족 에폭시 수지, 가부시키가이샤 프린테크 제조, 상품명: VG3101L, 에폭시 당량: 210 g/eq
A-2-2: 크레졸노볼락형 에폭시 수지, 신닛테츠스미킨가가쿠 가부시키가이샤 제조, 상품명: YDCN-700-10, 에폭시 당량: 209 g/eq
A-2-3: 비스페놀 F형 에폭시 수지(25℃에서 액체), DIC 가부시키가이샤 제조, 상품명: EXA-830CRP, 에폭시 당량: 159 g/eq
(B) 경화제
B-1: 비스페놀 A 노볼락형 페놀 수지, DIC 가부시키가이샤 제조, 상품명: LF-4871, 수산기 당량: 118 g/eq
B-2: 페닐아랄킬형 페놀 수지, 미츠이가가쿠 가부시키가이샤 제조, 상품명: XLC-LL, 수산기 당량: 175 g/eq
B-3: 페닐아랄킬형 페놀 수지, 에어·워터 가부시키가이샤 제조, 상품명: HE100C-30, 수산기 당량: 170 g/eq
(C) 엘라스토머
C-1: 에폭시기 함유 아크릴 수지(아크릴 고무), 나가세켐텍스 가부시키가이샤 제조, 상품명: HTR-860P, 중량 평균 분자량: 80만, 글리시딜 작용기 모노머 비율: 3%, Tg: -7℃
C-2: 아크릴 수지(아크릴 고무), 나가세켐텍스 가부시키가이샤 제조, 상품명: SG-70L, 중량 평균 분자량: 90만, 산가: 5 ㎎KOH/g, Tg: -13℃
(D) 무기 필러
D-1: 실리카 필러 분산액, 용융 실리카, 가부시키가이샤 애드마텍스 제조, 상품명: SC2050-HLG, 평균 입경: 0.50 ㎛
(E) 경화 촉진제
E-1: 1-시아노에틸-2-페닐이미다졸, 시코쿠가세이고교 가부시키가이샤 제조, 상품명: 큐어졸 2PZ-CN
<각종 물성의 평가>
얻어진 접착 시트에 대해서, 매립성 및 블리드량의 평가를 행하였다.
[매립성 평가]
접착 시트의 매립성을 이하의 평가 샘플을 제작하여 평가하였다. 상기에서 얻어진 필름형 접착제(두께 110 ㎛)를, 기재 필름을 벗기고, 다이싱 테이프에 첩부하여, 다이싱 다이본딩 일체형 접착 시트를 얻었다. 다음에, 두께 100 ㎛의 반도체 웨이퍼(8인치)를, 접착제측에 70℃로 가열하여 접착하였다. 그 후, 이 반도체 웨이퍼를 한 변이 7.5 ㎜인 사각형으로 다이싱함으로써, 반도체 칩 A를 얻었다. 다음에, 다이싱 다이본딩 일체형 접착 시트(히타치가세이 가부시키가이샤 제조, 상품명: HR9004-10)(두께 10 ㎛)를 준비하고, 두께 50 ㎛의 반도체 웨이퍼(8인치)에 70℃로 가열하여 첩부하였다. 그 후, 이 반도체 웨이퍼를 한 변이 4.5 ㎜인 사각형으로 다이싱함으로써, 다이본딩 필름을 갖는 반도체 칩 B를 얻었다. 계속해서, 솔더레지스트(타이요닛산 가부시키가이샤 제조, 상품명: AUS308)를 도포한 총 두께 260 ㎛의 평가용 기판을 준비하고, 다이본딩 필름을 갖는 반도체 칩 B의 다이본딩 필름과 평가용 기판의 솔더레지스트를 접하도록, 120℃, 0.20 ㎫, 2초간의 조건에서 압착하였다. 그 후, 반도체 칩 A의 필름형 접착제와 반도체 칩 B의 반도체 웨이퍼와가 접하도록, 120℃, 0.20 ㎫, 1.5초간의 조건에서 압착하여, 평가 샘플을 얻었다. 이때, 앞서 압착한 반도체 칩 B가 반도체 칩 A의 중앙이 되도록 위치 맞춤을 행하였다. 이와 같이 하여 얻어진 평가 샘플을 초음파 디지털 화상 진단 장치(인사이트 가부시키가이샤 제조, 프로브: 75 ㎒)로 보이드의 관측의 유무를 관측하고, 보이드가 관측된 경우는, 단위 면적당의 보이드의 면적의 비율을 산출하고, 이들의 분석 결과를 매립성으로서 평가하였다. 평가 기준은, 이하와 같다. 결과를 표 1 및 표 2에 나타낸다.
A: 보이드가 관측되지 않았다.
B: 보이드가 관측되었지만, 그 비율이 5 면적% 미만이었다.
C: 보이드가 관측되고, 그 비율이 5 면적% 이상이었다.
[블리드량 평가]
상기 매립성 평가에서 제작한 평가 샘플과 동일하게 하여, 블리드량 평가의 평가 샘플을 제작하였다. 현미경을 이용하여, 평가 샘플의 4변의 중심으로부터, 필름형 접착제의 비어져 나옴량을 측장하고, 그 최대값을 블리드량으로 하였다. 결과를 표 1 및 표 2에 나타낸다.
[블리드량 평가]
상기 매립성 평가에서 「A」 또는 「B」였던 것에 대해서, 블리드량 평가를 행하였다. 상기 매립성 평가에서 제작한 평가 샘플과 동일하게 하여, 블리드량 평가의 평가 샘플을 제작하였다. 현미경을 이용하여, 평가 샘플의 4변의 중심으로부터, 필름형 접착제의 비어져 나옴량을 측장하고, 그 최대값을 블리드량으로 하였다. 결과를 표 1 및 표 2에 나타낸다.
Figure 112022095635028-pat00006
Figure 112022095635028-pat00007
표 1에 나타내는 바와 같이, 지환식 고리를 갖는 에폭시 수지를 포함하는 실시예 1∼3은, 그것을 포함하지 않는 비교예 1∼3에 비해서, 양호한 매립성을 유지하면서, 블리드를 억제할 수 있었다. 또한, 표 2의 실시예 4∼8로부터, 다른 지환식 고리를 갖는 에폭시 수지를 이용한 경우에 있어서도, 동일한 경향이 있는 것이 판명되었다. 이들 결과로부터, 본 발명에 따른 접착제 조성물이, 열 압착 시에 양호한 매립성을 가지면서, 블리드를 억제하는 것이 가능한 것이 확인되었다.
이상의 결과와 같이, 본 발명에 따른 접착제 조성물은, 열 압착 시의 매립성이 양호하여, 블리드를 억제할 수 있기 때문에, 접착제 조성물을 필름형으로 형성하여 이루어지는 필름형 접착제는, 칩 매립형 필름형 접착제인 FOD(Film Over Die) 또는 와이어 매립형 필름형 접착제인 FOW(Film Over Wire)로서 유용할 수 있다.
10…필름형 접착제, 14…기판, 20…기재, 30…보호 필름, 41…접착제, 42…밀봉재, 84, 94…회로 패턴, 88…제1 와이어, 90…유기 기판, 98…제2 와이어, 100, 110…접착 시트, 200…반도체 장치, Wa…제1 반도체 소자, Waa…제2 반도체 소자.

Claims (13)

  1. 열경화성 수지와, 경화제와, 엘라스토머를 함유하고,
    상기 열경화성 수지가 지환식 고리를 갖는 에폭시 수지 만으로 이루어지고, 이 때, 지환식 고리를 갖는 에폭시 수지는 하기 일반식 (1a)로 표시되는 에폭시 수지를 포함하며,
    상기 열경화성 수지와 상기 경화제의 합계의 함유량은, 접착제 조성물 전량을 기준으로 하여, 30∼50 질량%인, 접착제 조성물:
    Figure 112023057172461-pat00017

    식 (1a) 중, n1은 1∼10의 정수를 나타낸다.
  2. 제1항에 있어서, 상기 경화제가 페놀 수지를 포함하는 것인 접착제 조성물.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 엘라스토머가 아크릴 수지를 포함하는 것인 접착제 조성물.
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 제1항 또는 제2항에 있어서, 무기 필러를 더 함유하는 접착제 조성물.
  7. 제1항 또는 제2항에 있어서, 경화 촉진제를 더 함유하는 접착제 조성물.
  8. 제1항 또는 제2항에 있어서, 기판 상에 제1 와이어를 통해 제1 반도체 소자가 와이어 본딩 접속되며, 제1 반도체 소자 상에, 제2 반도체 소자가 압착되어 이루어지는 반도체 장치에 있어서, 제2 반도체 소자를 압착하며 제1 와이어의 적어도 일부를 매립하기 위해 이용되는, 접착제 조성물.
  9. 제1항 또는 제2항에 기재된 접착제 조성물을 필름형으로 형성하여 이루어지는 필름형 접착제.
  10. 기재와,
    상기 기재 상에 마련된, 제9항에 기재된 필름형 접착제
    를 구비하는 접착 시트.
  11. 제10항에 있어서, 상기 기재가 다이싱 테이프인 접착 시트.
  12. 제10항에 있어서, 상기 필름형 접착제의 상기 기재와는 반대측의 면에 적층된 보호 필름을 더 구비하는 접착 시트.
  13. 기판 상에 제1 와이어를 통해 제1 반도체 소자를 전기적으로 접속하는 와이어 본딩 공정과,
    제2 반도체 소자의 편면에, 제9항에 기재된 필름형 접착제를 첩부하는 라미네이트 공정과,
    상기 필름형 접착제가 첩부된 제2 반도체 소자를, 상기 필름형 접착제를 통해 압착함으로써, 상기 제1 와이어의 적어도 일부를 상기 필름형 접착제에 매립하는 다이본드 공정
    을 구비하는, 반도체 장치의 제조 방법.
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