KR102526277B1 - 주름을 구비한 신축성 가스 배리어 적층 구조체 및 그 제조 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
도 1b는 주기와 높이를 나타내는 개념도이다.
도 2는 본 발명 실시예에서 제조된 주름을 가지는 연신 그래핀 가스 배리어 적층 구조체를 나타내는 FE-SEM 이미지이다. 도 2a는 예비 응력을 5%로 부여한 것을 나타내며, 도 2b는 이를 회전시킨 이미지(tiled image)이다.
도 3은 본 발명 실시예에서 제조된 주름을 가지는 연신 그래핀 가스 배리어 적층 구조체를 나타내는 FE-SEM 이미지이다. 도 3a는 예비 응력을 10%로 부여한 것을 나타내며, 도 3b는 이를 회전시킨 이미지(tiled image)이다.
도 4는 본 발명 실시예에서, 조된(거친) 주름을 가지는 연신 그래핀 가스 배리어 적층 구조체를 나타내는 AFM 사진이다. 도 4a는 예비 응력을 5%로 부여한 것이고, 도 4b는 예비 응력을 10% 부여한 것이다.
도 5는 본 발명 실시예에서 제조된 주름을 가지는 연신 그래핀 가스 배리어 적층 구조체에 대한 기계적 안정성 연신 테스트(mechanical stability stretching test)(도 5a) 및 비틀림 테스트(mechanical stability twisting test)(도 5b) 결과 그래프이다.
도 6은 본 발명 실시예에 제조된 미세 주름이 형성된 그래핀 기반 가스 배리어 적층 구조체의 가스 배리어 특성을 나타내는 그래프이다.
Claims (16)
- 주름을 구비한 신축성 가스 배리어 적층 구조체로서,
신축성 기판; 및
상기 신축성 기판 상에 형성되는 가스 배리어 특성을 가지는 막;을 포함하고,
상기 가스 배리어 막은 적어도 하나의 주름을 포함하고, 상기 가스 배리어 막에 응력 보호층을 더 포함하고, 상기 응력 보호층은 가스 배리어 특성을 가지는 막에 가해지는 응력을 최소화시키는, 가스 배리어 적층 구조체.
- 삭제
- 제 1 항에 있어서,
상기 응력 보호층은 신축성을 가지는, 가스 배리어 적층 구조체.
- 제 1 항에 있어서,
상기 주름은 일방성 주름 또는 등방성 주름 또는 불규칙적인 패턴의 주름인, 가스 배리어 적층 구조체.
- 제 4 항에 있어서,
상기 주름은 1nm 이상 500㎛ 이하의 높이를 가지며 10nm 이상 500㎛ 이하의 주기를 가지는 패턴인, 가스 배리어 적층 구조체.
- 제 1 항에 있어서,
상기 가스 배리어 적층 구조체의 신축성은 1% 이상 1000% 미만인, 가스 배리어 적층 구조체.
- 제 1 항에 있어서,
상기 가스 배리어 막의 가스 배리어 특성은 WVTR 1x10-4 g/m2·day 이상인, 가스 배리어 적층 구조체.
- 제 1 항에 있어서,
상기 가스 배리어 막은 그래핀 막인, 적층 구조체.
- 제 1 항에 있어서,
상기 신축성 기판은 형상 기억 소재로 이루어진, 적층 구조체.
- 제 1 항 및 제 3 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항의 가스 배리어 적층 구조체를 포함하는, 전자 기기.
- 신축성 기판을 제공하는 단계;
가스 배리어 막에 응력 보호층을 형성하는 단계; 및
상기 신축성 기판 상에 가스 배리어 막을 형성하고 가스 배리어 막에 주름을 부여하는 단계;를 포함하며,
상기 응력 보호층은 가스 배리어 특성을 가지는 막에 가해지는 응력을 최소화시키는, 가스 배리어 적층 구조체 제조 방법
- 제 11 항에 있어서,
상기 주름을 부여하는 단계는, 신축성 기판에 예비 응력을 인가하는 단계;
예비 응력이 인가된 신축성 기판에 가스 배리어 막을 적층하는 단계; 및
예비 응력을 제거하는 단계;를 포함하는, 가스 배리어 적층 구조체 제조 방법.
- 삭제
- 제 12 항에 있어서,
상기 신축성 기판은 형상 기억 고분자로 이루어지는 것이고,
예비 응력 인가에 의하여 상기 신축성 기판은 신축 상태로 고정되고, 에너지를 인가하면 신축 전 상태로 회복되는, 가스 배리어 적층 구조체 제조 방법.
- 제 11 항에 있어서,
상기 주름을 부여하는 단계는, 주름을 가지는 신축성 기판에 가스 배리어 막을 기판 주름에 대응하도록 적층하는, 가스 배리어 적층 구조체 제조 방법.
- 제 11 항에 있어서,
상기 주름을 부여하는 단계는, 가스 배리어 필름 제조 시 주름이 직접 인가되도록 하는, 가스 배리어 적층 구조체 제조 방법.
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Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009172860A (ja) | 2008-01-24 | 2009-08-06 | Hirobumi Ito | 皺寄せプレートの製造方法及び皺寄せプレート |
WO2019093069A1 (ja) | 2017-11-07 | 2019-05-16 | 大日本印刷株式会社 | 伸縮性回路基板および物品 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8992807B2 (en) | 2010-01-14 | 2015-03-31 | Samsung Techwin Co., Ltd. | Method of manufacturing deformation-capable graphene sheet, deformation-capable graphene sheet, and device using the same |
KR101813171B1 (ko) * | 2011-09-01 | 2017-12-28 | 삼성전자주식회사 | 가스차단성 박막, 이를 포함하는 전자소자 및 이의 제조방법 |
KR102177214B1 (ko) * | 2014-03-17 | 2020-11-11 | 삼성디스플레이 주식회사 | 플렉서블 디스플레이 장치 및 그 제조방법 |
JP6935219B2 (ja) * | 2017-03-31 | 2021-09-15 | 三井化学東セロ株式会社 | バリア性積層フィルム |
KR101974558B1 (ko) * | 2017-09-26 | 2019-09-05 | 울산과학기술원 | 패키지용 박막필름 및 이의 제조방법 |
KR20190094748A (ko) * | 2018-02-05 | 2019-08-14 | 한국전자통신연구원 | 신축성 기판 및 그 제조방법 |
KR102123853B1 (ko) * | 2018-05-09 | 2020-06-17 | 울산과학기술원 | 패키지용 박막필름 및 이의 제조방법 |
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Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009172860A (ja) | 2008-01-24 | 2009-08-06 | Hirobumi Ito | 皺寄せプレートの製造方法及び皺寄せプレート |
WO2019093069A1 (ja) | 2017-11-07 | 2019-05-16 | 大日本印刷株式会社 | 伸縮性回路基板および物品 |
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