KR102522620B1 - 자기 메모리 소자 및 자기 메모리 소자의 쓰기 방법 - Google Patents
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- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 title claims abstract description 193
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 13
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims abstract description 27
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims abstract description 15
- 230000015654 memory Effects 0.000 claims description 5
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 194
- 239000002800 charge carrier Substances 0.000 description 43
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 8
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 6
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 4
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 4
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 3
- UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N gadolinium atom Chemical compound [Gd] UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005355 Hall effect Effects 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PGTXKIZLOWULDJ-UHFFFAOYSA-N [Mg].[Zn] Chemical compound [Mg].[Zn] PGTXKIZLOWULDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GUBSQCSIIDQXLB-UHFFFAOYSA-N cobalt platinum Chemical compound [Co].[Pt].[Pt].[Pt] GUBSQCSIIDQXLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 2
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 2
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 2
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003321 CoFe Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000767 Tm alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002885 antiferromagnetic material Substances 0.000 description 1
- QYHKLBKLFBZGAI-UHFFFAOYSA-N boron magnesium Chemical compound [B].[Mg] QYHKLBKLFBZGAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013016 damping Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- KBQHZAAAGSGFKK-UHFFFAOYSA-N dysprosium atom Chemical compound [Dy] KBQHZAAAGSGFKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N tellanylidenegermanium Chemical compound [Te]=[Ge] JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZCRRIHWUXGPOV-UHFFFAOYSA-N terbium atom Chemical compound [Tb] GZCRRIHWUXGPOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- H10N50/00—Galvanomagnetic devices
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- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
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- G11—INFORMATION STORAGE
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- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
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- G11C11/16—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using elements in which the storage effect is based on magnetic spin effect
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- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/02—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements
- G11C11/14—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using thin-film elements
- G11C11/15—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using thin-film elements using multiple magnetic layers
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- G11C—STATIC STORES
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- G11C11/16—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using elements in which the storage effect is based on magnetic spin effect
- G11C11/165—Auxiliary circuits
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- G11C11/02—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements
- G11C11/16—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using elements in which the storage effect is based on magnetic spin effect
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- G11C11/1693—Timing circuits or methods
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N50/00—Galvanomagnetic devices
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- Hall/Mr Elements (AREA)
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Abstract
Description
도 2는 본 발명의 실시예들에 따른 스핀 궤도 전류를 시간에 따라 개략적으로 나타내는 그래프이다.
도 3은 본 발명의 실시예들에 따른 스핀 궤도 전류가 흐를 때 자유 층으로 입사하는 전하 캐리어들의 스핀을 개략적으로 나타낸다.
도 4a 및 도 4b는 본 발명의 실시예들에 따른 스핀 궤도 전류가 흐를 때 자유 층의 자기 모멘트의 세차 운동을 개략적으로 나타낸다.
도 5는 스핀 궤도 전류의 주파수와 세차 운동하는 자유 층의 자기 모멘트의 고유 주파수를 개략적으로 나타내는 그래프이다.
도 6은 본 발명의 실시예들에 따른 자기 메모리 소자를 개략적으로 도시한다.
도 7a는 본 발명의 실시예들에 따른 제1 스핀 궤도 전류를 시간에 따라 개략적으로 나타내는 그래프이다.
도 7b는 본 발명의 실시예들에 따른 제2 스핀 궤도 전류를 시간에 따라 개략적으로 나타내는 그래프이다.
도 8은 본 발명의 실시예들에 따른 제1 및 제2 스핀 궤도 전류들이 흐를 때 자유 층으로 입사하는 전하 캐리어들의 스핀을 개략적으로 나타낸다.
도 9a는 자유 층에 인접하는 도전 라인에 직류 전류를 인가하였을 때의 스위칭 임계 전류를 나타내는 그래프이다.
도 9b 및 도 9c는 자유 층에 인접하는 도전 라인에 본 발명의 실시예들에 따른 교류 형태의 전류를 인가하였을 때의 스위칭 임계 전류를 나타내는 그래프들이다.
Claims (20)
- 자기 메모리 소자의 쓰기 방법에 있어서,
상기 자기 메모리 소자는:
자유 층, 고정 층, 및 이들 사이의 터널 배리어 층을 포함하는 자기 터널 접합; 및
상기 자유 층에 인접하는 제1 도전 라인을 포함하고,
상기 자기 메모리 소자의 쓰기 방법은 교류인 제1 스핀 궤도 전류를 상기 제1 도전 라인에 인가하는 것을 포함하되,
상기 인가하는 중 상기 제1 스핀 궤도 전류의 주파수는 시간이 흐름에 따라 점점 감소하는 자기 메모리 소자의 쓰기 방법. - 제1 항에 있어서,
상기 자기 터널 접합은 상기 제1 도전 라인의 일 면 상에 배치되고,
상기 자유 층은 상기 터널 배리어 층과 상기 제1 도전 라인의 상기 일 면 사이에 개재되는 자기 메모리 소자의 쓰기 방법. - 제1 항에 있어서,
상기 제1 스핀 궤도 전류로 인해 상기 자유 층의 자기 모멘트에 스핀 궤도 토크가 가해지는 자기 메모리 소자의 쓰기 방법. - 제1 항에 있어서,
상기 제1 스핀 궤도 전류는 인가되기 시작할 때의 초기 주파수를 가지고,
상기 자유 층의 자기 모멘트는 상기 제1 스핀 궤도 전류가 인가되기 시작할 때의 초기 고유 주파수를 가지되,
상기 제1 스핀 궤도 전류의 상기 초기 주파수는 상기 초기 고유 주파수보다 크거나 상기 초기 고유 주파수와 같은 자기 메모리 소자의 쓰기 방법. - 제1 항에 있어서,
상기 제1 스핀 궤도 전류가 인가되는 동안에, 상기 제1 스핀 궤도 전류의 상기 주파수와 상기 자유 층의 자기 모멘트의 고유 주파수가 일치하는 공명이 적어도 두 번 이상 발생하는 자기 메모리 소자의 쓰기 방법. - 제5 항에 있어서,
상기 적어도 두 번 이상의 공명들 사이에서, 상기 제1 스핀 궤도 전류의 상기 주파수는 상기 자유 층의 상기 자기 모멘트의 상기 고유 주파수보다 큰 자기 메모리 소자의 쓰기 방법. - 제1 항에 있어서,
상기 자기 터널 접합을 통과하는 스핀 전달 전류를 인가하는 것을 더 포함하는 자기 메모리 소자의 쓰기 방법. - 제7 항에 있어서,
상기 스핀 전달 전류는 상기 제1 스핀 궤도 전류가 인가된 후에 인가되는 자기 메모리 소자의 쓰기 방법. - 제1 항에 있어서,
상기 자기 메모리 소자는 상기 제1 도전 라인에 교차하는 제2 도전 라인을 더 포함하고,
시간이 흐름에 따라 감소하는 주파수를 갖는 제2 스핀 궤도 전류를 상기 제2 도전 라인에 인가하는 것을 더 포함하는 자기 메모리 소자의 쓰기 방법. - 제9 항에 있어서,
상기 자기 터널 접합은 상기 제1 도전 라인과 상기 제2 도전 라인의 교차점 상에 배치되는 자기 메모리 소자의 쓰기 방법. - 제9 항에 있어서,
상기 제1 스핀 궤도 전류의 상기 주파수와 상기 제2 스핀 궤도 전류의 상기 주파수는 서로 동일한 자기 메모리 소자의 쓰기 방법. - 고정 층, 자유 층, 및 이들 사이의 터널 배리어 층을 포함하는 자기 터널 접합; 및
상기 자유 층에 인접하는 제1 도전 라인을 포함하되,
상기 제1 도전 라인은 교류인 제1 스핀 궤도 전류가 흐르도록 구성되고,
상기 제1 스핀 궤도 전류의 주파수는 시간이 흐름에 따라 점점 감소하는 자기 메모리 소자. - 제12 항에 있어서,
상기 제1 도전 라인은 상기 제1 스핀 궤도 전류를 통해 상기 자유 층의 자기 모멘트에 스핀 궤도 토크를 가하도록 구성되는 자기 메모리 소자. - 제13 항에 있어서,
상기 자유 층의 상기 자기 모멘트는 적어도 상기 스핀 궤도 토크를 이용하여 스위치 되도록 구성되는 자기 메모리 소자. - 제14 항에 있어서,
상기 자유 층의 상기 자기 모멘트는 상기 자기 터널 접합을 통과하는 스핀 전달 전류에 의한 스핀 전달 토크를 더 이용하여 스위치 되도록 구성되는 자기 메모리 소자. - 제12 항에 있어서,
상기 자유 층은 상기 터널 배리어 층과 상기 제1 도전 라인 사이에 개재되는 자기 메모리 소자. - 제12 항에 있어서,
상기 제1 도전 라인은 Cu, Ta, Pt, W, Gd, Bi, 및 Ir 중에서 적어도 하나를 포함하는 자기 메모리 소자. - 제12 항에 있어서,
상기 제1 도전 라인에 교차하는 제2 도전 라인을 더 포함하되,
상기 제2 도전 라인은 시간이 지남에 따라 주파수가 감소하는 제2 스핀 궤도 전류가 흐르도록 구성되는 자기 메모리 소자. - 제18 항에 있어서,
상기 자기 터널 접합은 상기 제1 도전 라인과 상기 제2 도전 라인의 교차점 상에 배치되는 자기 메모리 소자. - 제18 항에 있어서,
상기 제1 스핀 궤도 전류의 상기 주파수와 상기 제2 스핀 궤도 전류의 상기 주파수는 서로 동일한 자기 메모리 소자.
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020160160756A KR102522620B1 (ko) | 2016-11-29 | 2016-11-29 | 자기 메모리 소자 및 자기 메모리 소자의 쓰기 방법 |
US15/659,283 US20180151209A1 (en) | 2016-11-29 | 2017-07-25 | Magnetic memory device and method of writing magnetic memory device |
US15/822,877 US10482939B2 (en) | 2016-11-29 | 2017-11-27 | Magnetic memory device and method of writing magnetic memory device |
CN201711226363.7A CN108123027B (zh) | 2016-11-29 | 2017-11-29 | 磁存储器件及写磁存储器件的方法 |
US16/591,683 US10734051B2 (en) | 2016-11-29 | 2019-10-03 | Magnetic memory device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020160160756A KR102522620B1 (ko) | 2016-11-29 | 2016-11-29 | 자기 메모리 소자 및 자기 메모리 소자의 쓰기 방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20180061555A KR20180061555A (ko) | 2018-06-08 |
KR102522620B1 true KR102522620B1 (ko) | 2023-04-19 |
Family
ID=62190974
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020160160756A Active KR102522620B1 (ko) | 2016-11-29 | 2016-11-29 | 자기 메모리 소자 및 자기 메모리 소자의 쓰기 방법 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US20180151209A1 (ko) |
KR (1) | KR102522620B1 (ko) |
CN (1) | CN108123027B (ko) |
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- 2016-11-29 KR KR1020160160756A patent/KR102522620B1/ko active Active
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2017
- 2017-07-25 US US15/659,283 patent/US20180151209A1/en not_active Abandoned
- 2017-11-27 US US15/822,877 patent/US10482939B2/en active Active
- 2017-11-29 CN CN201711226363.7A patent/CN108123027B/zh active Active
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- 2019-10-03 US US16/591,683 patent/US10734051B2/en active Active
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Publication number | Publication date |
---|---|
CN108123027A (zh) | 2018-06-05 |
US20200035279A1 (en) | 2020-01-30 |
KR20180061555A (ko) | 2018-06-08 |
CN108123027B (zh) | 2023-11-07 |
US10734051B2 (en) | 2020-08-04 |
US20180151212A1 (en) | 2018-05-31 |
US10482939B2 (en) | 2019-11-19 |
US20180151209A1 (en) | 2018-05-31 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20161129 |
|
PG1501 | Laying open of application | ||
PA0201 | Request for examination |
Patent event code: PA02012R01D Patent event date: 20211126 Comment text: Request for Examination of Application Patent event code: PA02011R01I Patent event date: 20161129 Comment text: Patent Application |
|
E902 | Notification of reason for refusal | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20230111 Patent event code: PE09021S01D |
|
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20230315 |
|
GRNT | Written decision to grant | ||
PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20230412 Patent event code: PR07011E01D |
|
PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20230413 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
PG1601 | Publication of registration |