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KR102480725B1 - 콘택트렌즈의 광학 특성을 측정하기 위한 방법 및 시스템 - Google Patents

콘택트렌즈의 광학 특성을 측정하기 위한 방법 및 시스템 Download PDF

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KR102480725B1
KR102480725B1 KR1020207021869A KR20207021869A KR102480725B1 KR 102480725 B1 KR102480725 B1 KR 102480725B1 KR 1020207021869 A KR1020207021869 A KR 1020207021869A KR 20207021869 A KR20207021869 A KR 20207021869A KR 102480725 B1 KR102480725 B1 KR 102480725B1
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South Korea
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contact lens
electromagnetic radiation
transmittance
ocular surface
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포레스트 알 블랙번
조슈아 하즐
패트리샤 마틴
Original Assignee
트랜지션즈 옵티칼 리미티드
존슨 앤드 존슨 비젼 케어, 인코포레이티드
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Abstract

콘택트렌즈(200)의 투과율을 결정하는 방법은, 강도 측정 디바이스(400)를 사용하여 안구 표면(100)에 의해 반사된 방사선의 제1 강도의 측정치를 획득하는 단계와, 안구 표면(100)과 직접 접촉하도록 콘택트렌즈(200)를 배치하는 단계와, 강도 측정 디바이스(400)를 사용하여 콘택트렌즈(200)에 의해 덮인 안구 표면(100)의 영역(110)에 의해 반사되는 콘택트렌즈(200)를 통해 투과된 전자기 방사선의 제2 강도의 측정치를 획득하는 단계와, 제1 강도 및 제2 강도의 측정치를 사용하여 투과율을 계산하는 단계를 포함한다.

Description

콘택트렌즈의 광학 특성을 측정하기 위한 방법 및 시스템
본 발명은 현실 세계 조건하에서 광변색 콘택트렌즈와 같은 콘택트렌즈의 광학 특성을 결정하기 위한 방법 및 측정 시스템에 관한 것이다.
기술적 고려사항
전자기 스펙트럼의 가시 영역에서 전자기 방사선을 흡수하는 광학 요소는 콘택트렌즈와 같은 다양한 물품에 사용된다. 본 명세서에서 "콘택트렌즈"는 명시적으로 눈 안에 또는 눈 위에 직접 물리적으로 존재하는 디바이스로서 정의된다. "~위에 직접"은 직접적으로 접촉하는 것을 의미한다. "~위에 직접" 및 "~과 직접 접촉하는"이라는 용어가 콘택트렌즈와 눈 사이에 눈물막이 존재하는 조건도 포함한다는 것을 이해해야 한다.
전자기 방사선 흡수 콘택트렌즈는 착용자의 시야 편의를 개선하고 착용자가 밝은 조건에서 볼 수 있는 능력을 향상시킨다. 전자기 방사선 흡수 콘택트렌즈의 예는 고정된 색조 콘택트렌즈 및 광변색 콘택트렌즈를 포함한다.
광변색 콘택트렌즈는 소정 파장의 전자기 방사선에 반응하여 색조를 변화시킨다. 광변색 콘택트렌즈는 밝은 광 조건에 노출될 때 착용자에게 개선된 시력과 편안함을 제공하지만 어두운 광 조건에서는 비 흡수 상태 또는 덜 흡수하는 상태로 돌아간다. 광변색 콘택트렌즈는 다양한 광 조건에서 편안하고 쉬운 보기를 제공하며 실내/어두운 광 위치와 실외/밝은 광 위치 사이를 이동할 때 안경을 바꿀 필요가 없다.
광변색 콘택트렌즈와 같은 콘택트렌즈에 의해 투과된 광량을 테스트하거나 정량화하는 알려진 방법들은 실험실 조건 하에서 종래의 광학 벤치(optical bench)를 이용한다. 광변색 콘택트렌즈는 전형적으로 자외선 방사선에 노출되어 활성화되며, 테스트를 위해 광학 벤치에 부착된다. 광학 벤치는 실험실 조건에는 매우 적합하지만, 주변 광 조건에서 실제로 착용하고 있는 경우와 같은 현실 세계 조건에서는 광변색 콘택트렌즈의 광학 특성 및/또는 미적 특성의 정확한 결정을 제공하지 못할 수 있다. 활성화된 광변색 콘택트렌즈의 색상 또는 색조/암도는 실험실 조건하에 광학 벤치에서 콘택트렌즈를 측정할 때와 비교하여 현실 세계 조건에서 사용자가 실제로 착용할 때 다르게 나타날 수 있다. 또한, 광변색 콘택트렌즈의 인지된 미감은 사람의 눈의 다양한 색상 및 음영 특성으로 인해 실제로 착용될 때 다를 수 있다.
광변색 콘택트렌즈에 의한 광의 투과는 수신된 화학 방사선의 양 및 지속 기간에 기초하여 변한다. 주변 조건하에서 착용자에 의해 광변색 콘택트렌즈가 먼저 활성화된 다음 측정을 위해 실험실 광학 벤치로 이동되었으면, 광변색 콘택트렌즈의 활성화 레벨은 활성화된 시간과 측정을 위해 광학 벤치에 부착된 시간 간에 다를 수 있다. 광변색 콘택트렌즈를 크세논 아크 램프(Xenon arc lamp)에 노출시키는 것과 같은 실험실 조건하에 활성화를 유지하는 기존의 방법은 현실 세계 조건을 정확하게 재현하지 못할 수도 있다.
종래의 실험실 환경 외부에서, 콘택트렌즈, 예를 들어, 활성화된 광변색 콘택트렌즈의 광학 특성을 결정하는 능력은 품질 관리 및 마케팅을 포함하여 몇 가지 응용례를 갖는다. 현실 세계 조건하에 광변색 콘택트렌즈를 테스트하는 것은 착용자가 경험한 편안함과 신뢰성에 대한 유용한 데이터를 제공한다. 또한, 광변색 콘택트렌즈의 현실 세계 특성을 정확하게 결정하는 능력은 구매자에게 그들의 지리적 위치에서 또는 원하는 목적으로 사용하기 위해 다양한 광변색 콘택트렌즈를 판정하는 정량화 또는 정성화 가능한 기초를 제공할 수 있다.
따라서, 현실 세계 조건하에서, 광변색 콘택트렌즈와 같은 콘택트렌즈의 광학 특성을 측정하기 위한 방법 및/또는 시스템을 제공하는 것이 바람직할 것이다. 이 방법 및/또는 시스템이 휴대 가능해야 할 필요가 더 있다.
콘택트렌즈를 통한 전자기 방사선의 투과율을 결정하는 방법은, 안구 표면에 의해 반사된 방사선의 제1 강도를 측정하는 단계와, 안구 표면의 일부를 덮고 그 위에 직접 콘택트렌즈를 배치하는 단계와, 콘택트렌즈에 의해 덮인 안구 표면의 영역에 의해 반사되는 콘택트렌즈를 통해 투과된 방사선의 제2 강도를 측정하는 단계와, 제1 강도 및 제2 강도의 측정치를 사용하여 콘택트렌즈를 통한 전자기 방사선의 투과율을 계산하는 단계를 포함한다.
콘택트렌즈를 통한 전자기 방사선의 투과율을 결정하는 방법은, 안구 표면의 일부를 덮으면서 그 위에 직접 비활성화된 광변색 콘택트렌즈를 배치하는 단계와, 비활성화된 광변색 콘택트렌즈에 의해 덮인 안구 표면의 영역에 의해 반사되는 전자기 방사선의 제1 강도를 측정하는 단계와, 안구 표면 상의 광변색 콘텍트렌즈를 활성화하는 단계와, 활성화된 광변색 콘택트렌즈에 의해 덮인 안구 표면의 영역에 의해 반사되는 광변색 콘택트렌즈를 통해 투과된 전자기 방사선의 제2 강도를 측정하는 단계와, 제1 강도 및 제2 강도의 측정치를 사용하여 광변색 콘택트렌즈를 통한 전자기 방사선의 투과율을 계산하는 단계를 포함한다.
콘택트렌즈를 통한 전자기 방사선의 투과율을 결정하는 방법은, 활성화된 콘택트렌즈에 의해 덮인 안구 표면의 영역에 의해 반사되는 활성화된 콘택트렌즈를 통해 투과되는 전자기 방사선의 제1 강도를 측정하는 단계와, 콘택트렌즈에 의해 덮이지 않은 안구 표면의 영역에 의해 반사되는 전자기 방사선의 제2 강도를 측정하는 단계와, 제1 및 제2 측정치를 CIE 색상 좌표로 변환하는 단계와, CIE 색상 좌표의 차이를 이용하여 콘택트렌즈를 통한 전자기 방사선의 투과율을 계산하는 단계를 포함한다.
콘택트렌즈는 안구 표면과 직접 접촉한다.
제1 및 제2 강도의 측정은 사진 이미징 디바이스를 사용하여 이루어질 수 있다.
전자기 방사선은 하나 이상의 파장의 가시광선 또는 하나 이상의 파장 범위의 가시광선일 수 있다.
원하는 활성화 레벨에서 광변색 콘택트렌즈의 투과율을 결정하는 방법은, 전자기 방사선의 원하는 파장 범위를 선택하는 단계와, 광변색 콘택트렌즈의 원하는 활성화 레벨을 선택하는 단계와, 광변색 콘택트렌즈가 원하는 활성화 레벨에 도달할 때까지 광변색 콘택트렌즈를 원하는 파장 범위에서 화학 방사선에 노출시키는 단계와, 눈의 공막의 영역의 가시성을 최대화하는 단계와, 이미징 디바이스를 사용하여 공막의 영역의 제1 이미지를 촬영하는 단계 - 이미징 디바이스는 선택된 파장 범위에 걸쳐 광 강도 데이터를 기록하도록 구성됨 - 와, 제1 이미지로부터 획득된 선택된 파장 범위에 대한 제1 전자기 방사선 강도 데이터 세트를 기록하는 단계와, 활성화된 광변색 콘택트렌즈로 공막의 영역을 덮는 단계와, 이미징 디바이스를 사용하여 공막의 영역의 제2 이미지를 촬영하는 단계와, 제2 이미지로부터 획득된 선택된 파장 범위에 대한 제2 전자기 방사선 강도 데이터 세트를 기록하는 단계와, 제1 및 제2 데이터 세트를 데이터베이스에 입력하는 단계와, 프로세서를 사용하여 광변색 콘택트렌즈의 투과율을 결정하는 단계를 포함한다.
도 1은 안구 표면으로부터 반사된 전자기 방사선 강도 데이터를 측정하기 위한 강도 측정 디바이스를 포함하는 강도 측정 시스템의 측면 개략도이다.
도 2는 측정 영역을 도시하는 안구 표면의 정면 개략도이다.
도 3은 다른 측정 영역을 도시하는 안구 표면의 정면 개략도이다.
도 4는 안구 표면의 일부분과 직접 접촉하는 콘택트렌즈를 도시하는 도 2의 안구 표면의 정면 개략도이다.
도 5는 안구 표면의 일부분과 직접 접촉하는 콘택트렌즈를 도시하는 도 3의 안구 표면의 정면 개략도이다.
도 6은 콘택트렌즈의 다른 예시적인 위치 설정을 도시하는 안구 표면의 정면 개략도이다.
도 7은 본 발명의 예시적인 측정 방법의 블록도이다.
도 8은 본 발명의 다른 예시적인 측정 방법의 블록도이다.
명세서 및 청구범위에서 사용된 바와 같이, 단수 형태는 문맥상 명백하게 다르게 지시되지 않는 한 복수의 지시 대상을 포함한다.
"왼쪽", "오른쪽", "위", "아래" 등과 같은 공간 또는 방향 용어는 도면에 도시된 바와 같이 본 발명과 관련된다. 그러나, 본 발명은 다양한 대안적 배향을 가정할 수 있으며, 따라서, 이러한 용어는 제한적인 것으로 간주되지 않아야 한다.
명세서 및 청구범위에서 사용된 모든 숫자는 모든 경우에 용어 "약"에 의해 변형되는 것으로 이해해야 한다. "약"은 언급된 값의 플러스 또는 마이너스 10%의 범위를 의미한다.
"~와 같은"이라는 용어는 비제한적인 것으로 이해해야 한다. 즉, "~와 같은" 다음에 언급된 구성요소는 언급된 특징의 비제한적인 예인 것으로 이해해야 한다.
본 명세서에 개시된 모든 범위는 시작 및 종료 범위 값 및 이에 포함된 임의의 및 모든 하위범위를 포함한다. 본 명세서에 개시된 범위는 지정된 범위에 대한 평균값을 나타낸다.
안구 표면의 예와 콘택트렌즈의 예 사이의 위치 관계와 관련하여 "~에 의해 덮인" 또는 "덮는"이라는 용어의 사용은 직접 접촉하는 것을 의미한다. 예를 들어, 콘택트렌즈에 의해 덮인 안구 표면의 영역은 콘택트렌즈가 안구 표면과 직접 접촉한다는 것을 의미한다.
안구 표면의 예와 콘택트렌즈의 예 사이의 위치 관계와 관련하여 사용되는 "덮이지 않은"이라는 용어는 안구 표면이 이미징 디바이스의 기준의 프레임으로부터 콘택트렌즈에 의해 "덮이지" 않음을 의미한다.
"폴리머" 또는 "폴리머의"라는 용어는 올리고머, 호모폴리머, 코폴리머, 폴리머 혼합(즉, 호모폴리머 또는 코폴리머의 혼합물) 및 삼원 공중 합체, 예를 들어 2 종 이상의 모노머 또는 폴리머로부터 형성된 터폴리머(terpolymer)를 포함한다.
"자외선 방사선"이라는 용어는 100 나노미터(nm) 내지 380nm 미만의 범위의 파장을 갖는 전자기 방사선을 의미한다. "가시 방사선" 또는 "가시광"이라는 용어는 380nm 내지 780nm 범위의 파장을 갖는 전자기 방사선을 의미한다. "적외선 방사선"이라는 용어는 780nm 초과 내지 1,000,000nm 범위의 파장을 갖는 전자기 방사선을 의미한다.
본 명세서에 언급된 모든 문서는 그 전체 내용이 "참조로 포함된다".
"적어도"는 "~보다 크거나 같다"는 것을 의미한다. "~보다 크지 않다"는 "~보다 작거나 같다"는 것을 의미한다.
이와 반대로 나타내지 않는 한, 파장 값은 나노미터(nm)이다.
"포함하다(include)"라는 용어는 "포함하다(comprise)"와 동의어이다.
"화학 방사선" 및 "화학 광"이라는 용어는 광변색 물질을 하나의 활성화 상태에서 다른 활성화 상태로 변형하는 것과 같이 물질에 반응을 일으킬 수 있는 전자기 방사선을 의미한다.
"광변색"이라는 용어는 적어도 화학 방사선의 흡수에 반응하여 변하는 적어도 가시 방사선에 대한 흡수 스펙트럼을 갖는 것을 의미한다.
상이한 조건을 언급할 때, 용어 "제1", "제2" 등은 임의의 특정 순서 또는 연대순을 지칭하기 위한 것이 아니라 상이한 조건 또는 특성을 지칭하기 위한 것이다. 설명을 위해, 광변색 콘택트렌즈의 제1 상태 및 제2 상태는 가시 방사선 및/또는 자외선(UV) 방사선의 흡수 또는 선형 편광과 같은 적어도 하나의 광학 특성과 관련하여 상이할 수 있다. 예를 들어, 광변색 콘택트렌즈는 제1 상태에서 투명하고 제2 상태에서 채색될 수 있다. 이와 달리, 광변색 콘택트렌즈는 제1 상태에서 제1 색상을 가지며 제2 상태에서 제2 색상을 가질 수 있다.
"광학"이라는 용어는 광 및/또는 시력과 관련되거나 이와 연관되는 것을 의미한다.
"고정된 색조"라는 용어는 비감광성, 즉, 시각적으로 관찰된 색상과 관련하여 전자기 방사선에 물리적으로 또는 화학적으로 반응하지 않는 착색제를 갖는 것을 의미한다.
"투명한"이라는 용어는 물질이 눈에 띄게 산란하지 않고 빛을 투과시키는 특성을 가져서 그 너머에 있는 물체가 보이는 것을 의미한다.
"활성화된"이라는 용어는 광학 디바이스가 화학 방사선과 같은 조건 및 충분한 시구간 동안 노출되어 콘택트렌즈가 가시 및/또는 자외선(UV) 방사선의 흡수 또는 선형 편광과 같은 적어도 하나의 광학적 특성에 관하여 제1 활성화 상태에서 제2 활성화 상태로 이동하는 것을 의미한다.
"원하는 활성화 레벨"이라는 용어는 정량적 또는 정성적 결정일 수 있다. 광변색 콘택트렌즈의 원하는 활성화 레벨은 디바이스가 선택된 시구간 동안 특정 환경(파장 또는 파장 범위)에서 주변 또는 지향된 광에 노출됨으로써 도달한 활성화 레벨일 수 있다.
CIE 색상 좌표(예를 들어, X, Y, Z)는 CIE 등색 함수 xyz를 포함하여 국제조명위원회에 의해 지정된 CIE XYZ 색상 시스템에 따른 좌표를 의미한다. CIE 색상 좌표는 CIE XYZ 1931, 1664 및/또는 2004 형식에 따를 수 있다.
본 발명의 논의는 소정 특징이 소정 제한 내에서 "특히" 또는 "바람직하게"(예를 들어, 소정 제한 내에서 "바람직하게", "더 바람직하게" 또는 "더욱더 바람직하게") 있는 것으로 설명할 수 있다. 본 발명은 이들 특정 또는 바람직한 제한에 제한되는 것이 아니라 본 명세서의 전체 범위를 포함한다는 것을 이해해야 한다.
본 발명은 임의의 조합으로 본 발명의 후속 양상들을 포함하거나 이들로 구성되거나 이들로 기본적으로 구성된다. 본 발명의 다양한 양상은 별개의 도면에 도시된다. 그러나, 이는 그저 예시 및 논의를 쉽게 하기 위한 것임을 이해해야 한다. 본 발명의 실시에서, 하나의 도면에 도시된 본 발명의 하나 이상의 양상은 하나 이상의 다른 도면에 도시된 본 발명의 하나 이상의 양상과 조합될 수 있다.
도 1은 본 발명의 측정 시스템(10)의 개략적 표현이다. 측정 시스템(10)은 안구 표면(100), 광원(300) 및 이미징 디바이스(400)를 포함한다.
광원(300)은 하나 이상의 파장 또는 하나 이상의 파장 범위에서 전자기 방사선을 방출한다. 전자기 방사선은 가시광선일 수 있다. 광원(300)은 적외선(IR) 및/또는 자외선(UV) 스펙트럼과 같은 전자기 방사선의 하나 이상의 다른 스펙트럼에서도 전자기 방사선을 방출할 수 있다. 도면에는 도시되어 있지 않지만, 복수의 광원(300)이 사용될 수 있다. 복수의 광원(300)이 존재하는 경우, 광원(300)은 전자기 방사선의 동일한 파장 또는 파장 범위를 방출할 수 있고, 또는 광원(300)의 일부는 다른 광원(300)과 상이한 전자기 방사선의 파장 또는 파장 범위를 방출할 수 있다. 광원(300)의 예는 태양을 포함하고, 이 경우 전자기 방사선은 주변 실외 광일 것이다. 또는, 광원(300)은 백열등, 형광등, 소형 형광등, 또는 원하는 스펙트럼에서 전자기 방사선을 방출하는 임의의 다른 광원과 같은 인공 광원일 수 있다.
안구 표면(100)은 사람 눈의 온도, 수분 함량, 반사율, 색상, 투과율 또는 다른 물리적 또는 광학적 특성과 같은 사람 눈의 하나 이상의 양상에 근사한 표면일 수 있다. 예를 들어, 안구 표면(100)은 사람 눈의 표면 일 수 있다. 안구 표면(100)은 동물 눈의 표면일 수 있다.
도 1을 참조하면, 광원(300)으로부터 방출된 전자기 방사선, 예를 들어, 가시광선은 안구 표면(100)의 하나 이상의 영역으로부터 반사된다. 이미징 디바이스(400)는 안구 표면(100)으로부터 반사된 전자기 방사선의 이미지 데이터를 캡처한다. 이미징 디바이스(400)는 강도 검출 디바이스이며, 안구 표면(100)의 하나 이상의 부분으로부터 반사된 전자기 방사선의 강도를 측정한다. 위치의 함수로서, 강도 데이터는 이미징 디바이스(400)에 의해 촬영된 이미지 데이터에 포함될 수 있다. 안구 표면(100)에 의해 반사된 전자기 방사선의 강도를 측정하기 위해 이미징 디바이스(400)가 높은 해상도를 가질 필요는 없다. 그러나, 이미징 디바이스(400)가 양호한 광도측정 선형성을 갖는 것이 바람직하다. 또한, 이미징 디바이스(400)는 높은 동적 범위를 갖는 것이 바람직하다. 이미징 디바이스(400)의 예는 디지털 카메라, CCD(charge-coupled device), CMOS(complementary metal-oxide semiconductor) 센서, 광다이오드 어레이, 광전자 증배관 어레이, 또는 임의의 주어진 면적 크기에 초점을 맞추는 광학을 이용하는 단일 센서(1X1 어레이)를 포함한다. 이미징 디바이스(400)의 추가의 예는 초분광 이미저(imager)이며, 각각의 픽셀에서의 이미지 센서는 필터로 인해 좁아진 대역만이 아니라 가시광선의 전체 스펙트럼에 걸쳐 데이터를 획득할 수 있다. 이미징 디바이스(400)는 컬러 또는 흑백인 이미지를 촬영할 수 있다. 강도 측정 디바이스로서 기능하기에 적합한 이미징 디바이스(400)의 예는 펜실베이니아 엑스톤의 Allied Vision Technologies로부터 시판되는 모델 AVT F-145 B/C 스팅레이(Stingray) 카메라이다. 노출 시간과 암도 값을 알면, 그리고 노출 시간과 측정된 강도 값 사이의 선형 관계를 가정하면, HDR(High Dynamic Range) 기능을 사용하여 촬영한 이미지도 사용될 수 있다.
광 강도 및 위치에 관한 데이터를 포함하는 이미지 데이터는 이미징 디바이스(400)의 내부 메모리에 저장될 수 있다. 이와 달리, 이미지 데이터는 탈착 가능 또는 외부 메모리에, 또는 당업계에 공지된 임의의 다른 방식으로 저장될 수 있다.
이미징 디바이스(400)는 전자기 방사선의 하나 이상의 선택된 파장 또는 하나 이상의 파장 범위의 강도 데이터를 포함하는 이미지 데이터를 획득하도록 구성된다. 예를 들어, 이미징 디바이스(400)는 1nm 내지 1,000nm 범위 내의 전자기 방사선의 하나 이상의 선택된 파장 또는 하나 이상의 파장 범위의 강도 데이터를 포함하는 이미지 데이터를 획득하도록 구성될 수 있다. 예를 들어, 이미징 디바이스(400)는 가시광선의 하나 이상의 선택된 파장 또는 하나 이상의 파장 범위의 강도 데이터를 포함하는 이미지 데이터를 획득하도록 구성될 수 있다. 예를 들어, 이미징 디바이스(400)는 적색, 녹색 및 청색 범위의 전자기 방사선의 강도에 관한 데이터를 획득할 수 있다. 이와 달리 또는 부가적으로, 이미징 디바이스(400)는 시안, 노란색, 녹색 및/또는 마젠타 범위의 전자기 방사선의 강도 데이터를 획득할 수 있다. 다른 파장 범위도 사용될 수 있다. 당업자는 다양한 제조사 및 이미징 디바이스가 이들 색상 범위를 다르게 정의하고, 각각의 색상에 대한 특정 파장 또는 파장 범위 및 몇몇 범위가 중첩될 수 있음을 이해할 것이다. 적색, 녹색 및 청색의 예시적인 범위는 각각 635 ± 20nm, 555 ± 20nm 및 460 ± 20nm이다. 대략 380nm와 780nm 사이의 파장을 포함하는 가시광선 스펙트럼에서의 파장 범위 중 임의의 범위 또는 이의 조합이 사용될 수 있다.
데이터가 획득될 수 있는 가시광선의 특정 파장 범위가 선택될 수 있다. 이들 파장 범위는 테스트될 광변색 콘택트렌즈와 같은 광학 요소에 존재하는 특정 광변색 염료의 색상에 대응할 수 있다. 파장은 파장의 임의의 조합일 수 있으며, 필터를 사용하여 정의될 수 있다. 전자기 방사선, 예컨대, 가시광선의 파장의 선택되거나 또는 원하는 범위 또는 범위들에 대응하는 필터(450)가 안구 표면(100)과 이미징 디바이스(400) 사이에 배치될 수 있다. 필터(450)는 이미징 디바이스(400)에 들어가는 광을 원하는 파장 또는 파장 범위로 제한한다. 필터(450)는 이미징 디바이스(400)의 렌즈 위에 배치될 수 있다. 필터(450)의 예는 대역 통과 필터, 단역 통과 필터(short pass filter), 장역 통과 필터(long pass filter) 또는 당업계에 공지된 다른 필터를 포함한다. 필터(450)는 임의의 원하는 파장 범위에서 전자기 방사선의 하나 이상의 파장에 중심을 둔 노치 필터일 수 있다. 노치 필터는 원하는 가시광선의 스펙트럼의 나머지를 차단하면서 원하는 파장에 집중된 좁은 파장 범위의 전자기 방사선을 투과시킬 수 있다. 필터(450)는 3-노치 필터일 수 있다. 필터(450)는 노치가 각각 635 ± 20nm, 555 ± 20nm 및 460 ± 20nm에 집중된 3-노치 필터일 수 있다. 강도 값의 측정은 동일한 범위의 광 파장에 걸쳐 수행될 수 있다. 필터(450)는 안구 표면(100)의 색상에 대응하거나 또는 이와 다르게 선택될 수 있다.
도 2 및 도 3은 x 축 및 y 축에 적용된 안구 표면(100)의 개략적 표현이다. 도면은 콘택트렌즈에 의해 커버되는 부분이 없는 안구 표면(100)을 도시한다. 도 1 내지 도 3을 참조하면, 안구 표면(100)으로부터 반사된 전자기 방사선의 강도의 제1 측정이 이미징 디바이스(400)로 수행된다. 제1 측정은 안구 표면(100)의 선택된 부분에서 수행될 수 있다. 예를 들어, 제1 측정은 안구 표면(100)의 영역(110)에 대해 수행될 수 있다. 영역(110)은 사람 눈의 공막(120)의 영역일 수 있다. 영역(110)은 안구 표면(100)의 비교적 넓은 영역을 포함할 수 있다. 예를 들어, 영역(110)은 1 제곱 밀리미터(mm2) 내지 10 제곱 밀리미터(mm2)와 같은 1mm2 내지 25mm2를 포함할 수 있다. 영역(110)의 면적은 측정될 콘택트렌즈의 면적과 실질적으로 동일할 수 있다. 또는, 영역(110)의 면적은 측정될 콘택트렌즈의 면적보다 크거나 작을 수 있다. 도 2는 영역(110)이 안구 표면(100)의 홍채(140)에 인접한 공막(120)의 일부 상에 위치된 안구 표면(100)의 개략적 표현이다. 도 2에 도시된 영역(110)은 구부러진 세장형 영역이다. 도 3에서, 영역(110)은 홍채(140)와 이격되어 있다. 도 3에 도시된 영역(110)은 도 3은 원형 또는 타원형 영역이다. 영역(110)이 임의의 형상일 수 있다는 것을 이해해야 한다. 영역(110)은 홍채(140), 동공(130), 공막(120) 또는 이들의 임의의 조합을 포함하지만 이에 제한되지 않는 안구 표면(100)의 임의의 부분 상에 위치될 수 있음을 또한 이해해야 한다.
도 4 및 도 5는 콘택트렌즈(200)가 안구 표면(100)을 덮도록, 즉, 안구 표면(100)과 직접 접촉하도록 배치되는 안구 표면(100)의 개략적 표현이다. 예를 들어, 콘택트렌즈(200)는 고정형 색조 콘택트렌즈(200) 또는 광변색 콘택트렌즈(200)일 수 있다. 콘택트렌즈(200)가 광변색 콘택트렌즈인 경우, 광변색 콘택트렌즈(200)는 활성화되거나 비활성화될 수 있다. 콘택트렌즈(200)는 안구 표면과 직접 접촉한다. 다음 예에서, 콘택트렌즈(200)는 안구 표면(100)과 직접 접촉하여 위치되는 광변색 콘택트렌즈(200)이도록 간주될 것이다. 콘택트렌즈(200)는 영역(110)의 전부 또는 일부를 덮을 수 있다. 콘택트렌즈(200)가 광변색 콘택트렌즈(200)인 경우, 광변색 콘택트렌즈(200)는 원하는 활성화 레벨을 달성하기 위해 일정 시구간 동안, 예를 들어, 완전한 활성화를 달성하기 위해 일정 시구간 동안 안구 표면(100) 상의 화학 방사선에 노출될 수 있다.
도 4 및 도 5에 개략적으로 도시된 예를 참조하면, 안구 표면(100)에 의해 반사되는 콘택트렌즈(200)를 통해 투과된 전자기 방사선, 예를 들어, 가시광선의 강도의 제2 측정은 이미징 디바이스(400)로 수행된다. 제2 측정치는 콘택트렌즈(200)에 의해 덮인 안구 표면(100)의 영역(110)의 적어도 일부에 대한 강도 데이터를 포함한다. 콘택트렌즈(200)의 면적은 영역(110)의 면적과 실질적으로 동일할 수 있다. 또는, 콘택트렌즈(200)의 면적은 영역(110)보다 크거나 또는 영역(110)보다 작을 수 있다. 제1 측정 및 제2 측정을 위해 측정된 파장 또는 파장의 범위는 동일한 것이 바람직하다. 안구 표면(100)의 예는 강도 데이터가 동시에 또는 순차적으로 측정되는 복수의 영역(110)을 포함할 수 있음을 이해해야 한다.
이미징 디바이스(400)가 콘택트렌즈(200)의 표면적의 전부 또는 적어도 일부에 걸쳐 이미지 데이터를 캡처할 때, 콘택트렌즈(200) 전반에 걸친 강도 값이 비교될 수 있다. 이러한 비교는 콘택트렌즈(200)를 통한 투과율의 차이를 식별할 수 있다는 점에서 유용하다. 이는 콘택트렌즈(200) 상의 소정 이미지 결함의 위치를 나타낸다. 이러한 상황에서, 안구 표면(100)의 영역(110)은 측정될 콘택트렌즈(200)의 원하는 면적과 크기가 일치할 수 있다. 이와 달리, 복수의 제2 측정이 수행될 수 있는데, 여기서 콘택트렌즈(200)는 안구 표면(100)의 상이한 부분을 덮고, 이러한 이미지에서 안구 표면(100)의 영역(110)으로부터 강도 데이터가 획득될 수 있다.
도 2 및 도 4를 구체적으로 참조하면, 콘택트렌즈(200)의 중심 영역이 동공(130) 위에 위치하더라도 콘택트렌즈(200)는 공막(120)의 일부를 덮을 수 있다. 도 2 및 도 4에서 영역(110)은 홍채(140)에 인접한 공막(120)의 일부 상에 위치된다. 영역(110)은 홍채(140)에 충분히 가깝게 위치되는데, 콘택트렌즈(200)가 콘택트렌즈(200)의 중심 영역이 동공(130) 위에 위치되는 방향으로 안구 표면(100) 상에 위치될 때, 공막(120)의 영역(110)이 콘택트렌즈(200)의 적어도 일부에 의해 덮인다. 예를 들어, 콘택트렌즈(200)의 주변부에 의해 덮여있다. 이 구성에서, 제2 측정은 콘택트렌즈(200)의 외부 주변 에지와 홍채(140)의 외부 주변 에지 사이에 위치된 영역(110)의 적어도 일부에 대해 수행된다.
도 5는 콘택트렌즈(200)의 중심 영역이 홍채(130)를 덮지 않도록 콘택트렌즈(200)가 안구 표면(100)의 일부를 덮도록 위치된 예를 도시한다. 이 구성에서, 공막(120)의 영역(110)은 콘택트렌즈(200)에 의해 전부 또는 부분적으로 덮이고, 안구 표면(100)에 의해 반사된 전자기 방사선, 예를 들어 가시광선의 강도의 제2 측정은 이미징 디바이스(400)로 수행된다. 강도 데이터는 콘택트렌즈(200)의 중심 영역으로부터의 데이터를 포함할 수 있다. 그것은 정상적인 착용 동안 착용자의 동공(130) 위에 위치될 가능성이 가장 큰 콘택트렌즈(200)의 부분이므로 착용자의 경험에 가장 큰 영향을 미칠 수 있다.
도 1 내지 도 5를 참조하면, 제1 측정과 제2 측정 사이의 강도 데이터를 비교하기 위해, 안구 표면(100) 상의 위치 데이터가 결정된다. 전술한 바와 같이, 2개의 강도 측정 사이의 안구 표면(100) 상의 위치는 각각의 이미지에서의 안구 표면(100)의 형상을 비교함으로써 결정될 수 있다. 이는 이미지를 시각적으로 비교하고 분석될 각각의 이미지의 좌표 범위를 선택함으로써 수행될 수 있다. 이미징 디바이스(400)의 메모리 또는 외부 컴퓨팅 디바이스에 저장된 소프트웨어는 콘택트렌즈(200)에 의해 덮인 영역(110)을 결정하기 위해 이미지들을 자동으로 비교하기 위해 프로세서에 의해 적용될 수 있다. 프로세서는 이미징 디바이스(400) 내에 위치될 수 있고, 또는 외부 프로세서가 사용될 수 있다.
안구 표면(100)의 동일한 영역(110)으로부터 획득된 강도 데이터가 제1 및 제2 측정을 분석할 때 비교된다는 것을 보장하기 위해, 안구 표면(100)과 이미징 디바이스(400) 사이의 상대적 이동은 측정들 간에 제한될 수 있다. 안구 표면(100)과 이미징 디바이스(400) 사이의 상대적 이동은 이미징 디바이스(400)를 고정 또는 휴대용 스탠드(도시되지 않음) 상에 위치시킴으로써 제한될 수 있다. 안구 표면(100)이 사람의 눈인 경우, 착용자의 머리의 움직임은 머리 받침, 턱 받침, 바이트 바(bite bar) 또는 당업계에 공지된 다른 메커니즘에 의해 제한될 수 있다.
도 6은 사람의 눈 형태의 안구 표면(100)을 덮는, 즉, 접촉하는 콘택트렌즈(200), 예를 들어, 광변색 콘택트렌즈(200)를 위치시키는 예를 도시한다. 이 예에서, 착용자는 제1 및 제2 측정 동안 공막(120)의 노출을 최대화할 수 있다. 공막(120)에 의해 구성되는 영역(110)의 비율은 가능한 한 큰 것이 바람직하다. 착용자는 위쪽 및 왼쪽 또는 오른쪽을 보면서 공막(120)의 노출을 최대화할 수 있다. 착용자는 이미징 디바이스(400)를 왼쪽, 오른쪽, 위, 아래 또는 직접과 같은 다른 방향으로 볼 수 있음을 이해해야 한다. 이미징 디바이스(400)는 안구 표면(100)의 어느 곳에서나 반사된 전자기 방사선의 강도에 관한 데이터를 포함하는 이미지 데이터를 획득한다. 그러나, 광변색 콘택트렌즈(200)의 투과율을 결정하기 위해, 제2 측정 동안 광변색 콘택트렌즈(200)에 의해 덮일 안구 표면(100)의 영역(110)이 특히 중요하다. 이 덮인 부분은 눈의 동공(130), 홍채(140) 및/또는 공막(120)을 포함할 수 있다. 홍채(140) 및 동공(130)의 상대적인 암도로 인해, 광변색 콘택트렌즈(200)에 의해 덮일 안구 표면(100)의 영역(110)은 강도 측정 오류를 줄이기 위해 공막(120)에 의해 대부분 또는 전적으로 구성되는 것이 바람직할 수 있다. 이는 이미징 디바이스(400)의 동적 범위가 비교적 낮은 경우에 바람직할 수 있다.
도 6을 더 참조하면, 착용자는 예를 들어, 위쪽 및 왼쪽 또는 위쪽 및 오른쪽을 봄으로써 안구 표면(100)의 공막(120)의 노출을 최대화한다. 안구 표면(100)으로부터 반사된 전자기 방사선의 제1 강도 측정은 이미징 디바이스(400)로 수행된다. 제1 측정 동안 공막(120)의 노출된 부분은 바람직하게는 영역(110)을 포함한다. 콘택트렌즈(200)는 안구 표면(100) 상의 영역(110) 위에 배치된다. 콘택트렌즈(200)가 광변색 콘택트렌즈(200)인 경우, 광변색 콘택트렌즈(200)는 원하는 레벨의 광변색 활성화를 달성하기 위해 일정 시구간 동안 화학 방사선에 노출된다. 제2 강도 측정은 이미징 디바이스(400)로 수행된다. 강도 측정은 영역(110) 위에 위치된 콘택트렌즈(200)를 통해 전송된 데이터를 포함한다.
도 4 내지 도 6을 참조하면, 콘택트렌즈(200)가 광변색 콘택트렌즈(200)인 경우, 제1 강도 측정은 제1 상태에서 안구 표면(100) 상의 제자리에 있는 콘택트렌즈(200)로써 수행될 수 있다. 제1 상태는 비활성화 상태일 수 있다. 제2 강도 측정은 광변색 콘택트렌즈(200)가 제2 상태에 있는 이후 이미징 디바이스(400)로써 수행될 수 있다. 제2 상태는 활성화 상태일 수 있다. 제2 강도 측정은 콘택트렌즈(200)의 중앙 부분을 통해 이루어질 수 있다. 이와 달리, 제2 강도 측정은 콘택트렌즈(200)의 주변부를 통해 이루어질 수 있다.
전술한 바와 같이, 홍채(140) 및 동공(130)의 상대적인 암도로 인해, 광변색 콘택트렌즈(200)에 의해 덮일 안구 표면(100)의 영역(110)은 강도 측정의 오류를 감소시키기 위해 공막(120)에 의해 대부분 또는 전적으로 구성되는 것이 바람직할 수 있다. 그러나, 영역(110)은 홍채(140) 및/또는 동공(130)에 의해 구성될 수 있음을 이해해야 한다. 이 구성에 따르면, 홍채(140) 및/또는 동공(130)의 영역(110)을 포함하는 제1 이미지가 촬영될 수 있고, 이어서 영역(110)을 덮는 활성화된 광변색 콘택트렌즈(200)가 배치될 수 있고, 동일 영역(110)을 포함하는 제2 이미지가 촬영될 수 있다. 그러한 예에서, 종래의 광전자 증배관 어레이 또는 실리콘 광전자 증배관 어레이와 같은 CCD 또는 CMOS 검출기보다 더 민감한 이미징 디바이스(400)를 사용하는 것이 바람직할 수 있다. 적합한 어레이의 비제한적인 예는 아일랜드 SensL of Cork에 의해 제조된 실리콘 광전자 증배관 어레이, 및 일본 플라마 하마마츠시의 Hamamatsu Photonics에 의해 제조된 다중 픽셀 광자 계수기이다. 광전자 증배관 어레이를 사용할 때, 실외 조건에 노출되는 것으로 인해 이미징 디바이스가 손상되지 않도록 주의해야 한다.
이미징 디바이스(400)가 CCD를 포함하는 경우, 측정된 강도 값들 중 일부는 CCD 상의 암전류에 부분적으로 기인할 수 있다. 암전류는 CCD의 온도에 의존할 수 있다. 이미징 디바이스(400)의 제조자는 암전류로 인해 CCD 상에 강도 값의 테이블 또는 플롯을 제공할 수 있다. 셔터가 닫혀있는 동안 이미징 디바이스(400)로 하나 이상의 측정을 수행함으로써 다양한 온도에서 암전류에 기인한 강도가 결정될 수 있다. 온도 측정은 제1 및 제2 강도 값을 측정하는 것과 동시에 온도 측정 디바이스로 수행될 수 있다. 이미징 디바이스(400)는 온도 측정 디바이스를 포함할 수 있고, 또는 외부 온도 측정 디바이스가 사용될 수 있다.
제1 측정 및 제2 측정에서, 강도 데이터는 다양한 파장 범위에 걸쳐 또는 특정 파장에 대해 획득될 수 있다. 두 측정에 대한 데이터를 비교할 때, 다음 등식이 적용될 수 있다.
Figure 112020078457399-pct00001
TMeas는 콘택트렌즈(200)를 통한 전자기 방사선의 투과율이고,
lo는 제1 강도의 측정치이며,
IT는 제2 강도의 측정이고,
d는 강도 측정 디바이스의 암전류에 기인한 강도 값이다.
콘택트렌즈(200)의 측정된 흡광도 AMeas는
Figure 112020078457399-pct00002
로서 정의된다.
제2 측정으로 측정된 전자기 방사선의 강도는 콘택트렌즈(200)를 두 번, 즉, 콘택트렌즈(200)를 통해 광원(300)으로부터 안구 표면(100)(영역(110))으로 이동할 때 한 번, 그리고 안구 표면(100)(영역(110))으로부터 다시 콘택트렌즈(200)를 통해 이미징 디바이스(440)로 반사될 때 다시 한 번 관통한다. 콘택트렌즈(200)를 두 번 관통하는 전자기 방사선을 보정하기 위해, 측정된 흡광도 AMeas를 2의 계수로 나누어 보정된 흡광도 값 ACorr을 얻는다, 즉:
Figure 112020078457399-pct00003
보정된 투과율 TCorr의 값은 다음과 같이 계산된다:
Figure 112020078457399-pct00004
위의 등식을 풀면 다음과 같다:
Figure 112020078457399-pct00005
투과율 및 흡광도는 밀접하게 관련된 값이라는 것을 이해해야 한다. 따라서, 문맥상 명백하게 다르게 나타내지 않는 한, 투과율을 결정하는 것을 언급하는 본 출원에서의 임의의 개시 또는 교시는 흡광도를 결정하는 것도 지칭하고, 반대의 경우도 마찬가지이다.
투과율 및/또는 흡광도의 변화가 결정될 수 있으며, 활성화되지 않은 광변색 또는 비광변색 콘택트렌즈(200)는 안구 표면(100)을 덮도록 위치된다는 것을 이해해야 한다. 그런 다음 제1 측정이 수행된다. 이어서 콘택트렌즈(200)는 화학 방사선으로 활성화된다. 그런 다음 제2 측정이 수행된다. 이어서 투과율 변화 또는 흡광도 변화의 값이 결정된다.
광원(300)에 의해 방출되는 전자기 방사선의 강도는 시간에 따라 변할 수 있다. 예를 들어, 본 발명의 방법이 광원(300)이 태양인 실외 환경에서 실행될 때, 제1 측정과 제2 측정 사이에 구름이 태양을 지나갈 수 있는데, 이는 안구 표면(100) 상의 입사 전자기 방사선의 강도에 영향을 줄 수 있다. 입사 전자기 방사선 강도의 변화를 보상하기 위해, 이미징 디바이스(400)는 이차 위치(150)로부터 측정을 수행할 수 있다. 이차 위치(150)는 안구 표면(100) 상에, 인접하여 또는 그 근처에 있을 수 있다. 하나 이상의 이차 위치(150)는 안구 표면(100) 상에 있을 수 있고 또는 안구 표면에 인접하거나 근처이지만 영역(110) 외부에 있는 영역일 수 있다. 도 6을 참조하면, 이미징 디바이스(400)는 제1 및 제2 강도 측정이 수행될 때 동시에 이차 위치(150)로부터 강도 데이터를 획득할 수 있다. 이차 위치(150)는 제1 및 제2 측정으로부터의 강도 데이터를 포함하는 동일한 이미지 또는 이미지 데이터 세트의 일부일 수 있다. 이차 위치(150)는 영역(110)을 포함하지 않는 안구 표면(100) 상에 위치될 수 있다. 또는, 이차 위치(150)는 착용자의 얼굴 상에 또는 착용자 근처 또는 안구 표면(100) 근처에 위치한 표면 상에와 같은 다른 곳에 위치할 수 있다. 이러한 표면은 특정 파장 범위의 전자기 방사선을 반사하도록 구성될 수 있다. 이차 위치(150)의 예는 착용자의 얼굴 상에 위치하거나 안구 표면(100) 근처에 위치하며 안정된 반사기로서 작용하는 컬러 탭 또는 점일 수 있다. 이차 위치(150)는 흰색, 회색 또는 임의의 색일 수 있다. 이차 위치(150)의 다른 예는 컬러 탭 또는 점으로 덮여 있지 않은 착용자의 얼굴의 일부일 수 있다. 도 6은 이차 위치(150)의 장소의 한 예를 도시하지만, 이차 위치(150)에 임의의 적합한 표면이 사용될 수도 있음을 이해해야 한다.
제1 측정과 제2 측정 사이의 이차 위치(150)로부터 반사된 전자기 방사선의 측정된 값 사이의 비교는 광원(300)으로부터 방출된 전자기 방사선 강도의 변화를 보상하는 데 사용될 수 있다. 예를 들어, 이차 위치(150)로부터 획득된 강도 데이터가 제1 측정과 제2 측정 사이에서 광원(300)으로부터 방출된 전자기 방사선의 강도가 10% 감소함을 나타내는 경우, 제1 강도(IO) 및/또는 제2 강도(IT)의 값은 측정 된 투과율(T) 및 흡광도(AMeas)뿐만 아니라 보정된 흡광도(ACorr) 및 보정된 투과율(TCorr)을 결정할 때 그 양만큼 조정될 수 있다. 이 조정은 소프트웨어를 구현하는 프로세서에 의해 적용될 수 있다.
강도 데이터를 분석하는 데 사용될 수 있는 예시적인 소프트웨어는 WaveMetrics에 의해 개발된 Igor Pro; 미국국립보건원에 의해 개발된 Image J; National Instruments에 의해 개발된 LabVIEW; OriginLab에 의해 개발된 Origin 및 OriginPro; 및 Microsoft Corporation에 의해 개발된 Microsoft Excel을 포함한다. 적용 가능한 기술에서 알려진 바와 같이, 추가 소프트웨어가 강도 데이터의 분석을 수행할 수 있다.
또 다른 예시적인 방법에서, 비활성화 콘택트렌즈(200)가 안구 표면(100) 상에 배치될 수 있다. "비활성화"는 콘택트렌즈(200)가 화학 방사선에 노출되지 않았거나 충분한 강도의 및/또는 완전히 활성화되기에 충분한 시간 동안 화학 방사선에 노출되지 않았음을 의미한다. 비활성화된 콘택트렌즈(200)는 영역(110)의 적어도 일부를 덮는, 즉, 접촉한다. 제1 강도 데이터 세트는 비활성화 콘택트렌즈(200)에 의해 덮인 안구 표면(100)의 영역(110)의 이미징 디바이스(400)를 사용하여 획득된다. 콘택트렌즈(200)는 활성화되는데, 예를 들어 완전히 활성화된다. 제2 강도 데이터 세트는 현재 활성화된 콘택트렌즈(200)에 의해 덮인 영역(110)의 이미징 디바이스(400)를 사용하여 획득된다. 투과율은 두 세트의 강도 데이터를 비교함으로써 결정된다.
다른 예시적인 방법에서, 활성화된 콘택트렌즈(200)가 안구 표면(100) 상에 배치되고 안구 표면(100)을 덮는데, 콘택트렌즈(200)는 안구 표면(100) 전체를 덮지는 않는다. 이미지 데이터는 전체 안구 표면(100)의 이미징 디바이스(400)를 사용하여 획득된다. 이들 이미지 데이터는 관련 기술 분야에 공지된 임의의 프로세스를 사용하여 CIE 색상 조정(예를 들어, CIE XYZ 1931 포맷, CIE XYZ 1964 포맷 또는 CIE XYZ 2004 포맷)으로 변환된다. 콘택트렌즈(200)에 의해 덮이는 안구 표면(100)의 영역들 및 콘택트렌즈(200)에 의해 덮이지 않은 영역들로부터의 이미지 데이터로부터의 CIE X, Y 및 Z 값들을 비교하여 X, Y 및 Z 등색 함수에 대해 투과율 변화를 계산한다. 약 555nm에서 피크이므로 CIE Y 값을 사용하는 것이 바람직할 수 있다. 투과율은 다음 등식에 따라 결정될 수 있다:
Figure 112020078457399-pct00006
TY는 CIE Y 값에 따라 결정된 콘택트렌즈(200)의 투과율이고, Yuncovered는 안구 표면(100)의 이미지의 일부의 Y 값이며, 안구 표면(100)은 콘택트렌즈(200)에 의해 덮이지 않고, Ycovered는 안구 표면(100)의 이미지의 일부의 Y 값이고, 안구 표면(100)은 콘택트렌즈(200)에 의해 덮인다. X 및 Z 값을 사용한 투과율은 Y 값 대신 X 및 Z 값을 각각 사용하는 동일한 등식을 사용하여 결정될 수 있다.
도 7은 본 발명의 예시적인 방법의 단계들을 도시하는 블록도이다. 단계(1010)는 안구 표면에 의해 반사된 전자기 방사선의 제1 강도를 측정하는 단계를 포함한다. 이 단계는 강도 측정 디바이스(400)를 사용하여 수행될 수 있다. 단계(1020)는 콘택트렌즈(200)를 표면(100) 위에 위치시키는 단계를 포함한다. 단계(1030)는 안구 표면(100)에 의해 반사되는 콘택트렌즈(200)를 통해 투과되는 전자기 방사선의 제2 강도를 측정하는 단계를 포함한다. 단계(1040)는 제1 강도 및 제2 강도의 측정치를 사용하여 콘택트렌즈(200)를 통한 전자기 방사선의 투과율을 계산하는 단계를 포함한다.
도 8은 본 발명의 다른 예시적인 방법의 단계들을 도시하는 블록도이다. 단계(2010)는 전자기 방사선의 원하는 파장 범위를 선택하는 단계를 포함한다. 단계(2020)는 콘택트렌즈(200), 바람직하게는 광변색 콘택트렌즈(200)의 원하는 활성화 레벨을 선택하는 단계를 포함한다. 단계(2030)는 광변색 콘택트렌즈(200)가 원하는 활성화 레벨에 도달할 때까지 광변색 콘택트렌즈(200)를 화학 방사선에 노출시키는 단계를 포함한다. 단계(2040)는 눈의 공막(120)의 영역(110)의 가시성을 최대화하는 것을 포함한다. 단계(2050)는 이미징 디바이스(400)를 사용하여 공막(120)의 영역(110)의 제1 이미지를 촬영하는 단계를 포함한다. 이미징 디바이스(400)는 원하는 파장 범위에 걸쳐 전자기 방사선 강도 데이터를 기록하도록 구성될 수 있다. 단계(2060)는 제1 이미지로부터 획득된 원하는 파장 범위에 대한 제1 전자기 방사선 강도 데이터 세트를 기록하는 단계를 포함한다. 단계(2070)는 공막(120)의 영역(110)을 활성화된 광변색 콘택트렌즈(200)로 덮는 단계를 포함한다. 단계(2080)는 이미징 디바이스(400)를 사용하여 광변색 콘택트렌즈(200)로 덮인 공막(120)의 영역(110)의 제2 이미지를 촬영하는 단계를 포함한다. 단계(2090)는 제2 이미지로부터 획득된 원하는 파장 범위에 대한 제2 전자기 방사선 강도 데이터 세트를 기록하는 단계를 포함한다. 단계(2100)는 제1 및 제2 데이터 세트를 데이터베이스에 입력하는 단계를 포함한다. 단계(2110)는 프로세서를 사용하여 광변색 콘택트렌즈(200)의 투과율을 결정하는 단계를 포함한다.
본 명세서에 따른 발명은 하기 실시예에 의해 추가로 설명될 수 있다. 이 예는 본 발명을 제한하지 않는다. 단지 본 발명을 실시하는 방법을 제안하기 위한 것이다. 광학 및 다른 전문 분야에 대해 지식이 있는 사람들은 본 발명을 실시하는 다른 방법을 발견할 수 있다. 그러나, 이들 방법은 본 발명의 범위 내에 있는 것으로 간주된다.
예 1
예 1은 실외 환경에서 광변색 콘택트렌즈의 투과율 및 흡광도의 측정에 관한 것이다.
본 발명에 따른 측정은 충분한 햇빛에서 실외 테스트 플랫폼 상의 안구 표면 상의 콘택트렌즈에 대해 수행되었다. 이미징 디바이스는 8인 F-번호로 설정된 보정되지 않은 AVT 카메라였으며 화이트 밸런스되었다. 테스트된 광변색 콘택트렌즈에 광대역 흡수 광변색 염료가 함침되었고, 적색, 녹색 및 청색(RGB) 평면의 값을 여전히 얻을 수 있었다. 안구 표면은 인간의 눈이었다. 카메라 렌즈에 RGB 필터는 적용되지 않았다. 대상 렌즈의 광변색 염료가 넓은 스펙트럼에 걸쳐 흡수되기 때문에, RGB 필터는 이 예에 따른 측정에 불필요하다고 간주되었다. 이미지 데이터는 Igor Pro 6.37을 사용하여 분석되었다. 측정된 광변색 렌즈는 측정 전에 주변 광에서 20분 동안 눈 위에서 활성화되었다. 광변색 렌즈를 통한 투과율 값은 대상 눈을 촬영한 두 이미지 사이의 강도 데이터의 차이에 기초하여 결정되었다. 투과율 값이 눈으로부터 반사된 광에 기초하여 결정되었으므로, 흡광도 값은 전술한 바와 같이 2배로 보정되었다. 강도 값은 스케일링된 전압의 단위인 "카운트"로 측정되었다. 측정하기 전에, 적색, 녹색 및 청색 평면의 암도 값이 결정되었다.
이미지 데이터는 또한 전술한 바와 같이 대상 눈 주위의 영역을 포함하며, 이로부터 이차 위치로부터의 강도 데이터가 획득될 수 있다. 이차 위치는 대상 눈에서 벗어나 위치되었다. 이차 위치로부터 반영된 강도 데이터의 백분율 변화에 기초하여 2개의 측정 사이의 주변 강도의 변화가 설명되었고, 이 값의 역수에 기초하여 보정 승수가 결정되었다. 이차 위치로부터의 강도 데이터는 콘택트렌즈로부터의 제1 강도 측정시에 획득된 이미지 데이터에 대응하는 제3 강도 측정치 및 콘택트렌즈의 제2 강도 측정시에 획득된 이미지 데이터에 대응하는 제4 강도 측정치로 지칭된다. 획득된 값은 아래 표 1에 도시된다. "보정된 투과율"은 보정되지 않은 투과율에 보정 승수를 적용한 값이다. "보정된 흡광도" 값은 전술한 바와 같이 2 배만큼 보정된 보정된 투과율 값으로부터 획득되었다.
Figure 112020078457399-pct00007
본 발명은 또한 다음 조항 중 하나 이상을 특징으로 할 수 있다.
조항 1. 안구 표면(100)과 직접 접촉하는 콘택트렌즈(200)를 통한 전자기 방사선의 투과율을 결정하는 방법은 안구 표면(100)의 적어도 일부에 의해 반사된 방사선의 제1 강도를 측정하는 단계와, 안구 표면(100)의 적어도 일부를 덮도록 콘택트렌즈(200)를 배치하는 단계와, 콘택트렌즈(200)에 의해 덮인 안구 표면(100)의 적어도 하나의 영역(110)에 의해 반사되는 콘택트렌즈(200)를 통해 투과된 방사선의 제2 강도를 측정하는 단계와, 제1 강도 및 제2 강도의 측정치를 사용하여 콘택트렌즈(200)를 통한 전자기 방사선의 투과율을 계산하는 단계를 포함한다.
조항 2. 조항 1에 있어서, 측정하는 단계는 강도 측정 디바이스(400), 바람직하게는 이미징 디바이스를 사용하여 달성되는, 방법.
조항 3. 조항 2에 있어서, 강도 측정 디바이스(400) 상의 암전류에 기인한 강도 값을 결정하는 단계와, 다음 등식
Figure 112020142106190-pct00008
에 따라 콘택트렌즈(200)를 통한 전자기 방사선의 투과율을 계산하는 단계를 더 포함하되, TCorr는 콘택트렌즈(200)를 통한 전자기 방사선의 투과율이고, IO는 제1 강도의 측정치이며, IT는 제2 강도의 측정치이고, d는 강도 측정 디바이스(400) 상의 암전류에 기인한 강도 값인, 방법.
조항 4. 조항 1 내지 3 중 어느 한 조항에 있어서, 안구 표면(100)의 제1 위치에서 제1 강도를 측정하는 단계와, 안구 표면(100)의 제1 위치에서 제2 강도를 측정하는 단계를 포함하는, 방법.
조항 5. 조항 4에 있어서, 제1 강도를 측정하는 것과 동시에 이차 위치(150)로부터 반사된 방사선의 제3 강도를 측정하는 단계 - 적어도 하나의 영역(110)은 이차 위치(150)와 다름 - 와, 제2 강도를 측정하는 것과 동시에 이차 위치(150)로부터 반사된 방사선의 제4 강도를 측정하는 단계와, 제1 및 제3 강도의 측정 시간과 제2 및 제4 강도의 측정 시간 사이의 방사선 강도의 변화를 결정하기 위해 제3 강도와 제4 강도를 비교하는 단계와, 제3 강도와 제4 강도의 비교를 이용하여 콘택트렌즈(200)를 통한 전자기 방사선의 투과율을 계산할 때 제1 및 제3 강도의 측정 시간과 제2 및 제4 강도의 측정 시간 사이의 방사선 강도의 변화를 보상하는 단계를 더 포함하는, 방법.
조항 6. 조항 2 내지 5 중 어느 한 조항에 있어서, 강도 측정 디바이스(400)는 1nm 내지 1,000nm, 바람직하게는 380nm 내지 780nm의 파장 범위를 포함하는 전자기 방사선의 스펙트럼 내에서 전자기 방사선의 강도를 측정하도록 구성되는, 방법.
조항 7. 조항 2 내지 6 중 어느 한 조항에 있어서, 강도 측정 디바이스(400)는 460 ± 20nm의 파장 범위를 포함하는 전자기 방사선의 스펙트럼에 걸쳐 전자기 방사선의 강도를 측정하도록 구성되는, 방법.
조항 8. 조항 2 내지 7 중 어느 한 조항에 있어서, 강도 측정 디바이스(400)는 555 ± 20nm의 파장 범위를 포함하는 전자기 방사선의 스펙트럼에 걸쳐 전자기 방사선의 강도를 측정하도록 구성되는, 방법.
조항 9. 조항 2 내지 8 중 어느 한 조항에 있어서, 강도 측정 디바이스(400)는 635 ± 20nm의 파장 범위를 포함하는 전자기 방사선의 스펙트럼에 걸쳐 전자기 방사선의 강도를 측정하도록 구성되는, 방법.
조항 10. 조항 1 내지 9 중 어느 한 조항에 있어서, 제1 강도 및 제2 강도의 측정치는 460 ± 20nm, 555 ± 20nm 및 635 ± 20nm로 구성된 그룹에서 선택된 파장 범위에서 발생하는
조항 11. 조항 2 내지 10 중 어느 한 조항에 있어서, 제1 강도 및 제2 강도를 측정하기 전에 강도 측정 디바이스(400)의 검출기 위에 필터(450)를 적용하는 단계를 더 포함하는, 방법.
조항 12. 조항 11에 있어서, 필터(450)는 460 ± 20nm, 555 ± 20nm 및 635 ± 20nm로 구성된 그룹에서 선택된 파장에 집중되는, 방법.
조항 13. 조항 11 또는 조항 12에 있어서, 필터(450)는 3-파장 노치 필터인, 방법.
조항 14. 조항 1 내지 13 중 어느 한 조항에 있어서, 안구 표면(100)은 사람 눈을 포함하는, 방법.
조항 15. 조항 14에 있어서, 안구 표면(100)은 눈의 공막의 적어도 일부를 포함하는, 방법.
조항 16. 조항 15에 있어서, 콘택트렌즈(200)의 중앙부 또는 주변부에 대한 제 2 강도의 값을 측정하는 단계를 더 포함하는, 방법.
조항 17. 조항 1 내지 16 중 어느 한 조항에 있어서, 콘택트렌즈(200)는 광변색 콘택트렌즈(200) 또는 착색 콘택트렌즈(200)인, 방법.
조항 18. 원하는 활성화 레벨에서 광변색 콘택트렌즈(200)의 투과율을 결정하는 방법은, 전자기 방사선의 원하는 파장 범위를 선택하는 단계와, 광변색 콘택트렌즈(200)의 원하는 활성화 레벨을 선택하는 단계와, 광변색 콘택트렌즈(200)가 원하는 활성화 레벨에 도달할 때까지 광변색 콘택트렌즈(200)를 화학 방사선에 노출시키는 단계와, 눈의 공막(120)의 영역(110)의 가시성을 최대화하는 단계와, 이미징 디바이스(400)를 사용하여 공막(120)의 영역(110)의 제1 이미지를 촬영하는 단계 - 이미징 디바이스(400)는 원하는 파장 범위에 걸쳐 전자기 방사선 강도 데이터를 기록하도록 구성됨 - 와, 제1 이미지로부터 획득된 원하는 파장 범위에 대한 제1 전자기 방사선 강도 데이터 세트를 기록하는 단계와, 활성화된 광변색 콘택트렌즈(200)로 공막(120)의 영역(110)을 덮는 단계와, 이미징 디바이스를 사용하여 공막(120)의 영역(110)의 제2 이미지를 촬영하는 단계와, 제2 이미지로부터 획득된 원하는 파장 범위에 대한 제2 전자기 방사선 강도 데이터 세트를 기록하는 단계와, 제1 및 제2 데이터 세트를 데이터베이스에 입력하는 단계와, 프로세서를 사용하여 광변색 콘택트렌즈(200)의 투과율을 결정하는 단계를 포함한다.
조항 19. 조항 18에 있어서, 제1 이미지 및 제2 이미지를 촬영하기 전에 이미징 디바이스(400) 위에 필터(450)를 적용하는 단계를 더 포함하는, 방법.
조항 20. 조항 19에 있어서, 필터(450)는 460 ± 20nm, 555 ± 20nm 및 635 ± 20nm로 구성된 그룹에서 선택된 파장에 집중되는, 방법.
조항 21. 조항 19 또는 조항 20에 있어서, 필터(450)는 3-파장 노치 필터인, 방법.
조항 22. 콘택트렌즈(200)를 통한 전자기 방사선의 투과율을 결정하는 방법은, 안구 표면(100)의 일부 위에 직접 비활성화된 광변색 콘택트렌즈(200)를 배치하는 단계와, 콘택트렌즈(200)에 의해 덮인 안구 표면(100)의 영역(110)에 의해 반사되는 방사선의 제1 강도를 측정하는 단계와, 콘텍트렌즈(200)를 활성화하는 단계와, 콘택트렌즈(200)에 의해 덮인 콘택트렌즈(200)의 영역(110)에 의해 반사되는 방사선의 제2 강도를 측정하는 단계와, 제1 강도 및 제2 강도의 측정치를 사용하여 콘택트렌즈(200)를 통한 전자기 방사선의 투과율을 계산하는 단계를 포함한다.
조항 23. 콘택트렌즈(200)를 통한 전자기 방사선의 투과율을 결정하는 방법은, 활성화된 광변색 콘택트렌즈(200)에 의해 덮인 안구 표면(100)의 영역(110)에 의해 반사되는 방사선의 제1 강도를 측정하는 단계와, 콘택트렌즈(200)에 의해 덮이지 않은 안구 표면(100)의 영역에 의해 반사되는 방사선의 제2 강도를 측정하는 단계와, 제1 및 제2 측정치를 CIE 색상 좌표로 변환하는 단계와, CIE 색상 좌표의 차이를 이용하여 콘택트렌즈(200)를 통한 전자기 방사선의 투과율을 계산하는 단계를 포함한다.
조항 24. 조항 1 내지 23 중 어느 한 조항에 있어서, 콘택트렌즈(200)는 안구 표면(100)과 직접 접촉하는, 방법.
조항 25. 조항 1에 있어서, 콘택트렌즈(200)는 제1 강도 및 제2 강도를 측정하기 전에 안구 표면(100)을 덮고 그 위에 배치되며, 제1 강도 및 제2 강도의 측정은 동일한 이미지로부터 획득되며, 제1 강도는 콘택트렌즈(200)에 의해 덮이지 않은 안구 표면(100)의 일부로부터 측정되고, 제2 강도는 콘택트렌즈(200)에 의해 덮인 안구 표면(100)의 일부로부터 측정되며, 방법은, 제1 강도의 측정치를 CIE XYZ 값으로 변환하는 단계와, 제2 강도의 측정치를 CIE XYZ 값으로 변환하는 단계와, 다음 등식
Figure 112020142106190-pct00009
에 따라 투과율을 결정하는 단계를 더 포함하고, TY는 CIE Y 값에 따라 결정된 콘택트렌즈(200)의 투과율이고, Yuncovered는 안구 표면(100)이 콘택트렌즈(200)에 의해 덮이지 않을 때 안구 표면(100)의 이미지의 일부의 Y 값이며, Ycovered는 안구 표면(100)이 콘택트렌즈(200)에 의해 덮일 때 안구 표면의 이미지의 일부의 Y 값인, 방법.
조항 26. 광변색 콘택트렌즈(200)의 투과율을 결정하는 측정 시스템(100)은 광원(300) 및 강도 측정 디바이스(400)를 포함한다.
조항 27. 조항 26에 있어서, 안구 표면(100)을 더 포함하는, 측정 시스템(10).
조항 28. 조항 26 또는 조항 27에 있어서, 광원(300)은 자연 광원 또는 인공 광원인, 측정 시스템 (10).
조항 29. 조항 26 내지 28 중 어느 한 조항에 있어서, 강도 측정 디바이스(400)는 이미징 디바이스를 포함하는, 측정 시스템(10).
조항 30. 조항 27 내지 29 중 어느 한 조항에 있어서, 강도 측정 디바이스(400)는 380nm 내지 780nm의 파장 범위를 포함하는 전자기 방사선의 스펙트럼에 걸쳐 방사선의 강도를 측정하도록 구성되는, 측정 시스템(10).
조항 31. 조항 27 내지 30 중 어느 한 조항에 있어서, 강도 측정 디바이스(400)는 460 ± 20nm의 파장 범위를 포함하는 전자기 방사선의 스펙트럼에 걸쳐 방사선의 강도를 측정하도록 구성되는, 측정 시스템(10).
조항 32. 조항 27 내지 31 중 어느 한 조항에 있어서, 강도 측정 디바이스(400)는 555 ± 20nm의 파장 범위를 포함하는 전자기 방사선의 스펙트럼에 걸쳐 방사선의 강도를 측정하도록 구성되는, 측정 시스템(10).
조항 33. 조항 27 내지 32 중 어느 한 조항에 있어서, 강도 측정 디바이스(400)는 635 ± 20nm의 파장 범위를 포함하는 전자기 방사선의 스펙트럼에 걸쳐 방사선의 강도를 측정하도록 구성되는, 측정 시스템(10).
조항 34. 조항 27 내지 33 중 어느 한 조항에 있어서, 강도 측정 디바이스(400)의 검출기 위에 필터(450)를 적용하는 단계를 더 포함하는, 측정 시스템(10).
조항 35. 조항 34에 있어서, 필터(450)는 460 ± 20nm, 555 ± 20nm 및 635 ± 20nm로 구성된 그룹에서 선택된 파장에 집중되는, 측정 시스템(10).
조항 36. 조항 34 또는 조항 35에 있어서, 필터(450)는 3-파장 노치 필터인, 측정 시스템(10).
조항 37. 조항 27 내지 36 중 어느 한 조항에 있어서, 안구 표면(100)은 사람 눈을 포함하는, 측정 시스템(10).
조항 38. 조항 1 내지 17 중 어느 한 조항에 있어서, 콘택트렌즈(200)는 광변색 콘택트렌즈(200), 바람직하게는 광변색 콘택트렌즈이고, 방법은 제1 강도 측정과 제2 강도 측정 사이에 광변색 콘택트렌즈(200)를 적어도 부분적으로 활성화시키는 단계를 포함하는, 방법.
본 명세서는 현재 가장 실용적이고 바람직한 양상인 것으로 간주되는 것에 기초하여 예시의 목적을 위해 상세하게 설명되었지만, 그러한 세부사항은 그 목적만을 위한 것이며 본 명세서가 개시된 양상으로 한정되는 것이 아니라 수정 및 균등한 구성을 포함하기 위한 것임을 이해해야 한다. 예를 들어, 본 명세서는 가능한 한, 임의의 양상의 하나 이상의 특징이 임의의 다른 양상의 하나 이상의 특징과 조합될 수 있는 것으로 고려된다는 것을 이해해야 한다.

Claims (15)

  1. 안구 표면(100)과 직접 접촉하는 콘택트렌즈(200)를 통한 전자기 방사선의 투과율을 결정하는 방법으로서,
    안구 표면(100)의 적어도 일부에 의해 반사된 방사선의 제1 강도를 강도 측정 디바이스(400)를 사용하여 측정하는 단계와,
    상기 안구 표면(100)의 적어도 일부를 덮으면서 직접 접촉하도록 콘택트렌즈(200)를 배치하는 단계와,
    상기 콘택트렌즈(200)에 의해 덮인 상기 안구 표면(100)의 적어도 하나의 영역(110)에 의해 반사되는, 상기 콘택트렌즈(200)를 통해 투과된 방사선의 제2 강도를 상기 강도 측정 디바이스(400)를 사용하여 측정하는 단계와,
    상기 제1 강도 및 상기 제2 강도의 측정치를 사용하여 상기 콘택트렌즈(200)를 통한 전자기 방사선의 투과율을 계산하는 단계를 포함하는
    전자기 방사선의 투과율 결정 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 강도 측정 디바이스(400) 상의 암전류에 기인한 강도 값을 결정하는 단계와,
    다음 등식에 따라 상기 콘택트렌즈(200)를 통한 상기 전자기 방사선의 투과율을 계산하는 단계를 더 포함하되,
    Figure 112020142106190-pct00010

    TCorr는 상기 콘택트렌즈(200)를 통한 상기 전자기 방사선의 투과율이고,
    IO는 상기 제1 강도의 측정치이며,
    IT는 상기 제2 강도의 측정치이고,
    d는 상기 강도 측정 디바이스(400) 상의 암전류에 기인한 상기 강도 값인
    전자기 방사선의 투과율 결정 방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 제1 강도를 측정하는 것과 동시에 이차 위치(150)로부터 반사된 방사선의 제3 강도를 측정하는 단계 - 상기 적어도 하나의 영역(110)은 상기 이차 위치(150)와 다름 - 와,
    상기 제2 강도를 측정하는 것과 동시에 상기 이차 위치(150)로부터 반사된 방사선의 제4 강도를 측정하는 단계와,
    상기 제1 및 제3 강도의 측정 시간과 상기 제2 및 제4 강도의 측정 시간 사이의 방사선 강도의 변화를 결정하기 위해 상기 제3 강도와 상기 제4 강도를 비교하는 단계와,
    상기 제3 강도와 상기 제4 강도의 비교를 이용하여 상기 콘택트렌즈(200)를 통한 상기 전자기 방사선의 투과율을 계산할 때, 상기 제1 및 제3 강도의 측정 시간 과 상기 제2 및 제4 강도의 측정 시간 사이의 방사선 강도의 변화를 보상하는 단계를 더 포함하는
    전자기 방사선의 투과율 결정 방법.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 강도 측정 디바이스(400)는 1nm 내지 1,000nm의 파장 범위를 포함하는 전자기 방사선의 스펙트럼 내에서 전자기 방사선의 강도를 측정하도록 구성되는
    전자기 방사선의 투과율 결정 방법.
  5. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 강도 측정 디바이스(400)는 460 ± 20nm의 파장 범위를 포함하는 전자기 방사선의 스펙트럼에 걸쳐 전자기 방사선의 강도를 측정하도록 구성되는
    전자기 방사선의 투과율 결정 방법.
  6. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 강도 측정 디바이스(400)는 555 ± 20nm의 파장 범위를 포함하는 전자기 방사선의 스펙트럼에 걸쳐 전자기 방사선의 강도를 측정하도록 구성되는
    전자기 방사선의 투과율 결정 방법.
  7. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 강도 측정 디바이스(400)는 635 ± 20nm의 파장 범위를 포함하는 전자기 방사선의 스펙트럼에 걸쳐 전자기 방사선의 강도를 측정하도록 구성되는
    전자기 방사선의 투과율 결정 방법.
  8. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 제1 강도 및 상기 제2 강도의 측정치는 460 ± 20nm, 555 ± 20nm 및 635 ± 20nm로 구성된 그룹에서 선택된 파장 범위에서 발생하는
    전자기 방사선의 투과율 결정 방법.
  9. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 제1 강도 및 상기 제2 강도를 측정하기 전에 상기 강도 측정 디바이스(400)의 검출기 위에 필터(450)를 적용하는 단계를 더 포함하는
    전자기 방사선의 투과율 결정 방법.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 필터(450)는 460 ± 20nm, 555 ± 20nm 및 635 ± 20nm로 구성된 그룹에서 선택된 파장에 집중되는
    전자기 방사선의 투과율 결정 방법.
  11. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 안구 표면(100)은 사람 눈의 적어도 일부를 포함하는
    전자기 방사선의 투과율 결정 방법.
  12. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 콘택트렌즈(200)는 광변색 콘택트렌즈(200) 또는 착색 콘택트렌즈(200)인
    전자기 방사선의 투과율 결정 방법.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 콘택트렌즈(200)의 중앙부 또는 주변부에 대한 상기 제2 강도의 값을 측정하는 단계를 더 포함하는
    전자기 방사선의 투과율 결정 방법.
  14. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 콘택트렌즈(200)는 광변색 콘택트렌즈(200)이고,
    상기 방법은,
    전자기 방사선의 원하는 파장 범위를 선택하는 단계와,
    상기 광변색 콘택트렌즈(200)의 원하는 활성화 레벨을 선택하는 단계와,
    상기 광변색 콘택트렌즈(200)가 상기 원하는 활성화 레벨에 도달할 때까지 상기 광변색 콘택트렌즈(200)를 화학 방사선에 노출시키는 단계를 포함하되,
    상기 안구 표면(100)은 눈을 포함하고, 상기 적어도 하나의 영역(110)은 상기 눈의 공막(120) 상에 위치되며, 상기 강도 측정 디바이스(400)는 상기 원하는 파장 범위에 걸쳐 전자기 방사선 강도 데이터를 기록하도록 구성된 이미징 디바이스이며, 상기 안구 표면(100)에 의해 반사된 방사선의 제1 강도를 상기 강도 측정 디바이스(400)를 사용하여 측정하는 단계는 상기 이미징 디바이스(400)를 사용하여 상기 공막(120)의 영역(110)의 제1 이미지를 촬영하는 단계를 포함하고, 상기 안구 표면(100)을 덮도록 상기 광변색 콘택트렌즈(200)를 배치하는 단계는 상기 공막(120)의 영역(110)을 활성화된 광변색 콘택트렌즈(200)로 덮는 단계를 포함하며, 상기 광변색 콘택트렌즈(200)에 의해 덮인 상기 안구 표면(100)의 영역(110)에 의해 반사된 방사선의 제2 강도를 상기 강도 측정 디바이스(400)를 사용하여 측정하는 단계는 상기 공막(120)의 영역(110)의 가시성을 최대화하고 상기 이미징 디바이스(400)를 사용하여 상기 공막(120)의 영역(110)의 제2 이미지를 촬영하는 단계를 포함하고,
    상기 제1 강도 및 상기 제2 강도의 측정치를 사용하여 상기 광변색 콘택트렌즈(200)를 통한 전자기 방사선의 투과율을 계산하는 단계는,
    상기 제1 이미지로부터 획득된 상기 원하는 파장 범위에 대한 제1 전자기 방사선 강도 데이터 세트를 기록하는 단계와,
    상기 제2 이미지로부터 획득된 상기 원하는 파장 범위에 대한 제2 전자기 방사선 강도 데이터 세트를 기록하는 단계와,
    상기 제1 및 제2 데이터 세트를 데이터베이스에 입력하는 단계와,
    프로세서를 사용하여 상기 광변색 콘택트렌즈를 통한 전자기 방사선의 투과율을 결정하는 단계를 포함하는
    전자기 방사선의 투과율 결정 방법.
  15. 제1항에 있어서,
    상기 콘택트렌즈(200)는 상기 제1 강도 및 상기 제2 강도를 측정하기 전에 상기 안구 표면(100)을 덮도록 위치되며, 상기 제1 강도 및 상기 제2 강도의 측정은 동일한 이미지로부터 획득되며, 상기 제1 강도는 상기 콘택트렌즈(200)에 의해 덮이지 않은 상기 안구 표면(100)의 일부로부터 측정되고, 상기 제2 강도는 상기 콘택트렌즈(200)에 의해 덮인 상기 안구 표면(100)의 일부로부터 측정되며,
    상기 방법은,
    상기 제1 강도의 측정치를 CIE XYZ 값으로 변환하는 단계와,
    상기 제2 강도의 측정치를 CIE XYZ 값으로 변환하는 단계와,
    다음 등식에 따라 상기 투과율을 결정하는 단계를 더 포함하고,
    Figure 112020142106190-pct00011

    TY는 CIE Y 값에 따라 결정된 상기 콘택트렌즈(200)의 투과율이고,
    Yuncovered는 상기 안구 표면(100)의 상기 이미지의 일부의 Y 값이며, 상기 안구 표면(100)은 상기 콘택트렌즈(200)에 의해 덮이지 않고,
    Ycovered는 상기 안구 표면(100)의 상기 이미지의 일부의 Y 값이며, 상기 안구 표면(100)은 상기 콘택트렌즈(200)에 의해 덮이는
    전자기 방사선의 투과율 결정 방법.
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