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KR102337231B1 - 에어로졸 생성 장치 및 제어 방법 - Google Patents

에어로졸 생성 장치 및 제어 방법 Download PDF

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KR102337231B1
KR102337231B1 KR1020200015166A KR20200015166A KR102337231B1 KR 102337231 B1 KR102337231 B1 KR 102337231B1 KR 1020200015166 A KR1020200015166 A KR 1020200015166A KR 20200015166 A KR20200015166 A KR 20200015166A KR 102337231 B1 KR102337231 B1 KR 102337231B1
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aerosol
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Abstract

일 측면에 따른 에어로졸 생성 장치는, 제1 에어로졸 생성 물질이 수용되는 제1 수용부에 인접하게 배치되는 제1 전극(electrode); 제2 에어로졸 생성 물질이 수용되는 제2 수용부에 인접하게 배치되는 제2 전극; 및 복수의 모드들 중 선택된 모드에 대응하여 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극 중 적어도 하나의 극성(polarity)을 적응적으로 설정하는 프로세서;를 포함한다.

Description

에어로졸 생성 장치 및 제어 방법 {An aerosol generating device and a method for controlling thereof}
에어로졸 생성 장치 및 에어로졸 생성 장치를 제어하는 방법에 관한다.
근래에 일반적인 궐련의 단점들을 극복하는 대체 방법에 관한 수요가 증가하고 있다. 예를 들어, 궐련을 연소시켜 에어로졸을 생성시키는 방법이 아닌 궐련 내의 에어로졸 생성 물질이 가열됨에 따라 에어로졸이 생성하는 방법에 관한 수요가 증가하고 있다. 이에 따라, 가열식 궐련 또는 가열식 에어로졸 생성 장치에 대한 연구가 활발히 진행되고 있다.
에어로졸 생성 장치 및 에어로졸 생성 장치를 제어하는 방법을 제공하는 데 있다. 구체적으로, 일반적인 센서의 전극들의 극성이 변경되지 않음에 따라 발생되는 문제점을 해소하는 장치 및 방법을 제공하는 데 있다.
일 측면에 따른 에어로졸 생성 장치는, 제1 에어로졸 생성 물질이 수용되는 제1 수용부에 인접하게 배치되는 제1 전극(electrode); 제2 에어로졸 생성 물질이 수용되는 제2 수용부에 인접하게 배치되는 제2 전극; 및 복수의 모드들 중 선택된 모드에 대응하여 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극 중 적어도 하나의 극성(polarity)을 적응적으로 설정하는 프로세서;를 포함한다.
다른 측면에 따른 에어로졸 생성 장치는, 제1 전극 및 제2 전극을 포함하는 센서; 상기 센서와 인접하게 배치되고, 에어로졸 생성 물질을 수용하는 적어도 하나의 공간; 및 복수의 모드들 중 선택된 모드에 대응하여 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극 중 적어도 하나의 극성(polarity)을 적응적으로 설정하는 프로세서;를 포함한다.
또 다른 측면에 따른 에어로졸 생성 장치를 제어하는 방법은, 복수의 모드들 중 어느 하나를 선택하는 단계; 상기 선택된 모드에 대응하여 상기 에어로졸 생성 장치에 포함된 제1 전극 및 제2 전극 중 적어도 하나의 극성을 적응적으로 설정하는 단계; 및 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극을 이용하여 측정된 결과에 기초하여 상기 에어로졸 생성 장치에 포함된 적어도 하나의 모듈을 제어하는 단계;를 포함한다.
또 다른 측면에 따른 컴퓨터로 읽을 수 있는 기록매체는, 상술한 방법을 컴퓨터에서 실행시키기 위한 기록매체를 포함한다.
에어로졸 생성 장치의 전극들의 극성은 선택된 모드에 따라 적응적으로 설정되는바, 전극들이 배치된 위치에 구애 받지 않고, 다양한 방향으로의 감지 또는 검출이 가능하며, 그 결과의 정확도가 높아진다.
또한, 에어로졸 생성 장치는 상술한 감지 또는 검출 결과에 기초하여 내부의 모듈들의 동작을 제어하는바, 에어로졸 생성 장치의 오작동 또는 고장이 방지될 수 있다.
도 1 내지 도 3은 에어로졸 생성 장치에 궐련이 삽입된 예들을 도시한 도면들이다.
도 4는 궐련의 일 예를 도시한 도면이다.
도 5는 일 실시예에 따른 전극들의 배치의 일 예를 도시한 도면이다.
도 6은 일 실시예에 따른 제1 전극 및 제2 전극이 나타낼 수 있는 극성을 설명하기 위한 도면이다.
도 7은 일 실시예에 따른 프로세서가 전극들의 극성을 설정하는 일 예를 설명하기 위한 도면이다.
도 8은 일 실시예에 따른 프로세서가 전극들의 극성을 설정하는 다른 예를 설명하기 위한 도면이다.
도 9는 일 실시예에 따른 프로세서가 전극들의 극성을 설정하는 또 다른 예를 설명하기 위한 도면이다.
도 10은 일 실시예에 따른 프로세서가 전극들의 극성을 설정하는 또 다른 예를 설명하기 위한 도면이다.
도 11a 및 도 11b는 일 실시예에 따른 전극들의 배치의 다른 예들을 도시한 도면들이다.
도 12는 일 실시예에 따른 전극들의 배치의 또 다른 예를 도시한 도면이다.
도 13은 일 실시예에 따른 프로세서가 에어로졸 생성 장치를 제어하는 방법의 일 예를 도시한 흐름도이다.
실시예들에서 사용되는 용어는 본 발명에서의 기능을 고려하면서 가능한 현재 널리 사용되는 일반적인 용어들을 선택하였으나, 이는 당 분야에 종사하는 기술자의 의도 또는 판례, 새로운 기술의 출현 등에 따라 달라질 수 있다. 또한, 특정한 경우는 출원인이 임의로 선정한 용어도 있으며, 이 경우 해당되는 발명의 설명 부분에서 상세히 그 의미를 기재할 것이다. 따라서 본 발명에서 사용되는 용어는 단순한 용어의 명칭이 아닌, 그 용어가 가지는 의미와 본 발명의 전반에 걸친 내용을 토대로 정의되어야 한다.
명세서 전체에서 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있음을 의미한다. 또한, 명세서에 기재된 "~ 부", "~ 모듈" 등의 용어는 적어도 하나의 기능이나 동작을 처리하는 단위를 의미하며, 이는 하드웨어 또는 소프트웨어로 구현되거나 하드웨어와 소프트웨어의 결합으로 구현될 수 있다.
아래에서는 첨부한 도면을 참고하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.
이하에서는 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세히 설명한다.
도 1 내지 도 3은 에어로졸 생성 장치에 궐련이 삽입된 예들을 도시한 도면들이다.
도 1을 참조하면, 에어로졸 생성 장치(100)는 배터리(110), 제어부(120) 및 히터(130)를 포함한다. 도 2 및 도 3을 참조하면, 에어로졸 생성 장치(100)는 증기화기(140)를 더 포함한다. 또한, 에어로졸 생성 장치(100)의 내부 공간에는 궐련(200)이 삽입될 수 있다.
도 1 내지 도 3에 도시된 에어로졸 생성 장치(100)에는 본 실시예와 관련된 구성요소들이 도시되어 있다. 따라서, 도 1 내지 도 3에 도시된 구성요소들 외에 다른 범용적인 구성요소들이 에어로졸 생성 장치(100)에 더 포함될 수 있음을 본 실시예와 관련된 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이해할 수 있다.
또한, 도 2 및 도 3에는 에어로졸 생성 장치(100)에 히터(130)가 포함되어 있는 것으로 도시되어 있으나, 필요에 따라, 히터(130)는 생략될 수도 있다.
도 1에는 배터리(110), 제어부(120) 및 히터(130)가 일렬로 배치된 것으로 도시되어 있다. 또한, 도 2에는 배터리(110), 제어부(120), 증기화기(140) 및 히터(130)가 일렬로 배치된 것으로 도시되어 있다. 또한, 도 3에는 증기화기(140) 및 히터(130)가 병렬로 배치된 것으로 도시되어 있다. 그러나, 에어로졸 생성 장치(100)의 내부 구조는 도 1 내지 도 3에 도시된 것에 한정되지 않는다. 다시 말해, 에어로졸 생성 장치(100)의 설계에 따라, 배터리(110), 제어부(120), 히터(130) 및 증기화기(140)의 배치는 변경될 수 있다.
궐련(200)이 에어로졸 생성 장치(100)에 삽입되면, 에어로졸 생성 장치(100)는 히터(130) 및/또는 증기화기(140)를 작동시켜, 궐련(200) 및/또는 증기화기(140)로부터 에어로졸을 발생시킬 수 있다. 히터(130) 및/또는 증기화기(140)에 의하여 발생된 에어로졸은 궐련(200)을 통과하여 사용자에게 전달된다.
필요에 따라, 궐련(200)이 에어로졸 생성 장치(100)에 삽입되지 않은 경우에도 에어로졸 생성 장치(100)는 히터(130)를 가열할 수 있다.
배터리(110)는 에어로졸 생성 장치(100)가 동작하는데 이용되는 전력을 공급한다. 예를 들어, 배터리(110)는 히터(130) 또는 증기화기(140)가 가열될 수 있도록 전력을 공급할 수 있고, 제어부(120)가 동작하는데 필요한 전력을 공급할 수 있다. 또한, 배터리(110)는 에어로졸 생성 장치(100)에 설치된 디스플레이, 센서, 모터 등이 동작하는데 필요한 전력을 공급할 수 있다.
제어부(120)는 에어로졸 생성 장치(100)의 동작을 전반적으로 제어한다. 구체적으로, 제어부(120)는 배터리(110), 히터(130) 및 증기화기(140)뿐 만 아니라 에어로졸 생성 장치(100)에 포함된 다른 구성들의 동작을 제어한다. 또한, 제어부(120)는 에어로졸 생성 장치(100)의 구성들 각각의 상태를 확인하여, 에어로졸 생성 장치(100)가 동작 가능한 상태인지 여부를 판단할 수도 있다.
제어부(120)는 적어도 하나의 프로세서를 포함한다. 프로세서는 다수의 논리 게이트들의 어레이로 구현될 수도 있고, 범용적인 마이크로 프로세서와 이 마이크로 프로세서에서 실행될 수 있는 프로그램이 저장된 메모리의 조합으로 구현될 수도 있다. 또한, 다른 형태의 하드웨어로 구현될 수도 있음을 본 실시예가 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이해할 수 있다.
히터(130)는 배터리(110)로부터 공급된 전력에 의하여 가열될 수 있다. 예를 들어, 궐련이 에어로졸 생성 장치(100)에 삽입되면, 히터(130)는 궐련의 외부에 위치할 수 있다. 따라서, 가열된 히터(130)는 궐련 내의 에어로졸 생성 물질의 온도를 상승시킬 수 있다.
히터(130)는 전기 저항성 히터일 수 있다. 예를 들어, 히터(130)에는 전기 전도성 트랙(track)을 포함하고, 전기 전도성 트랙에 전류가 흐름에 따라 히터(130)가 가열될 수 있다. 그러나, 히터(130)는 상술한 예에 한정되지 않으며, 희망 온도까지 가열될 수 있는 것이라면 제한 없이 해당될 수 있다. 여기에서, 희망 온도는 에어로졸 생성 장치(100)에 기 설정되어 있을 수도 있고, 사용자에 의하여 원하는 온도로 설정될 수도 있다.
한편, 다른 예로, 히터(130)는 유도 가열식 히터일 수 있다. 구체적으로, 히터(130)에는 궐련을 유도 가열 방식으로 가열하기 위한 전기 전도성 코일을 포함할 수 있으며, 궐련은 유도 가열식 히터에 의해 가열될 수 있는 서셉터를 포함할 수 있다.
예를 들어, 히터(130)는 관 형 가열 요소, 판 형 가열 요소, 침 형 가열 요소 또는 봉 형의 가열 요소를 포함할 수 있으며, 가열 요소의 모양에 따라 궐련(200)의 내부 또는 외부를 가열할 수 있다.
또한, 에어로졸 생성 장치(100)에는 히터(130)가 복수 개 배치될 수도 있다. 이때, 복수 개의 히터(130)들은 궐련(200)의 내부에 삽입되도록 배치될 수도 있고, 궐련(200)의 외부에 배치될 수도 있다. 또한, 복수 개의 히터(130)들 중 일부는 궐련(200)의 내부에 삽입되도록 배치되고, 나머지는 궐련(200)의 외부에 배치될 수 있다. 또한, 히터(130)의 형상은 도 1 내지 도 3에 도시된 형상에 한정되지 않고, 다양한 형상으로 제작될 수 있다.
증기화기(140)는 액상 조성물을 가열하여 에어로졸을 생성할 수 있으며, 생성된 에어로졸은 궐련(200)을 통과하여 사용자에게 전달될 수 있다. 다시 말해, 증기화기(140)에 의하여 생성된 에어로졸은 에어로졸 생성 장치(100)의 기류 통로를 따라 이동할 수 있고, 기류 통로는 증기화기(140)에 의하여 생성된 에어로졸이 궐련을 통과하여 사용자에게 전달될 수 있도록 구성될 수 있다.
예를 들어, 증기화기(140)는 액체 저장부(storage), 액체 전달 수단 및 가열 요소를 포함할 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. 예를 들어, 액체 저장부, 액체 전달 수단 및 가열 요소는 독립적인 모듈로서 에어로졸 생성 장치(100)에 포함될 수도 있다.
액체 저장부는 액상 조성물을 저장할 수 있다. 예를 들어, 액상 조성물은 휘발성 담배 향 성분을 포함하는 담배 함유 물질을 포함하는 액체일 수 있고, 비 담배 물질을 포함하는 액체일 수도 있다. 액체 저장부는 증기화기(140)로부터 탈/부착될 수 있도록 제작될 수도 있고, 증기화기(140)와 일체로서 제작될 수도 있다.
예를 들어, 액상 조성물은 물, 솔벤트, 에탄올, 식물 추출물, 향료, 향미제, 또는 비타민 혼합물을 포함할 수 있다. 향료는 멘솔, 페퍼민트, 스피아민트 오일, 각종 과일향 성분 등을 포함할 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. 향미제는 사용자에게 다양한 향미 또는 풍미를 제공할 수 있는 성분을 포함할 수 있다. 비타민 혼합물은 비타민 A, 비타민 B, 비타민 C 및 비타민 E 중 적어도 하나가 혼합된 것일 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. 또한, 액상 조성물은 글리세린 및 프로필렌 글리콜과 같은 에어로졸 형성제를 포함할 수 있다.
액체 전달 수단은 액체 저장부의 액상 조성물을 가열 요소로 전달할 수 있다. 예를 들어, 액체 전달 수단은 면 섬유, 세라믹 섬유, 유리 섬유, 다공성 세라믹과 같은 심지(wick)가 될 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.
가열 요소는 액체 전달 수단에 의해 전달되는 액상 조성물을 가열하기 위한 요소이다. 예를 들어, 가열 요소는 금속 열선, 금속 열판, 세라믹 히터 등이 될 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. 또한, 가열 요소는 니크롬선과 같은 전도성 필라멘트로 구성될 수 있고, 액체 전달 수단에 감기는 구조로 배치될 수 있다. 가열 요소는, 전류 공급에 의해 가열될 수 있으며, 가열 요소와 접촉된 액체 조성물에 열을 전달하여, 액체 조성물을 가열할 수 있다. 그 결과, 에어로졸이 생성될 수 있다.
예를 들어, 증기화기(140)는 카토마이저(cartomizer) 또는 무화기(atomizer)로 지칭될 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.
한편, 에어로졸 생성 장치(100)는 배터리(110), 제어부(120), 히터(130) 및 증기화기(140) 외에 범용적인 구성들을 더 포함할 수 있다. 예를 들어, 에어로졸 생성 장치(100)는 시각 정보의 출력이 가능한 디스플레이 및/또는 촉각 정보의 출력을 위한 모터를 포함할 수 있다. 또한, 에어로졸 생성 장치(100)는 적어도 하나의 센서(퍼프 감지 센서, 온도 감지 센서, 궐련 삽입 감지 센서 등)를 포함할 수 있다. 또한, 에어로졸 생성 장치(100)는 궐련(200)이 삽입된 상태에서도 외부 공기가 유입되거나, 내부 기체가 유출 될 수 있는 구조로 제작될 수 있다.
도 1 내지 도 3에는 도시되지 않았으나, 에어로졸 생성 장치(100)는 별도의 크래들과 함께 시스템을 구성할 수도 있다. 예를 들어, 크래들은 에어로졸 생성 장치(100)의 배터리(110)의 충전에 이용될 수 있다. 또는, 크래들과 에어로졸 생성 장치(100)가 결합된 상태에서 히터(130)가 가열될 수도 있다.
궐련(200)은 일반적인 연소형 궐련과 유사할 수 있다. 예를 들어, 궐련(200)은 에어로졸 생성 물질을 포함하는 제1 부분과 필터 등을 포함하는 제2 부분으로 구분될 수 있다. 또는, 궐련(200)의 제2 부분에도 에어로졸 생성 물질이 포함될 수도 있다. 예를 들어, 과립 또는 캡슐의 형태로 만들어진 에어로졸 생성 물질이 제2 부분에 삽입될 수도 있다.
에어로졸 생성 장치(100)의 내부에는 제1 부분의 전체가 삽입되고, 제2 부분은 외부에 노출될 수 있다. 또는, 에어로졸 생성 장치(100)의 내부에 제1 부분의 일부만 삽입될 수도 있고, 제1 부분의 전체 및 제2 부분의 일부가 삽입될 수도 있다. 사용자는 제2 부분을 입으로 문 상태에서 에어로졸을 흡입할 수 있다. 이때, 에어로졸은 외부 공기가 제1 부분을 통과함으로써 생성되고, 생성된 에어로졸은 제2 부분을 통과하여 사용자의 입으로 전달된다.
일 예로서, 외부 공기는 에어로졸 생성 장치(100)에 형성된 적어도 하나의 공기 통로를 통하여 유입될 수 있다. 예를 들어, 에어로졸 생성 장치(100)에 형성된 공기 통로의 개폐 및/또는 공기 통로의 크기는 사용자에 의하여 조절될 수 있다. 이에 따라, 무화량, 끽연감 등이 사용자에 의하여 조절될 수 있다. 다른 예로서, 외부 공기는 궐련(200)의 표면에 형성된 적어도 하나의 구멍(hole)을 통하여 궐련(200)의 내부로 유입될 수도 있다.
이하, 도 4를 참조하여, 궐련(200)의 일 예에 대하여 설명한다.
도 4는 궐련의 일 예를 도시한 도면이다.
도 4를 참조하면, 궐련(200)은 담배 로드(210) 및 필터 로드(220)를 포함한다. 도 1 내지 도 3을 참조하여 상술한 제1 부분(210)은 담배 로드(210)를 포함하고, 제2 부분(220)은 필터 로드(220)를 포함한다.
도 4에는 필터 로드(220)가 단일 세그먼트로 도시되어 있으나, 이에 한정되지 않는다. 다시 말해, 필터 로드(220)는 복수의 세그먼트들로 구성될 수도 있다. 예를 들어, 필터 로드(220)는 에어로졸을 냉각하는 제 1 세그먼트 및 에어로졸 내에 포함된 소정의 성분을 필터링하는 제 2 세그먼트를 포함할 수 있다. 또한, 필요에 따라, 필터 로드(220)에는 다른 기능을 수행하는 적어도 하나의 세그먼트를 더 포함할 수 있다.
궐련(200)은 적어도 하나의 래퍼(240)에 의하여 포장될 수 있다. 래퍼(240)에는 외부 공기가 유입되거나 내부 기체가 유출되는 적어도 하나의 구멍(hole)이 형성될 수 있다. 일 예로서, 궐련(200)은 하나의 래퍼(240)에 의하여 포장될 수 있다. 다른 예로서, 궐련(200)은 2 이상의 래퍼(240)들에 의하여 중첩적으로 포장될 수도 있다. 예를 들어, 제 1 래퍼에 의하여 담배 로드(210)가 포장되고, 제 2 래퍼에 의하여 필터 로드(220)가 포장될 수 있다. 그리고, 개별 래퍼에 의하여 포장된 담배 로드(210) 및 필터 로드(220)가 결합되고, 제 3 래퍼에 의하여 궐련(200) 전체가 재포장될 수 있다. 만약, 담배 로드(210) 또는 필터 로드(220) 각각이 복수의 세그먼트들로 구성되어 있다면, 각각의 세그먼트가 개별 래퍼에 의하여 포장될 수 있다. 그리고, 개별 래퍼에 의하여 포장된 세그먼트들이 결합된 궐련(200) 전체가 다른 래퍼에 의하여 재포장될 수 있다.
담배 로드(210)는 에어로졸 생성 물질을 포함한다. 예를 들어, 에어로졸 생성 물질은 글리세린, 프로필렌 글리콜, 에틸렌 글리콜, 디프로필렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 테트라에틸렌 글리콜 및 올레일 알코올 중 적어도 하나를 포함할 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. 또한, 담배 로드(210)는 풍미제, 습윤제 및/또는 유기산(organic acid)과 같은 다른 첨가 물질을 함유할 수 있다. 또한, 담배 로드(210)에는, 멘솔 또는 보습제 등의 가향액이, 담배 로드(210)에 분사됨으로써 첨가할 수 있다.
담배 로드(210)는 다양하게 제작될 수 있다. 예를 들어, 담배 로드(210)는 시트(sheet)로 제작될 수도 있고, 가닥(strand)으로 제작될 수도 있다. 또한, 담배 로드(210)는 담배 시트가 잘게 잘린 각초로 제작될 수도 있다. 또한, 담배 로드(210)는 열 전도 물질에 의하여 둘러싸일 수 있다. 예를 들어, 열 전도 물질은 알루미늄 호일과 같은 금속 호일일 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. 일 예로, 담배 로드(210)를 둘러싸는 열 전도 물질은 담배 로드(210)에 전달되는 열을 고르게 분산시켜 담배 로드에 가해지는 열 전도율을 향상시킬 수 있으며, 이로 인해 담배 맛을 향상시킬 수 있다. 또한, 담배 로드(210)를 둘러싸는 열 전도 물질은 유도 가열식 히터에 의해 가열되는 서셉터로서의 기능을 할 수 있다. 이때, 도면에 도시되지는 않았으나, 담배 로드(210)는 외부를 둘러싸는 열 전도 물질 이외에도 추가의 서셉터를 더 포함할 수 있다.
필터 로드(220)는 셀룰로오스 아세테이트 필터일 수 있다. 한편, 필터 로드(220)의 형상에는 제한이 없다. 예를 들어, 필터 로드(220)는 원기둥 형(type) 로드일 수도 있고, 내부에 중공을 포함하는 튜브 형(type) 로드일 수도 있다. 또한, 필터 로드(220)는 리세스 형(type) 로드일 수도 있다. 만약, 필터 로드(220)가 복수의 세그먼트들로 구성된 경우, 복수의 세그먼트들 중 적어도 하나가 다른 형상으로 제작될 수도 있다.
필터 로드(220)는 향미가 발생되도록 제작될 수도 있다. 일 예로서, 필터 로드(220)에 가향액이 분사될 수도 있고, 가향액이 도포된 별도의 섬유가 필터 로드(220)의 내부에 삽입될 수도 있다.
또한, 필터 로드(220)에는 적어도 하나의 캡슐(23000)이 포함될 수 있다. 여기에서, 캡슐(23000)은 향미를 발생시키는 기능을 수행할 수도 있고, 에어로졸을 발생시키는 기능을 수행할 수도 있다. 예를 들어, 캡슐(23000)은 향료를 포함하는 액체를 피막으로 감싼 구조일 수 있다. 캡슐(23000)은 구형 또는 원통형의 형상을 가질 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.
만약, 필터 로드(220)에 에어로졸을 냉각하는 세그먼트가 포함될 경우, 냉각 세그먼트는 고분자 물질 또는 생분해성 고분자 물질로 제조될 수 있다. 예를 들어, 냉각 세그먼트는 순수한 폴리락트산 만으로 제작될 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. 또는, 냉각 세그먼트는 복수의 구멍들이 뚫린 셀룰로오스 아세테이트 필터로 제작될 수 있다. 그러나, 냉각 세그먼트는 상술한 예에 한정되지 않고, 에어로졸이 냉각되는 기능을 수행할 수 있다면, 제한 없이 해당될 수 있다.
한편, 도 4에는 도시되지 않았으나, 일 실시예에 따른 궐련(200)은 전단 필터를 더 포함할 수 있다. 전단 필터는 담배 로드(210)에 있어서, 필터 로드(220)에 대향하는 일측에 위치한다. 전단 필터는 담배 로드(210)가 외부로 이탈하는 것을 방지할 수 있으며, 흡연 중에 담배 로드(210)로부터 액상화된 에어로졸이 에어로졸 생성 장치(100)로 흘러 들어가는 것을 방지할 수 있다.
도 1 내지 도 3을 참조하여 상술한 바와 같이, 궐련(200) 및 증기화기(140)는 에어로졸 생성 장치(100)로부터 탈/부착될 수 있다. 또한, 히터(130) 및 증기화기(140)가 동작함에 따라 궐련(200) 및 증기화기(140)에 포함된 에어로졸 생성 물질의 양은 감소된다. 따라서, 에어로졸 생성 장치(100)의 적절한 동작이 보증되기 위해서, 궐련(200) 또는 증기화기(140)가 에어로졸 생성 장치(100)에 삽입되었는지 및 궐련(200) 또는 증기화기(140)에 포함된 에어로졸 생성 물질의 잔량이 어느 정도인지를 확인하는 것은 중요하다. 또한, 에어로졸 생성 장치(100)의 적절한 동작이 보증되기 위해서, 에어로졸 생성 장치(100) 내부의 문제점(예를 들어, 에어로졸 생성 물질의 누출) 및 에어로졸 생성 장치(100) 외부의 문제점(예를 들어, 위험 물체의 접근)을 감지하는 것도 중요하다.
일 실시예에 따른, 에어로졸 생성 장치(100)는 복수의 전극들을 포함하고, 전극들을 통하여 상술한 확인 또는 감지를 수행할 수 있다. 특히, 에어로졸 생성 장치(100)의 프로세서(120)는 상황에 따라 전극들의 극성(polarity)을 변경할 수 있다. 예를 들어, 프로세서(120)는 복수의 모드들 중 선택된 모드에 대응하여 복수의 전극들의 극성을 적응적으로 설정할 수 있다. 여기에서, 복수의 모드들은 에어로졸 생성 장치(100)가 전극들을 통하여 수행하고자 하는 동작들을 의미한다.
예를 들어, 복수의 모드들에는 에어로졸 생성 장치(100)에 수용된 에어로졸 생성 물질의 잔량을 검출하는 모드가 포함될 수 있다. 또한, 복수의 모드들에는 에어로졸 생성 물질(또는 에어로졸 생성 물질을 수용하는 물건)이 에어로졸 생성 장치(100)에 삽입되었는지를 감지하는 모드가 포함될 수 있다. 또한, 복수의 모드들에는 에어로졸 생성 장치(100)에 수용된 에어로졸 생성 물질의 종류를 식별하는 모드가 포함될 수 있다. 또한, 복수의 모드들에는 복수의 전극들 사이에 위치한 물질을 감지하는 모드가 포함될 수 있다. 또한, 복수의 모드들에는 전극들 중 적어도 하나로 인한 노이즈를 검출하는 모드가 포함될 수 있다.
에어로졸 생성 장치(100)의 전극들은 캐패시턴스(capacitance)의 측정을 위한 전극일 수 있다. 다시 말해, 전극들은 캐패시턴스 센서를 구성할 수 있다. 일반적인 캐패시턴스 센서의 경우, 전극들의 극성이 변경되지 않는바, 전극들이 배치된 위치에 따라, 감지할 수 있는 방향 및 감지의 정확도에 있어서 한계가 있다. 그러나, 에어로졸 생성 장치(100)의 전극들의 극성은 선택된 모드에 따라 적응적으로 설정되는바, 전극들이 배치된 위치에 구애 받지 않고, 다양한 방향으로의 감지 또는 검출이 가능하며, 그 결과의 정확도가 높아진다.
이하, 도 5 내지 도 13을 참조하여, 에어로졸 생성 장치(100)의 전극들의 배치 예 및 에어로졸 생성 장치(100)가 동작하는 예를 설명한다.
도 5는 일 실시예에 따른 전극들의 배치의 일 예를 도시한 도면이다.
도 5에는 에어로졸 생성 장치(100)의 일 부분(500)이 도시되어 있다. 일 부분(500)은 제1 수용부(510), 제2 수용부(520), 제1 전극(530) 및 제2 전극(540)을 포함한다.
제1 수용부(510) 및 제2 수용부(520)는 각각 에어로졸 생성 물질이 수용되는 공간이다. 이 때, 제1 수용부(510)에 수용되는 에어로졸 생성 물질은 상온에서 고체일 수 있고, 제2 수용부(520)에 수용되는 에어로졸 생성 물질은 상온에서 액체일 수 있다. 예를 들어, 제1 수용부(510)는 궐련(200)이 수용되고, 제2 수용부(520)에는 증기화기(140)가 수용될 수 있다.
도 1 내지 도 4를 참조하여 상술한 바와 같이, 궐련(200) 및 증기화기(140)는 각각 에어로졸 생성 물질을 포함한다. 여기에서, 궐련(200)에는 상온에서 고체인 에어로졸 생성 물질이 포함되고, 증기화기(140)에는 상온에서 액체인 에어로졸 생성 물질이 포함된다. 따라서, 제1 수용부(510) 및 제2 수용부(520)는 각각 에어로졸 생성 물질이 수용되는 위치이며, 제1 수용부(510)의 에어로졸 생성 물질의 상태와 제2 수용부(520)의 에어로졸 생성 물질의 상태가 서로 다를 수 있음(즉, 고체 또는 액체)이 이해될 수 있다.
다만, 일 부분(500)에 복수의 공간들(에어로졸 생성 물질이 수용되는 공간들)이 포함된다면, 공간들 각각에 수용되는 에어로졸 생성 물질의 상태가 동일하여도 무방하다.
제1 전극(530)은 제1 수용부(510)에 인접하게 배치되고, 제2 전극(540)은 제2 수용부(520)에 인접하게 배치된다. 여기에서, 인접하게 배치된다고 함은 상대적인 거리를 나타낸다. 예를 들어, 제1 전극(530)은 제1 수용부(510)에 인접하게 배치된다고 함은, 제1 전극(530)으로부터 제1 수용부(510)까지의 거리가 제1 전극(530)으로부터 제2 수용부(520)까지의 거리보다 짧은 것을 의미한다. 따라서, 제1 전극(530)이 제2 수용부(520)보다 제1 수용부(510)에 상대적으로 가깝게 배치된다면, 일 부분(500) 내에서의 제1 전극(530)의 실제 위치는 어디든 무방하다. 이와 동일하게, 제2 전극(540)이 제2 수용부(520)에 인접하게 배치된다면, 일 부분(500) 내에서의 제2 전극(540)의 실제 위치는 어디든 무방하다.
예를 들어, 제1 전극(530) 및 제2 전극(540)은 캐패시턴스(capacitance)의 측정을 위한 전극들일 수 있다. 다시 말해, 제1 전극(530) 및 제2 전극(540)은 캐패시턴스 센서를 구성하는 전극들일 수 있다. 제1 전극(530) 및/또는 제2 전극(540)에 구동 전류 또는 구동 전압이 인가되고, 프로세서(120)는 제1 전극(530) 및/또는 제2 전극(540)에 수신된 신호에 기초하여 캐패시턴스의 변화를 측정한다. 그리고, 프로세서(120)는 검출된 캐패시턴스의 변화에 기초하여, 다양한 결과들을 도출한다. 여기에서, 도출되는 결과는 프로세서(120)가 어떤 모드에 따라 동작하는지에 의존한다. 다시 말해, 프로세서(120)는, 복수의 모드들 중 선택된 모드에 따라, 캐패시턴스의 변화 값으로부터 특정 결과를 도출할 수 있다.
일 실시예에 따른 프로세서(120)는 복수의 모드들 중 선택된 모드에 따라 제1 전극(530) 및/또는 제2 전극(540)의 극성을 적응적으로 설정한다. 다시 말해, 제1 전극(530) 및 제2 전극(540)의 극성은 어느 하나로 고정되어 있지 않고, 프로세서(120)의 제어에 의하여 변경될 수 있다.
이하, 도 6을 참조하여, 제1 전극(530) 및 제2 전극(540)의 극성의 예를 설명한다.
도 6은 일 실시예에 따른 제1 전극 및 제2 전극이 나타낼 수 있는 극성을 설명하기 위한 도면이다.
도 6에는 제1 전극(530) 및 제2 전극(540)과 연결된 프로세서(120)의 일 예가 도시되어 있다. 프로세서(120)는 제1 전극(530)의 극성을 변경하는 모듈(121) 및 제2 전극(540)의 극성을 변경하는 모듈(122)를 포함할 수 있다. 도 6에 도시된 모듈들(121, 122)은 설명의 편의를 위하여 도시된 것이다. 따라서, 프로세서(120)가 제1 전극(530) 및 제2 전극(540)의 극성을 변경할 수 있다면, 프로세서(120)의 구조 또는 배치 설계에는 제한이 없다.
프로세서(120)는 제1 전극(530) 및 제2 전극(540)의 극성을 양(positive), 음(negative), 또는 접지(ground; GND) 중 어느 하나로 설정할 수 있다. 여기에서, 양극이 송신(Transmit; Tx) 전극으로 표현되고. 음극이 수신(Receive; Rx) 전극으로 표현될 수 있음은 통상의 기술자에게 자명하다.
프로세서(120)는 제1 전극(530) 및 제2 전극(540) 중 적어도 하나의 전극의 극성을 양으로 설정할 수 있다. 구체적으로, 프로세서(120)는 복수의 모드들 중 선택된 모드와 관련된 전극의 극성을 양으로 설정할 수 있다. 프로세서(120)는 양으로 설정된 전극(즉, 양극)으로 구동 전류 또는 구동 전압을 인가하고, 검출 대상에 따라 변경되는 캐패시턴스의 값에 기초하여 검출 결과를 도출할 수 있다.
이하, 도 7 내지 도 10을 참조하여, 프로세서(120)가 특정 모드에 따라 전극들(530, 540)의 극성을 적응적으로 설정하는 예들을 설명한다. 도 7 내지 도 10에 도시된 일 부분(500)이 에어로졸 생성 장치(100)의 일 부분임은 도 5를 참조하여 상술한 바와 같다.
도 7은 일 실시예에 따른 프로세서가 전극들의 극성을 설정하는 일 예를 설명하기 위한 도면이다.
일 예로서, 프로세서(120)는 에어로졸 생성 물질의 잔량을 검출하기 위하여 전극들(530, 540)의 극성을 설정할 수 있다. 다시 말해, 복수의 모드들 중 선택된 모드가 제1 에어로졸 생성 물질 및 제2 에어로졸 생성 물질 중 적어도 하나의 잔량을 검출하는 모드이고, 프로세서(120)는 선택된 모드에 따라 전극들(530, 540)의 극성을 설정할 수 있다.
예를 들어, 프로세서(120)는 제1 수용부(510)에 포함된 제1 에어로졸 생성 물질의 잔량을 검출하기 위하여 제1 전극(530)의 극성을 양으로 설정할 수 있다. 제1 전극(530)에서 송신되는 신호(자기장에 대응하는 신호)는 제1 에어로졸 생성 물질의 잔량에 의존하여 달라질 수 있다. 구체적으로, 제1 에어로졸 생성 물질은 특유의 유전율을 갖는 유전체로 간주될 수 있는바, 제1 에어로졸 생성 물질의 잔량에 따라 제1 전극(530)에서 송신되는 신호가 변화될 수 있다.
프로세서(120)는 제1 전극(530)에서 송신되는 신호의 변화에 기초하여 캐패시턴스 값의 변화를 연산할 수 있다. 이에 따라, 프로세서(120)는 캐패시턴스 값의 변화에 기초하여 제1 에어로졸 생성 물질의 잔량이 어느 정도인지를 검출할 수 있다.
이 때, 프로세서(120)는 제2 전극(540)의 극성을 GND로 설정할 수 있다. 제2 전극(540)의 극성이 GND로 설정됨에 따라, 제2 수용부(520)의 제2 에어로졸 생성 물질에 의하여 제1 전극(530)에서 송신되는 신호가 영향을 받는 것이 방지될 수 있다. 즉, 제2 에어로졸 생성 물질도 특유의 유전율을 갖는 유전체로 간주될 수 있으므로, 제1 전극(530)에서 송신되는 신호의 변화에 제2 에어로졸 생성 물질도 기여할 수 있다.
그러나, 프로세서(120)가 제2 전극(540)의 극성을 GND로 설정함에 따라, 제2 에어로졸 생성 물질이 제1 전극(530)에서 송신되는 신호에 영향을 주는 것이 방지될 수 있다. 따라서, 프로세서(120)는 제1 에어로졸 생성 물질의 잔량을 정확하게 검출할 수 있다.
다른 예로서, 프로세서(120)는 에어로졸 생성 물질이 에어로졸 생성 장치(100)에 삽입되는 것을 감지하기 위하여 전극들(530, 540)의 극성을 설정할 수 있다. 다시 말해, 복수의 모드들 중 선택된 모드가 제1 에어로졸 생성 물질 및 제2 에어로졸 생성 물질 중 적어도 하나의 삽입을 감지하는 모드이고, 프로세서(120)는 선택된 모드에 따라 전극들(530, 540)의 극성을 설정할 수 있다.
예를 들어, 프로세서(120)는 제1 수용부(510)에 제1 에어로졸 생성 물질(또는 제1 에어로졸 생성 물질을 포함하는 물체)이 삽입되는 것을 감지하기 위하여 제1 전극(530)의 극성을 양으로 설정할 수 있다. 상술한 바와 같이, 에어로졸 생성 물질은 유전체의 역할을 수행할 수 있다. 따라서, 제1 에어로졸 생성 물질이 에어로졸 생성 장치(100)에 접근함에 따라 제1 전극(530)에서 송신되는 신호가 변화될 수 있다. 따라서, 프로세서(120)는 제1 전극(530)에서 송신되는 신호의 변화에 기초하여 1 수용부(510)에 제1 에어로졸 생성 물질(또는 제1 에어로졸 생성 물질을 포함하는 물체)이 삽입되는 것을 감지할 수 있다.
이 때, 프로세서(120)는 제2 전극(540)의 극성을 GND로 설정함으로써, 제2 에어로졸 생성 물질이 제1 전극(530)에서 송신되는 신호에 영향을 주는 것이 방지될 수 있다. 따라서, 프로세서(120)는 제1 에어로졸 생성 물질의 삽입 여부를 정확하게 검출할 수 있다.
또 다른 예로서, 프로세서(120)는 에어로졸 생성 물질의 종류를 식별하기 위하여 전극들(530, 540)의 극성을 설정할 수 있다. 다시 말해, 복수의 모드들 중 선택된 모드가 제1 에어로졸 생성 물질 및 제2 에어로졸 생성 물질 중 적어도 하나의 종류를 식별하는 모드이고, 프로세서(120)는 선택된 모드에 따라 전극들(530, 540)의 극성을 설정할 수 있다.
도 7에 도시된 바와 같이, 제1 전극(530)의 극성을 양으로, 제2 전극(540)의 극성을 GND로 설정하면, 프로세서(120)는 제1 수용부(510)에 수용된 제1 에어로졸 생성 물질의 종류를 식별할 수 있다. 제1 에어로졸 생성 물질은 적어도 하나의 성분으로 구성된 조성물일 수 있다. 따라서, 제1 에어로졸 생성 물질은 성분의 종류 및 구성비에 따라 특유의 유전율을 나타낸다. 따라서, 프로세서(120)는 제1 전극(530)에서 송신되는 신호의 변화를 확인하여 제1 에어로졸 생성 물질의 종류(예를 들어, 성분들의 종류 및 구성비)를 식별할 수 있다. 이는, 프로세서(120)는 제1 에어로졸 생성 물질이 진품인지 또는 모조품인지도 구별할 수 있음을 의미한다.
도 7을 참조하여 상술한 바에 따르면, 프로세서(120)는 제1 전극(530)의 극성을 양으로, 제2 전극(540)의 극성을 GND로 설정할 수 있다. 그러나, 상술한 내용과 동일한 원리에 의하여 프로세서(120)가 제1 전극(530)의 극성을 GND로, 제2 전극(540)의 극성을 양으로 설정할 수 있음은 통상의 기술자라면 이해할 수 있다.
도 8은 일 실시예에 따른 프로세서가 전극들의 극성을 설정하는 다른 예를 설명하기 위한 도면이다.
프로세서(120)는 전극들(530, 540) 사이에 위치한 물질(810)을 감지하기 위하여 전극들(530, 540)의 극성을 설정할 수 있다. 다시 말해, 복수의 모드들 중 선택된 모드가 전극들(530, 540) 사이에 위치한 물질(810)을 감지하는 모드이고, 프로세서(120)는 선택된 모드에 따라 전극들(530, 540)의 극성을 설정할 수 있다.
예를 들어, 프로세서(120)는 제1 전극(530)의 극성을 양으로, 제2 전극(540)의 극성을 음으로 설정할 수 있다. 이 경우, 물질(810)이 유전체가 되어 제1 전극(530) 및 제2 전극(540)과 함께 캐패시터로서 동작할 수 있다. 따라서, 프로세서(120)는 제1 전극(530) 및 제2 전극(540)을 통하여 물질(810)에 대응하는 캐패시턴스의 값을 연산할 수 있고, 이에 따라 물질(810)이 무엇인지를 식별할 수 있다.
상술한 동작에 의하여, 프로세서(120)는 제1 에어로졸 생성 물질 및/또는 제2 에어로졸 생성 물질이 누출되었는지를 확인할 수 있다. 즉, 물질(810)이 에어로졸 생성 물질에 대응되는 경우, 프로세서(120)는 물질(810)이 제1 수용부(510) 또는 제2 수용부(520)에서 누출된 것으로 인식할 수 있다. 따라서, 프로세서(120)는 에어로졸 생성 장치(100)의 오염으로 인한 고장 또는 오작동을 방지할 수 있다.
한편, 도 8을 참조하여 상술한 내용과 동일한 원리에 의하여, 프로세서(120)가 제1 전극(530)의 극성을 음으로, 제2 전극(540)의 극성을 양으로 설정할 수 있음은 통상의 기술자라면 이해할 수 있다.
도 9는 일 실시예에 따른 프로세서가 전극들의 극성을 설정하는 또 다른 예를 설명하기 위한 도면이다.
일 예로서, 프로세서(120)는 제1 에어로졸 생성 물질 및 제2 에어로졸 생성 물질을 동시에 감지하기 위하여 전극들(530, 540)의 극성을 설정할 수 있다. 다시 말해, 복수의 모드들 중 선택된 모드가 제1 에어로졸 생성 물질 및 제2 에어로졸 생성 물질 각각의 잔량, 삽입 여부 또는 종류를 식별하는 모드이고, 프로세서(120)는 선택된 모드에 따라 전극들(530, 540)의 극성을 설정할 수 있다.
예를 들어, 프로세서(120)는 제1 전극(530) 및 제2 전극(540)의 극성을 모두 양으로 설정할 수 있다. 이 경우, 도 7을 참조하여 상술한 예들이 도 9에 도시된 예에도 동일하게 적용될 수 있다. 구체적으로, 도 7은 프로세서(120)가 제1 에어로졸 생성 물질 또는 제2 에어로졸 생성 물질의 잔량, 삽입 여부 또는 종류를 식별하는 예이다. 한편, 도 9의 경우, 제1 전극(530) 및 제2 전극(540)의 극성이 모두 양으로 설정됨에 따라, 프로세서(120)는 제1 에어로졸 생성 물질 및 제2 에어로졸 생성 물질 각각의 잔량, 삽입 여부 또는 종류를 동시에 식별할 수 있다.
다른 예로서, 프로세서(120)는 제1 전극(530) 및/또는 제2 전극(540)으로 인한 노이즈를 검출하기 위하여 전극들(530, 540)의 극성을 설정할 수 있다. 다시 말해, 복수의 모드들 중 선택된 모드가 제1 전극(530) 및 제2 전극(540) 중 적어도 하나로 인한 노이즈를 검출하는 모드이고, 프로세서(120)는 선택된 모드에 따라 전극들(530, 540)의 극성을 설정할 수 있다.
예를 들어, 프로세서(120)는 제1 전극(530) 및 제2 전극(540)의 극성을 모두 양으로 설정할 수 있다. 이는, 제1 전극(530) 및 제2 전극(540) 모두에서 신호가 송신되는 것을 의미한다. 이 때, 프로세서(120)는 제1 전극(530)에서 송신된 신호와 제2 전극(540)에서 송신된 신호 사이의 위상 차(또는 위상 차를 유발하는 캐패시턴스)를 노이즈로 인식할 수 있다. 따라서, 프로세서(120)는 송신 신호에서 노이즈를 제거할 수 있는바, 제1 전극(530) 및 제2 전극(540)을 통한 감지(또는 측정)의 감도가 향상될 수 있다.
도 10은 일 실시예에 따른 프로세서가 전극들의 극성을 설정하는 또 다른 예를 설명하기 위한 도면이다.
프로세서(120)는 제1 전극(530) 또는 제2 전극(540)에 인가되는 구동 전류의 크기 또는 구동 전압의 크기를 변경할 수 있다. 예를 들어, 제1 전극(530)에 인가되는 구동 전류의 크기 또는 구동 전압의 크기가 커질수록, 제1 전극(530)을 통한 감지(또는 측정)의 감도가 향상될 수 있다. 이에 따라, 프로세서(120)는 에어로졸 생성 장치(100)의 외부(1010)로부터 근접하는 대상체도 감지할 수 있다. 따라서, 프로세서(120)는, 외부(1010)로부터 근접하는 위험체(예를 들어, 자석 등)에 의한 에어로졸 생성 장치(100)의 고장 또는 오작동을 방지할 수 있다.
도 5 내지 도 10에는, 제1 전극(530) 및 제2 전극(540)이 제1 수용부(510)와 제2 수용부(520)의 사이에 배치되는 것으로 도시되어 있다. 그러나, 제1 전극(530), 제2 전극(540), 제1 수용부(510) 및 제2 수용부(520)의 배치 관계는 도 5 내지 도 10에 도시된 것에 한정되지 않는다. 또한, 도 5 내지 도 10에는, 에어로졸 생성 장치(100)가 복수의 수용부들(510, 520)을 포함하는 것으로 도시되어 있으나, 단일 수용부가 포함되어도 무방하다.
도 11a 및 도 11b는 일 실시예에 따른 전극들의 배치의 다른 예들을 도시한 도면들이다.
도 11a 및 도 11b에는 수용부들(1110, 1120) 및 전극들(1130, 1140)이 포함된 에어로졸 생성 장치(100)의 일 부분(1101, 1102)이 도시되어 있다. 여기에서, 수용부들(1110, 1120) 및 전극들(1130, 1140)의 기능은 도 5 내지 도 10을 참조하여 상술한 바와 같다. 따라서, 이하에서는 수용부들(1110, 1120) 및 전극들(1130, 1140)의 기능에 대한 설명을 생략한다.
도 11a에 도시된 예와 도 5에 도시된 예를 비교하면, 도 11a의 전극들(1130, 1140)은 수용부들(1110, 1120)의 외측에 배치되나, 도 5의 전극들(530, 540)은 수용부들(510, 520)의 내측에 배치된 점에서 차이가 있다. 그러나, 도 11a에 도시된 예의 경우에도, 제1 전극(1130)이 제1 수용부(1110)에 인접하게 배치되고, 제2 전극(1140)이 제2 수용부(1120)에 인접하게 배치되는 것은 도 5에 도시된 예와 동일하다.
도 11a에 도시된 예와 도 11b에 도시된 예를 비교하면, 도 11b의 수용부들(1110, 1120)은 일렬로 배치되나, 도 11a의 수용부들(1110, 1120)은 병렬로 배치된 점에서 차이가 있다.
다만, 수용부들(1110, 1120) 및 전극들(1130, 1140)의 배치는 도 11a 및 도 11b에 도시된 바에 한정되지 않으며, 에어로졸 생성 장치(100)의 설계에 따라 다양한 모습으로 배치될 수 있다.
도 12는 일 실시예에 따른 전극들의 배치의 또 다른 예를 도시한 도면이다.
도 12를 참조하면, 제1 전극(1220) 및 제2 전극(1230)의 사이에 수용부(1210)가 배치되어 있다. 도 12에 도시된 예와 도 5에 도시된 예를 비교하면, 도 12에는 에어로졸 생성 장치(100)의 일 부분(1200)에 단일 수용부(1210)가 포함된다는 점에서 도 5에 도시된 예와 차이가 있다.
다만, 수용부의 수는 도 12에 도시된 예(1개) 및 도 5에 도시된 예(2개)에 한정되지 않고, 에어로졸 생성 장치(100)의 설계에 따라 다양한 수의 수용부가 포함될 수 있다.
도 13은 일 실시예에 따른 프로세서가 에어로졸 생성 장치를 제어하는 방법의 일 예를 도시한 흐름도이다.
도 13을 참조하면, 에어로졸 생성 장치를 제어하는 방법은 도 1 내지 도 12를 참조하여 상술한 프로세서(120)에서 시계열적으로 처리되는 단계들로 구성된다. 따라서, 이하에서 생략된 내용이라 하더라도 프로세서(120)에 관하여 이상에서 기술된 내용은 도 13의 에어로졸 생성 장치를 제어하는 방법에도 적용됨을 알 수 있다.
1310 단계에서, 프로세서(120)는 복수의 모드들 중 어느 하나를 선택한다. 여기에서, 복수의 모드들의 예는 도 5 내지 도 10을 참조하여 상술하였는바, 이하에서는 구체적인 설명을 생략한다.
1320 단계에서, 프로세서(120)는 선택된 모드에 대응하여 에어로졸 생성 장치에 포함된 제1 전극 및 제2 전극 중 적어도 하나의 극성을 적응적으로 설정한다. 구체적으로, 프로세서(120)는 선택된 모드를 수행할 수 있도록, 제1 전극 및 제2 전극의 극성을 적응적으로 변경할 수 있다.
1330 단계에서, 프로세서(120)는 제1 전극 및 제2 전극을 이용하여 측정된 결과에 기초하여 에어로졸 생성 장치에 포함된 적어도 하나의 모듈을 제어한다. 예를 들어, 프로세서(120)는 측정 결과에 기초하여 히터의 동작을 제어할 수 있다. 만약, 에어로졸 생성 장치에 제1 에어로졸 생성 물질을 가열하는 제1 히터와 제2 에어로졸 생성 물질을 가열하는 제2 히터가 구분된 경우, 프로세서(120)는 제1 히터와 제2 히터를 같은 방식으로 또는 다른 방식으로 제어할 수 있다. 또는, 프로세서(120)는 제1 히터와 제2 히터를 동시에 또는 다른 시점에 제어할 수 있다.
한편, 프로세서(120)가 히터 뿐만 아니라 에어로졸 생성 장치에 포함된 다른 모듈들(예를 들어, 배터리, 광원, 디스플레이, 센서 등)도 제어할 수 있음은 통상의 기술자라면 이해할 수 있다.
상술한 바에 따르면, 에어로졸 생성 장치(100)의 전극들의 극성은 선택된 모드에 따라 적응적으로 설정되는바, 전극들이 배치된 위치에 구애 받지 않고, 다양한 방향으로의 감지 또는 검출이 가능하며, 그 결과의 정확도가 높아진다.
또한, 에어로졸 생성 장치(100)는 상술한 감지 또는 검출 결과에 기초하여 내부의 모듈들의 동작을 제어하는바, 에어로졸 생성 장치의 오작동 또는 고장이 방지될 수 있다.
한편, 상술한 방법은 컴퓨터에서 실행될 수 있는 프로그램으로 작성 가능하고, 컴퓨터로 읽을 수 있는 기록매체를 이용하여 상기 프로그램을 동작시키는 범용 디지털 컴퓨터에서 구현될 수 있다. 또한, 상술한 방법에서 사용된 데이터의 구조는 컴퓨터로 읽을 수 있는 기록매체에 여러 수단을 통하여 기록될 수 있다. 상기 컴퓨터로 읽을 수 있는 기록매체는 마그네틱 저장매체(예를 들면, 롬, 램, USB, 플로피 디스크, 하드 디스크 등), 광학적 판독 매체(예를 들면, 시디롬, 디브이디 등)와 같은 저장매체를 포함한다.
본 실시예와 관련된 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자는 상기된 기재의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 변형된 형태로 구현될 수 있음을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 개시된 방법들은 한정적인 관점이 아니라 설명적인 관점에서 고려되어야 한다. 본 발명의 범위는 전술한 설명이 아니라 청구범위에 나타나 있으며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 차이점은 본 발명에 포함된 것으로 해석되어야 할 것이다.
500: 에어로졸 생성 장치의 일 부분
510: 제1 수용부
520: 제2 수용부
530: 제1 전극
540: 제2 전극

Claims (20)

  1. 에어로졸 생성 장치에 있어서,
    제1 에어로졸 생성 물질이 수용되는 제1 수용부에 인접하게 배치되는 제1 전극(electrode);
    제2 에어로졸 생성 물질이 수용되는 제2 수용부에 인접하게 배치되는 제2 전극; 및
    복수의 모드들 중 선택된 모드에 대응하여 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극 중 적어도 하나의 극성(polarity)을 적응적으로 설정하도록 구성된 프로세서;를 포함하는, 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 프로세서는, 상기 선택된 모드와 관련된 적어도 하나의 전극의 극성을 양(positive)으로 설정하는, 장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 선택된 모드는 상기 제1 에어로졸 생성 물질 및 상기 제2 에어로졸 생성 물질 중 적어도 하나의 잔량을 검출하는 모드를 포함하는, 장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 선택된 모드는 상기 제1 에어로졸 생성 물질 및 상기 제2 에어로졸 생성 물질 중 적어도 하나의 삽입을 감지하는 모드를 포함하는, 장치.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 선택된 모드는 상기 제1 에어로졸 생성 물질 및 상기 제2 에어로졸 생성 물질 중 적어도 하나의 종류를 식별하는 모드를 포함하는, 장치.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 선택된 모드는 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극의 사이에 위치한 물질을 감지하는 모드를 포함하는, 장치.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 선택된 모드는 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극 중 적어도 하나로 인한 노이즈를 검출하는 모드를 포함하는, 장치.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 프로세서는 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극에 인가되는 구동 전류의 크기 또는 구동 전압의 크기를 변경하는, 장치.
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 제1 수용부는 상기 제1 에어로졸 생성 물질이 포함된 궐련을 수용하며, 상기 제2 수용부는 상기 제2 에어로졸 생성 물질이 포함된 증기화기를 수용하는, 장치.
  10. 제 1 항에 있어서,
    상기 제1 전극 및 상기 제2 전극은 캐패시턴스(capacitance)의 측정을 위한 전극을 포함하는, 장치.
  11. 제 1 항에 있어서,
    상기 제1 전극 및 상기 제2 전극은 상기 제1 수용부와 상기 제2 수용부의 사이에 배치되는, 장치.
  12. 제 1 항에 있어서,
    상기 제1 에어로졸 생성 물질을 가열하는 제1 히터; 및
    상기 제2 에어로졸 생성 물질을 가열하는 제2 히터;를 더 포함하고,
    상기 프로세서는, 상기 선택된 모드에 따라 도출된 결과에 기초하여 상기 제1 히터 및 상기 제2 히터를 제어하는, 장치.
  13. 제1항에 있어서,
    상기 프로세서는 상기 선택된 모드가 제1 모드이면 제1 영역에서 물질 또는 물체를 감지하고, 상기 선택된 모드가 제2 모드이면 제2 영역에서 물질 또는 물체를 감지하도록 구성된, 장치.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 제1 영역은 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극을 기준으로 상기 제2 영역과 반대 방향에 위치한, 장치.
  15. 제13항에 있어서,
    상기 제2 영역은 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극의 사이에 위치하고, 상기 제1 영역은 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극 중 어느 하나를 기준으로 상기 제2 영역과 반대 방향에 위치한, 장치.
  16. 제1항에 있어서,
    상기 프로세서는 상기 선택된 모드가 제1 모드이면 제1 영역에서 물질 또는 물체를 감지하고, 상기 선택된 모드가 제2 모드이면 상기 제1 영역 및 제2 영역에서 물질 또는 물체를 감지하도록 구성된, 장치.
  17. 제16항에 있어서,
    상기 프로세서는 상기 제2 모드에서 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극의 위상을 동일하게 설정하여 상기 제1 전극 또는 상기 제2 전극으로 인한 노이즈를 검출하도록 구성된, 장치.
  18. 에어로졸 생성 장치에 있어서,
    제1 전극 및 제2 전극을 포함하는 센서;
    상기 센서와 인접하게 배치되고, 에어로졸 생성 물질을 수용하는 적어도 하나의 공간; 및
    복수의 모드들 중 선택된 모드에 대응하여 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극 중 적어도 하나의 극성(polarity)을 적응적으로 설정하도록 구성된 프로세서;를 포함하는, 장치.
  19. 에어로졸 생성 장치를 제어하는 방법에 있어서,
    복수의 모드들 중 어느 하나를 선택하는 단계;
    상기 선택된 모드에 대응하여 상기 에어로졸 생성 장치에 포함된 제1 전극 및 제2 전극 중 적어도 하나의 극성을 적응적으로 설정하는 단계; 및
    상기 제1 전극 및 상기 제2 전극을 이용하여 측정된 결과에 기초하여 상기 에어로졸 생성 장치에 포함된 적어도 하나의 모듈을 제어하는 단계;를 포함하는, 방법.
  20. 제 19 항의 방법을 컴퓨터에서 실행시키기 위한 방법을 기록한 컴퓨터로 읽을 수 있는 기록매체.
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