KR102334671B1 - Anisotropic conductive adhesive containing a polysiloxane resin which is a thermoplastic resin, a method of forming solder bumps and a method of manufacturing a bonded structure using the same - Google Patents
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Abstract
본 발명은 열가소성 수지인 폴리실록산 수지, 실록산 아크릴레이트 올리고머, 반응억제제; 및 상기 폴리실록산 수지 내에 분산된 상태로 위치하는 솔더 입자를 포함하는 이방성 도전 접착제에 관한 것으로, 상기 이방성 도전 접착제는 열가소성 수지인 폴리실록산 수지를 포함하는 바, 솔더 입자 표면의 금속산화물 제거를 위해 사용되는 환원제 및 첨가제와의 반응에 의한 수지의 네트워크형성 없어 솔더 범프 형성 및 접합구조체 제조 시 전극패턴 위 자가조직화에 유리하고, 대기 중에서 공정이 가능하며, 상기 자기 조직화 공정 수행 후, 잔류하는 잔사를 제거하는 것이 용이하다.The present invention is a thermoplastic resin polysiloxane resin, siloxane acrylate oligomer, reaction inhibitor; And it relates to an anisotropic conductive adhesive comprising solder particles located in a dispersed state in the polysiloxane resin, wherein the anisotropic conductive adhesive includes a polysiloxane resin that is a thermoplastic resin, a reducing agent used for removing metal oxides from the surface of the solder particles And since there is no network formation of the resin due to the reaction with the additive, it is advantageous for self-organization on the electrode pattern when forming solder bumps and manufacturing a bonding structure, and it is possible to process in the air, and to remove the residual residue after performing the self-organization process Easy.
Description
본 발명은 이방성 도전 접착제에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 열가소성 수지인 폴리실록산 수지; 및 상기 폴리실록산 수지 내에 분산된 상태로 위치하는 솔더 입자, 실록산 아크릴레이트 올리고머 및 반응억제제를 포함하는 이방성 도전 접착제, 상기 접착제를 이용한 솔더 범프의 형성방법 및 접합구조체의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to an anisotropic conductive adhesive, and more particularly, to a polysiloxane resin which is a thermoplastic resin; and an anisotropic conductive adhesive comprising solder particles dispersed in the polysiloxane resin, a siloxane acrylate oligomer, and a reaction inhibitor, a method of forming a solder bump using the adhesive, and a method of manufacturing a bonding structure.
21세기에 들어서면서 정보통신기기의 진보에 따라 반도체 패키지의 고집적화, 고성능화, 저비용화, 소형화가 가속화되고 있다. 또한, 최근 차세대 디스플레이로 주목 받고 있는 플렉서블 디스플레이는 우수한 굴곡성을 가져 접거나 말 수 있는 특징을 가지고 있어 장착될 마이크로 부품의 안정적인 전기적/기계적 특성과 고집적화에 대한 연구가 급속히 진행되고 있다. In the 21st century, high integration, high performance, low cost, and miniaturization of semiconductor packages are accelerating along with advances in information and communication devices. In addition, flexible displays, which are recently attracting attention as next-generation displays, have excellent flexibility and can be folded or rolled, so research on stable electrical/mechanical characteristics and high integration of micro-parts to be mounted is rapidly progressing.
이러한 요구에 발 맞추어 BGA(ball grid array), CSP(chip scale package), FC(flip chip), 3-D package등과 같은 고밀도 전자 패키징 기술 개발이 활발히 진행되고 있고, 이러한 전자 패키징 기술 중, 접합 기술에 있어, 이방성 도전 접착제(anisotropic conductive adhesives; ACAs)를 이용한 접합 방법은 공정의 저온화, 프로세스의 간이화 등의 큰 장점들을 가지고 있다. In keeping with these demands, high-density electronic packaging technologies such as BGA (ball grid array), CSP (chip scale package), FC (flip chip), and 3-D package are being actively developed. In this case, the bonding method using anisotropic conductive adhesives (ACAs) has great advantages such as lowering the process temperature and simplifying the process.
상기 이방성 도전 접착제는 고분자 바인더에 금속 분말이나 도전성 폴리머 분말을 혼합하여 금속의 전기적, 자기적, 광학적 특성과 함께 고분자의 기계적 특성 및 가공성을 동시에 가지는 물질로 디스플레이 Panel Glass, Flexible PCB에의 구동 IC 등을 접속하는데 필수적으로 사용되는 핵심소재에 해당된다. The anisotropic conductive adhesive is a material that mixes metal powder or conductive polymer powder with a polymer binder to simultaneously have electrical, magnetic, and optical properties of metal as well as mechanical properties and processability of a polymer. It is a core material that is essential for connection.
최근에는 상기 이방성 도전 접착제를 이용한 접합부의 전기적, 기계적 특성 등을 향상시키고자 다양한 종류와 형태의 도전 입자 및 접속 프로세스에 대한 연구 및 개발이 가속화 되고 있다. Recently, in order to improve the electrical and mechanical properties of the joint using the anisotropic conductive adhesive, research and development of various types and shapes of conductive particles and connection processes are accelerating.
상용화 된 이방성 도전 접착제들은 접착 수지로 열경화성 수지를 사용한다. 상기 열경화성 수지를 사용하는 도전 접착제의 경우, 가열 시 상기 열경화성 수지의 네트워크가 형성되어, 솔더 입자가 유동되지 않아 전극 위 또는 전극 사이에의 집적이 일어나기 어렵고, 만일 전극으로의 집적이 일어나도, 접착 수지의 제거 공정이 어려운 문제가 있었다. Commercially available anisotropic conductive adhesives use thermosetting resins as adhesive resins. In the case of a conductive adhesive using the thermosetting resin, a network of the thermosetting resin is formed upon heating, so that the solder particles do not flow, so it is difficult to accumulate on the electrode or between the electrodes. There was a problem in the removal process of the difficult.
따라서, 이방성 도전 접착제의 접착 수지로서 새로운 소재를 포함하는 이방성 도전 접착제에 대한 연구 및 개발이 필요한 실정이다.Therefore, there is a need for research and development of an anisotropic conductive adhesive including a new material as an adhesive resin for the anisotropic conductive adhesive.
상기의 기술적 문제점을 개선하기 위하여, 본 발명의 일 기술적 과제는 열가소성 수지인 폴리실록산 수지; 및 상기 폴리실록산 수지 내에 분산된 상태로 위치하는 솔더 입자, 실록산 아크릴레이트 올리고머 및 반응억제제를 포함하는 이방성 도전 접착제를 제공하는 것이다. In order to improve the above technical problems, one technical problem of the present invention is a thermoplastic resin polysiloxane resin; And to provide an anisotropic conductive adhesive comprising solder particles, a siloxane acrylate oligomer, and a reaction inhibitor positioned in a dispersed state in the polysiloxane resin.
본 발명의 다른 일 과제는 상기 이방성 도전 접착제를 이용한 솔더 범프의 형성방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a method of forming a solder bump using the anisotropic conductive adhesive.
본 발명의 또 다른 일 과제는 상기 형성방법으로 형성된 솔더 범프를 이용한 접합구조체의 제조방법을 제공하는 것이다. Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing a bonding structure using the solder bump formed by the above forming method.
본 발명의 또 다른 일 과제는 상기 이방성 도전 접착제를 이용한 접합구조체의 제조방법을 제공하는 것이다. Another object of the present invention is to provide a method for manufacturing a bonding structure using the anisotropic conductive adhesive.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The technical problems to be achieved by the present invention are not limited to the technical problems mentioned above, and other technical problems not mentioned can be clearly understood by those of ordinary skill in the art to which the present invention belongs from the description below. There will be.
상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 일 양태는 열가소성 수지인 폴리실록산 수지; 및 상기 폴리실록산 수지 내에 분산된 상태로 위치하는 솔더 입자, 실록산 아크릴레이트 올리고머 및 반응억제제를 포함하는 이방성 도전 접착제를 제공한다. In order to achieve the above technical problem, one aspect of the present invention is a thermoplastic resin polysiloxane resin; And it provides an anisotropic conductive adhesive comprising solder particles, a siloxane acrylate oligomer, and a reaction inhibitor positioned in a dispersed state in the polysiloxane resin.
본 발명의 일 실시예에서, 상기 폴리실록산 수지는 평균 분자량이 10,000 내지 100,000일 수 있다. In one embodiment of the present invention, the polysiloxane resin may have an average molecular weight of 10,000 to 100,000.
본 발명의 일 실시예에서, 상기 반응억제제는 폐놀계 화합물, 인계 화합물 및 이들의 조합으로 구성된 군으로부터 선택되는 어느 하나의 화합물을 포함할 수 있다. In one embodiment of the present invention, the reaction inhibitor may include any one compound selected from the group consisting of phenol-based compounds, phosphorus-based compounds, and combinations thereof.
본 발명의 일 실시예에서, 상기 솔더 입자는 자연 산화막보다 얇은 두께의 제 2 산화막을 포함할 수 있다. In one embodiment of the present invention, the solder particles may include a second oxide film having a thickness thinner than that of the native oxide film.
본 발명의 일 실시예에서, 상기 솔더 입자는 Sn, Ag, Cu, Bi, In 및 이들의 합금으로 구성된 군으로부터 선택된 적어도 하나의 물질을 포함할 수 있다. In one embodiment of the present invention, the solder particles may include at least one material selected from the group consisting of Sn, Ag, Cu, Bi, In, and alloys thereof.
본 발명의 일 실시예에서, 상기 솔더 입자는 상기 이방성 도전 접착제 100 질량부에 대하여 20 질량부 내지 80 질량부로 포함될 수 있다. In an embodiment of the present invention, the solder particles may be included in an amount of 20 parts by mass to 80 parts by mass based on 100 parts by mass of the anisotropic conductive adhesive.
본 발명의 일 실시예에서, 상기 이방성 도전 접착제는 환원제를 더 포함할 수 있다. In one embodiment of the present invention, the anisotropic conductive adhesive may further include a reducing agent.
본 발명의 일 양태는 패턴전극을 포함하는 기판의 패턴전극이 형성된 면에 상기 접착제를 위치시켜 가접합체를 형성하는 단계; 상기 접착제에 포함된 솔더 입자의 용융온도 이상의 온도로 가열하는 단계; 및 상기 용융된 솔더 입자가 상기 패턴전극상에 자기 조직화되어 솔더 범프를 형성하는 단계; 를 포함하는 솔더 범프의 형성방법을 제공한다. One aspect of the present invention comprises the steps of: forming a temporary assembly by locating the adhesive on the surface of the substrate including the pattern electrode on which the pattern electrode is formed; heating to a temperature greater than or equal to the melting temperature of the solder particles included in the adhesive; and self-organizing the molten solder particles on the pattern electrode to form solder bumps. It provides a method of forming a solder bump comprising a.
본 발명의 일 실시예에서, 상기 가열하는 단계는 5 ℃/min 이상의 승온 속도로 수행될 수 있다. In one embodiment of the present invention, the heating step may be performed at a temperature increase rate of 5 °C / min or more.
본 발명의 일 실시예에서, 상기 가열하는 단계는, 가압하는 공정을 동시에 수행할 수 있다. In one embodiment of the present invention, the heating may be performed simultaneously with the pressing process.
본 발명의 일 실시예에서, 상기 솔더 범프를 형성하는 단계 이후, 상기 접착제에 포함된 폴리실록산 수지 및 잔류 솔더 입자를 제거하는 단계를 더 포함할 수 있다.In an embodiment of the present invention, after forming the solder bumps, the method may further include removing the polysiloxane resin and residual solder particles included in the adhesive.
본 발명의 일 양태는 제 1 패턴전극상에 상기 솔더 범프가 형성된 제 1 기판을 준비하는 단계; 상기 제 1 기판의 솔더 범프가 형성된 면과 마주보는 면에 제 2 기판 또는 마이크로소자를 배치하는 단계; 상기 솔더 범프에 포함된 솔더 입자의 용융온도 이상의 온도로 가열하는 단계; 및 상기 솔더 입자가 상기 제 1 패턴전극 및 제 2 패턴전극 사이의 공간 또는 제 1 패턴전극 및 마이크로소자 사이의 공간에서 자기 조직화되어 접합부를 형성하는 단계; 를 포함하는 접합구조체의 제조방법을 제공한다. One aspect of the present invention comprises the steps of: preparing a first substrate on which the solder bumps are formed on a first pattern electrode; disposing a second substrate or microdevice on a surface of the first substrate facing the surface on which the solder bumps are formed; heating to a temperature greater than or equal to the melting temperature of the solder particles included in the solder bumps; and self-organizing the solder particles in a space between the first pattern electrode and the second pattern electrode or between the first pattern electrode and the micro device to form a junction; It provides a method of manufacturing a bonding structure comprising a.
본 발명의 일 실시예에서, 상기 가열하는 단계는 5 ℃/min 이상의 승온 속도로 수행될 수 있다. In one embodiment of the present invention, the heating step may be performed at a temperature increase rate of 5 °C / min or more.
본 발명의 일 실시예에서, 상기 가열하는 단계는, 가압하는 공정을 동시에 수행할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the heating may be performed simultaneously with the pressing process.
본 발명의 일 실시예에서, 상기 제 1 기판을 준비하는 단계; 및 제 2 기판 또는 마이크로소자를 배치시키는 단계 사이에, 상기 솔더 범프가 형성된 제 1 기판의 솔더 범프가 형성된 면에 비전도성 접착제를 위치시키는 단계가 포함될 수 있다. In one embodiment of the present invention, preparing the first substrate; and placing a non-conductive adhesive on the surface on which the solder bumps are formed of the first substrate on which the solder bumps are formed between the steps of disposing the second substrate or the microdevice.
본 발명의 일 실시예에서, 상기 접합부를 형성하는 단계 이후에, 상기 제 1 기판 및 제 2 기판 사이; 또는 제 1 기판 및 마이크로소자 사이에서 상기 접합부를 제외한 공간에 언더필 재료를 충진하는 단계를 포함할 수 있다. In one embodiment of the present invention, after the step of forming the bonding portion, between the first substrate and the second substrate; Alternatively, the method may include filling the space between the first substrate and the micro device with an underfill material except for the bonding portion.
본 발명의 일 양태는 제 1 패턴전극을 포함하는 제 1 기판의 제 1 패턴전극이 형성된 면에 상기 접착제를 위치시켜 가접합체를 형성하는 단계; 상기 제 1 기판의 가접합체가 형성된 면에 제 2 기판 또는 마이크로소자를 배치하는 단계; 상기 접착제에 포함된 솔더 입자의 용융온도 이상의 온도로 가열하는 단계; 및 상기 솔더 입자가 상기 제 1 패턴전극 및 제 2 패턴전극 사이의 공간 또는 제 1 패턴전극 및 마이크로소자 사이의 공간에서 자기 조직화되어 접합부를 형성하는 단계; 를 포함하는 접합구조체의 제조방법을 제공한다. One aspect of the present invention comprises the steps of: forming a temporary assembly by locating the adhesive on a surface of a first substrate including a first pattern electrode on which a first pattern electrode is formed; disposing a second substrate or microdevice on the surface of the first substrate on which the temporary assembly is formed; heating to a temperature greater than or equal to the melting temperature of the solder particles included in the adhesive; and self-organizing the solder particles in a space between the first pattern electrode and the second pattern electrode or between the first pattern electrode and the micro device to form a junction; It provides a method of manufacturing a bonding structure comprising a.
본 발명의 일 실시예에서, 상기 가열하는 단계는 5 ℃/min 이상의 승온 속도로 수행될 수 있다. In one embodiment of the present invention, the heating step may be performed at a temperature increase rate of 5 °C / min or more.
본 발명의 일 실시예에서, 상기 가열하는 단계는, 가압하는 공정을 동시에 수행할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the heating may be performed simultaneously with the pressing process.
본 발명의 이방성 도전 접착제는 열가소성 수지인 폴리실록산 수지를 포함하는 바, 솔더 입자 표면의 금속산화물 제거를 위해 사용되는 환원제 및 첨가제와의 반응에 의한 수지의 네트워크형성 없어 솔더 범프 형성 및 접합구조체 제조 시 전극패턴 위 자가조직화에 유리하고, 대기 중에서 공정이 가능하며, 상기 자기 조직화 공정 수행 후, 잔류하는 잔사를 제거하는 것이 용이하다는 장점이 있다.The anisotropic conductive adhesive of the present invention contains a polysiloxane resin, which is a thermoplastic resin, and there is no network formation of the resin by reaction with a reducing agent and an additive used to remove metal oxides from the surface of the solder particles. It is advantageous for self-organization on the pattern, the process is possible in the atmosphere, and it is easy to remove the remaining residue after the self-organization process is performed.
또한, 본 발명의 이방성 도전 접착제를 이용하여 제조된 솔더 범프가 형성된 기판은 재 접합공정을 통하여 접합구조체를 형성할 수 있다. In addition, the substrate on which the solder bumps are formed using the anisotropic conductive adhesive of the present invention can form a bonding structure through a re-bonding process.
본 발명의 효과는 상기한 효과로 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 상세한 설명 또는 특허청구범위에 기재된 발명의 구성으로부터 추론 가능한 모든 효과를 포함하는 것으로 이해되어야 한다.It should be understood that the effects of the present invention are not limited to the above-described effects, and include all effects that can be inferred from the configuration of the invention described in the detailed description or claims of the present invention.
도 1은 본 발명의 일 실시예의 솔더 입자를 제조하는 방법의 흐름도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예의 솔더 범프의 형성방법의 흐름도이다.
도 3은 상기 도 2의 솔더 범프의 형성방법의 모식도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예의 접합구조체를 제조하는 방법의 흐름도이다.
도 5 및 도 6은 상기 도 4의 접합구조체를 제조하는 방법의 모식도이다..
도 7은 본 발명의 다른 실시예의 접합구조체를 제조하는 방법의 흐름도이다.
도 8은 상기 도 7의 접합구조체를 제조하는 방법의 모식도이다.1 is a flowchart of a method of manufacturing solder particles according to an embodiment of the present invention.
2 is a flowchart of a method of forming a solder bump according to an embodiment of the present invention.
3 is a schematic diagram of a method of forming the solder bumps of FIG. 2 .
4 is a flowchart of a method for manufacturing a bonding structure according to an embodiment of the present invention.
5 and 6 are schematic views of a method of manufacturing the bonding structure of FIG. 4 .
7 is a flowchart of a method for manufacturing a bonding structure according to another embodiment of the present invention.
8 is a schematic diagram of a method for manufacturing the bonding structure of FIG. 7 .
이하에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명을 설명하기로 한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며, 따라서 여기에서 설명하는 실시예로 한정되는 것은 아니다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.Hereinafter, the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. However, the present invention may be embodied in several different forms, and thus is not limited to the embodiments described herein. And in order to clearly explain the present invention in the drawings, parts irrelevant to the description are omitted, and similar reference numerals are attached to similar parts throughout the specification.
명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 "연결(접속, 접촉, 결합)"되어 있다고 할 때, 이는 "직접적으로 연결"되어 있는 경우뿐 아니라, 그 중간에 다른 부재를 사이에 두고 "간접적으로 연결"되어 있는 경우도 포함한다. 또한 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 구비할 수 있다는 것을 의미한다.Throughout the specification, when a part is said to be “connected (connected, contacted, coupled)” with another part, it is not only “directly connected” but also “indirectly connected” with another member interposed therebetween. "Including cases where In addition, when a part "includes" a certain component, this means that other components may be further provided without excluding other components unless otherwise stated.
본 명세서에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used herein is used only to describe specific embodiments, and is not intended to limit the present invention. The singular expression includes the plural expression unless the context clearly dictates otherwise. In the present specification, terms such as “comprise” or “have” are intended to designate that a feature, number, step, operation, component, part, or combination thereof described in the specification exists, but one or more other features It should be understood that this does not preclude the existence or addition of numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof.
본 발명의 일 양태는 열가소성 수지인 폴리실록산 수지; 및 상기 폴리실록산 수지 내에 분산된 상태로 위치하는 솔더 입자, 실록산 아크릴레이트 올리고머 및 반응억제제를 포함하는 이방성 도전 접착제를 제공한다. One aspect of the present invention is a thermoplastic resin polysiloxane resin; And it provides an anisotropic conductive adhesive comprising solder particles, a siloxane acrylate oligomer, and a reaction inhibitor positioned in a dispersed state in the polysiloxane resin.
본 명세서에서 이방성 도전 접착제(anistropic conductive adhesives; ACAs)는 고분자 바인더에 금속 분말이나 도전성 폴리머 분말 등을 혼합해 금속의 전기적, 자기적, 광학적 특성과 함께 고분자의 기계적 특성 및 가공성을 동시에 가지는 물질로 디스플레이 패널 글래스나 플렉서블 PCB에의 구동 IC 또는 패키지등을 접합하는데 필수적으로 사용되는 핵심소재이다.In the present specification, anisotropic conductive adhesives (ACAs) are displayed as a material having mechanical properties and processability of a polymer as well as electrical, magnetic, and optical properties of a metal by mixing metal powder or conductive polymer powder with a polymer binder. It is a core material essential for bonding driving ICs or packages to panel glass or flexible PCBs.
상기 이방성 도전 접착제는 전류가 오직 한 방향으로만 흐를 수 있는 특성을 가지고 있으며, 접착 수지 및 도전성 솔더 입자를 기본적인 구성으로 하고, 상기 접착 수지에 분산된 도전성 솔더 입자의 자기 조직화 공정에 이용될 수 있다. The anisotropic conductive adhesive has a property that current can flow in only one direction, has an adhesive resin and conductive solder particles as a basic configuration, and can be used in a self-organization process of conductive solder particles dispersed in the adhesive resin. .
본 명세서에서 상기 도전성 솔더 입자의 자기 조직화 공정을 간략히 설명하면 다음과 같다. Hereinafter, the self-organization process of the conductive solder particles will be briefly described.
상기 이방성 도전 접착제가 패턴전극을 포함하는 기판의 패턴전극면에 위치하고, 열 또는 열과 압력이 인가 되면, 상기 솔더 입자가 용융되고 상기 접착 수지 내에서 자가이동 및 자가용착되어 상기 패턴전극상에 위치하게 되고, 후술하는 솔더 범프 또는 접합부를 형성한다. The anisotropic conductive adhesive is positioned on the pattern electrode surface of the substrate including the pattern electrode, and when heat or heat and pressure are applied, the solder particles are melted and self-moved and self-welded in the adhesive resin to be positioned on the pattern electrode and forms a solder bump or joint to be described later.
구체적으로, 상기 열의 인가로 인하여, 상기 솔더 입자는 기판의 패턴전극으로 이동하며 뭉치게 된다(자가이동). 상기 솔더 입자는 패턴전극의 금속에 대하여 젖음성이 높은데 비교하여, 패턴전극 이외의 부분에 있는 성분에 대하여는 젖음성이 낮다. 즉, 젖음성이 높은 패턴전극의 표면에서는 접촉각이 작고, 솔더 입자의 중심이 낮아 안정적이며, 솔더 입자와 패턴전극은 서로 끌어당기는 상호작용이 일어나 패턴전극의 상면에 모여 집적될 수 있다.Specifically, due to the application of the heat, the solder particles move to the pattern electrode of the substrate and aggregate (self-movement). The solder particles have high wettability with respect to the metal of the patterned electrode, but have low wettability with respect to components other than the patterned electrode. That is, on the surface of the pattern electrode having high wettability, the contact angle is small, the center of the solder particle is low, and it is stable, and the solder particle and the pattern electrode are attracted to each other.
이와 동시에, 상기 솔더 입자가 용융되어, 용융된 솔더 입자가 상기 패턴전극의 표면에 웨팅(wetting)되고(자가용융), 상기 용융된 솔더 입자의 웨팅 이후, 더 많은 용융된 솔더 입자가 계속해서 유입되고, 결국 패턴전극의 상부에 솔더 범프가 형성될 수 있다. 상기 현상은 크기가 다른 각각의 액적이 접하여 하나의 큰 액적이 형성되는 과정으로 설명할 수 있는데, 반경이 작은 액적은 반경이 큰 액적보다 내압이 높고, 이 압력차에 의해 작은 액적은 큰 액적으로 흡입된다. 따라서, 상기 솔더 입자가 용융되면 더 많은 용융된 솔더 입자가 계속 해서 유입될 수 있다. At the same time, the solder particles are melted, so that the molten solder particles are wetted on the surface of the pattern electrode (self-melting), and after wetting of the molten solder particles, more molten solder particles continue to flow in As a result, solder bumps may be formed on the pattern electrode. This phenomenon can be explained as a process in which droplets of different sizes come into contact with each other to form a single large droplet. A droplet with a small radius has a higher internal pressure than a droplet with a large radius, and by this pressure difference, a small droplet becomes a large droplet. is inhaled Accordingly, when the solder particles are melted, more molten solder particles can be continuously introduced.
한편, 열을 받은 상기 접착 수지는 점도가 낮아져 상기 솔더 입자가 패턴전극의 상부로 이동하도록 상기 솔더 입자의 유동성을 증가시키는 역할을 한다. On the other hand, the adhesive resin that has been heated serves to increase the fluidity of the solder particles so that the viscosity is lowered and the solder particles move to the upper part of the pattern electrode.
상기 솔더 입자가 대향하여 위치하는 제 1 패턴전극 및 제 2 패턴전극의 사이에서 자기 조직화되는 경우에는, 상기 인가된 열이 제거되어 상기 패턴전극에 걸쳐 형성되어 있는 솔더 범프는 냉각 및 응고되고, 냉각된 솔더 범프인 접합부는 제 1 패턴전극 및 제 2 패턴전극을 전기적으로 접속하여 접합구조체를 형성하게 된다. When the solder particles are self-organized between the first pattern electrode and the second pattern electrode positioned to face each other, the applied heat is removed and the solder bumps formed over the pattern electrode are cooled and solidified, and cooled. The junction part, which is a solder bump, electrically connects the first pattern electrode and the second pattern electrode to form a junction structure.
본 발명에서, 상기 열가소성 수지인 폴리실록산 수지는 상기 이방성 도전 접착제의 접착 수지에 해당될 수 있고, 상기 솔더 입자는 상기 이방성 도전 접착제의 도전성 솔더 입자에 해당될 수 있다. In the present invention, the polysiloxane resin as the thermoplastic resin may correspond to the adhesive resin of the anisotropic conductive adhesive, and the solder particles may correspond to the conductive solder particles of the anisotropic conductive adhesive.
본 발명의 이방성 도전 접착제는 평균 분자량이 10,000 내지 100,000인 열가소성 수지인 폴리실록산 수지 및 평균 분자량이 1,000 내지 10,000인 실록산 아크릴레이트 올리고머를 포함한다. The anisotropic conductive adhesive of the present invention includes a polysiloxane resin that is a thermoplastic resin having an average molecular weight of 10,000 to 100,000 and a siloxane acrylate oligomer having an average molecular weight of 1,000 to 10,000.
상기 폴리실록산 수지는 평균 분자량이 10,000 내지 100,000인 고분자에 해당하는바, 상기 이방성 도전 접착제의 접착 수지로 사용되는 경우, 솔더 입자의 유동성이 충분히 부여되지 않을 수 있다. 따라서, 실록산을 포함하나, 상기 폴리실록산 수지에 비하여 분자량이 비교적 적은 상기 실록산 아크릴레이트 올리고머를 포함하여, 상기 이방성 도전 접착제의 유동성을 확보할 수 있다. The polysiloxane resin corresponds to a polymer having an average molecular weight of 10,000 to 100,000, and when used as an adhesive resin of the anisotropic conductive adhesive, the fluidity of the solder particles may not be sufficiently provided. Accordingly, fluidity of the anisotropic conductive adhesive may be secured by including the siloxane acrylate oligomer including siloxane, but having a relatively small molecular weight compared to the polysiloxane resin.
본 발명의 이방성 도전 접착제에 포함되는 실록산 아크릴레이트 올리고머는 상기 이방성 도전 접착제 100 질량부에 대하여 5 질량부 내지 30 질량부로 포함될 수 있다. The siloxane acrylate oligomer included in the anisotropic conductive adhesive of the present invention may be included in an amount of 5 to 30 parts by mass based on 100 parts by mass of the anisotropic conductive adhesive.
본 발명의 일 실시예에서, 상기 이방성 도전 접착제는 반응억제제를 더 포함할 수 있다. In one embodiment of the present invention, the anisotropic conductive adhesive may further include a reaction inhibitor.
상기 반응억제제는 페놀계, 인계 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나의 화합물을 포함할 수 있으며, 접합수지, 본 발명의 경우, 열가소성 수지인 폴리실록산 수지의 반응을 억제하는 데 이용될 수 있다. The reaction inhibitor may include any one compound selected from the group consisting of phenol-based, phosphorus-based, and combinations thereof, and may be used to inhibit the reaction of the bonding resin, in the case of the present invention, the polysiloxane resin, which is a thermoplastic resin. have.
상기 자기 조직화 공정에서 열이 인가되면, 상기 접합수지들이 서로 축합반응을 일으켜, 접합수지의 유동성을 낮추고, 솔더의 이동을 방해할 수 있고, 후술하는 폴리실록산 제거 공정에서도 문제가 될 수 있다. 상기 반응억제제는 상기 접합 수지와 결합하여 상기 접합 수지간의 반응을 억제할 수 있다. When heat is applied in the self-organization process, the bonding resins cause a condensation reaction with each other, lowering the fluidity of the bonding resin, preventing the movement of solder, and may be a problem in the polysiloxane removal process to be described later. The reaction inhibitor may bind to the bonding resin to inhibit a reaction between the bonding resins.
본 발명의 이방성 도전 접착제에 포함되는 반응억제제는 상기 이방성 도전 접착제 100 질량부에 대하여 질량부 1 질량부 내지 20 질량부로 포함될 수 있다. The reaction inhibitor included in the anisotropic conductive adhesive of the present invention may be included in an amount of 1 to 20 parts by mass based on 100 parts by mass of the anisotropic conductive adhesive.
상기 폴리실록산 수지는 유기용매에 잘 녹는 특성을 가진다. 따라서, 후술하는 폴리실록산 수지의 제거공정이 용이하게 수행될 수 있고, 상기 이방성 도전 접착제에 포함되는 환원제와 축합반응을 일으키지 않아 상기 자기 조직화 공정이 용이하다는 장점이 있다. The polysiloxane resin has a property of being well soluble in an organic solvent. Therefore, the polysiloxane resin removal process to be described later can be easily performed, and the self-organization process is easy because it does not cause a condensation reaction with the reducing agent included in the anisotropic conductive adhesive.
본 발명의 이방성 도전 접착제에 포함되는 솔더 입자는 자연 산화막(제 1 산화막)보다 얇은 두께의 제 2 산화막을 포함할 수 있고, 후술하는 제조공정에 의하여 제조된 것일 수 있다.The solder particles included in the anisotropic conductive adhesive of the present invention may include a second oxide film having a thickness thinner than a natural oxide film (first oxide film), and may be manufactured by a manufacturing process to be described later.
도 1은 본 발명의 일 실시예의 솔더 입자의 제조방법의 흐름도이다. 1 is a flowchart of a method of manufacturing solder particles according to an embodiment of the present invention.
도 1을 참조하면, 본 발명의 솔더 입자는 솔더 입자의 제 1 산화막을 제거하는 단계(S10) 및 제 2 산화막을 형성하는 단계(S20)을 포함할 수 있다. Referring to FIG. 1 , the solder particles of the present invention may include removing the first oxide layer of the solder particles ( S10 ) and forming the second oxide layer ( S20 ).
먼저, 본 발명의 솔더 입자의 제조방법은 솔더 입자의 제 1 산화막을 제거하는 단계(S10)를 포함한다. First, the method of manufacturing solder particles of the present invention includes the step of removing the first oxide film of the solder particles (S10).
상기 제 1 산화막을 제거하는 단계는 제 1 환원제를 이용하여 수행될 수 있다. 예를 들면, 용매에 상기 제 2 환원제 및 상기 솔더 입자를 투입하고, 상기 용매에 열을 가하여 수행될 수 있다. The step of removing the first oxide layer may be performed using a first reducing agent. For example, the second reducing agent and the solder particles may be added to a solvent, and heat may be applied to the solvent.
상기 제 1 환원제는 제 1 산화막과 반응하는 카복실기를 포함하는 화합물, 예를 들면, Oxalic acid, Malonic acid, Glutaric acid, Adipic acid, Pimelic acid, Suberic acid, Zelaic acid, 및 Sebacic acid으로 구성된 군으로부터 선택된 적어도 하나의 화합물을 포함할 수 있다. The first reducing agent is a compound containing a carboxyl group reacting with the first oxide layer, for example, Oxalic acid, Malonic acid, Glutaric acid, Adipic acid, Pimelic acid, Suberic acid, Zelaic acid, and Sebacic acid selected from the group consisting of at least one compound.
상기 용매는 에탄올, 메탄올, 프로판올, 부탄올, n-부탄올, 이소프로필알코올, 이소부틸알코올, 디메틸아세트아미드, 디메틸포름아미드, 디메틸설폭사이드, 테트라하이드로퓨란, 트리에틸렌포스페이트, 트리메틸포스페이트, 헥산, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 디이소부틸케톤, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 디옥산, 및 디에틸에테르로 구성된 군으로부터 선택된 적어도 하나의 물질을 포함할 수 있다. The solvent is ethanol, methanol, propanol, butanol, n-butanol, isopropyl alcohol, isobutyl alcohol, dimethylacetamide, dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, tetrahydrofuran, triethylene phosphate, trimethyl phosphate, hexane, benzene, It may include at least one material selected from the group consisting of toluene, xylene, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, diisobutyl ketone, ethyl acetate, butyl acetate, dioxane, and diethyl ether.
그러나, 상기 솔더 입자의 제 1 산화막이 완전히 제거되면, 이후 자기 조직화 공정에서 솔더 입자가 과도하게 뭉쳐져, 단락이 발생할 수 있다. However, when the first oxide layer of the solder particles is completely removed, the solder particles are excessively aggregated in a subsequent self-organization process, and a short circuit may occur.
따라서, 본 발명의 솔더 입자의 제조방법은 상기 제 1 산화막보다 얇은 두께의 제 2 산화막을 형성하는 단계(S20)를 포함한다. Accordingly, the method of manufacturing solder particles of the present invention includes forming a second oxide film having a thickness smaller than that of the first oxide film (S20).
상기 제 2 산화막을 형성하는 단계에서 형성된 제 2 산화막은 자연 산화막인 제 1 산화막과는 달리 인위적으로 형성된 산화막으로서 제 1 산화막보다 산소 농도가 낮고, 상기 제 1 산화막보다 두께가 얇을 수 있다. The second oxide film formed in the step of forming the second oxide film is an artificially formed oxide film, unlike the first oxide film, which is a natural oxide film, has a lower oxygen concentration than the first oxide film, and may have a thickness thinner than the first oxide film.
상기 제 2 산화막이 형성된 솔더 입자는 제 2 산화막으로 인해 응집되지 않고, 제 1 산화막이 제거된 경우와 비교하여, 솔더 입자의 표면에너지가 낮아, 폴리실록산 수지 내의 분산성이 좋을 수 있다. The solder particles on which the second oxide film is formed are not aggregated due to the second oxide film, and the surface energy of the solder particles is low compared to the case in which the first oxide film is removed, so that the dispersibility in the polysiloxane resin may be good.
본 발명의 이방성 도전 접착제에 포함되는 솔더 입자는 상술한 방법을 수행하여 제조되어, 제 2 산화막이 형성될 수 있고, 저융점 금속, 예를 들면, Sn, Ag, Cu, Bi, In 및 이들의 합금으로 구성된 군으로부터 선택된 적어도 하나의 물질을 포함할 수 있다. Solder particles included in the anisotropic conductive adhesive of the present invention are manufactured by performing the above-described method, a second oxide film may be formed, and low-melting metals such as Sn, Ag, Cu, Bi, In, and their It may include at least one material selected from the group consisting of alloys.
상기 솔더 입자는 상기 이방성 도전 접착제 100 질량부에 대하여 20 질량부 내지 80 질량부로 포함될 수 있다. The solder particles may be included in an amount of 20 parts by mass to 80 parts by mass based on 100 parts by mass of the anisotropic conductive adhesive.
더욱 효과적인 솔더입자의 자가조직화를 위해 상기 이방성 도전 접착제 내에 제 2 환원제를 더 포함할 수 있다. For more effective self-organization of the solder particles, a second reducing agent may be further included in the anisotropic conductive adhesive.
상기 제 2 환원제는 제 1 산화막과 반응하는 카복실기를 포함하는 화합물, 예를 들면, Oxalic acid, Malonic acid, Glutaric acid, Adipic acid, Pimelic acid, Suberic acid, Zelaic acid, 및 Sebacic acid으로 구성된 군으로부터 선택된 적어도 하나의 화합물을 포함할 수 있다. The second reducing agent is a compound containing a carboxyl group that reacts with the first oxide layer, for example, Oxalic acid, Malonic acid, Glutaric acid, Adipic acid, Pimelic acid, Suberic acid, Zelaic acid, and Sebacic acid selected from the group consisting of at least one compound.
본 발명의 이방성 도전 접착제는 상술한 열가소성 수지인 폴리실록산 수지, 솔더 입자, 실록산 아크릴레이트 올리고머, 반응억제제 및 환원제를 포함할 수 있고, 페이스트 형태 또는 필름 형태 일 수 있으며, 후술하는 접합구조체의 제조방법 또는 솔더 범프가 형성된 기판의 제조방법에 이용될 수 있다. The anisotropic conductive adhesive of the present invention may include the above-described thermoplastic resin polysiloxane resin, solder particles, siloxane acrylate oligomer, reaction inhibitor and reducing agent, and may be in the form of a paste or a film, a method for manufacturing a bonding structure described later or It can be used in a method of manufacturing a substrate on which solder bumps are formed.
본 발명의 일 양태는 상기 이방성 도전 접착제(10)를 이용한 솔더 범프(20)의 형성방법을 제공한다.One aspect of the present invention provides a method of forming a
도 2 및 도 3을 참조하면, 본 발명의 솔더 범프(20)의 형성방법은 패턴전극(32)을 포함하는 기판(31)의 패턴전극(32)이 형성된 면에 이방성 도전 접착제(10)를 위치시켜 가접합체(21)를 형성하는 단계(S110); 이방성 도전 접착제 (10)에 포함된 솔더 입자(11)의 용융온도 이상의 온도로 가열하는 단계(S120); 및 상기 용융된 솔더 입자(11)가 상기 패턴전극(32)상에 자기 조직화되어 솔더 범프(20)를 형성하는 단계(S130); 및 폴리실록산 수지(12) 및 잔류 솔더 입자(11)를 제거하는 단계(S140)를 포함한다. 2 and 3, in the method of forming the
상기 이방성 도전 접착제(10)에 관한 설명은 상기 양태에서 설명한 것으로 갈음한다. The description of the anisotropic conductive adhesive 10 is replaced with that described in the above aspect.
본 발명의 일 실시예에서, 상기 기판(31)은 패턴(32)을 포함할 수 있으며, PCB(printed circuit board), FPCB(flexible PCB), IC기판, 글래스 기판 중 어느 하나일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. In one embodiment of the present invention, the
먼저, 본 발명의 솔더 범프(20)의 형성방법은 패턴전극(32)을 포함하는 기판(31)의 패턴전극(32)이 형성된 면에 이방성 도전 접착제(10)를 위치시켜 가접합체(21)를 형성하는 단계(S110)를 포함한다. First, in the method of forming the solder bumps 20 of the present invention, the anisotropic conductive adhesive 10 is placed on the surface on which the
구체적으로, 상기 가접합체(21)를 형성하는 단계(S110)는 상기 패턴전극(32)을 포함하는 기판(31)이 상기 이방성 도전 접착제(10)의 일면에 로딩되어 수행될 수 있다. 이때, 상기 기판(31)에 히터에 의해 20 ℃ 내지 120 ℃, 예를 들면, 20 ℃ 내지 70 ℃의 열과 0.01 MPa 내지 1 MPa의 미소 압력이 약 3 초 내지 5 초 동안 가해질 수 있는데, 상기 기판(31)에 가해진 열과 미소 압력은 상기 이방성 도전 접착제(10)에 전달되어, 가접합체(21)를 형성할 수 있다.Specifically, the step of forming the temporary assembly 21 ( S110 ) may be performed by loading the
본 발명의 일 실시예에서, 상기 가접합체(21)를 형성하는 단계(S110) 및 하기의 가열하는 단계(S120); 사이에 상기 형성된 가접합체(21) 상부에 이형필름(23)을 배치시키는 단계를 추가로 포함할 수 있다. In one embodiment of the present invention, the step of forming the temporary assembly 21 (S110) and the following heating step (S120); It may further include the step of disposing the
상기 이형필름(23)은 후술하는 가열하는 단계(S120)에서, 가열하는 장치, 또는 가열 및 가압하는 장치가 상기 가접합체(21)와 직접 접촉하지 않기 위한 것으로, 본 발명의 형성방법으로 솔더 범프(20)가 형성된 이후에는 제거될 수 있다. In the heating step (S120) to be described later, the
다음으로 본 발명의 솔더 범프(20)의 이방성 도전 접착제 (10)에 포함된 솔더 입자(11)의 용융온도 이상의 온도로 가열하는 단계(S120);를 포함한다. Next, heating to a temperature equal to or higher than the melting temperature of the
본 발명의 일 실시예에서, 상기 가열하는 단계(S120)는 본 발명의 이방성 도전 접착제(10)에 포함된 솔더 입자(11)의 융점보다 높은 온도, 예를 들면, 100 ℃ 내지 300 ℃에서 수행될 수 있고, 상기 공정의 온도는 상기 솔더 입자(11)의 융점에 따라 상이할 수 있으며, 상기 솔더 입자(11)의 융점에 의하여 선택하는 것이 바람직 하다. In one embodiment of the present invention, the heating step (S120) is performed at a temperature higher than the melting point of the
본 발명의 이방성 도전 접착제(10)은 열가소성 수지인 폴리실록산 수지, 실록산 아크릴레이트 올리고머, 반응억제제 및 상기 폴리실록산 수지 내에 분산된 상태로 위치하는 솔더 입자를 포함하여, 상기 가열하는 단계(S120)는 넓은 범위의 승온 속도 및 공정 시간에서 수행될 수 있다. 예를 들면, 상기 가열하는 단계(S120)의 승온 속도는 5 ℃/min 이상, 예를 들면, 5 ℃/min 내지 200 ℃/min일 수 있고, 상기 가열하는 단계(S120)는 1 분 내지 40 분 동안 수행될 수 있다.The anisotropic
본 발명의 일 실시예에서, 상기 가열 하는 단계(S120)는 가압하는 공정을 동시에 수행할 수 있다. 이때의 압력은 상기 기판(31)에 손상을 제공하지 않는 범위이면 특별히 제한되지 않지만, 0.01 MPa 내지 3.0 MPa일 수 있다.In one embodiment of the present invention, the heating step (S120) may be performed simultaneously with the pressing process. The pressure at this time is not particularly limited as long as it does not damage the
다음으로 본 발명의 솔더 범프(20)의 형성방법은 상기 용융된 솔더 입자(11)가 상기 패턴전극(32)상에 자기 조직화되어 솔더 범프(20)를 형성하는 단계(S130);를 포함한다.Next, the method of forming the solder bumps 20 of the present invention includes a step (S130) in which the
상기 솔더 범프(20)를 형성하는 단계(S130)는 상기 솔더 입자(11)의 자기 조직화 공정을 이용하여 수행될 수 있고, 상기 자기 조직화 공정의 메커니즘은 상기 양태에서 설명한 것으로 갈음한다. Forming the solder bumps 20 ( S130 ) may be performed using a self-organizing process of the
본 발명의 이방성 도전 접착제(10)는 열가소성 수지인 폴리실록산 수지(12)를 접착 수지로 사용하는데, 상기 열가소성 수지인 폴리실록산 수지(12)는 솔더입자의 금속산화물 제거를 위해 사용되는 환원제 또는 첨가제와의 반응에 의한 수지의 네트워크 형성 및 축합반응이 없다. 따라서, 반응억제를 위하여 특별히 불활성 분위기에서 진행할 필요 없이, 상기 가열하는 단계(S120); 및 상기 솔더 범프(20)를 형성하는 단계(S130)를 대기 조건에서 수행할 수 있다. The anisotropic
다음으로, 본 발명의 솔더 범프(20)의 형성방법은 폴리실록산 수지(12) 및 잔류 솔더 입자(11)를 제거하는 단계(S140)를 더 포함할 수 있다. Next, the method of forming the solder bumps 20 of the present invention may further include removing the
상기 폴리실록산 수지(12)를 제거하는 단계(S140)는 솔더 범프(20)가 형성된 기판(31)의 상부에서, 상기 솔더 범프(20) 및 상기 패턴전극(32)를 제외한 공간에 해당하는 영역에 포함된 폴리실록산 수지(12) 및 상기 폴리실록산 수지(12)에 포함된 자기 조직화되지 않은 솔더 입자(11), 즉 상기 솔더 범프(20)의 형성공정 후 상기 기판(31)에 잔류하는 잔사를 제거하는 공정에 해당할 수 있다. In the step (S140) of removing the
본 발명의 이방성 도전 접착제(10)는 열가소성 수지인 폴리실록산 수지(12)를 접착 수지로 사용하고, 상기 열가소성 수지인 폴리실록산 수지(12)는 유기용제에 대한 용해도가 높아, 상기 제조방법에 의해 제조된 솔더 범프(20)가 형성된 기판(31)에 유기용제를 첨가하는 것만으로도, 쉽게 잔류하는 잔사를 제거할 수 있는 장점이 있다.The anisotropic
상기 유기용제는 상기 열가소성 수지를 용해할 수 있는 것이라면 제한되지 않으며, 예를 들면, 톨루엔, 크실렌, n-헥산, 초산에틸, 메틸알콜, 메틸에틸케톤 등을 포함할 수 있다. The organic solvent is not limited as long as it can dissolve the thermoplastic resin, and may include, for example, toluene, xylene, n-hexane, ethyl acetate, methyl alcohol, methyl ethyl ketone, and the like.
본 발명의 일 양태는 상기 형성방법으로 형성된 솔더 범프(20)를 이용하는 접합구조체(50)의 제조방법을 제공한다.One aspect of the present invention provides a method of manufacturing a
도 4 내지 도 6을 참조하면, 본 발명의 접합구조체(50)의 제조방법은 제 1 패턴전극(32)상에 상기 솔더 범프(20)가 형성된 제 1 기판(31)을 준비하는 단계(S210); 상기 제 1 기판(31)의 솔더 범프(20)가 형성된 면과 마주보는 면에 제 2 기판(41) 또는 마이크로소자(미도시)를 배치하는 단계(S220); 상기 솔더 범프(20)에 포함된 솔더 입자(11)의 용융온도 이상의 온도로 가열하는 단계(S230); 및 상기 솔더 입자(11)가 상기 제 1 패턴전극(32) 및 제 2 패턴전극(42) 사이의 공간(51; 제 1영역) 또는 제 1 패턴전극(32) 및 마이크로소자 사이의 공간(51)에서 자기 조직화되어 접합부(22)를 형성하는 단계(S240);를 포함한다. 4 to 6 , the method of manufacturing the
먼저, 본 발명의 접합구조체(50)의 제조방법은 제 1 패턴전극(32)상에 상기 솔더 범프(20)가 형성된 제 1 기판(31)을 준비하는 단계(S210); 상기 제 1 기판(31)의 솔더 범프(20)가 형성된 면과 마주보는 면에 제 2 기판(41) 또는 마이크로소자(미도시)를 배치하는 단계(S220)를 포함한다. First, the manufacturing method of the
상기 솔더 범프(20)에 대한 설명은 상기 양태에서 설명한 것으로 갈음한다. The description of the
본 발명의 일 실시예에서, 상기 제 2 기판(41) 또는 마이크로소자를 배치하는 단계(S220)에서, 상기 제 2 기판(41)은 제 2 패턴(42)을 포함할 수 있으며, PCB(printed circuit board), FPCB(flexible PCB), IC기판, 유리기판 중 어느 하나일 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다. In an embodiment of the present invention, in the step of disposing the
또한, 상기 마이크로 소자는 마이크로 사이즈의 전자소자, 즉, 고체 내 전자의 전도를 이용한 전자 부품, 예를 들면 다이오드, 태양 전지, 트랜지스터, LED소자등을 의미한다. 상기 마이크로 소자는 전자의 전도가 가능한 전극을 포함할 수 있으며, 상기 마이크로 소자는 상기 전극을 포함함으로써, 본 발명의 이방성 도전 접착제(10)를 이용하여 본 발명의 접합구조체(50)을 제조할 수 있다. In addition, the micro device means a micro-sized electronic device, that is, an electronic component using the conduction of electrons in a solid, for example, a diode, a solar cell, a transistor, an LED device, and the like. The micro device may include an electrode capable of conducting electrons, and by including the electrode, the
본 발명의 일 실시예에서, 본 발명의 접합구조체(50)의 제조방법은 상기 제 1 기판(31)을 준비하는 단계(S210); 및 제 2 기판(41) 또는 마이크로소자(미도시)를 배치시키는 단계(S220) 사이에, 상기 솔더 범프(20)가 형성된 제 1 기판(31)의 솔더 범프(20)가 형성된 면에 비전도성 접착제(60)를 위치시키는 단계를 포함할 수 있다(도 5).In one embodiment of the present invention, the manufacturing method of the
상기 비전도성 접착제(60)를 위치시키는 단계는 본 발명의 기술분야에서 자명한 방법이라면 이를 제한하지 않고 수행될 수 있고, 예를 들면, 상기 비전도성 접착제(60)가 필름의 상태로 상기 제 1 기판(31)의 상부에 위치되어, 공정이 완료된 후 제 2 영역(52)에 상기 비전도성 접착제(60)가 충진된 접합구조체(50)를 수득할 수 있다. The step of locating the
다음으로, 본 발명의 접합구조체(50)의 제조방법은 상기 솔더 범프(20)에 포함된 솔더 입자(11)의 용융온도 이상의 온도로 가열하는 단계(S230)를 포함한다. Next, the method of manufacturing the
본 발명의 일 실시예에서, 상기 가열하는 단계(S230)는 본 발명의 이방성 도전 접착제(10)에 포함된 솔더 입자(11)의 융점보다 높은 온도, 예를 들면, 100 ℃ 내지 300 ℃에서 수행될 수 있고, 상기 공정의 온도는 상기 솔더 입자(11)의 융점에 따라 상이할 수 있으며, 상기 솔더 입자(11)의 융점에 의하여 선택하는 것이 바람직 하다. In one embodiment of the present invention, the heating step (S230) is performed at a temperature higher than the melting point of the
본 발명의 이방성 도전 접착제(10)은 열가소성 수지인 폴리실록산 수지, 실록산 아크릴레이트 올리고머, 반응억제제 및 상기 폴리실록산 수지 내에 분산된 상태로 위치하는 솔더 입자를 포함하여, 상기 가열하는 단계(S230)는 넓은 범위의 승온 속도 및 공정 시간에서 수행될 수 있다. 예를 들면, 상기 가열하는 단계(S230)의 승온 속도는 5 ℃/min 이상, 예를 들면, 5 ℃/min 내지 200 ℃/min일 수 있고, 상기 가열하는 단계(S230)는 1 분 내지 40 분 동안 수행될 수 있다.The anisotropic
본 발명의 일 실시예에서, 상기 가열 하는 단계(S230)는 가압하는 공정을 동시에 수행할 수 있다. 이때의 압력은 상기 기판(31)에 손상을 제공하지 않는 범위이면 특별히 제한되지 않지만, 0.01 MPa 내지 3.0 MPa일 수 있다.In one embodiment of the present invention, the heating step (S230) may be performed simultaneously with the pressing process. The pressure at this time is not particularly limited as long as it does not damage the
다음으로, 본 발명의 접합구조체(50)의 제조방법은 상기 솔더 입자(11)가 상기 제 1 패턴전극(32) 및 제 2 패턴전극(42) 사이의 공간(51; 제 1영역) 또는 제 1 패턴전극(32) 및 마이크로소자 사이의 공간(51)에서 자기 조직화되어 접합부(22)를 형성하는 단계(S240)를 포함한다.Next, in the method of manufacturing the
상기 접합부(22)를 형성하는 단계(S240)는 상기 솔더 입자(11)의 자기 조직화 공정을 이용하여 수행될 수 있고, 상기 자기 조직화 공정의 메커니즘은 상기 양태에서 설명한 것으로 갈음한다. Forming the joint portion 22 ( S240 ) may be performed using a self-organizing process of the
본 발명의 이방성 도전 접착제(10)는 열가소성 수지인 폴리실록산 수지(12)를 접착 수지로 사용하는데, 상기 열가소성 수지인 폴리실록산수지(12)는 솔더입자의 금속산화물 제거를 위해 사용되는 환원제 또는 첨가제와의 반응에 의한 수지의 네트워크 형성 및 축합반응이 없다. 따라서, 반응억제를 위하여 특별히 불활성 분위기에서 진행할 필요 없이, 상기 가열하는 단계(S230); 및 상기 접합부(22)를 형성하는 단계(S240)를 대기 조건에서 수행할 수 있다.The anisotropic
본 발명의 일 실시예에서, 본 발명의 접합구조체(50)의 제조방법은 상기 접합부(22)를 형성하는 단계(S240)단계 이후에 상기 제 1 기판(31) 및 제 2 기판(41) 사이; 또는 제 1 기판(31) 및 마이크로소자(미도시) 사이에서 상기 접합부(22)를 제외한 공간(52; 제 2 영역)에 언더필 재료(70)를 충진하는 단계를 포함할 수 있다(도 6). In one embodiment of the present invention, in the method of manufacturing the
상기 언더필 재료(70)는 상기 접합부(22)의 신뢰성을 증가시키기 위하여 충진될 수 있다. 구체적으로, 상기 제 1 기판(31) 과, 제 2 기판(41) 또는 마이크로소자의 열팽창계수 차이로 인해 휨(warpage) 현상이 발생하여, 이로 인해 단선 불량이 발생하거나, 상기 접합부(22)가 깨지는 불량이 발생하는 문제가 발생할 수 있다. The
상기 언더필 재료(70)가 충진된 접합구조체(50)는 상술한 문제를 해결하기 위한 것으로, 상기 언더필 재료(70)의 유리전이온도, 탄성계수, 열팽창계수 등의 물성 변화를 통해 신뢰성을 확보할 수 있다. The
상기 언더필 재료(70)를 충진하는 단계는 본 발명의 기술분야에서 자명한 방법이라면 이를 제한하지 않고 수행될 수 있고, 예를 들면, 상기 접합구조체(50)가 형성된 이후, 상기 제 2 영역(52)에 페이스트 상태로 충진될 수 있다. The filling of the
본 발명의 일 양태는 상기 이방성 도전 접착제(10)를 이용하는 접합구조체(50)의 제조방법을 제공한다.One aspect of the present invention provides a method of manufacturing a bonding structure (50) using the anisotropic conductive adhesive (10).
도 7 및 도 8을 참조하면, 본 발명의 접합구조체(50)의 제조방법은 제 1 패턴전극(32)을 포함하는 제 1 기판(31)의 제 1 패턴전극(32)이 형성된 면에 상기 접착제(10)를 위치시켜 가접합체(21)를 형성하는 단계(S310); 상기 제 1 기판(31)의 가접합체(21)가 형성된 면에 제 2 기판(41) 또는 마이크로소자(미도시)를 배치하는 단계(S320); 상기 접착제(10)에 포함된 솔더 입자(11)의 용융온도 이상의 온도로 가열하는 단계(S330); 및 상기 솔더 입자(11)가 상기 제 1 패턴전극(32) 및 제 2 패턴전극(42) 사이의 공간(제 1 영역; 51) 또는 제 1 패턴전극(32) 및 마이크로소자(미도시) 사이의 공간(51)에서 자기 조직화되어 접합부(22)를 형성하는 단계(S340)를 포함한다.7 and 8, in the method of manufacturing the
상기 이방성 도전 접착제(10)에 관한 설명은 상기 양태에서 설명한 것으로 갈음한다. The description of the anisotropic conductive adhesive 10 is replaced with that described in the above aspect.
먼저, 본 발명의 접합 구조체(50)의 제조방법은 제 1 패턴전극(32)을 포함하는 제 1 기판(31)의 제 1 패턴전극(32)이 형성된 면에 상기 접착제(10)를 위치시켜 가접합체(21)를 형성하는 단계(S310)를 포함한다. First, in the method of manufacturing the
구체적으로, 상기 가접합체(21)를 형성하는 단계(S310)는 상기 제 1 패턴전극(32)을 포함하는 기판(31)이 상기 이방성 도전 접착제(10)의 일면에 로딩되어 수행될 수 있다. 이때, 상기 제 1 기판(31)에 히터에 의해 20 ℃ 내지 120 ℃, 예를 들면, 20 ℃ 내지 70 ℃의 열과 0.01 MPa 내지 1 MPa의 미소 압력이 약 3 초 내지 5 초 동안 가해질 수 있는데, 상기 기판(31)에 가해진 열과 미소 압력은 상기 이방성 도전 접착제(10)에 전달되어, 가접합체(21)를 형성할 수 있다. Specifically, the step of forming the temporary assembly 21 ( S310 ) may be performed by loading the
다음으로, 본 발명의 접합 구조체(50)의 제조방법은 상기 제 1 기판(31)의 가접합체(21)가 형성된 면에 제 2 기판(41) 또는 마이크로소자(미도시)를 배치하는 단계(S320)를 포함한다.Next, the manufacturing method of the
본 발명의 일 실시예에서, 상기 제 1 기판(31)은 제 1 패턴(32)을 포함할 수 있으며, PCB(printed circuit board), FPCB(flexible PCB), IC기판, 글래스 기판 중 어느 하나일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. In one embodiment of the present invention, the
본 발명의 일 실시예에서, 상기 제 2 기판(41)은 제 2 패턴(42)을 포함할 수 있으며, PCB(printed circuit board), FPCB(flexible PCB), IC기판, 유리기판 중 어느 하나일 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다. In an embodiment of the present invention, the
또한, 상기 마이크로 소자는 마이크로 사이즈의 전자소자, 즉, 고체 내 전자의 전도를 이용한 전자 부품, 예를 들면 다이오드, 태양 전지, 트랜지스터, LED소자등을 의미한다. 상기 마이크로 소자는 전자의 전도가 가능한 전극을 포함할 수 있으며, 상기 마이크로 소자는 상기 전극을 포함함으로써, 본 발명의 이방성 도전 접착제(10)를 이용하여 본 발명의 접합구조체(50)을 제조할 수 있다. In addition, the micro device means a micro-sized electronic device, that is, an electronic component using the conduction of electrons in a solid, for example, a diode, a solar cell, a transistor, an LED device, and the like. The micro device may include an electrode capable of conducting electrons, and by including the electrode, the
본 발명의 일 실시예에서, 제 2 기판(41) 또는 마이크로소자(미도시)를 배치하는 단계(S320)에서, 상기 제 1 패턴전극(32)과 상기 제 2 패턴전극(42) 또는 상기 제 1 패턴전극(32)과 마이크로소자는 마주보며 정렬될 수 있고, 상기 제 1 영역(51)에 상기 접합부(22)가 형성될 수 있다.In an embodiment of the present invention, in the step (S320) of disposing the
다음으로, 본 발명의 접합 구조체(50)의 제조방법은 본 발명의 이방성 도전 접착제(10)에 포함된 솔더 입자(11)의 용융온도 이상의 온도로 가열하는 단계(S330)를 포함한다. Next, the method of manufacturing the
본 발명의 일 실시예에서, 상기 가열하는 단계(S330)는 본 발명의 이방성 도전 접착제(10)에 포함된 솔더 입자(11)의 융점보다 높은 온도, 예를 들면, 100 ℃ 내지 300 ℃에서 수행될 수 있고, 상기 공정의 온도는 상기 솔더 입자(11)의 융점에 따라 상이할 수 있으며, 상기 솔더 입자(11)의 융점에 의하여 선택하는 것이 바람직 하다. In one embodiment of the present invention, the heating step (S330) is performed at a temperature higher than the melting point of the
본 발명의 이방성 도전 접착제(10)은 열가소성 수지인 폴리실록산 수지, 실록산 아크릴레이트 올리고머, 반응억제제 및 상기 폴리실록산 수지 내에 분산된 상태로 위치하는 솔더 입자를 포함하여, 상기 가열하는 단계(S330)는 넓은 범위의 승온 속도 및 공정 시간에서 수행될 수 있다. 예를 들면, 상기 가열하는 단계(S330)의 승온 속도는 5 ℃/min 이상, 예를 들면, 5 ℃/min 내지 200 ℃/min일 수 있고, 상기 가열하는 단계(S330)는 1 분 내지 40 분 동안 수행될 수 있다.The anisotropic
본 발명의 일 실시예에서, 상기 가열 하는 단계(S330)는 가압하는 공정을 동시에 수행할 수 있다. 이때의 압력은 상기 기판(31)에 손상을 제공하지 않는 범위이면 특별히 제한되지 않지만, 0.01 MPa 내지 3.0 MPa일 수 있다.In one embodiment of the present invention, the heating step (S330) may be performed simultaneously with the pressing process. The pressure at this time is not particularly limited as long as it does not damage the
다음으로, 본 발명의 접합구조체(50)의 제조방법은 상기 솔더 입자(11)가 상기 제 1 패턴전극(32) 및 제 2 패턴전극(42) 사이의 공간(제 1 영역; 51) 또는 제 1 패턴전극(32) 및 마이크로소자(미도시) 사이의 공간(51)에서 자기 조직화되어 접합부(22)를 형성하는 단계(S340)를 포함한다.Next, in the method of manufacturing the
상기 접합부(22)를 형성하는 단계(S340)는 상기 솔더 입자(11)의 자기 조직화 공정을 이용하여 수행될 수 있고, 상기 자기 조직화 공정의 메커니즘은 상기 양태에서 설명한 것으로 갈음한다. The step of forming the joint portion 22 ( S340 ) may be performed by using the self-organizing process of the
본 발명의 이방성 도전 접착제(10)는 열가소성 수지인 폴리실록산 수지(12)를 접착 수지로 사용하는데, 상기 열가소성 수지인 폴리실록산수지(12)는 솔더입자의 금속산화물 제거를 위해 사용되는 환원제 또는 첨가제와의 반응에 의한 수지의 네트워크 형성 및 축합반응이 없다. 따라서, 반응억제를 위하여 특별히 불활성 분위기에서 진행할 필요 없이, 상기 가열하는 단계(S330); 및 상기 접합부(22)를 형성하는 단계(S340)를 대기 조건에서 수행할 수 있다.The anisotropic
전술한 본 발명의 설명은 예시를 위한 것이며, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 예를 들어, 단일형으로 설명되어 있는 각 구성 요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 마찬가지로 분산된 것으로 설명되어 있는 구성 요소들도 결합된 형태로 실시될 수 있다.The above description of the present invention is for illustration, and those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains can understand that it can be easily modified into other specific forms without changing the technical spirit or essential features of the present invention. will be. Therefore, it should be understood that the embodiments described above are illustrative in all respects and not restrictive. For example, each component described as a single type may be implemented in a dispersed form, and likewise components described as distributed may be implemented in a combined form.
본 발명의 범위는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.The scope of the present invention is indicated by the following claims, and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalents should be construed as being included in the scope of the present invention.
10: 이방성 도전 접착제
11: 솔더 입자
12: 폴리실록산 수지
20: 솔더 범프
21: 가접합체
22: 접합부
23: 이형필름
31: 기판, 제 1 기판
32: 패턴전극, 제 1 패턴전극
41: 제 2 기판
42: 제 2 패턴전극
50: 접합구조체
51: 제 1 영역
52: 제 2 영역
60: 비전도성 물질
70: 언더필 재료10: anisotropic conductive adhesive
11: Solder particles
12: polysiloxane resin
20: solder bump
21: temporary conjugate
22: junction
23: release film
31: substrate, first substrate
32: pattern electrode, first pattern electrode
41: second substrate
42: second pattern electrode
50: junction structure
51: first area
52: second area
60: non-conductive material
70: underfill material
Claims (19)
상기 폴리실록산 수지 내에 분산된 상태로 위치하는 솔더 입자, 실록산 아크릴레이트 올리고머 및 반응억제제를 포함하는 이방성 도전 접착제.polysiloxane resin which is a thermoplastic resin; and
An anisotropic conductive adhesive comprising solder particles dispersed in the polysiloxane resin, a siloxane acrylate oligomer, and a reaction inhibitor.
상기 폴리실록산 수지는 평균 분자량이 10,000 내지 100,000인 것을 특징으로 하는 이방성 도전 접착제.The method of claim 1,
The polysiloxane resin is an anisotropic conductive adhesive, characterized in that the average molecular weight is 10,000 to 100,000.
상기 반응억제제는 폐놀계 화합물, 인계 화합물 및 이들의 조합으로 구성된 군으로부터 선택되는 어느 하나의 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 이방성 도전 접착제.The method of claim 1,
The reaction inhibitor is an anisotropic conductive adhesive comprising any one compound selected from the group consisting of phenol-based compounds, phosphorus-based compounds, and combinations thereof.
상기 솔더 입자는 자연 산화막보다 얇은 두께의 제 2 산화막을 포함하는 것을 특징으로 하는 이방성 도전 접착제.The method of claim 1,
The solder particles are anisotropic conductive adhesive, characterized in that it comprises a second oxide film having a thickness thinner than that of the native oxide film.
상기 솔더 입자는 Sn, Ag, Cu, Bi, In 및 이들의 합금으로 구성된 군으로부터 선택된 적어도 하나의 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 이방성 도전 접착제.The method of claim 1,
The solder particles are anisotropic conductive adhesive comprising at least one material selected from the group consisting of Sn, Ag, Cu, Bi, In, and alloys thereof.
상기 솔더 입자는 상기 이방성 도전 접착제 100 질량부에 대하여 20 질량부 내지 80 질량부로 포함되는 것을 특징으로 하는 이방성 도전 접착제.The method of claim 1,
The solder particles are anisotropic conductive adhesive, characterized in that included in an amount of 20 parts by mass to 80 parts by mass based on 100 parts by mass of the anisotropic conductive adhesive.
상기 이방성 도전 접착제는 환원제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 이방성 도전 접착제.The method of claim 1,
The anisotropic conductive adhesive further comprises a reducing agent.
패턴전극을 포함하는 기판의 패턴전극이 형성된 면에 상기 접착제를 위치시켜 가접합체를 형성하는 단계;
상기 접착제에 포함된 솔더 입자의 용융온도 이상의 온도로 가열하는 단계; 및
상기 용융된 솔더 입자가 상기 패턴전극상에 자기 조직화되어 솔더 범프를 형성하는 단계;
를 포함하는 솔더 범프의 형성방법.In the method of forming a solder bump using the anisotropic conductive adhesive of claim 1,
forming a temporary assembly by locating the adhesive on the surface of the substrate including the patterned electrode on which the patterned electrode is formed;
heating to a temperature greater than or equal to the melting temperature of the solder particles included in the adhesive; and
self-organizing the molten solder particles on the pattern electrode to form solder bumps;
A method of forming a solder bump comprising a.
상기 가열하는 단계는 5 ℃/min 이상의 승온 속도로 수행되는 것을 특징으로 하는 솔더 범프의 형성방법.9. The method of claim 8,
The heating step is a method of forming a solder bump, characterized in that performed at a temperature increase rate of 5 °C / min or more.
상기 가열하는 단계는, 가압하는 공정을 동시에 수행하는 것을 특징으로 하는 솔더 범프의 형성방법.9. The method of claim 8,
In the heating step, a method of forming a solder bump, characterized in that simultaneously performing a pressing process.
상기 솔더 범프를 형성하는 단계 이후, 상기 접착제에 포함된 폴리실록산 수지 및 잔류 솔더 입자를 제거하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 솔더 범프의 형성방법.9. The method of claim 8,
After the forming of the solder bumps, the method further comprising the step of removing the polysiloxane resin and residual solder particles contained in the adhesive.
제 1 패턴전극상에 상기 솔더 범프가 형성된 제 1 기판을 준비하는 단계;
상기 제 1 기판의 솔더 범프가 형성된 면과 마주보는 면에 제 2 기판 또는 마이크로소자를 배치하는 단계;
상기 솔더 범프에 포함된 솔더 입자의 용융온도 이상의 온도로 가열하는 단계; 및
상기 솔더 입자가 상기 제 1 패턴전극 및 제 2 패턴전극 사이의 공간 또는 제 1 패턴전극 및 마이크로소자 사이의 공간에서 자기 조직화되어 접합부를 형성하는 단계;
를 포함하는 접합구조체의 제조방법.In the manufacturing method of the bonding structure using the solder bump formed by the forming method of claim 8,
preparing a first substrate on which the solder bumps are formed on a first pattern electrode;
disposing a second substrate or microdevice on a surface of the first substrate facing the surface on which the solder bumps are formed;
heating to a temperature greater than or equal to the melting temperature of the solder particles included in the solder bumps; and
forming a junction by self-organizing the solder particles in a space between the first pattern electrode and the second pattern electrode or in a space between the first pattern electrode and the micro device;
A method of manufacturing a junction structure comprising a.
상기 가열하는 단계는 5 ℃/min 이상의 승온 속도로 수행되는 것을 특징으로 하는 접합구조체의 제조방법.13. The method of claim 12,
The heating step is a method of manufacturing a bonded structure, characterized in that it is performed at a temperature increase rate of 5 °C / min or more.
상기 가열하는 단계는, 가압하는 공정을 동시에 수행하는 것을 특징으로 하는 접합구조체의 제조방법..13. The method of claim 12,
In the heating step, a method of manufacturing a bonding structure, characterized in that simultaneously performing a pressurizing step.
상기 제 1 기판을 준비하는 단계; 및 제 2 기판 또는 마이크로소자를 배치시키는 단계 사이에,
상기 솔더 범프가 형성된 제 1 기판의 솔더 범프가 형성된 면에 비전도성 접착제를 위치시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 접합구조체의 제조방법.13. The method of claim 12,
preparing the first substrate; and placing the second substrate or microdevice,
and placing a non-conductive adhesive on the surface on which the solder bumps are formed of the first substrate on which the solder bumps are formed.
상기 접합부를 형성하는 단계 이후에,
상기 제 1 기판 및 제 2 기판 사이; 또는 제 1 기판 및 마이크로소자 사이에서 상기 접합부를 제외한 공간에 언더필 재료를 충진하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 접합구조체의 제조방법. 13. The method of claim 12,
After the step of forming the junction,
between the first and second substrates; or filling a space between the first substrate and the micro device except for the bonding portion with an underfill material.
제 1 패턴전극을 포함하는 제 1 기판의 제 1 패턴전극이 형성된 면에 상기 접착제를 위치시켜 가접합체를 형성하는 단계;
상기 제 1 기판의 가접합체가 형성된 면에 제 2 기판 또는 마이크로소자를 배치하는 단계;
상기 접착제에 포함된 솔더 입자의 용융온도 이상의 온도로 가열하는 단계; 및
상기 솔더 입자가 상기 제 1 패턴전극 및 제 2 패턴전극 사이의 공간 또는 제 1 패턴전극 및 마이크로소자 사이의 공간에서 자기 조직화되어 접합부를 형성하는 단계;
를 포함하는 접합구조체의 제조방법.In the method for manufacturing a bonding structure using the anisotropic conductive adhesive of claim 1,
forming a temporary assembly by locating the adhesive on the surface of the first substrate including the first pattern electrode on which the first pattern electrode is formed;
disposing a second substrate or microdevice on the surface of the first substrate on which the temporary assembly is formed;
heating to a temperature greater than or equal to the melting temperature of the solder particles included in the adhesive; and
forming a junction by self-organizing the solder particles in a space between the first pattern electrode and the second pattern electrode or in a space between the first pattern electrode and the micro device;
A method of manufacturing a junction structure comprising a.
상기 가열하는 단계는 5 ℃/min 이상의 승온 속도로 수행되는 것을 특징으로 하는 접합구조체의 제조방법.18. The method of claim 17,
The heating step is a method of manufacturing a bonded structure, characterized in that it is performed at a temperature increase rate of 5 °C / min or more.
상기 가열하는 단계는, 가압하는 공정을 동시에 수행하는 것을 특징으로 하는 접합구조체의 제조방법.18. The method of claim 17,
In the heating step, a method of manufacturing a bonding structure, characterized in that simultaneously performing a pressurizing step.
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