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KR102312330B1 - 기판지지유닛 - Google Patents

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KR102312330B1
KR102312330B1 KR1020180111191A KR20180111191A KR102312330B1 KR 102312330 B1 KR102312330 B1 KR 102312330B1 KR 1020180111191 A KR1020180111191 A KR 1020180111191A KR 20180111191 A KR20180111191 A KR 20180111191A KR 102312330 B1 KR102312330 B1 KR 102312330B1
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susceptor
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fastening
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plate
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주식회사 테스
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Abstract

본 발명은 기판지지유닛에 대한 것으로서, 보다 상세하게는 기판을 지지하는 서셉터를 접지시키는 경우에 접지면적을 늘리고 단선문제를 해결하며, 나아가 플라즈마를 이용하여 기판에 대한 처리공정을 수행하는 경우에 플라즈마에 의한 박막 손상을 줄일 수 있는 기판지지유닛에 대한 것이다.

Description

기판지지유닛 {Substrate supporting unit}
본 발명은 기판지지유닛에 대한 것으로서, 보다 상세하게는 기판을 지지하는 서셉터를 접지시키는 경우에 접지면적을 늘리고 단선문제를 해결하며, 나아가 플라즈마를 이용하여 기판에 대한 처리공정을 수행하는 경우에 플라즈마에 의한 박막 손상을 줄일 수 있는 기판지지유닛에 대한 것이다.
일반적으로 기판처리장치의 경우 챔버 내측에 배치되어 기판을 지지하며 상하로 이동하는 서셉터와, 상기 기판을 향해 공정가스 등을 공급하는 가스공급부를 구비하게 된다.
이 경우, 상기 기판에 대한 처리공정을 수행하는 경우에 플라즈마화 되어 높은 에너지를 갖는 공정가스를 이용하여 공정을 수행할 수 있다. 이때, 상기 챔버의 내측 상부에 위치한 상기 가스공급부에 고주파 전원이 연결될 수 있으며, 하부에 위치한 서셉터를 접지시킬 수 있다.
종래기술에서는 전술한 바와 같이 서셉터를 접지시키는 경우에 상하로 이동하는 서셉터의 움직임을 고려하여 서셉터의 가장자리와 챔버의 베이스를 금속 스트랩(strap) 등을 이용하여 연결하여 접지시키게 된다.
한편, LCD(Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Display Panel) 및 OLED(Organic Light Emitting Diodes) 등의 평면디스플레이는 점차로 대형화, 대면적화되고 있으며, 이에 따라 기판을 지지하는 서셉터도 마찬가지로 대면적화되고 있다. 이와 같이 대면적화된 서셉터를 접지시키는 경우에 종래기술의 경우 더 많은 개수의 스트랩을 필요로 하게 된다.
도 6은 종래기술에 따라 스트랩(17)을 이용하여 서셉터를 접지시키는 구성을 도시한 도면이다.
도 6에 도시된 바와 같이 종래기술에서는 서셉터(13)의 가장자리 하면을 따라 복수개의 스트랩(17)을 배치하고, 이러한 스트랩(17)이 챔버의 베이스와 연결되어 접지를 하게 된다.
하지만, 종래기술과 같이 스트랩을 이용하는 접지방식은 서셉터와 스트랩 사이의 접촉 면적의 부족으로 인해 접지 효율이 크지 않고 장기간 사용 시 경화되어 단선되는 문제점을 수반한다.
1. 대한민국 공개특허 제10-2017-0137389호
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 기판을 지지하는 서셉터와 접지부 사이의 접촉면적을 넓힘으로써 접지 효율을 향상시킬 수 있는 기판지지유닛을 제공하는 것을 목적으로 한다.
나아가 본 발명은 장기간 사용 시에도 접지부의 단선 등의 내구성 문제를 방지할 수 있는 기판지지유닛을 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기와 같은 본 발명의 목적은 기판이 안착되며, 하면 중앙부에 연결된 구동바에 의해 상하로 이동하는 서셉터, 상기 서셉터의 하면에서 상기 구동바에서 미리 결정된 거리만큼 이격되어 상기 서셉터를 지지하며 상기 서셉터와 전기적으로 연결되는 서셉터 지지부 및 상기 서셉터 지지부를 통해 접지경로를 구성하는 접지부를 구비하는 것을 특징으로 하는 기판지지유닛에 의해 달성된다.
여기서, 상기 서셉터 지지부의 상단부와 상기 서셉터 하면을 전기적으로 연결시키는 체결부를 더 구비할 수 있다.
이때 상기 체결부는 상기 서셉터가 열팽창을 하는 경우에 열팽창을 허용하도록 상기 서셉터 지지부의 상단부와 상기 서셉터 하면을 연결시킬 수 있다.
예를 들어, 상기 체결부는 상기 서셉터의 하면에 전기적으로 연결되며 상기 서셉터의 열팽창 방향을 따라 형성된 체결홀을 구비하는 체결플레이트와, 상기 체결홀을 관통하여 상기 서셉터의 하면에 체결되는 체결부재를 구비할 수 있다.
이 경우, 상기 서셉터와 상기 체결플레이트가 서로 맞닿는 면은 절연막이 형성되지 않을 수 있다.
한편, 상기 서셉터 지지부는 상기 체결부와 전기적으로 연결되어 상기 서셉터의 하면을 지지하는 복수개의 지지바와, 상기 기판에 대한 공정을 진행하는 챔버의 외부에서 상기 지지바의 하단부에 연결되어 상하로 이동하는 지지플레이트를 구비하고, 상기 접지부는 상기 지지플레이트 또는 상기 지지바를 접지시킬 수 있다.
전술한 구성을 가지는 본 발명에 따르면, 대면적화된 서셉터를 지지하는 서셉터 지지부를 이용하여 접지를 하게 됨으로써, 서셉터와 접지부 사이의 접촉면적을 넓힐 수 있게 되며, 이로 인해 접지 효율을 향상시킬 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 서셉터의 접지 면적을 넓힘으로써 기판 표면과 플라즈마 영역 사이에 DC 바이어스 전압(DC bias voltage)을 낮추어 이온 반응성을 저하시켜 기판 표면에 대한 플라즈마 손상을 줄일 수 있다.
나아가 본 발명에 따르면 종래기술의 스트랩을 대신하여 서셉터 지지부를 이용하여 접지를 하게 되므로, 장기간 사용 시에도 단선 등의 문제를 방지할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판지지유닛을 구비한 기판처리장치의 측단면도,
도 2는 서셉터를 아래쪽에서 바라본 도면,
도 3은 일 실시예에 따른 체결부의 구성을 상세히 도시한 일부 확대 단면도
도 4는 체결플레이트를 아래에서 바라본 도면,
도 5는 다른 실시예에 따른 체결부의 구성을 상세히 도시한 일부 확대 단면도
도 6은 종래기술에 따라 스트랩을 이용하여 접지한 구성을 도시한 도면이다.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 기판지지유닛의 구조에 대해서 상세하게 살펴보도록 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판지지유닛(900)을 구비한 기판처리장치(1000)의 측단면도이다.
도 1을 참조하면, 상기 기판처리장치(1000)는 기판(W)이 처리되는 처리공간(123)을 제공하는 챔버(100)를 구비할 수 있다.
상기 챔버(100)는 챔버몸체(120)와 상기 챔버몸체(120)의 개구된 상부를 밀폐하는 챔버리드(110)를 구비할 수 있다.
상기 챔버(100)의 내부에는 상기 기판(W)을 향해 공정가스 등을 공급하는 가스공급부(200)를 구비할 수 있다.
상기 가스공급부(200)는 상기 챔버(100) 내부에 마련되는 백킹플레이트(210)와 상기 백킹플레이트(210)의 하부에 구비되어 상기 기판(W)을 향해 공정가스 등을 공급하는 샤워헤드(220)를 구비할 수 있다.
상기 기판(W)에 대한 각종 공정, 예를 들어 증착공정 등을 수행하는 경우에 외부의 고주파 전원(600)에 의해 플라즈마화 되어 높은 에너지를 갖는 증착물질인 공정가스를 기판상으로 증착시킬 수 있다.
이 경우, 전술한 백킹플레이트(210)에 상기 고주파 전원(600)이 연결되어 상부 전극의 역할을 할 수 있으며, 후술하는 서셉터(310)가 접지되어 하부 전극의 역할을 할 수 있다.
그런데, LCD(Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Display Panel) 및 OLED(Organic Light Emitting Diodes) 등의 평면디스플레이는 점차로 대형화, 대면적화되고 있으며, 이에 따라 백킹플레이트(210), 샤워헤드(220) 및 서셉터(310)도 마찬가지로 대면적화되고 있다.
이 경우, 대면적화된 백킹플레이트(210)와 샤워헤드(220)를 안정적으로 지지하는 것이 필요하다. 이를 위하여, 상기 백킹플레이트(210)는 상기 챔버몸체(120)의 내벽에 연결되어 지지될 수 있다. 예를 들어, 상기 챔버몸체(120)의 내벽에서 돌출 형성된 돌출부(122)에 의해 상기 백킹플레이트(210)의 가장자리가 지지되고, 상기 백킹플레이트(210)의 하면에 상기 샤워헤드(220)가 미리 결정된 거리만큼 이격되어 연결될 수 있다.
따라서, 상기 샤워헤드(220)와 상기 백킹플레이트(210) 사이에 이격공간부(230)가 형성된다. 공정가스 공급원(500)에서 공급되는 공정가스는 상기 이격공간부(230)로 공급되어 상기 샤워헤드(220)를 통해 상기 기판(W)을 향해 공급된다.
이때, 상기 샤워헤드(220)에는 미세한 크기의 복수개의 관통공(222)이 형성될 수 있다. 상기 이격공간부(230)로 공급된 공정가스는 상기 관통공(222)을 통해 상기 기판(W)을 향해 공급된다.
한편, 상기 샤워헤드(220)는 기판(W) 상에 증착되는 증착막의 균일도 유지를 위해 상기 기판(W)이 로딩된 서셉터(310)와 실질적으로 나란하게 평행하게 배치되며, 상기 서셉터(310)와의 간격 역시 적절하게 조절될 수 있다.
한편, 상기 챔버(100)의 내부의 처리공간(123)의 하부에는 상기 기판(W)을 지지하는 기판지지유닛(900)을 구비할 수 있다.
상기 기판지지유닛(900)은 상기 기판(W)이 안착되며, 하면 중앙부에 연결된 구동바(320)에 의해 상하로 이동하는 서셉터(310)와, 상기 서셉터(310)의 하면에서 상기 구동바(320)에서 소정거리 이격되어 상기 서셉터(310)를 지지하는 서셉터 지지부(460)와, 상기 서셉터 지지부(460)의 상단부와 상기 서셉터(310) 하면을 전기적으로 연결시키는 체결부(410A, 410B) 및 상기 서셉터 지지부(460)를 접지시키는 접지부(700)를 구비할 수 있다.
본 실시예에 따른 기판지지유닛(900)은 상기 서셉터(310)를 접지시키는 경우에 서셉터 지지부(460)를 이용하여 접지시킴으로써 단선문제를 해결하고, 또한 접지면적을 종래기술에 비해 늘림으로써 플라즈마에 의한 막질 저하를 줄일 수 있다.
구체적으로, 상기 기판(W)은 상기 서셉터(310)의 상면에 안착될 수 있다. 이 경우, 상기 서셉터(310)의 하면 중앙부에는 상기 서셉터(310)를 상하로 미리 결정된 거리만큼 이동시키는 구동바(320)가 연결된다. 상기 구동바(320)는 상기 서셉터(310)와 별도의 부재로 구성되거나, 또는 일체로 형성되는 것도 가능하다.
상기 구동바(320)는 상기 챔버(100)의 베이스(121)를 관통하여 연장되며, 상기 챔버(100)의 외측에서 제1 벨로우즈(330)에 의해 둘러싸이게 배치된다. 예를 들어, 상기 구동바(320)의 하단부와 제1 벨로우즈(330)의 하단부는 구동플레이트(340)와 연결될 수 있으며, 이에 의해 상기 챔버(100) 내부의 진공 상태를 유지할 수 있다.
상기 구동바(320)는 하단부의 상기 구동플레이트(340)가 모터 등과 같은 구동원(미도시)에 연결되어 상하로 이동하게 되며, 이에 따라 상기 서셉터(310)도 상하로 이동하게 된다.
증착공정 등과 같이 상기 기판(W)에 대한 처리공정을 수행하기에 앞서 상기 서셉터(310)는 전술한 샤워헤드(220)를 향해 상승하게 된다. 이때 상기 서셉터(310)와 전술한 샤워헤드(220) 사이의 거리는 미리 정해질 수 있으며, 이에 따라 상기 서셉터(310)의 상승높이가 결정된다.
한편, 전술한 바와 같이 평면디스플레이의 대형화, 대면적화에 따라 상기 서셉터(310)의 크기도 대형화, 대면적화 될 수 있으며, 이에 따라 그 하중도 증가하게 된다.
따라서, 상기 서셉터(310)의 중앙부 하면에 위치한 구동바(320)에 의해 전술한 바와 같이 대면적화된 서셉터를 지지하게 되면, 상기 서셉터(310)의 중앙부에서 이격된 영역 또는 가장자리 영역이 아래를 향해 처지게 될 수 있다. 이 경우, 상기 서셉터(310)에 안착된 상기 기판(W)과 상기 샤워헤드(220) 사이의 거리가 변화하게 되어 상기 기판(W)에 증착되는 박막의 품질이 저하될 수 있다.
이러한 문제점을 해결하기 위하여 상기 서셉터(310)의 하면을 지지하는 서셉터 지지부(460)를 구비하게 된다.
상기 서셉터 지지부(460)는 상기 체결부(410A, 410B)와 전기적으로 연결되어 상기 서셉터(310)의 하면을 지지하는 복수개의 지지바(400A, 400B)와, 상기 지지바(400A, 400B)의 하단부에 연결되어 상하로 이동하는 지지플레이트(440)를 구비할 수 있다.
상기 복수개의 지지바(400A, 400B)는 상기 서셉터(310)의 하면을 지지하게 되며, 이때 상기 구동바(320)에서 미리 결정된 거리만큼 이격되어 상기 서셉터(310)의 하면을 지지하게 된다.
또한, 상기 서셉터(310)가 어느 한쪽 방향으로 기울어지는 것을 방지하기 위하여 상기 복수개의 지지바(400A, 400B)는 상기 구동바(320)를 중심으로 대칭적으로 배치되어 상기 서셉터(310)를 지지하는 것이 바람직하다.
예를 들어, 상기 복수개의 지지바(400A, 400B)의 하단부는 상기 챔버(100)의 베이스(121)를 관통하여 연장되며, 상기 챔버(100)의 외측에서 제2 벨로우즈(420A, 420B)에 의해 둘러싸이게 배치된다.
예를 들어, 상기 지지바(400A, 400B)의 하단부와 상기 제2 벨로우즈(420A, 420B)의 하단부는 지지플레이트(440)와 연결될 수 있으며, 이에 의해 상기 챔버(100) 내부의 진공 상태를 유지할 수 있다.
한편, 전술한 구동플레이트(340)와 상기 지지플레이트(440)는 별도의 부재로 도시되지만 일체로 형성될 수도 있다. 상기 구동플레이트(340)와 상기 지지플레이트(440)가 일체로 형성되는 경우에 상기 구동바(320)와 지지바(400A, 400B)가 함께 상승 및 하강할 수 있다.
상기 지지플레이트(440)가 모터 등과 같은 구동원(미도시)에 연결되어 상하로 이동하게 되며, 이에 따라 상기 지지바(400A, 400B)도 상하로 이동하게 된다.
한편, 상기 지지플레이트(440)는 상기 챔버(100)의 외부에 배치되어 상하로 이동할 수 있다.
전술한 구성에서 상기 서셉터 지지부(460)의 상단부는 체결부(410A, 410B)를 통해 상기 서셉터(310)의 하면에 연결되어 상기 서셉터(310)를 지지하게 되며, 이때 상기 체결부(410A, 410B)는 상기 서셉터 지지부(460)와 상기 서셉터(310)를 전기적으로 연결시키게 된다.
도 2는 상기 서셉터(310)를 아래쪽에서 바라본 도면이다.
도 2를 참조하면, 상기 체결부(410A, 410B, 410C, 410D)는 상기 서셉터(310)의 하면에 4개가 연결되는 것으로 도시되는데, 이는 일예에 불과하며 상기 체결부(410A, 410B, 410C, 410D)의 개수 및 위치는 적절하게 변형될 수 있다.
상기 체결부(410A, 410B, 410C, 410D)는 상기 구동바(320)를 중심으로 대칭적으로 배치되어, 상기 지지바(400A, 400B, 400C, 400D)에 의해 상기 서셉터(310)를 지지하는 경우에 상기 서셉터(310)가 어느 한쪽으로 기울어지지 않도록 한다.
한편, 전술한 바와 같이 상기 서셉터(310)가 대면적화되는 경우에 상기 기판(W)에 대한 공정 중에 공정온도에 의해 가열되어 열팽창을 할 수 있다. 이때, 상기 체결부가 상기 서셉터 지지부(460)와 상기 서셉터(310)의 하면을 연결하는 경우에 상대이동이 가능하지 않도록 연결된다면 상기 서셉터(310)가 열팽창하는 경우에 상기 체결부에 파손 등이 발생하여 파티클의 원인이 될 수 있으며, 고장 및 파손을 발생시킬 수 있다.
본 실시예의 경우 이러한 문제점을 해결하기 위하여 상기 체결부(410A, 410B)는 상기 서셉터(310)가 열팽창을 하는 경우에 열팽창을 허용하면서 상기 서셉터 지지부(460)의 상단부와 상기 서셉터(310)의 하면을 연결시키게 된다.
도 3은 상기 체결부(410A) 중에 어느 하나의 구성을 상세히 도시한 일부 확대 단면도이다.
도 3을 참조하면, 상기 체결부(410A)는 상기 서셉터(310)의 하면에 전기적으로 연결되며 상기 서셉터(310)의 열팽창 방향을 따라 미리 결정된 길이만큼 연장된 체결홀(412A)이 형성된 체결플레이트(430)와, 상기 체결홀(412A)을 관통하여 상기 서셉터(310)의 하면에 체결되는 체결부재(450)를 구비할 수 있다.
상기 체결플레이트(430)는 상기 서셉터(310)의 하면에 연결된다. 상기 체결플레이트(430)는 상기 서셉터(310)와 상기 지지바(400A)를 전기적으로 연결시키게 되므로 알루미늄 등과 같이 전기전도성을 가지는 금속 재질 등으로 제작될 수 있다. 또한, 상기 서셉터(310)와 상기 지지바(400A)도 마찬가지로 알루미늄 등과 같이 전기전도성을 가지는 금속 재질 등으로 제작될 수 있다. 이 경우, 도 3에서 상기 체결플레이트(430)는 상기 지지바(400A)와 별도의 부재로 도시되지만 이에 한정되지는 않으며 일체로 형성될 수도 있다.
한편, 상기 체결플레이트(430)는 체결부재(450)에 의한 체결공간을 제공하고 상기 서셉터(310)와의 접촉면적을 넓히기 위하여 상기 지지바(400A)에 비해 상대적으로 더 넓은 단면적을 가질 수 있다. 이 경우, 상기 체결플레이트(430)가 상기 서셉터(310)와 접촉되는 면적은 종래기술에 따른 스트랩을 이용한 접촉면적에 비해 현저히 크게 되며, 이에 따라 접지 효율을 향상시켜 플라즈마에 의해 증착되는 박막 두께의 균일성을 확보할 수 있다.
한편, 상기 체결플레이트(430)를 상기 서셉터(310)의 하면에 연결시키는 경우에 상기 체결플레이트(430)의 상면이 상기 서셉터(310)의 하면에 밀착하지 않고 서로 이격될 수 있다. 이 경우, 상기 체결플레이트(430)와 상기 서셉터(310)의 접촉면적이 줄어들 수 있다.
따라서, 상기 체결플레이트(430)와 상기 서셉터(310)의 하면을 밀착시키는 체결부재(450)를 구비하게 된다. 상기 체결부재(450)는 예를 들어 볼트 등으로 구비되어, 상기 체결플레이트(430)와 상기 서셉터(310)의 하면을 밀착시키게 된다.
이 경우, 상기 체결부재(450)는 상기 체결플레이트(430)와 상기 서셉터(310)의 하면을 연결시키는 동시에 상기 서셉터(310)가 열팽창을 하는 경우에 열팽창을 허용하도록 연결될 수 있다.
도 4는 상기 체결플레이트(430)를 아래에서 바라본 도면이다.
도 3 및 도 4를 참조하면, 상기 체결플레이트(430)에는 상기 서셉터(310)의 열팽창 방향을 따라 형성된 체결홀(412A)을 구비할 수 있다.
여기서, 상기 서셉터(310)의 열팽창 방향은 상기 서셉터(310)의 중앙부에서 가장자리를 향해 방사상으로 연장된 방향으로 정의되거나, 또는 상기 서셉터(310)가 직사각형으로 형성되는 경우에는 상대적으로 더 긴 장변(長邊)을 따라 평행한 방향으로도 정의될 수 있다.
한편, 상기 체결부재(450)가 몸통부(452)를 구비하는 경우에 상기 체결홀(412A)은 도면에 도시된 바와 같이 상기 몸통부(452)에 비해 더 큰 단면적을 가질 수 있다.
예를 들어, 상기 체결홀(412A)은 장공 형태로 도시되지만, 이에 한정되지는 않으며 타원형 또는 곡선형으로 미리 결정된 길이만큼 연장되어 형성될 수 있다. 이하, 상기 체결홀(412A)이 장공 형태로 도시된 경우를 상정하여 설명한다.
상기 체결홀(412A)이 장공 형태로 길게 연장되므로 상기 체결부재(450)에 의해 상기 체결플레이트(430)와 상기 서셉터(310)의 하면을 연결하는 경우에도 상기 서셉터(310)의 열팽창을 허용하면서 상기 서셉터(310)와 체결플레이트(430)가 연결상태를 유지할 수 있다.
즉, 상기 체결부재(450)의 몸통부(452)는 그 하단부에만 나사산(454)이 형성되어 제공될 수 있다. 따라서, 상기 체결부재(450)는 상기 체결홀(412A)에는 체결되지 않고 단지 관통하여 지나도록 배치되며, 상기 체결부재(450)의 몸통부(452)의 단부에만 형성된 나사산(454)이 상기 서셉터(310)의 하면에 체결되어 연결될 수 있다.
따라서, 상기 서셉터(310)가 열팽창을 하는 경우에 상기 체결부재(450)는 상기 서셉터(310)의 열팽창 방향을 따라 상기 체결홀(412A)의 내부에서 이동할 수 있게 된다.
한편, 일반적으로 상기 서셉터(310) 및 체결플레이트(430)의 표면은 절연을 위하여 애노다이징(anodizing)과 같은 표면처리 등을 통해 절연막(미도시)이 형성될 수 있다. 본 발명에서는 종래기술에 따른 기판처리장치 또는 기판지지유닛에서 전혀 고려하지 않았던 서셉터 지지부를 통한 접지 구조를 채용하게 되므로 상기 체결플레이트(430)가 상기 서셉터(310)에 연결되는 경우에 전기적으로 연결되는 것이 필요하게 된다.
따라서, 상기 체결부(410A)를 연결하기에 앞서서 상기 서셉터(310)와 상기 체결플레이트(430)가 서로 맞닿는 면에 절연막(미도시)이 형성되지 않도록 하는 것이 필요하다.
이 경우, 상기 체결플레이트(430)가 연결되는 상기 서셉터(310)의 하면 영역 및 상기 체결플레이트(430)의 상면에 처음부터 표면처리를 하지 않거나, 또는 표면처리된 절연막을 제거할 수 있다.
도 5는 다른 실시예에 따른 상기 체결부(410A) 중에 어느 하나의 구성을 상세히 도시한 일부 확대 단면도이다.
도 5를 참조하면, 본 실시예의 경우 상기 서셉터(310)의 하면에 상부를 향해 함몰된 함몰부(312)가 형성될 수 있다.
이때, 상기 함몰부(312)의 내측에 전술한 체결플레이트(430)가 삽입될 수 있다. 예를 들어, 상기 함몰부(312)에 상기 체결플레이트(430)의 상단부의 일부가 삽입되어 연결된다.
상기 함몰부(312)는 상기 체결플레이트(430)에 비해 상대적으로 더 큰 크지를 가질 수 있다. 즉, 상기 서셉터(310)의 열팽창을 허용하기 위하여 상기 함몰부(312)는 상기 서셉터(310)의 열팽창 방향을 따라 팽창 여유 공간(313)을 가지도록 형성될 수 있다.
따라서, 상기 서셉터(310)가 열팽창을 하는 경우에 상기 팽창 여유 공간(313)으로 인해 상기 함몰부(312)가 상기 체결플레이트(430)에 간섭되지 않고 상기 서셉터(310)의 열팽창을 허용할 수 있다.
상기 함몰부(312)를 형성하는 경우에 상기 체결플레이트(430)를 상기 함몰부(312)에 삽입하여 연결함으로써 상기 체결플레이트(430)의 연결위치를 결정하여 상기 체결플레이트(430)를 용이하게 연결할 수 있다.
이 경우, 도 5에서 상기 서셉터(310)의 하면에 형성된 함몰부(312)의 측벽 영역과 천장 영역의 절연막이 형성되지 않도록 할 수 있으며, 상기 체결플레이트(430)의 상면과 측면의 상부 일부의 절연막도 형성되지 않도록 한다.
한편, 도 1을 참조하면 상기 서셉터 지지부(460)는 접지부(700)에 의해 접지될 수 있다. 상기 접지부(700)는 상기 지지플레이트(440) 또는 상기 지지바(400A, 400B)를 접지시킬 수 있다.
이때, 상기 지지바(400A, 400B)를 스트랩 등을 이용하여 챔버(100)와 연결시켜 접지시키게 되면, 전술한 종래 기술과 유사한 문제점이 발생할 수 있다.
또한, 상기 챔버(100)의 내측은 공정 중에 진공 또는 진공에 가까운 압력 상태를 유지하게 되므로, 상기 챔버(100)의 내측에 배치된 서셉터 지지부(460)를 챔버(100) 외부로 연결시켜 접지시키게 된다면 챔버(100) 내부의 진공상태를 유지하기 위한 별도의 구성을 필요로 하게 된다.
따라서, 본 실시예의 경우 전술한 문제점을 해결하기 위하여 상기 접지부(700)는 상기 지지플레이트(440)를 접지시키도록 배치될 수 있다.
상기 지지플레이트(440)는 전술한 바와 같이 상기 챔버(100)의 외부에서 상기 지지바(400A, 400B)의 하단부와 연결되며, 상기 지지플레이트(440)가 배치된 공간은 진공 상태의 압력이 아니라 상압 상태를 유지하게 된다.
따라서, 상기 지지플레이트(440)를 접지시키는 경우에 진공상태를 유지하기 위한 별도의 구성을 필요로 하지 않으며, 또한 종래기술에 따른 스트랩에 비해 단면적이 현저히 큰 케이블 등을 이용하여 접지를 시키게 되면 종래기술에 따른 문제점을 해결할 수 있게 된다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시 예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술분야의 당업자는 이하에서 서술하는 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경 실시할 수 있을 것이다. 그러므로 변형된 실시가 기본적으로 본 발명의 특허청구범위의 구성요소를 포함한다면 모두 본 발명의 기술적 범주에 포함된다고 보아야 한다.
100 : 챔버
200 : 가스공급부
310 : 서셉터
410 : 체결부
460 : 서셉터 지지부
500 : 공정가스 공급원
600 : 고주파 전원
700 : 접지부
900 : 기판지지유닛
1000 : 기판처리장치

Claims (6)

  1. 기판이 처리되는 처리공간을 제공하는 챔버에 구비되는 기판지지유닛에 있어서,
    상기 챔버 내측에 구비되어 상기 기판이 안착되며, 하면 중앙부에 연결된 구동바에 의해 상하로 이동하는 서셉터;
    상기 서셉터의 하면에서 상기 구동바에서 미리 결정된 거리만큼 이격되어 상기 서셉터를 지지하며 상기 서셉터와 전기적으로 연결되는 서셉터 지지부; 및
    상기 서셉터 지지부를 통해 접지경로를 구성하는 접지부;를 구비하고,
    상기 서셉터 지지부의 상단부와 상기 서셉터 하면을 전기적으로 연결시키는 체결부를 더 구비하고, 상기 서셉터 지지부는 상기 체결부와 전기적으로 연결되어 상기 서셉터의 하면을 지지하는 복수개의 지지바와, 상기 기판에 대한 공정을 진행하는 챔버의 외부에서 상기 지지바의 하단부에 연결되어 상하로 이동하는 지지플레이트를 구비하고,
    상기 접지부는 상기 챔버의 외측에서 상기 지지플레이트와 상시 전기적으로 연결되어 접지시키는 것을 특징으로 하는 기판지지유닛.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서,
    상기 체결부는 상기 서셉터가 열팽창을 하는 경우에 열팽창을 허용하도록 상기 서셉터 지지부의 상단부와 상기 서셉터 하면을 연결시키는 것을 특징으로 하는 기판지지유닛.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 체결부는
    상기 서셉터의 하면에 전기적으로 연결되며 상기 서셉터의 열팽창 방향을 따라 형성된 체결홀을 구비하는 체결플레이트와, 상기 체결홀을 관통하여 상기 서셉터의 하면에 체결되는 체결부재를 구비하는 것을 특징으로 하는 기판지지유닛.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 서셉터와 상기 체결플레이트가 서로 맞닿는 면은 절연막이 형성되지 않는 것을 특징으로 하는 기판지지유닛.
  6. 삭제
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