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KR102278073B1 - 기판 처리 장치 - Google Patents

기판 처리 장치 Download PDF

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KR102278073B1
KR102278073B1 KR1020140168743A KR20140168743A KR102278073B1 KR 102278073 B1 KR102278073 B1 KR 102278073B1 KR 1020140168743 A KR1020140168743 A KR 1020140168743A KR 20140168743 A KR20140168743 A KR 20140168743A KR 102278073 B1 KR102278073 B1 KR 102278073B1
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shake
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손병덕
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세메스 주식회사
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Abstract

본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따르면, 내부에 처리 공간을 가지는 하우징과 상기 하우징 내에 제1방향을 따라 배열되고, 각각의 길이방향이 상부에서 바라 볼 때 상기 제1방향과 수직한 제2방향으로 제공되는 복수의 반송 샤프트와, 상기 반송 샤프트를 따라 제2방향으로 제공되는 복수의 반송 롤러를 포함하고, 기판을 상기 제1방향으로 반송하는 반송 유닛과 상기 기판으로 유체를 공급하는 유체 공급 유닛과 그리고 상기 반송 유닛에 의해 이송되는 기판에 상기 유체가 공급 될 때, 기판의 떨림을 방지하는 떨림 방지 부재를 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.

Description

기판 처리 장치{APPARATUS FOR TREATING SUBSTRATE}
본 발명은 기판을 처리 하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.
액정표시장치(Liquid Crystal Display: 이하, LCD)는 인가 전압에 따른 액정의 광 투과도 변화를 이용하여 정보를 표시하는 평판표시장치로서, 소형/경량화, 넓은 시야각, 저소비 전력 등과 같은 다양한 장점으로 인해 그 쓰임이 점차 증가하고 있다.
액정 표시 장치 등에 사용되는 기판은 식각 공정, 세정 공정, 건조 공정이 순차적으로 수행하며 제조된다. 식각 공정은 기판에 처리액을 공급하여, 기판을 식각하며, 세정 공정은 세척액을 이용하여 기판의 표면을 세정한 후, 건조 가스를 분사하여 기판을 건조한다. 이러한 공정은 기판을 반송 유닛으로 이송하면서 순차적으로 이루어진다.
기판을 반송하면서, 각 공정에서 처리액, 세척액 그리고 건조 가스 등은 기판의 상부에 위치한 공급 유닛을 통해서 기판의 상면으로 직접 공급되나 최근 액정 표시 장치 등에 사용 되는 기판의 두께가 얇아져 건조 가스 등의 공급시 기판에 떨림이 발생하여 공정에 불량을 야기한다.
본 발명은 기판 처리 공정에 효율을 향상 시키기 위한 기판 처리 장치를 제공하기 위한 것이다.
또한, 본 발명은 기판 처리 공정 시 기판의 떨림을 방지하기 위한 기판 처리 장치를 제공하기 위한 것이다.
본 발명은 기판 처리 장치를 제공한다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 기판 처리 장치는 내부에 처리 공간을 가지는 하우징과 상기 하우징 내에 제1방향을 따라 배열되고, 각각의 길이방향이 상부에서 바라 볼 때 상기 제1방향과 수직한 제2방향으로 제공되는 복수의 반송 샤프트와, 상기 반송 샤프트를 따라 제2방향으로 제공되는 복수의 반송 롤러를 포함하고, 기판을 상기 제1방향으로 반송하는 반송 유닛과 상기 기판으로 유체를 공급하는 유체 공급 유닛과 그리고 상기 반송 유닛에 의해 이송되는 기판에 상기 유체가 공급 될 때, 기판의 떨림을 방지하는 떨림 방지 부재를 포함할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 떨림 방지 부재는 상기 반송 유닛에 의해 이송되는 기판의 상면과 접촉하는 상부 접촉 롤러를 포함할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 떨림 방지 부재는 상기 유체 공급 유닛의 상류에 배치되는 상류 떨림 방지 부재를 포함할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 상류 떨림 방지 부재는 상기 유체 공급 유닛 일측 가장자리에 인접하게 제공되는 제1상류 떨림 방지 부재와 상기 유체 공급 유닛 타측 가장자리에 인접하게 제공되는 제2상류 떨림 방지 부재를 포함할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 제1상류 떨림 방지 부재와 상기 유체 공급 유닛과의 거리는 상기 제2상류 떨림 방지 부재와 상기 유체 공급 유닛과의 거리와 동일하게 제공될 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 떨림 방지 부재는 상기 유체 공급 유닛의 하류에 배치되는 하류 떨림 방지 부재를 포함할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 하류 떨림 방지 부재는 상기 유체 공급 유닛 일측 가장자리에 인접하게 제공되는 제1하류 떨림 방지 부재와 상기 유체 공급 유닛 타측 가장자리에 인접하게 제공되는 제2하류 떨림 방지 부재를 포함할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 제1하류 떨림 방지 부재와 상기 유체 공급 유닛과의 거리는 상기 제2하류 떨림 방지 부재와 상기 유체 공급 유닛과의 거리와 동일하게 제공될 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 떨림 방지 부재는 상기 상부 접촉 롤러와 상하로 대향되도록 배치되고, 상기 반송 유닛에 의해 이송되는 기판의 하부와 접촉되는 하부 접촉 롤러를 포함할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 상부 접촉 롤러와 상기 하부 접촉 롤러는 프리 롤러로 제공될 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 유체 공급 유닛은 상기 기판에 건조가스를 분사하며, 그 길이가 상기 제2방향을 따른 기판의 길이와 동일하거나 이보다 길게 제공되는 노즐부를 포함할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 노즐부는 상부에서 바라 볼 때, 상기 제1방향을 따라 경사지게 제공될 수 있다.
본 발명의 일 실시 예에 의하면, 기판을 반송하여 공정 처리시 기판의 상부 및 하부를 지지하는 떨림 방지 부재를 제공하여 기판 처리 공정의 효율을 향상시킨다.
또한, 본 발명의 일 실시 예에 의하면, 기판을 반송하여 공정 처리 시 기판을 상부 및 하부에서 지지하는 떨림 방지 부재를 제공하여 공정 시 기판의 떨림을 방지하여 기판 처리 공정의 효율을 향상시킨다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치를 개략적으로 나타낸 측면도이다.
도 2는 도 1에 반송 유닛, 유체 공급 유닛 그리고 떨림 방지 부재를 나타낸 평면도이다.
도 3의 유체 공급 유닛을 보여주는 단면도이다.
도 4는 도 2의 떨림 방지 부재를 보여주는 단면도이다.
도 5는 반송 유닛으로 기판을 이송시 반송 롤러와 떨림 방지 부재로 기판을 지지하는 모습을 보여주는 도면이다.
이하, 본 발명의 실시 예를 첨부된 도면들을 참조하여 더욱 상세하게 설명한다. 본 발명의 실시 예는 여러 가지 형태로 변형할 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래의 실시 예들로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시 예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해 과장되었다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치를 개략적으로 나타낸 측면도이고, 도 2는 도 1에 반송 유닛, 유체 공급 유닛 그리고 떨림 방지 부재를 나타낸 평면도이고, 도 3의 유체 공급 유닛을 보여주는 단면도이며, 도 4는 도 2의 떨림 방지 부재를 보여주는 단면도이다. 이하 도 1 내지 도 4를 참조하면,
본 발명의 실시 예에서는 기판으로 평판 표시 패널를 예로 들어 설명한다. 그러나 기판은 평판 표시 패널 이외에 반도체 웨이퍼, 포토마스크 등 다양한 종류의 기판일 수 있다.
도 2은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치를 개략적으로 나타낸 단면도이다. 이하, 도 1을 참조하면, 기판 처리 장치(1)의 공정 챔버들(10,20,30)은 식각 챔버(10), 세정 챔버(20) 그리고 건조 챔버(30)를 포함한다. 식각 챔버(10), 세정 챔버(20), 그리고 건조 챔버(30)는 순차적으로 일렬로 배열된다. 이하, 식각 챔버(10), 세정 챔버(20), 그리고 건조 챔버(30)가 배열된 방향을 제1방향(12)이라 한다. 그리고 상부에서 바라볼 때, 제1방향(12)과 수직한 방향을 제2방향(14)이라 하고, 제1방향(12)과 제2방향(14)을 포함한 평면에 수직한 방향을 제3방향(16)이라 한다.
각각의 공정 챔버(10,20,30)들은 내부가 빈 대체로 직육면체 형상을 가진다. 공정 챔버들(10,20,30)은 일렬로 나란하게 배치된다. 각각의 공정 챔버(10,20,30)의 일측면에는 공정 챔버(10,20,30)로 기판(W)이 유입되는 유입구가 제공되고, 이와 마주보는 타측면에는 공정 챔버(10,20,30)로부터 기판(W)이 유출되는 유출구가 제공된다. 기판은 가장 전방에 위치된 공정 챔버부터 순차적으로 가장 후방에 위치된 공정 챔버까지 이동된다. 각 공정 챔버(10,20,30) 내에서는 기판에 대해 소정 공정이 수행된다.
식각 챔버(10)는 기판에 대해 식각 공정을 수행한다. 식각 챔버(10)에는 케미칼 공급 유닛(11)이 포함된다. 케미칼 공급 유닛(11)은 기판의 이송시 기판의 상면에 케미칼 용액을 공급하며, 기판에 대해 식각 공정을 수행한다.
세정 챔버(20)는 기판에 대해 세정 공정을 수행한다. 세정 챔버(20)는 유체 공급 유닛(21)을 포함한다. 유체 공급 유닛(21)은 기판의 이송시 기판의 상면에 유체를 공급하여 기판에 대해 세정 공정을 수행한다.
건조 챔버(30)에서는 기판에 대해 건조 공정을 수행한다. 건조 챔버(30)에서는 기판에 대해 건조 가스를 공급하여 기판에 대해 건조 공정을 수행한다.
본 발명의 반송 유닛(100)이 제공되는 건조 챔버(30)에 대해서 설명한다. 다만, 본 발명은 건조 챔버에 제공되는 반송 유닛 및 떨림 방지 부재에 한정되지 않으며, 기판을 이송하여 처리하는 장치에 모두 적용될 수 있다.
건조 챔버(30)는 하우징(40), 반송 유닛(100), 유체 공급 유닛(60) 그리고 떨림 방지 부재(300)를 포함한다. 하우징(40)은 기판의 이송되는 공간을 제공한다. 하우징(40)은 직육면체 형상으로 제공될 수 있다. 하우징(40)에는 다른 챔버와 연결되는 기판이 유입되는 유입구(41)와 유출구(43)가 형성된다.
반송 유닛(100)은 건조 챔버(30)내부에 설치된다. 반송 유닛(100)은 건조 챔버(30) 내부로 유입되는 기판을 제1방향(12)으로 이송한다.
반송 유닛(100)은 반송 샤프트(110), 반송 롤러(120) 그리고 회전 구동부(130)을 포함한다.
각각의 반송 샤프트(110)는 그 길이 방향이 기판(W)의 제2방향(14)으로 배치되고, 반송 샤프트들(110)은 제1방향(12)을 따라 서로 나란하게 배치된다. 반송 샤프트들(110)의 양단은 베어링 부재(미도시)에 의해 회전 가능하게 지지된다. 각각의 반송 샤프트(110)에는 기판(W)과 접촉하는 다수의 반송 롤러(120)가 결합된다. 반송 롤러들(120)은 기판(W)의 반송 샤프트(110)의 길이 방향으로 서로 이격되어 위치한다. 반송 롤러들(120)은 반송 샤프트(110)의 외주면에 끼워진다. 각각의 반송 롤러(120)는 링 형상을 갖고, 반송 샤프트(110)와 함께 회전한다.
반송 샤프트(110)에는 회전 구동부(130)가 결합된다. 회전 구동부(130)는 다수의 풀리(131), 구동 모터(132), 그리고 다수의 밸트(133)를 포함한다. 풀리(131)는 반송 샤프트(110)의 일측에 결합되고, 다수의 풀리(131) 중 구동 모터(132)와 인접한 풀리(131)는 구동 모터(132)와 연결된다. 구동 모터(132)는 회전력을 발생시켜 연결된 풀리(131)에 회전력을 제공한다. 구동 모터(132)에 연결된 풀리(131)는 회전력을 연결된 반송 샤프트(110)에 제공하여 반송 샤프트(110)를 회전시킨다.
다수의 풀리들(131) 중 서로 인접한 두 개의 풀리들(131)은 밸트(133)에 의해 서로 연결된다. 밸트들(133)은 다수의 풀리(131)를 서로 연결하여 구동 모터(132)와 연결된 풀리(131)로부터 제공되는 회전력을 인접 풀리(131)로 전달한다. 이에 따라, 상기 다수의 풀리(131)가 회전하고, 다수의 풀리(131)의 회전력에 의해 다수의 반송 샤프트(110)가 회전한다. 또한, 다수의 풀리(131)와 다수의 밸트(133)는 반송 샤프트들(110)의 타측에도 설치된다.
유체 공급 유닛(60)은 기판의 상면에 건조 가스를 공급한다. 일 에로 유체 공급 유닛(60)은 에어 나이프로 제공된다. 유체 공급 유닛(60)은 기판의 상부 및 하부에 제공 될 수 있다. 선택적으로 기판의 상부 및 하부 중 한 곳에 제공될 수 있다.
유체 공급 유닛(60)은 반송 유닛에 의해 반송 되는 기판의 상부에 제공된다. 유체 공급 유닛(60)은 기판의 대각선 방향으로 제공된다. 유체 공급 유닛(60)은 세정 공정에서 사용되어 기판의 표면에 잔존하는 처리액 예를 들어, 순수(DeIonized Water:DIW) 등의 세정액 또는 린스액을 제거하기 위하여 기판의 상부 또는/및 하부에서 기판의 표면으로 에어를 분사한다.
상부 및 하부 유체 공급 유닛(62,64) 각각은 기판까지의 거리가 동일하도록 설치된다. 상부 및 하부 유체 공급 유닛(62,64)은 기판의 전체 표면에 균일하게 에어를 분사할 수 있도록 충분한 길이를 갖는다. 상부 및 하부 유체 공급 유닛(62,64)들은 기판의 표면에 대해 일정 각도 경사지게 설치된다. 이는 분사되는 에어에 의해 기판이 물리적으로 손상 및 진동되는 것을 방지하기 위함이다.
상부 및 하부 유체 공급 유닛(62,64)은 몸체(622), 유로(624), 버퍼(626) 그리고 노즐부(628)를 포함한다. 몸체(622)는 일측면에서 에어를 받아들이고 유로(624)를 통해 노즐부(628)로 에어가 흐르도록 제공된다. 몸체(622)의 내부에는 유로(624)와 버퍼(626)가 제공된다. 몸체(622)의 형상은 상부 및 하부 유체 공급 유닛(62,64) 모두 동일한 형상으로 제공될 수 있다. 유로(624)는 외부로부터 공급되는 에어가 이동하는 통로이다. 유로(624)에는 적어도 하나 이상의 버퍼(626)가 제공된다. 버퍼(626)는 에어가 노즐부(628)를 통해 균등한 유량이 분사되도록 임시로 에어가 머무르는 공간이다.
노즐부(628)에서는 유로(626)에서 공급된 에어가 기판으로 토출된다. 노즐부(628)는 복수의 홀들로 형성되거나 슬릿 형태로 형성된다. 노즐부(628)는 그 길이가 제2방향에 따른 기판의 길이와 동일하게 제공될 수 있다. 이와는 달리 노즐부(628)의 길이는 기판의 길이보다 길게 제공될 수 있다. 노즐부(628)는 상부에서 바라 볼 때, 제1방향을 따라 경사지게 제공될 수 있다.
떨림 방지 부재(300)는 반송 유닛(100)에 의해 이송되는 기판에 유체가 공급 될 때, 기판의 떨림을 방지한다.
떨림 방지 부재(300)는 상부 접촉 롤러(310)와 하부 접촉 롤러(330)를 포함한다. 상부 접촉 롤러(310)는 반송 유닛(100)에 의해 이송되는 기판의 상면과 접촉하고, 기판의 상면을 지지한다. 상부 접촉 롤러(310)는 롤러를 제공하여 기판의 상면을 지지한다. 롤러는 지지부에 의해 지지한다. 지지부는 롤러를 지지하는 수평부(311)와 수평부와 수직으로 제공되는 수직부(313)를 가진다. 수직부(313)는 프레임(400)과 연결된다.
하부 접촉 롤러(330)는 반송 유닛(100)에 의해 이송되는 기판의 하면과 접촉하고, 기판의 하면을 지지 한다. 하부 접촉 롤러(330)는 상부 접촉 롤러(310)와 상하로 대향되도록 배치된다. 하부 접촉 롤러(330)는 롤러를 제공하여 기판의 하면을 지지한다. 롤러는 별도의 지지대를 통해서 지지된다.
상부 접촉 롤러(310)와 하부 접촉 롤러(330)는 모두 프리 롤러로 제공된다.
떨림 방지 부재(300)는 상류 떨림 방지 부재(301)와 하류 떨림 방지 부재(302)를 포함한다.
상류 떨림 방지 부재(301)는 기판이 유체 공급 유닛(60)의 상류로 이송 시 기판을 지지하여 기판의 떨림을 방지한다. 상류 떨림 방지 부재(301)는 유체 공급 유닛(60)의 상류에 배치된다. 상류 떨림 방지 부재(301)는 제1상류 떨림 방지 부재(301a)와 제2상류 떨림 방지 부재(301b)를 포함한다. 제1상류 떨림 방지 부재(301a)는 유체 공급 유닛(60)의 일측 가장자리에 인접하여 제공된다. 제2상류 떨림 방지 부재(301b)는 유체 공급 유닛(60)의 타측 가장자리에 인접하여 제공된다. 제1상류 떨림 방지 부재(301a)와 유체 공급 유닛(60)과의 거리는 제2상류 떨림 방지 부재(301b)와 유체 공급 유닛(60)과의 거리와 동일하게 제공된다.
하류 떨림 방지 부재(302)은 기판이 유체 공급 유닛(60)의 하류로 이송 시 기판을 지지하여 기판의 떨림을 방지한다. 하류 떨림 방지 부재(302)는 유체 공급 유닛(60)의 하류에 배치된다. 하류 떨림 방지 부재(302)는 제1하류 떨림 방지 부재(302a)와 제2하류 떨림 방지 부재(302b)를 포함한다. 제1하류 떨림 방지 부재(302a)는 유체 공급 유닛(60)의 일측 가장자리에 인접하여 제공된다. 제2하류 떨림 방지 부재(302b)는 유체 공급 유닛(60)의 타측 가장자리에 인접하여 제공된다. 제1하류 떨림 방지 부재(302a)와 유체 공급 유닛(60)과의 거리는 제2하류 떨림 방지 부재(302b)와 유체 공급 유닛(60)과의 거리와 동일하게 제공된다.
제1상류 떨림 방지 부재(301a), 제2상류 떨림 방지 부재(301b), 제1하류 떨림 방지 부재(302a) 그리고 제2하류 떨림 방지 부재(302b)는 각각 상부 접촉 롤러(310)와 하부 접촉 롤러(330)를 포함한다.
상술한 예에서는 제1상류 떨림 방지 부재(301a), 제2상류 떨림 방지 부재(301b), 제1하류 떨림 방지 부재(302a) 그리고 제2하류 떨림 방지 부재(302b)는 각각 하나씩 제공된 예로 설명하였으나, 선택적으로 복수개가 제공될 수 있다.
도 5는 반송 유닛으로 기판을 이송시 반송 롤러와 떨림 방지 부재로 기판을 지지하는 모습을 보여주는 도면이다. 이하, 도 5를 참조하면, 떨림 방지 부재(300)는 점차 얇아지는 기판을 처리할 때 상부 및 하부 접촉 롤러(310,330)를 이용하여 지지한다. 이로 인해, 기판을 더욱 안정적으로 지지 가능하여, 특히 유체 공급 유닛(60)의 전단 및 후단에서의 기판의 떨림이나 뒤틀림 또는 기판이 깨지는 현상을 방지한다.
이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내어 설명하는 것이며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 즉 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 저술한 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 구현하기 위한 최선의 상태를 설명하는 것이며, 본 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.
40: 하우징 60: 유체 공급 유닛
100: 반송 유닛 110: 반송 샤프트
120: 반송 롤러 130: 회전 구동부
300: 떨림 방지 부재 301: 상류 떨림 방지 부재
301a: 제1상류 떨림 방지 부재 301b: 제2상류 떨림 방지 부재
302: 하류 떨림 방지 부재 302a: 제1하류 떨림 방지 부재
302b: 제2하류 떨림 방지 부재 622: 몸체
624: 유로 626: 버퍼
628: 노즐부

Claims (12)

  1. 기판을 처리하는 장치에 있어서,
    내부에 처리 공간을 가지는 하우징과;
    상기 하우징 내에 제1방향을 따라 배열되고, 각각의 길이방향이 상부에서 바라볼 때 상기 제1방향과 수직한 제2방향으로 제공되는 복수의 반송 샤프트와, 상기 반송 샤프트를 따라 제2방향으로 제공되는 복수의 반송 롤러를 포함하고, 기판을 상기 제1방향으로 반송하는 반송 유닛과;
    상기 기판으로 유체를 공급하는 유체 공급 유닛과 그리고
    상기 반송 유닛에 의해 이송되는 기판에 상기 유체가 공급될 때, 기판의 떨림을 방지하는 복수의 떨림 방지 부재를 포함하고,
    상기 복수의 떨림 방지 부재 중 어느 하나는 상기 유체 공급 유닛의 일측 가장자리에 인접하게 배치되고, 다른 하나는 상기 유체 공급 유닛의 타측 가장자리에 인접하게 배치되고,
    상기 복수의 떨림 방지 부재는 상기 기판의 반송 방향에 대하여 수직한 방향으로 이격되고,
    상기 떨림 방지 부재는,
    상기 반송 유닛에 의해 이동되는 기판의 상면과 접촉되는 상부 접촉 롤러와,
    상기 상부 접촉 롤러와 상하 방향으로 대향되도록 배치되고, 상기 반송 유닛에 의해 이송되는 기판의 하면과 접촉되는 하부 접촉 롤러를 포함하고,
    상기 상부 접촉 롤러는,
    상기 기판의 상면에 접촉되고, 서로 이격되는 복수의 상부 롤러와,
    상기 복수의 상부 롤러를 지지하는 상부 지지부를 포함하고,
    상기 하부 접촉 롤러는 상기 기판의 하면에 접촉되고, 상기 복수의 상부 롤러와 상하 방향으로 대향하는 위치에 배치되며 서로 이격되는 복수의 하부 롤러와, 상기 복수의 하부 롤러를 지지하는 하부 지지부를 포함하는 기판 처리 장치.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서,
    상기 떨림 방지 부재는 상기 유체 공급 유닛의 상류에 배치되는 상류 떨림 방지 부재를 포함하는 기판 처리 장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 상류 떨림 방지 부재는,
    상기 유체 공급 유닛의 상기 일측 가장자리에 인접하게 제공되는 제1상류 떨림 방지 부재와;
    상기 유체 공급 유닛의 상기 타측 가장자리에 인접하게 제공되는 제2상류 떨림 방지 부재를 포함하는 기판 처리 장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 제1상류 떨림 방지 부재와 상기 유체 공급 유닛과의 거리는 상기 제2상류 떨림 방지 부재와 상기 유체 공급 유닛과의 거리와 동일하게 제공되는 기판 처리 장치.
  6. 제3항 내지 제5항중 어느 한 항에 있어서,
    상기 떨림 방지 부재는 상기 유체 공급 유닛의 하류에 배치되는 하류 떨림 방지 부재를 포함하는 기판 처리 장치.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 하류 떨림 방지 부재는,
    상기 유체 공급 유닛의 상기 일측 가장자리에 인접하게 제공되는 제1하류 떨림 방지 부재와;
    상기 유체 공급 유닛의 상기 타측 가장자리에 인접하게 제공되는 제2하류 떨림 방지 부재를 포함하는 기판 처리 장치.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 제1하류 떨림 방지 부재와 상기 유체 공급 유닛과의 거리는 상기 제2하류 떨림 방지 부재와 상기 유체 공급 유닛과의 거리와 동일하게 제공되는 기판 처리 장치.
  9. 삭제
  10. 제1항에 있어서,
    상기 상부 접촉 롤러와 상기 하부 접촉 롤러는 프리 롤러로 제공되는 기판 처리 장치.
  11. 제1항, 제3항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 유체 공급 유닛은 상기 기판에 건조가스를 분사하며, 그 길이가 상기 제2방향을 따른 기판의 길이와 동일하거나 이보다 길게 제공되는 노즐부를 포함하는 기판 처리 장치.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 노즐부는 상부에서 바라볼 때, 상기 제1방향을 따라 경사지게 제공되는 기판 처리 장치.
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