KR102230320B1 - Polarizing film with adhesive layer, laminate, and image display device - Google Patents
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Abstract
본 발명은, 요오드 및/또는 요오드 이온을 함유하는 요오드계 편광자의 적어도 편면에 투명 보호 필름을 갖는 요오드계 편광 필름의 적어도 일방의 면에, 하기 일반식 (1) :
(식 중, R1 및 R2 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 또는 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기를 나타낸다.) 로 나타내는 화합물, 및 상기 일반식 (1) 로 나타내는 화합물의 다량체로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상의 인산계 화합물, 및 (메트)아크릴계 폴리머를 함유하는 아크릴계 점착제 조성물로 형성되는 점착제층을 갖는 것을 특징으로 하는 점착제층이 형성된 편광 필름, 상기 편광 필름과 투명 도전층을 갖는 기재를 첩합한 적층체, 상기 편광 필름과 투명 도전층을 갖는 액정 패널을 첩합한 화상 표시 장치, 상기 적층체를 터치 패널로서 사용하는 화상 표시 장치이다.In the present invention, on at least one surface of an iodine-based polarizing film having a transparent protective film on at least one surface of an iodine-based polarizer containing iodine and/or iodine ion, the following general formula (1):
(In the formula, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon residue having 1 to 18 carbon atoms which may contain an oxygen atom.) A polarizing film having a pressure-sensitive adhesive layer, the polarizing film, characterized in that it has a pressure-sensitive adhesive layer formed of an acrylic pressure-sensitive adhesive composition containing at least one phosphoric acid-based compound selected from the group consisting of a multimer of the represented compound, and a (meth)acrylic polymer. And a laminate having a substrate having a transparent conductive layer bonded thereto, an image display device having the polarizing film and a liquid crystal panel having a transparent conductive layer bonded, and an image display device using the laminate as a touch panel.
Description
본 발명은, 점착제층이 형성된 편광 필름에 관한 것이다. 또, 본 발명은, 상기 점착제층이 형성된 편광 필름과 투명 도전층을 갖는 기재를 첩합 (貼合) 한 적층체, 상기 점착제층이 형성된 편광 필름과 투명 도전층을 갖는 액정 패널을 첩합한 화상 표시 장치, 상기 적층체를 터치 패널로서 사용하는 화상 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a polarizing film in which an adhesive layer was formed. In addition, the present invention is a laminate in which the polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer is formed and a substrate having a transparent conductive layer are bonded together, and an image display in which the polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer is formed and a liquid crystal panel having a transparent conductive layer are bonded. A device and an image display device using the laminate as a touch panel.
최근 산화인듐주석 (ITO) 박막 등의 투명 도전막이 각종 용도에 있어서 널리 사용되고 있다. 예를 들어, 상기 투명 도전막은, 인플레인 스위칭 (IPS) 방식 등의 액정 셀을 사용한 액정 표시 장치의, 액정 셀을 구성하는 투명 기판의 액정층과 접하는 측과는 반대측에 형성되고, 대전 방지층으로 하는 것이 알려져 있다. 또, 상기 투명 도전막이 투명 수지 필름 상에 형성된 투명 도전성 필름은, 터치 패널의 전극 기판에 사용되고, 예를 들어 휴대전화나 휴대용 음악 플레이어 등에 사용하는 액정 표시 장치나 화상 표시 장치와 당해 터치 패널을 조합하여 사용하는 입력 장치가 널리 보급되고 있다.Recently, a transparent conductive film such as an indium tin oxide (ITO) thin film has been widely used in various applications. For example, the transparent conductive film is formed on a side opposite to the side in contact with the liquid crystal layer of a transparent substrate constituting the liquid crystal cell of a liquid crystal display device using a liquid crystal cell such as an in-plane switching (IPS) method, and serves as an antistatic layer. It is known to do. In addition, the transparent conductive film in which the transparent conductive film is formed on a transparent resin film is used for an electrode substrate of a touch panel, and, for example, a liquid crystal display device or an image display device used in a mobile phone or a portable music player, and the touch panel are combined. Input devices to be used are widely spread.
터치 패널과 화상 표시 장치를 조합하여 사용하는 입력 장치로는, 종래 유리판 또는 투명 수지 필름으로 이루어지는 투명 기재에 투명 도전층이 형성된 투명 도전성 필름을 액정 표시 장치 상 (액정 표시 장치의 시인측 편광 필름보다 상측) 에 설치하는 아웃셀형이 널리 보급되어 있었지만, 최근 투명 도전막으로 이루어지는 전극을 액정 셀의 상 (上) 유리 기판 상에 형성하는 온셀형이나, 투명 도전막으로 이루어지는 전극을 액정 셀 내부에 넣은 형태의 인셀형 등 여러 가지 구성이 알려져 있다. 또, 화상 표시 장치의 대전 방지층으로서의 ITO 층을 터치 센서로 하고, 이것을 패터닝함으로써 터치 패널 기능을 실현하는 것도 알려져 있다.As an input device used in combination with a touch panel and an image display device, a transparent conductive film in which a transparent conductive layer is formed on a transparent substrate made of a conventional glass plate or a transparent resin film is used on a liquid crystal display device. The outcell type installed on the upper side) has been widespread, but recently an on-cell type in which an electrode made of a transparent conductive film is formed on an upper glass substrate of a liquid crystal cell, or an electrode made of a transparent conductive film is placed inside the liquid crystal cell. Various configurations are known, such as an in-cell type. It is also known to realize a touch panel function by using an ITO layer as an antistatic layer of an image display device as a touch sensor and patterning it.
이들 투명 도전막을 사용한 액정 표시 장치나 화상 표시 장치 등에 있어서는, 최근 경량화, 박형화의 요구가 강하고, 당해 액정 표시 장치 등에 있어서 사용되는 편광 필름에 대해서도, 박형화, 경량화하는 것이 요망되고 있다. 편광 필름의 박형화, 경량화 방법으로는, 예를 들어 편광자의 편면에만 투명 보호 필름 설치한 편면 보호 편광 필름으로 하는 것이나, 편광자 자체의 막두께를 얇게 한 박형 편광 필름의 제조 방법 등이 알려져 있다.In a liquid crystal display device or an image display device using such a transparent conductive film, in recent years, there is a strong demand for weight reduction and thickness reduction, and it is also desired to reduce the thickness and weight of the polarizing film used in the liquid crystal display device or the like. As a method for reducing the thickness and weight of a polarizing film, for example, a single-sided protective polarizing film provided with a transparent protective film only on one side of a polarizer, and a method for producing a thin polarizing film in which the film thickness of the polarizer itself was reduced are known.
박형 편광 필름의 제법으로는, 연속 웹의 비정성 에스테르계 열가소성 수지 기재에, 요오드를 배향시킨 폴리비닐알코올계 수지로 이루어지는 박형 편광막이 제막된 광학 필름 적층체의 제조 방법이 알려져 있다 (예를 들어, 특허문헌 1, 2 참조).As a method for producing a thin polarizing film, a method for producing an optical film laminate in which a thin polarizing film made of a polyvinyl alcohol-based resin in which iodine is oriented is formed on an amorphous ester-based thermoplastic resin substrate of a continuous web is known (for example, , See
예를 들어, 투명 도전막을 대전 방지층 용도로서 사용하는 경우에는, 통상 당해 대전 방지층을 갖는 액정 셀 상에 점착제층이 형성된 편광 필름이 적층되어, 투명 도전막으로 이루어지는 대전 방지층과 편광 필름이 점착제층을 개재하여 첩합된다. 또, 투명 도전막을 터치 패널의 전극 용도로서 사용하는 경우, 터치 패널의 구성에 따라서는, 상기 전극용 투명 도전막 상에 점착제층이 형성된 편광 필름이 적층되어, 투명 도전막으로 이루어지는 대전 방지층과 편광 필름이 점착제층을 개재하여 첩합되는 경우가 있다.For example, in the case of using a transparent conductive film as an antistatic layer application, a polarizing film in which an adhesive layer is formed is usually laminated on a liquid crystal cell having the antistatic layer, and an antistatic layer made of a transparent conductive film and a polarizing film form an adhesive layer. It is bonded through. In addition, when a transparent conductive film is used as an electrode for a touch panel, depending on the configuration of the touch panel, a polarizing film in which an adhesive layer is formed is laminated on the transparent conductive film for electrodes, and an antistatic layer made of a transparent conductive film and polarized light The film may be bonded through the pressure-sensitive adhesive layer.
편광 필름이 요오드계 편광 필름인 경우에, 전술한 바와 같이, 투명 도전층과 당해 요오드계 편광 필름을 첩합하고, 가습 내구 시험 (통상 내구 시험) 을 실시하면, 투명 도전층의 저항값이 상승하는 경우가 있었다. 이와 같은 저항값의 상승은, 편광자에 포함되는 요오드가 점착제층으로 스며나오고, 그 요오드가 투명 도전층에 도달함으로써, 투명 도전층이 부식하는 것에 의한 것이 밝혀졌다.When the polarizing film is an iodine-based polarizing film, as described above, when the transparent conductive layer and the iodine-based polarizing film are bonded and subjected to a humidification endurance test (usually endurance test), the resistance value of the transparent conductive layer increases. There was a case. It has been found that such an increase in the resistance value is due to the iodine contained in the polarizer oozing into the pressure-sensitive adhesive layer and the transparent conductive layer corroding when the iodine reaches the transparent conductive layer.
예를 들어, 특허문헌 1, 2 에 기재되어 있는 두께 10 ㎛ 이하의 박형 요오드계 편광자에서는, 종래의 편광자와 동일한 편광 특성을 갖기 위해서는 편광자 중의 요오드 농도를 높게 할 필요가 있고, 이와 같은 요오드 농도가 높은 편광자를 포함하는 편광 필름을 투명 도전층과 첩합한 경우에는, 투명 도전층의 요오드에 의한 부식이 생기기 쉬운 것이 밝혀졌다. 또, 편면 보호의 요오드계 편광 필름을 사용한 경우에도, 요오드계 편광자에 직접 점착제층을 개재하여 투명 도전층이 첩합되기 때문에, 투명 도전층의 부식이 생기기 쉬운 것이 밝혀졌다.For example, in the thin iodine polarizer having a thickness of 10 μm or less described in
따라서, 본 발명은, 투명 도전층 상에 적층된 경우에도, 상기 투명 도전층의 부식이 억제되고, 상기 투명 도전층의 표면 저항값이 상승하는 것을 억제할 수 있는 점착제층이 형성된 편광 필름을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또, 본 발명은, 상기 점착제층이 형성된 편광 필름과, 투명 도전층을 갖는 기재를 첩합한 적층체, 상기 점착제층이 형성된 편광 필름과 투명 도전층을 갖는 액정 패널을 첩합한 화상 표시 장치, 상기 적층체를 터치 패널로서 사용하는 화상 표시 장치를 제공하는 것도 목적으로 한다. Accordingly, the present invention provides a polarizing film with a pressure-sensitive adhesive layer capable of suppressing corrosion of the transparent conductive layer and suppressing an increase in the surface resistance value of the transparent conductive layer even when laminated on the transparent conductive layer. It aims to do. In addition, the present invention is a laminate in which the polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer is formed and a substrate having a transparent conductive layer are bonded, an image display device in which the polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer is formed and a liquid crystal panel having a transparent conductive layer are bonded, the Another object of the present invention is to provide an image display device using a laminate as a touch panel.
본 발명자들은, 상기 과제를 해결하기 위하여 예의 검토한 결과, 인산계 화합물, 및 (메트)아크릴계 폴리머를 함유하는 아크릴계 점착제 조성물로 형성되는 점착제층을 사용함으로써, 상기 목적을 달성할 수 있는 것을 찾아내어, 본 발명을 완성시키기에 이르렀다.The present inventors, as a result of earnestly examining in order to solve the above problems, found that the above object can be achieved by using a pressure-sensitive adhesive layer formed of an acrylic pressure-sensitive adhesive composition containing a phosphoric acid-based compound and a (meth)acrylic polymer. , Came to complete the present invention.
즉, 본 발명은, 요오드 및/또는 요오드 이온을 함유하는 요오드계 편광자의 적어도 편면에 투명 보호 필름을 갖는 요오드계 편광 필름의 적어도 일방의 면에, That is, the present invention is on at least one surface of an iodine polarizing film having a transparent protective film on at least one surface of an iodine polarizer containing iodine and/or iodine ions,
하기 일반식 (1) :The following general formula (1):
[화학식 1][Formula 1]
(식 중, R1 및 R2 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 또는 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기를 나타낸다.)(In the formula, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon residue having 1 to 18 carbon atoms which may contain an oxygen atom.)
로 나타내는 화합물 및 상기 일반식 (1) 로 나타내는 화합물의 다량체로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상의 인산계 화합물, 그리고 (메트)아크릴계 폴리머를 함유하는 아크릴계 점착제 조성물로 형성되는 점착제층을 갖는 것을 특징으로 하는 점착제층이 형성된 편광 필름에 관한 것이다. 여기서, 「요오드 및/또는 요오드 이온을 함유하는 요오드계 편광자」란, 요오드를 함유하는 요오드계 편광자, 요오드 이온을 함유하는 요오드계 편광자, 요오드 및 요오드 이온의 양방을 함유하는 요오드계 편광자이고, 본 발명에 있어서는 어느 것이라도 바람직하게 사용할 수 있다.It has a pressure-sensitive adhesive layer formed of an acrylic pressure-sensitive adhesive composition containing at least one phosphoric acid-based compound selected from the group consisting of a compound represented by and a multimer of the compound represented by the general formula (1), and a (meth)acrylic polymer. It relates to a polarizing film in which the pressure-sensitive adhesive layer is formed. Here, the ``iodine polarizer containing iodine and/or iodine ions'' refers to an iodine polarizer containing iodine, an iodine polarizer containing iodine ions, and an iodine polarizer containing both iodine and iodine ions. In the invention, any can be preferably used.
상기 요오드계 편광자 중의 요오드 및/또는 요오드 이온의 함유량이, 1 ∼ 14 중량% 여도 되고, 3 ∼ 12 중량% 여도 된다.The content of iodine and/or iodine ion in the iodine polarizer may be 1 to 14% by weight or 3 to 12% by weight.
상기 인산계 화합물이, 인산을 포함하고, 또한 일반식 (1) 의 R1 및 R2 중 어느 일방이 수소 원자이고, 타방이 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기인 인산모노에스테르, 및 일반식 (1) 의 R1 및 R2 가, 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기인 인산디에스테르 로 이루어지는 군에서 선택되는 1 개 이상의 인산에스테르를 포함하는 혼합물인 것이 바람직하다.Phosphoric acid, which is a hydrocarbon residue having 1 to 18 carbon atoms in which the phosphoric acid-based compound contains phosphoric acid, and one of R 1 and R 2 in the general formula (1) is a hydrogen atom and the other may contain an oxygen atom. The monoester and R 1 and R 2 in the general formula (1) contain at least one phosphate ester selected from the group consisting of a phosphate diester which is a hydrocarbon residue having 1 to 18 carbon atoms which may contain an oxygen atom. It is preferably a mixture.
상기 인산계 화합물이, 인산 및 인산모노에스테르를 포함하는 혼합물인 것이 바람직하다. 또, 인산 및 인산모노에스테르의 합계량은, 인산계 화합물 100 중량% 에 있어서 80 중량% 이상인 것이 바람직하다.It is preferable that the said phosphoric acid compound is a mixture containing phosphoric acid and a phosphoric acid monoester. Moreover, it is preferable that the total amount of phosphoric acid and phosphoric acid monoester is 80 weight% or more in 100 weight% of a phosphoric acid compound.
상기 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기가, 탄소수 1 ∼ 10 의 직사슬 또는 분기의 알킬기인 것이 바람직하다.It is preferable that the said C1-C18 hydrocarbon residue is a C1-C10 linear or branched alkyl group.
상기 요오드계 편광 필름이, 상기 요오드계 편광자의 편측에만 투명 보호 필름을 갖는 편면 보호 편광 필름이고, 또한 상기 편면 보호 편광 필름의 투명 보호 필름을 갖고 있지 않은 면과, 상기 점착제층이 접촉하고 있는 것이 바람직하다.The iodine-based polarizing film is a one-sided protective polarizing film having a transparent protective film only on one side of the iodine-based polarizer, and the side of the one-sided protective polarizing film not having a transparent protective film and the pressure-sensitive adhesive layer are in contact. desirable.
상기 요오드계 편광자의 두께가, 10 ㎛ 이하인 것이 바람직하다.It is preferable that the thickness of the iodine polarizer is 10 μm or less.
상기 요오드계 편광 필름의 총 두께가, 80 ㎛ 이하인 것이 바람직하다.It is preferable that the total thickness of the iodine-based polarizing film is 80 µm or less.
또, 상기 점착제층이 형성된 편광 필름의 점착제층과, 투명 도전층을 갖는 기재의 투명 도전층이 접촉하도록 첩합하여 사용하는 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable to use by bonding so that the pressure-sensitive adhesive layer of the polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer is formed and the transparent conductive layer of the substrate having a transparent conductive layer are in contact.
상기 인산계 화합물의 첨가량이, 상기 (메트)아크릴계 폴리머 100 중량부에 대하여 0.001 ∼ 4 중량부인 것이 바람직하다.It is preferable that the amount of the phosphoric acid-based compound added is 0.001 to 4 parts by weight based on 100 parts by weight of the (meth)acrylic polymer.
상기 (메트)아크릴계 폴리머가, 모노머 단위로서, 알킬(메트)아크릴레이트, 및 하이드록실기 함유 모노머를 함유하는 것이 바람직하다.It is preferable that the (meth)acrylic polymer contains an alkyl (meth)acrylate and a hydroxyl group-containing monomer as monomer units.
하이드록실기 함유 모노머가, 4-하이드록시부틸아크릴레이트인 것이 바람직하다.It is preferable that the hydroxyl group-containing monomer is 4-hydroxybutyl acrylate.
(메트)아크릴계 폴리머의 중량 평균 분자량이, 120만 ∼ 300만인 것이 바람직하다.It is preferable that the weight average molecular weight of the (meth)acrylic polymer is 1.2 million to 3 million.
상기 아크릴계 점착제 조성물이, 추가로 가교제를 함유하는 것이 바람직하고, 가교제가, 과산화물계 가교제, 및 이소시아네이트계 가교제로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상의 가교제인 것이 보다 바람직하다.It is preferable that the said acrylic pressure-sensitive adhesive composition further contains a crosslinking agent, and it is more preferable that the crosslinking agent is at least one type of crosslinking agent selected from the group consisting of a peroxide type crosslinking agent and an isocyanate type crosslinking agent.
상기 아크릴계 점착제 조성물이, 추가로 이온성 화합물을 함유하는 것이 바람직하다.It is preferable that the said acrylic adhesive composition further contains an ionic compound.
또, 본 발명은, 상기 점착제층이 형성된 편광 필름과, 투명 도전층을 갖는 투명 도전성 부재를, 상기 점착제층이 형성된 편광 필름의 점착제층과 상기 부재의 투명 도전층이 접촉하도록 첩합한 것을 특징으로 하는 적층체에 관한 것이다.In addition, the present invention is characterized in that the polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer is formed and a transparent conductive member having a transparent conductive layer are bonded so that the pressure-sensitive adhesive layer of the polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer is formed and the transparent conductive layer of the member are in contact with each other. It relates to a laminated body.
상기 투명 도전층이, 산화인듐주석으로 형성되는 것이 바람직하고, 상기 산화인듐주석이, 비결정성의 산화인듐주석인 것이 보다 바람직하다.It is preferable that the said transparent conductive layer is formed of indium tin oxide, and it is more preferable that the said indium tin oxide is amorphous indium tin oxide.
또, 본 발명은, 상기 점착제층이 형성된 편광 필름의 점착제층과, 투명 도전층을 갖는 액정 패널을, 상기 점착제층이 형성된 편광 필름의 점착제층과 상기 액정 패널의 투명 도전층이 접촉하도록 첩합한 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치에 관한 것이다.In the present invention, the pressure-sensitive adhesive layer of the polarizing film with the pressure-sensitive adhesive layer and a liquid crystal panel having a transparent conductive layer are bonded so that the pressure-sensitive adhesive layer of the polarizing film with the pressure-sensitive adhesive layer and the transparent conductive layer of the liquid crystal panel are in contact with each other. It relates to an image display device, characterized in that.
또한, 본 발명은, 상기 적층체를 터치 패널로서 사용하는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치에 관한 것이다. Further, the present invention relates to an image display device, wherein the laminate is used as a touch panel.
본 발명의 점착제층이 형성된 편광 필름은 요오드계 편광자를 사용하고 있지만, 당해 점착제층이 형성된 편광 필름의 점착제층에 투명 도전층을 적층한 경우에도, 투명 도전층의 부식을 억제할 수 있고, 투명 도전층의 표면 저항 상승을 억제할 수 있는 것이다. 이것은, 본 발명의 점착제층이 형성된 편광 필름의 점착제층이 인산계 화합물을 포함하기 때문이다. 구체적으로는, 예를 들어 인산계 화합물이 인산을 포함하는 경우에는, 투명 도전층 표면에서, 인산과 투명 도전층 중의 금속 이온으로 부동태 피막을 형성하고, 그 결과 편광자 중의 요오드가 투명 도전층 표면까지 이행하지 않아, 투명 도전층의 부식이 저해되기 때문이라고 생각된다. 또, 인산계 화합물이 인산 화합물 (예를 들어, 인산에스테르 등) 을 포함하는 경우에는, 당해 인산 화합물이 선택적으로 투명 도전층 표면에 흡착하여 피막을 형성하고, 그 결과 편광자 중의 요오드가 투명 도전층 표면까지 이행하지 않아, 투명 도전층의 부식이 저해되기 때문이라고 생각된다.Although the polarizing film with the pressure-sensitive adhesive layer of the present invention uses an iodine polarizer, even when a transparent conductive layer is laminated on the pressure-sensitive adhesive layer of the polarizing film with the pressure-sensitive adhesive layer, corrosion of the transparent conductive layer can be suppressed, It is possible to suppress an increase in the surface resistance of the conductive layer. This is because the pressure-sensitive adhesive layer of the polarizing film with the pressure-sensitive adhesive layer of the present invention contains a phosphoric acid-based compound. Specifically, for example, when the phosphoric acid-based compound contains phosphoric acid, a passivation film is formed from phosphoric acid and metal ions in the transparent conductive layer on the surface of the transparent conductive layer, and as a result, iodine in the polarizer reaches the surface of the transparent conductive layer. It is thought that this is because it does not migrate, and corrosion of the transparent conductive layer is inhibited. In addition, when the phosphoric acid-based compound contains a phosphoric acid compound (e.g., phosphoric acid ester, etc.), the phosphoric acid compound is selectively adsorbed on the surface of the transparent conductive layer to form a film, and as a result, iodine in the polarizer is converted into a transparent conductive layer. It is thought that this is because it does not migrate to the surface, and corrosion of the transparent conductive layer is inhibited.
도 1 은 본 발명의 화상 표시 장치의 일실시형태를 모식적으로 나타내는 단면도이다.
도 2 는 본 발명의 화상 표시 장치의 일실시형태를 모식적으로 나타내는 단면도이다.
도 3 은 본 발명의 화상 표시 장치의 일실시형태를 모식적으로 나타내는 단면도이다.1 is a cross-sectional view schematically showing an embodiment of an image display device of the present invention.
2 is a cross-sectional view schematically showing an embodiment of the image display device of the present invention.
3 is a cross-sectional view schematically showing an embodiment of the image display device of the present invention.
1. 점착제층이 형성된 편광 필름1. Polarizing film with adhesive layer
본 발명의 점착제층이 형성된 편광 필름은, 요오드 및/또는 요오드 이온을 함유하는 요오드계 편광자의 적어도 편면에 투명 보호 필름을 갖는 요오드계 편광 필름의 적어도 일방의 면에, The polarizing film in which the pressure-sensitive adhesive layer of the present invention is formed is on at least one side of an iodine-based polarizing film having a transparent protective film on at least one side of an iodine-based polarizer containing iodine and/or iodine ions,
하기 일반식 (1) :The following general formula (1):
[화학식 2][Formula 2]
(식 중, R1 및 R2 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 또는 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기를 나타낸다.)(In the formula, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon residue having 1 to 18 carbon atoms which may contain an oxygen atom.)
로 나타내는 화합물 및 상기 일반식 (1) 로 나타내는 화합물의 다량체로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상의 인산계 화합물, 그리고 (메트)아크릴계 폴리머를 함유하는 아크릴계 점착제 조성물로 형성되는 점착제층을 갖는 것을 특징으로 한다.It has a pressure-sensitive adhesive layer formed of an acrylic pressure-sensitive adhesive composition containing at least one phosphoric acid-based compound selected from the group consisting of a compound represented by and a multimer of the compound represented by the general formula (1), and a (meth)acrylic polymer. do.
(1) 요오드계 편광 필름(1) Iodine polarizing film
본 발명에 있어서 사용하는 요오드계 편광 필름은, 요오드 및/또는 요오드 이온을 함유하는 요오드계 편광자의 적어도 편면에 투명 보호 필름을 갖는 것이다. 본 발명에 있어서는, 요오드계 편광자의 편면에 투명 보호 필름을 갖는 편면 보호 편광 필름이어도, 요오드계 편광자의 양면에 투명 보호 필름을 갖는 양면 보호 편광 필름이어도 되지만, 편면 보호 편광 필름을 사용하는 경우에, 본 발명의 효과가 현저하다. 또, 양면 보호 편광 필름이어도, 점착제층과 접하는 측의 투명 보호 필름의 두께가 얇은 (예를 들어, 25 ㎛ 이하) 경우에도, 본 발명의 효과가 현저하다. 또한, 편광 필름이, 편면 보호 편광 필름인 경우에는, 점착제층은, 상기 투명 보호 필름을 갖지 않는 측의 편광자 표면에 직접 형성할 수 있다.The iodine-based polarizing film used in the present invention has a transparent protective film on at least one surface of an iodine-based polarizer containing iodine and/or iodine ions. In the present invention, even if it is a single-sided protective polarizing film having a transparent protective film on one side of the iodine-based polarizer, or a double-sided protective polarizing film having a transparent protective film on both sides of the iodine-based polarizer, when using a single-sided protective polarizing film, The effect of the present invention is remarkable. Moreover, even if it is a double-sided protective polarizing film, the effect of this invention is remarkable even when the thickness of the transparent protective film on the side in contact with an adhesive layer is thin (for example, 25 micrometers or less). In addition, when the polarizing film is a single-sided protective polarizing film, the pressure-sensitive adhesive layer can be directly formed on the surface of the polarizer on the side not having the transparent protective film.
요오드계 편광자로는, 요오드 및/또는 요오드 이온을 함유하는 편광자이면, 어떠한 것이라도 사용할 수 있지만, 예를 들어 폴리비닐알코올 (PVA) 계 필름, 부분 포르말화 PVA 계 필름, 에틸렌·아세트산비닐 공중합체계 부분 비누화 필름 등의 친수성 고분자 필름에, 요오드를 흡착시켜 1 축 연신한 것 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, PVA 계 필름과 요오드로 이루어지는 편광자가 바람직하다. 이들 편광자의 두께는 특별히 제한되지 않지만, 일반적으로 5 ∼ 80 ㎛ 정도이다.As the iodine polarizer, any polarizer containing iodine and/or iodine ions can be used. For example, polyvinyl alcohol (PVA)-based films, partially formalized PVA-based films, and ethylene/vinyl acetate copolymers Examples of a hydrophilic polymer film such as a partially saponified film, uniaxially stretched by adsorbing iodine, are exemplified. Among these, a polarizer made of a PVA-based film and iodine is preferable. The thickness of these polarizers is not particularly limited, but is generally about 5 to 80 µm.
PVA 계 필름을 요오드로 염색하여 1 축 연신한 편광자는, 예를 들어 PVA 를 요오드의 수용액에 침지함으로써 염색하고, 원길이의 3 ∼ 7 배로 연신함으로써 제작할 수 있다. 필요에 따라 붕산이나 황산아연, 염화아연 등을 포함하고 있어도 되는 요오드화칼륨 등의 수용액에 침지할 수도 있다. 또한, 필요에 따라 염색 전에 PVA 계 필름을 물에 침지하여 수세해도 된다. PVA 계 필름을 수세함으로써 PVA 계 필름 표면의 오염이나 블로킹 방지제를 세정할 수 있는 외에, PVA 계 필름을 팽윤시킴으로써 염색의 불균일 등의 불균일을 방지하는 효과도 있다. 연신은 요오드로 염색한 후에 실시해도 되고, 염색하면서 연신해도 되고, 또 연신하고 나서 요오드로 염색해도 된다. 붕산이나 요오드화칼륨 등의 수용액이나 수욕 중에서도 연신할 수 있다.The polarizer obtained by uniaxially stretching a PVA-based film by dyeing it with iodine can be produced by, for example, dyeing by immersing PVA in an aqueous solution of iodine and stretching to 3 to 7 times the original length. If necessary, it may be immersed in an aqueous solution such as potassium iodide which may contain boric acid, zinc sulfate, or zinc chloride. Further, if necessary, before dyeing, the PVA-based film may be immersed in water and washed with water. By washing the PVA-based film with water, it is possible to wash the surface of the PVA-based film with an anti-blocking agent or contamination, and by swelling the PVA-based film, there is also an effect of preventing non-uniformity such as non-uniformity in dyeing. Stretching may be performed after dyeing with iodine, stretching may be performed while dyeing, or may be dyed with iodine after stretching. It can also be stretched in an aqueous solution such as boric acid or potassium iodide or in a water bath.
또, 본 발명에 있어서는, 두께가 10 ㎛ 이하인 박형 요오드계 편광자도 바람직하게 사용할 수 있다. 박형화의 관점에서 말하면 당해 두께는 1 ∼ 7 ㎛ 인 것이 바람직하다. 이와 같은 박형 요오드계 편광자는, 두께 불균일이 적고, 시인성이 우수하고, 또 치수 변화가 적기 때문에 내구성이 우수하고, 나아가서는 편광 필름으로서의 두께도 박형화가 도모되는 점이 바람직하다.In addition, in the present invention, a thin iodine polarizer having a thickness of 10 µm or less can also be preferably used. Speaking from the viewpoint of thinning, the thickness is preferably 1 to 7 µm. Since such a thin iodine polarizer has little thickness unevenness, has excellent visibility, and has little dimensional change, it is preferable that it is excellent in durability, and further, the thickness as a polarizing film is also reduced in thickness.
박형 편광자로는, 대표적으로는 일본 공개특허공보 소51-069644호나 일본 공개특허공보 2000-338329호나, 국제 공개 제2010/100917호 팜플렛, 국제 공개 제2010/100917호 팜플렛, 또는 일본 특허 4751481호 명세서나 일본 공개특허공보 2012-073563호에 기재되어 있는 박형 편광막을 들 수 있다. 이들 박형 편광막은, PVA 계 수지층과 연신용 수지 기재를 적층체 상태로 연신하는 공정과 염색하는 공정을 포함하는 제법에 의해 얻을 수 있다. 이 제법이면, PVA 계 수지층이 얇아도, 연신용 수지 기재에 지지되고 있는 것에 의해 연신에 의한 파단 등의 문제 없이 연신할 수 있게 된다. As a thin polarizer, representatively, Japanese Patent Application Laid-Open No. 51-069644 or Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-338329, International Publication No. 2010/100917, International Publication No. 2010/100917, or Japanese Patent No. 4751481 B. The thin polarizing film described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-073563 is mentioned. These thin polarizing films can be obtained by a manufacturing method including a step of stretching a PVA-based resin layer and a resin substrate for stretching in a laminated state and a step of dyeing. With this manufacturing method, even if the PVA-based resin layer is thin, it is possible to extend without problems such as fracture due to stretching by being supported by the resin substrate for stretching.
상기 박형 편광막으로는, 적층체 상태로 연신하는 공정과 염색하는 공정을 포함하는 제법 중에서도, 고배율로 연신할 수 있어 편광 성능을 향상시킬 수 있는 점에서, 국제 공개 제2010/100917호 팜플렛, 국제 공개 제2010/100917호 팜플렛, 또는 일본 특허 4751481호 명세서나 일본 공개특허공보 2012-073563호에 기재가 있는 붕산 수용액 중에서 연신하는 공정을 포함하는 제법으로 얻어지는 것이 바람직하고, 특히 일본 특허 4751481호 명세서나 일본 공개특허공보 2012-073563호에 기재된 붕산 수용액 중에서 연신하기 전에 보조적으로 공중 연신하는 공정을 포함하는 제법에 의해 얻어지는 것이 바람직하다.The thin polarizing film can be stretched at a high magnification to improve polarization performance among manufacturing methods including a step of stretching and dyeing in a laminated state, so that the pamphlet of International Publication No. 2010/100917, International Publication No. 2010/100917 It is preferable that it is obtained by a manufacturing method including a step of stretching in an aqueous boric acid solution described in Unexamined Publication No. 2010/100917 pamphlet or Japanese Patent No. 4751481 specification or Japanese Unexamined Patent Publication No. 2012-073563, and in particular, Japanese Patent No. 4751481 specification or It is preferably obtained by a manufacturing method including a step of auxiliary aerial stretching before stretching in an aqueous boric acid solution described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-073563.
또, 본 발명에서 사용하는 요오드계 편광자의, 요오드 및/또는 요오드 이온의 함유량 (이하, 요오드 함유량이라고 하는 경우도 있다.) 은, 편광자 중 1 ∼ 14 중량% 여도 되고, 3 ∼ 12 중량% 여도 되고, 4 ∼ 7.5 중량% 여도 된다. 본 발명의 점착제층이 형성된 편광 필름은, 요오드계 편광자 중의 요오드 함유량이 상기 범위와 같이 많아도, 당해 점착제층이 형성된 편광 필름에 적층된 투명 도전층의 표면 저항 상승을 억제할 수 있다. 이것은, 점착제층에 포함되는 인산계 화합물에 의해 투명 도전층 표면에 피막을 형성하기 때문에, 요오드계 편광 필름에 포함되는 요오드가, 투명 도전층 표면까지 이행하지 않고, 그 결과 투명 도전층의 부식이 저해되기 때문이라고 생각된다. 구체적으로는, 상기 인산계 화합물이 인산을 포함하는 경우, 당해 인산이 투명 도전층 표면에서, 투명 도전층 중의 금속 이온과 부동태 피막을 형성하고, 상기 인산계 화합물이 인산 화합물 (예를 들어, 인산에스테르 등) 을 포함하는 경우에는, 당해 인산 화합물이 선택적으로 투명 도전층 표면에 흡착하여 피막을 형성할 수 있다.Moreover, the content of iodine and/or iodine ion (hereinafter, referred to as iodine content may be referred to as iodine content) of the iodine polarizer used in the present invention may be 1 to 14% by weight or 3 to 12% by weight in the polarizer. It may be, and it may be 4 to 7.5% by weight. The polarizing film with the pressure-sensitive adhesive layer of the present invention can suppress an increase in surface resistance of the transparent conductive layer laminated on the polarizing film with the pressure-sensitive adhesive layer even if the iodine content in the iodine-based polarizer is as large as the above range. This is because the phosphate-based compound contained in the pressure-sensitive adhesive layer forms a film on the surface of the transparent conductive layer, so that iodine contained in the iodine-based polarizing film does not migrate to the surface of the transparent conductive layer, resulting in corrosion of the transparent conductive layer. I think it is because it is hindered. Specifically, when the phosphoric acid-based compound contains phosphoric acid, the phosphoric acid forms a passivation film with metal ions in the transparent conductive layer on the surface of the transparent conductive layer, and the phosphoric acid-based compound is a phosphoric acid compound (e.g., phosphoric acid Ester, etc.), the phosphoric acid compound can be selectively adsorbed on the surface of the transparent conductive layer to form a film.
상기 요오드계 편광자의 편면, 또는 양면에 형성되는 투명 보호 필름을 형성하는 재료로는, 투명성, 기계적 강도, 열 안정성, 수분 차단성, 등방성 등이 우수한 것이 바람직하다. 예를 들어, 폴리에틸렌테레프탈레이트나 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르계 폴리머, 디아세틸셀룰로오스나 트리아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스계 폴리머, 폴리메틸메타크릴레이트 등의 아크릴계 폴리머, 폴리스티렌이나 아크릴로니트릴·스티렌 공중합체 (AS 수지) 등의 스티렌계 폴리머, 폴리카보네이트계 폴리머 등을 들 수 있다. 또, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 시클로계 내지는 노르보르넨 구조를 갖는 폴리올레핀, 에틸렌·프로필렌 공중합체 등의 폴리올레핀계 폴리머, 염화비닐계 폴리머, 나일론이나 방향족 폴리아미드 등의 아미드계 폴리머, 이미드계 폴리머, 술폰계 폴리머, 폴리에테르술폰계 폴리머, 폴리에테르에테르케톤계 폴리머, 폴리페닐렌술파이드계 폴리머, 비닐알코올계 폴리머, 염화비닐리덴계 폴리머, 비닐부티랄계 폴리머, 아릴레이트계 폴리머, 폴리옥시메틸렌계 폴리머, 에폭시계 폴리머, 또는 상기 폴리머의 블렌드물 등도 상기 투명 보호 필름을 형성하는 폴리머의 예로서 들 수 있다. 투명 보호 필름은, 아크릴계, 우레탄계, 아크릴우레탄계, 에폭시계, 실리콘계 등의 열 경화형, 자외선 경화형 수지의 경화층으로서 형성할 수도 있다.As a material for forming a transparent protective film formed on one side or both sides of the iodine polarizer, it is preferable to have excellent transparency, mechanical strength, thermal stability, moisture barrier properties, isotropic properties, and the like. For example, polyester polymers such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, cellulose polymers such as diacetyl cellulose and triacetyl cellulose, acrylic polymers such as polymethyl methacrylate, polystyrene or acrylonitrile-styrene copolymer Styrene polymers, such as (AS resin), polycarbonate polymers, etc. are mentioned. In addition, polyethylene, polypropylene, polyolefin having a cyclo-based or norbornene structure, polyolefin-based polymers such as ethylene-propylene copolymers, vinyl chloride-based polymers, amide-based polymers such as nylon or aromatic polyamide, imide-based polymers, liquor Pone polymer, polyether sulfone polymer, polyether ether ketone polymer, polyphenylene sulfide polymer, vinyl alcohol polymer, vinylidene chloride polymer, vinyl butyral polymer, arylate polymer, polyoxymethylene polymer, Epoxy polymers, blends of the polymers, etc. are also exemplified as examples of polymers forming the transparent protective film. The transparent protective film can also be formed as a cured layer of a heat-curable, ultraviolet-curable resin such as acrylic, urethane, acrylic urethane, epoxy, and silicone.
보호 필름의 두께는, 적절히 결정할 수 있지만, 일반적으로는 강도나 취급성 등의 작업성, 박막성 등의 점에서 1 ∼ 500 ㎛ 정도이다.The thickness of the protective film can be appropriately determined, but is generally about 1 to 500 µm in terms of workability such as strength and handling properties, and thin film properties.
상기 요오드계 편광자와 투명 보호 필름은 통상, 수계 접착제 등을 개재하여 밀착되어 있다. 수계 접착제로는, 이소시아네이트계 접착제, 폴리비닐알코올계 접착제, 젤라틴계 접착제, 비닐계 라텍스계, 수계 폴리우레탄, 수계 폴리에스테르 등을 예시할 수 있다. 상기 외, 편광자와 투명 보호 필름의 접착제로는, 자외선 경화형 접착제, 전자선 경화형 접착제 등을 들 수 있다. 전자선 경화형 편광 필름용 접착제는, 상기 각종 투명 보호 필름에 대하여, 바람직한 접착성을 나타낸다. 또 본 발명에서 사용하는 접착제에는, 금속 화합물 필러를 함유시킬 수 있다.The iodine polarizer and the transparent protective film are usually in close contact with each other through a water-based adhesive or the like. Examples of the water-based adhesive include isocyanate-based adhesives, polyvinyl alcohol-based adhesives, gelatin-based adhesives, vinyl-based latex-based, water-based polyurethanes, and water-based polyesters. In addition to the above, examples of the adhesive between the polarizer and the transparent protective film include an ultraviolet curable adhesive and an electron beam curable adhesive. The adhesive for an electron beam-curable polarizing film shows preferable adhesiveness with respect to the said various transparent protective films. Moreover, a metal compound filler can be made to contain in the adhesive agent used by this invention.
상기 투명 보호 필름의 요오드계 편광자를 접착시키지 않는 면에는, 하드 코트층이나 반사 방지 처리, 스티킹 방지나, 확산 내지 안티글레어를 목적으로 한 처리를 실시한 것이어도 된다.The surface of the transparent protective film on which the iodine polarizer is not adhered may be subjected to a treatment for the purpose of a hard coat layer, antireflection treatment, anti-sticking, or diffusion or antiglare.
본 발명에서 사용하는 요오드계 편광 필름의 총 두께는, 점착제층이 형성된 편광 필름의 박형화의 요망에 응하기 위해, 80 ㎛ 이하인 것이 바람직하고, 70 ㎛ 이하인 것이 보다 바람직하며, 60 ㎛ 이하인 것이 더 바람직하다. 편광 필름의 총 두께의 하한으로는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 10 ㎛ 를 들 수 있다.The total thickness of the iodine-based polarizing film used in the present invention is preferably 80 µm or less, more preferably 70 µm or less, and still more preferably 60 µm or less, in order to meet the demand for thinning of the polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer is formed. . Although it does not specifically limit as a lower limit of the total thickness of a polarizing film, For example, 10 micrometers is mentioned.
(2) 점착제층(2) adhesive layer
본 발명의 점착제층이 형성된 편광 필름에 사용되는 점착제층은, 아크릴계 점착제 조성물로 형성된다. 아크릴계 점착제 조성물은, The pressure-sensitive adhesive layer used in the polarizing film with the pressure-sensitive adhesive layer of the present invention is formed of an acrylic pressure-sensitive adhesive composition. The acrylic pressure-sensitive adhesive composition,
하기 일반식 (1) :The following general formula (1):
[화학식 3][Formula 3]
(식 중, R1 및 R2 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 또는 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기를 나타낸다.)(In the formula, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon residue having 1 to 18 carbon atoms which may contain an oxygen atom.)
로 나타내는 화합물, 및 상기 일반식 (1) 로 나타내는 화합물의 다량체로 이루어지는 군에서 선택되는 인산계 화합물, 및 (메트)아크릴계 폴리머를 함유한다.It contains a phosphoric acid-based compound selected from the group consisting of a compound represented by and a multimer of the compound represented by the general formula (1), and a (meth)acrylic polymer.
상기 인산계 화합물로는, 후술하는 바와 같이, 인산, 인산에스테르, 또는 그들의 염이나 2 량체, 3 량체 등을 들 수 있다. 이들에 대하여, 이하에 상세하게 설명한다.As the phosphoric acid-based compound, as will be described later, phosphoric acid, phosphoric acid esters, or salts, dimers, and trimers thereof may be mentioned. These will be described in detail below.
일반식 (1) 중, R1 및 R2 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 또는 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기이다. 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기로는, 탄소수 1 ∼ 18 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 18 의 알케닐기, 탄소수 6 ∼ 18 의 아릴기, -(CH2CH2O)nR3 (R3 은, 탄소수 1 ∼ 18 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 18 의 알케닐기, 또는 탄소수 6 ∼ 18 의 아릴기이고, n 은 0 ∼ 15 의 정수이다.) 등을 들 수 있다. 또, 알킬기, 알케닐기는, 직사슬형이어도 되고 분기사슬형이어도 된다. 이들 중에서도, 상기 탄소수의 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기로는, 탄소수 1 ∼ 10 의 직사슬 또는 분기의 알킬기, 탄소수 6 ∼ 18 의 아릴기가 바람직하고, 탄소수 2 ∼ 6 의 직사슬 또는 분기의 알킬기가 보다 바람직하다.In General Formula (1), R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom or a hydrocarbon residue having 1 to 18 carbon atoms which may contain an oxygen atom. As a C1-C18 hydrocarbon residue which may contain an oxygen atom, a C1-C18 alkyl group, a C1-C18 alkenyl group, a C6-C18 aryl group, -(CH 2 CH 2 O) n R 3 (R 3 is a C1-C18 alkyl group, a C1-C18 alkenyl group, or a C6-C18 aryl group, and n is an integer of 0-15.) etc. are mentioned. Moreover, the alkyl group and the alkenyl group may be linear or branched. Among these, as the C1-C18 hydrocarbon residue, a C1-C10 linear or branched alkyl group and a C6-C18 aryl group are preferable, and a C2-C6 linear or branched alkyl group is more desirable.
본 발명에 있어서는, 일반식 (1) 의, R1 및 R2 모두가, 수소 원자인 인산 (H3PO4) 도 바람직하게 사용할 수 있다. 또, 상기 인산의 염 (나트륨, 칼륨, 및 마그네슘 등의 금속염, 암모늄염 등) 도 바람직하게 사용할 수 있다.In the present invention, phosphoric acid (H 3 PO 4 ) in which both R 1 and R 2 in the general formula (1) are hydrogen atoms can also be preferably used. In addition, salts of the above phosphoric acid (metal salts such as sodium, potassium, and magnesium, ammonium salts, etc.) can also be preferably used.
또, 본 발명에 있어서는, 일반식 (1) 로 나타내는 화합물이, 산성 인산에스테르인 것이 바람직하다. 여기서, 산성 인산에스테르란, 일반식 (1) 의, R1 및 R2 모두가, 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기 인 경우 (디에스테르체) 나, R1, R2 중 어느 일방이 수소 원자이고, 타방이 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기인 경우 (모노에스테르체) 이고, 예를 들어 이하의 일반식 (2) :Moreover, in this invention, it is preferable that the compound represented by general formula (1) is an acidic phosphoric acid ester. Here, the acidic phosphoric acid ester is a case where both R 1 and R 2 in the general formula (1) are hydrocarbon residues having 1 to 18 carbon atoms which may contain an oxygen atom (diester product) or R 1 , R In the case of a hydrocarbon residue having 1 to 18 carbon atoms in which one of 2 is a hydrogen atom and the other may contain an oxygen atom (monoester), for example, the following general formula (2):
[화학식 4][Formula 4]
(식 중, R1 은, 상기와 동일하고, R3 은, 탄소수 1 ∼ 18 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 18 의 알케닐기, 또는 탄소수 6 ∼ 18 의 아릴기이고, n 은 0 ∼ 15 의 정수이다.) (In the formula, R 1 is the same as the above, R 3 is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 18 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 18 carbon atoms, and n is an integer of 0 to 15 .)
로 나타내는 인산에스테르계 화합물을 들 수 있다.The phosphate ester compound represented by is mentioned.
일반식 (2) 의 R1 은, 일반식 (1) 의 R1 과 동일하고, 수소 원자, 또는 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기이다. 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기로는, 상기와 동일한 것을 들 수 있다. 일반식 (2) 의 R1 로는, 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 18 의 직사슬 또는 분기의 알킬기, 또는 탄소수 6 ∼ 18 의 아릴기인 것이 바람직하고, 수소 원자, 또는 탄소수 1 ∼ 10 의 직사슬 또는 분기의 알킬기인 것이 보다 바람직하며, 수소 원자, 또는 탄소수 2 ∼ 6 의 직사슬 또는 분기의 알킬기인 것이 더 바람직하다. R3 으로는, 탄소수 1 ∼ 18 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 18 의 알케닐기, 또는 탄소수 6 ∼ 18 의 아릴기를 들 수 있고, 탄소수 1 ∼ 18 의 알킬기, 탄소수 6 ∼ 18 의 아릴기인 것이 바람직하고, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기가 보다 바람직하며, 탄소수 2 ∼ 6 의 알킬기가 더 바람직하다. 또, n 은, 0 ∼ 15 의 정수이고, 0 ∼ 10 의 정수인 것이 바람직하다. 또, 본 발명에 있어서는, 폴리에틸렌옥사이드 구조 (CH2CH2O) 를 포함하지 않는 (즉, 식 (2) 에 있어서 n = 0) 것이, 열화 방지의 관점에서 바람직하다.R 1 of formula (2) is a hydrocarbon residue having 1 to 18 carbon atoms that is the same as R 1 of formula (1), and may contain a hydrogen atom, or an oxygen atom. Examples of the hydrocarbon residue having 1 to 18 carbon atoms which may contain an oxygen atom include those similar to those described above. R 1 in the general formula (2) is preferably a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 18 carbon atoms, and a hydrogen atom or a linear or branched C1-C10 It is more preferable that it is an alkyl group of, and it is more preferable that it is a hydrogen atom or a C2-C6 linear or branched alkyl group. As R 3 , a C1-C18 alkyl group, a C1-C18 alkenyl group, or a C6-C18 aryl group is mentioned, It is preferable that it is a C1-C18 alkyl group and a C6-C18 aryl group, A C1-C10 alkyl group is more preferable, and a C2-C6 alkyl group is more preferable. Moreover, n is an integer of 0-15, and it is preferable that it is an integer of 0-10. In addition, in the present invention, it is preferable from the viewpoint of preventing deterioration that does not contain a polyethylene oxide structure (CH 2 CH 2 O) (that is, n = 0 in the formula (2)).
일반식 (2) 로 나타내는 인산에스테르계 화합물로는, 피착체에 대한 흡착 효과의 관점에서, R1 이 수소 원자이고, R3 이 탄소수 1 ∼ 18 의 직사슬 또는 분기의 알킬기인 인산모노에스테르가 바람직하고, R1 이 수소 원자이고, R3 이 탄소수 1 ∼ 10 의 직사슬 또는 분기의 알킬기인 인산모노에스테르가 보다 바람직하며, R1 이 수소 원자이고, R3 이 탄소수 2 ∼ 6 의 직사슬 또는 분기의 알킬기인 인산모노에스테르가 더 바람직하다.As the phosphate ester compound represented by the general formula (2), from the viewpoint of the adsorption effect on the adherend, R 1 is a hydrogen atom, and R 3 is a linear or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms. Preferably, R 1 is a hydrogen atom, R 3 is a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably a phosphoric acid monoester, R 1 is a hydrogen atom, and R 3 is a linear chain having 2 to 6 carbon atoms. Or a phosphate monoester which is a branched alkyl group is more preferable.
또, 본 발명에 있어서는, 일반식 (2) 로 나타내는 화합물을 2 종 이상 혼합하여 사용해도 되고, 또 일반식 (2) 로 나타내는 화합물과 상기 인산의 혼합물을 사용해도 된다. 또, 일반적으로, 일반식 (2) 로 나타내는 인산에스테르계 화합물은, 모노에스테르와 디에스테르의 혼합물로서 얻어지는 경우가 많은 것이고, 상기 모노에스테르와 디에스테르의 혼합물에, 상기 인산을 추가로 첨가해 사용하는 것이 바람직하다.Further, in the present invention, two or more types of compounds represented by the general formula (2) may be mixed and used, or a mixture of the compound represented by the general formula (2) and the phosphoric acid may be used. In general, the phosphoric acid ester compound represented by the general formula (2) is often obtained as a mixture of a monoester and a diester, and the phosphoric acid is additionally added to the mixture of the monoester and the diester to be used. It is desirable to do it.
본 발명에 있어서는, 일반식 (2) 로 나타내는 화합물의 염 (나트륨, 칼륨, 및 마그네슘 등의 금속염, 암모늄염 등) 도 바람직하게 사용할 수 있다.In the present invention, salts of the compound represented by the general formula (2) (metal salts such as sodium, potassium, and magnesium, ammonium salts, etc.) can also be preferably used.
상기 일반식 (2) 로 나타내는 인산에스테르계 화합물의 시판품으로는, 토호 화학 공업 (주) 제조의 「포스파놀 SM-172」(일반식 (2) 의 R1 = R3 = C8H17, n = 0, 모노·디 혼합물, 산가 : 219 ㎎KOH/g), 「포스파놀 GF-185」(일반식 (2) 의 R1 = R3 = C13H27, n = 0, 모노·디 혼합물, 산가 : 158 ㎎KOH/g), 「포스파놀 BH-650」(일반식 (2) 의 R1 = R3 = C4H9, n = 1, 모노·디 혼합물, 산가 : 388 ㎎KOH/g), 「포스파놀 RS-410」(일반식 (2) 의 R1 = R3 = C13H27, n = 4, 모노·디 혼합물, 산가 : 105 ㎎KOH/g), 「포스파놀 RS-610」(일반식 (2) 의 R1 = C13H27, R3 = C13H27, n = 6, 모노·디 혼합물, 산가 : 82 ㎎KOH/g), 「포스파놀 RS-710」(일반식 (2) 의 R1 = C13H27, R3 = C13H27, n = 10, 모노·디 혼합물, 산가 : 62 ㎎KOH/g), 「포스파놀 ML-220」(일반식 (2) 의 R1 = R3 = C12H25, n = 2, 모노·디 혼합물), 「포스파놀 ML-200」(일반식 (2) 의 R1 = R3 = C12H25, n = 0, 모노·디 혼합물), 「포스파놀 ED-200」(일반식 (2) 의 R1 = R3 = C8H17, n = 1, 모노·디 혼합물), 「포스파놀 RL-210」(일반식 (2) 의 R1 = R3 = C18H37, n = 2, 모노·디 혼합물), 「포스파놀 GF-339 (일반식 (2) 의 R1 = R3 = C6H13 ∼ C10H21 의 혼합, n = 0, 모노·디 혼합물), 「포스파놀 GF-199」(일반식 (2) 의 R1 = R3 = C12H25, n = 0, 모노·디 혼합물), 「포스파놀 RL-310」(일반식 (2) 의 R1 = R3 = C18H37, n = 3, 모노·디 혼합물), 「포스파놀 LP-700」(일반식 (2) 의 R1 = R3 = C6H5, n = 6, 모노·디 혼합물), 다이하치 화학 공업 (주) 제조의 「AP-1」(일반식 (2) 의 R1 = R3 = CH3, n = 0, 모노·디 혼합물, 산가 : 650 ㎎KOH/g 이상), 「AP-4」(일반식 (2) 의 R1 = R3 = C4H9, n = 0, 모노·디 혼합물, 산가 : 452 ㎎KOH/g), 「DP-4」(일반식 (2) 의 R1 = R3 = C4H9, n = 0, 모노·디 혼합물, 산가 : 292 ㎎KOH/g), 「MP-4」(일반식 (2) 의 R1 = H, R3 = C4H9, n = 0, 모노·디 혼합물, 산가 : 670 ㎎KOH/g), 「AP-8」(일반식 (2) 의 R1 = R3 = C8H17, n = 0, 모노·디 혼합물, 산가 : 306 ㎎KOH/g), 「AP-10」(일반식 (2) 의 R1 = R3 = C10H21, n = 0, 모노·디 혼합물, 산가 : 263 ㎎KOH/g), 「MP-10」(일반식 (2) 의 R1 = H, R3 = C10H21, n = 0, 모노·디 혼합물, 산가 : 400 ㎎KOH/g), 조호쿠 화학 (주) 제조의 「JP-508」(일반식 (2) 의 R1 = R3 = C8H17, n = 0, 모노·디 혼합물, 산가 : 288 ㎎KOH/g), 「JP-513」(일반식 (2) 의 R1 = R3 = C13H27, n = 0, 모노·디 혼합물), 「JP-524R」(일반식 (2) 의 R1 = R3 = C24H49, n = 0, 모노·디 혼합물), 「DBP」(일반식 (2) 의 R1 = R3 = C4H9, n = 0, 모노·디 혼합물, 산가 : 266 ㎎KOH/g), 「LB-58」(일반식 (2) 의 R1 = R3 = C8H17, n = 0, 디에스테르체, 산가 : 173 ㎎KOH/g), 닛코 케미칼즈 (주) 제조의 「닛콜 DDP-2」(일반식 (2) 의 R1 = R3 = C12H25 ∼ C15H31 의 혼합물, n = 2), SIGMA-ALDRICH 제조의 모노-N-부틸포스페이트 (O=P(OH)2(OC4H9), 일반식 (2) 의 R1 = H, R3 = C4H9, n = 0, Product Nomber : CDS001281, 모노에스테르체) 등 그리고 그들의 염을 들 수 있다. 또한, 상기 「모노·디 혼합물」이란, 모노에스테르 (일반식 (2) 의 R1 = H) 와 디에스테르 (일반식 (2) 의 R1 = 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기) 의 혼합물인 것을 나타내는 것이고, 예를 들어 포스파놀 SM-172 의 경우, 모노에스테르 (일반식 (2) 의 R1 = H, R3 = C8H17, n = 0) 와, 디에스테르 (일반식 (2) 의 R1 = R3 = C8H17, n = 0) 의 혼합물인 것을 나타낸다. 상기 「모노·디 혼합물」의 모노에스테르와 디에스테르의 혼합 비율은, 31P-NMR 의 측정 결과로부터 산출할 수 있다. 측정 방법에 대해서는, 실시예에 기재한 바와 같다.As a commercial item of the phosphate ester compound represented by the said general formula (2), "phosphanol SM-172" manufactured by Toho Chemical Industries, Ltd. (R 1 = R 3 = C 8 H 17 of the general formula (2), n = 0, mono-di mixture, acid value: 219 mgKOH/g), "phosphanol GF-185" (R 1 = R 3 = C 13 H 27 of the general formula (2), n = 0, mono-di Mixture, acid value: 158 mgKOH/g), "phosphanol BH-650" (R 1 = R 3 = C 4 H 9 of the general formula (2), n = 1, mono-di mixture, acid value: 388 mgKOH) /g), "phosphanol RS-410" (R 1 = R 3 = C 13 H 27 of the general formula (2), n = 4, mono-di mixture, acid value: 105 mgKOH/g), "phosphanol RS-610" (R 1 = C 13 H 27 , R 3 = C 13 H 27 , n = 6 of the general formula (2), mono-di mixture, acid value: 82 mgKOH/g), "phosphanol RS- 710" (R 1 = C 13 H 27 , R 3 = C 13 H 27 , n = 10 of the general formula (2), mono-di mixture, acid value: 62 mgKOH/g), "phosphanol ML-220" (R 1 = R 3 = C 12 H 25 of the general formula (2), n = 2, mono-di mixture), ``phosphanol ML-200'' (R 1 = R 3 = C 12 of the general formula (2) H 25 , n = 0, mono-di mixture), ``phosphanol ED-200'' (R 1 = R 3 = C 8 H 17 , n = 1, mono-di mixture of general formula (2)), ``phos Phanol RL-210" (R 1 = R 3 = C 18 H 37 of the general formula (2), n = 2, mono-di mixture), ``phosphanol GF-339 (R 1 = R of the general formula (2)) 3 = C 6 H 13 to C 10 H 21 mixture, n = 0, mono-di mixture), "phosphanol GF-199" (R 1 = R 3 = C 12 H 25 , n of the general formula (2)) = 0, mono-di mixture), "phosphanol RL-310" (general R 1 = R 3 = C 18 H 37 of formula (2), n = 3, mono-di mixture), ``phosphanol LP-700'' (R 1 = R 3 = C 6 H 5 of the general formula (2) , n = 6, mono-di mixture), Daihachi Chemical Industries Co., Ltd. ``AP-1'' (R 1 = R 3 = CH 3 of general formula (2), n = 0, mono-di mixture, Acid value: 650 mgKOH/g or more), "AP-4" (R 1 = R 3 = C 4 H 9 of the general formula (2), n = 0, mono-di mixture, acid value: 452 mgKOH/g) , "DP-4" (R 1 = R 3 = C 4 H 9 , n = 0, mono-di mixture, acid value: 292 mgKOH/g of the general formula (2)), "MP-4" (general formula (2) of R 1 = H, R 3 = C 4 H 9 , n = 0, mono-di mixture, acid value: 670 mgKOH/g), "AP-8" (R 1 of general formula (2) = R 3 = C 8 H 17 , n = 0, mono-di mixture, acid value: 306 mgKOH/g), “AP-10” (R 1 in the general formula (2) = R 3 = C 10 H 21 , n = 0, mono-di mixture, acid value: 263 mgKOH/g), "MP-10" (R 1 = H, R 3 = C 10 H 21 of the general formula (2), n = 0, mono-di mixture , Acid value: 400 mgKOH/g), "JP-508" manufactured by Johoku Chemical Co., Ltd. (R 1 = R 3 = C 8 H 17 of the general formula (2), n = 0, mono-di mixture, Acid value: 288 mgKOH/g), "JP-513" (R 1 = R 3 = C 13 H 27 of the general formula (2), n = 0, mono-di mixture), "JP-524R" (general formula (2) of R 1 = R 3 = C 24 H 49 , n = 0, mono-di mixture), ``DBP'' (R 1 = R 3 = C 4 H 9 of the general formula (2), n = 0, Mono-D mixture, acid value: 266 mgKOH/g), "LB-58" (R 1 = R 3 = C 8 H 17 of the general formula (2), n = 0, Diester, acid value: 173 mgKOH/g), Nikko Chemicals Co., Ltd. "Nikko DDP-2" (R 1 = R 3 = C 12 H 25 to C 15 H 31 of the general formula (2)) Mixture, n = 2), mono-N-butyl phosphate manufactured by SIGMA-ALDRICH (O = P(OH) 2 (OC 4 H 9 ), R 1 = H, R 3 = C 4 H of the general formula (2) 9 , n = 0, Product Nomber: CDS001281, monoester) and the like, and salts thereof. In addition, the said "mono-di mixture" is C1-C18 which may contain monoester (R 1 = H of general formula (2)) and diester (R 1 = oxygen atom of general formula (2)). In the case of phosphanol SM-172, for example, in the case of phosphanol SM-172, a monoester (R 1 = H, R 3 = C 8 H 17 , n = 0 of the general formula (2)) and, It shows that it is a mixture of diester (R 1 = R 3 = C 8 H 17 , n = 0 of the general formula (2)). The mixing ratio of the monoester and diester of the said "mono-di mixture" can be calculated from the measurement result of 31 P-NMR. About the measurement method, it is as described in an Example.
본 발명에서 사용하는 인산계 화합물로는, 일반식 (1) 로 나타내는 화합물 (또는, 일반식 (2) 로 나타내는 화합물), 또는 이들의 염이나 다량체로 이루어지는 군에서 선택되는 화합물을 1 종 단독으로 사용해도 되고 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 되지만, 피착체 (특히, 금속 또는 금속 산화물이나, 금속 또는 금속 산화물로 이루어지는 층을 갖는 피착체) 에 대한 흡착 효과의 관점에서, 인산, 인산모노에스테르, 및 인산디에스테르로 이루어지는 군에서 선택되는 2 개 이상의 혼합물인 것이 바람직하고, 인산을 포함하고, 또한 인산모노에스테르 및 인산디에스테르로 이루어지는 군에서 선택되는 1 개 이상의 인산에스테르를 포함하는 혼합물인 것이 보다 바람직하며, 인산모노에스테르 및 인산을 포함하는 혼합물인 것이 특히 바람직하다. 본 발명에 있어서는, 인산, 인산모노에스테르, 및 인산디에스테르로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 단독을 사용할 수도 있지만, 인산을 단독으로 사용하면, 점착제 조성물의 포트 라이프가 불충분해지는 경우가 있다. 또, 인산은 매우 극성이 높은 화합물이고, 아크릴계 폴리머와의 상용성이 충분하지 않기 때문에, 인산이 점착제층 표면으로 블리드 아웃하고, 그 결과, 내구성의 점에서 문제가 발생하는 경우가 있다. 또, 인산을 사용하지 않고, 인산에스테르 (인산모노에스테르 및/또는 인산디에스테르) 만을 사용하면, 매우 가혹한 조건에서의 내구성 (예를 들어, 히트 사이클 시험 등) 에서 문제가 생기는 경우가 있다. 본 발명에 있어서는, 투명 도전층의 부식 억제와 매우 가혹한 조건에서의 내구성의 밸런스의 관점에서는, 인산과 인산모노에스테르를 포함하는 인산계 화합물을 사용하는 것이 가장 바람직하다. 또, 인산 및 인산모노에스테르의 합계량은, 특별히 한정되지 않지만, 인산계 화합물 100 중량% 에 있어서 80 중량% 이상인 것이 바람직하다. 여기서, 인산모노에스테르란, 일반식 (1) 의 R1 및 R2 중 어느 일방이 수소 원자이고, 타방이 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기인 화합물 (일반식 (2) 의 경우에는, R1 이 수소 원자인 화합물) 이고, 인산디에스테르란, 일반식 (1) 의 R1 및 R2 가, 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기인 화합물 (일반식 (2) 의 경우는, R1 이 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기인 화합물) 이다.As the phosphoric acid-based compound used in the present invention, a compound selected from the group consisting of a compound represented by the general formula (1) (or a compound represented by the general formula (2)), or a salt or multimer thereof may be used alone. Although it may be used or may be used in combination of two or more, from the viewpoint of the adsorption effect on the adherend (especially, a metal or metal oxide, or an adherend having a layer made of metal or metal oxide), And a mixture of two or more selected from the group consisting of phosphoric acid diesters, and containing phosphoric acid, and more preferably a mixture containing one or more phosphoric acid esters selected from the group consisting of phosphoric acid monoesters and phosphoric acid diesters. It is preferred, and it is particularly preferred that it is a mixture comprising a phosphoric acid monoester and phosphoric acid. In the present invention, one selected from the group consisting of phosphoric acid, phosphoric acid monoester, and phosphoric acid diester may be used alone, but when phosphoric acid is used alone, the pot life of the pressure-sensitive adhesive composition may be insufficient. Further, since phosphoric acid is a highly polar compound and has insufficient compatibility with an acrylic polymer, phosphoric acid bleeds out to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer, and as a result, a problem may arise in terms of durability. In addition, when phosphoric acid is not used and only phosphoric acid esters (phosphoric acid monoesters and/or phosphoric acid diesters) are used, a problem may arise in durability under very severe conditions (eg, heat cycle test, etc.). In the present invention, it is most preferable to use a phosphoric acid-based compound containing phosphoric acid and a phosphoric acid monoester from the viewpoint of the balance of corrosion inhibition of the transparent conductive layer and durability under very severe conditions. Moreover, although the total amount of phosphoric acid and phosphoric acid monoester is not specifically limited, It is preferable that it is 80 weight% or more in 100 weight% of a phosphoric acid compound. Here, the phosphate monoester is a compound which is a hydrocarbon residue having 1 to 18 carbon atoms in which either one of R 1 and R 2 in the general formula (1) is a hydrogen atom and the other may contain an oxygen atom (general formula (2) In the case of ), R 1 is a compound in which
상기 피착체 (특히 금속 또는 금속 산화물) 에 대한 흡착 효과는, 피착면과 인산계 화합물이, HSAB 칙으로 정의되는, 즉 「굳은 및 무른 산염기의 법칙」에 관계한다고 생각되고, 굳은 산에는 굳은 염기, 무른 산에는 무른 염기를 조합함으로써 흡착 효과가 높고, 그 결과 높은 열화 방지 효과가 얻어진다고 생각된다. 즉, 예를 들어, ITO 의 In 은 HSAB 칙으로 정의되는 굳은 산에 해당하고, 인산계 화합물은, 인산, 인산모노에스테르, 인산디에스테르의 순서로 굳은 염기로부터 무른 염기로 되기 때문에, 상기 순서로 효과적으로 ITO 에 흡착할 수 있고, 그 결과, 높은 열화 방지 효과가 얻어진다고 생각된다.The adsorption effect on the adherend (especially metal or metal oxide) is considered to be related to the ``law of hard and soft acid groups'', defined by the HSAB rule, for the adherend and the phosphoric acid-based compound. It is thought that the adsorption effect is high by combining a soft base with a base and a soft acid, and a high deterioration prevention effect is obtained as a result. That is, for example, In of ITO corresponds to a hard acid defined by the HSAB rule, and a phosphoric acid-based compound becomes a soft base from a hard base in the order of phosphoric acid, a phosphate monoester, and a phosphate diester. It is considered that it can effectively adsorb to ITO, and as a result, a high deterioration prevention effect is obtained.
또, 모노에스테르체와 디에스테르체의 혼합물을 사용하는 경우에는, 모노에스테르체를 다량으로 포함하는 혼합물인 것이 바람직하다. 상기 모노에스테르체와 디에스테르체의 혼합물의 혼합 비율 (중량비) 은, 모노에스테르체 : 디에스테르체 = 6 : 4 ∼ 9 : 1 인 것이 바람직하고, 7 : 3 ∼ 9 : 1 인 것이 보다 바람직하다. 상기 이유로부터, 모노에스테르체를 다량으로 포함함으로써, 피착체에 대한 흡착 효과가 높기 때문에 바람직하다. Moreover, when using a mixture of a monoester body and a diester body, it is preferable that it is a mixture containing a monoester body in a large amount. The mixing ratio (weight ratio) of the mixture of the monoester body and the diester body is preferably monoester body: diester body = 6:4 to 9:1, more preferably 7:3 to 9:1 . From the above reasons, it is preferable that the monoester body is contained in a large amount because the adsorption effect on the adherend is high.
또, 전술한 바와 같이, 본 발명에 있어서는, 인산에스테르계 화합물 (특히 인산모노에스테르) 에 추가로 인산을 첨가하는 것이 바람직하고, 그 경우의 인산의 첨가량은, 인산에스테르계 화합물 100 중량부에 대하여, 10 ∼ 400 중량부인 것이 바람직하고, 10 ∼ 100 중량부인 것이 보다 바람직하며, 10 ∼ 50 중량부인 것이, 피착체에 대한 흡착 효과의 관점에서 바람직하다. 또, 매우 가혹한 조건에서의 내구성의 관점에서는, 인산의 첨가량은, 인산에스테르계 화합물 100 중량부에 대하여, 10 ∼ 100 중량부인 것이 바람직하고, 10 ∼ 50 중량부인 것이 보다 바람직하다.In addition, as described above, in the present invention, it is preferable to further add phosphoric acid to the phosphate ester compound (especially phosphate monoester), and the amount of phosphoric acid in that case is based on 100 parts by weight of the phosphate ester compound. It is preferably 10 to 400 parts by weight, more preferably 10 to 100 parts by weight, and 10 to 50 parts by weight is preferable from the viewpoint of the adsorption effect on the adherend. In addition, from the viewpoint of durability under very severe conditions, the amount of phosphoric acid added is preferably 10 to 100 parts by weight, and more preferably 10 to 50 parts by weight, based on 100 parts by weight of the phosphate ester compound.
또, 본 발명에 있어서 사용하는 인산 화합물의 산가는, 900 ㎎KOH/g 이하인 것이 바람직하고, 50 ∼ 800 ㎎KOH/g 인 것이 보다 바람직하며, 10 ∼ 700 ㎎KOH/g 인 것이 바람직하다. 또, 생산상 취급의 관점에서는, 상기 인산 화합물의 산가는, 400 ㎎KOH/g 이하인 것이 바람직하고, 50 ∼ 400 ㎎KOH/g 인 것이 보다 바람직하며, 50 ∼ 350 ㎎KOH/g 인 것이 더 바람직하고, 100 ∼ 300 ㎎KOH/g 인 것이 특히 바람직하다. 인산 화합물은, 후술하는 가교제의 종류 (예를 들어, 이소시아네이트계 가교제) 에 따라서는, 가교 반응의 반응 촉매로서 작용하는 경우가 있고, 그 경우에는, 점착제로서의 포트 라이프가 짧아지는 경우가 있었다. 인산 화합물의 산가를 상기 범위로 함으로써, 반응 촉매로서 작용하는 것을 억제할 수 있으므로 점착제의 포트 라이프의 관점에서 바람직하다. 또, 상기 범위의 산가를 갖는 인산 화합물을, 후술하는 첨가량으로 첨가하는 것이, 효율적으로 효과를 발휘할 수 있는 관점에서 바람직하다.Further, the acid value of the phosphoric acid compound used in the present invention is preferably 900 mgKOH/g or less, more preferably 50 to 800 mgKOH/g, and preferably 10 to 700 mgKOH/g. In addition, from the viewpoint of productive handling, the acid value of the phosphoric acid compound is preferably 400 mgKOH/g or less, more preferably 50 to 400 mgKOH/g, and more preferably 50 to 350 mgKOH/g. And it is particularly preferably 100 to 300 mgKOH/g. The phosphoric acid compound may act as a reaction catalyst for a crosslinking reaction depending on the kind of crosslinking agent described later (for example, an isocyanate crosslinking agent), and in that case, the pot life as an adhesive may be shortened. By setting the acid value of the phosphoric acid compound in the above range, it is possible to suppress the action as a reaction catalyst, which is preferable from the viewpoint of the pot life of the pressure-sensitive adhesive. Moreover, it is preferable from the viewpoint that an effect can be exhibited efficiently to add the phosphoric acid compound which has an acid value in the said range by the addition amount mentioned later.
또, 상기 일반식 (1) 로 나타내는 화합물의 다량체로는, 상기 일반식 (1) 로 나타내는 화합물의 2 량체, 3 량체 등을 들 수 있다.Moreover, as a multimer of the compound represented by the said general formula (1), the dimer, a trimer, etc. of the compound represented by the said general formula (1) are mentioned.
상기 인산계 화합물의 첨가량은, 후술하는 (메트)아크릴계 폴리머 100 중량부에 대하여, 0.001 ∼ 4 중량부인 것이 바람직하고, 0.001 ∼ 3 중량부인 것이 보다 바람직하며, 0.001 ∼ 2 중량부인 것이 더 바람직하고, 0.005 ∼ 1 중량부인 것이 특히 바람직하며, 0.01 ∼ 1 중량부인 것이 더 바람직하고, 0.02 ∼ 0.2 중량부인 것이 특히 바람직하다. 인산계 화합물의 첨가량이 상기 범위 내임으로써, 투명 도전층의 표면 저항값의 상승을 억제할 수 있고, 또한 가열·가습에 대한 내구성이 향상될 수 있으므로 바람직하다. 또, 본 발명에 있어서는, 전술한 바와 같이, 인산, 인산에스테르 등의 인산 화합물을 병용할 수 있지만, 그 경우는, 합계량이 상기 범위가 되도록 첨가할 수 있다.The amount of the phosphoric acid-based compound added is preferably 0.001 to 4 parts by weight, more preferably 0.001 to 3 parts by weight, more preferably 0.001 to 2 parts by weight, based on 100 parts by weight of the (meth)acrylic polymer described later, It is particularly preferably 0.005 to 1 part by weight, more preferably 0.01 to 1 part by weight, and particularly preferably 0.02 to 0.2 part by weight. When the amount of the phosphoric acid compound is within the above range, an increase in the surface resistance value of the transparent conductive layer can be suppressed, and durability against heating and humidification can be improved, which is preferable. Further, in the present invention, as described above, phosphoric acid compounds such as phosphoric acid and phosphoric acid esters can be used in combination, but in that case, it can be added so that the total amount is within the above range.
본 발명에 있어서는, 상기 인산계 화합물을 포함하는 아크릴계 점착제 조성물로 형성되는 점착제층을 갖는 점착제층이 형성된 편광 필름으로 함으로써, 점착제층이 형성된 편광 필름의 점착제층면에, 투명 도전층을 적층해도, 투명 도전층의 표면 저항 상승을 억제할 수 있는 것이다. 상기 인산계 화합물에 인산이 포함되는 경우, 당해 인산이 투명 도전층 표면에서, 투명 도전층 중의 금속 이온과 부동태 피막을 형성하여, 편광자 중의 요오드가, 투명 도전층 표면까지 이행하지 않고, 그 결과 투명 도전층의 부식이 저해되기 때문이라고 생각되고, 또 상기 인산계 화합물이 인산 화합물 (예를 들어, 인산에스테르 등) 을 함유하는 경우, 당해 인산 화합물이 선택적으로 투명 도전층 표면에 흡착하여 피막을 형성하기 때문에, 편광자 중의 요오드가, 투명 도전층 표면까지 이행하지 않고, 그 결과 투명 도전층의 부식이 저해되기 때문이라고 생각된다.In the present invention, it is transparent even if a transparent conductive layer is laminated on the pressure-sensitive adhesive layer surface of the polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer is formed by using a polarizing film having a pressure-sensitive adhesive layer formed of an acrylic pressure-sensitive adhesive composition containing the phosphoric acid-based compound. It is possible to suppress an increase in the surface resistance of the conductive layer. When phosphoric acid is contained in the phosphoric acid-based compound, the phosphoric acid forms a passivation film with metal ions in the transparent conductive layer on the surface of the transparent conductive layer, and iodine in the polarizer does not migrate to the surface of the transparent conductive layer, as a result of which it is transparent. It is thought that this is because corrosion of the conductive layer is inhibited, and when the phosphoric acid compound contains a phosphoric acid compound (for example, phosphoric acid ester, etc.), the phosphoric acid compound is selectively adsorbed to the surface of the transparent conductive layer to form a film. Therefore, it is considered that iodine in the polarizer does not migrate to the surface of the transparent conductive layer, and as a result, corrosion of the transparent conductive layer is inhibited.
여기서 말하는 부식에 대하여, 금속 산화물에서는, 일반적으로 알려져 있는 금속 부식과는 상이한 기구로 부식이 일어나고 있다. ITO 와 같은 금속 산화물의 경우, 편광자 유래의 요오드가, 금속 산화물층 중으로 스며들고, 금속 산화물의 캐리어 이동도를 저하시키기 때문에, 저항값의 상승이 발생한다.Regarding the corrosion referred to herein, in the metal oxide, corrosion occurs in a mechanism different from that of generally known metal corrosion. In the case of a metal oxide such as ITO, since iodine derived from a polarizer permeates into the metal oxide layer and lowers the carrier mobility of the metal oxide, an increase in the resistance value occurs.
본 발명에 있어서는, 전술한 바와 같은 금속 산화물의 부식에 대하여 우수한 부식 억제 효과를 발현할 수 있는 것이고, 특히 금속 산화물로 이루어지는 투명 도전층에 대하여 보다 양호한 효과를 발휘할 수 있는 것이다.In the present invention, an excellent corrosion inhibitory effect can be exhibited against corrosion of a metal oxide as described above, and particularly, a more favorable effect can be exhibited with respect to a transparent conductive layer made of a metal oxide.
본 발명에서 사용하는 (메트)아크릴계 폴리머로는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들어 알킬(메트)아크릴레이트를 함유하는 모노머 성분을 중합하여 얻어진 것이 바람직하고, 알킬(메트)아크릴레이트 및 하이드록실기 함유 모노머를 함유하는 모노머 성분을 중합하여 얻어진 것이 바람직하다. 또한, 알킬(메트)아크릴레이트는, 알킬아크릴레이트 및/또는 알킬메타크릴레이트를 말하고, 본 발명의 (메트) 와는 동일한 의미이다.The (meth)acrylic polymer used in the present invention is not particularly limited, but, for example, it is preferably obtained by polymerizing a monomer component containing an alkyl (meth) acrylate, and an alkyl (meth) acrylate and a hydroxyl polymer. It is preferable that it is obtained by polymerizing a monomer component containing an actual group-containing monomer. In addition, alkyl (meth)acrylate refers to an alkyl acrylate and/or an alkyl methacrylate, and has the same meaning as (meth) of this invention.
알킬(메트)아크릴레이트에 관련된 알킬기로는, 직사슬형 또는 분기사슬형의 각종의 것을 사용할 수 있다. 상기 알킬(메트)아크릴레이트의 구체예로는, 예를 들어 프로필(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, 이소부틸(메트)아크릴레이트, sec-부틸(메트)아크릴레이트, t-부틸(메트)아크릴레이트, n-펜틸(메트)아크릴레이트, 이소펜틸(메트)아크릴레이트, 이소아밀(메트)아크릴레이트, n-헥실(메트)아크릴레이트, 헵틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 이소옥틸(메트)아크릴레이트, n-노닐(메트)아크릴레이트, 이소노닐(메트)아크릴레이트, n-데실(메트)아크릴레이트, 이소데실(메트)아크릴레이트, n-도데실(메트)아크릴레이트, 이소미리스틸(메트)아크릴레이트, n-트리데실(메트)아크릴레이트, 테트라데실(메트)아크릴레이트, 스테아릴(메트)아크릴레이트, 옥타데실(메트)아크릴레이트, 또는 도데실(메트)아크릴레이트 등을 예시할 수 있다. 이들은 단독으로 혹은 조합하여 사용할 수 있다. 이들 중에서도, 탄소수 4 ∼ 18 의 알킬기를 갖는 알킬(메트)아크릴레이트가 바람직하고, 탄소수 4 ∼ 10 의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴레이트가 보다 바람직하며, n-부틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트가 더 바람직하고, n-부틸(메트)아크릴레이트가 특히 바람직하다.As the alkyl group related to the alkyl (meth)acrylate, various types of linear or branched chain can be used. Specific examples of the alkyl (meth) acrylate, for example, propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, sec-butyl (meth) acrylate, t -Butyl (meth)acrylate, n-pentyl (meth)acrylate, isopentyl (meth)acrylate, isoamyl (meth)acrylate, n-hexyl (meth)acrylate, heptyl (meth)acrylate, 2 -Ethylhexyl (meth)acrylate, isooctyl (meth)acrylate, n-nonyl (meth)acrylate, isononyl (meth)acrylate, n-decyl (meth)acrylate, isodecyl (meth)acrylate , n-dodecyl(meth)acrylate, isomiristyl(meth)acrylate, n-tridecyl(meth)acrylate, tetradecyl(meth)acrylate, stearyl(meth)acrylate, octadecyl(meth)acrylate ) Acrylate, or dodecyl (meth) acrylate, etc. can be illustrated. These can be used alone or in combination. Among these, an alkyl (meth)acrylate having an alkyl group having 4 to 18 carbon atoms is preferred, a (meth)acrylate having an alkyl group having 4 to 10 carbon atoms is more preferred, and n-butyl (meth)acrylate, 2- Ethylhexyl (meth)acrylate is more preferred, and n-butyl (meth)acrylate is particularly preferred.
상기 알킬(메트)아크릴레이트는, (메트)아크릴계 폴리머를 형성하는 모노머 성분 100 중량부에 대하여, 50 중량부 이상인 것이 바람직하고, 60 중량부 이상인 것이 바람직하며, 70 중량부 이상인 것이 보다 바람직하고, 80 중량부 이상인 것이 더 바람직하며, 90 중량부 이상인 것이 특히 바람직하다.The alkyl (meth)acrylate is preferably 50 parts by weight or more, preferably 60 parts by weight or more, more preferably 70 parts by weight or more, based on 100 parts by weight of the monomer component forming the (meth)acrylic polymer, It is more preferably 80 parts by weight or more, and particularly preferably 90 parts by weight or more.
또, 하이드록실기 함유 모노머로는, (메트)아크릴로일기 또는 비닐기 등의 불포화 이중 결합을 갖는 중합성의 관능기를 갖고, 또한 하이드록실기를 갖는 것을 특별히 제한 없이 사용할 수 있다. 하이드록실기 함유 모노머로는, 예를 들어 2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트, 3-하이드록시프로필(메트)아크릴레이트, 4-하이드록시부틸(메트)아크릴레이트, 6-하이드록시헥실(메트)아크릴레이트, 8-하이드록시옥틸(메트)아크릴레이트, 10-하이드록시데실(메트)아크릴레이트, 12-하이드록시라우릴(메트)아크릴레이트, (4-하이드록시메틸시클로헥실)메틸(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있고, 이들을 1 종 단독으로, 또는 2 종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 이들 중에서도, 4-하이드록시부틸아크릴레이트가 바람직하다. 또, 후술하는 가교제로서 이소시아네이트계 가교제를 사용하는 경우에는, 하이드록실기 함유 모노머로서 4-하이드록시부틸아크릴레이트를 사용함으로써, 이소시아네이트계 가교제의 이소시아네이트기와의 가교점을 효율적으로 확보할 수 있으므로 바람직하다.In addition, as the hydroxyl group-containing monomer, one having a polymerizable functional group having an unsaturated double bond such as a (meth)acryloyl group or a vinyl group, and having a hydroxyl group can be used without particular limitation. Examples of the hydroxyl group-containing monomer include 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 3-hydroxypropyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, and 6-hydroxyhexyl ( Meth)acrylate, 8-hydroxyoctyl(meth)acrylate, 10-hydroxydecyl(meth)acrylate, 12-hydroxylauryl(meth)acrylate, (4-hydroxymethylcyclohexyl)methyl( Meth)acrylate, etc. are mentioned, and these can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types. Among these, 4-hydroxybutyl acrylate is preferable. In addition, in the case of using an isocyanate crosslinking agent as a crosslinking agent to be described later, it is preferable to use 4-hydroxybutyl acrylate as a hydroxyl group-containing monomer, since the crosslinking point with the isocyanate group of the isocyanate crosslinking agent can be efficiently secured. .
하이드록실기 함유 모노머는, (메트)아크릴계 폴리머를 형성하는 모노머 성분 100 중량부에 대하여, 10 중량부 이하인 것이 바람직하고, 0.1 ∼ 10 중량부인 것이 보다 바람직하며, 0.1 ∼ 3 중량부가 더 바람직하다.The hydroxyl group-containing monomer is preferably 10 parts by weight or less, more preferably 0.1 to 10 parts by weight, and still more preferably 0.1 to 3 parts by weight, based on 100 parts by weight of the monomer component forming the (meth)acrylic polymer.
본 발명에서 사용하는 (메트)아크릴계 폴리머를 형성하는 모노머 성분에는, 상기 탄소수 4 ∼ 18 의 알킬기를 갖는 알킬(메트)아크릴레이트, 임의로, 상기 하이드록실기 함유 모노머 등을 함유할 수 있지만, 이들 모노머 이외에도, 카르복실기 함유 모노머, 아릴기 함유 모노머, 그 밖의 공중합 모노머를 모노머 성분으로서 사용할 수 있다.The monomer component forming the (meth)acrylic polymer used in the present invention may contain the alkyl (meth)acrylate having an alkyl group having 4 to 18 carbon atoms, optionally, the hydroxyl group-containing monomer, etc., but these monomers In addition, a carboxyl group-containing monomer, an aryl group-containing monomer, and other copolymerization monomers can be used as the monomer component.
카르복실기 함유 모노머로는, (메트)아크릴로일기 또는 비닐기 등의 불포화 이중 결합을 갖는 중합성의 관능기를 갖고, 또한 카르복실기를 갖는 것을 특별히 제한 없이 사용할 수 있다. 카르복실기 함유 모노머로는, 예를 들어 아크릴산, 메타크릴산, 카르복시에틸(메트)아크릴레이트, 카르복시펜틸(메트)아크릴레이트, 이타콘산, 말레산, 푸마르산, 크로톤산 등을 들 수 있고, 이들은 단독 또는 조합하여 사용할 수 있다.As the carboxyl group-containing monomer, those having a polymerizable functional group having an unsaturated double bond such as a (meth)acryloyl group or a vinyl group, and having a carboxyl group can be used without particular limitation. Examples of the carboxyl group-containing monomer include acrylic acid, methacrylic acid, carboxyethyl (meth)acrylate, carboxypentyl (meth)acrylate, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, crotonic acid, and the like. Can be used in combination.
카르복실기 함유 모노머는, (메트)아크릴계 폴리머를 형성하는 모노머 성분 100 중량부에 대하여, 10 중량부 이하인 것이 바람직하고, 8 중량부 이하가 보다 바람직하며, 특히 투명 도전층에 대한 거의 영향을 주지 않는 첨가량이라는 관점에서는, 6 중량부 이하가 더 바람직하고, 2 중량부 이하가 더 바람직하며, 0.5 중량부 이하가 특히 바람직하다.The carboxyl group-containing monomer is preferably 10 parts by weight or less, more preferably 8 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the monomer component forming the (meth)acrylic polymer, and the addition amount that has little effect on the transparent conductive layer in particular From the viewpoint of, 6 parts by weight or less are more preferable, 2 parts by weight or less are more preferable, and 0.5 parts by weight or less are particularly preferable.
아릴기 함유 모노머로는, (메트)아크릴로일기 또는 비닐기 등의 불포화 이중 결합을 갖는 중합성의 관능기를 갖고, 또한 아릴기를 갖는 것을 특별히 제한 없이 사용할 수 있다. 아릴기 함유 모노머로는, 예를 들어 (메트)아크릴산페닐, (메트)아크릴산벤질 등의 (메트)아크릴산아릴에스테르를 들 수 있다.As the aryl group-containing monomer, one having a polymerizable functional group having an unsaturated double bond such as a (meth)acryloyl group or a vinyl group, and having an aryl group can be used without particular limitation. Examples of the aryl group-containing monomer include (meth)acrylate aryl esters such as phenyl (meth)acrylate and benzyl (meth)acrylate.
아릴기 함유 모노머의 비율은, 상기 (메트)아크릴계 폴리머를 형성하는 모노머 성분 100 중량부에 대하여, 30 중량부 이하가 바람직하고, 1 ∼ 20 중량부가 보다 바람직하며, 5 ∼ 15 중량부가 더 바람직하다.The ratio of the aryl group-containing monomer is preferably 30 parts by weight or less, more preferably 1 to 20 parts by weight, and more preferably 5 to 15 parts by weight based on 100 parts by weight of the monomer component forming the (meth)acrylic polymer. .
그 밖의 공중합 모노머로는, (메트)아크릴로일기 또는 비닐기 등의 불포화 이중 결합에 관련된 중합성의 관능기를 갖는 것이면 특별히 제한되지 않고, 예를 들어, (메트)아크릴산시클로헥실, (메트)아크릴산보르닐, (메트)아크릴산이소보르닐 등의 (메트)아크릴산 지환식 탄화수소에스테르 ; 예를 들어, 아세트산비닐, 프로피온산비닐 등의 비닐에스테르류 ; 예를 들어, 스티렌 등의 스티렌계 모노머 ; 예를 들어, (메트)아크릴산글리시딜, (메트)아크릴산메틸글리시딜 등의 에폭시기 함유 모노머 ; 예를 들어, (메트)아크릴산메톡시에틸, (메트)아크릴산에톡시에틸 등의 알콕시기 함유 모노머 ; 예를 들어, 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴 등의 시아노기 함유 모노머 ; 예를 들어, 2-메타크릴로일옥시에틸이소시아네이트 등의 관능성 모노머 ; 예를 들어, 에틸렌, 프로필렌, 이소프렌, 부타디엔, 이소부틸렌 등의 올레핀계 모노머 ; 예를 들어, 비닐에테르 등의 비닐에테르계 모노머 ; 예를 들어, 염화비닐 등의 할로겐 원자 함유 모노머 등을 들 수 있다.Other copolymerization monomers are not particularly limited as long as they have a polymerizable functional group related to an unsaturated double bond such as a (meth)acryloyl group or a vinyl group, and examples thereof include cyclohexyl (meth)acrylate and boric (meth)acrylate. (Meth)acrylic acid alicyclic hydrocarbon esters such as nil and isobornyl (meth)acrylate; Vinyl esters such as vinyl acetate and vinyl propionate; For example, styrene-based monomers such as styrene; For example, epoxy group-containing monomers such as glycidyl (meth)acrylate and methylglycidyl (meth)acrylate; For example, alkoxy group-containing monomers such as methoxyethyl (meth)acrylate and ethoxyethyl (meth)acrylate; Cyano group-containing monomers, such as acrylonitrile and methacrylonitrile, for example; Functional monomers, such as 2-methacryloyloxyethyl isocyanate, for example; For example, olefin-based monomers such as ethylene, propylene, isoprene, butadiene, and isobutylene; For example, vinyl ether-based monomers such as vinyl ether; For example, halogen atom-containing monomers, such as vinyl chloride, etc. are mentioned.
또, 공중합성 모노머로서, 예를 들어, N-시클로헥실말레이미드, N-이소프로필말레이미드, N-라우릴말레이미드, N-페닐말레이미드 등의 말레이미드계 모노머 ; 예를 들어, N-메틸이타콘이미드, N-에틸이타콘이미드, N-부틸이타콘이미드, N-옥틸이타콘이미드, N-2-에틸헥실이타콘이미드, N-시클로헥실이타콘이미드, N-라우릴이타콘이미드 등의 이타콘이미드계 모노머 ; 예를 들어, N-(메트)아크릴로일옥시메틸렌숙신이미드, N-(메트)아크릴로일-6-옥시헥사메틸렌숙신이미드, N-(메트)아크릴로일-8-옥시옥타메틸렌숙신이미드 등의 숙신이미드계 모노머 ; 예를 들어, 스티렌술폰산, 알릴술폰산, 2-(메트)아크릴아미드-2-메틸프로판술폰산, (메트)아크릴아미드프로판술폰산, 술포프로필(메트)아크릴레이트, (메트)아크릴로일옥시나프탈렌술폰산 등의 술폰산기 함유 모노머를 들 수 있다.Moreover, as a copolymerizable monomer, For example, Maleimide-type monomers, such as N-cyclohexyl maleimide, N-isopropyl maleimide, N-lauryl maleimide, and N-phenyl maleimide; For example, N-methyl itaconimide, N-ethyl itaconimide, N-butyl itaconimide, N-octyl itaconimide, N-2-ethylhexyl itaconimide, N-cyclo Itaconimide-based monomers such as hexyl itaconimide and N-lauryl itaconimide; For example, N-(meth)acryloyloxymethylenesuccinimide, N-(meth)acryloyl-6-oxyhexamethylenesuccinimide, N-(meth)acryloyl-8-oxyoctamethylene Succinimide-based monomers such as succinimide; For example, styrenesulfonic acid, allylsulfonic acid, 2-(meth)acrylamide-2-methylpropanesulfonic acid, (meth)acrylamidepropanesulfonic acid, sulfopropyl (meth)acrylate, (meth)acryloyloxynaphthalenesulfonic acid, etc. Sulfonic acid group-containing monomers are mentioned.
또, 공중합성 모노머로서, 예를 들어, (메트)아크릴산폴리에틸렌글리콜, (메트)아크릴산폴리프로필렌글리콜, (메트)아크릴산메톡시에틸렌글리콜, (메트)아크릴산메톡시폴리프로필렌글리콜 등의 글리콜계 아크릴에스테르 모노머 ; 그 외, 예를 들어 (메트)아크릴산테트라하이드로푸르푸릴이나, 불소(메트)아크릴레이트 등의 복소 고리나, 할로겐 원자를 함유하는 아크릴산에스테르계 모노머 등을 들 수 있다.In addition, as a copolymerizable monomer, for example, glycol-based acrylic esters such as polyethylene glycol (meth)acrylate, polypropylene glycol (meth)acrylate, methoxyethylene glycol (meth)acrylate, and methoxypolypropylene glycol (meth)acrylate. Monomer; In addition, for example, a heterocyclic ring such as tetrahydrofurfuryl (meth)acrylate or fluorine (meth)acrylate, an acrylic acid ester-based monomer containing a halogen atom, and the like can be mentioned.
또한, 공중합성 모노머로서 다관능성 모노머를 사용할 수 있다. 다관능성 모노머로는, (메트)아크릴로일기, 비닐기 등의 불포화 이중 결합을 2 개 이상 갖는 화합물 등을 들 수 있다. 예를 들어, 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트 등의 (모노 또는 폴리)에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트나, 프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트 등의 (모노 또는 폴리)프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트 등의 (모노 또는 폴리)알킬렌글리콜디(메트)아크릴레이트 외, 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트 등의 (메트)아크릴산과 다가 알코올의 에스테르화물 ; 디비닐벤젠 등의 다관능 비닐 화합물 ; (메트)아크릴산알릴, (메트)아크릴산비닐 등의 반응성의 불포화 이중 결합을 갖는 화합물 등을 들 수 있다. 또, 다관능성 모노머로는, 폴리에스테르, 에폭시, 우레탄 등의 골격에 모노머 성분과 동일한 관능기로서 (메트)아크릴로일기, 비닐기 등의 불포화 이중 결합을 2 개 이상 부가한 폴리에스테르(메트)아크릴레이트, 에폭시(메트)아크릴레이트, 우레탄(메트)아크릴레이트 등을 사용할 수도 있다.Further, a polyfunctional monomer can be used as the copolymerizable monomer. Examples of the polyfunctional monomer include compounds having two or more unsaturated double bonds such as a (meth)acryloyl group and a vinyl group. For example, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) (Mono or poly) (mono or poly) alkyl such as (mono or poly) ethylene glycol di (meth) acrylate such as acrylate or (mono or poly) propylene glycol di (meth) acrylate such as propylene glycol di (meth) acrylate In addition to ene glycol di(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, pentaerythritol di(meth)acrylate, trimethylolpropanetri(meth) Esterified products of (meth)acrylic acid and polyhydric alcohols such as acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, and dipentaerythritol hexa(meth)acrylate; Polyfunctional vinyl compounds such as divinylbenzene; And compounds having a reactive unsaturated double bond such as allyl (meth)acrylate and vinyl (meth)acrylate. In addition, as a polyfunctional monomer, polyester (meth)acrylic in which two or more unsaturated double bonds such as (meth)acryloyl group and vinyl group are added as the same functional group as the monomer component to a skeleton such as polyester, epoxy, urethane, etc. Rate, epoxy (meth)acrylate, urethane (meth)acrylate, and the like can also be used.
그 밖의 공중합 모노머의 비율은, 상기 (메트)아크릴계 폴리머를 형성하는 모노머 성분 100 중량부에 대하여, 30 중량부 이하가 바람직하고, 20 중량부 이하가 보다 바람직하며, 15 중량부 이하가 더 바람직하고, 10 중량부 이하가 특히 바람직하다. 상기 공중합 모노머의 비율이 지나치게 많아지면, 상기 아크릴계 점착제 조성물로 형성되는 점착제층의 유리나 필름, 투명 도전층 등의 각종 피착체에 대한 밀착성 저하 등의 점착 특성이 저하할 우려가 있다.The ratio of the other copolymerization monomers is preferably 30 parts by weight or less, more preferably 20 parts by weight or less, more preferably 15 parts by weight or less, based on 100 parts by weight of the monomer component forming the (meth)acrylic polymer. , 10 parts by weight or less is particularly preferred. If the ratio of the copolymerization monomer is too high, there is a concern that adhesive properties such as a decrease in adhesion to various adherends such as glass, film, and transparent conductive layer of the pressure-sensitive adhesive layer formed of the acrylic pressure-sensitive adhesive composition may be deteriorated.
본 발명에서 사용하는 (메트)아크릴계 폴리머의 중량 평균 분자량은, 120만 ∼ 300만의 범위인 것이 바람직하고, 120만 ∼ 270만이 보다 바람직하며, 120만 ∼ 250만이 더 바람직하다. 중량 평균 분자량이 120만보다 작으면 내열성의 점에서 바람직하지 않은 경우가 있었다. 또, 중량 평균 분자량이 120만보다 작으면 점착제 조성물 중에 저분자량 성분이 많아지고, 당해 저분자량 성분이 점착제층으로부터 블리드 아웃하여, 투명성을 저해하는 경우가 있었다. 또 중량 평균 분자량이 120만보다 작은 (메트)아크릴계 폴리머를 이용하여 얻어진 점착제층은, 내용제성이나 역학 특성이 열등한 경우가 있었다. 또, 중량 평균 분자량이 300만보다 커지면, 도공하기 위한 점도로 조정하기 위해서 다량의 희석 용제가 필요해져, 비용의 관점에서 바람직하지 않다. 또, 중량 평균 분자량이, 상기 범위 내에 있음으로써, 내부식성, 내구성의 관점에서도 바람직하다. 상기 중량 평균 분자량은, GPC (겔 퍼미에이션 크로마토그래피) 에 의해 측정하고, 폴리스티렌 환산에 의해 산출된 값을 말한다.The weight average molecular weight of the (meth)acrylic polymer used in the present invention is preferably in the range of 1.2 million to 3 million, more preferably 1.2 million to 2.7 million, and still more preferably 1.2 million to 2.5 million. When the weight average molecular weight is less than 1.2 million, there are cases where it is not preferable from the viewpoint of heat resistance. Moreover, when the weight average molecular weight is less than 1.2 million, the low molecular weight component increases in the adhesive composition, and the said low molecular weight component bleeds out from the adhesive layer, and there existed a case where transparency was impaired. Further, the pressure-sensitive adhesive layer obtained by using a (meth)acrylic polymer having a weight average molecular weight of less than 1.2 million has inferior solvent resistance and mechanical properties in some cases. Moreover, when the weight average molecular weight is larger than 3 million, a large amount of diluting solvent is required in order to adjust the viscosity for coating, which is not preferable from the viewpoint of cost. Moreover, since the weight average molecular weight is in the said range, it is preferable also from a viewpoint of corrosion resistance and durability. The weight average molecular weight is measured by GPC (gel permeation chromatography) and refers to a value calculated in terms of polystyrene.
이와 같은 (메트)아크릴계 폴리머의 제조는, 용액 중합, 괴상 중합, 유화 중합, 각종 라디칼 중합 등의 공지된 제조 방법을 적절히 선택할 수 있고, 특별히 한정되는 것은 아니다. 또, 얻어지는 (메트)아크릴계 폴리머는, 랜덤 공중합체, 블록 공중합체, 그래프트 공중합체 등 어느 것이라도 된다.For the production of such a (meth)acrylic polymer, known production methods such as solution polymerization, bulk polymerization, emulsion polymerization, and various radical polymerizations can be appropriately selected, and are not particularly limited. In addition, the obtained (meth)acrylic polymer may be any of a random copolymer, a block copolymer, and a graft copolymer.
용액 중합에 있어서는, 중합 용매로서, 예를 들어, 아세트산에틸, 톨루엔 등이 사용된다. 구체적인 용액 중합 예로는, 반응은 질소 등의 불활성 가스 기류하에서, 중합 개시제를 첨가하고, 통상 50 ∼ 70 ℃ 정도에서, 5 ∼ 30 시간 정도의 반응 조건으로 실시된다.In solution polymerization, as a polymerization solvent, ethyl acetate, toluene, etc. are used, for example. As a specific example of solution polymerization, a polymerization initiator is added under a stream of an inert gas such as nitrogen, and the reaction is usually carried out at about 50 to 70°C and under reaction conditions of about 5 to 30 hours.
라디칼 중합에 사용되는 중합 개시제, 연쇄 이동제, 유화제 등은 특별히 한정되지 않고 적절히 선택하여 사용할 수 있다. 또한, (메트)아크릴계 폴리머의 중량 평균 분자량은, 중합 개시제, 연쇄 이동제의 사용량, 반응 조건에 따라 제어 가능하고, 이들 종류에 따라 적절한 그 사용량이 조정된다.The polymerization initiator, chain transfer agent, emulsifier, and the like used in radical polymerization are not particularly limited and may be appropriately selected and used. In addition, the weight average molecular weight of the (meth)acrylic polymer can be controlled depending on the amount of the polymerization initiator and the chain transfer agent used, and the reaction conditions, and the appropriate amount of the (meth)acrylic polymer is adjusted according to these types.
중합 개시제로는, 예를 들어 2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스(2-아미디노프로판)디하이드로클로라이드, 2,2'-아조비스[2-(5-메틸-2-이미다졸린-2-일)프로판]디하이드로클로라이드, 2,2'-아조비스(2-메틸프로피온아미딘) 2 황산염, 2,2'-아조비스(N,N'-디메틸렌이소부틸아미딘), 2,2'-아조비스[N-(2-카르복시에틸)-2-메틸프로피온아미딘]하이드레이트 (상품명 : VA-057, 와코 쥰야쿠 공업 (주) 제조) 등의 아조계 개시제, 과황산칼륨, 과황산암모늄 등의 과황산염, 디(2-에틸헥실)퍼옥시디카보네이트, 디(4-t-부틸시클로헥실)퍼옥시디카보네이트, 디-sec-부틸퍼옥시디카보네이트, t-부틸퍼옥시네오데카노에이트, t-헥실퍼옥시피발레이트, t-부틸퍼옥시피발레이트, 디라우로일퍼옥사이드, 디-n-옥타노일퍼옥사이드, 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, 디(4-메틸벤조일)퍼옥사이드, 디벤조일퍼옥사이드, t-부틸퍼옥시이소부틸레이트, 1,1-디(t-헥실퍼옥시)시클로헥산, t-부틸하이드로퍼옥사이드, 과산화수소 등의 과산화물계 개시제, 과황산염과 아황산수소나트륨의 조합, 과산화물과 아스코르브산나트륨의 조합 등의 과산화물과 환원제를 조합한 레독스계 개시제 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다.As a polymerization initiator, for example, 2,2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobis(2-amidinopropane)dihydrochloride, 2,2'-azobis[2-(5 -Methyl-2-imidazolin-2-yl)propane]dihydrochloride, 2,2'-azobis(2-methylpropionamidine) 2 sulfate, 2,2'-azobis(N,N'- Dimethyleneisobutylamidine), 2,2'-azobis[N-(2-carboxyethyl)-2-methylpropionamidine]hydrate (trade name: VA-057, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), etc. Azo initiator, potassium persulfate, persulfates such as ammonium persulfate, di(2-ethylhexyl)peroxydicarbonate, di(4-t-butylcyclohexyl)peroxydicarbonate, di-sec-butylperoxydicarbonate , t-butylperoxyneodecanoate, t-hexylperoxypivalate, t-butylperoxypivalate, dilauroyl peroxide, di-n-octanoyl peroxide, 1,1,3,3- Tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanoate, di(4-methylbenzoyl)peroxide, dibenzoylperoxide, t-butylperoxyisobutylate, 1,1-di(t-hexylperoxy)cyclo Peroxide-based initiators such as hexane, t-butyl hydroperoxide, and hydrogen peroxide, redox initiators in which a peroxide and a reducing agent such as a combination of persulfate and sodium hydrogen sulfite, and a combination of peroxide and sodium ascorbate, and the like are mentioned. It is not limited to these.
상기 중합 개시제는, 단독으로 사용해도 되고, 또 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 되지만, 전체로서의 함유량은, 상기 (메트)아크릴계 폴리머를 형성하는 모노머 성분 100 중량부에 대하여, 0.005 ∼ 1 중량부 정도인 것이 바람직하다.The polymerization initiator may be used alone or in combination of two or more, but the content as a whole is about 0.005 to 1 part by weight based on 100 parts by weight of the monomer component forming the (meth)acrylic polymer. It is preferable to be.
연쇄 이동제로는, 예를 들어 라우릴메르캅탄, 글리시딜메르캅탄, 메르캅토아세트산, 2-메르캅토에탄올, 티오글리콜산, 티오글루콜산 2-에틸헥실, 2,3-디메르캅토-1-프로판올 등을 들 수 있다. 연쇄 이동제는, 단독으로 사용해도 되고, 또 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 되지만, 전체로서의 함유량은 모노머 성분의 전체량 100 중량부에 대하여, 0.1 중량부 정도 이하이다.As a chain transfer agent, for example, lauryl mercaptan, glycidyl mercaptan, mercaptoacetic acid, 2-mercaptoethanol, thioglycolic acid, thioglucholic acid 2-ethylhexyl, 2,3-dimercapto-1 -Propanol, etc. are mentioned. The chain transfer agent may be used alone or in combination of two or more, but the content as a whole is about 0.1 part by weight or less with respect to 100 parts by weight of the total amount of the monomer component.
본 발명에서 사용하는 아크릴계 점착제 조성물에는, 고온다습 조건하에서의 밀착성을 향상시키기 위해서, 각종 실란 커플링제를 첨가할 수 있다. 실란 커플링제로는, 임의의 적절한 관능기를 갖는 것을 사용할 수 있다. 관능기로는, 예를 들어 비닐기, 에폭시기, 아미노기, 메르캅토기, (메트)아크릴록시기, 아세토아세틸기, 이소시아네이트기, 스티릴기, 폴리술파이드기 등을 들 수 있다. 구체적으로는, 예를 들어 비닐트리에톡시실란, 비닐트리프로폭시실란, 비닐트리이소프로폭시실란, 비닐트리부톡시실란 등의 비닐기 함유 실란 커플링제 ; γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, γ-글리시독시프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디에톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란 등의 에폭시기 함유 실란 커플링제 ; γ-아미노프로필트리메톡시실란, N-β-(아미노에틸)-γ-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-(2-아미노에틸)3-아미노프로필메틸디메톡시실란, γ-트리에톡시실릴-N-(1,3-디메틸부틸리덴)프로필아민, N-페닐-γ-아미노프로필트리메톡시실란 등의 아미노기 함유 실란 커플링제 ; γ-메르캅토프로필메틸디메톡시실란 등의 메르캅토기 함유 실란 커플링제 ; p-스티릴트리메톡시실란 등의 스티릴기 함유 실란 커플링제 ; γ-아크릴록시프로필트리메톡시실란, γ-메타크릴록시프로필트리에톡시실란 등의 (메트)아크릴기 함유 실란 커플링제 ; 3-이소시아네이트프로필트리에톡시실란 등의 이소시아네이트기 함유 실란 커플링제 ; 비스(트리에톡시실릴프로필)테트라술파이드 등의 폴리술파이드기 함유 실란 커플링제 등을 들 수 있다.Various silane coupling agents can be added to the acrylic pressure-sensitive adhesive composition used in the present invention in order to improve adhesion under high temperature and high humidity conditions. As the silane coupling agent, one having any suitable functional group can be used. As a functional group, a vinyl group, an epoxy group, an amino group, a mercapto group, a (meth)acryloxy group, an acetoacetyl group, an isocyanate group, a styryl group, a polysulfide group, etc. are mentioned, for example. Specifically, vinyl group-containing silane coupling agents such as vinyl triethoxysilane, vinyl tripropoxysilane, vinyl triisopropoxysilane, and vinyl tributoxysilane; γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, etc. Epoxy group-containing silane coupling agent of; γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β-(aminoethyl)-γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-(2-aminoethyl)3-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-triethoxysilyl Amino group-containing silane coupling agents such as -N-(1,3-dimethylbutylidene)propylamine and N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane; mercapto group-containing silane coupling agents such as γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane; styryl group-containing silane coupling agents such as p-styryl trimethoxysilane; (meth)acrylic group-containing silane coupling agents such as γ-acryloxypropyltrimethoxysilane and γ-methacryloxypropyltriethoxysilane; Isocyanate group-containing silane coupling agents, such as 3-isocyanate propyl triethoxysilane; Polysulfide group-containing silane coupling agents, such as bis(triethoxysilylpropyl) tetrasulfide, etc. are mentioned.
상기 실란 커플링제는, 단독으로 사용해도 되고, 또 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 되지만, 전체로서의 함유량은 상기 (메트)아크릴계 폴리머를 구성하는 전체 모노머 성분 100 중량부에 대하여, 1 중량부 이하인 것이 바람직하고, 0.01 ∼ 1 중량부인 것이 보다 바람직하며, 0.02 ∼ 0.8 중량부인 것이 더 바람직하고, 0.05 ∼ 0.7 중량부인 것이 특히 바람직하다. 실란 커플링제의 배합량이 1 중량부를 초과하면, 미반응 커플링제 성분이 발생하여, 내구성의 점에서 바람직하지 않다. The silane coupling agent may be used alone or in combination of two or more, but the content as a whole is 1 part by weight or less based on 100 parts by weight of all monomer components constituting the (meth)acrylic polymer. It is preferable, it is more preferable that it is 0.01-1 weight part, it is more preferable that it is 0.02 to 0.8 weight part, and it is especially preferable that it is 0.05 to 0.7 weight part. When the blending amount of the silane coupling agent exceeds 1 part by weight, unreacted coupling agent components are generated, which is not preferable from the viewpoint of durability.
또한, 상기 실란 커플링제가, 상기 모노머 성분과 라디칼 중합에 의해 공중합할 수 있는 경우에는, 당해 실란 커플링제를 상기 모노머 성분으로서 사용할 수 있다. 그 비율은, 상기 (메트)아크릴계 폴리머를 구성하는 전체 모노머 성분 100 중량부에 대하여, 0.005 ∼ 0.7 중량부인 것이 바람직하다.Further, when the silane coupling agent can be copolymerized with the monomer component by radical polymerization, the silane coupling agent can be used as the monomer component. The ratio is preferably 0.005 to 0.7 parts by weight with respect to 100 parts by weight of all the monomer components constituting the (meth)acrylic polymer.
나아가서는, 본 발명에서 사용하는 아크릴계 점착제 조성물에는, 가교제를 첨가함으로써, 점착제의 내구성에 관계하는 응집력을 부여할 수 있기 때문에 바람직하다.Furthermore, it is preferable to add a crosslinking agent to the acrylic pressure-sensitive adhesive composition used in the present invention, since cohesive force relating to the durability of the pressure-sensitive adhesive can be imparted.
가교제로는, 다관능성의 화합물이 사용되고, 유기계 가교제나 다관능성 금속 킬레이트를 들 수 있다. 유기계 가교제로는, 에폭시계 가교제, 이소시아네이트계 가교제, 카르보디이미드계 가교제, 이민계 가교제, 옥사졸린계 가교제, 아지리딘계 가교제, 과산화물계 가교제 등을 들 수 있다. 다관능성 금속 킬레이트는, 다가 금속 원자가 유기 화합물과 공유결합 또는 배위결합하고 있는 것이다. 다가 금속 원자로는, Al, Cr, Zr, Co, Cu, Fe, Ni, V, Zn, In, Ca, Mg, Mn, Y, Ce, Sr, Ba, Mo, La, Sn, Ti 등을 들 수 있다. 공유결합 또는 배위결합하는 유기 화합물 중의 원자로는 산소 원자 등을 들 수 있고, 유기 화합물로는 알킬에스테르, 알코올 화합물, 카르복실산 화합물, 에테르 화합물, 케톤 화합물 등을 들 수 있다. 이들 가교제는, 1 종 단독으로 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 이들 중에서도, 과산화물계 가교제, 이소시아네이트계 가교제가 바람직하고, 이들을 조합하여 사용하는 것이 보다 바람직하다.As a crosslinking agent, a polyfunctional compound is used, and an organic type crosslinking agent and a polyfunctional metal chelate are mentioned. Examples of the organic crosslinking agent include an epoxy crosslinking agent, an isocyanate crosslinking agent, a carbodiimide crosslinking agent, an imine crosslinking agent, an oxazoline crosslinking agent, an aziridine crosslinking agent, and a peroxide crosslinking agent. The polyfunctional metal chelate is one in which a polyvalent metal atom is covalently bonded or coordinated with an organic compound. Examples of polyvalent metal reactors include Al, Cr, Zr, Co, Cu, Fe, Ni, V, Zn, In, Ca, Mg, Mn, Y, Ce, Sr, Ba, Mo, La, Sn, and Ti. have. An atom in the organic compound to be covalently bonded or coordinated may be an oxygen atom, and examples of the organic compound include an alkyl ester, an alcohol compound, a carboxylic acid compound, an ether compound, and a ketone compound. These crosslinking agents can be used alone or in combination of two or more. Among these, a peroxide-based crosslinking agent and an isocyanate-based crosslinking agent are preferable, and it is more preferable to use them in combination.
이소시아네이트계 가교제는, 이소시아네이트기 (이소시아네이트기를 블록제 또는 수량체화 (數量體化) 등에 의해 일시적으로 보호한 이소시아네이트 재생형 관능기를 포함한다) 를 1 분자 중에 2 개 이상 갖는 화합물을 말한다.An isocyanate-based crosslinking agent refers to a compound having two or more isocyanate groups (including an isocyanate-regenerated functional group temporarily protected by a blocking agent or a quantification of an isocyanate group) per molecule.
이소시아네이트계 가교제로는, 톨릴렌디이소시아네이트, 자일렌디이소시아네이트 등의 방향족 이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트 등의 지환족 이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트 등의 지방족 이소시아네이트 등을 들 수 있다. Examples of the isocyanate crosslinking agent include aromatic isocyanates such as tolylene diisocyanate and xylene diisocyanate, alicyclic isocyanates such as isophorone diisocyanate, and aliphatic isocyanates such as hexamethylene diisocyanate.
보다 구체적으로는, 예를 들어 부틸렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트 등의 저급 지방족 폴리이소시아네이트류, 시클로펜틸렌디이소시아네이트, 시클로헥실렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트 등의 지환족 이소시아네이트류, 2,4-톨릴렌디이소시아네이트, 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트, 자일릴렌디이소시아네이트, 폴리메틸렌폴리페닐이소시아네이트 등의 방향족 디이소시아네이트류, 트리메틸올프로판/톨릴렌디이소시아네이트 3 량체 부가물 (상품명 : 코로네이트 L, 닛폰 폴리우레탄 공업 (주) 제조), 트리메틸올프로판/헥사메틸렌디이소시아네이트 3 량체 부가물 (상품명 : 코로네이트 HL, 닛폰 폴리우레탄 공업 (주) 제조), 헥사메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트체 (상품명 : 코로네이트 HX, 닛폰 폴리우레탄 공업 (주) 제조) 등의 이소시아네이트 부가물, 자일릴렌디이소시아네이트의 트리메틸올프로판 부가물 (상품명 : D110N, 미츠이 화학 (주) 제조), 헥사메틸렌디이소시아네이트의 트리메틸올프로판 부가물 (상품명 : D160N, 미츠이 화학 (주) 제조) ; 폴리에테르폴리이소시아네이트, 폴리에스테르폴리이소시아네이트, 그리고 이들과 각종 폴리올의 부가물, 이소시아누레이트 결합, 뷰렛 결합, 알로파네이트 결합 등으로 다관능화한 폴리이소시아네이트 등을 들 수 있다. 이들 중, 지방족 이소시아네이트를 사용하는 것이, 반응 속도가 빠르기 때문에 바람직하다.More specifically, for example, lower aliphatic polyisocyanates such as butylene diisocyanate and hexamethylene diisocyanate, cyclopentylene diisocyanate, cyclohexylene diisocyanate, and alicyclic isocyanates such as isophorone diisocyanate, 2,4- Aromatic diisocyanates such as tolylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate, and polymethylene polyphenyl isocyanate, trimethylolpropane/tolylene diisocyanate terpolymer adduct (trade name: coronate L, Nippon Polyurethane Industrial Co., Ltd.), trimethylolpropane/hexamethylene diisocyanate trimer adduct (trade name: Coronate HL, Nippon Polyurethane Industrial Co., Ltd.), isocyanurate of hexamethylene diisocyanate ( Product name: Isocyanate adducts such as Coronate HX, Nippon Polyurethane Industrial Co., Ltd.), trimethylolpropane adduct of xylylene diisocyanate (trade name: D110N, manufactured by Mitsui Chemicals Co., Ltd.), trimethyl of hexamethylene diisocyanate Allpropane adduct (trade name: D160N, manufactured by Mitsui Chemicals Co., Ltd.); Polyether polyisocyanate, polyester polyisocyanate, and adducts of these and various polyols, isocyanurate bonds, biuret bonds, and polyisocyanates polyfunctionalized by allophanate bonds. Among these, it is preferable to use an aliphatic isocyanate because the reaction rate is high.
과산화물계 가교제로는, 각종 과산화물이 사용된다. 과산화물로는, 디(2-에틸헥실)퍼옥시디카보네이트, 디(4-t-부틸시클로헥실)퍼옥시디카보네이트, 디-sec-부틸퍼옥시디카보네이트, t-부틸퍼옥시네오데카노에이트, t-헥실퍼옥시피발레이트, t-부틸퍼옥시피발레이트, 디라우로일퍼옥사이드, 디-n-옥타노일퍼옥사이드, 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시이소부틸레이트, 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시2-에틸헥사노에이트, 디(4-메틸벤조일)퍼옥사이드, 디벤조일퍼옥사이드, t-부틸퍼옥시이소부틸레이트 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 특히 가교 반응 효율이 우수한, 디(4-t-부틸시클로헥실)퍼옥시디카보네이트, 디라우로일퍼옥사이드, 디벤조일퍼옥사이드가 바람직하게 사용된다.As the peroxide-based crosslinking agent, various peroxides are used. As peroxides, di(2-ethylhexyl)peroxydicarbonate, di(4-t-butylcyclohexyl)peroxydicarbonate, di-sec-butylperoxydicarbonate, t-butylperoxyneodecanoate, t- Hexylperoxypivalate, t-butylperoxypivalate, dilauroyl peroxide, di-n-octanoyl peroxide, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxyisobutyrate, 1,1, 3,3-tetramethylbutylperoxy2-ethylhexanoate, di(4-methylbenzoyl)peroxide, dibenzoyl peroxide, t-butylperoxyisobutylate, etc. are mentioned. Among these, di(4-t-butylcyclohexyl)peroxydicarbonate, dilauroyl peroxide, and dibenzoyl peroxide, which are particularly excellent in crosslinking reaction efficiency, are preferably used.
아크릴계 점착제 조성물에 있어서의 가교제의 배합 비율은 특별히 한정되지 않지만, 통상 상기 (메트)아크릴계 폴리머 (고형분) 100 중량부에 대하여, 가교제 (고형분) 10 중량부 정도 이하의 비율로 배합된다. 상기 가교제의 배합 비율은, 0.01 ∼ 10 중량부가 바람직하고, 나아가서는 0.01 ∼ 5 중량부 정도가 바람직하다. 또, 특히, 과산화물계 가교제를 사용하는 경우에는, (메트)아크릴계 폴리머 (고형분) 100 중량부에 대하여, 0.05 ∼ 1 중량부 정도가 바람직하고, 0.06 ∼ 0.5 중량부가 보다 바람직하다.The blending ratio of the crosslinking agent in the acrylic pressure-sensitive adhesive composition is not particularly limited, but is usually blended in a ratio of about 10 parts by weight or less of the crosslinking agent (solid content) to 100 parts by weight of the (meth)acrylic polymer (solid content). The blending ratio of the crosslinking agent is preferably 0.01 to 10 parts by weight, and more preferably about 0.01 to 5 parts by weight. In particular, in the case of using a peroxide-based crosslinking agent, about 0.05 to 1 part by weight is preferable, and more preferably 0.06 to 0.5 part by weight, based on 100 parts by weight of the (meth)acrylic polymer (solid content).
또, 본 발명에서 사용하는 아크릴계 점착제 조성물에는, 이온성 화합물을 첨가함으로써, 공정 작업 시의 필름의 대전 방지의 관점에서 바람직하다.Moreover, by adding an ionic compound to the acrylic pressure-sensitive adhesive composition used by this invention, it is preferable from a viewpoint of antistatic film at the time of a process operation.
이온성 화합물로는, 알칼리 금속염 및/또는 유기 카티온-아니온염을 바람직하게 사용할 수 있다. 알칼리 금속염은, 알칼리 금속의 유기염, 및 무기염을 사용할 수 있다. 또한, 본 발명에서 말하는, 「유기 카티온-아니온염」이란, 유기염이고, 그 카티온부가 유기물로 구성되어 있는 것을 나타내고, 아니온부는 유기물이어도 되고, 무기물이어도 된다. 「유기 카티온-아니온염」은, 이온성 액체, 이온성 고체라고도 말한다.As the ionic compound, an alkali metal salt and/or an organic cation-anion salt can be preferably used. As the alkali metal salt, an organic salt and an inorganic salt of an alkali metal can be used. In addition, the "organic cation-anion salt" as used in the present invention is an organic salt, and indicates that the cation portion is composed of an organic substance, and the anion portion may be an organic substance or an inorganic substance. "Organic cation-anion salt" is also referred to as an ionic liquid or an ionic solid.
<알칼리 금속염><Alkaline metal salt>
알칼리 금속염의 카티온부를 구성하는 알칼리 금속 이온으로는, 리튬, 나트륨, 칼륨의 각 이온을 들 수 있다. 이들 알칼리 금속 이온 중에서도, 리튬 이온이 바람직하다.Examples of the alkali metal ions constituting the cation portion of the alkali metal salt include lithium, sodium, and potassium ions. Among these alkali metal ions, lithium ions are preferable.
알칼리 금속염의 아니온부는 유기물로 구성되어 있어도 되고, 무기물로 구성되어 있어도 된다. 유기염을 구성하는 아니온부로는, 예를 들어 CH3COO-, CF3COO-, CH3SO3 -, CF3SO3 -, (CF3SO2)3C-, C4F9SO3 -, C3F7COO-, (CF3SO2)(CF3CO)N-, -O3S(CF2)3SO3 -, PF6 -, CO3 2- 나 하기 일반식 (4) ∼ (7),The anionic portion of the alkali metal salt may be composed of an organic substance or an inorganic substance. Anion portion constituting the organic salt is, for example, CH 3 COO -, CF 3 COO -,
(4) : (CnF2n+1SO2)2N- (단, n 은 1 ∼ 10 의 정수), (4): (C n F 2n + 1 SO 2) 2 N - ( where, n is an integer of 1 to 10),
(5) : CF2(CmF2mSO2)2N- (단, m 은 1 ∼ 10 의 정수), (5): CF 2 (C m F 2m SO 2) 2 N - ( where, m is an integer of 1 to 10),
(6) : -O3S(CF2)lSO3 - (단, l 은 1 ∼ 10 의 정수), (6): - O 3 S (CF 2) l SO 3 - ( However, l is an integer of 1 to 10),
(7) : (CpF2p+1SO2)N-(CqF2q+1SO2) (단, p, q 는 1 ∼ 10 의 정수), (7): (C p F 2p + 1 SO 2) N - (C q F 2q + 1 SO 2) ( However, p, q is an integer of 1 to 10),
로 나타내는 것 등이 사용된다. 특히, 불소 원자를 포함하는 아니온부는, 이온 해리성이 양호한 이온 화합물이 얻어지므로 바람직하게 사용된다. 무기염을 구성하는 아니온부로는, Cl-, Br-, I-, AlCl4 -, Al2Cl7 -, BF4 -, PF6 -, ClO4 -, NO3 -, AsF6 -, SbF6 -, NbF6 -, TaF6 -, (CN)2N- 등이 사용된다. 아니온부로는, (CF3SO2)2N-, (C2F5SO2)2N- 등의 상기 일반식 (4) 로 나타내는, (퍼플루오로알킬술포닐)이미드가 바람직하고, 특히 (CF3SO2)2N- 로 나타내는 (트리플루오로메탄술포닐)이미드가 바람직하다.What is indicated by is used. In particular, the anionic moiety containing a fluorine atom is preferably used because an ionic compound having good ion dissociation properties can be obtained. Anion portion constituting the inorganic salts are, Cl -, Br -, I -, AlCl 4 -,
알칼리 금속의 유기염으로는, 구체적으로는 아세트산나트륨, 알긴산나트륨, 리그닌술폰산나트륨, 톨루엔술폰산나트륨, 헥사플루오로인산리튬 (LiPF6), LiCF3SO3, Li(CF3SO2)2N, Li(CF3SO2)2N, Li(C2F5SO2)2N, Li(C4F9SO2)2N, Li(CF3SO2)3C, KO3S(CF2)3SO3K, LiO3S(CF2)3SO3K 등을 들 수 있고, 이들 중에서도, 헥사플루오로인산리튬 (LiPF6), LiCF3SO3, Li(CF3SO2)2N, Li(C2F5SO2)2N, Li(C4F9SO2)2N, Li(CF3SO2)3C 등이 바람직하고, Li(CF3SO2)2N, Li(C2F5SO2)2N, Li(C4F9SO2)2N 등의 불소 함유 리튬이미드염이 보다 바람직하며, 헥사플루오로인산리튬 (LiPF6), 리튬비스트리플루오로메탄술포닐이미드 (LiTFSI, Li(CF3SO2)2N) 가 특히 바람직하다.Examples of the alkali metal organic salt include sodium acetate, sodium alginate, sodium lignin sulfonate, sodium toluene sulfonate, lithium hexafluorophosphate (LiPF 6 ), LiCF 3 SO 3 , Li(CF 3 SO 2 ) 2 N, Li(CF 3 SO 2 ) 2 N, Li(C 2 F 5 SO 2 ) 2 N, Li(C 4 F 9 SO 2 ) 2 N, Li(CF 3 SO 2 ) 3 C, KO 3 S(CF 2 ) 3 SO 3 K, LiO 3 S(CF 2 ) 3 SO 3 K, etc., among these, lithium hexafluorophosphate (LiPF 6 ), LiCF 3 SO 3 , Li(CF 3 SO 2 ) 2 N , Li(C 2 F 5 SO 2 ) 2 N, Li(C 4 F 9 SO 2 ) 2 N, Li(CF 3 SO 2 ) 3 C, etc. are preferred, and Li(CF 3 SO 2 ) 2 N, Li Fluorine-containing lithium imide salts such as (C 2 F 5 SO 2 ) 2 N, Li (C 4 F 9 SO 2 ) 2 N are more preferable, and lithium hexafluorophosphate (LiPF 6 ), lithium bistrifluoro Methanesulfonylimide (LiTFSI, Li(CF 3 SO 2 ) 2 N) is particularly preferred.
또, 알칼리 금속의 무기염으로는, 과염소산리튬, 요오드화리튬을 들 수 있다.Moreover, lithium perchlorate and lithium iodide are mentioned as an inorganic salt of an alkali metal.
<유기 카티온-아니온염><Organic cation-anion salt>
본 발명에서 사용되는 유기 카티온-아니온염은, 카티온 성분과 아니온 성분으로 구성되어 있고, 상기 카티온 성분은 유기물로 이루어지는 것이다. 카티온 성분으로서 구체적으로는, 피리디늄 카티온, 피페리디늄 카티온, 피롤리디늄 카티온, 피롤린 골격을 갖는 카티온, 피롤 골격을 갖는 카티온, 이미다졸륨 카티온, 테트라하이드로피리미디늄 카티온, 디하이드로피리미디늄 카티온, 피라졸륨 카티온, 피라졸리늄 카티온, 테트라알킬암모늄 카티온, 트리알킬술포늄 카티온, 테트라알킬포스포늄 카티온 등을 들 수 있다.The organic cation-anion salt used in the present invention is composed of a cation component and an anion component, and the cation component is composed of an organic substance. As a cation component, specifically, pyridinium cation, piperidinium cation, pyrrolidinium cation, cation having a pyrroline skeleton, cation having a pyrrole skeleton, imidazolium cation, tetrahydropyrimidi Nium cation, dihydropyrimidinium cation, pyrazolium cation, pyrazolinium cation, tetraalkylammonium cation, trialkylsulfonium cation, tetraalkylphosphonium cation, and the like.
아니온 성분으로는, 예를 들어 Cl-, Br-, I-, AlCl4 -, Al2Cl7 -, BF4 -, PF6 -, ClO4 -, NO3 -, CH3COO-, CF3COO-, CH3SO3 -, CF3SO3 -, (CF3SO2)3C-, AsF6 -, SbF6 -, NbF6 -, TaF6 -, (CN)2N-, C4F9SO3 -, C3F7COO-, ((CF3SO2)(CF3CO)N-, -O3S(CF2)3SO3 - 나 하기 일반식 (4) ∼ (7),Anionic ingredients, for example Cl -, Br -, I - , AlCl 4 -,
(4) : (CnF2n+1SO2)2N- (단, n 은 1 ∼ 10 의 정수), (4): (C n F 2n + 1 SO 2) 2 N - ( where, n is an integer of 1 to 10),
(5) : CF2(CmF2mSO2)2N- (단, m 은 1 ∼ 10 의 정수), (5): CF 2 (C m F 2m SO 2) 2 N - ( where, m is an integer of 1 to 10),
(6) : -O3S(CF2)lSO3 - (단, l 은 1 ∼ 10 의 정수), (6): - O 3 S (CF 2) l SO 3 - ( However, l is an integer of 1 to 10),
(7) : (CpF2p+1SO2)N-(CqF2q+1SO2) (단, p, q 는 1 ∼ 10 의 정수), (7): (C p F 2p + 1 SO 2) N - (C q F 2q + 1 SO 2) ( However, p, q is an integer of 1 to 10),
로 나타내는 것 등이 사용된다. 이들 중에서도, 특히, 불소 원자를 포함하는 아니온 성분은, 이온 해리성이 양호한 이온 화합물이 얻어지므로 바람직하게 사용된다.What is indicated by is used. Among these, in particular, an anionic component containing a fluorine atom is preferably used because an ionic compound having good ion dissociation properties can be obtained.
유기 카티온-아니온염의 구체예로는, 상기 카티온 성분과 아니온 성분의 조합으로 이루어지는 화합물이 적절히 선택하여 사용된다. 예를 들어, 1-부틸피리디늄테트라플루오로보레이트, 1-부틸피리디늄헥사플루오로포스페이트, 1-부틸-3-메틸피리디늄테트라플루오로보레이트, 1-부틸-3-메틸피리디늄트리플루오로메탄술포네이트, 1-부틸-3-메틸피리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-부틸-3-메틸피리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-헥실피리디늄테트라플루오로보레이트, 2-메틸-1-피롤린테트라플루오로보레이트, 1-에틸-2-페닐인돌테트라플루오로보레이트, 1,2-디메틸인돌테트라플루오로보레이트, 1-에틸카르바졸테트라플루오로보레이트, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨테트라플루오로보레이트, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨아세테이트, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨트리플루오로아세테이트, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨헵타플루오로부틸레이트, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨트리플루오로메탄술포네이트, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨퍼플루오로부탄술포네이트, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨디시안아미드, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨트리스(트리플루오로메탄술포닐)메티드, 1-부틸-3-메틸이미다졸륨테트라플루오로보레이트, 1-부틸-3-메틸이미다졸륨헥사플루오로포스페이트, 1-부틸-3-메틸이미다졸륨트리플루오로아세테이트, 1-부틸-3-메틸이미다졸륨헵타플루오로부틸레이트, 1-부틸-3-메틸이미다졸륨트리플루오로메탄술포네이트, 1-부틸-3-메틸이미다졸륨퍼플루오로부탄술포네이트, 1-부틸-3-메틸이미다졸륨비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-헥실-3-메틸이미다졸륨브로마이드, 1-헥실-3-메틸이미다졸륨클로라이드, 1-헥실-3-메틸이미다졸륨테트라플루오로보레이트, 1-헥실-3-메틸이미다졸륨헥사플루오로포스페이트, 1-헥실-3-메틸이미다졸륨트리플루오로메탄술포네이트, 1-옥틸-3-메틸이미다졸륨테트라플루오로보레이트, 1-옥틸-3-메틸이미다졸륨헥사플루오로포스페이트, 1-헥실-2,3-디메틸이미다졸륨테트라플루오로보레이트, 1,2-디메틸-3-프로필이미다졸륨비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-메틸피라졸륨테트라플루오로보레이트, 3-메틸피라졸륨테트라플루오로보레이트, 테트라헥실암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 디알릴디메틸암모늄테트라플루오로보레이트, 디알릴디메틸암모늄트리플루오로메탄술포네이트, 디알릴디메틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 디알릴디메틸암모늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, N,N-디에틸-N-메틸-N-(2-메톡시에틸)암모늄테트라플루오로보레이트, N,N-디에틸-N-메틸-N-(2-메톡시에틸)암모늄트리플루오로메탄술포네이트, N,N-디에틸-N-메틸-N-(2-메톡시에틸)암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디에틸-N-메틸-N-(2-메톡시에틸)암모늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 글리시딜트리메틸암모늄트리플루오로메탄술포네이트, 글리시딜트리메틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 글리시딜트리메틸암모늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-부틸피리디늄(트리플루오로메탄술포닐)트리플루오로아세트아미드, 1-부틸-3-메틸피리디늄(트리플루오로메탄술포닐)트리플루오로아세트아미드, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨(트리플루오로메탄술포닐)트리플루오로아세트아미드, N,N-디에틸-N-메틸-N-(2-메톡시에틸)암모늄(트리플루오로메탄술포닐)트리플루오로아세트아미드, 디알릴디메틸암모늄(트리플루오로메탄술포닐)트리플루오로아세트아미드, 글리시딜트리메틸암모늄(트리플루오로메탄술포닐)트리플루오로아세트아미드, N,N-디메틸-N-에틸-N-프로필암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-에틸-N-부틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-에틸-N-펜틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-에틸-N-헥실암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-에틸-N-헵틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-에틸-N-노닐암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N,N-디프로필암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-프로필-N-부틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-프로필-N-펜틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-프로필-N-헥실암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-프로필-N-헵틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-부틸-N-헥실암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-부틸-N-헵틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-펜틸-N-헥실암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N,N-디헥실암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 트리메틸헵틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디에틸-N-메틸-N-프로필암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디에틸-N-메틸-N-펜틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디에틸-N-메틸-N-헵틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디에틸-N-프로필-N-펜틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 트리에틸프로필암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 트리에틸펜틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 트리에틸헵틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디프로필-N-메틸-N-에틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디프로필-N-메틸-N-펜틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디프로필-N-부틸-N-헥실암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디프로필-N,N-디헥실암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디부틸-N-메틸-N-펜틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디부틸-N-메틸-N-헥실암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 트리옥틸메틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N-메틸-N-에틸-N-프로필-N-펜틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-부틸-3-메틸피리딘-1-이움트리플루오로메탄술포네이트 등을 들 수 있다. 이들의 시판품으로서, 예를 들어 「CIL-314」(닛폰 카리트 (주) 제조), 「ILA2-1」(코에이 화학 공업 (주) 제조) 등이 사용 가능하다.As a specific example of the organic cation-anion salt, a compound composed of a combination of the cation component and an anion component is appropriately selected and used. For example, 1-butylpyridinium tetrafluoroborate, 1-butylpyridinium hexafluorophosphate, 1-butyl-3-methylpyridinium tetrafluoroborate, 1-butyl-3-methylpyridinium trifluoro Methanesulfonate, 1-butyl-3-methylpyridinium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide, 1-butyl-3-methylpyridiniumbis(pentafluoroethanesulfonyl)imide, 1-hexylpy Ridinium tetrafluoroborate, 2-methyl-1-pyrroline tetrafluoroborate, 1-ethyl-2-phenylindoletetrafluoroborate, 1,2-dimethylindoletetrafluoroborate, 1-ethylcarbazoletetra Fluoroborate, 1-ethyl-3-methylimidazolium tetrafluoroborate, 1-ethyl-3-methylimidazolium acetate, 1-ethyl-3-methylimidazolium trifluoroacetate, 1-ethyl- 3-methylimidazolium heptafluorobutyrate, 1-ethyl-3-methylimidazolium trifluoromethanesulfonate, 1-ethyl-3-methylimidazolium perfluorobutanesulfonate, 1-ethyl- 3-methylimidazolium dicyanamide, 1-ethyl-3-methylimidazolium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide, 1-ethyl-3-methylimidazolium bis(pentafluoroethanesulfonyl) )Imide, 1-ethyl-3-methylimidazolium tris(trifluoromethanesulfonyl)methide, 1-butyl-3-methylimidazolium tetrafluoroborate, 1-butyl-3-methylimida Zoliumhexafluorophosphate, 1-butyl-3-methylimidazolium trifluoroacetate, 1-butyl-3-methylimidazolium heptafluorobutylate, 1-butyl-3-methylimidazolium trifluoro Methanesulfonate, 1-butyl-3-methylimidazolium perfluorobutanesulfonate, 1-butyl-3-methylimidazolium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide, 1-hexyl-3-methyl Imidazolium bromide, 1-hexyl-3-methylimidazolium chloride, 1-hexyl-3-methylimidazolium tetrafluoroborate, 1-hexyl-3-methylimidazolium hexafluorophosphate, 1-hexyl -3-methylimidazolium trifluoromethanesulfonate, 1-octyl-3-methylimidazolium tetrafluoroborate, 1-octyl-3-methylimidazolium hexafluorophosphate, 1-hexyl-2, 3-dimethylimidazolium tetrafluoroborate, 1,2-dimethyl-3-propylimidazolium bis (trifluorome) Tansulfonyl) imide, 1-methylpyrazolium tetrafluoroborate, 3-methylpyrazolium tetrafluoroborate, tetrahexylammonium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide, diallyldimethylammonium tetrafluoroborate, Diallyldimethylammonium trifluoromethanesulfonate, diallyldimethylammonium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide, diallyldimethylammoniumbis(pentafluoroethanesulfonyl)imide, N,N-diethyl- N-methyl-N-(2-methoxyethyl)ammonium tetrafluoroborate, N,N-diethyl-N-methyl-N-(2-methoxyethyl)ammonium trifluoromethanesulfonate, N,N -Diethyl-N-methyl-N-(2-methoxyethyl)ammoniumbis(trifluoromethanesulfonyl)imide, N,N-diethyl-N-methyl-N-(2-methoxyethyl) Ammonium bis(pentafluoroethanesulfonyl)imide, glycidyltrimethylammonium trifluoromethanesulfonate, glycidyltrimethylammonium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide, glycidyltrimethylammonium bis(penta Fluoroethanesulfonyl)imide, 1-butylpyridinium (trifluoromethanesulfonyl) trifluoroacetamide, 1-butyl-3-methylpyridinium (trifluoromethanesulfonyl) trifluoroacetamide , 1-ethyl-3-methylimidazolium (trifluoromethanesulfonyl) trifluoroacetamide, N,N-diethyl-N-methyl-N-(2-methoxyethyl) ammonium (trifluoro Methanesulfonyl) trifluoroacetamide, diallyldimethylammonium (trifluoromethanesulfonyl) trifluoroacetamide, glycidyltrimethylammonium (trifluoromethanesulfonyl) trifluoroacetamide, N,N -Dimethyl-N-ethyl-N-propylammoniumbis(trifluoromethanesulfonyl)imide, N,N-dimethyl-N-ethyl-N-butylammoniumbis(trifluoromethanesulfonyl)imide, N ,N-dimethyl-N-ethyl-N-pentylammoniumbis(trifluoromethanesulfonyl)imide, N,N-dimethyl-N-ethyl-N-hexylammoniumbis(trifluoromethanesulfonyl)imide , N,N-dimethyl-N-ethyl-N-heptylammoniumbis(trifluoromethanesulfonyl)imide, N,N-dimethyl-N-ethyl-N-nonylammoniumbis(trifluoromethanesulfonyl) Imide, N,N-dimethyl-N,N-dipropylammoniumbis(trifluoromethanesulfonyl)imide, N,N-dimethyl-N-propyl-N-butylammoniumbis(triflu Oromethanesulfonyl)imide, N,N-dimethyl-N-propyl-N-pentylammoniumbis(trifluoromethanesulfonyl)imide, N,N-dimethyl-N-propyl-N-hexylammoniumbis( Trifluoromethanesulfonyl)imide, N,N-dimethyl-N-propyl-N-heptylammoniumbis(trifluoromethanesulfonyl)imide, N,N-dimethyl-N-butyl-N-hexylammonium Bis(trifluoromethanesulfonyl)imide, N,N-dimethyl-N-butyl-N-heptylammoniumbis(trifluoromethanesulfonyl)imide, N,N-dimethyl-N-pentyl-N- Hexyl ammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, N,N-dimethyl-N,N-dihexyl ammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, trimethylheptyl ammonium bis (trifluoromethanesulfonyl )Imide, N,N-diethyl-N-methyl-N-propylammoniumbis(trifluoromethanesulfonyl)imide, N,N-diethyl-N-methyl-N-pentylammoniumbis(trifluoro Romethanesulfonyl)imide, N,N-diethyl-N-methyl-N-heptylammoniumbis(trifluoromethanesulfonyl)imide, N,N-diethyl-N-propyl-N-pentylammonium Bis(trifluoromethanesulfonyl)imide, triethylpropylammonium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide, triethylpentylammonium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide, triethylheptylammonium bis( Trifluoromethanesulfonyl)imide, N,N-dipropyl-N-methyl-N-ethylammoniumbis(trifluoromethanesulfonyl)imide, N,N-dipropyl-N-methyl-N- Pentylammonium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide, N,N-dipropyl-N-butyl-N-hexylammonium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide, N,N-dipropyl-N, N-dihexylammonium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide, N,N-dibutyl-N-methyl-N-pentylammonium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide, N,N-dibutyl -N-methyl-N-hexylammoniumbis(trifluoromethanesulfonyl)imide, trioctylmethylammoniumbis(trifluoromethanesulfonyl)imide, N-methyl-N-ethyl-N-propyl-N -Pentyl ammonium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide, 1-butyl-3-methylpyridin-1-ium trifluoromethanesulfonate, etc. are mentioned. As these commercial items, "CIL-314" (manufactured by Nippon Carit Co., Ltd.), "ILA2-1" (manufactured by Koei Chemical Industries, Ltd.), etc. can be used, for example.
또, 예를 들어 테트라메틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 트리메틸에틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 트리메틸부틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 트리메틸펜틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 트리메틸헵틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 트리메틸옥틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 테트라에틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 트리에틸부틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 테트라부틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 테트라헥실암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드 등을 들 수 있다.Further, for example, tetramethylammonium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide, trimethylethylammonium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide, trimethylbutylammonium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide, Trimethylpentylammonium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide, trimethylheptylammonium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide, trimethyloctylammonium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide, tetraethylammonium bis( Trifluoromethanesulfonyl)imide, triethylbutylammonium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide, tetrabutylammonium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide, tetrahexylammonium bis(trifluoromethane Sulfonyl) imide, etc. are mentioned.
또한, 예를 들면 1-디메틸피롤리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-에틸피롤리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-프로필피롤리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-부틸피롤리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-펜틸피롤리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-헥실피롤리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-헵틸피롤리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-프로필피롤리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-부틸피롤리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-펜틸피롤리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-헥실피롤리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-헵틸피롤리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1,1-디프로필피롤리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-프로필-1-부틸피롤리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1,1-디부틸피롤리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-프로필피페리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-펜틸피페리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1,1-디메틸피페리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-에틸피페리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-프로필피페리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-부틸피페리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-펜틸피페리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-헥실피페리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-헵틸피페리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-프로필피페리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-부틸피페리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-펜틸피페리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-헥실피페리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-헵틸피페리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1,1-디프로필피페리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-프로필-1-부틸피페리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1,1-디부틸피페리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1,1-디메틸피롤리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-에틸피롤리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-프로필피롤리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-부틸피롤리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-펜틸피롤리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-헥실피롤리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-헵틸피롤리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-프로필피롤리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-부틸피롤리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-펜틸피롤리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-헥실피롤리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-헵틸피롤리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1,1-디프로필피롤리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-프로필-1-부틸피롤리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1,1-디부틸피롤리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-프로필피페리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-펜틸피페리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1,1-디메틸피페리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-에틸피페리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-프로필피페리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-부틸피페리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-펜틸피페리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-헥실피페리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-메틸-1헵틸피페리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-프로필피페리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-헵틸피페리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-펜틸피페리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-헥실피페리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-헵틸피페리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-프로필-1-부틸피페리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1,1-디프로필피페리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1,1-디부틸피페리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드 등을 들 수 있다.Further, for example, 1-dimethylpyrrolidinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, 1-methyl-1-ethylpyrrolidinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, 1-methyl-1 -Propylpyrrolidiniumbis(trifluoromethanesulfonyl)imide, 1-methyl-1-butylpyrrolidiniumbis(trifluoromethanesulfonyl)imide, 1-methyl-1-pentylpyrrolidiniumbis (Trifluoromethanesulfonyl)imide, 1-methyl-1-hexylpyrrolidiniumbis(trifluoromethanesulfonyl)imide, 1-methyl-1-heptylpyrrolidiniumbis(trifluoromethanesulphate) Fonyl)imide, 1-ethyl-1-propylpyrrolidinium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide, 1-ethyl-1-butylpyrrolidiniumbis(trifluoromethanesulfonyl)imide, 1 -Ethyl-1-pentylpyrrolidinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, 1-ethyl-1-hexylpyrrolidinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, 1-ethyl-1-hep Tylpyrrolidinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, 1,1-dipropylpyrrolidinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, 1-propyl-1-butylpyrrolidinium bis (trifluoro Romethanesulfonyl)imide, 1,1-dibutylpyrrolidiniumbis(trifluoromethanesulfonyl)imide, 1-propylpiperidiniumbis(trifluoromethanesulfonyl)imide, 1-pentyl Piperidinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, 1,1-dimethylpiperidinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, 1-methyl-1-ethylpiperidinium bis (trifluoro Methanesulfonyl)imide, 1-methyl-1-propylpiperidiniumbis(trifluoromethanesulfonyl)imide, 1-methyl-1-butylpiperidiniumbis(trifluoromethanesulfonyl)imide , 1-methyl-1-pentylpiperidinium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide, 1-methyl-1-hexylpiperidiniumbis(trifluoromethanesulfonyl)imide, 1-methyl-1 -Heptylpiperidiniumbis(trifluoromethanesulfonyl)imide, 1-ethyl-1-propylpiperidiniumbis(trifluoromethanesulfonyl)imide, 1-ethyl-1-butylpiperidiniumbis (Trifluoromethanesulfonyl)imide, 1-ethyl-1-pentylpiperidiniumbis(trifluoromethanesulfonyl)imide, 1-ethyl-1-hexylpiperidiniumbis(trifluoromethanesulphate) Fonyl)imide, 1-ethyl-1-heptylpiperidiniumbis(trifluoromethanesulfonyl)imide, 1,1-dipropylpiperidiniumbis(t Lifluoromethanesulfonyl)imide, 1-propyl-1-butylpiperidiniumbis(trifluoromethanesulfonyl)imide, 1,1-dibutylpiperidiniumbis(trifluoromethanesulfonyl) Imide, 1,1-dimethylpyrrolidinium bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide, 1-methyl-1-ethylpyrrolidinium bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide, 1-methyl-1 -Propylpyrrolidiniumbis(pentafluoroethanesulfonyl)imide, 1-methyl-1-butylpyrrolidiniumbis(pentafluoroethanesulfonyl)imide, 1-methyl-1-pentylpyrrolidiniumbis (Pentafluoroethanesulfonyl) imide, 1-methyl-1-hexylpyrrolidinium bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide, 1-methyl-1-heptylpyrrolidinium bis (pentafluoroethanesol Fonyl)imide, 1-ethyl-1-propylpyrrolidinium bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide, 1-ethyl-1-butylpyrrolidinium bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide, 1 -Ethyl-1-pentylpyrrolidinium bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide, 1-ethyl-1-hexylpyrrolidinium bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide, 1-ethyl-1- hep Tylpyrrolidinium bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide, 1,1-dipropylpyrrolidinium bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide, 1-propyl-1-butylpyrrolidinium bis (pentafluoro Loethanesulfonyl)imide, 1,1-dibutylpyrrolidiniumbis(pentafluoroethanesulfonyl)imide, 1-propylpiperidiniumbis(pentafluoroethanesulfonyl)imide, 1-pentyl Piperidiniumbis(pentafluoroethanesulfonyl)imide, 1,1-dimethylpiperidiniumbis(pentafluoroethanesulfonyl)imide, 1-methyl-1-ethylpiperidiniumbis(pentafluoro Ethanesulfonyl)imide, 1-methyl-1-propylpiperidiniumbis(pentafluoroethanesulfonyl)imide, 1-methyl-1-butylpiperidiniumbis(pentafluoroethanesulfonyl)imide , 1-methyl-1-pentylpiperidiniumbis(pentafluoroethanesulfonyl)imide, 1-methyl-1-hexylpiperidiniumbis(pentafluoroethanesulfonyl)imide, 1-methyl-1 Heptylpiperidiniumbis(pentafluoroethanesulfonyl)imide, 1-ethyl-1-propylpiperidiniumbis(pentafluoroethanesulfonyl)imide, 1-ethyl-1-heptylpiperidiniumbis( Pentafluoroethanesulfonyl)imide, 1-ethyl-1-pentylpiperidiniumbis(pentafluoroethanesulfonyl)imide, 1-ethyl-1-hexylpipe Ridiniumbis(pentafluoroethanesulfonyl)imide, 1-ethyl-1-heptylpiperidiniumbis(pentafluoroethanesulfonyl)imide, 1-propyl-1-butylpiperidiniumbis(pentafluoro Loethanesulfonyl)imide, 1,1-dipropylpiperidiniumbis(pentafluoroethanesulfonyl)imide, 1,1-dibutylpiperidiniumbis(pentafluoroethanesulfonyl)imide, etc. Can be mentioned.
또, 상기 화합물의 카티온 성분 대신에, 트리메틸술포늄 카티온, 트리에틸술포늄 카티온, 트리부틸술포늄 카티온, 트리헥실술포늄 카티온, 디에틸메틸술포늄 카티온, 디부틸에틸술포늄 카티온, 디메틸데실술포늄 카티온, 테트라메틸포스포늄 카티온, 테트라에틸포스포늄 카티온, 테트라부틸포스포늄 카티온, 테트라헥실포스포늄 카티온을 사용한 화합물 등을 들 수 있다.In addition, instead of the cation component of the compound, trimethylsulfonium cation, triethylsulfonium cation, tributylsulfonium cation, trihexylsulfonium cation, diethylmethylsulfonium cation, dibutylethylsulfonium And compounds using phonium cation, dimethyldecylsulfonium cation, tetramethylphosphonium cation, tetraethylphosphonium cation, tetrabutylphosphonium cation, and tetrahexylphosphonium cation.
또, 상기 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드 대신에, 비스(펜타플루오로술포닐)이미드, 비스(헵타플루오로프로판술포닐)이미드, 비스(노나플루오로부탄술포닐)이미드, 트리플루오로메탄술포닐노나플루오로부탄술포닐이미드, 헵타플루오로프로판술포닐트리플루오로메탄술포닐이미드, 펜타플루오로에탄술포닐노나플루오로부탄술포닐이미드, 시클로-헥사플루오로프로판-1,3-비스(술포닐)이미드 아니온 등을 사용한 화합물 등을 들 수 있다.In addition, in place of the bis(trifluoromethanesulfonyl)imide, bis(pentafluorosulfonyl)imide, bis(heptafluoropropanesulfonyl)imide, bis(nonafluorobutanesulfonyl)imide De, trifluoromethanesulfonylnonafluorobutanesulfonylimide, heptafluoropropanesulfonyltrifluoromethanesulfonylimide, pentafluoroethanesulfonylnonafluorobutanesulfonylimide, cyclo-hexa And compounds using fluoropropane-1,3-bis(sulfonyl)imide anion and the like.
또, 이온성 화합물로는, 상기 알칼리 금속염, 유기 카티온-아니온염 외에, 염화암모늄, 염화알루미늄, 염화구리, 염화제1철, 염화제2철, 황산암모늄 등의 무기염을 들 수 있다. 이들 이온성 화합물은 단독으로 또는 복수를 병용할 수 있다.Moreover, as an ionic compound, besides the said alkali metal salt and an organic cation-anion salt, inorganic salts, such as ammonium chloride, aluminum chloride, copper chloride, ferrous chloride, ferric chloride, and ammonium sulfate, are mentioned. These ionic compounds may be used alone or in combination of a plurality.
아크릴계 점착제 조성물에 있어서의 이온성 화합물의 배합 비율은 특별히 한정되지 않지만, 상기 (메트)아크릴계 폴리머 (고형분) 100 중량부에 대하여, 10 중량부 정도 이하인 것이 바람직하고, 5 중량부 이하인 것이 보다 바람직하며, 2 중량부 이하인 것이 더 바람직하다. 또, 하한값은 특별히 한정되지 않지만, 0.01 중량부 이상이 바람직하다.Although the blending ratio of the ionic compound in the acrylic pressure-sensitive adhesive composition is not particularly limited, it is preferably about 10 parts by weight or less, more preferably 5 parts by weight or less, based on 100 parts by weight of the (meth)acrylic polymer (solid content). , More preferably 2 parts by weight or less. In addition, the lower limit is not particularly limited, but 0.01 parts by weight or more is preferable.
나아가서는, 본 발명에서 사용하는 아크릴계 점착제 조성물에는, 필요에 따라 점도 조정제, 박리 조정제, 점착 부여제, 가소제, 연화제, 유리 섬유, 유리 비즈, 금속 분말, 그 밖의 무기 분말 등으로 이루어지는 충전제, 안료, 착색제 (안료, 염료 등), pH 조정제 (산 또는 염기), 산화 방지제, 자외선 흡수제 등을, 또 본 발명의 목적을 일탈하지 않는 범위에서 각종 첨가제를 적절히 사용할 수도 있다. 이들 첨가제도 에멀션으로서 배합할 수 있다.Furthermore, in the acrylic pressure-sensitive adhesive composition used in the present invention, if necessary, a viscosity modifier, a peel modifier, a tackifier, a plasticizer, a softener, a glass fiber, a glass beads, a filler made of a metal powder, other inorganic powder, etc., a pigment, Colorants (pigments, dyes, etc.), pH adjusters (acids or bases), antioxidants, ultraviolet absorbers, and the like, and various additives may be appropriately used within a range not departing from the object of the present invention. These additives can also be blended as an emulsion.
(3) 점착제층이 형성된 편광 필름(3) a polarizing film with an adhesive layer formed thereon
본 발명의 점착제층이 형성된 편광 필름은, 상기 요오드계 편광 필름의 적어도 일방의 면에, 상기 아크릴계 점착제 조성물로 형성되는 점착제층을 형성함으로써 얻어진다.The polarizing film with the pressure-sensitive adhesive layer of the present invention is obtained by forming a pressure-sensitive adhesive layer formed of the acrylic pressure-sensitive adhesive composition on at least one surface of the iodine-based polarizing film.
상기 점착제층의 형성 방법은 특별히 한정되지 않지만, 각종 기재 상에 상기 아크릴계 점착제 조성물을 도포하고, 열오븐 등의 건조기에 의해 건조시켜, 용제 등을 휘산시켜 점착제층을 형성하고, 상기 요오드계 편광 필름 상에, 당해 점착제층을 전사하는 방법이어도 되고, 상기 요오드계 편광 필름 상에 직접 상기 아크릴계 점착제 조성물을 도포하여, 점착제층을 형성해도 된다.The method of forming the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited, and the acrylic pressure-sensitive adhesive composition is applied on various substrates, dried with a dryer such as a heat oven, and evaporated to form a pressure-sensitive adhesive layer, and the iodine-based polarizing film A method of transferring the pressure-sensitive adhesive layer may be used, or the acrylic pressure-sensitive adhesive composition may be directly applied onto the iodine-based polarizing film to form a pressure-sensitive adhesive layer.
상기 기재로는, 특별히 한정되는 것은 아니고, 예를 들어 이형 필름, 투명 수지 필름 기재 등의 각종 기재를 들 수 있다.It does not specifically limit as said base material, For example, various base materials, such as a release film and a transparent resin film base material, are mentioned.
상기 기재나 편광 필름에 대한 도포 방법으로는, 각종 방법이 사용된다. 구체적으로는, 예를 들어 파운틴 코터, 롤 코트, 키스 롤 코트, 그라비아 코트, 리버스 코트, 롤 브러시, 스프레이 코트, 딥 롤 코트, 바 코트, 나이프 코트, 에어 나이프 코트, 커튼 코트, 립 코트, 다이 코터 등에 의한 압출 코트법 등의 방법을 들 수 있다.Various methods are used as the coating method to the substrate or the polarizing film. Specifically, for example, fountain coater, roll coat, kiss roll coat, gravure coat, reverse coat, roll brush, spray coat, deep roll coat, bar coat, knife coat, air knife coat, curtain coat, lip coat, die Methods, such as an extrusion coating method using a coater or the like, are mentioned.
건조 조건 (온도, 시간) 은, 특별히 한정되는 것은 아니고, 아크릴계 점착제 조성물의 조성, 농도 등에 따라 적절히 설정할 수 있지만, 예를 들어 80 ∼ 170 ℃정도, 바람직하게는 90 ∼ 200 ℃ 에서, 1 ∼ 60 분간, 바람직하게는 2 ∼ 30 분간이다.The drying conditions (temperature, time) are not particularly limited, and may be appropriately set depending on the composition, concentration, etc. of the acrylic pressure-sensitive adhesive composition, but, for example, at about 80 to 170°C, preferably 90 to 200°C, 1 to 60 Minutes, preferably 2 to 30 minutes.
점착제층의 두께 (건조 후) 는, 예를 들어 5 ∼ 100 ㎛ 인 것이 바람직하고, 10 ∼ 60 ㎛ 인 것이 보다 바람직하며, 12 ∼ 40 ㎛ 인 것이 더 바람직하다. 점착제층의 두께가 10 ㎛ 미만에서는, 피착체에 대한 밀착성이 부족해지고, 고온, 고온다습하에서의 내구성이 충분하지 않은 경향이 있다. 한편, 점착제층의 두께가 100 ㎛ 를 초과하는 경우에는, 점착제층을 형성할 때의 아크릴계 점착제 조성물의 도포, 건조 시에 충분하게 완전히 건조시킬 수 없어, 기포가 잔존하거나, 점착제층의 면에 두께 불균일이 발생하거나 해, 외관상의 문제가 현재화하기 쉬워지는 경향이 있다.The thickness (after drying) of the pressure-sensitive adhesive layer is, for example, preferably 5 to 100 µm, more preferably 10 to 60 µm, and still more preferably 12 to 40 µm. When the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is less than 10 µm, adhesion to the adherend tends to be insufficient, and durability under high temperature and high temperature and high humidity tends to be insufficient. On the other hand, when the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer exceeds 100 µm, the acrylic pressure-sensitive adhesive composition cannot be sufficiently completely dried during application and drying when forming the pressure-sensitive adhesive layer, and air bubbles remain, or the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer remains on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer. There is a tendency that non-uniformity occurs or causes an appearance problem to be easily present.
상기 이형 필름의 구성 재료로는, 예를 들어 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에스테르 필름 등의 수지 필름, 종이, 포, 부직포 등의 다공질 재료, 네트, 발포 시트, 금속박, 및 이들의 라미네이트체 등의 적절한 박엽체 등을 들 수 있지만, 표면 평활성이 우수한 점에서 수지 필름이 바람직하게 사용된다.As a constituent material of the release film, for example, resin films such as polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate, and polyester films, porous materials such as paper, fabric, and nonwoven fabric, nets, foam sheets, metal foils, and laminates thereof Suitable thin-leaf bodies such as a sieve are mentioned, but a resin film is preferably used from the viewpoint of excellent surface smoothness.
그 수지 필름으로는, 예를 들어 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 폴리 부텐 필름, 폴리부타디엔 필름, 폴리메틸펜텐 필름, 폴리염화비닐 필름, 염화비닐 공중합체 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리부틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리우레탄 필름, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체 필름 등을 들 수 있다.Examples of the resin film include polyethylene film, polypropylene film, polybutene film, polybutadiene film, polymethylpentene film, polyvinyl chloride film, vinyl chloride copolymer film, polyethylene terephthalate film, polybutylene terephthalate A film, a polyurethane film, an ethylene-vinyl acetate copolymer film, and the like.
상기 이형 필름의 두께는, 통상 5 ∼ 200 ㎛ 이고, 바람직하게는 5 ∼ 100 ㎛ 정도이다. 상기 이형 필름에는, 필요에 따라 실리콘계, 불소계, 장사슬 알킬계 혹은 지방산 아미드계의 이형제, 실리카 분말 등에 의한 이형 및 방오 처리나, 도포형, 혼련형, 증착형 등의 대전 방지 처리를 할 수도 있다. 특히, 상기 이형 필름의 표면에 실리콘 처리, 장사슬 알킬 처리, 불소 처리 등의 박리 처리를 적절히 실시함으로써, 상기 점착제층으로부터의 박리성을 보다 높일 수 있다.The thickness of the release film is usually 5 to 200 µm, preferably about 5 to 100 µm. The release film may be subjected to a release and antifouling treatment with a silicone-based, fluorine-based, long-chain alkyl-based or fatty acid amide-based release agent, silica powder, etc., or an antistatic treatment such as coating, kneading, and evaporation, if necessary. . In particular, by appropriately performing a release treatment such as a silicone treatment, a long chain alkyl treatment, or a fluorine treatment on the surface of the release film, the release property from the pressure-sensitive adhesive layer can be further improved.
상기 투명 수지 필름 기재로는, 특별히 제한되지 않지만, 투명성을 갖는 각종 수지 필름이 사용된다. 당해 수지 필름은 1 층의 필름에 의해 형성되어 있다. 예를 들어, 그 재료로서 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지, 아세테이트계 수지, 폴리에테르술폰계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리올레핀계 수지, (메트)아크릴계 수지, 폴리염화비닐계 수지, 폴리염화비닐리덴계 수지, 폴리스티렌계 수지, 폴리비닐알코올계 수지, 폴리아릴레이트계 수지, 폴리페닐렌술파이드계 수지 등을 들 수 있다. 이들 중에서 특히 바람직한 것은, 폴리에스테르계 수지, 폴리이미드계 수지 및 폴리에테르술폰계 수지이다.Although it does not specifically limit as said transparent resin film base material, Various resin films which have transparency are used. The said resin film is formed by one layer of film. For example, as the material, polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, acetate resins, polyethersulfone resins, polycarbonate resins, polyamide resins, polyimide resins, polyolefin resins, (Meth)acrylic resins, polyvinyl chloride resins, polyvinylidene chloride resins, polystyrene resins, polyvinyl alcohol resins, polyarylate resins, polyphenylene sulfide resins, and the like. Among these, polyester resins, polyimide resins, and polyethersulfone resins are particularly preferable.
상기 필름 기재의 두께는, 15 ∼ 200 ㎛ 인 것이 바람직하다.It is preferable that the thickness of the film substrate is 15 to 200 µm.
또, 요오드계 편광 필름과 점착제층 사이에는, 앵커층을 갖고 있어도 된다. 앵커층을 형성하는 재료는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 각종 폴리머류, 금속 산화물의 졸, 실리카 졸 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 특히 폴리머류가 바람직하게 사용된다. 상기 폴리머류의 사용 형태는 용제 가용형, 수분산형, 수용해형 중 어느 것이라도 된다.Moreover, you may have an anchor layer between an iodine polarizing film and an adhesive layer. The material for forming the anchor layer is not particularly limited, and examples thereof include various polymers, metal oxide sols, and silica sols. Among these, polymers are particularly preferably used. The use mode of the polymers may be any of a solvent-soluble type, an aqueous dispersion type, and an aqueous solution type.
상기 폴리머류로는, 예를 들어 폴리우레탄계 수지, 폴리에스테르계 수지, 아크릴계 수지, 폴리에테르계 수지, 셀룰로오스계 수지, 폴리비닐알코올계 수지, 폴리비닐피롤리돈, 폴리스티렌계 수지 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 특히 폴리우레탄계 수지, 폴리에스테르계 수지, 아크릴계 수지가 바람직하다. 이들 수지에는 적절히 가교제를 배합할 수 있다. 이들 다른 바인더 성분은 1 종, 또는 2 종 이상을 적절히 그 용도에 맞춰 사용할 수 있다.Examples of the polymers include polyurethane resins, polyester resins, acrylic resins, polyether resins, cellulose resins, polyvinyl alcohol resins, polyvinylpyrrolidone, and polystyrene resins. . Among these, polyurethane resins, polyester resins, and acrylic resins are particularly preferred. A crosslinking agent can be appropriately blended into these resins. One or two or more of these other binder components can be suitably used according to the purpose.
앵커층을, 수분산형 재료에 의해 형성하는 경우에는, 수분산형 폴리머를 사용한다. 수분산형 폴리머로는, 폴리우레탄, 폴리에스테르 등의 각종 수지를, 유화제를 이용하여 에멀션화한 것이나, 상기 수지 중에, 수분산성의 아니온기, 카티온기, 또는 논이온기를 도입하여 자기 유화한 것 등을 들 수 있다.When the anchor layer is formed of a water-dispersible material, a water-dispersion polymer is used. Examples of water-dispersible polymers are those obtained by emulsifying various resins such as polyurethane and polyester using an emulsifier, or those obtained by introducing a water-dispersible anionic group, a cation group, or a nonionic group into the resin to be self-emulsified. And the like.
또, 상기 앵커제에는, 대전 방지제를 함유시킬 수 있다. 대전 방지제는, 도전성을 부여할 수 있는 재료이면 특별히 제한되지 않고, 예를 들어 이온성 계면활성제, 도전성 폴리머, 금속 산화물, 카본 블랙, 및 카본 나노 재료 등을 들 수 있지만, 이들 중에서도, 도전성 폴리머가 바람직하고, 보다 바람직하게는 수분산성 도전 폴리머이다.In addition, an antistatic agent can be contained in the anchor agent. The antistatic agent is not particularly limited as long as it is a material capable of imparting conductivity, and examples thereof include ionic surfactants, conductive polymers, metal oxides, carbon black, and carbon nanomaterials. Among these, conductive polymers are Preferably, it is a water-dispersible conductive polymer more preferably.
수용성 도전성 폴리머로는, 폴리아닐린술폰산 (폴리스티렌 환산에 의한 중량 평균 분자량 150000, 미츠비시 레이온 (주) 제조) 등, 수분산성 도전 폴리머로는, 폴리티오펜계 도전성 폴리머 (나가세켐텍스사 제조, 데나트론 시리즈) 등을 들 수 있다.Examples of the water-soluble conductive polymer include polyaniline sulfonic acid (a weight average molecular weight of 150000 in terms of polystyrene, manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.), and examples of the water-dispersible conductive polymer include polythiophene-based conductive polymers (manufactured by Nagase Chemtex, Denatron series). ) And the like.
상기 대전 방지제의 배합량은, 예를 들어 앵커제에 사용하는 상기 폴리머류 100 중량부에 대하여, 70 중량부 이하, 바람직하게는 50 중량부 이하이다. 대전 방지 효과의 점에서는, 10 중량부 이상, 나아가서는 20 중량부 이상으로 하는 것이 바람직하다.The blending amount of the antistatic agent is, for example, 70 parts by weight or less, preferably 50 parts by weight or less, based on 100 parts by weight of the polymers used in the anchor agent. From the viewpoint of the antistatic effect, it is preferable to set it as 10 parts by weight or more, and further to 20 parts by weight or more.
또, 상기 앵커제에는, 앵커코트층과 접촉할 때에 생기는 점착제층이나 편광자의 열화 등을 억제할 목적으로 각종 첨가제를 배합할 수 있고, 또 앵커코트층에 기능 부여할 목적으로 각종 첨가제를 배합할 수 있다. 예를 들어, 산화 방지제, 열화 방지제, 자외선 흡수제, 형광 증백제 등을 첨가할 수 있다.In addition, various additives may be blended with the anchor agent for the purpose of suppressing deterioration of the pressure-sensitive adhesive layer or polarizer that occurs when contacting the anchor coat layer, and various additives for the purpose of imparting a function to the anchor coat layer. I can. For example, antioxidants, deterioration inhibitors, ultraviolet absorbers, optical brighteners, and the like can be added.
앵커층의 두께는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 5 ∼ 300 ㎚ 인 것이 바람직하다.The thickness of the anchor layer is not particularly limited, but is preferably 5 to 300 nm.
상기 앵커층의 형성 방법으로는, 특별히 한정되지 않고, 통상 공지된 방법에 의해 실시할 수 있다. 또, 앵커층의 형성 시에, 상기 요오드계 편광 필름에 활성화 처리를 실시할 수 있다. 활성화 처리는 각종 방법을 채용할 수 있고, 예를 들어 코로나 처리, 저압 UV 처리, 플라즈마 처리 등을 채용할 수 있다.The method for forming the anchor layer is not particularly limited, and it can be carried out by a generally known method. In addition, at the time of formation of the anchor layer, the iodine-based polarizing film can be subjected to an activation treatment. Various methods may be employed for the activation treatment, and for example, corona treatment, low pressure UV treatment, plasma treatment, and the like may be employed.
요오드계 편광 필름 상의 앵커층 상에 대한 점착제층의 형성 방법은, 전술한 바와 같다.The method of forming the pressure-sensitive adhesive layer on the anchor layer on the iodine-based polarizing film is as described above.
또, 본 발명의 점착제층이 형성된 편광 필름의 점착제층이 노출되는 경우에는, 실용에 제공될 때까지 이형 필름 (세퍼레이터) 으로 점착제층을 보호해도 된다. 이형 필름으로는, 전술한 것을 들 수 있다. 상기 점착제층의 제작 시에 기재로서 이형 필름을 사용한 경우에는, 이형 필름 상의 점착제층과 요오드계 편광 필름을 첩합함으로써, 당해 이형 필름은, 점착제층이 형성된 편광 필름의 점착제층의 이형 필름으로서 사용할 수 있어, 공정 면에 있어서의 간략화가 가능하다.Moreover, when the adhesive layer of the polarizing film in which the adhesive layer of this invention was formed is exposed, you may protect the adhesive layer with a release film (separator) until it is provided for practical use. As a release film, the thing mentioned above is mentioned. When a release film is used as a base material in the production of the pressure-sensitive adhesive layer, the release film can be used as a release film of the pressure-sensitive adhesive layer of the polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer is formed by bonding the pressure-sensitive adhesive layer on the release film and an iodine-based polarizing film. Yes, it is possible to simplify the process.
2. 적층체2. Laminate
본 발명의 적층체는, 상기 점착제층이 형성된 편광 필름과, 투명 도전층을 갖는 부재를, 상기 점착제층이 형성된 편광 필름의 점착제층과 상기 투명 도전층을 갖는 부재의 투명 도전층이 접촉하도록 첩합한 것을 특징으로 한다.In the laminate of the present invention, the polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer is formed and a member having a transparent conductive layer are pasted so that the pressure-sensitive adhesive layer of the polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer is formed and the transparent conductive layer of the member having the transparent conductive layer are in contact with each other. It is characterized by a combination.
상기 점착제층이 형성된 편광 필름은, 전술한 것을 사용할 수 있다.The polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer is formed may be the one described above.
투명 도전층을 갖는 부재로는, 특별히 한정되는 것은 아니고, 공지된 것을 사용할 수 있지만, 투명 필름 등의 투명 기재 상에 투명 도전층을 갖는 것이나, 투명 도전층과 액정 셀을 갖는 부재를 들 수 있다.The member having a transparent conductive layer is not particularly limited, and a known member can be used, but a member having a transparent conductive layer on a transparent substrate such as a transparent film, and a member having a transparent conductive layer and a liquid crystal cell may be mentioned. .
투명 기재로는, 투명성을 갖는 것이면 되고, 예를 들어 수지 필름이나, 유리 등으로 이루어지는 기재 (예를 들어, 시트상이나 필름상, 판상의 기재 등) 등을 들 수 있고, 수지 필름이 특히 바람직하다. 투명 기재의 두께는, 특별히 한정되지 않지만, 10 ∼ 200 ㎛ 정도가 바람직하고, 15 ∼ 150 ㎛ 정도가 보다 바람직하다.As the transparent substrate, any one having transparency may be used, and for example, a resin film or a substrate made of glass or the like (for example, a sheet-like, film-like, plate-like substrate, etc.) can be exemplified, and a resin film is particularly preferred. . The thickness of the transparent substrate is not particularly limited, but is preferably about 10 to 200 µm, and more preferably about 15 to 150 µm.
상기 수지 필름의 재료로는, 특별히 제한되지 않지만, 투명성을 갖는 각종 플라스틱 재료를 들 수 있다. 예를 들어, 그 재료로서 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지, 아세테이트계 수지, 폴리에테르술폰계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리올레핀계 수지, (메트)아크릴계 수지, 폴리염화비닐계 수지, 폴리염화비닐리덴계 수지, 폴리스티렌계 수지, 폴리비닐알코올계 수지, 폴리아릴레이트계 수지, 폴리페닐렌설파이드계 수지 등을 들 수 있다. 이들 중에서 특히 바람직한 것은, 폴리에스테르계 수지, 폴리이미드계 수지 및 폴리에테르술폰계 수지이다.Although it does not specifically limit as a material of the said resin film, Various plastic materials which have transparency are mentioned. For example, as the material, polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, acetate resins, polyethersulfone resins, polycarbonate resins, polyamide resins, polyimide resins, polyolefin resins, (Meth)acrylic resins, polyvinyl chloride resins, polyvinylidene chloride resins, polystyrene resins, polyvinyl alcohol resins, polyarylate resins, polyphenylene sulfide resins, and the like. Among these, polyester resins, polyimide resins, and polyethersulfone resins are particularly preferable.
또, 상기 투명 기재에는, 표면에 미리 스퍼터링, 코로나 방전, 화염, 자외선 조사, 전자선 조사, 화성, 산화 등의 에칭 처리나 하도 처리를 실시하여, 이 위에 형성되는 투명 도전층의 상기 투명 기재에 대한 밀착성을 향상시키도록 해도 된다. 또, 투명 도전층을 형성하기 전에, 필요에 따라 용제 세정이나 초음파 세정 등에 의해 제진, 청정화해도 된다.In addition, the transparent substrate is subjected to etching or primer treatment such as sputtering, corona discharge, flame, ultraviolet irradiation, electron beam irradiation, chemical conversion, oxidation, etc. to the surface in advance, and the transparent conductive layer formed thereon is applied to the transparent substrate. You may try to improve the adhesion. Further, before forming the transparent conductive layer, if necessary, it may be subjected to vibration suppression and cleaning by solvent cleaning or ultrasonic cleaning.
상기 투명 도전층의 구성 재료로는 특별히 한정되지 않고, 인듐, 주석, 아연, 갈륨, 안티몬, 티탄, 규소, 지르코늄, 마그네슘, 알루미늄, 금, 은, 구리, 팔라듐, 텅스텐으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 금속의 금속 산화물이 사용된다. 당해 금속 산화물에는, 필요에 따라, 추가로 상기 군에 나타낸 금속 원자를 포함하고 있어도 된다. 예를 들어, 산화주석을 함유하는 산화인듐 (ITO), 안티몬을 함유하는 산화주석 등이 바람직하게 사용되고, ITO 가 특히 바람직하게 사용된다. ITO 로는, 산화인듐 80 ∼ 99 중량% 및 산화주석 1 ∼ 20 중량% 를 함유하는 것이 바람직하다.The material constituting the transparent conductive layer is not particularly limited, and at least selected from the group consisting of indium, tin, zinc, gallium, antimony, titanium, silicon, zirconium, magnesium, aluminum, gold, silver, copper, palladium, and tungsten. Metal oxides of one type of metal are used. The metal oxide may further contain the metal atoms shown in the group, if necessary. For example, indium oxide containing tin oxide (ITO), tin oxide containing antimony, and the like are preferably used, and ITO is particularly preferably used. As ITO, it is preferable to contain 80 to 99 weight% of indium oxide and 1 to 20 weight% of tin oxide.
또, 상기 ITO 로는, 결정성 ITO, 비결정성 (아모르퍼스) ITO 를 들 수 있다. 결정성 ITO 는, 스퍼터 시에 고온을 가하거나, 비결정성 ITO 를 추가로 가열함으로써 얻을 수 있다. 상기 요오드에 의한 열화는, 비결정성 ITO 에 있어서 현저하게 발생하기 때문에, 본 발명의 점착제층이 형성된 편광 필름은, 비결정성 ITO 에 있어서 특히 유효하다.Moreover, as said ITO, crystalline ITO and amorphous (amorphous) ITO are mentioned. Crystalline ITO can be obtained by applying a high temperature during sputtering or by further heating amorphous ITO. Since the above-described deterioration by iodine occurs remarkably in amorphous ITO, the polarizing film in which the pressure-sensitive adhesive layer of the present invention is formed is particularly effective in amorphous ITO.
상기 투명 도전층의 두께는 특별히 제한되지 않지만, 7 ㎚ 이상으로 하는 것이 바람직하고, 10 ㎚ 이상으로 하는 것이 보다 바람직하며, 12 ∼ 60 ㎚ 로 하는 것이 더 바람직하고, 15 ∼ 45 ㎚ 로 하는 것이 더 바람직하며, 18 ∼ 45 ㎚ 로 하는 것이 더 바람직하고, 20 ∼ 30 ㎚ 로 하는 것이 특히 바람직하다. 투명 도전층의 두께가 7 ㎚ 미만에서는 요오드에 의한 투명 도전층의 열화가 일어나기 쉽고, 투명 도전층의 전기 저항값의 변화가 커지는 경향이 있다. 한편, 60 ㎚ 를 초과하는 경우에는, 투명 도전층의 생산성이 저하하고, 비용도 상승하고, 또한 광학 특성도 저하하는 경향이 있다.The thickness of the transparent conductive layer is not particularly limited, but it is preferably 7 nm or more, more preferably 10 nm or more, more preferably 12 to 60 nm, and furthermore 15 to 45 nm. It is preferable, and it is more preferable to set it as 18 to 45 nm, and it is especially preferable to set it as 20 to 30 nm. When the thickness of the transparent conductive layer is less than 7 nm, deterioration of the transparent conductive layer due to iodine tends to occur, and there is a tendency that the change in the electric resistance value of the transparent conductive layer increases. On the other hand, when it exceeds 60 nm, the productivity of the transparent conductive layer decreases, the cost increases, and the optical properties tend to decrease.
상기 투명 도전층의 형성 방법으로는 특별히 한정되지 않고, 종래 공지된 방법을 채용할 수 있다. 구체적으로는, 예를 들어 진공 증착법, 스퍼터링법, 이온 플레이팅법을 예시할 수 있다. 또, 필요로 하는 막두께에 따라 적절한 방법을 채용할 수도 있다.The method for forming the transparent conductive layer is not particularly limited, and a conventionally known method may be employed. Specifically, a vacuum evaporation method, a sputtering method, and an ion plating method can be illustrated, for example. Moreover, it is also possible to adopt an appropriate method according to the required film thickness.
상기 투명 도전층을 갖는 기재의 두께로는, 15 ∼ 200 ㎛ 를 들 수 있다. 또한, 박막화의 관점에서는 15 ∼ 150 ㎛ 인 것이 바람직하고, 15 ∼ 50 ㎛ 인 것이 보다 바람직하다. 상기 투명 도전층을 갖는 기재가 저항막 방식으로 사용되는 경우, 예를 들어 100 ∼ 200 ㎛ 의 두께를 들 수 있다. 또 정전 용량 방식으로 사용되는 경우, 예를 들어 15 ∼ 100 ㎛ 의 두께가 바람직하고, 특히 최근의 추가적인 박막화 요구에 따라 15 ∼ 50 ㎛ 의 두께가 보다 바람직하고, 20 ∼ 50 ㎛ 의 두께가 더 바람직하다.The thickness of the substrate having the transparent conductive layer is 15 to 200 µm. In addition, from the viewpoint of thinning, it is preferably 15 to 150 µm, and more preferably 15 to 50 µm. When the substrate having the transparent conductive layer is used in a resistive film method, a thickness of, for example, 100 to 200 µm is mentioned. In addition, when used in the electrostatic capacity method, a thickness of, for example, 15 to 100 µm is preferable, and in particular, a thickness of 15 to 50 µm is more preferable, and a thickness of 20 to 50 µm is more preferable in accordance with the recent additional thinning demand. Do.
또, 투명 도전층과 투명 기재 사이에, 필요에 따라, 언더코트층, 올리고머 방지층 등을 형성할 수 있다.Moreover, an undercoat layer, an oligomer prevention layer, etc. can be formed between a transparent conductive layer and a transparent base material as needed.
또, 투명 도전층과 액정 셀을 갖는 부재로는, 각종 액정 표시 장치 등의 화상 표시 장치에 사용되는, 기판 (예를 들어, 유리 기판 등)/액정층/기판의 구성을 포함하는 액정 셀의 당해 기판의 액정층과 접하지 않는 측에 투명 도전층을 갖는 것을 들 수 있다. 또, 액정 셀 상에 컬러 필터 기판을 형성하는 경우에는, 당해 컬러 필터 상에 투명 도전층을 갖고 있어도 된다. 액정 셀의 기판 상에 투명 도전층을 형성하는 방법은, 상기와 동일하다.In addition, as a member having a transparent conductive layer and a liquid crystal cell, a liquid crystal cell including a configuration of a substrate (eg, glass substrate, etc.)/liquid crystal layer/substrate used in image display devices such as various liquid crystal display devices. What has a transparent conductive layer on the side which does not contact with the liquid crystal layer of the said board|substrate is mentioned. Moreover, when forming a color filter substrate on a liquid crystal cell, you may have a transparent conductive layer on the said color filter. The method of forming the transparent conductive layer on the substrate of the liquid crystal cell is the same as described above.
3. 화상 표시 장치3. Image display device
본 발명의 적층체는, 입력 장치 (터치 패널 등) 를 구비한 화상 표시 장치 (액정 표시 장치, 유기 EL (일렉트로 루미네선스) 표시 장치, PDP (플라즈마 디스플레이 패널), 전자 페이퍼 등), 입력 장치 (터치 패널 등) 등의 기기를 구성하는 기재 (부재) 또는 이들 기기에 사용되는 기재 (부재) 의 제조에 있어서 바람직하게 사용할 수 있지만, 특히 터치 패널용 광학 기재의 제조에 있어서 바람직하게 사용할 수 있다. 또, 저항막 방식이나 정전 용량 방식과 같은 터치 패널 등의 방식에 관계 없이 사용할 수 있다. The laminate of the present invention is an image display device (liquid crystal display device, organic EL (electroluminescence) display device, PDP (plasma display panel), electronic paper, etc.) provided with an input device (touch panel, etc.), input device It can be preferably used in the manufacture of a base material (member) constituting devices such as (touch panel, etc.) or a base material (member) used in these devices, but it can be particularly preferably used in the production of an optical base material for a touch panel. . In addition, it can be used regardless of a method such as a touch panel such as a resistive film method or a capacitive method.
본 발명의 적층체에, 재단, 레지스트 인쇄, 에칭, 은 잉크 인쇄 등의 처리가 실시되어 얻어진 투명 도전성 필름은, 광학 디바이스용 기재 (광학 부재) 로서 사용할 수 있다. 광학 디바이스용 기재로는, 광학적 특성을 갖는 기재이면 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 화상 표시 장치 (액정 표시 장치, 유기 EL (일렉트로 루미네선스) 표시 장치, PDP (플라즈마 디스플레이 패널), 전자 페이퍼 등), 입력 장치 (터치 패널 등) 등의 기기를 구성하는 기재 (부재) 또는 이들 기기에 사용되는 기재 (부재) 를 들 수 있다.The transparent conductive film obtained by subjecting the laminate of the present invention to a treatment such as cutting, resist printing, etching, silver ink printing, or the like can be used as a substrate (optical member) for an optical device. The substrate for optical devices is not particularly limited as long as it has optical properties, but, for example, an image display device (liquid crystal display device, organic EL (electroluminescence) display device, PDP (plasma display panel), electronic paper, etc.) ), a base material (member) constituting devices such as an input device (touch panel, etc.), or a base material (member) used in these devices.
또, 본 발명의 점착제층이 형성된 편광 필름은, 전술한 바와 같이, 당해 점착제층이 형성된 편광 필름의 점착제층에 투명 도전층을 적층한 경우에도, 투명 도전층의 부식을 억제할 수 있고, 투명 도전층의 표면 저항 상승을 억제할 수 있는 것이다. 따라서, 점착제층이 형성된 편광 필름의 점착제층이 투명 도전층과 접하는 구성을 갖는 화상 표시 장치이면, 본 발명의 점착제층이 형성된 편광 필름을 바람직하게 사용할 수 있다. 예를 들어, 본 발명의 점착제층이 형성된 편광 필름과 투명 도전층을 갖는 액정 패널을, 상기 점착제층이 형성된 편광 필름의 점착제층과 상기 액정 패널의 투명 도전층이 접촉하도록 첩합하여, 화상 표시 장치로 할 수 있다.In addition, as described above, the polarizing film with the pressure-sensitive adhesive layer of the present invention can suppress corrosion of the transparent conductive layer even when a transparent conductive layer is laminated on the pressure-sensitive adhesive layer of the polarizing film with the pressure-sensitive adhesive layer, as described above, and is transparent. It is possible to suppress an increase in the surface resistance of the conductive layer. Therefore, as long as the pressure-sensitive adhesive layer of the polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer is formed is an image display device having a configuration in contact with the transparent conductive layer, the polarizing film with the pressure-sensitive adhesive layer of the present invention can be preferably used. For example, a liquid crystal panel having a polarizing film with a pressure-sensitive adhesive layer of the present invention and a transparent conductive layer is bonded so that the pressure-sensitive adhesive layer of the polarizing film with the pressure-sensitive adhesive layer and the transparent conductive layer of the liquid crystal panel are in contact with each other, and an image display device It can be done with.
더 구체적으로는, 투명 도전층을 대전 방지층 용도로서 사용하는 화상 표시 장치나, 투명 도전층을 터치 패널의 전극 용도로서 사용하는 화상 표시 장치를 들 수 있다. 투명 도전층을 대전 방지층 용도로서 사용하는 화상 표시 장치로는, 구체적으로는, 예를 들어 도 1 에 나타내는 바와 같이, 편광 필름 (1)/점착제층 (2)/대전 방지층 (3)/유리 기판 (4)/액정층 (5)/구동 전극 (6)/유리 기판 (4)/점착제층 (2)/편광 필름 (1) 으로 이루어지는 구성이고, 상기 대전 방지층 (3), 구동 전극 (6) 이 투명 도전층으로 형성되는 화상 표시 장치를 들 수 있다. 당해 화상 표시 장치의 상측 (시인측) 의 점착제층이 형성된 편광 필름 (1, 2) 으로서 본 발명의 점착제층이 형성된 편광 필름을 사용할 수 있다. 또, 투명 도전층을 터치 패널의 전극 용도로서 사용하는 화상 표시 장치로는, 예를 들어 편광 필름 (1)/점착제층 (2)/대전 방지층 겸 센서층 (7)/유리 기판 (4)/액정층 (5)/구동 전극 겸 센서층 (8)/유리 기판 (4)/점착제층 (2)/편광 필름 (1) 의 구성 (인셀형 터치 패널, 도 2) 이나, 편광 필름 (1)/점착제층 (2)/대전 방지층 겸 센서층 (7)/센서층 (9)/유리 기판 (4)/액정층 (5)/구동 전극 (6)/유리 기판 (4)/점착제층 (2)/편광 필름 (1) 의 구성 (온셀형 터치 패널, 도 3) 이고, 대전 방지층 겸 센서층 (7), 센서층 (9), 구동 전극 (6) 이 투명 도전층으로 형성되는 화상 표시 장치를 들 수 있다. 당해 화상 표시 장치의 상측 (시인측) 의 점착제층이 형성된 편광 필름 (1, 2) 으로서 본 발명의 점착제층이 형성된 편광 필름을 사용할 수 있다.More specifically, an image display device in which a transparent conductive layer is used as an antistatic layer, and an image display device in which a transparent conductive layer is used as an electrode in a touch panel can be mentioned. As an image display device using a transparent conductive layer as an antistatic layer application, specifically, as shown in FIG. 1, for example, polarizing film (1)/adhesive layer (2)/antistatic layer (3)/glass substrate (4)/liquid crystal layer (5)/driving electrode (6)/glass substrate (4)/adhesive layer (2)/polarizing film (1), and the antistatic layer (3) and drive electrode (6) An image display device formed from this transparent conductive layer can be mentioned. As the
실시예Example
이하, 본 발명에 관련하여 실시예를 이용하여 상세하게 설명하지만, 본 발명은 그 요지를 넘지 않는 한 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다. 또, 각 예 중, 부, % 는 모두 중량 기준이다.Hereinafter, the present invention will be described in detail using Examples, but the present invention is not limited to the following Examples unless the gist of the present invention is exceeded. In addition, in each example, both parts and% are based on weight.
<편광자 중의 요오드 함유량><Iodine content in polarizer>
편광자 중의 요오드 함유량 (요오드 및/또는 요오드 이온의 함유량) 은, 이하의 순서에 따라 측정하였다.The iodine content (content of iodine and/or iodine ion) in a polarizer was measured according to the following procedure.
1) 복수의, 소정량의 요오드화칼륨을 포함하는 편광자에 대하여 형광 X 선 강도를 측정하고, 요오드 함유량과 형광 X 선 강도의 관계식을 도출하였다.1) Fluorescent X-ray intensity was measured for a plurality of polarizers containing a predetermined amount of potassium iodide, and a relational expression between iodine content and fluorescent X-ray intensity was derived.
2) 요오드 함유량이 미지인 요오드계 편광자의 형광 X 선을 측정하고, 그 수치로부터 상기 관계식을 이용하여 요오드양을 계산하였다.2) Fluorescent X-rays of an iodine polarizer having an unknown iodine content were measured, and the amount of iodine was calculated from the numerical value using the above relational formula.
제조예 1 (편광 필름 (1) 의 제작)Production Example 1 (Preparation of polarizing film (1))
비정성 PET 기재에 9 ㎛ 두께의 폴리비닐알코올 (PVA) 층이 제막된 적층체를, 연신 온도 130 ℃ 의 공중 보조 연신에 의해, 연신 적층체를 생성하였다. 다음으로, 연신 적층체를, 물 100 중량부에 대하여, 요오드 0.1 중량부, 요오드화칼륨 0.7 중량부를 함유하는 염색액에 60 초간 침지하여, 착색 적층체를 생성하였다. 또한, 착색 적층체를 연신 온도 65 ℃ 의 붕산 수중 연신에 의해 총 연신 배율이 5.94 배가 되도록 비정성 PET 기재와 일체로 연신된 4 ㎛ 두께의 PVA 층을 포함하는 광학 필름 적층체를 생성하였다. 이와 같은 2 단 연신에 의해 비정성 PET 기재에 제막된 PVA 층의 PVA 분자가 고차로 배향되어, 염색에 의해 흡착된 요오드가 폴리요오드 이온 착물로서 일방향으로 고차로 배향된 고기능 편광층을 구성하는, 두께 4 ㎛ 의 PVA 층을 포함하는 광학 필름 적층체를 생성할 수 있었다. 또한, 당해 광학 필름 적층체의 편광층의 표면에 PVA 계 접착제를 도포하면서, 비누화 처리한 40 ㎛ 두께의 아크릴 수지 필름 (투명 보호 필름 (1)) 을 첩합한 후, 비정성 PET 기재를 박리하여, 박형의 요오드계 편광자를 사용한 편측에만 투명 보호 필름을 갖는 편광 필름을 제작하였다. 이하, 이것을 편광 필름 (1) 이라고 한다. 편광 필름 (1) 의 요오드 함유량은 5.1 중량% 였다.A stretched laminate was produced from a laminate in which a 9 µm-thick polyvinyl alcohol (PVA) layer was formed on an amorphous PET substrate by air-assisted stretching at a stretching temperature of 130°C. Next, the stretched laminate was immersed in a dyeing solution containing 0.1 parts by weight of iodine and 0.7 parts by weight of potassium iodide for 60 seconds with respect to 100 parts by weight of water, thereby producing a colored laminate. In addition, an optical film laminate comprising a 4 µm-thick PVA layer was formed integrally with the amorphous PET substrate so that the colored laminate was stretched in water with boric acid at a stretching temperature of 65°C so that the total draw ratio was 5.94 times. By such two-stage stretching, the PVA molecules of the PVA layer formed on the amorphous PET substrate are oriented at a high degree, and iodine adsorbed by dyeing constitutes a highly functional polarizing layer in which the iodine adsorbed by dyeing is oriented at a high order in one direction as a polyiodine ion complex. An optical film laminate including a PVA layer having a thickness of 4 µm could be produced. Further, while applying a PVA-based adhesive to the surface of the polarizing layer of the optical film laminate, after bonding the saponified 40 μm thick acrylic resin film (transparent protective film 1), the amorphous PET substrate was peeled off. , A polarizing film having a transparent protective film was produced only on one side using a thin iodine polarizer. Hereinafter, this is called polarizing film (1). The iodine content of the
제조예 2, 3 (편광 필름 (2), (3) 의 제작)Production Examples 2 and 3 (Preparation of polarizing films (2) and (3))
염색 시간을, 60 초로부터, 120 초 (제조예 2), 180 초 (제조예 3) 로 변경한 것 이외에는, 제조예 1 과 마찬가지로, 박형의 요오드계 편광자를 사용한 편측에만 투명 보호 필름을 갖는 편광 필름을 제작하였다. 이하, 이들을 편광 필름 (2), (3) 이라고 한다. 편광 필름 (2), (3) 의 요오드 함유량은, 각각 7.2 중량%, 11.1 중량% 였다.Polarization having a transparent protective film only on one side using a thin iodine polarizer as in Production Example 1 except that the dyeing time was changed from 60 seconds to 120 seconds (Production Example 2) and 180 seconds (Production Example 3). The film was produced. Hereinafter, these are referred to as polarizing films (2) and (3). The iodine content of the polarizing films (2) and (3) was 7.2% by weight and 11.1% by weight, respectively.
제조예 4 (편광 필름 (4) 의 제작)Production Example 4 (Preparation of polarizing film 4)
두께 80 ㎛ 의 폴리비닐알코올 필름을, 속도비가 상이한 롤 사이에 있어서, 30 ℃, 0.3 % 농도의 요오드 용액 중에서 1 분간 염색하면서, 3 배까지 연신하였다. 그 후, 60 ℃, 4 % 농도의 붕산, 10 % 농도의 요오드화칼륨을 포함하는 수용액 중에, 0.5 분간 침지하면서, 종합 연신 배율이 6 배까지 연신하였다. 이어서, 30 ℃, 1.5 % 농도의 요오드화칼륨을 포함하는 수용액 중에 10 초간 침지함으로써 세정한 후, 50 ℃ 에서 4 분간 건조시켜, 두께 25 ㎛, 요오드 함유량 2.3 중량% 의 편광자를 얻었다. 당해 편광자의 편면에, 두께 40 ㎛ 의 아크릴 수지 필름 (투명 보호 필름 (1)) 을 폴리비닐알코올계 접착제에 의해 첩합하여, 편광 필름을 제작하였다. 이하, 이것을 편광 필름 (4) 라고 한다. 편광 필름 (4) 의 요오드 함유량은 2.3 중량% 였다.A polyvinyl alcohol film having a thickness of 80 µm was stretched to three times while dyeing for 1 minute in an iodine solution having a concentration of 30°C and 0.3% between rolls having different speed ratios. Thereafter, the total draw ratio was extended to 6 times while immersed for 0.5 minutes in an aqueous solution containing boric acid at 60°C and 4% concentration and potassium iodide at 10% concentration. Next, after washing by immersing for 10 seconds in an aqueous solution containing potassium iodide at 30°C and 1.5% concentration, it was dried at 50°C for 4 minutes to obtain a polarizer having a thickness of 25 μm and an iodine content of 2.3% by weight. On one side of the polarizer, an acrylic resin film (transparent protective film (1)) having a thickness of 40 μm was bonded to each other with a polyvinyl alcohol-based adhesive to prepare a polarizing film. Hereinafter, this is called polarizing film (4). The iodine content of the
제조예 5 (편광 필름 (5) 의 제작)Production Example 5 (Preparation of polarizing film 5)
제조예 1 에서, 비정성 PET 기재를 박리한 후, 다른 편면에 두께 25 ㎛ 의 노르보르넨계 필름 (투명 보호 필름 (2)) 을, 폴리비닐알코올계 접착제에 의해 첩합하여, 편광 필름을 제작하였다. 이하, 이것을 박형 편광 필름 (5) 라고 한다. 편광 필름 (5) 의 요오드 함유량은 5.1 중량% 였다.In Production Example 1, after peeling off the amorphous PET substrate, a 25 μm-thick norbornene-based film (transparent protective film (2)) was bonded to the other side with a polyvinyl alcohol-based adhesive to prepare a polarizing film. . Hereinafter, this is called thin polarizing film (5). The iodine content of the
제조예 6 (편광 필름 (6) 의 제작)Production Example 6 (Preparation of polarizing film 6)
제조예 4 에 의해 얻어진 요오드 함유량 2.3 중량% 의 편광자의 양면에, 두께 40 ㎛ 의 아크릴 수지 필름 (투명 보호 필름 (1)), 두께 25 ㎛ 의 노르보르넨계 필름 (투명 보호 필름 (2)) 을 폴리비닐알코올계 접착제에 의해 첩합하여, 편광 필름을 제작하였다. 이하, 이것을 편광 필름 (6) 이라고 한다. 편광 필름 (6) 의 요오드 함유량은 2.3 중량% 였다.On both sides of the polarizer having an iodine content of 2.3% by weight obtained by Production Example 4, an acrylic resin film (transparent protective film (1)) having a thickness of 40 µm and a norbornene-based film (transparent protective film (2)) having a thickness of 25 µm were prepared. It was bonded together with a polyvinyl alcohol-based adhesive to prepare a polarizing film. Hereinafter, this is called polarizing film (6). The iodine content of the
제조예 1 ∼ 6 에서 얻어진 편광 필름 (1) ∼ (6) 의 편광자, 투명 보호 필름 두께, 편광 필름 총 두께, 요오드 함유량 (편광자 중의 요오드 및/또는 요오드 이온의 함유량) 을 이하의 표 1 에 정리하였다.The polarizer of the polarizing films (1) to (6) obtained in Production Examples 1 to 6, the thickness of the transparent protective film, the total thickness of the polarizing film, and the iodine content (content of iodine and/or iodine ions in the polarizer) are summarized in Table 1 below. I did.
제조예 7 (아크릴계 폴리머 (A-1) 을 함유하는 용액의 제조)Production Example 7 (Preparation of a solution containing an acrylic polymer (A-1))
냉각관, 질소 도입관, 온도계 및 교반 장치를 구비한 반응 용기에, 부틸아크릴레이트 99 부, 4-하이드록시부틸아크릴레이트 1 부, 및 개시제로서, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 (AIBN) 을 모노머 (고형분) 100 부에 대하여 1 부를 아세트산에틸과 함께 첨가하여 질소 가스 기류하, 60 ℃ 에서 7 시간 반응시켰다. 그 후, 그 반응액에, 아세트산에틸을 첨가하여, 중량 평균 분자량 160만의 아크릴계 폴리머 (A-1) 을 함유하는 용액을 얻었다 (고형분 농도 30 중량%).In a reaction vessel equipped with a cooling tube, a nitrogen introduction tube, a thermometer and a stirring device, 99 parts of butyl acrylate, 1 part of 4-hydroxybutyl acrylate, and as an initiator, 2,2'-azobisisobutyronitrile ( AIBN) was added 1 part with ethyl acetate with respect to 100 parts of a monomer (solid content), and it was made to react at 60 degreeC for 7 hours in a nitrogen gas stream. Thereafter, ethyl acetate was added to the reaction solution to obtain a solution containing an acrylic polymer (A-1) with a weight average molecular weight of 1.6 million (solid content concentration 30% by weight).
제조예 8 (아크릴계 폴리머 (A-2) 를 함유하는 용액의 제조)Production Example 8 (Preparation of a solution containing an acrylic polymer (A-2))
냉각관, 질소 도입관, 온도계 및 교반 장치를 구비한 반응 용기에, 부틸아크릴레이트 99 부, 2-하이드록시에틸아크릴레이트 1 부, 및 개시제로서, AIBN 을 모노머 (고형분) 100 부에 대하여 1 부를 아세트산에틸과 함께 첨가하여 질소 가스 기류하, 60 ℃ 에서 7 시간 반응시켰다. 그 후, 그 반응액에, 아세트산에틸을 첨가하여, 중량 평균 분자량 160만의 아크릴계 폴리머 (A-2) 를 함유하는 용액을 얻었다 (고형분 농도 30 중량%).In a reaction vessel equipped with a cooling tube, a nitrogen introduction tube, a thermometer and a stirring device, 99 parts of butyl acrylate, 1 part of 2-hydroxyethyl acrylate, and 1 part of AIBN as an initiator per 100 parts of the monomer (solid content) were added. It was added together with ethyl acetate, and it was made to react at 60 degreeC under a nitrogen gas stream for 7 hours. Thereafter, ethyl acetate was added to the reaction solution to obtain a solution containing an acrylic polymer (A-2) with a weight average molecular weight of 1.6 million (solid content concentration 30% by weight).
제조예 9 (아크릴계 폴리머 (A-3) 을 함유하는 용액의 제조)Production Example 9 (Preparation of a solution containing an acrylic polymer (A-3))
냉각관, 질소 도입관, 온도계 및 교반 장치를 구비한 반응 용기에, 부틸아크릴레이트 100 부, 및 개시제로서, AIBN 을 모노머 (고형분) 100 부에 대하여 1 부를 아세트산에틸과 함께 첨가하여 질소 가스 기류하, 60 ℃ 에서 7 시간 반응시켰다. 그 후, 그 반응액에, 아세트산에틸을 첨가하여, 중량 평균 분자량 160만의 아크릴계 폴리머 (A-3) 을 함유하는 용액을 얻었다 (고형분 농도 30 중량%).To a reaction vessel equipped with a cooling tube, a nitrogen inlet tube, a thermometer and a stirring device, 100 parts of butyl acrylate, and 1 part of AIBN as an initiator, per 100 parts of the monomer (solid content) were added together with ethyl acetate, and under a nitrogen gas stream. And reacted at 60° C. for 7 hours. Thereafter, ethyl acetate was added to the reaction solution to obtain a solution containing an acrylic polymer (A-3) with a weight average molecular weight of 1.6 million (solid content concentration 30% by weight).
제조예 10 (아크릴계 폴리머 (A-4) 를 함유하는 용액의 제조)Production Example 10 (Preparation of a solution containing an acrylic polymer (A-4))
냉각관, 질소 도입관, 온도계 및 교반 장치를 구비한 반응 용기에, 부틸아크릴레이트 98.6 부, 4-하이드록시부틸아크릴레이트 1 부, 아크릴산 0.4 부, 및 개시제로서, AIBN 을 모노머 (고형분) 100 부에 대하여 1 부를 아세트산에틸과 함께 첨가하여 질소 가스 기류하, 60 ℃ 에서 7 시간 반응시켰다. 그 후, 그 반응액에, 아세트산에틸을 첨가하여, 중량 평균 분자량 160 만의 아크릴계 폴리머 (A-4) 를 함유하는 용액을 얻었다 (고형분 농도 30 중량%).In a reaction vessel equipped with a cooling tube, a nitrogen introduction tube, a thermometer and a stirring device, 98.6 parts of butyl acrylate, 1 part of 4-hydroxybutyl acrylate, 0.4 parts of acrylic acid, and 100 parts of AIBN as a monomer (solid content) as an initiator To this, 1 part was added together with ethyl acetate, and it was made to react at 60 degreeC for 7 hours in a nitrogen gas stream. Thereafter, ethyl acetate was added to the reaction solution to obtain a solution containing an acrylic polymer (A-4) having a weight average molecular weight of 1.6 million (solid content concentration 30% by weight).
제조예 11 (아크릴계 폴리머 (A-5) 를 함유하는 용액의 제조)Production Example 11 (Preparation of a solution containing an acrylic polymer (A-5))
냉각관, 질소 도입관, 온도계 및 교반 장치를 구비한 반응 용기에, 부틸아크릴레이트 95 부, 4-하이드록시부틸아크릴레이트 1 부, 아크릴산 4 부, 및 개시제로서, AIBN 을 모노머 (고형분) 100 부에 대하여 1 부를 아세트산에틸과 함께 첨가하여 질소 가스 기류하, 60 ℃ 에서 7 시간 반응시켰다. 그 후, 그 반응액에, 아세트산에틸을 첨가하여, 중량 평균 분자량 155만의 아크릴계 폴리머 (A-5) 를 함유하는 용액을 얻었다 (고형분 농도 30 중량%).In a reaction vessel equipped with a cooling tube, a nitrogen introduction tube, a thermometer and a stirring device, 95 parts of butyl acrylate, 1 part of 4-hydroxybutyl acrylate, 4 parts of acrylic acid, and 100 parts of AIBN as a monomer (solid content) as an
제조예 12 (아크릴계 폴리머 (A-6) 을 함유하는 용액의 제조)Production Example 12 (Preparation of a solution containing an acrylic polymer (A-6))
냉각관, 질소 도입관, 온도계 및 교반 장치를 구비한 반응 용기에, 부틸아크릴레이트 91 부, 2-하이드록시에틸아크릴레이트 1 부, 아크릴산 8 부, 및 개시제로서, AIBN 을 모노머 (고형분) 100 부에 대하여 0.75 부를 아세트산에틸과 함께 첨가하여 질소 가스 기류하, 60 ℃ 에서 9 시간 반응시켰다. 그 후, 그 반응액에, 아세트산에틸을 첨가하여, 중량 평균 분자량 190만의 아크릴계 폴리머 (A-6) 을 함유하는 용액을 얻었다 (고형분 농도 30 중량%).In a reaction vessel equipped with a cooling tube, a nitrogen introduction tube, a thermometer and a stirring device, 91 parts of butyl acrylate, 1 part of 2-hydroxyethyl acrylate, 8 parts of acrylic acid, and 100 parts of AIBN as a monomer (solid content) as an initiator About 0.75 parts was added together with ethyl acetate, and it was made to react at 60 degreeC for 9 hours in a nitrogen gas stream. Thereafter, ethyl acetate was added to the reaction solution to obtain a solution containing an acrylic polymer (A-6) with a weight average molecular weight of 1.9 million (solid content concentration 30% by weight).
제조예 13 (아크릴계 폴리머 (A-7) 을 함유하는 용액의 제조)Production Example 13 (Preparation of a solution containing an acrylic polymer (A-7))
냉각관, 질소 도입관, 온도계 및 교반 장치를 구비한 반응 용기에, 부틸아크릴레이트 99 부, 4-하이드록시부틸아크릴레이트 1 부, 및 개시제로서, AIBN 을 모노머 (고형분) 100 부에 대하여 1.5 부를 아세트산에틸과 함께 첨가하여 질소 가스 기류하, 60 ℃ 에서 7 시간 반응시켰다. 그 후, 그 반응액에, 아세트산에틸을 첨가하여, 중량 평균 분자량 90만의 아크릴계 폴리머 (A-7) 을 함유하는 용액을 얻었다 (고형분 농도 30 중량%).In a reaction vessel equipped with a cooling tube, a nitrogen introduction tube, a thermometer and a stirring device, 99 parts of butyl acrylate, 1 part of 4-hydroxybutyl acrylate, and as an initiator, 1.5 parts of AIBN per 100 parts of the monomer (solid content) were added. It was added together with ethyl acetate, and it was made to react at 60 degreeC under a nitrogen gas stream for 7 hours. Thereafter, ethyl acetate was added to the reaction solution to obtain a solution containing an acrylic polymer (A-7) having a weight average molecular weight of 900,000 (solid content concentration 30% by weight).
제조예 14 (아크릴계 폴리머 (A-8) 을 함유하는 용액의 제조)Production Example 14 (Preparation of a solution containing an acrylic polymer (A-8))
냉각관, 질소 도입관, 온도계 및 교반 장치를 구비한 반응 용기에, 부틸아크릴레이트 84.9 부, 4-하이드록시부틸아크릴레이트 0.1 부, 아크릴산 5 부, 벤질아크릴레이트 10 부 및, 개시제로서, AIBN 을 모노머 (고형분) 100 부에 대하여 1 부를 아세트산에틸과 함께 첨가하여 질소 가스 기류하, 60 ℃ 에서 7 시간 반응시켰다. 그 후, 그 반응액에, 아세트산에틸을 첨가하여, 중량 평균 분자량 180만의 아크릴계 폴리머 (A-8) 을 함유하는 용액을 얻었다 (고형분 농도 30 중량%).In a reaction vessel equipped with a cooling tube, a nitrogen introduction tube, a thermometer and a stirring device, 84.9 parts of butyl acrylate, 0.1 parts of 4-hydroxybutyl acrylate, 5 parts of acrylic acid, 10 parts of benzyl acrylate, and AIBN as an initiator were used. With respect to 100 parts of monomer (solid content), 1 part was added together with ethyl acetate, and it was made to react at 60 degreeC for 7 hours in a nitrogen gas stream. Thereafter, ethyl acetate was added to the reaction solution to obtain a solution containing an acrylic polymer (A-8) having a weight average molecular weight of 1.8 million (solid content concentration 30% by weight).
또, 제조예 7 ∼ 14 에서 얻어진 아크릴계 폴리머의 중량 평균 분자량은, 이하의 측정 방법에 의해 측정하였다.Moreover, the weight average molecular weight of the acrylic polymer obtained in Production Examples 7-14 was measured by the following measuring method.
<아크릴계 폴리머의 중량 평균 분자량 (Mw) 의 측정><Measurement of weight average molecular weight (Mw) of acrylic polymer>
제조한 아크릴계 폴리머의 중량 평균 분자량은, GPC (겔 퍼미에이션 크로마토그래피) 에 의해 측정하였다.The weight average molecular weight of the produced acrylic polymer was measured by GPC (gel permeation chromatography).
장치 : 토소사 제조, HLC-8220GPC Equipment: manufactured by Tosoh Corporation, HLC-8220GPC
칼럼 : column :
샘플 칼럼 : 토소사 제조, TSKguardcolumn Super HZ-H (1 개) + TSKgel Super HZM-H (2 개) Sample column: manufactured by Tosoh Corporation, TSKguardcolumn Super HZ-H (1 piece) + TSKgel Super HZM-H (2 pieces)
레퍼런스 칼럼 : 토소사 제조, TSKgel Super H-RC (1 개) Reference column: Tosoh Corporation, TSKgel Super H-RC (1 pc.)
유량 : 0.6 ㎖/min Flow: 0.6 ml/min
주입량 : 10 ㎕ Injection volume: 10 µl
칼럼 온도 : 40 ℃Column temperature: 40 °C
용리액 : THF Eluent: THF
주입 시료 농도 : 0.2 중량%Concentration of injected sample: 0.2% by weight
검출기 : 시차굴절계 Detector: differential refractometer
또한, 중량 평균 분자량은 폴리스티렌 환산에 의해 산출하였다.In addition, the weight average molecular weight was calculated in terms of polystyrene.
실시예 1Example 1
(아크릴계 점착제 조성물의 조정)(Adjustment of acrylic pressure-sensitive adhesive composition)
제조예 7 에서 얻어진 아크릴계 폴리머 (A-1) 을 함유하는 용액 (고형분 농도 30 중량%) 의 고형분 100 부당, 가교제로서, 트리메틸올프로판자일릴렌디이소시아네이트 (상품명 : 타케네이트 D110N, 미츠이 화학 (주) 제조) 를 0.1 부와, 디벤조일퍼옥사이드를 0.3 부, 인산 화합물로서, 포스파놀 SM-172 (상품명, 토호 화학 공업 (주) 제조) 를 0.03 부와, 실란 커플링제로서 γ-글리시독시프로필트리메톡시실란 (상품명 : KBM-403, 신에츠 화학 공업 (주) 제조) 을 0.075 부와, 페놀계 산화 방지제로서, 펜타에리트리톨테트라키스[3-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트 (IRGANAOX 1010, BASF 재팬 (주) 제조) 0.3 부를 배합하여, 아크릴계 점착제 조성물을 얻었다. Per 100 parts of solid content of the solution containing the acrylic polymer (A-1) obtained in Production Example 7 (solid content concentration 30% by weight), as a crosslinking agent, trimethylolpropane xylylene diisocyanate (trade name: Takenate D110N, Mitsui Chemical Co., Ltd.) Manufacturing) 0.1 parts, dibenzoyl peroxide 0.3 parts, phosphanol SM-172 (trade name, manufactured by Toho Chemical Industries, Ltd.) as a phosphoric acid compound, 0.03 parts, and γ-glycidoxypropyl as a silane coupling agent 0.075 parts of trimethoxysilane (trade name: KBM-403, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), as a phenolic antioxidant, pentaerythritol tetrakis[3-(3,5-di-tert-butyl-4) -Hydroxyphenyl) propionate (IRGANAOX 1010, manufactured by BASF Japan Co., Ltd.) 0.3 parts were blended to obtain an acrylic pressure-sensitive adhesive composition.
(점착제층이 형성된 편광 필름의 제작)(Preparation of a polarizing film with an adhesive layer)
상기 아크릴계 점착제 조성물을, 실리콘계 박리제로 처리된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 (기재) 의 표면에, 파운틴 코터로 균일하게 도공하고, 155 ℃ 의 공기 순환식 항온 오븐에서 2 분간 건조시켜, 기재의 표면에 두께 20 ㎛ 의 점착제층을 형성하였다. 이어서, 편광 필름 (1) 의 보호 필름을 갖지 않는 면에, 점착제층을 형성한 세퍼레이터를 이착 (移着) 시켜, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다.The acrylic pressure-sensitive adhesive composition was uniformly coated on the surface of a polyethylene terephthalate film (substrate) treated with a silicone-based release agent with a fountain coater, and dried in an air circulation constant temperature oven at 155° C. for 2 minutes, and a thickness of 20 on the surface of the substrate. A pressure-sensitive adhesive layer of µm was formed. Next, the separator in which the pressure-sensitive adhesive layer was formed was attached to the surface of the
실시예 2 ∼ 5Examples 2 to 5
인산 화합물의 첨가량을, 0.03 부로부터 표 3 에 기재된 부수로 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다.Except having changed the addition amount of the phosphoric acid compound from 0.03 parts to the number of copies shown in Table 3, it carried out similarly to Example 1, and produced the polarizing film with the adhesive layer formed.
실시예 6Example 6
포스파놀 SM-172 (상품명, 토호 화학 공업 (주) 제조) 0.03 부를, 포스파놀 RS-410 (토호 화학 공업 (주) 제조) 0.1 부로 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다.Phosphanol SM-172 (trade name, manufactured by Toho Chemical Industries Co., Ltd.) 0.03 parts, except having changed to phosphanol RS-410 (manufactured by Toho Chemical Industries, Ltd.) 0.1 parts, in the same manner as in Example 1, the pressure-sensitive adhesive layer This formed polarizing film was produced.
실시예 7Example 7
포스파놀 SM-172 (상품명, 토호 화학 공업 (주) 제조) 0.03 부를, 포스파놀 RS-710 (토호 화학 공업 (주) 제조) 0.1 부로 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다.In the same manner as in Example 1, except that 0.03 parts of phosphanol SM-172 (trade name, manufactured by Toho Chemical Industries, Ltd.) was changed to 0.1 parts of phosphanol RS-710 (manufactured by Toho Chemical Industries, Ltd.), the pressure-sensitive adhesive layer This formed polarizing film was produced.
실시예 8 Example 8
포스파놀 SM-172 (상품명, 토호 화학 공업 (주) 제조) 0.03 부를, DBP (조호쿠 화학 (주) 제조) 0.05 부로 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다.A polarizing film with a pressure-sensitive adhesive layer formed in the same manner as in Example 1, except that 0.03 parts of phosphanol SM-172 (trade name, manufactured by Toho Chemical Industries, Ltd.) was changed to 0.05 parts of DBP (manufactured by Johoku Chemical Co., Ltd.) Was produced.
실시예 9 Example 9
포스파놀 SM-172 (상품명, 토호 화학 공업 (주) 제조) 0.03 부를, 인산 (시약 특급)(와코 쥰야쿠 공업 (주) 제조) 0.03 부로 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다.Phosphanol SM-172 (trade name, manufactured by Toho Chemical Industries Co., Ltd.) 0.03 parts, except for changing to 0.03 parts of phosphoric acid (reagent limited express) (Wako Pure Chemical Industries Co., Ltd. product), in the same manner as in Example 1, a pressure-sensitive adhesive A layered polarizing film was produced.
실시예 10 ∼ 14 Examples 10-14
제조예 7 에서 얻어진 아크릴계 폴리머 (A-1) 을 함유하는 용액을, 각각, 제조예 8 ∼ 12 에서 얻어진 아크릴계 폴리머 (A-2) ∼ (A-6) 을 함유하는 용액으로 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다.Except having changed the solution containing the acrylic polymer (A-1) obtained in Production Example 7 to a solution containing the acrylic polymer (A-2) to (A-6) obtained in Production Examples 8-12, respectively, In the same manner as in Example 1, a polarizing film with an adhesive layer was produced.
실시예 15 ∼ 17Examples 15-17
실시예 1 의 (점착제층이 형성된 편광 필름의 제작) 에 있어서, 편광 필름 (1) 을 편광 필름 (2), (3), (4) 로 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다. In the (production of the polarizing film with an adhesive layer) of Example 1, except having changed the polarizing film (1) to the polarizing films (2), (3), (4), it was carried out in the same manner as in Example 1, A polarizing film with an adhesive layer was prepared.
실시예 18 Example 18
(아크릴계 점착제 조성물의 조정)(Adjustment of acrylic pressure-sensitive adhesive composition)
제조예 7 에서 얻어진 아크릴계 폴리머 (A-1) 을 함유하는 용액 (고형분 농도 30 중량%) 의 고형분 100 부당, 가교제로서, 트리메틸올프로판자일릴렌디이소시아네이트 (상품명 : 타케네이트 D110N, 미츠이 화학 (주) 제조) 를 0.1 부와, 디벤조일퍼옥사이드를 0.3 부, 인산 화합물로서, 포스파놀 SM-172 (상품명, 토호 화학 공업 (주) 제조) 를 0.03 부와, 실란 커플링제로서 γ-글리시독시프로필트리메톡시실란 (상품명 : KBM-403, 신에츠 화학 공업 (주) 제조) 을 0.075 부와, 이온성 화합물로서, 리튬비스트리플루오로메탄술포닐이미드 (모리타 화학 공업 (주) 제조) 0.5 부, 페놀계 산화 방지제로서, 펜타에리트리톨테트라키스[3-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트 (IRGANAOX 1010, BASF 재팬 (주) 제조) 0.3 부를 배합하여, 아크릴계 점착제 조성물을 얻었다.Per 100 parts of solid content of the solution containing the acrylic polymer (A-1) obtained in Production Example 7 (solid content concentration 30% by weight), as a crosslinking agent, trimethylolpropane xylylene diisocyanate (trade name: Takenate D110N, Mitsui Chemical Co., Ltd.) Manufacturing) 0.1 parts, dibenzoyl peroxide 0.3 parts, phosphanol SM-172 (trade name, manufactured by Toho Chemical Industries, Ltd.) as a phosphoric acid compound, 0.03 parts, and γ-glycidoxypropyl as a silane coupling agent 0.075 parts of trimethoxysilane (trade name: KBM-403, manufactured by Shin-Etsu Chemical Industries, Ltd.) and 0.5 parts of lithium bistrifluoromethanesulfonylimide (manufactured by Morita Chemical Industries, Ltd.) as an ionic compound , As a phenolic antioxidant, 0.3 parts of pentaerythritol tetrakis[3-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate (IRGANAOX 1010, manufactured by BASF Japan Co., Ltd.) , An acrylic pressure-sensitive adhesive composition was obtained.
(점착제층이 형성된 편광 필름의 제작)(Preparation of a polarizing film with an adhesive layer)
상기 아크릴계 점착제 조성물을 사용한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다.Except having used the said acrylic adhesive composition, it carried out similarly to Example 1, and produced the polarizing film with the adhesive layer formed.
실시예 19Example 19
리튬비스트리플루오로메탄술포닐이미드 (모리타 화학 공업 (주) 제조) 0.5 부를, 1-메틸-1-에틸피롤리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드 (키시다 화학 (주) 제조) 0.5 부로 변경한 것 이외에는, 실시예 18 과 동일하게 하여, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다.0.5 parts of lithium bistrifluoromethanesulfonylimide (manufactured by Morita Chemical Co., Ltd.), 1-methyl-1-ethylpyrrolidinium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide (Kishida Chemical Co., Ltd.) Production) Except having changed to 0.5 part, it carried out similarly to Example 18, and produced the polarizing film with the adhesive layer formed.
실시예 20Example 20
제조예 7 에서 얻어진 아크릴계 폴리머 (A-1) 을 함유하는 용액을, 제조예 14 에서 얻어진 아크릴산에스테르 공중합체 (A-8) 로 변경하고, 또한 포스파놀 SM-172 (상품명, 토호 화학 공업 (주) 제조) 0.03 부를, 인산 (시약 특급)(와코 쥰야쿠 공업 (주) 제조) 0.05 부로 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다.The solution containing the acrylic polymer (A-1) obtained in Production Example 7 was changed to the acrylic acid ester copolymer (A-8) obtained in Production Example 14, and phosphanol SM-172 (trade name, Toho Chemical Industries Co., Ltd. ) Manufacturing) 0.03 part of phosphoric acid (reagent limited grade) (made by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was carried out similarly to Example 1 except having changed to 0.05 part, and the polarizing film with the adhesive layer was produced.
실시예 21Example 21
인산 (시약 특급)(와코 쥰야쿠 공업 (주) 제조) 의 첨가량을 0.05 부에서 0.1 부로 변경한 것 이외에는, 실시예 20 과 동일하게 하여, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다.Except having changed the addition amount of phosphoric acid (reagent limited grade) (made by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) from 0.05 part to 0.1 part, it carried out similarly to Example 20, and produced the polarizing film in which the adhesive layer was formed.
실시예 22Example 22
포스파놀 SM-172 (상품명, 토호 화학 공업 (주) 제조) 0.03 부를, MP-4 (상품명, 산가 : 670 ㎎KOH/g, 다이하치 화학 공업 (주) 제조) 0.01 부로 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다.Phosphanol SM-172 (trade name, manufactured by Toho Chemical Industries Co., Ltd.) 0.03 parts, MP-4 (brand name, acid value: 670 mgKOH/g, Daihachi Chemical Industries Co., Ltd.) 0.01 parts, except that the change was carried out. In the same manner as in Example 1, a polarizing film with an adhesive layer was produced.
실시예 23 Example 23
MP-4 (상품명, 산가 : 670 ㎎KOH/g, 다이하치 화학 공업 (주) 제조) 의 첨가량을 0.01 부에서 0.06 부로 변경한 것 이외에는, 실시예 22 와 동일하게 하여, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다.A polarizing film with a pressure-sensitive adhesive layer formed in the same manner as in Example 22, except that the addition amount of MP-4 (brand name, acid value: 670 mgKOH/g, manufactured by Daihachi Chemical Industries, Ltd.) was changed from 0.01 parts to 0.06 parts. Was produced.
실시예 24 Example 24
제조예 7 에서 얻어진 아크릴계 폴리머 (A-1) 을 함유하는 용액을, 제조예 14 에서 얻어진 아크릴산에스테르 공중합체 (A-8) 로 변경하고, 또한 포스파놀 SM-172 (상품명, 토호 화학 공업 (주) 제조) 0.03 부를, MP-4 (상품명, 산가 : 670 ㎎KOH/g, 다이하치 화학 공업 (주) 제조) 0.1 부로 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다.The solution containing the acrylic polymer (A-1) obtained in Production Example 7 was changed to the acrylic acid ester copolymer (A-8) obtained in Production Example 14, and phosphanol SM-172 (trade name, Toho Chemical Industries Co., Ltd. ) Manufacturing) 0.03 parts of MP-4 (brand name, acid value: 670 mgKOH/g, manufactured by Daihachi Chemical Industries Co., Ltd.) was changed to 0.1 parts, in the same manner as in Example 1, and a polarizing film with a pressure-sensitive adhesive layer formed thereon Was produced.
실시예 25, 26 Examples 25 and 26
MP-4 (상품명, 산가 : 670 ㎎KOH/g, 다이하치 화학 공업 (주) 제조) 의 첨가량을, 0.1 부에서 0.8 부, 3 부로 변경한 것 이외에는, 실시예 24 와 동일하게 하여, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다.In the same manner as in Example 24, except that the addition amount of MP-4 (brand name, acid value: 670 mgKOH/g, manufactured by Daihachi Chemical Industries, Ltd.) was changed from 0.1 parts to 0.8 parts and 3 parts, the pressure-sensitive adhesive layer This formed polarizing film was produced.
실시예 27 Example 27
제조예 7 에서 얻어진 아크릴계 폴리머 (A-1) 을 함유하는 용액을, 제조예 14 에서 얻어진 아크릴산에스테르 공중합체 (A-8) 로 변경하고, 또한 포스파놀 SM-172 (상품명, 토호 화학 공업 (주) 제조) 0.03 부를, MP-4 (상품명, 산가 : 670 ㎎KOH/g, 다이하치 화학 공업 (주) 제조) 0.04 부와 인산 (시약 특급)(와코 쥰야쿠 공업 (주) 제조) 0.01 부의 혼합물로 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다.The solution containing the acrylic polymer (A-1) obtained in Production Example 7 was changed to the acrylic acid ester copolymer (A-8) obtained in Production Example 14, and phosphanol SM-172 (trade name, Toho Chemical Industries Co., Ltd. ) Manufacturing) 0.03 parts, MP-4 (trade name, acid value: 670 mgKOH/g, manufactured by Daihachi Chemical Industries, Ltd.) 0.04 parts and phosphoric acid (reagent limited grade) (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 0.01 parts of a mixture Except having changed to, it carried out similarly to Example 1, and produced the polarizing film in which the adhesive layer was formed.
실시예 28Example 28
제조예 7 에서 얻어진 아크릴계 폴리머 (A-1) 을 함유하는 용액을, 제조예 14 에서 얻어진 아크릴산에스테르 공중합체 (A-8) 로 변경하고, 또한 포스파놀 SM-172 (상품명, 토호 화학 공업 (주) 제조) 0.03 부를, 포스파놀 SM-172 (상품명, 토호 화학 공업 (주) 제조) 0.04 부와 인산 (시약 특급)(와코 쥰야쿠 공업 (주) 제조) 0.01 부의 혼합물로 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다.The solution containing the acrylic polymer (A-1) obtained in Production Example 7 was changed to the acrylic acid ester copolymer (A-8) obtained in Production Example 14, and phosphanol SM-172 (trade name, Toho Chemical Industries Co., Ltd. ) Manufacturing) 0.03 parts of phosphanol SM-172 (trade name, manufactured by Toho Chemical Industries Co., Ltd.) 0.04 parts and phosphoric acid (reagent limited express) (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 0.01 parts, except that the mixture was changed. In the same manner as in Example 1, a polarizing film with an adhesive layer was produced.
실시예 29 ∼ 34Examples 29-34
얻어진 아크릴계 폴리머를 함유하는 용액의 종류, 인산 화합물의 종류와 첨가량을, 표 3 에 기재된 종류와 부수로 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다.A polarizing film with an adhesive layer was produced in the same manner as in Example 1, except that the type of the solution containing the obtained acrylic polymer and the type and amount of the phosphoric acid compound were changed to the type and number of copies shown in Table 3.
비교예 1 Comparative Example 1
아크릴계 폴리머 (A-1) 을 함유하는 용액을, 제조예 8 에서 얻어진 아크릴계 폴리머 (A-2) 를 함유하는 용액으로 변경하고, 또한 인산에스테르를 사용하지 않은 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다.In the same manner as in Example 1, except that the solution containing the acrylic polymer (A-1) was changed to the solution containing the acrylic polymer (A-2) obtained in Production Example 8, and no phosphate ester was used. , To prepare a polarizing film in which the pressure-sensitive adhesive layer was formed.
비교예 2Comparative Example 2
아크릴계 폴리머 (A-1) 을 함유하는 용액을, 제조예 9 에서 얻어진 아크릴계 폴리머 (A-3) 을 함유하는 용액으로 변경하고, 또한 인산에스테르를 사용하지 않은 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다.In the same manner as in Example 1, except that the solution containing the acrylic polymer (A-1) was changed to the solution containing the acrylic polymer (A-3) obtained in Production Example 9, and no phosphate ester was used. , To prepare a polarizing film in which the pressure-sensitive adhesive layer was formed.
비교예 3Comparative Example 3
아크릴계 폴리머 (A-1) 을 함유하는 용액을, 제조예 11 에서 얻어진 아크릴계 폴리머 (A-5) 를 함유하는 용액으로 변경하고, 또한 인산에스테르를 사용하지 않은 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다.In the same manner as in Example 1, except that the solution containing the acrylic polymer (A-1) was changed to the solution containing the acrylic polymer (A-5) obtained in Production Example 11, and no phosphate ester was used. , To prepare a polarizing film in which the pressure-sensitive adhesive layer was formed.
비교예 4Comparative Example 4
아크릴계 폴리머 (A-1) 을 함유하는 용액을, 제조예 13 에서 얻어진 아크릴계 폴리머 (A-7) 을 함유하는 용액으로 변경하고, 또한 인산에스테르를 사용하지 않은 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다.In the same manner as in Example 1, except that the solution containing the acrylic polymer (A-1) was changed to the solution containing the acrylic polymer (A-7) obtained in Production Example 13, and no phosphate ester was used. , To prepare a polarizing film in which the pressure-sensitive adhesive layer was formed.
실시예 35, 36Examples 35, 36
실시예 1 의 (점착제층이 형성된 편광 필름의 제작) 에 있어서, 편광 필름 (1) 을 편광 필름 (5), (6) 으로 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다. 또한, 점착제층은, 보호 필름 (2) 측에 적층하였다.Except having changed the polarizing film (1) to the polarizing films (5) and (6) in (production of the polarizing film with an adhesive layer) of Example 1, it carried out similarly to Example 1, and the adhesive layer was formed A polarizing film was produced. In addition, the pressure-sensitive adhesive layer was laminated on the protective film (2) side.
실시예 37 Example 37
실시예 24 의 (점착제층이 형성된 편광 필름의 제작) 에 있어서, 편광 필름 (1) 을 편광 필름 (5) 로 변경한 것 이외에는, 실시예 24 와 동일하게 하여, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다. 또한, 점착제층은, 보호 필름 (2) 측에 적층하였다.Except having changed the
비교예 5Comparative Example 5
실시예 1 (아크릴계 점착제 조성물의 조정) 에 있어서 인산에스테르를 사용하지 않고, (점착제층이 형성된 편광 필름의 제작) 에 있어서, 편광 필름 (1) 을 편광 필름 (5) 로 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다. 또한, 점착제층은, 보호 필름 (2) 측에 적층하였다. Except having changed the polarizing film (1) to the polarizing film (5) in Example 1 (adjustment of an acrylic pressure-sensitive adhesive composition) without using a phosphate ester (production of a polarizing film with an adhesive layer), it is carried out In the same manner as in Example 1, a polarizing film with an adhesive layer was produced. In addition, the pressure-sensitive adhesive layer was laminated on the protective film (2) side.
비교예 6Comparative Example 6
실시예 1 (아크릴계 점착제 조성물의 조정) 에 있어서, 아크릴계 폴리머 (A-1) 을 함유하는 용액을, 제조예 9 에서 얻어진 아크릴계 폴리머 (A-3) 을 함유하는 용액으로 변경하고, 또한 인산에스테르를 사용하지 않고, (점착제층이 형성된 편광 필름의 제작) 에 있어서, 편광 필름 (1) 을 편광 필름 (6) 으로 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다. 또한, 점착제층은, 보호 필름 (2) 측에 적층하였다. In Example 1 (Adjustment of the acrylic pressure-sensitive adhesive composition), the solution containing the acrylic polymer (A-1) was changed to the solution containing the acrylic polymer (A-3) obtained in Production Example 9, and the phosphate ester was further changed to In the same manner as in Example 1, except for changing the
실시예 및 비교예에서 사용한 인산계 화합물에 대하여 이하와 같이 분석을 실시하였다. 그 결과를 표 2에 나타낸다.The phosphoric acid-based compounds used in Examples and Comparative Examples were analyzed as follows. The results are shown in Table 2.
(분석 방법) (Analysis method)
실시예 및 비교예에서 사용한 인산계 화합물의 조성을, 31P-NMR (Acetone-d6, 실온) 의 측정 결과에 근거하여 산출하였다. 측정에 의해 얻어진 피크의 적분값으로부터 mol% 를 산출한 후, 에스테르의 알코올 성분의 알킬 사슬로부터 함유량비 (중량%) 를 산출하였다.The composition of the phosphoric acid-based compound used in Examples and Comparative Examples was calculated based on the measurement result of 31 P-NMR (Acetone-d6, room temperature). After calculating mol% from the integral value of the peak obtained by measurement, the content ratio (weight%) was calculated from the alkyl chain of the alcohol component of the ester.
(31P-NMR 측정 조건) ( 31 P-NMR measurement conditions)
측정 장치 : Bruker Biospin, AVANCEIII-400 Measuring device: Bruker Biospin, AVANCEIII-400
관측 주파수 : 160 ㎒ (31P) Observation frequency: 160 ㎒ ( 31 P)
플립각 : 30°Flip angle: 30°
측정 용매 : Acetone-d6 (중아세톤) Measurement solvent: Acetone-d6 (heavy acetone)
측정 온도 : 실온 Measurement temperature: room temperature
화학 시프트 표준 : P=(OCH3)3 in Acetone-d6 (31P ; 140 ppm 외부 표준)Chemical shift standard: P=(OCH 3 ) 3 in Acetone-d6 ( 31 P; 140 ppm external standard)
표 2 에 있어서, 인산모노에스테르란, 일반식 (1) 의 R1 및 R2 중 어느 일방이 수소 원자이고, 타방이 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기인 화합물 (일반식 (2) 의 경우에는, R1 이 수소 원자인 화합물) 이고, 인산디에스테르란, 일반식 (1) 의 R1 및 R2 가, 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기인 화합물 (일반식 (2) 의 경우에는, R1 이 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기인 화합물) 이다. 예를 들어, 포스파놀 SM-172 의 경우, 「모노에스테르」는, 일반식 (2) 의 R1 = H, R3 = C8H17, n = 0 인 화합물, 「디에스테르」는, 일반식 (2) 의 R1 = R3 = C8H17, n = 0 인 화합물을 나타낸다. In Table 2, the phosphate monoester is a compound which is a hydrocarbon residue having 1 to 18 carbon atoms in which one of R 1 and R 2 in the general formula (1) is a hydrogen atom and the other may contain an oxygen atom (general In the case of formula (2), R 1 is a compound in which
<내부식성 시험><corrosion resistance test>
표면에 ITO 층이 형성된 도전성 필름 (상품명 : 엘레크리스타 (P400L), 닛토 전공 (주) 제조) 을 15 ㎜ × 15 ㎜ 로 절단하고, 이 도전성 필름 상의 중앙부에, 실시예, 및 비교예에서 얻어진 샘플을 8 ㎜ × 8 ㎜ 로 절단하여 첩합한 후, 50 ℃, 5 atm 에서 15 분간 오토클레이빙한 것을 내부식성의 측정 샘플로 하였다. 얻어진 측정용 샘플의 저항값을 후술하는 측정 장치를 이용하여 측정하고, 이것을 「초기 저항값」으로 하였다.A conductive film with an ITO layer formed on its surface (trade name: Elecrista (P400L), manufactured by Nitto Electric Co., Ltd.) was cut into 15 mm × 15 mm, and at the center of this conductive film, samples obtained in Examples and Comparative Examples After cutting and bonding to 8 mm × 8 mm, the sample was autoclaved at 50° C. and 5 atm for 15 minutes, as a measurement sample for corrosion resistance. The resistance value of the obtained measurement sample was measured using a measuring apparatus described later, and this was set as the "initial resistance value".
그 후, 측정용 샘플을 온도 60 ℃, 습도 90 % 의 환경에, 500 시간 투입한 후에, 저항값을 측정한 것을, 「습열 후의 저항값」으로 하였다. 또한, 상기 저항값은, Accent Optical Technologies 사 제조 HL5500PC 를 이용하여 측정을 실시하였다. 상기 서술한 바와 같이 측정한 「초기 저항값」 및 「습열 후의 저항값」으로부터, 다음 식으로 저항값 변화율 (%) 을 산출하고, 이하의 평가 기준에 의해 평가하였다.Thereafter, the measurement sample was put in an environment at a temperature of 60° C. and a humidity of 90% for 500 hours, and then the resistance value was measured as “the resistance value after moist heat”. In addition, the resistance value was measured using HL5500PC manufactured by Accent Optical Technologies. From the "initial resistance value" and "resistance value after moist heat" measured as described above, the resistance value change rate (%) was calculated by the following equation, and evaluated according to the following evaluation criteria.
(평가 기준)(Evaluation standard)
◎ : 저항값 변화율이, 150 % 미만 (습열에 의한 저항값의 상승폭 작다 (내부식성 양호))◎: The resistance value change rate is less than 150% (the increase in the resistance value due to moist heat is small (corrosion resistance is good))
○ : 저항값 변화율이, 150 % 이상 300 % 미만○: Resistance value change rate is 150% or more and less than 300%
△ : 저항값 변화율이, 300 % 이상 400 % 미만△: Resistance value change rate is 300% or more and less than 400%
× : 저항값 변화율이, 400 % 이상 (습열에 의한 저항값의 상승폭 크다 (내부식성 불량))X: The resistance value change rate is 400% or more (the increase in the resistance value due to moist heat is large (corrosion resistance defect))
<점착제의 내구성 시험 (박리 및 발포)><Durability test of adhesive (peel and foam)>
실시예, 비교예에서 얻어진 점착제층이 형성된 편광 필름 샘플의 세퍼레이터 필름을 벗기고, 무알칼리 유리 및, 하기의 비결정 ITO 가 형성된 유리의 ITO 면에 첩합하고, 50 ℃, 5 atm, 15 분간의 오토클레이브 처리를 실시한 후, 80 ℃ 및 100 ℃ 의 가열 오븐 및 60 ℃/90 %RH 및 85 ℃/85 %RH 의 항온항습기에 투입하였다. 500 시간 후의 편광 필름의 박리 및 발포를 육안으로 관찰하고, 이하의 평가 기준으로 평가하였다. 또, 85 ℃ 와 -40 ℃ 의 환경을 1 사이클 1 시간으로 300 사이클 실시한 후 (히트쇼크 시험 (HS 시험)) 의 편광 필름의 박리 및 발포를 육안으로 관찰하고, 이하의 평가 기준으로 평가하였다.The separator film of the polarizing film sample with the pressure-sensitive adhesive layer obtained in Examples and Comparative Examples was peeled off, bonded to the ITO surface of the alkali-free glass and the glass with the amorphous ITO described below, and then autoclaved at 50° C., 5 atm, and 15 minutes. After performing the treatment, it was put into a heating oven at 80°C and 100°C, and a thermo-hygrostat at 60°C/90%RH and 85°C/85%RH. Peeling and foaming of the polarizing film after 500 hours were observed visually, and evaluated according to the following evaluation criteria. Moreover, after carrying out the environment of 85 degreeC and -40 degreeC for 300 cycles in 1 cycle and 1 hour (heat shock test (HS test)), peeling and foaming of a polarizing film were observed visually, and it evaluated by the following evaluation criteria.
◎ : 전혀 박리 또는 발포가 보이지 않았다.◎: No peeling or foaming was observed at all.
○ : 육안으로는 확인할 수 없는 정도의 박리 또는 발포가 보였다.○: Peeling or foaming to a degree that cannot be confirmed with the naked eye was observed.
△ : 육안으로 확인할 수 있는 작은 박리 또는 발포가 보였다.△: Small peeling or foaming that can be seen with the naked eye was observed.
× : 분명한 박리 또는 발포가 보였다.X: Clear peeling or foaming was observed.
(비결정 ITO 가 형성된 유리의 제조 방법)(Method of manufacturing amorphous ITO-formed glass)
무알칼리 유리의 일방의 면에, 스퍼터링법에 의해 ITO 막을 형성하여, 비결정화 ITO 박막을 갖는 피착체를 제작하였다. 결정성 ITO 박막의 Sn 비율은, 3 중량% 였다. 또한, ITO 박막의 Sn 비율은, Sn 원자의 중량/(Sn 원자의 중량 + In 원자의 중량) 으로부터 산출하였다.An ITO film was formed on one surface of an alkali-free glass by sputtering to prepare an adherend having an amorphous ITO thin film. The Sn ratio of the crystalline ITO thin film was 3% by weight. In addition, the Sn ratio of the ITO thin film was calculated from the weight of Sn atoms/(weight of Sn atoms + weight of In atoms).
표 중의 약기는, 각각 이하와 같다.The abbreviations in the table are as follows, respectively.
(인산 화합물) (Phosphate compound)
B-1 : 포스파놀 SM-172, 산가 : 219 ㎎KOH/g, 모노·디 혼합물, 토호 화학 공업 (주) 제조 B-1: Phosphanol SM-172, acid value: 219 mgKOH/g, Mono-D mixture, manufactured by Toho Chemical Industries, Ltd.
B-2 : 포스파놀 RS-410, 산가 : 105 ㎎KOH/g, 모노·디 혼합물, 토호 화학 공업 (주) 제조 B-2: Phosphanol RS-410, acid value: 105 mgKOH/g, Mono-D mixture, manufactured by Toho Chemical Industries, Ltd.
B-3 : 포스파놀 RS-710, 산가 : 62 ㎎KOH/g, 모노·디 혼합물, 토호 화학 공업 (주) 제조 B-3: Phosphanol RS-710, acid value: 62 mgKOH/g, Mono-D mixture, manufactured by Toho Chemical Industries, Ltd.
B-4 : DBP, 산가 : 266 ㎎KOH/g, 모노·디 혼합물, 조호쿠 화학 (주) 제조 B-4: DBP, acid value: 266 mgKOH/g, Mono-D mixture, manufactured by Johoku Chemical Co., Ltd.
B-5 : 인산 (시약 특급), 와코 쥰야쿠 공업 (주) 제조 B-5: Phosphoric acid (reagent limited express), manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.
B-6 : MP-4, 산가 : 670 ㎎KOH/g, 모노·디 혼합물, 다이하치 화학 공업 (주) 제조 B-6: MP-4, acid value: 670 mgKOH/g, Mono-D mixture, manufactured by Daihachi Chemical Industries, Ltd.
B-7 : 모노-N-부틸포스페이트 (O=P(OH)2(OC4H9), Product Nomber : CDS001281), SIGMA-ALDRICH 제조B-7: Mono-N-butyl phosphate (O=P(OH) 2 (OC 4 H 9 ), Product Nomber: CDS001281), manufactured by SIGMA-ALDRICH
(가교제)(Crosslinking agent)
과산화물계 : 디벤조일퍼옥사이드Peroxide type: dibenzoyl peroxide
이소시아네이트계 : 트리메틸올프로판자일릴렌디이소시아네이트 (상품명 : 타케네이트 D110N)(미츠이 화학 (주) 제조)Isocyanate type: trimethylolpropane xylylene diisocyanate (trade name: Takenate D110N) (manufactured by Mitsui Chemical Co., Ltd.)
(이온성 화합물)(Ionic compound)
E-1 : 리튬비스트리플루오로메탄술포닐이미드 (모리타 화학 공업 (주) 제조) E-1: Lithium bistrifluoromethanesulfonylimide (manufactured by Morita Chemical Co., Ltd.)
E-2 : 1-메틸-1-에틸피롤리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드 (키시다 화학 (주) 제조)E-2: 1-methyl-1-ethylpyrrolidinium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide (manufactured by Kishida Chemical Co., Ltd.)
또, 표 3, 5 중의 요오드 함유량은, 편광자 중의 요오드 및/또는 요오드 이온의 함유량 (중량%) 이다.Moreover, the iodine content in Tables 3 and 5 is the content (weight%) of iodine and/or iodine ion in a polarizer.
1 : 편광 필름
2 : 점착제층
3 : 대전 방지층
4 : 유리 기판
5 : 액정층
6 : 구동 전극
7 : 대전 방지층 겸 센서층
8 : 구동 전극 겸 센서층
9 : 센서층 1: polarizing film
2: pressure-sensitive adhesive layer
3: antistatic layer
4: glass substrate
5: liquid crystal layer
6: drive electrode
7: antistatic layer and sensor layer
8: driving electrode and sensor layer
9: sensor layer
Claims (22)
상기 요오드계 편광 필름이, 상기 요오드계 편광자의 편측에만 투명 보호 필름을 갖는 편면 보호 편광 필름이며, 또한 상기 편면 보호 편광 필름의 투명 보호 필름을 갖고 있지 않은 면과 상기 점착제층이 접촉하고 있으며,
상기 점착제층이 형성된 편광 필름은, 상기 점착제층이 형성된 편광 필름의 점착제층과, 투명 도전층을 갖는 부재의 투명 도전층이 접촉하도록 첩합하여 사용하는 것이며,
상기 점착제층이, 하기 일반식 (1) :
[화학식 1]
(식 중, R1 및 R2 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 또는 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기를 나타낸다.)
로 나타내는 화합물 및 상기 일반식 (1) 로 나타내는 화합물의 다량체로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상의 인산계 화합물, 그리고 (메트)아크릴계 폴리머를 함유하는 아크릴계 점착제 조성물로 형성되는 것을 특징으로 하는 점착제층이 형성된 편광 필름.A polarizing film in which a pressure-sensitive adhesive layer having a pressure-sensitive adhesive layer is formed on at least one side of an iodine-based polarizing film having a transparent protective film on at least one side of an iodine-based polarizer containing iodine and/or iodine ions,
The iodine-based polarizing film is a one-sided protective polarizing film having a transparent protective film only on one side of the iodine-based polarizing film, and the side of the one-sided protective polarizing film which does not have a transparent protective film and the pressure-sensitive adhesive layer are in contact,
The polarizing film with the pressure-sensitive adhesive layer is used by bonding the pressure-sensitive adhesive layer of the polarizing film with the pressure-sensitive adhesive layer and the transparent conductive layer of a member having a transparent conductive layer in contact with each other,
The pressure-sensitive adhesive layer is the following general formula (1):
[Formula 1]
(In the formula, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon residue having 1 to 18 carbon atoms which may contain an oxygen atom.)
A pressure-sensitive adhesive layer, characterized in that it is formed of an acrylic pressure-sensitive adhesive composition containing at least one phosphoric acid-based compound selected from the group consisting of a compound represented by and a multimer of the compound represented by the general formula (1), and a (meth)acrylic polymer. Formed polarizing film.
상기 요오드계 편광자 중의 요오드 및/또는 요오드 이온의 함유량이 1 ∼ 14 중량% 인 것을 특징으로 하는 점착제층이 형성된 편광 필름.The method of claim 1,
A polarizing film with a pressure-sensitive adhesive layer, wherein the content of iodine and/or iodine ions in the iodine polarizer is 1 to 14% by weight.
상기 요오드계 편광자 중의 요오드 및/또는 요오드 이온의 함유량이 3 ∼ 12 중량% 인 것을 특징으로 하는 점착제층이 형성된 편광 필름.The method of claim 2,
A polarizing film with an adhesive layer, wherein the content of iodine and/or iodine ions in the iodine polarizer is 3 to 12% by weight.
상기 인산계 화합물이, 인산을 포함하고, 또한 일반식 (1) 의 R1 및 R2 중 어느 일방이 수소 원자이고 타방이 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기인 인산모노에스테르, 및 일반식 (1) 의 R1 및 R2 가 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기인 인산디에스테르로 이루어지는 군에서 선택되는 1 개 이상의 인산에스테르를 포함하는 혼합물인 것을 특징으로 하는 점착제층이 형성된 편광 필름.The method of claim 1,
Phosphoric acid mono, which is a hydrocarbon residue having 1 to 18 carbon atoms in which the phosphoric acid-based compound contains phosphoric acid, and one of R 1 and R 2 in the general formula (1) may contain a hydrogen atom and the other may contain an oxygen atom. Ester, and a mixture containing at least one phosphate ester selected from the group consisting of phosphate diesters, which are hydrocarbon residues having 1 to 18 carbon atoms, wherein R 1 and R 2 in the general formula (1) may contain an oxygen atom. A polarizing film having an adhesive layer, characterized in that.
상기 인산계 화합물이, 인산 및 인산모노에스테르를 포함하는 혼합물인 것을 특징으로 하는 점착제층이 형성된 편광 필름.The method of claim 4,
The polarizing film with a pressure-sensitive adhesive layer, characterized in that the phosphoric acid-based compound is a mixture containing phosphoric acid and phosphoric acid monoester.
상기 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기가, 탄소수 1 ∼ 10 의 직사슬 또는 분기의 알킬기인 것을 특징으로 하는 점착제층이 형성된 편광 필름.The method of claim 1,
The polarizing film with a pressure-sensitive adhesive layer, wherein the hydrocarbon residue having 1 to 18 carbon atoms is a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.
상기 요오드계 편광자의 두께가 10 ㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 점착제층이 형성된 편광 필름.The method of claim 1,
The polarizing film with an adhesive layer, characterized in that the thickness of the iodine-based polarizer is 10 μm or less.
상기 요오드계 편광 필름의 총 두께가 80 ㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 점착제층이 형성된 편광 필름.The method of claim 1,
A polarizing film with a pressure-sensitive adhesive layer, characterized in that the total thickness of the iodine-based polarizing film is 80 μm or less.
상기 인산계 화합물의 첨가량이, 상기 (메트)아크릴계 폴리머 100 중량부에 대하여 0.001 ∼ 4 중량부인 것을 특징으로 하는 점착제층이 형성된 편광 필름.The method of claim 1,
The amount of the phosphoric acid-based compound added is 0.001 to 4 parts by weight based on 100 parts by weight of the (meth)acrylic polymer.
상기 (메트)아크릴계 폴리머가, 모노머 단위로서, 알킬(메트)아크릴레이트, 및 하이드록실기 함유 모노머를 함유하는 것을 특징으로 하는 점착제층이 형성된 편광 필름.The method of claim 1,
The polarizing film with a pressure-sensitive adhesive layer, wherein the (meth)acrylic polymer contains, as a monomer unit, an alkyl (meth)acrylate and a hydroxyl group-containing monomer.
하이드록실기 함유 모노머가 4-하이드록시부틸아크릴레이트인 것을 특징으로 하는 점착제층이 형성된 편광 필름.The method of claim 12,
A polarizing film with a pressure-sensitive adhesive layer, characterized in that the hydroxyl group-containing monomer is 4-hydroxybutyl acrylate.
(메트)아크릴계 폴리머의 중량 평균 분자량이 120만 ∼ 300만인 것을 특징으로 하는 점착제층이 형성된 편광 필름.The method of claim 1,
A polarizing film with a pressure-sensitive adhesive layer, characterized in that the weight average molecular weight of the (meth)acrylic polymer is 1.2 million to 3 million.
상기 아크릴계 점착제 조성물이, 추가로, 가교제를 함유하는 것을 특징으로 하는 점착제층이 형성된 편광 필름.The method of claim 1,
The polarizing film with an adhesive layer, wherein the acrylic pressure-sensitive adhesive composition further contains a crosslinking agent.
가교제는, 과산화물계 가교제, 및 이소시아네이트계 가교제로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상의 가교제인 것을 특징으로 하는 점착제층이 형성된 편광 필름.The method of claim 15,
The crosslinking agent is at least one type of crosslinking agent selected from the group consisting of a peroxide crosslinking agent and an isocyanate crosslinking agent.
상기 아크릴계 점착제 조성물이, 추가로, 이온성 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 점착제층이 형성된 편광 필름.The method of claim 1,
The polarizing film with a pressure-sensitive adhesive layer, wherein the acrylic pressure-sensitive adhesive composition further contains an ionic compound.
상기 투명 도전층이 산화인듐주석으로 형성되는 것을 특징으로 하는 적층체.The method of claim 18,
A laminate, characterized in that the transparent conductive layer is formed of indium tin oxide.
상기 산화인듐주석이 비결정성의 산화인듐주석인 것을 특징으로 하는 적층체.The method of claim 19,
The laminate, characterized in that the indium tin oxide is an amorphous indium tin oxide.
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