[go: up one dir, main page]

KR102181942B1 - Method for manufacturing plastic substrate and plastic substrate manufactured by the same - Google Patents

Method for manufacturing plastic substrate and plastic substrate manufactured by the same Download PDF

Info

Publication number
KR102181942B1
KR102181942B1 KR1020180105238A KR20180105238A KR102181942B1 KR 102181942 B1 KR102181942 B1 KR 102181942B1 KR 1020180105238 A KR1020180105238 A KR 1020180105238A KR 20180105238 A KR20180105238 A KR 20180105238A KR 102181942 B1 KR102181942 B1 KR 102181942B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
substrate
plastic
plastic film
plastic substrate
curable composition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
KR1020180105238A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20200027213A (en
Inventor
김영석
김혜민
최희정
정순화
장영래
변진석
Original Assignee
주식회사 엘지화학
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 엘지화학 filed Critical 주식회사 엘지화학
Priority to KR1020180105238A priority Critical patent/KR102181942B1/en
Publication of KR20200027213A publication Critical patent/KR20200027213A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102181942B1 publication Critical patent/KR102181942B1/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29DPRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D11/00Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
    • B29D11/00663Production of light guides
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C43/00Compression moulding, i.e. applying external pressure to flow the moulding material; Apparatus therefor
    • B29C43/02Compression moulding, i.e. applying external pressure to flow the moulding material; Apparatus therefor of articles of definite length, i.e. discrete articles
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/08Heat treatment
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29LINDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
    • B29L2007/00Flat articles, e.g. films or sheets
    • B29L2007/002Panels; Plates; Sheets

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Ophthalmology & Optometry (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

본 발명은 표면 평탄도, 두께 균일도 및 내열 치수 안정성이 우수한 플라스틱 기재를 제조하는 방법 및 이에 의해 제조된 플라스틱 기재에 관한 것이다. The present invention relates to a method for producing a plastic substrate having excellent surface flatness, thickness uniformity, and heat resistance dimensional stability, and to a plastic substrate produced thereby.

Description

플라스틱 기재의 제조방법 및 이에 의하여 제조된 플라스틱 기재{METHOD FOR MANUFACTURING PLASTIC SUBSTRATE AND PLASTIC SUBSTRATE MANUFACTURED BY THE SAME}The manufacturing method of a plastic substrate and the plastic substrate manufactured thereby TECHNICAL FIELD [METHOD FOR MANUFACTURING PLASTIC SUBSTRATE AND PLASTIC SUBSTRATE MANUFACTURED BY THE SAME}

본 발명은 플라스틱 기재의 제조방법 및 이에 의하여 제조된 플라스틱 기재의 제조방법에 관한 것이다. The present invention relates to a method for manufacturing a plastic substrate and a method for manufacturing a plastic substrate manufactured thereby.

최근 가상 현실 디바이스(Virtual Reality Device) 및 증강 현실 디바이스(Augmented Reality Device) 등을 이용하여, 사용자에게 3차원의 화상을 제공하는 장치의 개발이 이루어지고 있다. Recently, a device for providing a 3D image to a user has been developed using a virtual reality device and an augmented reality device.

가상 현실 디바이스 또는 증강 현실 디바이스는 일반적인 안경과 같은 렌즈에 회절 도광 패턴을 형성하여 원하는 이미지를 사용자에게 보이도록 할 수 있다. 일반적으로, 가상 현실 디바이스 또는 증강 현실 디바이스 용도의 렌즈는 굴절율이 높은 유리 기재를 사용하게 되는데, 유리 기재는 높은 굴절율 및 광투과도를 가지는 장점이 있으나, 파손 시 사용자의 안구에 치명적인 손상을 가할 수 있고, 무게가 무거워 장시간 착용에 불편함이 존재한다. The virtual reality device or the augmented reality device may form a diffraction light guide pattern on lenses such as general glasses to display a desired image to a user. In general, a lens for a virtual reality device or an augmented reality device uses a glass substrate having a high refractive index, and the glass substrate has the advantage of having a high refractive index and light transmittance, but when it is damaged, it can cause fatal damage to the user's eyes. , Due to the heavy weight, there is a discomfort in wearing for a long time.

이에 따라, 가상 현실 디바이스 또는 증강 현실 디바이스 용도로 사용할 수 있도록, 높은 광투과도, 높은 굴절율을 가지며, 나아가 가볍고 파손 시 상대적으로 안전한 렌즈 기재에 대한 연구가 필요하다.Accordingly, there is a need for research on a lens substrate that has high light transmittance and a high refractive index so that it can be used as a virtual reality device or an augmented reality device, and is light and relatively safe when damaged.

유리 기재를 대체하기 위한 플라스틱 기재의 경우, 표면 평탄도 및 두께 균일도와 같은 물성이 기존의 유리 기재에 크게 미치지 못하는 문제점이 있으므로, 이의 개선을 위한 연구가 필요한 실정이다. 또한, 플라스틱 기재를 회절 도광 렌즈로 사용하기 위하여 증착 공정 등이 수행되며, 이 때 증착 공정 등에 의하여 플라스틱 기재가 변형되는 문제점이 있으므로, 이를 개선하기 위한 연구가 필요한 실정이다.In the case of a plastic substrate for replacing a glass substrate, there is a problem in that physical properties such as surface flatness and thickness uniformity do not significantly exceed that of the existing glass substrate, and thus research for improvement thereof is required. In addition, in order to use the plastic substrate as a diffractive light guide lens, a deposition process or the like is performed, and at this time, there is a problem in that the plastic substrate is deformed due to a deposition process, and thus, research to improve this is required.

한국 공개공보: KR 10-2015-0060562 AKorea Open Publication: KR 10-2015-0060562 A

본 발명은 플라스틱 기재의 제조방법 및 이에 의해 제조된 플라스틱 기재를 제공하고자 한다. 구체적으로, 본 발명은 두께 균일도 및 내열 치수 안정성이 우수한 플라스틱 기재 및 이를 제조하는 방법을 제공한다. The present invention is to provide a method for manufacturing a plastic substrate and a plastic substrate manufactured thereby. Specifically, the present invention provides a plastic substrate having excellent thickness uniformity and heat-resistant dimensional stability, and a method of manufacturing the same.

다만, 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 상기 언급한 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 하기의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.However, the problem to be solved by the present invention is not limited to the above-mentioned problems, and other problems that are not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

본 발명의 일 실시상태는, 플라스틱 필름을 제조하는 단계; 상기 플라스틱 필름의 외면이 노출되도록, 상기 플라스틱 필름을 거치하는 단계; 상기 플라스틱 필름을 열처리하여, 플라스틱 기재를 제조하는 단계;를 포함하고, 상기 플라스틱 기재는, 80 ℃의 온도 조건에서 2시간 방치 후의 휨 거리 변화량이 15 ㎛ 이하인 플라스틱 기재의 제조방법을 제공한다.An exemplary embodiment of the present invention, the step of manufacturing a plastic film; Mounting the plastic film so that the outer surface of the plastic film is exposed; Heat treatment of the plastic film to prepare a plastic substrate; Including, wherein the plastic substrate provides a method of manufacturing a plastic substrate having a change in bending distance of 15 μm or less after being left for 2 hours at a temperature of 80°C.

본 발명의 일 실시상태는, 상기 플라스틱 기재의 제조방법에 의하여 제조된 플라스틱 기재를 제공한다.An exemplary embodiment of the present invention provides a plastic substrate manufactured by the method for manufacturing the plastic substrate.

본 발명의 일 실시상태에 따른 플라스틱 기재의 제조방법은, 표면 평탄도, 두께 균일도 및 내열 치수 안정성이 우수한 플라스틱 기재를 용이하게 제조할 수 있다.In the method for manufacturing a plastic substrate according to an exemplary embodiment of the present invention, a plastic substrate having excellent surface flatness, thickness uniformity, and heat resistance dimensional stability can be easily manufactured.

본 발명의 일 실시상태에 따른 플라스틱 기재는 표면 평탄도, 두께 균일도 및 내열 치수 안정성이 우수한 장점이 있다.The plastic substrate according to an exemplary embodiment of the present invention has excellent advantages in surface flatness, thickness uniformity, and heat resistance dimensional stability.

본 발명의 효과는 상술한 효과로 한정되는 것은 아니며, 언급되지 아니한 효과들은 본원 명세서 및 첨부된 도면으로부터 당업자에게 명확히 이해될 수 있을 것이다.The effects of the present invention are not limited to the above-described effects, and effects not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the present specification and the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시상태에 따른 경화성 조성물을 경화하는 단계에서의 단면을 도시한 것이다.
도 2는 본 발명의 일 실시상태에 따른 플라스틱 필름을 거치하는 것을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 3은 본 발명의 일 실시상태에 따른 플라스틱 기재의 휨 거리를 측정하는 것을 개략적으로 나타낸 것이다.
1 is a cross-sectional view illustrating a step of curing a curable composition according to an exemplary embodiment of the present invention.
2 is a schematic view showing mounting a plastic film according to an exemplary embodiment of the present invention.
3 schematically shows measuring the bending distance of a plastic substrate according to an exemplary embodiment of the present invention.

본 명세서에 있어서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함" 한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.In the present specification, when a part "includes" a certain component, it means that other components may be further included rather than excluding other components unless otherwise stated.

본 명세서에 있어서, 어떤 부재가 다른 부재 "상에" 위치하고 있다고 할 때, 이는 어떤 부재가 다른 부재에 접해 있는 경우뿐 아니라 두 부재 사이에 또 다른 부재가 존재하는 경우도 포함한다.In the present specification, when a member is said to be located "on" another member, this includes not only the case where the member is in contact with the other member, but also the case where another member exists between the two members.

본 명세서에 있어서, 사용되는 용어 "~(하는) 단계" 또는 "~의 단계"는 "~를 위한 단계"를 의미하지 않는다.In the present specification, the term "step (to)" or "step of" as used does not mean "step for".

이하, 본 명세서에 대하여 더욱 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present specification will be described in more detail.

본 발명의 일 실시상태는, 플라스틱 필름을 제조하는 단계; 상기 플라스틱 필름의 외면이 노출되도록, 상기 플라스틱 필름을 거치하는 단계; 상기 플라스틱 필름을 열처리하여, 플라스틱 기재를 제조하는 단계;를 포함하고, 상기 플라스틱 기재는, 80 ℃의 온도 조건에서 2시간 방치 후의 휨 거리 변화량이 15 ㎛ 이하인 플라스틱 기재의 제조방법을 제공한다.An exemplary embodiment of the present invention, the step of manufacturing a plastic film; Mounting the plastic film so that the outer surface of the plastic film is exposed; Heat treatment of the plastic film to prepare a plastic substrate; Including, wherein the plastic substrate provides a method of manufacturing a plastic substrate having a change in bending distance of 15 μm or less after being left for 2 hours at a temperature of 80°C.

본 발명의 일 실시상태에 따른 플라스틱 기재의 제조방법은, 표면 평탄도, 두께 균일도 및 내열 치수 안정성이 우수한 플라스틱 기재를 용이하게 제조할 수 있다.In the method for manufacturing a plastic substrate according to an exemplary embodiment of the present invention, a plastic substrate having excellent surface flatness, thickness uniformity, and heat resistance dimensional stability can be easily manufactured.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 플라스틱 필름을 제조하는 단계는 표면 평탄도 및 두께 균일도가 우수한 플라스틱 필름을 제조할 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, in the manufacturing of the plastic film, a plastic film having excellent surface flatness and thickness uniformity may be manufactured.

구체적으로, 상기 플라스틱 필름을 제조하는 단계는, 평판형 하부 기판, 평판형 상부 기판, 및 상기 평판형 하부 기판과 상기 평판형 상부 기판 사이에 완충형 스페이서를 포함하고, 상기 완충형 스페이서에 의하여 몰딩 공간이 구획되는 몰드 장비를 준비하는 단계; 상기 몰딩 공간에 경화성 조성물을 완충하는 단계; 상기 평판형 상부 기판의 하중으로 상기 경화성 조성물을 압축하며, 상기 경화성 조성물을 경화하는 단계; 및 상기 평판형 상부 기판 및 상기 평판형 하부 기판을 제거하여 플라스틱 필름을 수득하는 단계;를 포함하고, 상기 경화성 조성물을 경화하는 단계는 하기 식 1을 만족할 수 있다:Specifically, the manufacturing of the plastic film includes a flat lower substrate, a flat upper substrate, and a buffer spacer between the flat lower substrate and the flat upper substrate, and is molded by the buffer spacer. Preparing mold equipment in which the space is partitioned; Buffering the curable composition in the molding space; Compressing the curable composition under the load of the flat upper substrate, and curing the curable composition; And removing the flat upper substrate and the flat lower substrate to obtain a plastic film, wherein the curing of the curable composition may satisfy Equation 1:

[식 1] [Equation 1]

{(평판형 상부 기판의 하중 + 경화성 조성물의 경화 수축력) × 0.95} ≤ 완충형 스페이서의 압축 응력 ≤ {(평판형 상부 기판의 하중 + 경화성 조성물의 경화 수축력) × 1.05}{(Load of flat upper substrate + curing shrinkage force of curable composition) × 0.95} ≤ Compressive stress of buffer spacer ≤ {(load of flat upper substrate + curing shrinkage force of curable composition) × 1.05}

본 발명의 일 실시상태에 따른 플라스틱 기재의 제조방법은, 완충형 스페이서를 이용하여, 경화성 조성물의 경화시 수축에 따른 몰드 장비의 기판에서 박리되는 현상을 최소화하여, 표면 평탄도 및 두께 균일도가 매우 우수한 플라스틱 필름을 제조할 수 있다. 이를 통해, 회절 도광 렌즈용 기재에 적합한 표면 평탄도 및 두께 균일도를 가지는 플라스틱 기재를 제조할 수 있는 장점이 있다.The method of manufacturing a plastic substrate according to an exemplary embodiment of the present invention uses a buffer spacer to minimize peeling from the substrate of the mold equipment due to shrinkage during curing of the curable composition, so that the surface flatness and thickness uniformity are very Excellent plastic film can be produced. Through this, there is an advantage of being able to manufacture a plastic substrate having a surface flatness and thickness uniformity suitable for a substrate for a diffractive light guide lens.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 완충형 스페이서의 압축 응력은 상기 식 1을 만족한다. 구체적으로, 상기 완충형 스페이서의 압축 응력은 상기 평판형 상부 기판의 하중과 상기 경화성 조성물의 경화 수축력의 합의 5 % 이내의 차이를 가지고 있으므로, 상기 경화성 조성물을 경화하는 단계에서 상기 경화성 조성물의 경화시 수축에 따라 상기 평판형 상부 기판이 상기 경화성 조성물에 밀착되게 된다. 이에 따라, 제조되는 플라스틱 필름은 우수한 표면 평탄도를 나타내게 되며, 나아가, 두께 균일도도 우수하게 구현될 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the compressive stress of the buffer spacer satisfies Equation 1 above. Specifically, since the compressive stress of the buffer-type spacer has a difference within 5% of the sum of the load of the flat upper substrate and the curing contraction force of the curable composition, the curing of the curable composition in the step of curing the curable composition According to the shrinkage, the flat upper substrate comes into close contact with the curable composition. Accordingly, the manufactured plastic film exhibits excellent surface flatness, and further, thickness uniformity can be excellently implemented.

구체적으로, 본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 식 1은 하기 식 1-1, 식 1-2, 또는 식 1-3을 만족할 수 있다.Specifically, according to an exemplary embodiment of the present invention, Equation 1 may satisfy Equation 1-1, 1-2, or 1-3 below.

[식 1-1] [Equation 1-1]

{(평판형 상부 기판의 하중 + 경화성 조성물의 경화 수축력) × 0.97} ≤ 완충형 스페이서의 압축 응력 ≤ {(평판형 상부 기판의 하중 + 경화성 조성물의 경화 수축력) × 1.03}{(Load of flat upper substrate + curing shrinkage force of curable composition) × 0.97} ≤ Compressive stress of buffer spacer ≤ {(load of flat upper substrate + curing shrinkage force of curable composition) × 1.03}

[식 1-2] [Equation 1-2]

{(평판형 상부 기판의 하중 + 경화성 조성물의 경화 수축력) × 0.98} ≤ 완충형 스페이서의 압축 응력 ≤ {(평판형 상부 기판의 하중 + 경화성 조성물의 경화 수축력) × 1.02}{(Load of flat upper substrate + curing shrinkage force of curable composition) × 0.98} ≤ Compressive stress of buffer spacer ≤ {(load of flat upper substrate + curing shrinkage force of curable composition) × 1.02}

[식 1-3] [Equation 1-3]

{(평판형 상부 기판의 하중 + 경화성 조성물의 경화 수축력) × 0.99} ≤ 완충형 스페이서의 압축 응력 ≤ {(평판형 상부 기판의 하중 + 경화성 조성물의 경화 수축력) × 1.01}{(Load of flat upper substrate + curing shrinkage force of curable composition) × 0.99} ≤ Compressive stress of buffer spacer ≤ {(load of flat upper substrate + curing shrinkage force of curable composition) × 1.01}

즉, 상기 완충형 스페이서의 압축 응력은 상기 평판형 상부 기판의 하중과 상기 경화성 조성물의 경화 수축력의 합의 3 % 이내, 2 % 이내, 또는 1 % 이내의 차이를 가질 수 있으며, 이에 따라 제조되는 플라스틱 필름은 보다 우수한 표면 평탄도 및 두께 균일도를 가질 수 있다.That is, the compressive stress of the buffer-type spacer may have a difference within 3%, within 2%, or within 1% of the sum of the load of the flat upper substrate and the curing shrinkage force of the curable composition, and the plastic manufactured accordingly The film can have better surface flatness and thickness uniformity.

본 명세서에 있어서, 상기 평판형 상부 기판의 하중, 상기 경화 수축력 및 상기 압축 응력의 단위는 kgf 또는 N일 수 있다.In the present specification, the unit of the load, the curing contraction force, and the compressive stress of the flat upper substrate may be kgf or N.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 완충형 스페이서는 상기 경화성 조성물의 경화에 따른 수축에 따라 상기 경화성 조성물이 상기 평판형 상부 기판과 박리되는 것을 방지하도록 하는 역할을 한다. 구체적으로, 상기 완충형 스페이서는 상기 경화성 조성물이 경화됨에 따라 수축하는 정도 및 상기 평판형 상부 기판의 하중을 고려한 압축 응력을 가지므로, 상기 경화성 조성물의 수축에 따라 상기 평판형 상부 기판의 하중에 의해 압축되어, 상기 경화성 조성물을 경화하는 단계에서 상기 경화성 조성물과 상기 평판형 상부 기판이 밀착된 상태를 유지하도록 하는 역할을 할 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the buffer spacer serves to prevent the curable composition from being peeled off from the flat upper substrate according to the shrinkage caused by curing of the curable composition. Specifically, since the buffer spacer has a compressive stress in consideration of the degree of contraction of the curable composition and the load of the flat upper substrate as the curable composition is cured, the load of the flat upper substrate according to the contraction of the curable composition It is compressed, and in the step of curing the curable composition, it may serve to maintain a state in which the curable composition and the flat upper substrate are in close contact with each other.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 평판형 상부 기판의 하중은 3.4 N 이상 34 N 이하일 수 있다. 구체적으로, 상기 평판형 상부 기판의 하중은 5.9 N 이상 27 N 이하일 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the load of the flat upper substrate may be 3.4 N or more and 34 N or less. Specifically, the load of the flat upper substrate may be 5.9 N or more and 27 N or less.

상기 평판형 상부 기판의 하중이 상기 범위 내인 경우, 상기 경화성 조성물의 경화시 경화 수축에 의한 변형을 최소화할 수 있다. 또한, 상기 평판형 상부 기판의 하중이 상기 범위 내인 경우, 상기 경화성 조성물의 광경화시 투과율 저하를 최소화할 수 있고, 또한 상기 경화성 조성물의 열경화시 반응열의 배출 불균일을 최소화하여, 상기 경화성 조성물의 균일한 경화를 유도할 수 있다.When the load of the flat upper substrate is within the above range, deformation due to curing shrinkage during curing of the curable composition may be minimized. In addition, when the load of the flat upper substrate is within the above range, it is possible to minimize the decrease in transmittance during photocuring of the curable composition, and also minimize non-uniformity in discharge of reaction heat during thermal curing of the curable composition. It can lead to uniform curing.

본 명세서에 있어서, 경화성 조성물의 경화 수축력은 하기와 같은 방법으로 측정될 수 있다. 구체적으로, 25 ℃ 및 50 RH% 분위기에서 TA 사의 Texture Analyzer 장비를 사용하여, 하부 지그 위에 일정량의 경화성 조성물을 도포 후, 상부 지그를 하강하여 경화성 조성물과 접촉시켜 힘의 초기값을 기록한다. 그리고, 온도를 90 ℃로 상승시켜 5시간 유지한 후 힘의 최종값을 기록하여 힘의 최종값과 초기값 간의 차이로 얻어진 값으로 측정될 수 있다.In the present specification, the curing shrinkage force of the curable composition may be measured by the following method. Specifically, after applying a certain amount of the curable composition on the lower jig using a texture analyzer device of TA company at 25° C. and 50 RH% atmosphere, the upper jig is lowered and contacted with the curable composition to record the initial value of the force. And, after raising the temperature to 90° C. and maintaining it for 5 hours, the final value of the force is recorded, and the value obtained as the difference between the final value of the force and the initial value can be measured.

본 명세서에 있어서, 완충형 스페이서의 압축 응력은 25 ℃ 및 50 RH% 분위기에서, TA 사의 Texture Analyzer를 사용하여 시편 면적 5 × 5 ㎟, 압축 속도 1 mm/min으로 압축 시, 시편의 변형((초기 두께-변형 후 두께)/초기 두께)에 도달하는 순간의 힘의 측정값일 수 있다.In the present specification, the compressive stress of the buffer-type spacer is in an atmosphere of 25° C. and 50 RH%, when the sample area is compressed at 5 × 5 mm 2 and a compression rate of 1 mm/min using a TA texture analyzer, the deformation of the sample (( It may be a measure of the force at the moment of reaching initial thickness-thickness after deformation)/initial thickness).

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 몰딩 공간은 상기 완충형 스페이서에 의하여 구획되는, 상기 평판형 하부 기판과 상기 평판형 상부 기판 사이에 구비되는 빈 공간을 의미할 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the molding space may mean an empty space provided between the flat lower substrate and the flat upper substrate partitioned by the buffer spacer.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 경화성 조성물을 완충하는 단계는 상기 몰딩 공간에 상기 경화성 조성물을 주입하여 상기 경화성 조성물이 상기 평판형 하부 기판과 상기 평판형 상부 기판과 밀착되도록 충분히 채워 넣는 것을 의미할 수 있다. 구체적으로, 상기 경화성 조성물을 완충하는 단계는 상기 경화성 조성물을 상기 몰딩 공간의 95 vol% 이상, 97 vol% 이상, 99 vol% 이상, 또는 바람직하게는 100 vol%로 주입하는 것을 포함할 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the step of buffering the curable composition means that the curable composition is sufficiently filled so that the curable composition is in close contact with the flat lower substrate and the flat upper substrate by injecting the curable composition into the molding space. can do. Specifically, the step of buffering the curable composition may include injecting the curable composition in an amount of 95 vol% or more, 97 vol% or more, 99 vol% or more, or preferably 100 vol% of the molding space.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 경화성 조성물을 완충하는 단계는 상기 완충형 스페이서가 구비된 평판형 하부 기판의 몰딩 공간에 상기 경화성 조성물을 주입하고, 상기 평판형 상부 기판을 적층하는 방법, 또는 상기 몰드 장비에 주입구를 구비하여 상기 경화성 조성물을 주입하는 방법 등 다양한 방법을 이용할 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the step of buffering the curable composition includes injecting the curable composition into a molding space of a flat lower substrate provided with the buffer spacer, and laminating the flat upper substrate, or Various methods, such as a method of injecting the curable composition by providing an injection hole in the mold equipment, may be used.

도 1은 상기 경화성 조성물을 경화하는 단계에서의 단면을 도시한 것이다. 구체적으로, 도 1은 평판형 하부 기판(101)과 평판형 상부 기판(102) 사이에 구비되는 완충형 스페이서(201, 202)를 포함하는 몰딩 장비의 몰딩 공간에 경화성 조성물(300)을 주입하여 완충된 것을 나타낸 것이다. 이와 같이, 경화성 조성물이 완충된 후, 광경화 및/또는 열경화를 하여 플라스틱 필름을 제조할 수 있다.1 shows a cross-section in the step of curing the curable composition. Specifically, FIG. 1 shows a curable composition 300 is injected into a molding space of a molding equipment including buffer spacers 201 and 202 provided between the flat lower substrate 101 and the flat upper substrate 102. It shows that it is buffered. In this way, after the curable composition is buffered, photocuring and/or thermal curing may be performed to prepare a plastic film.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 평판형 하부 기판 및 상기 평판형 상부 기판의 굴곡 탄성율은 각각 3 GPa 이상일 수 있다. 구체적으로, 상기 평판형 하부 기판 및 상기 평판형 상부 기판의 굴곡 탄성율은 각각 10 GPa 이상, 20 GPa 이상, 40 GPa 이상일 수 있다. 또한, 상기 평판형 하부 기판 및 상기 평판형 상부 기판의 굴곡 탄성율은 각각 70 GPa 이하, 65 GPa 이하, 또는 60 GPa 이하일 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, each of the flat lower substrate and the flat upper substrate may have a flexural modulus of 3 GPa or more. Specifically, the flexural modulus of the flat lower substrate and the flat upper substrate may be 10 GPa or more, 20 GPa or more, and 40 GPa or more, respectively. Further, the flexural modulus of the flat lower substrate and the flat upper substrate may be 70 GPa or less, 65 GPa or less, or 60 GPa or less, respectively.

상기 평판형 하부 기판 및 상기 평판형 상부 기판의 굴곡 탄성율이 상기 범위 내인 경우, 상기 평판형 상부 기판의 보잉(bowing) 현상을 최소화할 수 있으므로, 제조되는 플라스틱 필름의 두께 균일도를 크게 증가시킬 수 있는 장점이 있다.When the flexural modulus of the flat lower substrate and the flat upper substrate is within the above range, the bowing phenomenon of the flat upper substrate can be minimized, so that the thickness uniformity of the manufactured plastic film can be greatly increased. There is an advantage.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 평판형 하부 기판 및 상기 평판형 상부 기판의 표면 평탄도는 각각 5 ㎛ 이하일 수 있다. 구체적으로, 상기 평판형 하부 기판 및 상기 평판형 상부 기판의 표면 평탄도는 각각 2 ㎛ 이하, 또는 1 ㎛ 이하일 수 있다. 또한, 상기 평판형 하부 기판 및 상기 평판형 상부 기판의 표면 평탄도는 각각 0.5 ㎛ 이하, 또는 0.3 ㎛ 이하일 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, surface flatness of the flat lower substrate and the flat upper substrate may be 5 μm or less, respectively. Specifically, surface flatness of the flat lower substrate and the flat upper substrate may be 2 μm or less, or 1 μm or less, respectively. Further, surface flatness of the flat lower substrate and the flat upper substrate may be 0.5 μm or less, or 0.3 μm or less, respectively.

상기 평판형 하부 기판 및 상기 평판형 상부 기판의 표면 평탄도가 상기 범위 내인 경우, 제조되는 플라스틱 필름의 표면 평탄도는 일반적인 플라스틱 필름보다 매우 향상될 수 있다.When surface flatness of the flat lower substrate and the flat upper substrate are within the above range, the surface flatness of the manufactured plastic film may be significantly improved than that of a general plastic film.

본 명세서에 있어서, 상기 표면 평탄도는 25 ℃ 및 50 RH% 분위기에서, QED 사의 ASI(aspheric stitching interferometry) 장비로 지름 200 ㎜ 영역에서 0.16 × 0.16 ㎟ 당 한 점을 측정하거나, 또는 덕인 사의 3차원 형상 측정기 장비를 사용하여, 지름 200 ㎜ 영역에서 임의의 원점을 기준으로 반지름 5 ㎜ 및 11.25도 간격으로 측정된 높이의 최고값과 최저값 간의 차이를 의미할 수 있다.In the present specification, the surface flatness is measured at a point per 0.16 × 0.16 mm 2 in a 200 mm diameter area with QED's aspheric stitching interferometry (ASI) equipment at 25° C. and 50 RH% atmosphere, or the three-dimensional Using a shape measuring device, it can mean the difference between the highest and the lowest values of heights measured at intervals of 5 mm and 11.25 degrees in radius based on an arbitrary origin in a 200 mm diameter region.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 완충형 스페이서의 압축 탄성 계수는 0.1 MPa 이상 10 MPa 이하일 수 있다. 구체적으로, 상기 완충형 스페이서의 압축 탄성 계수는 0.1 MPa 이상 5 MPa 이하, 0.1 MPa 이상 3 MPa 이하, 또는 0.1 MPa 이상 2 MPa 이하일 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the compressive elastic modulus of the buffer-type spacer may be 0.1 MPa or more and 10 MPa or less. Specifically, the compressive elastic modulus of the buffer spacer may be 0.1 MPa or more and 5 MPa or less, 0.1 MPa or more and 3 MPa or less, or 0.1 MPa or more and 2 MPa or less.

상기 완충형 스페이서의 압축 탄성 계수가 상기 범위 내인 경우, 상기 평판형 상부 기판의 접촉시 균일하게 상기 경화성 조성물에 하중을 전달하여, 상기 플라스틱 필름의 두께 균일도를 높일 수 있다. When the compressive elastic modulus of the buffer-type spacer is within the above range, a load is uniformly transmitted to the curable composition when the flat upper substrate is in contact, thereby increasing the thickness uniformity of the plastic film.

본 발명에 있어서, 완충형 스페이서의 압축 탄성 계수는 25 ℃ 및 50 RH%의 분위기에서, TA 사의 Texture Analyzer를 사용하여 시편 면적 5 ×5 ㎟, 압축 속도 1 mm/min으로 압축 시 측정되는 힘의 시편 변형 ((초기 두께-변형 후 두께)/초기 두께)에 대한 기울기를 의미할 수 있다. 또한, 완충형 스페이서가 2 이상의 상이한 층으로 구성되는 경우의 완충형 스페이서의 압축 탄성 계수는, 적층된 시편을 면적 5 ×5 ㎟로 준비하여 압축 속도 1 mm/min으로 압축 시 측정되는 힘의 시편 변형 ((초기 두께-변형 후 두께)/초기 두께)에 대한 기울기를 의미할 수 있다.In the present invention, the compressive elastic modulus of the buffer-type spacer is the force measured when compressing with a specimen area of 5 × 5 mm 2 and a compression speed of 1 mm/min using a TA texture analyzer in an atmosphere of 25° C. and 50 RH%. It can mean the slope for specimen deformation ((initial thickness-thickness after deformation)/initial thickness). In addition, when the buffer spacer is composed of two or more different layers, the compressive modulus of the buffer spacer is the force measured when the laminated specimen is prepared with an area of 5 × 5 mm 2 and compressed at a compression speed of 1 mm/min. It can mean a slope for deformation ((initial thickness-thickness after deformation)/initial thickness).

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 완충형 스페이서는 비탄성층과 탄성층이 적층된 구조, 비탄성층 사이에 탄성층이 구비된 구조, 또는 탄성층 사이에 비탄성층이 구비된 구조일 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the buffer spacer may be a structure in which an inelastic layer and an elastic layer are stacked, an elastic layer is provided between the inelastic layers, or an inelastic layer is provided between the elastic layers.

상기 완충형 스페이서는 상기 경화성 조성물의 수축 정도를 고려하여 설계될 수 있으며, 상기 완충형 스페이서의 상기 비탄성층은 지지 역할을 수행하고, 상기 탄성층으로 상기 경화성 조성물의 수축에 따른 높이 변화를 조절하는 역할을 수행할 수 있다.The buffer-type spacer may be designed in consideration of the degree of shrinkage of the curable composition, and the inelastic layer of the buffer-type spacer serves as a support, and the elastic layer controls the height change according to the contraction of the curable composition. Can play a role.

본 발명의 일 실시상태예 따르면, 상기 경화성 조성물의 경화 수축률은 15 % 이하일 수 있다. 구체적으로, 상기 경화성 조성물의 경화 수축률은 1 % 이상 15 % 이하, 1 % 이상 12 % 이하, 또는 1 % 이상 10 % 이하일 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the curable shrinkage rate of the curable composition may be 15% or less. Specifically, the curable shrinkage rate of the curable composition may be 1% or more and 15% or less, 1% or more and 12% or less, or 1% or more and 10% or less.

상기 경화성 조성물의 경화 수축률은 하기 일반식 1과 같이 도출될 수 있다.The curing shrinkage rate of the curable composition may be derived as in General Formula 1 below.

[일반식 1][General Formula 1]

경화 수축률(%) = {(경화 전 부피 - 완전 경화 후 부피) / 경화 전 부피} × 100.Curing shrinkage (%) = {(volume before curing-volume after complete curing) / volume before curing} × 100.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 플라스틱 필름의 두께는 400 ㎛ 이상 2,000 ㎛ 이하이고, 상기 플라스틱 필름의 두께 편차는 1 % 이내일 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the thickness of the plastic film may be 400 μm or more and 2,000 μm or less, and the thickness variation of the plastic film may be within 1%.

구체적으로, 상기 플라스틱 필름의 두께 편차 값이 낮을수록 상기 플라스틱 필름의 두께 균일도는 높을 수 있다. 즉, 본 발명의 일 실시상태에 따라 제조되는 플라스틱 필름은 두께 편차가 1 % 이내로서 매우 우수한 두께 균일도를 가질 수 있다. 즉, 상기 플라스틱 필름을 이용하여 제조된 상기 플라스틱 기재는 표면 평탄도 및 두께 균일도가 매우 우수하여, 가상 현실 디바이스, 증강 현실 디바이스 등의 렌즈 기재로 사용하기에 적합한 장점이 있다.Specifically, as the thickness deviation value of the plastic film is lower, the thickness uniformity of the plastic film may be higher. That is, the plastic film manufactured according to the exemplary embodiment of the present invention may have a thickness variation of less than 1%, and thus have very excellent thickness uniformity. That is, the plastic substrate manufactured using the plastic film has excellent surface flatness and thickness uniformity, and thus has an advantage suitable for use as a lens substrate such as a virtual reality device and an augmented reality device.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 플라스틱 필름의 두께는 상기 평판형 하부 기판 및 상기 평판형 상부 기판의 이격거리 및 상기 경화성 조성물의 경화 수축률에 따라 조절될 수 있다. 나아가, 상기 플라스틱 기재의 용도에 따라 상기 범위 내에서 상기 플라스틱 기재의 두께를 조절할 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the thickness of the plastic film may be adjusted according to a separation distance between the flat lower substrate and the flat upper substrate and a curing shrinkage rate of the curable composition. Further, it is possible to adjust the thickness of the plastic substrate within the above range according to the use of the plastic substrate.

또한, 상기 플라스틱 필름의 두께 편차는 하기 일반식 2와 같이 도출될 수 있다. In addition, the thickness deviation of the plastic film may be derived as shown in the following general formula 2.

[일반식 2][General Formula 2]

두께 편차(%) = (최대 편차/평균 두께) × 100 Thickness deviation (%) = (maximum deviation/average thickness) × 100

본 명세서에서, 부재의 두께는 25 ℃ 및 50 RH% 분위기에서, Mitsutoyo사의 Digimatic Thick 547-401 장비를 이용한 접촉식 측정방법을 이용하여, 최대 두께 또는 최소 두께를 측정할 수 있다. 또한, 본 명세서에서, 부재의 두께는 25 ℃ 및 50 RH%에서 Micro-Epsilon 사의 IFS-2405-1 또는 IFC-2451-MP 장비를 이용한 비접촉식 측정 방법을 이용하여 최대 두께 또는 최소 두께를 측정할 수 있다. In the present specification, the maximum thickness or minimum thickness can be measured using a contact measurement method using Mitsutoyo's Digimatic Thick 547-401 equipment in an atmosphere of 25° C. and 50 RH%. In addition, in this specification, the maximum thickness or minimum thickness can be measured using a non-contact measurement method using Micro-Epsilon's IFS-2405-1 or IFC-2451-MP equipment at 25° C. and 50 RH%. have.

본 명세서에서, 부재의 평균 두께는 25 ℃ 및 50 RH% 분위기에서, Mitsutoyo사의 Digimatic Thick 547-401 장비를 이용한 접촉식 측정방법을 이용하여, 임의로 배치된 시편의 임의의 점을 원점으로, 반지름 10 ㎜ 및 22.5도의 간격으로 측정된 두께의 평균값일 수 있다. 또한, 본 명세서에서, 부재의 평균 두께는 25 ℃ 및 50 RH% 분위기에서, 파이버프로 사의 OWTM(Optical Waper Thickness Measurement system) 장비를 이용한 비접촉식 측정방법을 이용하여, 임의로 배치된 시편의 임의의 점을 원점으로, 반지름 10 ㎜ 및 22.5도의 간격으로 측정된 두께의 평균값일 수 있다.In the present specification, the average thickness of the member is at 25° C. and 50 RH% atmosphere, using a contact measurement method using Mitsutoyo's Digimatic Thick 547-401 equipment, using a random point of the randomly placed specimen as the origin, and a radius of 10 It may be an average value of the thickness measured at intervals of mm and 22.5 degrees. In addition, in the present specification, the average thickness of the member is in an atmosphere of 25° C. and 50 RH%, using a non-contact measurement method using Fiber Pro's Optical Waper Thickness Measurement system (OWTM) equipment, to determine any point of the randomly placed specimen. As the origin, it may be an average value of thickness measured at intervals of 10 mm in radius and 22.5 degrees.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 경화성 조성물은 광경화성 조성물 또는 열경화성 조성물일 수 있다. 구체적으로, 상기 경화성 조성물은 열경화성 조성물일 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the curable composition may be a photocurable composition or a thermosetting composition. Specifically, the curable composition may be a thermosetting composition.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 평판형 하부 기판 및 상기 평판형 상부 기판은 각각 투명 기판일 수 있다. 구체적으로, 상기 평판형 하부 기판 및 상기 평판형 상부 기판은 각각 유기 기판일 수 있으며, 이는 우수한 투광성에 의하여 효과적으로 상기 경화성 조성물의 광경화를 수행할 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, each of the flat lower substrate and the flat upper substrate may be a transparent substrate. Specifically, the planar lower substrate and the planar upper substrate may each be an organic substrate, which may effectively perform photocuring of the curable composition due to excellent light transmission properties.

본 발명의 일 실시상태는, 상기 평판형 상부 기판 및 상기 평판형 하부 기판을 제거하여 플라스틱 필름을 수득할 수 있다. 상기 평판형 상부 기판 및 상기 평판형 하부 기판을 제거하는 것은, 상기 경화성 조성물의 경화가 완료된 이후, 상기 평판형 상부 기판과 상기 평판형 하부 기판을 상기 경화성 조성물의 경화물인 플라스틱 필름에서 분리하는 것을 의미할 수 있다. In an exemplary embodiment of the present invention, a plastic film may be obtained by removing the flat upper substrate and the flat lower substrate. Removing the flat upper substrate and the flat lower substrate means separating the flat upper substrate and the flat lower substrate from the plastic film, which is a cured product of the curable composition, after curing of the curable composition is completed can do.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 평판형 하부 기판 및 상기 평판형 상부 기판의 표면은 각각 이형제로 표면 처리된 것일 수 있다. 상기 이형제는 당업계에서 일반적으로 사용되는 것이라면 제한 없이 적용할 수 있다. 일 예로 상기 이형제로서 불소계 실란 커플링제를 이용하여, 상기 평판형 하부 기판 및 상기 평판형 상부 기판의 표면을 표면 코팅된 것일 수 있다. 이형제로 표면 처리되는 상기 평판형 하부 기판 및 상기 평판형 상부 기판의 표면은, 상기 경화성 조성물과 인접 및/또는 접촉하는 면을 의미할 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the surfaces of the flat lower substrate and the flat upper substrate may each be surface-treated with a release agent. The releasing agent can be applied without limitation as long as it is generally used in the art. For example, a fluorine-based silane coupling agent may be used as the release agent, and the surfaces of the flat lower substrate and the flat upper substrate may be surface coated. Surfaces of the flat lower substrate and the flat upper substrate surface-treated with a release agent may mean a surface adjacent to and/or in contact with the curable composition.

상기 이형제를 이용하여 상기 평판형 하부 기판 및 상기 평판형 상부 기판의 표면을 표면 처리하는 경우, 상기 플라스틱 필름을 수득하는 단계에서, 상기 플라스틱 필름의 표면에 손상을 최소화하며 상기 평판형 하부 기판 및 상기 평판형 상부 기판을 제거할 수 있다.When the surfaces of the flat lower substrate and the flat upper substrate are surface-treated using the release agent, in the step of obtaining the plastic film, damage to the surface of the plastic film is minimized, and the flat lower substrate and the The flat upper substrate can be removed.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 경화성 조성물은 플라스틱 필름을 제조하기 위한 것이라면 제한없이 적용할 수 있다. 구체적으로, 상기 경화성 조성물은 몰드 캐스팅을 이용하여 플라스틱 필름을 제조할 수 있는 것이라면 제한없이 적용될 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the curable composition may be applied without limitation as long as it is for manufacturing a plastic film. Specifically, the curable composition may be applied without limitation as long as it can produce a plastic film using mold casting.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 플라스틱 필름을 거치하는 단계는 상기 플라스틱 필름의 외면이 열처리 공정에 노출되도록, 상기 플라스틱 필름을 거치할 수 있다. 구체적으로, 상기 플라스틱 필름을 거치하는 단계는, 상기 플라스틱 필름의 일면 및 타면이 열처리되도록 상기 플라스틱 필름을 거치하는 것을 포함할 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, in the step of mounting the plastic film, the plastic film may be mounted so that the outer surface of the plastic film is exposed to a heat treatment process. Specifically, the step of mounting the plastic film may include mounting the plastic film so that one side and the other side of the plastic film are heat treated.

상기 플라스틱 필름을 거치하는 방법으로, 당업계에서 부재를 거치하는 일반적인 방법을 제한없이 채택하여 사용할 수 있다. 예를 들면, 상기 플라스틱 필름의 측면에 거치대를 부착하여, 상기 플라스틱 필름의 일면 및 타면이 열처리되도록 할 수 있다. 또한, 상기 플라스틱 필름의 측면에 점착성 테이프를 부착하고, 점착성 테이프를 거치대에 매달아, 상기 플라스틱 필름의 일면 및 타면이 열처리되도록 할 수 있다.As a method of mounting the plastic film, a general method of mounting a member in the art may be adopted and used without limitation. For example, by attaching a cradle to the side of the plastic film, one side and the other side of the plastic film may be heat treated. In addition, an adhesive tape may be attached to the side surface of the plastic film, and the adhesive tape may be hung on a cradle so that one side and the other side of the plastic film are heat treated.

도 2는 본 발명의 일 실시상태에 따른 플라스틱 필름을 거치하는 것을 개략적으로 나타낸 도면이다. 구체적으로, 도 2는 플라스틱 필름(400)의 측면(F3)에 점착성 테이프를 부착하고, 점착성 테이프를 거치대에 매달아 플라스틱 필름(400)의 일면(F1) 및 타면(F2)을 노출시키는 것을 나타낸 도면이다.2 is a schematic view showing mounting a plastic film according to an exemplary embodiment of the present invention. Specifically, FIG. 2 is a view showing that an adhesive tape is attached to the side (F3) of the plastic film 400, and the adhesive tape is hung on a cradle to expose one surface (F1) and the other surface (F2) of the plastic film 400 to be.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 플라스틱 필름의 일면 및 타면은 상기 플라스틱 필름의 표면 중에서 가장 큰 면적을 가지는 면을 의미할 수 있고, 상기 플라스틱 필름의 일면 및 타면은 서로 대향되는 것일 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, one surface and the other surface of the plastic film may mean a surface having the largest area among the surfaces of the plastic film, and one surface and the other surface of the plastic film may be opposed to each other.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 플라스틱 필름의 외면, 구체적으로 플라스틱 필름의 일면 및 타면이 열처리 공정에 노출되도록 거치시키고, 플라스틱 필름의 일면 및 타면을 열처리함으로써, 내열 치수 안정성이 우수한 플라스틱 기재를 제조할 수 있다. 구체적으로, 제조된 플라스틱 필름을 열처리함으로써, 열변형에 대한 내구성이 향상된 플라스틱 기재를 제조할 수 있다. 이를 통해, 상기 플라스틱 기재에 증착 공정 등을 수행함에 따라 플라스틱 기재가 고온 조건에 노출되는 경우에도, 상기 플라스틱 기재의 변형이 억제될 수 있다. 즉, 플라스틱 필름을 미리 열처리함으로써, 제조되는 플라스틱 기재가 고온 조건에 노출되는 경우에 변형이 발생되는 것을 억제할 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, by mounting the outer surface of the plastic film, specifically one side and the other side of the plastic film to be exposed to a heat treatment process, and heat treatment of one side and the other side of the plastic film, a plastic substrate having excellent heat resistance dimensional stability is obtained. Can be manufactured. Specifically, by heat-treating the manufactured plastic film, a plastic substrate having improved durability against heat deformation may be manufactured. Through this, even when the plastic substrate is exposed to high temperature conditions by performing a deposition process or the like on the plastic substrate, deformation of the plastic substrate can be suppressed. That is, by heat-treating the plastic film in advance, it is possible to suppress the occurrence of deformation when the plastic substrate to be produced is exposed to high temperature conditions.

플라스틱 필름의 타면을 유리판에 올려 놓고 열처리하는 경우, 플라스틱 필름의 일면 만이 주되게 열처리되어, 플라스틱 필름에 변형이 발생되고 열변형에 대한 내구성이 크게 향상되지 않는 문제가 발생될 수 있다.In the case of heat treatment by placing the other side of the plastic film on a glass plate, only one side of the plastic film is mainly heat treated, so that deformation occurs in the plastic film, and durability against heat deformation may not be greatly improved.

반면, 본 발명의 일 실시상태에 따르면, 플라스틱 필름의 일면 및 타면을 열처리함으로써, 플라스틱 필름 표면을 고르게 열처리할 수 있고, 플라스틱 필름이 열변형되는 것을 효과적으로 억제할 수 있다. 이를 통해, 내열 치수 안정성이 우수한 플라스틱 기재를 제조할 수 있다.On the other hand, according to an exemplary embodiment of the present invention, by heat-treating one side and the other side of the plastic film, the surface of the plastic film can be evenly heat-treated, and thermal deformation of the plastic film can be effectively suppressed. Through this, it is possible to manufacture a plastic substrate having excellent heat resistance dimensional stability.

또한, 플라스틱 필름의 일면 및 타면의 전면적이 노출되도록 플라스틱 필름을 거치함으로써, 상기 플라스틱 필름의 일면 및 타면을 고르게 열처리할 수 있고, 이를 통해 플라스틱 기재의 내열 치수 안정성을 보다 향상시킬 수 있다.In addition, by mounting the plastic film so that the entire area of one side and the other side of the plastic film is exposed, the one side and the other side of the plastic film can be evenly heat-treated, and the heat-resistant dimensional stability of the plastic substrate can be further improved.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 플라스틱 기재를 제조하는 단계는 90 ℃ 이상 110 ℃ 이하의 온도에서 60 분 이상 180 분 이하의 시간 동안 상기 플라스틱 필름을 열처리하는 것을 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 플라스틱 필름을 95 ℃ 이상 105 ℃ 이하, 98 ℃ 이상 103 ℃ 이하, 90 ℃ 이상 100 ℃ 이하, 또는 97 ℃ 이상 110 ℃ 이하의 온도에서 열처리할 수 있다. 또한, 상기 플라스틱 필름의 열처리 시간은 70 분 이상 150 분 이하, 90 분 이상 120 분 이하, 또는 80 분 이상 130 분 이하로 조절할 수 있다. 상기 플라스틱 필름의 열처리 온도 및 열처리 시간을 전술한 범위로 조절함으로써, 내열 치수 안정성이 우수한 플라스틱 기재를 제조할 수 있다. 구체적으로, 상기 열처리 온도 및 열처리 시간이 상기 범위 내인 경우, 제조되는 플라스틱 기재의 열변형에 대한 내구성을 향상시킬 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the manufacturing of the plastic substrate may include heat-treating the plastic film at a temperature of 90° C. or more and 110° C. or less for 60 minutes or more and 180 minutes or less. Specifically, the plastic film may be heat-treated at a temperature of 95°C to 105°C, 98°C to 103°C, 90°C to 100°C, or 97°C to 110°C. In addition, the heat treatment time of the plastic film may be adjusted to 70 minutes or more and 150 minutes or less, 90 minutes or more and 120 minutes or less, or 80 minutes or more and 130 minutes or less. By controlling the heat treatment temperature and heat treatment time of the plastic film in the above-described range, a plastic substrate having excellent heat resistance dimensional stability can be manufactured. Specifically, when the heat treatment temperature and heat treatment time are within the above ranges, durability against heat deformation of the manufactured plastic substrate may be improved.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 플라스틱 필름을 열처리하는 것은, 당업계에서 부재를 열처리하는 방법 및 장치를 제한없이 사용할 수 있다. 예를 들면, 상기 플라스틱 필름의 외면이 노출되도록 플라스틱 필름을 거치대에 거치한 후, 이를 오븐에 넣고 상기 플라스틱 필름을 열처리할 수 있다. 이 때, 플라스틱 필름의 외면이 오븐 열풍에 직접 노출되지 않도록 설정하고, 플라스틱 필름을 열처리할 수 있다. 예를 들면, 대류 오븐을 사용하여 상기 플라스틱 필름을 열처리하는 경우, 상기 대류 오븐의 열풍 주입구와 플라스틱 필름 사이, 및 흡입구와 플라스틱 필름 사이에 판재를 위치시켜, 상기 플라스틱 필름이 오븐 열풍에 직접 노출되는 것을 방지할 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the heat treatment of the plastic film can be used without limitation in a method and apparatus for heat treatment of a member in the art. For example, after mounting the plastic film on a cradle so that the outer surface of the plastic film is exposed, the plastic film may be heat-treated by placing it in an oven. In this case, the outer surface of the plastic film may be set so as not to be directly exposed to the oven hot air, and the plastic film may be heat treated. For example, when the plastic film is heat-treated using a convection oven, by placing a plate material between the hot air inlet of the convection oven and the plastic film, and between the inlet and the plastic film, the plastic film is directly exposed to the oven hot air. Can be prevented.

상기 플라스틱 필름의 외면이 오븐 열풍에 직접 노출되지 않도록 설정함으로써, 상기 플라스틱 필름의 열처리 과정에서 상기 플라스틱 필름이 흔들리는 것을 방지하여, 플라스틱 필름에 변형이 발생되는 것을 효과적으로 억제할 수 있다.By setting the outer surface of the plastic film not to be directly exposed to the oven hot air, it is possible to prevent the plastic film from shaking during the heat treatment process of the plastic film, thereby effectively suppressing the occurrence of deformation in the plastic film.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 플라스틱 기재는, 80 ℃의 온도 조건에서 2시간 방치 후의 휨 거리 변화량이 15 ㎛ 이하일 수 있다. 구체적으로, 상기 플라스틱 기재의 초기 휨 거리 대비, 상기 플라스틱 기재를 80 ℃의 온도 조건에서 2시간 방치 후의 휨 거리가 변화된 변화량은 15 ㎛ 이하, 13 ㎛ 이하, 10 ㎛ 이하, 또는 8 ㎛ 이하일 수 있다. 전술한 휨 거리 변화량을 만족하는 상기 플라스틱 기재는 내열 치수 안정성이 우수한 장점이 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the plastic substrate may have a deflection distance change amount of 15 μm or less after being left for 2 hours at a temperature of 80°C. Specifically, compared to the initial bending distance of the plastic substrate, the amount of change in which the bending distance is changed after leaving the plastic substrate at a temperature of 80° C. for 2 hours may be 15 μm or less, 13 μm or less, 10 μm or less, or 8 μm or less. . The plastic substrate satisfying the amount of change in the bending distance described above has an advantage of excellent heat resistance dimensional stability.

또한, 상기 플라스틱 기재의 휨 거리 변화량은, 상기 플라스틱 기재의 초기 휨 거리와 상기 플라스틱 기재를 80 ℃의 온도 조건에서 2시간 방치 후의 휨 거리의 차이의 절대값일 수 있다. 이 때, 플라스틱 기재의 휨 거리는 플라스틱 기재 형상에 가장 근접한 가상의 평면(최소제곱평면)을 설정하고, 상방을 따라 상기 가상의 평면으로부터 상기 플라스틱 기재의 상측 부분까지의 수직 길이 중 가장 긴 길이와, 하방을 따라 상기 가상의 평면으로부터 상기 플라스틱 기재의 하측 부분까지의 수직 길이 중 가장 긴 길이를 합한 것일 수 있다.In addition, the amount of change in the bending distance of the plastic substrate may be an absolute value of a difference between the initial bending distance of the plastic substrate and the bending distance after leaving the plastic substrate in a temperature condition of 80° C. for 2 hours. At this time, the bending distance of the plastic substrate is set to the virtual plane (minimum square plane) closest to the shape of the plastic substrate, and the longest length of the vertical length from the virtual plane to the upper portion of the plastic substrate along the upper side, It may be the sum of the longest lengths of the vertical lengths from the virtual plane to the lower portion of the plastic substrate along the bottom.

본 명세서에 있어서, 상기 플라스틱 기재의 휨 거리는 하기와 같은 방법으로 측정될 수 있다. 휨이 발생된 샘플을 준비하고, 25 ℃ 및 50 RH% 분위기에서, OWTM(Optical Wafer Thickness Microgauge; 파이버프로 社)를 이용하여, 샘플의 단면에 대하여, x축 방향과 y축 방향으로 1 mm의 간격으로 휨이 발생된 높이를 측정한다. 이후, 최소 자승법을 이용하여 계산된 높이를 통해 기준 높이를 설정하고, 부재의 상측 방향을 따라 기준 높이로부터 부재의 상측 부분까지의 수직 길이 중 가장 긴 길이인 제1 거리를 계산하고, 부재의 하측 방향을 따라 기준 높이로부터 부재의 하측 부분까지의 수직 길이 중 가장 긴 길이인 제2 거리를 계산하고, 제1 거리와 제2 거리를 합한 값을 휨 거리 값으로 할 수 있다. 이 때, 상기 부재의 상측 부분은 휨이 발생된 부재의 돌출되어 있는 부분을 의미할 수 있고, 상기 부재의 하측 부분은 부재의 모서리 부분을 의미할 수 있다.In the present specification, the bending distance of the plastic substrate may be measured by the following method. Prepare a sample with warpage, and in an atmosphere of 25° C. and 50 RH%, using OWTM (Optical Wafer Thickness Microgauge; Fiber Pro), with respect to the cross section of the sample, 1 mm in the x-axis and y-axis directions. Measure the height at which warpage occurs at intervals. Thereafter, the reference height is set through the height calculated using the least squares method, and the first distance, which is the longest vertical length from the reference height to the upper part of the member, is calculated along the upper direction of the member, and A second distance, which is the longest length of the vertical length from the reference height to the lower portion of the member along the direction, may be calculated, and a sum of the first distance and the second distance may be used as the bending distance value. In this case, the upper part of the member may refer to a protruding part of the member in which warping has occurred, and the lower part of the member may refer to a corner part of the member.

도 3은 본 발명의 일 실시상태에 따른 플라스틱 기재의 휨 거리를 측정하는 것을 개략적으로 나타낸 것이다. 구체적으로, 도 3은 최소 자승법을 이용하여 설정된 플라스틱 기재(500)의 기준 높이에 대하여, 플라스틱 기재(500)의 상측 방향을 따라 기준 높이로부터 플라스틱 기재의 상측 부분까지의 수직 길이 중 가장 긴 길이인 제1 거리와, 플라스틱 기재(500)의 하측 방향을 따라 기준 높이로부터 플라스틱 기재의 하측 부분까지의 수직 길이 중 가장 긴 길이인 제2 거리를 나타낸 것이다.3 schematically shows measuring the bending distance of a plastic substrate according to an exemplary embodiment of the present invention. Specifically, FIG. 3 is the longest length of the vertical length from the reference height to the upper portion of the plastic substrate along the upper direction of the plastic substrate 500 with respect to the reference height of the plastic substrate 500 set using the least squares method. It represents the first distance and the second distance, which is the longest length of the vertical length from the reference height to the lower portion of the plastic substrate along the lower direction of the plastic substrate 500.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 핫플레이트를 이용하여 상기 플라스틱 기재를 80 ℃의 온도 조건에서 2시간 방치할 수 있다. 구체적으로, 80 ℃의 온도로 설정된 핫플레이트에 상기 플라스틱 기재의 일면이 접하도록 위치시킨 후, 2 시간 동안 상기 플라스틱 기재를 방치할 수 있다. 상기 플라스틱 기재의 일면이 핫플레이트에 접하도록 하는 것은, 제조된 상기 플라스틱 기재의 일면 상에 증착 공정을 수행하는 것과 유사할 수 있다. 이를 통해, 증착 공정 등의 고온 공정에 대하여 상기 플라스틱 기재가 내열 치수 안정성이 우수한지 여부를 미리 확인할 수 있는 이점이 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the plastic substrate may be left for 2 hours under a temperature condition of 80°C using a hot plate. Specifically, after placing one side of the plastic substrate in contact with a hot plate set at a temperature of 80 °C, the plastic substrate may be left for 2 hours. Making one surface of the plastic substrate in contact with the hot plate may be similar to performing a deposition process on one surface of the manufactured plastic substrate. Through this, there is an advantage of being able to confirm in advance whether the plastic substrate has excellent heat resistance dimensional stability with respect to a high temperature process such as a deposition process.

본 발명의 일 실시상태에 따른 플라스틱 기재의 제조방법은 상기 플라스틱 기재를 5 ℃/min 이하의 냉각 속도로 냉각하는 단계를 더 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 플라스틱 필름을 가열하여 플라스틱 기재를 제조한 후, 상기 플라스틱 기재를 5 ℃/min 이하, 4 ℃/min 이하, 2.5 ℃/min 이하, 1 ℃/min 이하, 0.7 ℃/min 이하, 0.5 ℃/min 이하, 또는 0.2 ℃/min 이하의 냉각 속도로 냉각하여 최종적으로 플라스틱 기재를 제조할 수 있다. 상기 플라스틱 기재를 전술한 범위의 냉각 속도로 냉각함으로써, 플라스틱 기재의 내열 치수 안정성을 보다 일정하게 유지시킬 수 있다. 구체적으로, 전술한 범위의 냉각 속도로 상기 플라스틱 기재를 냉각하는 경우, 플라스틱 기재의 두께 및 면 방향으로의 수축 속도에 차이에 의한 응력 분균일의 발생 및 플라스틱 기재가 변형되는 것을 억제할 수 있다. 이를 통해 표면 평탄도가 우수한 플라스틱 기재를 용이하게 구현할 수 있다.The method of manufacturing a plastic substrate according to an exemplary embodiment of the present invention may further include cooling the plastic substrate at a cooling rate of 5° C./min or less. Specifically, after heating the plastic film to prepare a plastic substrate, the plastic substrate was 5°C/min or less, 4°C/min or less, 2.5°C/min or less, 1°C/min or less, 0.7°C/min or less, By cooling at a cooling rate of 0.5° C./min or less, or 0.2° C./min or less, a plastic substrate may be finally prepared. By cooling the plastic substrate at a cooling rate within the above-described range, the heat-resistant dimensional stability of the plastic substrate can be more uniformly maintained. Specifically, when the plastic substrate is cooled at a cooling rate within the above-described range, it is possible to suppress the occurrence of stress distribution and deformation of the plastic substrate due to a difference in the thickness of the plastic substrate and the shrinkage rate in the plane direction. Through this, it is possible to easily implement a plastic substrate having excellent surface flatness.

본 발명의 일 실시상태에 따른 플라스틱 기재의 제조방법은 상기 플라스틱 기재를 가공하는 단계를 더 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 플라스틱 기재가 사용되는 용도에 따라, 상기 플라스틱 기재의 형태를 상이하게 가공할 수 있다. 상기 플라스틱 기재를 가공하는 것은 당업계에서 부재를 가공하는 방법 및 장치를 제한없이 사용할 수 있다. 예를 들면, 제조된 플라스틱 기재를 엔드밀을 이용하여, 특정 형태로 가공할 수 있다.The method of manufacturing a plastic substrate according to an exemplary embodiment of the present invention may further include processing the plastic substrate. Specifically, depending on the use of the plastic substrate, the shape of the plastic substrate may be processed differently. Processing the plastic substrate can be used without limitation a method and apparatus for processing a member in the art. For example, the manufactured plastic substrate can be processed into a specific shape using an end mill.

본 발명의 일 실시상태는, 상기 플라스틱 기재의 제조방법에 의하여 제조된 플라스틱 기재를 제공한다.An exemplary embodiment of the present invention provides a plastic substrate manufactured by the method for manufacturing the plastic substrate.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 플라스틱 기재는 하기의 물성을 만족시킬 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the plastic substrate may satisfy the following physical properties.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 플라스틱 기재는 532 ㎚ 파장에서의 광굴절율은 1.6 이상일 수 있다. 구체적으로, 상기 플라스틱 기재는 532 ㎚ 파장에서의 광굴절율은 1.65 이상일 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the plastic substrate may have a photorefractive index of 1.6 or more at a wavelength of 532 nm. Specifically, the plastic substrate may have a photorefractive index of 1.65 or more at a wavelength of 532 nm.

일반적인 유리 기재의 경우, 광굴절율이 532 ㎚ 파장에서 1.6 이상이다. 본 발명의 일 실시상태에 따른 플라스틱 기재는 플라스틱 재질임에도 불구하고, 유리 기재와 동등한 수준의 광굴절율을 구현할 수 있으므로, 유리 기재를 대체할 수 있는 장점이 있다.In the case of a general glass substrate, the photorefractive index is 1.6 or more at a wavelength of 532 nm. Although the plastic substrate according to an exemplary embodiment of the present invention is made of a plastic material, since it can implement a light refractive index equivalent to that of the glass substrate, there is an advantage of being able to replace the glass substrate.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 플라스틱 기재의 유리전이온도는 40 ℃ 이상일 수 있다. 가상 현실 디바이스, 증강 현실 디바이스 또는 웨어러블 디바이스 등의 디스플레이 디바이스의 경우, 지속적인 영상의 전송 및 출력이 진행될 수 있으며, 이에 따라 렌즈 기재의 온도가 상승할 수 있다. 본 발명의 일 실시상태에 따른 플라스틱 기재는 유리전이온도가 40 ℃ 이상으로 구현할 수 있으므로, 디스플레이 디바이스의 렌즈 기재로 사용하더라도 온도에 따른 물성 변화를 최소화할 수 있는 장점이 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the glass transition temperature of the plastic substrate may be 40 °C or higher. In the case of a display device such as a virtual reality device, an augmented reality device, or a wearable device, continuous image transmission and output may be performed, and accordingly, the temperature of the lens substrate may increase. Since the plastic substrate according to the exemplary embodiment of the present invention can be implemented with a glass transition temperature of 40° C. or higher, even when used as a lens substrate of a display device, there is an advantage of minimizing changes in physical properties according to temperature.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 플라스틱 기재는 회절 도광 렌즈용 기재일 수 있다. 구체적으로, 상기 플라스틱 기재는 웨어러블 디바이스의 회절 도광 렌즈용 기재일 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the plastic substrate may be a substrate for a diffractive light guide lens. Specifically, the plastic substrate may be a substrate for a diffractive light guide lens of a wearable device.

본 발명의 일 실시상태는, 상기 플라스틱 기재를 포함하는 웨어러블 디바이스를 제공한다. 구체적으로, 상기 웨어러블 디바이스는 증강현실 디바이스 또는 가상현실 디바이스일 수 있다. 상기 플라스틱 기재는 상기 웨어러블 디바이스의 렌즈 기재로 포함될 수 있으며, 상기 플라스틱 기재는 일면 상에 회절 도광 패턴부를 포함하여 입력된 광정보의 입력, 이동 및 송출을 하는 기재로서 적용될 수 있다. An exemplary embodiment of the present invention provides a wearable device including the plastic substrate. Specifically, the wearable device may be an augmented reality device or a virtual reality device. The plastic substrate may be included as a lens substrate of the wearable device, and the plastic substrate may be applied as a substrate for inputting, moving, and transmitting optical information including a diffraction light guide pattern portion on one surface.

본 발명의 일 실시상태에 따른 플라스틱 기재는 높은 광굴절율을 가지므로, 웨어러블 디바이스의 렌즈 기재로 사용되는 경우, 광손실을 최소화하며 광정보의 이동을 도모할 수 있다. 나아가, 상기 플라스틱 기재는 높은 유리전이온도를 가지므로, 웨어러블 디바이스의 작동에 따른 열에 의하여 물성의 변화를 최소화하여 높은 내구성을 구현할 수 있다. Since the plastic substrate according to an exemplary embodiment of the present invention has a high optical refractive index, when used as a lens substrate of a wearable device, optical loss can be minimized and optical information can be moved. Furthermore, since the plastic substrate has a high glass transition temperature, it is possible to implement high durability by minimizing changes in physical properties due to heat caused by the operation of the wearable device.

이하, 본 발명을 구체적으로 설명하기 위해 실시예를 들어 상세하게 설명하기로 한다. 그러나, 본 발명에 따른 실시예들은 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 기술하는 실시예들에 한정되는 것으로 해석되지 않는다. 본 명세서의 실시예들은 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다.Hereinafter, examples will be described in detail to illustrate the present invention in detail. However, the embodiments according to the present invention may be modified in various other forms, and the scope of the present invention is not construed as being limited to the embodiments described below. The embodiments of the present specification are provided to more completely describe the present invention to those of ordinary skill in the art.

경화성 조성물의 제조Preparation of curable composition

비스(2,3-에피티오프로필)디설파이드(Bis(2,3-epithiopropyl)disulfide) 88.5 중량부, 2,2'-티오디에탄티올(2,2'-Thiodiethanethiol) 6.5 중량부, 이소포론 디이소시아네이트(Isophorone diisocyanate) 5.0 중량부 및 테트라부틸포스포늄 브로마이드(Tetrabutylphosphonium bromide) 0.07 중량부를 포함하는 경화성 조성물을 제조하였다. Bis(2,3-epithiopropyl) disulfide 88.5 parts by weight, 2,2'-thiodiethanethiol 6.5 parts by weight, isophorone di A curable composition comprising 5.0 parts by weight of isocyanate (Isophorone diisocyanate) and 0.07 parts by weight of tetrabutylphosphonium bromide was prepared.

제조된 경화성 조성물의 경화 수축력은, 전술한 경화 수축력의 측정방법으로 측정한 결과, 2.00 × 10-4 N/㎣ 였다. The curing shrinkage force of the prepared curable composition was 2.00 × 10 -4 N/mm 3, as measured by the method of measuring the curing shrinkage force described above.

플라스틱 필름의 제조Manufacture of plastic film

제조예Manufacturing example 1 One

하부 기판으로서 굴곡 탄성률 70 GPa, 표면 평탄도가 0.5 ㎛, 두께가 30 ㎜, 지름이 200 ㎜인 유리 기판을 이용하고, 압축 탄성 계수가 1.0 MPa, 높이가 427 ㎛, 단면적이 10 × 10 ㎟인 실리콘 재질의 완충형 스페이서를 상기 하부 기판의 원주에 접하도록 120° 간격으로 구비하여 몰딩 공간을 형성한 후, 상기 제조된 경화성 조성물을 몰딩 공간에 주입한 후, 상부 기판으로서 굴곡 탄성률 70 GPa, 하중이 8.2 N, 지름이 200 ㎜, 표면 평탄도가 0.5 ㎛인 유리 기판을 이용하여 상기 경화성 조성물을 몰딩 공간에 완충시켰다.As the lower substrate, a glass substrate with a flexural modulus of 70 GPa, a surface flatness of 0.5 µm, a thickness of 30 ㎜, and a diameter of 200 ㎜ was used. After forming a molding space by providing a silicone buffer spacer at intervals of 120° so as to contact the circumference of the lower substrate, the prepared curable composition is injected into the molding space, and then as an upper substrate, a flexural modulus of 70 GPa, a load The curable composition was buffered in the molding space using this 8.2 N, a glass substrate having a diameter of 200 mm and a surface flatness of 0.5 µm.

나아가, 상기 경화성 조성물을 제이오텍 사의 대류 오븐에 넣고, 90 ℃에서 5시간동안 열경화하여 플라스틱 필름을 제조하였다. 이후, 상기 플라스틱 필름을 엔드밀로 가공하여, 가로 80 mm, 세로 60 mm의 직사각형 형태로 재단하였다.Further, the curable composition was placed in a convection oven manufactured by Jeio Tech, and thermally cured at 90° C. for 5 hours to prepare a plastic film. Thereafter, the plastic film was processed with an end mill, and cut into a rectangular shape having a width of 80 mm and a length of 60 mm.

제조예Manufacturing example 2 2

스페이서의 높이를 1,007 ㎛로 조절한 것을 제외하고, 제조예 1과 동일한 방법으로 플라스틱 필름을 제조하였다. 이후, 상기 플라스틱 필름을 엔드밀로 가공하여, 가로 80 mm, 세로 60 mm의 직사각형 형태로 재단하였다.A plastic film was manufactured in the same manner as in Preparation Example 1, except that the height of the spacer was adjusted to 1,007 µm. Thereafter, the plastic film was processed with an end mill, and cut into a rectangular shape having a width of 80 mm and a length of 60 mm.

제조예 1 및 제조예 2에 따른 구체적인 사항 및 제조된 플라스틱 필름의 물성은 하기 표 1과 같다.Specific matters according to Preparation Example 1 and Preparation Example 2 and physical properties of the manufactured plastic film are shown in Table 1 below.

스페이서의 압축 탄성 계수
(MPa)
Spacer compressive modulus of elasticity
(MPa)
스페이서의 높이
(㎛)
Spacer height
(㎛)
스페이서의 압축 응력
(N)
Spacer compressive stress
(N)
경화성 조성물의 수축력
(N)
Shrinkage force of curable composition
(N)
상부 기판의 하중
(N)
Load on upper board
(N)
플라스틱 기재의 지름
(㎜)
Diameter of plastic substrate
(Mm)
플라스틱 기재의 두께
(㎛)
Plastic substrate thickness
(㎛)
두께 편차
(%)
Thickness deviation
(%)
외관Exterior
제조예 1Manufacturing Example 1 1.01.0 427427 9.629.62 1.461.46 8.28.2 150150 413±2413±2 0.40.4 양호Good 제조예 2Manufacturing Example 2 1.01.0 1,0071,007 11.5611.56 3.563.56 8.28.2 150150 961±4961±4 0.40.4 양호Good

제조예Manufacturing example 3 3

압축 탄성계수가 0.16 MPa인 자외선 가교 폴리올레핀계 탄성층 및 압축 탄성계수가 70 GPa인 유리 재질의 비탄성층을 이용하여, 스페이서의 구조를 탄성층(171 ㎛)/비탄성층(829 ㎛) 의 구조로 변경한 것을 제외하고는 제조예 1과 동일한 방법으로 플라스틱 필름을 제조하였다. 이후, 상기 플라스틱 필름을 엔드밀로 가공하여, 가로 80 mm, 세로 60 mm의 직사각형 형태로 재단하였다.Using an ultraviolet crosslinked polyolefin-based elastic layer with a compressive modulus of 0.16 MPa and an inelastic layer made of glass with a compressive modulus of 70 GPa, the structure of the spacer is made of an elastic layer (171 µm)/non-elastic layer (829 µm). A plastic film was manufactured in the same manner as in Preparation Example 1 except for the change. Thereafter, the plastic film was processed with an end mill, and cut into a rectangular shape having a width of 80 mm and a length of 60 mm.

제조예Manufacturing example 4 4

압축 탄성계수가 0.16 MPa인 자외선 가교 폴리올레핀계 탄성층 및 압축 탄성계수가 70 GPa인 유리 재질의 비탄성층을 이용하여, 스페이서의 구조를 비탄성층(198 ㎛)/탄성층(164 ㎛)/비탄성층(198 ㎛)의 구조로 변경한 것을 제외하고는 제조예 1과 동일한 방법으로 플라스틱 필름을 제조하였다. 이후, 상기 플라스틱 필름을 엔드밀로 가공하여, 가로 80 mm, 세로 60 mm의 직사각형 형태로 재단하였다.Using an ultraviolet crosslinked polyolefin-based elastic layer with a compressive modulus of 0.16 MPa and an inelastic layer made of glass with a compressive modulus of 70 GPa, the structure of the spacer is inelastic layer (198 µm)/elastic layer (164 µm)/non-elastic layer A plastic film was manufactured in the same manner as in Preparation Example 1, except that the structure was changed to (198 μm). Thereafter, the plastic film was processed with an end mill, and cut into a rectangular shape having a width of 80 mm and a length of 60 mm.

제조예Manufacturing example 5 5

압축 탄성계수가 1.0 MPa인 실리콘 재질의 탄성층 및 압축 탄성계수가 70 GPa인 유리 재질의 비탄성층을 이용하여, 스페이서의 구조를 탄성층(542 ㎛)/비탄성층(500 ㎛) 의 구조로 변경한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 플라스틱 필름을 제조하였다. 이후, 상기 플라스틱 필름을 엔드밀로 가공하여, 가로 80 mm, 세로 60 mm의 직사각형 형태로 재단하였다.Using an elastic layer made of silicon with a compressive modulus of 1.0 MPa and an inelastic layer made of glass with a compressive modulus of 70 GPa, the structure of the spacer is changed to an elastic layer (542 µm)/non-elastic layer (500 µm). A plastic film was manufactured in the same manner as in Example 1, except for one. Thereafter, the plastic film was processed with an end mill, and cut into a rectangular shape having a width of 80 mm and a length of 60 mm.

제조예 3 내지 제조예 5에 따른 구체적인 사항 및 제조된 플라스틱 필름의 물성은 하기 표 2와 같다. Specific matters according to Preparation Examples 3 to 5 and the physical properties of the manufactured plastic film are shown in Table 2 below.

스페이서의 압축 탄성계수
(MPa)
Spacer compression modulus
(MPa)
스페이서의
높이
(㎛)
Spacer
Height
(㎛)
스페이서의 압축 응력
(N)
Spacer compressive stress
(N)
경화성 조성물의 수축력
(N)
Shrinkage force of curable composition
(N)
상부 기판의 하중
(N)
Load on upper board
(N)
플라스틱 기재의 지름
(㎜)
Diameter of plastic substrate
(Mm)
플라스틱 기재의 두께
(㎛)
Plastic substrate thickness
(㎛)
두께 편차
(%)
Thickness deviation
(%)
외관Exterior
탄성층Elastic layer 비탄성층Inelastic layer 탄성층Elastic layer 비탄성층Inelastic layer 제조예 3Manufacturing Example 3 0.160.16 70,00070,000 171171 829829 11.5611.56 3.43.4 8.28.2 150150 959±2959±2 0.20.2 양호Good 제조예 4Manufacturing Example 4 0.160.16 70,00070,000 164164 198/198198/198 10.0210.02 1.861.86 8.28.2 150150 526±3526±3 0.30.3 양호Good 제조예 5Manufacturing Example 5 1.01.0 70,00070,000 542542 500500 11.4011.40 3.243.24 8.28.2 150150 913±2913±2 0.20.2 양호Good

비교 compare 제조예Manufacturing example 1 One

압축 탄성계수가 4 GPa이고 높이 502 ㎛인 폴리카보네이트계 스페이서를 이용한 것을 제외하고는 제조예 1과 동일한 방법으로 플라스틱 필름을 제조하였다. 이후, 상기 플라스틱 필름을 엔드밀로 가공하여, 가로 80 mm, 세로 60 mm의 직사각형 형태로 재단하였다.A plastic film was manufactured in the same manner as in Preparation Example 1, except that a polycarbonate-based spacer having a compressive modulus of 4 GPa and a height of 502 μm was used. Thereafter, the plastic film was processed with an end mill, and cut into a rectangular shape having a width of 80 mm and a length of 60 mm.

비교 compare 제조예Manufacturing example 2 2

압축 탄성계수가 4 GPa인 폴리카보네이트계 탄성층 및 압축 탄성계수가 70 GPa인 유리 재질의 비탄성층을 이용하여, 스페이서의 구조를 탄성층(502 ㎛)/비탄성층(492 ㎛) 의 구조로 변경한 것을 제외하고는 제조예 1과 동일한 방법으로 플라스틱 필름을 제조하였다. 이후, 상기 플라스틱 필름을 엔드밀로 가공하여, 가로 80 mm, 세로 60 mm의 직사각형 형태로 재단하였다.Using a polycarbonate-based elastic layer with a compressive modulus of 4 GPa and an inelastic layer made of glass with a compressive modulus of 70 GPa, the structure of the spacer is changed to an elastic layer (502 µm)/non-elastic layer (492 µm). Except for one, a plastic film was manufactured in the same manner as in Preparation Example 1. Thereafter, the plastic film was processed with an end mill, and cut into a rectangular shape having a width of 80 mm and a length of 60 mm.

비교 제조예 1 및 비교 제조예 2에 따른 구체적인 사항 및 제조된 플라스틱 필름의 물성은 하기 표 3과 같다.Specific matters according to Comparative Preparation Example 1 and Comparative Preparation Example 2 and physical properties of the manufactured plastic film are shown in Table 3 below.

스페이서의 압축 탄성계수
(MPa)
Spacer compression modulus
(MPa)
스페이서의 높이
(㎛)
Spacer height
(㎛)
스페이서의 압축 응력
(N)
Spacer compressive stress
(N)
경화성 조성물의 수축력
(N)
Shrinkage force of curable composition
(N)
상부 기판의 하중
(N)
Load on upper board
(N)
플라스틱 기재의 지름
(㎜)
Diameter of plastic substrate
(Mm)
플라스틱 기재의 두께
(㎛)
Plastic substrate thickness
(㎛)
두께 편차
(%)
Thickness deviation
(%)
외관Exterior
탄성층Elastic layer 비탄성층Inelastic layer 탄성층Elastic layer 비탄성층Inelastic layer 비교 제조예 1Comparative Preparation Example 1 4,0004,000 -- 502502 -- 검출 한계 미만Below detection limit 1.761.76 8.28.2 150150 478478 8.48.4 불량Bad 비교 제조예 2Comparative Preparation Example 2 4,0004,000 70,00070,000 502502 492492 검출 한계 미만Below detection limit 3.523.52 8.28.2 150150 949949 6.36.3 불량Bad

상기 표 1 내지 표 3의 플라스틱 필름의 외관에 대한 평가는 육안으로 플라스틱 필름의 맥리 현상이 있는지 여부로 판단하였다. 육안으로 맥리 현상이 발견되지 않는 경우 양호, 육안으로 맥리 현상이 발견되는 경우 불량으로 평가하였다. Evaluation of the appearance of the plastic films in Tables 1 to 3 was determined by visually determining whether there was streaking of the plastic film. If no stria was found visually, it was evaluated as good, and if streaking was found visually, it was evaluated as poor.

나아가, 상기 표 1 내지 표 3의 스페이서의 압축 탄성계수, 스페이서의 압축 응력, 경화성 조성물의 수축, 및 두께 편차 등은 전술한 바와 같이 측정하였다. 참고로, 비교 제조예 1 및 비교 제조예 2의 스페이서는 압축 응력을 측정할 수 없는 수준, 즉 실질적으로 압축이 되지 않는 수준이었다.Further, the compressive modulus of elasticity of the spacers in Tables 1 to 3, compressive stress of the spacer, shrinkage of the curable composition, and thickness deviation were measured as described above. For reference, the spacers of Comparative Preparation Example 1 and Comparative Preparation Example 2 were at a level at which compressive stress could not be measured, that is, at a level that was not substantially compressed.

상기 표 1 내지 표 3에 따르면, 본 발명의 일 실시상태에 따른 제조예에 통해 제조된 플라스틱 필름은 매우 낮은 두께 편차를 나타내므로, 높은 두께 균일도를 가지는 것을 알 수 있다. 반면, 비교 제조예 1 및 비교 제조예 2의 경우, 스페이서의 압축 탄성계수가 지나치게 높아, 제조예와 같이, 경화성 조성물의 경화에 따른 수축시 상부 기판과의 밀착력을 유지하지 못하여, 매우 불량한 두께 편차를 나타내므로, 낮은 두께 균일도를 가지는 것을 확인할 수 있다. 나아가, 비교 제조예에서 제조된 플라스틱 필름은 경화 시 상부 기판과의 이격에 의하여 표면에 맥리 현상이 나타나 외관 특성도 불량한 것을 확인할 수 있다.According to Tables 1 to 3, it can be seen that the plastic film manufactured according to the manufacturing example according to the exemplary embodiment of the present invention exhibits very low thickness variation, and thus has a high thickness uniformity. On the other hand, in the case of Comparative Preparation Example 1 and Comparative Preparation Example 2, the compressive modulus of the spacer was too high, and as in Preparation Example, it was not possible to maintain adhesion with the upper substrate when the curable composition was cured due to curing, and thus, very poor thickness deviation. Since it represents, it can be confirmed that it has a low thickness uniformity. Further, it can be seen that the plastic film prepared in Comparative Preparation Example exhibits streaking on the surface due to the separation from the upper substrate during curing, and the appearance characteristics are also poor.

따라서, 본 발명의 일 실시상태에 따르면, 두께 균일도 및 표면 평탄도가 우수한 플라스틱 필름을 제조할 수 있고, 이를 이용하여 두께 균일도 및 표면 평탄도가 우수한 플라스틱 기재를 제공할 수 있다.Accordingly, according to an exemplary embodiment of the present invention, a plastic film having excellent thickness uniformity and surface flatness can be manufactured, and a plastic substrate having excellent thickness uniformity and surface flatness can be provided by using this.

플라스틱 기재의 제조Manufacture of plastic substrates

실시예Example 1 One

상기 제조예 1에서 제조된 플라스틱 필름을 준비하였다. 이후, 도 2와 같이 플라스틱 필름의 일 측면에 점착 테이프를 부착하고, 점착 테이프를 거치대의 집게에 매달았다. 이후, 플라스틱 필름과 거치대를 오븐(OF-21E, 제이오텍 社)에 넣고, 100 ℃의 온도에 2 시간 동안 열처리하였다. 이 때, 오븐 열풍의 열풍 주입구와 플라스틱 필름 사이, 및 흡입구와 플라스틱 필름 사이에 두께 250 ㎛인 PET 필름을 위치시켜, 플라스틱 필름이 직접 노출되지 않도록 하였다.The plastic film prepared in Preparation Example 1 was prepared. Thereafter, as shown in FIG. 2, an adhesive tape was attached to one side of the plastic film, and the adhesive tape was hung on the clamps of the holder. Thereafter, the plastic film and the holder were placed in an oven (OF-21E, Jeio Tech), and heat-treated at a temperature of 100° C. for 2 hours. At this time, a PET film having a thickness of 250 μm was placed between the hot air inlet of the oven hot air and the plastic film, and between the suction port and the plastic film, so that the plastic film was not directly exposed.

이후, 오븐의 가동을 정지한 후, 오븐 내에 플라스틱 필름을 4 시간 동안 방치한 후, 플라스틱 필름을 꺼내어 최종적으로 플라스틱 기재를 제조하였다. 이 때, 플라스틱 필름의 냉각 속도는 약 0.2 ℃/min이었다.Thereafter, after stopping the operation of the oven, after leaving the plastic film in the oven for 4 hours, the plastic film was taken out to finally prepare a plastic substrate. At this time, the cooling rate of the plastic film was about 0.2°C/min.

실시예Example 2 2

오븐의 가동을 정지한 후에 바로 플라스틱 필름을 오븐에서 꺼내고, 플라스틱 필름의 냉각 속도를 약 5 ℃/min로 조절한 것을 제외하고, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 플라스틱 기재를 제조하였다.A plastic substrate was prepared in the same manner as in Example 1, except that the plastic film was immediately taken out of the oven after stopping the operation of the oven, and the cooling rate of the plastic film was adjusted to about 5°C/min.

비교예Comparative example 1 One

상기 제조예 1에서 제조된 플라스틱 필름을 준비하고, 열처리 공정을 수행하지 않았다.The plastic film prepared in Preparation Example 1 was prepared, and the heat treatment process was not performed.

비교예Comparative example 2 2

제조예 1에서 제조된 플라스틱 필름의 일면이 유리판에 접하도록 플라스틱 필름을 유리판에 놓고, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 플라스틱 필름을 열처리하였다. 오븐의 가동을 정지한 후, 오븐 내에 플라스틱 필름을 4 시간 동안 방치한 후, 플라스틱 필름을 꺼내어 최종적으로 플라스틱 기재를 제조하였다. 이 때, 플라스틱 필름의 냉각 속도는 약 0.2 ℃/min이었다.The plastic film was placed on the glass plate so that one side of the plastic film prepared in Preparation Example 1 was in contact with the glass plate, and the plastic film was heat-treated in the same manner as in Example 1. After stopping the operation of the oven, after leaving the plastic film in the oven for 4 hours, the plastic film was taken out to finally prepare a plastic substrate. At this time, the cooling rate of the plastic film was about 0.2°C/min.

실시예 1 내지 실시예 2, 및 비교예 1 내지 비교예 2에서의 플라스틱 기재의 휨 거리를 전술한 방법으로 측정하여 하기 표 1에 나타내었다.The bending distances of the plastic substrates in Examples 1 to 2 and Comparative Examples 1 to 2 were measured by the method described above, and are shown in Table 1 below.

플라스틱 기재의 내열성 평가Evaluation of heat resistance of plastic substrates

실시예 1 내지 실시예 2, 및 비교예 1 내지 비교예 2에서의 플라스틱 기재를 준비하고, 하기와 같이 내열성 평가를 진행하였다.The plastic substrates in Examples 1 to 2 and Comparative Examples 1 to 2 were prepared, and heat resistance evaluation was conducted as follows.

80 ℃로 설정된 핫플레이트(RCT basic IKAMAG, Ika 社) 상에 플라스틱 기재의 일면이 접하도록 올려놓고, 2 시간 동안 방치하였다. 이후, 내열성 평가 전(핫플레이트에 올려 놓기 전)의 플라스틱 기재의 휨 거리 대비, 내열성 평가 이후의 플라스틱 기재의 휨 거리의 변화량을 전술한 측정방법으로 측정하여, 하기 표 4에 나타내었다.It was placed on a hot plate set at 80° C. (RCT basic IKAMAG, Ika Corporation) so that one side of the plastic substrate was in contact, and allowed to stand for 2 hours. Thereafter, the amount of change in the bending distance of the plastic substrate after heat resistance evaluation compared to the bending distance of the plastic substrate before heat resistance evaluation (before placing it on the hot plate) was measured by the above-described measuring method, and is shown in Table 4 below.

초기 휨 거리(㎛)Initial bending distance (㎛) 내열성 평가 후
휨 거리 변화량(㎛)
After heat resistance evaluation
Bending distance change amount (㎛)
실시예 1Example 1 32.332.3 0.60.6 실시예 2Example 2 41.141.1 12.412.4 비교예 1Comparative Example 1 44.144.1 21.721.7 비교예 2Comparative Example 2 124.0124.0 17.317.3

상기 표 4를 참고하면, 플라스틱 필름의 일면 및 타면이 노출되도록 거치한 후, 90 ℃ 이상 110 ℃ 이하의 온도에서 60 분 이상 180 분 이하의 시간동안 열처리를 수행한 실시예 1 및 실시예 2의 플라스틱 기재는 내열성 평가 후의 휨 거리 변화량이 15 ㎛ 이하인 것을 확인하였다. 즉, 본원 발명에 따른 방법으로 제조된 플라스틱 기재는 내열 치수 안정성 및 표면 평탄도가 우수한 것을 알 수 있다.Referring to Table 4, after mounting so that one side and the other side of the plastic film are exposed, heat treatment is performed at a temperature of 90° C. or more and 110° C. for 60 minutes or more and 180 minutes or less. The plastic substrate confirmed that the amount of change in the bending distance after heat resistance evaluation was 15 µm or less. That is, it can be seen that the plastic substrate produced by the method according to the present invention has excellent heat resistance dimensional stability and surface flatness.

또한, 실시예 1 및 실시예 2를 참고하면, 열처리 후의 플라스틱 기재를 냉각하는 속도를 느리게 함으로써, 내열성 평가 후의 휨 거리 변화량을 감소시킬 수 있음을 확인하였으며, 이를 통해 플라스틱 기재의 내열 치수 안정성을 향상시킬 수 있으며, 플라스틱 기재가 변형되는 것을 효과적으로 억제할 수 있음을 알 수 있다.In addition, referring to Examples 1 and 2, it was confirmed that the amount of change in the bending distance after heat resistance evaluation can be reduced by slowing the cooling rate of the plastic substrate after heat treatment, thereby improving the heat resistance dimensional stability of the plastic substrate. It can be seen that the plastic substrate can be effectively suppressed from being deformed.

반면, 열처리 공정을 수행하지 않은 비교예 1의 플라스틱 기재는 내열성 평가 후의 휨 거리 변화량이 15 ㎛를 초과하였으며, 플라스틱 필름의 일면이 유리판에 접하도록 플라스틱 필름을 유리판에 놓고 열처리한 비교예 2의 경우에는 초기 휨 거리가 매우 컸으며, 내열 평가 후의 휨 거리 변화량도 15 ㎛를 초과하는 것을 확인하였다.On the other hand, in the case of Comparative Example 2, in which the plastic substrate of Comparative Example 1 without performing the heat treatment process, the amount of change in the bending distance after heat resistance evaluation exceeded 15 µm, and the plastic film was placed on the glass plate and heat treated so that one side of the plastic film was in contact with the glass plate It was confirmed that the initial bending distance was very large, and the amount of change in bending distance after heat resistance evaluation also exceeded 15 μm.

따라서, 본 발명의 일 실시상태에 따른 플라스틱 기재의 제조 방법은 표면 평탄도, 두께 균일도 및 내열 치수 안정성이 우수한 플라스틱 기재를 제조할 수 있다.Accordingly, the method of manufacturing a plastic substrate according to an exemplary embodiment of the present invention can manufacture a plastic substrate having excellent surface flatness, thickness uniformity, and heat resistance dimensional stability.

101: 평판형 하부 기판
102: 평판형 상부 기판
201, 202: 완충형 스페이서
300: 경화성 조성물
400: 플라스틱 필름
500: 플라스틱 기재
101: flat bottom substrate
102: flat upper substrate
201, 202: buffer spacer
300: curable composition
400: plastic film
500: plastic substrate

Claims (14)

플라스틱 필름을 제조하는 단계;
상기 플라스틱 필름의 외면이 노출되도록, 상기 플라스틱 필름을 거치하는 단계;
상기 플라스틱 필름을 열처리하여, 플라스틱 기재를 제조하는 단계;를 포함하고,
상기 플라스틱 기재는, 80 ℃의 온도 조건에서 2시간 방치 후의 휨 거리 변화량이 15 ㎛ 이하인 플라스틱 기재의 제조방법.
Manufacturing a plastic film;
Mounting the plastic film so that the outer surface of the plastic film is exposed;
Heat treatment of the plastic film to prepare a plastic substrate; Including,
The plastic substrate is a method of manufacturing a plastic substrate having a change in bending distance of 15 μm or less after being left for 2 hours at a temperature of 80°C.
청구항 1에 있어서,
90 ℃ 이상 110 ℃ 이하의 온도에서 60 분 이상 180 분 이하의 시간 동안 상기 플라스틱 필름을 열처리하는 플라스틱 기재의 제조방법.
The method according to claim 1,
A method for producing a plastic substrate by heat-treating the plastic film at a temperature of 90° C. or more and 110° C. or less for 60 minutes or more and 180 minutes or less.
청구항 1에 있어서,
상기 플라스틱 필름을 거치하는 단계는, 상기 플라스틱 필름의 일면 및 타면이 열처리되도록 상기 플라스틱 필름을 거치하는 것을 포함하는 플라스틱 기재의 제조방법.
The method according to claim 1,
The step of mounting the plastic film includes mounting the plastic film to heat-treat one side and the other side of the plastic film.
청구항 1에 있어서,
상기 플라스틱 기재를 5 ℃/min 이하의 냉각 속도로 냉각하는 단계를 더 포함하는 플라스틱 기재의 제조방법.
The method according to claim 1,
A method of manufacturing a plastic substrate further comprising cooling the plastic substrate at a cooling rate of 5° C./min or less.
청구항 1에 있어서,
상기 플라스틱 필름을 제조하는 단계는,
평판형 하부 기판, 평판형 상부 기판, 및 상기 평판형 하부 기판과 상기 평판형 상부 기판 사이에 완충형 스페이서를 포함하고, 상기 완충형 스페이서에 의하여 몰딩 공간이 구획되는 몰드 장비를 준비하는 단계;
상기 몰딩 공간에 경화성 조성물을 완충하는 단계;
상기 평판형 상부 기판의 하중으로 상기 경화성 조성물을 압축하며, 상기 경화성 조성물을 경화하는 단계; 및
상기 평판형 상부 기판 및 상기 평판형 하부 기판을 제거하여 플라스틱 필름을 수득하는 단계;를 포함하고,
상기 경화성 조성물을 경화하는 단계는 하기 식 1을 만족하는 플라스틱 기재의 제조방법:
[식 1]
{(평판형 상부 기판의 하중 + 경화성 조성물의 경화 수축력) × 0.95} ≤ 완충형 스페이서의 압축 응력 ≤ {(평판형 상부 기판의 하중 + 경화성 조성물의 경화 수축력) × 1.05}.
The method according to claim 1,
The step of preparing the plastic film,
Preparing a mold equipment including a flat lower substrate, a flat upper substrate, and a buffer spacer between the flat lower substrate and the flat upper substrate, wherein a molding space is partitioned by the buffer spacer;
Buffering the curable composition in the molding space;
Compressing the curable composition under the load of the flat upper substrate, and curing the curable composition; And
Removing the flat upper substrate and the flat lower substrate to obtain a plastic film; Including,
The step of curing the curable composition is a method for producing a plastic substrate satisfying the following Equation 1:
[Equation 1]
{(Load of flat upper substrate + curing shrinkage force of curable composition) × 0.95} ≤ Compressive stress of buffer spacer ≤ {(load of flat upper substrate + curing shrinkage force of curable composition) × 1.05}.
청구항 5에 있어서,
상기 평판형 하부 기판 및 상기 평판형 상부 기판의 굴곡 탄성율은 각각 3 GPa 이상인 플라스틱 기재의 제조방법.
The method of claim 5,
The method of manufacturing a plastic substrate having a flexural modulus of 3 GPa or more, respectively, of the flat lower substrate and the flat upper substrate.
청구항 5에 있어서,
상기 평판형 하부 기판 및 상기 평판형 상부 기판의 표면 평탄도는 각각 5 ㎛ 이하인 플라스틱 기재의 제조방법.
The method of claim 5,
The method of manufacturing a plastic substrate having a surface flatness of 5 μm or less, respectively, of the flat lower substrate and the flat upper substrate.
청구항 5에 있어서,
상기 완충형 스페이서의 압축 탄성 계수는 0.1 MPa 이상 10 MPa 이하인 플라스틱 기재의 제조방법.
The method of claim 5,
The method of manufacturing a plastic substrate having a compressive modulus of elasticity of 0.1 MPa or more and 10 MPa or less of the buffer spacer.
청구항 5에 있어서,
상기 완충형 스페이서는 비탄성층과 탄성층이 적층된 구조, 비탄성층 사이에 탄성층이 구비된 구조, 또는 탄성층 사이에 비탄성층이 구비된 구조인 플라스틱 기재의 제조방법.
The method of claim 5,
The buffer spacer is a method of manufacturing a plastic substrate having a structure in which an inelastic layer and an elastic layer are stacked, an elastic layer is provided between the inelastic layers, or an inelastic layer is provided between the elastic layers.
청구항 5에 있어서,
상기 경화성 조성물의 경화 수축률은 15 % 이하인 것인 플라스틱 기재의 제조방법.
The method of claim 5,
The method for producing a plastic substrate, wherein the curable shrinkage of the curable composition is 15% or less.
청구항 1에 있어서,
상기 플라스틱 필름의 두께는 400 ㎛ 이상 2,000 ㎛ 이하이고, 상기 플라스틱 필름의 두께 편차는 1 % 이내인 것인 플라스틱 기재의 제조방법.
The method according to claim 1,
The plastic film has a thickness of 400 μm or more and 2,000 μm or less, and a thickness deviation of the plastic film is within 1%.
청구항 1에 따른 플라스틱 기재의 제조방법에 의하여 제조된 플라스틱 기재.
A plastic substrate manufactured by the method for manufacturing a plastic substrate according to claim 1.
청구항 12에 있어서,
상기 플라스틱 기재는 352 nm 파장에서의 광굴절율이 1.6 이상인 플라스틱 기재.
The method of claim 12,
The plastic substrate is a plastic substrate having a light refractive index of 1.6 or more at a wavelength of 352 nm.
청구항 12에 있어서,
상기 플라스틱 기재는 회절 도광 렌즈용 기재인 플라스틱 기재.
The method of claim 12,
The plastic substrate is a plastic substrate for a diffractive light guide lens.
KR1020180105238A 2018-09-04 2018-09-04 Method for manufacturing plastic substrate and plastic substrate manufactured by the same Active KR102181942B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020180105238A KR102181942B1 (en) 2018-09-04 2018-09-04 Method for manufacturing plastic substrate and plastic substrate manufactured by the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020180105238A KR102181942B1 (en) 2018-09-04 2018-09-04 Method for manufacturing plastic substrate and plastic substrate manufactured by the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20200027213A KR20200027213A (en) 2020-03-12
KR102181942B1 true KR102181942B1 (en) 2020-11-23

Family

ID=69803049

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020180105238A Active KR102181942B1 (en) 2018-09-04 2018-09-04 Method for manufacturing plastic substrate and plastic substrate manufactured by the same

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102181942B1 (en)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004235261A (en) 2003-01-28 2004-08-19 Matsushita Electric Works Ltd Optical system device and its manufacturing method
JP2016107522A (en) 2014-12-08 2016-06-20 日本合成化学工業株式会社 Method for producing plastic sheet, plastic sheet obtained thereby, and plastic substrate for display
KR101712071B1 (en) 2015-01-19 2017-03-03 주식회사 케이오씨솔루션 Photochromic optical lens having photochromic layer and method of making it

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101671430B1 (en) 2013-11-25 2016-11-01 주식회사 엘지화학 Plastic film and method for preparing the same

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004235261A (en) 2003-01-28 2004-08-19 Matsushita Electric Works Ltd Optical system device and its manufacturing method
JP2016107522A (en) 2014-12-08 2016-06-20 日本合成化学工業株式会社 Method for producing plastic sheet, plastic sheet obtained thereby, and plastic substrate for display
KR101712071B1 (en) 2015-01-19 2017-03-03 주식회사 케이오씨솔루션 Photochromic optical lens having photochromic layer and method of making it

Also Published As

Publication number Publication date
KR20200027213A (en) 2020-03-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102236737B1 (en) Method for manufacturing plastic substrate and plastic substrate manufactured by the same
JPWO2012115059A1 (en) Fine structure molded body and liquid crystal display device provided with the fine structure molded body
KR20140146898A (en) Polarizer plate and display device having the same
US20240402432A1 (en) Diffraction light guide plate and manufacturing method thereof
KR102181942B1 (en) Method for manufacturing plastic substrate and plastic substrate manufactured by the same
US9366782B2 (en) Method for manufacturing a component
KR102760210B1 (en) Diffraction light guide plate and manufacturing method thereof the same
US20160304682A1 (en) Transparent composite film having a low coefficient of thermal expansion
KR102456679B1 (en) Diffraction light guide plate and manufacturing method thereof the same
JP2008268618A (en) Manufacturing method and annealing method of plastic lens
KR102781374B1 (en) Plastic substrate, method of preparing the same, diffraction light guide plate and wearable device comprising the same
KR20200124997A (en) Method for manufacturing plastic substrate
WO2020218784A1 (en) Diffraction light guide plate and method for manufacturing same
US20220315707A1 (en) Diffraction light guide plate and manufacturing method thereof
KR20210088249A (en) Method for manufacturing plastic substrate
TW201940440A (en) Glass-made molding die by which a glass-made molding die having excellent molding performance is obtained
TW202501053A (en) Resin substrate, light guide plate, optical component for glasses and wearable device
WO2024248093A1 (en) Resin substrate, light guide plate, optical member for eyewear, and wearable device
KR20220033401A (en) Manufacturing method of Window cover for display device
US20210094865A1 (en) Methods of forming glass-polymer stacks for holographic optical structure
CN118809907A (en) A processing method for hot-stamping resin wafer-level lens
KR20200039276A (en) Method for manufacturing plastic substrate for light guide panel
JP2004341442A (en) Transferring method of micropattern and manufacturing method of optical component
KR20200106729A (en) Internal Mold Release Agent For Optical Lens and Epoxy Acryl Based Optical Lens comprising it
WO2013187515A1 (en) Lens sheet, method for producing same, and stereoscopic image display device having lens sheet

Legal Events

Date Code Title Description
PA0109 Patent application

Patent event code: PA01091R01D

Comment text: Patent Application

Patent event date: 20180904

A201 Request for examination
PA0201 Request for examination

Patent event code: PA02012R01D

Patent event date: 20191210

Comment text: Request for Examination of Application

Patent event code: PA02011R01I

Patent event date: 20180904

Comment text: Patent Application

PG1501 Laying open of application
E701 Decision to grant or registration of patent right
PE0701 Decision of registration

Patent event code: PE07011S01D

Comment text: Decision to Grant Registration

Patent event date: 20201116

GRNT Written decision to grant
PR0701 Registration of establishment

Comment text: Registration of Establishment

Patent event date: 20201117

Patent event code: PR07011E01D

PR1002 Payment of registration fee

Payment date: 20201118

End annual number: 3

Start annual number: 1

PG1601 Publication of registration