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KR102136275B1 - 유기 발광 소자 및 이의 제조 방법 - Google Patents

유기 발광 소자 및 이의 제조 방법 Download PDF

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KR102136275B1
KR102136275B1 KR1020130085919A KR20130085919A KR102136275B1 KR 102136275 B1 KR102136275 B1 KR 102136275B1 KR 1020130085919 A KR1020130085919 A KR 1020130085919A KR 20130085919 A KR20130085919 A KR 20130085919A KR 102136275 B1 KR102136275 B1 KR 102136275B1
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film pattern
light emitting
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삼성디스플레이 주식회사
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Abstract

각각 육각형 형태를 갖는 복수개의 제1 내지 제3 화소 영역을 구비하는 유기 발광 소자는 상기 각 제1 내지 제3 화소 영역 내에 배치되고, 제1 색을 방출하며, 인접하는 화소 영역에 구비되는 제1 서브 화소와 적어도 하나 이상의 변을 공유하는 제1 서브 화소, 상기 각 제1 내지 제3 화소 영역 내에 배치되고, 제2 색을 방출하며, 인접하는 화소 영역에 구비되는 제2 서브 화소와 적어도 하나 이상의 변을 공유하는 제2 서브 화소 및 상기 각 제1 내지 제3 화소 영역 내에 배치되고, 제3 색을 방출하며, 인접하는 화소 영역에 구비되는 제3 서브 화소와 적어도 하나 이상의 변을 공유하는 제3 서브 화소를 포함할 수 있다. 유기 발광 소자는 신규한 서브 화소 배열 구조를 구비함에 따라 고개구율, 고해상도 및 향상된 수명을 가질 수 있다. 나아가, 이와 같은 서브 화소 배열 구조를 구현하기 위한 마스크의 구조 또한 고개구율을 가짐에 따라, 상기 마스크의 기계적 강도를 저하시키지 않음과 동시에 공정의 수율을 향상시킬 수 있다.

Description

유기 발광 소자 및 이의 제조 방법{ORGANIC LIGHT EMITTING DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME}
본 발명은유기 발광 소자 및 이의 제조 방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 본 발명은 고해상도를 구현할 수 있는 서브 화소 배열 구조를 갖는 유기 발광 소자 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.
유기 발광 소자는 넓은 시야각, 빠른 응답 속도, 얇은 두께, 낮은 소비 전력 등의 여러 가지 장점들을 가지므로 유망한 차세대 디스플레이 소자로서 각광받고 있다.
일반적으로, 상기 유기 발광 소자는 풀 컬러(full color)를 표시하기 위하여 다수의 개구부를 구비하는 마스크를 기판 상에 정렬시킨 다음, 상기 마스크의 개구부를 통해 상기 기판 상에 적색 서브 화소, 녹색 서브 화소 및 청색 서브 화소를 독립적으로 증착시켜 복수의 화소를 형성하고 있다.
최근, 고색재현율 및 고해상도를 갖는 유기 발광 소자를 구현하기 위하여 실질적인 발광 영역인 상기 적색 서브 화소, 상기 녹색 서브 화소 및 상기 청색 서브 화소에 구비되는 유기막 패턴의 면적을 줄임에 따라 상기 마스크의 기계적 강도의 저하가 발생하는 문제점이 있다.
따라서, 상기 마스크의 특성을 고려함과 동시에 고해상도를 구현할 수 있는 신규한 서브 화소 배열 구조를 갖는 유기 발광 소자의 개발이 필요로 되고 있는 실정이다.
본 발명의일 목적은 고해상도를 구현할 수 있는 서브 화소 배열 구조를 구비함에 따라 고개구율, 고해상도 및 향상된 수명을 갖는 유기 발광 소자를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 상기 유기 발광 소자의 제조 방법을 제공하는 것이다.
그러나, 본 발명이 해결하고자 하는 과제가 상술한 과제들에 한정되는 것이 아니며, 본 발명의사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위에서 다양하게 확장될수 있을 것이다.
상술한 본 발명의일 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 실시예들에 따른 유기 발광 소자는 각각 육각형 형태를 갖는 복수개의 제1 내지 제3 화소 영역을 구비할 수 있다. 상기 유기 발광 소자는 상기 각 제1 내지 제3 화소 영역 내에 배치되고, 제1 색을 방출하며, 인접하는 화소 영역에 구비되는 제1 서브 화소와 적어도 하나 이상의 변을 공유하는 제1 서브 화소, 상기 각 제1 내지 제3 화소 영역 내에 배치되고, 제2 색을 방출하며, 인접하는 화소 영역에 구비되는 제2 서브 화소와 적어도 하나 이상의 변을 공유하는 제2 서브 화소 및 상기 각 제1 내지 제3 화소 영역 내에 배치되고, 제3 색을 방출하며, 인접하는 화소 영역에 구비되는 제3 서브 화소와 적어도 하나 이상의 변을 공유하는 제3 서브 화소를 포함할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 제1 방향을 따라 상기 제1 화소 영역의 중심들을 연결한 제1 중심선은 상기 제1 화소 영역과 상기 제1 방향과 직교하는 제2 방향을 따라 인접하는 제2 화소 영역의 상기 제2 방향에 따른 중심들을 연결한 제2 중심선과 이격되도록 배치될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 제1 방향을 따라 상기 제1 화소 영역의 중심들을 연결한 제1 중심선은 상기 제1 화소 영역과 상기 제2 방향을 따라 인접하는 제3 화소 영역의 상기 제2 방향에 따른 중심들을 연결한 제3 중심선과 이격되도록 배치될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 제1 방향을 따라 상기 제2 화소 영역의 중심들은 연결한 제2 중심선은 상기 제2 화소 영역과 상기 제2 방향을 따라 인접하는 제3 화소 영역의 상기 제2 방향에 따른 중심들을 연결한 제3 중심선과 이격되도록 배치될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 제1 내지 제3 서브 화소 각각은 마름모 형태를 가지며, 상기 제1 서브 화소는 적색을 표시하고, 상기 제2 서브 화소 및 상기 제3 서브 화소는 각각 녹색 및 청색을 표시할 수 있다.전술한 본 발명의 일 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 다른 실시예들에 따른 유기 발광 소자는 각각 정삼각형 형태를 갖는 복수개의 제1 및 제2 화소 영역을 구비할 수 있다. 상기 유기 발광 소자는 상기 각 제1 및 제2 화소 영역 내에 배치되고, 제1 색을 방출하며, 인접하는 화소 영역에 구비되는 제1 서브 화소와 적어도 하나 이상의 변을 공유하는 제1 서브 화소, 상기 각 제1 및 제2 화소 영역 내에 배치되고, 제2 색을 방출하며, 인접하는 화소 영역에 구비되는 제2 서브 화소와 적어도 하나 이상의 변을 공유하는 제2 서브 화소 및 상기 각 제1 및 제2 화소 영역 내에 배치되고, 제3 색을 방출하며, 인접하는 화소 영역에 구비되는 제3 서브 화소와 적어도 하나 이상의 변을 공유하는 제3 서브 화소를 포함할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 제1 방향을 따라 상기 제1 화소 영역의 중심들을 연결한 제1 중심선은 상기 제1 화소 영역과 상기 제1 방향과 직교하는 제2 방향을 따라 인접하는 제2 화소 영역의 상기 제2 방향에 따른 중심들을 연결한 제2 중심선과 이격되도록 배치될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 제1 내지 제3 서브 화소 각각은 이등변삼각형 형태를 가지며, 상기 제1 서브 화소는 적색을 표시하고, 상기 제2 서브 화소 및 상기 제3 서브 화소는 각각 녹색 및 청색을 표시할 수 있다.상술한 본 발명의 다른 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 실시예들에 따른 유기 발광 소자의 제조 방법에 있어서, 상기 유기 발광 소자는 각각 육각형 형태를 갖는 복수개의 제1 내지 제3 화소 영역을 구비하며, 기판을 제공한 후 제1 내지 제3 서브 화소의 위치에 각각 대응하는 개구부를 구비하는 마스크를 기판 상에 정렬시킨 다음 상기 마스크를 이용하여 상기 기판의 제1 내지 제3 서브 화소의 위치에 각각 제1 내지 제3 유기막 패턴을 형성할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 개구부를 포함하는 마스크는 파인 메탈 마스크(fine metal mask) 및 쉐도우 마스크(shadow mask) 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 제1 서브 화소는 제1 유기막 패턴을 구비하며, 상기 제1 유기막 패턴은 인접하는 화소 영역에 구비되는 제1 유기막 패턴과 적어도 하나 이상의 변을 공유할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 제2 서브 화소는 제2 유기막 패턴을 구비하며, 상기 제2 유기막 패턴은 인접하는 화소 영역에 구비되는 제2 유기막 패턴과 적어도 하나 이상의 변을 공유할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 제3 서브 화소는 제3 유기막 패턴을 구비하며, 상기 제3 유기막 패턴은 인접하는 화소 영역에 구비되는 제3 유기막 패턴과 적어도 하나 이상의 변을 공유할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 제1 내지 제3 유기막 패턴은 인접하는 화소 영역에 구비되는 제1 내지 제3 유기막 패턴과 상기 마스크의 하나의 개구부를 통해 형성될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 제1 내지 제3 유기막 패턴 각각은 마름모 형태를 가지며, 상기 제1 유기막 패턴은 적색을 표시하고, 상기 제2 유기막 패턴 및 상기 제3 유기막 패턴은 각각 녹색 및 청색을 표시할 수 있다.전술한 본 발명의 다른 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 다른 실시예들에 따른 유기 발광 소자의 제조 방법은 상기 유기 발광 소자는 각각 정삼각형 형태를 갖는 복수개의 제1 및 제2 화소 영역을 구비하며, 기판을 제공한 후 제1 내지 제3 서브 화소의 위치에 각각 대응하는 개구부를 구비하는 마스크를 기판 상에 정렬시킨 다음 상기 마스크를 이용하여 상기 기판의 제1 내지 제3 서브 화소의 위치에 각각 제1 내지 제3 유기막 패턴을 형성할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 제1 서브 화소는 제1 유기막 패턴을 구비하며, 상기 제1 유기막 패턴은 인접하는 화소 영역에 구비되는 제1 유기막 패턴과 적어도 하나 이상의 변을 공유할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 제2 서브 화소는 제2 유기막 패턴을 구비하며, 상기 제2 유기막 패턴은 인접하는 화소 영역에 구비되는 제2 유기막 패턴과 적어도 하나 이상의 변을 공유할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 제3 서브 화소는 제3 유기막 패턴을 구비하며, 상기 제3 유기막 패턴은 인접하는 화소 영역에 구비되는 제3 유기막 패턴과 적어도 하나 이상의 변을 공유할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 제1 내지 제3 유기막 패턴은 상기 인접하는 화소 영역에 구비되는 제1 내지 제3 유기막 패턴은 상기 마스크의 하나의 개구부를 통해 형성될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 제1 내지 제3 유기막 패턴 각각은 이등변삼각형 형태를 가지며, 상기 제1 유기막 패턴은 적색을 표시하고, 상기 제2 유기막 패턴 및 상기 제3 유기막 패턴은 각각 녹색 및 청색을 표시할 수 있다.
본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 유기 발광 소자는 신규한 서브 화소 배열 구조를 구비함에 따라 고개구율, 고해상도 및 향상된 수명을 가질 수 있다. 나아가, 이와 같은 서브 화소 배열 구조를 구현하기 위한 마스크의 구조 또한 고개구율을 가짐에 따라, 상기 마스크의 기계적 강도를 저하시키지 않음과 동시에 공정의 수율을 향상시킬 수 있다.
다만, 본 발명의 효과가 이에 한정되는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위에서 다양하게 확장될수 있을 것이다.
도 1은 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 유기 발광 소자의 화소 배열을 나타내는 평면도이다.
도 2a 내지 도 2c는 도 1의 유기 발광 소자의 화소를 패턴화하기 위한 마스크들을 나타내는 평면도들이다.
도 3a 내지 도 3c는 도 1의 유기 발광 소자의 화소를 제조하는 방법을 순차적으로 나타내는 평면도들이다.
도 4는 본 발명의 다른 예시적인 실시예들에 따른 유기 발광 소자의 화소 배열을 나타내는 평면도이다.
도 5a 내지 도 5c는 도 4의 유기 발광 소자의 화소를 패턴화하기 위한 마스크들을 나타내는 평면도들이다.
도 6a 내지 도 6c는 도 4의 유기 발광 소자의 화소를 제조하는 방법을 순차적으로 나타내는 평면도들이다.
이하, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 유기 발광 소자 및 이의 제조 방법에 대하여 첨부된 도면들을 참조하여 상세하게 설명하지만, 본 발명이 하기 실시예들에 의해 제한되는 것은 아니며, 해당 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 기술적사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양한 다른 형태로 구현할 수 있을 것이다.
본 명세서에 있어서, 특정한 구조적내지 기능적 설명들은 단지 본 발명의 실시예들을 설명하기 위한 목적으로 예시된 것이며, 본 발명의실시예들은 다양한 형태로 실시될수 있으며 본 명세서에 설명된실시예들에 한정되는 것으로 해석되지 않으며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 어떤 구성 요소가 다른 구성 요소에 "연결되어" 있다거나 "접촉되어"있다고 기구된 경우, 다른 구성 요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접촉되어 있을 수도 있지만, 중간에 또 다른 구성 요소가 존재할 수도 있다고이해되어야 할 것이다. 또한, 어떤 구성 요소가 다른 구성 요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접촉되어"있다고 기구된 경우에는, 중간에또 다른 구성 요소가 존재하지 않는 것으로 이해될 수 있다. 구성 요소들 간의 관계를설명하는 다른 표현들, 예를 들면, "~사이에"와 "직접 ~사이에" 또는 "~에 인접하는"과 "~에 직접 인접하는" 등도 마찬가지로 해석될 수 있다.
본 명세서에서 사용되는 용어는 단지 예시적인 실시예들을 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도는 아니다. 단수의표현은 문맥상 명백하게 다르게뜻하지 않는 한, 복수의표현을 포함한다. 본 명세서에서, "포함하다", "구비하다" 또는 "가지다" 등의 용어는실시된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다. 다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로해석되지는 않는다.
제1, 제2 및 제3 등의 용어는 다양한구성 요소들을 설명하는데 사용될수 있지만, 이러한 구성 요소들은 상기 용어들에 의해 한정되는 것은 아니다. 상기 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소로부터 구별하는 목적으로 사용된다. 예를 들면, 본 발명의권리 범위로부터 벗어나지 않고, 제1 구성 요소가 제2 또는 제3 구성 요소 등으로 명명될수 있으며, 유사하게 제2 또는 제3 구성 요소도 교호적으로 명명될수 있다.
도 1은 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 유기 발광 소자의 화소 배열을 나타내는 평면도이다.
도 1을 참조하면, 유기 발광 소자는 각각 육각형 형태를 갖는 복수개의 제1 내지 제3 화소 영역(110, 120, 130)을 포함할 수 있다.
여기서, 제1 내지 제3 화소 영역(110, 120, 130)은 각각 제1 색의 빛을 방출하는 제1 서브 화소(SP1), 제2 색의 빛을 방출하는 제2 서브 화소(SP2) 및 제3 색의 빛을 방출하는 제3 서브 화소(SP3)를 포함할 수 있다.
구체적으로, 제1 서브 화소(SP1)는 상기 제1 색을 방출하는 제1 유기막 패턴(100a)을 포함할 수 있고, 제2 서브 화소(SP2)는 상기 제2 색을 방출하는 제2 유기막 패턴(100b)을 포함할 수 있으며, 제3 서브 화소(SP3)는 상기 제3 색을 방출하는 제3 유기막 패턴(100c)을 포함할 수 있다. 예시적인 실시예들에 있어서, 제1 내지 제3 화소 영역(110, 120, 130)은 계속적으로 연속되지 않을 수 있다.
이에 따라, 제1 내지 제3 화소 영역(110, 120, 130)에 구비되는 제1 내지 제3 서브 화소(SP1, SP2, SP3) 및 제1 내지 제3 서브 화소(SP1, SP2, SP3)에 구비되며, 각각 제1 내지 제3 색을 방출하는 제1 내지 제3 유기막 패턴(100a, 100b, 100c) 또한 계속적으로 연속되지 않을 수 있다. 이와 같이, 상기 유기 발광 소자는 어떤 색도 계속적으로 연속되지 않는 화소 배열을 포함할 수 있다.
이에 따라 상기 화소 배열을 형성하기 위한 제1 내지 제3 유기막 패턴 형성용 마스크(도시되지 않음, 도 2a 내지 도 2c 참조)는 저해상도를 가지면서도 고해상도를 갖는 상기 화소 배열을 갖는 유기 발광 소자를 형성할 수 있으며, 강건한 구조를 가질 수 있다.
이와 같은 제1 내지 제3 유기막 패턴 형성용 마스크에 대해서는 도 2a 내지 도 2c를 참조하여 다음에 보다 상세히 설명한다. 다만, 도 1에 있어서, 상기 제1 내지 제3 색은 서로 혼합되어 백색광을 구현할 수 있는 적색, 녹색 및 청색을 포함하는 것으로 예시하고 있으나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 상기 제1 내지 제3 색은 각각 흰색, 노란색, 자홍색(Margenta) 및 청록색(Cyan) 등을 포함할 수도 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 제1 방향과 직교하는 제2 방향을 따라 상기 제1 화소 영역(110)의 중심들을 연결한 제1 중심선은 제1 화소 영역(110)과 상기 제2 방향을 따라 인접하는 제2 화소 영역(120)의 상기 제2 방향에 따른 중심들을 연결한 제2 중심선과 이격되도록 배치될 수 있다. 또한, 상기 제2 방향을 따라 제1 화소 영역(110)의 중심들을 연결한 제1 중심선은 제1 화소 영역(110)과 상기 제2 방향을 따라 인접하는 제3 화소 영역(130)의 상기 제2 방향에 따른 중심들을 연결한 제3 중심선과 이격되도록 배치될 수 있으며, 상기 제2 방향을 따라 제2 화소 영역(120)의 중심들은 연결한 제2 중심선은 제2 화소 영역(120)과 상기 제2 방향을 따라 인접하는 제3 화소 영역(130)의 상기 제2 방향에 따른 중심들을 연결한 제3 중심선과 이격되도록 배치될 수 있다.
제1 내지 제3 서브 화소(SP1, SP2, SP3)는 각각 마름모 형태를 가질 수 있다. 예시적인 실시예들에 있어서, 제1 서브 화소(SP1)가 제1 화소 영역(110), 제2 화소 영역(120) 및 제3 화소 영역(130) 중에서 적어도 하나에 구비되는 경우, 제1 서브 화소(SP1)는 제1 서브 화소(SP1)가 구비되는 화소 영역에 인접하는 다른 화소 영역에 구비되는 제1 서브 화소(SP1)와 적어도 하나 이상의 변을 공유할 수 있다. 다른 예시적인 실시예들에 있어서, 제2 서브 화소(SP2)가 제1 화소 영역(110), 제2 화소 영역(120) 및 제3 화소 영역(130) 중에서 적어도 하나에 구비되는 경우, 제2 서브 화소(SP2)는 제2 서브 화소(SP2)가 구비되는 화소 영역에 인접하는 다른 화소 영역에 구비되는 제2 서브 화소(SP2)와 적어도 하나 이상의 변을 공유할 수 있다. 또 다른 예시적인 실시예들에 있어서, 제3 서브 화소(SP3)가 제1 화소 영역(110), 제2 화소 영역(120) 및 제3 화소 영역(130) 중에서 적어도 하나에 구비되는 경우, 제3 서브 화소(SP3)는 제3 서브 화소(SP3)가 구비되는 화소 영역에 인접하는 다른 화소 영역에 구비되는 제3 서브 화소(SP3)와 적어도 하나 이상의 변을 공유할 수 있다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 유기 발광 소자는 서로 인접하는 화소 영역의 서로 동일한 색을 방출하는 제1 내지 제3 서브 화소(SP1, SP2, SP3)를 서로 인접하게 위치시켜 어떤 색도 계속적으로 연속되지 않는 화소 배열을 적용함에 따라, 고개구율을 가질 수 있다. 즉, 서브 화소 배열 구조를 변경함과 동시에 개구율을 향상시켜 향상된 수명을 가지며, 고해상도를 구현할 수 있는 유기 발광 소자를 제공할 수 있다.
도 2a 내지 도 2c는 도 1의 유기 발광 소자의 화소를 패턴화하기 위한 마스크들을 나타내는 평면도들이다.
도 2a 내지 도 2c를 참조하면, 제1 내지 제3 유기막 패턴 형성용 마스크(200a, 200b, 200c)는 제1 내지 제3 서브 화소(SP1, SP2, SP3, 도 1 참조)의 위치에 각각 대응하는 개구부들(210a, 210b, 210c) 및 개구부들(210a, 210b, 210c)을 제외하는 영역을 차단하는 차폐부(220)를 구비할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 제1 내지 제3 서브 화소(SP1, SP2, SP3) 및 제1 내지 제3 서브 화소(SP1, SP2, SP3)에 구비되며, 각각 제1 내지 제3 색을 방출하는 제1 내지 제3 유기막 패턴 또한 계속적으로 연속되지 않을 수 있다. 이와 같이, 상기 유기 발광 소자는 어떤 색도 계속적으로 연속되지 않는 화소 배열을 포함할 수 있다.
이에 따라 상기 화소 배열을 형성하기 위한 제1 내지 제3 유기막 패턴 형성용 마스크(200a, 200b, 200c)는 저해상도를 가지면서도 고해상도를 갖는 상기 화소 배열을 갖는 유기 발광 소자를 형성할 수 있으며, 강건한 구조를 가질 수 있다.
도 2a를 참조하면, 제1 유기막 패턴 형성용 마스크(200a)는 제1 개구(210a) 및 차폐부(220)를 구비할 수 있다. 예시적인 실시예들에 있어서, 제1 유기막 패턴 형성용 마스크(200a)는 파인 메탈 마스크(fine metal mask; FMM) 및 쉐도우 마스크(shadow mask) 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다. 이 때, 제1 유기막 패턴 형성용 마스크(200a)를 통해 형성되는 제1 유기막 패턴(도시되지 않음)은 인접하는 화소 영역에 구비되는 제1 유기막 패턴과 서로 인접하게 위치됨으로써, 제1 유기막 패턴 형성용 마스크(200a)는 서로 인접하게 위치하여 제1 색을 방출하는 제1 유기막 패턴들을 하나의 개구(즉, 제1 개구(210a)를 통해 형성할 수 있다. 따라서, 제1 유기막 패턴 형성용 마스크(200a)의 기계적 강도를 저하시키지 않음과 동시에 공정의 수율을 향상시킬 수 있다.
도 2b를 참조하면, 제2 유기막 패턴 형성용 마스크(200b)는 제2 개구(210b) 및 차폐부(220)를 구비할 수 있다. 예시적인 실시예들에 있어서, 제2 유기막 패턴 형성용 마스크(200b)는 파인 메탈 마스크 및 쉐도우 마스크 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다. 이 때, 제2 유기막 패턴 형성용 마스크(200b)를 통해 형성되는 제2 유기막 패턴(도시되지 않음)은 인접하는 화소 영역에 구비되는 제2 유기막 패턴과 서로 인접하게 위치됨으로써, 제2 유기막 패턴 형성용 마스크(200b)는 서로 인접하게 위치하여 제2 색을 방출하는 제2 유기막 패턴들을 하나의 개구(즉, 제2 개구(210b))를 통해 형성할 수 있다. 따라서, 제2 유기막 패턴 형성용 마스크(200b)의 기계적 강도를 저하시키지 않음과 동시에 공정의 수율을 향상시킬 수 있다.
도 2c를 참조하면, 제3 유기막 패턴 형성용 마스크(200c)는 제3 개구(210c) 및 차폐부(220)를 구비할 수 있다. 예시적인 실시예들에 있어서, 제3 유기막 패턴 형성용 마스크(200c)는 파인 메탈 마스크 및 쉐도우 마스크 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다. 이 때, 제3 유기막 패턴 형성용 마스크(200c)를 통해 형성되는 제3 유기막 패턴(도시되지 않음)은 인접하는 화소 영역에 구비되는 제3 유기막 패턴과 서로 인접하게 위치됨으로써, 제3 유기막 패턴 형성용 마스크(200c)는 서로 인접하게 위치하여 제3 색을 방출하는 제3 유기막 패턴들을 하나의 개구(즉, 제3 개구(210c)를 통해 형성할 수 있다. 따라서, 제3 유기막 패턴 형성용 마스크(200c)의 기계적 강도를 저하시키지 않음과 동시에 공정의 수율을 향상시킬 수 있다.
도 3a 내지 도 3c는 도 1의 유기 발광 소자의 화소를 제조하는 방법을 순차적으로 나타내는 평면도들이다.
도 3a 내지 도 3c를 참조하면, 제1 내지 제3 유기막 패턴(100a, 100b, 100c)의 위치에 각각 대응하는 개구부를 구비하는 제1 내지 제3 유기막 패턴 형성용 마스크(200a, 200b, 200c, 도 2a 내지 도 2c 참조)를 기판(S) 상에 정렬시킨 다음, 제1 내지 제3 유기막 패턴 형성용 마스크(200a, 200b, 200c, 도 2a 내지 도 2c 참조)을 통해 기판(S) 상에 제1 내지 제3 유기막 패턴(100a, 100b, 100c)을 순차적으로 형성할 수 있다.
도 3a를 참조하면, 제1 유기막 패턴 형성용 마스크(200a)를 통해 기판(S) 상에 제1 방향을 따라 소정의 간격으로 이격된 제1 유기막 패턴(100a)을 형성할 수 있다. 예시적인 실시예들에 있어서, 제1 유기막 패턴(100a)은 제1 색을 방출할 수 있다. 여기서, 상기 제1 색은 적색일 수 있다.
도 3b를 참조하면, 제2 유기막 패턴 형성용 마스크(200b)를 통해 기판(S) 상에 제1 방향을 따라 소정의 간격으로 이격된 제2 유기막 패턴(100b)을 형성할 수 있다. 예시적인 실시예들에 있어서, 제2 유기막 패턴(100b)은 제2 색을 방출할 수 있다. 여기서, 상기 제2 색은 녹색일 수 있다.
도 3c를 참조하면, 제3 유기막 패턴 형성용 마스크(200c)를 통해 기판(S) 상에 제1 방향을 따라 소정의 간격으로 이격된 제3 유기막 패턴(100c)을 형성할 수 있다. 예시적인 실시예들에 있어서, 제3 유기막 패턴(100c)은 제3 색을 방출할 수 있다. 여기서, 상기 제3 색은 청색일 수 있다.
다만, 도 3a 내지 도 3b에 있어서, 제1 유기막 패턴(100a), 제2 유기막 패턴(100b) 및 제3 유기막 패턴(100c)이 적색, 녹색 및 청색의 순으로 배열되는 것으로 예시하였으나, 본 발명이 그에 한정되는 것은 아니다.
도 4는 본 발명의 다른 예시적인 실시예들에 따른 유기 발광 소자의 화소 배열을 나타내는 평면도이다.
도 4를 참조하면, 유기 발광 소자는 각각 정삼각형 형태를 갖는 복수개의제1 및 제2 화소 영역(310, 320)을 포함할 수 있다.
여기서, 제1 및 제2 화소 영역(310, 320)은 각각 제1 색의 빛을 방출하는 제1 서브 화소(SP1), 제2 색의 빛을 방출하는 제2 서브 화소(SP2) 및 제3 색의 빛을 방출하는 제3 서브 화소(SP3)를 포함할 수 있다.
구체적으로, 제1 서브 화소(SP1)는 상기 제1 색을 방출하는 제1 유기막 패턴(100a)을 포함할 수 있고, 제2 서브 화소(SP2)는 상기 제2 색을 방출하는 제2 유기막 패턴(100b)을 포함할 수 있으며, 제3 서브 화소(SP3)는 상기 제3 색을 방출하는 제3 유기막 패턴(100c)을 포함할 수 있다. 예시적인 실시예들에 있어서, 제1 및 제2 화소 영역(310, 320)은 계속적으로 연속되지 않을 수 있다.
이에 따라, 제1 및 제2 화소 영역(310, 320)에 구비되는 제1 내지 제3 서브 화소(SP1, SP2, SP3) 및 제1 내지 제3 서브 화소(SP1, SP2, SP3)에 구비되며, 각각 제1 내지 제3 색을 방출하는 제1 내지 제3 유기막 패턴(100a, 100b, 100c) 또한 계속적으로 연속되지 않을 수 있다. 이와 같이, 상기 유기 발광 소자는 어떤 색도 계속적으로 연속되지 않는 화소 배열을 포함할 수 있다.
이에 따라, 상기 화소 배열을 형성하기 위한 제1 내지 제3 유기막 패턴 형성용 마스크(도시되지 않음, 도 5a 내지 도 5c 참조)는 저해상도를 가지면서도 고해상도를 갖는 상기 화소 배열을 갖는 유기 발광 소자를 형성할 수 있으며, 강건한 구조를 가질 수 있다. 다만, 도 4에 있어서, 상기 제1 내지 제3 색은 서로 혼합되어 백색광을 구현할 수 있는 적색, 녹색 및 청색을 포함하는 것으로 예시하고 있으나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 상기 제1 내지 제3 색은 각각 흰색, 노란색, 자홍색, 청록색 등을 포함할 수도 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 제1 방향과 직교하는 제2 방향을 따라 제1 화소 영역(310)의 중심들을 연결한 제1 중심선은 제1 화소 영역(310)과 상기 제1 방향과 직교하는 제2 방향을 따라 인접하는 제2 화소 영역(320)의 상기 제2 방향에 따른 중심들을 연결한 제2 중심선과 이격되도록 배치될 수 있다.
제1 내지 제3 서브 화소(SP1, SP2, SP3)는 각각 이등변삼각형 형태를 가질 수 있다. 예시적인 실시예들에 있어서, 제1 서브 화소(SP1)가 제1 및 제2 화소 영역(310, 320) 중에서 적어도 하나에 구비되는 경우, 제1 서브 화소(SP1)는 제1 서브 화소(SP1)가 구비되는 화소 영역에 인접하는 다른 화소 영역에 구비되는 제1 서브 화소(SP1)와 적어도 하나 이상의 변을 공유할 수 있다. 다른 예시적인 실시예들에 있어서, 제2 서브 화소(SP2)가 제1 및 제2 화소 영역(310, 320) 중에서 적어도 하나에 구비되는 경우, 제2 서브 화소(SP2)는 제2 서브 화소(SP2)가 구비되는 화소 영역에 인접하는 다른 화소 영역에 구비되는 제2 서브 화소(SP2)와 적어도 하나 이상의 변을 공유할 수 있다. 또 다른 예시적인 실시예들에 있어서, 제3 서브 화소(SP3)가 제1 및 제2 화소 영역(310, 320) 중에서 적어도 하나에 구비되는 경우, 제3 서브 화소(SP3)는 제3 서브 화소(SP3)가 구비되는 화소 영역에 인접하는 다른 화소 영역에 구비되는 제3 서브 화소(SP3)와 적어도 하나 이상의 변을 공유할 수 있다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 유기 발광 소자는 서로 인접하는 화소 영역의 서로 동일한 색을 방출하는 제1 내지 제3 서브 화소(SP1, SP2, SP3)를 서로 인접하게 위치시켜 어떤 색도 계속적으로 연속되지 않는 화소 배열을 적용함에 따라, 고개구율을 가질 수 있다. 즉, 서브 화소 배열 구조를 변경함과 동시에 개구율을 향상시켜 향상된 수명을 가지며, 고해상도를 구현할 수 있는 유기 발광 소자를 제공할 수 있다.
도 5a 내지 도 5c는 도 4의 유기 발광 소자의 화소를 패턴화하기 위한 마스크들을 나타내는 평면도들이다.
도 5a 내지 도 5c를 참조하면, 제1 내지 제3 유기막 패턴 형성용 마스크(400a, 400b, 400c)는 제1 내지 제3 서브 화소(SP1, SP2, SP3, 도 4 참조)의 위치에 각각 대응하는 개구부들(410a, 410b, 410c) 및 개구부들(410a, 410b, 410c)을 제외하는 영역을 차단하는 차폐부(420)를 구비할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 제1 내지 제3 서브 화소(SP1, SP2, SP3) 및 제1 내지 제3 서브 화소(SP1, SP2, SP3)에 구비되며, 각각 제1 내지 제3 색을 방출하는 제1 내지 제3 유기막 패턴 또한 계속적으로 연속되지 않을 수 있다. 이와 같이, 상기 유기 발광 소자는 어떤 색도 계속적으로 연속되지 않는 화소 배열을 포함할 수 있다.
이에 따라 상기 화소 배열을 형성하기 위한 제1 내지 제3 유기막 패턴 형성용 마스크(400a, 400b, 400c)는 저해상도를 가지면서도 고해상도를 갖는 상기 화소 배열을 갖는 유기 발광 소자를 형성할 수 있으며, 강건한 구조를 가질 수 있다.
도 5a를 참조하면, 제1 유기막 패턴 형성용 마스크(400a)는 제1 개구(410a) 및 차폐부(420)를 구비할 수 있다. 예시적인 실시예들에 있어서, 제1 유기막 패턴 형성용 마스크(400a)는 파인 메탈 마스크 및 쉐도우 마스크 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다. 이 때, 제1 유기막 패턴 형성용 마스크(400a)를 통해 형성되는 제1 유기막 패턴(도시되지 않음)은 인접하는 화소 영역에 구비되는 제1 유기막 패턴과 서로 인접하게 위치됨으로써, 제1 유기막 패턴 형성용 마스크(400a)는 서로 인접하게 위치하여 제1 색을 방출하는 제1 유기막 패턴들을 하나의 개구(즉, 제1 개구(410a)를 통해 형성할 수 있다. 따라서, 제1 유기막 패턴 형성용 마스크(400a)의 기계적 강도를 저하시키지 않음과 동시에 공정의 수율을 향상시킬 수 있다.
도 5b를 참조하면, 제2 유기막 패턴 형성용 마스크(400b)는 제2 개구(410b) 및 차폐부(420)를 구비할 수 있다. 예시적인 실시예들에 있어서, 제2 유기막 패턴 형성용 마스크(400b)는 파인 메탈 마스크 및 쉐도우 마스크 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다. 이 때, 제2 유기막 패턴 형성용 마스크(400b)를 통해 형성되는 제2 유기막 패턴(도시되지 않음)은 인접하는 화소 영역에 구비되는 제2 유기막 패턴과 서로 인접하게 위치됨으로써, 제2 유기막 패턴 형성용 마스크(400b)는 서로 인접하게 위치하여 제2 색을 방출하는 제2 유기막 패턴들을 하나의 개구(즉, 제2 개구(410b))를 통해 형성할 수 있다. 따라서, 제2 유기막 패턴 형성용 마스크(400b)의 기계적 강도를 저하시키지 않음과 동시에 공정의 수율을 향상시킬 수 있다.
도 5c를 참조하면, 제3 유기막 패턴 형성용 마스크(400c)는 제3 개구(410c) 및 차폐부(420)를 구비할 수 있다. 예시적인 실시예들에 있어서, 제3 유기막 패턴 형성용 마스크(400c)는 파인 메탈 마스크 및 쉐도우 마스크 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다. 이 때, 제3 유기막 패턴 형성용 마스크(400c)를 통해 형성되는 제3 유기막 패턴(도시되지 않음)은 인접하는 화소 영역에 구비되는 제3 유기막 패턴과 서로 인접하게 위치됨으로써, 제3 유기막 패턴 형성용 마스크(400c)는 서로 인접하게 위치하여 제3 색을 방출하는 제3 유기막 패턴들을 하나의 개구(즉, 제3 개구(410c)를 통해 형성할 수 있다. 따라서, 제3 유기막 패턴 형성용 마스크(400c)의 기계적 강도를 저하시키지 않음과 동시에 공정의 수율을 향상시킬 수 있다.
도 6a 내지 도 6c는 도 4의 유기 발광 소자의 화소를 제조하는 방법을 순차적으로 나타내는 평면도들이다.
도 6a 내지 도 6c를 참조하면, 제1 내지 제3 유기막 패턴(300a, 300b, 300c)의 위치에 각각 대응하는 개구부를 구비하는 제1 내지 제3 유기막 패턴 형성용 마스크(400a, 400b, 400c, 도 5a 내지 도 5c 참조)를 기판(S) 상에 정렬시킨 다음, 제1 내지 제3 유기막 패턴 형성용 마스크(400a, 400b, 400c, 도 5a 내지 도 5c 참조)을 통해 기판(S) 상에 제1 내지 제3 유기막 패턴(300a, 300b, 300c)을 순차적으로 형성할 수 있다.
도 6a를 참조하면, 제1 유기막 패턴 형성용 마스크(400a)를 통해 기판(S) 상에 제1 방향을 따라 소정의 간격으로 이격된 제1 유기막 패턴(300a)을 형성할 수 있다. 예시적인 실시예들에 있어서, 제1 유기막 패턴(300a)은 제1 색을 방출할 수 있다. 여기서, 상기 제1 색은 적색일 수 있다.
도 6b를 참조하면, 제2 유기막 패턴 형성용 마스크(400b)를 통해 기판(S) 상에 제1 방향을 따라 소정의 간격으로 이격된 제2 유기막 패턴(300b)을 형성할 수 있다. 예시적인 실시예들에 있어서, 제2 유기막 패턴(300b)은 제2 색을 방출할 수 있다. 여기서, 상기 제2 색은 녹색일 수 있다.
도 6c를 참조하면, 제3 유기막 패턴 형성용 마스크(400c)를 통해 기판(S) 상에 제1 방향을 따라 소정의 간격으로 이격된 제3 유기막 패턴(300c)을 형성할 수 있다. 예시적인 실시예들에 있어서, 제3 유기막 패턴(300c)은 제3 색을 방출할 수 있다. 여기서, 상기 제3 색은 청색일 수 있다.
다만, 도 6a 내지 도 6b에 있어서, 제1 유기막 패턴(300a), 제2 유기막 패턴(300b) 및 제3 유기막 패턴(300c)이 적색, 녹색 및 청색의 순으로 배열되는 것으로 예시하였으나, 본 발명이 그에 한정되는 것은 아니다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 유기 발광 소자는 서로 인접하는 화소 영역의 서로 동일한 색을 방출하는 제1 내지 제3 서브 화소(SP1, SP2, SP3)를 서로 인접하게 위치시켜 어떤 색도 계속적으로 연속되지 않는 화소 배열을 적용함에 따라, 고개구율을 가질 수 있다. 즉, 서브 화소 배열 구조를 변경함과 동시에 개구율을 향상시켜 향상된 수명을 가지며, 고해상도를 구현할 수 있는 유기 발광 소자를 제공할 수 있다.
상술한 바에 있어서, 본 발명의 예시적인 실시예들을 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되지 않으며 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 다음에 기재하는 특허 청구 범위의 개념과 범위를 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 변경 및 변형이 가능함을 이해할 수 있을 것이다.
본 발명은 유기 발광 소자를 구비하는 모든 전자 기기에 적용될 수 있다. 예를 들어, 본 발명은 텔레비전, 컴퓨터 모니터, 노트북, 디지털카메라, 휴대폰, 스마트폰, 태블릿피씨(PC), 스마트패드, 피디에이(PDA), 피엠피(PMP), 엠피쓰리(MP3) 플레이어, 네비게이션 시스템, 캠코더, 휴대용 게임기등에 적용될 수 있다.
100a, 100b, 100c: 제1 내지 제3 서브 화소
110, 310: 제1 화소 영역
120, 320: 제2 화소 영역
130: 제3 화소 영역
200a, 400a: 제1 유기막 패턴 형성용 마스크
200b, 400b: 제2 유기막 패턴 형성용 마스크
200c, 400c: 제3 유기막 패턴 형성용 마스크
210a, 210b, 210c, 410a, 410b, 410c: 개구부
220, 420: 차폐부

Claims (21)

  1. 각각 육각형 형태를 갖는 복수개의 제1 내지 제3 화소 영역을 구비하는 유기 발광 소자에 있어서,
    상기 각 제1 내지 제3 화소 영역 내에 배치되고, 제1 색을 방출하며, 인접하는 화소 영역에 구비되는 제1 서브 화소와 적어도 하나 이상의 변을 공유하는 제1 서브 화소;
    상기 각 제1 내지 제3 화소 영역 내에 배치되고, 제2 색을 방출하며, 인접하는 화소 영역에 구비되는 제2 서브 화소와 적어도 하나 이상의 변을 공유하는 제2 서브 화소; 및
    상기 각 제1 내지 제3 화소 영역 내에 배치되고, 제3 색을 방출하며, 인접하는 화소 영역에 구비되는 제3 서브 화소와 적어도 하나 이상의 변을 공유하는 제3 서브 화소를 포함하는 유기 발광 소자.
  2. 제1항에 있어서, 제1 방향과 직교하는 제2 방향을 따라 상기 제1 화소 영역의 중심들을 연결한 제1 중심선은 상기 제1 화소 영역과 상기 제2 방향을 따라 인접하는 제2 화소 영역의 상기 제2 방향에 따른 중심들을 연결한 제2 중심선과 이격되도록 배치되는 것을 특징으로 하는 유기 발광 소자.
  3. 제2항에 있어서, 상기 제2 방향을 따라 상기 제1 화소 영역의 중심들을 연결한 제1 중심선은 상기 제1 화소 영역과 상기 제2 방향을 따라 인접하는 제3 화소 영역의 상기 제2 방향에 따른 중심들을 연결한 제3 중심선과 이격되도록 배치되는 것을 특징으로 하는 유기 발광 소자.
  4. 제3항에 있어서, 상기 제2 방향을 따라 상기 제2 화소 영역의 중심들은 연결한 제2 중심선은 상기 제2 화소 영역과 상기 제2 방향을 따라 인접하는 제3 화소 영역의 상기 제2 방향에 따른 중심들을 연결한 제3 중심선과 이격되도록 배치되는 것을 특징으로 하는 유기 발광 소자.
  5. 제1항에 있어서, 상기 제1 내지 제3 서브 화소 각각은 마름모 형태를 가지며,
    상기 제1 서브 화소는 적색을 표시하고, 상기 제2 서브 화소 및 상기 제3 서브 화소는 각각 녹색 및 청색을 표시하는 것을 특징으로 하는 유기 발광 소자.
  6. 각각 정삼각형 형태를 갖는 복수개의 제1 및 제2 화소 영역을 구비하는 유기 발광 소자에 있어서,
    상기 각 제1 및 제2 화소 영역 내에 배치되고, 제1 색을 방출하며, 인접하는 화소 영역에 구비되는 제1 서브 화소와 적어도 하나 이상의 변을 공유하는 제1 서브 화소;
    상기 각 제1 및 제2 화소 영역 내에 배치되고, 제2 색을 방출하며, 인접하는 화소 영역에 구비되는 제2 서브 화소와 적어도 하나 이상의 변을 공유하는 제2 서브 화소; 및
    상기 각 제1 및 제2 화소 영역 내에 배치되고, 제3 색을 방출하며, 인접하는 화소 영역에 구비되는 제3 서브 화소와 적어도 하나 이상의 변을 공유하는 제3 서브 화소를 포함하는 유기 발광 소자.
  7. 제6항에 있어서, 제1 방향과 직교하는 제2 방향을 따라 상기 제1 화소 영역의 중심들을 연결한 제1 중심선은 상기 제1 화소 영역과 상기 제2 방향을 따라 인접하는 제2 화소 영역의 상기 제2 방향에 따른 중심들을 연결한 제2 중심선과 이격되도록 배치되는 것을 특징으로 하는 유기 발광 소자.
  8. 제7항에 있어서, 상기 제1 내지 제3 서브 화소 각각은 이등변삼각형 형태를 가지며,
    상기 제1 서브 화소는 적색을 표시하고, 상기 제2 서브 화소 및 상기 제3 서브 화소는 각각 녹색 및 청색을 표시하는 것을 특징으로 하는 유기 발광 소자.
  9. 각각 육각형 형태를 갖는 복수개의 제1 내지 제3 화소 영역을 구비하는 유기 발광 소자의 제조 방법에 있어서,
    기판을 제공하는 단계;
    제1 내지 제3 서브 화소의 위치에 각각 대응하는 개구부를 구비하는 마스크를 기판 상에 정렬시키는 단계; 및
    상기 마스크를 이용하여 상기 기판의 제1 내지 제3 서브 화소의 위치에 각각 제1 내지 제3 유기막 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 유기 발광 소자의 제조 방법.
  10. 제9항에 있어서, 상기 개구부를 포함하는 마스크는 파인 메탈 마스크(fine metal mask) 및 쉐도우 마스크(shadow mask) 중에서 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 발광 소자의 제조 방법.
  11. 제10항에 있어서, 상기 제1 서브 화소는 제1 유기막 패턴을 구비하며,
    상기 제1 유기막 패턴은 인접하는 화소 영역에 구비되는 제1 유기막 패턴과 적어도 하나 이상의 변을 공유하는 것을 특징으로 하는 유기 발광 소자의 제조 방법.
  12. 제11항에 있어서, 상기 제2 서브 화소는 제2 유기막 패턴을 구비하며,
    상기 제2 유기막 패턴은 인접하는 화소 영역에 구비되는 제2 유기막 패턴과 적어도 하나 이상의 변을 공유하는 것을 특징으로 하는 유기 발광 소자의 제조 방법.
  13. 제12항에 있어서, 상기 제3 서브 화소는 제3 유기막 패턴을 구비하며,
    상기 제3 유기막 패턴은 인접하는 화소 영역에 구비되는 제3 유기막 패턴과 적어도 하나 이상의 변을 공유하는 것을 특징으로 하는 유기 발광 소자의 제조 방법.
  14. 제13항에 있어서, 상기 제1 내지 제3 유기막 패턴은 인접하는 화소 영역에 구비되는 제1 내지 제3 유기막 패턴과 상기 마스크의 하나의 개구부를 통해 형성되는 것을 특징으로 하는 유기 발광 소자의 제조 방법.
  15. 제9항에 있어서, 상기 제1 내지 제3 유기막 패턴 각각은 마름모 형태를 가지며,
    상기 제1 유기막 패턴은 적색을 표시하고, 상기 제2 유기막 패턴 및 상기 제3 유기막 패턴은 각각 녹색 및 청색을 표시하는 것을 특징으로 하는 유기 발광 소자의 제조 방법.
  16. 각각 정삼각형 형태를 갖는 복수개의 제1 및 제2 화소 영역을 구비하는 유기 발광 소자의 제조 방법에 있어서,
    기판을 제공하는 단계;
    제1 내지 제3 서브 화소의 위치에 각각 대응하는 개구부를 구비하는 마스크를 기판 상에 정렬시키는 단계; 및
    상기 마스크를 이용하여 상기 기판의 제1 내지 제3 서브 화소의 위치에 각각 제1 내지 제3 유기막 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 유기 발광 소자의 제조 방법.
  17. 제16항에 있어서, 상기 제1 서브 화소는 제1 유기막 패턴을 구비하며,
    상기 제1 유기막 패턴은 인접하는 화소 영역에 구비되는 제1 유기막 패턴과 적어도 하나 이상의 변을 공유하는 것을 특징으로 하는 유기 발광 소자의 제조 방법.
  18. 제17항에 있어서, 상기 제2 서브 화소는 제2 유기막 패턴을 구비하며,
    상기 제2 유기막 패턴은 인접하는 화소 영역에 구비되는 제2 유기막 패턴과 적어도 하나 이상의 변을 공유하는 것을 특징으로 하는 유기 발광 소자의 제조 방법.
  19. 제18항에 있어서, 상기 제3 서브 화소는 제3 유기막 패턴을 구비하며,
    상기 제3 유기막 패턴은 인접하는 화소 영역에 구비되는 제3 유기막 패턴과 적어도 하나 이상의 변을 공유하는 것을 특징으로 하는 유기 발광 소자의 제조 방법.
  20. 제19항에 있어서, 상기 제1 내지 제3 유기막 패턴은 상기 인접하는 화소 영역에 구비되는 제1 내지 제3 유기막 패턴은 상기 마스크의 하나의 개구부를 통해 형성되는 것을 특징으로 하는 유기 발광 소자의 제조 방법.
  21. 제16항에 있어서, 상기 제1 내지 제3 유기막 패턴 각각은 이등변삼각형 형태를 가지며,
    상기 제1 유기막 패턴은 적색을 표시하고, 상기 제2 유기막 패턴 및 상기 제3 유기막 패턴은 각각 녹색 및 청색을 표시하는 것을 특징으로 하는 유기 발광 소자의 제조 방법.
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