KR102123965B1 - 하전입자 측정 장치 - Google Patents
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Abstract
Description
도 2는 Cu-63과 Cu-65 동위 원소의 양성자 충돌에 의한 중성자 발생 문턱 에너지를 해석한 결과이다.
도 3은 흑연의 구성 동위 원소 중 C-12의 양성자 충돌에 의한 중성자 발생 문턱 에너지를 해석한 결과이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 두 가지 형태의 제1수집부 구조를 나타낸다.
도 5는 양성자 에너지에 따른 침투 깊이를 전산모사로 해석하는 내용을 나타낸다.
도 6은 양성자 에너지에 따른 흑연 소재 내로의 침투 깊이를 전산모사로 해석한 결과를 나타낸다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 입자 측정 장치를 나타내는 사진이다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따라 제작된 입자 측정 장치의 제1수집부를 나타내는 사진이다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따라 제작된 입자 측정 장치의 제1수집부를 나태는 상세 사진이다.
도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 입자 측정 장치를 이용하여 전류를 측정하기 위한 환경을 나타낸 도면이다.
도 11은 본 발명의 일 실시예에 따른 입자 측정 장치를 이용하여 하전입자 빔을 차단하는 경우의 패러데이 컵 어셈블리를 도시한다.
도 12는 본 발명의 일 실시예에 따른 입자 측정 장치를 이용하여 하전입자 빔을 통과시키는 경우의 패러데이 컵 어셈블리를 도시한다.
도 13은 본 발명의 일 실시예에 따른 입자 측정 장치의 패러데이 컵 어셈블리를 원격으로 제어하기 위한 구성도이다.
도 14는 본 발명의 일 실시예에 따른 입자 측정 장치의 2차전자 억제부를 설명하기 위한 개념도이다.
도 15는 본 발명의 일 실시예에 따라 제작된 입자 측정 장치의 2차전자 억제부 측의 상세 사진이다.
도 16은 본 발명의 일 실시예에 따른 입자 측정 장치의 열량 측정 환경을 도시한다.
102: 링 부재 102-A: 제1수집부
103: 회전축 103-A: 주입구
103-B: 배출구 104: 절연체
105: 오링(O-ring) 106: 제2수집부
107: 억제 자석(Suppression Magnet)
108: 2차전자 억제부(Secondary Electron Suppression Unit)
109: 하우징(Housing) 210: 전류 파형 확인 장치
220: 데이터 처리 및 저장 장치 510: PLC 제어부
520: PLC 모듈부 530: 회전구동부
710: 제1온도센서 720: 제2온도센서
730: 냉각유로
Claims (5)
- 하전입자 빔(Charged Particle Beam)의 수송경로 상에 배치되는 진공함; 및
상기 진공함 내에 상기 수송경로에 대해 수직인 회전축을 갖는 패러데이 컵 어셈블리(Faraday Cup Assembly)
를 포함하되,
상기 패러데이 컵 어셈블리는,
상기 수송경로와 상기 회전축의 교차점을 중심으로 배치되는 링 부재;
상기 링 부재의 원주면 일측에 형성되는 평면인 접합면 상에 배치되되, 상기 평면은 상기 링 부재의 중심축과 상기 회전축을 포함하는 평면에 평행한 제1수집부;
상기 하전입자 빔이 입사되는 상기 진공함의 입구와 상기 링 부재 사이에 배치되되, 상기 수송경로를 감싸는 실린더 형태인 제2수집부; 및
상기 회전축과 상기 링 부재의 내부에 형성되는 냉각유로 및 상기 제1수집부에 입사되는 하전입자 빔에 의해 상기 냉각유로에 유입되는 열량을 측정하는 열량센서를 포함하는 제3수집부
를 포함하고,
상기 링 부재의 중심축이 상기 수송경로와 나란한 제1위치로 상기 링 부재가 회전 배치되면 상기 하전입자 빔을 통과시키고,
상기 제1수집부에 상기 하전입자 빔이 수직으로 입사되는 제2위치로 상기 링 부재가 회전 배치되면 상기 제1수집부 및 상기 제2수집부에 의해 상기 하전입자 빔의 입사량이 측정되며,
상기 제1수집부는 흑연(graphite)으로 이루어지고, 상기 제1수집부는 수송계의 고진공과 조립의 간편성을 확보하도록 블레이징(brazing)에 의해 상기 접합면에 접합되되, 상기 블레이징에 의한 상기 제1수집부와 상기 접합면 사이의 접합층은 열전달에 유리하도록 실버 페이스트(silver paste)를 포함하는
하전입자 빔 전류 측정 장치. - 삭제
- 삭제
- 제1항에 있어서,
상기 접합면은,
상기 제1수집부 측면의 적어도 일부와 내측벽이 접합되도록 형성되는 포켓부의 바닥 면인
하전입자 빔 전류 측정 장치. - 제1항에 있어서,
상기 제1수집부의 두께는,
상기 하전입자 빔의 에너지 크기와 상기 제1수집부의 소재 특성에 따른 상기 하전입자 빔의 침투 깊이 이상이 되도록 형성되는
하전입자 빔 전류 측정 장치.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1020180170062A KR102123965B1 (ko) | 2018-12-27 | 2018-12-27 | 하전입자 측정 장치 |
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KR1020180170062A KR102123965B1 (ko) | 2018-12-27 | 2018-12-27 | 하전입자 측정 장치 |
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KR1020180170062A Active KR102123965B1 (ko) | 2018-12-27 | 2018-12-27 | 하전입자 측정 장치 |
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002008578A (ja) * | 2000-06-21 | 2002-01-11 | Seiko Epson Corp | イオン注入装置 |
KR20080082263A (ko) * | 2007-03-08 | 2008-09-11 | 삼성전자주식회사 | 페러데이 시스템 및 그가 채용되는 이온주입설비 |
KR20100117646A (ko) * | 2008-03-31 | 2010-11-03 | 미쯔이 죠센 가부시키가이샤 | 이온 주입 장치, 이온 주입 방법 및 프로그램 |
KR20180044697A (ko) * | 2016-10-24 | 2018-05-03 | 주식회사 다원시스 | 입자 측정 장치 |
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2018
- 2018-12-27 KR KR1020180170062A patent/KR102123965B1/ko active Active
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PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20181227 |
|
PA0201 | Request for examination | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
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|
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20200605 |
|
GRNT | Written decision to grant | ||
PR0701 | Registration of establishment |
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PR1002 | Payment of registration fee |
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PR1001 | Payment of annual fee |
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PR1001 | Payment of annual fee |
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