KR102112704B1 - Novel Reactive Mesogen Compound, Composition For Negative Dispersion Compensation Film Comprising The Same, And Negative Dispersion Compensation Film Comprising The Same - Google Patents
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- 239000006185 dispersion Substances 0.000 title claims abstract description 74
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 31
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims description 99
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 16
- 239000004990 Smectic liquid crystal Substances 0.000 claims description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 13
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 claims description 10
- NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N (2s)-2-[[4-[2-(2,4-diaminoquinazolin-6-yl)ethyl]benzoyl]amino]-4-methylidenepentanedioic acid Chemical compound C1=CC2=NC(N)=NC(N)=C2C=C1CCC1=CC=C(C(=O)N[C@@H](CC(=C)C(O)=O)C(O)=O)C=C1 NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N 0.000 claims 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 abstract description 10
- 238000001338 self-assembly Methods 0.000 abstract description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 6
- 230000008901 benefit Effects 0.000 abstract description 3
- 230000003993 interaction Effects 0.000 abstract description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 30
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 21
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 17
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 description 13
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 11
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 9
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 9
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 9
- 150000001923 cyclic compounds Chemical class 0.000 description 9
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 9
- -1 benzene ring compound Chemical class 0.000 description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 6
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 6
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 5
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 5
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 5
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 5
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 5
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 4
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Substances [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 3
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 3
- VVYHWYFUTOHXRH-UHFFFAOYSA-N 4-(6-hydroxyhexoxy)benzoic acid Chemical compound OCCCCCCOC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 VVYHWYFUTOHXRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 4-Dimethylaminopyridine Chemical compound CN(C)C1=CC=NC=C1 VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 125000001078 azanylylidene group Chemical group *N=* 0.000 description 2
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 2
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 2
- 229940125782 compound 2 Drugs 0.000 description 2
- 229940126214 compound 3 Drugs 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 2
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 2
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 2
- AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N isoquinoline Chemical compound C1=NC=CC2=CC=CC=C21 AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 2
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 2
- 239000003550 marker Substances 0.000 description 2
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- FPGGTKZVZWFYPV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium fluoride Chemical compound [F-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC FPGGTKZVZWFYPV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- JLYXXMFPNIAWKQ-UHFFFAOYSA-N γ Benzene hexachloride Chemical compound ClC1C(Cl)C(Cl)C(Cl)C(Cl)C1Cl JLYXXMFPNIAWKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBKFKDJHUNQQKY-UHFFFAOYSA-N (4-formylphenyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=C(C=O)C=C1 NBKFKDJHUNQQKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMKOFRJSULQZRM-UHFFFAOYSA-N 1-bromooctane Chemical compound CCCCCCCCBr VMKOFRJSULQZRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIUNTOMXLFDTIR-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[4-(1,3-dioxoisoindol-2-yl)-3-hydroxyphenyl]-2-hydroxyphenyl]isoindole-1,3-dione Chemical compound OC=1C=C(C=CC=1N1C(C2=CC=CC=C2C1=O)=O)C1=CC(=C(C=C1)N1C(C2=CC=CC=C2C1=O)=O)O PIUNTOMXLFDTIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZGDMDBHLKNQPSD-UHFFFAOYSA-N 2-amino-5-(4-amino-3-hydroxyphenyl)phenol Chemical compound C1=C(O)C(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C(O)=C1 ZGDMDBHLKNQPSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIHAITQOKZZZOL-UHFFFAOYSA-N 4-(4-amino-3-octoxyphenyl)-2-octoxyaniline Chemical compound C(CCCCCCC)OC=1C=C(C=CC=1N)C1=CC(=C(C=C1)N)OCCCCCCCC HIHAITQOKZZZOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KAGIRXVDTGQWKF-UHFFFAOYSA-N 4-[6-(2-methylprop-2-enoyloxy)hexoxy]benzoic acid Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCCCOC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KAGIRXVDTGQWKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960000549 4-dimethylaminophenol Drugs 0.000 description 1
- PBKXRKYUUXKNSL-UHFFFAOYSA-N 6-bromohexoxy-tert-butyl-dimethylsilane Chemical compound CC(C)(C)[Si](C)(C)OCCCCCCBr PBKXRKYUUXKNSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JNTPTNNCGDAGEJ-UHFFFAOYSA-N 6-chlorohexan-1-ol Chemical compound OCCCCCCCl JNTPTNNCGDAGEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 239000004988 Nematic liquid crystal Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- MDMKOESKPAVFJF-UHFFFAOYSA-N [4-(2-methylprop-2-enoyloxy)phenyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=C(OC(=O)C(C)=C)C=C1 MDMKOESKPAVFJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEVZCITOGPKLI-UHFFFAOYSA-N [Si](C)(C)(C(C)(C)C)OCCCCCCOC1=CC=C(C=C1)C1=CC=CC=C1 Chemical compound [Si](C)(C)(C(C)(C)C)OCCCCCCOC1=CC=C(C=C1)C1=CC=CC=C1 GSEVZCITOGPKLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical class C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N biphenyl-4,4'-diol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1=CC=C(O)C=C1 VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NEHMKBQYUWJMIP-NJFSPNSNSA-N chloro(114C)methane Chemical compound [14CH3]Cl NEHMKBQYUWJMIP-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- 239000012769 display material Substances 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- IKDUDTNKRLTJSI-UHFFFAOYSA-N hydrazine hydrate Chemical compound O.NN IKDUDTNKRLTJSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 238000000844 transformation Methods 0.000 description 1
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
- C09K19/34—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring
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Abstract
본 발명은 일층 구조로서 수소결합이 가능한 호스트-게스트 반응성 메조겐 간의 자기조립 배열에 따라 역파장분산 특성을 나타내는 역파장분산 보상필름용 수소결합 혼합물 및 이를 포함하는 보상필름에 관한 것이다. 본 발명에 의해 제조된 필름은 수소결합을 통한 분자간 호스트-게스트 상호작용으로 인하여 더욱 안정적인 호스트-게스트 반응성 메조겐간의 자가조립을 유도하며, 이에 따라 기존의 일층형 역파장분산 보상필름과 비교하여 향상된 배향성을 갖고, 더욱 이상적인 값에 가까운 파장분산특성을 갖는 것을 특징으로 한다. 따라서, 본 발명에서 제안된 역파장분산 보상필름은 OLED의 반사방지 기능이나 LCD의 시야각 보상에 사용 될 수 있다. 본 발명의 역파장분산 보상필름은 기존의 적층형 역파장분산 보상필름과 비교하여 소자의 두께를 감소시킬 수 있고, 제조공정이 간단하다는 장점을 가지고 있다.The present invention relates to a hydrogen bonding mixture for a reverse wavelength dispersion compensation film and a compensation film comprising the same, which exhibits reverse wavelength dispersion characteristics according to a self-assembly arrangement between a host-guest reactive mesogen capable of hydrogen bonding as a single layer structure. The film produced by the present invention induces self-assembly between host-guest reactive mesogens which is more stable due to intermolecular host-guest interaction through hydrogen bonding, and thus improves compared to the conventional single-layer reverse wavelength dispersion compensation film. It is characterized by having an alignment property and a wavelength dispersion characteristic closer to an ideal value. Therefore, the reverse wavelength dispersion compensation film proposed in the present invention can be used for the anti-reflection function of the OLED or the viewing angle compensation of the LCD. The reverse wavelength dispersion compensation film of the present invention has the advantage that the thickness of the device can be reduced and the manufacturing process is simple compared to the conventional stacked type reverse wavelength dispersion compensation film.
Description
본 발명은 호스트-게스트 방식의 코팅형 역파장분산 보상필름용 조성물 및 이를 포함하는 역파장분산 보상필름에 관한 것으로, 보다 상세하게는 수소결합을 통한 분자간 호스트-게스트 상호작용으로 인하여 더욱 안정적인 호스트-게스트 반응성 메조겐 화합물 간의 자가조립을 유도하고, 이에 따른 역파장분산 보상 특성을 제공하는 역파장분산 보상필름용 조성물 및 이를 포함하는 보상필름에 관한 것이다.The present invention relates to a composition for a host-guest type coating type reverse wavelength dispersion compensation film and a reverse wavelength dispersion compensation film comprising the same, and more specifically, a more stable host due to intermolecular host-guest interaction through hydrogen bonding. It relates to a composition for a reverse wavelength dispersion compensation film and a compensation film comprising the same for inducing self-assembly between guest reactive mesogen compounds and thereby providing a compensation property for reverse wavelength dispersion.
LCD 보상필름, OLED 반사방지필름에 사용되는 위상차 필름은 종래에는 정파장분산 특성을 갖는 재료가 사용되었으나, 최근에는 파장에 대한 위상차 특성을 동등하게 얻을 수 있는 역파장분산 특성을 갖는 재료가 연구되고 있다. 이를 LCD 보상필름에 적용할 시 파장 별 보상 특성을 동등하게 할 수 있으며, OLED에 적용할 시 반사율을 낮추는데 유리하다.As the phase difference film used for the LCD compensation film and the OLED anti-reflection film, a material having a constant wavelength dispersion property has been used in the past, but recently, a material having a reverse wavelength dispersion property capable of obtaining the phase difference property equal to the wavelength has been studied. have. When applied to the LCD compensation film, the compensation characteristics for each wavelength can be made equal, and when applied to the OLED, it is advantageous to lower the reflectance.
OLED의 경우 Metal 전극으로부터 반사되는 외부광이 화상에 미치는 영향이 커서 반사방지 성능의 부여가 필수적이다. 현재 방사방지를 위해 사용되는 방식으로는 선편광필름과 λ/4 위상차필름을 적층한 원편광필름을 투명전극 바깥에 부착하는 방식을 예로 들 수 있다. 현재 상용화된 원편광필름에 사용되는 λ/4 위상차필름은 역파장분산 보상필름이 사용되고 있는데, 그 제조방법에 있어서 정파장분산 특성을 나타내는 연신필름 또는 반응성 메조겐 (Reactive Mesogen, RM) 층을 적층하는 방식이 사용되고 있다. 그러나 연신필름 적층 방식은 얇은 두께로 제작하기가 힘들어 박막화나 유연성을 높이기 힘들고, 반응성 메조겐 적층 방식은 각 필름 층에 분산된 반응성 메조겐이 다른 층에 사용된 반응성 메조겐에 대해 내용매성이 요구된다는 단점이 있다.In the case of OLED, since the external light reflected from the metal electrode has a large influence on the image, it is necessary to impart anti-reflection performance. As a method currently used to prevent radiation, a method of attaching a circularly polarizing film laminated with a linearly polarizing film and a λ / 4 retardation film to the outside of a transparent electrode is exemplified. The reverse wavelength dispersion compensation film is used for the λ / 4 phase difference film currently used for commercially available circularly polarized films. In the manufacturing method, a stretched film or a reactive mesogen (RM) layer exhibiting a constant wavelength dispersion property is laminated. The method is used. However, the stretched film lamination method is difficult to produce in a thin thickness, so it is difficult to increase the thickness or flexibility, and the reactive mesogen lamination method requires solvent resistance to the reactive mesogen used in another layer in which the reactive mesogen dispersed in each film layer is used. It has the disadvantage of being.
최근에는 디스플레이 산업의 발달로 인하여 플렉서블 디스플레이가 활발히 연구되고, 상용화를 준비하고 있다. 이에 따라 디스플레이 소재 부품 역시도 소형화, 박형화, 유연화가 더욱 요구되고 있다. 따라서 시야각 및 반사반지를 위한 보상필름 역시 적층 방식의 문제점들을 해소하고, 플렉서블 디스플레이 등 차세대 디스플레이 제품에 응용하고자 단일 층의 보상필름 개발이 시급한 실정이다.Recently, due to the development of the display industry, flexible displays have been actively researched and are being prepared for commercialization. Accordingly, display material parts are also required to be smaller, thinner, and more flexible. Therefore, the compensation film for viewing angle and reflection ring also solves the problems of the stacking method, and the development of a single layer compensation film is urgent to apply to the next generation display products such as flexible displays.
US 8252389호에는 역파장분산 특성을 갖는 반응성 메조겐 이량체 및 이를 포함하는 일층필름이 개시된다. 상기 등록특허는 역파장분산 특성을 갖도록 화합물을 분자단위에서 합성하였다. 그러나 상기 등록특허는 화합물의 합성이 복잡하고, 특히 화합물을 원하는 구조로 정렬시키기 어려워 상용성이 떨어지는 문제가 있을 뿐만 아니라 시야각 특성이 떨어진다는 문제가 있다.US 828252389 discloses a reactive mesogen dimer having reverse wavelength dispersion properties and a single layer film comprising the same. In the registered patent, compounds were synthesized on a molecular basis to have reverse wavelength dispersion characteristics. However, the registered patent has a problem that the synthesis of the compound is complicated, and it is difficult to arrange the compound into a desired structure, and thus there is a problem of poor compatibility and poor viewing angle characteristics.
국내특허 10-1482878-0000호에는 정파장분산 특성을 갖는 반응성 메조겐 분자들을 혼합하고, 이들 분자 간의 자가조립에 의하여 역파장분산 특성을 갖게 되는 일층필름이 개시된다. 상기 등록특허는 화합물의 합성이 비교적 쉽고, 공정 온도 범위가 넓다는 장점이 있으나, 시야각 특성이 여전히 협소하다는 문제가 있다.Korean Patent No. 10-1482878-0000 discloses a single layer film in which reactive mesogen molecules having a constant wavelength dispersion property are mixed and have reverse wavelength dispersion properties by self-assembly between the molecules. The registered patent has the advantage that the synthesis of the compound is relatively easy and the process temperature range is wide, but the viewing angle characteristic is still narrow.
국내특허 10-2016-0077181호에는 정파장분산 특성을 갖는 호스트 반응성 메조겐 분자와 X-형 또는 T-형 게스트 분자를 혼합하여 이들 분자간의 자가조립에 의하여 역파장분산 특성을 갖게 되는 일층 필름이 개시된다. 상기 등록특허는 화합물의 합성이 쉽고, 역파장분산 특성 및 시야각 특성이 우수하다는 장점이 있으나, 자가조립시 분자 간 상분리에 의하여 전 영역에서 균일하게 나타나지 않는다는 문제가 있다.In Korean Patent No. 10-2016-0077181, a single layer film having reverse wavelength dispersion property by self-assembly between these molecules by mixing host reactive mesogen molecule having constant wavelength dispersion property and X-type or T-type guest molecule Is disclosed. The registered patent has the advantage of easy compound synthesis and excellent reverse wavelength dispersion and viewing angle characteristics, but there is a problem that it does not appear uniformly in all regions due to phase separation between molecules during self-assembly.
본 발명은 기존의 일층형 역파장분산 보상필름이 갖고 있는 배향성을 개선할 수 있는 역파장분산 보상필름용 조성물 및 이를 포함하는 보상필름을 제공하는 것이다.The present invention is to provide a composition for a reverse wavelength dispersion compensation film and a compensation film comprising the same, which can improve the orientation of the conventional single layer reverse wavelength dispersion compensation film.
본 발명은 기존의 일층형 역파장분산 보상필름이 갖고 있는 호스트-게스트 분자간 자가조립시 나타나는 분자 간 상분리에 의한 비 균일성을 개선할 수 있는 역파장분산 보상필름용 조성물 및 이를 포함하는 보상필름을 제공하는 것이다.The present invention provides a composition for a reverse wavelength dispersion compensation film and a compensation film comprising the conventional one-layer reverse wavelength dispersion compensation film capable of improving non-uniformity due to intermolecular phase separation when self-assembling between host and guest molecules Is to provide.
상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명의 제1양태는 하기 화학식 1로 표시되는 신규한 호스트 반응성 메조겐 화합물을 제공한다.In order to solve the above problems, the first aspect of the present invention provides a novel host-reactive mesogen compound represented by Formula 1 below.
[화학식 1][Formula 1]
상기 화학식 1에서,In Chemical Formula 1,
A 및 B는 방향족 또는 고리형 화합물이고,A and B are aromatic or cyclic compounds,
R1 및 R2는 탄소수 4 내지 12개의 유연한 사슬기이고,R 1 and R 2 are a flexible chain group having 4 to 12 carbon atoms,
X는 하기의 화학식 3으로 표시되는 화합물 중 어느 하나이고,X is any one of the compounds represented by the formula (3),
Y는 하기의 화학식 4로 표시되는 화합물 중 어느 하나이고,Y is any one of the compounds represented by the formula (4),
Z는 OH, -COOH, -NH 및 -SH로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 하나인 수소결합을 할 수 있는 작용기를 포함한다.Z includes a functional group capable of hydrogen bonding, which is any one selected from the group consisting of OH, -COOH, -NH and -SH.
[화학식 3][Formula 3]
[화학식 4][Formula 4]
본 발명의 제2양태는 하기 화학식 6으로 표시되는 신규한 게스트 반응성 메조겐 화합물을 제공한다.The second aspect of the present invention provides a novel guest reactive mesogen compound represented by the following formula (6).
[화학식 6][Formula 6]
상기 화학식 6에서, D는 In Chemical Formula 6, D is
하기 화학식 7로 표시되는 화합물: Compound represented by the formula (7):
[화학식 7][Formula 7]
(상기 화학식 7에서, A, B, R1, R2, X 및 Y는 상기에서 정의한 바와 같다)(In the
또는 or
하기 화학식 9로 표시되는 화합물 중의 어느 하나:Any one of the compounds represented by the formula (9):
[화학식 9][Formula 9]
(상기 화학식 9에서, R은 탄소수 4 내지 12개의 유연한 사슬기이며, D1은 상기 화학식 7로 표시되는 화합물이다)이고;(In the
X는 광중합 및 열중합이 가능한 모든 작용기이다.X is any functional group capable of photopolymerization and thermal polymerization.
본 발명의 제3양태는 상기 호스트 반응성 메조겐 화합물 40 내지 80 중량% 및 상기 게스트 반응성 메조겐 화합물 20 내지 60 중량%를 포함하는 역파장분산 보상필름용 조성물을 제공한다.The third aspect of the present invention provides a composition for a reverse wavelength dispersion compensation film comprising 40 to 80% by weight of the host reactive mesogen compound and 20 to 60% by weight of the guest reactive mesogen compound.
본 발명의 제4양태는 상기 조성물을 포함하는 역파장분산 보상필름을 제공한다.The fourth aspect of the present invention provides an inverse wavelength dispersion compensation film comprising the composition.
본 발명에 따라 제조된 필름은 일층 구조로서 역파장분산 특성을 가지므로 OLED의 반사방지기능이나 LCD의 위상차 보상, 뿐만 아니라 플렉서블 디스플레이에 사용될 수 있다.Since the film manufactured according to the present invention has a reverse wavelength dispersion characteristic as a single layer structure, it can be used for an anti-reflection function of OLED or compensation of a phase difference of LCD, as well as a flexible display.
또한, 종래의 적층형 역파장분산 보상필름과 비교하여 단일층 공정만으로 역파장분산 특성을 구현할 수 있으며, 그 두께를 감소시킬 수 있고, 제조공정이 간단하여 제조 단가를 낮출 수 있어 경제적이면서도 대량 생산에 용이하다.In addition, compared to the conventional stacked-type reverse wavelength dispersion compensation film, the reverse wavelength dispersion characteristic can be realized only by a single layer process, the thickness can be reduced, and the manufacturing process is simple, so that the manufacturing cost can be lowered. It is easy.
도 1은 본 발명에 따른 호스트 반응성 메조겐 화합물의 일예로서 H-6BPBA의 합성 과정을 나타낸다.
도 2는 본 발명에 따른 호스트 반응성 메조겐 화합물의 일예로서 H-6BPBA의 1H-NMR 분석 결과를 나타낸다.
도 3은 본 발명에 따른 게스트 반응성 메조겐 화합물의 일예로서 N2의 1H-NMR 분석 결과를 나타낸다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 역파장분산 필름의 개념도를 나타낸다.
도 5는 비교예 1에 따른 필름의 파장분산특성을 나타낸다.
도 6은 비교예 2와 실시예 1에 따른 필름의 파장분산특성을 나타낸다. 1 shows a synthesis process of H-6BPBA as an example of a host reactive mesogen compound according to the present invention.
Figure 2 shows the results of 1 H-NMR analysis of H-6BPBA as an example of a host-reactive mesogen compound according to the present invention.
3 shows the results of 1 H-NMR analysis of N2 as an example of a guest reactive mesogen compound according to the present invention.
4 shows a conceptual diagram of a reverse wavelength dispersion film according to an embodiment of the present invention.
5 shows the wavelength dispersion characteristics of the film according to Comparative Example 1.
6 shows wavelength dispersion characteristics of the films according to Comparative Example 2 and Example 1.
이하에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 상세하게 설명한다. 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐리게 할 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략하기로 한다. 명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한, 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있음을 의미한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail. In the description of the present invention, when it is determined that a detailed description of related known technologies may obscure the subject matter of the present invention, the detailed description will be omitted. Throughout the specification, when a part “includes” a certain component, this means that other components may be further included instead of excluding other components, unless specifically stated to the contrary.
본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예를 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변환, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.The present invention can be applied to various transformations and can have various embodiments, and thus, specific embodiments will be illustrated and described in detail in the detailed description. However, this is not intended to limit the present invention to specific embodiments, and should be understood to include all conversions, equivalents, and substitutes included in the spirit and scope of the present invention.
본 발명에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 발명에서, 포함하다 또는 가지다 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terms used in the present invention are only used to describe specific embodiments, and are not intended to limit the present invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise. In the present invention, terms such as include or have are intended to designate the existence of features, numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof described in the specification, and one or more other features, numbers, or steps. It should be understood that it does not preclude the existence or addition possibility of the operation, components, parts or combinations thereof.
본 발명의 일 양태는 하기 화학식 1로 표시되는 호스트 반응성 메조겐 화합물을 제공한다.One aspect of the present invention provides a host-reactive mesogen compound represented by
[화학식 1][Formula 1]
상기 화학식 1에서, A 및 B는 각각 독립적으로 방향족 또는 고리형 화합물이고, R1 및 R2는 각각 독립적으로 탄소수 4 내지 12개의 유연한 사슬기이고, X는 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물 중 어느 하나이고, Y는 하기 화학식 4로 표시되는 화합물 중 어느 하나이고, Z는 OH, -COOH, -NH 및 -SH로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 하나의 수소결합을 할 수 있는 작용기를 포함한다.In
[화학식 3][Formula 3]
[화학식 4][Formula 4]
상기 화학식 1의 A 및 B로 표시되는 방향족 또는 고리형 화합물은 벤젠고리 화합물, 융합 벤젠 고리 화합물 또는 헤테로 고리 화합물을 포함한다. A와 B는 같을 수도 있고 서로 다를 수 있는 방향족 또는 고리형 화합물일 수 있다. 일례로 하기 화학식 2로 표시되는 화합물일 수 있다.The aromatic or cyclic compound represented by A and B of
[화학식 2][Formula 2]
상기 화학식 2에서 방향족 고리의 한 개 내지 두개의 탄소가 비공유 전자쌍을 가진 질소 또는 황 원자 등으로 치환되어 헤테로 고리 화합물을 만들 수 있으며, 상기 화학식의 고리의 측면에는 Br, Cl, I, F 원자 또는 CH3, CF3, CN, NO2 등과 같은 분자가 치환될 수 있다. In
상기 화학식 1에서 X는 광중합 및 열중합이 가능한 모든 작용기일 수 있다. 일예로서, 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물 중 어느 하나일 수 있다.In
[화학식 3] [Formula 3]
상기 화합물들은 화합물의 말단에 치환되어 구조제어에 용이하다. 따라서 화학식 1의 호스트 반응성 메조겐 화합물은 코팅 후 중합을 통해 고분자화될 수 있고, 중합을 통해서 원하는 액정상을 유지시킬 수 있다.The compounds are substituted at the terminal of the compound to facilitate structure control. Therefore, the host-reactive mesogen compound of
상기 화학식 1에서 Y는 하기 화학식 4로 표시되는 화합물들 중 어느 하나로 상기 방향족 또는 고리형 화합물을 연결해 주는 역할을 하는 작용기이다.In
[화학식 4][Formula 4]
상기 화학식 1에서 Z는 OH, -COOH, -NH 및 -SH로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나인 수소결합을 할 수 있는 작용기이다. In
상기 화학식 1에서 Z는 호스트의 한 쪽에는 전기음성도가 큰 원자와 결합된 수소를 두고 있어 게스트 반응성 메조겐과 혼합 시에 게스트의 비공유 전자쌍과 서로 상호작용하여 수소결합을 형성한다.In
따라서 화학식 1의 호스트 반응성 메조겐 화합물은 분자구조 내에 수소결합 작용기를 구비함으로써 게스트 반응성 메조겐 화합물과 반응하여 호스트와 게스트 반응성 메조겐 분자간에 수소결합을 형성할 수 있고, 이러한 분자간 상호작용으로 인하여 종래의 일층형 코팅식 역파장분산 보상필름의 문제점인 분자간의 상 분리를 피할 수 있다.Therefore, the host-reactive mesogen compound of
일례로, 상기 화학식 1의 화합물은 하기 화학식 5로 표시되는 것일 수 있다.For example, the compound of
[화학식 5][Formula 5]
상기 호스트 반응성 메조겐 화합물은 특정 온도구간에서 스멕틱 액정일 수 있다. 스멕틱 액정은 층상구조를 가지는 액정 상으로서, 이는 네마틱 액정에 비하여 배열이 더 규칙적이고 층상 구조를 가지고 있음을 의미하며, 이때의 층을 레이어라고 한다. 스멕틱 액정 상은 방향 질서 뿐 아니라 위치 질서도 함께 가지고 있는 액정 상으로, 스멕틱 액정 상을 나타내는 분자들은 스스로 레이어를 만들려고 하는 경향을 가지고 있다.The host-reactive mesogen compound may be a smectic liquid crystal at a specific temperature range. Smectic liquid crystal is a liquid crystal phase having a layered structure, which means that the arrangement is more regular and has a layered structure compared to a nematic liquid crystal, and the layer at this time is called a layer. The Smectic liquid crystal phase is a liquid crystal phase that has not only an directional order but also a positional order. The molecules representing the Smectic liquid crystal phase tend to make a layer by themselves.
본 발명에 사용가능한 스멕틱 액정은 액정 분자들이 스스로 레이어를 형성하는 공지된 스멕틱 액정을 사용할 수 있다. 본 발명에 사용할 수 있는 상기 호스트 반응성 메조겐 화합물로는 스멕틱 B상, 스멕틱 D상, 스멕틱 E상, 스멕틱 F상, 스메틱 G상, 스메틱 H상, 스메틱 I상, 스메틱 J상, 스메틱 K상, 스메틱 L상 등을 들 수 있으며, 바람직하게는 스멕틱 A, 스멕틱 C 또는 스멕틱 CA 상을 사용할 수 있다. The smectic liquid crystal usable in the present invention may be a known smectic liquid crystal in which liquid crystal molecules form a layer on their own. The host-reactive mesogenic compounds that can be used in the present invention include smectic B phase, smectic D phase, smectic E phase, smectic F phase, smectic G phase, smectic H phase, smectic I phase, smect And matic J phase, smetic K phase, smetic L phase, and the like, and preferably smectic A, smectic C, or smectic CA phase.
호스트 액정은 반응성 메조겐(mesogen)을 사용할 수 있다. 상기 반응성 메조겐은 반응성 메조겐 또는 반응성 액정 화합물을 나타낸다. 본 출원에서 용어 "반응성 메조겐"은 메조겐성 분자의 말단에 광 혹은 열에 반응하는 작용기를 갖는 물질, 즉 메소겐성 비닐 단량체을 말한다. 본 출원에서 용어 "메조겐 화합물"은 메조겐 구조를 가지는 화합물을 의미하고, 용어 "메조겐"은 결정에서 구조적 정렬(structural order)를 유도할 수 있는 구조를 의미한다.Reactive mesogen can be used as the host liquid crystal. The reactive mesogen represents a reactive mesogen or a reactive liquid crystal compound. The term "reactive mesogen" in the present application refers to a substance having a functional group that reacts with light or heat at the end of the mesogenic molecule, that is, a mesogenic vinyl monomer. In the present application, the term "mesogen compound" refers to a compound having a mesogen structure, and the term "mesogen" refers to a structure capable of inducing structural order in a crystal.
본 발명에서 "호스트 반응성 메조겐 화합물"은 반응기를 하나 이상 가지며 한쪽 말단에 수소결합을 할 수 있는 작용기를 갖는 반응성 스멕틱 액정일 수 있다.In the present invention, the "host-reactive mesogen compound" may be a reactive smectic liquid crystal having at least one reactor and a functional group capable of hydrogen bonding at one end.
본 발명의 다른 양태는 하기 화학식 6으로 표시되는 신규한 게스트 반응성 메조겐 화합물을 제공한다.Another aspect of the present invention provides a novel guest reactive mesogen compound represented by
[화학식 6][Formula 6]
상기 화학식 6에서, D는 하기 화학식 7 또는 화학식 9로 표시되는 화합물일 수 있다.In
[화학식 7][Formula 7]
[화학식 9][Formula 9]
상기 화학식 7에서, A 및 B는 각각 독립적으로 방향족 또는 고리형 화합물이고, R1 및 R2는 각각 독립적으로 탄소수 4 내지 12개의 유연한 사슬기이고, X는 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물 중 어느 하나이고, Y는 하기 화학식 4로 표시되는 화합물 중 어느 하나이다.In
상기 화학식 7의 A 및 B로 표시되는 방향족 또는 고리형 화합물은 벤젠고리 화합물, 융합 벤젠 고리 화합물 또는 헤테로 고리 화합물을 포함한다. A와 B는 같을 수도 있고 서로 다를 수 있는 방향족 또는 고리형 화합물일 수 있다. 일례로 하기 화학식 2로 표시되는 화합물일 수 있다.The aromatic or cyclic compound represented by A and B in
[화학식 2][Formula 2]
화학식 7은 D의 일예로서, 게스트 반응성 메조겐의 알킬체인을 대신하여 보다 호스트 반응성 메조겐과 잘 섞일 수 있도록 알킬체인 사이에 메조겐을 도입하였으며 필요에 의해 그 말단에 광중합기 X를 도입한 것이다. 화학식 7로 표시되는 화합물을 포함하는 게스트 반응성 메조겐은 X-형 분자구조를 나타낸다.
상기 화학식 7의 일예로서 하기 화학식 8로 표시되는 화합물을 들 수 있다. 하기 화학식은 새롭게 제안된 X-형 게스트 반응성 메조겐의 일예로서 제안된 것일 뿐 이에 국한되지는 않는다. The compound represented by the following general formula (8) is mentioned as an example of the said general formula (7). The following formula is suggested as an example of the newly proposed X-type guest reactive mesogen, but is not limited thereto.
[화학식 8][Formula 8]
상기 화학식 9에서, R은 탄소수 4 내지 12개의 유연한 사슬기이고, D1은 상기 화학식 7과 동일한 구조를 가질 수 있다.In
상기 화학식 9는 D의 일예로서, 게스트 반응성 메조겐의 알킬 체인을 대신하여 두 개 이상의 알킬체인 또는 메조겐 사이드 체인을 도입하였으며, 필요에 의해 그 말단에 중합 가능한 작용기를 도입할 수도 있다. 화학식 9로 표시되는 화합물을 포함하는 게스트 반응성 메조겐은 dendritic X-형 분자구조를 나타내며, 이상적으로 이 물질은 따로 호스트 반응성 메조겐을 섞지 않고 dendritic X-형 반응성 메조겐만으로도 역파장분산 특성을 구현할 수 있다.As an example of D in
단, 상기 화학식 7과 9로 표시되는 D의 길이는 역파장분산 특성을 나타내기 위하여 너무 길어서는 안 된다. 바람직하게는 D의 길이는 0.4 nm 내지 1.3 nm 일 수 있다.However, the length of D represented by the above formulas (7) and (9) should not be too long to show the reverse wavelength dispersion characteristics. Preferably, the length of D may be 0.4 nm to 1.3 nm.
상기 화학식 6에서, X는 광중합 및 열중합이 가능한 모든 작용기일 수 있다. 일예로서, 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물 중 어느 하나일 수 있다.In
[화학식 3] [Formula 3]
상기 화학식 6으로 표시되는 화합물은 방향족 또는 고리형 화합물로서, D로 치환되는 X-형 또는 dendritic X-형 분자구조를 갖는 화합물일 수 있다. The compound represented by
상기 화학식 6의 게스트 반응성 메조겐 화합물은 X와 D의 종류에 따라 호스트 액정에 수직적으로 위치할 수 있는 여부가 달려있습니다.The guest-reactive mesogen compound of
일례로, 상기 화학식 6의 화합물은 하기 화학식 10으로 표시되는 것일 수 있다. For example, the compound of
[화학식 10][Formula 10]
본 발명의 다른 양태는 역파장분산 보상필름용 조성물을 제공한다. Another aspect of the present invention provides a composition for a compensation film for reverse wavelength dispersion.
본 발명에 따른 역파장분산 보상필름용 조성물은 호스트-게스트 방식의 코팅형 역파장분산 보상필름용 조성물로서, 상기 호스트 반응성 메조겐 40 내지 80 중량% 및 상기 게스트 반응성 메조겐 20 내지 60 중량%를 포함하는 것이 바람직하다. The composition for a reverse wavelength dispersion compensation film according to the present invention is a composition for a host-guest type coating type reverse wavelength dispersion compensation film, wherein the host
본 발명에 사용되는 호스트 반응성 메조겐 화합물은 게스트 반응성 메조겐에 비해 단파장을 흡수한다. 본 발명에서 호스트 반응성 메조겐은 10 내지 400 nm, 바람직하게는 100 내지 400 nm 파장대의 광을 흡수하고, 게스트 반응성 메조겐 화합물은 100 내지 430 nm, 바람직하게는 200 내지 430 nm 파장대의 광을 흡수한다.The host reactive mesogen compound used in the present invention absorbs a short wavelength compared to the guest reactive mesogen. In the present invention, the host reactive mesogen absorbs light in a wavelength range of 10 to 400 nm, preferably 100 to 400 nm, and the guest reactive mesogen compound absorbs light in a wavelength range of 100 to 430 nm, preferably 200 to 430 nm. do.
상기 게스트 반응성 메조겐 화합물은 상기 호스트 반응성 메조겐 화합물 층 사이에 위치하여 수소결합을 통하여 호스트 반응성 메조겐 화합물과 상호작용할 수 있다. The guest reactive mesogen compound may be located between the host reactive mesogen compound layer and interact with the host reactive mesogen compound through hydrogen bonding.
상기 조성물은 호스트 반응성 메조겐, 게스트 반응성 메조겐과 중합개시제 및 용제를 함유할 수 있다.The composition may contain a host reactive mesogen, a guest reactive mesogen, a polymerization initiator, and a solvent.
상기 용제는 N-메틸피롤리돈(NMP), 사이클로헥산, 사이클로헥사논, 사이클로펜타논, 아세톤, 메틸에틸케톤, 에탄올, 메탄올, 메틸알코올, 이소프로필 알코올, 톨루엔, 클로로포름, 디클로로메탄 등을 사용할 수 있다. The solvent may be N-methylpyrrolidone (NMP), cyclohexane, cyclohexanone, cyclopentanone, acetone, methyl ethyl ketone, ethanol, methanol, methyl alcohol, isopropyl alcohol, toluene, chloroform, dichloromethane, etc. Can be.
상기 광중합개시제는 공지된 화합물을 사용할 수 있으며, 예를 들면, 벤조인 화합물, 벤조페논 화합물, 알킬페논 화합물, 아실포스핀옥사이드 화합물, 트리아진 화합물, 요오드늄염 및 술포늄염 등이 있다.The photopolymerization initiator may be a known compound, for example, benzoin compounds, benzophenone compounds, alkylphenone compounds, acylphosphine oxide compounds, triazine compounds, iodonium salts and sulfonium salts.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 호스트-게스트 물질을 따로 두는 대신에 한 분자에 호스트와 게스트 반응성 메조겐의 구조를 동시에 갖는 물질을 단독으로 사용하여 역파장분산 특성을 나타낼 수도 있다.According to an embodiment of the present invention, instead of separately setting the host-guest material, a material having the structure of a host and a guest reactive mesogen at the same time may be used alone to exhibit reverse wavelength dispersion characteristics.
본 발명의 다른 양태는 상기 역파장분산 보상필름용 조성물을 포함하는 역파장분산 보상필름을 제공한다. Another aspect of the present invention provides a reverse wavelength dispersion compensation film comprising the composition for the reverse wavelength dispersion compensation film.
본 발명의 역파장분산 보상필름은 상기 역파장분산 보상필름용 조성물을 기판에 코팅하고 광경화 반응시켜 제조할 수 있다. 이를 상세히 설명하면, 먼저 기판 위에 폴리이미드계 배향막을 코팅하여 경화시킨다. 사용된 배향막은 공지된 러빙법 및 광배향법을 이용하여 형성할 수 있다. 상기 조성물을 배향막상에 코팅한 후 용제를 증발시켜 제거한 후 UV를 조사하여 필름을 형성할 수 있다. 상기 조성물을 배향막 상에 코팅하게 되면 상기 게스트 반응성 메조겐 화합물이 상기 호스트 반응성 메조겐 화합물의 레이어와 레이어 사이에 위치하게 되고 레이어 평면에 평행하게 정렬하게 된다. 이 때 호스트-호스트의 친화력에 비해 호스트-게스트의 친화력이 약하기 때문에 호스트 반응성 메조겐 화합물의 레이어 사이 공간으로 반응성 게스트 메조겐 화합물이 분리된다. 이어서, 호스트 반응성 메조겐 화합물과 게스트 반응성 메조겐 화합물의 수소결합을 통한 상호작용으로 분자의 자가조립이 이루어져 2차원 구조의 안정성이 부여되고 정렬도가 향상된 필름을 제조할 수 있다.The reverse wavelength dispersion compensation film of the present invention can be prepared by coating the composition for the reverse wavelength dispersion compensation film on a substrate and performing a photocuring reaction. To explain this in detail, first, a polyimide-based alignment layer is coated on a substrate to cure. The alignment film used can be formed using known rubbing and photo-alignment methods. After coating the composition on the alignment layer, the solvent may be evaporated to remove it, and then irradiated with UV to form a film. When the composition is coated on the alignment layer, the guest reactive mesogen compound is positioned between the layer and the layer of the host reactive mesogen compound and aligned parallel to the layer plane. At this time, since the affinity of the host-guest is weak compared to the affinity of the host-host, the reactive guest mesogen compound is separated into the space between the layers of the host reactive mesogen compound. Subsequently, the self-assembly of the molecule is achieved through the interaction of the host-reactive mesogen compound and the guest-reactive mesogen compound through hydrogen bonding, so that the stability of the two-dimensional structure is given and the alignment is improved.
도 4는 본 발명에서 제조된 역파장분산 보상필름의 개념도를 나타낸다. 도 4를 참고하면, 본 발명의 역파장분산 보상필름은 호스트 반응성 메조겐 화합물의 레이어 및 이들 사이에 위치하는 게스트 반응성 메조겐 화합물을 포함한다.4 shows a conceptual diagram of a reverse wavelength dispersion compensation film prepared in the present invention. Referring to FIG. 4, the reverse wavelength dispersion compensation film of the present invention includes a layer of a host reactive mesogen compound and a guest reactive mesogen compound positioned between them.
호스트 반응성 메조겐 화합물의 레이어와 레이어 사이의 빈 공간에 게스트 반응성 메조겐 화합물이 배열되어 중합되므로 게스트 반응성 메조겐은 수직방향성이 상대적으로 큰 반면, 호스트 반응성 메조겐은 도 4와 같이 수평방향성(층상)을 나타내도록 위치하는 것이 바람직하다.Since the guest reactive mesogen compound is polymerized by arranging the guest reactive mesogen compound in an empty space between the layer and the layer of the host reactive mesogen compound, the host reactive mesogen is relatively large in vertical direction as shown in FIG. 4 (layered ).
상기 레이어들은 1 내지 3nm의 폭을 가지지만 이에 제한되는 것은 아니다.The layers have a width of 1 to 3 nm, but are not limited thereto.
상기 호스트 반응성 메조겐은 게스트 반응성 메조겐에 비해 단파장을 흡수한다. 바람직하게는 상기 호스트 반응성 메조겐은 100 내지 400 nm 파장대의 광을 흡수하고, 상기 게스트 반응성 메조겐은 200 내지 430 nm 파장대의 광을 흡수한다. The host reactive mesogen absorbs shorter wavelengths than the guest reactive mesogen. Preferably, the host reactive mesogen absorbs light in the wavelength range of 100 to 400 nm, and the guest reactive mesogen absorbs light in the wavelength range of 200 to 430 nm.
역파장분산 보상필름용 조성물을 이용하여 만든 필름 상에서 상기 게스트 반응성 메조겐 화합물은 방향에서 광을 강하게 흡수하고, 상기 호스트 반응성 메조겐 화합물은 방향에서 광을 강하게 흡수한다.The guest reactive mesogen compound on a film made using a composition for a reverse wavelength dispersion compensation film Strong absorption of light in the direction, the host reactive mesogen compound Strong absorption of light in the direction.
상기 역파장분산 보상필름의 두께는 1 내지 10 ㎛일 수 있다.The reverse wavelength dispersion compensation film may have a thickness of 1 to 10 μm.
상기 호스트 반응성 메조겐 화합물은 정파장분산(positive dispersion) 특성을 가지지만, 호스트 반응성 메조겐 화합물과 이들 사이에 개제된 게스트 반응성 메조겐 화합물에 의해 제조된 본 발명의 필름은 역파장분산(negative dispersion) 특성을 갖는다.The host reactive mesogen compound has a positive dispersion property, but the film of the present invention prepared by the host reactive mesogen compound and the guest reactive mesogen compound interposed therebetween is negatively dispersed. ) Has characteristics.
액정의 복굴절률은 분극성의 이방성에 따라 변한다. 분극성은 원자 또는 분자 내에서의 전자 분포가 뒤틀릴 수 있는 용이성을 의미한다. 분극성은 전자의 수가 많을수록, 확산 전자구름이 많을수록 증가한다.The birefringence of the liquid crystal changes with polarization anisotropy. Polarizability refers to the ease with which the distribution of electrons within an atom or molecule can be distorted. Polarization increases as the number of electrons increases and the number of diffusion electron clouds increases.
소정 파장 에서 액정 또는 복굴절 물질의 Retardation은 하기 수학식 1에 따라, 상기 파장에서의 복굴절률 및 층 두께 의 곱으로서 정의되며 Phase retardation은 Retardation 값과 의 곱으로 정의된다.Predetermined wavelength In the retardation of the liquid crystal or birefringent material according to
[수학식 1][Equation 1]
Retardation = Retardation =
복굴절률() = Birefringence ( ) =
Phase retardation = Phase retardation =
빛의 편광 방향에 관계없이 일정한 속력을 갖는 방향의 굴절률을 편광방향에 따라 다른 속력을 갖는 방향의 굴절률을 라고 정의한다.Refractive index in the direction with constant speed regardless of the polarization direction of light Refractive index in the direction with different speed depending on the polarization direction Is defined as
정파장분산 특성은 파장이 길어질수록 Retardation이 감소하고, 반대로 역파장분산 특성은 파장이 길어질수록 Retardation이 증가한다.Retardation decreases as the wavelength increases for the constant wavelength dispersion characteristic, whereas retardation increases as the wavelength increases for the reverse wavelength dispersion characteristic.
정파장분산 재료는 특정파장 (550 nm)의 빛에 대해 Phase retardation 값이 특정 값을 갖도록 제작했을 때, 단파장 (450 nm)과 장파장 (650 nm)의 빛에 대하여 Phase retardation 값이 달라지는 문제가 발생하는 반면, 역파장분산 재료는 파장에 관계없이 일정한 Phase retardation을 나타낼 수 있다. 따라서 OLED의 반사방지 필름이나 LCD 보상필름에 정파장분산 특성보다 역파장분산 특성을 갖는 위상차필름을 사용하는 것이 훨씬 유리함을 알 수 있다.When the wavelength dispersion material is manufactured so that the phase retardation value has a specific value for light of a specific wavelength (550 nm), a problem occurs in which the phase retardation value is changed for light of a short wavelength (450 nm) and a long wavelength (650 nm). On the other hand, the reverse wavelength dispersion material can exhibit a constant phase retardation regardless of the wavelength. Therefore, it can be seen that it is much more advantageous to use a retardation film having a reverse wavelength dispersion property than a constant wavelength dispersion property for an OLED antireflection film or LCD compensation film.
도 4를 참고하면, 호스트 반응성 메조겐 화합물의 장축 방향, 다시 말해 호스트 반응성 메조겐 레이어에 수직한 방향이 가 된다. 호스트 반응성 메조겐화합물의 단축방향, 다시 말해 호스트 반응성 메조겐 레이어에 평행한 방향이 가 된다. 필름에 입사되어 방향으로 편광된 빛은 100 내지 300 nm의 단파장 영역을 흡수하는 호스트 반응성 메조겐 화합물에 의해 흡수되고, 방향으로 편광된 빛은 300 내지 430 nm의 장파장 영역을 흡수하는 게스트 반응성 메조겐 화합물에 의해 흡수된다.Referring to FIG. 4, the long axis direction of the host reactive mesogen compound, that is, the direction perpendicular to the host reactive mesogen layer Becomes. The shortening direction of the host reactive mesogen compound, that is, the direction parallel to the host reactive mesogen layer Becomes. Joined the film The light polarized in the direction is absorbed by the host reactive mesogen compound absorbing a short wavelength region of 100 to 300 nm, Light polarized in the direction is absorbed by the guest reactive mesogen compound absorbing a long wavelength region of 300 to 430 nm.
보다 더 구체적으로, 흡수파장은 또는 각각이 가시광선 영역에서 급격하게 감소하느냐, 완만하게 감소하느냐에 영향을 준다. 다시 말해, 방향에서 메조겐이 250 nm 파장의 빛을 흡수하면, 250 nm 흡수파장 바로 근처에서는 가 급격하게 감소하고, 250 nm 흡수파장으로부터 멀어질수록 완만하게 감소된다. 즉, 흡수가 일어나는 파장에서 굴절률이 극대가 된다.More specifically, the absorption wavelength or Each affects whether it decreases rapidly or slowly in the visible region. In other words, If the mesogen in the direction absorbs light with a wavelength of 250 nm, in the vicinity of the absorption wavelength of 250 nm, Decreases rapidly, and gradually decreases away from the absorption wavelength of 250 nm. That is, the refractive index becomes maximum at the wavelength at which absorption occurs.
한편, 방향에서 메조겐이 365 nm 파장의 빛을 흡수하면, 365 nm 근처에서는 가 급격히 감소하고, 365 nm에서 멀어질수록 완만하게 감소하게 된다.Meanwhile, If the mesogen in the direction absorbs light of 365 nm wavelength, in the vicinity of 365 nm Decreases rapidly, and gradually decreases as it moves away from 365 nm.
결과적으로 가시광선 영역대 (450 내지 650 nm)에서는 는 완만하게 감소하고, 는 급격하게 감소하게 되므로, 본 발명의 필름은 파장이 길어질수록 복굴절 ()이 증가하는 역파장분산 특성이 나타나게 된다.As a result, in the visible region (450 to 650 nm) Is slowly decreasing, Since is rapidly reduced, the longer the wavelength of the film of the present invention is birefringence ( ) Increases the inverse wavelength dispersion characteristic.
이하, 실시예를 통하여 호스트 반응성 메조겐 및 역파장분산 보상필름의 제조를 더욱 상세하게 설명한다. 다만, 하기의 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것일 뿐, 본 발명의 범위를 한정할 것을 의도하지 않는다. Hereinafter, the preparation of the host reactive mesogen and reverse wavelength dispersion compensation film will be described in more detail through examples. However, the following examples are only for illustrating the present invention, and are not intended to limit the scope of the present invention.
(제조예 1) (Production Example 1)
4'-((6-hydroxyhexyl)oxy)-[1,1'-biphenyl]-4-yl 4-((6-(methacryloyloxy)hexyl)oxy)benzoate의 제조 Preparation of 4 '-((6-hydroxyhexyl) oxy)-[1,1'-biphenyl] -4-yl 4-((6- (methacryloyloxy) hexyl) oxy) benzoate
도 1은 상기 화학식 5의 호스트 반응성 메조겐 (H-6BPBA)의 합성 과정을 나타낸 것이다. 도 1에 나타낸 바와 같이, 상기 화학식 5를 포함하는 호스트 반응성 메조겐 화합물을 합성하였다. Figure 1 shows the synthesis process of the host reactive mesogen (H-6BPBA) of the formula (5). 1, a host-reactive mesogen
먼저 4,4'-Biphenol (7 g, 37.6 mmol)을 정제된 디메칠포름아미드(DMF) (50 ml)와 혼합한 후에 6-Bromohexyloxy-tert-butyldimethylsilane (2 g, 6.8 mmol)을 천천히 넣어주었다. 90℃에서 약 12시간 동안 환류시킨 뒤 상온으로 온도를 낮췄다. 물에 합성물을 넣고 침전 시킨 뒤 침전물을 걸러 내었다. 클로로포름과 메탄올의 비율을 20:1로 한 전개용매를 이용하여 컬럼크로마토그래피법으로 정제하여 4'-((6-((tert-butyldimethylsilyl)oxy)hexyl)oxy)-[1,1'-biphenyl]-4-ol (화합물 1)을 합성하였다. First, 4,4'-Biphenol (7 g, 37.6 mmol) was mixed with purified dimethylformamide (DMF) (50 ml), and 6-Bromohexyloxy- tert- butyldimethylsilane (2 g, 6.8 mmol) was slowly added. . After refluxing at 90 ° C for about 12 hours, the temperature was lowered to room temperature. After putting the compound in water and precipitated, the precipitate was filtered out. 4 '-((6-((tert-butyldimethylsilyl) oxy) hexyl) oxy)-[1,1'-biphenyl by purification by column chromatography using a developing solvent with a chloroform to methanol ratio of 20: 1 ] -4-ol (Compound 1) was synthesized.
다음으로 에탄올에 4-Hydrobenzoic acid (2 g, 14.5 mmol)와 KOH (5 g, 89.1 mmol), KI (0.25 g, 1.5 mmol)를 녹인 후 에탄올 (30 ml)과 6-Chloro-1-hexanol (3 g, 22 mmol)을 혼합한 용액을 천천히 넣어주었다. 70℃에서 이틀 동안 환류시킨 뒤 추가로 KOH (5 g, 89.1 mmol)을 첨가하여 하루 더 환류시켜 주었다. 상온으로 온도를 낮춘 후에 차가운 물에 붓고 2N HCl 용액 (10 ml)을 첨가하여 중화시켰다. 침전물은 걸러내고, 물과 헥산을 이용하여 수차례 씻어주어 4-((6-hydroxyhexyl)oxy)benzoic acid (2.9 g)을 합성하였다. Next, 4-Hydrobenzoic acid (2 g, 14.5 mmol), KOH (5 g, 89.1 mmol), and KI (0.25 g, 1.5 mmol) were dissolved in ethanol, followed by ethanol (30 ml) and 6-Chloro-1-hexanol ( 3 g, 22 mmol) was added slowly. After refluxing at 70 ° C for 2 days, KOH (5 g, 89.1 mmol) was further added to reflux the day. After lowering the temperature to room temperature, it was poured into cold water and neutralized by adding 2N HCl solution (10 ml). The precipitate was filtered, and washed with water and hexane several times to synthesize 4-((6-hydroxyhexyl) oxy) benzoic acid (2.9 g).
합성된 4-((6-hydroxyhexyl)oxy)benzoic acid (1 g, 4.2 mmol)와 Triethylamine (1 ml, 16.9 mmol)을 1,4-다이옥산 (20 ml)에 녹였다. 혼합물을 0℃로 냉각 시켜준 후, Methacyloyl chloride (1 ml, 9.6 mmol)를 천천히 넣어주었다. 상온에서 10시간 내지 15시간 동안 교반시킨 후 차가운 물에 부어주었다. 반응물을 에칠아세테이트(EA)를 이용하여 추출해 낸 후, 용매를 모두 증발시켰다. Acetic acid를 넣고 100℃에서 30분 동안 끓여주었다. 반응물을 충분히 식힌 후에 차가운 물에 넣어 침전시킨 뒤, 걸러내었다. 걸러진 침전물을 물과 헥산을 이용하여 수차례 씻어주어 중합이 가능한 methacrylate를 갖는 4-((6-(methacryloyloxy)hexyl)oxy)benzoic acid (화합물 2)를 합성하였다.The synthesized 4-((6-hydroxyhexyl) oxy) benzoic acid (1 g, 4.2 mmol) and Triethylamine (1 ml, 16.9 mmol) were dissolved in 1,4-dioxane (20 ml). After the mixture was cooled to 0 ° C, Methacyloyl chloride (1 ml, 9.6 mmol) was slowly added. After stirring at room temperature for 10 to 15 hours, it was poured into cold water. After the reaction was extracted with ethyl acetate (EA), all of the solvent was evaporated. Acetic acid was added and boiled at 100 ° C for 30 minutes. After the reaction was sufficiently cooled, it was precipitated in cold water and filtered. The filtered precipitate was washed several times with water and hexane to synthesize 4-((6- (methacryloyloxy) hexyl) oxy) benzoic acid (Compound 2) with polymerizable methacrylate.
다음으로 화합물 1 (0.3 g, 0.7 mmol)과 화합물 2 (0.36 g, 1.2 mmol)를 과량의 EDC (0.3 g)와 미량의 DMAP (0.003 g)와 함께 메칠렌클로라이드에 녹인 후 0℃에서 10시간 내지 12시간 정도 교반시켰다. 반응 후에 물과 메칠렌클로라이드를 이용하여 추출하고, 클로로포름과 메탄올의 비율을 10:1 (v/v)로 한 전개용매를 이용하여 컬럼크로마토그래피법으로 정제하여 4'-((6-((tert-butyldimethylsilyl)oxy) hexyl)oxy)-[1,1'-biphenyl]-4-yl-4-((6-(methacryloyloxy)hexyl)oxy)benzoate (화합물 3) 을 합성하였다.Next, Compound 1 (0.3 g, 0.7 mmol) and Compound 2 (0.36 g, 1.2 mmol) were dissolved in methylene chloride with excess EDC (0.3 g) and trace amount of DMAP (0.003 g), and then at 0 ° C. for 10 hours. It was stirred for about 12 hours. After the reaction, extraction was performed with water and methyl chloride, and purified by column chromatography using a developing solvent having a ratio of chloroform and methanol of 10: 1 (v / v) to 4 '-((6-(( tert-butyldimethylsilyl) oxy) hexyl) oxy)-[1,1'-biphenyl] -4-yl-4-((6- (methacryloyloxy) hexyl) oxy) benzoate (Compound 3) was synthesized.
마지막으로 화합물 3 (0.45 g, 0.7 mmol)을 테트라하이드로퓨란에 녹인 후 0℃로 식혀주었다. 그 후에 1M Tetrabutylammonium fluoride (2 ml)를 천천히 넣어주었다. 반응이 끝나면 용매를 증발시키고, Ethyl acetate와 물을 이용하여 수차례 추출한 후 테트라하이드로퓨란과 헥산의 비율을 4:3으로 한 전개용매를 이용하여 컬럼크로마토그래피법으로 정제한 후, 메탄올을 이용하여 재결정하여 상기 화학식 5의 4'-((6-hydroxyhexyl)oxy)-[1,1'-biphenyl]-4-yl 4-((6-(methacryloyloxy)hexyl)oxy)benzoate(이하, H-6BPBA)(화합물 4)을 얻어냈다.Finally, compound 3 (0.45 g, 0.7 mmol) was dissolved in tetrahydrofuran and cooled to 0 ° C. Then 1M Tetrabutylammonium fluoride (2 ml) was added slowly. When the reaction is over, the solvent is evaporated, extracted several times with Ethyl acetate and water, and purified by column chromatography using a developing solvent with a ratio of tetrahydrofuran and hexane of 4: 3, and then using methanol. By recrystallization, 4 '-((6-hydroxyhexyl) oxy)-[1,1'-biphenyl] -4-yl 4-((6- (methacryloyloxy) hexyl) oxy) benzoate of Chemical Formula 5 (hereinafter referred to as H-6BPBA) ) (Compound 4).
상기 화학식 5의 H-6BPBA의 1H-NMR 분석 결과를 도 2에 나타내었다.The results of 1 H-NMR analysis of H-6BPBA of
도 2의 NMR 분석 결과 값은 다음과 같았다.The results of NMR analysis in FIG. 2 were as follows.
1H-NMR (400 MHz, CHCl3) : δ = 8.1 (d, 2H), 7.5 (d, 2H), 7.4 (d, 2H), 7.2 (d, 2H), 6.9 (m, 4H), 6.1 (s, 1H), 5.5 (s, 1H), 4.1 (t, 2H), 3.9-4.0 (m, 4H), 3.6 (t, 2H), 1.9 (s, 3H), 1.8 (m, 4H), 1.6-1.8 (m, 2H), 1.4-1.5 (m, 18H) 1 H-NMR (400 MHz, CHCl 3 ): δ = 8.1 (d, 2H), 7.5 (d, 2H), 7.4 (d, 2H), 7.2 (d, 2H), 6.9 (m, 4H), 6.1 (s, 1H), 5.5 (s, 1H), 4.1 (t, 2H), 3.9-4.0 (m, 4H), 3.6 (t, 2H), 1.9 (s, 3H), 1.8 (m, 4H), 1.6-1.8 (m, 2H), 1.4-1.5 (m, 18H)
(제조예 2) (Production Example 2)
((1E,1'E)-((3,3'-bis(octyloxy)-[1,1'-biphenyl]-4,4'-diyl)bis(azanylylidene))bis(methanylylidene))bis(4,1-phenylene) bis(2-methylacrylate)의 제조 ((1E, 1'E)-((3,3'-bis (octyloxy)-[1,1'-biphenyl] -4,4'-diyl) bis (azanylylidene)) bis (methanylylidene)) bis (4 Preparation of, 1-phenylene) bis (2-methylacrylate)
상기 화학식 10으로 표시되는 게스트 반응성 메조겐 화합물을 합성하였다. A guest reactive mesogen compound represented by Chemical Formula 10 was synthesized.
먼저, 250ml 둥근플라스크에서 3,3′-Dihydroxybenzidine (2g, 1.01 mmol)와 phthalic anhydride (5.47g, 4 mmol), isoquinoline을 정제된 N-Methyl-2-pyrrolidone 25 ml에 혼합하였다. 120℃에서 6시간 동안 환류시킨 뒤 상온으로 온도를 낮추었다. 150ml의 Methanol을 둥근 플라스크에 부어주어 침전 시킨 뒤, 2,2'-(3,3'-dihydroxy-[1,1'-biphenyl]-4,4'-diyl)bis(isoindoline-1,3-dione)을 얻어냈다. 이어서 100ml 둥근플라스크에 합성물과 (1 g, 1mmol) 1-bromooctane (1.6 g, 3.8mmol), potassium carbonate와 potassium iodide를 정제된 dimethylformamide (20ml)을 용매로 하여 60℃에서 24시간 동안 환류시켰다. 반응 종료 후, 메탄올과 클로로포름의 비율을 1:5 (v/v)로 한 전개용매을 이용하여 컬럼크로마토그래피법으로 정제하였다. 이어서, Hydrazin monohydrate를 과량 첨가하여 phthalic anhydride를 제거하였다. 100ml 둥근플라스크에서 3,3′-bis(octyloxy)-[1,1′-biphenyl]-4,4′-diamine (0.3g, 0.68mmol)와 4-formylphenyl methacrylate (0.39g, 2.0mmol), sodium carbonate를 정제된 tetrahydrofuran (30ml)에 혼합하였다. 60℃에서 48시간 동안 환류시킨 뒤 상온으로 온도를 낮추었다. 반응 종료 후, 아세톤과 헥산의 비율을 1:7 (v/v)로 한 전개용매를 이용하여 컬럼크로마토그래피법으로 정제하였다. 그 후, 50ml ethanol에 합성물을 넣고 침전시킨 뒤 침전물을 걸러내 건조함으로써 상기 화학식 10의 ((1E,1'E)-((3,3'-bis(octyloxy)-[1,1'-biphenyl]-4,4'-diyl) bis(azanylylidene))bis(methanylylidene))bis(4,1-phenylene) bis(2-methylacrylate)(이하, N2)를 얻어냈다.First, 3,3′-Dihydroxybenzidine (2g, 1.01 mmol), phthalic anhydride (5.47g, 4 mmol) and isoquinoline were mixed in 25 ml of purified N-Methyl-2-pyrrolidone in a 250 ml round flask. After refluxing at 120 ° C. for 6 hours, the temperature was lowered to room temperature. Pour 150ml of methanol into a round flask to precipitate, and then 2,2 '-(3,3'-dihydroxy- [1,1'-biphenyl] -4,4'-diyl) bis (isoindoline-1,3- dione). Subsequently, the compound, (1 g, 1 mmol), 1-bromooctane (1.6 g, 3.8 mmol), potassium carbonate, and potassium iodide were refluxed at 60 ° C. for 24 hours using a purified dimethylformamide (20 ml) in a 100 ml round flask. After completion of the reaction, it was purified by column chromatography using a developing solvent with a ratio of methanol and chloroform of 1: 5 (v / v). Subsequently, an excessive amount of Hydrazin monohydrate was added to remove phthalic anhydride. 3,3′-bis (octyloxy)-[1,1′-biphenyl] -4,4′-diamine (0.3g, 0.68mmol) and 4-formylphenyl methacrylate (0.39g, 2.0mmol), sodium in 100ml round flask The carbonate was mixed with purified tetrahydrofuran (30 ml). After refluxing at 60 ° C for 48 hours, the temperature was lowered to room temperature. After completion of the reaction, acetone and hexane were purified by column chromatography using a developing solvent having a ratio of 1: 7 (v / v). Subsequently, the compound was precipitated in 50 ml ethanol, precipitated, and then filtered and dried to form ((1E, 1'E)-((3,3'-bis (octyloxy)-[1,1'-biphenyl) ] -4,4'-diyl) bis (azanylylidene)) bis (methanylylidene)) bis (4,1-phenylene) bis (2-methylacrylate) (hereinafter, N2) was obtained.
상기 화학식 10의 N2의 1H-NMR 분석 결과를 도 3에 나타내었다.The results of 1 H-NMR analysis of N2 in Chemical Formula 10 are shown in FIG. 3.
도 3의 NMR 분석 결과 값은 다음과 같았다.The results of NMR analysis in FIG. 3 were as follows.
1H-NMR (400 MHz, CHCl3) : δ = 0.86 (t, 6H), 1.25-1.58 (m, 20H), 1.82 (m, 4H), 2.08 (t, 6H), 4.1 (t, 4H), 5.79 (s, 2H), 6.38 (s, 2H), 7.24-7.26 (m, 4H), 7.95 (d, 4H), 8.57 (s, 2H) 1 H-NMR (400 MHz, CHCl 3 ): δ = 0.86 (t, 6H), 1.25-1.58 (m, 20H), 1.82 (m, 4H), 2.08 (t, 6H), 4.1 (t, 4H) , 5.79 (s, 2H), 6.38 (s, 2H), 7.24-7.26 (m, 4H), 7.95 (d, 4H), 8.57 (s, 2H)
(비교예 1)(Comparative Example 1)
ITO 기판위에 배향막을 코팅하고 건조시킨 후 러빙하여 기판을 준비하였다. 호스트 반응성 메조겐 재료로서 기존에 사용되던 HCM026 (HCCH사)를 클로로포름 용매와 1:9의 중량%로 혼합하고, 배향막 상에 상기 조성물을 스핀코팅하였다. 이후 130℃에서 3분간 용매를 건조시킨 후 30 mW/cm2의 세기로 UV를 5분간 조사하여 조성물을 경화시켜 필름을 수득하였다.After coating and drying the alignment layer on the ITO substrate, the substrate was prepared by rubbing. HCM026 (HCCH), previously used as a host reactive mesogen material, was mixed with a chloroform solvent in a weight ratio of 1: 9, and the composition was spin coated on an alignment layer. Thereafter, the solvent was dried at 130 ° C. for 3 minutes, and then irradiated with UV at an intensity of 30 mW / cm 2 for 5 minutes to cure the composition to obtain a film.
도 5는 비교예 1로 제작한 보상필름의 파장분산특성을 측정한 값()을 나타낸 것으로, 파장이 증가할수록 그 값이 감소하는 정파장분산 보상필름의 특성을 나타냈다.5 is a value measured by the wavelength dispersion characteristics of the compensation film prepared in Comparative Example 1 ( ). As the wavelength increased, the value of the constant wavelength dispersion compensation film decreased.
(비교예 2)(Comparative Example 2)
ITO 기판위에 배향막을 코팅하고 건조시킨 후 러빙하여 기판을 준비하였다. 호스트 반응성 메조겐 재료로서 기존에 사용되던 HCM026 (HCCH사) 60 중량%, 게스트 반응성 메조겐 재료로서 N2 40 중량%를 혼합하였다. 상기 혼합물과 클로로포름 용매를 1:9의 중량%로 혼합하고, 배향막 상에 상기 조성물을 스핀코팅하였다. 이후 110℃에서 3분간 용매를 건조시킨 후 30 mW/cm2의 세기로 UV를 5분간 조사하여 조성물을 경화시켜 필름을 수득하였다.After coating and drying the alignment layer on the ITO substrate, the substrate was prepared by rubbing. As a host reactive mesogen material, 60% by weight of HCM026 (HCCH) previously used, and 40% by weight of N2 as a guest reactive mesogen material were mixed. The mixture and chloroform solvent were mixed at a weight ratio of 1: 9, and the composition was spin coated on an alignment layer. Thereafter, the solvent was dried at 110 ° C. for 3 minutes, and then irradiated with UV at an intensity of 30 mW / cm 2 for 5 minutes to cure the composition to obtain a film.
(실시예 1)(Example 1)
ITO 기판위에 배향막을 코팅하고 건조시킨 후 러빙하여 기판을 준비하였다. 호스트 반응성 메조겐 재료로서 제조예 1에서 합성한 H-6BPBA 60 중량%와, 게스트 반응성 메조겐 재료로서 제조예 2에서 합성한 N2 40 중량%를 혼합하였다. 상기 혼합물과 클로로포름용매를 1:9의 중량%로 혼합하고, 배향막 상에 상기 조성물을 스핀코팅(1500 rpm, 15 s) 하였다. 이후 95℃에서 3분간 용매를 건조시킨 후 30 mW/cm2의 세기로 UV를 5분간 조사하여 조성물을 경화시켜 필름을 수득하였다.After coating and drying the alignment layer on the ITO substrate, the substrate was prepared by rubbing. 60% by weight of H-6BPBA synthesized in Preparation Example 1 as a host reactive mesogen material, and 40% by weight of N2 synthesized in Preparation Example 2 as a guest reactive mesogen material were mixed. The mixture and chloroform solvent were mixed at a weight ratio of 1: 9, and the composition was spin coated (1500 rpm, 15 s) on an alignment layer. Thereafter, the solvent was dried at 95 ° C for 3 minutes, and then irradiated with UV at an intensity of 30 mW / cm 2 for 5 minutes to cure the composition to obtain a film.
(시험예 1): 파장분산특성 분석(Test Example 1): Analysis of wavelength dispersion characteristics
비교예 2에서 제작한 보상필름과 실시예 1에서 제작한 보상필름의 파장분산특성 분석을 진행하였다.Wavelength dispersion characteristics of the compensation film produced in Comparative Example 2 and the compensation film produced in Example 1 were performed.
도 6은 비교예 2에서 제작한 보상필름과 실시예 1에서 제작한 보상필름의 파장분산특성 ()을 측정한 결과로서, 비교예 2에서 제작한 보상필름의 파장분산특성 값은 사각표식으로 나타내었고, 실시예 1에서 제작한 보상필름의 파장분산특성 값은 원형표식으로 나타내었다.6 is a wavelength dispersion characteristic of the compensation film produced in Comparative Example 2 and the compensation film prepared in Example 1 ( As a result of measuring), the wavelength dispersion characteristic value of the compensation film prepared in Comparative Example 2 was represented by a square marker, and the wavelength dispersion characteristic value of the compensation film prepared in Example 1 was represented by a circular marker.
도 6을 참조하면, 두 보상필름 모두 파장이 증가할수록 파장분산특성 측정값이 증가하는 역파장분산 보상필름의 특성을 나타냄을 알 수 있다. Referring to FIG. 6, it can be seen that both of the compensation films exhibit the characteristics of the reverse wavelength dispersion compensation film in which the measurement value of the wavelength dispersion property increases as the wavelength increases.
또한, 도 6을 참조하면 기존에 사용되던 호스트 반응성 메조겐을 이용하여 만든 비교예 2의 보상필름과 비교하여, 본 발명에 따라 신규 합성된 호스트 반응성 메조겐을 이용하여 호스트와 게스트 반응성 메조겐 사이에 수소결합을 유도하고 안정성을 높인 새로이 제안한 보상필름이 더욱 이상적인 값에 가까운 파장분산특성을 보이는 것을 확인할 수 있다.In addition, referring to Figure 6, compared with the compensation film of Comparative Example 2 made using a previously used host reactive mesogen, between the host and the guest reactive mesogen using the newly synthesized host reactive mesogen according to the present invention It can be seen that the newly proposed compensation film, which induces hydrogen bonding and improves stability, exhibits wavelength dispersion characteristics closer to more ideal values.
이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서 본 발명에 개시된 실시예는 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다.The above description is merely illustrative of the technical idea of the present invention, and those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains may make various modifications and variations without departing from the essential characteristics of the present invention. Therefore, the embodiments disclosed in the present invention are not intended to limit the technical spirit of the present invention, but to explain them, and the scope of the technical spirit of the present invention is not limited by these embodiments.
본 발명의 보호범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.The scope of protection of the present invention should be interpreted by the following claims, and all technical spirits within the equivalent range should be interpreted as being included in the scope of the present invention.
1 : 호스트 반응성 메조겐의 레이어 구조
2 : 게스트 반응성 메조겐
3 : 호스트 반응성 메조겐1: Layer structure of host reactive mesogen
2: guest reactive mesogen
3: host reactive mesogen
Claims (12)
[화학식 5]
A novel host reactive mesogen compound represented by Formula 5 below:
[Formula 5]
상기 호스트 반응성 메조겐 화합물은 중합이 가능하고, 수소결합을 유도하는 스멕틱 액정인 것을 특징으로 하는 화합물.According to claim 1,
The host-reactive mesogen compound is a polymerizable, smectic liquid crystal compound that induces hydrogen bonding.
[화학식 10]
A novel guest reactive mesogen compound represented by the following formula (10):
[Formula 10]
상기 호스트 반응성 메조겐 화합물은 10 내지 400 nm 파장대의 광을 흡수하고, 상기 게스트 반응성 메조겐 화합물은 100 내지 430 nm 파장대의 광을 흡수하며, 상기 게스트 반응성 메조겐 화합물은 상기 호스트 반응성 메조겐 화합물에 비해 장파장을 흡수하는 것을 특징으로 하는 역파장분산 보상필름용 조성물.The method of claim 8,
The host reactive mesogen compound absorbs light in a wavelength range of 10 to 400 nm, the guest reactive mesogen compound absorbs light in a wavelength range of 100 to 430 nm, and the guest reactive mesogen compound is attached to the host reactive mesogen compound Comparative composition for a reverse wavelength dispersion compensation film, characterized in that it absorbs long wavelengths.
상기 게스트 반응성 메조겐 화합물은 상기 호스트 반응성 메조겐 화합물 층 사이에 위치하고 수소결합을 통하여 호스트 반응성 메조겐 화합물과 상호작용하는 것을 특징으로 하는 역파장분산 보상필름용 조성물.The method of claim 8,
The guest reactive mesogen compound is a composition for a reverse wavelength dispersion compensation film, which is located between the host reactive mesogen compound layer and interacts with a host reactive mesogen compound through hydrogen bonding.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/KR2018/002539 WO2019054587A1 (en) | 2017-09-13 | 2018-03-02 | Novel reactive mesogen compound, composition containing same for reverse-wavelength dispersion compensation film, and reverse-wavelength dispersion compensation film comprising same |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020170117272 | 2017-09-13 | ||
KR20170117272 | 2017-09-13 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20190030149A KR20190030149A (en) | 2019-03-21 |
KR102112704B1 true KR102112704B1 (en) | 2020-05-20 |
Family
ID=66036775
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020180024713A Active KR102112704B1 (en) | 2017-09-13 | 2018-02-28 | Novel Reactive Mesogen Compound, Composition For Negative Dispersion Compensation Film Comprising The Same, And Negative Dispersion Compensation Film Comprising The Same |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR102112704B1 (en) |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7910019B2 (en) * | 2008-06-27 | 2011-03-22 | Transitions Optical, Inc. | Mesogen containing compounds |
-
2018
- 2018-02-28 KR KR1020180024713A patent/KR102112704B1/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20190030149A (en) | 2019-03-21 |
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Legal Events
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A201 | Request for examination | ||
PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20180228 |
|
PA0201 | Request for examination | ||
PG1501 | Laying open of application | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
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|
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
PE0701 | Decision of registration |
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|
GRNT | Written decision to grant | ||
PR0701 | Registration of establishment |
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|
PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20200514 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
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PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20240430 Start annual number: 5 End annual number: 5 |