KR102071908B1 - Optical device with improved heat durability - Google Patents
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Abstract
본 출원은 광학 소자 및 이의 용도에 대한 것으로, 본 출원의 광학 소자는, 외부 작용의 존재 여부에 따라 투과도가 가변할 수 있는 부재로써, 열 응력으로부터 안정성이 향상된 구조를 가지며, 이에 따라 내구성이 우수하다.The present application relates to an optical element and its use, the optical element of the present application is a member whose transmittance can be varied depending on the presence of external action, has a structure that has improved stability from thermal stress, thereby excellent durability Do.
Description
본 출원은 광학 소자 및 이의 용도에 대한 것이다. The present application is directed to optical devices and their use.
선루프는 통상적으로 차량의 천장에 존재하는 고정된 또는 작동(벤팅 또는 슬라이딩)하는 개구부(opening)를 의미하는 것으로, 빛 또는 신선한 공기가 차량의 내부로 유입되도록 하는 기능을 한다. 이러한 선루프는 수동으로 작동하거나 또는 모터로 구동할 수 있으며, 선루프의 형상, 크기 또는 스타일은 목적하는 용도에 따라 다양한 종류가 존재한다. 예를 들어, 선루프는 작동 방식에 따라 팝-업 타입 선루프, 스포일러(tile & slide) 타입 선루프, 인빌트 타입 선루프, 폴딩 타입 선루프, 탑-마운트 타입 선루프, 파노라믹 루프 시스템 타입 선루프, 제거 가능한 루프 패널즈(t-tops 또는 targa roofts) 타입 선루프 또는 솔라 타입 선루프 등으로 분류된다. 또한, 선루프의 재료에 대한 연구도 활발히 진행 중에 있으며, 예를 들어, 특허문헌 1은 특정 조성의 유리 조성물을 이용하여 자외선 및 태양열선의 흡수가 우수한 선루프를 제조하는 기술을 개시하고 있다.A sunroof typically refers to a fixed or actuating (venting or sliding) opening that is present on the ceiling of a vehicle and serves to allow light or fresh air to enter the interior of the vehicle. The sunroof can be operated manually or driven by a motor, and there are various types of sunroof depending on the intended use. For example, the sunroof is a pop-up type sunroof, a spoiler (tile & slide) type sunroof, an inbuilt type sunroof, a folding type sunroof, a top-mounted type sunroof, a panoramic loop. System type sunroof, t-tops or targa roofts type sunroof or solar type sunroof. Moreover, research on the material of a sunroof is also actively progressing, for example, patent document 1 is disclosing the technique of manufacturing the sunroof excellent in the absorption of an ultraviolet-ray and a solar ray using the glass composition of a specific composition.
일반적으로 선루프용 필름으로 사용되는 광학 소자는 유리층, 편광층, 제1 기판 및 제2 기판 등을 포함하며, 광학 소자의 광학적 특성을 만족하기 위해 유리층, 편광층, 제1 기판 및 제2 기판은 서로 다른 물질을 사용해야 한다. 이 경우 각 층들은 열 팽창 계수(CTE) 차이가 발생하여 고온에서 열응력을 발생시키게 된다. 이러한 열응력은 기재의 파손을 일으키는 문제점이 있다. Generally, the optical element used as the sunroof film includes a glass layer, a polarizing layer, a first substrate, a second substrate, and the like, and in order to satisfy the optical characteristics of the optical element, the glass layer, the polarizing layer, the first substrate, and the first The two substrates must use different materials. In this case, each layer has a difference in coefficient of thermal expansion (CTE), causing thermal stress at high temperatures. This thermal stress has a problem of causing a breakage of the substrate.
따라서, 열 팽창 계수가 서로 다른 기재를 사용하여도 열 응력에서 자유로우며, 이에 따라 열적 구조 안정성이 향상된 광학 소자의 개발이 요구되고 있다.Therefore, even when a substrate having a different thermal expansion coefficient is used, there is a need for the development of an optical device that is free from thermal stress and thus has improved thermal structural stability.
본 출원은 외부 작용의 인가 여부에 따라 투과도가 변하는 광학 소자를 제공한다. The present application provides an optical device whose transmittance is changed depending on whether an external action is applied.
상기 본 출원의 광학 소자는, 열 변형에 의한 내구성 저하를 효과적으로 방지할 수 있다.The optical element of the said application can prevent the durability fall by thermal deformation effectively.
본 출원은 광학 소자 및 이의 용도에 대한 것이다.The present application is directed to optical devices and their use.
본 출원의 광학 소자는, 외부 작용의 인가 여부에 따라 투과도가 변화는 것이며, 이러한 광학 소자는 투과도 가변 부재, 예를 들면 차량용 선루프 등에 이용될 수 있다.In the optical element of the present application, the transmittance is changed depending on whether an external action is applied, and the optical element may be used in a variable transmittance member, for example, a sunroof for a vehicle.
본 출원에 따른 광학 소자는, 또한 기재층, 편광층 및 기판들의 위치 및 구조를 적절히 설계함으로써, 기판과 편광층 사이 또는 기판과 다른 층들 사이에 탄성 계수 및 열 팽창 계수의 차이에 따른 소자의 변형을 효과적으로 방지할 수 있다.The optical element according to the present application furthermore, by appropriately designing the position and structure of the substrate layer, the polarizing layer and the substrates, the deformation of the device according to the difference in the elastic modulus and thermal expansion coefficient between the substrate and the polarizing layer or between the substrate and other layers Can be effectively prevented.
이러한, 본 출원의 광학 소자는 기재층; 상기 기재층 상에 위치하는 편광층; 상기 편광층 상에 위치하는 제1 기판; 상기 제1 기판 상에 위치하는 제2 기판; 및 상기 제1 기판 및 제2 기판 사이에 위치하는 액정층을 포함하며, 기재층, 편광층 및 제2 기판 중 어느 하나 이상은 제1 기판 보다 넓은 면적을 가지고, 편광층 및 제2 기판 사이의 양측에 위치하는 제1 실란트를 추가로 포함한다.Such, the optical device of the present application is a base layer; A polarizing layer positioned on the base layer; A first substrate positioned on the polarizing layer; A second substrate positioned on the first substrate; And a liquid crystal layer positioned between the first substrate and the second substrate, wherein at least one of the base layer, the polarizing layer, and the second substrate has a larger area than the first substrate, and between the polarizing layer and the second substrate. It further comprises a first sealant located on both sides.
즉, 본 출원의 광학 소자는, 편광층 및 제2 기판 각각의 면적이 제1 기판 보다 넓은 면적을 가지고, 편광층 및 제2 기판 사이의 양측에 위치하는 제1 실란트를 추가로 포함함으로써 제1 기판 및 제2 기판 간의 열 팽창 계수 차이에 따라 발생할 수 있는 응력을 최소화할 수 있고, 궁극적으로 소자의 수축이나 팽창에 따른 변형 및 그에 따른 광학적 물성의 변화를 방지할 수 있다.That is, the optical element of the present application, the area of each of the polarizing layer and the second substrate has a larger area than the first substrate, and further includes a first sealant located on both sides between the polarizing layer and the second substrate 1 The stress that may occur due to the difference in thermal expansion coefficient between the substrate and the second substrate may be minimized, and ultimately, deformation due to shrinkage or expansion of the device and thus change of optical properties may be prevented.
하나의 예시에서, 편광층의 면적은 제1 기판 면적의 1.1배 내지 5배, 1.2배 내지 4.5배, 1.3배 내지 4배, 1.4배 내지 3.5배 혹은 1.5배 내지 3배일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 제2 기판의 면적 또한 제1 기판 면적의 1.1배 내지 5배, 1.2배 내지 4.5배, 1.3배 내지 4배, 1.4배 내지 3.5배 혹은 1.5배 내지 3배일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 편광층의 면적과 제2 기판의 면적은 동일하게 형성될 수 있다.In one example, the area of the polarizing layer may be 1.1 to 5 times, 1.2 times to 4.5 times, 1.3 times to 4 times, 1.4 times to 3.5 times, or 1.5 times to 3 times the first substrate area, but is not limited thereto. It is not. The area of the second substrate may also be 1.1 times to 5 times, 1.2 times to 4.5 times, 1.3 times to 4 times, 1.4 times to 3.5 times, or 1.5 times to 3 times the first substrate area, but is not limited thereto. The area of the polarizing layer and the area of the second substrate may be equally formed.
또한, 기재층의 면적과 편광층의 면적은 동일하게 형성될 수 있다.In addition, the area of the base layer and the area of the polarizing layer may be formed to be the same.
하나의 예시에서, 본 출원의 광학 소자는, 120℃ 온도에서 240시간 내열 테스트 이후에 변형율(%)이 1% 이하일 수 있다.In one example, the optical device of the present application may have a strain (%) of 1% or less after a 240 hours heat test at a temperature of 120 ° C.
상기 변형율(%)은, 예를 들면 하기 수학식 1에 의해 계산되는 것일 수 있다.The strain (%) may be calculated by, for example, Equation 1 below.
[수학식 1][Equation 1]
변형율(%) = |(L2-L1)|/L1 x 100Strain (%) = | (L2-L1) | / L1 x 100
상기 수학식 1에서, L1은 소자 시편의 초기 길이이고, L2는 120℃에서 240시간 동안 방치 한 후 소자 시편의 나중 길이이다. In Equation 1, L1 is the initial length of the device specimen, L2 is the later length of the device specimen after standing for 240 hours at 120 ℃.
상기 변형율(%)이 작다는 것은 광학 소자의 수축 혹은 팽창이 작다는 것을 의미하므로, 1%이하의 범위 내에서 그 수치는 특별히 제한되는 것은 아니며, 예를 들면 0.8% 이하, 0.5% 이하 또는 0% 일 수 있다. Since the small percentage (%) means that the shrinkage or expansion of the optical element is small, the value is not particularly limited within the range of 1% or less, for example, 0.8% or less, 0.5% or less, or 0. Can be%.
본 출원에서 기재층은, 예를 들면 5% 이하, 또는 3% 이하의 헤이즈를 가지는 투명 기재 필름일 수 있다.In the present application, the base layer may be, for example, a transparent base film having a haze of 5% or less, or 3% or less.
기재층은 또한, 550nm에서의 굴절률이 1.5 내지 2.0, 또는 1.5 내지 1.7 사이의 값을 가질 수 있다. The base layer may also have a refractive index of 550 nm between 1.5 and 2.0, or between 1.5 and 1.7.
기재층의 두께는, 예를 들면 30 내지 300㎛, 바람직하게는 40 내지 250㎛일 수 있다. The thickness of the substrate layer may be, for example, 30 to 300 µm, preferably 40 to 250 µm.
기재층의 유리전이온도는, 예를 들면 100℃ 내지 300℃, 바람직하게는 100℃ 내지 150℃의 범위 내에 있을 수 있다. The glass transition temperature of the substrate layer may be, for example, in the range of 100 ° C to 300 ° C, preferably 100 ° C to 150 ° C.
기재층의 소재는, 전술한 조건을 만족하는 것이면 제한이 없으나, 예를 들면 폴리에틸렌 또는 폴리프로필렌 등의 폴리올레핀; 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리 에스테르; 트리아세틸 셀룰로오스, 디아세틸셀룰로오스, 프로피오닐 셀룰로오스, 부틸 셀룰로오스 또는 아세틸 셀룰로오스 등의 셀룰로오스; 6-나일론 또는 6,6-나일론 등의 폴리아미드; 폴리메틸메타크릴레이트 등의 아크릴 폴리머; 폴리스티렌, 폴리염화비닐, 폴리이미드, 폴리비닐알코올, 폴리카보네이트 또는 에틸렌비닐알코올 등의 유기 고분자로 형성된 고분자 필름이거나, 또는 유리 기판일 수 있다. The material of the base material layer is not limited as long as the above conditions are satisfied. For example, polyolefin such as polyethylene or polypropylene; Polyesters such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate; Celluloses such as triacetyl cellulose, diacetyl cellulose, propionyl cellulose, butyl cellulose or acetyl cellulose; Polyamides such as 6-nylon or 6,6-nylon; Acrylic polymers such as polymethyl methacrylate; It may be a polymer film formed of an organic polymer such as polystyrene, polyvinyl chloride, polyimide, polyvinyl alcohol, polycarbonate, or ethylene vinyl alcohol, or may be a glass substrate.
기재층은 상기 1종 또는 2종 이상의 혼합물 또는 중합체로 형성된 것일 수도 있고, 복수의 층을 적층 시킨 구조의 것일 수도 있다. The base layer may be formed of one or two or more kinds of mixtures or polymers, or may have a structure in which a plurality of layers are laminated.
기재층은 표면이 개질 된 것일 수 있다. 상기 표면 개질은 전극층과의 접착력 등을 확보하기 위한 목적에서 실시하는 것으로써, 화학적 처리, 코로나 방전 처리, 기계적 처리, 자외선(UV) 처리, 활성 플라즈마 처리 또는 글로우 방전 처리 등의 처리방식을 채택할 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다.The substrate layer may have a modified surface. The surface modification is carried out for the purpose of securing adhesion to the electrode layer and the like, and a treatment method such as chemical treatment, corona discharge treatment, mechanical treatment, ultraviolet (UV) treatment, active plasma treatment or glow discharge treatment may be adopted. May be, but is not limited thereto.
위와 같은 기재층은, 예를 들면, 전술한 소재를 공지의 혼합기(ex. 옴니 믹서 등)로 블렌딩하고, 수득된 혼합물을 공지의 혼합기(ex. 단축 압출기, 2축 압출기 등의 압출기 또는 가압 니더 등)로 압출, 혼합한 다음, 공지의 필름 성형법(ex. 용액 캐스팅법, 용융 압출법, 캘린더법, 압축 성형법 등)으로 제조할 수 있으며, 특히 용액 캐스팅법 또는 용융 압출법 등으로 제조하는 것이 바람직하다.The substrate layer as described above may, for example, blend the above-mentioned material with a known mixer (ex. Omni mixer, etc.), and the obtained mixture may be an extruder or pressurized kneader (ex. And the like, and then, may be manufactured by a known film forming method (eg, a solution casting method, a melt extrusion method, a calender method, a compression molding method, etc.), and particularly, by a solution casting method or a melt extrusion method. desirable.
본 출원에서 제1 기판은, 소자의 지지체 역할을 수행하는 것으로써, 예를 들면 적절한 강성을 가져 휨이 적은 특성을 가지고 또한, 적절한 투명성을 가지는 소재이면 제한 없이 본 출원에서 이용될 수 있다.In the present application, the first substrate serves as a supporter of the device, and may be used in the present application without limitation, as long as it is a material having proper rigidity, low warpage, and suitable transparency.
하나의 예시에서, 제1 기판은 유리 기판; 결정성 또는 비결정성 실리콘 필름; 석영 또는 ITO 필름 등의 무기계 필름; 또는 플라스틱 기판 등 일 수 있다.In one example, the first substrate comprises a glass substrate; Crystalline or amorphous silicon films; Inorganic films such as quartz or ITO films; Or a plastic substrate.
구체적인 예시에서, 플라스틱 기판으로는, TAC(triacetyl cellulose); 노르보르넨 유도체 등의 COP(cyclo olefin copolymer); PMMA(poly(methyl methacrylate); PC(polycarbonate); PE(polyethylene); PP(polypropylene); PVA(polyvinyl alcohol); DAC(diacetyl cellulose); Pac(Polyacrylate); PES(poly ether sulfone); PEEK(polyetheretherketon); PPS(polyphenylsulfone), PEI(polyetherimide); PEN(polyethylenemaphthatlate); PET(polyethyleneterephtalate); PI(polyimide); PSF(polysulfone); PAR(polyarylate) 또는 비정질 불소 수지 등을 포함하는 것을 이용할 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다.In a specific example, the plastic substrate may include triacetyl cellulose (TAC); Cyclo olefin copolymer (COP) such as norbornene derivatives; Poly (methyl methacrylate); PC (polycarbonate); PE (polyethylene); PP (polypropylene); PVA (polyvinyl alcohol); DAC (diacetyl cellulose); Pac (Polyacrylate); PES (poly ether sulfone); PEEK (polyetheretherketon Polyphenylsulfone (PPS), polyetherimide (PEI); polyethylenemaphthatlate (PEN); polyethyleneterephtalate (PET); polyimide (PI); polysulfone (PSF); polyarylate (PAR) or amorphous fluorine resin It doesn't happen.
본 출원에서 제1 기판은, 소자의 지지체 역할을 수행하는 것으로써, 예를 들면 적절한 강성을 가져 휨이 적은 특성을 가지고 또한, 적절한 투명성을 가지는 소재이면 제한 없이 본 출원에서 이용될 수 있다.In the present application, the first substrate serves as a supporter of the device, and may be used in the present application without limitation, as long as it is a material having proper rigidity, low warpage, and suitable transparency.
하나의 예시에서, 제2 기판은 유리 기판; 결정성 또는 비결정성 실리콘 필름; 석영 또는 ITO 필름 등의 무기계 필름; 또는 플라스틱 기판 등 일 수 있다.In one example, the second substrate is a glass substrate; Crystalline or amorphous silicon films; Inorganic films such as quartz or ITO films; Or a plastic substrate.
구체적인 예시에서, 플라스틱 기판으로는, TAC(triacetyl cellulose); 노르보르넨 유도체 등의 COP(cyclo olefin copolymer); PMMA(poly(methyl methacrylate); PC(polycarbonate); PE(polyethylene); PP(polypropylene); PVA(polyvinyl alcohol); DAC(diacetyl cellulose); Pac(Polyacrylate); PES(poly ether sulfone); PEEK(polyetheretherketon); PPS(polyphenylsulfone), PEI(polyetherimide); PEN(polyethylenemaphthatlate); PET(polyethyleneterephtalate); PI(polyimide); PSF(polysulfone); PAR(polyarylate) 또는 비정질 불소 수지 등을 포함하는 것을 이용할 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다.In a specific example, the plastic substrate may include triacetyl cellulose (TAC); Cyclo olefin copolymer (COP) such as norbornene derivatives; Poly (methyl methacrylate); PC (polycarbonate); PE (polyethylene); PP (polypropylene); PVA (polyvinyl alcohol); DAC (diacetyl cellulose); Pac (Polyacrylate); PES (poly ether sulfone); PEEK (polyetheretherketon Polyphenylsulfone (PPS), polyetherimide (PEI); polyethylenemaphthatlate (PEN); polyethyleneterephtalate (PET); polyimide (PI); polysulfone (PSF); polyarylate (PAR) or amorphous fluorine resin It doesn't happen.
상기 제1 기판과 제2 기판은 서로 같은 종류의 기판일 수도 있고, 서로 다른 종류의 기판일 수도 있다. The first substrate and the second substrate may be the same kind of substrates, or may be different kinds of substrates.
본 출원에서 용어 편광층은 입사 광에 대하여 선택적 투과 및 차단 특성, 예를 들어 반사 또는 흡수 특성을 나타내는 기능성 층을 의미할 수 있다. 편광층은 예를 들어, 여러 방향으로 진동하는 입사 광으로부터 어느 한쪽 방향으로 진동하는 광은 투과하고, 나머지 방향으로 진동하는 광은 차단시키는 기능을 가질 수 있다.As used herein, the term polarizing layer may refer to a functional layer that exhibits selective transmission and blocking properties, for example, reflection or absorption properties, for incident light. For example, the polarizing layer may have a function of transmitting light oscillating in one direction from incident light oscillating in various directions and blocking light oscillating in the other direction.
상기 편광층의 종류는 특별히 제한되지 않고, 반사형, 흡수형 또는 산란형 편광층 등이 예시될 수 있다.The kind of the polarizing layer is not particularly limited, and a reflective type, an absorbing type, or a scattering type polarizing layer may be exemplified.
반사형 편광층으로서 예를 들어, DBEF(Dual Brightness Enhancement Film), 유방성 액정층(LLC층: Lyotropic Liquid Crystal) 또는 와이어 그리드 편광기(wire grid polarizer) 등을 사용할 수 있고, 흡수형 편광층으로서 예를 들어, PVA 연신 필름 등과 같은 고분자 연신 필름에 요오드를 염착한 편광자 또는 배향된 상태로 중합된 액정을 호스트로 하고, 상기 액정의 배향에 따라 배열된 이방성 염료를 게스트로 하는 게스트-호스트형 편광층을 사용할 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다. As the reflective polarizing layer, for example, a dual brightness enhancement film (DBEF), a lyotropic liquid crystal (LLC layer), a wire grid polarizer, or the like can be used. For example, a guest-host type polarizing layer comprising a polarizer in which iodine is salted in a polymer stretched film such as a PVA stretched film or a liquid crystal polymerized in an oriented state as a host, and an anisotropic dye arranged according to the alignment of the liquid crystal as a guest. May be used, but is not limited thereto.
제1 기판은, 예를 들면, 열 팽창 계수(CTE)가 150 ppm/K 미만, 90 ppm/K 이하, 80 ppm/K 이하, 70 ppm/K 이하, 60 ppm/K 이하, 50 ppm/K 이하, 40 ppm/K 이하, 30 ppm/K 이하 또는 20 ppm/K 이하일 수 있다. 이러한 열 팽창 계수(CTE)의 범위 내에서 적절한 강성을 유지할 수 있고, 광학 소자의 적층 구조에 따른 열 변형을 방지할 수 있다. 상기 열 팽창 계수(CTE)의 하한 값은, 예를 들면 3 ppm/K 이상, 5 ppm/K 이상 또는 7 ppm/K 이상일 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 열 챙창 계수(CTE) 값은, 예를 들면 0℃에서 100℃의 온도 구간에서 10℃/min의 속도로 냉각 및 승온 하면서 측정한 평균 열 팽창률을 선 열팽창 계수로 산출한 값일 수 있다.The first substrate has, for example, a coefficient of thermal expansion (CTE) of less than 150 ppm / K, 90 ppm / K or less, 80 ppm / K or less, 70 ppm / K or less, 60 ppm / K or less, 50 ppm / K Up to 40 ppm / K, up to 30 ppm / K, or up to 20 ppm / K. Appropriate rigidity can be maintained within the range of the thermal expansion coefficient (CTE), and thermal deformation due to the laminated structure of the optical element can be prevented. The lower limit of the coefficient of thermal expansion (CTE) may be, for example, 3 ppm / K or more, 5 ppm / K or more, or 7 ppm / K or more, but is not limited thereto. The heat retention coefficient (CTE) value may be, for example, a value obtained by calculating an average thermal expansion coefficient as a linear thermal expansion coefficient measured while cooling and heating at a rate of 10 ° C./min in a temperature range of 0 ° C. to 100 ° C.
본 출원에서 기재층은 소정의 열 팽창 계수(CTE)를 가지는 것일 수 있다.In the present application, the substrate layer may have a predetermined coefficient of thermal expansion (CTE).
하나의 예시에서, 기재층은 열 팽창 계수(CTE)가 150 ppm/K 미만, 90 ppm/K 이하, 80 ppm/K 이하, 70 ppm/K 이하, 60 ppm/K 이하, 50 ppm/K 이하, 40 ppm/K 이하, 30 ppm/K 이하 또는 20 ppm/K 이하일 수 있다. 이러한 열 팽창 계수(CTE)의 범위 내에서 적절한 강성을 유지할 수 있고, 광학 소자의 적층 구조에 따른 열 변형을 방지할 수 있다. 상기 열 팽창 계수(CTE)의 하한 값은, 예를 들면 3 ppm/K 이상, 5 ppm/K 이상 또는 7 ppm/K 이상일 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 열 챙창 계수(CTE) 값은, 예를 들면 0℃에서 100℃의 온도 구간에서 10℃/min의 속도로 냉각 및 승온 하면서 측정한 평균 열 팽창률을 선 열팽창 계수로 산출한 값일 수 있다.In one example, the substrate layer has a coefficient of thermal expansion (CTE) of less than 150 ppm / K, 90 ppm / K or less, 80 ppm / K or less, 70 ppm / K or less, 60 ppm / K or less, 50 ppm / K or less , Up to 40 ppm / K, up to 30 ppm / K or up to 20 ppm / K. Appropriate rigidity can be maintained within the range of the thermal expansion coefficient (CTE), and thermal deformation due to the laminated structure of the optical element can be prevented. The lower limit of the coefficient of thermal expansion (CTE) may be, for example, 3 ppm / K or more, 5 ppm / K or more, or 7 ppm / K or more, but is not limited thereto. The heat retention coefficient (CTE) value may be, for example, a value obtained by calculating an average thermal expansion coefficient as a linear thermal expansion coefficient measured while cooling and heating at a rate of 10 ° C./min in a temperature range of 0 ° C. to 100 ° C.
본 출원에서 제2 기판은 소정의 열 팽창 계수(CTE)를 가지는 것일 수 있다.In the present application, the second substrate may have a predetermined coefficient of thermal expansion (CTE).
하나의 예시에서, 제2 기판은 열 팽창 계수(CTE)가 150 ppm/K 미만, 90 ppm/K 이하, 80 ppm/K 이하, 70 ppm/K 이하, 60 ppm/K 이하, 50 ppm/K 이하, 40 ppm/K 이하, 30 ppm/K 이하 또는 20 ppm/K 이하일 수 있다. 이러한 열 팽창 계수(CTE)의 범위 내에서 적절한 강성을 유지할 수 있고, 광학 소자의 적층 구조에 따른 열 변형을 방지할 수 있다. 상기 열 팽창 계수(CTE)의 하한 값은, 예를 들면 3 ppm/K 이상, 5 ppm/K 이상 또는 7 ppm/K 이상일 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 열 챙창 계수(CTE) 값은, 예를 들면 0℃에서 100℃의 온도 구간에서 10℃/min의 속도로 냉각 및 승온 하면서 측정한 평균 열 팽창률을 선 열팽창 계수로 산출한 값일 수 있다.In one example, the second substrate has a coefficient of thermal expansion (CTE) of less than 150 ppm / K, 90 ppm / K or less, 80 ppm / K or less, 70 ppm / K or less, 60 ppm / K or less, 50 ppm / K Up to 40 ppm / K, up to 30 ppm / K, or up to 20 ppm / K. Appropriate rigidity can be maintained within the range of the thermal expansion coefficient (CTE), and thermal deformation due to the laminated structure of the optical element can be prevented. The lower limit of the coefficient of thermal expansion (CTE) may be, for example, 3 ppm / K or more, 5 ppm / K or more, or 7 ppm / K or more, but is not limited thereto. The heat retention coefficient (CTE) value may be, for example, a value obtained by calculating an average thermal expansion coefficient as a linear thermal expansion coefficient measured while cooling and heating at a rate of 10 ° C./min in a temperature range of 0 ° C. to 100 ° C.
본 출원에서 편광층은 기재층과 직접 접하고 있거나, 또는 점착제층 또는 접착제층을 매개로 기재층에 부착되어 있을 수 있다. 이때, 편광층과 기재층 사이에 게재되는 점착제층 또는 접착제층은, 예를 들면 아크릴계; 에폭시계; 우레탄계; 또는 고무계; 점착제 또는 접착제 등 공지의 점착제 또는 접착제가 제한 없이 이용될 수 있다. 구체적으로 상기 점착제층 또는 접착제층은 투명 점착필름(OCA, Optically Clear Adhesive) 및 압착성 실리콘 접착 필름 PSA(Pressure Sensitive Adhesive) 중 어느 하나일 수 있으며, 더욱 구체적으로 압착성 실리콘 접착 필름(PSA, Pressure Sensitive Adhesive)이 사용될 수 있다.In the present application, the polarizing layer may directly contact the substrate layer, or may be attached to the substrate layer through an adhesive layer or an adhesive layer. At this time, the pressure-sensitive adhesive layer or the adhesive layer disposed between the polarizing layer and the base layer is, for example, acrylic; Epoxy-based; Urethane-based; Or rubber based; Known pressure-sensitive adhesives or adhesives such as pressure-sensitive adhesives or adhesives can be used without limitation. Specifically, the pressure-sensitive adhesive layer or the adhesive layer may be any one of a transparent adhesive film (OCA, Optically Clear Adhesive) and a pressure-sensitive silicone adhesive film PSA (Pressure Sensitive Adhesive), more specifically a pressure-sensitive silicone adhesive film (PSA, Pressure Sensitive Adhesive) can be used.
또한, 제1 기판은 편광층과 직접 접하고 있거나, 또는 점착제층 또는 접착제층을 매개로 편광층에 부착되어 있을 수 있다. 이때, 제1 기판과 편광층 사이에 게재되는 점착제층 또는 접착제층은, 예를 들면 아크릴계; 에폭시계; 우레탄계; 또는 고무계; 점착제 또는 접착제 등 공지의 점착제 또는 접착제가 제한 없이 이용될 수 있다. 구체적으로 상기 점착제층 또는 접착제층은 투명 점착필름(OCA, Optically Clear Adhesive) 및 압착성 실리콘 접착 필름 PSA(Pressure Sensitive Adhesive) 중 어느 하나일 수 있으며, 더욱 구체적으로 압착성 실리콘 접착 필름(PSA, Pressure Sensitive Adhesive)이 사용될 수 있다.In addition, the first substrate may be in direct contact with the polarizing layer, or may be attached to the polarizing layer via an adhesive layer or an adhesive layer. At this time, the pressure-sensitive adhesive layer or the adhesive layer disposed between the first substrate and the polarizing layer is, for example, acrylic; Epoxy-based; Urethane-based; Or rubber based; Known pressure-sensitive adhesives or adhesives such as pressure-sensitive adhesives or adhesives can be used without limitation. Specifically, the pressure-sensitive adhesive layer or the adhesive layer may be any one of a transparent adhesive film (OCA, Optically Clear Adhesive) and a pressure-sensitive silicone adhesive film PSA (Pressure Sensitive Adhesive), more specifically a pressure-sensitive silicone adhesive film (PSA, Pressure Sensitive Adhesive) can be used.
본 출원의 광학 소자는 제1 기판 및 제2 기판 사이의 양측, 제1 기판 및 편광판 사이의 양측, 및 제1 기판 및 기재층 사이의 양측 중 어느 하나 이상에 위치하는 제2 실란트를 추가로 포함할 수 있다. 하나의 예로서 실란트(Sealant)는 도 1에 도시된 바와 같이, 제1 기판 및 제2 기판 사이 즉 액정층의 측면에 위치하여, 액정층의 간격을 유지함과 동시에 액정층 내 액정 화합물을 밀봉(sealing)하는 역할을 수행할 수 있다.The optical element of the present application further includes a second sealant positioned on at least one of both sides between the first substrate and the second substrate, both sides between the first substrate and the polarizing plate, and both sides between the first substrate and the base layer. can do. As an example, a sealant is positioned between the first substrate and the second substrate, that is, at the side of the liquid crystal layer, as shown in FIG. 1, to seal the liquid crystal compound in the liquid crystal layer while maintaining a gap between the liquid crystal layers. sealing can be performed.
하나의 예시에서, 제2 기판 및 편광층은 제1 기판 보다 넓은 면적을 가지며, 편광층 및 제2 기판 사이의 양측에 위치하는 제1 실란트를 추가로 포함할 수 있다. 구체적으로 상기 제2 기판의 면적이 제1 기판보다 넓게 형성됨으로써 제2 기판의 압축 또는 팽창의 힘이 제1 기판에 전해지는 것을 방지하여 제1 기판의 파손 및 변형을 효과적으로 방지할 수 있다. In one example, the second substrate and the polarizing layer may have a larger area than the first substrate, and may further include a first sealant located at both sides between the polarizing layer and the second substrate. Specifically, the area of the second substrate is wider than that of the first substrate, thereby preventing the compression or expansion force of the second substrate from being transmitted to the first substrate, thereby effectively preventing damage and deformation of the first substrate.
본 출원에 따른 광학 소자는, 제2 기판과 편광층 사이에 제1 실란트를 포함함으로써 제2 기판으로부터 제1 기판으로 열응력이 전달되는 것을 막을 수 있으며, 이에 따라 광학 소자의 열적 구조 안정성 및 내구성을 향상시킬 수 있다. The optical device according to the present application may prevent thermal stress from being transferred from the second substrate to the first substrate by including the first sealant between the second substrate and the polarizing layer, and thus thermal structural stability and durability of the optical device. Can improve.
도 1은 본 출원의 일 실시예에 따른 광학 소자를 예시적으로 나타낸다. 도 1에 나타낸 바와 같이, 상기 광학 소자는 기재층(11), 상기 기재층 상에 위치한 편광층(30), 상기 편광층 상에 위치한 제1 기판(41), 및 상기 제1 기판 상에 위치한 제2 기판(42)을 포함하며, 상기 기재층(11), 편광층(30) 및 제1 기판(41) 사이에는 각각 점착제층 또는 접착제층(21, 22)이 존재하고, 제1 기판(41) 및 제2 기판(42) 사이의 양측에 제2 실란트(52)가 위치하며, 제1 기판(41) 및 제2 기판(42) 사이에는 액정층(60)이 존재하고, 제2 기판(42), 편광층(30) 및 기재층(11)의 각각의 면적은 제1 기판(42)의 면적 보다 넓게 형성되어 제2 기판(42) 및 편광층(30) 사이의 양측에 제1 실란트(51)가 위치할 수 있다. 본 출원의 광학 소자는 상기 구조를 가짐으로써 제1 기판 및 제2 기판의 열 팽창 계수가 차이로 인해 열 응력이 발생하는 현상을 방지할 수 있다. 이에 따라 광학 소자의 열적 구조 안정성 및 내구성을 향상시킬 수 있다.1 exemplarily illustrates an optical device according to an embodiment of the present application. As shown in FIG. 1, the optical element includes a
하나의 예시에서, 상기 실란트(Sealant)는 폴리머 층 일 수 있다. 이러한 폴리머 층은, 예를 들면 열 경화, UV 경화 또는 열 경화와 UV경화가 모두 가능한 타입일 수 있다. In one example, the sealant may be a polymer layer. Such a polymer layer may be, for example, of a type capable of thermal curing, UV curing or both thermal curing and UV curing.
본 출원에서 실란트는 제1 실란트 및 제2 실란트 중 어느 하나 이상을 의미하는 것 일 수 있으며, 제1 실란트와 제2 시란트는 동일하거나 다른 것일 수 있다. 또한, 제1 실란트와 제2 실란트는 서로 상이한 탄성 계수 값을 가질 수 있다.In the present application, the sealant may mean any one or more of the first sealant and the second sealant, and the first sealant and the second sealant may be the same or different. In addition, the first sealant and the second sealant may have different elastic modulus values.
하나의 예시에서, 실란트(Sealant)는 (메타)아크릴산 에스테르의 중합 단위를 포함하는 아크릴계 폴리머 층일 수 있다.In one example, the sealant may be an acrylic polymer layer comprising polymerized units of (meth) acrylic acid esters.
상기 (메타)아크릴산 에스테르는 메타크릴산 또는 아크릴산이나 그 유도체를 의미하는 것으로써, 구체적인 상기 (메타)아크릴산 에스테르로는 탄소수가 1 내지 14인 알킬기를 가지는 알킬 (메타)아크릴레이트 일 수 있으며, 그 예로는 메틸 (메타)아크릴레이트, 에틸 (메타)아크릴레이트, n-프로필 (메타)아크릴레이트, 이소프로필 (메타)아크릴레이트, n-부틸 (메타)아크릴레이트, t-부틸 (메타)아크릴레이트, sec-부틸 (메타)아크릴레이트, 이소부틸 (메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실 (메타)아크릴레이트, 2-에틸부틸 (메타)아크릴레이트, 펜틸 (메타)아크릴레이트, 헥실 (메타)아크릴레이트, n-옥틸 (메타)아크릴레이트, 디실 (메타)아크릴레이트, 도데실 (메타)아크릴레이트, 트리데실 (메타)아크릴레이트, 옥타데실 (메타)아크릴레이트, 이소옥틸 (메타)아크릴레이트, 이소노닐 (메타)아크릴레이트 또는 테트라데실 (메타)아크릴레이트 등이 예시될 수 있지만, 이에 제한되는 것은 아니다.The (meth) acrylic acid ester refers to methacrylic acid or acrylic acid or a derivative thereof, and specific (meth) acrylic acid ester may be an alkyl (meth) acrylate having an alkyl group having 1 to 14 carbon atoms, and Examples are methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate , sec-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, 2-ethylbutyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylic Acrylate, n-octyl (meth) acrylate, disil (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, octadecyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate Agent, isononyl (meth) acrylate or the like, but tetradecyl (meth) acrylate can be exemplified, without being limited thereto.
또한, 상기 아크릴계 폴리머 층에는 기타 가교성 관능기를 가지는 단량체의 중합 단위를 추가로 포함할 수 있다. 상기 가교성 관능기를 가지는 단량체는 예를 들면, 2-히드록시에틸 (메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필 (메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸 (메타)아크릴레이트, 6-히드록시헥실 (메타)아크릴레이트 또는 8-히드록시옥틸 (메타)아크릴레이트 등과 같은 히드록시알킬 (메타)아크릴레이트, 2-히드록시폴리에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트 또는 2-히드록시폴리프로필렌글리콜 (메타)아크릴레이트 등과 같은 히드록시기를 가지는 단량체; 또는 (메타)아크릴산, 2-(메타)아크릴로일옥시 아세트산, 3-(메타)아크릴로일옥시 프로필산, 4-(메타)아크릴로일옥시 부틸산, 아크릴산 이중체, 이타콘산, 말레산 또는 말레산 무수물 등과 같은 카르복시기를 가지는 단량체 등이 예시될 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다.In addition, the acrylic polymer layer may further include polymerized units of monomers having other crosslinkable functional groups. The monomer having the crosslinkable functional group is, for example, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 6-hydroxyhexyl Hydroxyalkyl (meth) acrylates such as (meth) acrylate or 8-hydroxyoctyl (meth) acrylate, 2-hydroxypolyethylene glycol (meth) acrylate or 2-hydroxypolypropylene glycol (meth) acrylic Monomers having a hydroxyl group such as a rate; Or (meth) acrylic acid, 2- (meth) acryloyloxy acetic acid, 3- (meth) acryloyloxy propyl acid, 4- (meth) acryloyloxy butyl acid, acrylic acid duplex, itaconic acid, maleic acid Or a monomer having a carboxyl group such as maleic anhydride and the like can be exemplified, but is not limited thereto.
실란트(Sealant)의 두께는, 예를 들면 5 내지 100㎛의 범위 내에 있을 수 있으며, 이러한 범위 내에서 액정층에 구조적 안정성을 제공할 수 있다. The thickness of the sealant may be, for example, in the range of 5 to 100 μm, and may provide structural stability to the liquid crystal layer within this range.
하나의 예시에서, 실란트(Sealant)는 3mm 내지 15mm의 너비를 가질 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다.In one example, the sealant may have a width of 3 mm to 15 mm, but is not limited thereto.
상기 실란트(Sealant)는, 예를 들면 액정층의 면적 대비 30% 이하, 20% 이하, 10% 이하 또는 1% 이하의 면적을 가질 수 있다. 상기 면적은, 실란트(Sealant)가 액정층에 접하고 있는 면의 비율을 의미하는 것이다. 이러한 면적 범위 내에서, 액정층의 간격을 유지하는 역할 및 액정층을 밀봉하는 역할을 수행할 수 있으며, 또한 액정층 내 액정 화합물의 투과도 가변 특성을 저해하지 않을 수 있다.The sealant may have, for example, an area of 30% or less, 20% or less, 10% or less or 1% or less of the area of the liquid crystal layer. The said area means the ratio of the surface which the sealant contact | connects a liquid crystal layer. Within this area range, it may serve to maintain the gap between the liquid crystal layer and to seal the liquid crystal layer, and may not impair the variable transmittance of the liquid crystal compound in the liquid crystal layer.
상기 실란트(Sealant)에는, 전술한 폴리머 이외에 투과도 가변 특성이나, 강성을 조절 하기 위하여, 적절한 첨가제를 추가로 포함할 수 있다. 예를 들면, 실란트(Sealant)는 투과도 가변 특성이나 강성 등을 조절하기 위하여, 공지의 무기 입자나 무기 안료 등을 적정량 추가로 포함할 수 있다.The sealant (Sealant), in addition to the polymer described above may further include a suitable additive, in order to adjust the permeability variable properties, or rigidity. For example, the sealant may further contain an appropriate amount of known inorganic particles, inorganic pigments, and the like in order to adjust the permeability variable characteristics, rigidity, and the like.
본 출원에서 제1 실란트는 예를 들면, 탄성계수가 20GPa 이하, 15GPa이하 또는 10GPa 이하일 수 있다. 이러한 탄성 계수의 범위 내에서 적절한 강성을 유지할 수 있고, 광학 소자의 적층 구조에 따른 열 변형을 방지할 수 있다. 상기 탄성 계수의 하한 값은, 예를 들면 0.5 GPa 이상 또는 2.5GPa 이상 일 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 탄성 계수 값은 ASTM D882에 따라 측정한 값을 의미할 수 있다.In the present application, the first sealant may have, for example, an elastic modulus of 20 GPa or less, 15 GPa or less, or 10 GPa or less. Appropriate rigidity can be maintained within the range of such elastic modulus, and thermal deformation due to the laminated structure of the optical element can be prevented. The lower limit of the elastic modulus may be, for example, 0.5 GPa or more or 2.5 GPa or more, but is not limited thereto. The elastic modulus value may mean a value measured according to ASTM D882.
또한, 제2 실란트는 소정의 탄성 계수 및 열 팽창 계수(CTE)를 가지는 것일 수 있다.In addition, the second sealant may have a predetermined elastic modulus and thermal expansion coefficient (CTE).
하나의 예시에서, 제2 실란트는 탄성계수가 20GPa 이하, 15GPa이하 또는 10GPa 이하일 수 있다. 이러한 탄성 계수의 범위 내에서 적절한 강성을 유지할 수 있고, 광학 소자의 적층 구조에 따른 열 변형을 방지할 수 있다. 상기 탄성 계수의 하한 값은, 예를 들면 0.5 GPa 이상 또는 2.5GPa 이상 일 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 탄성 계수 값은 ASTM D882에 따라 측정한 값을 의미할 수 있다.In one example, the second sealant may have an elastic modulus of 20 GPa or less, 15 GPa or less, or 10 GPa or less. Appropriate rigidity can be maintained within the range of such elastic modulus, and thermal deformation due to the laminated structure of the optical element can be prevented. The lower limit of the elastic modulus may be, for example, 0.5 GPa or more or 2.5 GPa or more, but is not limited thereto. The elastic modulus value may mean a value measured according to ASTM D882.
본 출원의 광학 소자는 편광층 및 제1 기판 사이에 배리어층을 추가로 포함할 수 있다. The optical device of the present application may further include a barrier layer between the polarizing layer and the first substrate.
하나의 예시에서 배리어층은 편광층 및 제1 기판과 직접 접하고 있거나, 또는 점착제층 또는 접착제층을 매개로 편광층 및 제1 기판에 부착되어 있을 수 있다. 이때, 편광층과 배리어층 사이 혹은 배리어층과 제1 기판 사이에 게재되는 점착제층 또는 접착제층은, 예를 들면 아크릴계; 에폭시계; 우레탄계; 또는 고무계; 점착제 또는 접착제 등 공지의 점착제 또는 접착제가 제한 없이 이용될 수 있다. 구체적으로 상기 점착제층 또는 접착제층은 투명 점착필름(OCA, Optically Clear Adhesive) 및 압착성 실리콘 접착 필름 PSA(Pressure Sensitive Adhesive) 중 어느 하나일 수 있으며, 더욱 구체적으로 압착성 실리콘 접착 필름(PSA, Pressure Sensitive Adhesive)이 사용될 수 있다.In one example, the barrier layer may be in direct contact with the polarizing layer and the first substrate, or may be attached to the polarizing layer and the first substrate via an adhesive layer or an adhesive layer. At this time, the pressure-sensitive adhesive layer or the adhesive layer disposed between the polarizing layer and the barrier layer or between the barrier layer and the first substrate is, for example, acrylic; Epoxy-based; Urethane-based; Or rubber based; Known pressure-sensitive adhesives or adhesives such as pressure-sensitive adhesives or adhesives can be used without limitation. Specifically, the pressure-sensitive adhesive layer or the adhesive layer may be any one of a transparent adhesive film (OCA, Optically Clear Adhesive) and a pressure-sensitive silicone adhesive film PSA (Pressure Sensitive Adhesive), more specifically a pressure-sensitive silicone adhesive film (PSA, Pressure Sensitive Adhesive) can be used.
상기 배리어층은, 예를 들면, 고체의 재료이거나, 혹은 경화된 액체, 겔, 또는 폴리머일 수 있고, 용도에 따라서 가요성이거나 비가요성의 재료로부터 선택될 수 있다. The barrier layer may be, for example, a solid material, or a cured liquid, gel, or polymer, and may be selected from flexible or inflexible materials, depending on the application.
하나의 예로서, 상기 배리어층으로 적용되는 금속, 구체적으로 상기 금속 박막층이나 증착층을 구성하는 금속은 예를 들어 알루미늄(Al), 구리(Cu), 니켈(Ni), 주석(Sn), 아연(Zn), 인듐(In), 은(Ag), 텡스텐(W) 및 철(Fe) 등으로 이루어진 군중에서 선택된 하나 이상(단일 금속 또는 단일 금속의 혼합), 또는 이들로부터 선택된 2 이상의 합금(alloy) 등을 예로 들 수 있으나, 이들에 의해 제한되는 것은 아니다. 상기 증착층으로 사용될 수 있는 금속 산화물의 경우에는 예를 들어 산화알루미늄(Al2O3), 산화규소(SiO2), 산화주석(SnO2), 산화인듐(In2O3) 및 산화아연(ZnO) 등으로부터 선택될 수 있다.As one example, the metal applied to the barrier layer, specifically, the metal constituting the metal thin film layer or the deposition layer is, for example, aluminum (Al), copper (Cu), nickel (Ni), tin (Sn), zinc. (Zn), at least one selected from the group consisting of indium (In), silver (Ag), tungsten (W), iron (Fe), and the like (single metal or a mixture of single metals), or two or more alloys selected from them ( alloy) and the like, but are not limited thereto. For the metal oxide that can be used as the deposition layer, for example, aluminum oxide (Al 2 O 3 ), silicon oxide (SiO 2 ), tin oxide (SnO 2 ), indium oxide (In 2 O 3 ) and zinc oxide ( ZnO) and the like.
또한, 배리어층은 수지층을 포함하되, 상기 수지층은 열경화형 및 광경화형 등의 수지 조성물(점착제 조성물)이 도포되어 형성될 수 있다.In addition, the barrier layer may include a resin layer, and the resin layer may be formed by applying a resin composition (adhesive composition) such as thermosetting type and photosetting type.
배리어층을 형성하는 재료의 종류는 특별히 제한되지 않고, 유리, 폴리머, 산화물 또는 질화물 등을 포함하는 공지의 재료로부터 선택될 수 있다. 배리어층은, 예를 들면, 유리; PET(poly(ethylene terephtalate)) 등과 같은 폴리머; 또는 실리콘, 티타늄 또는 알루미늄 등의 산화물이나 질화물 등이나 상기 중 2종 이상의 조합을 포함할 수 있지만, 이에 제한되는 것은 아니다. The kind of material for forming the barrier layer is not particularly limited and may be selected from known materials including glass, polymers, oxides or nitrides and the like. The barrier layer is, for example, glass; Polymers such as PET (poly (ethylene terephtalate)) and the like; Or an oxide or nitride such as silicon, titanium or aluminum, or a combination of two or more of the above, but is not limited thereto.
배리어층은, 파장 변환 입자의 안정성을 향상시키고, 고온, 고강도, 외부 가스 또는 수분 등을 포함하는 유해한 외부 조건들로부터 파장 변환 입자를 보호하는 것에 유리할 수 있으며, 파장 변환 입자의 친수성 또는 소수성 특성을 부여하는 역할을 할 수 있다.The barrier layer may be advantageous for improving the stability of the wavelength converting particles and protecting the wavelength converting particles from harmful external conditions including high temperature, high intensity, external gas or moisture, and the like. It can play a role.
도 2는 본 출원의 일 실시예에 따른 광학 소자를 예시적으로 나타낸다. 도 2에 나타낸 바와 같이, 상기 광학 소자는 기재층(11), 상기 기재층 상에 위치한 편광층(30), 상기 편광층(30) 상에 위치한 배리어층(70), 상기 배리어층 상에 위치한 제1 기판(41), 및 상기 제1 기판(41) 상에 위치한 제2 기판(42)을 포함하며, 제1 기판(41) 및 제2 기판(42) 사이의 양측에 제2 실란트(52)가 위치하고, 제1 기판(41) 및 제2 기판(42) 사이에는 액정층(60)이 존재할 수 있다. 이때, 기재층(11), 편광층(30), 배리어층(70) 및 제1 기판(41)의 각 층 사이에는 각 점착제층 또는 접착제층(21, 22, 23)이 존재할 수 있다. 본 출원의 광학 소자는 상기 구조를 가짐으로써 각각의 기판 사이의 열 팽창 계수가 차이로 인해 열 응력이 발생하는 현상을 방지할 수 있다. 이에 따라 광학 소자의 열적 구조 안정성 및 내구성을 향상시킬 수 있다.2 exemplarily shows an optical device according to an embodiment of the present application. As shown in FIG. 2, the optical device includes a
본 출원의 광학 소자는 편광층 및 제1 기판 사이에 제3 기판을 추가로 포함할 수 있다. The optical device of the present application may further include a third substrate between the polarizing layer and the first substrate.
하나의 예시에서 제3 기판은 편광층 및 제1 기판과 직접 접하고 있거나, 또는 점착제층 또는 접착제층을 매개로 편광층 및 제1 기판에 부착되어 있을 수 있다. 이때, 편광층과 제3 기판 사이 혹은 제3 기판과 제1 기판 사이에 게재되는 점착제층 또는 접착제층은, 예를 들면 아크릴계; 에폭시계; 우레탄계; 또는 고무계; 점착제 또는 접착제 등 공지의 점착제 또는 접착제가 제한 없이 이용될 수 있다. 구체적으로 상기 점착제층 또는 접착제층은 투명 점착필름(OCA, Optically Clear Adhesive) 및 압착성 실리콘 접착 필름 PSA(Pressure Sensitive Adhesive) 중 어느 하나일 수 있으며, 더욱 구체적으로 압착성 실리콘 접착 필름(PSA, Pressure Sensitive Adhesive)이 사용될 수 있다.In one example, the third substrate may be in direct contact with the polarizing layer and the first substrate, or may be attached to the polarizing layer and the first substrate via an adhesive layer or an adhesive layer. At this time, the pressure-sensitive adhesive layer or the adhesive layer disposed between the polarizing layer and the third substrate or between the third substrate and the first substrate is, for example, acrylic; Epoxy-based; Urethane-based; Or rubber based; Known pressure-sensitive adhesives or adhesives such as pressure-sensitive adhesives or adhesives can be used without limitation. Specifically, the pressure-sensitive adhesive layer or the adhesive layer may be any one of a transparent adhesive film (OCA, Optically Clear Adhesive) and a pressure-sensitive silicone adhesive film PSA (Pressure Sensitive Adhesive), more specifically a pressure-sensitive silicone adhesive film (PSA, Pressure Sensitive Adhesive) can be used.
본 출원의 광학 소자는 상기 구조를 가짐으로써 각각의 기판 사이의 열 팽창 계수가 차이로 인해 열 응력이 발생하는 현상을 방지할 수 있다. 이에 따라 광학 소자의 열적 구조 안정성 및 내구성을 향상시킬 수 있다.The optical element of the present application has the above structure, it is possible to prevent the phenomenon that the thermal stress caused by the difference in the coefficient of thermal expansion between each substrate. Accordingly, the thermal structural stability and durability of the optical element can be improved.
상기 제3 기판은 열 팽창 계수가 제1 기판의 열 팽창 계수 값과 제2 기판의 열팽창 계수 값의 중간 값을 가질 수 있다. 이 경우 광학 소자의 열정 구조 안정성을 확보할 수 있다. The third substrate may have a thermal expansion coefficient having an intermediate value between the thermal expansion coefficient value of the first substrate and the thermal expansion coefficient value of the second substrate. In this case, it is possible to secure the passion structural stability of the optical element.
하나의 예시에서, 제3 기판은 유리 기판; 결정성 또는 비결정성 실리콘 필름; 석영 또는 ITO 필름 등의 무기계 필름; 또는 플라스틱 기판 등 일 수 있다.In one example, the third substrate comprises a glass substrate; Crystalline or amorphous silicon films; Inorganic films such as quartz or ITO films; Or a plastic substrate.
구체적인 예시에서, 플라스틱 기판으로는, TAC(triacetyl cellulose); 노르보르넨 유도체 등의 COP(cyclo olefin copolymer); PMMA(poly(methyl methacrylate); PC(polycarbonate); PE(polyethylene); PP(polypropylene); PVA(polyvinyl alcohol); DAC(diacetyl cellulose); Pac(Polyacrylate); PES(poly ether sulfone); PEEK(polyetheretherketon); PPS(polyphenylsulfone), PEI(polyetherimide); PEN(polyethylenemaphthatlate); PET(polyethyleneterephtalate); PI(polyimide); PSF(polysulfone); PAR(polyarylate) 또는 비정질 불소 수지 등을 포함하는 것을 이용할 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다.In a specific example, the plastic substrate may include triacetyl cellulose (TAC); Cyclo olefin copolymer (COP) such as norbornene derivatives; Poly (methyl methacrylate); PC (polycarbonate); PE (polyethylene); PP (polypropylene); PVA (polyvinyl alcohol); DAC (diacetyl cellulose); Pac (Polyacrylate); PES (poly ether sulfone); PEEK (polyetheretherketon Polyphenylsulfone (PPS), polyetherimide (PEI); polyethylenemaphthatlate (PEN); polyethyleneterephtalate (PET); polyimide (PI); polysulfone (PSF); polyarylate (PAR) or amorphous fluorine resin It doesn't happen.
상기 제1 기판, 제2 기판 및 제3 기판은 서로 같은 종류의 기판일 수도 있고, 서로 다른 종류의 기판일 수도 있다. The first substrate, the second substrate, and the third substrate may be the same kind of substrates, or may be different kinds of substrates.
본 출원에서 액정층은 액정 화합물을 포함할 수 있다. 상기 액정 화합물은 상기 액정 층 내에서 배향이 스위칭 가능한 상태로 존재할 수 있다. 본 명세서에서 배향이 스위칭 가능하다는 것은 액정 화합물의 정렬 방향이 전압의 인가와 같은 외부 작용에 의해 변경될 수 있다는 것을 의미할 수 있다. 액정 화합물로는, 예를 들면, 스멕틱(smectic) 액정 화합물, 네마틱(nematic) 액정 화합물 또는 콜레스테릭(cholesteric) 액정 화합물 등을 사용할 수 있다. 또한, 액정 화합물로는 외부에서 전압과 같은 외부 작용 하에서 배향이 변경되도록 중합성기 또는 가교성기를 가지지 않는 액정 화합물을 사용할 수 있다.In the present application, the liquid crystal layer may include a liquid crystal compound. The liquid crystal compound may be present in a switchable state in the liquid crystal layer. In the present specification, the switchable orientation may mean that the alignment direction of the liquid crystal compound may be changed by an external action such as application of a voltage. As the liquid crystal compound, for example, a smectic liquid crystal compound, a nematic liquid crystal compound, a cholesteric liquid crystal compound, or the like can be used. In addition, a liquid crystal compound having no polymerizable group or a crosslinkable group may be used as the liquid crystal compound so that the orientation is changed under an external action such as voltage from the outside.
상기 액정 층은 이방성 염료를 더 포함할 수 있다. 본 명세서에서 용어 염료는, 가시광 영역, 예를 들면, 400 nm 내지 700 nm 파장 범위 내에서 적어도 일부 또는 전체 범위 내의 광을 집중적으로 흡수 및/또는 변형시킬 수 있는 물질을 의미할 수 있고, 용어 이방성 염료는 상기 가시광 영역의 적어도 일부 또는 전체 범위에서 광의 이방성 흡수가 가능한 물질을 의미할 수 있다. 이방성 염료로는, 예를 들면, 액정의 정렬 상태에 따라 정렬될 수 있는 특성을 가지는 것으로 알려진 공지의 염료를 선택하여 사용할 수 있다. 이방성 염료로는, 예를 들면, 흑색 염료(black dye)를 사용할 수 있다. 이러한 염료로는, 예를 들면, 아조 염료 또는 안트라퀴논 염료 등으로 공지되어 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The liquid crystal layer may further include an anisotropic dye. As used herein, the term dye may mean a material capable of intensively absorbing and / or modifying light in at least part or the entire range within the visible region, for example, in the 400 nm to 700 nm wavelength range, and the term anisotropy The dye may mean a material capable of anisotropic absorption of light in at least part or the entire range of the visible light region. As the anisotropic dye, for example, a known dye known to have a property that can be aligned according to the alignment state of the liquid crystal can be selected and used. As the anisotropic dye, for example, a black dye can be used. Such dyes are known as, for example, azo dyes, anthraquinone dyes, and the like, but are not limited thereto.
상기 액정층의 이방성 염료의 함량은 본 출원의 목적을 고려하여 적절히 선택될 수 있다. 예를 들어, 상기 액정층의 이방성 염료의 함량은 0.1 중량% 이상 내지 10 중량% 이하일 수 있다. 액정 층의 이방성 염료의 함량이 상기 범위인 경우 투과도 가변 특성을 나타내는데 적합하다.The content of the anisotropic dye of the liquid crystal layer may be appropriately selected in consideration of the purpose of the present application. For example, the content of the anisotropic dye of the liquid crystal layer may be 0.1 wt% or more to 10 wt% or less. When the content of the anisotropic dye of the liquid crystal layer is in the above range, it is suitable to exhibit variable transmittance characteristics.
상기액정층 내 액정 화합물은 외부 작용의 인가에 의하여 정렬 특성이 변경될 수 있다. The alignment property of the liquid crystal compound in the liquid crystal layer may be changed by application of an external action.
하나의 예시에서, 외부 작용이 없는 상태에서, 액정층이 수평 배향 인 경우 외부 작용의 인가에 의하여 수직 배향 상태로 스위칭함으로써 투과도를 높일 수 있다. In one example, in a state where there is no external action, when the liquid crystal layer is in a horizontal alignment, the transmittance may be increased by switching to a vertical alignment state by application of an external action.
다른 예시에서, 외부 작용이 없는 상태에서, 액정층이 수직 배향인 경우 외부 작용의 인가에 의하여 수평 배향 상태로 스위칭함으로써 투과도를 감소시킬 수 있다. 또한, 초기 수직 배향 상태에서 수평 배향 상태로 스위칭함에 있어서, 액정 화합물의 배향 방향을 결정하기 위하여 일정 방향의 프리 틸트(Pre Tilt)가 필요할 수 있다. 상기에서 프리 틸트를 부여하는 방식은 특별히 제한되지 않고, 예를 들어 의도하는 프리 틸트를 부여할 수 있도록 적절한 배향막을 배치하는 것에 의하여 가능하다.In another example, in the absence of external action, the transmittance can be reduced by switching to the horizontal alignment state by the application of the external action when the liquid crystal layer is in vertical alignment. In addition, in the switching from the initial vertical alignment state to the horizontal alignment state, a pretilt in a predetermined direction may be required to determine the alignment direction of the liquid crystal compound. The manner in which the pretilt is imparted above is not particularly limited, and for example, it is possible to dispose an appropriate alignment film so as to impart the desired pretilt.
본 출원은 상기 광학 소자의 용도에 관한 것이다. 본 출원의 광학 소자는 투과도 가변 부재로 사용될 수 있으며, 상기 투과도 가변 부재는 투과도 가변 필름을 의미하는 것일 수 있다. The present application relates to the use of the optical element. The optical device of the present application may be used as a variable transmittance member, the variable transmittance member may mean a variable transmittance film.
상기 투과도 가변 필름은, 예를 들면, 디스플레이 장치용 위상차 필름 또는 시야각 보상 필름이나, 편광자의 보호 필름 등으로 사용될 수 있다.The variable transmittance film may be used, for example, as a retardation film or a viewing angle compensation film for a display device, a protective film of a polarizer, or the like.
본 출원의 투과도 가변 필름은 투과도 가변이 적용될 수 있는 모든 디바이스에 적용될 수 있다. 예를 들어, 본 출원의 투과도 가변 필름은 선루프, 고글, 선글라스 또는 헬멧 등에 적용되어 투과도 가변 디바이스를 제공할 수 있다. 상기 투과도 가변 디바이스는 본 출원의 투과도 가변 필름을 포함하는 한, 다른 부품 내지 구조 등은 특별히 제한되지 않으며, 이 분야에서 공지되어 있는 모든 내용이 적절하게 적용될 수 있다.The variable transmittance film of the present application can be applied to any device to which the variable transmittance can be applied. For example, the variable transmittance film of the present application may be applied to a sunroof, goggles, sunglasses or a helmet to provide a variable transmittance device. As long as the variable transmittance device includes the variable transmittance film of the present application, other parts or structures are not particularly limited, and all contents known in the art may be appropriately applied.
본 출원의 상기 광학 소자는 각 층 사이에 물성의 차이에 따라 발생할 수 있는 응력 강화 현상 및 그에 따른 소자의 변형을 효과적으로 제어할 수 있다. The optical device of the present application can effectively control the stress strengthening phenomenon and the deformation of the device that can occur according to the difference in physical properties between each layer.
도 1은 본 출원의 일 실시예에 따른 광학 소자의 구조도이다.
도 2는 본 출원의 또 다른 일 실시예에 따른 광학 소자의 구조도이다.
도 4는 비교예에 따른 광학 소자의 구조도이다.1 is a structural diagram of an optical device according to an embodiment of the present application.
2 is a structural diagram of an optical device according to another embodiment of the present application.
4 is a structural diagram of an optical device according to a comparative example.
이하 본 출원에 대해서 실시예를 통해 보다 상세히 설명하겠지만, 본 출원의 요지에 국한된 실시예에 지나지 않는다. 한편 본 출원은 이하의 실시예에서 제시하는 공정조건에 제한되는 것이 아니며, 본 출원의 목적을 달성하기에 필요한 조건의 범위 안에서 임의로 선택 할 수 있음은 이 기술분야의 통상의 지식을 가진 자에게 자명하다. Hereinafter, the present application will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is only an embodiment limited to the gist of the present application. On the other hand, the present application is not limited to the process conditions presented in the following examples, it can be arbitrarily selected within the range of conditions necessary to achieve the purpose of the present application is apparent to those skilled in the art. Do.
실시예Example 1 One
Glass 기재층 상에 PSA 접착제층을 형성한 후 공지의 흡수형 선형 편광층을 형성하였다. 그런 다음 상기 편광층 상에 PSA 접착제층을 형성한 후 제1 기판으로써 COP ITO필름을 형성하였다. 이때 PSA 접착제층 및 제1 기판은 편광층의 면적보다 좁게 형성하였다. 그런 다음, 상기 ITO필름 상에 액정 화합물의 수평 배향을 유도하는 광 배향막을 형성하였다. 그 후, 광 배향막이 형성되어 있는 ITO필름 상에 액정 화합물(HPC21600, HCCH사제) 및 상기 액정 화합물 100 중량부에 대하여 이방성 염료(X12, BASF사제)를 1 내지 3 중량부의 비율로 포함하는 액정층을 형성(두께 약 15㎛, 두께를 유지하기 위해 볼 스페이서를 사용하였음)하고, 양쪽 측면을 제2 실란트로 실링 하였다. 그 후, 액정층 상부에 편광층과 동일한 면적을 갖는 제2 기판으로써 PET필름을 합착시킨 후, 제2 기판과 편광층 양쪽 측면을 제1 실란트로 실링하여 도 1과 같은 구조를 갖는 광학 소자를 제조하였다. After forming a PSA adhesive layer on the glass substrate layer, a known absorbing linear polarizing layer was formed. Then, after forming a PSA adhesive layer on the polarizing layer, a COP ITO film was formed as a first substrate. At this time, the PSA adhesive layer and the first substrate were formed narrower than the area of the polarizing layer. Then, a photo alignment layer was formed on the ITO film to induce horizontal alignment of the liquid crystal compound. Thereafter, the liquid crystal layer comprising an anisotropic dye (X12, manufactured by BASF) in an amount of 1 to 3 parts by weight based on 100 parts by weight of the liquid crystal compound (HPC21600, manufactured by HCCH) and the liquid crystal compound on the ITO film on which the photo alignment layer is formed. Was formed (about 15 mu m in thickness, ball spacers were used to maintain the thickness), and both sides were sealed with a second sealant. Then, after bonding the PET film as a second substrate having the same area as the polarizing layer on the liquid crystal layer, and sealing both sides of the second substrate and the polarizing layer with the first sealant to produce an optical device having a structure as shown in FIG. It was.
실시예Example 2 2
편광층과 제1 기판 사이에 PSA 접착제층 및 배리어층으로 COP 또는 PC 필름을 더 형성하고, 배리어층의 면적을 제1 기판과 동일하게 한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 도 2와 같은 구조를 갖는 광학 소자를 제조하였다. 2 and the same method as in Example 1 except that a COP or PC film was further formed between the polarizing layer and the first substrate using a PSA adhesive layer and a barrier layer, and the area of the barrier layer was the same as that of the first substrate. An optical device having the same structure was manufactured.
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비교예Comparative example
제1 기판의 면적을 편광층 및 제2 기판의 면적과 동일하게 형성하여 제1 실란트를 사용하지 않은 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 도 4와 같은 구조를 갖는 광학 소자를 제조하였다. An optical device having the structure as shown in FIG. 4 was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the area of the first substrate was formed to be the same as that of the polarizing layer and the second substrate, and thus the first sealant was not used.
시험예Test Example 1: 내구성 테스트 1: durability test
실시예 1 내지 2 및 비교예에 따라 제조된 광학소자를 120℃에서 240시간 동안 방치한 다음, 액정 윈도우의 파손이나 변형이 있는지 여부를 확인 하여 표 1에 나타내었다. 구체적으로, 소자의 파손 여부는 육안으로 확인 하여, O(파손 있음), X(파손 없음)으로 평가 하였고, 하기 표 1에 나타내었다. The optical devices manufactured according to Examples 1 and 2 and Comparative Examples were allowed to stand at 120 ° C. for 240 hours, and then checked for damage or deformation of the liquid crystal window. Specifically, the damage of the device was visually confirmed, evaluated as O (with damage), X (without damage), shown in Table 1 below.
상기 표 1에 의하면, 본 출원의 광학 소자는 각 층별로 열 팽창 계수 차이로 인한 열 응력을 방지하여 소자의 파손 및 변형을 방지할 수 있음을 알 수 있다.According to Table 1, it can be seen that the optical device of the present application can prevent breakage and deformation of the device by preventing thermal stress due to the difference in coefficient of thermal expansion for each layer.
11: 기재층
21, 22, 23: 점착제층 또는 접착제층
30: 편광층
41: 제1 기판
42: 제2 기판
51: 제1 실란트
52: 제2 실란트
60: 액정층
70: 배리어층11: base layer
21, 22, 23: adhesive layer or adhesive layer
30: polarizing layer
41: first substrate
42: second substrate
51: first sealant
52: second sealant
60: liquid crystal layer
70: barrier layer
Claims (14)
상기 기재층 상에 위치하는 편광층;
상기 편광층 상에 위치하는 제1 기판;
상기 제1 기판 상에 위치하는 제2 기판; 및
상기 제1 기판 및 제2 기판 사이에 존재하는 액정층을 포함하며,
상기 기재층, 편광층 및 제2 기판 중 어느 하나 이상은 제1 기판 보다 넓은 면적을 가지고,
상기 편광층 및 제2 기판 사이의 양측에 위치하는 제1 실란트를 추가로 포함하고,
상기 제1 기판 및 제2 기판 사이의 양측에 위치하는 제2 실란트를 추가로 포함하며,
상기 제1기판과 제2기판은 상이한 열 팽창 계수(CTE)를 가지는 광학 소자.
Base layer;
A polarizing layer positioned on the base layer;
A first substrate on the polarizing layer;
A second substrate positioned on the first substrate; And
A liquid crystal layer present between the first substrate and the second substrate,
At least one of the base layer, the polarizing layer, and the second substrate has a larger area than the first substrate,
Further comprising a first sealant located on both sides between the polarizing layer and the second substrate,
Further comprising a second sealant located on both sides between the first substrate and the second substrate,
And the first substrate and the second substrate have different coefficients of thermal expansion (CTE).
제1 기판은 열 팽창 계수(CTE)가 150 ppm/K 미만인 광학 소자.
The method of claim 1,
And the first substrate has a coefficient of thermal expansion (CTE) of less than 150 ppm / K.
편광층은 기재층과 직접 접하고 있거나, 또는 점착제층 또는 접착제층을 매개로 기재층에 부착되어 있는 광학 소자.
The method of claim 1,
The polarizing layer is in direct contact with the substrate layer or is attached to the substrate layer via an adhesive layer or an adhesive layer.
제1 기판은 편광층과 직접 접하고 있거나, 또는 점착제층 또는 접착제층을 매개로 편광층에 부착되어 있는 광학 소자.
The method of claim 1,
The first substrate is in direct contact with the polarizing layer or is attached to the polarizing layer via an adhesive layer or an adhesive layer.
제1 실란트는 탄성 계수가 20 GPa 이하인 광학 소자.
The method of claim 1,
The first sealant has an elastic modulus of 20 GPa or less.
편광층 및 제1 기판 사이에 배리어층을 추가로 포함하는 광학 소자.
The method of claim 1,
An optical device further comprising a barrier layer between the polarizing layer and the first substrate.
배리어층은 편광층 및 제1 기판과 직접 접하고 있거나, 또는 점착제층 또는 접착제층을 매개로 편광층 및 제1 기판에 부착되어 있는 광학 소자.
The method of claim 7, wherein
The barrier layer is in direct contact with the polarizing layer and the first substrate, or is attached to the polarizing layer and the first substrate via an adhesive layer or an adhesive layer.
편광층 및 제1 기판 사이에 제3 기판을 추가로 포함하는 광학 소자.
The method of claim 1,
And a third substrate between the polarizing layer and the first substrate.
제3 기판은 편광층 및 제1 기판과 직접 접하고 있거나, 또는 점착제층 또는 접착제층을 매개로 편광층 및 제1 기판에 부착되어 있는 광학 소자.
The method of claim 9,
The third substrate is in direct contact with the polarizing layer and the first substrate, or is attached to the polarizing layer and the first substrate via an adhesive layer or an adhesive layer.
액정층은 스멕틱(smectic) 액정 화합물, 네마틱(nematic) 액정 화합물 또는 콜레스테릭(cholesteric) 액정 화합물을 포함하는 광학 소자.
The method of claim 1,
The liquid crystal layer is an optical device comprising a smectic liquid crystal compound, a nematic liquid crystal compound or a cholesteric liquid crystal compound.
액정층은 이방성 염료를 더 포함하는 광학 소자.
The method of claim 1,
The liquid crystal layer further comprises an anisotropic dye.
A variable transmittance member comprising the optical element according to claim 1.
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