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KR102046083B1 - Substrate process apparatus - Google Patents

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KR102046083B1
KR102046083B1 KR1020130033433A KR20130033433A KR102046083B1 KR 102046083 B1 KR102046083 B1 KR 102046083B1 KR 1020130033433 A KR1020130033433 A KR 1020130033433A KR 20130033433 A KR20130033433 A KR 20130033433A KR 102046083 B1 KR102046083 B1 KR 102046083B1
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lid
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guide
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유성진
이병우
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주식회사 원익아이피에스
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Abstract

본 발명은 기판처리시스템에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 기판처리, 기판의 이송 등 기판처리의 수행을 위한 기판처리장치에 관한 것이다.
본 발명은, 상부에 개구부를 가지는 챔버와; 상기 챔버의 개구부를 개폐하는 리드와; 상기 리드를 상기 챔버에 회전가능하게 결합하는 하나 이상의 회전결합부와; 상기 챔버에 설치되는 회전구동부와; 상기 회전구동부에 일단이 회전가능하게 연결되며 가이드가 구비되는 로드와; 일단이 상기 리드와 결합되고 상기 리드가 상기 챔버에 대하여 회전에 의하여 상기 챔버로부터 분리될 때 타단이 상기 가이드를 따라 이동가능하게 상기 로드와 결합되는 연결부를 포함하는 기판처리장치를 개시한다.The present invention relates to a substrate processing system, and more particularly, to a substrate processing apparatus for performing substrate processing, such as substrate processing, substrate transfer.
The present invention, the chamber having an opening at the top; A lid for opening and closing the opening of the chamber; One or more rotational couplings for rotatably coupling the lid to the chamber; A rotation driving unit installed in the chamber; A rod having one end rotatably connected to the rotation driving part and having a guide; Disclosed is a substrate processing apparatus including a connection portion having one end coupled to the lead and the other end coupled to the rod to move along the guide when the lead is separated from the chamber by rotation about the chamber.

Description

기판처리장치 {SUBSTRATE PROCESS APPARATUS}Substrate Processing Equipment {SUBSTRATE PROCESS APPARATUS}

본 발명은 기판처리시스템에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 기판처리, 기판의 이송 등 기판처리의 수행을 위한 기판처리장치에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate processing system, and more particularly, to a substrate processing apparatus for performing substrate processing, such as substrate processing, substrate transfer.

기판처리시스템은, 반도체, LCD 패널용 기판, OLED 기판, 태양전지기판 등 기판의 기판처리면에 증착, 식각 등 소정의 기판처리를 수행하는 시스템을 말한다.The substrate processing system refers to a system for performing a predetermined substrate treatment such as deposition and etching on a substrate processing surface of a substrate such as a semiconductor, an LCD panel substrate, an OLED substrate, and a solar cell substrate.

그리고 기판처리시스템은, 기판처리의 수행을 위한 하나 이상의 공정모듈과, 공정모듈 내로 기판을 도입하거나 기판을 인출하는 반송모듈로 구성됨이 일반적이며, 하나의 반송모듈에 복수의 공정모듈들이 결합되는 클러스터 타입과, 로드락모듈, 공정모듈 및 언로드락모듈이 순차적으로 결합되는 인라인 타입이 있다.In addition, the substrate processing system generally includes one or more process modules for performing substrate processing, and a conveyance module for introducing or extracting a substrate into the process module, wherein a plurality of process modules are coupled to one conveyance module. There is a type and an inline type in which a load lock module, a process module and an unload lock module are sequentially combined.

그리고 각 모듈들은, 밀폐된 내부공간을 형성하는 챔버를 포함하며, 챔버 내부 및 설치된 설비의 유지보수를 위하여 챔버의 상부가 개구되고 챔버의 개구는 리드개폐구조에 의하여 개폐되는 리드가 설치됨이 일반적이다.In addition, each module includes a chamber forming an enclosed inner space, and the lid of the chamber is opened to open the chamber and the opening of the chamber is opened and closed by a lid opening and closing structure for maintenance of the inside of the chamber and the installed equipment. .

리드개폐구조의 일 예로서, 상부커버를 승강시키는 승강기구 및 상부리드를 회전시키는 회전기구를 구비하고, 상부리드를 소정의 높이로 승강한 후 회전시키는 구성이 있다. 그러나, 이러한 구성은 상부리드가 회전된 후 위치되어야 하는 공간이 확보되어야 하기 때문에 챔버의 설치공간에 제약이 있는 경우에는 사용하기 어려운 문제가 있다.As an example of the lead opening and closing structure, a lifting mechanism for lifting and lowering the upper cover and a rotating mechanism for rotating the upper lead are provided, and the upper lid is lifted to a predetermined height and rotated. However, this configuration has a problem that it is difficult to use when there is a limitation in the installation space of the chamber because the space to be located after the upper lead is rotated.

또한, 리드개폐구조의 다른 예로서, 리드와 연결되는 피스톤로드 및 피스톤로드를 이동시키기 위한 압력이 작용되는 실린더를 가지는 가스스프링을 구비한 구성이 있다. 그러나, 이러한 구성은 리드가 회전될 수 있는 최대각도가 실린더의 길이에 제한되기 때문에, 챔버의 개구를 충분히 개방하는 데에 한계가 있는 문제가 있다.Further, as another example of the lid opening and closing structure, there is a configuration having a gas spring having a piston rod connected to the lid and a cylinder to which pressure for moving the piston rod is applied. However, such a configuration has a problem in that the opening of the chamber is limited enough because the maximum angle at which the lid can be rotated is limited to the length of the cylinder.

본 발명은 상기한 종래기술의 문제를 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은 챔버에 형성된 개구부에서 리드의 그 회전각을 최대화하여 개구부를 최대로 개방할 수 있는 기판처리장치를 제공하는 데 있다.The present invention is to solve the above problems of the prior art, an object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus capable of maximally opening the opening by maximizing the rotation angle of the lead in the opening formed in the chamber.

본 발명의 다른 목적은, 리드의 개폐를 위한 리드개폐구조가 차지하는 공간을 최소화하여 모듈이 차지하는 공간을 최소화할 수 있는 기판처리장치를 제공하는 데에 있다.Another object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus capable of minimizing a space occupied by a module by minimizing a space occupied by a lid opening and closing structure for opening and closing a lid.

본 발명은 상기와 같은 본 발명의 목적을 달성하기 위하여 창출된 것으로서, 본 발명은, 상부에 개구부를 가지는 챔버와; 상기 챔버의 개구부를 개폐하는 리드와; 상기 리드를 상기 챔버에 회전가능하게 결합하는 하나 이상의 회전결합부와; 상기 챔버에 설치되는 회전구동부와; 상기 회전구동부에 일단이 회전가능하게 연결되며 가이드가 구비되는 로드와; 일단이 상기 리드와 결합되고 상기 리드가 상기 챔버에 대하여 회전에 의하여 상기 챔버로부터 분리될 때 타단이 상기 가이드를 따라 이동가능하게 상기 로드와 결합되는 연결부를 포함하는 기판처리장치를 개시한다.The present invention has been made to achieve the object of the present invention as described above, the present invention, the chamber having an opening in the upper; A lid for opening and closing the opening of the chamber; One or more rotational couplings for rotatably coupling the lid to the chamber; A rotation driving unit installed in the chamber; A rod having one end rotatably connected to the rotation driving part and having a guide; Disclosed is a substrate processing apparatus including a connection portion having one end coupled to the lead and the other end coupled to the rod to be movable along the guide when the lead is separated from the chamber by rotation about the chamber.

상기 가이드는 상기 로드의 길이방향을 따라 형성되는 슬롯, 홈, 돌기 및 하나 이상의 가이드레일 중 적어도 어느 하나를 포함하고, 상기 연결부는 상기 가이드에 슬라이드 가능하게 결합되는 연결부재를 포함할 수 있다.The guide may include at least one of a slot, a groove, a protrusion, and one or more guide rails formed along a length direction of the rod, and the connection part may include a connection member slidably coupled to the guide.

상기 연결부재는 롤러인 것이 바람직하다.The connecting member is preferably a roller.

상기 회전결합부는, 상기 챔버에 고정되는 제1회전결합부재; 상기 리드에 고정되는 제2회전결합부재; 및 상기 제1회전결합부재와 상기 제2회전결합부재 사이에 설치되는 힌지축을 포함하고, 상기 리드는 상기 힌지축을 중심으로 회전될 수 있다.The rotary coupling unit, the first rotary coupling member fixed to the chamber; A second rotary coupling member fixed to the lead; And a hinge shaft installed between the first rotary coupling member and the second rotary coupling member, and the lead may be rotated about the hinge shaft.

상기 제1회전결합부재는 상기 챔버의 상면에 고정되고, 상기 제2회전결합부재는 상기 리드의 상면에 고정될 수 있다.The first rotary coupling member may be fixed to an upper surface of the chamber, and the second rotary coupling member may be fixed to an upper surface of the lead.

상기 챔버는, 측면에 기판이 통과할 수 있는 하나 이상의 게이트가 형성되고, 상기 챔버 내부에는 기판의 이송을 위한 반송로봇이 설치될 수 있다.The chamber may include at least one gate through which a substrate may pass, and a conveying robot for transferring the substrate may be installed in the chamber.

상기 챔버 및 상기 리드가 접하는 면들 중 적어도 어느 하나는 오링이 설치될 수 있다.At least one of the surfaces in which the chamber and the lid are in contact may be provided with an O-ring.

상기 챔버는 수평단면 형상이 원 또는 다각형 형상을 가질 수 있다.The chamber may have a circular cross-sectional shape or a polygonal shape.

상기 개구부는 상기 챔버의 상면 일부에 형성될 수 있다.The opening may be formed in a portion of the upper surface of the chamber.

상기 회전구동부는 상기 챔버의 가장자리보다 내측에 설치될 수 있다.The rotation driving unit may be installed inside the edge of the chamber.

상기 챔버의 상면에는 진공압 형성시 변형을 방지하기 위한 보강리브가 설치되며, 상기 리드가 상기 개구부를 닫고 있는 상태에서 상기 로드의 양단이 상기 보강리부의 상단보다 더 높게 설치될 수 있다.A reinforcing rib is installed on the upper surface of the chamber to prevent deformation when vacuum pressure is formed, and both ends of the rod may be installed higher than an upper end of the reinforcing rib in a state in which the lid closes the opening.

본 발명에 따른 기판처리장치는, 일단이 회전구동부에 의하여 회전되는 로드에 가이드부를 설치하고, 리드에 일단이 로드에 설치된 가이드부를 따라서 이동되는 연결부를 구비, 링크구조를 구비함으로써 기판처리장치를 간단화 할 수 있는 이점이 있다.The substrate processing apparatus according to the present invention simplifies the substrate processing apparatus by providing a guide portion on a rod whose one end is rotated by a rotary driving part, and having a linking portion whose one end is moved along the guide portion provided on the rod. There is an advantage that can be made.

또한 본 발명에 따른 기판처리장치는, 일단이 회전구동부에 의하여 회전되는 로드에 가이드부를 설치하고, 리드에 일단이 로드에 설치된 가이드부를 따라서 이동되는 연결부를 구비, 링크구조를 구비함으로써 챔버에 형성된 개구부에서 리드의 그 회전각을 최대화하여 개구부를 최대로 개방할 수 있는 이점이 있다.In addition, the substrate processing apparatus according to the present invention has an opening formed in a chamber by providing a guide part on a rod whose one end is rotated by a rotary driving part, and having a linking part which is moved along the guide part provided at one end of the rod in the lead, and having a link structure. There is an advantage in that the opening can be maximized by maximizing its rotation angle of the lid.

또한 본 발명에 따른 기판처리장치는, 챔버에 대한 리드의 회전축과 리드의 회전구동을 위한 로드의 회전축을 이격시킴으로써 챔버에 형성된 개구부에서 리드의 그 회전각을 최대화하여 개구부를 최대로 개방할 수 있는 이점이 있다.In addition, the substrate processing apparatus according to the present invention, by maximizing the rotation angle of the lead in the opening formed in the chamber by separating the rotation axis of the lead with respect to the chamber and the rotation axis of the rod for the rotational drive of the lid to open the opening to the maximum There is an advantage.

또한 본 발명에 따른 기판처리장치는, 리드에 설치된 연결부와 회전구동부를 연결하는 로드에 연결부의 이동을 안내하는 가이드가 마련되므로, 리드의 회전이 로드의 길이에 제한되지 않아, 리드가 회전될 수 있는 최대회전각도를 증가시킬 수 있고, 이에 따라, 챔버의 개구를 최대한으로 개폐할 수 있으므로, 챔버의 내부공간에 대한 유지관리를 원활하게 수행할 수 있는 이점이 있다.In addition, the substrate processing apparatus according to the present invention is provided with a guide for guiding the movement of the connecting portion in the rod connecting the connecting portion and the rotary drive unit installed in the lead, the rotation of the lead is not limited to the length of the rod, the lead can be rotated It is possible to increase the maximum rotation angle, and accordingly, it is possible to open and close the opening of the chamber to the maximum, there is an advantage that can be performed to maintain the interior space of the chamber smoothly.

또한, 또한 본 발명에 따른 기판처리장치는, 리드의 회전동작이 연결부가 로드의 직선형의 가이드에 안내되는 상태에서 수행되므로, 리드를 회전시키는 과정에서 리드의 위치 틀어짐을 방지할 수 있으며, 이에 따라, 챔버의 개구를 개방하거나 폐쇄하는 동작을 정확하게 수행할 수 있는 이점이 있다.In addition, the substrate processing apparatus according to the present invention, since the rotation of the lead is performed in a state in which the connecting portion is guided to the linear guide of the rod, it is possible to prevent the position of the lead in the process of rotating the lead, accordingly In this case, there is an advantage that the operation of opening or closing the opening of the chamber can be accurately performed.

도 1은 본 발명에 따른 기판처리장치가 개략적으로 도시된 단면도이다.
도 2 및 도 3은 도 1의 리드개폐과정을 개략적으로 도시한 도면들이다.
도 4는 도 1의 챔버의 상면을 보여주는 평면도이다.1 is a cross-sectional view schematically showing a substrate processing apparatus according to the present invention.
2 and 3 are schematic views illustrating a lead opening and closing process of FIG. 1.
4 is a plan view showing the top of the chamber of FIG. 1.

이하, 본 발명에 따른 기판처리장치에 관하여 첨부된 도면을 참조하여 설명한다.Hereinafter, a substrate processing apparatus according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

본 발명에 따른 기판처리장치는, 도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 상부에 개구부(11)를 가지는 챔버(10)와, 챔버(10)의 개구부(11)를 개폐하는 리드(20)와; 리드(20)를 챔버(10)에 회전가능하게 결합하는 하나 이상의 회전결합부(30)와; 챔버(10)에 설치되는 회전구동부(40와); 회전구동부(40)에 일단이 회전가능하게 연결되며 가이드(51)가 구비되는 로드(50)와; 일단이 리드(20)와 결합되고 리드(20)가 챔버(10)에 대하여 회전에 의하여 챔버(10)로부터 분리될 때 타단이 가이드(51)를 따라 이동가능하게 로드(50)와 결합되는 연결부(60)를 포함한다.1 to 3, the substrate processing apparatus according to the present invention includes a chamber 10 having an opening 11 at an upper portion thereof, and a lid 20 for opening and closing an opening 11 of the chamber 10. Wow; One or more rotational couplings (30) rotatably coupling the lid (20) to the chamber (10); A rotation driving unit 40 installed in the chamber 10; A rod 50 having one end rotatably connected to the rotation driving unit 40 and having a guide 51; One end is coupled to the lid 20 and the connection portion is coupled to the rod 50 so that the other end is movable along the guide 51 when the lid 20 is separated from the chamber 10 by rotation about the chamber 10. (60).

특히 본 발명에 따른 기판처리장치는 기판처리를 수행하기 위한 공정모듈 또는 공정모듈로 기판을 반입 및 반출하기 위한 반송모듈 등 기판처리시스템을 구성하는 모듈에 적용될 수 있다.In particular, the substrate processing apparatus according to the present invention can be applied to a module constituting a substrate processing system such as a process module for carrying out substrate processing or a transport module for carrying in and taking out a substrate into the process module.

더 나아가 본 발명에 따른 기판처리장치는, 챔버의 상측에 부대시설이 상대적으로 적은 반송모듈에 적용됨이 바람직하다.Furthermore, it is preferable that the substrate processing apparatus according to the present invention be applied to a conveyance module having relatively few additional facilities on the upper side of the chamber.

여기서 반송모듈은, 공정모듈로 기판을 전달할 수 있는 구성이면 어떠한 구성도 가능하며, 일 예로서, 챔버의 측면에 기판이 통과할 수 있는 하나 이상의 게이트(미도시)가 형성되고, 챔버 내부에는 기판의 이송을 위한 반송로봇(미도시)이 설치될 수 있다.In this case, the transport module may have any configuration as long as it can transfer the substrate to the process module. For example, one or more gates (not shown) through which the substrate can pass are formed on the side of the chamber, and the substrate is formed inside the chamber. A transport robot (not shown) may be installed for the transport of the.

상기 챔버(10)는 밀폐된 내부공간을 형성함과 아울러, 상부에 리드(20)에 의하여 개폐되는 개구부(11)가 형성되며 원형, 다각형 등 다양한 형상을 가질 수 있다.The chamber 10 may form a sealed inner space and an opening 11 opened and closed by the lid 20 at an upper portion thereof, and may have various shapes such as a circle and a polygon.

상기 개구부(11)는, 챔버(10)의 상면 전체로 형성되거나, 도 1 내지 도 4에 도시된 바와 같이, 챔버(10)의 상면 중 일부에만 형성되는 등 다양한 형태로 형성될 수 있다. 여기서 챔버(10)는, 챔버본체(13) 및 챔버본체(13)의 상단에 설치되며 개구부(11)가 형성된 상면부(12)를 포함하여 구성될 수 있다.The opening 11 may be formed in the entire upper surface of the chamber 10 or as shown in FIGS. 1 to 4, and may be formed in various forms such as only a part of the upper surface of the chamber 10. Here, the chamber 10 may be configured to include a chamber body 13 and an upper surface portion 12 installed at an upper end of the chamber body 13 and having an opening 11 formed therein.

한편 상기 챔버(10)는 내부공간에서 진공압 형성시 변형이 발생될 수 있는바 이를 구조적으로 보강하기 위하여 복수의 보강리브(81, 82)가 설치될 수 있다.Meanwhile, the chamber 10 may be deformed when vacuum pressure is formed in the inner space, and a plurality of reinforcing ribs 81 and 82 may be installed to structurally reinforce it.

특히 상기 챔버(10)의 상면에 설치된 보강리브(81, 82)는, 도 4에 도시된 바와 같이, 개구부(11)를 둘러싸는 제1보강리브(82)와, 개구부(11) 주변으로 설치된 복수의 제2보강리브(81)로 구성되는 등 다양한 구성이 가능하다.In particular, the reinforcing ribs 81 and 82 provided on the upper surface of the chamber 10 are provided around the opening 11 and the first reinforcing rib 82 surrounding the opening 11. Various configurations are possible, such as comprised of the some 2nd reinforcement rib 81. FIG.

상기 리드(20)는 챔버(10)에 회전가능하게 결합되어 개구부(11)를 개폐하기 위한 구성으로 플레이트 형상 등 다양한 구성이 가능하다.The lid 20 is rotatably coupled to the chamber 10 to open and close the opening 11, and may have various configurations such as a plate shape.

여기서 상기 챔버(10) 및 리드(20)가 접하는 면들 중 적어도 어느 하나는 내부공간의 실링을 위하여 하나 이상의 오링(미도시)이 설치될 수 있다. Here, at least one of the surfaces of the chamber 10 and the lid 20 in contact with each other may be provided with one or more O-rings (not shown) for sealing the internal space.

또한 상기 리드(20)는, 도시하지 않았지만 진공압 형성시 변형을 고려하여 리브 등이 설치될 수 있다.In addition, although not shown, the lid 20 may be provided with a rib or the like in consideration of deformation during vacuum pressure formation.

상기 회전결합부(30)는, 리드(20)를 챔버(10)에 회전가능하게 결합하는 구성으로서 다양한 구성이 가능하며, 예로서, 챔버(10)에 고정되는 제1회전결합부재(31)와, 리드(20)에 고정되는 제2회전결합부재(32)와, 제1회전결합부재(31)와 제2회전결합부재(32) 사이에 설치되는 힌지축(33)를 포함할 수 있다.The rotary coupling part 30 is configured to rotatably couple the lid 20 to the chamber 10, and may be configured in various ways. For example, the first rotary coupling member 31 fixed to the chamber 10 may be used. And a second rotation coupling member 32 fixed to the lid 20 and a hinge shaft 33 installed between the first rotation coupling member 31 and the second rotation coupling member 32. .

여기서, 상기 제1회전결합부재(31)는 챔버(10)의 상면에 고정될 수 있고, 제2회전결합부재(32)는 리드(20)의 상면에 고정될 수 있다. 이와 같은 구성에 따르면, 제1회전결합부재(31)와 제2회전결합부재(32) 사이의 힌지축(33)이 외부로 돌출될 수 있다.Here, the first rotary coupling member 31 may be fixed to the upper surface of the chamber 10, the second rotary coupling member 32 may be fixed to the upper surface of the lid 20. According to this configuration, the hinge shaft 33 between the first rotary coupling member 31 and the second rotary coupling member 32 may protrude to the outside.

본 발명에 따르면 상기 리드(20)의 하중이 회전결합부(30)에 의하여 지지될 수 있을 뿐만 아니라 연결부(60) 및 로드(50)를 통하여 회전구동부(40)에 지지될 수 있다. 따라서, 리드(20)의 하중이 회전결합부(30) 및 회전구동부(40)에 분산되어 지지되므로, 회전결합부(30)의 구성을 단순화할 수 있고, 리드(20)의 회전될 수 있는 최대회전각도를 크게 증가시킬 수 있다.According to the present invention, the load of the lead 20 may not only be supported by the rotation coupling part 30 but also may be supported by the rotation driving part 40 through the connection part 60 and the rod 50. Therefore, since the load of the lead 20 is distributed and supported by the rotary coupling unit 30 and the rotary driving unit 40, the configuration of the rotary coupling unit 30 can be simplified, and the lead 20 can be rotated. The maximum rotation angle can be greatly increased.

상기 회전구동부(40)는 챔버(10)에 설치되어 리드(20)를 회전구동하기 위한 구성으로서, 회전모터가 사용될 수 있다. 다만, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 회전구동부(40)로는 회전모터와 벨트 등의 링크를 통하여 연결되는 종동축 등 로드(50)와 연결되어 로드(50)를 회전시킬 수 있는 다양한 구성이 적용될 수 있다.The rotary drive unit 40 is installed in the chamber 10 and configured to rotate the lead 20, the rotary motor may be used. However, the present invention is not limited thereto, and the rotary driving unit 40 is connected to a rod 50 such as a driven shaft connected through a link such as a rotating motor and a belt, and various configurations to rotate the rod 50 may be applied. Can be.

그리고 상기 회전구동부(40)는, 챔버(10)와 다양한 방식에 의하여 결합될 수 있으며, 특히 도 1 내지 도 4에 도시된 바와 같이, 챔버(10)의 가장자리보다 내측에 설치됨이 바람직하다.In addition, the rotation driving unit 40 may be coupled to the chamber 10 by various methods. In particular, as shown in FIGS. 1 to 4, it is preferable that the rotary driving unit 40 is installed inside the edge of the chamber 10.

상기 회전구동부(40)가 챔버(10)의 가장자리보다 내측에 설치되면 챔버(10)의 가장자리 외측으로 돌출되는 부분에 의하여 주변설비와의 간섭을 초래하지 않아 모듈의 공간적 활용도를 높일 수 있다.When the rotary drive unit 40 is installed inside the edge of the chamber 10, the space protruding outward of the edge of the chamber 10 does not cause interference with peripheral equipment, thereby increasing the spatial utilization of the module.

상기 로드(50)는 일단이 회전구동부(40)와 회전가능하게 연결되며, 리드(20)의 회전축과 수직을 이루는 길이방향(X축방향)을 따라 소정의 길이를 가지도록 리드(20)의 상측으로 연장된다.One end of the rod 50 is rotatably connected to the rotation driving unit 40, and has a predetermined length along a longitudinal direction (X-axis direction) perpendicular to the rotation axis of the lead 20. It extends upwards.

그리고 상기 로드(50)에 구비된 가이드(51)는 리드(20)의 회전시 후술하는 연결부(60)의 타단이 이동되도록 가이드하기 위한 구성으로서 다양한 구성이 가능하며, 로드(50)의 길이방향을 따라 길게 형성되는 슬롯(51)을 포함할 수 있다. And the guide 51 provided in the rod 50 is a configuration for guiding the other end of the connecting portion 60 to be described later when the lead 20 is rotated is possible in a variety of configurations, the longitudinal direction of the rod 50 It may include a slot 51 formed along the length.

한편 상기 챔버(10)의 상면에는 보강리브(81, 82)가 설치되는바, 로드(50)는 보강리브(81, 82)와의 간섭을 피하기 위하여 상기 개구부를 닫고 있는 상태에서 상기 로드의 양단이 상기 보강리부의 상단보다 더 높게 설치됨이 바람직하다.On the other hand, the reinforcing ribs 81 and 82 are installed on the upper surface of the chamber 10, and the rod 50 has both ends of the rod closed with the opening to avoid interference with the reinforcing ribs 81 and 82. It is preferable to be installed higher than the upper end of the reinforcing portion.

상기 연결부(60)는, 일단이 리드(20)와 결합되고 리드(20)가 챔버(10)에 대하여 회전에 의하여 챔버(10)로부터 분리될 때 타단이 가이드(51)를 따라 이동가능하게 로드(50)와 결합되는 구성으로서 다양한 구성이 가능하다.The connecting portion 60 has a rod coupled to the lid 20 so that the other end is movable along the guide 51 when the lid 20 is separated from the chamber 10 by rotation about the chamber 10. Various configurations are possible as the configuration combined with the (50).

예로서, 상기 연결부(60)는 로드(50)의 슬롯(51)에 슬라이드 가능하게 결합되는 연결부재(61)를 포함할 수 있다. 따라서, 연결부재(61)가 슬롯(51)에 결합됨에 따라 연결부(60)의 회전이동이 로드(50)에 의하여 구속된다.For example, the connection part 60 may include a connection member 61 slidably coupled to the slot 51 of the rod 50. Thus, as the connecting member 61 is coupled to the slot 51, the rotational movement of the connecting portion 60 is constrained by the rod 50.

상기 연결부재(61)는 슬롯(51)에 슬라이드 가능하게 삽입될 수 있다. 연결부재(61)와 슬롯(51) 사이의 마찰을 최소화하기 위하여, 연결부재(61)에는 롤러(미도시)로 구성될 수 있다.The connecting member 61 may be slidably inserted into the slot 51. In order to minimize the friction between the connecting member 61 and the slot 51, the connecting member 61 may be composed of a roller (not shown).

본 발명에서는 가이드(51)가 슬롯으로 이루어지므로, 슬롯이 차지하는 체적에 해당하는 만큼의 로드(50)의 중량을 감소시킬 수 있다. 이에 따라, 회전구동부(40)가 회전시켜야 하는 물체의 하중을 감소시킬 수 있으므로, 리드(20)의 개폐를 위한 구동력이 커지는 것을 방지할 수 있다.In the present invention, since the guide 51 is made of a slot, it is possible to reduce the weight of the rod 50 as much as the volume occupied by the slot. Accordingly, since the load of the object to be rotated by the rotation driving unit 40 can be reduced, it is possible to prevent the driving force for opening and closing of the lid 20 increases.

다만, 본 발명은 가이드(51)가 슬롯으로 이루어지는 것에 한정되지 않으며, 가이드(51)로는 LM가이드와 같이, 로드(50)의 길이방향을 따라 연장되는 하나 이상의 가이드레일 또는 홈, 돌기 등 다양한 구성이 적용될 수 있다.However, the present invention is not limited to the guide 51 is made of a slot, the guide 51, such as LM guide, one or more guide rails or grooves, protrusions extending along the longitudinal direction of the rod 50, such as various configurations This can be applied.

본 발명에 따른 기판처리장치에 따르면, 도 1 내지 도 4에 도시된 바와 같이, 챔버(10)의 개구부(11)를 개방하기 위하여 회전구동부(40)의 작동에 의하여 로드(50)가 회전구동부(40)의 회전중심축을 기준으로 회전되는 경우, 로드(50)의 가이드(51)에 연결된 연결부(60)의 연결부재(61)가 로드(50)의 회전변위에 따라 가이드(51)를 따라 이동하면서 연결부(60)와 연결된 리드(20)가 회전결합부(30)의 힌지축(30)을 중심으로 회전된다.According to the substrate processing apparatus according to the present invention, as shown in FIGS. 1 to 4, the rod 50 is rotated by the operation of the rotation driving unit 40 to open the opening 11 of the chamber 10. When rotated about the center of rotation of the shaft 40, the connecting member 61 of the connecting portion 60 connected to the guide 51 of the rod 50 along the guide 51 in accordance with the rotational displacement of the rod 50 While moving, the lead 20 connected to the connection part 60 is rotated about the hinge shaft 30 of the rotation coupling part 30.

여기에서, 상기 리드(20)의 회전각도는 로드(50)의 길이에 제한되지 않고, 로드(50)의 가이드(51)의 길이에 제한되는데, 로드(50)의 길이에 해당하는 최대한의 길이를 가지는 가이드(51)를 구비하는 경우에는, 로드(50)의 최대회전각도를 크게 증가시킬 수 있다.Here, the rotation angle of the lead 20 is not limited to the length of the rod 50, but limited to the length of the guide 51 of the rod 50, the maximum length corresponding to the length of the rod 50 When provided with a guide 51 having a, the maximum rotation angle of the rod 50 can be greatly increased.

한편, 상기 챔버(10)의 개구부(11)를 폐쇄하는 동작도 상기한 바와 마찬가지로 진행될 수 있다.On the other hand, the operation of closing the opening 11 of the chamber 10 can also proceed as described above.

본 발명에 따른 기판처리장치는, 리드(20)에 설치된 연결부(60)와 연결되고 리드(20)의 회전중심축과 다른 회전중심축을 기준으로 회전되는 로드(50)를 구비함으로써, 리드(20)의 회전을 위하여 필요한 공간을 최소화할 수 있으며, 특히, 챔버(10)의 측면에서는 리드(20)의 회전을 위한 공간이 요구되지 않으므로, 공간활용도를 향상시킬 수 있다.The substrate processing apparatus according to the present invention includes a rod 50 which is connected to a connecting portion 60 provided in the lid 20 and is rotated about a rotation center axis different from the rotation center axis of the lead 20. Space required for the rotation of) can be minimized, and in particular, since the space for the rotation of the lid 20 is not required at the side of the chamber 10, the space utilization can be improved.

또한, 본 발명에 따른 기판처리장치는, 리드(20)에 설치된 연결부(60)와 회전구동부(40)를 연결하는 로드(50)에 연결부(60)의 이동을 안내하는 가이드(51)가 마련되므로, 리드(20)의 회전이 로드(50)의 길이에 제한되지 않으므로, 리드(20)가 회전될 수 있는 최대회전각도를 증가시킬 수 있고, 이에 따라, 챔버(10)의 개구부(11)를 완전히 개폐할 수 있으므로, 챔버(10)의 내부공간에 대한 유지관리를 원활하게 수행할 수 있는 효과가 있다.In addition, the substrate processing apparatus according to the present invention includes a guide 51 for guiding the movement of the connecting portion 60 on the rod 50 connecting the connecting portion 60 and the rotation driving portion 40 provided on the lid 20. Therefore, since the rotation of the lid 20 is not limited to the length of the rod 50, it is possible to increase the maximum rotation angle that the lid 20 can be rotated, and thus, the opening 11 of the chamber 10 Since it can be fully opened and closed, there is an effect that can smoothly perform the maintenance of the internal space of the chamber (10).

또한, 본 발명에 따른 기판처리장치는, 리드(20)의 회전동작이 연결부(60)가 로드(20)의 직선형의 가이드(51)에 안내되는 상태에서 수행되므로, 리드(20)를 회전시키는 과정에서 리드(20)의 위치 틀어짐을 방지할 수 있으며, 이에 따라, 챔버(10)의 개구부(11)를 개방하거나 폐쇄하는 동작을 정확하게 수행할 수 있다.
In addition, in the substrate processing apparatus according to the present invention, since the rotation operation of the lead 20 is performed in a state where the connecting portion 60 is guided to the linear guide 51 of the rod 20, the substrate 20 rotates the lead 20. In the process, the positional shift of the lid 20 can be prevented, and thus, an operation of opening or closing the opening 11 of the chamber 10 can be accurately performed.

이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시적으로 설명하였으나, 본 발명의 범위는 이와 같은 특정 실시예에만 한정되는 것은 아니며, 특허청구범위에 기재된 범주 내에서 적절하게 변경 가능한 것이다.Although the preferred embodiments of the present invention have been described above by way of example, the scope of the present invention is not limited to these specific embodiments, and may be appropriately changed within the scope described in the claims.

10: 챔버 20: 리드
30: 회전결합부 40: 회전구동부
50: 로드 60: 연결부10: chamber 20: lead
30: rotary coupling portion 40: rotary driving portion
50: rod 60: connection

Claims (11)

상부에 개구부를 가지는 챔버와;
상기 챔버의 개구부를 개폐하는 리드와;
상기 리드를 상기 챔버에 회전가능하게 결합하는 하나 이상의 회전결합부와;
상기 챔버에 설치되는 회전구동부와;
상기 회전구동부에 일단이 회전가능하게 연결되며 가이드가 구비되는 로드와;
일단이 상기 리드와 결합되고 상기 리드가 상기 챔버에 대하여 회전에 의하여 상기 챔버로부터 분리될 때 타단이 상기 가이드를 따라 이동가능하게 상기 로드와 결합되는 연결부를 포함하며,
상기 로드의 회전을 위한 상기 회전구동부의 회전축과, 상기 리드의 상기 챔버에 대한 회전축인 힌지축이 서로 이격되어, 상기 로드의 회전으로 상기 가이드를 따라 이동하는 상기 연결부를 통해 상기 리드가 회전하며,
상기 로드는, 상기 리드의 상측에서 상기 리드의 회전축과 수직을 이루는 방향으로 길이를 가지고, 길이방향을 따라 상기 가이드가 형성되며,
상기 회전구동부는, 상기 챔버의 상부에 설치되며,
상기 연결부가 상기 로드의 회전에 따라 상기 회전구동부의 회전축 측으로 상기 가이드를 따라 하강 이동함으로써, 상기 리드가 회전하여 상기 챔버의 개구부가 개방되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치. A chamber having an opening at the top;
A lid for opening and closing the opening of the chamber;
One or more rotational couplings for rotatably coupling the lid to the chamber;
A rotation driving unit installed in the chamber;
A rod having one end rotatably connected to the rotation driving part and having a guide;
One end coupled to the lid and the other end coupled to the rod to move along the guide when the lid is detached from the chamber by rotation about the chamber,
A rotation axis of the rotation driving unit for rotation of the rod and a hinge axis, which is a rotation axis with respect to the chamber of the lid, are spaced apart from each other, and the lead rotates through the connection part moving along the guide by rotation of the rod.
The rod has a length in the direction perpendicular to the axis of rotation of the lead on the upper side of the lead, the guide is formed along the longitudinal direction,
The rotary drive unit is installed on the upper portion of the chamber,
And the connecting part moves downward along the guide toward the rotation axis side of the rotation driving part as the rod rotates, so that the opening of the chamber is opened by opening the lid. 청구항 1에 있어서,
상기 가이드는 상기 로드의 길이방향을 따라 형성되는 슬롯, 홈, 돌기 및 하나 이상의 가이드레일 중 적어도 어느 하나를 포함하고, 상기 연결부는 상기 가이드에 슬라이드 가능하게 결합되는 연결부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.The method according to claim 1,
The guide includes at least one of a slot, a groove, a protrusion, and one or more guide rails formed along a longitudinal direction of the rod, and the connection part includes a connection member slidably coupled to the guide. Substrate processing apparatus. 청구항 2에 있어서,
상기 연결부재는 롤러인 것을 특징으로 하는 기판처리장치.The method according to claim 2,
The connecting member is a substrate processing apparatus, characterized in that the roller. 청구항 1에 있어서,
상기 회전결합부는,
상기 챔버에 고정되는 제1회전결합부재;
상기 리드에 고정되는 제2회전결합부재; 및
상기 제1회전결합부재와 상기 제2회전결합부재 사이에 설치되는 힌지축을 포함하고,
상기 리드는 상기 힌지축을 중심으로 회전되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.The method according to claim 1,
The rotary coupling part,
A first rotary coupling member fixed to the chamber;
A second rotary coupling member fixed to the lead; And
A hinge shaft is installed between the first rotary coupling member and the second rotary coupling member,
And the lid is rotated about the hinge axis. 청구항 4에 있어서,
상기 제1회전결합부재는 상기 챔버의 상면에 고정되고, 상기 제2회전결합부재는 상기 리드의 상면에 고정되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.The method according to claim 4,
And the first rotary coupling member is fixed to the upper surface of the chamber, and the second rotary coupling member is fixed to the upper surface of the lid. 청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 챔버는, 측면에 기판이 통과할 수 있는 하나 이상의 게이트가 형성되고, 상기 챔버 내부에는 기판의 이송을 위한 반송로봇이 설치된 것을 특징으로 하는 기판처리장치.The method according to any one of claims 1 to 5,
The chamber has a substrate processing apparatus, characterized in that one or more gates through which a substrate can pass are formed on a side thereof, and a transport robot for transporting the substrate is installed inside the chamber. 청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 챔버 및 상기 리드가 접하는 면들 중 적어도 어느 하나는 오링이 설치된 것을 특징으로 하는 기판처리장치.The method according to any one of claims 1 to 5,
At least one of the surfaces of the chamber and the lid in contact with the substrate processing apparatus, characterized in that the O-ring is installed. 청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 챔버는 수평단면 형상이 원 또는 다각형 형상을 가지는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.The method according to any one of claims 1 to 5,
The chamber is a substrate processing apparatus, characterized in that the horizontal cross-sectional shape has a circle or polygonal shape. 청구항 8에 있어서,
상기 개구부는 상기 챔버의 상면 일부에 형성된 것을 특징으로 하는 기판처리장치.The method according to claim 8,
And the opening is formed in a portion of an upper surface of the chamber. 청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 회전구동부는 상기 챔버의 가장자리보다 내측에 설치된 것을 특징으로 하는 기판처리장치.The method according to any one of claims 1 to 5,
The rotation driving unit substrate processing apparatus, characterized in that installed on the inner side than the edge of the chamber. 청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 챔버의 상면에는 진공압 형성시 변형을 방지하기 위한 보강리브가 설치되며,
상기 리드가 상기 개구부를 닫고 있는 상태에서 상기 로드의 양단이 상기 보강리브의 상단보다 더 높게 설치된 것을 특징으로 하는 기판처리장치.The method according to any one of claims 1 to 5,
A reinforcing rib is installed on the upper surface of the chamber to prevent deformation when vacuum pressure is formed.
And both ends of the rod are set higher than an upper end of the reinforcing rib in a state in which the lid closes the opening.
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