KR102038232B1 - 기판 온도 측정장치 및 기판 온도 측정방법 - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 387
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 107
- 239000000523 sample Substances 0.000 claims abstract description 212
- 230000008569 process Effects 0.000 claims abstract description 73
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims abstract description 52
- 238000009529 body temperature measurement Methods 0.000 claims description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 8
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 6
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 6
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 5
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 claims description 2
- 238000003672 processing method Methods 0.000 claims description 2
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 claims description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 11
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 229920006336 epoxy molding compound Polymers 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 230000004044 response Effects 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000012858 packaging process Methods 0.000 description 1
- 238000012536 packaging technology Methods 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01K—MEASURING TEMPERATURE; MEASURING QUANTITY OF HEAT; THERMALLY-SENSITIVE ELEMENTS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- G01K—MEASURING TEMPERATURE; MEASURING QUANTITY OF HEAT; THERMALLY-SENSITIVE ELEMENTS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01K1/00—Details of thermometers not specially adapted for particular types of thermometer
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- G01K1/02—Means for indicating or recording specially adapted for thermometers
- G01K1/024—Means for indicating or recording specially adapted for thermometers for remote indication
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01K—MEASURING TEMPERATURE; MEASURING QUANTITY OF HEAT; THERMALLY-SENSITIVE ELEMENTS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01K1/00—Details of thermometers not specially adapted for particular types of thermometer
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
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- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
- H01L21/67248—Temperature monitoring
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01L22/00—Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
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- H01L22/12—Measuring as part of the manufacturing process for structural parameters, e.g. thickness, line width, refractive index, temperature, warp, bond strength, defects, optical inspection, electrical measurement of structural dimensions, metallurgic measurement of diffusions
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/34—Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
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- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
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- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
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Abstract
이를 구현하기 위한 본 발명의 기판 온도 측정장치는, 기판을 지지하여 기판 처리 공정을 수행하는 기판 지지부를 상하로 관통하며 상단이 상기 기판 지지부의 상면으로부터 돌출되도록 구비되는 프로브를 포함하되, 상기 프로브의 상단이 상기 기판의 하측면에 접하여 온도를 측정하도록 이루어진다.
이를 구현하기 위한 본 발명의 기판 온도 측정방법은, a) 서로 이격된 기판 지지부와 기판 사이의 거리가 좁혀지는 단계와, b) 상기 기판이 프로브에 접하여 기판 지지부와 기판 사이의 거리가 좁혀지는 단계와, c) 상기 기판이 안착되는 단계와, d) 상기 프로브에서 상기 기판의 온도가 측정되는 단계를 포함한다.
Description
도 2는 본 발명의 제1실시예에 의한 기판 온도 측정장치가 구비된 기판 지지부에 기판이 안착되는 다른 실시예를 개략적으로 보여주는 도면.
도 3은 본 발명의 제1실시예에 의한 기판 온도 측정장치를 나타내는 도면.
도 4는 본 발명의 제2실시예에 의한 기판 온도 측정장치를 나타내는 도면.
도 5는 본 발명의 기판 처리 방법을 나타내는 순서도.
110: 기판 지지부 111: 지지핀
200: 기판 온도 측정장치 220: 프로브
230: 프로브 커버 221: 걸림부재
231: 지지부재 232: 프로브 커버 하단
240: 탄성부재 250: 케이블 통로
270: 케이블 300: 외부기기
Claims (23)
- 기판을 지지하는 기판 지지부를 상하로 관통하는 상단만 개방된 관 형태로 이루어진 프로브 커버;
상기 프로브 커버의 내측으로 돌출된 지지부재;
상기 프로브 커버의 내부에 삽입되어 상하로 이동하되, 하단이 상기 지지부재의 내측에 삽입되고, 상단이 상기 기판 지지부의 상면으로부터 돌출되어, 상기 돌출된 상단이 상기 기판의 하측면에 접하여 상기 기판의 온도를 측정하도록 이루어진 프로브;
상기 프로브의 외측으로 돌출되되 상기 지지부재의 상측에 구비된 걸림부재;
하단이 상기 지지부재의 상단에 지지되고 상단이 상기 걸림부재의 하단에 지지되어 상기 프로브의 상하 이동을 탄성지지하는 탄성부재; 를 포함하되,
상기 프로브의 하단과 상기 프로브 커버의 하단 사이에 상기 프로브에 연결된 케이블이 위치하는 일정 간격의 공간이 형성되고;
상기 프로브 커버의 하부 일측에는 상기 프로브 커버의 내부와 외부를 연통시키는 케이블 통로가 구비되어, 상기 케이블이 상기 케이블 통로를 통해 외부에 연결되되, 상기 케이블 통로는 상기 케이블이 통과하는 상태로 밀봉되는 기판 온도 측정장치. - 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 제1항에 있어서,
상기 탄성부재는 스프링으로 이루어진 것을 특징으로 하는 기판 온도 측정장치. - 삭제
- 제1항에 있어서,
상기 케이블 통로를 밀봉하는 밀봉재는 에폭시 재질로 이루어진 것을 특징으로 하는 기판 온도 측정장치. - 제1항에 있어서,
상기 프로브는, 상기 프로브 커버 상단의 개방부를 통해 삽입된 후 상기 상기 케이블이 상기 케이블 통로를 통과하는 상태로 상기 케이블 통로를 밀봉하여 설치되고, 상기 케이블 통로의 밀봉을 해제한 후 상기 프로브 커버 상단의 개방부를 통해 배출됨으로써 제거되도록 이루어진 것을 특징으로 하는 기판 온도 측정장치. - 제1항에 있어서,
상기 기판 지지부의 상측에는 상기 기판의 하측면에 접하여 상기 기판을 지지하는 적어도 하나의 지지핀이 구비되고;
상기 프로브는, 상기 적어도 하나의 지지핀보다 상측으로 돌출되되, 상측으로부터 가해지는 압력에 따라 상기 적어도 하나의 지지핀과 동일한 높이까지 하강하고, 압력이 해소되면 위치가 복원되도록 이루어진 것을 특징으로 하는 기판 온도 측정장치. - 제10항에 있어서,
상기 적어도 하나의 지지핀은 상기 기판 지지부를 관통하도록 구비되고;
상기 프로브는, 상기 기판 지지부를 상하로 관통하되, 상기 기판 지지부를 상하로 관통하는 관 형태의 프로브 커버의 내부에 삽입되도록 이루어지고;
상기 프로브 커버는 상기 기판 지지부의 하측에서 상기 적어도 하나의 지지핀과 연결되어 동시에 승강이동 하도록 이루어진 것을 특징으로 하는 기판 온도 측정장치. - 제10항에 있어서,
상기 적어도 하나의 지지핀은 상기 기판 지지부의 수평방향 외측으로 우회하여 상기 기판 지지부의 상측으로부터 하측까지 연결되도록 구비되고;
상기 프로브는, 상기 기판 지지부를 상하로 관통하되, 상기 기판 지지부를 상하로 관통하는 관 형태의 프로브 커버의 내부에 삽입되도록 이루어지고;
상기 프로브 커버는 상기 기판 지지부의 하측에서 상기 적어도 하나의 지지핀과 연결되어 동시에 승강이동 하도록 이루어진 것을 특징으로 하는 기판 온도 측정장치. - 제1항에 있어서,
상기 프로브는, 상기 기판 처리 공정이 진행되는 동안 상기 기판의 온도를 적어도 한번 측정하여 외부기기로 전송하도록 이루어지는 것을 특징으로 하는 기판 온도 측정장치. - 제13항에 있어서,
상기 외부기기는 상기 프로브에서 측정된 상기 기판의 온도를 가시적으로 보여주는 디스플레이 장비인 것을 특징으로 하는 기판 온도 측정장치. - 제13항에 있어서,
상기 외부기기는 상기 프로브에서 측정된 상기 기판의 온도가 특정 값을 가지면 알람을 발생시키는 알람 발생 장비인 것을 특징으로 하는 기판 온도 측정장치. - 제13항에 있어서,
상기 외부기기는 상기 기판을 가열 또는 냉각하는 온도조절 장비를 제어하는 제어부인 것을 특징으로 하는 기판 온도 측정장치. - 제1항의 기판 온도 측정장치를 이용하는 기판 온도 측정방법에 있어서,
a) 상기 프로브를 상기 프로브 커버의 내부에 삽입하되 상기 프로브 커버 상단의 개방부를 통해 상측으로부터 하측 방향으로 삽입하고, 일측이 상기 프로브에 연결된 상기 케이블의 타측 단부를 상기 케이블 통로를 통해 외부로 빼낸 후, 상기 케이블이 상기 케이블 통로를 통과하는 상태로 상기 케이블 통로를 밀봉하여 상기 프로브를 상기 프로브 커버 내부에 설치하는 단계;
b) 상기 프로브의 상단이 상기 기판의 하측면에 접하여 상기 기판의 온도가 측정되는 단계;
c) 상기 케이블 통로의 밀봉을 해제한 후 상기 프로브를 상측 방향으로 당겨 상기 프로브 커버 상단의 개방부를 통해 상기 프로브 커버의 내부로부터 배출시킴으로써 상기 프로브의 설치를 제거하는 단계;
를 포함하는 기판 온도 측정방법. - 제17항에 있어서,
상기 단계 a)와 상기 단계 b) 사이에는,
상기 기판 지지부의 상측으로 이격되어 위치하는 상기 기판과 상기 기판 지지부 사이의 거리가 좁혀지며 상기 기판의 하측면이 상기 프로브의 상단에 접하는 단계와,
상기 프로브와 상기 기판이 접한 상태로 상기 기판 지지부와 상기 기판 사이의 거리가 더욱 좁혀지며 상기 기판이 상기 기판 지지부의 상면으로부터 돌출된 적어도 하나의 지지핀의 상단에 안착되는 단계가 더 포함되는 것을 특징으로 하는 기판 온도 측정방법. - 제18항에 있어서,
상기 단계 b)는, 상기 기판에 대한 처리 공정과 동시에 수행되는 단계로, 상기 기판 처리 공정의 수행 중 적어도 한번 이상 수행되는 것을 특징으로 하는 기판 온도 측정방법. - 제19항에 있어서,
상기 기판에 대한 처리 공정은 리플로우 공정인 것을 특징으로 하는 기판 온도 측정방법. - 제18항에 있어서,
상기 프로브 커버는, 구동부의 구동에 의해 상기 적어도 하나의 지지핀과 동시에 승강이동 하도록 이루어져;
상기 프로브 커버 및 상기 적어도 하나의 지지핀이 상기 기판을 향해 상승이동함에 따라 상기 기판 지지부와 상기 기판 사이의 거리가 좁혀지는 것을 특징으로 하는 기판 온도 측정방법. - 제18항에 있어서,
상기 단계 b)와 상기 단계 c)사이에는,
상기 기판 지지부와 상기 기판 사이의 거리가 멀어지며 상기 프로브와 상기 기판이 접한 상태로 상기 기판이 상기 적어도 하나의 지지핀의 상단으로부터 분리되는 단계와,
상기 기판과 상기 기판 지지부 사이의 거리가 더욱 멀어지며 상기 기판의 하측면이 상기 프로브의 상단으로부터 분리되는 단계가 더 포함되는 것을 특징으로 하는 기판 온도 측정방법. - 제22항에 있어서,
상기 프로브 커버는, 구동부의 구동에 의해 상기 적어도 하나의 지지핀과 동시에 승강이동 하도록 이루어져;
상기 프로브 커버 및 상기 적어도 하나의 지지핀이 상기 기판으로부터 하강이동함에 따라 상기 기판 지지부와 상기 기판 사이의 거리가 멀어지는 것을 특징으로 하는 기판 온도 측정방법.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020180127718A KR102038232B1 (ko) | 2018-10-24 | 2018-10-24 | 기판 온도 측정장치 및 기판 온도 측정방법 |
CN201910734046.9A CN111089659B (zh) | 2018-10-24 | 2019-08-09 | 基板温度测量装置及基板温度测量方法 |
TW108128441A TWI711100B (zh) | 2018-10-24 | 2019-08-10 | 基板溫度測量裝置及基板溫度測量方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020180127718A KR102038232B1 (ko) | 2018-10-24 | 2018-10-24 | 기판 온도 측정장치 및 기판 온도 측정방법 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR102038232B1 true KR102038232B1 (ko) | 2019-10-29 |
Family
ID=68423858
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020180127718A Active KR102038232B1 (ko) | 2018-10-24 | 2018-10-24 | 기판 온도 측정장치 및 기판 온도 측정방법 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR102038232B1 (ko) |
CN (1) | CN111089659B (ko) |
TW (1) | TWI711100B (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112903143A (zh) * | 2021-02-01 | 2021-06-04 | 青海民族大学 | 一种发动机管路内外温度测量装置 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112687568B (zh) * | 2020-12-23 | 2024-07-23 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 半导体工艺设备及其承载装置 |
CN117242565A (zh) * | 2021-03-02 | 2023-12-15 | 应用材料公司 | 用于处理腔室中的光纤温度探头的设备 |
CN115077732B (zh) * | 2022-07-20 | 2022-11-11 | 深圳市德兰明海科技有限公司 | 一种方便拆装的温度传感器组件及测温设备 |
CN117790372B (zh) * | 2023-12-29 | 2024-06-21 | 无锡芯汉电子科技有限公司 | 应用于刻蚀机的晶圆温度测量装置 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20110034390A (ko) * | 2009-09-28 | 2011-04-05 | 현대제철 주식회사 | 슬라브 표면온도 측정장치 |
KR101839228B1 (ko) * | 2016-10-05 | 2018-03-16 | 주식회사 포스코 | 온도 측정장치 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08254450A (ja) * | 1995-03-16 | 1996-10-01 | Yamatake Honeywell Co Ltd | 電磁流量計 |
JP2000019021A (ja) * | 1998-07-01 | 2000-01-21 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | 炊事具等の温度検出具 |
JPWO2006003798A1 (ja) * | 2004-07-01 | 2008-04-17 | 株式会社アルバック | 基板温度測定装置及び処理装置 |
JP4803596B2 (ja) * | 2006-09-06 | 2011-10-26 | 東京エレクトロン株式会社 | 測温装置 |
KR101313531B1 (ko) * | 2009-02-27 | 2013-10-02 | 가부시키가이샤 어드밴티스트 | 시험 장치 및 시험 방법 |
CN201837477U (zh) * | 2010-10-09 | 2011-05-18 | 陈继文 | 一种导线连接处发热监测螺帽 |
KR20120104723A (ko) * | 2011-03-14 | 2012-09-24 | (주) 대홍기업 | 온도 측정 센서와 온도 측정 기기 |
CN202801263U (zh) * | 2012-07-30 | 2013-03-20 | 美的集团股份有限公司 | 一种测温结构 |
SG10201610940SA (en) * | 2012-08-03 | 2017-02-27 | Yamamoto Precious Metal Co Ltd | Alloy material, contact probe, and connection terminal |
US10782316B2 (en) * | 2017-01-09 | 2020-09-22 | Delta Design, Inc. | Socket side thermal system |
-
2018
- 2018-10-24 KR KR1020180127718A patent/KR102038232B1/ko active Active
-
2019
- 2019-08-09 CN CN201910734046.9A patent/CN111089659B/zh active Active
- 2019-08-10 TW TW108128441A patent/TWI711100B/zh active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20110034390A (ko) * | 2009-09-28 | 2011-04-05 | 현대제철 주식회사 | 슬라브 표면온도 측정장치 |
KR101839228B1 (ko) * | 2016-10-05 | 2018-03-16 | 주식회사 포스코 | 온도 측정장치 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112903143A (zh) * | 2021-02-01 | 2021-06-04 | 青海民族大学 | 一种发动机管路内外温度测量装置 |
CN112903143B (zh) * | 2021-02-01 | 2022-10-11 | 青海民族大学 | 一种发动机管路内外温度测量装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW202017068A (zh) | 2020-05-01 |
TWI711100B (zh) | 2020-11-21 |
CN111089659A (zh) | 2020-05-01 |
CN111089659B (zh) | 2021-11-23 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20181024 |
|
PA0201 | Request for examination | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20190405 Patent event code: PE09021S01D |
|
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20191018 |
|
GRNT | Written decision to grant | ||
PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20191023 Patent event code: PR07011E01D |
|
PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20191023 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
PG1601 | Publication of registration | ||
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20221020 Start annual number: 4 End annual number: 4 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20240904 Start annual number: 6 End annual number: 6 |