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KR101958190B1 - Vacuum deposition apparatus capable of deposition at large coating product - Google Patents

Vacuum deposition apparatus capable of deposition at large coating product Download PDF

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KR101958190B1
KR101958190B1 KR1020180115895A KR20180115895A KR101958190B1 KR 101958190 B1 KR101958190 B1 KR 101958190B1 KR 1020180115895 A KR1020180115895 A KR 1020180115895A KR 20180115895 A KR20180115895 A KR 20180115895A KR 101958190 B1 KR101958190 B1 KR 101958190B1
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KR
South Korea
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coating product
sample
rotating
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plate
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KR1020180115895A
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Korean (ko)
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곽병두
김회경
Original Assignee
(주)프라임광학
전자부품연구원
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    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
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Abstract

본 발명은 진공증착장치에 있어서, 내부가 진공상태인 본체(2)를 구비되고, 본체(10) 내측의 상부에는 코팅제품(50)이 거치된 상태에서 좌우로 편심회전하는 회전부(20)가 설치되며, 본체(10) 내측의 하부에는 시료(41)의 승화방향을 조절하여 상부로 직진이동하는 시료(41)가 거치된 코팅제품(50)의 종류에 맞게 고르게 증착될 수 있도록 하는 회전체(40)가 설치되어 진공증착장치의 상부에 설치되는 회전원판(27)에 크기가 큰 코팅제품(50)을 거치한 상태에서 진공증착이 이루어질 수 있도록 함으로써 대형의 코팅제품(50)을 제조할 수 있는 효과가 있으며, 대형 코팅제품(50)의 진공증착시에도 제품의 품질이 우수한 효과가 있다.The present invention relates to a vacuum evaporation apparatus comprising a main body 2 having an internal vacuum state and a rotation part 20 rotating eccentrically to the left and right in a state where a coating product 50 is mounted on an upper part of the main body 10 And a sample 41 that moves straight up to adjust the sublimation direction of the sample 41 to be lower than the inner side of the main body 10 and to be uniformly deposited according to the type of the coated product 50 The large-sized coating product 50 can be manufactured by allowing the vacuum deposition to be performed while the large-sized coating product 50 is mounted on the rotary disc 27 provided on the upper part of the vacuum deposition apparatus. There is an effect that the product quality is excellent even in the vacuum deposition of the large-sized coating product (50).

Description

대형 코팅제품의 증착이 가능한 진공증착장치{VACUUM DEPOSITION APPARATUS CAPABLE OF DEPOSITION AT LARGE COATING PRODUCT}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a vacuum deposition apparatus capable of depositing a large-

본 발명은 진공증착장치에 관한 것으로, 특히 진공증착장치 상부의 회전원판의 회전구성을 개선하여 대형 코팅제품의 증착이 가능하도록 하는 진공증착장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a vacuum deposition apparatus, and more particularly, to a vacuum deposition apparatus which improves a rotating configuration of a rotary disk on a vacuum deposition apparatus to enable deposition of a large-sized coating product.

일반적으로 진공증착은 챔버 내에 진공상태를 유지시키고 아래쪽에 증발시킬 재료를 설치하게 되며 위쪽으로는 유리제품과 같은 코팅제품을 상부 회전판에 설치하여 회전하도록 한다.Generally, the vacuum deposition keeps the vacuum in the chamber and the material to be evaporated is installed on the lower side, and a coating product such as a glass product is installed on the upper rotating plate and rotated.

챔버 내를 고진공으로 만든 후 전기적 저항을 주거나 전자빔 등으로 증발 재료를 가열하게 되면 고진공 상태에서 재료는 원하는 고온으로 가열하면 고체가 승화되어 증발하면서 챔버 내로 분산되어 날아가게 된다.When the inside of the chamber is made to have a high vacuum and then electrical resistance is applied or the evaporation material is heated by an electron beam or the like, when the material is heated to a desired high temperature in a high vacuum state, the solid is sublimated and dispersed into the chamber while evaporating.

증발된 기체 원자 및 분자들은 위쪽에 설치된 코팅제품까지 날아가게 되고 기체에 비해 상대적으로 낮은 온도를 가지는 코팅제품 표면에서 기체원자들이 응축되며 모여 박막이 만들어져 코팅이 이루어지게 된다.The evaporated gaseous atoms and molecules are blown up to the coating product installed on the upper side, and the gaseous atoms condense and gather on the surface of the coating product having a relatively low temperature compared to the gas, so that the thin film is formed and the coating is made.

이러한 전자빔을 이용한 진공증착장치는 하부에 설치된 전자빔에 의해 증발되는 재료들이 상부의 코팅제품에 증착되는 효율과 품질을 높이기 위해 상부 회전판에 설치된 코팅제품과 하부의 전자빔의 중심을 맞추어 주어야 하는 작업이 필요하다.In order to improve the efficiency and quality of evaporation of the materials evaporated by the electron beam installed at the lower part of the vacuum deposition apparatus using the electron beam, it is necessary to align the center of the lower electron beam and the coating product installed on the upper rotary plate Do.

전자빔에 의해 증발하는 입자는 상부로 직진하여 증발하여 증착되기 때문에 입체적 모양을 가진 제품의 구석은 증착이 이루어지지 않게 되는 문제가 있다.Since the particles evaporating by the electron beam are linearly evaporated and deposited at the upper part, there is a problem that the corner of the product having a three-dimensional shape is not deposited.

이를 위해 종래에는 도 1에서와 같이 상부에서 정회전하는 회전원판 상에 다수의 코팅제품을 걸어 놓은 상태로 코팅이 이루어지도록 하여 코팅제품 전체에 고르게 증착이 될 수 있도록 하고 있다.For this purpose, as shown in FIG. 1, a plurality of coating products are hung on a rotary disk, which is rotated at the upper portion, so that the coating can be performed uniformly over the entire coating product.

하지만, 코팅제품의 크기가 대형화됨에 따라 정회전하는 회전원판에서는 코팅제품의 거치가 어려울 뿐 아니라 회전원판의 중심부는 증착 상태를 조절할 수 없으며, 특히 종래의 증착 장치의 중심부는 회전하지 않아 불필요한 위치이므로 여기에 코팅상태를 측정하는 광학센서들이 설치되어 있다.However, as the size of the coated product is increased, it is difficult to mount the coated product on the rotating circular plate and the central portion of the rotating circular plate can not control the deposition state. Particularly, since the central portion of the conventional vapor deposition device is not rotated, Are provided with optical sensors for measuring the coating state.

크기가 큰 코팅제품을 설치하기 위해서는 가운데 부분이 가려지고 더욱이 정회전하는 회전원판의 경우 중심부는 회전하지 않아 코팅상태 조절이 어려워 회전하는 회전원판의 가장자리 위주로 코팅제품이 설치되는데, 이는 코팅제품의 크기가 제한될 수밖에 없다.In order to install a large-sized coating product, the center portion is covered. In addition, in the case of a rotating circular plate, the central portion is not rotated, so that it is difficult to control the coating state. Thus, the coating product is installed around the periphery of the rotating circular plate. It is bound to be limited.

즉, 크기가 대형인 코팅제품을 코팅하기 위한 진공증착장치 개발이 요구되고 있는 실정이다.That is, there is a need to develop a vacuum deposition apparatus for coating a coating product having a large size.

등록실용신안공보 제20-0241223호, "소형렌즈코팅용 진공증착기"Registration Utility Model No. 20-0241223, "Vacuum Evaporator for Small Lens Coating"

따라서 본 발명의 목적은 진공증착장치 상부에 설치되는 회전원판 상에 대형의 코팅제품이 거치되어 진공증착이 될 수 있도록 하는 대형 코팅제품의 증착이 가능한 진공증착장치를 제공하는데에 있다.SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, it is an object of the present invention to provide a vacuum deposition apparatus capable of depositing a large-sized coating product that can be vacuum deposited by mounting a large-sized coating product on a rotating disk provided on a vacuum deposition apparatus.

상기의 목적에 따른 본 발명은 진공증착장치에 있어서, 내부가 진공상태인 본체(2)를 구비되고, 본체(10) 내측의 상부에는 코팅제품(50)이 거치된 상태에서 좌우로 편심회전하는 회전부(20)가 설치되며, 본체(10) 내측의 하부에는 시료(41)의 승화방향을 조절하여 상부로 직진이동하는 시료(41)가 거치된 코팅제품(50)의 종류에 맞게 고르게 증착될 수 있도록 하는 회전체(40)가 설치됨을 특징으로 한다.A vacuum deposition apparatus according to the present invention includes a main body 2 having a vacuum state inside, and the coating product 50 is eccentrically rotated in a left-right direction while the coating product 50 is mounted on the upper side of the main body 10 A rotating part 20 is provided and a sample 41 which moves linearly upward by adjusting the sublimation direction of the sample 41 is uniformly deposited in the lower part of the inside of the main body 10 according to the type of the coated product 50 And a rotating body (40) for rotating the rotating body (40).

본 발명은 진공증착장치의 상부에 설치되는 회전원판에 크기가 큰 코팅제품을 거치한 상태에서 진공증착이 이루어질 수 있도록 함으로써 대형의 코팅제품을 제조할 수 있는 효과가 있으며, 대형 코팅제품의 진공증착시에도 제품의 품질이 우수한 효과가 있다.The present invention can produce a large-sized coating product by allowing a large-sized coating product to be vacuum-deposited on a rotating disc provided on a top of a vacuum deposition apparatus, The quality of the product is also excellent.

도 1은 종래의 진공증착장치에 설치된 회전원판의 구성을 도시한 도면,
도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 대형 코팅제품의 증착이 가능한 진공증착장치의 전체구성을 개략적으로 설명하는 단면구성도,
도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 진공증착장치 상부에 설치된 회전원판의 상세구성도,
도 4 내지 도 5는 본 발명의 실시 계에 따른 진공증착장치 상부에 설치된 회전원판의 작동이다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a view showing a configuration of a rotating disk provided in a conventional vacuum vapor deposition apparatus,
FIG. 2 is a cross-sectional view schematically illustrating the overall configuration of a vacuum deposition apparatus capable of depositing a large-sized coating product according to an embodiment of the present invention;
FIG. 3 is a detailed configuration diagram of a rotating disk installed on a vacuum deposition apparatus according to an embodiment of the present invention,
Figs. 4 to 5 are operations of a rotating disk provided on the upper part of the vacuum evaporator according to the embodiment of the present invention.

이하 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 상세히 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 진공증착장치의 전체구성을 도시한 것이고, 도 3은 진공증착장치의 상부에 설치되는 회전원판(27)의 구성을 상세히 도시한 사시도이며, 도 4 내지 도 5는 진공증착장치의 작동구성을 설명하기 위한 회전원판(27)의 편심회전구성을 나타낸 작동도이다.FIG. 2 is a perspective view showing the entire configuration of a vacuum deposition apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a perspective view showing in detail the configuration of a rotary disk 27 provided on an upper part of a vacuum deposition apparatus, 5 is an operation diagram showing the eccentric rotation configuration of the rotary disk 27 for explaining the operation configuration of the vacuum evaporator.

본 발명의 진공증착장치는 내부가 진공상태인 본체(2)를 구비되고, 본체(10) 내측의 상부에는 코팅제품(50)이 거치된 상태에서 좌우로 편심회전하는 회전부(20)가 설치되며, 본체(10) 내측의 하부에는 시료(41)의 승화방향을 조절하여 상부로 직진이동하는 시료(41)가 거치된 코팅제품(50)의 종류에 맞게 고르게 증착될 수 있도록 하는 회전체(40)가 설치된다.The vacuum deposition apparatus of the present invention is provided with a main body 2 having a vacuum state inside and a rotating part 20 rotating eccentrically to the left and right in a state where a coating product 50 is mounted is installed in an upper part of the main body 10 And a rotating body 40 for adjusting the sublimation direction of the sample 41 and moving straight to the upper part so as to be uniformly deposited according to the kind of the coated product 50 to which the sample 41 is fixed, Is installed.

상기 회전부(20)는 본체(10) 상부에 설치되어 회전하는 중심판(21)과, 상기 중심판(21)의 가장자리에 결합된 상단 회전축(22)에 의해 연결 설치되어 중심판(21)의 회전에 의해 편심회전하는 편심회전기어(23)와, 본체(2) 상부에 고정되되 상기 편심회전기어(23)가 내접하여 맞물려 회전되도록 중심부에 원형의 고정기어(26)가 형성된 가이드판(25), 상기 편심회전기어(23)의 하부에 결합된 하단 회전축(24)에 고정설치되어 편심회전기어(23)와 함께 회전하면서 편심회전기어(23)가 가이드판(25)의 고정기어(26)에 맞물려 편심회전하는 것과 함께 본체(10) 내에서 편심회전하여 거치된 코팅제품(50)에 골고루 시료(41)가 증착될 수 있도록 하는 회전원판(27)으로 구성된다. 즉, 상단 회전축(22)는 중심판(21) 가장자리에 고정 결합되고 상단 회전축(22) 하부에 연결 설치된 편심회전기어(23)는 베어링 등에 의해 상단 회전축(22)과 상대회전 가능하게 연결된다.The rotation unit 20 includes a central plate 21 installed on the upper portion of the main body 10 and a rotating center plate 21 connected to the center plate 21 by an upper rotation shaft 22 coupled to an edge of the center plate 21, An eccentric rotary gear 23 which is eccentrically rotated by rotation and a guide plate 25 which is fixed to the upper portion of the main body 2 and in which a circular fixing gear 26 is formed at the center so that the eccentric rotary gear 23 is in contact with, And an eccentric rotary gear 23 is fixed to a lower rotary shaft 24 coupled to a lower portion of the eccentric rotary gear 23 so that the eccentric rotary gear 23 rotates together with the eccentric rotary gear 23, And a rotating circular plate 27 for eccentrically rotating in engagement with the coating product 50 and eccentrically rotating in the main body 10 to deposit the sample 41 evenly on the mounted coating product 50. That is, the upper rotation shaft 22 is fixedly coupled to the edge of the center plate 21 and the eccentric rotary gear 23 connected to the lower portion of the upper rotation shaft 22 is connected to the upper rotation shaft 22 in a relatively rotatable manner by a bearing or the like.

상기 중심판(21)은 본체(10) 상부의 정중앙에서 정회전하도록 설치되며, 정회전하는 중심판(21)의 가장자리에 형성된 상단 회전축(22)에 연결되어 편심회전하는 편심회전기어(23)가 설치된다.The center plate 21 is installed to rotate forward in the center of the upper portion of the main body 10 and an eccentric rotary gear 23 is connected to the upper rotary shaft 22 formed at the edge of the center plate 21 and rotated eccentrically Respectively.

본 발명에서는 종래의 진공증착장치 내에 설치된 회전원판(27)이 본체(10)의 상부 중심부를 기준으로 정회전하는 것과 달리 코팅제품(50)이 거치된 상태에서 자전하면서 이와 함께 편심회전기어(23)를 중심으로 공전하여 편심회전되게 함으로써 회전원판(27)크기와 같은 대형 코팅제품(50)의 진공증착이 가능해지면서 시료(41)가 코팅제품(50)에 고르게 증착될 수 있다.Unlike the case where the rotary disk 27 provided in the conventional vacuum evaporator is rotated about the upper center of the body 10, the eccentric rotary gear 23 rotates while the coating product 50 is stationary, The sample 41 can be uniformly deposited on the coating product 50 as the large-sized coating product 50, such as the size of the rotation disc 27, can be vacuum-deposited.

중심판(21)의 가장자리에 설치된 상단 회전축(22)에 연결된 편심회전기어(23)는 상단 회전축(22)에 회전가능하게 설치되며, 중심판(21)이 회전하면서 상단 회전축(22)은 편심회전하게 된다.The eccentric rotary gear 23 connected to the upper rotary shaft 22 provided at the edge of the center plate 21 is rotatably installed on the upper rotary shaft 22 and the upper rotary shaft 22 is rotated by the eccentric .

상단 회전축(22)에 연결된 편심회전기어(23)는 가이드판(25)에 형성된 고정기어(26)에 의해 중심판(21)의 회전방향과 반대로 회전하게 되며, 상단 회전축(22)과 편심회전기어(23)는 베어링에 의해 상대 회전가능하게 설치될 수 있다.The eccentric rotary gear 23 connected to the upper rotary shaft 22 is rotated in the direction opposite to the rotating direction of the center plate 21 by the fixed gear 26 formed on the guide plate 25, The gear 23 can be installed to be relatively rotatable by a bearing.

가이드판(25)에는 편심회전기어(23)가 맞물려 회전하는 고정기어(26)가 형성되며, 상기 고정기어(26)는 편심회전하는 편심회전기어(23)의 회전반경에 대응하는 크기로 가이드판(25) 내측에 형성되는 것이 바람직하다.The guide plate 25 is provided with a fixed gear 26 to which the eccentric rotary gear 23 meshes and rotates. The fixed gear 26 has a size corresponding to the turning radius of the eccentric rotary gear 23, And it is preferably formed inside the plate 25.

중심판(21)이 정회전하면서 상단 회전축(22)이 편심회전 하는 상태 즉, 중심판(21) 중앙을 중심으로 공전하는 상태에서 상단 회전축(22)과 별도로 회전가능하게 연결된 편심회전기어(23)가 고정기어(26)와 맞물려 회전함으로써 중심판(21)의 회전방향과 반대방향으로 회전하게되고, 편심회전기어(23) 하부에 결합된 하단 회전축(24) 역시 중심판(21)의 회전방향과 반대방향으로 회전하게 된다.An eccentric rotary gear 23 rotatably connected to the upper rotary shaft 22 separately from the upper rotary shaft 22 in a state in which the upper rotary shaft 22 rotates eccentrically while the center plate 21 is rotated forward, The lower rotary shaft 24 coupled to the lower portion of the eccentric rotary gear 23 is also rotated in the direction of rotation of the center plate 21 As shown in Fig.

고정기어(26)와 맞물려 편심회전하는 편심회전기어(23)의 하부에는 하단 회전축(24)에 의해 회전원판(27)이 고정설치되어 회전하는 편심회전기어(23)와 함께 회전하게 된다.A rotary disk 27 is fixed to the lower portion of the eccentric rotary gear 23 which is engaged with the fixed gear 26 and rotates eccentrically. The lower rotary shaft 24 rotates together with the eccentric rotary gear 23.

상기 회전원판(27)은 편심회전기어(23)와 함께 자전하면서 편심회전기어(23)가 가이드판(25)에 형성된 고정기어(26)를 따라 편심회전함에 따라 회전원판(27)이 도 4 내지 도 5에서와 같이 본체(10) 내에서 편심회전하게 된다.The rotary disk 27 is rotated together with the eccentric rotary gear 23 and the eccentric rotary gear 23 is eccentrically rotated along the fixed gear 26 formed on the guide plate 25, As shown in FIG. 5, in the body 10.

회전부(20)의 작동 관계를 살펴보면, 중심판(21)이 회전시 중심판(21)의 가장자리에 결합된 상단 회전축(22)은 중심판(21)의 중앙을 중심으로 공전하게 되고, 상기 공전하는 상단 회전축(22)에 상대회전가능하게 연결된 편심회전기어(23)는 상기 가이드판(25)에 형성된 고정기어(26)에 내접하여 맞물려 회전됨에 따라 중심판(21)의 회전방향과 반대방향으로 자전되게 되며 자전되는 상기 편심회전기어(23)와 결합된 하단 회전축(24)도 자전됨으로써 상기 하단 회전축(24)의 하부에 결합된 회전원판(27)은 본체를 중심으로 공전과 자전이 동시에 일어나게 된다. 즉, 회전원판(27)은 편심회전기어(23)에 의해 자전함과 함께 동시에 편심회전으로 공전하게 되며, 본체(10) 내에서 회전원판(27)이 자전과 공전하면서 회전함에 따라 시료(41)에 의한 코팅이 고르게 이루어질 수 있도록 조절이 가능해진다.When the center plate 21 rotates, the upper rotary shaft 22 coupled to the edge of the center plate 21 revolves around the center of the center plate 21, The eccentric rotary gear 23 connected to the upper rotary shaft 22 is rotatably engaged with the fixed gear 26 formed on the guide plate 25 to rotate in the direction opposite to the rotation direction of the center plate 21 And the lower rotary shaft 24 coupled to the eccentric rotary gear 23 is also rotated so that the rotary rotary plate 27 coupled to the lower rotary shaft 24 rotates at the same time It happens. That is, the rotary disk 27 revolves simultaneously with the eccentric rotary gear 23 in the eccentric rotation by the eccentric rotary gear 23, and as the rotary disk 27 rotates while revolving and revolving in the body 10, Can be controlled so as to be uniformly coated by the coating layer.

회전원판(27)이 본체(10)의 중심을 기준으로 정회전만하게 되면 회전원판(27)의 가장자리는 회전에 의해 시료(41)가 고르게 증착될 수 있도록 회전원판(27)의 회전속도를 조절하거나 회전시간 등을 제어하여 조절이 가능하지만 가운데 부분은 정회전시 회전하지 않고 항상 시료(41)가 증착이 되어 코팅 두께의 조절이 어려운 것이다.The rotation of the rotation disc 27 is controlled by adjusting the rotation speed of the rotation disc 27 so that the sample 41 can be uniformly deposited by the rotation of the rotation disc 27. [ Or rotation time, but it is difficult to control the thickness of the coating layer 41 because the sample 41 is deposited at all times without rotating in the center portion.

종래에도 이러한 문제에 의해 회전원판(27)의 중심부에는 코팅제품(50)을 거치할 수 없어 회전원판(27)의 가장자리 위주로 거치하였으며, 그에 따라 보다 큰 코팅제품(50)은 증착시킬 수 없는 것이었다.Conventionally, due to this problem, the coated product 50 can not be mounted on the central portion of the rotary disk 27, so that it is mounted on the edge of the rotary disk 27, so that a larger coated product 50 can not be deposited .

본 발명에서는 크기가 큰 코팅제품(50)이 거치된 회전원판(27)이 편심회전에 의해 본체(10)의 상부에서 회전함에 따라 고정된 위치에 시료(41)가 증착되는 위치가 존재하지 않아 증착 상태의 조절이 용이함에 따라 코팅제품(50)에 고르게 시료(41)가 증착될 수 있게 할 수 있는 것이다.According to the present invention, there is no position where the sample 41 is deposited at the fixed position as the rotating disk 27 with the large-sized coating product 50 mounted thereon rotates at the top of the main body 10 by eccentric rotation It is possible to deposit the sample 41 evenly on the coated product 50 due to the ease of adjustment of the deposition state.

상기 회전원판(27)의 양단에는 크기가 큰 코팅제품(50)을 거치하기 위한 걸림턱(28)이 형성되어 있으며, 슬라딩끼움형태로 코팅제품(50)을 회전원판(27)에 거치하여 회전하면서 증착이 이루어질 수 있도록 한다.At both ends of the rotary disk 27 are formed hooking jaws 28 for mounting a large-sized coating product 50. The coating product 50 is mounted on the rotary disk 27 in a slidable manner So that deposition can be performed while rotating.

본 발명에서는 본체(10) 내측에 시료(41)에 의한 코팅제품(50)의 증착상태를 감지할 수 있는 센서(30)가 설치되며, 상기 센서(30)의 감지에 의해 코팅제품(50)에 코팅되는 시료(41)의 증착상태를 실시간으로 확인하면서 증착이 완료되거나 고르게 되는지를 확인할 수 있게 된다.A sensor 30 for detecting the deposition state of the coated product 50 by the sample 41 is installed inside the main body 10 and the coated product 50 is detected by the sensor 30, It is possible to confirm whether the deposition is completed or even while confirming the deposition state of the sample 41 coated on the substrate 41 in real time.

상기 센서(30)의 구성을 보면, 시료(41)의 승화되어 상부로 이동되는 상태를 감지하는 크리스탈센서와, 시료(41)가 승화되어 증착되는 두께를 실시간으로 감지하여 코팅제품(50)의 증착두께를 확인하기 위한 옵티컬센서로 구성된다.The sensor 30 includes a crystal sensor for sensing the state of the sample 41 being sublimated and moving upward and a sensor for sensing the thickness of the sample 41 that is sublimated and deposited, And an optical sensor for confirming the deposition thickness.

크리스탈센서는 시료(41)가 승화되어 본체(10) 상부로 직진 이동하는 것을 감지하여 시료(41)의 증발을 감지하여 증착이 이루어지고 있는 지를 감지하며, 옵티컬센서에 의해서는 표면에 증착되는 시료(41)의 두께를 감지함으로써 코팅제품(50)에도 증착되는 두께를 확인할 수 있어 코팅제품(50)에 항상 균일한 두께로 증착이 이루어질 수 있도록 한다.The crystal sensor senses that the sample 41 is sublimated and moves straight to the upper part of the main body 10 to sense evaporation of the sample 41 to detect whether deposition is being performed. The thickness of the coating product 50 can be confirmed by sensing the thickness of the coating product 41 so that the coating product 50 can be always deposited with a uniform thickness.

본 발명의 본체(10) 하부에는 시료(41)의 승화방향을 조절하여 코팅제품(50)에 시료(41)가 고르게 증착될 수 있도록 승화방향을 조절하는 회전체(40)가 설치될 수 있다.The rotating body 40 may be provided under the main body 10 of the present invention to adjust the sublimation direction so that the sample 41 can be uniformly deposited on the coated product 50 by adjusting the sublimation direction of the sample 41 .

상기 회전체(40)는 높은 전압을 가하여 필라멘트에서 방출된 열전자들을 시료(41)에 충돌시켜 발생하는 열에 의해 증착하고자 하는 시료(41)를 증발시키는 전자빔과, 상기 전자빔에 의해 시료(41)가 승화되어 본체(10) 상부의 회전원판(27)에 위치하는 코팅제품(50)으로 이동하여 고르게 증착될 수 있도록 승화방향을 조절하는 마스크(43)와, 코팅제품(50)의 증착이 완료되어 승화되는 시료(41)가 상부로 직진이동하는 것을 차단하는 차단판(42)으로 구성하며, 상기 회전체(40)의 하부에는 코팅제품(50)의 종류에 따른 회전원판(27)의 크기와 종류의 변경시 회전원판(27)과 전자빔의 중심을 맞추기 위해 회전체(40)를 승하강작동시켜 회전가능하도록 하는 승강실린더(44)(40)로 구성한다.The rotating body 40 has an electron beam that evaporates the sample 41 to be deposited by heat generated by colliding the thermoelectrons emitted from the filament with the sample 41 by applying a high voltage to the sample 41, A mask 43 for sublimating and adjusting the sublimation direction so as to be moved to the coating product 50 positioned on the rotary disc 27 on the upper portion of the main body 10 and uniformly deposited; And a blocking plate 42 for blocking the upward movement of the sample 41 to be sublimated upward and a blocking plate 42 for blocking the size of the rotating plate 27 according to the kind of the coating product 50 And elevating cylinders (44) and (40) for rotating the rotating body (27) and rotating the rotating body (40) in order to align the center of the electron beam when the type is changed.

상술한 본 발명의 설명에서는 구체적인 실시 예에 관해 설명하였으나, 여러가지 변형이 본 발명의 범위에서 벗어나지 않고 실시할 수 있다. 따라서 본 발명의 범위는 설명된 실시 예에 의하여 정할 것이 아니고 특허청구범위 및 그 특허청구범위의 균등한 것에 의해 정해져야 한다.While the present invention has been described in connection with certain exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments. Therefore, the scope of the present invention should not be limited by the described embodiments but should be determined by the scope of the appended claims and equivalents thereof.

(10)-- 본체
(20)-- 회전부 (21)-- 중심판
(22)-- 상단 회전축 (23)-- 편심회전기어
(24)-- 하단 회전축 (25)-- 가이드판
(26)-- 고정기어 (27)-- 회전원판
(28)-- 걸림턱
(30)-- 센서
(40)-- 회전체 (41)-- 시료
(42)-- 차단판 (43)-- 마스크
(44)-- 승강실린더
(50)-- 코팅제품
(10)
(20) -rotation portion (21) -central plate
(22) - upper rotating shaft (23) - eccentric rotating gear
(24) - lower rotating shaft (25) - guide plate
(26) -fixed gear (27) -rotating disc
(28) - jaws
(30) - sensor
(40) - rotating body (41) - sample
(42) - a blocking plate (43) - a mask
(44) - lifting cylinder
(50) - Coated products

Claims (5)

진공증착장치에 있어서,
내부가 진공상태인 본체(2)를 구비되고,
본체(10) 내측의 상부에는 코팅제품(50)이 거치된 상태에서 좌우로 편심회전하는 회전부(20)가 설치되되,
상기 회전부(20)는,
본체(10) 상부에 설치되어 회전하는 중심판(21)과,
상기 중심판(21)의 가장자리에 결합되되 하부에 하단 회전축(24)이 결합된 편심회전기어(23)가 베어링에 의해 상대회전 가능하게 연결된 상단 회전축(22)과,
본체(2) 상부에 고정되되 상기 편심회전기어(23)가 내접하여 맞물려 회전되도록 중심부에 원형의 고정기어(26)가 형성된 가이드판(25)과,
상기 하단 회전축(24)에 결합되되 코팅제품(50)이 거치되는 걸림턱(28)이 형성된 회전원판(27)으로 구성됨으로써,
중심판(21)이 회전시 중심판(21)의 가장자리에 결합된 상단 회전축(22)은 중심판(21)의 중앙을 중심으로 공전하게 되고, 상기 공전하는 상단 회전축(22)에 상대회전가능하게 연결된 편심회전기어(23)는 상기 가이드판(25)에 형성된 고정기어(26)에 내접하여 맞물려 회전됨에 따라 중심판(21)의 회전방향과 반대방향으로 자전되게 되며 자전되는 상기 편심회전기어(23)와 결합된 하단 회전축(24)도 자전됨으로써 상기 하단 회전축(24)의 하부에 결합된 회전원판(27)은 본체를 중심으로 공전과 자전이 동시에 일어나며,
본체(10) 내측의 하부에는 시료(41)의 승화방향을 조절하여 상부로 직진이동하는 시료(41)가 거치된 코팅제품(50)의 종류에 맞게 고르게 증착될 수 있도록 하는 회전체(40)가 설치되고,
본체(10) 내측에는 시료(41)가 승화되어 본체(10) 상부로 직진 이동하는 것을 감지하여 시료(41)의 증발을 감지하여 증착이 이루어지고 있는 지를 감지하는 크리스탈센서와, 표면에 증착되는 시료(41)의 두께를 감지함으로써 코팅제품(50)에도 증착되는 두께를 확인할 수 있어 코팅제품(50)에 항상 균일한 두께로 증착이 되도록 감지하는 옵티컬센서로 구성된 센서(30)가 설치됨을 특징으로 하는 대형 코팅제품의 증착이 가능한 진공증착장치.
In the vacuum vapor deposition apparatus,
(2) whose inside is in a vacuum state,
A rotating part 20 is provided on the upper part of the inside of the main body 10 and eccentrically rotates left and right in a state where the coating product 50 is mounted,
The rotation unit 20,
A center plate 21 installed on the body 10 and rotating,
An upper rotation shaft 22 coupled to an edge of the center plate 21 and having an eccentric rotary gear 23 coupled to a lower rotary shaft 24 at a lower portion thereof,
A guide plate 25 fixed to the upper portion of the main body 2 and having a circular fixing gear 26 formed at its central portion so that the eccentric rotary gear 23 is in contact with and rotated,
And a rotating circular plate 27 having an engaging protrusion 28 coupled to the lower rotary shaft 24 for receiving the coating product 50,
The upper rotation shaft 22 coupled to the edge of the center plate 21 when the center plate 21 rotates revolves around the center of the center plate 21 and rotates relative to the revolving upper rotation axis 22 The eccentric rotary gear 23 connected to the eccentric rotary gear 23 rotates in a direction opposite to the rotation direction of the center plate 21 as it is in contact with and rotates with the fixed gear 26 formed on the guide plate 25, The lower rotary shaft 24 coupled to the lower rotary shaft 24 is also rotated so that the rotary rotary plate 27 coupled to the lower rotary shaft 24 simultaneously rotates and revolves around the body,
A rotating body 40 is provided at a lower portion inside the main body 10 to adjust the sublimation direction of the sample 41 so that the specimen 41 moving straight upward can be uniformly deposited according to the type of the coated product 50, Respectively,
A crystal sensor for detecting evaporation of the sample 41 by sensing that the sample 41 is sublimated and moving straight to the upper part of the main body 10 to sense whether deposition is being performed, A sensor 30 is provided which is constituted by an optical sensor which can detect the thickness of the coating product 50 by detecting the thickness of the sample 41 so that the coating product 50 is always deposited in a uniform thickness A vacuum deposition apparatus capable of depositing a large-sized coating product.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113278944A (en) * 2021-05-25 2021-08-20 深圳市鼎信表面处理科技有限公司 Rotating mechanism and vacuum coating machine thereof
CN118127464A (en) * 2024-04-28 2024-06-04 苏州佑伦真空设备科技有限公司 Self-turn-over type plating pot structure of vacuum evaporation machine

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101760257B1 (en) * 2017-02-15 2017-07-21 (주)프라임광학 Glass product vacuum evaporation coating apparatus using electron beam and vacuum evaporation coating method

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101760257B1 (en) * 2017-02-15 2017-07-21 (주)프라임광학 Glass product vacuum evaporation coating apparatus using electron beam and vacuum evaporation coating method

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113278944A (en) * 2021-05-25 2021-08-20 深圳市鼎信表面处理科技有限公司 Rotating mechanism and vacuum coating machine thereof
CN118127464A (en) * 2024-04-28 2024-06-04 苏州佑伦真空设备科技有限公司 Self-turn-over type plating pot structure of vacuum evaporation machine

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