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KR101950601B1 - Mixing chamber unit for exhaust gas cleaning device - Google Patents

Mixing chamber unit for exhaust gas cleaning device Download PDF

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KR101950601B1
KR101950601B1 KR1020170115632A KR20170115632A KR101950601B1 KR 101950601 B1 KR101950601 B1 KR 101950601B1 KR 1020170115632 A KR1020170115632 A KR 1020170115632A KR 20170115632 A KR20170115632 A KR 20170115632A KR 101950601 B1 KR101950601 B1 KR 101950601B1
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KR
South Korea
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chamber
gas
exhaust gas
discharge pipe
pipe
Prior art date
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Active
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KR1020170115632A
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Korean (ko)
Inventor
김혜삼
배상현
이배균
김상만
이상일
신승엽
Original Assignee
대지금속 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
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    • F01N3/08Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust for rendering innocuous
    • F01N3/10Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust for rendering innocuous by thermal or catalytic conversion of noxious components of exhaust
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Abstract

본 발명의 실시예에 따른 배기 가스 정화 장치의 믹싱 챔버 유닛은, SCR 유닛의 일단부에 일체로 형성되고 일측에 상기 배기 가스를 안내하는 연결 배관이 연결되는 챔버 하우징, 상기 챔버 하우징의 내부로 상기 우레아를 분사시키도록 상기 챔버 하우징의 타측에 배치된 분사 노즐, 상기 우레아와 상기 배기 가스의 혼합 가스를 상기 SCR 유닛으로 배출하도록 상기 SCR 유닛의 일단부에 출구부가 연결됨과 아울러 상기 챔버 하우징의 내부 공간에 입구부가 배치된 가스 배출관, 및 상기 챔버 하우징의 내부 공간을 상기 SCR 유닛에서 멀어지는 방향으로 제1 챔버와 제2 챔버로 구획되도록 상기 챔버 하우징의 내부에 배치되고 상기 혼합 가스를 와류시키면서 상기 제1 챔버에서 상기 제2 챔버로 안내하는 챔버 구획 부재를 포함하는 배기 가스 정화 장치의 믹싱 챔버 유닛을 제공한다. 상기 제1 챔버에는 상기 연결 배관과 상기 분사 노즐이 연결될 수 있고, 상기 제2 챔버에는 가스 배출관의 입구부가 연결될 수 있다.A mixing chamber unit of an exhaust gas purifying apparatus according to an embodiment of the present invention includes a chamber housing integrally formed at one end of an SCR unit and connected to a connection pipe for guiding the exhaust gas to one side of the chamber housing, An outlet part is connected to one end of the SCR unit so as to discharge a mixed gas of the urea and the exhaust gas to the SCR unit so that the urea and the exhaust gas are discharged to the inner space of the chamber housing, And a gas discharge pipe disposed in the chamber housing so as to partition the internal space of the chamber housing into a first chamber and a second chamber in a direction away from the SCR unit, A chamber dividing member for guiding from the chamber to the second chamber; Chamber unit. The connection pipe and the injection nozzle may be connected to the first chamber, and the inlet of the gas discharge pipe may be connected to the second chamber.

Description

배기 가스 정화 장치의 믹싱 챔버 유닛{MIXING CHAMBER UNIT FOR EXHAUST GAS CLEANING DEVICE}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a mixing chamber unit for an exhaust gas purifying apparatus,

본 발명은 배기 가스 정화 장치의 믹싱 챔버 유닛에 관한 것으로서, 더 상세하게는 믹싱 챔버 유닛을 SCR 유닛의 일단부에 일체로 형성하여 배기 가스 정화 장치의 소형화를 실현할 수 있는 배기 가스 정화 장치의 믹싱 챔버 유닛에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a mixing chamber unit of an exhaust gas purifying apparatus, and more particularly, to a mixing chamber unit of an exhaust gas purifying apparatus capable of realizing miniaturization of an exhaust gas purifying apparatus by integrally forming a mixing chamber unit at one end of an SCR unit Unit.

일반적으로, 배기 가스 정화 장치는 내연 기관에서 발생되는 배기 가스를 처리하여 배기 가스에 포함된 해로운 성분을 제거하는 장치이다.2. Description of the Related Art Generally, an exhaust gas purifying apparatus is an apparatus that removes harmful components included in exhaust gas by treating exhaust gas generated in an internal combustion engine.

최근에는 지구 온난화 및 대기 오염 등의 심화로 인하여 배기 가스의 배출 규제가 강화되는 추세이며, 특히 디젤 엔진의 경우에는 연료의 불완전 연소에 따라 일산화탄소나 탄화수소, 질소산화물 등의 유해 미립자가 배기가스에 다량 함유되어 있다.In recent years, exhaust gas emission regulations have been strengthened due to global warming and increased air pollution. Particularly in the case of diesel engines, harmful particulates such as carbon monoxide, hydrocarbons, and nitrogen oxides, .

따라서, 디젤 엔진 등과 같은 내연 기관을 탑재한 장치에는 배기 가스 정화 장치를 설치하여 배기 가스의 유해 미립자가 대기로 배출되는 것을 방지하고 있다.Therefore, an apparatus equipped with an internal combustion engine such as a diesel engine or the like is provided with an exhaust gas purifying device to prevent harmful particulates of the exhaust gas from being discharged to the atmosphere.

상기와 같은 배기 가스 정화 장치는 엔진의 연료 주성분, 연소 효율, 엔진 형상 등에 따라 다양한 방식이 사용될 수 있다. 예를 들면, 우레아(urea)를 이용한 선택적 환원촉매(Selective Catalytic Reduction, SCR) 방식, 디젤 산화 촉매(Diesel Oxidation Catalyst, DOC) 방식, 또는 배기가스 후처리(Diesel Particulate Filter, DPF) 방식 등이 다양하게 사용되고 있다.The exhaust gas purifying apparatus may be used in various ways depending on the fuel main component of the engine, the combustion efficiency, the engine shape, and the like. For example, a selective catalytic reduction (SCR) system using a urea, a diesel oxidation catalyst (DOC) system, or a diesel particulate filter (DPF) system .

특히, 디젤 엔진이 사용되는 건설 기계 또는 농기계 등에서는, 여러 방식의 배기 가스 정화 장치를 복합적으로 사용하여 배기 가스의 정화 성능을 높이고 있다.Particularly, in a construction machine or an agricultural machine, in which a diesel engine is used, a purification performance of the exhaust gas is enhanced by using various exhaust gas purifiers in combination.

예를 들면, 복합 방식의 배기 가스 정화 장치는, 우레아를 배기 가스에 믹싱하기 위한 믹싱 파이프를 DOC(또는 DPF)와 SCR의 사이에 연결한 방식이 대표적으로 사용되고 있다. 하지만, 상기와 같은 복합 방식의 배기 가스 정화 장치는 전체 사이즈가 매우 커져서 대형화되는 단점이 있다.For example, a combined exhaust gas purifying apparatus is typically used in which a mixing pipe for mixing urea into exhaust gas is connected between a DOC (or DPF) and an SCR. However, the exhaust gas purifying apparatus of the above-described combined type has a disadvantage that the entire size thereof becomes very large and becomes large.

따라서, 최근에는 배기가스의 정화 장치를 콤팩트한 작은 사이즈로 형성하기 위하여, DOC와 SCR 및 우레아 믹싱 파이프의 연결 구조나 배치 구조를 다양하게 변경하는 연구 개발이 활발하게 이루어지고 있다.Therefore, in recent years, research and development have been actively carried out to variously change the connection structure and arrangement structure of the DOC, the SCR, and the urea mixing pipe in order to form a compact exhaust gas purifying apparatus.

예를 들면, 한국등록특허 제10-1251518호(발명의 명칭: 차량의 배기가스 후처리 시스템용 도징 모듈, 등록일: 2013.04.01)에는, SCR의 전방에서 배기가스의 유동 방향을 따라 환원제를 분사하기 위한 차량의 배기가스 후처리 시스템용 도징 모듈이 개시되어 있다. 즉, 도징 모듈의 도징 본체가 DPF의 선단부에 일체로 형성된 후 SCR의 선단부에 연결되는 구조이다.For example, in Korean Registered Patent No. 10-1251518 (entitled "Dosing Module for Exhaust Gas Aftertreatment System of Vehicle", Registered on Apr. 31, 2013), a reducing agent is injected along the flow direction of the exhaust gas in front of the SCR An exhausting module for an exhaust gas aftertreatment system of a vehicle is disclosed. That is, the dosing body of the dosing module is integrally formed at the tip of the DPF and is connected to the tip of the SCR.

또한, 한국등록특허 제10-1669657호(발명의 명칭: SDPF용 믹싱 장치, 등록일: 2016.10.20)에는, 산화 촉매기와 SDPF가 나란하면서도 상하로 배치되는 타입의 배기시스템에 적용이 가능한 SDPF용 믹싱 장치가 개시되어 있다. 즉, 산화 촉매기와 SDPF가 나란하게 배치된 상태에서 믹싱 장치가 산화 촉매기와 SDPF의 서로 마주보는 단부를 연결하는 구조이다.Korean Patent No. 10-1669657 (entitled " SDPF Mixing Apparatus ", issue date: Oct. 20, 2016) discloses a mixing apparatus for SDPF which is applicable to an exhaust system of a type in which an oxidation catalyst unit and SDPF are arranged side by side, Device is disclosed. That is, in the state that the oxidation catalyst unit and the SDPF are arranged side by side, the mixing apparatus connects the opposite end portions of the oxidation catalyst unit and the SDPF.

본 발명의 실시예는, 믹싱 챔버 유닛을 SCR 유닛의 일단부에 일체로 형성하여 배기 가스 정화 장치의 소형화를 실현할 수 있는 배기 가스 정화 장치의 믹싱 챔버 유닛을 제공한다.An embodiment of the present invention provides a mixing chamber unit of an exhaust gas purifying apparatus capable of realizing downsizing of an exhaust gas purifying apparatus by integrally forming a mixing chamber unit at one end of an SCR unit.

또한, 본 발명의 실시예는, 배기 가스와 우레아의 혼합 효율을 충분히 확보하면서 믹싱 챔버 유닛을 매우 콤팩트하게 형성할 수 있는 배기 가스 정화 장치의 믹싱 챔버 유닛을 제공한다.Further, the embodiment of the present invention provides a mixing chamber unit of an exhaust gas purifying apparatus which can form a mixing chamber unit very compactly while sufficiently ensuring the mixing efficiency of exhaust gas and urea.

또한, 본 발명의 실시예는, 배기 가스를 와류 형상으로 유동시켜 우레아와의 혼합 성능을 향상시킬 수 있고, 배기 가스와 우레아의 혼합 가스를 SCR 유닛에 골고루 전달할 수 있는 배기 가스 정화 장치의 믹싱 챔버 유닛을 제공한다.In addition, the embodiment of the present invention can improve the mixing performance with urea by flowing the exhaust gas in the form of a vortex, and is capable of uniformly delivering the mixed gas of the exhaust gas and the urea to the SCR unit. Provide a unit.

본 발명의 일실시예는 SCR 유닛에 유입되는 배기 가스에 우레아를 혼합시키는 배기 가스 정화 장치의 믹싱 챔버 유닛에 관한 것이다.One embodiment of the present invention relates to a mixing chamber unit of an exhaust gas purifying apparatus for mixing urea with exhaust gas flowing into an SCR unit.

본 발명의 일실시예에 따르면, SCR 유닛의 일단부에 일체로 형성되고 일측에 상기 배기 가스를 안내하는 연결 배관이 연결되는 챔버 하우징, 상기 챔버 하우징의 내부로 상기 우레아를 분사시키도록 상기 챔버 하우징의 타측에 배치된 분사 노즐, 상기 우레아와 상기 배기 가스의 혼합 가스를 상기 SCR 유닛으로 배출하도록 상기 SCR 유닛의 일단부에 출구부가 연결됨과 아울러 상기 챔버 하우징의 내부 공간에 입구부가 배치된 가스 배출관, 및 상기 챔버 하우징의 내부 공간을 상기 SCR 유닛에서 멀어지는 방향으로 제1 챔버와 제2 챔버로 구획되도록 상기 챔버 하우징의 내부에 배치되고 상기 혼합 가스를 와류시키면서 상기 제1 챔버에서 상기 제2 챔버로 안내하는 챔버 구획 부재를 포함하는 배기 가스 정화 장치의 믹싱 챔버 유닛을 제공한다.According to an embodiment of the present invention, there is provided an exhaust gas purifying apparatus comprising: a chamber housing integrally formed at one end of an SCR unit and connected to a connection pipe for guiding the exhaust gas to one side thereof; A gas discharge pipe having an outlet connected to one end of the SCR unit so as to discharge a mixed gas of the urea and the exhaust gas to the SCR unit and an inlet part disposed in an inner space of the chamber housing, And an internal space of the chamber housing is disposed inside the chamber housing so as to be divided into a first chamber and a second chamber in a direction away from the SCR unit and is guided from the first chamber to the second chamber while swirling the mixed gas. The mixing chamber unit comprising a chamber dividing member for separating the exhaust gas from the exhaust gas.

상기 제1 챔버에는 상기 연결 배관과 상기 분사 노즐이 연결될 수 있고, 상기 제2 챔버에는 가스 배출관의 입구부가 연결될 수 있다. The connection pipe and the injection nozzle may be connected to the first chamber, and the inlet of the gas discharge pipe may be connected to the second chamber.

따라서, 본 실시예에서는, 상기 챔버 하우징이 상기 SCR 유닛의 단부에 일체로 형성된 구조이므로 상기 배기 가스 정화 장치의 소형화를 실현할 수 있고, 상기 챔버 하우징의 내부를 상기 제1 챔버와 상기 제2 챔버로 구획한 후 상기 배기 가스를 와류시키면서 상기 우레아와 혼합시키는 구조이므로 상기 믹싱 챔버 유닛의 혼합 효율을 극대화시킬 수 있다.Therefore, in the present embodiment, since the chamber housing is integrally formed at the end portion of the SCR unit, the exhaust gas purifying apparatus can be downsized, and the inside of the chamber housing can be connected to the first chamber and the second chamber The mixing efficiency of the mixing chamber unit can be maximized since the exhaust gas is vortexed and mixed with the urea.

일측면에 따르면, 상기 가스 배출관은 상기 SCR 유닛과 상기 제2 챔버를 연결시키도록 상기 제1 챔버의 중심부에 관통되게 배치될 수 있다. 상기 배기 가스는 상기 가스 배출관을 중심으로 선회되는 형상으로 상기 제1 챔버의 내부에 와류를 형성할 수 있다.According to an aspect, the gas discharge pipe may be disposed to penetrate the center portion of the first chamber to connect the SCR unit and the second chamber. The exhaust gas may form a vortex in the first chamber in a shape pivoted about the gas discharge pipe.

상기 가스 배출관의 출구부는 상기 SCR 유닛의 일단부와 동일한 크기로 형성되어 상기 SCR 유닛의 일단부에 연통되게 연결될 수 있다. 상기 가스 배출관의 입구부는 상기 가스 배출관의 출구부보다 작은 크기로 형성되어 상기 챔버 구획 부재의 중앙부에 관통되게 배치될 수 있다.The outlet portion of the gas discharge pipe may have the same size as one end of the SCR unit and may be connected to one end of the SCR unit. The inlet of the gas discharge pipe may be smaller than the outlet of the gas discharge pipe and may be disposed to pass through the center of the chamber dividing member.

여기서, 상기 가스 배출관의 입구부에는, 상기 제2 챔버에서 유입되는 상기 혼합 가스를 상기 SCR 유닛의 일단부에 안내하기 위한 가이드 베인이 형성될 수 있다.A guide vane for guiding the mixed gas introduced from the second chamber to one end of the SCR unit may be formed at an inlet of the gas discharge pipe.

그리고, 상기 가스 배출관은 출구부에서 입구부로 갈수록 통로가 좁아지는 깔때기 형상으로 형성될 수 있다.Further, the gas discharge pipe may be formed in a funnel shape in which the passage becomes narrower from the outlet portion to the inlet portion.

또한, 상기 가스 배출관의 출구부는, 상기 챔버 하우징의 내측면 사이에 공간이 작게 형성되도록 상기 챔버 하우징의 내부를 향해서 볼록한 형상의 곡선 단면으로 형성될 수 있다.The outlet of the gas discharge pipe may be formed in a curved section of a convex shape toward the inside of the chamber housing so that a space is small between the inner side surfaces of the chamber housing.

또한, 상기 분사 노즐은, 상기 가스 배출관의 경사진 표면으로 상기 우레아를 분사함과 아울러 상기 연결 배관에서 상기 배기 가스의 와류 방향으로 이격된 위치에 분사하도록 상기 챔버 하우징에 배치될 수 있다.The injection nozzle may be disposed in the chamber housing to inject the urea into the inclined surface of the gas discharge tube and to inject the gas at a position spaced apart from the connection pipe in the direction of swirling of the exhaust gas.

일측면에 따르면, 본 발명의 일실시예에 따른 배기 가스 정화 장치의 믹싱 챔버 유닛은, 상기 연결 배관에서 유입되는 상기 배기 가스가 상기 제1 챔버의 내부에서 상기 가스 배출관을 중심으로 와류를 형성하도록 상기 챔버 하우징의 일측에 배치된 와류 형성 가이드를 더 포함할 수 있다.According to one aspect, a mixing chamber unit of an exhaust gas purifying apparatus according to an embodiment of the present invention is configured such that the exhaust gas introduced from the connecting pipe forms a vortex around the gas discharge pipe inside the first chamber And a vortex forming guide disposed on one side of the chamber housing.

상기 와류 형성 가이드는, 상기 챔버 하우징의 일측에 형성되고 상기 연결 배관의 단부와 연결되는 관 연결부, 및 상기 배기 가스가 상기 제1 챔버의 내부에서 설정 방향으로 와류를 형성하도록 상기 관 연결부에서 상기 제1 챔버의 내부로 길게 연장된 와류 형성부를 포함할 수 있다.The vortex formation guide may include a pipe connection formed at one side of the chamber housing and connected to an end of the connection pipe, and a pipe connecting part formed at the pipe connection part so that the exhaust gas forms a vortex in a set direction inside the first chamber. And a vortex forming part extending long into the interior of the one chamber.

상기 관 연결부는 상기 연결 배관의 단부에 대응하는 관 형상으로 형성될 수 있고, 상기 와류 형성부는 상기 관 연결부로부터 상기 가스 배출관을 향해 관 형상으로 길게 연장될 수 있다. 상기 와류 형성부의 일측에는, 상기 관 연결부로 유입되는 상기 배기 가스가 상기 가스 배출관을 중심으로 선회되는 와류를 형성하도록 상기 가스 배출관의 표면에 상기 배기 가스를 설정 방향으로 토출하기 위한 토출구가 형성될 수 있다.The tube connection part may be formed in a pipe shape corresponding to the end of the connection pipe, and the vortex formation part may be extended in a tubular shape from the pipe connection part toward the gas discharge pipe. A discharge port may be formed at one side of the vortex forming part for discharging the exhaust gas in a setting direction on the surface of the gas discharge pipe so that the exhaust gas flowing into the pipe connecting part forms a vortex pivoting around the gas discharge pipe have.

상기 와류 형성부의 단부는 상기 가스 배출관의 표면에 밀착되거나 상기 가스 배출관의 표면에 연결될 수 있다.The end of the vortex forming part may be in close contact with the surface of the gas discharge pipe or may be connected to the surface of the gas discharge pipe.

일측면에 따르면, 상기 챔버 구획 부재는, 상기 챔버 하우징의 내부 공간을 상기 제1 챔버와 상기 제2 챔버로 구획하도록 상기 챔버 하우징의 내부에 배치되는 구획 패널, 상기 구획 패널의 중앙부에 홀 형상으로 형성되고 상기 가스 배출관의 입구부가 연결되는 배출 홀부, 상기 제1 챔버에서 상기 제2 챔버로 상기 혼합 가스를 안내하도록 상기 구획 패널에 홀 형상으로 형성된 가이드 홀부, 및 상기 가이드 홀부를 통과하는 상기 혼합 가스가 와류를 형성하도록 상기 가이드 홀부에 경사지게 형성된 가이드 날개를 포함할 수 있다.According to an aspect of the present invention, the chamber partition member may include a partition panel disposed inside the chamber housing to partition the internal space of the chamber housing into the first chamber and the second chamber, A guide hole portion formed in the partition panel so as to guide the mixed gas from the first chamber to the second chamber, and a guide hole portion formed in the partition panel so as to guide the mixed gas from the first chamber to the guide hole portion, And guide vanes inclined to the guide holes to form vortexes.

상기 가이드 날개는, 상기 가이드 홀부에서 상기 혼합 가스의 와류 방향으로 상기 제2 챔버를 향해 경사지게 돌출될 수 있다.The guide vane may protrude obliquely toward the second chamber in the vortex direction of the mixed gas in the guide hole portion.

상기 가이드 홀부는 상기 구획 패널의 둘레를 따라 상기 배출 홀부를 중심으로 복수개가 서로 이격되게 배치될 수 있다. 상기 가이드 날개는 상기 가이드 홀부들에 각각 배치될 수 있다.The guide holes may be spaced apart from each other around the discharge hole along the periphery of the partition panel. The guide vanes may be respectively disposed in the guide hole portions.

상기 챔버 구획 부재는, 상기 제1 챔버 또는 상기 제2 챔버의 내부 압력이 설정 압력 이상으로 증가되는 것을 방지하도록 상기 구획 패널의 가장자리부에 홈 형상 또는 홀 형상으로 형성된 과압 방지 홀부를 더 포함할 수 있다.The chamber partitioning member may further include an overpressure prevention hole portion formed in a groove shape or a hole shape at an edge portion of the partition panel to prevent an internal pressure of the first chamber or the second chamber from increasing beyond a set pressure have.

여기서, 상기 과압 방지 홀부는, 상기 가이드 홀부보다 좁거나 작은 크기로 형성될 수 있고, 상기 구획 패널의 둘레를 따라 복수개가 서로 이격되게 배치될 수 있다.Here, the overvoltage preventing hole may be narrower or smaller than the guide hole, and a plurality of overvoltage preventing holes may be spaced apart from each other along the circumference of the partition panel.

그리고, 상기 과압 방지 홀부는, 상기 분사 노즐의 배치 위치보다 상기 혼합 가스의 와류 방향으로 전방에 위치하도록 상기 구획 패널의 가장자리부에 형성될 수 있다.The overpressure prevention hole may be formed at an edge portion of the partition panel so as to be located forward of the position of the injection nozzle in the direction of swirling the mixed gas.

본 발명의 실시예에 따른 배기 가스 정화 장치의 믹싱 챔버 유닛은, 챔버 하우징을 SCR 유닛의 일단부에 일체로 형성한 구조이므로, 믹싱 챔버 유닛과 SCR 유닛을 일체로 형성하여 배기 가스 정화 장치의 소형화를 실현할 수 있다. 즉, 본 실시예에서는, SCR 유닛과 믹싱 챔버 유닛을 DOC 유닛과 병렬로 나란하게 배치할 수 있으며, 믹싱 챔버 유닛과 DOC 유닛을 연결하는 연결 배관의 길이도 매우 짧게 형성할 수 있다.Since the mixing chamber unit of the exhaust gas purifying apparatus according to the embodiment of the present invention has a structure in which the chamber housing is integrally formed at one end of the SCR unit, the mixing chamber unit and the SCR unit are integrally formed, Can be realized. That is, in this embodiment, the SCR unit and the mixing chamber unit can be arranged in parallel with the DOC unit, and the length of the connection pipe connecting the mixing chamber unit and the DOC unit can be made very short.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 배기 가스 정화 장치의 믹싱 챔버 유닛은, 챔버 구획 부재를 이용하여 챔버 하우징의 내부를 제1 챔버와 제2 챔버로 구획한 후 배기 가스를 와류시키면서 제1 챔버와 제2 챔버에서 차례대로 우레아와 혼합시키는 구조이므로, 배기 가스와 우레아의 혼합 효율을 극대화시킬 수 있고, 챔버 하우징의 내부 공간을 매우 효과적으로 활용하여 믹싱 챔버 유닛을 매우 콤팩트하게 형성할 수 있다.Also, the mixing chamber unit of the exhaust gas purifying apparatus according to the embodiment of the present invention divides the inside of the chamber housing into the first chamber and the second chamber by using the chamber dividing member, and then, while vapourizing the exhaust gas, The mixing efficiency of the exhaust gas and the urea can be maximized and the mixing chamber unit can be formed very compactly by utilizing the inner space of the chamber housing very effectively.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 배기 가스 정화 장치의 믹싱 챔버 유닛은, 와류 형성 가이드를 이용하여 챔버 하우징의 내부에 배기 가스의 와류를 매우 간편하게 생성할 수 있고, 배기 가스의 와류 유동을 이용하여 우레아와의 혼합 성능을 더욱 향상시킬 수 있다. 뿐만 아니라, 본 실시예에서는, 배기 가스와 우레아의 혼합 가스를 와류 유동시킨 후 깔때기 형상의 가스 배출관을 통해 SCR 유닛으로 배출하므로, 혼합 가스를 SCR 유닛의 내부에 골고루 전달하여 SCR 유닛의 성능을 확보할 수 있다.Further, the mixing chamber unit of the exhaust gas purifying apparatus according to the embodiment of the present invention can very easily generate a vortex of the exhaust gas inside the chamber housing by using the vortex formation guide, and by using the vortex flow of the exhaust gas The mixing performance with urea can be further improved. In addition, in this embodiment, a mixed gas of exhaust gas and urea is vortexed and then discharged through a funnel-shaped gas discharge pipe to the SCR unit. Thus, the mixed gas is uniformly transferred to the inside of the SCR unit to secure the performance of the SCR unit can do.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 배기 가스 정화 장치의 믹싱 챔버 유닛은, 챔버 구획 부재에 형성된 가이드 홀부와 가이드 날개에 의해서 혼합 가스를 와류 유동되는 상태로 제1 챔버에서 제2 챔버로 원활하게 안내할 수 있으며, 챔버 구획 부재에 형성된 과압 방지 홀부에 의해서 제1 챔버 또는 제2 챔버 중 어느 하나의 내부 압력이 설정 압력 이상으로 과압되는 현상을 방지할 수 있다. In the mixing chamber unit of the exhaust gas purifying apparatus according to the embodiment of the present invention, the mixed gas is vortically flowed by the guide hole portion formed in the chamber dividing member and the guide vane and smoothly guided from the first chamber to the second chamber And it is possible to prevent the internal pressure of either the first chamber or the second chamber from being overpressured to a set pressure or more by the overpressure prevention hole portion formed in the chamber partitioning member.

도 1과 도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 믹싱 챔버 유닛을 구비한 배기 가스 정화 장치가 도시된 사시도 및 평면도이다.
도 3은 도 2에 도시된 A-A선에 따른 단면이 도시된 도면이다.
도 4는 도 2에 도시된 B-B선에 따른 단면이 도시된 도면이다.
도 5는 도 2에 도시된 C-C선에 따른 단면이 도시된 도면이다.
도 6은 도 1에 도시된 믹싱 챔버 유닛의 주요 구성을 나타낸 사시도이다.
1 and 2 are a perspective view and a plan view showing an exhaust gas purifying apparatus having a mixing chamber unit according to an embodiment of the present invention.
3 is a cross-sectional view taken along the line AA shown in Fig.
Fig. 4 is a cross-sectional view taken along the line BB shown in Fig. 2. Fig.
5 is a cross-sectional view taken along the line CC shown in Fig.
FIG. 6 is a perspective view showing a main configuration of the mixing chamber unit shown in FIG. 1; FIG.

이하에서, 본 발명에 따른 실시예들을 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. 그러나, 본 발명이 실시예들에 의해 제한되거나 한정되는 것은 아니다. 각 도면에 제시된 동일한 참조 부호는 동일한 부재를 나타낸다. Hereinafter, embodiments according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to or limited by the embodiments. Like reference symbols in the drawings denote like elements.

도 1과 도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 믹싱 챔버 유닛(100)을 구비한 배기 가스 정화 장치(10)가 도시된 사시도 및 평면도이다.1 and 2 are a perspective view and a plan view showing an exhaust gas purification apparatus 10 having a mixing chamber unit 100 according to an embodiment of the present invention.

도 1과 도 2를 참조하면, 본 발명의 일실시예에 따른 배기 가스 정화 장치(10)는 DOC 유닛(20), SCR 유닛(30), 연결 배관(40), 및 믹싱 챔버 유닛(100)을 포함한다. 1 and 2, an exhaust gas purifying apparatus 10 according to an embodiment of the present invention includes a DOC unit 20, an SCR unit 30, a connecting pipe 40, and a mixing chamber unit 100, .

DOC 유닛(20)은 디젤 산화 촉매(Diesel Oxidation Catalyst, DOC) 방식의 정화 유닛으로서, 고열을 통해 일산화탄소와 탄화수소를 촉매반응을 이용하여 줄여주고, 입자성 물질을 태워주며, 배기 가스 중의 NO2의 비용을 높여줄 수 있다. DOC 유닛(20)의 입구(22)는 디젤 엔진(미도시)에서 배기되는 배기 가스가 유입되도록 디젤 엔진과 연결될 수 있다.DOC unit 20 of the NO 2 in a purification unit of the diesel oxidation catalyst (Diesel Oxidation Catalyst, DOC) scheme, through the high temperature to give carbon monoxide and hydrocarbons reduce, using the catalytic reaction, gives a lift of particulate material, the exhaust gas The cost can be increased. The inlet 22 of the DOC unit 20 can be connected to the diesel engine to allow exhaust gas to be exhausted from the diesel engine (not shown).

SCR 유닛(30)은 선택적 환원촉매(Selective Catalytic Reduction, SCR) 방식의 정화 유닛으로서, 우레아를 이용한 촉매 반응을 통해서 배기 가스 중의 NOX(질소산화물)을 인체에 무해한 질소와 물로 바꿔줄 수 있다. 상기와 같은 DOC 유닛(20)과 SCR 유닛(30)은 서로 나란하게 병렬로 배치될 수 있다. SCR 유닛(30)의 출구(32)는 DOC 유닛(20)과 믹싱 챔버 유닛(100) 및 SCR 유닛(30)에 의해 처리된 배기 가스를 대기 중으로 배출하도록 형성될 수 있다.SCR unit 30 can have selective reduction catalyst (Selective Catalytic Reduction, SCR) as a way the purification unit of the NO X (nitrogen oxides) in the exhaust gas through a catalytic reaction using a urea turn with water and nitrogen is harmless to the human body. The DOC unit 20 and the SCR unit 30 may be arranged in parallel to each other. The outlet 32 of the SCR unit 30 can be configured to exhaust the exhaust gas processed by the DOC unit 20 and the mixing chamber unit 100 and the SCR unit 30 into the atmosphere.

연결 배관(40)은 DOC 유닛(20)에서 처리된 배기 가스를 믹싱 챔버 유닛(100)으로 안내하기 위한 관 형상의 부재로서, 연결 배관(40)의 양단부는 DOC 유닛(20)과 믹싱 챔버 유닛(100)에 연결될 수 있다.The connecting pipe 40 is a tubular member for guiding the exhaust gas processed in the DOC unit 20 to the mixing chamber unit 100. Both ends of the connecting pipe 40 are connected to the DOC unit 20 and the mixing chamber unit 100, 0.0 > 100 < / RTI >

믹싱 챔버 유닛(100)은 SCR 유닛(30)의 단부에 일체로 형성될 수 있다. 상기와 같은 믹싱 챔버 유닛(100)은, 연결 배관(40)에서 전달되는 배기 가스를 우레아와 혼합한 후 SCR 유닛(30)에 전달하는 유닛이다. 믹싱 챔버 유닛(100)의 챔버 하우징에는 노즐 브라켓(112)이 형성될 수 있고, 노즐 브라켓(112)에는 챔버 하우징(110)의 내부에 우레아를 분사하기 위한 분사 노즐(120)이 배치될 수 있다.The mixing chamber unit 100 may be integrally formed at the end of the SCR unit 30. [ The mixing chamber unit 100 as described above is a unit for mixing the exhaust gas delivered from the connection pipe 40 with the urea and then delivering the mixed gas to the SCR unit 30. A nozzle bracket 112 may be formed in the chamber housing of the mixing chamber unit 100 and an injection nozzle 120 may be disposed in the nozzle bracket 112 to inject urea into the chamber housing 110 .

도 3은 도 2에 도시된 A-A선에 따른 단면이 도시된 도면이고, 도 4는 도 2에 도시된 B-B선에 따른 단면이 도시된 도면이며, 도 5는 도 2에 도시된 C-C선에 따른 단면이 도시된 도면이다. 도 6은 도 1에 도시된 믹싱 챔버 유닛(100)의 주요 구성을 나타낸 사시도이다.FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the line AA shown in FIG. 2, FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the line BB shown in FIG. 2, Fig. 6 is a perspective view showing a main structure of the mixing chamber unit 100 shown in FIG.

도 2 내지 도 5를 참조하면, 본 발명의 일실시예에 따른 믹싱 챔버 유닛(100)은 챔버 하우징(110), 분사 노즐(120), 가스 배출관(130), 및 챔버 구획 부재(140)를 포함한다.2 to 5, a mixing chamber unit 100 according to an embodiment of the present invention includes a chamber housing 110, a spray nozzle 120, a gas discharge pipe 130, and a chamber partition member 140 .

챔버 하우징(110)은 SCR 유닛(30)의 일단부에 일체로 형성될 수 있다. 일례로, 챔버 하우징(110)은 SCR 유닛(30)의 하우징에 결합시키거나 SCR 유닛(30)의 하우징을 연장시켜 형성될 수 있다.The chamber housing 110 may be integrally formed at one end of the SCR unit 30. In one example, the chamber housing 110 may be formed by coupling to the housing of the SCR unit 30 or by extending the housing of the SCR unit 30. [

여기서, 챔버 하우징(110)의 내부에는 배기 가스(G1)와 우레아(U)를 혼합시키기 위한 공간이 소정의 크기로 형성될 수 있다. 상기와 같은 챔버 하우징(110)의 내부 공간은 챔버 구획 부재(140)에 의해서 제1 챔버(110a)와 제2 챔버(110b)로 구획될 수 있다. 제1 챔버(110a)는 SCR 유닛(30)의 일단부에 연결된 챔버 하우징(110)의 일단부에 형성될 수 있고, 제2 챔버(110b)는 SCR 유닛(30)과의 사이에 제1 챔버(110a)가 위치되도록 챔버 하우징(110)의 타단부에 형성될 수 있다. Here, a space for mixing the exhaust gas G1 and the urea U may be formed in the chamber housing 110 at a predetermined size. The inner space of the chamber housing 110 may be partitioned into the first chamber 110a and the second chamber 110b by the chamber partition member 140. [ The first chamber 110a may be formed at one end of the chamber housing 110 connected to one end of the SCR unit 30 and the second chamber 110b may be formed at one end of the chamber housing 110 connected to the SCR unit 30. [ And may be formed at the other end of the chamber housing 110 to position the first chamber 110a.

또한, 챔버 하우징(110)의 일측면에는 연결 배관(40)의 단부가 연통되게 연결될 수 있고, 챔버 하우징(110)의 타측면에는 분사 노즐(120)이 배치되는 노즐 브라켓(112)이 형성될 수 있다.A nozzle bracket 112 may be formed at one side of the chamber housing 110 so that the end of the connection pipe 40 may be connected to the nozzle chamber 110 and the spray nozzle 120 may be disposed at the other side of the chamber housing 110 .

분사 노즐(120)은 챔버 하우징(110)의 내부에 우레아(U)를 분사시키는 장치이다. 분사 노즐(120)은 챔버 하우징(110)의 타측면에 형성된 노즐 브라켓(112)의 설치홀에 삽입 고정될 수 있다. 상기와 같은 분사 노즐(120)의 분사 각도 및 분사 위치는 노즐 브라켓(112)에 의해 결정될 수 있다.The injection nozzle 120 is a device for injecting the urea U into the chamber housing 110. The injection nozzle 120 may be inserted and fixed in a mounting hole of the nozzle bracket 112 formed on the other side of the chamber housing 110. The injection angle and the injection position of the injection nozzle 120 may be determined by the nozzle bracket 112.

여기서, 분사 노즐(120)은 후술하는 가스 배출관(130)의 경사부(136)를 향해 우레아(U)를 분사하도록 배치될 수 있다. 또한, 분사 노즐(120)은 배기 가스(G1)의 와류 방향(V)을 향해 연결 배관(40)에서 소정 거리 이격된 위치에 우레아(U)를 분사하도록 배치될 수 있다.Here, the injection nozzle 120 may be arranged to inject the urea U toward the inclined portion 136 of the gas discharge pipe 130, which will be described later. The injection nozzle 120 may be arranged to inject the urea U at a position spaced a predetermined distance from the connecting pipe 40 toward the swirling direction V of the exhaust gas G1.

도 2 내지 도 6을 참조하면, 가스 배출관(130)은 배기 가스(G1)에 우레아(U)를 혼합시킨 혼합 가스(G2)를 SCR 유닛(30)의 일단부로 배출하는 부재이다. 즉, 가스 배출관(130)은 챔버 하우징(110)의 내부에서 SCR 유닛(30)의 일단부로 혼합 가스(G2)를 안내하는 관 형상으로 길게 형성될 수 있다.2 to 6, the gas discharge pipe 130 is a member for discharging the mixed gas G2 in which the urea U is mixed with the exhaust gas G1 to one end of the SCR unit 30. That is, the gas discharge pipe 130 may be formed in a tubular shape to guide the mixed gas G2 from the interior of the chamber housing 110 to one end of the SCR unit 30. [

가스 배출관(130)의 출구부(132)는, SCR 유닛(30)의 일단부와 동일한 크기로 형성될 수 있고, SCR 유닛(30)의 일단부에 연통되게 연결될 수 있다. 가스 배출관(130)의 입구부(134)는, 가스 배출관(130)의 출구부(132)보다 작은 크기로 형성될 수 있고, 챔버 하우징(110)의 내부 공간에 배치될 수 있다. 상기와 같은 가스 배출관(130)의 입구부(134)는 챔버 구획 부재(140)의 중앙부에 관통되게 배치되어 제2 챔버(110b)에 연통되게 연결될 수 있다.The outlet 132 of the gas discharge pipe 130 may be formed to have the same size as the one end of the SCR unit 30 and may be connected to the one end of the SCR unit 30. The inlet 134 of the gas discharge pipe 130 may be smaller than the outlet 132 of the gas discharge pipe 130 and may be disposed in the inner space of the chamber housing 110. The inlet 134 of the gas discharge pipe 130 may be connected to the second chamber 110b so as to pass through the center of the chamber dividing member 140. [

가스 배출관(130)은 제1 챔버(110a)의 중심부를 관통하도록 챔버 하우징(110)에 배치될 수 있다. 한편, 연결 배관(40)에서 챔버 하우징(110)의 제1 챔버(110a)로 유입된 배기 가스(G1)는, 가스 배출관(130)을 중심으로 선회되면서 제1 챔버(110a)의 내부 둘레를 따라 와류 형상으로 유동될 수 있다. 따라서, 제1 챔버(110a)의 내부에서 배기 가스(G1)가 유동되는 공간은, 가스 배출관(130)의 외측면과 챔버 하우징(110)의 내측면 사이에 도우넛(doughnut) 형상으로 형성될 수 있다.The gas discharge pipe 130 may be disposed in the chamber housing 110 so as to pass through the center of the first chamber 110a. The exhaust gas G1 flowing into the first chamber 110a of the chamber housing 110 from the connection pipe 40 is circulated around the gas discharge pipe 130 and flows through the inner circumference of the first chamber 110a It can flow in a vortex shape. The space through which the exhaust gas G1 flows in the first chamber 110a may be formed in a donut shape between the outer surface of the gas discharge pipe 130 and the inner surface of the chamber housing 110 have.

도 3과 도 6에 도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 가스 배출관(130)은 출구부(132)에서 입구부(134)로 갈수록 통로가 좁아지는 깔때기 형상으로 형성될 수 있다.3 and 6, the gas discharge pipe 130 according to the present embodiment may be formed in a funnel shape in which the passage becomes narrower from the outlet 132 to the inlet 134.

여기서, 가스 배출관(130)의 입구부(134)는, 동일 직경의 관 형상으로 길게 형성될 수 있고, 챔버 구획 부재(140)의 중앙부에 관통되게 삽입될 수 있다. 상기와 같은 가스 배출관(130)의 입구부(134)에는 가이드 베인(138)이 형성될 수 있다. 가이드 베인(138)은 제2 챔버(110b)에서 유입되는 혼합 가스(G2)를 SCR 유닛(30)으로 원활하게 안내하기 위한 구성이다.The inlet portion 134 of the gas discharge pipe 130 may be formed to be long in the shape of a tube of the same diameter and may be inserted into the center portion of the chamber partition member 140 so as to be penetrated. A guide vane 138 may be formed at the inlet 134 of the gas discharge pipe 130. The guide vane 138 is a structure for smoothly guiding the mixed gas G2 flowing into the second chamber 110b to the SCR unit 30. [

가이드 베인(138)은 십자형으로 교차된 형상으로 가스 배출관(130)의 입구부(134)에 배치될 수 있다. 가이드 베인(138)은 가스 배출관(130)의 입구부(134)에 출구부(132)를 향해 길게 형성될 수 있지만, 배기 가스(G1)의 와류 유동이 직선 유동으로 변경되지 않도록 가이드 베인(138)의 길이가 설정 길이 이하로 형성될 수 있다. 다만, 본 실시예에 따른 가이드 베인(138)의 배치 구조, 형상 및 개수는 믹싱 챔버 유닛(100)의 설계 조건 및 상황에 따라 다양하게 변형될 수 있다. The guide vanes 138 may be disposed at the inlet portion 134 of the gas discharge pipe 130 in a crossed shape. The guide vane 138 may be formed to be long toward the outlet portion 132 at the inlet portion 134 of the gas exhaust pipe 130 but may be formed in the guide vane 138 such that the swirling flow of the exhaust gas G1 is not changed into a rectilinear flow. May be formed to be equal to or shorter than the set length. However, the layout structure, shape and number of the guide vanes 138 according to the present embodiment can be variously modified according to the design conditions and conditions of the mixing chamber unit 100.

그리고, 가스 배출관(130)의 출구부(132)는 챔버 하우징(110)의 내부를 향해서 볼록한 형상의 곡선 단면으로 형성될 수 있다. 따라서, 가스 배출관(130)의 출구부(132)와 챔버 하우징(110)의 내측면 사이에 형성되는 공간이 매우 작아지거나 생략되므로, 가스 배출관(130)의 출구부(132)와 챔버 하우징(110)의 내측면 사이의 공간에 잔류되는 배기 가스(G1)의 잔류량도 감소될 수 있다.The outlet 132 of the gas discharge pipe 130 may be formed in a curved section of a convex shape toward the inside of the chamber housing 110. The space formed between the outlet 132 of the gas discharge pipe 130 and the inner surface of the chamber housing 110 is very small or omitted so that the outlet 132 of the gas discharge pipe 130 and the chamber housing 110 The residual amount of the exhaust gas G1 remaining in the space between the inner surfaces of the exhaust gas G1 and the exhaust gas G2 can be reduced.

또한, 가스 배출관(130)의 입구부(134)와 출구부(132)의 사이에는 경사지게 형성된 경사부(136)가 형성될 수 있다. 경사부(136)는 입구부(134)에서 출구부(132)로 갈수록 직경이 확장되는 구조로 형성될 수 있다.An inclined portion 136 formed at an angle may be formed between the inlet portion 134 and the outlet portion 132 of the gas discharge pipe 130. The inclined portion 136 may have a structure in which the diameter increases from the inlet portion 134 to the outlet portion 132.

도 3 내지 도 6을 참조하면, 챔버 구획 부재(140)는, 챔버 하우징(110)의 내부 공간을 제1 챔버(110a)와 제2 챔버(110b)로 구획하는 부재로서, 혼합 가스(G2)를 제1 챔버(110a)에서 제2 챔버(110b)로 통과시킬 수 있고, 혼합 가스(G2)의 통과시 혼합 가스(G2)의 와류 유동 상태를 유지할 수 있다.3 to 6, the chamber partitioning member 140 is a member for partitioning the internal space of the chamber housing 110 into the first chamber 110a and the second chamber 110b, Can be passed from the first chamber 110a to the second chamber 110b and the swirling flow of the mixed gas G2 can be maintained when the mixed gas G2 passes.

여기서, 챔버 하우징(110)의 내부 공간은 SCR 유닛(30)에서 멀어지는 방향을 따라 제1 챔버(110a)와 제2 챔버(110b)가 순차적으로 배치될 수 있고, 제1 챔버(110a)와 제2 챔버(110b)는 챔버 구획 부재(140)를 기준으로 챔버 구획 부재(140)의 양측에 서로 마주보게 형성될 수 있다. 제1 챔버(110a)에는 연결 배관(40)과 분사 노즐(120)이 연결될 수 있고, 제2 챔버(110b)에는 가스 배출관(130)의 입구부(134)가 연결될 수 있다.The first chamber 110a and the second chamber 110b may be sequentially arranged in the inner space of the chamber housing 110 along the direction away from the SCR unit 30. The first chamber 110a and the second chamber 110b may be sequentially arranged. The two chambers 110b may be formed facing each other on both sides of the chamber partition member 140 with respect to the chamber partition member 140. [ The connection pipe 40 and the injection nozzle 120 may be connected to the first chamber 110a and the inlet portion 134 of the gas discharge pipe 130 may be connected to the second chamber 110b.

도 3 내지 도 6에 도시된 바와 같이, 챔버 구획 부재(140)는 구획 패널(142), 배출 홀부(144), 가이드 홀부(146), 및 가이드 날개(148)를 포함할 수 있다.3 to 6, the chamber partitioning member 140 may include a partition panel 142, a discharge hole 144, a guide hole 146, and a guide vane 148.

구획 패널(142)은 챔버 하우징(110)의 내부 공간을 제1 챔버(110a)와 제2 챔버(110b)로 구획하기 위한 부재이다. 구획 패널(142)은 챔버 하우징(110)의 내측면과 구획 패널(142)의 가장자리부가 밀착되도록 챔버 하우징(110)의 내부에 배치될 수 있다. 따라서, 구획 패널(142)은 챔버 하우징(110)의 내부 공간의 단면 형상에 대응되는 판 형상으로 형성될 수 있다.The partition panel 142 is a member for partitioning the internal space of the chamber housing 110 into the first chamber 110a and the second chamber 110b. The partition panel 142 may be disposed inside the chamber housing 110 such that the inner surface of the chamber housing 110 and the edge of the partition panel 142 are in close contact with each other. Accordingly, the partition panel 142 may be formed in a plate shape corresponding to the sectional shape of the inner space of the chamber housing 110. [

배출 홀부(144)는 구획 패널(142)의 중앙부에 홀 형상으로 형성될 수 있다. 상기와 같은 배출 홀부(144)에는 가스 배출관(130)의 입구부(134)가 연통되게 연결될 수 있다.따라서, 배출 홀부(144)는 제2 챔버(110b) 내의 혼합 가스(G2)를 가스 배출관(130)으로 배출시킬 수 있다. The discharge hole 144 may be formed in a hole shape at the center of the partition panel 142. The discharge hole 144 may be connected to the inlet 134 of the gas discharge pipe 130. The discharge hole 144 may discharge the mixed gas G2 in the second chamber 110b, (130).

가이드 홀부(146)는 구획 패널(142)에 홀 형상으로 형성될 수 있다. 상기와 같은 가이드 홀부(146)는 제1 챔버(110a)에서 제2 챔버(110b)로 혼합 가스(G2)를 안내하는 역할을 수행할 수 있다. 여기서, 가이드 홀부(146)는 배출 홀부(144)를 중심으로 구획 패널(142)의 둘레를 따라 복수개가 서로 이격되게 배치될 수 있다.The guide hole portion 146 may be formed in a hole shape in the partition panel 142. The guide hole 146 may guide the mixed gas G2 from the first chamber 110a to the second chamber 110b. Here, the guide hole 146 may be disposed so that a plurality of the guide holes 146 are spaced from each other along the circumference of the partition panel 142 around the discharge hole 144.

이하, 본 실시예에서는 가이드 홀부(146)가 호 형상의 슬릿 구조로 형성되어 배출 홀부(144)를 중심으로 구획 패널(142)에 방사형으로 배치된 것으로 설명한다. 하지만, 이에 한정되는 것은 아니며, 가이드 홀부(146)는 믹싱 챔버 유닛(100)의 설계 조건 및 상황에 따라 구획 패널(142)에 다양한 형상과 배치 구조로 형성될 수 있다.Hereinafter, in the present embodiment, it is assumed that the guide hole portion 146 is formed as a slit-like arc shape and radially arranged on the partition panel 142 with the discharge hole portion 144 as a center. However, the present invention is not limited thereto, and the guide hole 146 may be formed in various shapes and arrangements in the partition panel 142 according to the design conditions and conditions of the mixing chamber unit 100.

가이드 날개(148)는 가이드 홀부(146)에 경사지게 형성될 수 있다. 즉, 가이드 날개(148)는 가이드 홀부(146)를 통과하는 혼합 가스(G2)를 와류시킬 수 있다. 상기와 같은 가이드 날개(148)는, 가이드 홀부(146)에서 혼합 가스(G2)의 와류 방향으로 제2 챔버(110b)를 향해 경사지게 돌출될 수 있다. 또한, 가이드 날개(148)는 복수개의 가이드 홀부(146)에 각각 배치될 수 있다. 따라서, 혼합 가스(G2)는 가이드 홀부(146)를 통과하는 과정에서 가이드 날개(148)에 의해서 와류 유동되는 상태를 계속 유지할 수 있다.The guide wing 148 may be formed to be inclined in the guide hole 146. [ That is, the guide vane 148 can vortex the mixed gas G2 passing through the guide hole portion 146. [ The guide wing 148 may protrude obliquely toward the second chamber 110b in the direction of vortex flow of the mixed gas G2 in the guide hole 146. [ The guide vanes 148 may be disposed in the guide holes 146, respectively. Therefore, the mixed gas G2 can keep the vortical flow state by the guide vane 148 in the process of passing through the guide hole portion 146.

한편, 챔버 구획 부재(140)는, 제1 챔버(110a) 또는 제2 챔버(110b)의 내부 압력이 설정 압력 이상으로 증가되는 것을 방지하는 과압 방지 홀부(149)를 더 포함할 수 있다.과압 방지 홀부(149)는 구획 패널(142)의 가장자리부에 홈 형상 또는 홀 형상으로 형성될 수 있다. The chamber dividing member 140 may further include an overpressure prevention hole 149 for preventing the internal pressure of the first chamber 110a or the second chamber 110b from increasing beyond the set pressure. The prevention hole 149 may be formed in the shape of a groove or a hole in the edge portion of the partition panel 142.

여기서, 과압 방지 홀부(149)는 가이드 홀부(146)보다 좁거나 작은 크기로 형성될 수 있다. 따라서, 제1 챔버(110a) 내의 혼합 가스(G2)는 우선적으로 과압 방지 홀부(149)보다 가이드 홀부(146)를 통해 제2 챔버(110b)로 유동될 수 있다. Here, the overpressure prevention hole 149 may be narrower or smaller than the guide hole 146. Therefore, the mixed gas G2 in the first chamber 110a can be more preferentially flowed into the second chamber 110b than the overpressure prevention hole 149 through the guide hole 146. [

그리고, 과압 방지 홀부(149)는 구획 패널(142)의 둘레를 따라 구획 패널(142)의 가장자리부에 복수개가 서로 이격되게 배치될 수 있다. 이때, 복수개의 과압 방지 홀부(149)는, 혼합 가스(G2)의 와류 방향(V)으로 분사 노즐(120)의 배치 위치보다 전방에 위치할 수 있다. 상기와 같이 과압 방지 홀부(149)가 배치되면, 제1 챔버(110a)에 유입된 배기 가스(G1)가 분사 노즐(120)의 우레아(U)와 혼합되기 이전에 과압 방지 홀부(149)를 통해서 제2 챔버(110b)로 유동되는 현상을 최소화시킬 수 있다.The overpressure prevention hole 149 may be disposed on the edge of the partition panel 142 along the periphery of the partition panel 142 so as to be spaced apart from each other. At this time, the plurality of overpressure prevention hole portions 149 may be located forward of the arrangement position of the injection nozzle 120 in the swirling direction V of the mixed gas G2. When the overpressure prevention hole 149 is disposed as described above, the overpressure prevention hole 149 is formed before the exhaust gas G1 flowing into the first chamber 110a is mixed with the urea U of the injection nozzle 120 The second chamber 110b can be minimized.

도 2 내지 도 6를 참조하면, 본 발명의 일실시예에 따른 믹싱 챔버 유닛(100)은, 연결 배관(40)에서 유입되는 배기 가스(G1)를 가스 배출관(130)을 중심으로 제1 챔버(110a)의 내부에서 와류를 형성하는 와류 형성 가이드(150)를 더 포함할 수 있다.2 through 6, the mixing chamber unit 100 according to an embodiment of the present invention is configured to mix the exhaust gas G1 flowing in the connecting pipe 40 with the gas And a vortex formation guide 150 that forms a vortex in the interior of the vortex 110a.

와류 형성 가이드(150)는 연결 배관(40)을 연결하기 위한 챔버 하우징(110)의 일측에 배치될 수 있다. 따라서, 와류 형성 가이드(150)는, 연결 배관(40)의 단부와 챔버 하우징(110)을 연통되게 연결하는 기능을 수행할 수 있고, 연결 배관(40)에서 제1 챔버(110a)의 내부로 유입되는 배기 가스(G1)를 원하는 와류 방향(V)으로 와류를 형성하는 기능도 수행할 수 있다.The vortex formation guide 150 may be disposed at one side of the chamber housing 110 for connecting the connection pipe 40. The vortex formation guide 150 may function to connect the end of the connection pipe 40 and the chamber housing 110 in a communicative manner and may be connected to the inside of the first chamber 110a It is also possible to perform the function of forming a vortex in the desired vortex direction V in the exhaust gas G1.

예를 들면, 와류 형성 가이드(150)는 관 연결부(152) 및 와류 형성부(154)를 포함할 수 있다.For example, the vortex forming guide 150 may include a tube connecting portion 152 and a vortex forming portion 154.

관 연결부(152)는 연결 배관(40)의 단부와 연결되는 구조로 형성될 수 있다. 관 연결부(152)는 챔버 하우징(110)의 일측에 관통되게 배치될 수 있다. 즉, 관 연결부(152)는 연결 배관(40)의 단부에 대응하는 관 형상으로 형성될 수 있다.The pipe connection portion 152 may be formed in a structure connected to the end portion of the connection pipe 40. The pipe connection part 152 may be disposed to penetrate to one side of the chamber housing 110. That is, the pipe connection portion 152 may be formed in a pipe shape corresponding to the end portion of the connection pipe 40.

와류 형성부(154)는 제1 챔버(110a)에 유입되는 배기 가스(G1)를 설정된 와류 방향(V)으로 와류를 형성시키는 부재이다. 와류 형성부(154)는 관 연결부(152)에서 제1 챔버(110a)의 내부로 길게 연장된 형상으로 형성될 수 있다.The vortex forming part 154 is a member for forming the vortex in the set vortex direction V with the exhaust gas G1 flowing into the first chamber 110a. The vortex forming part 154 may be formed to extend from the pipe connecting part 152 to the inside of the first chamber 110a.

여기서, 와류 형성부(154)가 관 연결부(152)로부터 가스 배출관(130)을 향해 관 형상으로 길게 연장될 수 있다. 상기와 같은 와류 형성부(154)의 단부는 가스 배출관(130)의 표면에 밀착되거나 가스 배출관(130)의 표면에 연결될 수 있다.Here, the vortex forming part 154 may be elongated in a tubular shape from the pipe connecting part 152 toward the gas discharge pipe 130. The end of the vortex forming part 154 may be in close contact with the surface of the gas discharge pipe 130 or may be connected to the surface of the gas discharge pipe 130.

그리고, 와류 형성부(154)의 일측에는 배기 가스(G1)를 제1 챔버(110a)의 내부에 와류 방향(V)으로 토출하기 위한 토출구(156)가 형성될 수 있다. 즉, 토출구(156)는, 관 연결부(152)로 유입되는 배기 가스(G1)를 가스 배출관(130)의 표면으로 배출하는 구조로 형성될 수 있으며, 가스 배출관(130)을 중심으로 배기 가스(G1)를 선회시켜 배기 가스(G1)의 와류를 형성하는 구조로 형성될 수 있다.A discharge port 156 may be formed at one side of the vortex forming portion 154 to discharge the exhaust gas G1 in the first chamber 110a in the vortex direction V. [ That is, the discharge port 156 may be configured to discharge the exhaust gas G1 flowing into the pipe connecting portion 152 to the surface of the gas discharge pipe 130, and the exhaust gas G1 may be discharged around the gas discharge pipe 130 G1 to swirl to form a vortex of the exhaust gas G1.

예를 들면, 와류 형성부(154)는 단부에 토출구가 형성된 관 형상으로 관 연결부(152)에서 제1 챔버(110a) 내의 가스 배출관(130)을 향해 와류 방향(V)으로 경사지게 돌출될 수 있다. 또는, 와류 형성부(154)는 단부가 밀폐된 관 형상으로 관 연결부(152)에서 제1 챔버(110a) 내의 가스 배출관(130)을 향해 돌출될 수 있고, 와류 형성부(154)의 단부 측면에는 와류 방향(V)을 향해 토출구(156)가 형성될 수 있다. 상기와 다르게, 와류 형성부(154)는 관 연결부(152)에서 제1 챔버(110a) 내의 가스 배출관(130)을 향해 와류 방향(V)으로 경사지게 연장된 배플(baffle) 구조로 형성될 수도 있다. 이하, 본 실시예에서는, 와류 형성부(154)가 가스 배출관(130)의 표면까지 관 형상으로 길게 연장되고, 와류 형성부(154)의 일측에 와류 방향(V)으로 토출구(156)가 형성된 것으로 설명한다.For example, the vortex forming portion 154 may be projected obliquely in the vortex direction V toward the gas discharge tube 130 in the first chamber 110a at the tube connecting portion 152 in the form of a tube having an outlet at an end portion thereof . Alternatively, the vortex forming portion 154 may protrude toward the gas discharge tube 130 in the first chamber 110a at the tube connecting portion 152 at the end in the form of a closed tube, and the end side surface of the vortex forming portion 154 The discharge port 156 may be formed toward the vortex direction V. The vortex forming portion 154 may be formed in a baffle structure extending obliquely in the vortex direction V toward the gas discharge tube 130 in the first chamber 110a in the pipe connecting portion 152 . In this embodiment, the vortex forming portion 154 is extended to the surface of the gas discharge pipe 130 in a tubular shape, and the discharge port 156 is formed in one side of the vortex forming portion 154 in the vortex direction V .

상기와 같이 구성된 본 발명의 일실시예에 따른 배기 가스 정화 장치(10)의 믹싱 챔버 유닛(100)에 대한 작동을 살펴보면 다음과 같다.The operation of the exhaust gas purifying apparatus 10 according to an embodiment of the present invention with respect to the mixing chamber unit 100 will now be described.

먼저, DOC 유닛(20)이 배기 가스(G1)를 1차적으로 정화시키고, 연결 배관(40)은 DOC 유닛(20)에 의해 정화된 배기 가스(G1)를 믹싱 챔버 유닛(100)으로 안내한다.The DOC unit 20 first purifies the exhaust gas G1 and the connection pipe 40 guides the exhaust gas G1 purified by the DOC unit 20 to the mixing chamber unit 100 .

상기와 같은 배기 가스(G1)는 연결 배관(40)과 연결된 와류 형성 가이드(150)를 통해 챔버 하우징(110)의 제1 챔버(110a)로 유동된다.The exhaust gas G1 as described above flows into the first chamber 110a of the chamber housing 110 through the vortex forming guide 150 connected to the connection pipe 40. [

구체적으로 설명하면, 배기 가스(G1)는, 연결 배관(40)에서 와류 형성 가이드(150)의 관 연결부(152)으로 유동된 후 와류 형성 가이드(150)의 와류 형성부(154)를 따라 제1 챔버(110a)의 내부에 와류 방향(V)으로 토출된다. 이때, 배기 가스(G1)는 가스 배출관(130)을 중심으로 가스 배출관(130)의 표면을 따라 선회되면서 제1 챔버(110a)의 내부에 와류 형상으로 유동된다.Specifically, the exhaust gas G1 flows from the connecting pipe 40 to the pipe connecting portion 152 of the vortex forming guide 150, and then flows into the vortex forming portion 154 of the vortex forming guide 150 along the vortex forming portion 154 (V) in the interior of the first chamber 110a. At this time, the exhaust gas G1 is swirled along the surface of the gas discharge pipe 130 around the gas discharge pipe 130, and flows in a vortex shape inside the first chamber 110a.

배기 가스(G1)가 제1 챔버(110a)의 내부에 유입되면, 분사 노즐(120)이 우레아(U)를 제1 챔버(110a)의 내부에 분사하여 배기 가스(G1)와 우레아(U)를 혼합한다. 이때, 배기 가스(G1)는 우레아(U)와 섞이면서 제1 챔버(110a)의 내부에 와류 유동한다.When the exhaust gas G1 flows into the first chamber 110a, the injection nozzle 120 injects the urea U into the first chamber 110a to discharge the exhaust gas G1 and the urea U, . At this time, the exhaust gas G1 flows into the interior of the first chamber 110a while being mixed with the urea U.

배기 가스(G1)와 우레아(U)가 혼합된 혼합 가스(G2)는, 제1 챔버(110a)의 내부에서 가스 배출관(130)을 중심으로 와류되면서 챔버 구획 부재(140)의 가이드 홀부(146)를 통해 제2 챔버(110b)로 유동된다.The mixed gas G2 in which the exhaust gas G1 and the urea U are mixed flows into the guide hole portion 146 of the chamber partition member 140 while being swirled around the gas discharge pipe 130 in the first chamber 110a To the second chamber 110b.

그리고, 가이드 홀부(146)를 통과하는 혼합 가스(G2)는, 챔버 구획 부재(140)의 가이드 날개(148)에 의해 와류 유동되면서 제2 챔버(110b)의 내부로 유입된다. 즉, 혼합 가스(G2)는 챔버 구획 부재(140)의 가이드 홀부(146)와 가이드 날개(148)에 의해서 와류 유동 상태를 안정적으로 유지하면서 제1 챔버(110a)에서 제2 챔버(110b)로 유동된다.The mixed gas G2 passing through the guide hole 146 flows into the second chamber 110b while being swirled by the guide vanes 148 of the chamber partition member 140. [ That is, the mixed gas G2 is supplied from the first chamber 110a to the second chamber 110b while stably maintaining the eddy current state by the guide hole portion 146 and the guide vane 148 of the chamber partition member 140 Flow.

상기와 같이 제2 챔버(110b)로 유입된 혼합 가스(G2)는, 제1 챔버(110a) 내의 와류 방향과 동일한 방향으로 계속 와류 유동되면서 챔버 구획 부재(140)의 배출 홀부(144)에 연결된 가스 배출관(130)의 입구부(134)로 유입된다. The mixed gas G2 flowing into the second chamber 110b is continuously vortically flown in the same direction as the swirl direction in the first chamber 110a and is connected to the discharge hole 144 of the chamber partition member 140 And then flows into the inlet 134 of the gas discharge pipe 130.

가스 배출관(130)의 경사부(136)는 입구부(134)로 유입되는 혼합 가스(G2)의 유동을 안내하여 혼합 가스(G2)의 유동 단면적을 점진적으로 확장시키고, 가스 배출관(130)의 출구부(132)는 SCR 유닛(30)의 일단부의 전체 면적에 혼합 가스(G2)를 균일하게 배출시킨다.The inclined portion 136 of the gas discharge pipe 130 guides the flow of the mixed gas G2 flowing into the inlet portion 134 to gradually increase the flow cross sectional area of the mixed gas G2, The outlet portion 132 uniformly discharges the mixed gas G2 to the entire area of one end of the SCR unit 30. [

한편, 가스 배출관(130)의 입구부(134)로 유입된 혼합 가스(G2)는, 가스 배출관(130)의 입구부(134)에 형성된 가이드 베인(138)에 의해서 가스 배출관(130)의 출구부(132)로 유동 방향이 전환된다.The mixed gas G2 flowing into the inlet 134 of the gas discharge pipe 130 is discharged to the outlet of the gas discharge pipe 130 by the guide vane 138 formed at the inlet 134 of the gas discharge pipe 130. [ (132).

다만, 가이드 베인(138)이 가스 배출관(130)의 입구부(134)에 설정 길이 이상으로 길게 형성하지 않음으로써, 혼합 가스(G2)가 가스 배출관(130)의 입구부(134)에서 출구부(132)를 향해 선형의 층류를 형성하지 않고, 그 대신에 가스 배출관(130)의 입구부(134)에서 출구부(132)를 향해 선회하면서 유동하는 나선형의 와류를 형성할 수 있다. 따라서, 혼합 가스(G2)는 가스 배출관(130)을 따라 SCR 유닛(30)의 일단부 전체에 균일하게 유동될 수 있다.Since the guide vane 138 is not formed longer than the predetermined length in the inlet 134 of the gas discharge pipe 130, the mixed gas G2 is discharged from the inlet 134 of the gas discharge pipe 130 to the outlet 134 of the gas discharge pipe 130, It is possible to form a spiral vortex that flows and circulates from the inlet portion 134 of the gas discharge pipe 130 toward the outlet portion 132 instead of forming a linear laminar flow toward the outlet portion 132 of the gas discharge pipe 130. Therefore, the mixed gas G2 can uniformly flow along one end of the SCR unit 30 along the gas discharge pipe 130. [

이상과 같이 본 발명의 실시예에서는 구체적인 구성 요소 등과 같은 특정 사항들과 한정된 실시예 및 도면에 의해 설명되었으나 이는 본 발명의 보다 전반적인 이해를 돕기 위해서 제공된 것일 뿐, 본 발명은 상기의 실시예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 분야에서 통상적인 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다. 따라서, 본 발명의 사상은 설명된 실시예에 국한되어 정해져서는 아니 되며, 후술하는 청구범위뿐 아니라 이 청구범위와 균등하거나 등가적 변형이 있는 모든 것들은 본 발명 사상의 범주에 속한다고 할 것이다. Although the present invention has been described in connection with what is presently considered to be practical exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, And various modifications and changes may be made thereto without departing from the scope of the present invention. Accordingly, the spirit of the present invention should not be construed as being limited to the embodiments described, and all of the equivalents or equivalents of the claims, as well as the claims set forth below, fall within the scope of the present invention.

10: 배기 가스 정화 장치
20: DOC 유닛
30: SCR 유닛
40: 연결 배관
100: 믹싱 챔버 유닛
110: 챔버 하우징
110a: 제1 챔버
110b: 제2 챔버
120: 분사 노즐
130: 가스 배출관
140: 챔버 구획 부재
150: 와류 형성 가이드
G1: 배기 가스
G2: 혼합 가스
U: 우레아
10: Exhaust gas purifier
20: DOC unit
30: SCR unit
40: Connection piping
100: Mixing chamber unit
110: chamber housing
110a: first chamber
110b: second chamber
120: injection nozzle
130: gas discharge pipe
140: chamber partition member
150: vortex formation guide
G1: Exhaust gas
G2: Mixed gas
U: Urea

Claims (17)

SCR 유닛에 유입되는 배기 가스에 우레아를 혼합시키는 배기 가스 정화 장치의 믹싱 챔버 유닛에 있어서,
SCR 유닛의 일단부에 일체로 형성되고, 일측에 상기 배기 가스를 안내하는 연결 배관이 연결되는 챔버 하우징; 상기 챔버 하우징의 내부로 상기 우레아를 분사시키도록 상기 챔버 하우징의 타측에 배치된 분사 노즐; 상기 우레아와 상기 배기 가스의 혼합 가스를 상기 SCR 유닛으로 배출하도록 상기 SCR 유닛의 일단부에 출구부가 연결됨과 아울러 상기 챔버 하우징의 내부 공간에 입구부가 배치된 가스 배출관; 상기 챔버 하우징의 내부 공간을 상기 SCR 유닛에서 멀어지는 방향으로 제1 챔버와 제2 챔버로 구획하도록 상기 챔버 하우징의 내부에 배치되고, 상기 제2 챔버에 연통되게 연결된 상기 가스 배출관의 입구부가 중앙부에 관통되게 배치되며, 상기 혼합 가스를 와류시키면서 상기 제1 챔버에서 상기 제2 챔버로 안내하는 챔버 구획 부재; 및 상기 연결 배관을 연결하기 위한 상기 챔버 하우징의 일측에 배치되고, 상기 연결 배관에서 유입되는 상기 배기 가스를 상기 제1 챔버의 내부에서 상기 가스 배출관을 중심으로 와류시키는 와류 형성 가이드;를 포함하며,
상기 제1 챔버에는 상기 연결 배관과 상기 분사 노즐이 연결되고, 상기 제2 챔버에는 가스 배출관의 입구부가 연결되며,
상기 가스 배출관은 상기 SCR 유닛과 상기 제2 챔버를 연결시키도록 상기 챔버 하우징의 내부에 상기 제1 챔버의 중심부를 관통하는 형상으로 배치되며,
상기 가스 배출관의 출구부는 상기 SCR 유닛의 일단부와 동일한 크기로 형성되어 상기 SCR 유닛의 일단부에 연결되고, 상기 가스 배출관의 입구부는 상기 가스 배출관의 출구부보다 작은 크기로 형성되어 상기 챔버 구획 부재의 중앙부에 관통되게 배치되며,
상기 와류 형성 가이드는, 상기 챔버 하우징의 일측에 관통되게 배치되고, 상기 연결 배관의 단부와 연결되는 관 연결부; 및 상기 배기 가스가 상기 제1 챔버의 내부에서 설정 방향으로 와류를 형성하도록 상기 관 연결부에서 상기 제1 챔버의 내부로 길게 연장되어 상기 가스 배출관의 표면에 단부가 배치되는 와류 형성부;를 포함하며,
상기 관 연결부는 상기 연결 배관의 단부에 대응하는 관 형상으로 형성되고, 상기 와류 형성부는 상기 관 연결부로부터 상기 가스 배출관을 향해 관 형상으로 길게 연장되며,
상기 와류 형성부의 일측에는, 상기 관 연결부로 유입되는 상기 배기 가스가 상기 가스 배출관을 중심으로 설정 방향으로 선회되는 와류를 형성하도록 상기 가스 배출관의 표면에 상기 배기 가스를 설정 방향으로 토출하기 위한 토출구가 형성되며,
상기 배기 가스는, 상기 제1 챔버의 내부에서 상기 와류 형성 가이드에 의해 상기 가스 배출관을 중심으로 선회되면서 상기 제1 챔버의 내부 둘레를 따라 와류 형상으로 유동되고, 상기 분사 노즐에서 분사되는 상기 우레아와 혼합되며,
상기 배기 가스와 상기 우레아가 혼합된 상기 혼합 가스는, 상기 와류 형성 가이드에 의해서 상기 제1 챔버와 상기 가스 배출관 사이에서 와류 형상으로 선회되면서 상기 SCR 유닛과 멀어지는 방향으로 유동되고, 상기 챔버 구획 부재에 의해 상기 제2 챔버로 유동되며, 상기 제2 챔버의 내부에서 와류 형상으로 유동되면서 상기 가스 배출관의 내부를 따라 상기 SCR 유닛을 향해 유동되는 것을 특징으로 하는 배기 가스 정화 장치의 믹싱 챔버 유닛.
A mixing chamber unit of an exhaust gas purifying apparatus for mixing urea with an exhaust gas flowing into an SCR unit,
A chamber housing integrally formed at one end of the SCR unit and connected to a connection pipe for guiding the exhaust gas to one side; An injection nozzle disposed on the other side of the chamber housing to inject the urea into the chamber housing; A gas exhaust pipe having an outlet connected to one end of the SCR unit to discharge a mixed gas of the urea and the exhaust gas to the SCR unit and an inlet part disposed in an inner space of the chamber housing; And an inlet portion of the gas discharge pipe communicating with the second chamber is disposed in the chamber housing so as to partition the internal space of the chamber housing into a first chamber and a second chamber in a direction away from the SCR unit, A chamber dividing member disposed in the chamber to guide the mixed gas from the first chamber to the second chamber while swirling the mixed gas; And a vortex formation guide disposed at one side of the chamber housing for connecting the connection pipe and vortexing the exhaust gas flowing in the connection pipe about the gas discharge pipe inside the first chamber,
The connection pipe and the injection nozzle are connected to the first chamber, the inlet of the gas discharge pipe is connected to the second chamber,
Wherein the gas discharge pipe is arranged in a shape penetrating the center of the first chamber inside the chamber housing to connect the SCR unit and the second chamber,
The outlet of the gas discharge pipe is formed to have the same size as the one end of the SCR unit and connected to one end of the SCR unit. The inlet of the gas discharge pipe is formed to be smaller than the outlet of the gas discharge pipe, And is disposed so as to penetrate through the central portion thereof,
The vortex formation guide may include a pipe connection portion that is disposed to pass through one side of the chamber housing and is connected to an end portion of the connection pipe; And a vortex forming portion extending long from the pipe connecting portion to the inside of the first chamber so that the exhaust gas forms a vortex in a set direction inside the first chamber and an end portion disposed on the surface of the gas outlet pipe ,
Wherein the tube connection part is formed in a tubular shape corresponding to an end of the connection pipe and the vortex forming part is elongated in a pipe shape from the pipe connection part toward the gas discharge pipe,
A discharge port for discharging the exhaust gas in a setting direction is formed on one surface of the gas discharge pipe so that the exhaust gas flowing into the pipe connecting portion forms a vortex turning around the gas discharge pipe in a set direction Lt; / RTI &
The exhaust gas flows in a vortex shape along the inner periphery of the first chamber while being swung around the gas discharge pipe by the vortex formation guide in the first chamber, and the urea and the urea injected from the injection nozzle Mixed,
The mixed gas in which the exhaust gas and the urea are mixed flows in a direction away from the SCR unit while being vortically swirled between the first chamber and the gas discharge pipe by the vortex formation guide, Flows into the second chamber and flows in a vortex shape inside the second chamber and flows toward the SCR unit along the inside of the gas discharge pipe.
삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 가스 배출관의 입구부에는, 상기 제2 챔버에서 유입되는 상기 혼합 가스를 상기 SCR 유닛의 일단부에 안내하기 위한 가이드 베인이 형성된 것을 특징으로 하는 배기 가스 정화 장치의 믹싱 챔버 유닛.
The method according to claim 1,
And a guide vane for guiding the mixed gas introduced from the second chamber to one end of the SCR unit is formed at an inlet of the gas discharge pipe.
제1항에 있어서,
상기 가스 배출관은 출구부에서 입구부로 갈수록 통로가 좁아지는 깔때기 형상으로 형성된 것을 특징으로 하는 배기 가스 정화 장치의 믹싱 챔버 유닛.
The method according to claim 1,
Wherein the gas discharge pipe is formed in a funnel shape in which the passage becomes narrower from the outlet portion to the inlet portion.
제5항에 있어서,
상기 가스 배출관의 출구부는, 상기 챔버 하우징의 내측면 사이에 공간이 작게 형성되도록 상기 챔버 하우징의 내부를 향해서 볼록한 형상의 곡선 단면으로 형성된 것을 특징으로 하는 배기 가스 정화 장치의 믹싱 챔버 유닛.
6. The method of claim 5,
Wherein the outlet portion of the gas discharge pipe is formed in a curved cross-section of a convex shape toward the inside of the chamber housing so that a space is formed between the inner side surfaces of the chamber housing.
제5항에 있어서,
상기 분사 노즐은, 상기 가스 배출관의 경사진 표면으로 상기 우레아를 분사함과 아울러 상기 연결 배관에서 상기 배기 가스의 와류 방향으로 이격된 위치에 분사하도록 상기 챔버 하우징에 배치된 것을 특징으로 하는 배기 가스 정화 장치의 믹싱 챔버 유닛.
6. The method of claim 5,
Wherein the injection nozzle is disposed in the chamber housing so as to inject the urea into an inclined surface of the gas discharge pipe and to jet the gas at a position spaced apart from the connection pipe in the direction of the swirling flow of the exhaust gas. Mixing chamber unit of the device.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 와류 형성부의 단부는 상기 가스 배출관의 표면에 밀착되거나 상기 가스 배출관의 표면에 연결된 것을 특징으로 하는 배기 가스 정화 장치의 믹싱 챔버 유닛.
The method according to claim 1,
Wherein the end of the vortex forming part is in close contact with the surface of the gas discharge pipe or connected to the surface of the gas discharge pipe.
제1항, 제4항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 챔버 구획 부재는,
상기 챔버 하우징의 내부 공간을 상기 제1 챔버와 상기 제2 챔버로 구획하도록 상기 챔버 하우징의 내부에 배치되는 구획 패널;
상기 구획 패널의 중앙부에 홀 형상으로 형성되고, 상기 가스 배출관의 입구부가 연결되는 배출 홀부;
상기 제1 챔버에서 상기 제2 챔버로 상기 혼합 가스를 안내하도록 상기 구획 패널에 홀 형상으로 형성된 가이드 홀부; 및
상기 가이드 홀부를 통과하는 상기 혼합 가스가 와류를 형성하도록 상기 가이드 홀부에 경사지게 형성된 가이드 날개;
를 포함하는 것을 특징으로 하는 배기 가스 정화 장치의 믹싱 챔버 유닛.
8. The method according to any one of claims 1 to 7,
Wherein the chamber partitioning member comprises:
A partition panel disposed inside the chamber housing to partition the inner space of the chamber housing into the first chamber and the second chamber;
A discharge hole portion formed in the center of the partition panel in a hole shape and connected to an inlet portion of the gas discharge pipe;
A guide hole formed in the partition panel in a hole shape to guide the mixed gas from the first chamber to the second chamber; And
A guide vane slantingly formed in the guide hole portion so that the mixed gas passing through the guide hole portion forms a vortex;
Wherein the mixing chamber unit comprises a plurality of mixing chambers.
제12항에 있어서,
상기 가이드 날개는, 상기 가이드 홀부에서 상기 혼합 가스의 와류 방향으로 상기 제2 챔버를 향해 경사지게 돌출된 것을 특징으로 하는 배기 가스 정화 장치의 믹싱 챔버 유닛.
13. The method of claim 12,
Wherein the guide vane protrudes obliquely toward the second chamber in the direction of vortex flow of the mixed gas in the guide hole portion.
제12항에 있어서,
상기 가이드 홀부는 상기 구획 패널의 둘레를 따라 상기 배출 홀부를 중심으로 복수개가 서로 이격되게 배치되고,
상기 가이드 날개는 상기 가이드 홀부들에 각각 배치된 것을 특징으로 하는 배기 가스 정화 장치의 믹싱 챔버 유닛.
13. The method of claim 12,
Wherein the guide hole portion is disposed along the periphery of the partition panel so that a plurality of the guide hole portions are spaced from each other around the discharge hole portion,
Wherein the guide vanes are respectively disposed in the guide hole portions of the mixing chamber unit.
제12항에 있어서,
상기 챔버 구획 부재는,
상기 제1 챔버 또는 상기 제2 챔버의 내부 압력이 설정 압력 이상으로 증가되는 것을 방지하도록 상기 구획 패널의 가장자리부에 홈 형상 또는 홀 형상으로 형성된 과압 방지 홀부;
를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 배기 가스 정화 장치의 믹싱 챔버 유닛.
13. The method of claim 12,
Wherein the chamber partitioning member comprises:
An overpressure prevention hole portion formed in a shape of a groove or a hole in an edge portion of the partition panel to prevent an inner pressure of the first chamber or the second chamber from increasing to a set pressure or more;
Further comprising: a mixing chamber unit for mixing the exhaust gas and the exhaust gas.
제15항에 있어서,
상기 과압 방지 홀부는, 상기 가이드 홀부보다 좁거나 작은 크기로 형성되고, 상기 구획 패널의 둘레를 따라 복수개가 서로 이격되게 배치된 것을 특징으로 하는 배기 가스 정화 장치의 믹싱 챔버 유닛.
16. The method of claim 15,
Wherein the overpressure prevention hole portion is formed to be narrower or smaller than the guide hole portion, and a plurality of the overpressure prevention hole portions are spaced from each other along the periphery of the partition panel.
제16항에 있어서,
상기 과압 방지 홀부는, 상기 분사 노즐의 배치 위치보다 상기 혼합 가스의 와류 방향으로 전방에 위치하도록 상기 구획 패널의 가장자리부에 형성된 것을 특징으로 하는 배기 가스 정화 장치의 믹싱 챔버 유닛.
17. The method of claim 16,
Wherein the overpressure prevention hole portion is formed at an edge portion of the partition panel so as to be located forward of the position of the injection nozzle in the direction of vortex of the mixed gas.
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