KR101904685B1

KR101904685B1 - Exposure apparatus and method for the assembly of the same, and device manufacturing method

Info

Publication number: KR101904685B1
Application number: KR1020177021003A
Authority: KR
Inventors: 다카유키 기쿠치; 유야 가와이; 도모히로 구와하라
Original assignee: 가부시키가이샤 니콘
Priority date: 2008-10-15
Filing date: 2009-10-15
Publication date: 2018-10-04
Anticipated expiration: 2029-10-15
Also published as: KR20110069175A; TW201015247A; TWI480706B; CN102187280A; CN102187280B; KR101763859B1; KR20170089986A; JPWO2010044268A1; JP5963122B2; JP2015187752A; JP2014160263A; WO2010044268A1

Abstract

노광 장치 및 이에 부설되는 장치의 구성 각 부의 적어도 일부를 지지하는 전체 프레임 (50) 이 복수의 유닛 (52, 54, 56) 으로 구성된다. 또한, 복수의 유닛 (52, 54, 56) 의 각각이, 예를 들어 조명계 (IOP), 마스크 스테이지를 구동하는 선형 모터의 고정자 (71a, 72a), 및 마스크 반송 장치 (90) 를 지지하고 있다. 이 경우, 복수의 유닛 (52, 54, 56) 으로부터 1 개의 전체 프레임 (50) 을 구축함으로써, 프레임 전체로서 충분한 강도를 갖게 할 수 있다. 따라서, 대형의 노광 장치를 용이하게 조립할 수 있다.The entire frame 50 supporting at least a part of the constituent parts of the exposure apparatus and the apparatus attached thereto is constituted by a plurality of units 52, 54, 56. Each of the plurality of units 52, 54 and 56 supports, for example, the illumination system IOP, the stators 71a and 72a of the linear motor for driving the mask stage, and the mask carrier 90 . In this case, by constructing one whole frame 50 from the plurality of units 52, 54, and 56, it is possible to have sufficient strength as the whole frame. Therefore, a large-sized exposure apparatus can be easily assembled.

Description

TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to an exposure apparatus, an assembly method thereof, and a device manufacturing method.

본 발명은, 노광 장치 및 그 조립 방법, 그리고 디바이스 제조 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는, 예를 들어 액정 표시 소자 등의 평판형의 전자 디바이스 (마이크로디바이스) 를 제조하는 리소그래피 공정에서 사용되는 노광 장치 및 그 조립 방법, 그리고 상기 노광 장치를 사용하는 디바이스 제조 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an exposure apparatus, a method for assembling the same, and a device manufacturing method, and more particularly, to an exposure apparatus used in a lithography process for manufacturing a planar electronic device (microdevice) An assembly method thereof, and a device manufacturing method using the exposure apparatus.

액정 표시 소자 등의 평판형의 전자 디바이스 (마이크로디바이스) 의 제조에 있어서는, 마스크에 형성된 패턴을 감광성 기판 상에 전사하는 포토리소그래피의 방법이 이용되고 있다. 이 포토리소그래피의 방법을 사용한 제조 공정에서는, 마스크가 2 차원 평면 내에서 이동하는 마스크 스테이지에 탑재되어 있고, 그 마스크에 형성된 패턴을, 투영 광학계를 통해 적어도 2 차원 평면 내에서 이동하는 기판 스테이지에 탑재되어 있는 감광성 기판 상에 투영하는 투영 노광 장치가 이용되고 있다 (예를 들어, 특허문헌 1 참조).BACKGROUND ART [0002] In the production of flat plate electronic devices (microdevices) such as liquid crystal display devices, photolithography methods for transferring a pattern formed on a mask onto a photosensitive substrate have been used. In this manufacturing process using the photolithography method, a mask is mounted on a mask stage that moves in a two-dimensional plane, and a pattern formed on the mask is mounted on a substrate stage which moves in at least two-dimensional plane through a projection optical system (For example, refer to Patent Document 1).

최근, 액정 표시 소자를 비롯한 평판형의 전자 디바이스 (마이크로디바이스) 가 대형화되고 있다. 이에 따라, 마스크 및 기판 (그것들과 함께 마스크 스테이지 및 기판 스테이지) 이 대형화되고, 또한 마스크 스테이지 및 기판 스테이지의 스트로크가 신장되어 있다. 그 때문에, 마스크 스테이지 및 기판 스테이지를 지지하는 가대 (架臺) 도 대형화되고 있다. 또, 마스크 스테이지, 기판 스테이지, 투영 광학계, 조명 광학계, 그리고 이들을 지지하는 가대 등의 노광 장치 본체의 전체가 골조 구조로 이루어지는 프레임과, 그 프레임에 장착된 패널에 의해 구성되는 챔버 내에 수납되어 있다.BACKGROUND ART [0002] In recent years, flat panel electronic devices (micro devices) including liquid crystal display devices have become larger. Thereby, the mask and the substrate (together with the mask stage and the substrate stage) are enlarged, and the strokes of the mask stage and the substrate stage are elongated. As a result, the mask stage and the stage supporting the substrate stage are also becoming larger. The whole of the main body of the exposure apparatus such as the mask stage, the substrate stage, the projection optical system, the illumination optical system, and the supporting frame is housed in a chamber composed of a frame having a frame structure and a panel mounted on the frame.

그런데, 노광 장치의 구성 각 부는, 그것을 수송·반송하는 차량·항공기 등의 수송·반송 수단의 적재 중량 등의 제한, 또는 수송·반송 능력 등에 의해, 그 크기, 중량 등이 제한된다. 이 때문에, 특히 챔버를 구성하는 프레임 등은 그 조립 상태에서는, 수송·반송 수단으로 반송할 수는 없고, 조립 전의 개별 상태로 공장 내에 운반되어, 그곳에서 조립되고 있었다. 프레임 이외의 대형 장치에 대해서도 동일한 사정이 존재하였다.However, the size, weight, and the like of each part of the exposure apparatus are limited by the limitation of the weight or the like of the transportation / transportation means such as a vehicle or an airplane for transporting and transporting it, or the transportation / transportation ability. Therefore, in particular, the frame or the like constituting the chamber can not be transported by the transporting and conveying means, but is transported into the factory in an individual state before assembly and assembled there. The same situation existed for large devices other than frames.

따라서, 공장에서의 조립 작업에 장시간을 필요로 하고, 장치의 가동에 장기간 (장시간) 을 필요로 하였다. 이 외에, 종래의 노광 장치에서는, 마스크 및 기판 (그리고 마스크 스테이지 및 기판 스테이지) 의 대형화에 수반되어, 진동, 지진 등에 대해 장치의 충분한 강도를 확보하는 것이 곤란하였다.Therefore, a long time is required for assembling work at a factory, and a long time (long time) is required for operation of the apparatus. In addition, in the conventional exposure apparatus, it has been difficult to secure sufficient strength of the apparatus for vibration, earthquake, and the like, accompanied with enlargement of the mask and the substrate (and the mask stage and the substrate stage).

미국 특허출원 공개 제2008/0030702호 명세서U.S. Patent Application Publication No. 2008/0030702

본 발명은, 상기 서술한 사정하에서 이루어진 것으로, 제 1 관점에서 보면, 에너지 빔을 조사하여 물체 상에 패턴을 형성하는 노광 장치로서, 상기 물체 상에 패턴을 생성하는 패턴 생성 장치; 및 상기 패턴 생성 장치 및 그 장치에 부설되는 장치의 구성 각 부의 적어도 일부를 지지하는 복수의 유닛으로 구성되는 프레임을 구비하는, 노광 장치이다.According to a first aspect of the present invention, there is provided an exposure apparatus for irradiating an energy beam to form a pattern on an object, comprising: a pattern generation device for generating a pattern on the object; And a frame constituted by a plurality of units for supporting at least a part of the constituent parts of the pattern generating apparatus and the apparatus attached to the apparatus.

이것에 의하면, 패턴 생성 장치 및 패턴 생성 장치에 부설되는 장치의 구성 각 부의 적어도 일부를 지지하는 복수의 유닛으로 구성되는 프레임을 구비하고 있으므로, 각 유닛의 크기를 수송·반송 수단의 중량 제한, 수송·반송 능력 등을 고려하여 설정할 수 있다. 또한, 복수 유닛의 각각이 구성 각 부의 적어도 일부를 지지할 수 있기 때문에 프레임에 가해지는 하중을 분산시킬 수 있다. 또, 복수의 유닛으로부터 1 개의 프레임을 구축하므로, 프레임 전체로서 충분한 강도를 갖게 하는 것이 용이하다. 따라서, 대형의 노광 장치를, 용이하고 또한 단기간에 조립하는 것이 가능해진다. 또, 프레임의 강도를 충분한 레벨로 할 수 있으므로, 진동, 지진 등에도 대응할 수 있게 되어, 대형, 대중량의 노광 장치의 정밀도 향상을 도모하는 것이 가능해진다.According to this aspect, since the frame including the plurality of units that support at least a part of the constituent parts of the apparatus provided in the pattern generating apparatus and the pattern generating apparatus is provided, the size of each unit is limited by the weight of the transporting / · It can be set in consideration of the carrying ability and the like. In addition, since each of the plurality of units can support at least a part of each of the constituent parts, the load applied to the frame can be dispersed. In addition, since one frame is constructed from a plurality of units, it is easy to have sufficient strength as the whole frame. Therefore, the large-sized exposure apparatus can be easily assembled in a short period of time. Further, since the strength of the frame can be set at a sufficient level, it is possible to cope with vibration, earthquake, and the like, and it becomes possible to improve the precision of a large-sized and large-sized exposure apparatus.

본 발명은, 제 2 관점에서 보면, 본 발명의 노광 장치를 이용하여 물체를 노광하는 것, 및 상기 노광된 물체를 현상하는 것을 포함하는, 디바이스 제조 방법이다.According to a second aspect of the present invention, there is provided a device manufacturing method including exposing an object using the exposure apparatus of the present invention, and developing the exposed object.

본 발명은, 제 3 관점에서 보면, 에너지 빔을 조사하여 물체 상에 패턴을 생성하는 패턴 생성 장치, 및 그 패턴 생성 장치 및 그 장치에 부설되는 장치의 구성 각 부의 적어도 일부를 지지하는 복수의 유닛으로 구성되는 프레임을 구비하는 노광 장치의 조립 방법으로서, 장치 설치를 위한 준비 작업을 실시하는 것; 상기 패턴 생성 장치의 빔원을 포함하는 일부를 제외한 본체부의 조립, 및 상기 프레임의 부조 (部組) 로서 복수의 유닛을 조립하고, 상기 복수 유닛의 일부의 제 1 유닛 상에 상기 빔원으로부터의 에너지 빔을 사출하는 조명계를 탑재하는 것; 그 후, 상기 본체부를 내부에 수용한 상태에서 상기 프레임을 조립하기 위해, 부조된 상기 제 1 유닛을 포함하는 상기 복수의 유닛을 소정의 순서로 도킹하는 것을 포함하는,노광 장치의 조립 방법이다.According to a third aspect of the present invention, there is provided a pattern generating apparatus for generating a pattern on an object by irradiating an energy beam, and a plurality of units for supporting at least a part of the constituent parts of the pattern generating apparatus and the apparatus attached to the apparatus. A method of assembling an exposure apparatus having a frame, the method comprising: performing a preparatory operation for installing the apparatus; A plurality of units are assembled as a subset of the frame and a plurality of units are assembled on a first unit of a part of the plurality of units, An illumination system for emitting light; And docking the plurality of units including the first unit in a predetermined order so as to assemble the frame in a state in which the body portion is housed therein.

도 1 은 일 실시형태의 노광 장치의 구성을 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 2 는 전체 프레임을 제외한 노광 장치의 구성을 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 3 은 전체 프레임의 구성을 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 4 는 전체 프레임을 구성하는 제 1 문형 (門型) 유닛의 구성을 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 5 는 전체 프레임을 구성하는 제 2 문형 유닛의 구성을 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 6 은 전체 프레임을 구성하는 연결 유닛의 구성을 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 7 은 전체 프레임 및 그것에 지지되는 노광 장치 본체 및 부설 장치의 구성 각 부의 배치를 나타내는 도면이다.
도 8 은 전체 프레임 내에 배치되는 본체부의 구성을 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 9 는 일 실시형태의 노광 장치의 제어계의 주요한 구성을 나타내는 블록도이다.
도 10 은 도 1 에 나타낸노광 장치 (100) 로부터 노광 장치 본체 (본체부 (100') 를 포함한다) 와 유닛 (56) 을 제거한 잔부를 나타내는 사시도이다.
도 11 은 도 10 으로부터 유닛 (54) 및 유닛 (52) 을 제거하고, 안전책 (安全柵) 의 배치를 나타내는 도면이다.
도 12 는 노광 장치의 조립의 순서를 설명하기 위한 (제 1) 도면이다.
도 13 은 노광 장치의 조립의 순서를 설명하기 위한 (제 2) 도면이다.
도 14 는 노광 장치의 조립의 순서를 설명하기 위한 (제 3) 도면이다.
도 15 는 노광 장치의 조립의 순서를 설명하기 위한 (제 4) 도면이다.
도 16 은 노광 장치의 조립의 순서를 설명하기 위한 (제 5) 도면이다.
도 17 은 노광 장치의 조립의 순서를 설명하기 위한 (제 6) 도면이다.
도 18 은 노광 장치의 조립의 순서를 설명하기 위한 (제 7) 도면이다.
도 19 는 노광 장치의 조립의 순서를 설명하기 위한 (제 8) 도면이다.
도 20 은 노광 장치의 조립의 순서를 설명하기 위한 (제 9) 도면이다.
도 21 은 노광 장치의 조립의 순서를 설명하기 위한 (제 10) 도면이다.
도 22 는 노광 장치의 조립의 순서를 설명하기 위한 (제 11) 도면이다.
도 23 은 노광 장치의 조립의 순서를 설명하기 위한 (제 12) 도면이다.BRIEF DESCRIPTION OF DRAWINGS FIG. 1 is a view schematically showing a configuration of an exposure apparatus according to an embodiment; FIG.
2 is a view schematically showing the configuration of an exposure apparatus except for the entire frame.
3 is a diagram schematically showing a configuration of an entire frame.
4 is a view schematically showing the configuration of a first gate unit constituting an entire frame.
5 is a diagram schematically showing a configuration of a second gate unit constituting an entire frame.
6 is a view schematically showing a configuration of a connection unit constituting an entire frame.
7 is a view showing the arrangement of the entire frame, the main body of the exposure apparatus supported thereon, and the constituent parts of the laying apparatus.
8 is a view schematically showing a configuration of a main body portion disposed in an entire frame.
Fig. 9 is a block diagram showing a main configuration of a control system of an exposure apparatus according to an embodiment.
10 is a perspective view showing the remainder of the exposure apparatus 100 (including the main body 100 ') and the unit 56 removed from the exposure apparatus 100 shown in FIG.
11 is a view showing the arrangement of a safety fence (safety fence) by removing the unit 54 and the unit 52 from Fig.
12 is a (first) view for explaining a procedure of assembling the exposure apparatus.
13 is a (second) view for explaining a procedure of assembling the exposure apparatus.
14 is a (third) view for explaining a procedure of assembling the exposure apparatus.
15 is a (fourth) view for explaining a procedure of assembling the exposure apparatus.
16 is a (fifth) view for explaining a procedure of assembling the exposure apparatus.
17 is a (sixth) view for explaining a procedure of assembling the exposure apparatus.
18 is a (seventh) view for explaining a procedure of assembling the exposure apparatus.
Fig. 19 is an (eighth) view for explaining a procedure of assembling the exposure apparatus. Fig.
Fig. 20 is a (ninth) view for explaining a procedure of assembling the exposure apparatus. Fig.
21 is a (tenth) view for explaining the procedure of assembling the exposure apparatus.
22 is a (11) diagram for explaining a procedure of assembling the exposure apparatus.
23 is a (12) diagram for explaining the procedure of assembling the exposure apparatus.

이하, 본 발명의 일 실시형태를 도 1∼도 23 에 기초하여 설명한다.Hereinafter, one embodiment of the present invention will be described with reference to Figs.

도 1 에는, 일 실시형태의 노광 장치 (100) 의 전체 구성이 일부 생략되어 나타나 있다. 또, 도 2 에는, 후술하는 전체 프레임 (50) 을 제거한 노광 장치 (100) 의 구성이 개략적으로 나타나 있다.1, the entire configuration of the exposure apparatus 100 according to one embodiment is partially omitted. 2 schematically shows the structure of the exposure apparatus 100 in which the entire frame 50 to be described later is removed.

노광 장치 (100) 는, 골조 구조물인 전체 프레임 (50) 과, 그 전체 프레임 (50) 에 의해 조명계 (IOP) 가 지지된 노광 장치 본체를 구비하고 있다. 노광 장치 본체는, 도 2 에 나타낸 바와 같이, 노광용 조명광 (노광광) 에 의해 마스크 (M) 를 조명하고, 마스크 (M) 를 통한 조명광을, 투영 유닛 (PU) (투영 광학계) 를 통해 표면에 레지스트 (감광제) 가 도포된 유리 플레이트 (이하, 플레이트로 약칭함) (P) 에 투사하고, 플레이트 (P) 상에 마스크 (M) 에 형성된 패턴의 이미지를 형성한다. 노광 장치 본체는, 조명계 (IOP) 와 본체부 (100') 를 포함한다. 또한, 조명계 (IOP) 중 적어도 일부 (예를 들어, 조명 광학계를 포함함) 가 본체부에 포함되어 있어도 된다.The exposure apparatus 100 includes an entire frame 50 as a frame structure and an exposure apparatus main body in which an illumination system IOP is supported by the entire frame 50. [ As shown in Fig. 2, the main body of the exposure apparatus illuminates the mask M with exposure light (exposure light), and irradiates the illumination light through the mask M to the surface through the projection unit PU (projection optical system) Is projected onto a glass plate (hereinafter abbreviated as a plate) coated with a resist (photosensitive agent) to form an image of a pattern formed on the mask M on the plate P. The main body of the exposure apparatus includes an illumination system IOP and a main body 100 '. Further, at least a part of the illumination system IOP (including an illumination optical system, for example) may be included in the main body.

본 실시형태에서는, 전체 프레임 (50) 에 의해, 노광 장치 본체에 부설되는 마스크 반송 장치 (이하, 적절히, 마스크 로더라고도 칭함) (90) 등도 지지되어 있다. 또한, 노광 장치 본체의 구성 등에 대해서는, 이하에서 상세히 설명한다.In the present embodiment, a mask transfer device (hereinafter also referred to as a mask loader, appropriately) 90 attached to the main body of the exposure apparatus is also supported by the entire frame 50. The configuration of the main body of the exposure apparatus will be described in detail below.

전체 프레임 (50) 은, 도 3 에 나타낸 바와 같이, 3 개의 프레임 유닛 (이하, 유닛으로 약칭함) (52, 54 및 56) 을 구비하고, 그 3 개의 유닛 (52, 54 및 56) 이 서로 연결됨으로써 구성되어 있다. 연결 방법에 대해서는 후술한다. 이하에서는, 편의상, 유닛 (52, 54 및 56) 의 연결 방향이, Y 축 방향인 것으로서 설명한다 (도 3 참조). 또, 전체 프레임 (50) 이 설치된 플로어면 (또는 베이스 플레이트) (F) 에 평행한 면내에서 Y 축 방향에 수직인 방향을 X 축 방향, X 축 방향 및 Y 축 방향에 수직인 방향을 Z 축 방향으로 한다.The whole frame 50 has three frame units (hereinafter abbreviated as units) 52, 54 and 56 as shown in Fig. 3, and the three units 52, 54 and 56 are connected to each other As shown in FIG. The connection method will be described later. Hereinafter, it is assumed that the connecting direction of the units 52, 54, and 56 is the Y-axis direction (see FIG. 3). A direction perpendicular to the Y axis direction is referred to as an X axis direction, a direction perpendicular to the X axis direction and a Y axis direction is referred to as a Z axis (a direction perpendicular to the Y axis direction) Direction.

유닛 (52, 54 및 56) 의 각각은, Y 축 방향의 폭 (길이) 보다 X 축 방향의 폭 (길이) 이 길게 설정되어 있다.Each of the units 52, 54, and 56 has a width (length) in the X-axis direction longer than a width (length) in the Y-axis direction.

유닛 (52) 은, 도 4 에 나타낸 바와 같이, Y 축 방향으로부터 보아 문의 형상을 갖는 문형 유닛이다. 유닛 (52) 은, 전체 외관이 직사각형의 메시 형상의 구조체 (예를 들어, 관재 등의 일반 구조재를 조합한 구조체 외에, 메시 형상의 직사각형 판부재 등도 포함함) 로 이루어지고, XY 평면에 평행하게 배치된 천정부 (52c) 와, 천정부 (52c) 의 +X 단부, -X 단부에 상단이 각각 고정되고, 천정부 (52c) 를 하방으로부터 지지하는 한 쌍의 다리부 (52a, 52b) 를 갖는다. 천정부 (52c) 는, 하중을 지지하는 수평재 (빔) 로서 기능한다.As shown in Fig. 4, the unit 52 is a door unit having a door shape as viewed from the Y-axis direction. The unit 52 is formed of a rectangular mesh-like structure (for example, a structure including a combination of general structural members such as pipes or the like, and a mesh-shaped rectangular plate member, etc.) And a pair of leg portions 52a and 52b for fixing the top end to the + X end and the -X end of the ceiling portion 52c and supporting the ceiling portion 52c from below. The ceiling portion 52c functions as a horizontal member (beam) for supporting the load.

다리부 (52a, 52b) 의 각각은, 소정의 간격으로 배치된 복수 개 (예를 들어 3 개) 의 기둥과, 이들을 연결하는 복수 개 (예를 들어 4 개) 의 대들보 부재로 이루어진다. 천정부 (52c) 에는 개구부 (52d) 가 형성되어 있다.Each of the leg portions 52a and 52b is composed of a plurality of (for example, three) columns arranged at predetermined intervals and a plurality of (for example, four) of the rack members connecting them. An opening portion 52d is formed in the ceiling portion 52c.

유닛 (54) 은, 도 5 에 나타낸 바와 같이, -Y 방향으로부터 볼 때 문의 형상을 갖는 문형 유닛이다. 유닛 (54) 은, 전체 외관이 직사각형인 메시 형상의 구조체 (예를 들어 관재 등의 일반 구조재를 조합한 구조체 외에 메시 형상의 직사각형 판부재 등도 포함함) 로 이루어지고, XY 평면에 평행하게 배치된 천정부 (54c) 와, 천정부 (54c) 의 +X 단부, -X 단부에 상단이 각각 고정되고, 천정부 (54c) 를 하방으로부터 지지하는 한 쌍의 다리부 (54a, 54b) 와, 다리부 (54a, 54b) 와 함께 천정부 (54c) 를 하방으로부터 지지하는 다리부 (54d) 를 갖는다. 천정부 (54c) 는 하중을 지지하는 수평재 (빔) 로서 기능한다. 유닛 (54) 은, X 축 방향의 길이는 유닛 (52) 과 거의 동일하지만, Y 축 방향의 길이는, 유닛 (52) 보다 짧다. 또, 유닛 (54) 은 유닛 (52) 보다 높이가 낮다.As shown in Fig. 5, the unit 54 is a door unit having a door shape when viewed from the -Y direction. The unit 54 is composed of a mesh-like structure having a rectangular overall appearance (for example, a structure including a combination of general structural members such as pipes or the like, as well as a mesh-shaped rectangular plate member) A pair of leg portions 54a and 54b each having an upper end fixed to the + X end and -X end portions of the ceiling portion 54c and supporting the ceiling portion 54c from below, And 54b and a leg portion 54d for supporting the ceiling portion 54c from below. The ceiling portion 54c functions as a horizontal member (beam) for supporting the load. The length of the unit 54 in the X-axis direction is almost the same as that of the unit 52, but the length in the Y-axis direction is shorter than that of the unit 52. [ Also, the unit 54 is lower in height than the unit 52.

다리부 (54a, 54b) 의 각각은, 소정 간격으로 배치된 2 개의 기둥과, 이들을 연결하는 복수 개 (예를 들어 2 개) 의 대들보 부재로 이루어진다. 또, 다리부 (54d) 는, 다리부 (54a, 54b) 에 의해 지지되지 않은 천정부 (54c) 의 +Y 측의 단부를 하방으로부터 지지하는 복수 개 (예를 들어 2 개) 의 기둥과, 이들의 복수 개의 기둥 상호를 연결하는 복수 개 (예를 들어 2 개) 의 대들보 부재를 포함한다. 다리부 (54d) 는 다리부 (54a, 54b) 에 대들보 부재를 통해 연결되어 있다.Each of the leg portions 54a and 54b is composed of two columns arranged at a predetermined interval and a plurality of (for example, two) girder members connecting them. The leg portion 54d is provided with a plurality of (for example, two) pillars for supporting the end portion of the ceiling portion 54c which is not supported by the leg portions 54a and 54b on the + Y side from below, (E.g., two) girder members connecting the plurality of columns of the girder members. The leg portion 54d is connected to the leg portions 54a and 54b through a girder member.

상기 서술한 유닛 (52, 54) 은, 도 3 에 나타낸 바와 같이, Y 축 방향으로 이간되어 배치되어 있다. 도 3 에 나타낸 바와 같이, 유닛 (52) 의 다리부 (52a) 를 구성하는 +Y 측의 기둥과, 유닛 (54) 의 다리부 (54a) 를 구성하는 -Y 측의 기둥이 대들보 부재로 이루어지는 2 개의 접속 부재 (58) 를 이용하여 접속 (연결) 되어 있다. 마찬가지로, 유닛 (52) 의 다리부 (52b) 를 구성하는 +Y 측의 기둥과, 유닛 (54) 의 다리부 (54b) 를 구성하는 -Y 측의 기둥이, 대들보 부재로 이루어지는 2 개의 접속 부재 (58) 를 이용하여 접속되어 있다.The above-described units 52 and 54 are arranged apart from each other in the Y-axis direction as shown in Fig. As shown in Fig. 3, the + Y side pillars constituting the leg portion 52a of the unit 52 and the -Y side pillars constituting the leg portion 54a of the unit 54 are formed of a girder member And are connected (connected) by using two connecting members 58. Likewise, the + Y-side pillars constituting the leg portion 52b of the unit 52 and the -Y-side pillars constituting the leg portion 54b of the unit 54 are connected to each other by two connecting members (58).

유닛 (56) 은, 도 3 에 나타낸 바와 같이, 높이가 상이한 유닛 (52, 54) 을 연결하는 연결 유닛이다. 상세히 설명하면, 유닛 (56) 은, 도 6 에 나타낸 바와 같이, 예를 들어, 전체의 외관이 직사각형의 메시 형상의 구조체 (예를 들어, 관재 등의 일반 구조재를 조합한 구조체 외에 메시 형상의 직사각형의 판부재 등도 포함함) 로 이루어지는 천정부 (56c) 와, 천정부 (56c) 의 -Y 단부, +Y 단부에 상단이 각각 고정된 높이가 상이한 2 개의 다리부 (56a, 56b) 를 갖는다. 다리부 (56b) 는, 거의 등간격으로 배치된 복수 개 (예를 들어 4 개) 의 기둥과, 이들 복수 개의 기둥을 연결하는 복수 개 (예를 들어 3 개) 의 대들보 부재에 의해 구성되어 있다. 다리부 (56a) 는 다리부 (56b) 와 동일하게 구성되어 있는데, 유닛 (52) 과 유닛 (54) 의 높이 차만큼, 다리부 (56b) 보다 Z 축 방향의 길이 (치수) 가 짧다. 또, 다리부 (56a, 56b) 의 +X 측 단부끼리는, 대들보 부재에 의해 연결되어 있다.The unit 56 is a connecting unit for connecting units 52 and 54 having different heights, as shown in Fig. More specifically, as shown in Fig. 6, the unit 56 includes, for example, a rectangular mesh-like structure (for example, a structure in which general structural members such as pipes are combined, a mesh- And two leg portions 56a and 56b having different heights at the upper and lower ends of the ceiling portion 56c at the -Y end and the + Y end, respectively. The leg portion 56b is constituted by a plurality of (for example, four) pillars arranged at substantially equal intervals and a plurality of (for example, three) crowns connecting the pillars . The length of the leg portion 56a is shorter than the length of the leg portion 56b in the Z-axis direction by the difference in height between the unit 52 and the unit 54. However, The + X side ends of the leg portions 56a and 56b are connected to each other by a girder member.

도 3 에 나타낸 바와 같이, 유닛 (52) 의 천정부 (52c) 의 +Y 측의 단부의 상면에 유닛 (56) 의 다리부 (56a) 의 하단이 고정되고, 유닛 (54) 의 천정부 (54c) 의 -Y 측의 단부의 상면에 유닛 (56) 의 다리부 (56b) 의 하단이 고정되어 있다. 이와 같이 하여, 연결 유닛 (56) 을 이용하여 2 개의 문형 유닛 (52, 54) 을 연결함으로써, 3 개의 유닛 (52, 54, 56) 이 일체화된, 충분한 강도를 갖는 전체 프레임 (50) 이 구축되어 있다. 또한, 유닛 (52, 54, 56) 상호 간의 고정은, 나사 등을 이용하여 실시되고 있지만, 용접에 의해서 실시해도 된다. 또한, 전체 프레임 (50) 에, 예를 들어 방진 등을 위한 벽재 (또는 패널) 를 장착해도 된다. The lower end of the leg portion 56a of the unit 56 is fixed to the upper surface of the end on the + Y side of the ceiling portion 52c of the unit 52 and the ceiling portion 54c of the unit 54 is fixed, The lower end of the leg portion 56b of the unit 56 is fixed to the upper surface of the end portion on the -Y side in Fig. In this manner, by connecting the two door units 52, 54 using the connecting unit 56, the entire frame 50 having sufficient strength, in which the three units 52, 54, 56 are integrated, . The units 52, 54 and 56 are fixed to each other using screws or the like, but they may be fixed by welding. Further, a wall material (or a panel) for dustproof, for example, may be mounted on the entire frame 50.

또, 전체 프레임 (50) 을 구성하는 3 개의 유닛 (52, 54, 56) 의 각각은, 차량 등의 반송 수단·수송 수단의 중량 제한을 초과하지 않을 정도의 중량 및 크기로 되어 있다. 단, 적어도 하나의 유닛이, 중량 제한을 초과하는 경우라도, 본 실시형태에서는, 각 유닛이 다리부와 천정부의 복수의 파트로 구성되어 있으므로, 파트 단위로 수송되고, 현장에서 각 유닛을 조립하도록 하면 중량 제한의 문제는 해소된다.Each of the three units 52, 54, and 56 constituting the entire frame 50 has a weight and a size so as not to exceed the weight limit of the transportation means and transportation means such as a vehicle. However, even if at least one unit exceeds the weight limit, in the present embodiment, since each unit is composed of a plurality of parts including a leg part and a ceiling part, it is transported on a part-by-part basis, The problem of weight limitation is solved.

이하, 노광 장치 본체의 구성 등에 대해, 도 2, 도 7, 도 8, 도 9 에 기초하여 설명한다. 여기서, 필요에 따라, 노광 장치 본체 및 그 부속 장치의 구성 각 부의 전체 프레임 (50) 에 의한 지지 방법 등에 대해서도 아울러 설명한다.Hereinafter, the structure of the main body of the exposure apparatus will be described with reference to Figs. 2, 7, 8, and 9. Fig. Hereinafter, a method of supporting the main body of the exposure apparatus and the constituent parts of the attached apparatus by the entire frame 50 will be described.

도 7 에는, 전체 프레임 (50) 및 전체 프레임 (50) 에 지지되는 노광 장치 본체 및 그 부속 장치의 구성 각 부의 배치가 나타나고, 도 8 에는, 전체 프레임 (50) 의 내부에 배치되는 본체부 (100') 의 구성이 사시도로 개략적으로 나타나 있다. 또, 도 9 에는, 노광 장치 (100) 의 제어계의 주요한 구성이 블록도로 나타나 있다. 제어계는, 장치 전체를 통괄 제어하는 마이크로 컴퓨터 (또는 워크스테이션) 등을 포함하는 주제어 장치 (20) 를 중심으로 하여 구성되어 있다.7 shows the arrangements of the constituent parts of the main body of the exposure apparatus and its accessories attached to the entire frame 50 and the entire frame 50. Fig. 100 'are schematically shown in a perspective view. 9, the main components of the control system of the exposure apparatus 100 are shown in block diagrams. The control system is composed mainly of a main control device 20 including a microcomputer (or a workstation) for controlling the entire apparatus as a whole.

노광 장치 본체는, 도 2 에 나타낸 바와 같이, 조명계 (IOP), 마스크 (M) 를 유지하는 마스크 스테이지 (MST), 마스크 (M) 에 형성된 패턴을 플레이트 (P) 상에 투영하는 투영 유닛 (PU), 플레이트 (P) 를 유지하는 플레이트 스테이지 (PST) 등을 구비하고 있다.2, the main body of the exposure apparatus includes an illumination system IOP, a mask stage MST for holding the mask M, a projection unit PU for projecting a pattern formed on the mask P onto the plate P, A plate stage PST for holding the plate P, and the like.

조명계 (IOP) 는, 예를 들어 미국 특허출원 공개 제2001/0033490호 명세서, 미국 특허 제5,729,331호 명세서, 및 미국 특허 제6,288,772호 명세서 등에 개시 되는 조명계와 동일하게 구성되어 있다. 즉, 조명계 (IOP) 는, 코히런트한 노광광, 예를 들어 자외역의 휘선 (예를 들어 g 선, i 선 등) 을 사출하는 초고압 수은 램프로 이루어지는 광원, 및 그 광원에 송광 광학계를 통해 접속된 조명 광학계를 포함한다. 조명계 (IOP) 는 노광광을 마스크 (M) 를 향하여 사출한다. 또한, 광원으로는, 초고압 수은 램프에 한정되지 않고, ArF 엑시머 레이저 (출력 파장 193 ㎚) 또는 KrF 엑시머 레이저 (출력 파장 248 ㎚) 등의 펄스 레이저 광원, 또는 고체 레이저 장치 등을 사용할 수 있다.The illumination system (IOP) is constructed in the same manner as the illumination system disclosed in, for example, U.S. Patent Application Publication No. 2001/0033490, U.S. Patent No. 5,729,331, and U.S. Patent No. 6,288,772. That is, the illumination system IOP includes a light source composed of an ultra-high pressure mercury lamp which emits coherent exposure light, for example, a bright line (for example, g line, i line) in a negative range, and a light source And a connected illumination optical system. The illumination system IOP projects the exposure light toward the mask M. The light source is not limited to an ultra high pressure mercury lamp, but a pulsed laser light source such as an ArF excimer laser (output wavelength 193 nm) or KrF excimer laser (output wavelength 248 nm), or a solid laser device can be used.

조명계 (IOP) 는, 도 7 에 나타낸 바와 같이, 유닛 (52) 의 천정부 (52c)상에 탑재되어 있다. 이 경우, 조명계 (IOP) 는, +Y 측 단부의 하단에 형성된 사출 단부 (조명계 (IOP) 의 일부를 구성하는 조명 광학계의 일부) 를, 전술한 천정부 (52c) 의 개구 (52d) 내부에 삽입한 상태에서, 천정부 (52c) 상에 탑재되어 있다. 즉, 조명계 (IOP) 는, 유닛 (52) 의 천정부 (52c) 에 의해 하방으로부터 지지되어 있다. 도 7 에서는, 전체 프레임 (50) 의 내부에 배치되는 본체부 (100') 는 도시가 생략되어 있다.The illumination system IOP is mounted on the ceiling portion 52c of the unit 52 as shown in Fig. In this case, the illumination system IOP is inserted into the opening 52d of the above-mentioned ceiling portion 52c so that the irradiation end portion (a part of the illumination optical system constituting a part of the illumination system IOP) formed at the lower end of the + Y- And is mounted on the ceiling portion 52c. That is, the illumination system IOP is supported by the ceiling portion 52c of the unit 52 from below. 7, the main body 100 'disposed inside the entire frame 50 is not shown.

여기서, 본체부 (100') 의 구성에 대해, 도 8 에 기초하여, 또한 적절히 다른 도면을 참조하면서 설명한다.Here, the structure of the main body 100 'will be described with reference to Fig. 8 and with reference to other drawings as appropriate.

본체부 (100') 는, 도 8 에 나타낸 바와 같이, 플로어면 (F) 상에 설치된 바디 (BD) (도 2 참조) 와, 그 바디 (BD) 에 탑재된 마스크 스테이지 (MST), 플레이트 스테이지 (PST), 및 투영 유닛 (PU) (도 8 에서는 도시 생략, 도 2 참조), 그리고 마스크 스테이지 (MST) 를 구동하는 마스크 스테이지 구동계 (MSD) 및 플레이트 스테이지 (PST) 를 구동하는 플레이트 스테이지 구동계 (PSD) (도 8 에서는 모두 도시 생략, 도 9 참조) 등을 구비하고 있다.As shown in Fig. 8, the main body 100 'includes a body BD (see Fig. 2) provided on a floor surface F, a mask stage MST mounted on the body BD, A mask stage driving system MSD for driving the mask stage MST and a plate stage driving system (not shown in Fig. 8) for driving the plate stage PST PSD) (all not shown in Fig. 8, see Fig. 9), and the like.

바디 (BD) 는, 도 8 에 나타낸 바와 같이, Y 축 방향으로 소정 간격을 두고 평행하게 배치되고, 각각의 길이 방향 (X 축 방향) 의 양단부가 방진 시스템 (지지 부재) (65) 을 통해 플로어면 (F) 상에 지지된 한 쌍의 가대 (66a, 66b) 와, 한 쌍의 가대 (66a, 66b) 의 상면에 설치된 Y 축 방향으로 긴 직사각형 판상의 정반 (定盤) (68) 과, 가대 (66a, 66b) 의 ±X 단부 상에 탑재된 Y 축 방향을 길이 방향으로 하는 한 쌍의 보조 가대 (64a, 64b) 와, 한 쌍의 보조 가대 (64a, 64b) 상에 설치된 X 축 방향을 길이 방향으로 하는 직사각형 판상의 가대 (62) 를 포함한다. 한 쌍의 가대 (66a, 66b) 의 각각은, 길이 방향의 양단부 근방에 한 쌍의 단차부가 형성되고, 그들 단차부 하측의 면 (내부 저면) 은 단차부 상측의 면과 평행하게 되어 있다. 그리고, 한 쌍의 가대 (66a, 66b) 의 내부 저면 상에 정반 (68) 이 설치되어 있다.8, the bodies BD are arranged parallel to each other with a predetermined interval in the Y axis direction, and both ends in the longitudinal direction (X axis direction) of the bodies BD are supported by a floor (not shown) A pair of mounts 66a and 66b supported on the face F and a rectangular plate-shaped base plate 68 provided on the upper surfaces of the pair of mounts 66a and 66b and long in the Y- A pair of auxiliary mounts 64a and 64b which are mounted on the ± X end of the mounts 66a and 66b in the Y-axis direction in the longitudinal direction and a pair of mounts 64a and 64b mounted on the pair of mounts 64a and 64b in the X- Like base 62 in the longitudinal direction. Each of the pair of tables 66a and 66b is provided with a pair of stepped portions in the vicinity of both end portions in the longitudinal direction and the lower surface (inner bottom surface) thereof is parallel to the upper surface of the stepped portion. A table 68 is provided on the inner bottom surface of the pair of tables 66a and 66b.

바디 (BD) 를 구성하는 한 쌍의 가대 (66a, 66b) 와 한 쌍의 보조 가대 (64a, 64b) 는, 상기 설명으로부터도 분명한 바와 같이, # 형상으로 조립되어 있다. 또, 가대 (62) 는, 후술하는 바와 같이 투영 유닛 (PU) (투영 광학계의 경통을 포함함) 을 지지하는 경통 정반의 역할을 하므로, 이하에서는, 경통 정반 (62) 으로 지칭한다.The pair of pedestals 66a and 66b and the pair of auxiliary pedestals 64a and 64b constituting the body BD are assembled in a # shape as is clear from the above description. The base 62 serves as a barrel base plate for supporting the projection unit PU (including the barrel of the projection optical system) as will be described later, and will be referred to as a barrel base plate 62 hereinafter.

상기 서술한 설명으로부터 분명한 바와 같이, 바디 (BD) 는, 전체 프레임 (50) 과는 독립적으로, 플로어면 (F) 상에 설치되어 있다.As is apparent from the above description, the body BD is provided on the floor surface F independently of the entire frame 50. [

마스크 스테이지 (MST) 는, 도 2 로부터 분명한 바와 같이, 조명계 (IOP) 의 하방에 배치되어 있다. 여기서, 마스크 스테이지 (MST) 상에는 패턴이 형성된 마스크 (M) 가 탑재되어 있다.The mask stage MST is arranged below the illumination system IOP, as is apparent from Fig. Here, a mask M on which a pattern is formed is mounted on the mask stage MST.

마스크 스테이지 (MST) 는, 경통 정반 (62) 상에 설치된 Y 축 방향으로 연장되는 한 쌍의 가이드 (63a, 63b) 상에 도시 생략된 에어 베어링 등을 통해 비접촉으로 지지되어 있다. 마스크 스테이지 (MST) 는, 마스크 스테이지 구동계 (MSD) 에 의해, 가이드 (63a, 63b) 상에서, Y 축 방향으로 소정의 스트로크 내에서 구동 가능하고, X 축 방향 및 Z 축 둘레의 회전 방향 (θz 방향) 으로 미소 구동 가능하다.The mask stage MST is held in a noncontact manner via a pair of guides 63a and 63b extending in the Y axis direction provided on the barrel base plate 62 via an air bearing or the like (not shown). The mask stage MST can be driven by the mask stage driving system MSD on the guides 63a and 63b in a predetermined stroke in the Y axis direction and can be driven in the X axis direction and the rotation direction? ).

상세히 서술하면, 마스크 스테이지 구동계 (MSD) 는, 한 쌍의 선형 모터 (71, 72) 를 포함한다. 여기서, 도 2 및 도 7 로부터 분명한 바와 같이, 한 쌍의 선형 모터 (71, 72) 를 구성하는 한 쌍의 고정자 (71a, 72a) 가, 유닛 (52, 54) (을 구성하는 천정부 (52c, 54c)) 에 매달려 지지되어 있다. 고정자 (71a, 72a) 는, 유닛 (52, 54) 의 배열 방향 (즉, 연결 방향인 Y 축 방향) 을 길이로 하고, 서로 X 축 방향으로 이간되어 배치되어 있다.Described in detail, the mask stage drive system MSD includes a pair of linear motors 71 and 72. 2 and 7, the pair of stators 71a and 72a constituting the pair of linear motors 71 and 72 are connected to the ceiling portions 52c and 52c constituting the units 52 and 54, 54c). The stators 71a and 72a are disposed so as to be spaced apart from each other in the X-axis direction by arranging the units 52 and 54 in the arranging direction (that is, the Y-axis direction as a connecting direction).

또한, 고정자 (71a, 72a) 의 각각을 복수의 파트로 분해하고, 복수 파트의 일부와 나머지 일부를, 각각 유닛 (52, 54) 을 이용하여 지지해도 된다.Each of the stators 71a and 72a may be divided into a plurality of parts, and a part of the parts and the remaining parts may be supported by the units 52 and 54, respectively.

고정자 (71a, 72a) 는, 도 8 에 나타낸 바와 같이, 단면 U 자 형상의 자석 유닛으로 이루어진다. 일방의 고정자 (71a) 의 내부에는, Y 축 방향을 따라 교번 자계가 형성되도록, 복수의 영구 자석이 Y 축 방향을 따라 소정 피치로 배치되어 있다. 이 경우, 서로 인접하는 영구 자석끼리, 서로 대향하는 영구 자석끼리는, 극성이 상이하다.As shown in Fig. 8, the stators 71a and 72a are formed of a magnet unit having a U-shaped cross section. A plurality of permanent magnets are arranged at predetermined pitches along the Y-axis direction so that alternating magnetic fields are formed along the Y-axis direction in the stator 71a. In this case, the mutually adjacent permanent magnets and the mutually opposing permanent magnets have different polarities.

타방의 고정자 (72a) 의 내부에는, 고정자 (71a) 측과 동일한 배치로, 복수의 영구 자석이 Y 축 방향을 따라 배열되어 있다. 이것에 추가하여, 고정자 (72a) 의 내부에는, Y 축 방향으로 가늘고 길게 연장되는 예를 들어 각 2 개의 영구 자석이 상하의 대향면에 각각 배치되어 있다. 이 경우도, 서로 인접하는 영구 자석끼리, 서로 대향하는 영구 자석끼리는 극성이 상이하다.A plurality of permanent magnets are arranged in the Y-axis direction in the same arrangement as the stator 71a side in the other stator 72a. In addition, in the stator 72a, for example, two permanent magnets that are elongated in the Y-axis direction are arranged on the upper and lower opposite surfaces, respectively. Also in this case, the mutually adjacent permanent magnets and the mutually opposing permanent magnets have different polarities.

마스크 스테이지 (MST) 의 ±X 단부에는, 고정자 (71a, 72a) 의 내부 공간에 삽입되고, 고정자 (71a, 72a) 의 각각과 함께, 선형 모터 (71, 72) 를 각각 구성하는 전기자 유닛 (코일 유닛) 으로 이루어지는 가동자 (71b, 72b) 가 돌출 형성되어 있다. 가동자 (71b, 72b) 에는, 대응하는 고정자 (71a, 72a) 측의 자석의 배치에 대응하는 배치로, 복수의 전기자 코일이 배치되어 있다. 이 경우, 선형 모터 (71) 는, 가동자 (71b) 에 대한 Y 축 방향의 구동력 (추력) 을 발생시키는 Y 선형 모터이다. 한편, 선형 모터 (72) 는, 가동자 (72b) 에 대한 Y 축 방향의 구동력 (추력) 에 더하여 X 축 방향의 구동력 (추력) 도 발생하는 XY 2 차원의 선형 모터이다. 이 경우, 가동자 (72b) 의 Y 축 방향의 스트로크는 고정자 (72a) 의 길이와 동일한 정도이지만, X 축 방향의 스트로크는 고정자의 X 축 방향의 폭보다 짧다.An armature unit (coil) 71a, 72a constituting the linear motors 71, 72, respectively, is inserted into the inner space of the stator 71a, 72a at the ± X end of the mask stage MST, Units) 71b and 72b protruding from the base plate 71 are formed. A plurality of armature coils are arranged in the mover (71b, 72b) in an arrangement corresponding to the arrangement of the magnets on the side of the corresponding stator (71a, 72a). In this case, the linear motor 71 is a Y-linear motor that generates a driving force (thrust) in the Y-axis direction with respect to the mover 71b. On the other hand, the linear motor 72 is an XY two-dimensional linear motor in which a driving force (thrust) in the X axis direction is generated in addition to a driving force (thrust) in the Y axis direction with respect to the mover 72b. In this case, the stroke of the mover 72b in the Y-axis direction is the same as the length of the stator 72a, but the stroke in the X-axis direction is shorter than the width of the stator in the X-axis direction.

마스크 스테이지 (MST) 의 XY 평면 내에서의 위치는 마스크 스테이지 (MST)에 설치된 (또는 형성된) 반사면에 계측 빔을 조사하는 마스크 스테이지 간섭계 (MSI) (도 9 참조) 에 의해 계측된다. 그 계측 결과는 주제어 장치 (20) 에 공급된다 (도 9 참조). 주제어 장치 (20) 는, 공급된 계측 결과에 기초하여 마스크 스테이지 구동계 (MSD) 를 통해 마스크 스테이지 (MST) 를 구동하고, 마스크 스테이지 (MST) 의 위치 (및 속도) 를 제어한다. 또한, 예를 들어 미국 특허출원 공개 제2007/0288121호 등에 개시되어 있는 바와 같이, 인코더 시스템에 의해 마스크 스테이지 (MST) 의 위치 정보를 계측해도 된다.The position of the mask stage MST in the XY plane is measured by a mask stage interferometer MSI (see FIG. 9) that irradiates a measurement beam onto a reflection surface provided (or formed) on the mask stage MST. The measurement result is supplied to the main controller 20 (see Fig. 9). The main controller 20 drives the mask stage MST through the mask stage driving system MSD based on the supplied measurement results and controls the position (and speed) of the mask stage MST. Further, as disclosed in, for example, U.S. Patent Application Publication No. 2007/0288121, position information of the mask stage (MST) may be measured by an encoder system.

투영 유닛 (PU) 은, 도 2 에 나타낸 바와 같이, 마스크 스테이지 (MST) 의 하방에서, 경통 정반 (62) 에 지지되고 있다. 투영 유닛 (PU) 은, 예를 들어 미국 특허 제 6,552,775호 명세서 등에 개시되는 투영 광학계와 동일한 구성의 투영 광학계를 갖는다. 즉, 투영 유닛 (PU) 은 지그재그 형상으로 배치된 복수의 투영 광학계를 포함하고, 이 복수의 투영 광학계는 X 축 방향을 길이 방향으로 하는 직사각형의 단일의 이미지 필드를 갖는 투영 광학계와 동등하게 기능한다. 본 실시형태에서는, 복수의 투영 광학 각각으로는, 예를 들어 양측 텔레센트릭한 등배계에 의해 정립 정상을 형성하는 것이 이용되고 있다. 복수의 투영 광학계는 각각 투영 광학 모듈 등으로도 지칭될 수 있다.The projection unit PU is supported on the barrel base plate 62 below the mask stage MST as shown in Fig. The projection unit PU has a projection optical system having the same configuration as the projection optical system disclosed in, for example, U.S. Patent No. 6,552,775. That is, the projection unit PU includes a plurality of projection optical systems arranged in a zigzag shape, and these plurality of projection optical systems function equivalent to a projection optical system having a single rectangular image field in the longitudinal direction of the X-axis direction . In the present embodiment, for each of a plurality of projection optics, for example, a system of forming a stereoscopic image by a telecentric light source of both sides is used. The plurality of projection optical systems may also be referred to as projection optics modules, respectively.

이 때문에, 조명계 (IOP) 로부터의 노광광에 의해 마스크 (M) 상의 복수의 조명 영역이 조명되면, 투영 광학계의 제 1 면 (물체면) 과 패턴면이 거의 일치되어 배치되는 마스크 (M) 를 통과한 노광광에 의해, 투영 광학계를 통해 그 조명 영역 내의 마스크 (M) 의 회로 패턴의 투영 이미지 (부분 정립상) 가, 투영 광학계의 제 2 면 (이미지면) 측에 배치되는, 표면에 레지스트 (감광제) 가 도포된 플레이트 (P) 상에서 상기 조명 영역에 공액인 노광광의 조사 영역 (노광 영역) 에 형성된다. 그리고, 마스크 스테이지 (MST) 와 플레이트 스테이지 (PST) 의 동기 구동에 의해, 복수의 조명 영역 (노광광) 에 대해 마스크 (M) 를 주사 방향 (Y 축 방향) 으로 상대 이동시킴과 함께, 복수의 노광 영역 (노광광) 에 대해 플레이트 (P) 를 주사 방향 (Y 축 방향) 으로 상대 이동시킴으로써, 플레이트 (P) 상의 샷 영역 (구획 영역) 의 주사 노광이 실시되고, 그 쇼트 영역에 마스크 (M) 의 패턴이 전사된다.Therefore, when a plurality of illumination areas on the mask M are illuminated by the exposure light from the illumination system IOP, the mask M, which is arranged so that the first face (object face) of the projection optical system and the pattern face are almost aligned, (Projected image) of the circuit pattern of the mask M in the illumination area is disposed on the second surface (image plane side) side of the projection optical system through the projection optical system by the passing exposure light, (Exposure area) of exposure light that is conjugate to the illumination area on the plate P on which the photosensitive material (photosensitive agent) is applied. The mask M is relatively moved in the scanning direction (Y-axis direction) with respect to a plurality of illumination regions (exposure light) by synchronous driving of the mask stage MST and the plate stage PST, Scanning exposure of a shot area (division area) on the plate P is performed by relatively moving the plate P in the scanning direction (Y-axis direction) with respect to the exposure area (exposure light) ) Is transferred.

플레이트 스테이지 (PST) 는, 도 2 에 나타낸 바와 같이, 투영 유닛 (PU)의 하방에 배치되어 있다. 여기서, 플레이트 스테이지 (PST) 상에는, 플레이트 (P) 가 탑재되어 있다. 플레이트 스테이지 (PST) 는, 도 8 에 나타낸 바와 같이, 정반 (68) 상에 X 축 방향으로 이간되어 설치된 Y 축 방향을 길이 방향으로 하는 한 쌍의 가이드 (69a, 69b) 상에 에어 베어링 등을 통해 비접촉으로 지지되고 있다. 플레이트 스테이지 (PST) 는, 플레이트 스테이지 구동계 (PSD) 에 의해, 가이드 (69a, 69b) 상에서, Y 축 방향으로 소정의 스트로크 내에서 구동 가능하고, X 축 방향, θz 방향, Z 축 방향 및 XY 평면에 대한 경사 방향 (X 축 둘레의 회전 방향 (θx 방향) 및 Y 축 둘레의 회전 방향 (θy 방향)) 으로도 미소 구동 가능하다.The plate stage PST is disposed below the projection unit PU as shown in Fig. Here, a plate P is mounted on the plate stage PST. As shown in Fig. 8, the plate stage PST is provided with a pair of guides 69a and 69b spaced apart in the X-axis direction on the surface plate 68 in the Y-axis direction in the longitudinal direction, Contactless support. The plate stage PST is driven by a plate stage driving system PSD on guides 69a and 69b in a predetermined stroke in the Y axis direction and is movable in the X axis direction, (The rotation direction (? X direction) about the X axis and the rotation direction (? Y direction) around the Y axis).

상세히 서술하면, 플레이트 스테이지 구동계 (PSD) 는, 한 쌍의 선형 모터 (73, 74) 를 포함한다. 한 쌍의 선형 모터 (73, 74) 를 구성하는 고정자 (73a, 74a) 는, 도 8 에 나타낸 바와 같이, 모두 Y 축 방향을 길이로 하는 단면 U 자 형상 부재로 이루어지고, 길이 방향의 양단이 각각 가대 (66a, 66b) 의 전술한 각 단차부의 상면에 지지되고 있다. 여기서, 고정자 (73a, 74a) 는 서로 X 축 방향으로 이간되고, 그들의 중앙에 위치하는 배치에 의해 정반 (68) 이 가대 (66a, 66b) 의 전술한 내부 저면 상에 설치되어 있다. 고정자 (73a) 는, 전술한 고정자 (71a) 와 동일하게 구성됨과 함께, 고정자 (74a) 는 전술한 고정자 (72a) 와 동일하게 구성되어 있다.Described in detail, the plate stage driving system (PSD) includes a pair of linear motors 73 and 74. As shown in Fig. 8, the stators 73a and 74a constituting the pair of linear motors 73 and 74 are constituted by U-shaped members each having a length in the Y-axis direction and both ends in the longitudinal direction Are supported on the upper surfaces of the respective stepped portions of the support tables 66a and 66b, respectively. Here, the stators 73a and 74a are spaced apart from each other in the X-axis direction, and the platen 68 is provided on the above-mentioned inner bottom surface of the mounts 66a and 66b by the arrangement in the center thereof. The stator 73a is configured in the same manner as the stator 71a described above and the stator 74a is configured in the same manner as the stator 72a described above.

플레이트 스테이지 (PST) 의 +X 단부에는, 가동자 (73b) 가 돌출 형성되어 있다. 가동자 (73b) 는, 고정자 (73a) 의 내부 공간에 선단부가 삽입된 상태로 되어 있다. 가동자 (73b) 는, 전술한 가동자 (71b) 와 동일한 전기자 유닛 (코일 유닛) 에 의해 구성되고, 고정자 (73a) 와 함께 전술한 선형 모터 (71) 와 동일한 Y 선형 모터 (73) 를 구성한다. 또, 플레이트 스테이지 (PST) 의 -X 단부에는, 가동자 (74b) 가 돌출 형성되어 있다. 가동자 (74b) 는, 고정자 (74a) 의 내부 공간에 선단부가 삽입된 상태로 되어 있다. 가동자 (74b) 는 전술한 가동자 (72b) 와 동일한 전기자 유닛 (코일 유닛) 에 의해 구성되고, 고정자 (74a) 와 함께 전술한 선형 모터 (72) 와 동일한 XY 2 차원 선형 모터 (74) 를 구성한다.A mover 73b is protruded from the + X end of the plate stage PST. The movable member 73b is in a state in which the distal end portion is inserted into the inner space of the stator 73a. The mover 73b is constituted by the same armature unit (coil unit) as the above-described mover 71b and constitutes the same Y-linear motor 73 as the linear motor 71 described above together with the stator 73a do. A mover 74b is protruded from the -X end of the plate stage PST. The movable member 74b is in a state in which the leading end portion is inserted into the inner space of the stator 74a. The movable member 74b is constituted by the same armature unit (coil unit) as the mover 72b described above and has the same XY two-dimensional linear motor 74 as the linear motor 72 described above together with the stator 74a .

플레이트 스테이지 (PST) 는, 선형 모터 (73, 74) 에 의해 Y 축 방향으로 긴 스트로크로 구동됨과 함께, X 축 방향 및 θz 방향으로 미소 구동된다.The plate stage PST is driven by the linear motors 73 and 74 with a long stroke in the Y-axis direction and is slightly driven in the X-axis direction and the? Z direction.

플레이트 스테이지 구동계 (PSD) 는, 이 외에, 플레이트 스테이지 (PST) 를, Z 축 방향, θx 방향, θy 방향으로 구동하는 Z·틸트 구동 장치 (도시 생략) 를 포함한다. Z·틸트 구동 장치는, 일례로서 플레이트 스테이지 (PST) 를 각각 Z 축 방향으로 미소 구동하는, 예를 들어 보이스 코일 모터를 포함하는, 3 개 (또는 4 개) 의 Z 구동 장치에 의해 구성할 수 있다.The plate stage driving system PSD further includes a Z-tilt driving device (not shown) for driving the plate stage PST in the Z-axis direction, the? X direction, and the? Y direction. The Z-tilt driving device can be constituted by three (or four) Z-driving devices including, for example, a voice coil motor that slightly drives the plate stage PST in the Z-axis direction have.

플레이트 스테이지 (PST) 의 XY 평면 내에서의 위치 (및 경사 (θx 회전 및 θy 회전)) 는, 플레이트 스테이지 (PST) 에 설치된 (또는 형성된) 반사면에 계측 빔을 조사하는 플레이트 스테이지 간섭계 (PSI) (도 9 참조) 를 이용하여 계측되고, 그 계측 결과는, 주제어 장치 (20) 에 공급된다 (도 9 참조). 주제어 장치 (20) 는, 공급된 계측 결과에 기초하여, 플레이트 스테이지 구동계 (PSD) 를 통해 플레이트 스테이지 (PST) 를 구동하고, 플레이트 스테이지 (PST) 의 위치 (및 속도) 를 제어한다. 또한, 마스크 스테이지 (MST) 측과 마찬가지로, 인코더 시스템에 의해 플레이트 스테이지 (PST) 의 위치 정보를 계측해도 된다.The position (and tilt (? X rotation and? Y rotation) of the plate stage PST in the XY plane is determined by a plate stage interferometer (PSI) for irradiating a measurement beam to a reflection surface provided (or formed) on the plate stage PST, (See Fig. 9), and the measurement results are supplied to the main controller 20 (see Fig. 9). The main controller 20 drives the plate stage PST through the plate stage driving system PSD and controls the position (and speed) of the plate stage PST based on the supplied measurement results. Further, the position information of the plate stage PST may be measured by the encoder system similarly to the mask stage (MST) side.

전술한 바와 같이, 바디 (BD) 는, 전체 프레임 (50) 과는 독립적으로, 플로어면 (F) 상에 설치되어 있다. 따라서, 바디 (BD) 의 각 부에 탑재된 마스크 스테이지 (MST), 투영 유닛 (PU), 및 플레이트 스테이지 (PST) 등은, 전체 프레임 (50) 과는 독립적으로, 플로어면 (F) 상에 설치되어 있다.As described above, the body BD is provided on the floor surface F independently of the entire frame 50. [ Therefore, the mask stage MST, the projection unit PU, and the plate stage PST or the like mounted on each part of the body BD can be mounted on the floor surface F independently of the entire frame 50 Is installed.

또, 본 실시형태의 노광 장치 (100) 에는, 플레이트 스테이지 (PST) 에 탑재되는 플레이트 (P) 의 면위치 (표면의 Z 축 방향의 위치) 를 계측하는 면위치 계측계 (AF) (도 9 참조) 가 구비되어 있다. 면위치 계측계 (AF) 로서, 예를 들어, 미국 특허 제6,552,775호 명세서에 개시되어 있는 계측계가 이용되고 있다.The exposure apparatus 100 of the present embodiment is provided with a surface position measuring system AF (FIG. 9 (a)) for measuring the surface position of the plate P mounted on the plate stage PST (See FIG. As a surface position measuring system (AF), for example, a measurement system disclosed in USP 6,552,775 is used.

본체부 (100') 는, 추가로 플레이트 스테이지 (PST) 의 상방에 배치된 복수의 정렬계 (AL) (도 8 에서는 도시 생략, 도 9 참조) 를 포함한다. 정렬계 (AL) 는, 투영 유닛 (PU) 과 함께 경통 정반 (62) 에 매달려 지지되어 있다.The body portion 100 'further includes a plurality of alignment systems AL (not shown in FIG. 8, see FIG. 9) arranged above the plate stage PST. The alignment system AL is suspended from the barrel base plate 62 together with the projection unit PU.

정렬계 (AL) 로서, 예를 들어, 화상 처리 방식의 FIA (Field Image Alig㎚ent) 계가 이용되고 있다. 정렬계 (AL) 의 검출 결과 (대상 마크의 위치 정보) 는, 정렬 신호 처리계 (도시 생략) 를 통해 주제어 장치 (20) 에 공급된다 (도 9 참조).As an alignment system (AL), for example, an image processing type FIA (Field Image Alignment) system is used. The detection result (position information of the target mark) of the alignment system AL is supplied to the main controller 20 through an alignment signal processing system (not shown) (see FIG. 9).

또, 플레이트 스테이지 (PST) 상에는 복수의 마크판 (도시 생략) 이 설치되어 있다. 여기서, 마크판 (도시 생략) 의 표면의 높이는, 플레이트 스테이지 (PST) 상에 탑재되는 플레이트 (P) 의 높이와 거의 동등하다. 마크판 (도시 생략) 의 표면에는, 상기 서술한 정렬계 (AL) 에 의해 검출되는 기준 마크가 형성되어 있다.In addition, a plurality of mark plates (not shown) are provided on the plate stage PST. Here, the height of the surface of the mark plate (not shown) is substantially equal to the height of the plate P mounted on the plate stage PST. On the surface of a mark plate (not shown), a reference mark detected by the above-described alignment system (AL) is formed.

또, 플레이트 스테이지 (PST) 의 내부에는, 상기 서술한 복수의 마크판 (도시 생략) 중 몇 개의 하방에, 렌즈계와 촬상 소자 (CCD 등) 를 각각 포함하는 마크 이미지 검출계 (MD) (도 9 참조) 가 각각 배치되어 있다. 마크 이미지 검출계 (MD) 는, 노광광 (IL) 에 의해 조명된 마스크 (M) 상의 정렬 마크 (도시 생략) 의 투영 광학계 및 렌즈계에 의한 이미지와, 기준 마크의 렌즈계에 의한 이미지를 동시에 검출하고, 기준 마크 (의 이미지) 를 기준으로 하는 정렬 마크 (의 이미지) 의 위치를 계측한다. 그 계측 결과는, 주제어 장치 (20) 에 공급된다 (도 9 참조). 또한, 검출계 (MD) 는 마크 이미지를 촬상하는 방식에 한정되는 것이 아니라, 플레이트 스테이지 (PST) 의 상면에 형성되는 광 투과부를 통해 노광광 (IL) 을 검출하는 방식 등이어도 된다.A mark image detecting system MD (see Fig. 9 (A)) including a lens system and an image pickup element (CCD or the like) is provided in the plate stage PST under a few of the plurality of mark plates Respectively) are arranged. The mark image detecting system MD simultaneously detects the image by the projection optical system and the lens system of the alignment mark (not shown) on the mask M illuminated by the exposure light IL and the image by the lens system of the reference mark , And the position of the alignment mark (image of the reference mark) is measured. The measurement result is supplied to the main controller 20 (see Fig. 9). The detection system MD is not limited to the system for picking up the mark image but may be a system for detecting the exposure light IL through the light transmission portion formed on the upper surface of the plate stage PST.

본 실시형태의 노광 장치 (100) 에는, 마스크 스테이지 (MST) 상에 마스크 (M) 를 반송하는 마스크 반송 장치 (90) 가 부설되어 있다. 마스크 반송 장치 (90) 는, 예를 들어 도 7 에 나타낸 바와 같이, 유닛 (56) (을 구성하는 천정부 (56c)) 에 매달려 지지되어 있다. 마스크 반송 장치 (90) 는, 예를 들어 도 2 및 도 7 에 나타낸 바와 같이, 천정부 (56c) 에 매달린 상태로 고정되고, X 축 방향으로 연장되는 레일 부재 (91) 와, 그 레일 부재 (91) 에 형성된 도시 생략된 가이드를 따라 레일 부재 (91) 의 하방에서 X 축 방향으로 이동가능한 마스크 로더 본체 (92) 를 구비하고 있다. 레일 부재 (91) 는, 그 -X 측의 단부가, 도 1 로부터도 알 수 있는 바와 같이, 전체 프레임 (50) 의 외부로 돌출되어 있다. 본 실시형태에서는, 마스크 스테이지 (MST) 에 대한 마스크 (M) 의 로드 및 마스크 스테이지 (MST) 로부터의 마스크 (M) 의 언로드는, 상방으로부터 실시된다. 그 때문에, 마스크 로더 본체 (92) 는, 전체 프레임 (50) 외부의 마스크의 수수 위치와, 마스크 스테이지 (MST) 상방의 마스크 스테이지 (MST) 에 대한 마스크의 수수 위치 사이에서 왕복 이동가능하게 구성되어 있다.The exposure apparatus 100 of the present embodiment is provided with a mask transfer device 90 for transferring a mask M onto a mask stage MST. The mask conveying device 90 is suspended from the ceiling portion 56c constituting the unit 56 as shown in Fig. 7, for example. 2 and 7, the mask conveying device 90 includes a rail member 91 fixed in a suspended state on the ceiling portion 56c and extending in the X axis direction, And a mask loader body 92 movable in the X-axis direction below the rail member 91 along a guide (not shown) The end portion of the rail member 91 on the -X side protrudes to the outside of the entire frame 50, as can be seen from Fig. In the present embodiment, the loading of the mask M to the mask stage MST and the unloading of the mask M from the mask stage MST are carried out from above. The mask loader main body 92 is configured to be reciprocatable between the transfer position of the mask outside the entire frame 50 and the transfer position of the mask with respect to the mask stage MST above the mask stage MST have.

또한 본 실시형태의 노광 장치 (100) 에서는, 본체부 (100') 의 외측에 안전책이 배치되어 있다. 도 1 에 나타나는 노광 장치 (100) 로부터 노광 장치 본체 (본체부 (100') 를 포함한다) 와 유닛 (56) 을 제거한 잔부를 나타내는 사시도인 도 10 및 도 10 으로부터 유닛 (54) 및 유닛 (52) 을 제거한 도 11 에 나타낸 바와 같이, 예를 들어, 본체부 (100') 의 +Y 측에는, 평면에서 볼 때 U 자 형상인 안전책 (SR₁) 이 배치되어 있다. 안전책 (SR₁) 은, 도 10 으로부터 알 수 있는 바와 같이, 유닛 (54) 의 내부에 배치되어 있다. 또, 본체부 (100') 의 -X 측에는, 도 10 및 도 11 에 나타낸 바와 같이, 안전책 (SR₂, SR₃) 이 배치되어 있다. 안전책 (SR₂) 은, 유닛 (54) 과 유닛 (52) 사이, 보다 상세하게는 다리부 (54b) 와 다리부 (52b) 사이에 배치되어 있다. 또, 안전책 (SR₃) 은, 유닛 (54) 의 내부, 구체적으로는, 다리부 (54b) 의 내측에 배치되어 있다. 그 밖의 장소에도 안전책이 형성되어 있다. 이들 안전책은, 챔버의 내부를 이중 구조로 하고, 챔버의 내부에 들어간 작업자들이, 본체부 (100') 의 특정의 일부에 잘못하여 접촉하는 것을 방지하기 위해 형성되어 있다. 그 특정의 일부는, 예를 들어 정밀한 부분, 위험한 부분 등이다.Further, in the exposure apparatus 100 of the present embodiment, a safety book is disposed outside the main body portion 100 '. 10 and 10, which are perspective views showing the remainder of the exposure apparatus 100 (including the main body 100 ') and the unit 56 removed from the exposure apparatus 100 shown in FIG. 1, the unit 54 and the unit 52 11, for example, a safety book SR ₁ , which is U-shaped when viewed in a plan view, is disposed on the + Y side of the main body 100 '. The safety book SR ₁ is disposed inside the unit 54, as can be seen from Fig. The -X side of the body portion 100 ', as shown in Fig. 10 and 11, is arranged for Safety ₍₂ SR, ₃ SR). The safety book SR ₂ is disposed between the unit 54 and the unit 52, more specifically between the leg portion 54b and the leg portion 52b. The safety book SR ₃ is disposed inside the unit 54, specifically, inside the leg portion 54b. Safety books are also formed in other places. These safeguards are formed to prevent the workers inside the chamber from erroneously touching a specific part of the main body 100 'with the inside of the chamber being of a dual structure. Some of the specific ones are, for example, precise parts, dangerous parts, and the like.

*다음으로, 액정 표시 소자의 제조 공장 (클린 룸) 에 있어서의 노광 장치 (100) 의 조립 순서에 대해, 도 12∼도 23 에 기초하여 설명한다.Next, the assembling procedure of the exposure apparatus 100 in the manufacturing factory (clean room) of the liquid crystal display element will be described with reference to Figs. 12 to 23. Fig.

먼저, 공장 (클린 룸) 내에서, 장치 설치를 위한 기초선 표시, 즉 장치 설치 위치의 결정 및 앵커-볼트의 장착 위치의 결정을 위한 플로어면의 치수 계측, 전체 프레임 (50) 의 설치 위치 높이 계측, 그 밖의 준비 작업 후, 본체부 (100') 의 조립, 및 전체 프레임 (50) 의 부조 (즉, 3 개의 유닛 (52, 54, 56) 의 조립) 가 병행하여 실시된다. 이 때, 조명계 (IOP) 를, 그 사출 단부 (조명계 (IOP) 의 일부를 구성하는 조명 광학계의 일부) 를 전술한 천정부 (52c) 의 개구 (52d) 의 내부에 삽입한 상태에서, 유닛 (52) 의 천정부 (52c) 상에 탑재한다. 본체부 (100') 는, 본체부 (100') 의 일부를 각각 구성하는 각종 서브 시스템을, 소정의 기계적 정밀도, 전기적 정밀도, 광학적 정밀도를 유지하도록 조립함으로써 제조된다. 이들 각종 정밀도를 확보하기 위해서, 이 조립의 전후에는, 각종 광학계에 대해서는 광학적 정밀도를 달성하기 위한 조정, 각종 기계계에 대해서는 기계적 정밀도를 달성하기 위한 조정, 각종 전기계에 대해서는 전기적 정밀도를 달성하기 위한 조정이 실시된다. 본체부 (100') 의 조립은, 각종 서브 시스템 상호의 기계적 접속, 전기 회로의 배선 접속, 기압 회로의 배관 접속 등이 포함된다.First, in the factory (clean room), a base line display for installation of the apparatus, that is, a dimension measurement of the floor surface for determining the mounting position of the anchor-bolt and a mounting position of the anchor bolt, The assembling of the body 100 'and the assembling of the entire frame 50 (that is, the assembling of the three units 52, 54 and 56) are performed in parallel. At this time, in a state in which the illumination system IOP is inserted into the opening 52d of the above-mentioned ceiling portion 52c with its emission end (a part of the illumination optical system constituting a part of the illumination system IOP) On the ceiling portion 52c. The main body 100 'is manufactured by assembling various subsystems, each of which constitutes a part of the main body 100', so as to maintain predetermined mechanical precision, electrical precision and optical precision. In order to secure these various accuracies, before and after the assembly, adjustment is made to achieve optical precision for various optical systems, adjustment for achieving mechanical precision for various mechanical systems, and adjustment for achieving electrical precision for various machines Adjustment is performed. Assembly of the main body 100 'includes mechanical connection of various subsystems, wiring connection of an electric circuit, piping connection of a pneumatic circuit, and the like.

이러한 후, 전체 프레임의 도킹, 즉, 상기 서술한 전체 프레임 (50) 의 부조로 부조된 3 개의 유닛 (52, 54, 56) 을 이하의 순서로 도킹한다.After this, the three units 52, 54, and 56, which are docked with the entire frame 50, that is, the docking of the entire frame 50, are docked in the following order.

먼저, 도 12 에 나타낸 바와 같이, 유닛 (52) 의 위치결정 공구 (102a, 102b 및 102c) 를 유닛 (52) 에 각각 장착한다. 또한, 이 때, 유닛 (52) 에는, 공구용 난간 (103) 이 장착되어 있다.First, as shown in Fig. 12, the positioning tools 102a, 102b, and 102c of the unit 52 are mounted on the unit 52, respectively. At this time, the unit 52 is provided with a handrail 103 for a tool.

다음으로, 유닛 (52) 을 도시 생략된 매다는 공구를 통해 도시 생략된 문형 리프터로 매달아 올려 위치결정 공구 (102a, 102b 및 102c) 를, 바디 (BD) 에 가압하면서 유닛 (52) 을 하강시킨다. 이 때, 도 13 에 나타나는 위치결정 공구 맞댐면 (104a, 104b 및 104c) 에, 위치결정 공구 (102a, 102b 및 102c) 의 각각이 가압된다.Next, the unit 52 is hung with a door lifter (not shown) through an unillustrated tool (not shown) to lower the unit 52 while pressing the positioning tools 102a, 102b and 102c against the body BD. At this time, each of the positioning tools 102a, 102b, and 102c is pressed against the positioning tool abutting surfaces 104a, 104b, and 104c shown in Fig.

또한, 위치결정 공구 (102a, 102b 및 102c) 를 사용하지 않고, 상기 서술한 기초선 표시로 결정된 기초선 표시선에 맞추어, 유닛 (52) 을 설치하는 방법을 채용해도 된다.A method of installing the unit 52 in accordance with the base line indicated by the base line display described above without using the positioning tools 102a, 102b, and 102c may be employed.

다음으로, 도시 생략된 매다는 공구 및 위치결정 공구 (102a, 102b 및 102c) 를 유닛 (52) 으로부터 떼어내고, 유닛 (52) 에 앵커-볼트 및 남은 패널을 장착한다. 도 14 에는, 이 앵커-볼트 등의 장착이 종료된 상태가 나타나 있다.Next, the unillustrated dangling tool and positioning tool 102a, 102b and 102c are removed from the unit 52, and the anchor bolt and the remaining panel are mounted on the unit 52. Fig. 14 shows a state in which the mounting of the anchor bolt and the like is completed.

다음으로, 도 15 에 나타낸 바와 같이, 유닛 (54), 유닛 (56) 및 마스크 로더 (90) 를 본체부 (100') 의 +Y 측으로 이동시킨다. 이 이동은, 도시 생략된 문형 리프터 및/또는 에어 호버를 이용하여, 작업자에 의해 실시된다.Next, as shown in Fig. 15, the unit 54, the unit 56 and the mask loader 90 are moved to the + Y side of the main body 100 '. This movement is carried out by an operator using a door lifter and / or air hover not shown.

다음으로, 도 16 에 나타낸 바와 같이, 유닛 (54) 에 위치결정 공구 (106a, 106b) 를 장착한다.Next, the positioning tools 106a and 106b are mounted on the unit 54, as shown in Fig.

다음으로, 유닛 (54) 을, 도 17 에 나타나는 위치로부터, 도시 생략된 매다는 공구를 통해 도시 생략된 문형 리프터로 매달아 올리고, 위치결정 공구 (106a, 106b) 에 의해 위치 결정하여 소정의 위치 (도 18 에 나타나는 위치) 로 하강시킨다.Next, the unit 54 is hung from the position shown in Fig. 17 with a door lifter (not shown) through a hanging tool (not shown), positioned by the positioning tools 106a and 106b, 18). &Lt; / RTI >

다음으로, 도시 생략된 매다는 공구 및 위치결정 공구 (106a 및 106b) 를, 유닛 (54) 으로부터 떼어내어, 유닛 (54) 에 앵커-볼트 및 남은 패널을 장착한다. 도 18 에는, 이 앵커-볼트 등의 장착이 종료된 상태가 나타나 있다.Next, unillustrated dangling tools and positioning tools 106a and 106b are removed from unit 54 to mount anchor-bolts and remaining panels to unit 54. [ Fig. 18 shows a state in which the mounting of the anchor bolt or the like is completed.

다음으로, 도 19 에 나타낸 바와 같이, 유닛 (56) 에 브릿지 프레임 (108) 을 장착한다. 또한, 도 19 에서는, 유닛 (56) 의 다리부 (56a, 56b) 에 이동용 캐스터가 장착되어 있다.Next, as shown in Fig. 19, the bridge frame 108 is mounted on the unit 56. Fig. 19, a movable castor is mounted on the legs 56a, 56b of the unit 56. [

다음으로, 도 20 에 나타낸 바와 같이, 유닛 (56) 을 도시 생략된 매다는 공구를 통해 도시 생략된 문형 리프터로 매달아 올리고, 대차 (臺車) (110) 상에 탑재된 마스크 로더 (90) 위로 하강시켜, 유닛 (56) 과 마스크 로더 (90) 를 체결한다. 유닛 (56) 과 마스크 로더 (90) 를 체결 후, 마스크 로더 (90) 와 대차 (110) 의 접속 (체결) 을 해제한다.Next, as shown in Fig. 20, the unit 56 is hung with a door lifter (not shown) through a hanging tool (not shown) and lowered onto the mask loader 90 mounted on the bogie 110 And the unit 56 and the mask loader 90 are fastened together. After the unit 56 and the mask loader 90 are fastened, the connection (fastening) between the mask loader 90 and the carriage 110 is released.

다음으로, 도 21 에 나타낸 바와 같이, 마스크 로더 (90) 가 체결된 유닛 (56) 을 도시 생략된 매다는 공구를 통해 도시 생략된 문형 리프터로 매달아 올리고, 유닛 (54) 과 유닛 (52) 사이에 하강시켜, 유닛 (56) 을 유닛 (54) 과 유닛 (52) 에 체결한다. 이 체결시에 장해가 되는 캐스터는 체결에 앞서 유닛 (56) 의 다리부로부터 떼어내진다. 도 22 에는, 유닛 (56) 이 유닛 (54) 과 유닛 (52) 에 체결된 상태가 나타나 있다.21, the unit 56 to which the mask loader 90 is fastened is hung with a door lifter (not shown) through an unillustrated tool, and the unit 56 is lifted between the unit 54 and the unit 52 And the unit 56 is fastened to the unit 54 and the unit 52 by descending. The casters, which become obstacles at the time of tightening, are detached from the legs of the unit 56 prior to fastening. 22 shows a state in which the unit 56 is fastened to the unit 54 and the unit 52. Fig.

그리고, 브릿지 프레임 (108) 을 정규 위치에 장착하고, 유닛 (56) 으로부터 매다는 공구를 떼어내고, 유닛 (52) 과 유닛 (54) 사이에 양자를 연결하는 복수의 접속 부재 (58) 를 장착한다. 그리고, 나머지 유닛 (드라이버, 공압 박스 등) 을 유닛 (52, 54, 56) 에 싣고, 마스크 로더용의 작업용 베이스를 장착하고, 유닛 (54) 으로부터 공구용 난간을 떼어낸다. 이로써, 전체 프레임의 도킹이 종료된다. 도 23 에는, 전체 프레임의 도킹이 종료된 상태가 나타나 있다. 그 후, 전체 프레임의 외면에 복수의 패널을 조립하여 챔버를 구성한다. 이로써, 노광 장치 (100) 의 조립이 종료된다. 그 후, 종합 조정을 하여 노광 장치 전체로서의 각종 정밀도가 확보된다. 또한, 안전책의 설치 작업 등에 대해서는 설명을 생략하였다.Then, the bridge frame 108 is mounted at a regular position, a tool for hanging from the unit 56 is removed, and a plurality of connecting members 58 for connecting the unit 52 and the unit 54 are mounted . Then, the remaining units (driver, pneumatic box, etc.) are loaded on the units 52, 54 and 56, the work bases for the mask loader are mounted, and the handrail for the tool is removed from the unit 54. This completes the docking of the entire frame. Fig. 23 shows a state in which the docking of the entire frame is completed. Then, a plurality of panels are assembled on the outer surface of the whole frame to constitute a chamber. Thus, the assembly of the exposure apparatus 100 is completed. Thereafter, comprehensive adjustment is made to assure various precision of the entire exposure apparatus. The description of the installation work of the safety book is omitted.

이상 설명한 바와 같이, 본 실시형태의 노광 장치 (100) 에 따르면, 노광 장치 본체 및 노광 장치 본체에 부설되는 장치 (예를 들어 반송 장치 (90) 등) 의 구성 각 부의 적어도 일부를 지지하는 복수, 여기서는 3 개의 유닛 (52, 54, 56) 으로 구성되는 전체 프레임 (50) 을 구비하고 있다. 이 때문에, 유닛 (52, 54, 56) 각각의 크기를, 차량 등의 수송·반송 수단의 중량 제한, 수송·반송 능력 등을 고려하여 설정할 수 있다. 또한 복수의 유닛 (52, 54, 56) 의 각각이 상기 구성 각 부의 적어도 일부를 지지할 수 있기 때문에, 전체 프레임 (50) 에 가해지는 하중을 분산시킬 수 있다. 또, 복수의 유닛 (52, 54, 56) 으로 1 개의 전체 프레임 (50) 을 구축하므로, 전체 프레임 (50) 전체로서 충분한 강도를 갖게 하는 것이 용이하다. 본 실시형태에서는, 각 유닛으로서 강도가 높은 문형 유닛이 채용되고 있으므로, 이 점에 있어서도 강도의 향상을 도모할 수 있다. 따라서, 대형 노광 장치를 용이하게 또한 단기간 (단시간) 에 조립하는 것이 가능해진다.As described above, according to the exposure apparatus 100 of the present embodiment, a plurality of exposure apparatuses 100 for supporting at least a part of the constituent parts of the exposure apparatus main body and the apparatus (for example, the transfer apparatus 90, etc.) In this embodiment, an entire frame 50 including three units 52, 54, and 56 is provided. Therefore, the size of each of the units 52, 54, 56 can be set in consideration of the weight limitation of the transportation and transportation means such as a vehicle, the transportation and transportation ability, and the like. Further, since each of the plurality of units 52, 54, and 56 can support at least a part of each of the constituent parts, the load applied to the entire frame 50 can be dispersed. Further, since one whole frame 50 is formed of the plurality of units 52, 54, and 56, it is easy to have sufficient strength as the whole of the whole frame 50. [ In this embodiment, since the door unit having high strength is employed as each unit, the strength can also be improved in this respect. Therefore, it becomes possible to easily assemble the large-sized exposure apparatus in a short time (short time).

또, 본 실시형태의 노광 장치 (100) 에 따르면, 전술한 바와 같이, 전체 프레임 (50) 전체로서 충분한 강도를 갖게 하는 것이 용이하므로, 진동, 지진 등에도 충분히 대응할 수 있고, 대형, 대중량의 노광 장치의 정밀도 향상을 도모하는 것이 가능해진다.According to the exposure apparatus 100 of the present embodiment, as described above, since it is easy to make the entire frame 50 sufficiently strong, it is possible to sufficiently cope with vibration, earthquake, and the like, It is possible to improve the precision of the exposure apparatus.

또, 본 실시형태의 노광 장치 (100) 에 따르면, 바디 (BD) 는, 전체 프레임 (50) 과는 독립적으로, 또한 방진 시스템 (65) 을 통해 플로어면 (F) 상에 설치되어 있다. 그리고, 마스크 스테이지 (MST) 를 구동하는 한 쌍의 선형 모터 (71, 72) 의 고정자 (71a, 72a) 는 전체 프레임 (50) 에 매달려 지지되고 있다. 이 때문에, 선형 모터 (71, 72) 에 의해 마스크 스테이지 (MST) 를 구동할 때에 고정자 (71a, 72a) 에 작용하는 구동력의 반력은, 그 고정자를 통해 전체 프레임 (50) 에 전달되고, 그 전체 프레임 (50) 을 통해 기계적으로 플로어 (대지) 로 빠져나간다. 즉, 고정자 (71a, 72a) 가, 예를 들어 미국 특허 제5,874,820호 명세서에 개시되는 리액션 프레임으로서 기능한다. 따라서, 마스크 스테이지 (MST) 를 구동하는 구동력의 반력 등이 바디 (BD)의 일부에 지지된 투영 유닛 (PU) 의 진동 요인이 되는 경우가 없다. 또한, 예를 들어 일본 공개특허공보 평8-63231호 (대응하는 영국 특허출원 공개 제2290658호 명세서) 등에 개시되어 있는 바와 같이, 고정자 (71a, 72a) 를 전체 프레임 (50) 에 매달아 지지된 지지 부재에 대해 이동가능한 구성으로 하고, 상기 반력의 작용에 의해 운동량 보존의 법칙에 따라 고정자 (71a, 72a) 를 마스크 스테이지 (MST) (가동자 (71b, 72b)) 와 반대 방향으로 이동시킴으로써, 상기 반력이 투영 유닛 (PU) 의 진동 요인이 되는 것을 배제해도 된다. 즉, 고정자 (71a, 72a) 를, 이른바 카운터 매스로 해도 된다.According to the exposure apparatus 100 of the present embodiment, the body BD is provided on the floor surface F independently of the entire frame 50 and also through the dustproof system 65. [ The stators 71a and 72a of the pair of linear motors 71 and 72 for driving the mask stage MST are suspended from the entire frame 50. [ Therefore, when the mask stage MST is driven by the linear motors 71 and 72, the reaction force of the driving force acting on the stators 71a and 72a is transmitted to the entire frame 50 through the stator, And mechanically escapes through the frame 50 to the floor (ground). That is, the stators 71a and 72a function as reaction frames as disclosed in, for example, U.S. Patent No. 5,874,820. Therefore, the reaction force of the driving force for driving the mask stage MST does not become a vibration factor of the projection unit PU supported on a part of the body BD. Further, as disclosed in, for example, JP-A-8-63231 (corresponding to British Patent Application Publication No. 2290658), the stator 71a, 72a is hung on the entire frame 50, The stator 71a or 72a is moved in the opposite direction to the mask stage MST (mover 71b or 72b) in accordance with the law of conservation of momentum by the action of the reaction force, It may be excluded that the reaction force becomes a vibration factor of the projection unit PU. That is, the stators 71a and 72a may be so-called counter masses.

또, 본 실시형태의 노광 장치 (100) 에 따르면, 마스크 로더 (90) 의 레일 부재 (91) 가 유닛 (56) 의 천정부 (56c) 로부터 매달리고, 마스크 로더 본체 (92) 가 레일 부재 (91) 를 따라 전체 프레임 (50) 외부의 마스크의 수수 위치와 마스크 스테이지 (MST) 상방의 마스크 스테이지 (MST) 에 대한 마스크의 수수 위치 사이에서 왕복 이동하도록 구성되어 있다. 이로써, 상방으로부터, 마스크 스테이지 (MST) 에 대한 마스크의 로드, 및 마스크 스테이지 (MST) 로부터의 마스크의 언로드를 할 수 있도록 되어 있다. 또, 마스크 반송에 수반하여 발생하는 마스크 로더 (90) 의 진동이, 전체 프레임 (50) 과는 독립적으로, 플로어면 (F) 상에 설치된 바디 (BD) (본체부 (100')) 로 전달되는 것을 억제 (저지) 할 수 있어, 노광 정밀도의 향상을 도모할 수 있다.According to the exposure apparatus 100 of the present embodiment, the rail member 91 of the mask loader 90 is suspended from the ceiling portion 56c of the unit 56, and the mask loader main body 92 is fixed to the rail member 91, And between the transfer position of the mask outside the entire frame 50 and the transfer position of the mask with respect to the mask stage MST above the mask stage MST. As a result, the mask can be loaded from the upper side to the mask stage (MST), and the mask can be unloaded from the mask stage (MST). The vibration of the mask loader 90 caused by the conveyance of the mask is transmitted to the body BD (body portion 100 ') provided on the floor surface F independently of the entire frame 50 (Inhibition) of the exposure to light can be suppressed, and the exposure accuracy can be improved.

또한, 상기 실시형태에서는, 2 개의 문형 유닛 (52, 54) 과 그 문형 유닛 (52, 54) 을 연결하는 연결 유닛 (56) 의 3 개의 유닛에 의해, 전체 프레임 (50) 을 구성했지만, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 문형 유닛은, 1 개 또는 3 개 이상 형성되어 있어도 되고, 연결 유닛은 복수 형성되어 있어도 된다. 예를 들어, 문형 유닛이 3 개 이상 형성되는 경우, 그 3 개 이상의 문형 유닛을 이용하여 고정자 (71a, 72a) 를 지지해도 된다. 이로써, 마스크 스테이지 (MST) 의 스트로크의 신장이 용이하게 된다. 단, 문형 유닛 및 연결 유닛의 적어도 일방은 반드시 형성되지 않아도 된다.In the above embodiment, the entire frame 50 is constituted by the three units of the two door units 52 and 54 and the connecting unit 56 connecting the door units 52 and 54. However, The invention is not limited thereto. For example, one or more door units may be formed, or a plurality of connection units may be formed. For example, when three or more door units are formed, the stator 71a or 72a may be supported by using three or more door units. This facilitates extension of the stroke of the mask stage (MST). However, at least one of the door unit and the connection unit is not necessarily formed.

또, 상기 실시형태 중의 유닛 (52, 54, 56) 이 너무 크거나 또는 너무 무거워서, 수송 수단에 의해 수송할 수 없는 경우 등에는, 유닛 (52, 54, 56) 을, 예를 들어, 다리부와 천판부로 분할하여 반송하도록 해도 된다. 즉, 복수의 유닛 (52, 54, 56) 의 적어도 하나를, 복수의 부재로 분할 가능하게 구성하고, 반송 (수송) 시에는 그 복수의 부재로 분할하고, 그 분할 가능하게 구성한 적어도 하나의 유닛을 현지에서 조립하고, 조립한 그 적어도 하나의 유닛을 다른 유닛과 조합하여 설치해도 된다.In the case where the units 52, 54, 56 in the above embodiment are too large or too heavy and can not be transported by the transportation means, the units 52, 54, And the top plate portion. That is, at least one of the plurality of units 52, 54, 56 is configured to be capable of being divided into a plurality of members, and is divided into a plurality of members during transportation (transportation), and at least one unit May be assembled locally, and the assembled at least one unit may be installed in combination with another unit.

요점은, 상기 서술한 노광 장치 본체 등의 패턴 생성 장치 및 그 장치에 부설되는 장치의 구성 각 부의 적어도 일부를 지지하는 복수의 유닛으로부터 전체 프레임이 구성되는 것이면, 그 유닛의 수는 상관없다.The point is that the number of the units is not particularly limited as long as the entire frame is constituted by a plurality of units for supporting at least a part of the constituent parts of the pattern generating apparatus such as the above-described exposure apparatus main body and the apparatus attached to the apparatus.

또한, 상기 서술한 안전책은, 그 기능으로부터, 칸막이 부재, 보호 부재, 또는 격벽 부재 등으로도 지칭될 수 있다. 따라서, 예를 들어 안전책을 칸막이 부재로서 사용하는 경우, 챔버의 내부 공간을 나눔으로써, 예를 들어 그 내부 공간의 공조 효율을 높일 수 있다.Further, the safety described above can also be referred to as a partitioning member, a protection member, a partition wall member, or the like from its function. Therefore, for example, when a safety book is used as a partitioning member, it is possible to increase the efficiency of air conditioning of the internal space, for example, by dividing the internal space of the chamber.

또, 전체 프레임 (50) 의 내측 또한 안전책의 외측에, 플레이트 (P) 의 제전을 실시하는 이오나이저가 배치되고, 정비 등을 위해 작업원 (또는 오퍼레이터 등) 이 노광 장치 내부에 들어가는 경우, 이오나이저가 오프되고나서야 비로소 전체 프레임 (50) 내에 출입 가능해진다. 또, 전체 프레임 (50) 내에 들어간 작업원은 안전책을 통해 노광 장치 본체의 동작 상태를 육안으로 볼 수 있도록 되어 있다.An ionizer for discharging the plate P is arranged inside the entire frame 50 and on the outside of the safety book. When an operator (or an operator or the like) enters the inside of the exposure apparatus for maintenance or the like, It is possible to enter and exit the entire frame 50 only after the ionizer is turned off. In addition, the worker who enters the entire frame 50 can visually observe the operation state of the exposure apparatus main body through the safety book.

또, 노광 장치 본체 등의 패턴 생성 장치 및 그 장치에 부설되는 장치의 구성 각 부의 적어도 일부를 지지하는 복수의 유닛으로부터 전체 프레임이 구성되는 상기 실시형태의 노광 장치는, 노광 장치의 제조 공장으로부터 디바이스 제조 공장 으로의 수송뿐만 아니라, 다른 디바이스 제조 공장에 노광 장치를 이설하기 위한 수송, 및/또는 조립 등에도 유효하다.The exposure apparatus of the above-described embodiment, in which the entire frame is composed of a plurality of units for supporting at least a part of the constituent elements of the apparatus for pattern formation such as the main body of the exposure apparatus and the apparatus attached to the apparatus, It is effective not only for transportation to a manufacturing factory but also for transportation and / or assembly for installing an exposure apparatus in another device manufacturing factory.

또한, 상기 실시형태에서는, 마스크 스테이지 간섭계 (MSI) 를 이용하여 마스크 스테이지 (MST) 의 위치를, 또 플레이트 스테이지 간섭계 (PSI) 를 이용하여 플레이트 스테이지 (PST) 의 위치를 계측하는 것으로 하였다. 그러나, 이것에 한정되지 않고, 마스크 스테이지 간섭계 (MSI) 대신에, 인코더 (복수의 인코더로 구성되는 인코더 시스템) 를 이용해도 된다. 또는, 마스크 스테이지 간섭계 (MSI) 와 인코더를 병용해도 된다. 마찬가지로, 플레이트 스테이지 간섭계 (PSI) 대신에 인코더 (복수의 인코더로 구성되는 인코더 시스템) 를 이용해도 된다. 또는, 플레이트 스테이지 간섭계 (PSI) 와 인코더를 병용해도 된다.In the above embodiment, the position of the mask stage MST is measured using the mask stage interferometer (MSI), and the position of the plate stage PST is measured using the plate stage interferometer (PSI). However, the present invention is not limited to this, and an encoder (an encoder system composed of a plurality of encoders) may be used instead of the mask stage interferometer MSI. Alternatively, a mask stage interferometer (MSI) and an encoder may be used in combination. Similarly, an encoder (an encoder system composed of a plurality of encoders) may be used in place of the plate stage interferometer (PSI). Alternatively, a plate stage interferometer (PSI) and an encoder may be used in combination.

또, 상기 실시형태에 있어서, 노광광으로서, 예를 들어 DFB 반도체 레이저 또는 화이버 레이저로부터 발진되는 적외역, 또는 가시역의 단일 파장 레이저광을, 예를 들어 에르븀 (또는 에르븀과 이테르븀의 양방) 이 도핑된 화이버 앰프로 증폭하고, 비선형 광학 결정을 이용하여 자외광으로 파장 변환한 고조파를 이용해도 된다. 또, 고체 레이저 (파장 : 355 ㎚, 266 ㎚) 등을 사용해도 된다.In the above-described embodiment, erbium (or both of erbium and ytterbium) is irradiated as an exposure light, for example, a single wavelength laser light in an infrared region or a visible region oscillated from a DFB semiconductor laser or a fiber laser A harmonic wave which is amplified by a doped fiber amplifier and converted into ultraviolet light by using a nonlinear optical crystal may be used. Further, a solid laser (wavelength: 355 nm, 266 nm) or the like may be used.

또한, 상기 실시형태에서는, 투영 유닛 (PU) 이 복수의 투영 광학계를 구비한 멀티 렌즈 방식인 경우에 대해 설명했지만, 투영 광학 유닛의 갯수는 1 개 이상 있으면 된다. 또, 멀티 렌즈 방식의 투영 광학계에 한정하지 않고, 오프너형의 대형 미러를 사용한 투영 광학계 등이어도 된다.In the above embodiment, the case where the projection unit PU is a multi-lens system including a plurality of projection optical systems has been described, but the number of the projection optical units may be one or more. Further, the present invention is not limited to the projection optical system of the multi-lens type, but may be a projection optical system using an opener-type large mirror.

또, 상기 실시형태에서는 투영 광학계로서, 투영 배율이 등배인 것을 사용하는 경우에 대해 설명했지만, 이에 한정되지 않고, 투영 광학계는 축소계 및 확대계 중 어느 것이어도 된다.In the above embodiment, the case where the projection magnification is equal to that of the projection optical system has been described, but the present invention is not limited to this, and the projection optical system may be either a reduction system or a magnifying system.

또, 상기 실시형태에서는, 비액침 타입의 노광 장치에 본 발명이 적용된 경우에 대해 설명했지만, 이에 한정되지 않고, 예를 들어 미국 특허출원 공개 제2005/0259234호 명세서 등에 개시되는 바와 같이, 투영 광학계와 노광 대상의 기판 사이에 액체를 공급하고, 그 액체를 통해 노광광을 기판에 투사하는 액침 노광 방식의 노광 장치에 대해, 본 발명을 적용할 수도 있다.In the above embodiment, the present invention is applied to a non-immersion type exposure apparatus. However, the present invention is not limited to this. For example, as disclosed in U.S. Patent Application Publication No. 2005/0259234, The present invention can also be applied to an immersion exposure type exposure apparatus that supplies a liquid between a substrate to be exposed and a projection lens that projects exposure light onto the substrate.

또한, 상기 실시형태에 있어서는, 광 투과성의 마스크 기판 상에 소정의 차광 패턴 (또는 위상 패턴·감광 패턴) 을 형성한 광 투과형 마스크를 사용했지만, 이 마스크 대신에, 예를 들어 미국 특허 제6,778,257호 명세서에 개시되어 있는 바와 같이, 노광해야 할 패턴의 전자 데이터에 기초하여, 투과 패턴 또는 반사 패턴, 또는 발광 패턴을 형성하는 전자 마스크 (가변 성형 마스크), 예를 들어, 비발광형 화상 표시 소자 (공간 광 변조기로도 칭함) 의 일종인 DMD (Digital Micro-mirror Device) 를 사용하는 가변 성형 마스크를 이용해도 된다.Further, in the above embodiment, a light-transmitting mask in which a predetermined light-shielding pattern (or a phase pattern / light-shielding pattern) is formed on a light-transmitting mask substrate is used. Instead of this mask, for example, US Pat. No. 6,778,257 (Variable mold mask) for forming a transmission pattern, a reflection pattern, or a light emission pattern based on electronic data of a pattern to be exposed, for example, a non-light emitting type image display element A variable mold mask using a DMD (Digital Micro-mirror Device), which is a type of a spatial light modulator, may be used.

또한, 상기 실시형태의 전체 프레임 등의 프레임을 구비한 본 발명의 노광 장치는, 사이즈 (외경, 대각선, 한 변의 적어도 하나를 포함함) 가 500 ㎜ 이상인 기판, 예를 들어 액정 표시 소자 등의 평판 디스플레이 (FPD) 용 대형 기판을 노광하는 노광 장치에 대해 적용하는 것이 특히 유효하다. 이것은, 기판의 대형화에 대응하기 위하여 본 발명이 이루어져 있기 때문이다.Further, the exposure apparatus of the present invention having a frame such as the whole frame of the above embodiment can be used for a substrate having a size (including at least one of an outer diameter, a diagonal line, and one side) of 500 mm or more, for example, It is particularly effective to apply it to an exposure apparatus for exposing a large-sized substrate for a display (FPD). This is because the present invention is made in order to cope with the enlargement of the substrate.

또한, 상기 실시형태에서는, 본 발명이 주사 노광을 실시하는 투영 노광 장치에 적용된 경우에 대해 설명했지만, 이에 한정되지 않고, 본 발명은 투영 광학계를 이용하지 않는, 프록시미티 방식의 노광 장치에도 적용할 수 있다. 또, 본 발명은, 스텝·앤드·리피트 방식의 노광 장치 (이른바 스테퍼) 또는 스텝·앤드·스티치 방식의 노광 장치에도 적용할 수 있다.In the above embodiment, the present invention is applied to a projection exposure apparatus that performs scanning exposure. However, the present invention is not limited thereto. The present invention can be applied to a proximity exposure apparatus that does not use a projection optical system . The present invention is also applicable to a step-and-repeat exposure apparatus (so-called stepper) or a step-and-stitch exposure apparatus.

또, 노광 장치의 용도로는 각형 (角形) 의 유리 플레이트에 액정 표시 소자 패턴을 전사하는 액정용 노광 장치에 한정되지 않고, 예를 들어 반도체 제조용 노광 장치, 박막 자기 헤드, 마이크로 머신 및 DNA 칩 등을 제조하기 위한 노광 장치에도 널리 적용할 수 있다. 또, 반도체 소자 등의 마이크로디바이스뿐만 아니라, 광 노광 장치, EUV 노광 장치, X 선 노광 장치, 및 전자선 노광 장치 등에서 사용되는 마스크 또는 레티클을 제조하기 위해, 유리 기판 또는 실리콘 웨이퍼 등에 회로 패턴을 전사하는 노광 장치에도 본 발명을 적용할 수 있다. 또한, 노광 대상이 되는 물체는 유리 플레이트에 한정되는 것이 아니고, 예를 들어 웨이퍼, 세라믹 기판, 필름 부재, 또는 마스크 블랭크스 등 다른 물체여도 된다.The use of the exposure apparatus is not limited to a liquid crystal exposure apparatus for transferring a liquid crystal display element pattern to a square glass plate. For example, an exposure apparatus for semiconductor manufacturing, a thin film magnetic head, a micromachine, a DNA chip The present invention can be widely applied to an exposure apparatus for manufacturing an exposure apparatus. In order to manufacture masks or reticles used in not only microdevices such as semiconductor devices but also optical exposure apparatuses, EUV exposure apparatuses, X-ray exposure apparatuses, and electron beam exposure apparatuses, a circuit pattern is transferred onto a glass substrate or a silicon wafer The present invention can also be applied to an exposure apparatus. Further, the object to be exposed is not limited to the glass plate, and may be another object such as a wafer, a ceramic substrate, a film member, or a mask blank, for example.

또, 예를 들어 국제공개 제2001/035168호에 개시되어 있는 바와 같이, 간섭 무늬를 웨이퍼 상에 형성함으로써, 웨이퍼 상에 라인·앤드·스페이스 패턴을 형성하는 노광 장치 (리소그래피 시스템) 에도 본 발명을 적용할 수 있다.Also, as disclosed in, for example, International Publication No. 2001/035168, an exposure apparatus (lithography system) for forming a line-and-space pattern on a wafer by forming an interference fringe on the wafer is also applicable to the present invention Can be applied.

또한, 지금까지의 설명에서 인용한 노광 장치 등에 관한 모든 공보, 국제공개 공보, 미국 특허출원 공개 명세서 및 미국 특허 명세서의 개시를 원용하여 본 명세서의 기재의 일부로 한다.In addition, all of the publications relating to the exposure apparatus and the like cited in the foregoing description, the international publication publication, the United States patent application publication specification and the United States patent specification publication are referred to as a part of the description herein.

《디바이스 제조 방법》 &Quot; Device manufacturing method &

다음으로, 상기 실시형태의 노광 장치 (100) 를 리소그래피 공정에서 사용한 마이크로디바이스의 제조 방법에 대해 설명한다. 상기 실시형태의 노광 장치 (100) 에서는, 플레이트 (유리 기판) 상에 소정의 패턴 (회로 패턴, 전극 패턴 등) 을 형성함으로써, 마이크로디바이스로서의 액정 표시 소자를 얻을 수 있다.Next, a method of manufacturing a microdevice using the exposure apparatus 100 of the above-described embodiment in a lithography process will be described. In the exposure apparatus 100 according to the above embodiment, a liquid crystal display device as a microdevice can be obtained by forming a predetermined pattern (circuit pattern, electrode pattern or the like) on a plate (glass substrate).

〈패턴 형성 공정〉<Pattern Forming Step>

먼저, 상기 서술한 노광 장치 (100) 를 이용하여, 패턴 이미지를 감광성 기판 (레지스트가 도포된 유리 기판 등) 에 형성하는, 이른바 광 리소그래피 공정이 실행된다. 이 광 리소그래피 공정에 의해, 감광성 기판 상에는 다수의 전극 등을 포함하는 소정 패턴이 형성된다. 그 후, 노광된 기판은, 현상 공정, 에칭 공정, 레지스트 박리 공정 등의 각 공정을 거침으로써, 기판 상에 소정의 패턴이 형성된다.First, a so-called photolithography process is performed by using the above-described exposure apparatus 100 to form a pattern image on a photosensitive substrate (e.g., a glass substrate coated with a resist). By this photolithography process, a predetermined pattern including a plurality of electrodes or the like is formed on the photosensitive substrate. Thereafter, the exposed substrate is subjected to each step such as a development step, an etching step, and a resist stripping step, thereby forming a predetermined pattern on the substrate.

〈컬러 필터 형성 공정〉&Lt; Color filter forming step &

다음으로, R (Red), G (Green), B (Blue) 에 대응한 3 개의 도트 세트가 매트릭스상으로 다수 배열된, 또는 R, G, B 의 3 개의 스트라이프의 필터의 세트를 복수 수평 주사선 방향으로 배열한 컬러 필터를 형성한다.Next, a set of three stripe filters of R, G, and B, in which a large number of three dot sets corresponding to R (Red), G (Green), and B Thereby forming a color filter arranged in a direction

〈셀 조립 공정〉<Cell assembly process>

다음으로, 패턴 형성 공정에서 얻어진 소정 패턴을 갖는 기판, 및 컬러 필터 형성 공정에서 얻어진 컬러 필터 등을 이용하여 액정 패널 (액정 셀) 을 조립한다. 예를 들어, 패턴 형성 공정에서 얻어진 소정 패턴을 갖는 기판과 컬러 필터 형성 공정에서 얻어진 컬러 필터 사이에 액정을 주입하여, 액정 패널 (액정 셀) 을 제조한다.Next, a liquid crystal panel (liquid crystal cell) is assembled by using a substrate having a predetermined pattern obtained in the pattern forming step and a color filter obtained in the color filter forming step. For example, a liquid crystal panel (liquid crystal cell) is manufactured by injecting liquid crystal between a substrate having a predetermined pattern obtained in a pattern forming step and a color filter obtained in a color filter forming step.

〈모듈 조립 공정〉<Module assembly process>

그 후, 조립된 액정 패널 (액정 셀) 의 표시 동작을 실시하게 하는 전기 회로, 백라이트 등의 각 부품을 장착하여 액정 표시 소자로서 완성시킨다.Thereafter, each component such as an electric circuit and a backlight for performing the display operation of the assembled liquid crystal panel (liquid crystal cell) is mounted to complete the liquid crystal display device.

이 경우, 패턴 형성 공정에 있어서, 상기 실시형태의 노광 장치를 이용하여 고스루풋 및 고정밀도로 플레이트의 노광이 실시되므로, 결과적으로 액정 표시 소자의 생산성을 향상시킬 수 있다.In this case, in the pattern formation step, exposure of the plate is performed with high throughput and high precision using the exposure apparatus of the above embodiment, and consequently, the productivity of the liquid crystal display element can be improved as a result.

본 발명의 노광 장치는, 액정 표시 소자와 같은 평판형의 대형 전자 디바이스 (마이크로디바이스) 를 제조하기에 적합하다.The exposure apparatus of the present invention is suitable for manufacturing a large-sized flat electronic device (micro device) such as a liquid crystal display device.

Claims

An exposure apparatus for irradiating an energy beam to form a pattern on an object,
A pattern generating device for generating a pattern on the object;
A frame formed by a plurality of units for supporting at least a part of each of the constituent parts of the pattern generating apparatus and the apparatus attached to the apparatus; And
And an intermediate member disposed between the pattern generating device and the frame,
Wherein the intermediate member is configured such that an operator between the frame and the intermediate member can confirm the operation of the pattern generating device through the intermediate member.

The method according to claim 1,
Wherein at least a part of the plurality of units is connected in a uniaxial direction in a predetermined plane and constitutes at least a part of the frame.

3. The method of claim 2,
And the unit has a width in a direction perpendicular to the one axis within the predetermined plane longer than the width in the uniaxial direction.

The method according to claim 2 or 3,
Wherein the unit includes: a pair of legs separated in the predetermined plane in a direction perpendicular to the one axis; and a gate having a ceiling portion supported parallel to the predetermined plane by the pair of legs Type unit).

5. The method of claim 4,
Further comprising a connecting member for fixing the door-shaped units to each other.

5. The method of claim 4,
Wherein the plurality of units include at least one connecting unit connecting the door-shaped units.

The method according to claim 6,
Wherein the connecting unit has a pair of legs fixed to each of the two gate units and a ceiling portion supported by the pair of legs.

4. The method according to any one of claims 1 to 3,
Wherein at least a part of the plurality of units supports a beam source of the pattern generation device that generates the energy beam.

4. The method according to any one of claims 1 to 3,
Wherein the pattern generating device irradiates the energy beam onto the object through a mask having the pattern formed thereon,
Wherein at least a part of the plurality of units supports a pair of stators of a driving device of a moving body which moves while holding the mask.

10. The method of claim 9,
Wherein the pair of stators are spaced apart from each other in a direction perpendicular to the direction in which the units are arranged in the longitudinal direction.

10. The method of claim 9,
The pattern generating apparatus irradiates the energy beam onto the object through a mask having the pattern formed thereon,
And at least a part of the plurality of units supports a transfer device for transferring the mask onto the moving body.

12. The method of claim 11,
And the unit supports the transfer device at a position opposite to the surface of the moving body where the mask is held.

4. The method according to any one of claims 1 to 3,
Wherein at least a part of the plurality of units supports at least a part of each of the constituent parts of the pattern generating apparatus and the apparatus attached to the apparatus.

14. The method of claim 13,
Wherein at least a part of each of the constituent parts supported by the hanger includes an illumination optical system via an energy beam from a beam source of the pattern generating device.

15. The method of claim 14,
Wherein the beam source is mounted on at least a part of the plurality of frames.

4. The method according to any one of claims 1 to 3,
And at least a part of the plurality of units supports at least a part of each of the constituent parts of the pattern generating apparatus and the apparatus attached to the apparatus inside the frame.

4. The method according to any one of claims 1 to 3,
Wherein at least a part of the plurality of units mounts at least a part of each of the constituent parts of the pattern generating apparatus and the apparatus attached to the apparatus.

4. The method according to any one of claims 1 to 3,
Wherein at least a part of the plurality of units protrude and support at least a part of each of the constituent parts of the pattern generating apparatus and the apparatus attached to the apparatus.

4. The method according to any one of claims 1 to 3,
Wherein the pattern generating apparatus is configured such that a main body portion except at least a portion including a beam source is disposed inside the frame.

20. The method of claim 19,
Further comprising a protective member also serving as a partitioning member disposed inside the frame and outside the main body.

4. The method according to any one of claims 1 to 3,
Wherein the object comprises a substrate having a size of 500 mm or more.

An object is exposed by using the exposure apparatus according to any one of claims 1 to 3,
And developing the exposed object.

23. The method of claim 22,
A device manufacturing method for manufacturing a flat panel display as a device.

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