KR101860406B1 - 대물 렌즈 지지 장치 및 포토 에칭 기기 - Google Patents
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Abstract
Description
도 2는 실시예 1의 메인 지지 장치와 보조 지지 장치의 수직방향 위치도이다.
도 3은 실시예 1의 대물 렌즈 지지 장치와 대물 렌즈 본체의 무게 중심의 수직방향 거리도이다.
도 4는 실시예 1의 대물 렌즈 메인 지지 수평방향 위치도이다.
도 5는 실시예 1의 대물 렌즈 보조 지지 수평방향 위치도이다.
도 6은 실시예 2의 전체 프레임식 포토 에칭 기기에 설치되는 대물 렌즈 지지 장치의 구조도이다.
기존의 강성 지지 | 본 실시예의 강성 지지 | 기존의 연성 지지 | 본 실시예의 연성 지지 | |
대물 렌즈 상면과 대물 렌즈 중심 X축 방향 변위 응답 차이값(nm) | 4.69 | 3.19 | 11.5 | 4.74 |
대물 렌즈 상면과 대물 렌즈 중심 Y축 방향 변위 응답 차이값(nm) | 16.6 | 9.46 | 11.4 | 4.88 |
대물 렌즈 상면과 대물 렌즈 중심 Z축 방향 변위 응답 차이값(nm) | 2.8 | 2.3 | 1.01*10-2 | 6.54*10-3 |
102: 보조 지지 장치 103: 대물 렌즈 본체
104: 대물 렌즈 플랜지 105: 댐퍼
106: 연결부 107: 메인 보드
108: 완충기 109: 기초 프레임
200: 포토 에칭 기기 201: 메인 지지 장치
202: 보조 지지 장치 203: 대물 렌즈 본체
204: 대물 렌즈 플랜지 205: 댐퍼
206: 연결부 207: 메인 보드
208: 완충기 209: 메인 보드 거치대
Claims (13)
- 메인 보드를 포함하는 내부 프레임 및 메인 보드에 설치되고 대물 렌즈 본체와 대물 렌즈 플랜지를 구비하는 대물 렌즈 시스템을 포함하는 포토 에칭 기기의 대물 렌즈 지지 장치에 있어서,
상기 대물 렌즈 지지 장치는,
하나 또는 복수개의 수직방향으로 설치되는 메인 지지 장치와 하나 또는 복수개의 수평방향으로 설치되는 보조 지지 장치를 포함하고,
각각의 상기 메인 지지 장치의 일단은 상기 대물 렌즈 플랜지와 연결되고, 타단은 상기 메인 보드에 설치되며,
각각의 상기 보조 지지 장치의 일단은 상기 대물 렌즈 본체와 연결되고, 타단은 상기 내부 프레임에 설치되며,
상기 메인 지지 장치와 상기 보조 지지 장치 사이에 다음 공식
Kx1 × l1 2 = Kx2 × l2 2
Kyl × l1 2 = Ky2 × l2 2
(여기서, Kxl 은 메인 지지 장치의 X축 방향의 총 강도, Kx2 는 보조 지지 장치의 X축 방향의 총 강도, Kyl 은 메인 지지 장치의 Y축 방향의 총 강도, Ky2 는 보조 지지 장치의 Y축 방향의 총 강도, l1 은 대물 렌즈 플랜지 장착면과 대물 렌즈 본체의 무게 중심 수직방향의 거리, l2 는 보조 지지 장치와 대물 렌즈 본체의 무게 중심 수직방향의 거리)을 만족시키는 것을 특징으로 하는 포토 에칭 기기의 대물 렌즈 지지 장치. - 제1항에 있어서,
상기 메인 지지 장치는 강성 지지 또는 연성 지지인 것을 특징으로 하는 포토 에칭 기기의 대물 렌즈 지지 장치. - 제1항에 있어서,
상기 대물 렌즈 지지 장치는 1 세트 또는 3 세트 내지 6 세트의 상기 메인 지지 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 포토 에칭 기기의 대물 렌즈 지지 장치. - 제3항에 있어서,
상기 3 세트 내지 6 세트의 메인 지지 장치와 대물 렌즈 플랜지의 장착면은 수직방향에서 동일한 높이에 위치하는 것을 특징으로 하는 포토 에칭 기기의 대물 렌즈 지지 장치. - 제1항에 있어서,
상기 내부 프레임은 측정 거치대와 마스크 테이블 거치대를 더 포함하고, 각각의 상기 보조 지지 장치의 타단은 연결부를 통해 상기 메인 보드, 상기 측정 거치대 또는 상기 마스크 테이블 거치대에 설치되는 것을 특징으로 하는 포토 에칭 기기의 대물 렌즈 지지 장치. - 제1항에 있어서,
상기 보조 지지 장치는 강성 지지 또는 연성 지지인 것을 특징으로 하는 포토 에칭 기기의 대물 렌즈 지지 장치. - 제6항에 있어서,
상기 보조 지지 장치는 연성 힌지를 포함하는 것을 특징으로 하는 포토 에칭 기기의 대물 렌즈 지지 장치. - 제1항에 있어서,
상기 보조 지지 장치는 1 세트 또는 3 세트 내지 6 세트인 것을 특징으로 하는 포토 에칭 기기의 대물 렌즈 지지 장치. - 제8항에 있어서,
상기 3 세트 내지 6 세트의 보조 지지 장치는 수직방향에서 동일한 높이에 위치하는 것을 특징으로 하는 포토 에칭 기기의 대물 렌즈 지지 장치. - 제1항에 있어서,
상기 메인 지지 장치와 상기 보조 지지 장치의 일측에 각각 위치하는 댐퍼를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 포토 에칭 기기의 대물 렌즈 지지 장치. - 제1항에 있어서,
상기 보조 지지 장치는 상기 메인 지지 장치의 직상에 위치하는 것을 특징으로 하는 포토 에칭 기기의 대물 렌즈 지지 장치. - 제1항 내지 제11항 중의 어느 한 항에 따른 대물 렌즈 지지 장치를 사용하는 것을 특징으로 하는 포토 에칭 기기.
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Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201310752319.5A CN104749904B (zh) | 2013-12-31 | 2013-12-31 | 物镜支撑装置及光刻机 |
CN201310752319.5 | 2013-12-31 | ||
PCT/CN2014/094749 WO2015101194A1 (zh) | 2013-12-31 | 2014-12-24 | 物镜支撑装置及光刻机 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20160100379A KR20160100379A (ko) | 2016-08-23 |
KR101860406B1 true KR101860406B1 (ko) | 2018-05-23 |
Family
ID=53493193
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020167019532A Active KR101860406B1 (ko) | 2013-12-31 | 2014-12-24 | 대물 렌즈 지지 장치 및 포토 에칭 기기 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101860406B1 (ko) |
CN (1) | CN104749904B (ko) |
TW (1) | TWI541616B (ko) |
WO (1) | WO2015101194A1 (ko) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105425354B (zh) * | 2015-12-21 | 2018-11-02 | 中国工程物理研究院应用电子学研究所 | 一种用于光学传输系统的刚柔组合支撑隔振装置 |
CN106931290B (zh) * | 2015-12-30 | 2019-01-29 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 一种减振系统及其调节方法 |
CN111380464B (zh) * | 2018-12-28 | 2021-05-07 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 一种光栅尺的安装装置、安装方法、光栅测量系统及光刻机 |
CN111692994B (zh) * | 2020-06-02 | 2021-06-22 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | 一种角度测量装置装配结构及方法 |
CN113848684B (zh) * | 2021-09-22 | 2022-11-04 | 哈尔滨工业大学 | 一种光刻机掩模台隔振装置 |
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Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3031947B2 (ja) * | 1990-04-12 | 2000-04-10 | キヤノン株式会社 | 露光装置 |
JP2003318080A (ja) * | 2002-04-22 | 2003-11-07 | Hitachi High-Technologies Corp | 電子ビーム描画装置 |
US6977713B2 (en) * | 2003-12-08 | 2005-12-20 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
CN101180706A (zh) * | 2005-10-05 | 2008-05-14 | 株式会社尼康 | 曝光装置及曝光方法 |
US7936443B2 (en) * | 2006-05-09 | 2011-05-03 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
CN101042539A (zh) * | 2006-12-22 | 2007-09-26 | 上海微电子装备有限公司 | 悬挂式支撑成像系统及光刻装置 |
CN100578362C (zh) * | 2007-06-29 | 2010-01-06 | 上海微电子装备有限公司 | 垂向微调及重力补偿装置与光刻机 |
-
2013
- 2013-12-31 CN CN201310752319.5A patent/CN104749904B/zh active Active
-
2014
- 2014-12-24 KR KR1020167019532A patent/KR101860406B1/ko active Active
- 2014-12-24 WO PCT/CN2014/094749 patent/WO2015101194A1/zh active Application Filing
- 2014-12-26 TW TW103145771A patent/TWI541616B/zh active
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201531814A (zh) | 2015-08-16 |
TWI541616B (zh) | 2016-07-11 |
CN104749904B (zh) | 2017-08-25 |
WO2015101194A1 (zh) | 2015-07-09 |
CN104749904A (zh) | 2015-07-01 |
KR20160100379A (ko) | 2016-08-23 |
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A201 | Request for examination | ||
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PR1002 | Payment of registration fee |
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PG1601 | Publication of registration | ||
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PR1001 | Payment of annual fee |
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