KR101819654B1 - Solution process apparatus and manufacturing method of multilayered structure device using the same - Google Patents
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Abstract
본 발명의 일 실시예에 따른 용액 공정 장치는 기판에 잉크를 프린팅하는 잉크젯 프린팅부, 상기 잉크에 레이저를 조사하여 상기 잉크를 가공하는 레이저 가공부, 상기 기판, 잉크젯 프린팅부 및 레이저 가공부에 연결되어 있으며, 상기 기판, 잉크젯 프린팅부 및 레이저 가공부의 위치를 조절하는 이동 스테이지를 포함할 수 있다. A solution processing apparatus according to an embodiment of the present invention includes an inkjet printing unit for printing ink on a substrate, a laser processing unit for irradiating the ink with the ink to process the ink, a connection unit connected to the substrate, the inkjet printing unit, And a moving stage for adjusting the position of the substrate, the inkjet printing unit, and the laser processing unit.
Description
본 발명은 용액 공정 장치 및 이를 이용한 다층 구조 소자의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a solution processing apparatus and a method for manufacturing a multi-layered structural element using the same.
실리콘 기반 반도체 산업의 비용적 또는 환경적 문제점에 의해 대체 기술에 의한 소자 개발 연구가 진행되고 있다. 그 중 용액 공정을 이용한 소자 패턴 구현 기술은 많은 연구 결과가 나오고 있다. 용액 공정(Solution process)은 액체 상태의 재료를 프린팅하여 평판 표시 장치 등의 소자를 제조하는 공정이다. 종래에 소자를 제조하기 위해 사용하는 증착 공정(deposition process)은 재료 사용 효율이 10% 정도로 낮으며, 공정이 복잡하고, 대면적 소자에 적용하기 어려운 점이 있다. 그러나, 용액 공정은 재료 사용 효율이 이론적으로 100%에 가까워 비용이 절감되고, 공정이 단순하며, 대면적 소자에도 적용하기 쉽다. Due to cost or environmental problems of the silicon-based semiconductor industry, development of devices by alternative technologies is underway. Among them, many researches have been made on the device patterning technology using the solution process. The solution process is a process for manufacturing a device such as a flat panel display device by printing a liquid material. Conventionally, a deposition process used for manufacturing a device has a low material utilization efficiency of about 10%, has a complicated process, and is difficult to apply to a large-area device. However, the solution process is theoretically 100% in terms of the material utilization efficiency, so that the cost is reduced, the process is simple, and it is easy to apply to a large-sized device.
이러한 용액 공정을 이용한 소자에서 단층 구조의 패턴은 상용화되어 현재 많은 산업에서 사용을 하고 있지만 다층 구조를 만들기 위해서는 많은 장비와 여러 공정을 거쳐 제작을 해야 하는 단점이 있다.In this device using a solution process, the pattern of a single layer structure is commercialized and used in many industries at present. However, in order to form a multi-layer structure, there is a disadvantage that it must be manufactured through a lot of equipment and various processes.
즉, 용액 공정을 이용하여 단층 구조 소자의 패턴을 만들기 위해서는 증착, 레이저 소결 등의 기술을 사용하고, 다층 구조를 만들기 위해서는 하층과 상층을 연결하기 위해 식각 공정을 별도로 진행하여 하층과 상층을 연결하였다. 이러한 방식은 각 공정마다 다른 장치를 사용하게 되므로 시간과 비용이 많이 들게 된다. 또한, 3차원 구조는 2차원 구조와 달리 기판에 형성되는 단차에 의해 소자 구현이 어려운 점이 있다.That is, in order to form a pattern of a single-layer structure element using a solution process, a technique such as vapor deposition or laser sintering is used. In order to form a multi-layer structure, an etching process is separately performed to connect the lower layer and the upper layer, . This method is time consuming and costly because different processes are used for each process. In addition, unlike a two-dimensional structure, a three-dimensional structure is difficult to implement by a step formed on a substrate.
본 발명은 전술한 배경 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 제조 비용이 낮고 제조 공정 속도가 빠른 용액 공정 장치 및 이를 이용한 다층 구조 소자의 제조 방법을 제공하고자 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems of the prior art, and it is an object of the present invention to provide a solution processing apparatus having a low manufacturing cost and a high manufacturing process speed, and a method for manufacturing a multi-layered structural element using the same.
본 발명의 일 실시예에 따른 용액 공정 장치는 기판에 잉크를 프린팅하는 잉크젯 프린팅부, 상기 잉크에 레이저를 조사하여 상기 잉크를 가공하는 레이저 가공부, 상기 기판, 잉크젯 프린팅부 및 레이저 가공부에 연결되어 있으며, 상기 기판, 잉크젯 프린팅부 및 레이저 가공부의 위치를 조절하는 이동 스테이지를 포함할 수 있다.A solution processing apparatus according to an embodiment of the present invention includes an inkjet printing unit for printing ink on a substrate, a laser processing unit for irradiating the ink with the ink to process the ink, a connection unit connected to the substrate, the inkjet printing unit, And a moving stage for adjusting the position of the substrate, the inkjet printing unit, and the laser processing unit.
상기 이동 스테이지는 상기 기판을 지지하며 상기 기판의 수평 위치를 조절하는 수평 스테이지, 상기 잉크젯 프린팅부 및 상기 레이저 가공부가 부착되어 있으며 상기 기판의 수직 위치를 조절하는 수직 스테이지를 포함할 수 있다.The moving stage may include a horizontal stage that supports the substrate and adjusts the horizontal position of the substrate, the inkjet printing portion, and a vertical stage to which the laser processing portion is attached and controls the vertical position of the substrate.
상기 수직 스테이지에 설치되어 있으며, 상기 기판의 단차 데이터를 측정하는 터치 센서, 상기 터치 센서에서 측정된 상기 단차 데이터를 상기 수직 스테이지에 송수신하는 데이터 송수신기를 더 포함할 수 있다.The apparatus may further include a touch sensor installed on the vertical stage for measuring step data of the substrate and a data transceiver transmitting and receiving the step data measured by the touch sensor to the vertical stage.
상기 잉크젯 프린팅부는 상기 기판에 상기 잉크를 분사하는 잉크젯 노즐, 상기 잉크젯 노즐에 상기 잉크를 공급하는 잉크젯 펌프, 상기 잉크젯 노즐에 전압을 공급하는 전압 공급기를 포함하고, 상기 잉크젯 노즐은 라인 프린팅 노즐, 드롭 온 디맨드 노즐, 스프레이 코팅 노즐 중에서 선택된 어느 하나일 수 있다.Wherein the inkjet printing unit includes an inkjet nozzle for jetting the ink onto the substrate, an inkjet pump for supplying the ink to the inkjet nozzle, and a voltage supplier for supplying a voltage to the inkjet nozzle, An on-demand nozzle, and a spray coating nozzle.
상기 레이저 가공부는 상기 레이저를 발생시키는 레이저 발생기, 상기 레이저의 형상을 조절하는 레이저 조절 부재를 포함할 수 있다.The laser processing unit may include a laser generator for generating the laser, and a laser adjusting member for adjusting the shape of the laser.
상기 레이저 조절 부재는 상기 레이저를 단속시키는 빔 셔터, 상기 빔 셔터를 통과한 레이저의 초점 거리를 변동시키는 빔 익스펜더, 상기 빔 익스펜더를 통과한 레이저를 집속시키는 집속 렌즈를 포함할 수 있다.The laser control member may include a beam shutter for interrupting the laser, a beam expander for changing a focal distance of the laser beam passing through the beam shutter, and a focusing lens for focusing the laser beam passing through the beam expander.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 다층 구조 소자의 제조 방법은 기판에 잉크를 프린팅하는 잉크젯 프린팅부, 상기 잉크에 레이저를 조사하여 상기 잉크를 가공하는 레이저 가공부, 상기 기판, 잉크젯 프린팅부 및 레이저 가공부에 연결되어 있으며, 상기 기판, 잉크젯 프린팅부 및 레이저 가공부의 위치를 조절하는 이동 스테이지를 포함하는 용액 공정 장치에서 상기 잉크젯 프린팅부의 잉크젯 노즐을 이용하여 제1 잉크를 분사하여 상기 기판에 하층 잉크 패턴을 형성하는 단계, 상기 레이저 가공부를 이용하여 상기 하층 잉크 패턴을 소결하여 하층 전극 패턴을 형성하는 단계, 상기 잉크젯 노즐을 이용하여 제2 잉크를 분사하여 상기 기판 및 상기 하층 전극 패턴을 덮는 절연층을 형성하는 단계, 상기 레이저 가공부를 이용하여 상기 절연층을 패터닝하여 상기 하층 전극 패턴의 일부를 노출하는 연결 구멍을 형성하는 단계, 상기 잉크젯 노즐을 이용하여 제3 잉크를 분사하여 상기 연결 구멍을 채우는 상층 잉크 패턴을 형성하는 단계, 상기 레이저 가공부를 이용하여 상기 상층 잉크 패턴을 소결하여 상층 전극 패턴을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.A method of manufacturing a multilayered element according to an embodiment of the present invention includes an inkjet printing unit printing an ink on a substrate, a laser processing unit irradiating the ink with the ink to process the ink, the substrate, the inkjet printing unit, And a moving stage for adjusting the position of the substrate, the inkjet printing unit, and the laser processing unit, the first ink is jetted using the inkjet nozzle of the inkjet printing unit, Forming an ink pattern, forming a lower layer electrode pattern by sintering the lower layer ink pattern using the laser processing portion, injecting a second ink using the inkjet nozzle to form an insulating layer covering the substrate and the lower layer electrode pattern Forming a dielectric layer on the insulating layer; Forming a connection hole for exposing a part of the lower layer electrode pattern, forming an upper layer ink pattern filling the connection hole by injecting a third ink using the inkjet nozzle, And sintering the ink pattern to form an upper electrode pattern.
상기 용액 공정 장치에 설치된 터치 센서를 이용하여 상기 기판의 단차 데이터를 측정하는 단계, 상기 단차 데이터를 이용하여 상기 기판의 수직 위치를 조절하는 단계를 더 포함할 수 있다.Measuring the step data of the substrate using a touch sensor provided in the solution processing apparatus, and adjusting the vertical position of the substrate using the step data.
상기 하층 전극 패턴을 형성한 후, 상기 잉크젯 노즐을 이용하여 제4 잉크를 분사하여 상기 하층 전극 패턴의 일부를 덮는 반도체층을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.Forming the lower layer electrode pattern, and forming a semiconductor layer covering a part of the lower layer electrode pattern by ejecting the fourth ink using the inkjet nozzle.
상기 제1 잉크 및 상기 제3 잉크는 금속 나노 입자를 포함하고, 상기 제2 잉크는 절연 물질을 포함하며, 상기 제4 잉크는 용액 반도체 물질을 포함할 수 있다.The first ink and the third ink may include metal nanoparticles, the second ink may include an insulating material, and the fourth ink may include a solution semiconductor material.
상기 잉크젯 프린팅부의 분사 모드는 라인 프린팅 모드(line printing mode), 드롭 온 디맨드 모드(drop on demand mode), 스프레이 코팅 모드(spray coating mode) 중에서 선택된 어느 하나를 포함하고, 상기 제1 잉크 및 제3 잉크는 상기 라인 프린팅 모드로 분사하고, 상기 제2 잉크는 스프레이 코팅 모드(spray coating mode)로 분사하며, 상기 제4 잉크는 드롭 온 디맨드 모드로 분사할 수 있다.Wherein the jetting mode of the inkjet printing unit includes any one selected from a line printing mode, a drop on demand mode, and a spray coating mode, Ink is sprayed in the line-printing mode, the second ink is sprayed in a spray coating mode, and the fourth ink is sprayed in a drop-on-demand mode.
본 발명의 일 실시예에 따른 용액 공정 장치 및 이를 이용한 다층 구조 소자의 제조 방법은 레이저 가공부 및 잉크젯 프린팅부를 모두 포함함으로써, 잉크 프린팅, 잉크 소결 공정, 그리고 하층 전극 패턴과 상층 전극 패턴을 연결하기 위한 연결 구멍을 형성하는 패터닝 공정을 동시에 구현할 수 있다. The solution processing apparatus according to an embodiment of the present invention and the method of manufacturing a multi-layered structural element using the same include both a laser processing unit and an inkjet printing unit, thereby performing ink printing, ink sintering process, It is possible to simultaneously realize a patterning process for forming a connection hole for the contact hole.
따라서, 레이저 가공 및 잉크젯 프린팅을 동시에 진행할 수 있는 용액 공정 장치를 최소화하여 시간과 비용을 최소화할 수 있고, 신속하게 다층 구조 소자를 제조할 수 있다.Therefore, it is possible to minimize the time and cost by minimizing the solution processing apparatus capable of simultaneously performing the laser processing and the inkjet printing, and can rapidly manufacture the multi-layered element.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 용액 공정 장치의 개략적인 사시도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 용액 공정 장치의 잉크젯 프린팅부의 분사 모드 중 라인 프린팅 모드를 도시한 도면이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 용액 공정 장치의 잉크젯 프린팅부의 분사 모드 중 드롭 온 디맨드 모드를 도시한 도면이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 용액 공정 장치의 잉크젯 프린팅부의 분사 모드 중 스프레이 코팅 모드를 도시한 도면이다.
도 5는 유니폴라 모드(Unipolar mode)의 고전압 파형을 도시한 도면이다.
도 6은 바이폴라 모드(Biopolar mode)의 고전압 파형을 도시한 도면이다.
도 7, 도 9, 도 11, 도 13, 도 15, 도 17 및 도 19는 본 발명의 일 실시예에 따른 용액 공정 장치를 이용한 다층 구조 소자의 제조 방법을 순서대로 도시한 도면으로서, 다층 구조 소자의 사시도이다.
도 8, 도 10, 도 12, 도 14, 도 16, 도 18 및 도 20은 각각 도 7의 VIII-VIII선, 도 9의 X-X선, 도 11의 XII-XII선, 도 13의 XIV-XIV선, 도 15의 XVI-XVI선, 도 17의 XVIII-XVIII선, 및 도 19의 XX-XX선을 잘라 도시한 단면도이다.1 is a schematic perspective view of a solution processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a diagram illustrating a line printing mode of an ink-jet printing unit of a solution processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
3 is a diagram illustrating a drop-on-demand mode of an injection mode of an ink-jet printing unit of a solution processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
4 is a view showing a spray coating mode among the spray modes of the inkjet printing unit of the solution processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
5 is a diagram showing a high voltage waveform in a unipolar mode.
6 is a diagram showing a high voltage waveform in a bipolar mode.
7, 9, 11, 13, 15, 17, and 19 are views sequentially illustrating a method of manufacturing a multi-layered structural element using a solution processing apparatus according to an embodiment of the present invention. Fig.
8, 10, 12, 14, 16, 18 and 20 are respectively a line VIII-VIII, a line XX in FIG. 9, a line XII-XII in FIG. 11, Line, XVI-XVI line in Fig. 15, XVIII-XVIII line in Fig. 17, and XX-XX line in Fig.
이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 여러 실시예들에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예들에 한정되지 않는다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The present invention may be embodied in many different forms and is not limited to the embodiments described herein.
본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조 부호를 붙이도록 한다.In order to clearly illustrate the present invention, parts not related to the description are omitted, and the same or similar components are denoted by the same reference numerals throughout the specification.
그러면 본 발명의 일 실시예에 따른 용액 공정 장치에 대하여 도 1 및 도 2를 참고로 상세하게 설명한다.A solution processing apparatus according to an embodiment of the present invention will now be described in detail with reference to FIGS. 1 and 2. FIG.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 용액 공정 장치의 개략적인 사시도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 용액 공정 장치의 잉크젯 프린팅부의 분사 모드 중 라인 프린팅 모드를 도시한 도면이고, 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 용액 공정 장치의 잉크젯 프린팅부의 분사 모드 중 드롭 온 디맨드 모드를 도시한 도면이며, 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 용액 공정 장치의 잉크젯 프린팅부의 분사 모드 중 스프레이 코팅 모드를 도시한 도면이다.FIG. 1 is a schematic perspective view of a solution processing apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a diagram illustrating a line printing mode in an ink-jet printing unit of a solution processing apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 3 is a diagram illustrating a drop-on-demand mode of an ink-jet printing unit of a solution processing apparatus according to an exemplary embodiment of the present invention. FIG. Mode in the spray coating mode.
도 1에 도시한 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 용액 공정 장치는 기판(10)에 잉크(20)를 프린팅하는 잉크젯 프린팅부(100), 잉크(20)에 레이저(L)를 조사하여 잉크(20)를 가공하는 레이저 가공부(200), 기판(10), 잉크젯 프린팅부(100) 및 레이저 가공부(200)의 위치를 조절하는 이동 스테이지(300)를 포함한다.1, a solution processing apparatus according to an embodiment of the present invention includes an
이동 스테이지(300)는 기판(10), 잉크젯 프린팅부(100) 및 레이저 가공부(200)에 연결되어 있다. 이동 스테이지(300)는 기판(10)을 지지하며 기판(10)의 수평 위치를 조절하는 수평 스테이지(310), 잉크젯 프린팅부(100) 및 레이저 가공부(200)가 부착되어 있으며 기판(10)의 수직 위치를 조절하는 수직 스테이지(320)를 포함한다. The
수평 스테이지(310)의 이동 속도는 1.0 mm/s 내지 2.0 m/s이고, 수직 스테이지(320)의 이동 속도는 1.0 mm/s 내지 2.0 m/s이므로 제조 공정 시간을 단축할 수 있다. The moving speed of the
수직 스테이지(320)에는 터치 센서(410) 및 데이터 송수신기(420)가 설치되어 있다. 터치 센서(410)는 기판(10)의 단차 데이터를 측정하며, 데이터 송수신기(420)는 터치 센서에서 측정된 단차 데이터를 외부 컴퓨터(도시하지 않음)에 송신한다. 그리고, 외부 컴퓨터는 단차 데이터를 수직 스테이지(320)에 송신하여 수직 스테이지(320)는 기판(10)의 수직 위치를 조절한다. 따라서, 기판(10)에 단차가 있는 경우에도 용이하게 다층 구조 소자를 제조할 수 있다.The
잉크젯 프린팅부(100)는 기판(10)에 잉크(20)를 분사하는 잉크젯 노즐(110), 잉크젯 노즐(110)에 잉크(20)를 공급하는 잉크젯 펌프(120), 잉크젯 노즐(110)에 전압을 공급하는 전압 공급기(130)을 포함할 수 있다.The
잉크젯 펌프(120)는 수직 스테이지(320)에 부착되어 있으며, 미세 주사기 펌프(micro syringe pump)일 수 있다. 따라서, 분사되는 잉크(20)의 양을 마이크로 단위까지 정확히 조절할 수 있다. The
잉크젯 노즐(110)은 수직 스테이지(320)에 부착되어 있으며, 잉크젯 노즐(110)은 라인 프린팅 노즐(line printing nozzle)(111), 드롭 온 디맨드 노즐(drop on demand nozzle)(112), 스프레이 코팅 노즐(spray coating nozzle)(113) 중에서 선택된 어느 하나일 수 있다. 라인 프린팅 노즐(111)과 드롭 온 디맨드 노즐(112)은 동일한 노즐을 사용하여 원하는 선폭(0.5㎛ 내지 100㎛) 또는 원하는 잉크 양에 따라 노즐의 직경을 변경하여 만들 수 있으며, 스프레이 코팅 노즐(spray coating nozzle)(113)은 라인 프린팅 노즐(111) 및 드롭 온 디맨드 노즐(112)과 다른 별도의 노즐이다. 이러한 잉크젯 노즐(110)은 분사 모드에 따라 선택할 수 있다.The
분사 모드는 잉크(20)가 라인(line) 형상으로 기판(10)에 형성되는 라인 프린팅 모드(line printing mode), 잉크(20)가 소정 패턴으로 프린팅되는 드롭 온 디맨드 모드, 잉크(20)가 넓은 면적에 코팅되는 스프레이 코팅 모드 중에서 선택된 어느 하나를 포함할 수 있다. The injection mode is a line printing mode in which the
즉, 도 2에 도시한 바와 같이, 라인 프린팅 모드(line printing mode)에 적용되는 라인 프린팅 노즐(111)은 잉크(20)를 라인 형상으로 기판(10)에 형성하며, 도 3에 도시한 바와 같이, 드롭 온 디맨드 모드에 적용되는 드롭 온 디맨드 노즐(112)은 원하는 위치에 원하는 형상으로 잉크(20)를 적하시킬 수 있고, 도 4에 도시한 바와 같이, 스프레이 코팅 모드에 적용되는 스프레이 코팅 노즐은 잉크(20)를 넓은 면적에 코팅할 수 있다. 2, the
전압 공급기(130)은 잉크젯 노즐(110)과 기판(10) 사이에 전기장(E)을 형성하기 위해 잉크젯 노즐(110)에 고전압(High Voltage)을 걸어주는 장치이다. 잉크젯 노즐(110)과 기판(10) 사이에 걸린 전기장(E)에 의해 잉크젯 노즐(110)에서 + 전하를 띤 잉크(20)가 - 전하를 띤 기판(10)으로 흘러가게 되며, 이러한 방법을 EHD(Electro hydro dynamic)이라고 한다. 전압 공급기(130)를 이용하여 전압의 세기는 100V에서 10kV까지 변화시킬 수 있으며, 전압 인가 주기는 10 Hz에서 1 kHz까지 변화시킬 수 있다. The
직류 모드(DC mode), 유니폴라 모드(Unipolar mode) 및 바이폴라 모드(Biopolar mode)의 고전압을 사용할 수 있다. 입력 전압이 일정한 직류를 공급하는 직류 모드는 주로 라인 프린팅 모드에 적용되며, +입력 전압과 0V를 각각 최고 전압 및 최저 전압으로 가지는 전압 파형인 디지털 교류를 공급하는 유니폴라 모드(Unipolar mode)와, +입력 전압과 -입력 전압을 각각 최고 전압 및 최저 전압으로 가지는 전압 파형인 디지털 교류를 공급하는 바이폴라 모드(Biopolar mode)는 드롭 온 디맨드 모드에 적용된다. High voltage of DC mode, Unipolar mode and Biopolar mode can be used. The direct current mode, which supplies DC with constant input voltage, is mainly applied to the line printing mode. The unipolar mode, which supplies the digital AC, which is the voltage waveform having the + input voltage and 0V as the maximum voltage and the lowest voltage respectively, Biopolar mode, which supplies digital alternating current, a voltage waveform with + input voltage and - input voltage as the highest and lowest voltages, respectively, applies to drop-on-demand mode.
도 5는 유니폴라 모드(Unipolar mode)의 고전압 파형을 도시한 도면이고, 도 6은 바이폴라 모드(Biopolar mode)의 고전압 파형을 도시한 도면이다. FIG. 5 is a diagram showing a high voltage waveform in a unipolar mode, and FIG. 6 is a diagram showing a high voltage waveform in a bipolar mode.
도 5에 도시한 바와 같이, 유니폴라 모드에서는 예컨대, 5kv에서 전기장이 형성되어 잉크를 뿌리며, 0kv에서는 전기장이 형성되지 않아 잉크가 분사되지 않는다. 그리고, 도 6에 도시한 바와 같이, 바이폴라 모드에서는 예컨대, +5kv 및 -5kv에서 전기장이 형성되어 잉크를 뿌리며, 0kv의 짧은 시간동안 전기장이 형성되지 않아 잉크가 분사되지 않는다. As shown in Fig. 5, in the unipolar mode, for example, an electric field is formed at 5 kv to sprinkle ink, and at 0 kv, no electric field is formed and ink is not ejected. Then, as shown in Fig. 6, in the bipolar mode, an electric field is formed at +5 kv and -5 kv, for example, to sprinkle ink, and an electric field is not formed for a short time of 0 kv, so that no ink is ejected.
레이저 가공부(200)는 레이저(L)를 발생시키는 레이저 발생기(210), 레이저(L)의 형상을 조절하는 레이저 조절 부재(220)를 포함한다. The
레이저 발생기(210)는 레이저(L)의 파워를 조절할 수 있다. 레이저 파워는 50mW 내지 2W까지 조절할 수 있으며, 소결 공정 또는 패터닝 공정에 맞는 파워를 사용할 수 있다.The
레이저 조절 부재(220)는 레이저(L)를 단속시키는 빔 셔터(beam shutter)(221), 빔 셔터를 통과한 레이저(L)의 초점 거리를 변경시키는 빔 익스펜더(beam expander)(222), 빔 익스펜더를 통과한 레이저(L)를 집속시키는 집속 렌즈(focusing lense)(223)를 포함한다. 빔 스플리터(222)와 집속 렌즈(223) 사이의 광 경로 상에는 복수개의 광학 렌즈(224)가 설치될 수 있다. The
빔 익스펜더(222)는 빔 셔터와 집속 렌즈 사이의 광 경로 상에 위치한다. 빔 익스펜더(222)는 레이저(L)의 초점 거리를 8배까지 넓혀 줄 수 있으며, 빔 익스펜더(222)를 통과한 레이저(L)는 기판(10)에 포커싱될 수 있다.The
집속 렌즈(focusing lense)(223)는 빔 스플리터(222)와 기판(10) 사이의 광 경로 상에 위치하며, 레이저(L)를 집속시켜 기판(10)에 조사한다. A focusing
따라서, 레이저 가공부(200)는 이동 스테이지(300)를 이용하여 레이저(L)가 기판(10)에 주사되는 위치를 조절할 수 있다. 따라서, 레이저(L)를 정확한 위치에 조사하여 기판(10)에 형성된 하층 잉크 패턴(21) 및 상층 잉크 패턴(51)을 정확하게 소결시킬 수 있다. 또한, 레이저(L)를 정확한 위치에 조사하여 기판(10)에 형성된 절연층(40)에 연결 구멍(41)를 형성할 수 있다.Therefore, the
상기 본 발명의 일 실시예에 따른 용액 공정 장치를 이용한 다층 구조 소자의 제조 방법에 대해 이하에서 도면을 참조하여 상세히 설명한다.A method of manufacturing a multi-layer structure device using the solution processing apparatus according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
도 7, 도 9, 도 11, 도 13, 도 15, 도 17 및 도 19는 본 발명의 일 실시예에 따른 용액 공정 장치를 이용한 다층 구조 소자의 제조 방법을 순서대로 도시한 도면으로서, 다층 구조 소자의 사시도이고, 도 8, 도 10, 도 12, 도 14, 도 16, 도 18 및 도 20은 각각 도 7의 VIII-VIII선, 도 9의 X-X선, 도 11의 XII-XII선, 도 13의 XIV-XIV선, 도 15의 XVI-XVI선, 도 17의 XVIII-XVIII선, 및 도 19의 XX-XX선을 잘라 도시한 단면도이다.7, 9, 11, 13, 15, 17, and 19 are views sequentially illustrating a method of manufacturing a multi-layered structural element using a solution processing apparatus according to an embodiment of the present invention. 8, Fig. 10, Fig. 12, Fig. 14, Fig. 16, Fig. 18 and Fig. 20 respectively show line VIII-VIII, line XX in Fig. 9, line XII- XIV line in FIG. 13, XVI-XVI line in FIG. 15, XVIII-XVIII line in FIG. 17, and XX-XX line in FIG.
우선, 도 1에 도시한 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 용액 공정 장치에 설치된 터치 센서(410)를 이용하여 기판(10)의 단차 데이터를 측정한다. 그리고, 단차 데이터를 이용하여 기판(10)의 수직 위치를 조절한다. First, as shown in FIG. 1, step data of a
다음으로, 도 7 및 도 8에 도시한 바와 같이, 잉크젯 프린팅부(100)의 잉크젯 노즐(110)을 이용하여 제1 잉크를 분사하여 기판(10)에 하층 잉크 패턴(21)을 형성한다. 하층 잉크 패턴(21)은 반도체 소자 패턴일 수 있다. 이 때, 잉크젯 노즐(110)은 잉크를 라인 형상으로 기판(10)에 형성할 수 있는 라인 프린팅 노즐(line printing nozzle)(111)이며, 제1 잉크는 금속 나노 입자를 포함할 수 있다. Next, as shown in FIGS. 7 and 8, the first ink is jetted by using the
다음으로, 도 9 및 도 10에 도시한 바와 같이, 레이저 가공부(200)를 이용하여 하층 잉크 패턴(21)을 소결하여 하층 전극 패턴(22)을 형성한다. 즉, 연속파 레이저(continuous laser)의 열을 이용하여 하층 잉크 패턴(21)을 소결시켜 하층 전극 패턴(22)을 형성한다. 레이저(L)로 소결되지 않은 부분은 용매(solvent)를 사용하여 클리닝한다.Next, as shown in Figs. 9 and 10, the lower
다음으로, 도 11 및 도 12에 도시한 바와 같이, 잉크젯 노즐(110)을 이용하여 제4 잉크를 분사하여 하층 전극 패턴(22)의 일부를 덮는 반도체층(30)을 형성한다. 이 때, 잉크젯 노즐(110)은 원하는 위치에 원하는 형상으로 잉크를 적하시킬 수 있는 드롭 온 디맨드 노즐(drop on demand nozzle)(112)이며, 제4 잉크는 용액 반도체 물질을 포함할 수 있다. Next, as shown in Figs. 11 and 12, the fourth ink is jetted using the
다음으로, 도 13 및 도 14에 도시한 바와 같이, 잉크젯 노즐(110)을 이용하여 제2 잉크를 분사하여 기판(10), 하층 전극 패턴(22) 및 반도체층(30)을 덮는 절연층(40)을 형성한다. 이 때, 잉크젯 노즐(110)은 잉크(20)를 넓은 면적에 코팅할 수 있는 스프레이 코팅 노즐(spray coating nozzle)(113)이며, 제2 잉크는 절연 물질을 포함할 수 있다.Next, as shown in Figs. 13 and 14, the second ink is jetted using the
다음으로, 도 15 및 도 16에 도시한 바와 같이, 레이저 가공부(200)를 이용하여 절연층(40)을 패터닝하여 하층 전극 패턴(22)의 일부를 노출하는 연결 구멍(41)을 형성한다. 이 때, 절연층(40)을 패터닝할 수 있도록 레이저 가공부(200)의 레이저 발생기(210)의 파워 및 레이저 조절 부재(220)를 조절한다. 이와 같이, 상층 전극 패턴(520과 하층 전극 패턴(22)을 서로 연결하는 연결 구멍(41)을 용액 공정 장치에 설치된 레이저 가공부(200)를 이용하여 용이하게 형성할 수 있으므로, 제조 비용 및 제조 시간을 최소화하고, 신속하게 상층 전극 패턴과 하층 전극 패턴을 포함하는 다층 구조 소자를 제조할 수 있다. Next, as shown in Figs. 15 and 16, the insulating
다음으로, 도 17 및 도 18에 도시한 바와 같이, 잉크젯 노즐(110)을 이용하여 제3 잉크를 분사하여 연결 구멍(41)을 채우는 상층 잉크 패턴(51)을 형성한다. 이 때, 잉크젯 노즐(110)은 라인 프린팅 노즐(line printing nozzle)(111)이며, 제3 잉크는 금속 나노 입자를 포함할 수 있다.Next, as shown in Figs. 17 and 18, the upper
다음으로, 도 19 및 도 20에 도시한 바와 같이, 레이저 가공부(200)를 이용하여 상층 잉크 패턴(51)을 소결하여 상층 전극 패턴(52)을 형성한다. 레이저(L)로 소결되지 않은 부분은 용매(solvent)를 사용하여 클리닝한다.Next, as shown in Figs. 19 and 20, the upper
본 발명을 앞서 기재한 바에 따라 바람직한 실시예를 통해 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되지 않으며 다음에 기재하는 특허청구범위의 개념과 범위를 벗어나지 않는 한, 다양한 수정 및 변형이 가능하다는 것을 본 발명이 속하는 기술 분야에 종사하는 자들은 쉽게 이해할 것이다. While the invention has been shown and described with reference to certain preferred embodiments thereof, it will be understood by those skilled in the art that various changes and modifications may be made therein without departing from the spirit and scope of the following claims. Those who are engaged in the technology field will understand easily.
10: 기판 20: 잉크
21: 하층 잉크 패턴 22: 하층 전극 패턴
30: 반도체층 40: 절연층
51: 상층 잉크 패턴 52: 상층 전극 패턴
100: 잉크젯 프린팅부 110: 잉크젯 노즐
120: 잉크젯 펌프 200: 레이저 가공부
210: 레이저 발생기 220: 레이저 조절 부재
300: 이동 스테이지 310: 수평 스테이지
320: 수직 스테이지10: substrate 20: ink
21: lower layer ink pattern 22: lower layer electrode pattern
30: Semiconductor layer 40: Insulating layer
51: upper layer ink pattern 52: upper layer electrode pattern
100: inkjet printing unit 110: inkjet nozzle
120: inkjet pump 200: laser machining part
210: laser generator 220: laser control member
300: Moving stage 310: Horizontal stage
320: vertical stage
Claims (11)
상기 잉크에 레이저를 조사하여 상기 잉크를 가공하는 레이저 가공부,
상기 기판, 잉크젯 프린팅부 및 레이저 가공부에 연결되어 있으며, 상기 기판, 잉크젯 프린팅부 및 레이저 가공부의 위치를 조절하는 이동 스테이지
를 포함하고,
상기 잉크젯 프린팅부는
상기 기판에 상기 잉크를 분사하는 잉크젯 노즐,
상기 잉크젯 노즐에 상기 잉크를 공급하는 잉크젯 펌프,
상기 잉크젯 노즐에 전압을 공급하는 전압 공급기
를 포함하고,
상기 잉크젯 노즐은 라인 프린팅 노즐, 드롭 온 디맨드 노즐, 스프레이 코팅 노즐 중에서 선택된 어느 하나이고,
상기 이동 스테이지는
상기 기판을 지지하며 상기 기판의 수평 위치를 조절하는 수평 스테이지,
상기 잉크젯 프린팅부 및 상기 레이저 가공부가 부착되어 있으며 상기 기판의 수직 위치를 조절하는 수직 스테이지
를 포함하며,
상기 수직 스테이지에 설치되어 있으며, 상기 기판의 단차 데이터를 측정하는 터치 센서,
상기 터치 센서에서 측정된 상기 단차 데이터를 상기 수직 스테이지에 송수신하는 데이터 송수신기
를 더 포함하는 용액 공정 장치.An inkjet printing unit for printing ink on the substrate,
A laser processing unit for irradiating the ink with a laser to process the ink,
An inkjet printing unit, and a laser processing unit, the moving stage being configured to control a position of the substrate, the inkjet printing unit, and the laser processing unit,
Lt; / RTI >
The inkjet printing unit
An ink jet nozzle for jetting the ink onto the substrate,
An inkjet pump for supplying the ink to the inkjet nozzle,
A voltage supplier for supplying a voltage to the ink-
Lt; / RTI >
The inkjet nozzle is any one selected from a line printing nozzle, a drop-on-demand nozzle, and a spray coating nozzle,
The moving stage
A horizontal stage for supporting the substrate and adjusting a horizontal position of the substrate,
Wherein the inkjet printing unit and the laser processing unit are attached to each other and the vertical stage
/ RTI >
A touch sensor installed on the vertical stage for measuring the step data of the substrate,
A data transceiver for transmitting and receiving the step data measured by the touch sensor to the vertical stage;
Further comprising:
상기 레이저 가공부는
상기 레이저를 발생시키는 레이저 발생기,
상기 레이저의 형상을 조절하는 레이저 조절 부재
를 포함하는 용액 공정 장치.The method of claim 1,
The laser processing unit
A laser generator for generating the laser,
A laser control member for adjusting the shape of the laser,
.
상기 레이저 조절 부재는
상기 레이저를 단속시키는 빔 셔터,
상기 빔 셔터를 통과한 레이저의 초점 거리를 변동시키는 빔 익스펜더,
상기 빔 익스펜더를 통과한 레이저를 집속시키는 집속 렌즈
를 포함하는 용액 공정 장치.The method of claim 5,
The laser control member
A beam shutter for interrupting the laser,
A beam expander for changing the focal distance of the laser beam passed through the beam shutter,
A focusing lens for focusing a laser beam passed through the beam expander,
.
상기 레이저 가공부를 이용하여 상기 하층 잉크 패턴을 소결하여 하층 전극 패턴을 형성하는 단계,
상기 잉크젯 노즐을 이용하여 제2 잉크를 분사하여 상기 기판 및 상기 하층 전극 패턴을 덮는 절연층을 형성하는 단계,
상기 레이저 가공부를 이용하여 상기 절연층을 패터닝하여 상기 하층 전극 패턴의 일부를 노출하는 연결 구멍을 형성하는 단계,
상기 잉크젯 노즐을 이용하여 제3 잉크를 분사하여 상기 연결 구멍을 채우는 상층 잉크 패턴을 형성하는 단계,
상기 레이저 가공부를 이용하여 상기 상층 잉크 패턴을 소결하여 상층 전극 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 다층 구조 소자의 제조 방법.An inkjet printing unit for printing ink on a substrate, a laser processing unit for processing the ink by irradiating the ink with the ink, a substrate, an inkjet printing unit, and a laser processing unit, Forming a lower layer ink pattern on the substrate by spraying a first ink using an inkjet nozzle of the inkjet printing unit in a solution processing apparatus including a moving stage for adjusting a position of a substrate,
Forming a lower layer electrode pattern by sintering the lower layer ink pattern using the laser processing portion;
Forming an insulating layer covering the substrate and the lower electrode pattern by spraying a second ink using the inkjet nozzle,
Patterning the insulating layer using the laser processing unit to form a connection hole exposing a part of the lower layer electrode pattern,
Jetting a third ink using the inkjet nozzle to form an upper layer ink pattern filling the connection hole,
And sintering the upper layer ink pattern using the laser processing portion to form an upper layer electrode pattern.
상기 용액 공정 장치에 설치된 터치 센서를 이용하여 상기 기판의 단차 데이터를 측정하는 단계,
상기 단차 데이터를 이용하여 상기 기판의 수직 위치를 조절하는 단계
를 더 포함하는 다층 구조 소자의 제조 방법.8. The method of claim 7,
Measuring step data of the substrate using a touch sensor installed in the solution processing apparatus,
Adjusting the vertical position of the substrate using the step data;
≪ / RTI >
상기 하층 전극 패턴을 형성한 후, 상기 잉크젯 노즐을 이용하여 제4 잉크를 분사하여 상기 하층 전극 패턴의 일부를 덮는 반도체층을 형성하는 단계를 더 포함하는 다층 구조 소자의 제조 방법.9. The method of claim 8,
Further comprising the step of forming a semiconductor layer covering a part of the lower layer electrode pattern by spraying a fourth ink using the inkjet nozzle after forming the lower layer electrode pattern.
상기 제1 잉크 및 상기 제3 잉크는 금속 나노 입자를 포함하고, 상기 제2 잉크는 절연 물질을 포함하며, 상기 제4 잉크는 용액 반도체 물질을 포함하는 다층 구조 소자의 제조 방법.The method of claim 9,
Wherein the first ink and the third ink comprise metal nanoparticles, the second ink comprises an insulating material, and the fourth ink comprises a solution semiconductor material.
상기 잉크젯 프린팅부의 분사 모드는 라인 프린팅 모드(line printing mode), 드롭 온 디맨드 모드(drop on demand mode), 스프레이 코팅 모드(spray coating mode) 중에서 선택된 어느 하나를 포함하고,
상기 제1 잉크 및 제3 잉크는 상기 라인 프린팅 모드로 분사하고, 상기 제2 잉크는 스프레이 코팅 모드(spray coating mode)로 분사하며, 상기 제4 잉크는 드롭 온 디맨드 모드로 분사하는 다층 구조 소자의 제조 방법.The method of claim 9,
Wherein the jetting mode of the inkjet printing unit includes any one selected from a line printing mode, a drop on demand mode, and a spray coating mode,
The first ink and the third ink are sprayed in the line printing mode, the second ink is sprayed in a spray coating mode, and the fourth ink is sprayed in a drop-on-demand mode. Gt;
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020150072178A KR101819654B1 (en) | 2015-05-22 | 2015-05-22 | Solution process apparatus and manufacturing method of multilayered structure device using the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20160137264A KR20160137264A (en) | 2016-11-30 |
KR101819654B1 true KR101819654B1 (en) | 2018-01-17 |
Family
ID=57707224
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020150072178A Active KR101819654B1 (en) | 2015-05-22 | 2015-05-22 | Solution process apparatus and manufacturing method of multilayered structure device using the same |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101819654B1 (en) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101980839B1 (en) * | 2017-08-10 | 2019-08-30 | 한국기계연구원 | Laser patterning apparatus and method |
KR102112271B1 (en) * | 2018-01-25 | 2020-05-18 | 한국기계연구원 | Apparatus for printing electrode and method for printing electrode |
KR20220121540A (en) * | 2021-02-25 | 2022-09-01 | 참엔지니어링(주) | Composite ejection type ink ejection device |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006108148A (en) | 2004-09-30 | 2006-04-20 | Seiko Epson Corp | PATTERN FORMING STRUCTURE, PATTERN FORMING METHOD, DEVICE, ELECTRO-OPTICAL DEVICE, ELECTRONIC DEVICE |
JP2012213761A (en) * | 2011-03-25 | 2012-11-08 | Fujifilm Corp | Functional liquid discharge device and imprint system, and functional liquid discharge method |
-
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- 2015-05-22 KR KR1020150072178A patent/KR101819654B1/en active Active
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Publication number | Publication date |
---|---|
KR20160137264A (en) | 2016-11-30 |
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Legal Events
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A201 | Request for examination | ||
PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20150522 |
|
PA0201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
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|
PG1501 | Laying open of application | ||
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|
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20171025 |
|
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PR0701 | Registration of establishment |
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|
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|
PG1601 | Publication of registration | ||
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|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20240102 Start annual number: 7 End annual number: 7 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20250102 Start annual number: 8 End annual number: 8 |