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KR101779691B1 - 화학액 미스트 분사장치가 구비된 입자유동베드 가공장치 - Google Patents

화학액 미스트 분사장치가 구비된 입자유동베드 가공장치 Download PDF

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KR101779691B1
KR101779691B1 KR1020160001415A KR20160001415A KR101779691B1 KR 101779691 B1 KR101779691 B1 KR 101779691B1 KR 1020160001415 A KR1020160001415 A KR 1020160001415A KR 20160001415 A KR20160001415 A KR 20160001415A KR 101779691 B1 KR101779691 B1 KR 101779691B1
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Abstract

본 발명에 따른 화학액 미스트 분사장치가 구비된 입자유동베드 가공장치는, 내부에 유동 입자 및 회전하는 연마체(120)를 수용하고, 하부에 화학액 및 공기를 투과시키는 분사판넬(110)을 형성하는 챔버(100); 상기 챔버(100)의 하부와 연결되고, 상기 챔버(100)내로 공기를 송풍하는 에어펌프(200); 상기 챔버(100)의 일측면과 연통되고, 화학액 액적을 상기 챔버(100)내로 유입시키는 화학액 미스트 생성기(300); 상기 챔버(100)의 상단 및 일측면과 연통되고, 상기 챔버(100)의 하단으로부터 송풍되는 공기로 인하여 챔버(100) 상부로 부유하는 화학액 액적 및 유동 입자를 분리하여, 화학액 액적은 외부로 배출하고, 유동 입자는 다시 챔버(100)내로 되돌리는 입자 수집기(400); 상기 연마체(120)의 회전축과 연결되어 연마체(120)를 회전시키는 회전 모터(130); 상기 연마체(120) 회전축과 연결되고, 연마체의 위상을 조절하도록 상하이동 하는 레일을 구비한 스탠드(140);를 포함하고, 상기 화학액 미스트 생성기(300)는, 상기 챔버(100)의 분사판넬(110) 상단 또는 하단에 장착되는 분사노즐(310)을 이용하여 상기 챔버(100) 내부로 화학액 액적을 직접 분사하되, 상기 분사노즐(310)은, 일류체 또는 이류체 노즐로 하나 이상 다수로 구비되어 다중 지점에서의 균일한 액적 분사를 수행하는 것을 특징으로 한다.

Description

화학액 미스트 분사장치가 구비된 입자유동베드 가공장치{ABRASIVE FLUIDIZED BED MACHINING WITH CHEMICAL LIQUID MIST SPRAYING EQUIPMENT}
본 발명은 교육부와 한국연구재단의 이공학개인기초연구지원사업으로 수행된 연구결과이다.
본 발명은 입자유동베드 가공장치에 관한 것으로써, 구체적으로, 화학액을 액적 형태로 분사하는 화학액 미스트 분사장치를 구비한 입자유동베드 가공장치에 관한 것이다.
일반적으로 입자유동가공(AFM : Abrasive Fluidized Bed Machining)은 기계적 공정으로서 연점토와 같이 화학적으로 비활성, 비부식성인 매체는 표면조도와 인선 조건을 개선하는데 사용된다.
매체 안의 연마제 입자는 소재를 전단하기보다는 연마하기 때문에 다른 금속에 동일한 유형의 매체를 사용할 수 있다. 대부분의 경우에서 제거된 소재를 피삭재 간에 이송하지 않은 채 동일한 매체를 다른 금속에 사용할 수 있다.
이러한 AFM은 내부, 외부 및 기타 접근 불가능한 홀, 슬롯, 인선의 표면 또는 인선 가공에 사용되며, 매우 효율적이고 정밀하며, 단방향 또는 양방향 애플리케이션에서 사용할 수 있고, 제어 가능한 가공 공정으로써, 즉, 매체 유량과 속도, 매체의 용량과 종류, 매체 온도 및 이에 따른 소재 제거량을 조절할 수 있다.
이러한 AFM의 사용용도로는, 라운딩 처리, 표면 응력 완화, 폴리싱, 형상 최적화, 버제거 등이 있으며, 각각의 기능은, 라운딩 처리: 제트 엔진용 디스크처럼 모서리가 각지거나(true-edge) 둥글게(round-edge) 처리되는 곡면을 연속적으로 가공. 표면 응력 완화: 파손을 일으킬 수 있는 임계 피로 지점을 제거하고 응력 라이저를 제거. 폴리싱: 복잡한 형상을 포함하여 그 형상을 유지하면서 표면조도를 개선하고 피삭재를 균일하고 매끄럽게 연마. 형상 최적화: 공기, 가스 또는 액체의 흐름 작용(유량 계수)을 개선하며, 공동 현상(cavitation)을 줄이거나 제거하며, 또한 층류를 발생시키면 체적 효율을 개선. 버제거: 내부, 외부 또는 기타 접근 불가능한 홀, 슬롯 및 인선을 버제거하는 것과 같다.
KR 20-0302552 Y1
CN 1257130 A
JP 05086256 B1
본 발명의 목적은, 상기와 같은 입자유동가공(AFM : Abrasive Fluidized Bed Machining)에 화학액 미스트를 주입할 수 있도록 하여, 기능적인 가공 또는 연마효율개선이 가능하도록 하는 것이다.
이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 화학액 미스트 분사장치가 구비된 입자유동베드 가공장치는, 내부에 유동 입자 및 회전하는 연마체(120)를 수용하고, 하부에 화학액 및 공기를 투과시키는 분사판넬(110)을 형성하는 챔버(100); 상기 챔버(100)의 하부와 연결되고, 상기 챔버(100)내로 공기를 송풍하는 에어펌프(200); 상기 챔버(100)의 일측면과 연통되고, 화학액 액적을 상기 챔버(100)내로 유입시키는 화학액 미스트 생성기(300); 상기 챔버(100)의 상단 및 일측면과 연통되고, 상기 챔버(100)의 하단으로부터 송풍되는 공기로 인하여 챔버(100) 상부로 부유하는 화학액 액적 및 유동 입자를 분리하여, 화학액 액적은 외부로 배출하고, 유동 입자는 다시 챔버(100)내로 되돌리는 입자 수집기(400); 상기 연마체(120)의 회전축과 연결되어 연마체(120)를 회전시키는 회전 모터(130); 상기 연마체(120) 회전축과 연결되고, 연마체의 위상을 조절하도록 상하이동 하는 레일을 구비한 스탠드(140);를 포함하고, 상기 화학액 미스트 생성기(300)는, 상기 챔버(100)의 분사판넬(110) 상단 또는 하단에 장착되는 분사노즐(310)을 이용하여 상기 챔버(100) 내부로 화학액 액적을 직접 분사하되, 상기 분사노즐(310)은, 일류체 또는 이류체 노즐로 하나 이상 다수로 구비되어 다중 지점에서의 균일한 액적 분사를 수행하는 것을 특징으로 한다.
이상과 같이 본 발명은 연마체(120)가 회전하는 챔버(100) 내부로 화학액 미스트 생성기(300)에 의한 화학액 액적을 유동 입자와 함께 상기 연마체로 송풍 함으로써, 화학액에 의한 연마효율 향상 및 연마품질 향상을 도모할 수 있는 효과를 가진다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 화학액 미스트 분사장치가 구비된 입자유동베드 가공장치의 전체 구성도 및 사시도이다;
도 2는 본 발명의 또다른 실시예에 따른 화학액 미스트 분사장치가 구비된 입자유동베드 가공장치의 전체 구성도이다;
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 분사노즐 방식의 화학액 미스트 분사장치가 구비된 입자유동베드 가공장치의 예시도이다;
이하에서는, 본 발명의 실시예에 따른 도면을 참조하여 설명하지만, 이는 본 발명의 더욱 용이한 이해를 위한 것으로, 본 발명의 범주가 그것에 의해 한정되는 것은 아니다.
도 1을 참고하면, 본 발명에 따른 화학액 미스트 분사장치가 구비된 입자유동베드 가공장치는, 내부에 유동 입자 및 회전하는 연마체(120)를 수용하고, 하부에 화학액 및 공기를 투과시키는 분사판넬(110)을 형성하는 챔버(100); 상기 챔버(100)의 하부와 연결되고, 상기 챔버(100)내로 공기를 송풍하는 에어펌프(200); 상기 챔버(100)의 일측면과 연통되고, 화학액 액적을 상기 챔버(100)내로 유입시키는 화학액 미스트 생성기(300); 상기 챔버(100)의 상단 및 일측면과 연통되고, 상기 챔버(100)의 하단으로부터 송풍되는 공기로 인하여 챔버(100) 상부로 부유하는 화학액 액적 및 유동 입자를 분리하여, 화학액 액적은 외부로 배출하고, 유동 입자는 다시 챔버(100)내로 되돌리는 입자 수집기(400); 상기 연마체(120)의 회전축과 연결되어 연마체(120)를 회전시키는 회전 모터(130); 상기 연마체(120) 회전축과 연결되고, 연마체의 위상을 조절하도록 상하이동 하는 레일을 구비한 스탠드(140);를 포함하는 것을 특징으로 한다.
구체적으로, 도 1에서 보는 바와 같이, 챔버(100)내부는 유동 입자로 채워져 있으며, 이러한 입자 들 사이에서 회전하는 연마체(120)는 입자와의 마찰로 인하여 연마된다.
본 발명은, 이러한 챔버(100) 내부로, 상기 화학액 미스트 생성기(300)에 의한 화학액 액적을 주입함으로써, 연마 효율을 향상시킬 수 있도록 한다.
이러한 화학액 액적의 경우, 도 1에서 보는 바와 같이, 챔버(100)의 일측면을 통하여, 챔버 내부로 이송되며, 상기 챔버(100) 하부에서 송풍되는, 공기로 인하여 유동 되는 유동 입자와 뒤섞여 상기 연마체(120)와 접촉하게 되고, 연마에 사용된 화학액 액적은, 유동 입자와 함께 챔버(100)의 상부로 배출된다.
이 때, 도 1에서 보는 바와 같이, 상기 챔버(100)의 상단 및 일측면과 연통되는 입자 수집기(400)로 상기 화학액 액적 및 유동 입자가 배출되는데, 상기 챔버(100)의 하단으로부터 송풍되는 공기로 인하여 챔버(100) 상부로 부유하는 화학액 액적 및 유동 입자를 분리하여, 화학액 액적은 외부로 배출하고, 유동 입자는 다시 챔버(100)내로 되돌리는 기능을 수행하여, 유동 입자 만을 재사용 하도록 한다.
이러한 상기 화학액 미스트 생성기(300)의 액적 형성 방식은 두가지를 채택 할 수 있는데, 먼저 상기 화학액 미스트 생성기(300) 내부에 초음파 진동기를 구비하고, 화학액을 초음파 진동시켜 발생하는 미스트에 의한 액적을 형성방식과, 상기 화학액 미스트 생성기(300)내부에 열선에 의한 가열장치를 구비하고, 화학액을 가열함으로 인하여 발생하는 증기로써 액적을 형성하는 방식을 채택할 수 있으며, 상기 두 가지 방식의 복합적인 사용도 가능하다.
다음으로, 도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 화학액 미스트 분사장치가 구비된 입자유동베드 가공장치는, 상기 화학액 미스트 생성기(300)가 상기 챔버(100) 하단에 위치하여 상기 챔버(100)와 연통되고, 상기 에어 펌프(200)의 송풍로를 내부로 인입하여, 상기 화학액 액적이 포함된 공기를 상기 챔버(100) 하부로 송풍되도록 하는 구성을 취할 수 있는데, 이러한 구성의 경우, 상기 에어 펌프(200)에 의한 송풍 효과로 인하여 화학액 액적이 자연스럽게 상기 챔버(100)의 하단으로 유입될 수 있으며, 이러한 구성에도 상기와 같이, 상기 화학액 미스트 생성기(300) 내부에 초음파 진동기 또는, 열선에 의한 가열장치를 구비하여, 화학액 액적을 형성할 수 있다.
다음으로, 도 3을 참조하면, 상기 화학액 미스트 생성기(300)는, 상기 챔버(100)의 분사판넬(110) 상단 또는 하단에 장착되는 분사노즐(310)을 이용하여 상기 챔버(100) 내부로 화학액 액적을 직접 분사하는 것이 가능한데, 즉, 상기에서 설명한 바와 같이, 초음파 진동기 또는, 열선에 의한 가열장치를 구비하여, 화학액 액적 형성 외에, 직접적인 액적 분사를 수행하는 노즐을 구비하여, 액적을 즉시 생성하는 구성을 취할 수 있다.
이 때, 상기 분사 노즐(310)은, 상기 챔버(100)의 분사판넬(110)의 상단에 위치하여, 화학액 액적이 분사판넬(110)을 거치지 않고 바로 챔버(100)내부로 유입되게 하거나, 분사판넬(110)의 하단에 위치하여 화학액 액적을 분사함으로써, 화학액 액적이 상기 에어 펌프(200)에 의해 이송되는 공기와 뒤섞여 상기 분사 판넬(110)을 통과하여 챔버(100)내부로 이송되는 구성을 취하는 것이 가능하다.
또한, 상기 분사노즐(310)은, 일류체 또는 이류체 노즐을 채택 할 수 있으며, 하나 이상 다수를 구비하여 배치함으로써, 다중 지점에서의 균일한 액적 분사를 수행할 수 있다.
물론, 이러한 다중 분사노즐(310)을 채택하는 경우에는, 일류체 및 이류체 노즐의 복합사용이 가능하다.
이상 본 발명의 실시예에 따른 도면을 참조하여 설명하였지만, 본 발명이 속한 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 상기 내용을 바탕으로 본 발명의 범주 내에서 다양한 응용 및 변형을 행하는 것이 가능할 것이다.
100 : 챔버
200 : 에어 펌프
300 : 화학액 미스트 생성기
400 : 입자 수집기

Claims (6)

  1. 내부에 유동 입자 및 회전하는 연마체(120)를 수용하고, 하부에 화학액 및 공기를 투과시키는 분사판넬(110)을 형성하는 챔버(100);
    상기 챔버(100)의 하부와 연결되고, 상기 챔버(100)내로 공기를 송풍하는 에어펌프(200);
    상기 챔버(100)의 일측면과 연통되고, 화학액 액적을 상기 챔버(100)내로 유입시키는 화학액 미스트 생성기(300);
    상기 챔버(100)의 상단 및 일측면과 연통되고, 상기 챔버(100)의 하단으로부터 송풍되는 공기로 인하여 챔버(100) 상부로 부유하는 화학액 액적 및 유동 입자를 분리하여, 화학액 액적은 외부로 배출하고, 유동 입자는 다시 챔버(100)내로 되돌리는 입자 수집기(400);
    상기 연마체(120)의 회전축과 연결되어 연마체(120)를 회전시키는 회전 모터(130);
    상기 연마체(120) 회전축과 연결되고, 연마체의 위상을 조절하도록 상하이동 하는 레일을 구비한 스탠드(140);를 포함하고,
    상기 화학액 미스트 생성기(300)는, 상기 챔버(100)의 분사판넬(110) 상단 또는 하단에 장착되는 분사노즐(310)을 이용하여 상기 챔버(100) 내부로 화학액 액적을 직접 분사하되,
    상기 분사노즐(310)은, 일류체 또는 이류체 노즐로 하나 이상 다수로 구비되어 다중 지점에서의 균일한 액적 분사를 수행하는 것을 특징으로 하는 화학액 미스트 분사장치가 구비된 입자유동베드 가공장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 화학액 미스트 생성기(300)는, 화학액을 초음파 진동시켜 액적을 형성하거나, 가열에 의한 증기로써 액적을 형성하는 것을 특징으로 하는 화학액 미스트 분사장치가 구비된 입자유동베드 가공장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 화학액 미스트 생성기(300)는, 상기 챔버(100) 하단에 위치하여 상기 챔버(100)와 연통되고, 상기 에어 펌프(200)의 송풍로를 내부로 인입하여, 상기 화학액 액적이 포함된 공기를 상기 챔버(100) 하부로 송풍되도록 하는 것을 특징으로 하는 화학액 미스트 분사장치가 구비된 입자유동베드 가공장치.
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