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KR101763488B1 - Glass edge grinding apparatus by using magneto-rheological fluids - Google Patents

Glass edge grinding apparatus by using magneto-rheological fluids Download PDF

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KR101763488B1
KR101763488B1 KR1020150172320A KR20150172320A KR101763488B1 KR 101763488 B1 KR101763488 B1 KR 101763488B1 KR 1020150172320 A KR1020150172320 A KR 1020150172320A KR 20150172320 A KR20150172320 A KR 20150172320A KR 101763488 B1 KR101763488 B1 KR 101763488B1
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polishing
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인하대학교 산학협력단
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Abstract

본 발명은, 상하로 이격되어 배치된 롤러를 따라 이동하는 연마 벨트; 상기 연마 벨트로 상기 자기 유변 유체의 공급 및 회수를 수행하는 유체 공급부; 상기 연마 벨트의 양측으로 이격으로 배치되어 상기 연마 벨트로 공급되는 상기 자기 유변 유체에 대하여 자기장을 인가하는 자기장 공급부; 및 상기 연마 벨트로 연마 슬러리를 공급하는 연마 슬러리 공급부; 를 포함하고, 상기 자기장 공급부는 대향면의 중앙의 이격 거리가 가장 자리의 이격 거리보다 긴 자기 유변 유체를 이용한 글래스 에지 연마 장치를 제공한다.
본 발명은, 자기 유변 유체가 공급된 연마 벨트의 양측으로 배치되는 자기장 공급부의 이격 거리가 중앙에서 보다 크게 하여 연마벨트에 인가되는 자기장이 전체적으로 균일하게 된다. The present invention provides a polishing apparatus comprising: an abrasive belt moving along a roller arranged up and down; A fluid supply unit for supplying and recovering the magnetorheological fluid with the abrasive belt; A magnetic field supply unit disposed apart from both sides of the abrasive belt for applying a magnetic field to the magnetorheological fluid supplied to the abrasive belt; And a polishing slurry supply unit supplying the polishing slurry to the polishing belt; Wherein the magnetic field supply unit is provided with a glass edge polishing apparatus using a magnetorheological fluid having a distance in the center of the opposing face being greater than a distance in the edge.
In the present invention, the magnetic field supply portions disposed on both sides of the abrasive belt supplied with the magnetorheological fluid have a larger separation distance from the center, so that the magnetic field applied to the abrasive belt becomes uniform as a whole.

Description

자기 유변 유체를 이용한 글래스 에지 연마 장치{Glass edge grinding apparatus by using magneto-rheological fluids}Technical Field [0001] The present invention relates to a glass edge grinding apparatus using magneto-rheological fluids,

본 발명은 자기 유변 유체를 이용한 글래스 에지 연마 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 자기 유변 유체가 공급된 연마 벨트의 양측으로 배치되는 자기장 공급부의 이격 거리가 중앙에서 보다 크게 하여 연마벨트에 전체적으로 균일한 자기장이 인가될 수 있도록 하는 자기 유변 유체를 이용한 글래스 에지 연마 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a glass edge polishing apparatus using a magnetorheological fluid, and more particularly, to a polishing apparatus using a magnetorheological fluid, in which a magnetic field supply unit disposed on both sides of a polishing belt supplied with magnetorheological fluid has a greater distance from the center, And more particularly, to a glass edge polishing apparatus using a magnetorheological fluid capable of applying a magnetic field.

최근 디스플레이에서 보호용으로 사용되고 있는 커버글라스와 LCD 패널 및 디스플레이 영역 상부에 장착되어 입력장치로 활용되는 터치스크린 패널의 기능을 동시에 수행할 수 있는 일체형 터치 패널의 수요도 증가하고 있다. In recent years, there is an increasing demand for an integrated touch panel capable of simultaneously performing functions of a cover glass, an LCD panel, and a touch screen panel mounted above the display area, which are used for protection in displays.

일체형 터치 패널은 패널의 완성 후, 사용되는 디스플레이의 크기에 맞게 절단 및 연삭 공정을 행하여 완성된다. After the completion of the panel, the integrated touch panel is completed by performing cutting and grinding processes in accordance with the size of the display to be used.

현재, 패널의 연삭 공정에 주로 사용되는 공정 방법은 연삭 숫돌(grinding wheel)을 이용한 연삭 공정이지만, 이는 글라스 표면 및 엣지 부위에 크랙(crack) 및 칩(chip)이 발생하며, 기계적인 마찰에 의한 미세 입자가 발생하는 문제점이 있다. Currently, the main processing method used in the grinding process of the panel is a grinding process using a grinding wheel, but cracks and chips are generated on the surface and edge of the glass, There is a problem that fine particles are generated.

상기한 문제점을 해결하기 위하여 자기 유변 유체(Magneto-rheological fluids; MR fluid, 이하 MR유체라 한다)를 이용한 연마시스템에 의하여 터치 패널에 대한 연삭 공정을 수행하는 기술이 개시되었다. In order to solve the above problem, a technique of grinding a touch panel by a polishing system using magneto-rheological fluids (MR fluids) has been disclosed.

자기 유변 유체 연마시스템은, 전자기적으로 유체의 농도를 조절함으로써 응력과 전단력을 변화시켜 연마 가공력을 제어하며, 공구와 공작물의 접촉을 배제시킴으로써 고품위 연마공정을 구현할 수 있다. 자기 유변 유체 연마시스템의 일예가 대한민국 등록특허 0793409호에 개시되어 있다. The magnetorheological fluid polishing system can control the polishing force by changing the stress and shear force by electromagnetically controlling the concentration of the fluid, and can realize a high-quality polishing process by excluding contact between the tool and the workpiece. An example of a magnetorheological fluid polishing system is disclosed in Korean Patent No. 0793409.

상기한 기술은 살펴보면, 원판 형상으로서 휠부재의 둘레 상으로 자기 유변 유체와 연마 슬러리를 공급하고, 소정의 자기장을 자기 유변 유체와 연마 슬러리에 인가하며, 연마 대상물을 휠부재의 둘레에 접촉시켜 연마가 수행되도록 한다. According to the above-described technique, a magnetorheological fluid and a polishing slurry are supplied on the periphery of the wheel member as a disk shape, a predetermined magnetic field is applied to the magnetorheological fluid and the polishing slurry, .

상기와 같은 연마 장치는 자기 유변 유체가 휠부재에서 휠부재의 원심력에 의해 이탈하기 때문에, 휠부재의 회전속도가 한정되는 문제점이 있다. In such a polishing apparatus, since the magnetorheological fluid is separated from the wheel member by the centrifugal force of the wheel member, the rotational speed of the wheel member is limited.

또한, 휠부재는 소정의 직경을 갖고 있지만, 연마 대상물이 접하는 휠부재의 둘레는 일정 범위로 한정되므로, 연마 대상물에 대한 연마가 이루어지는 면적이 한정되는 문제점이 있다. In addition, although the wheel member has a predetermined diameter, since the periphery of the wheel member to which the object to be polished contacts is limited to a certain range, there is a problem that the area to be polished against the object to be polished is limited.

또한, 자기 유변 유체와 연마 슬러리가 동시에 따라 공급되므로, 자기 유변 유체와 연마 슬러리가 혼합되는 문제점이 있다. Further, since the magnetorheological fluid and the polishing slurry are supplied simultaneously, there is a problem that the magnetorheological fluid and the polishing slurry are mixed.

상기한 문제점을 해결하기 위하여 연마 벨트에 연마홈을 형성하고 연마홈으로는 자기 유변 유체와 연마 슬러리를 별도로 공급하고, 연마홈의 양측에서 자기장을 인가하며 연마홈 내측에서 글래스 에지에 대한 연마가 이루어지도록 하는 장치가 개시되었다. In order to solve the above problems, a polishing groove is formed on the polishing belt, a magnetorheological fluid and a polishing slurry are supplied separately, a magnetic field is applied on both sides of the polishing groove, and a glass edge is polished on the inside of the polishing groove An apparatus is disclosed.

도 1은 종래의 기술에 따른 자기 유변 유체를 이용한 연마장치의 연마홈과 자기장 인가부의 구성의 일예를 나타내는 도면으로서, 연마홈(11)이 형성된 연마 벨트(10)의 양측으로는 자기 코어(20)가 서로 대향하여 배치되어 있음을 도시하고 있다. FIG. 1 is a view showing an example of the configuration of a polishing groove and a magnetic field applying section of a polishing apparatus using a magnetorheological fluid according to a conventional technique, in which magnetic cores 20 Are arranged opposite to each other.

연마홈(11)으로 자기 유변 유체와 연마 슬러리가 공급된 후, 자기 코어(20)는 자기 유변 유체에 대하여 자기장을 인가한다. After the magnetorheological fluid and the polishing slurry are supplied into the polishing groove 11, the magnetic core 20 applies a magnetic field to the magnetorheological fluid.

자기장 인가 시, 자기 코어(20)에서는 균일한 자기장이 발생된다. When a magnetic field is applied, a uniform magnetic field is generated in the magnetic core 20.

도 2는 도 1의 a와 b에 대응하는 연마 벨트 상에서의 자기장 인가 정도를 나타내는 그래프이다. 2 is a graph showing the degree of magnetic field application on the abrasive belt corresponding to a and b in Fig.

도 1과 도 2를 참조하면, 여기서, 연마홈(11)에서 자기 코어(20)의 중앙(a)에 대응하는 부분과 자기 코어(20)의 가장자리(b)에 대응하는 부분의 자기장 인가 정도는 차이가 있음을 알 수 있다. 1 and 2, the magnetic field application degree of the portion corresponding to the center (a) of the magnetic core 20 and the portion corresponding to the edge (b) of the magnetic core 20 in the polishing groove 11 It can be seen that there is a difference.

즉, 자기 코어(20)의 중앙(a)에서는 가장 자리에서 인가되는 자기장도 함께 인가받아 실제 인가되는 자기장의 정도가 크게 나타나지만, 자기 코어(20)의 가장자리(b)에는 그렇지 못하므로, 자기장의 정도가 다르게 나타나고, 이에 따라 글래스 에지 연마 시, 연마가 균일하게 이루어지지 못하는 문제점이 있다.That is, since the magnetic field applied at the edge of the magnetic core 20 is applied together at the center a of the magnetic core 20, the degree of the magnetic field actually applied is large. However, the magnetic field is not applied to the edge b of the magnetic core 20. Therefore, when the glass edge is polished, the polishing is not uniformly performed.

본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 자기 유변 유체가 공급된 연마 벨트의 양측으로 배치되는 자기장 공급부의 이격 거리가 대향면의 가장 자리보다 중앙에서 길게 하여 연마벨트에 인가되는 자기장이 전체적으로 균일하게 되도록 하는 자기 유변 유체를 이용한 글래스 에지 연마 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to solve the above problems, and it is an object of the present invention to provide a magnetic abrasive belt, And an object of the present invention is to provide a glass edge polishing apparatus using a magnetorheological fluid.

상기한 목적을 달성하기 위해 본 발명은, 상하로 이격되어 배치된 롤러를 따라 이동하는 연마 벨트; 상기 연마 벨트로 상기 자기 유변 유체의 공급 및 회수를 수행하는 유체 공급부; 상기 연마 벨트의 양측으로 이격으로 배치되어 상기 연마 벨트로 공급되는 상기 자기 유변 유체에 대하여 자기장을 인가하는 자기장 공급부; 및 상기 연마 벨트로 연마 슬러리를 공급하는 연마 슬러리 공급부; 를 포함하고, 상기 자기장 공급부는 대향면의 중앙의 이격 거리가 가장 자리의 이격 거리보다 긴 자기 유변 유체를 이용한 글래스 에지 연마 장치를 제공한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a polishing apparatus comprising: an abrasive belt moving along a roller arranged up and down; A fluid supply unit for supplying and recovering the magnetorheological fluid with the abrasive belt; A magnetic field supply unit disposed apart from both sides of the abrasive belt for applying a magnetic field to the magnetorheological fluid supplied to the abrasive belt; And a polishing slurry supply unit supplying the polishing slurry to the polishing belt; Wherein the magnetic field supply unit is provided with a glass edge polishing apparatus using a magnetorheological fluid having a distance in the center of the opposing face being greater than a distance in the edge.

상기 연마 벨트의 중앙을 따라 단면 형태가'└┘'인 연마홈이 형성될 수 있다.An abrasive groove having a sectional shape of '└┘' may be formed along the center of the abrasive belt.

상기 자기장 공급부는, 일단은 서로 연결되고, 타단은 상기 연마 벨트의 양측으로 서로 대향하여 평행하게 배치되며, 대향면 중앙으로는 대향면 가장 자리에 돌출되는 돌기보다 높이가 낮은 돌기가 한 쌍의 자기 코어와, 상기 자기 코어를 통해 인가되는 자기장을 발생시키는 자기 코일을 포함할 수 있다.The magnetic field supply unit includes a pair of magnetic poles which are connected to each other at one end and arranged parallel to each other on opposite sides of the abrasive belt, And a magnetic coil for generating a magnetic field applied through the magnetic core.

상기 유체 공급부는, 상기 자기 유변 유체를 상기 연마홈의 내측으로 공급하는 유체 공급 노즐과, 상기 유체 공급 노즐보다 낮게 배치되고 상기 연마홈 내측에서 글래스 에지 연마에 사용된 상기 자기 유변 유체를 회수하는 유체 회수 노즐과, 상기 유체 회수 노즐을 통해 회수된 상기 자기 유변 유체를 상기 유체 공급 노즐로 순환시키는 유체 순환 펌프를 포함할 수 있다.Wherein the fluid supply portion includes a fluid supply nozzle for supplying the magnetorheological fluid to the inside of the polishing groove and a fluid supplying nozzle for supplying the fluid for recovering the magnetorheological fluid used for polishing the glass edge inside the polishing groove, And a fluid circulation pump for circulating the magnetorheological fluid recovered through the fluid recovery nozzle to the fluid supply nozzle.

상기 연마 슬러리 공급부는, 상기 연마 슬러리를 상기 연마홈의 내측으로 공급하는 연마 슬러리 공급 노즐과, 상기 연마 슬러리 공급 노즐보다 낮게 배치되고 상기 연마홈 내측의 상기 연마 슬러리를 회수하는 연마 슬러리 회수기와, 상기 연마 슬러리 회수기로 회수된 상기 연마 슬러리를 상기 연마 슬러리 공급 노즐로 순환시키는 연마 슬러리 순환 펌프를 포함할 수 있다.Wherein the polishing slurry supply unit comprises a polishing slurry supply nozzle for supplying the polishing slurry to the inside of the polishing groove, a polishing slurry collector disposed lower than the polishing slurry supply nozzle and for recovering the polishing slurry on the inside of the polishing groove, And a polishing slurry circulation pump circulating the polishing slurry collected by the polishing slurry collector to the polishing slurry supply nozzle.

상기 연마 슬러리 공급부는 상기 유체 공급부보다 상기 벨트에서 이격되어 배치될 수 있다.The polishing slurry supply part may be arranged to be spaced apart from the belt than the fluid supply part.

상기와 같은 본 발명은, 자기 유변 유체가 공급된 연마 벨트의 양측으로 배치되는 자기장 공급부의 이격 거리가 대향면의 가장 자리보다 중앙에서 길게 하여 연마벨트에 인가되는 자기장이 전체적으로 균일하게 된다. In the present invention as described above, the separation distance of the magnetic field supply unit disposed on both sides of the polishing belt supplied with the magnetorheological fluid is made longer at the center than the edge of the opposing face, so that the magnetic field applied to the polishing belt becomes uniform as a whole.

도 1은 종래의 기술에 따른 자기 유변 유체를 이용한 연마장치의 연마홈과 자기장 인가부의 구성의 일예를 나타내는 도면이다.
도 2는 도 1의 a와 b에 대응하는 연마 벨트 상에서의 자기장 강도를 나타내는 그래프이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 자기 유변 유체를 이용한 글래스 에지 연마 장치의 구성의 일 예를 나타내는 도면이다.
도 4는 도 3의 A-A 선의 선단면도이다.
도 5는 본 발명에서 사용하는 자기장 공급부의 구성의 일 예를 나타내는 사시도이다.
도 6은 도 5의 A 부분의 상세도면이다.
도 7은 도 6의 a와 b에 대응하는 연마 벨트 상에서의 자기장 강도를 나타내는 그래프이다.1 is a view showing an example of the configuration of a polishing groove and a magnetic field applying section of a polishing apparatus using a magnetorheological fluid according to a conventional technique.
Fig. 2 is a graph showing the magnetic field strength on the abrasive belt corresponding to a and b in Fig. 1;
3 is a view showing an example of a configuration of a glass edge polishing apparatus using a magnetorheological fluid according to an embodiment of the present invention.
4 is a cross-sectional view taken along the line AA in Fig.
5 is a perspective view showing an example of the configuration of a magnetic field supply unit used in the present invention.
6 is a detailed view of a portion A in Fig.
7 is a graph showing the magnetic field strength on the abrasive belt corresponding to a and b in Fig.

이하 첨부된 도면을 참조하면서 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 자기 유변 유체를 이용한 글래스 에지 연마 장치의 구성의 일 예를 나타내는 도면이다. 3 is a view showing an example of a configuration of a glass edge polishing apparatus using a magnetorheological fluid according to an embodiment of the present invention.

도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 자기 유변 유체를 이용한 글래스 에지 연마 장치(100)는 연마 벨트(110), 유체 공급부(120), 자기장 공급부(130), 연마 슬러리 공급부(140)를 포함한다.Referring to FIG. 3, a glass edge polishing apparatus 100 using a magnetorheological fluid according to an embodiment of the present invention includes a polishing belt 110, a fluid supply unit 120, a magnetic field supply unit 130, a polishing slurry supply unit 140 ).

연마 벨트(110)는 상하로 이격되어 배치된 제1 및 제2 롤러(R1, R2)의 구동에 의해 동작한다. 제1 및 제2 롤러(R1, R2)의 회전축에는 모터가 연결되어 롤러의 구동이 이루어질 수 있도록 한다. The abrasive belt 110 operates by driving the first and second rollers R1 and R2 arranged up and down. A motor is connected to the rotary shaft of the first and second rollers (R1, R2) so that the roller can be driven.

연마 벨트(110)는 전체적으로 평면 형태이지만, 연마 벨트(110)의 중간부를 따라서는 소정의 깊이와 폭을 갖는 연마홈(112)이 형성된다. 여기서, 연마 벨트(110)는 연마홈(112)의 연마면이 상부에서 하부로 이동하도록 배치된다. The abrasive belt 110 is entirely planar, but an abrasive groove 112 having a predetermined depth and width is formed along the middle portion of the abrasive belt 110. Here, the polishing belt 110 is arranged so that the polishing surface of the polishing groove 112 moves from the upper part to the lower part.

연마 벨트(110)는 고무, 천과 같은 재료를 포함할 수 있다.The abrasive belt 110 may comprise a material such as rubber or cloth.

도 4는 도 3의 A-A 선의 선단면도로서, 본 발명에서 사용하는 벨트와 자기장 공급부의 구성의 일 예를 나타낸다. Fig. 4 is a cross-sectional view taken along the line A-A in Fig. 3, showing an example of the configuration of the belt and magnetic field supply unit used in the present invention.

도 4를 참조하면, 연마홈(112)은 단면 형태가'└┘'로 형성된다. 연마홈(112)으로는 후술하는 자기 유변 유체와 연마 슬러리가 공급되고, 연마 대상물(1)에 대한 연마 작업이 진행된다. Referring to FIG. 4, the polishing groove 112 is formed to have a sectional shape of '?'. The polishing fluid is supplied to the polishing groove 112 and the polishing slurry to be described later, and the polishing operation is performed on the object 1 to be polished.

여기서, 연마 대상물(1)은 소정의 크기를 갖는 직사각형의 글래스로서, 연마 대상물(1)의 일측 에지(edge)가 연마홈(112)의 내측으로 삽입되어 연마가 이루어진다. Here, the object to be polished 1 is a rectangular glass having a predetermined size, and one edge of the object 1 is inserted into the inside of the polishing groove 112 to perform polishing.

연마홈(112)의 폭과 깊이는 사용자의 필요에 따라 다양하게 설정될 수 있다. The width and the depth of the polishing groove 112 can be variously set according to the needs of the user.

다시 도 3을 참조하기로 한다. Referring again to FIG.

유체 공급부(120)는 연마홈(112)의 내측으로 자기 유변 유체를 공급 및 회수한다.The fluid supply part 120 supplies and retrieves the magnetorheological fluid to the inside of the polishing groove 112.

유체 공급부(120)는 유체 공급 노즐(120A)과 유체 회수 노즐(120B) 및 유체 순환 펌프(P1)를 포함한다. The fluid supply unit 120 includes a fluid supply nozzle 120A, a fluid recovery nozzle 120B, and a fluid circulation pump P1.

유체 공급 노즐(120A)은 연마홈(112)의 내측으로 자기 유변 유체를 공급한다.The fluid supply nozzle 120A supplies the magnetorheological fluid to the inside of the polishing groove 112. [

자기 유변 유체(magneto-rheological fluid ; MR fluid)는 자기장을 인가하면 점도가 변화하는 특성이 있다. Magneto-rheological fluid (MR fluid) has the property that its viscosity changes when a magnetic field is applied.

자기 유변 유체는 일반적으로 기름이나 물과 같은 비자성 유체에 철(Iron)과 같은 자기장에 민감한 미세크기의 자성물질이 혼합되어 있는 유체이며, 자기 유변 유체에 포함된 자성물질의 직경은 수 마이크로미터 정도이고, 30 내지 40 퍼센트의 부피 비율로 포함되어 있다. 이러한 자기 유변 유체에 자기장이 부가되면 유동특성이 실시간으로 제어되고, 적절한 자기장이 형성되면 뉴톤 유체(Newtonian fluid) 상태로부터 강한 반고체 상태로 급속하게 변하게 되어 점성과 항복응력이 수 배 정도 상승하게 된다.A magnetorheological fluid is a fluid in which a nonmagnetic fluid such as oil or water is mixed with a magnetic material having a minute size that is sensitive to a magnetic field such as iron. The magnetic material included in the magnetorheological fluid has a diameter of several micrometers And is contained in a volume ratio of 30 to 40 percent. When a magnetic field is added to such a magnetorheological fluid, the flow characteristics are controlled in real time, and when a proper magnetic field is formed, the viscosity changes rapidly from the Newtonian fluid state to a strong semi-solid state, thereby increasing the viscosity and yield stress several times.

유체 회수 노즐(120B)은 연마홈(112)의 내측에서 사용된 자기 유변 유체를 회수한다. 유체 회수 노즐(120B)은 유체 공급 노즐(120A) 보다 낮게 배치된다. 보다 상세하게는, 유체 회수 노즐(120B)은 연마 대상물(1) 보다 낮게 배치된다.The fluid recovery nozzle 120B recovers the magnetorheological fluid used inside the polishing groove 112. The fluid recovery nozzle 120B is disposed lower than the fluid supply nozzle 120A. More specifically, the fluid recovery nozzle 120B is disposed lower than the object 1 to be polished.

유체 순환 펌프(P1)는 유체 회수 노즐(120B)을 통해 회수된 자기 유변 유체를 유체 공급 노즐(120A)로 공급하여, 자기 유변 유체가 순환되어 활용될 수 있도록 한다.The fluid circulation pump P1 supplies the magnetorheological fluid recovered through the fluid recovery nozzle 120B to the fluid supply nozzle 120A so that the magnetorheological fluid can be circulated and utilized.

자기장 공급부(130)는 연마홈(112)으로 공급된 자기 유변 유체(2)에 대하여 자기장을 인가하여, 자기 유변 유체(2)가 소정의 점도를 갖도록 한다. The magnetic field supply unit 130 applies a magnetic field to the magnetorheological fluid 2 supplied to the polishing groove 112 so that the magnetorheological fluid 2 has a predetermined viscosity.

도 5는 본 발명에서 사용하는 자기장 공급부의 구성의 일 예를 나타내는 사시도이다. 5 is a perspective view showing an example of the configuration of a magnetic field supply unit used in the present invention.

도 5를 참조하면, 자기장 공급부(130)는 한 쌍의 자기 코어(132)와 자기 코일(136)을 포함한다. Referring to FIG. 5, the magnetic field supply unit 130 includes a pair of magnetic cores 132 and a magnetic coil 136.

한 쌍의 자기 코어(132)는 소정의 길이와 폭을 육면체 형태일 수 있으나, 그 형태는 사용자의 필요에 따라 다양하게 형성될 수 있다. 한 쌍의 자기 코어(132)는 연마 벨트(110)에 형성된 연마홈(112)의 양측으로 서로 대향하여 배치되어, 연마홈(112) 내측의 자기 유변 유체(2)에 대하여 자기장을 인가한다. 타단은 후술하는 자기 코일(136)에 연결된다. The pair of magnetic cores 132 may have a predetermined length and width in a hexahedron shape, but the shape thereof may be variously formed according to the needs of the user. The pair of magnetic cores 132 are disposed opposite to each other on both sides of the polishing groove 112 formed on the polishing belt 110 to apply a magnetic field to the magnetorheological fluid 2 inside the polishing groove 112. And the other end is connected to a magnetic coil 136 described later.

자기 코일(136)은 자기 코어(132)를 통해 인가되는 자기장을 발생시킨다. The magnetic coil 136 generates a magnetic field applied through the magnetic core 132.

여기서, 자기 코어(132)의 대향면의 중앙이 가장자리보다 이격 거리가 크게 형성될 수 있다. Here, the center of the opposing face of the magnetic core 132 may be formed to have a larger distance from the edge.

도 6은 도 5의 A 부분의 상세도면으로서, 연마홈(112)이 형성된 연마 벨트(110)의 양측으로 배치되는 자기 코어(132)의 구성을 나타낸다. Fig. 6 is a detailed view of part A in Fig. 5, showing the configuration of the magnetic core 132 disposed on both sides of the abrasive belt 110 on which the polishing grooves 112 are formed.

자기 코어(132)는 연마 벨트(110)의 연마홈(112) 양측으로 이격되어 배치되고, 자기 코어(132)의 대향면 상에는 복수의 돌기가 돌출된다. The magnetic core 132 is disposed apart from both sides of the polishing groove 112 of the abrasive belt 110 and a plurality of protrusions protrudes on the opposing surfaces of the magnetic core 132.

복수의 돌기에 대하여 좀더 상세하게 살펴보기로 한다.A plurality of protrusions will be described in more detail.

자기 코어(132)는 연마홈(112)의 양측으로 일정 거리 이격되어 대향하여 배치된다. 여기서, 자기 코어(132)의 대향면 상에는 일정 간격으로 복수의 돌기가 돌출된다. 도 6에 의하면, 돌기의 돌출 개수는 3개인 것으로 도시하고 있으나, 사용자의 필요에 따라 돌기의 돌출 개수는 가변될 수 있다.다만, 본 실시예에서는 돌기의 개수가 3개인 것으로 상정하기로 한다. 그리고, 자기 코어(132) 상에서 돌기는 서로 대향하는 위치에 돌출된다. The magnetic cores 132 are disposed opposite to each other at a certain distance from both sides of the polishing groove 112. Here, a plurality of protrusions protrude at regular intervals on the opposing surfaces of the magnetic core 132. [ 6, it is assumed that the number of protrusions is three. However, the number of protrusions may vary depending on the needs of the user. However, in the present embodiment, it is assumed that the number of protrusions is three. On the magnetic core 132, the protrusions are protruded to oppose each other.

중앙의 돌기는 제1 돌기(133a)로 상정하고, 양측 가장 자리의 돌기는 제2 돌기(133b)로 상정한다. The center projection is assumed to be the first projection 133a, and the projections on both side edges are assumed to be the second projection 133b.

여기서, 제1 돌기(133a)와 제2 돌기(133b)는 서로 다른 높이로 돌출될 수 있다. 즉, 도면에서와 같이, 제2 돌기(133b)는 제1 돌기(133a) 보다 높이가 높게 돌출된다. 돌기의 개수가 3개 이상인 경우, 자기 코어(132)의 대향면의 중앙에서 가장자리로 갈수록 돌기의 돌출 높이는 점차 높아지는 것이 바람직하다. Here, the first protrusion 133a and the second protrusion 133b may protrude at different heights. That is, as shown in the figure, the second projection 133b protrudes higher than the first projection 133a. When the number of the protrusions is three or more, it is preferable that the protrusion height of the protrusion gradually increases toward the edge from the center of the opposing face of the magnetic core 132.

돌기의 돌출 높이가 서로 다르게 이루어짐으로써, 자기 코어(132)의 대향면에서 대향하는 돌기간의 간격은 차이가 있게 된다. 즉, 제1 돌기(133a) 간의 이격 거리는 제2 돌기(133b) 간의 이격 거리보다 길게 형성된다. 따라서, 제2 돌기(133b)에서 연마홈(112)으로 인가되는 자기장은 제1 돌기(133a)에서 연마홈(112)으로 인가되는 자기장보다 커지게 된다. The projecting height of the projections is made different from each other, so that there is a difference in the interval of the facing stone periods on the opposed faces of the magnetic core 132. [ That is, the distance between the first projections 133a is longer than the distance between the second projections 133b. Therefore, the magnetic field applied to the polishing groove 112 from the second projection 133b becomes larger than the magnetic field applied to the polishing groove 112 from the first projection 133a.

도 7은 도 6의 a와 b에 대응하는 연마 벨트 상에서의 자기장 강도를 나타내는 그래프이다.7 is a graph showing the magnetic field strength on the abrasive belt corresponding to a and b in Fig.

도 7을 참조하면, 이격 거리가 큰 a 부분과 이격 거리가 작은 b 부분에 관계없이 전체적으로 균일한 자기장이 인가됨을 알 수 있다. Referring to FIG. 7, it can be seen that a uniform magnetic field is applied regardless of a portion having a large separation distance and a portion having a small separation distance.

다시, 도 1을 참조하기로 한다. Referring again to FIG.

연마 슬러리 공급부(140)는 연마홈(112)의 내측으로 연마 슬러리를 공급한다. 연마 슬러리는 일반적으로 연마장치에 사용되는 액체이며, 연마 슬러리에는 연마 입자가 들어 있다.The polishing slurry supply unit 140 supplies the polishing slurry to the inside of the polishing groove 112. The polishing slurry is generally a liquid used in a polishing apparatus, and the polishing slurry contains abrasive grains.

연마 슬러리 공급부(140)는 유체 공급부(120)보다 벨트(1100에서 이격되어 배치된다. The polishing slurry supply unit 140 is disposed apart from the belt 1100 more than the fluid supply unit 120.

연마 슬러리 공급부(140)는 연마 슬러리 공급 노즐(142), 연마 슬러리 회수기(144) 및 연마 슬러리 순환 펌프(P2)를 포함한다. The polishing slurry supply unit 140 includes a polishing slurry supply nozzle 142, a polishing slurry collector 144, and a polishing slurry circulation pump P2.

연마 슬러리 공급 노즐(142)은 연마홈(112)의 내측으로 연마 슬러리를 공급한다. 여기서, 연마 슬러리 공급 노즐(142)은 연마 벨트(110)에서 유체 공급 노즐(120A)보다 이격되어 배치된다. 또한, 연마 슬러리 공급 노즐(142)의 연마 슬러리 공급 부위는 자기장 공급부(130)의 자기장 인가 범위 이내인 것이 바람직하다. The polishing slurry supply nozzle 142 supplies the polishing slurry to the inside of the polishing groove 112. Here, the polishing slurry supply nozzle 142 is disposed on the abrasive belt 110 so as to be spaced apart from the fluid supply nozzle 120A. The polishing slurry supply portion of the polishing slurry supply nozzle 142 is preferably within a magnetic field application range of the magnetic field supply portion 130.

따라서, 연마 슬러리 공급 노즐(142)을 통해 공급되는 연마 슬러리(3)는 연마홈(112) 상에서 자기 유변 유체(2)와 혼합되지 않고, 자기 유변 유체(2)와 연마 대상물(1)과의 접촉면 상에서 연마 대상물(1)과 접하며 연마가 이루어지도록 한다.Therefore, the polishing slurry 3 supplied through the polishing slurry supply nozzle 142 is not mixed with the magnetorheological fluid 2 on the polishing groove 112, but is mixed with the magnetorheological fluid 2 and the object 1 So that the abrading object 1 is brought into contact with the abrading surface on the contact surface.

연마 슬러리 회수기(144)는 소정의 크기를 갖는 용기로서, 연마 벨트(110)의 동작면의 직하방에 배치된다. 즉, 연마홈(112)이 형성된 연마 벨트(110)의 동작면은 상부에서 하부로 이동하므로, 연마홈(112) 상에서 연마에 사용된 연마 슬러리(3)는 연마홈(112)에서 연마 슬러리 회수기(144)로 흘러내려 회수된다. The polishing slurry collector 144 is a container having a predetermined size and is disposed directly below the operation surface of the polishing belt 110. [ The polishing slurry 3 used for polishing on the polishing grooves 112 is moved in the polishing grooves 112 to the polishing slurry collecting section 112. In this case, (144).

연마 슬러리 순환 펌프(P2)는 연마 슬러리 회수기(144)에서 회수된 연마 슬러리(3)를 연마 슬러리 공급 노즐(142)로 순환시킨다. The polishing slurry circulation pump P2 circulates the polishing slurry 3 recovered in the polishing slurry collector 144 to the polishing slurry supply nozzle 142.

본 발명은, 자기 유변 유체가 공급된 연마 벨트의 양측으로 배치되는 자기장 공급부의 이격 거리가 중앙에서 보다 크게 하여 연마벨트에 인가되는 자기장이 전체적으로 균일하게 된다. In the present invention, the magnetic field supply portions disposed on both sides of the abrasive belt supplied with the magnetorheological fluid have a larger separation distance from the center, so that the magnetic field applied to the abrasive belt becomes uniform as a whole.

본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.While the present invention has been described with reference to exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, but, on the contrary, is intended to cover various modifications and equivalent arrangements included within the spirit and scope of the appended claims. Accordingly, the true scope of the present invention should be determined by the technical idea of the appended claims.

100: 글래스 에지 연마 장치
110: 연마 벨트 112: 연마홈
120: 유체 공급부 130: 자기장 공급부
140: 연마 슬러리 공급부100: Glass edge polishing apparatus
110: abrasive belt 112: abrasive groove
120: fluid supply unit 130: magnetic field supply unit
140: polishing slurry supply part

Claims (6)

상하로 이격되어 배치된 롤러를 따라 이동하고, 중앙을 따라 단면 형태가 '└┘' 인 연마홈이 형성되는 연마 벨트;
상기 연마 벨트로 자기 유변 유체의 공급 및 회수를 수행하는 유체 공급부;
일단은 상기 연마 벨트의 양측으로 서로 대향하여 평행하게 배치되며, 대향면 중앙으로는 대향면 가장 자리에 돌출되는 제2 돌기보다 높이가 낮은 제1 돌기가 돌출되는 한 쌍의 자기 코어와, 상기 자기 코어를 통해 인가되는 자기장을 발생시키는 자기 코일을 포함하고 상기 연마 벨트의 양측으로 이격으로 배치되어 상기 연마 벨트로 공급되는 상기 자기 유변 유체에 대하여 자기장을 인가하는 자기장 공급부; 및
상기 연마 벨트로 연마 슬러리를 공급하는 연마 슬러리 공급부; 를 포함하고,
상기 자기장 공급부는 대향면의 중앙의 이격 거리가 가장 자리의 이격 거리보다 긴 자기 유변 유체를 이용한 글래스 에지 연마 장치.
An abrasive belt moving along rollers arranged up and down and formed with an abrasion groove having a sectional shape of '?
A fluid supply unit for supplying and recovering the magnetorheological fluid with the abrasive belt;
A pair of magnetic cores, one end of which is opposed to and parallel to the opposite sides of the abrasive belt, and the other end of which has a lower height than that of the second projections protruding from the edge of the opposing face, A magnetic field supply unit including a magnetic coil for generating a magnetic field applied through the core and spaced apart from both sides of the abrasive belt to apply a magnetic field to the magnetorheological fluid supplied to the abrasive belt; And
A polishing slurry supply unit supplying the polishing slurry to the polishing belt; Lt; / RTI >
Wherein the magnetic field supply unit uses a magnetorheic fluid having a center distance of the opposing face being greater than a separation distance of the edge.
삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 유체 공급부는,
상기 자기 유변 유체를 상기 연마홈의 내측으로 공급하는 유체 공급 노즐과,
상기 유체 공급 노즐보다 낮게 배치되고 상기 연마홈 내측에서 글래스 에지 연마에 사용된 상기 자기 유변 유체를 회수하는 유체 회수 노즐과,
상기 유체 회수 노즐을 통해 회수된 상기 자기 유변 유체를 상기 유체 공급 노즐로 순환시키는 유체 순환 펌프를 포함하는 자기 유변 유체를 이용한 글래스 에지 연마 장치.The method according to claim 1,
Wherein the fluid supply portion includes:
A fluid supply nozzle for supplying the magnetorheological fluid to the inside of the polishing groove,
A fluid recovery nozzle which is disposed lower than the fluid supply nozzle and recovers the magnetorheological fluid used for polishing the glass edge inside the polishing groove,
And a fluid circulation pump for circulating the magnetorheological fluid recovered through the fluid recovery nozzle to the fluid supply nozzle. 제1항 또는 제4항에 있어서,
상기 연마 슬러리 공급부는,
상기 연마 슬러리를 상기 연마홈의 내측으로 공급하는 연마 슬러리 공급 노즐과,
상기 연마 슬러리 공급 노즐보다 낮게 배치되고 상기 연마홈 내측의 상기 연마 슬러리를 회수하는 연마 슬러리 회수기와,
상기 연마 슬러리 회수기로 회수된 상기 연마 슬러리를 상기 연마 슬러리 공급 노즐로 순환시키는 연마 슬러리 순환 펌프를 포함하는 자기 유변 유체를 이용한 글래스 에지 연마 장치.The method according to claim 1 or 4,
The polishing slurry supply unit includes:
A polishing slurry supply nozzle for supplying the polishing slurry to the inside of the polishing groove,
A polishing slurry collector disposed lower than the polishing slurry feeding nozzle and recovering the polishing slurry inside the polishing groove,
And a polishing slurry circulation pump circulating the polishing slurry recovered by the polishing slurry recovery device to the polishing slurry supply nozzle. 제5항에 있어서,
상기 연마 슬러리 공급부는 상기 유체 공급부보다 상기 벨트에서 이격되어 배치되는 자기 유변 유체를 이용한 글래스 에지 연마 장치. 6. The method of claim 5,
Wherein the polishing slurry supply unit is disposed apart from the belt more than the fluid supply unit.
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