[go: up one dir, main page]

KR101719384B1 - 노즐유닛 - Google Patents

노즐유닛 Download PDF

Info

Publication number
KR101719384B1
KR101719384B1 KR1020120101612A KR20120101612A KR101719384B1 KR 101719384 B1 KR101719384 B1 KR 101719384B1 KR 1020120101612 A KR1020120101612 A KR 1020120101612A KR 20120101612 A KR20120101612 A KR 20120101612A KR 101719384 B1 KR101719384 B1 KR 101719384B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
buffer
chemical liquid
nozzle unit
path
chemical
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
KR1020120101612A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20140036063A (ko
Inventor
김준욱
이원우
Original Assignee
(주) 한주반도체
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주) 한주반도체 filed Critical (주) 한주반도체
Priority to KR1020120101612A priority Critical patent/KR101719384B1/ko
Publication of KR20140036063A publication Critical patent/KR20140036063A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101719384B1 publication Critical patent/KR101719384B1/ko
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C5/00Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
    • B05C5/02Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05BSPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B1/00Nozzles, spray heads or other outlets, with or without auxiliary devices such as valves, heating means
    • B05B1/02Nozzles, spray heads or other outlets, with or without auxiliary devices such as valves, heating means designed to produce a jet, spray, or other discharge of particular shape or nature, e.g. in single drops, or having an outlet of particular shape
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C11/00Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
    • B05C11/10Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C5/00Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)

Abstract

본 발명은 기판에 약액을 도포하는 노즐유닛 및 이를 가지는 기판처리장치를 제공한다. 노즐유닛은 내부에 약액을 일시적으로 저장하는 몸체를 가지는 노즐을 포함하되, 상기 몸체는 약액이 유입되는 유입유로, 약액을 분사하는 분사유로, 상기 유입유로 및 상기 분사유로에 각각 연결되고, 약액을 일시적으로 저장하는 제1버퍼, 그리고 상기 유입유로 및 상기 분사유로에 각각 연결되고, 약액을 일시적으로 저장하며, 상기 제1버퍼와 병렬 배치되는 제2버퍼가 형성된다. 이로 인해 노즐의 내부에서 약액의 기포를 제거하고, 약액을 균일하게 공급할 수 있다.

Description

노즐유닛{Nozzle unit}
본 발명은 기판에 약액을 도포하는 노즐유닛 및 이를 가지는 기판처리장치에 관한 것이다.
최근 들어, 정보 처리 기기는 다양한 형태의 기능과 더욱 빨라진 정보 처리 속도를 갖도록 급속하게 발전하고 있다. 이러한 정보 처리 장치는 가동된 정보를 표시하는 표시 패널(display panel)을 가진다. 최근에는 기술의 급속한 발전에 따라 액정 디스플레이(LCD)와 같은 평판 표시 패널의 사용이 급격히 증대하고 있다.
액정 디스플레이는 칼라 필터 글래스에 박막 트랜지스터(TFT)가 접합되는 구조를 가진다. 이 같은 구조는 칼라 필터 글래스와 박막 트랜지스터 간에 틈이 형성될 수 있다. 틈은 대기에 노출되어 글래스를 산화시킬 수 있고, 작은 충격에 의해 박막 트랜지스터를 칼라 필터에 분리시킬 수 있다. 이 같은 문제점을 개선하기 위해 칼라 필터 글래스와 박막 트랜지스터가 접합되는 박막 트랜지스터의 가장자리영역에는 실리콘을 도포한다.
그러나 도1과 같이 노즐(2)과 버퍼부(1)는 서로 이격되는 구조로서, 약액이 버퍼부(1)로부터 노즐로 공급되는 동안 약액 내에 기포 생성 및 노즐(2)로 가해지는 압력 변동 등 다양한 문제가 발생된다. 이로 인해 약액의 흐름은 공급 도중에 일부가 끊겨 틈을 매꾸지 못하거나, 과공급되어 박막 트랜지스터의 상면을 덮는 사고가 발생된다.
한국 특허 공개번호 10-1989-0000799
본 발명은 약액을 균일하게 공급할 수 있는 노즐유닛 및 기판처리방법을 제공한다.
본 발명의 실시예는 기판에 약액을 도포하는 노즐유닛 및 이를 가지는 기판처리장치를 제공한다. 노즐유닛은 내부에 약액을 일시적으로 저장하는 몸체를 가지는 노즐을 포함하되, 상기 몸체는 약액이 유입되는 유입유로, 약액을 분사하는 분사유로, 상기 유입유로 및 상기 분사유로에 각각 연결되고, 약액을 일시적으로 저장하는 제1버퍼, 그리고 상기 유입유로 및 상기 분사유로에 각각 연결되고, 약액을 일시적으로 저장하며, 상기 제1버퍼와 병렬 배치되는 제2버퍼가 형성된다.
노즐유닛은 상기 제1버퍼에 음압 또는 양압을 제공하는 제1압력부재 및 상기 제2버퍼에 음압 또는 양압을 제공하는 제2압력부재를 더 포함할 수 있다. 또한 노즐유닛은 상기 분사유로에 설치되는 밸브 및 상기 밸브, 상기 제1압력부재, 그리고 제2압력부재를 제어하는 제어부를 더 포함하되, 상기 제어부는 상기 제1버퍼 및 상기 제2버퍼 중 어느 하나에 양압을 제공하여 약액이 분사되도록 상기 밸브를 개방하고, 다른 하나에 음압을 제공하여 약액의 기포를 제거할 수 있다. 약액은 실리콘일 수 있다.
기판처리장치는 기판을 지지하는 워크벤치 및 상기 워크벤치에 지지된 기판으로 약액을 도포하는 도포모듈을 포함하되, 상기 도포모듈은 내부에 약액을 일시적으로 저장하는 몸체를 가지는 노즐 및 상기 노즐이 상기 워크벤치의 일변을 따라 이동 시키는 구동부재를 포함하되, 상기 몸체는 약액이 유입되는 유입유로, 약액을 분사하는 분사유로, 상기 유입유로 및 상기 분사유로에 각각 연결되고, 약액을 일시적으로 저장하는 제1버퍼, 그리고 상기 유입유로 및 상기 분사유로에 각각 연결되고, 약액을 일시적으로 저장하며, 상기 제1버퍼와 병렬 배치되는 제2버퍼가 형성된다.
기판처리장치는 상기 제1버퍼에 음압 또는 양압을 제공하는 제1압력부재 및 상기 제2버퍼에 음압 또는 양압을 제공하는 제2압력부재를 더 포함할 수 있다. 또한 상기 분사유로에 설치되는 밸브 및 상기 밸브, 상기 제1압력부재, 그리고 제2압력부재를 제어하는 제어부를 더 포함하되, 상기 제어부는 상기 제1버퍼 및 상기 제2버퍼 중 어느 하나에 양압을 제공하여 약액이 분사되도록 상기 밸브를 개방하고, 다른 하나에 음압을 제공하여 약액의 기포를 제거할 수 있다.
본 발명의 실시예에 의하면, 노즐의 내부에서 약액의 기포를 제거하므로, 약액을 균일하게 공급할 수 있다.
본 발명의 실시예에 의하면, 제1버퍼와 제2버퍼에 제공된 약액은 교대로 분사하므로, 약액을 계속적으로 공급할 수 있다.
본 발명의 실시예에 의하면, 제1버퍼와 제2버퍼에는 음압과 양압이 교대로 제공되므로, 약액의 기포 제거와 동시에 약액을 공급할 수 있다.
도1은 일반적인 노즐유닛을 보여주는 도면이다.
도2는 본 발명의 실시예에 따른 기판처리장치를 보여주는 평면도이다.
도3은 도2의 도포모듈을 보여주는 사시도이다.
도4는 도2의 노즐유닛을 보여주는 도면이다.
도5 내지 도8은 도4의 제어부를 이용하여 약액을 분사하는 과정을 보여주는 단면도이다.
이하, 본 발명의 실시예를 첨부된 도 2 내지 도 8을 참조하면서 상세히 설명한다. 본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시예로 인해 한정되어 지는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장된 것이다.
본 실시예에서 기판(S)은 평판 표시 패널 제조에 사용되는 글래스(S)를 예로 들어 설명한다. 그러나 이와 달리 기판(S)은 반도체 칩 제조에 사용되는 웨이퍼(W)일 수 있다. 또한 본 실시예에는 칼라 필터 글래스와 박막 트랜지스터가 접합된 기판(S)에 실리콘을 도포 처리하는 공정에 대해 설명한다. 그러나 본 발명은 글래스 또는 웨이퍼에 감광액과 같은 약액을 도포 처리하는 공정에 다양하게 적용될 수 있다.
도2는 본 발명의 실시예에 따른 기판처리장치를 보여주는 평면도이고, 도2를 참조하면, 기판처리장치는 워크벤치(200) 및 도포모듈을 포함한다.
워크벤치(200)는 기판을 지지한다. 워크벤치(200)는 상부에서 바라볼 때 일부가 개방된 사각의 링 형상으로 제공된다. 도면번호 PA는 기판이 안착되는 영역을 나타낸다.
도포모듈은 구동유닛(300), 약액공급라인(314), 약액공급부(315), 그리고 노즐유닛(313)을 포함한다. 도3은 도2의 도포모듈을 보여주는 사시도이다. 도3을 참조하면, 구동유닛(300)은 복수 개의 구동부재를 포함한다. 일 예에 의하면, 구동부재는 3 개로 제공되며, 이는 기판의 크기 및 약액의 도포영역에 따라 변경될 수 있다. 구동부재는 제1구동부재(310), 제2구동부재(320), 그리고 제3구동부재(330)로 제공될 수 있다. 제1구동부재(310)와 제2구동부재(320)는 워크벤치(200)를 사이에 두고 서로 마주보게 배치된다. 제1구동부재(310)와 제2구동부재(320)는 워크벤치(200)의 양 측변(210,220)와 인접하게 배치된다. 제3구동부재(330)는 워크벤치(200)의 측변 중 제1구동부재(310)와 제2구동부재(320)에 대향되지 않는 일변에 인접하게 배치된다.
제1구동부재(310)는 프레임(311) 및 이동부(312)를 포함한다. 프레임(311)은 워크벤치(200)의 제1변과 인접하게 위치된다. 프레임(311)의 길이방향은 제1변과 동일한 방향을 향하도록 제공된다. 프레임(311)의 측면에는 제1가이드라인(311a)이 형성된다. 제1가이드라인(311a)은 프레임(311)과 동일한 방향을 향하도록 형성된다.
이동부(312)는 프레임(311)에 결합되고, 제1가이드라인(311a)을 따라 이동 가능하도록 제공된다. 이동부(312)는 브라켓(31), 수직바(32), 그리고 수평바(33)를 포함한다. 브라켓(31)은 고리 형상을 가지고, 양 단부가 제1가이드라인(311a)에 결합된다. 브라켓(31)은 제1가이드라인(311a)의 길이방향을 따라 이동 가능하다. 수직바(32)는 브라켓(31)의 상면으로부터 위로 연장되는 막대 형상을 가진다. 수직바(32)는 워크벤치(200)를 향하는 일측면에 제2가이드라인(미도시)이 형성된다. 제2가이드라인은 수직바(32)와 동일한 방향을 향하도록 형성된다. 수평바(33)는 제2가이드라인을 따라 이동 가능하도록 제2가이드라인에 설치된다. 수평바(33)는 수직바(32)에 대해 상대높이가 변경될 수 있다. 수평바(33)는 수직바(32)의 길이방향과 수직한 방향으로 연장되게 제공된다. 수평바(33)는 워크벤치(200)와 상하로 마주보도록 위치된다. 수평바(33)의 끝단에는 노즐유닛(313)이 결합된다.
제2구동부재(320) 및 제3구동부재(330)는 제1구동부재(310)와 동일한 구성을 가지므로, 이에 대한 설명은 생략한다.
약액공급라인(314)은 약액공급부(315)와 노즐유닛(313)에 각각 연결된다. 약액공급부(315)에 저장된 약액은 약액공급라인(314)을 통해 노즐유닛(313)로 공급된다.
노즐유닛(313)은 내부에 약액을 일시적으로 저장하는 공간을 가지는 몸체(340)로 제공된다. 도4는 도2의 노즐유닛을 보여주는 도면이다. 도4를 참조하면, 몸체(340)의 내부에는 유입유로(350), 제1버퍼(360a), 제2버퍼(360b), 그리고 분사유로(370)가 형성된다. 유입유로(350)는 서로 병렬 배치된 제1버퍼(360a) 및 제2버퍼(360b)에 각각 연결되고, 제1버퍼(360a) 및 제2버퍼(360b) 각각은 분사유로(370)에 연결된다. 약액은 유입유로(350), 제1버퍼(360a) 및 제2버퍼(360b) 중 어느 하나의 버퍼, 그리고 분사유로(370)를 아래방향에 따라 순차적으로 흐른다. 유입유로(350)는 메인유로(353), 제1유입유로(351), 그리고 제2유입유로(352)를 가진다. 메인유로(353)는 약액공급라인(314)과 연결되고, 그 끝단이 제1유입유로(351)와 제2유입유로(352)로 각각 분기된다. 제1유입유로(351)는 제1버퍼(360a)에 연결되고, 제2유입유로(352)는 제2버퍼(360b)에 연결된다. 제1유입유로(351)에는 제1유입밸브(351a)가 설치되고, 제2유입유로(352)에는 제2유입밸브(351b)가 설치된다. 제1유입밸브(351a) 및 제2유입밸브(351b)는 이들이 설치된 유입유로(350)를 개방 또는 차단한다. 예컨대, 약액을 접착력이 강하고, 대기에 노출되어도 반응하지 않는 물질일 수 있다. 약액은 실리콘일 수 있다.
제1버퍼(360a) 및 제2버퍼(360b)는 유입유로(350)를 통해 제공된 약액을 일시적으로 저장한다. 제1버퍼(360a) 및 제2버퍼(360b)에 저장된 약액은 분사유로(370)를 통해 분사된다.
분사유로(370)는 제1분사유로(371), 제2분사유로(372), 그리고 통합유로(373)를 포함한다. 제1분사유로(371)는 제1버퍼(360a)에 연결되고, 제2분사유로(372)는 제2버퍼(360b)에 연결된다. 제1분사유로(371)와 제2분사유로(372)는 통합유로(373)에 연결된다. 제1분사유로(371)와 제2분사유로(372)가 만나는 지점에는 밸브(375)가 설치된다. 밸브(375)는 제1버퍼(360a) 및 제2버퍼(360b) 중 어느 하나에 저장된 약액만이 분사되도록 제1분사유로(371) 또는 제2분사유로(372)를 개방한다. 예컨대, 밸브(375)는 삼방밸브일 수 있다.
압력부재(365)는 제1버퍼(360a)와 제2버퍼(360b) 각각에 양압 또는 음압을 제공한다. 압력부재(365)는 제1압력부재(365a) 및 제2압력부재(365b)를 포함한다. 제1압력부재(365a)는 제1버퍼(360a)에 양압 또는 음압을 제공한다. 제2압력부재(365b)는 제2버퍼(360b)에 양압 또는 음압을 제공한다. 양압은 버퍼(360)에 저장된 약액이 분사되도록 한다. 이와 반대로 음압은 버퍼(360) 내에 저장된 약액의 기포를 제거할 수 있다.
제어부는 제1압력부재(365a), 제2압력부재(365b), 유입밸브들(351a,351b), 그리고 밸브(375)를 제어한다. 도5 내지 도8은 도4의 제어부를 이용하여 약액을 분사하는 과정을 보여주는 단면도이다. 도5 내지 도8을 참조하면, 제어부는 제1유입유로(351)를 개방하여 제1버퍼(360a)에 약액을 우선적으로 채우고, 이후 제2유입유로(352)를 개방하여 제2버퍼(360b)에 약액이 채운다. 제어부는 제2버퍼(360b)에 약액을 채우는 동안, 제1버퍼(360a)에 음압을 제공하여 제1버퍼(360a) 내에 저장된 약액의 기포를 제거한다. 약액의 기포가 제거되면, 제어부는 제1버퍼(360a)에 양압을 제공하고, 제2분사유로(372)를 개방한다. 제1버퍼(360a) 내에 약액은 분사유로(370)로 공급된다. 또한 제2버퍼(360b)에 약액이 모두 채워지면, 제2버퍼(360b)에 음압을 제공하여 제2버퍼(360b) 내에 약액의 기포를 제거한다. 제어부는 제1버퍼(360a)에 저장된 약액이 모두 소진되면, 제2버퍼(360b)에 양압을 제공하고 제2분사유로(372)를 개방한다. 이때 제1분사유로(371)를 차단하고, 제1버퍼(360a)는 다시 개방된 제1유입유로(351)로부터 약액을 공급받을 수 있다.
상술한 실시예에 따르면, 몸체(340) 내에는 버퍼(360)가 제공된다. 이로 인해 약액이 공급되는 중에 흐름이 끊기거나 압력에 변동이 생겨 약액의 토출 불량을 최소화할 수 있다. 또한 버퍼(360)는 복수 개로 제공되므로, 하나의 버퍼에 제공된 약액이 모두 소진될 지라도, 다른 버퍼를 통해 계속적으로 약액을 공급할 수 있다. 또한 어느 하나의 버퍼에 저장된 약액을 공급하는 중에 다른 버퍼에 저장된 약액의 기포를 제거할 수 있다.
340: 몸체 350: 유입유로
370: 분사유로 360a: 제1버퍼
360b: 제2버퍼 365a: 제1압력부재
365b: 제2압력부재

Claims (2)

  1. 약액공급라인 및 약액공급부와 연결되고 구동유닛에 통해 이동하면서 기판에 약액을 도포하는 노즐유닛을 구성하되,
    내부에 약액을 일시적으로 저장하는 상기 노즐유닛의 몸체에는,
    약액이 유입되는 유입유로와;
    약액을 분사하는 분사유로와;
    상기 유입유로 및 상기 분사유로에 각각 연결되고, 약액을 일시적으로 저장하는 제1버퍼와;
    상기 유입유로 및 상기 분사유로에 각각 연결되고, 약액을 일시적으로 저장하며, 상기 제1버퍼간 병렬 배치되는 제2버퍼가 형성되며,
    상기 제1버퍼에 음압 또는 양압을 제공하는 제1압력부재와;
    상기 형성된 제2버퍼에 음압 또는 양압을 제공하는 제2압력부재;
    를 포함하는 노즐유닛.
  2. 삭제
KR1020120101612A 2012-09-13 2012-09-13 노즐유닛 Active KR101719384B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020120101612A KR101719384B1 (ko) 2012-09-13 2012-09-13 노즐유닛

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020120101612A KR101719384B1 (ko) 2012-09-13 2012-09-13 노즐유닛

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20140036063A KR20140036063A (ko) 2014-03-25
KR101719384B1 true KR101719384B1 (ko) 2017-03-24

Family

ID=50645559

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020120101612A Active KR101719384B1 (ko) 2012-09-13 2012-09-13 노즐유닛

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101719384B1 (ko)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010214299A (ja) * 2009-03-17 2010-09-30 Seiko Epson Corp 液体供給装置およびこれを備えた液滴吐出装置
JP4715144B2 (ja) * 2004-09-22 2011-07-06 凸版印刷株式会社 スリットノズルの塗布システム

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU603907B2 (en) 1987-06-30 1990-11-29 Hitachi Construction Machinery Co. Ltd. Hydraulic drive system

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4715144B2 (ja) * 2004-09-22 2011-07-06 凸版印刷株式会社 スリットノズルの塗布システム
JP2010214299A (ja) * 2009-03-17 2010-09-30 Seiko Epson Corp 液体供給装置およびこれを備えた液滴吐出装置

Also Published As

Publication number Publication date
KR20140036063A (ko) 2014-03-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI397120B (zh) 用於蝕刻一基材的設備與方法
KR101038572B1 (ko) 진공기판지그를 구비하는 기판 에칭시스템
KR101719384B1 (ko) 노즐유닛
KR100532083B1 (ko) 일체화된 니들시트를 가진 액정적하장치
KR20120076767A (ko) 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
KR100518269B1 (ko) 복수의 액정적하기를 이용한 액정적하방법
KR20130125867A (ko) 유리기판의 캐리어, 이를 이용한 유리기판의 연마장치 및 분리장치
JP2007090322A (ja) ディスペンサステージのガラス吸着構造
KR101011777B1 (ko) 노즐 모듈 및 이를 구비하는 액체 토출 장치
KR20130061359A (ko) 액정 디스펜서
JP2010036100A (ja) 処理液供給装置
TWI531834B (zh) 塗佈機之平台以及控制塗佈機之平台及塗佈頭單元移動之方法
KR101318075B1 (ko) 포토레지스터 펌프 및 그의 구동 방법
US9841594B2 (en) Apparatus of coupling substrates for electrowetting display panel and method of coupling substrates for electrowetting display using the same
KR101116320B1 (ko) 액상물 적하 장치
US8555460B2 (en) Apparatus for cleaning substrate
KR101252753B1 (ko) 기판 표면처리용 블레이드 모듈
KR100710277B1 (ko) 패널 주입구 봉지장치 및 방법
KR102310002B1 (ko) 약액 도포 장치
US20120001970A1 (en) Droplet ejection device and droplet ejection method
KR100669094B1 (ko) 액정표시패널의 봉지장치
JP2010103263A (ja) 基板処理装置および保持溝洗浄方法
KR20000020985A (ko) 액정표시장치 제조용 실 드로우잉 설비와 이에 적용되는유리기판 운반용 카세트
KR100807588B1 (ko) 효율적인 액정적하가 가능한 액정적하장치 및 적하방법
KR100841620B1 (ko) 스프링의 장력조정이 가능한 액정적하장치

Legal Events

Date Code Title Description
PA0109 Patent application

Patent event code: PA01091R01D

Comment text: Patent Application

Patent event date: 20120913

PG1501 Laying open of application
N231 Notification of change of applicant
PN2301 Change of applicant

Patent event date: 20151118

Comment text: Notification of Change of Applicant

Patent event code: PN23011R01D

A201 Request for examination
PA0201 Request for examination

Patent event code: PA02012R01D

Patent event date: 20151123

Comment text: Request for Examination of Application

Patent event code: PA02011R01I

Patent event date: 20120913

Comment text: Patent Application

E902 Notification of reason for refusal
PE0902 Notice of grounds for rejection

Comment text: Notification of reason for refusal

Patent event date: 20161116

Patent event code: PE09021S01D

E90F Notification of reason for final refusal
PE0902 Notice of grounds for rejection

Comment text: Final Notice of Reason for Refusal

Patent event date: 20170126

Patent event code: PE09021S02D

E701 Decision to grant or registration of patent right
PE0701 Decision of registration

Patent event code: PE07011S01D

Comment text: Decision to Grant Registration

Patent event date: 20170228

GRNT Written decision to grant
PR0701 Registration of establishment

Comment text: Registration of Establishment

Patent event date: 20170317

Patent event code: PR07011E01D

PR1002 Payment of registration fee

Payment date: 20170317

End annual number: 3

Start annual number: 1

PG1601 Publication of registration
PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20200317

Start annual number: 4

End annual number: 4

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20220317

Start annual number: 6

End annual number: 6

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20230316

Start annual number: 7

End annual number: 7

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20240314

Start annual number: 8

End annual number: 8