KR101714715B1 - 봉지재 조성물, 봉지재, 및 전자 소자 - Google Patents
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Abstract
Description
도 2 내지 도 4는, 각각 비교예 1 내지 비교예 3에 따른 봉지재 조성물에 형광체를 첨가하고, 이를 23℃에서 2 시간 방치한 경우, 지면과 수직인 방향에 따른 형광체의 침강 정도를 시간의 흐름에 따라 나타낸 후방산란 스펙트럼(light back scattering)이다.
도 5 내지 도 7은, 각각 실시예 1 내지 실시예 3에 따른 봉지재 조성물에 형광체를 첨가하고, 이를 23℃에서 2 시간 방치한 경우, 지면과 수직인 방향에 따른 형광체의 침강 정도를 시간의 흐름에 따라 나타낸 후방산란 스펙트럼(light back scattering)이다.
도 8은 비교예 1에 따른 봉지재 조성물에 형광체를 첨가하고, 이를 5 개의 패키지에 각각 5 분 간격으로 일정량씩 도포하여 광소자를 제작한 후, 상기 광소자들을 적분구(spectroradiometer)를 사용하여 일정 시간 간격으로 측정한 색좌표 그래프이다.
도 9 는 비교예 2에 따른 봉지재 조성물에 형광체를 첨가하고, 이들을 각각 5 개의 패키지에 각각 5 분 간격으로 일정량씩 도포하여 광소자를 제작한 후, 상기 광소자들을 적분구를 사용하여 일정 시간 간격으로 측정한 색좌표 그래프이다.
도 10 내지 도 12는, 각각 실시예 1 내지 실시예 3에 따른 봉지재 조성물에 형광체를 첨가하고, 이들을 각각 5 개의 패키지에 각각 5 분 간격으로 일정량씩 도포하여 광소자를 제작한 후, 상기 광소자들을 적분구를 사용하여 일정 시간 간격으로 측정한 색좌표 그래프이다.
실시예1 | 실시예2 | 실시예3 | 비교예1 | 비교예2 | 비교예3 | ||
합성예 1의 실록산 화합물 (wt%) | 13 | 8 | 0 | 25 | 20 | 0 | |
합성예 2의 실록산 화합물 (wt%) | 5 | 8 | 13 | 0 | 0 | 11 | |
합성예 3의 실록산 화합물 (wt%) | 82 | 84 | 87 | 75 | 80 | 89 | |
수소규소화 촉매 | 5 ppm | 5 ppm | 5 ppm | 5 ppm | 5 ppm | 5 ppm | |
봉지재 외관 (경화전) | 투명 | 투명 | 투명 | 투명 | 투명 | 투명 | |
봉지재 외관 (경화후) | 투명 | 투명 | 투명 | 투명 | 투명 | 투명 | |
경화 조건 | 150℃ / 2시간 | ||||||
점도 (mPa.S) (봉지재) | 4100 | 6600 | 9300 | 1800 | 2600 | 12000 | |
점도 (mPa.S) (형광체 포함) | 4300 | 6900 | 9800 | 1900 | 2900 | 13000 | |
굴절률 | 1.53 | 1.53 | 1.53 | 1.53 | 1.53 | 1.53 | |
광투과도 (%) | > 95 | > 95 | > 95 | > 95 | > 95 | > 95 | |
Dispensing 공정 압력 (needle 25G, kPa for 0.5sec) |
2.6 | 3.2 | 4.8 | 1.8 | 2.1 | 측정 불가 | |
형광체 침전율 | 16.3% | 8.2% | 0.9% | 27% | 19.1% | 0.3% | |
색좌표 변화율 | CIE x | 0.0015 | 0.0012 | 0.0005 | 0.0063 | 0.0032 | - |
CIE y | 0.0022 | 0.0016 | 0.0009 | 0.0075 | 0.0039 | - |
140: 발광 다이오드 칩 150: 본딩 와이어
200: 봉지재
Claims (14)
- 23℃, 대기압 하에서, Brookfield (DV-II+pro) 스핀들 52번을 사용하여 토오크(Torque)가 90% 일 때 측정한 점도가 4,000 내지 9,500 mPa·s이고,
23℃, 대기압 하에서, 형광체를 혼합하여 2 시간 이상 방치 시, 그 안에 포함되는 형광체의 침전율이 18% 이내이며,
말단에 규소 결합된 수소(Si-H)를 가지는 적어도 1 종의 제1 실록산 화합물, 그리고 말단에 규소 결합된 알케닐 기(Si-Vi)를 가지는 적어도 1 종의 제2 실록산 화합물을 포함하는 봉지재 조성물. - 제1항에서,
상기 조성물에 포함되는 형광체의 밀도는 3.5 g/cm3 내지 6.5 g/cm3 범위인 봉지재 조성물. - 제1항에서,
상기 형광체의 침전율은, Turbiscan 장비(Formulation사, Turbiscan lab)를 사용하여, 상기 조성물과 형광체의 혼합물에 대해 지면과 수직한 방향에 따라 얻어지는 후방 산란 스펙트럼(light back scattering spectrum)을 시간의 흐름에 따라 측정하여, 각각의 측정값을 초기 스펙트럼과 비교하여 변화한 정도를 수치화함으로써 얻어지는 것인 봉지재 조성물. - 제1항에서,
상기 조성물의 경화 후 450 nm 파장에서의 투과도는 90% 이상인 봉지재 조성물. - 제1항에서,
589 nm 에서의 경화 전 굴절율이 1.40 이상인 봉지재 조성물. - 제1항에서,
상기 제1 실록산 화합물은 하기 화학식 1로 표현되는 것인 봉지재 조성물:
[화학식 1]
(R7R8R9SiO1/2)M2(R10R11SiO2/2)D3(R12SiO3/2)T2(SiO3/2-Y1-SiO3/2)T3(SiO4/2)Q2
상기 화학식 1에서,
R7 내지 R12는 각각 독립적으로 수소, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C30 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C30 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴기, 치환 또는 비치환된 C7 내지 C30 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C30 헤테로알킬기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C30 헤테로사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C30 알키닐기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C30 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C30 카르보닐기, 히드록시기 또는 이들의 조합이고,
R7 내지 R12 중 적어도 하나는 수소를 포함하고,
Y1은 단일결합, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴렌기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로아릴렌기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 알케닐렌기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 알키닐렌기 또는 이들의 조합이고,
0<M2<1, 0≤D3<1, 0≤T2<1, 0≤T3<1, 0≤Q2<1이고,
M2+D3+T2+T3+Q2=1이다. - 제6항에서,
상기 R7 내지 R12 중 적어도 하나는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴기를 포함하는 것인 봉지재 조성물. - 제1항에서,
상기 제2 실록산 화합물은 하기 화학식 2로 표현되는 것인 봉지재 조성물:
[화학식 2]
(R13R14R15SiO1/2)M3(R16R17SiO2/2)D4(R18SiO3/2)T4(SiO3/2-Y2-SiO3/2)T5(SiO4/2)Q3
상기 화학식 2에서,
R13 내지 R18은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C30 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C30 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴기, 치환 또는 비치환된 C7 내지 C30 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C30 헤테로알킬기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C30 헤테로사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C30 알케닐기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C30 알키닐기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C30 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C30 카르보닐기, 히드록시기 또는 이들의 조합이고,
R13 내지 R18 중 적어도 하나는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C30 알케닐기를 포함하고,
Y2는 단일결합, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴렌기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로아릴렌기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 알케닐렌기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 알키닐렌기 또는 이들의 조합이고,
0<M3<1, 0≤D4<1, 0≤T4<1, 0≤T5<1, 0≤Q3<1이고,
M3+D4+T4+T5+Q3=1이다. - 제8항에서,
상기 R13 내지 R18 중 적어도 하나는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴기를 포함하는 것인 봉지재 조성물. - 제1항에서,
상기 제1 실록산 화합물은 상기 제1 실록산 화합물과 상기 제2 실록산 화합물의 총 함량에 대하여 50중량% 미만으로 포함되고, 상기 제2 실록산 화합물은 상기 제1 실록산 화합물과 상기 제2 실록산 화합물의 총 함량에 대하여 50 중량% 초과로 포함되는 봉지재 조성물. - 제1항의 봉지재 조성물에, 밀도가 3.5 g/cm3 내지 6.5 g/cm3 범위의 형광체를, 상기 봉지재 조성물의 중량을 기준으로 5% 내지 40%의 함량 범위로 포함하는 봉지재-형광체 혼합 조성물.
- 제11항에서, 상기 조성물은 23℃, 대기압 하에서, Brookfield (DV-II+pro) 스핀들 52번을 사용하여 토오크(Torque)가 90% 일 때 측정한 점도가 4,000 내지 10,000 mPa·s인 봉지재-형광체 혼합 조성물.
- 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 따른 조성물을 경화하여 얻은 봉지재.
- 제13항에 따른 봉지재를 포함하는 전자 소자.
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