KR101704260B1 - A Semiconductor Module and A Manufacturing method thereof - Google Patents
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Abstract
실시예는 반도체 모듈 및 그 제조방법에 관한 것이다.
실시예에 따른 반도체 모듈은 상면에 반도체 칩(104)이 배치되고 하면에 제1 회로패턴(106)이 배치된 모듈 기판(102)과, 상면에 전극패드(124)가 구비되는 메인 기판(122)과, 상기 제1 회로패턴(106)과 상기 전극패드(124)을 전기적으로 연결하는 솔더부(S2);를 포함할 수 있다. 상기 모듈 기판(102)의 하면은 소정의 리세스(recess)(R)를 구비할 수 있다. 상기 제1 회로패턴(106)은 상기 리세스(R) 내에 배치될 수 있다.An embodiment relates to a semiconductor module and a manufacturing method thereof.
The semiconductor module according to the embodiment includes a module substrate 102 on which a semiconductor chip 104 is disposed on an upper surface and a first circuit pattern 106 is disposed on a lower surface of the module substrate 102, And a solder portion S2 electrically connecting the first circuit pattern 106 and the electrode pad 124 to each other. The lower surface of the module substrate 102 may have a predetermined recess R. The first circuit pattern 106 may be disposed in the recess R. [
Description
실시예는 반도체 모듈 및 그 제조방법에 관한 것이다.An embodiment relates to a semiconductor module and a manufacturing method thereof.
이동단말기, 특히 스마트폰(smart phone)은 PC의 소형화된 운영체제를 탑재한 기기에 무선 전화 통신 가능한 하드웨어와 소프트웨어 모듈이 추가된 휴대 전화이다. 스마트폰은 전자 우편, 인터넷 검색, text 읽고 쓰고 저장하기, 추가적인 앱설치로 응용기기로의 기능사용이 가능하고 내장형 키보드나 외장 USB 키보드, 외부 출력 가능한 단자로 확장기기 연결되는 소형전자컴퓨팅기기로 사용될 수 있다.A mobile terminal, particularly a smart phone, is a mobile phone to which hardware and software modules capable of wireless telephone communication are added to a device equipped with a miniaturized operating system of a PC. The smartphone can be used as a small electronic computing device connected to an extension device through an internal keyboard, an external USB keyboard, or an external output terminal, which can be used as an application device by e-mail, Internet search, text reading and writing, .
또한 텔레매틱스(Telematics)는 통신(telecommunication)과 정보과학(informatics)의 합성어로, 카 내비게이션 뿐만 아니라 뉴스도 보고 게임도 하고 주식, 금융거래를 할 수 있는 기능을 넣어서 차안에서 인터넷에 접속해 호텔도 예약하고 영화도 볼 수 있는 시스템을 제공해줄 수 있다.Telematics is a compound word of telecommunication and informatics. It is a compound word of telecommunication and information science. It also not only car navigation but also news, game, stock and financial transactions, You can also provide a system for watching movies.
또한 텔레매틱스에 의하면 자동차, 항공기, 선박 등에 컴퓨터 무선통신 위성항법 기능을 모두 갖춘 장치를 달아 각종 데이터(data) 영상정보를 주고 받을 수 있게 해주는 서비스를 제공할 수 있다.According to Telematics, it is possible to provide a service that allows various data (image) information to be exchanged by attaching a device having all functions of computer wireless communication satellite navigation to automobile, aircraft, and ship.
또한 텔레매틱스에 의하면 자동차에 적용하면 앞 모니터를 통해 이메일(E-MAIL)을 주고 받고 지도를 검색할 수 있으며, 뒷자석 모니터로는 컴퓨터 게임을 즐길 수도 있다.According to Telematics, if you apply it to your car, you can send e-mail through the front monitor and retrieve the map, and you can enjoy computer games on the rear monitor.
텔레메틱스 서비스는 자동차 메이커와 이동통신업체 간의 합작 형태로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 텔레메틱스 서비스는 형태에 따라 뉴스수신, 주식투자, 전자상거래, 금융거래, 호텔예약, 팩시밀리 송수신, 게임, 차량 사고 및 도난 등 다양한 서비스가 가능하며, 특히 교통사고가 났을 경우 GPS위성을 이용해 자동적으로 사고차량의 위치를 추적, 가장 근접한 119구조대에 전달해 줌으로써 구난 활동에 용이할 수 있다.Telematics services can be made in a joint form between car makers and mobile carriers. For example, depending on the type of telematics service, various services such as news reception, stock investment, electronic commerce, financial transaction, hotel reservation, facsimile transmission / reception, game, vehicle accident and theft are possible. Especially, It can be used for rescue activities by automatically tracking the location of the accident vehicle and delivering it to the nearest rescue team.
이러한 이동단말기 또는 텔레매틱스(Telematics)를 구현하기 위해서는 다양한 통신모듈이 필요하며, 이러한 통신모듈은 반도체 모듈형태로서 다양한 방식의 패키지 형태로 제작되고 있다.In order to implement such a mobile terminal or telematics, various communication modules are required. Such communication modules are manufactured in the form of semiconductor modules and packages of various types.
종래기술에 의한 웨이퍼 레벨 반도체 패키지로는 기판의 하부에 랜드(Land)들이 형성되어 있는 LGA(Land Grid Array) 구조의 반도체 패키지와 기판의 복수개의 랜드(Land)들에 솔더볼들이 융착되어 있는 BGA(Ball Grid Array) 구조의 반도체 패키지가 있다.The wafer level semiconductor package according to the prior art includes a semiconductor package of an LGA (Land Grid Array) structure in which lands are formed under the substrate, a BGA (solder ball) Ball Grid Array) structure.
그런데, 종래기술에 의한 LGA(Land Grid Array) 구조의 반도체 패키지는 패키징 시 보이드(void)가 발생하여 전기적인 특성이 저하될 수 있고, 기판의 휨 현상 등에 의해 쇼트(open)나 단락(open) 현상이 발생할 수 있다. 또한 종래기술에 의한 BGA(Ball Grid Array) 구조의 반도체 패키지의 경우 역시 기판의 휨 현상이 발생할 수 있고, 솔더볼의 크랙(crack) 문제가 발생할 수 있다.However, in the semiconductor package of the LGA (Land Grid Array) structure according to the related art, voids are generated during packaging and the electrical characteristics may be deteriorated. Opening or shorting (open) A phenomenon may occur. Also, in the case of the semiconductor package of the BGA (Ball Grid Array) structure according to the related art, the substrate may be warped, and cracking of the solder ball may occur.
실시예는 전기적 특성이 향상된 반도체 모듈 및 그 제조방법을 제공하고자 한다.Embodiments provide a semiconductor module with improved electrical characteristics and a method of manufacturing the same.
또한 실시예는 물리적 특성이 향상된 반도체 모듈 및 그 제조방법을 제공하고자 한다.Also, the embodiments are directed to a semiconductor module having improved physical characteristics and a method of manufacturing the same.
실시예에 따른 반도체 모듈은 상면에 반도체 칩(104)이 배치되고 하면에 제1 회로패턴(106)이 배치된 모듈 기판(102)과, 상면에 전극패드(124)가 구비되는 메인 기판(122)과, 상기 제1 회로패턴(106)과 상기 전극패드(124)을 전기적으로 연결하는 솔더부(S2);를 포함할 수 있다. 상기 모듈 기판(102)의 하면은 소정의 리세스(recess)(R)를 구비할 수 있다. 상기 제1 회로패턴(106)은 상기 리세스(R) 내에 배치될 수 있다.The semiconductor module according to the embodiment includes a
또한 실시예에 따른 반도체 모듈의 제조방법은 일면에 반도체 칩(104)이 배치되고 타면에 제1 회로패턴(106)이 배치된 모듈 기판(102)을 준비하는 단계와, 상기 모듈 기판(102) 상에 범프 마스크(M)를 형성하는 단계와, 상기 범프 마스크(M)를 이용하여 상기 제1 회로패턴(106) 상에 솔더 페이스트(S1)를 프린팅하는 단계와, 상기 솔더 페이스트(S1)를 프린팅하는 단계 후에 상기 범프 마스크(M)를 제거하는 단계 및 상기 프린팅된 솔더 페이스트(S1)를 진공 성형하여 솔더부(S2)를 형성하는 단계를 포함할 수 있다.The method of manufacturing a semiconductor module according to an embodiment of the present invention includes the steps of preparing a
실시예는 전기적 특성이 향상된 반도체 모듈 및 그 제조방법을 제공할 수 있다.Embodiments can provide a semiconductor module with improved electrical characteristics and a method of manufacturing the same.
또한 실시예는 물리적 특성이 향상된 반도체 모듈 및 그 제조방법을 제공할 수 있다. Also, the embodiment can provide a semiconductor module with improved physical characteristics and a method of manufacturing the same.
도 1a는 실시예에 따른 반도체 모듈의 단면도.
도 1b는 실시예에 따른 반도체 모듈의 부분 확대도.
도 2a는 비교예 반도체 모듈의 솔더부 분석 사진.
도 2b는 실시예에 따른 반도체 모듈의 솔더부 분석 사진.
도 2c는 실시예에 따른 반도체 모듈의 솔더부 사진.
도 3 내지 도 10은 실시예에 따른 반도체 모듈의 제조방법 공정 단면도.
도 11은 실시예에 따른 반도체 모듈이 적용된 이동 단말기 사시도.1A is a cross-sectional view of a semiconductor module according to an embodiment;
1B is a partial enlarged view of a semiconductor module according to an embodiment.
2A is a photograph of solder part analysis of a comparative semiconductor module.
FIG. 2B is a photograph of the solder part analysis of the semiconductor module according to the embodiment. FIG.
2C is a view of a solder portion of a semiconductor module according to an embodiment.
FIGS. 3 to 10 are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a semiconductor module according to an embodiment.
11 is a perspective view of a mobile terminal to which a semiconductor module according to an embodiment is applied.
실시 예의 설명에 있어서, 각 층(막), 영역, 패턴 또는 구조물들이 기판, 각 층(막), 영역, 패드 또는 패턴들의 "상/위(on/over)"에 또는 "아래(under)"에 형성되는 것으로 기재되는 경우에 있어, "상/위(on/over)"와 "아래(under)"는 "직접(directly)" 또는 "다른 층을 개재하여 (indirectly)" 형성되는 것을 모두 포함한다. 또한 각 층의 상/위 또는 아래에 대한 기준은 도면을 기준으로 설명한다.In the description of the embodiments, it is to be understood that each layer (film), area, pattern or structure may be referred to as being "on" or "under" the substrate, each layer Quot; on "and" under "are intended to include both" directly "or" indirectly " do. Also, the criteria for top, bottom, or bottom of each layer will be described with reference to the drawings.
(실시예)(Example)
도 1a는 실시예에 따른 반도체 모듈(100)의 단면도이다.1A is a cross-sectional view of a
실시예에 따른 반도체 모듈(100)은 모듈 기판부(110), 메인 기판부(120), 솔더부(S2) 등을 포함할 수 있다. 상기 모듈 기판부(110)는 모듈 기판(102), 제1 회로패턴(106) 및 반도체 칩(104)을 포함할 수 있다. 상기 메인 기판부(120)는 메인 기판(122), 전극패드(124)를 포함할 수 있다.The
예를 들어, 실시예에 따른 반도체 모듈(100)은 상면에 반도체 칩(104)이 배치되고 하면에 제1 회로패턴(106)이 배치된 모듈 기판(102)과, 상면에 전극패드(124)가 구비되는 메인 기판(122) 및 상기 제1 회로패턴(106)과 상기 전극패드(124)을 전기적으로 연결하는 솔더부(S2)를 포함할 수 있다.For example, the
상기 모듈 기판(102)은 단일 기판 또는 복수의 기판으로 형성될 수 있다. 상기 모듈 기판(102)은 절연성 기판일 수 있다. 예를 들어, 상기 모듈 기판(102)은 열경화성 또는 열가소성 고분자 기판, 세라믹 기판, 유-무기 복합 소재 기판, 또는 유리 섬유 합성 기판일 수 있다. The
또한 상기 모듈 기판(102)이 고분자 수지를 포함하는 경우, FR-4, BT(Bismaleimide Triazine), ABF(Ajinomoto Build up Film) 등의 에폭시계 절연 수지 또는 폴리이미드계 수지를 포함할 수도 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.When the
상기 모듈 기판(102)의 상면에 반도체 칩(104)이 배치될 수 있고, 상기 반도체 칩(104) 상에는 소정의 몰딩부가 형성되어 반도체 칩(104)을 보호할 수 있다. 상기 반도체 칩은 프로세서 칩이나 전자 소자일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다. A
예를 들어, 상기 전자 소자는 저항(Resistor), 인덕터(Inductor) 또는 커패시터(Capacitor) 등의 수동소자일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.For example, the electronic device may be a passive device such as a resistor, an inductor, or a capacitor, but is not limited thereto.
상기 모듈 기판(102)의 하면에는 도전성 제1 회로패턴(106)이 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 제1 회로패턴(106)은 랜드 그리드 에레이(Lan Gird Array) 타입으로 형성될 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.A conductive
또한 상기 제1 회로패턴(106)은 어대티브 공법(Additive process), 서브트렉티브 공법(Subtractive Process), MSAP(Modified Semi Additive Process) 또는 SAP(Semi Additive Process) 공법 등으로 형성가능하나 이에 한정되는 것은 아니다.The
상기 제1 회로패턴(106)은 상기 반도체 칩(104)과 소정의 도전성 비아(미도시)를 통해 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 도전성 비아는 상기 모듈 기판(102)에 기계가공 방식으로 비아 홀을 형성하여 형성될 수 있다. 예를 들어, 소정의 비아 홀(미도시)이 상기 메인 기판(122) 내에 밀링(Milling), 드릴(Drill) 또는 라우팅(Routing) 등의 기계가공 방식으로 형성될 수 있다. 또는 상기 비아 홀은 레이저 가공 또는 화학 가공에 의해 형성될 수도 있다.The
이후, 상기 비아 홀에 금속 물질의 충진에 의해 소정의 도전성 비아를 형성할 수 있다. 예를 들어, 상기 도전성 비아는 Cu, Ag, Sn, Au, Ni 또는 Pd 중 선택되는 어느 하나의 물질을 이용하여, 무전해 도금, 전해 도금, 스크린 인쇄(Screen Printing), 스퍼터링(Sputtering), 증발법(Ecaporation), 잉크젯팅 또는 디스펜싱 중 어느 하나 또는 이들의 조합된 방식을 이용하여 비아 홀에 충진되어 형성될 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.Thereafter, a predetermined conductive via can be formed by filling the via hole with a metal material. For example, the conductive via may be formed using any one material selected from among Cu, Ag, Sn, Au, Ni, and Pd, and may be formed by electroless plating, electrolytic plating, screen printing, sputtering, But it is not limited thereto, and may be formed by filling the via hole using any one of a combination of electrophoresis, inkjetting, and dispensing, or a combination thereof.
도 1b는 실시예에 따른 반도체 모듈(100)의 부분 확대 모식도이다.1B is a partially enlarged schematic view of a
실시예에서 상기 모듈 기판(102)은 소정의 리세스(recess)(R)를 구비할 수 있다.In an embodiment, the
예를 들어, 상기 모듈 기판(102)은 상기 모듈 기판(102)의 하면(102B)을 기준으로 위로 오목한 소정의 리세스(R)를 구비할 수 있다. 상기 리세스(R)는 도시된 바와 같이 트렌치 형태일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.For example, the
상기 리세스(R)는 상기 메인 기판(122) 내에 기계가공 방식, 레이저 가공 또는 화학 가공에 의해 형성될 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.The recess R may be formed in the
실시예에서 상기 제1 회로패턴(106)은 상기 리세스(R) 내에 배치될 수 있다. 예를 들어, 상기 제1 회로패턴의 바닥부(106B)는 상기 모듈 기판의 하면(102B)보다 높게 위치할 수 있다. 또한 상기 제1 회로패턴(106)은 상기 모듈 기판의 하면(102B)으로 돌출되지 않을 수 있다. 이를 통해, 제1 회로패턴(106) 간의 단락을 방지할 수 있다.In an embodiment, the
상기 솔더부(S2)는 스크린프린팅 솔더범프 공정에 의해 형성될 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 솔더부(S2)는 무연솔더, Pb/In/Ag 또는 Sn/Pb/Cd/In 중 어느 하나를 이용하여 형성할 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 무연솔더는 Cu/Ag/Sn 또는 Cu/Sb/Ag/Sn일 수 있으니 이에 한정되는 것은 아니다.The solder portion S2 may be formed by a screen printing solder bump process, but is not limited thereto. The solder portion S2 may be formed using any one of lead-free solder, Pb / In / Ag or Sn / Pb / Cd / In, but is not limited thereto. The lead-free solder may be Cu / Ag / Sn or Cu / Sb / Ag / Sn.
실시예에서 상기 솔더부(S2)의 일부는 상기 모듈 기판(102)의 리세스(R) 내에 배치될 수 있다. 예를 들어, 상기 솔더부(S2)의 상부(ST)는 상기 모듈 기판(102)의 리세스(R) 내에 배치되어 솔더부(S2)의 접촉면적을 넓힘으로써 물리적인 결합력을 향상시킬 수 있다.In an embodiment, a portion of the solder S2 may be disposed within the recess R of the
도 2a는 비교예 반도체 모듈의 솔더부 분석 사진이다.2A is a photograph of solder part analysis of a comparative semiconductor module.
비교예는 LGA(Land Grid Array) 타입으로 패키징 공정 진행시 솔더부(SA) 분석사진이며, 비교예에서의 솔더부(SA)에서 보이드(V) 농도는 약 30% 내지 45%에 달한다. 이에 따라, 비교예에 의하면 전기적인 특성이나 물리적인 특성이 불량인 경우가 발생하고 있다.The comparative example is a photograph of a solder portion (SA) analysis in a packaging process of an LGA (Land Grid Array) type, and the concentration of voids (V) in the solder portion SA in the comparative example reaches about 30% to 45%. As a result, according to the comparative example, there are cases where electrical characteristics and physical characteristics are poor.
도 2b는 실시예에 따른 반도체 모듈의 솔더부(S2) 분석 사진이다.2B is a photograph of the solder portion S2 of the semiconductor module according to the embodiment.
실시예에 따른 반도체 모듈에서의 솔더부(S2)의 보이드 농도는 10% 이하로 제어가 가능하여 전기적인 특성이나 물리적인 특징이 우수하다. The void concentration of the solder portion S2 in the semiconductor module according to the embodiment can be controlled to 10% or less, which is excellent in electrical characteristics and physical characteristics.
예를 들어, 실시예에 따른 반도체 모듈에서의 솔더부(S2)의 보이드 농도는 약 5% 이하일 수 있다. 또한 실시예 적용시 반도체 모듈에서의 솔더부(S2)의 보이드 농도는 약 3.5% 이하로 제어가 가능하다. For example, the void concentration of the solder portion S2 in the semiconductor module according to the embodiment may be about 5% or less. Also, when the embodiment is applied, the void concentration of the solder portion S2 in the semiconductor module can be controlled to about 3.5% or less.
예를 들어, 도 2b에서 분석된 실시예의 자료에서 솔더부(S2)의 보이드 농도는 0%에 가깝게 거의 측징되지 않았다. For example, in the data of the embodiment analyzed in Fig. 2B, the void concentration of solder S2 was scarcely scaled close to 0%.
실시예에 따른 반도체 모듈에서의 솔더부의 보이드 농도가 낮아짐에 따라 전기 전도성이 향상되어 전기적인 특성이 현저히 향상될 수 있다.As the concentration of voids in the solder portion in the semiconductor module according to the embodiment is lowered, the electrical conductivity is improved and the electrical characteristics can be remarkably improved.
또한 실시예에 따른 반도체 모듈에서의 솔더부의 보이드 농도가 개선됨에 따라 솔더 크랙의 발생이 현저히 향상될 수 있다.Also, as the void concentration of the solder portion in the semiconductor module according to the embodiment is improved, the occurrence of the solder crack can be remarkably improved.
도 2c는 실시예에 따른 반도체 모듈의 솔더부 사진이다.2C is a photograph of a solder portion of the semiconductor module according to the embodiment.
한편 종래기술에 의하면 보이드 농도가 높아 솔더부의 높이가 제대로 확보되지 못해 솔더부와 회로패턴 간의 오픈(open)이 발생하는 문제가 있었다.On the other hand, according to the related art, since the void concentration is high, the height of the solder portion can not be secured properly, and there is a problem that an open between the solder portion and the circuit pattern occurs.
실시예에 따른 반도체 모듈에서의 솔더부(S2)의 보이드 농도가 개선됨에 따라 솔더부의 높이(H)가 충분하게 확보되어 기계적, 전기적 신뢰성이 향상될 수 있다.As the void concentration of the solder portion S2 in the semiconductor module according to the embodiment is improved, the height H of the solder portion can be sufficiently secured, so that the mechanical and electrical reliability can be improved.
예를 들어, 실시예에서 솔더부의 높이(H)는 약 0.10mm 내지 0.50mm로 확보될 수 있으며, 솔더부의 폭(W)은 약 0.20mm 내지 0.60mm로 확보될 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.For example, in the embodiment, the height H of the solder portion can be ensured to be about 0.10 mm to 0.50 mm, and the width W of the solder portion can be ensured to be about 0.20 mm to 0.60 mm, but is not limited thereto.
예를 들어, 실시예에서 솔더부의 높이(H)는 약 0.35mm 내지 0.40mm로 확보될 수 있으며, 솔더부의 폭(W)은 약 0.850mm 내지 0.900mm로 확보될 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.For example, in the embodiment, the height H of the solder portion can be secured to about 0.35 mm to 0.40 mm, and the width W of the solder portion can be secured to about 0.850 mm to 0.900 mm, but is not limited thereto.
또한 실시예에서 솔더부(S2) 상면 디자인은 원형, 둥근 사각형, 사각형 또는 마름모 형상 등일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다. In addition, the upper surface design of the solder portion S2 in the embodiment may be circular, rounded square, rectangular or rhombic, but is not limited thereto.
이하, 도 3 내지 도 10를 참조하여 실시예에 따른 반도체 모듈의 제조방법을 설명하기로 한다. 이하의 제조방법 설명은 도면을 기준으로 설명하나 제조방법이 도면이나 이하의 설명의 순서에 한정되지 않는다.Hereinafter, a method of manufacturing a semiconductor module according to an embodiment will be described with reference to FIGS. 3 to 10. FIG. The following description of the manufacturing method will be described with reference to the drawings, but the manufacturing method is not limited to the drawings or the sequence of the following description.
우선, 도 3과 같이, 모듈 기판부(110)을 준비하여, 상기 모듈 기판부(110)는 모듈 기판(102), 제1 회로패턴(106) 및 반도체 칩(104)을 포함할 수 있다. 3, a
상기 모듈 기판(102)의 일면에 반도체 칩(104)이 배치되고, 타면에 제1 회로패턴(106)이 배치될 수 있다.The
상기 모듈 기판(102)은 단일 기판 또는 복수의 기판으로 형성될 수 있다.The
상기 모듈 기판(102)은 절연성 기판일 수 있다. 예를 들어, 상기 모듈 기판(102)은 열경화성 또는 열가소성 고분자 기판, 세라믹 기판, 유-무기 복합 소재 기판, 또는 유리 섬유 함침 기판일 수 있다. The
또한 상기 모듈 기판(102)이 고분자 수지를 포함하는 경우, FR-4, BT(Bismaleimide Triazine), ABF(Ajinomoto Build up Film) 등의 에폭시계 절연 수지를 포함할 수 있으며, 이와 달리 폴리이미드계 수지를 포함할 수도 있으나, 특별히 이에 한정되는 것은 아니다.In addition, when the
상기 모듈 기판(102)의 일면에 반도체 칩(104)이 배치될 수 있다. 예를 들어, 도 3을 기준으로 모듈 기판(102)의 하면에 반도체 칩(104)이 배치되고, 반도체 칩(104) 상에 몰딩수지(미도시)가 형성될 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.A
상기 반도체 칩은 프로세서 칩이나 전자 소자일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 상기 전자 소자는 저항(Resistor), 인덕터(Inductor) 또는 커패시터(Capacitor) 등의 수동소자일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.The semiconductor chip may be a processor chip or an electronic device, but is not limited thereto. For example, the electronic device may be a passive device such as a resistor, an inductor, or a capacitor, but is not limited thereto.
상기 모듈 기판(102)의 타면에는 제1 회로패턴(106)이 형성될 수 있다. 예를 들어, 도 3을 기준으로 상기 모듈 기판(102)의 상면에 제1 회로패턴(106)이 랜드 그리드 에레이 타입으로 형성될 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다. A
상기 제1 회로패턴(106)은 어대티브 공법(Additive process), 서브트렉티브 공법(Subtractive Process), MSAP(Modified Semi Additive Process) 또는 SAP(Semi Additive Process) 공법 등으로 형성가능하나 이에 한정되는 것은 아니다.The
상기 제1 회로패턴(106)은 상기 반도체 칩(104)과 소정의 도전성 비아(미도시)를 통해 전기적으로 연결될 수 있다.The
예를 들어, 소정의 비아 홀(미도시)이 상기 메인 기판(122) 내에 밀링(Milling), 드릴(Drill) 또는 라우팅(Routing) 등의 기계가공 방식으로 형성될 수 있다. 또는 비아 홀은 레이저 가공 또는 화학 가공에 의해 형성될 수 있다.For example, a predetermined via hole (not shown) may be formed in the
이후, 상기 비아 홀에 소정의 도전성 비아를 금속 물질의 충진에 의해 형성할 수 있다. 예를 들어, 상기 도전성 비아는 Cu, Ag, Sn, Au, Ni 또는 Pd 중 선택되는 어느 하나의 물질을 이용하여, 무전해 도금, 전해 도금, 스크린 인쇄(Screen Printing), 스퍼터링(Sputtering), 증발법(Ecaporation), 잉크젯팅 또는 디스펜싱 중 어느 하나 또는 이들의 조합된 방식을 이용한 충진으로 형성될 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.Then, a predetermined conductive via may be formed in the via hole by filling a metal material. For example, the conductive via may be formed using any one material selected from among Cu, Ag, Sn, Au, Ni, and Pd, and may be formed by electroless plating, electrolytic plating, screen printing, sputtering, May be formed by filling using any one of the following methods, eco-deposition, ink-jetting or dispensing, or a combination thereof, but is not limited thereto.
실시예에서 상기 모듈 기판(102)은 도 1b와 같이 소정의 리세스(recess)(R)를 구비할 수 있다. 예를 들어, 상기 모듈 기판(102)은 상기 모듈 기판(102)의 하면(102B)을 기준으로 소정의 리세스(R)를 구비할 수 있다. 상기 리세스(R)는 도시된 바와 같이 트렌치 형태일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.In an embodiment, the
상기 리세스(R)는 상기 메인 기판(122) 내에 기계가공 방식, 레이저 가공 또는 화학 가공에 의해 형성될 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.The recess R may be formed in the
실시예에서 상기 제1 회로패턴(106)은 상기 리세스(R) 내에 배치될 수 있다. 예를 들어, 상기 제1 회로패턴의 바닥부(106B)는 상기 모듈 기판의 하면(102B)보다 높게 위치할 수 있다. 또한 상기 제1 회로패턴(106)은 상기 모듈 기판의 하면(102B)으로 돌출되지 않을 수 있다.In an embodiment, the
다음으로, 도 4 내지 도 8의 공정을 통해, 상기 모듈 기판(102) 상에 솔더부(S2)를 형성한다. 상기 솔더부(S2)는 스크린프린팅 솔더범프 공정에 의해 형성될 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.Next, a solder S2 is formed on the
우선, 도 4와 같이 상기 모듈 기판(102) 상에 상기 제1 회로패턴(106)을 노출시키는 범프 마스크(M)를 형성한다. 상기 범프 마스크(M)는 감광막(PR)을 이용하여 형성될 수 있으나 이에 한정되지 않는다.First, as shown in FIG. 4, a bump mask M for exposing the
다음으로, 도 5와 같이, 상기 범프 마스크(M)를 이용하여 솔더 페이스트(S1)를 프린팅한다. Next, as shown in FIG. 5, the solder paste S1 is printed using the bump mask M.
상기 솔더 페이스트(S1)는 무연솔더, Pb/In/Ag 또는 Sn/Pb/Cd/In 중 어느 하나 일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 무연솔더는 Cu/Ag/Sn 또는 Cu/Sb/Ag/Sn일 수 있으니 이에 한정되는 것은 아니다.The solder paste S1 may be any one of lead-free solder, Pb / In / Ag or Sn / Pb / Cd / In, but is not limited thereto. The lead-free solder may be Cu / Ag / Sn or Cu / Sb / Ag / Sn.
상기 범프 마스크(M)는 추후 형성되는 솔더부(S2)의 폭(W)에 따라 아래 표1과 같은 높이로 형성될 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.The bump mask M may be formed to have a height as shown in Table 1 according to the width W of the solder S2 to be formed later, but the present invention is not limited thereto.
다음으로, 도 6과 같이, 상기 범프 마스크(M)를 애슁 공정 등에 의해 제거시킨다.Next, as shown in FIG. 6, the bump mask M is removed by an ashing process or the like.
다음으로, 도 7과 같이, 소정의 챔버(C)에서 상기 프린팅된 솔더 페이스트(S1)를 진공 성형하여, 도 8과 같이 솔더부(S2)를 형성할 수 있다.Next, as shown in FIG. 7, the printed solder paste S1 is vacuum-formed in a predetermined chamber C to form a solder portion S2 as shown in FIG.
상기 진공성형 장비인 챔버(C)는 일반적인 리플로우 오븐(Reflow Oven) 사양을 만족하되, 솔더링(Soldering) 구간에서의 진공 대기를 만들 수 있어야 하며, 그 수준은 진공성형 조건을 만족할 수 있어야 한다.The chamber (C), which is a vacuum forming equipment, is required to satisfy the reflow oven specification and to be able to make a vacuum atmosphere in the soldering section, and the level thereof must satisfy the vacuum forming condition.
실시예에서 채용가능한 진공장비는 최소 1.0kPa 이하의 진공수준을 확보 유지 가능한 장비여야 한다. 또한, 상기 진공장비는 진공 수준에 도달함에 있어, 진공화 속도가 조절 가능한 장비여야 한다.Vacuum equipment which can be employed in the embodiment should be a device capable of maintaining a vacuum level of at least 1.0 kPa. In addition, the vacuum equipment must be capable of controlling the evacuation rate in reaching the vacuum level.
실시예에서 진공성형 시 진공압 및 진공시간은 요구되는 솔더부의 설정 조건에 따라 다를 수 있다.In embodiments, the vacuum pressure and vacuum time during vacuum forming may vary depending on the set conditions of the solder required.
실시예의 진공성형 공법에서 진공압은 약 0.5kPa 내지 10.0kPa일 수 있고, 진공시간은 약 18sec 내지 60sec 일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.In the vacuum molding method of the embodiment, the vacuum pressure may be about 0.5 kPa to 10.0 kPa, and the vacuum time may be about 18 sec to 60 sec, but is not limited thereto.
진공압이 10.0kPa 초과시 성형된 솔더부의 모양이 변형되거나, 구(球)의 형태를 가지지 못하고 솔더가 비산될 수 있다.When the vacuum pressure exceeds 10.0 kPa, the shape of the formed solder portion may be deformed, the shape of the sphere may not be formed, and the solder may be scattered.
진공압이 0.5kPa 미만인 경우 성형된 솔더부의 사이즈가 요구되는 사이즈 보다 큰 형태를 가질 수 있고, 솔더부의 밀도가 저하될 수 있으며, 파괴 검사 시 솔더부 내에 void (천공)와 같은 불량 현상을 확인 할 수 있다.When the vacuum pressure is less than 0.5 kPa, the formed solder portion may have a size larger than the required size, the density of the solder portion may be lowered, and a defect phenomenon such as void (puncture) .
실시예에서 진공성형의 진공시간이 60sec를 초과하는 경우 높은 진공압에서 문제점과 동일하거나 유사한 불량이 발생할 수 있다.In embodiments, if the vacuum time of the vacuum forming exceeds 60 seconds, the same or similar defects may occur at high vacuum pressures.
또한 진공성형 시간이 18se 미만의 경우 낮은 진공압에서 문제점과 동일하거나 유사 불량이 발생할 수 있다.Also, when the vacuum forming time is less than 18se, the same or similar failure may occur at a lower vacuum pressure.
실시예에 따른 반도체 모듈에서의 솔더부(S2)의 보이드 농도가 낮아짐에 따라 전기 전도성이 향상되어 전기적인 특성이 현저히 향상될 수 있다.As the void concentration of the solder portion S2 in the semiconductor module according to the embodiment is lowered, the electrical conductivity is improved and the electrical characteristics can be remarkably improved.
또한 실시예에 따른 반도체 모듈에서의 솔더부(S2)의 보이드 농도가 개선됨에 따라 솔더 크랙의 발생이 현저히 향상될 수 있다.In addition, as the void concentration of the solder portion S2 in the semiconductor module according to the embodiment is improved, the occurrence of solder cracks can be remarkably improved.
또한 실시예에 따른 반도체 모듈에서의 솔더부(S2)의 보이드 농도가 개선됨에 따라 솔더부의 높이가 충분하게 확보되어 기계적, 전기적 신뢰성이 향상될 수 있다. 예를 들어, 실시예에서 솔더부의 높이(H)는 약 0.35mm 내지 0.40mm로 확보될 수 있으며, 솔더부의 폭(W)은 약 0.850mm 내지 0.900mm로 확보될 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.Also, as the void concentration of the solder portion S2 in the semiconductor module according to the embodiment is improved, the height of the solder portion can be sufficiently secured, so that the mechanical and electrical reliability can be improved. For example, in the embodiment, the height H of the solder portion can be secured to about 0.35 mm to 0.40 mm, and the width W of the solder portion can be secured to about 0.850 mm to 0.900 mm, but is not limited thereto.
다음으로 도 9와 같이, 상면에 전극패드(124)가 구비된 메인 기판(122)을 준비한다. 상기 전극패드(124) 상에는 제2 솔더(126)가 형성될 수 있다.Next, as shown in FIG. 9, a
다음으로 도 10과 같이 메인 기판(122) 상에 모듈 기판(102)을 실장한다.Next, the
실시예에 따른 반도체 모듈은 이동단말기, 텔레매틱스 장치 등에 적용될 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.The semiconductor module according to the embodiment can be applied to a mobile terminal, a telematics device, and the like, but is not limited thereto.
예를 들어 도 11은 실시예와 관련된 이동 단말기 또는 이동 단말기의 일 예를 전면에서 바라본 사시도이다.For example, FIG. 11 is a perspective view of a mobile terminal or a mobile terminal according to an embodiment viewed from the front.
도 11에 개시된 이동 단말기(200)는 바 형태의 단말기 바디를 구비하고 있다. 다만, 실시예는 여기에 한정되지 않고, 이상의 바디들이 상대 이동 가능하게 결합되는 슬라이드 타입, 폴더 타입, 스윙 타입, 스위블 타입 등 다양한 구조에 적용이 가능하다.The
실시예에서 이동 단말기(200)의 바디는 외관을 이루는 케이스(케이싱, 하우징, 커버 등)를 포함할 수 있다. In an embodiment, the body of the
실시예에서, 케이스는 프론트 케이스(201)와 리어 케이스(202)로 구분될 수 있다. 프론트 케이스(201)와 리어 케이스(202)의 사이에 형성된 공간에는 각종 전자부품들이 내장될 수 있다. 프론트 케이스(201)와 리어 케이스(202) 사이에는 적어도 하나의 중간 케이스가 추가로 배치될 수도 있다.In the embodiment, the case may be divided into a
상기 케이스들은 합성수지를 사출하여 형성되거나 금속 재질, 예를 들어 스테인레스 스틸(STS) 또는 티타늄(Ti) 등과 같은 금속 재질을 갖도록 형성될 수도 있다.The cases may be formed by injection molding of a synthetic resin or may be formed of a metal material such as stainless steel (STS) or titanium (Ti).
단말기 바디, 주로 프론트 케이스(201)에는 출력부(251), 음향출력부(252), 카메라(212), 사용자 입력부(232), 마이크(222), 인터페이스(270) 등이 배치될 수 있다.An
출력부(251)는 프론트 케이스(201)의 주면의 대부분을 차지할 수 있다. 출력부(251)의 양단부 중 일 단부에 인접한 영역에는 음향출력부(216)와 카메라(221)가 배치되고, 다른 단부에 인접한 영역에는 사용자 입력부(233)와 마이크가 배치될 수 있다.The
사용자 입력부(232)와 인터페이스(270) 등은 프론트 케이스(201) 및 리어 케이스(202)의 측면들에 배치될 수 있다.The
사용자 입력부는 이동 단말기(200)의 동작을 제어하기 위한 명령을 입력받기 위해 조작되는 것으로서, 복수의 조작 유닛들(231)을 포함할 수 있다. 조작 유닛들(231)은 조작부(manipulating portion)로도 통칭 될 수 있으며, 사용자가 촉각 적인 느낌을 가면서 조작하게 되는 방식(tactile manner)이라면 어떤 방식이든 채용될 수 있다.The user input unit is operated to receive a command for controlling the operation of the
이상에서 실시예들에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 적어도 하나의 실시예에 포함되며, 반드시 하나의 실시예에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 각 실시예에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 실시예들이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의해 다른 실시예들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다. 따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 실시예의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.The features, structures, effects and the like described in the embodiments are included in at least one embodiment and are not necessarily limited to only one embodiment. Furthermore, the features, structures, effects and the like illustrated in the embodiments can be combined and modified by other persons skilled in the art to which the embodiments belong. Accordingly, the contents of such combinations and modifications should be construed as being included in the scope of the embodiments.
이상에서 실시예를 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 실시예를 한정하는 것이 아니며, 실시예가 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시예에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부된 청구 범위에서 설정하는 실시예의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it will be understood by those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention. It can be seen that the modification and application of branches are possible. For example, each component specifically shown in the embodiments can be modified and implemented. It is to be understood that the present invention may be embodied in many other specific forms without departing from the spirit or essential characteristics thereof.
모듈 기판부(110), 반도체 칩(104), 제1 회로패턴(106), 모듈 기판(102),
메인 기판부(120), 전극패드(124), 메인 기판(122), 솔더부(S2)The
The
Claims (13)
상면에 전극패드가 구비되는 메인 기판;
상기 제1 회로패턴과 상기 전극패드를 전기적으로 연결하는 솔더부;를 포함하고,
상기 모듈 기판의 하면은 소정의 리세스(recess)를 구비하며,
상기 제1 회로패턴은 상기 리세스 내에 배치되며,
상기 제 1 회로패턴의 바닥부는 상기 모듈 기판의 하면 보다 높게 위치하여, 상기 제 1 회로패턴 전체가 모듈 기판의 리세스 내에 내재되며
상기 솔더부의 상부는,
상기 모듈 기판의 리세스 내에 배치되어, 상기 모듈 기판에서 상기 리세스를 형성하는 측면과 상기 리세스의 하면에 직접 접하는
반도체 모듈.A module substrate having a semiconductor chip disposed on an upper surface thereof and a first circuit pattern disposed on a lower surface thereof;
A main substrate having an electrode pad on an upper surface thereof;
And a solder portion electrically connecting the first circuit pattern and the electrode pad,
The lower surface of the module substrate has a predetermined recess,
Wherein the first circuit pattern is disposed within the recess,
The bottom of the first circuit pattern is positioned higher than the bottom of the module substrate so that the entire first circuit pattern is embedded in the recess of the module substrate
The upper portion of the solder portion
A module substrate disposed within the recess of the module substrate and having a side surface defining the recess in the module substrate,
Semiconductor module.
상기 제1 회로패턴은
LGA(Land Grid Array) 타입인 반도체 모듈.The method according to claim 1,
The first circuit pattern
LGA (Land Grid Array) type semiconductor module.
상기 솔더부에서의 보이드(void)는 10% 이하인 반도체 모듈.The method according to claim 1,
And a void in the solder portion is 10% or less.
상기 솔더부에서의 보이드(void)는 5% 이하인 반도체 모듈.5. The method of claim 4,
Wherein a void in the solder portion is 5% or less.
상기 솔더부의 일부가 상기 리세스 내에 배치되는 반도체 모듈.The method according to claim 1,
And a portion of the solder portion is disposed in the recess.
상기 모듈 기판 상에 범프 마스크를 형성하는 단계;
상기 범프 마스크를 이용하여 상기 제1 회로패턴 상에 솔더 페이스트를 프린팅하는 단계;
상기 솔더 페이스트를 프린팅하는 단계 후에 상기 범프 마스크를 제거하는 단계; 및
상기 프린팅된 솔더 페이스트를 진공 성형하여 솔더부를 형성하는 단계;를 포함하고,
상기 모듈 기판의 하면은 소정의 리세스(recess)를 구비하며,
상기 제1 회로패턴은 상기 리세스 내에 배치되고,
상기 제 1 회로패턴의 바닥부는 상기 모듈 기판의 하면 보다 높게 위치하여, 상기 제 1 회로패턴 전체가 상기 모듈 기판의 리세스 내에 내재되며
상기 솔더부의 상부는,
상기 모듈 기판의 리세스 내에 배치되어, 상기 모듈 기판에서 상기 리세스를 형성하는 측면과 상기 리세스의 하면에 직접 접하는
반도체 모듈의 제조방법.Preparing a module substrate on which a semiconductor chip is disposed on one side and a first circuit pattern is disposed on the other side;
Forming a bump mask on the module substrate;
Printing a solder paste on the first circuit pattern using the bump mask;
Removing the bump mask after printing the solder paste; And
And forming a solder portion by vacuum-molding the printed solder paste,
The lower surface of the module substrate has a predetermined recess,
Wherein the first circuit pattern is disposed in the recess,
The bottom of the first circuit pattern is positioned higher than the bottom of the module substrate so that the entire first circuit pattern is embedded in the recess of the module substrate
The upper portion of the solder portion
A module substrate disposed within the recess of the module substrate and having a side surface defining the recess in the module substrate,
A method of manufacturing a semiconductor module.
상기 프린팅된 솔더 페이스트에 진공 성형하여 솔더부를 형성하는 단계는
0.5 kPa 내지 1.0 kPa 이하의 진공압에서 진행되는 반도체 모듈의 제조방법.8. The method of claim 7,
The step of vacuum-molding the printed solder paste to form a solder portion
Lt; RTI ID = 0.0 > kPa < / RTI > to 1.0 kPa.
상기 솔더부에서의 보이드(void)는 10% 이하인 반도체 모듈의 제조방법.8. The method of claim 7,
Wherein a void in the solder portion is 10% or less.
상기 솔더부에서의 보이드(void)는 5% 이하인 반도체 모듈의 제조방법.13. The method of claim 12,
And a void in the solder portion is 5% or less.
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20150914 |
|
PA0201 | Request for examination | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20160803 Patent event code: PE09021S01D |
|
PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20161128 |
|
GRNT | Written decision to grant | ||
PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20170201 Patent event code: PR07011E01D |
|
PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20170201 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
PG1601 | Publication of registration | ||
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20200123 Start annual number: 4 End annual number: 4 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20210122 Start annual number: 5 End annual number: 5 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20220120 Start annual number: 6 End annual number: 6 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20240122 Start annual number: 8 End annual number: 8 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20250121 Start annual number: 9 End annual number: 9 |