KR101692585B1

KR101692585B1 - Electrostatic coating method and electrostatic coating apparatus

Info

Publication number: KR101692585B1
Application number: KR1020140127369A
Authority: KR
Inventors: 슈조 츠치다; 아키히로 호리카와; 도시후미 나기노; 고타 나카히라
Original assignee: 파나소닉 아이피 매니지먼트 가부시키가이샤
Priority date: 2013-10-18
Filing date: 2014-09-24
Publication date: 2017-01-03
Also published as: KR20150045360A; CN104549936B; CN104549936A

Abstract

정전 도포 방법에서는, 노즐의 선단에 공급된 용액에 전압을 인가하는 것에 의해 대전시킨다. 그리고, 노즐과 피도포체를 상대 이동시키면서, 정전력을 이용하여 노즐로부터 피도포체에 용액을 잡아 늘인다. 그리고, 잡아 늘려진 용액을, 제어 전극에 형성된 개구를 통과시켜 기재에 도포한다. 제어 전극은 노즐과 기재의 사이에 배치되고 전압이 인가되고 있다.In the electrostatic application method, a voltage is applied to the solution supplied to the tip of the nozzle to charge it. Then, while moving the nozzle and the photoreceptor relative to each other, the solution is stretched from the nozzle to the photoreceptor by using the electrostatic force. Then, the stretched solution is applied to the substrate through the opening formed in the control electrode. The control electrode is disposed between the nozzle and the substrate, and a voltage is applied thereto.

Description

TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to an electrostatic coating method and an electrostatic coating apparatus,

본 발명은, 정전력을 이용하여 여러 가지 용액을 미세한 패턴 형상으로 도포하는 정전 도포 방법과 정전 도포 장치에 관한 것이다.
TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to an electrostatic application method and an electrostatic application apparatus in which various solutions are coated in a fine pattern using electrostatic force.

최근, 일렉트로닉스 분야에서는, 상품의 박형화ㆍ고정밀화가 진행되어, 미세한 패턴을 인쇄 형성하는 기술이 요구되고 있다. 또한, 생산성 향상을 위해, 인쇄 속도의 고속화의 요망이 있다.In recent years, in the field of electronics, thinning and high-precision of products have progressed, and a technique of printing and forming fine patterns has been demanded. In addition, there is a demand for increasing the printing speed in order to improve the productivity.

이와 같은 요구에 따르는 인쇄 기술로서, 정전력을 이용하여 노즐 선단으로부터 액을 토출하여, 묘화하는 도포 방법이 알려져 있다. 그러나, 정전력을 이용하여 안정적으로 도포하는 것에는 과제가 있고, 안정적인 정전 도포 방법의 개발이 진행되고 있다.As a printing technique that meets such a demand, there is known a coating method for discharging liquid from the tip of a nozzle using electrostatic force and drawing the liquid. However, there is a problem in stably applying using electrostatic force, and development of a stable electrostatic application method is progressing.

도 12는 종래의 정전 도포 장치의 개략도이다. 이 장치에서는, 기재(25)의 상면에 용액(26)을 도포한다. 그 때문에, 도포 헤드(27)와 배면 전극(28)의 사이에서, 기재(25)가 화살표 방향으로 반송된다. 도포 헤드(27)는, 기재(25)의 상면에 대향하여 배치된 저면을 갖는 용액 탱크(29)와, 용액 탱크(29)에 수용되어 있는 용액(26)으로 구성되어 있다. 용액 탱크(29)의 저면에는 노즐 구멍(30)이 마련되어 있다. 용액 탱크(29)와 배면 전극(28)의 사이에는, 전압 E가 인가되고 있다. 기재(25)의 상면에는, 도포 형상에 따라 대전시킨 정전 잠상(31)이 형성되어 있다.12 is a schematic view of a conventional electrostatic coating apparatus. In this apparatus, the solution 26 is applied to the upper surface of the substrate 25. Therefore, the substrate 25 is transported in the direction of the arrow between the application head 27 and the back electrode 28. The application head 27 is composed of a solution tank 29 having a bottom surface opposed to the upper surface of the substrate 25 and a solution 26 contained in the solution tank 29. A nozzle hole (30) is provided on the bottom surface of the solution tank (29). A voltage E is applied between the solution tank 29 and the back electrode 28. On the upper surface of the base material 25, an electrostatic latent image 31 charged in accordance with the application form is formed.

노즐 구멍(30)으로부터 용액(26)을 소정량 토출시키면, 노즐 구멍(30)의 바깥쪽에, 토출한 용액(26)의 액체 고임(32)이 발생한다. 용액(26)은, 전압 E에 의해 전기적으로 대전된 상태로 되어 있다. 대전한 용액(26) 중, 액체 고임(32)을 형성하는 부분은, 배면 전극(28)을 향해 가늘게 끌려가는 것에 의해, 가는 선 형상으로 잡아 늘려진다. 그 후, 가늘게 잡아 늘려진 용액(26)은 정전 잠상(31)에 끌어당겨져, 액체 고임(32)으로부터 분리된다. 그리고, 정전 잠상(31)이 존재하고 있던 부분에만 용액(26)이 도포된다(예컨대, 일본 특허 공개 평 10-86360호 공보).
When the solution 26 is discharged a predetermined amount from the nozzle hole 30, the liquid droplet 32 of the discharged solution 26 is generated outside the nozzle hole 30. The solution 26 is in a state of being electrically charged by the voltage E. The portion of the electrified solution 26 that forms the liquid droplet 32 is pulled toward the back electrode 28 and is stretched into a thin line shape. Thereafter, the finely stretched solution 26 is attracted to the electrostatic latent image 31 and separated from the liquid droplet 32. Then, the solution 26 is applied only to the portion where the electrostatic latent image 31 was present (for example, Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 10-86360).

도 12에 나타내는 종래의 정전 도포 장치에서는, 정전 잠상(31)을 미리 형성할 필요가 있어, 공정이 복잡하고, 기재(25)의 재질에도 제한이 있다.
In the conventional electrostatic coating apparatus shown in Fig. 12, it is necessary to form the electrostatic latent image 31 in advance, so that the process is complicated and the material of the base material 25 is limited.

본 발명의 정전 도포 방법에서는, 노즐의 선단에 공급된 용액에 전압을 인가하는 것에 의해 대전시킨다. 그리고, 노즐과 피도포체를 상대 이동시키면서, 정전력을 이용하여 노즐로부터 피도포체로 용액을 잡아 늘인다. 그리고, 잡아 늘려진 용액을, 제어 전극에 형성된 개구를 통과시켜 기재에 도포한다. 제어 전극은 노즐과 기재의 사이에 배치되어 소정의 전압이 인가되고 있다.In the electrostatic coating method of the present invention, a voltage is applied to the solution supplied to the tip of the nozzle to charge it. Then, while moving the nozzle and the photoreceptor relative to each other, the solution is stretched from the nozzle to the photoreceptor by using the electrostatic force. Then, the stretched solution is applied to the substrate through the opening formed in the control electrode. The control electrode is disposed between the nozzle and the substrate, and a predetermined voltage is applied thereto.

또한, 본 발명의 정전 도포 장치는, 용액 탱크와, 노즐과, 제 1 제어부와, 반송부와, 배면 전극과, 전원부와, 제어 전극을 갖는다. 용액 탱크는 용액을 저장하고 있다. 노즐은 용액을 토출한다. 제 1 제어부는 노즐의 선단에 용액을 공급한다. 반송부는 노즐에 대향하여 피도포체를 반송한다. 배면 전극은 피도포체에 대하여, 노즐과 반대측에 배치되어 있다. 전원부는 용액 탱크, 노즐의 적어도 한쪽과 배면 전극의 사이에 전압을 인가한다. 제어 전극은, 노즐과 피도포체의 사이에 배치되고, 노즐로부터 잡아 늘려진 용액이 통과하는 개구가 형성되어 있다. 제어 전극에는, 소정의 전압이 인가된다. 이 정전 도포 장치는 이상의 구성에 있어서, 개구를 통과시켜 용액을 피도포체에 도포한다.
Further, the electrostatic coating apparatus of the present invention has a solution tank, a nozzle, a first control section, a transport section, a back electrode, a power supply section, and a control electrode. The solution tank stores the solution. The nozzle discharges the solution. The first control unit supplies the solution to the tip of the nozzle. The carry section carries the donor body against the nozzle. The back electrode is disposed on the opposite side of the nozzle from the donor body. The power supply unit applies a voltage between at least one of the solution tank and the nozzle and the backside electrode. The control electrode is disposed between the nozzle and the photoreceptor, and has an opening through which the solution drawn from the nozzle passes. A predetermined voltage is applied to the control electrode. In the above-described configuration, the electrostatic coating apparatus applies the solution to the hydrophobic body through the opening.

본 발명에 의하면, 정전기에 의해 노즐로부터 잡아 늘려진 용액을, 노즐과 피도포체의 사이에 배치된 제어 전극에 형성된 개구를 통과시켜 피도포체에 도포한다. 그 때문에, 노즐의 선단에 발생하는 액체 고임을 안정시켜, 정전력으로 액체 고임 내의 용액을 보다 가늘고 긴 형상으로 잡아 늘일 수 있다. 그 결과, 세선 패턴을 안정적으로 고속으로 도포할 수 있다.
According to the present invention, the solution stretched out from the nozzle by static electricity is applied to the coated body through the opening formed in the control electrode disposed between the nozzle and the coated body. Therefore, the liquid generated at the tip of the nozzle can be stabilized, and the liquid in the liquid state can be elongated into a thinner and longer shape by the electrostatic force. As a result, the fine line pattern can be stably and rapidly applied.

도 1은 본 발명의 실시의 형태 1에 있어서의 정전 도포 장치의 구성도이다.
도 2(a)~도 2(c)는 도 1에 나타내는 정전 도포 장치의 노즐 주변의 확대도이다.
도 3(a)~도 3(h)는 도포의 시단(始端)에 있어서의, 도 1에 나타내는 정전 도포 장치의 노즐에 있어서의 액체 고임의 변화를 나타내는 도면이다.
도 4는 도포의 시단에 있어서의, 도 3(a)~도 3(h)에 나타내는 노즐 및 제어 전극의 전압 변화를 나타내는 도면이다.
도 5(a)~도 5(h)는 본 발명의 실시의 형태 2에 의한 제어 전극과 노즐의 거리를 제어하는 경우의 설명도이다.
도 6은 본 발명의 실시의 형태 2에 있어서의 정전 도포 장치의 제어를 나타내는 도면이다.
도 7은 본 발명의 실시의 형태 3에 있어서의 정전 도포 장치의 노즐과 제어 전극의 위치 관계를 나타내는 사시도이다.
도 8(a1)~도 8(a5)는 도 7에 나타내는 노즐과 제어 전극의 위치 관계를 나타내는 평면도이고, 도 8(b1)~도 8(b5)는 각각, 도 8(a1)~도 8(a5)에 대응하는 단면도이다.
도 9는 도 7에 나타내는 노즐과 제어 전극의 이동 궤도를 나타내는 평면도이다.
도 10(a)~도 10(e)는 본 발명의 실시의 형태 4에 있어서의 정전 도포 장치의 제어 전극의 기울기를 나타내는 도면이다.
도 11(a)~도 11(e)는 본 발명의 실시의 형태 5에 있어서의 정전 도포 장치의 제어 전극(10)의 기울기를 나타내는 도면이다.
도 12는 종래의 정전 도포 장치의 구성도이다.
도 13(a), 도 13(b)는 종래의 정전 도포 장치에 있어서의 제 1 도포 불량을 설명하는 도면이다.
도 14(a)~도 14(d)는 종래의 정전 도포 장치에 있어서의 제 2 도포 불량을 설명하는 도면이다.
도 15(a), 도 15(b)는 종래의 정전 도포 장치에 있어서의 제 3 도포 불량을 설명하는 도면이다.BRIEF DESCRIPTION OF DRAWINGS FIG. 1 is a configuration diagram of an electrostatic coating device according to a first embodiment of the present invention. FIG.
2 (a) to 2 (c) are enlarged views of the vicinity of the nozzles of the electrostatic coating device shown in Fig.
3 (a) to 3 (h) are diagrams showing changes in liquid level in the nozzles of the electrostatic coating device shown in Fig. 1 at the start of coating.
Fig. 4 is a diagram showing the voltage change of the nozzle and the control electrode shown in Figs. 3 (a) to 3 (h) at the beginning of coating.
5 (a) to 5 (h) are explanatory diagrams for controlling the distance between the control electrode and the nozzle according to the second embodiment of the present invention.
6 is a view showing the control of the electrostatic coating device in the second embodiment of the present invention.
7 is a perspective view showing the positional relationship between the nozzle and the control electrode of the electrostatic coating device in accordance with the third embodiment of the present invention.
8 (a1) to 8 (a5) are plan views showing the positional relationship between the nozzle and the control electrode shown in Fig. 7, and Figs. 8 (b1) to 8 (a5). Fig.
Fig. 9 is a plan view showing movement trajectories of the nozzle and the control electrode shown in Fig. 7; Fig.
Figs. 10 (a) to 10 (e) are views showing the inclination of the control electrode of the electrostatic coating device in accordance with the fourth embodiment of the present invention. Fig.
Figs. 11 (a) to 11 (e) are diagrams showing the inclination of the control electrode 10 of the electrostatic coating device according to the fifth embodiment of the present invention.
12 is a configuration diagram of a conventional electrostatic coating apparatus.
13 (a) and 13 (b) are diagrams for explaining the first coating failure in the conventional electrostatic coating apparatus.
Figs. 14 (a) to 14 (d) are diagrams for explaining the second coating failure in the conventional electrostatic coating apparatus. Fig.
15 (a) and 15 (b) are diagrams for explaining the third coating failure in the conventional electrostatic coating apparatus.

본 발명의 실시의 형태에 앞서, 종래의 정전 도포 방법에 있어서의 과제를 설명한다. 도 12에 나타내는 정전 도포 장치에서는, 기재(25)의 표면에, 정전 잠상(31)을 미리 형성할 필요가 있다. 다시 말해, 정전 잠상(31)을 미리 형성하는 전공정이 필요하기 때문에, 설비비가 비싸고, 공정이 복잡하다. 또한, 기재(25)는, 정전 잠상(31)을 형성하기 쉬운 재질로 구성할 필요가 있어, 사용할 수 있는 재질에 제한이 있다.Prior to the embodiment of the present invention, problems in the conventional electrostatic coating method will be described. In the electrostatic coating apparatus shown in Fig. 12, it is necessary to form the electrostatic latent image 31 on the surface of the substrate 25 in advance. In other words, since the electrostatic latent image 31 is required to be formed in advance, equipment cost is high and the process is complicated. In addition, the base material 25 needs to be made of a material that is easy to form the electrostatic latent image 31, and there is a limit to the usable material.

정전 잠상을 이용하지 않고 도포한 경우에는, 세선 패턴의 도포나 고속 도포하는 경우에, 이하에 말하는 제 1~제 3 도포 불량이 발생한다.In the case of coating without using an electrostatic latent image, the following first to third coating defects occur when the thin line pattern is coated or the coating is performed at a high speed.

우선 도 13(a), 도 13(b)를 참조하면서 제 1 도포 불량에 대하여 설명한다. 도 13(a), 도 13(b)는 도 12에 나타내는 노즐 구멍(30)의 주변의 확대도이다.First, the first coating failure will be described with reference to Figs. 13 (a) and 13 (b). 13 (a) and 13 (b) are enlarged views of the periphery of the nozzle hole 30 shown in Fig. 12.

도 13(a)에 나타내는 바와 같이, 노즐 구멍(30)으로부터 토출된 용액(26)은, 정전력으로 기재(25)를 향해 끌어당겨진다. 그때, 액체 고임(32)이 잡아 늘려져, 액체 고임(32)의 선단부에서는, 더 용액(26)이 가늘게 잡아 늘려진 상태가 된다. 이후, 액체 고임(32)의 선단부에 있어서 용액이 가늘게 잡아 늘려진 부분을 테일러 콘(33)이라 칭한다. 종래의 정전 도포 방법에서는, 테일러 콘(33)이 매우 불안정하고, 도 13(b)에 나타내는 바와 같이 도포 중에 테일러 콘(33)이 진동한다. 그 때문에, 직선 형상으로 도포한 경우, 도포 패턴의 직선성 편차나 선폭 편차 등의 도포 불량이 발생한다.As shown in Fig. 13 (a), the solution 26 discharged from the nozzle hole 30 is attracted toward the substrate 25 by electrostatic force. At that time, the liquid droplet 32 is stretched, and the solution 26 is further elongated at the tip end of the liquid droplet 32. [ Hereinafter, the portion where the solution is finely stretched at the tip of the liquid droplet 32 is referred to as Taylor cone 33. [ In the conventional electrostatic coating method, the tail cone 33 is extremely unstable, and the tail cone 33 vibrates during application as shown in Fig. 13 (b). For this reason, when applied in a linear shape, coating defects such as linearity deviation and line width deviation of the applied pattern occur.

다음으로, 도 14(a)~도 14(d)를 참조하면서 제 2 도포 불량에 대하여 설명한다. 도 14(a)~도 14(d)는 도포의 시단에 있어서의 노즐 구멍(30)의 선단에서의 용액(26)의 거동을 나타낸다.Next, the second coating failure will be described with reference to Figs. 14 (a) to 14 (d). 14 (a) to 14 (d) show the behavior of the solution 26 at the tip of the nozzle hole 30 at the start of coating.

도포하기 전은, 도 14(a)에 나타내는 바와 같이, 노즐 구멍(30)에 용액(26)이 유지되어 있다. 다음으로, 도 14(b)에 나타내는 바와 같이, 용액(26)을 노즐 구멍(30)으로부터 조금씩 토출하면, 노즐 구멍(30)의 표면에 액체 고임(32)이 형성된다. 그 후, 노즐 구멍(30)을 거쳐서 용액(26)에 전압을 인가하면, 액체 고임(32)이 정전력에 의해 잡아 늘려져, 기재(25)의 방향으로 끌어당겨져, 기재(25)에 도포된다.Prior to application, the solution 26 is held in the nozzle hole 30 as shown in Fig. 14 (a). Next, as shown in Fig. 14 (b), when the solution 26 is ejected little by little from the nozzle hole 30, the liquid droplet 32 is formed on the surface of the nozzle hole 30. Thereafter, when a voltage is applied to the solution 26 through the nozzle hole 30, the liquid droplet 32 is stretched by the electrostatic force and pulled in the direction of the substrate 25, do.

그러나, 용액(26)에 전압을 인가하더라도, 전압이 상승하기까지 소정의 시간이 필요하다. 또한 용액(26)에 규정 전압이 인가되더라도 용액(26)이 규정 대전량까지 대전하는데도 일정한 시간을 필요로 한다. 그 때문에, 규정 대전량까지 대전된 안정 상태인 도 14(d)에 나타내는 상태에 도달하기까지, 도 14(c)에 나타내는 바와 같이, 대전량이 변동하고 있는 불안정 상태를 경유한다. 이 불안정 상태에서는, 용액(26)이 액체 방울 상태로 비상하거나, 테일러 콘(33)이 끊기어 떨어져 단속적으로 도포된다. 그 때문에, 일반적으로는 테일러 콘(33)이 안정 상태(도 14(d) 상태)가 되고 나서 기재(25)를 이동시켜 인쇄하고 있다. 다시 말해, 시단에서는, 테일러 콘(33)이 안정 상태가 되기까지 토출된 용액이 기재(25) 위에 인쇄되어, 도포 패턴의 시단부는 굵어진다. 또한 종단에 대해서도, 시단과 반대의 동작을 하기 때문에, 동일한 문제가 발생한다.However, even if a voltage is applied to the solution 26, a predetermined time is required until the voltage rises. Even if a prescribed voltage is applied to the solution 26, a certain time is required for charging the solution 26 to the prescribed charge amount. Therefore, as shown in Fig. 14 (c), until the state shown in Fig. 14 (d), which is the charged stable state up to the prescribed charging amount, is passed through the unstable state in which the charged amount fluctuates. In this unstable state, the solution 26 emerges in a droplet state or the Taylor cone 33 is interrupted and intermittently applied. Therefore, generally, the Taylor cone 33 is in a stable state (state of Fig. 14 (d)), and then the substrate 25 is moved and printed. In other words, at the start, the discharged solution is printed on the substrate 25 until the tail cone 33 becomes stable, and the beginning of the coated pattern becomes thick. In addition, the same problem arises for the termination because the operation is opposite to that of the beginning.

마지막으로, 제 3 도포 불량에 대하여, 도 15(a), 도 15(b)를 참조하면서 설명한다. 도 15(a), 도 15(b)는 제 3 도포 불량을 설명하는 사시도이다.Finally, the third coating failure will be described with reference to Figs. 15 (a) and 15 (b). 15 (a) and 15 (b) are perspective views for explaining the third coating failure.

기재(25)에 있어서의 도포 패턴 형상이 직선이 아닌 경우, 예컨대, 도 15(a)에 나타내는 바와 같이 코너부에 도포하는 경우, 도포 패턴의 정밀도가 저하한다. 자세하게 설명하면, 실제로는 노즐 구멍(30)과 기재(25)는, 서로 상대적으로 이동하고 있다. 그 때문에, 노즐 구멍(30)의 선단의 액체 고임(32)으로부터 잡아 늘려진 용액(26)은, 기재(25)에 접촉할 때, 부분(34)과 같이 용액(26)이 인쇄의 진행 방향과는 역방향으로 끌려간다. 이 경우, 도포하고 싶은 도포 패턴(35)에 대하여, 코너부에서는 둥근 부분(36)이 발생한다.When the coated pattern shape of the base material 25 is not a straight line, for example, as shown in Fig. 15 (a), the accuracy of the coated pattern is lowered. In more detail, in reality, the nozzle hole 30 and the base material 25 are moved relative to each other. The solution 26 stretched out from the liquid droplet 32 at the tip of the nozzle hole 30 can be prevented from leaking out of the nozzle hole 30 when the solution 26 comes into contact with the substrate 25 And is dragged in the opposite direction. In this case, a circular portion 36 is generated at the corner portion of the application pattern 35 to be applied.

코너부에서 둥근 부분(36)이 발생하는 것을 해소하기 위해, 코너부에서 노즐 구멍(30)과 기재(25)의 상대적인 움직임을 일단 멈추어 도포하는 것을 생각할 수 있다. 그렇지만, 그와 같이 하면 도 15(b)에 나타내는 바와 같이, 코너부에 있어서, 도포 패턴에 굵은 선 부분(37)이 발생한다.It is conceivable to temporarily stop the relative movement of the nozzle hole 30 and the base material 25 at the corner portion in order to eliminate the occurrence of the round portion 36 at the corner portion. However, in this case, as shown in Fig. 15 (b), a thick line portion 37 is generated in the coating pattern at the corner portion.

이하, 이상에서 말한 도포량이 안정되지 않는 것에 의한 도포 불량을 해결하고, 안정적이고 정밀한 도포를 실현할 수 있는 본 발명의 정전 도포 방법을, 구체적인 각 실시의 형태에 근거하여 설명한다. 또 각 실시의 형태에 있어서, 선행하는 실시의 형태와 동일한 구성을 이루는 것에는 동일한 부호를 붙이고, 상세한 설명을 생략하는 경우가 있다.Hereinafter, the electrostatic application method of the present invention capable of solving the application failure due to the above-mentioned unstable application amount and realizing stable and precise application will be described based on each of the specific embodiments. In each of the embodiments, the same constituent elements as those of the preceding embodiments are denoted by the same reference numerals, and the detailed description thereof may be omitted.

(실시의 형태 1)(Embodiment Mode 1)

도 1은 본 발명의 실시의 형태 1에 있어서의 정전 도포 장치의 구성도이다. 도 2(a)~도 2(c)는 도 1에 나타내는 정전 도포 장치의 노즐 주변의 확대도이다. 도 3(a)~도 3(h)는 도포의 시단에 있어서의, 도 1에 나타내는 정전 도포 장치의 노즐에 있어서의 액체 고임의 변화를 나타내는 도면이다. 도 4는 도포의 시단에 있어서의, 도 3(a)~도 3(h)에 나타내는 노즐 및 제어 전극의 전압 변화를 나타내는 도면이다.BRIEF DESCRIPTION OF DRAWINGS FIG. 1 is a configuration diagram of an electrostatic coating device according to a first embodiment of the present invention. FIG. 2 (a) to 2 (c) are enlarged views of the vicinity of the nozzles of the electrostatic coating device shown in Fig. Fig. 3 (a) to Fig. 3 (h) are diagrams showing changes in liquid level in the nozzles of the electrostatic coating device shown in Fig. 1 at the beginning of coating. Fig. 4 is a diagram showing the voltage change of the nozzle and the control electrode shown in Figs. 3 (a) to 3 (h) at the beginning of coating.

도 1에 나타내는 바와 같이, 이 정전 도포 장치는, 용액 탱크(이하, 탱크)(4)와, 노즐(1)과, 제 1 제어부(7)와, 반송부(6)와, 배면 전극(5)과, 전원부(8)와, 제어 전극(10)을 갖는다. 탱크(4)는 용액(2)을 저장하고 있다. 노즐(1)은 용액(2)을 토출한다. 제 1 제어부(7)는 노즐(1)의 선단에 용액(2)을 공급한다. 반송부(6)는 노즐(1)에 대향하여 피도포체로서의 기재(3)를 반송한다. 배면 전극(5)은 기재(3)에 대하여, 노즐(1)과 반대측에 배치되어 있다. 전원부(8)는 탱크(4), 노즐(1)의 적어도 한쪽과 배면 전극(5)의 사이에 전압을 인가한다. 즉, 전원부(8)는 노즐(1)의 선단에 공급된 용액(2)에 전압을 인가하는 것에 의해 대전시킨다. 제어 전극(10)은, 노즐(1)과 기재(3)의 사이에 배치되고, 노즐(1)로부터 잡아 늘려진 용액(2)이 통과하는 개구(9)가 형성되어 있다. 제어 전극(10)에는, 소정의 전압이 인가된다. 이 정전 도포 장치는 이상의 구성에 있어서, 노즐(1)의 용액(2)을 잡아 늘이면서 개구(9)를 통과시켜 용액(2)을 기재(3)에 도포한다.1, the electrostatic coating apparatus includes a solution tank (hereinafter referred to as a tank) 4, a nozzle 1, a first control section 7, a transport section 6, a back electrode 5 , A power supply unit 8, and a control electrode 10, as shown in Fig. The tank (4) stores the solution (2). The nozzle (1) discharges the solution (2). The first control unit 7 supplies the solution 2 to the tip of the nozzle 1. The carry section 6 carries the base material 3 as an object to be coated opposite to the nozzle 1. [ The back electrode 5 is arranged on the side opposite to the nozzle 1 with respect to the base material 3. The power supply unit 8 applies a voltage between the tank 4 and at least one of the nozzles 1 and the back electrode 5. [ That is, the power supply unit 8 charges the solution 2 supplied to the tip of the nozzle 1 by applying a voltage thereto. The control electrode 10 is disposed between the nozzle 1 and the substrate 3 and has an opening 9 through which the solution 2 stretched from the nozzle 1 passes. A predetermined voltage is applied to the control electrode 10. In this configuration, the electrostatic application device is configured so that the solution 2 of the nozzle 1 is stretched while passing through the opening 9 to apply the solution 2 to the base material 3.

이하, 정전 도포 장치의 구성을 상세하게 설명한다.Hereinafter, the configuration of the electrostatic coating device will be described in detail.

기재(3)를 사이에 두고 기재(3)의 상면측에는, 탱크(4)가 배치되고, 기재(3)의 이면측에는 배면 전극(5)이 배치되어 있다. 기재(3)는, 탱크(4)와 배면 전극(5)의 그룹에 대하여 상대적으로 이동 가능하다. 예컨대, 탱크(4)와 배면 전극(5)이 고정되어 있고, 기재(3)가, 탱크(4)와 배면 전극(5)의 사이를 반송부(6)에 의해 화살표 X 방향과, 화살표 X 방향과는 직교 하는 Y 방향으로 형성되는 평면 내에서 반송된다.A tank 4 is disposed on the upper surface side of the base material 3 with the base material 3 interposed therebetween and a back electrode 5 is disposed on the back surface side of the base material 3. [ The substrate 3 is movable relative to the group of the tank 4 and the back electrode 5. The tank 4 and the back electrode 5 are fixed and the substrate 3 is sandwiched between the tank 4 and the back electrode 5 by the carry section 6 in the direction of the arrow X and the arrow X Direction and a Y-direction perpendicular to the Y-direction.

탱크(4)는 기재(3)의 상면에 대향한 저면을 갖고, 이 저면에는 노즐(1)이 형성되어 있다. 탱크(4) 내의 액면은, 용액을 노즐(1)의 선단에 배출하도록 제 1 제어부(7)에 의해 가압되고 있다. 또, 노즐(1)은 탱크(4)와 따로 마련하여, 배관에 의해 접속하더라도 좋다.The tank 4 has a bottom surface opposed to the upper surface of the substrate 3, and a nozzle 1 is formed on the bottom surface. The liquid level in the tank 4 is pressurized by the first control unit 7 so as to discharge the solution to the tip of the nozzle 1. The nozzle 1 may be provided separately from the tank 4 and connected by a pipe.

노즐(1)과 배면 전극(5)의 사이에는, 전원부(8)에 의해 소정의 전압이 인가되고 있다. 여기서는, 노즐(1)이 탱크(4)와 일체로 형성되어 있으므로, 전원부(8)는 탱크(4)와 배면 전극(5)의 사이에 전압을 인가하고 있다. 노즐(1)과 기재(3)의 사이에는, 개구(9)를 가진 제어 전극(10)이 배치되어 있다.A predetermined voltage is applied between the nozzle 1 and the back electrode 5 by the power supply unit 8. [ Here, since the nozzle 1 is formed integrally with the tank 4, the power supply unit 8 applies a voltage between the tank 4 and the back electrode 5. [ A control electrode 10 having an opening 9 is disposed between the nozzle 1 and the substrate 3.

이와 같이 구성된 정전 도포 장치에서는, 제 1 제어부(7)에 의해 탱크(4) 내의 용액(2)의 액면에 소정의 압력을 가하면, 노즐(1)의 선단에 용액(2)이 공급된다. 그리고, 노즐(1)의 선단에 액체 고임(13)이 발생한다. 액체 고임(13)의 용액(2)은, 전원부(8)로부터 인가된 전위차에 의해 대전한다. 이와 같이 대전한 액체 고임(13)의 용액(2)은, 배면 전극(5)의 방향으로 잡아 늘려진다. 다시 말해, 노즐(1)의 선단으로부터 잡아 늘려진 액체 고임(13)은, 노즐(1)과의 거리가 소정의 위치로 설정되어 있는 제어 전극(10)의 개구(9)를 통과하여 기재(3)에 도포된다. 이때에는, 액체 고임(13)의 용액(2)의 대전한 전하와 반발하도록, 전원부(8)는 제어 전극(10)에 전압을 인가하고 있다.In the electrostatic application apparatus thus configured, when a predetermined pressure is applied to the liquid surface of the solution 2 in the tank 4 by the first control unit 7, the solution 2 is supplied to the tip of the nozzle 1. A liquid droplet 13 is generated at the tip of the nozzle 1. The solution 2 of the liquid droplet 13 is charged by the potential difference applied from the power supply unit 8. [ The solution (2) of the charged liquid precursor (13) is stretched in the direction of the back electrode (5). In other words, the liquid droplet 13 pulled from the tip of the nozzle 1 passes through the opening 9 of the control electrode 10, the distance from the nozzle 1 being set to a predetermined position, 3). At this time, the power source unit 8 applies a voltage to the control electrode 10 so as to repulse the charged liquid of the solution 2 of the liquid droplet 13.

도포 중의 노즐(1)의 선단과 제어 전극(10) 부근의 모습을, 도 2(a)~도 2(c)를 참조하면서 설명한다. 도 2(a)는 도포하고 있는 정상 상태의 노즐(1)의 주변의 모습을 나타낸다. 노즐(1)의 선단의 액체 고임(13)에 포함되는 용액(2)이 배면 전극(5)에 끌어당겨져 기재(3)에 도포되고 있다. 예컨대, 액체 고임(13)이 마이너스로 대전하고 있는 경우, 전원부(8)는, 제어 전극(10)이 마이너스로 대전하도록 전압을 인가한다. 바꿔 말하면, 액체 고임(13)과 제어 전극(10)이 동일한 극성으로 대전된다. 이와 같이 동일한 극성으로 대전시키면, 제어 전극(10)의 전하가 액체 고임(13)의 전하와 반발하는 작용이 일어나고, 정전력으로 액체 고임(13)을 보다 가늘고 긴 형상으로 잡아 늘일 수 있다. 또한 액체 고임(13)의 형상이 흐트러지지 않도록 유지하는 기능도 있어, 안정적인 도포를 실현할 수 있다.A description will be given of the tip of the nozzle 1 during application and the vicinity of the control electrode 10 with reference to Figs. 2 (a) to 2 (c). Fig. 2 (a) shows the surroundings of the nozzle 1 in a steady state to which it is applied. The solution 2 contained in the liquid droplet 13 at the tip of the nozzle 1 is attracted to the back electrode 5 and applied to the substrate 3. For example, when the liquid droplet 13 is negatively charged, the power supply unit 8 applies a voltage so that the control electrode 10 is negatively charged. In other words, the liquid droplet 13 and the control electrode 10 are charged to the same polarity. When charging is performed with the same polarity, the charge of the control electrode 10 acts to repel the charge of the liquid droplet 13, and the liquid droplet 13 can be stretched in a more elongated shape with constant electric power. And also has a function of keeping the shape of the liquid droplet 13 from being disturbed, and stable application can be realized.

즉, 이 정전 도포 장치에서는, 노즐(1)의 선단에 공급된 용액에 전압을 인가하는 것에 의해 대전시킨다. 그리고, 노즐(1)과 기재(3)를 상대 이동시키면서, 정전력을 이용하여 노즐(1)로부터 기재(3)에 용액(2)을 잡아 늘인다. 그리고, 잡아 늘려진 용액(2)을, 제어 전극(10)에 형성된 개구(9)를 통과시켜 기재(3)에 도포한다. 제어 전극(10)은 노즐(1)과 기재(3)의 사이에 배치되어 전압이 인가되고 있다.That is, in this electrostatic coating apparatus, a voltage is applied to the solution supplied to the tip of the nozzle 1 to charge it. The solution 2 is stretched from the nozzle 1 to the base material 3 by using the electrostatic force while moving the nozzle 1 and the base material 3 relative to each other. Then, the stretched solution 2 is applied to the base material 3 through the opening 9 formed in the control electrode 10. The control electrode 10 is disposed between the nozzle 1 and the substrate 3 and is applied with a voltage.

다음으로, 도 1에 나타내는 바와 같이, 제어 전극(10)의 전위를 제어하는 제 2 제어부(11)를 마련한 경우의 효과에 대하여 설명한다. 제어 전극(10)에 인가하는 전압이 높은 경우, 다시 말해 제어 전극(10)의 전하가 강한 경우에는, 도 2(b)에 나타내는 바와 같이, 액체 고임(13)을 보다 노즐(1) 내로 밀어 넣는 힘이 작용하여, 안정적으로 용액(2)이 토출되기 어려워진다. 또한 반대로, 제어 전극(10)에 인가하는 전압이 낮은 경우, 다시 말해 제어 전극(10)의 전하가 약한 경우에는, 도 2(c)에 나타내는 바와 같이, 액체 고임(13)의 형상을 유지하는 힘이 충분히 작용하지 않는다. 그 때문에, 직선성의 편차 등에 의해 안정적으로 용액(2)을 도포할 수 없다.Next, as shown in Fig. 1, the effect of the second control unit 11 for controlling the potential of the control electrode 10 will be described. When the voltage applied to the control electrode 10 is high, that is, when the charge of the control electrode 10 is strong, as shown in Fig. 2 (b), the liquid droplet 13 is further pushed into the nozzle 1 So that the solution 2 becomes difficult to be stably discharged. Conversely, when the voltage applied to the control electrode 10 is low, that is, when the charge of the control electrode 10 is weak, as shown in Fig. 2 (c), the shape of the liquid droplet 13 is maintained The force does not work sufficiently. Therefore, the solution 2 can not be stably applied due to a deviation in linearity or the like.

따라서, 제어 전극(10)은 노즐(1)에 인가하는 전압과는 개별적으로 제 2 제어부(11)에 의해 제어되고 있는 것이 바람직하다. 제 2 제어부(11)에 의해 제어 전극(10)의 전압을 제어하는 것에 의해, 노즐(1)의 선단의 액체 고임(13)의 형상을 안정화하여, 용액(2)을 안정적으로 도포할 수 있다.Therefore, it is preferable that the control electrode 10 is controlled by the second control unit 11 separately from the voltage applied to the nozzle 1. [ The liquid 2 can be stably applied by controlling the voltage of the control electrode 10 by the second control unit 11 to stabilize the shape of the liquid droplet 13 at the tip of the nozzle 1 .

다음으로, 도포 패턴의 시단, 종단에 있어서의, 제 2 제어부(11)에 의한 제어 전극(10)의 전압 제어를, 도 3(a)~도 3(h)와 도 4를 참조하면서 설명한다. 도 3(a)~도 3(h)는 도포의 시단, 종단에 있어서의 노즐(1)에 있어서의 액체 고임(13)의 변화를 나타내고 있다. 도 4는 도 3(a)~도 3(h)의 각각의 타이밍에 있어서의 노즐(1)의 전위와 제어 전극(10)의 전위를 나타내고 있다. 여기서는 노즐(1)의 중심과 제어 전극(10)의 중심이 모든 타이밍에 있어서 서로 일치하고 있고, 노즐(1)과 제어 전극(10)의 거리도 모든 타이밍에 있어서 일정하다.Next, the voltage control of the control electrode 10 by the second control unit 11 at the start and end of the application pattern will be described with reference to Figs. 3 (a) to 3 (h) and Fig. 4 . 3 (a) to 3 (h) show changes in the liquid level 13 in the nozzle 1 at the start and end of the application. Fig. 4 shows the potential of the nozzle 1 and the potential of the control electrode 10 at the respective timings of Figs. 3 (a) to 3 (h). Here, the center of the nozzle 1 and the center of the control electrode 10 coincide with each other at all timings, and the distance between the nozzle 1 and the control electrode 10 is constant at all timings.

우선, 도포 개시 전에는 도 3(a)에 나타내는 바와 같이, 용액(2)은 노즐(1) 내에 유지되어 노즐(1)로부터 용액(2)이 낙하하지 않는 상태이고, 이 타이밍에는 도 4의 타이밍 a와 같이 노즐(1) 및 제어 전극(10)에는 전압이 인가되고 있지 않다.3 (a), the solution 2 is maintained in the nozzle 1 and the solution 2 does not fall from the nozzle 1. At this timing, the voltage is not applied to the nozzle 1 and the control electrode 10 as shown in FIG.

다음으로 도 4의 타이밍 b와 같이, 노즐(1) 및 제어 전극(10)에 동일한 변화의 기울기로 소정치까지 전압을 인가하여 간다. 그때에는, 노즐(1) 내의 용액(2)은 큰 변화는 일어나지 않는다. 이것은, 노즐(1)과 제어 전극(10)이 동일한 전위이면, 어느 일정한 전압까지는 도 3(b)에 나타내는 바와 같이 노즐(1)로부터 용액(2)이 토출되기 어렵다.Next, as shown in timing b of FIG. 4, the voltage is applied to the nozzle 1 and the control electrode 10 to the predetermined value with the same gradient of change. At that time, the solution (2) in the nozzle (1) does not undergo a large change. This is because the solution 2 is hardly discharged from the nozzle 1 as shown in Fig. 3 (b) up to a certain voltage if the nozzle 1 and the control electrode 10 are at the same potential.

다음으로 도 4의 타이밍 c와 같이, 노즐(1)로의 인가 전압을 더 증가시켜 소정의 전압까지 상승시킨다. 그때 제어 전극(10)으로의 인가 전압은 일정하게 유지되고 있고 증가시키지 않는다. 노즐(1)로의 인가 전압과 제어 전극(10)으로의 인가 전압의 차이가 커짐에 따라, 도 3(c)에 나타내는 바와 같이 노즐(1) 내의 용액(2)이 정전력으로 끌려 나와, 노즐(1)의 선단에 액체 고임(13)이 형성된다.Next, as shown in timing c of FIG. 4, the voltage applied to the nozzle 1 is further increased to a predetermined voltage. At this time, the voltage applied to the control electrode 10 is kept constant and is not increased. As the difference between the voltage applied to the nozzle 1 and the voltage applied to the control electrode 10 increases, the solution 2 in the nozzle 1 is attracted to the electrostatic force as shown in Fig. 3 (c) A liquid droplet 13 is formed at the tip of the liquid droplet 1.

다음으로 도 4의 타이밍 d와 같이, 노즐(1)의 인가 전압이 소정의 전압까지 상승하면, 그 상태를 유지하고, 제어 전극(10)으로의 인가 전압은 도 4의 타이밍 d에 있어서도 타이밍 c와 동일한 상태로 유지한다. 이것에 의해 도 3(d)에 나타내는 바와 같이, 노즐(1)의 선단에 안정적인 액체 고임(13)이 형성된다.4, when the applied voltage of the nozzle 1 rises up to the predetermined voltage, the state is maintained, and the voltage applied to the control electrode 10 is kept at the timing c . As a result, a stable liquid droplet 13 is formed at the tip of the nozzle 1 as shown in Fig. 3 (d).

그리고, 도 4의 타이밍 e와 같이 제어 전극(10)의 전압만을 소정의 값까지 내리고, 또한 타이밍 f와 같이 노즐(1)의 전위와 제어 전극(10)의 전위를 유지시킨다. 이와 같은 전압 제어에 의해, 도 3(e), 도 3(f)에 나타내는 바와 같이, 노즐(1)로부터 제어 전극(10)의 개구(9)를 통과하여 용액(2)이 가늘게 잡아 늘려져 기재(3)에 도포된다. 여기서 반송부(6)를 제어하여 기재(3)와 노즐의 상대 속도를 조정하는 것에 의해, 기재(3)에 용액(2)이 도포될 때는 소정의 상대 속도로 이동하면서 도포할 수 있다. 그 때문에, 용액(2)의 도포를 안정적으로 개시할 수 있다.4, the voltage of the control electrode 10 is reduced to a predetermined value, and the potential of the nozzle 1 and the potential of the control electrode 10 are maintained at the timing f. 3 (e) and 3 (f), the solution 2 is narrowly stretched from the nozzle 1 through the opening 9 of the control electrode 10 by such voltage control Is applied to the substrate (3). By adjusting the relative speed between the base material 3 and the nozzle by controlling the carry section 6, the solution 2 can be applied while moving at a predetermined relative velocity when the base material 3 is coated with the solution 2. [ Therefore, the application of the solution 2 can be stably started.

전원부(8)와 제 2 제어부(11)를 이와 같이 운전하는 것에 의해, 종래의 방법에서는 노즐(1)의 전압이 소정 전압까지 상승하는 동안(도 4 중의 타이밍 a~c), 노즐(1)로부터 용액(2)이 불안정하게 토출되는 문제를 막을 수 있다. 다시 말해 도 4의 타이밍 e, f와 같이 제어 전극(10)의 전압을 변경하여 도포의 ON/OFF를 제어하는 것에 의해, 좋은 응답성으로 용액(2)을 도포할 수 있다.By operating the power supply unit 8 and the second control unit 11 in this manner, the nozzle 1 is driven in the conventional manner while the voltage of the nozzle 1 rises to a predetermined voltage (timings a to c in FIG. 4) It is possible to prevent the solution 2 from being unstably discharged. In other words, as shown in timings e and f in FIG. 4, the solution 2 can be coated with good responsiveness by controlling the ON / OFF of application by changing the voltage of the control electrode 10.

구체적으로는 예컨대, 노즐(1)과 제어 전극(10)의 거리가 10~300㎛, 노즐(1)과 배면 전극(5)의 거리가 200~500㎛, 기재(3)와 배면 전극(5)의 거리가 0~1㎜, 제어 전극(10)의 개구(9)의 직경이 200~500㎛, 배면 전극(5)에 -0.5㎸~-1㎸를 인가한다. 이 경우에, 제어 전극(10)의 전압을, 제 2 제어부(11)에 의해 각 타이밍 a~f에, 예컨대 다음과 같이 제어한다. 혹은, 제 2 제어부(11)에 의해 전원부(8)를 제어하여, 각 타이밍 a~f에 있어서의 노즐(1)의 전압을, 예컨대 다음과 같이 제어한다.More specifically, the distance between the nozzle 1 and the control electrode 10 is 10 to 300 μm, the distance between the nozzle 1 and the back electrode 5 is 200 to 500 μm, the distance between the substrate 3 and the back electrode 5 The diameter of the opening 9 of the control electrode 10 is 200 to 500 mu m and the voltage of -0.5 kV to -1 kV is applied to the back electrode 5. [ In this case, the voltage of the control electrode 10 is controlled by the second control unit 11 at each of the timings a to f, for example, as follows. Alternatively, the second control unit 11 controls the power supply unit 8 to control the voltage of the nozzle 1 at each of the timings a to f, for example, as follows.

도 4의 타이밍 a의 개시시에는 노즐(1)을 0V로 한다. 타이밍 c에는 제어 전극(10)에 +1㎸를 인가한다. 타이밍 d에는 노즐(1)에 +2㎸를 인가한다. 타이밍 f에는 제어 전극(10)에 +0.3~+0.5㎸를 인가한다. 또한, 도 4의 노즐(1)에 대한 기재(3)의 상대 속도를 50㎜/sec로 설정한다.At the start of timing a in Fig. 4, the nozzle 1 is set to 0V. At timing c, + 1 kV is applied to the control electrode 10. At timing d, +2 kV is applied to the nozzle 1. At timing f, +0.3 to +0.5 kV is applied to the control electrode 10. The relative speed of the base material 3 to the nozzle 1 in Fig. 4 is set to 50 mm / sec.

또 도포 패턴의 종단에 있어서는, 도 4에서 말한 타이밍 f~a의 제어를 반대로 실시하면 된다. 즉, 도 4의 타이밍 g와 같이 제어 전극(10)의 전압만을 소정의 값까지 올리고, 또한 타이밍 h와 같이 제어 전극(10)의 전압을 유지하면서, 노즐(1)로의 인가 전압을 소정의 전압까지 저하시킨다. 이와 같은 전압 제어에 의해 용액(2)의 도포를 안정적으로 종료할 수 있다.At the end of the application pattern, the control of the timings f to a mentioned in Fig. 4 may be reversed. That is, only the voltage of the control electrode 10 is raised to a predetermined value as shown by the timing g of FIG. 4, and the voltage applied to the nozzle 1 is maintained at a predetermined voltage . By such voltage control, the application of the solution 2 can be stopped stably.

이상과 같이, 제 2 제어부(11)를 마련하는 것에 의해, 제어 전극(10)에 인가하는 전압을 변화시켜, 용액(2)의 기재(3)로의 도포의 거동을 제어하는 것이 바람직하다. 그리고, 도포 패턴의 시단, 종단의 적어도 어느 한쪽에 있어서, 노즐(1)과 기재(3)의 사이의 전압을 변경하여 도포 개시, 도포 종료의 적어도 어느 한쪽의 응답성을 제어하는 것이 바람직하다. 또한, 도포 패턴의 시단에서는, 노즐(1)과 제어 전극(10)의 사이의 전압을, 서서히 크게 하고, 도포 패턴의 종단에서는, 노즐(1)과 제어 전극(10)의 사이의 전압을, 서서히 작게 하는 것이 바람직하다.As described above, it is preferable to control the application of the solution 2 to the base material 3 by changing the voltage applied to the control electrode 10 by providing the second control part 11. [ It is preferable to control the responsiveness of at least one of the application start and the application end by changing the voltage between the nozzle 1 and the substrate 3 at least at either the beginning or the end of the application pattern. The voltage between the nozzle 1 and the control electrode 10 is gradually increased at the beginning of the application pattern and the voltage between the nozzle 1 and the control electrode 10 is gradually increased at the end of the application pattern. It is preferable to make it gradually smaller.

(실시의 형태 2)(Embodiment 2)

다음으로, 도 1에 나타내는 바와 같이, 제어 전극(10)의 노즐(1)에 대한 상대 위치를 제어하는 제 3 제어부(12)를 마련한 경우에 대하여 설명한다. 구체적으로는, 제 3 제어부(12)는 제어 전극(10)을 노즐(1)에 대한 거리 방향(Z 방향)으로 변경 가능하다. 즉, 제 3 제어부(12)는, 제어 전극(10)을 노즐(1)에 대하여 이동시켜, 노즐(1)과 제어 전극(10)의 거리를 변화시킬 수 있다.Next, as shown in Fig. 1, a case will be described in which a third control section 12 for controlling the relative position of the control electrode 10 with respect to the nozzle 1 is provided. Specifically, the third control unit 12 can change the control electrode 10 in the distance direction (Z direction) with respect to the nozzle 1. [ That is, the third control unit 12 can move the control electrode 10 relative to the nozzle 1 to change the distance between the nozzle 1 and the control electrode 10.

도 5(a)~도 5(h)는 도포의 시단과 종단에 있어서의 노즐(1)에 있어서의 액체 고임(13)의 변화를 나타내고 있다. 도 6은 도 5(a)~도 5(h)의 각각의 타이밍에 있어서의 노즐(1)의 전위와 제어 전극(10)의 전위, 및 노즐(1)과 제어 전극(10)의 거리를 나타내고 있다.5 (a) to 5 (h) show changes in the liquid level 13 in the nozzle 1 at the beginning and the end of the application. 6 is a graph showing the relationship between the potential of the nozzle 1 and the potential of the control electrode 10 and the distance between the nozzle 1 and the control electrode 10 at the respective timings of Figs. 5 (a) to 5 Respectively.

도 3(a)~도 3(h)와 도 4를 참조하면서 설명한 실시의 형태 1에서는 모든 타이밍에 있어서, 노즐(1)의 중심과 제어 전극(10)의 중심이 서로 일치하고 있고, 노즐(1)과 제어 전극(10)의 거리도 동일하다. 이것에 비하여, 본 실시의 형태에서는 도 5(a)~도 5(h)의 모든 타이밍에 있어서, 노즐(1)의 중심과 제어 전극(10)의 중심이 서로 일치하고 있지만, 노즐(1)과 제어 전극(10)의 거리를 일부의 타이밍에 있어서 변경하고 있다. 아울러, 노즐(1)과 제어 전극(10)의 전위를 제어하고 있다. 이와 같이 하여, 실시의 형태 1보다 응답성을 더욱 개선하고 있다.In the first embodiment described with reference to Figs. 3A to 3H and Fig. 4, the center of the nozzle 1 and the center of the control electrode 10 coincide with each other at all timings, 1 and the control electrode 10 are the same. 5 (a) to 5 (h), the center of the nozzle 1 and the center of the control electrode 10 coincide with each other. However, in the present embodiment, And the control electrode 10 are changed at some timing. In addition, the potentials of the nozzle 1 and the control electrode 10 are controlled. In this way, the response is further improved than in the first embodiment.

도 5(a)에 나타내는 초기 상태에서는, 노즐(1)의 중심과 평판 형상의 제어 전극(10)의 중심이 일치하고 있고, 이 상태에서 제어 전극(10)의 위치는, 노즐(1)로부터 규정 거리만큼 떨어진 위치에 제 3 제어부(12)에 의해 유지되고 있다.5 (a), the center of the nozzle 1 coincides with the center of the control electrode 10 in a flat plate shape. In this state, the position of the control electrode 10 is shifted from the nozzle 1 And is held by the third control unit 12 at a position separated by a specified distance.

실시의 형태 1에서는, 도 4의 타이밍 e에 있어서 제어 전극(10)의 전압을 내리는 데는 소정의 시간이 필요하다. 다시 말해 그 시간만큼, 시단의 토출 응답성이 낮다. 한편, 본 실시의 형태에서는, 도 3(e)의 타이밍에 대응하는 도 5(e)와 같이, 제 3 제어부(12)에 의해 제어 전극(10)의 노즐(1)과의 상대 위치를 변경하고 있다. 구체적으로는, 제 3 제어부(12)는, 도 6에 있어서의 타이밍 e에, 예컨대 노즐(1)로부터 멀어지도록 제어 전극(10)을 이동시키고, 타이밍 f에는 이 위치에 제어 전극(10)을 유지하고 있다. 그 이외의 타이밍에 있어서의 제어는 실시의 형태 1과 동일하므로 상세한 설명을 생략한다.In the first embodiment, a predetermined time is required to lower the voltage of the control electrode 10 at the timing e in Fig. In other words, the discharge response of the starting end is low by that time. 5 (e) corresponding to the timing of Fig. 3 (e), the third control unit 12 changes the position of the control electrode 10 relative to the nozzle 1 . More specifically, the third control unit 12 moves the control electrode 10 away from the nozzle 1 at timing e in Fig. 6, for example, at the timing f, the control electrode 10 . Control at the other timings is the same as that of the first embodiment, and therefore, detailed description thereof will be omitted.

이와 같은 제어에 의해, 시단의 토출 응답성을 더 좋게 하는 것이 가능하다. 또한 토출 개시에 맞추어, 노즐(1)과 기재(3)의 상대 속도를 소정의 속도로 제어하여 두는 것에 의해, 안정적인 도포가 가능하게 된다.By such control, it is possible to improve the discharging responsiveness of the leading end. Further, by controlling the relative speed between the nozzle 1 and the base material 3 at a predetermined speed in accordance with the start of discharge, stable application is possible.

또, 이와 같이 제 2 제어부(11)에 의한 제어와 제 3 제어부(12)에 의한 제어가 연동하는 경우에는, 반송부(6), 제 1 제어부(7), 전원부(8), 제 2 제어부(11), 및 제 3 제어부(12)의 제어나 타이밍을 제어하는 제 4 제어부(50)를 마련하는 것이 바람직하다. 즉, 노즐(1)과 기재(3)의 상대 이동에 맞추어, 제어 전극(10)을 노즐(1)에 대하여 이동시켜, 노즐(1)에 대한 제어 전극(10)의 거리를 제어하는 것이 바람직하다.When the control by the second control unit 11 and the control by the third control unit 12 are interlocked as described above, the transport unit 6, the first control unit 7, the power supply unit 8, The second controller 11 and the fourth controller 50 for controlling the control and the timing of the third controller 12 are preferably provided. It is preferable to control the distance of the control electrode 10 with respect to the nozzle 1 by moving the control electrode 10 relative to the nozzle 1 in accordance with the relative movement between the nozzle 1 and the base material 3 Do.

또 이상의 설명에서는, 노즐(1)의 중심과 제어 전극(10)의 중심이 도 5(a)~도 5(h)의 모든 타이밍에 있어서 서로 일치하고 있고, 노즐(1)과 제어 전극(10)의 전위를 제어함과 아울러, 노즐(1)과 제어 전극(10)의 거리를 일부의 타이밍에 있어서 변경하고 있다. 그렇지만, 도 5(a)~도 5(h)의 모든 타이밍에 있어서, 노즐(1)의 중심과 제어 전극(10)의 중심이 서로 일치하고 있고, 또한 노즐(1)과 제어 전극(10)의 사이의 전위차가 동일한 경우이더라도 좋다. 즉, 노즐(1)과 제어 전극(10)의 거리를 일부의 타이밍에 있어서 도 5(e), 도 5(f)와 같이 변경하는 것만으로도 좋다. 즉, 제 2 제어부(11)를 마련하지 않고 제 3 제어부(12)를 마련하더라도 좋다. 이와 같이 하더라도, 제어 전극(10)을 갖고 있지 않은 장치에 비하여, 도포의 응답성을 개선할 수 있다.In the above description, the center of the nozzle 1 and the center of the control electrode 10 coincide with each other at all of the timings of Figs. 5 (a) to 5 (h), and the nozzle 1 and the control electrode 10 And the distance between the nozzle 1 and the control electrode 10 is changed at a part of the timing. 5 (a) to 5 (h), the center of the nozzle 1 and the center of the control electrode 10 coincide with each other, and the nozzle 1 and the control electrode 10 coincide with each other, The potential difference may be the same. That is, it is only necessary to change the distance between the nozzle 1 and the control electrode 10 at some timing as shown in Figs. 5 (e) and 5 (f). That is, the third control unit 12 may be provided without providing the second control unit 11. Even in this case, the response of the application can be improved as compared with a device not having the control electrode 10. [

이상과 같이, 제 3 제어부(12)를 마련하여, 노즐(1)과 기재(3)의 거리를 변화시켜, 용액(2)의 기재(3)로의 도포의 거동을 제어하는 것이 바람직하다.As described above, it is preferable to provide the third control section 12 to control the coating behavior of the solution 2 on the base material 3 by changing the distance between the nozzle 1 and the base material 3.

(실시의 형태 3)(Embodiment 3)

다음으로, 도 7에 나타내는 바와 같이 기재(3)를 반송부(6)에 의해 반송하여, 기재(3) 위에 용액(2)을, 파선으로 나타내는 형상으로 도포하는 경우에 적합한 구성을 설명한다. 도 7은 본 실시의 형태에 있어서의 정전 도포 장치의 노즐(1)과 제어 전극(10)의 위치 관계를 나타내는 사시도이다. 또 파선으로 도시한 도포 패턴을, 코너 패턴(14)이라 칭한다.Next, as shown in Fig. 7, a configuration suitable for the case where the substrate 3 is transported by the transport section 6 and the solution 2 is coated on the substrate 3 in a shape shown by a broken line will be described. 7 is a perspective view showing the positional relationship between the nozzle 1 and the control electrode 10 of the electrostatic coating apparatus according to the present embodiment. The coated pattern shown by the broken line is referred to as a corner pattern 14.

본 실시의 형태에서는, 도 1의 구성에 있어서, 제어 전극(10)의 노즐(1)에 대한 상대 위치를 제어하는 제 3 제어부(12A)가 마련되어 있다. 구체적으로는, 제 3 제어부(12)는 제어 전극(10)을, 기재(3)의 수평 방향(X 방향)으로 변경 가능하다. 즉, 제 3 제어부(12A)는, 노즐(1)의 중심에 대한 제어 전극(10)의 개구(9)의 중심의 위치 관계를 변화시킬 수 있다.In the present embodiment, in the configuration of Fig. 1, a third control section 12A for controlling the relative position of the control electrode 10 with respect to the nozzle 1 is provided. Specifically, the third control section 12 can change the control electrode 10 in the horizontal direction (X direction) of the base material 3. That is, the third control section 12A can change the positional relationship of the center of the opening 9 of the control electrode 10 with respect to the center of the nozzle 1. [

실시의 형태 1, 실시의 형태 2에서는, 노즐(1)의 중심과 제어 전극(10)의 중심이, 모든 타이밍에 있어서 서로 일치하고 있다. 본 실시의 형태에서는, 노즐(1)의 중심 위치와 제어 전극(10)의 중심 위치를 서로 비키어 놓는 것에 의해, 제어 전극(10)을 갖고 있지 않은 종래 장치에 비하여, 도포의 응답성을 개선할 수 있다.In the first and second embodiments, the center of the nozzle 1 and the center of the control electrode 10 coincide with each other at all timings. In this embodiment, the center position of the nozzle 1 and the center position of the control electrode 10 are shifted from each other, so that the responsiveness of the coating is improved as compared with the conventional device having no control electrode 10 can do.

이하, 도 7에 나타내는 바와 같이, 코너 패턴(14)의 일례로서, X 방향의 통과점을 위치 a, b, c로 하고, 위치 c를 코너부로 하고, 또한 Y 방향의 통과점을 위치 d, e로 한 패턴으로 도포하는 경우를 도 8(a1)~도 8(a5), 도 8(b1)~도 8(b5)를 참조하면서 설명한다. 도 8(a1)~도 8(a5)는 각각, 도 7에 있어서의 위치 a~e에 있어서의 노즐(1)과 제어 전극(10)의 위치 관계를 나타내는 평면도이다. 도 8(b1)~도 8(b5)는 각각, 도 8(a1)~도 8(a5)에 대응하는 단면도이다.Hereinafter, as an example of the corner pattern 14, as shown in Fig. 7, it is assumed that the passing points in the X direction are positions a, b and c, the position c is the corner portion, e will be described with reference to Figs. 8 (a1) to 8 (a5) and 8 (b1) to 8 (b5). 8 (a1) to 8 (a5) are plan views showing the positional relationship between the nozzle 1 and the control electrode 10 at positions a to e in FIG. 7, respectively. 8 (b1) to 8 (b5) are cross-sectional views corresponding to Figs. 8 (a1) to 8 (a5), respectively.

직선 형상으로 용액(2)을 도포하고 있는 위치 a에서는, 제어 전극(10)의 개구(9)의 중심이, 노즐(1)의 중심(15)에 일치하고 있다. 이 상태에서 기재(3)는 반송부(6)에 의해 화살표 X1 방향으로 이동한다. 이 상태에서는, 도 8(a1)에 나타내는 바와 같이 노즐(1)로부터 기재(3)를 향해 곧게 용액(2)이 토출된다.The center of the opening 9 of the control electrode 10 coincides with the center 15 of the nozzle 1 at the position a where the solution 2 is applied in a straight line shape. In this state, the substrate 3 is moved by the carry section 6 in the direction of the arrow X1. In this state, as shown in Fig. 8 (a1), the solution 2 is discharged straight from the nozzle 1 toward the base material 3. [

다음으로, 위치 c의 직전의 위치 b로부터 위치 c에 걸쳐서, 노즐(1)과 제어 전극(10)을 이동시킬 때에는, 제 3 제어부(12A)는, 제어 전극(10)과 노즐(1)의 위치 관계가 도 8(a2)~도 8(a3)과 같이 되도록 제어한다. 다시 말해, 노즐(1)의 중심(15)에 대하여 제어 전극(10)의 개구(9)의 중심을, X1 방향과는 반대의 방향으로 비키어 놓는다. 이와 같은 위치 관계의 상태에서, 용액(2)이 도포된다.Next, when the nozzle 1 and the control electrode 10 are moved from the position b immediately before the position c to the position c, the third control unit 12A controls the control electrode 10 and the nozzle 1 So that the positional relationship is controlled as shown in Figs. 8 (a2) to 8 (a3). In other words, the center of the opening 9 of the control electrode 10 is shifted in the direction opposite to the X1 direction with respect to the center 15 of the nozzle 1. In such a positional relationship, the solution 2 is applied.

이것에 의해, 노즐(1)이 코너부의 위치 c에 도달하기 전에, 노즐(1)로부터 토출된 용액(2)은, 도 8(b3)에 나타내는 바와 같이 제어 전극(10)의 정전력에 의해 위치 c 쪽으로 구부러져 토출된다. 이와 같이 하여, 코너 패턴(14)의 위치 b~c의 구간이 용액(2)으로 도포된다.8 (b3), the solution 2 discharged from the nozzle 1 is discharged by the electrostatic force of the control electrode 10 before the nozzle 1 reaches the position c of the corner portion And is bent and discharged to the position c. In this manner, the positions b to c of the corner pattern 14 are coated with the solution 2.

여기서, 위치 b로부터 위치 c까지, 제어 전극(10)의 개구(9)의 중심과 노즐(1)의 중심(15)을 서서히 비키어 놓는 것이 중요하다. 바꿔 말하면, 제어 전극(10)의 속도와 노즐(1)의 속도는 코너 패턴(14)의 형상에 맞추어 조정할 필요가 있다. 제어 전극(10)과 노즐(1)의 속도를 갑자기 변경하면, 도포된 용액(2)의 패턴이 끊어지는 일이 있다. 이것은 용액(2)의 물성(점도ㆍ표면장력 등)에 따라서 상이하기 때문에, 적당하게 조정할 필요가 있다.It is important to gradually shift the center of the opening 9 of the control electrode 10 and the center 15 of the nozzle 1 from position b to position c. In other words, the speed of the control electrode 10 and the speed of the nozzle 1 need to be adjusted in accordance with the shape of the corner pattern 14. If the speeds of the control electrode 10 and the nozzle 1 are suddenly changed, the pattern of the applied solution 2 may be broken. This is different depending on the physical properties (viscosity, surface tension, etc.) of the solution 2, and therefore it is necessary to adjust it appropriately.

다음으로, 위치 c를 넘고 나서 기재(3)를 반송부(6)에 의해 화살표 Y1 방향으로 이동시켜 직선부의 위치 d, e의 구간에 도포할 때에는, 제 3 제어부(12A)는, 제어 전극(10)과 노즐(1)의 위치 관계가 도 8(a4), 도 8(a5)와 같이 되도록 제어한다. 다시 말해, 기재(3)의 이동에 따라 제어 전극(10)의 개구(9)의 중심과 노즐(1)의 중심(15)이 일치한 상태로 서서히 되돌리도록 제어한다.Next, when the substrate 3 is moved in the direction of the arrow Y1 by the carry section 6 after the position c has been exceeded and is applied to the section of the position d and e of the straight line section, the third control section 12A controls the control electrode 10 and the nozzle 1 become as shown in Fig. 8 (a4) and Fig. 8 (a5). In other words, control is performed so that the center of the opening 9 of the control electrode 10 and the center 15 of the nozzle 1 coincide with each other in accordance with the movement of the substrate 3.

상기 제어에 있어서의 노즐(1) 및 제어 전극(10)과 도포하는 코너 패턴(14)의 위치 관계를, 도 9를 참조하면서 설명한다. 도 9는 노즐(1) 및 제어 전극(10)이, 도포하는 코너 패턴(14)에 대하여 어떠한 궤도로 이동하는지 설명하는 도면이다. 즉, 도 9는 노즐(1)의 중심의 이송 궤도(이하, 노즐 궤도)(16)와, 제어 전극(10)의 개구(9)의 중심의 이동 궤도(이하, 제어 전극 궤도)(17)를 나타내고 있다. 여기서 위치 a~e는 도 7의 위치 a~위치 e와 동일하다. 또, 이해하기 쉽도록 코너 패턴(14)과 노즐 궤도(16)와, 제어 전극 궤도(17)는, 위치를 비키어 놓아 나타내고 있다.The positional relationship between the nozzle 1 and the control electrode 10 and the corner pattern 14 to be applied in the above control will be described with reference to Fig. 9 is a view for explaining how the nozzle 1 and the control electrode 10 move in the orbit with respect to the corner pattern 14 to be applied. 9 shows a movement trajectory of the center of the nozzle 1 (hereinafter referred to as nozzle trajectory) 16 and a movement trajectory of the center of the opening 9 of the control electrode 10 (hereinafter referred to as control electrode trajectory) Respectively. Here, the positions a to e are the same as the positions a to e in FIG. The corner pattern 14, the nozzle trajectory 16, and the control electrode trajectory 17 are shown with their positions shifted for easy understanding.

위치 a에서는, 노즐 궤도(16)와 제어 전극 궤도(17)는 동일한 궤도이다. 다음으로 코너부인 위치 c의 직전의 위치 b로부터 위치 c 및 위치 c의 직후의 위치 d에 걸쳐서, 노즐 궤도(16)는 제어 전극 궤도(17)보다 큰 곡률이 되어 있다. 그때, 노즐 궤도(16) 및 제어 전극 궤도(17)는 함께, 소정의 곡률을 갖고, 도포하는 코너 패턴(14)보다 안쪽에 위치하고 있다. 그 다음에, 위치 c를 통과한 후의 위치 e에서는, 노즐 궤도(16) 및 제어 전극 궤도(17)는 동일한 궤도이다.In the position a, the nozzle trajectory 16 and the control electrode trajectory 17 are in the same orbit. Next, the nozzle trajectory 16 has a curvature larger than that of the control electrode trajectory 17 from the position b immediately before the position c, which is the corner portion, to the position c and the position d immediately after the position c. At this time, the nozzle trajectory 16 and the control electrode trajectory 17 together have a predetermined curvature and are positioned inside the corner pattern 14 to be applied. Then, at the position e after passing the position c, the nozzle trajectory 16 and the control electrode trajectory 17 are in the same orbit.

이와 같이 노즐(1)에 대한 제어 전극(10)의 위치를 제 3 제어부(12A)에 의해 제어하는 것에 의해, 기재(3)의 표면에 실제로 형성되는 도포 패턴을, 기재(3)의 표면에 형성하고 싶은 코너 패턴(14)에, 보다 정밀하게 일치시킬 수 있다.By controlling the position of the control electrode 10 with respect to the nozzle 1 by the third control section 12A in this manner, the coating pattern actually formed on the surface of the base material 3 is applied to the surface of the base material 3 It is possible to more precisely match the corner pattern 14 to be formed.

이상과 같이, 제 3 제어부(12A)를 마련하는 것에 의해, 노즐(1)의 중심과 제어 전극(10)의 개구(9)의 중심의 위치 관계를 변화시켜, 용액(2)의 기재(3)로의 도포의 거동을 제어하는 것이 바람직하다. 그리고, 코너를 가진 도포 패턴을 형성하도록 용액(2)을 기재(3)에 도포할 때에, 제어 전극(10)의 기재(3)와의 상대적인 이동 궤도의 곡률이, 도포 패턴의 곡률보다 크고, 노즐(1)의 기재(3)와의 상대적인 이동 궤도의 곡률보다 작은 것이 바람직하다.The positional relationship between the center of the nozzle 1 and the center of the opening 9 of the control electrode 10 is changed by providing the third control section 12A as described above, ) Is preferably controlled. When the solution 2 is applied to the base material 3 so as to form a coating pattern having corners, the curvature of the movement trajectory of the control electrode 10 relative to the base material 3 is larger than the curvature of the application pattern, Is preferably smaller than the curvature of the moving trajectory relative to the base material 3 of the base material (1).

또한, 실시의 형태 2와 마찬가지로, 반송부(6), 제 1 제어부(7), 전원부(8), 제 2 제어부(11), 및 제 3 제어부(12A)의 제어나 타이밍을 제어하는 제 4 제어부(50)를 마련하는 것이 바람직하다. 즉, 노즐(1)과 기재(3)의 상대 이동에 맞추어, 제어 전극(10)을 노즐(1)에 대하여 이동시켜, 노즐(1)의 중심에 대한 제어 전극(10)의 개구(9)의 중심의 위치를 제어하는 것이 바람직하다.As in the second embodiment, the fourth and sixth control units 12A and 12B for controlling the control and timing of the carry section 6, the first control section 7, the power source section 8, the second control section 11 and the third control section 12A, It is preferable to provide the control unit 50. [ That is, the control electrode 10 is moved with respect to the nozzle 1 in accordance with the relative movement between the nozzle 1 and the base material 3 so that the opening 9 of the control electrode 10 with respect to the center of the nozzle 1, It is preferable to control the position of the center of the lens.

(실시의 형태 4)(Fourth Embodiment)

실시의 형태 3에서는 노즐(1)에 대한 제어 전극(10)의 수평 위치를 제어하는 제 3 제어부(12A)를 이용한 경우를 설명했지만, 본 실시의 형태에서는, 도 1의 구성에 있어서, 제어 전극(10)의 노즐(1)에 대한 상대 위치를 제어하는 제 3 제어부(12b)가 마련되어 있다. 구체적으로는, 제 3 제어부(12b)는 노즐(1)에 대한 제어 전극(10)의 기울기를 변경 가능하다.In the third embodiment, the third control unit 12A for controlling the horizontal position of the control electrode 10 with respect to the nozzle 1 is used. In the present embodiment, in the configuration of Fig. 1, A third controller 12b for controlling the relative position of the nozzle 10 to the nozzle 1 is provided. Specifically, the third control unit 12b is capable of changing the tilt of the control electrode 10 with respect to the nozzle 1.

도 10(a)~도 10(e)는 도 7의 코너부의 위치 a~e에 상당하는 노즐(1)과 제어 전극(10)의 관계를 나타낸다. 또, 도 10(a)~도 10(e)는 도 7에 있어서의 화살표 Y1 방향으로부터 본 상태를 나타내고 있다.10 (a) to 10 (e) show the relationship between the nozzle 1 and the control electrode 10 corresponding to the positions a to e of the corner of Fig. 10 (a) to 10 (e) show the state as viewed from the direction of arrow Y1 in Fig.

제 3 제어부(12b)는, 도 7의 위치 a로부터 위치 c에 걸쳐서, 도 10(a)~도 10(c)에 나타내는 바와 같이 제어 전극(10)을 기울이고, 위치 c로부터 위치 e에 걸쳐서 도 10(c)~도 10(e)에 나타내는 바와 같이 제어 전극(10)의 기울기를 되돌리도록 제어한다.The third control section 12b tilts the control electrode 10 as shown in Figs. 10 (a) to 10 (c) from the position a to the position c in Fig. 7, 10 (c) to 10 (e), the inclination of the control electrode 10 is controlled to be reversed.

제어 전극(10)을 기울인 경우, 제어 전극(10)의 개구(9)의 한쪽의 단면이 부분적으로 노즐(1)에 가까워지고, 다른 쪽의 단면은 멀어진다. 그러면, 제어 전극(10)의 개구(9)의 노즐(1)에 가까운 쪽의 단면으로부터, 노즐(1)의 선단의 용액(2)을 기재(3)로부터 멀리하는 방향으로 정전력이 작용한다. 이 정전력에 의해, 노즐(1)의 선단의 용액(2)의 궤도를 제어할 수 있다. 구체적으로는, 평판 형상의 기재(3)의 평면과 수직인 축 방향으로부터 보았을 때에, 노즐(1)의 선단과 제어 전극(10)의 개구(9)의 단부가 가까운 부분으로부터, 노즐(1)의 선단과 제어 전극(10)의 개구(9)의 단부가 먼 부분을 향하여 용액을 구부릴 수 있다. 그 때문에, 위치 c를 도포할 때에, 용액(2)을 노즐(1)의 중심으로부터 어느 정도만 이동시켜 도포할 수 있다. 따라서, 코너부의 패턴을 안정적으로 도포할 수 있다.When the control electrode 10 is tilted, one end face of the opening 9 of the control electrode 10 partially approaches the nozzle 1, and the other end face is distant. An electrostatic force is applied in a direction away from the base material 3 at the tip of the nozzle 1 from the end face of the opening 9 of the control electrode 10 near the nozzle 1 . By this electrostatic force, the trajectory of the solution 2 at the tip of the nozzle 1 can be controlled. More specifically, when viewed from the axial direction perpendicular to the plane of the flat substrate 3, the distance between the tip of the nozzle 1 and the end of the opening 9 of the control electrode 10, And the end of the opening 9 of the control electrode 10 can be bent toward the remote part. Therefore, when applying the position c, the solution 2 can be applied to the nozzle 1 by moving it to some extent from the center of the nozzle 1. Therefore, the pattern of the corner portion can be stably applied.

이상과 같이, 제 3 제어부(12b)를 마련하는 것에 의해, 노즐(1)에 대한 제어 전극(10)의 기울기를 변화시켜, 용액(2)의 기재(3)로의 도포의 거동을 제어하는 것이 바람직하다.As described above, the inclination of the control electrode 10 with respect to the nozzle 1 is changed by providing the third control section 12b to control the application behavior of the solution 2 to the base material 3 desirable.

또한, 실시의 형태 2와 마찬가지로, 반송부(6), 제 1 제어부(7), 전원부(8), 제 2 제어부(11), 및 제 3 제어부(12b)의 제어나 타이밍을 제어하는 제 4 제어부(50)를 마련하는 것이 바람직하다. 즉, 노즐(1)과 기재(3)의 상대 이동에 맞추어, 노즐(1)에 대한 제어 전극(10)의 기울기를 제어하는 것이 바람직하다.Similarly to the second embodiment, the fourth control unit 5 controls the control and timing of the transport unit 6, the first control unit 7, the power supply unit 8, the second control unit 11, and the third control unit 12b. It is preferable to provide the control unit 50. [ That is, it is preferable to control the inclination of the control electrode 10 with respect to the nozzle 1 in accordance with the relative movement between the nozzle 1 and the substrate 3. [

(실시의 형태 5)(Embodiment 5)

실시의 형태 4에서는, 제 3 제어부(12b)가 1매의 일체 형상의 제어 전극(10)의 노즐(1)에 대한 기울기를 제어한다. 이것에 비하여, 본 실시의 형태에서는, 제어 전극(10)을 분할하여 이용함과 아울러, 분할한 각 전극의 자세를 제 3 제어부(12c)가 제어한다. 구체적인 동작에 대하여 도 11(a)~도 11(e)를 참조하면서 설명한다. 도 11(a)~도 11(e)는 도 7의 코너 패턴(14)의 위치 a로부터 위치 e에 있어서의 노즐(1)과 제어 전극(10)의 관계를 나타내고, 도 7에 있어서의 화살표 Y1 방향으로부터 본 상태를 나타내고 있다.In the fourth embodiment, the third control unit 12b controls the inclination of one integral control electrode 10 with respect to the nozzle 1. [ On the other hand, in the present embodiment, the control electrode 10 is divided and used, and the posture of each divided electrode is controlled by the third control unit 12c. A specific operation will be described with reference to Figs. 11 (a) to 11 (e). Figs. 11A to 11E show the relationship between the nozzle 1 and the control electrode 10 at the position a to the position e of the corner pattern 14 of Fig. 7, In the Y1 direction.

본 실시의 형태 5에서는, 제어 전극(10) 대신에 제 1 전극(10a)과 제 2 전극(10b)을 이용하고 있다. 제 1 전극(10a)과 제 2 전극(10b)은 서로 마주 보고 있다. 이 마주 보는 단면에 있어서, 제 1 전극(10a)에는 오목부(9a)가 형성되고, 제 2 전극(10b)에는 오목부(9b)가 형성되어 있다. 오목부(9a)와 오목부(9b)는 그들의 사이에, 제어 전극(10)의 개구(9)에 상당하는 공간을 형성하고 있다.In the fifth embodiment, the first electrode 10a and the second electrode 10b are used instead of the control electrode 10. The first electrode 10a and the second electrode 10b face each other. The first electrode 10a has a concave portion 9a and the second electrode 10b has a concave portion 9b. The concave portion 9a and the concave portion 9b form a space corresponding to the opening 9 of the control electrode 10 between them.

도 7의 위치 a에 있어서, 제 1 전극(10a)과 제 2 전극(10b)은, 도 11(a)에 나타내는 바와 같이, 서로 동일한 수평 자세가 되어 있다.In the position a in Fig. 7, the first electrode 10a and the second electrode 10b are in the same horizontal posture as shown in Fig. 11 (a).

도 7의 위치 a로부터 위치 c에 걸쳐서는, 도 11(a)~도 11(c)에 나타내는 바와 같이, 제 3 제어부(12c)는, 제 1 전극(10a)과 제 2 전극(10b)을 동일한 방향으로 동일한 각도씩 서서히 기울인다.11A to 11C, the third control section 12c controls the first electrode 10a and the second electrode 10b to move in the direction from the position a to the position c in Fig. Slightly tilt in the same direction at the same angle.

도 7의 위치 c로부터 위치 e에 걸쳐서는, 도 11(c)~도 11(e)에 나타내는 바와 같이, 제 3 제어부(12c)는, 제 1 전극(10a)과 제 2 전극(10b)의 기울기를 되돌리도록 제어한다.11 (c) to 11 (e), from the position c to the position e in Fig. 7, the third control section 12c is provided between the first electrode 10a and the second electrode 10b So that the tilt is returned.

이상과 같은 제어에 의해, 노즐(1)의 선단의 액체 고임으로부터 잡아 늘려진 용액(2)에, 제어 전극(10)의 개구(9)의 단면이 가까운 부분으로부터 노즐(1) 선단의 용액을 멀리하는 방향으로 정전력이 작용하고, 노즐(1)의 선단의 용액의 궤도를 제어할 수 있다. 구체적으로는, 평판 형상의 기재(3)의 평면과 수직인 축 방향으로부터 보았을 때에 오목부(9a) 또는 오목부(9b) 중 노즐(1)의 선단에 가까운 쪽으로부터, 오목부(9a) 또는 오목부(9b) 중 노즐(1)의 선단에 먼 쪽으로 향하여 용액을 구부릴 수 있다. 다시 말해 코너부의 패턴을 도포할 때에, 어느 정도 용액을 노즐(1)의 중심으로부터 이동시켜 도포할 수 있으므로 코너부의 패턴을 안정적으로 도포할 수 있다.The solution at the tip of the nozzle 1 is sprayed from the portion near the end face of the opening 9 of the control electrode 10 to the solution 2 drawn from the liquid droplet at the tip end of the nozzle 1 by the above- The static electricity acts in the direction away from the nozzle 1, and the solution trajectory at the tip of the nozzle 1 can be controlled. Concretely, when viewed from the axial direction perpendicular to the plane of the flat substrate 3, the concave portion 9a or the concave portion 9b, which is closer to the tip end of the nozzle 1, The solution can be bent toward the distal end of the nozzle 1 in the concave portion 9b. In other words, when applying the pattern of the corner portion, since the solution can be applied to some extent from the center of the nozzle 1, it is possible to stably apply the pattern of the corner portion.

이상과 같이, 제 3 제어부(12c)를 마련하는 것에 의해, 노즐(1)에 대한 제 1 전극(10a)과 제 2 전극(10b)의 기울기를 변화시켜, 용액(2)의 기재(3)로의 도포의 거동을 제어하는 것이 바람직하다.The inclination of the first electrode 10a and the second electrode 10b with respect to the nozzle 1 is changed by providing the third control section 12c as described above, It is preferable to control the behavior of the application of the coating liquid.

또한, 실시의 형태 2와 마찬가지로, 반송부(6), 제 1 제어부(7), 전원부(8), 제 2 제어부(11), 및 제 3 제어부(12c)의 제어나 타이밍을 제어하는 제 4 제어부(50)를 마련하는 것이 바람직하다. 즉, 노즐(1)과 기재(3)의 상대 이동에 맞추어, 노즐(1)에 대한 제 1 전극(10a)과 제 2 전극(10b)의 기울기를 제어하는 것이 바람직하다.As in the second embodiment, the fourth and fifth control units 6a and 6b controlling the control and timing of the transport unit 6, the first control unit 7, the power supply unit 8, the second control unit 11, and the third control unit 12c, It is preferable to provide the control unit 50. [ That is, it is preferable to control the inclination of the first electrode 10a and the second electrode 10b with respect to the nozzle 1 in accordance with the relative movement of the nozzle 1 and the substrate 3. [

또, 실시의 형태 1~5의 각각에 특유의 구성은 서로 조합할 수도 있다. 그와 같은 구성은 본 발명의 범주에 포함된다. 예컨대, 제 3 제어부(12)는, 제 3 제어부(12A, 12B)의 적어도 어느 한쪽의 기능을 갖고 있더라도 좋다. 즉, 제 3 제어부(12)는 노즐(1)의 중심에 대한 제어 전극(10)의 개구(9)의 중심의 위치 관계를 변화시킬 수 있다. 또한/또는, 제 3 제어부(12)는, 제어 전극(10)을 노즐(1)에 대하여 이동시켜, 노즐(1)과 제어 전극(10)의 거리를 변화시킬 수 있다. 또한/또는, 제 3 제어부(12)는 노즐(1)에 대한 제어 전극(10)의 기울기를 변화시킬 수 있다.The configurations unique to each of the first to fifth embodiments may be combined with each other. Such a configuration is included in the scope of the present invention. For example, the third control unit 12 may have at least one of the functions of the third control units 12A and 12B. That is, the third control unit 12 can change the positional relationship of the center of the opening 9 of the control electrode 10 with respect to the center of the nozzle 1. [ The third control unit 12 can move the control electrode 10 relative to the nozzle 1 and change the distance between the nozzle 1 and the control electrode 10. [ Further, the third control unit 12 can change the inclination of the control electrode 10 with respect to the nozzle 1. [

이상과 같이, 본 발명은, 미세한 패턴 형상을 안정적으로 도포할 수 있어, 터치 패널이나 전자파 실드 등의 미세한 전극 형성의 용도에 적용할 수 있다.INDUSTRIAL APPLICABILITY As described above, the present invention can stably apply a fine pattern shape, and can be applied to the application of fine electrodes such as a touch panel or an electromagnetic wave shield.

Claims

Charging the solution supplied to the tip of the nozzle by applying a voltage,
The solution is stretched from the nozzle to the adherend by using electrostatic force while relatively moving the nozzle and the adherend, and the solution that has been stretched is placed between the nozzle and the adherend so that voltage Passing through an opening formed in the applied control electrode and applying the coating to the coated body
Respectively,
The voltage applied to the control electrode is changed to control the behavior of application of the solution to the coated object
Electrostatic application method.

delete

The method according to claim 1,
Wherein the positional relationship between the center of the nozzle and the center of the opening of the control electrode is changed so as to control the coating behavior of the solution on the coated object.

The method of claim 3,
Wherein a curvature of a movement orbit of the control electrode relative to the decorated body is larger than a curvature of the applied pattern when the solution is applied to the decorated body to form a coated pattern having a corner, Is less than the curvature of the relative movement trajectory relative to the applicator.

The method according to claim 1,
Wherein the distance between the nozzle and the control electrode is changed to control the application of the solution to the coated object.

The method according to claim 1,
Wherein a slope of the control electrode with respect to the nozzle is changed so as to control a behavior of application of the solution to the coated object.

The method according to claim 1,
Wherein the position of the center of the opening of the control electrode with respect to the center of the nozzle is controlled by moving the control electrode with respect to the nozzle in accordance with the relative movement of the nozzle and the decorated body.

The method according to claim 1,
Wherein the control electrode is moved with respect to the nozzle in accordance with a relative movement between the nozzle and the decorated body to control the distance of the control electrode with respect to the nozzle.

The method according to claim 1,
Wherein the inclination of the control electrode with respect to the nozzle is controlled in accordance with a relative movement between the nozzle and the decorated body.

The method according to claim 1,
Wherein at least either one of a start end and a termination end of the application pattern for applying the solution to the donor body is changed by changing a voltage between the nozzle and the control electrode so that at least either An electrostatic application method for controlling the responsiveness of one side.

11. The method of claim 10,
The voltage between the nozzle and the control electrode is gradually increased at the beginning of the application pattern,
At the end of the application pattern, the voltage between the nozzle and the control electrode is gradually decreased
Electrostatic application method.

A solution tank for storing the solution,
A nozzle for discharging the solution,
A first controller for supplying the solution to the tip of the nozzle,
A conveying unit for conveying the object to be coated against the nozzle,
A back electrode disposed on the opposite side to the nozzle with respect to the donor body;
A power supply unit for applying a voltage between the solution tank and at least one of the nozzles and the back electrode;
And an opening through which the solution drawn from the nozzle passes is formed, and a control electrode
And,
And passing the solution through the opening to the donor body
Electrostatic application device.

13. The method of claim 12,
And a second controller for controlling the voltage applied to the control electrode.

14. The method of claim 13,
Further comprising a third control unit which moves the control electrode with respect to the nozzle to change a positional relationship of the center of the opening of the control electrode with respect to the center of the nozzle.

14. The method of claim 13,
And a third control unit for moving the control electrode with respect to the nozzle to change the distance between the nozzle and the control electrode.

14. The method of claim 13,
And a third control unit for changing a tilt of the control electrode with respect to the nozzle.

17. The method according to any one of claims 14 to 16,
A second control unit for controlling the voltage applied to the control electrode,
And a fourth control section for controlling the driving of the carry section, the second control section, the three control section,
And an electrostatic latent image formed on the electrostatic latent image.