KR101599158B1 - Method and apparatus for making glass sheet - Google Patents
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Abstract
글래스 기판의 제조시에, 성형로실의 상부 공간에서 용융 글래스를 성형체에 의한 오버 플로우 방식에 의해 시트 글래스를 성형하고, 상기 시트 글래스를, 상기 상부 공간으로부터 시트 글래스의 양단부를 냉각하는 하부 공간으로 흘린다. 상부 공간과 하부 공간과의 사이에는 단열 부재에 의해 구획되어 있다. 이때, 상기 성형체를 통과할 때의 상기 용융 글래스의 온도는 액상 온도 이상이고, 또한 상기 성형체의 최하단부를 통과할 때의 상기 용융 글래스의 양단부의 점도가 104.3∼106dPa·초로 되고, 또한, 상기 하부 공간에 있어서, 상기 시트 글래스의 중앙부의 온도가 연화점보다 높은 온도로부터 서랭점 근방으로 될 때까지의 온도 영역에 있을 때, 상기 시트 글래스의 양단부의 점도가 109.0∼1014.5dPa·초로 되도록, 단열성을 갖는 재료가 상기 단열 부재에 사용된다.A method of manufacturing a glass substrate, comprising the steps of: forming a sheet glass in an upper space of a forming furnace chamber by an overflow method of a molten glass by a molding body; and forming the sheet glass into a lower space for cooling both end portions of the sheet glass Shed. And is partitioned by a heat insulating member between the upper space and the lower space. At this time, the temperature of the molten glass at the time of passing through the molding is not less than the liquid temperature, and the viscosity at both ends of the molten glass when passing through the lowermost end of the molding is 10 4.3 to 10 6 dPa · sec, Wherein when the temperature of the central portion of the sheet glass in the lower space is in a temperature range from a temperature higher than the softening point to a vicinity of the standoff point so that the viscosity of both end portions of the sheet glass is 10 9.0 to 10 14.5 dPa · sec , A material having a heat insulating property is used for the heat insulating member.
Description
본 발명은 글래스 기판을 제조하는 글래스 기판의 제조 방법 및 글래스 기판 제조 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE
종래부터 성형체를 사용한 오버 플로우 다운드로법에 의해 글래스 기판을 제조하는 방법이 사용되고 있다. 일반적으로, 성형체에 있어서, 용융 글래스의 온도가 액상 온도 부근에서 장시간 유지되면, 용융 글래스 중에 결정이 석출되어, 실투(失透)가 발생한다.Conventionally, a method of manufacturing a glass substrate by an overflow down-draw method using a formed body has been used. Generally, in a molded article, when the temperature of the molten glass is maintained for a long period of time near the liquidus temperature, crystals are precipitated in the molten glass to cause devitrification.
성형시의 글래스의 실투를 방지하기 위해, 성형체 공급시의 용융 글래스의 온도를 종래보다도 낮게 하고, 성형체 하단부에 있어서의 용융 글래스의 온도를 종래보다도 높게 하여, 성형체에의 공급시의 용융 글래스의 온도와 성형체 하단부를 통과할 때의 용융 글래스의 온도와의 차를 90℃보다 작게 하는 기술이 알려져 있다(특허문헌 1).The temperature of the molten glass at the time of supplying the molded body is made lower than that at the time of supplying the molten glass at the lower end of the molded body so as to be higher than that of the prior art in order to prevent the melting of the glass at the time of molding, And the temperature of the molten glass when passing through the lower end of the formed body is made smaller than 90 DEG C (Patent Document 1).
그러나, 상기 기술에서는, 성형체의 최하단부에 있어서의 용융 글래스의 온도를 종래보다 높게 한다. 또한, 상기 기술에서는, 성형 중의 용융 글래스의 온도를 액상 온도보다 충분히 높게 하여 실투를 방지하게 된다. 이와 같이, 상기 기술에서는, 글래스에 실투를 발생시키지 않기 위해, 성형체를 통과하는 용융 글래스의 온도를, 종래에 비해 높게 해야만 한다. 따라서, 성형체의 최하단부에 있어서의 용융 글래스의 온도는 종래보다 높아지고 글래스의 점도는 낮아지므로, 성형체로부터 이격됨으로써 발생하는 시트 글래스가 폭 방향으로 수축하려고 하는 힘을 억제할 수는 없어, 종래에 비해 시트 글래스의 수축은 커진다. 또한, 성형체의 최하단부에 있어서의 용융 글래스의 온도가 종래보다 높아지므로, 성형체보다도 하방의 공간의 온도가 용융 글래스로부터의 열 이동에 의해 상승하여, 성형체보다도 하방의 공간에 있어서의 시트 글래스의 폭 방향의 양단부의 점도를 충분히 상승시킬 수 없다. 이 결과, 시트 글래스의 폭이 수축해 버린다는 문제가 현저해진다.However, in the above technique, the temperature of the molten glass at the lowermost end of the formed body is made higher than the conventional one. Further, in the above technique, the temperature of the molten glass during molding is made sufficiently higher than the liquid temperature to prevent the slip. As described above, in the above technique, the temperature of the molten glass passing through the molded body must be made higher than in the prior art in order to prevent the generation of a slump in the glass. Therefore, the temperature of the molten glass at the lowermost end of the formed article becomes higher than that of the conventional art, and the viscosity of the glass becomes lower. Therefore, the force that the sheet glass which is generated when the sheet glass is separated from the molded article tends to shrink in the width direction can not be suppressed, The contraction of the glass increases. In addition, since the temperature of the molten glass at the lowermost end of the molded article becomes higher than the conventional one, the temperature of the space below the molded article rises due to heat transfer from the molten glass, It is impossible to sufficiently increase the viscosity at both ends of the film. As a result, the problem that the width of the sheet glass is shrunk becomes remarkable.
따라서, 본 발명은 글래스 기판의 제조 방법 및 글래스 기판 제조 장치에 있어서, 성형체를 사용하여 성형한 글래스 시트의 폭이 성형체로부터 이격되었을 때에 수축되는 것을 억제하여, 목표로 하는 시트 글래스의 폭을 확보할 수 있는 글래스 기판의 제조 방법 및 글래스 기판 제조 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.Therefore, in the method of manufacturing a glass substrate and the apparatus for manufacturing a glass substrate, it is possible to suppress the shrinkage of the glass sheet formed by using the formed body when the glass sheet is separated from the molded body, thereby securing the width of the targeted sheet glass A method of manufacturing a glass substrate and an apparatus for manufacturing a glass substrate.
본 발명은 이하의 형태를 포함한다.The present invention includes the following aspects.
본 발명의 일 형태는, 글래스 기판의 제조 방법이다.One embodiment of the present invention is a method of manufacturing a glass substrate.
[형태 1][Mode 1]
그 제조 방법은,The production method thereof comprises:
노벽으로 둘러싸인 성형로실의 상부 공간에 있어서, 성형체로부터 용융 글래스를 오버 플로우시켜 시트 글래스를 성형하는 공정과,A step of forming a sheet glass by overflowing the molten glass from the molded body in an upper space of the molding furnace surrounded by the furnace wall,
상기 시트 글래스를, 상기 성형로실을 상부 공간과 하부 공간으로 구획하는 단열 부재에 의해 만들어지는 슬릿 형상의 간극을 통과시키는 공정과,A step of passing the sheet glass through a slit-shaped gap formed by a heat insulating member that divides the molding furnace chamber into an upper space and a lower space;
상기 하부 공간에 있어서, 상기 시트 글래스의 양단부를 냉각하는 공정을 갖고,And cooling the both end portions of the sheet glass in the lower space,
상기 단열 부재는,The heat insulating member
(1) 상기 시트 글래스를 성형하는 공정에 있어서, 상기 용융 글래스가 상기 성형체를 통과할 때의 상기 용융 글래스의 온도가 액상 온도 이상이고, 또한 상기 용융 글래스가 상기 성형체의 최하단부를 통과할 때의 상기 용융 글래스의 양단부의 점도가 104.3∼106dPa·초로 되고, 또한,(1) In the step of molding the sheet glass, the temperature of the molten glass when the molten glass passes through the formed body is not lower than the liquidus temperature, and when the molten glass passes through the lowermost end of the formed body, The viscosity of both ends of the molten glass is 10 4.3 to 10 6 dPa · sec,
(2) 상기 시트 글래스를 냉각하는 공정에 있어서, 상기 시트 글래스의 중앙부의 온도가 연화점보다 높은 온도로부터 서랭점(徐冷点) 근방으로 될 때까지의 온도 영역에 있을 때, 상기 시트 글래스의 양단부의 점도가 109.0∼1014.5dPa·초로 되도록, 단열성을 갖는 재료가 사용되는, 글래스 기판의 제조 방법.(2) In the step of cooling the sheet glass, when the temperature of the central portion of the sheet glass is in a temperature range from the temperature higher than the softening point to the vicinity of the gradual point (slow cooling point) Is 10 9.0 to 10 14.5 dPa · sec, is used as the material of the glass substrate.
[형태 2][Mode 2]
상기 단열 부재의 상기 상부 공간과 상기 하부 공간과의 사이의 열저항은, 상기 상부 공간의 분위기 온도에 있어서 0.2㎡·K/W 이상인, 형태 1에 기재된 글래스 기판의 제조 방법.Wherein a thermal resistance between the upper space and the lower space of the heat insulating member is at least 0.2 m < 2 > K / W in an atmosphere temperature of the upper space.
[형태 3][Mode 3]
상기 하부 공간에 있어서,In the lower space,
상기 시트 글래스의 상기 중앙부에 있어서의 폭 방향의 온도 분포를 균일하게 하고, 또한, 상기 시트 글래스의 양단부의 온도를, 상기 중앙부의 온도보다 낮게 하는 공정과,The temperature distribution in the width direction at the central portion of the sheet glass is made uniform and the temperature at both end portions of the sheet glass is made lower than the temperature at the central portion;
상기 양단부 및 상기 중앙부의 온도를, 상기 중앙부의 온도보다 낮게 하는 공정에 있어서의 상기 양단부 및 상기 중앙부의 온도보다 저온으로 하고, 또한 상기 중앙부의 폭 방향의 중심으로부터 상기 양단부를 향해 상기 시트 글래스의 폭 방향으로 온도 구배를 형성하는 공정을 갖는, 형태 1 또는 2에 기재된 글래스 기판의 제조 방법.The temperature of the both end portions and the central portion is lower than the temperature of the both end portions and the central portion in the step of making the temperature lower than the temperature of the central portion and the width of the sheet glass from the center in the width direction of the central portion toward the both end portions And forming a temperature gradient in the direction of the surface of the glass substrate.
[형태 4][Mode 4]
상기 글래스 기판의 액상 점도는, 104.3dPa·초∼106.7dPa·초인, 형태 1∼3 중 어느 한 항에 기재된 글래스 기판의 제조 방법.Wherein the glass substrate has a liquidus viscosity of 10 4.3 dPa · sec to 10 6.7 dPa · sec.
[형태 5][Mode 5]
상기 글래스 기판의 변형점은, 670℃ 이상인, 형태 1∼4 중 어느 한 항에 기재된 글래스 기판의 제조 방법.Wherein the glass substrate has a strain point of 670 캜 or higher.
[형태 6][Mode 6]
노벽으로 둘러싸인 성형로실과,A molding furnace surrounded by a furnace wall,
상기 성형로실을 상부 공간과 하부 공간으로 구획하고, 상기 시트 글래스가 통과하는 슬릿 형상의 간극을 형성하는 단열 부재와,A heat insulating member dividing the molding furnace chamber into an upper space and a lower space and forming a slit-shaped gap through which the sheet glass passes;
상기 성형로실의 상기 상부 공간에 설치되고, 용융 글래스를 오버 플로우시켜 시트 글래스를 성형하는 성형체와,A molded body provided in the upper space of the molding furnace for overflowing the molten glass to form a sheet glass,
상기 하부 공간에 있어서 상기 시트 글래스의 양단부를 냉각하는 냉각 부재를 갖고,And a cooling member for cooling both ends of the sheet glass in the lower space,
상기 단열 부재는,The heat insulating member
(1) 상기 시트 글래스의 성형하는 공정에 있어서, 상기 용융 글래스가 상기 성형체를 통과할 때의 상기 용융 글래스의 온도가 액상 온도 이상이고, 또한 상기 용융 글래스가 상기 성형체의 최하단부를 통과할 때의 상기 용융 글래스의 양단부의 점도가 104.3∼106dPa·초로 되고, 또한,(1) In the step of forming the sheet glass, the temperature of the molten glass when the molten glass passes through the formed body is not lower than the liquidus temperature, and when the molten glass passes through the lowermost end of the formed body, The viscosity of both ends of the molten glass is 10 4.3 to 10 6 dPa · sec,
(2) 상기 시트 글래스를 냉각하는 공정에 있어서, 상기 시트 글래스의 중앙부의 온도가 연화점보다 높은 온도로부터 서랭점 근방으로 될 때까지의 온도 영역에 있을 때, 상기 시트 글래스의 양단부의 점도가 109.0∼1014.5dPa·초로 되도록, 단열성을 갖는 재료가 사용되는, 글래스 기판 제조 장치.(2) In the step of cooling the sheet glass, when the temperature of the central portion of the sheet glass is in the temperature range from the temperature higher than the softening point to the vicinity of the stand-off point, the viscosity of both ends of the sheet glass is 10 9.0 To 10 14.5 dPa · sec, wherein a material having a heat insulating property is used.
상기 글래스 기판에는, 하기하는 특성을 갖는 글래스를 사용할 수 있다.As the glass substrate, a glass having the following characteristics can be used.
[형태 7][Mode 7]
상기 글래스 기판의 글래스의 액상 점도는, 104.3dPa·초∼106.7dPa·초인, 형태 1∼6 중 어느 한 항에 기재된 글래스 기판의 제조 방법 또는 글래스 기판 제조 장치.And the liquid phase viscosity of the glass of the glass substrate is 10 4.3 dPa · sec to 10 6.7 dPa · sec. The method of manufacturing a glass substrate or the glass substrate manufacturing apparatus according to any one of the
[형태 8][Mode 8]
상기 글래스 기판은, 지르코니아를 함유하는, 형태 1∼7 중 어느 한 항에 기재된 글래스 기판의 제조 방법 또는 글래스 기판 제조 장치.The glass substrate manufacturing method or the glass substrate manufacturing apparatus according to any one of the first to seventh aspects, wherein the glass substrate contains zirconia.
[형태 9][Mode 9]
상기 글래스 기판은, 산화주석을 함유하는, 형태 1∼8 중 어느 한 항에 기재된 글래스 기판의 제조 방법 또는 글래스 기판 제조 장치.The method of manufacturing a glass substrate according to any one of the first to eighth aspects, wherein the glass substrate contains tin oxide, or a glass substrate manufacturing apparatus.
[형태 10][Mode 10]
형태 1∼9 중 어느 한 항에 기재된 형태에 있어서, 상기 글래스 기판은, 실질적으로 알칼리 금속 산화물을 함유하지 않는 무알칼리 글래스로 구성되는, 글래스 기판의 제조 방법 또는 글래스 기판 제조 장치.The method according to any one of the first to ninth aspects, wherein the glass substrate is composed of an alkali-free glass substantially not containing an alkali metal oxide.
[형태 11][Mode 11]
또한, 형태 1∼9 중 어느 한 항에 기재된 형태에 있어서, 상기 글래스 기판은, 알칼리 금속 산화물을 0.05∼2.0질량% 포함하는 알칼리 미량 함유 글래스로 구성되는, 글래스 기판의 제조 방법 또는 글래스 기판 제조 장치.In the form described in any one of the first to ninth aspects, the glass substrate is preferably a glass substrate manufacturing method or a glass substrate manufacturing apparatus, which is made of an alkali-small-content glass containing 0.05 to 2.0% by mass of an alkali metal oxide .
[형태 12][Mode 12]
상기 용융 글래스는, 고 지르코니아계 내화물을 포함하여 구성되는 용해조에서 글래스 원료를 전기 용융함으로써 생성되는, 형태 1∼11 중 어느 한 항에 기재된 글래스 기판의 제조 방법 또는 글래스 기판 제조 장치.The method of manufacturing a glass substrate according to any one of the first to eleventh aspects, wherein the molten glass is produced by electrospinning a glass raw material in a melting tank including a high-zirconia refractory material.
상기 형태의 글래스 기판의 제조 방법 및 글래스 기판 제조 장치에 의하면, 성형체를 사용하여 성형한 글래스 시트의 폭이 성형체로부터 이격되었을 때에 수축하는 것을 억제할 수 있어, 목표로 하는 시트 글래스의 폭을 확보할 수 있다.According to the method of manufacturing a glass substrate and the apparatus for manufacturing a glass substrate of the above-described form, it is possible to suppress contraction when the width of the glass sheet formed by using the formed body is separated from the molded body, .
도 1은 본 실시 형태의 글래스 기판의 제조 방법의 흐름의 일례를 나타내는 도면이다.
도 2는 본 실시 형태의 글래스 기판의 제조 방법을 실시하는 글래스 기판 제조 장치의 일례의 개략 구성도이다.
도 3은 본 실시 형태의 글래스 기판의 제조 방법에서 사용하는 성형 장치의 일례의 개략 구성도(단면도)이다.
도 4는 도 3에 도시하는 성형 장치의 개략 구성도(측면도)이다.
도 5는 본 실시 형태의 글래스 기판의 제조 방법에서 사용하는 제어 장치 및 제어 장치에 접속되는 각 기구의 일례를 도시하는 도면이다.
도 6은 본 실시 형태의 글래스 기판의 제조 방법에서 행해지는 복수의 온도 프로파일에 기초하여 온도 제어에 의해 얻어지는 분위기 온도를 나타내는 도면이다.1 is a view showing an example of a flow of a manufacturing method of a glass substrate according to the present embodiment.
Fig. 2 is a schematic configuration diagram of an example of a glass substrate manufacturing apparatus for carrying out the manufacturing method of the glass substrate of the present embodiment.
3 is a schematic structural view (cross-sectional view) of an example of a molding apparatus used in the method of manufacturing a glass substrate according to the present embodiment.
Fig. 4 is a schematic structural view (side view) of the molding apparatus shown in Fig.
Fig. 5 is a diagram showing an example of each mechanism connected to a control device and a control device used in the method of manufacturing a glass substrate according to the present embodiment.
6 is a diagram showing the atmospheric temperature obtained by temperature control based on a plurality of temperature profiles performed in the method of manufacturing a glass substrate according to the present embodiment.
(정의)(Justice)
본 명세서에 있어서의 하기 어구는, 이하와 같이 정한다.The following phrases in this specification are defined as follows.
시트 글래스의 단부라 함은, 시트 글래스의 폭 방향의 가장자리로부터 150㎜ 이내의 범위를 말한다.The end of the sheet glass refers to a range within 150 mm from the edge in the width direction of the sheet glass.
시트 글래스의 중앙부라 함은, 시트 글래스의 단부를 제외한 부분을 말한다.The central portion of the sheet glass refers to the portion excluding the end portion of the sheet glass.
변형점이라 함은, 글래스 점도가 1014.5dPa·초로 될 때의 글래스의 온도를 말한다.The strain point refers to the temperature of the glass when the glass viscosity is 10 14.5 dPa · sec.
서랭점이라 함은, 글래스 점도가 1013dPa·초로 될 때의 글래스의 온도를 말한다.The standing point refers to the temperature of the glass when the glass viscosity is 10 13 dPa · sec.
서랭점의 근방의 온도 영역이라 함은, 글래스 서랭점에 100℃를 더한 온도(글래스 서랭점+100℃)와, 글래스 변형점과 글래스 서랭점을 더하여 2로 나눈 온도[(글래스 변형점+글래스 서랭점)/2]와의 사이의 영역을 말한다.The temperature region in the vicinity of the standing point means a temperature (glass standpoint + glass surface temperature + glass temperature) obtained by adding 100 占 폚 to the glass standpoint plus glass standpoint + 100 占 폚, Quot;) / 2]. ≪ / RTI >
연화점이라 함은, 글래스 점도가 107.6dPa·초로 될 때의 글래스의 온도를 말한다.The softening point refers to the temperature of the glass when the glass viscosity is 10 7.6 dPa · sec.
(전체 구성)(Total configuration)
본 실시 형태에 따른 글래스 기판의 제조 방법은, 액정 텔레비전, 플라즈마 텔레비전 및 노트북 컴퓨터 등의 플랫 패널 디스플레이용의 글래스 기판을 제조한다. 글래스 기판은, 다운드로법을 사용하여 제조된다.The method of manufacturing a glass substrate according to the present embodiment produces a glass substrate for a flat panel display such as a liquid crystal television, a plasma television, and a notebook computer. The glass substrate is manufactured using the down-draw method.
도 1 및 도 2를 참조하여, 글래스 기판이 제조될 때까지의 복수의 공정(글래스 기판의 제조 방법) 및 복수의 공정에 사용되는 글래스 기판의 제조 장치(100)를 설명한다.A plurality of steps (a method of manufacturing a glass substrate) up to the production of a glass substrate and a
복수의 공정에는, 용해 공정 S1, 청징(淸澄) 공정 S2, 성형 공정 S3, 냉각 공정 S4 및 절단 공정 S5가 포함된다.The plurality of processes includes a melting step S1, a clarifying step S2, a molding step S3, a cooling step S4, and a cutting step S5.
용해 공정 S1은, 글래스의 원료가 용해되는 공정이다. 글래스의 원료는, 도 2에 도시한 바와 같이, 상류에 배치된 용해 장치(11)에 투입된다. 글래스의 원료는, 용해 장치(11)의 용해조에서 용해되어, 용융 글래스(FG)로 된다. 용융 글래스(FG)는, 상류 파이프(23)를 통하여 청징 장치(12)에 보내진다.The dissolving step S1 is a step of dissolving the glass raw material. As shown in Fig. 2, the raw material of the glass is put into the
청징 공정 S2는, 용융 글래스(FG) 중의 기포의 제거를 행하는 공정이다. 청징 장치(12) 내에서 기포가 제거된 용융 글래스(FG)는, 그 후, 하류 파이프(24)를 통하여, 성형 장치(40)에 보내진다.The firing step S2 is a step of removing bubbles in the molten glass FG. The molten glass FG in which the bubbles are removed in the
성형 공정 S3은, 용융 글래스(FG)를 시트 형상의 글래스(시트 글래스)(SG)로 성형하는 공정이다. 구체적으로, 용융 글래스(FG)는, 성형 장치(40)에 포함되는 성형체(41)에 보내진 후, 성형체(41)로부터 오버 플로우한다. 오버 플로우한 용융 글래스(FG)는, 성형체(41)의 표면을 따라 유하한다. 용융 글래스(FG)는, 그 후, 성형체(41)의 최하단부에서 합류하여 시트 글래스(SG)로 된다. 이때, 시트 글래스(SG)는, 구획 부재(단열 부재)(50)에 의해 만들어지는 슬릿 형상의 간극을 통과하고, 성형로실의 상부 공간으로부터 하방 공간으로 이동한다. 구획 부재(단열 부재)(50)는, 성형체(41)(도 3 참조)를 갖는 성형로실을 상부 공간과 하부 공간으로 구획한다.The molding step S3 is a step of molding the molten glass (FG) into a sheet-shaped glass (sheet glass) SG. Specifically, the molten glass FG overflows from the molded
냉각 공정 S4는, 시트 글래스(SG)를 서랭하는 공정이다. 글래스 시트는, 냉각 공정 S4를 거쳐 실온에 가까운 온도로 냉각된다. 또한, 성형 공정 S1 및 냉각 공정 S4에 있어서의, 냉각의 상태에 따라, 글래스 기판의 두께(판 두께), 글래스 기판의 휨량 및 글래스 기판의 변형량이 정해진다.The cooling step S4 is a step of cooling the sheet glass SG. The glass sheet is cooled to a temperature close to room temperature through a cooling step S4. Further, the thickness (plate thickness) of the glass substrate, the deflection amount of the glass substrate, and the amount of deformation of the glass substrate are determined according to the state of cooling in the molding step S1 and the cooling step S4.
절단 공정 S5는, 실온에 가까운 온도로 된 시트 글래스(SG)를, 소정의 크기로 절단하는 공정이다.The cutting step S5 is a step of cutting a sheet glass (SG) having a temperature close to room temperature to a predetermined size.
또한, 소정의 크기로 절단된 시트 글래스(SG)(글래스편)는 그 후, 단면 가공 등의 공정을 거쳐, 글래스 기판으로 된다.Further, the sheet glass SG (glass piece) cut to a predetermined size is then subjected to a process such as end-face machining to be a glass substrate.
이후에서 설명하는 실시 형태에서는, 시트 글래스(SG)에 있어서의 글래스의 변형점이 640℃ 이상인 글래스가 사용된다.In the embodiment described later, a glass having a strain point of the glass in the sheet glass SG of 640 캜 or more is used.
이하, 도 3 및 도 4를 참조하여, 성형 장치(40)의 구성을 설명한다. 또한, 본 실시 형태에 있어서, 시트 글래스(SG)의 폭 방향이라 함은, 시트 글래스(SG)가 유하하는 방향(유하 방향)에 교차하는 방향, 즉 수평 방향을 의미한다.Hereinafter, the configuration of the
(성형 장치의 구성)(Configuration of molding apparatus)
우선, 도 3 및 도 4는 성형 장치(40)의 개략 구성을 도시한다. 도 3은 성형 장치(40)의 단면도이다. 도 4는 성형 장치(40)의 측면도이다. 성형 장치(40)는 주로, 성형체(41)와, 구획 부재(50)와, 냉각 롤러(51)와, 냉각 유닛(60)과, 인하 롤러(81)와, 절단 장치(90)로 구성되어 있다. 또한, 성형 장치(40)는 제어 장치(91)를 구비한다(도 5 참조). 제어 장치(91)는 성형 장치(40)에 포함되는 각 구성의 구동부를 제어한다.3 and 4 show a schematic configuration of the
이하, 성형 장치(40)에 포함되는 각 구성에 대해 설명한다.Hereinafter, each configuration included in the
(성형체)(Molded article)
성형체(41)는 용융 글래스(FG)를 오버 플로우시킴으로써 용융 글래스(FG)를 시트 형상의 글래스[시트 글래스(SG)]로 성형한다.The formed
도 3에 도시한 바와 같이, 성형체(41)는 단면 형상으로 대략 5각형의 형상(쐐기형과 유사한 형상)을 갖는다. 대략 5각형의 선단은, 성형체(41)의 최하단부(41a)에 상당한다.As shown in Fig. 3, the formed
성형체(41)에 유입된 용융 글래스(FG)는, 성형체(41)의 한 쌍의 정상부(41b)로부터 오버 플로우하고, 성형체(41)의 한 쌍의 측면(표면)(41c)을 따르면서 유하한다. 그 후, 용융 글래스(FG)는, 성형체(41)의 최하단부(41a)에서 합류하여 시트 글래스(SG)로 된다. 또한, 용융 글래스가 성형체(41)의 최하단부(41a)를 통과할 때의 용융 글래스의 양단부의 점도는 104.3∼106dPa·초이며, 104.4∼105.4dPa·초인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 104.6∼105.2dPa·초이다.The molten glass FG flowing into the
(구획 부재)(Partition member)
구획 부재(50)는 용융 글래스(FG)의 합류 포인트의 근방에 배치되어 있다. 또한, 도 3에 도시한 바와 같이, 구획 부재(50)는 합류 포인트에서 합류된 용융 글래스(FG)[시트 글래스(SG)]의 두께 방향의 양측에 배치된다. 구획 부재(50)는 단열 부재이다. 구획 부재(50)는 구획 부재(50)의 상방에 위치하는 성형로실의 상부 공간과 하방에 위치하는 성형로실의 하부 공간으로 구획함으로써, 즉, 용융 글래스(FG)의 합류 포인트의 상측 분위기 및 하측 분위기를 구획함으로써, 구획 부재(50)의 상측으로부터 하측으로의 열의 이동을 차단한다. 시트 글래스(SG)는, 시트 글래스(SG)의 두께 방향의 양측에 위치하는 한 쌍의 구획 부재(단열 부재)(50)에 의해 만들어지는 슬릿 형상의 간극을 통과하여, 하부 공간으로 이동한다.The
(냉각 롤러)(Cooling roller)
냉각 롤러(51)는 성형로실의 하부 공간에 설치되고, 시트 글래스(SG)의 폭 방향의 양단부를 열처리하는 유닛이다. 또한, 쌍을 이룬 냉각 롤러(51)는 시트 글래스(SG)의 두께 방향의 양측, 또한, 시트 글래스(SG)의 폭 방향의 양단부에 배치된다. 즉, 냉각 롤러(51)는 성형체(41)로부터 이격된 시트 글래스(SG)의 폭 방향의 양단부를, 끼워 넣음으로써 열전도에 의해 냉각한다(급냉 공정). 냉각 롤러(51)는, 예를 들어 내부에 통과된 공냉관에 의해 공냉되어 있어도 된다.The cooling
냉각 롤러(51)는 시트 글래스(SG)의 양단부의 점도가, 109.0∼1014.5dPa·초로 되도록 시트 글래스(SG)의 양단부를 급냉한다. 또한, 냉각 롤러(51)에 의한 시트 글래스(SG)의 양단부의 냉각에 의해, 시트 글래스(SG)의 폭 방향의 수축을 저감시킬 수 있어, 시트 글래스(SG)의 두께를 균일화할 수 있다. 또한, 시트 글래스(SG)의 평탄도를 유지할 수 있다.The cooling
(냉각 유닛)(Cooling unit)
냉각 유닛(60)은 성형로실의 하부 공간에 설치되고, 시트 글래스(SG)의 열처리를 행하는 유닛이다. 구체적으로, 냉각 유닛(60)은 시트 글래스(SG)를 서랭점 근방의 온도 영역까지 냉각하는 유닛이다. 냉각 유닛(60)은 구획 부재(50)의 하방이며, 서랭로(80)의 천장판(80a) 상에 배치된다. 냉각 유닛(60)은 시트 글래스(SG)의 상류 영역을 냉각한다(상류 영역 냉각 공정). 시트 글래스(SG)의 상류 영역이라 함은, 시트 글래스(SG)의 중앙부의 온도가 서랭점보다 높은 시트 글래스(SG)의 영역이다. 시트 글래스(SG)의 중앙부는, 시트 글래스(SG)의 양단부 사이에 있는 부분이다. 상류 영역에는, 구체적으로, 제1 온도 영역과 제2 온도 영역이 포함된다. 제1 온도 영역은, 성형체(41)의 최하단부(41a)의 바로 아래로부터, 시트 글래스(SG)의 중앙부의 온도가 연화점 근방(연화점±15℃의 범위)으로 될 때까지의 시트 글래스(SG)의 영역이다. 또한, 제2 온도 영역이라 함은, 시트 글래스(SG)의 중앙부의 온도가 연화점 근방으로부터 서랭점 근방으로 될 때까지의 온도 영역이다. 즉, 냉각 유닛(60)은 시트 글래스(SG)의 중앙부의 온도가 서랭점에 근접하도록, 시트 글래스(SG)를 냉각한다. 시트 글래스(SG)의 중앙부는, 그 후, 후술하는 서랭로(80) 내에서, 변형점을 거쳐, 실온 근방의 온도까지 냉각된다[하류 영역 냉각 공정(서랭 공정)].The cooling
냉각 유닛(60)은 시트 글래스(SG)의 두께 및 휨량이 원하는 값으로 되도록, 시트 글래스(SG)를 복수의 온도 프로파일에 기초하여 냉각한다. 즉, 상류 영역에 있어서, 시트 글래스(SG)의 유하 방향을 따라, 복수의 온도 프로파일이 설정된다. 여기서, 온도 프로파일이라 함은, 시트 글래스(SG)의 폭 방향을 따른 온도 분포이다. 바꾸어 말하면, 온도 프로파일은, 목표로 되는 분위기 온도의 분포이다. 상술한 냉각 롤러(51) 및 냉각 유닛(60)은 온도 프로파일을 실현시키도록 분위기 온도를 제어한다.The cooling
냉각 유닛(60)은 복수의 냉각용의 유닛을 포함한다. 시트 글래스(SG)의 온도 분포는, 복수의 유닛이 독립하여 제어됨으로써 복수의 온도 프로파일을 실현한다. 예를 들어, 냉각 유닛(60)은 중앙부 냉각 유닛(61)과, 2개의 단부 냉각 유닛(71, 71)을 포함한다. 도 4에 도시한 바와 같이, 중앙부 냉각 유닛(61)은 성형 장치(40)의 폭 방향 중앙에 배치되고, 시트 글래스(SG)의 중앙부를 냉각한다(중앙부 냉각 공정). 중앙부 냉각 유닛(61)은 시트 글래스(SG)의 두께 방향의 양측에 배치되어 있다. 단부 냉각 유닛(71)은 중앙부 냉각 유닛(61)에 인접하는 위치에 각각 배치된다. 즉, 단부 냉각 유닛(71)은 시트 글래스(SG)의 두께 방향의 양측에서, 시트 글래스(SG)를 사이에 두고 대향하도록 배치되고, 시트 글래스(SG)의 양단부 및 양단부 주변을 냉각한다(단부 냉각 공정). 또한, 중앙부 냉각 유닛(61) 및 단부 냉각 유닛(71)은 시트 글래스(SG)에 근접한 위치에 각각 배치된다.The cooling
(중앙부 냉각 유닛)(Central cooling unit)
중앙부 냉각 유닛(61)은 시트 글래스(SG)의 중앙부를, 시트 글래스(SG)의 유하 방향을 따라 단계적으로 냉각한다(중앙부 냉각 공정). 중앙부 냉각 유닛(61)은 중앙 상부 냉각 유닛(62)과, 중앙 하부 냉각 유닛(63a, 63b)으로 구성되어 있다. 중앙 상부 냉각 유닛(62) 및 2개의 중앙 하부 냉각 유닛(63a, 63b)은, 시트 글래스(SG)의 유하 방향을 따라 배치된다. 중앙 상부 냉각 유닛(62) 및 각 중앙 하부 냉각 유닛(63a, 63b)의 온도는, 각각 독립하여 조정된다.The
(중앙 상부 냉각 유닛)(Center upper cooling unit)
중앙 상부 냉각 유닛(62)은 상술한 구획 부재(50)의 바로 아래에 위치한다. 중앙 상부 냉각 유닛(62)은 시트 글래스(SG)의 두께를 결정짓는 영역의 온도 프로파일을 실현하기 위한 유닛이다. 시트 글래스(SG)의 두께를 결정짓는 영역은, 상술한 제1 온도 영역에 상당한다. 중앙 상부 냉각 유닛(62)은 시트 글래스(SG)의 두께를 폭 방향으로 균일하게 하도록 제어된다(제1 중앙부 냉각 공정).The center
중앙 하부 냉각 유닛(63a, 63b)은, 상술한 바와 같이, 중앙 상부 냉각 유닛(62)의 하방에 배치된다. 중앙 하부 냉각 유닛(63a, 63b)은, 시트 글래스(SG)의 휨량의 제어를 개시하는 영역의 온도 프로파일을 실현하기 위한 유닛이다. 여기서, 시트 글래스(SG)의 휨량의 제어를 개시하는 영역은, 상술한 제2 온도 영역에 상당한다.The center
중앙 하부 냉각 유닛(63a)은 제2 온도 영역의 상류측에서, 시트 글래스(SG)의 온도 제어를 행한다(제2 중앙부 냉각 공정). 중앙 하부 냉각 유닛(63b)은 제2 온도 영역의 하류측에서, 시트 글래스(SG)의 온도 제어를 행한다(제3 중앙부 냉각 공정). 중앙 하부 냉각 유닛(63a)과 중앙 하부 냉각 유닛(63b)은 동일한 구성을 갖도록 하는 것이 바람직하다.The central
(단부 냉각 유닛)(End cooling unit)
단부 냉각 유닛(71)은 냉각 롤러(51)에 의해 급냉된 시트 글래스(SG)의 양단부를, 시트 글래스(SG)의 유하 방향을 따라 연속적으로, 또는 단계적으로 냉각한다(단부 냉각 공정). 단부 냉각 유닛(71)은 냉각 롤러(51)보다도 낮은 냉각능으로 동작한다. 바꾸어 말하면, 냉각 롤러(51)에 의해 시트 글래스(SG)의 측부로부터 빼앗기는 열량과 비교하여, 단부 냉각 유닛(71)에 의해 시트 글래스(SG)의 단부로부터 빼앗기는 열량은 적다. 단부 냉각 유닛(71)은 상술한 바와 같이, 중앙부 냉각 유닛(61)의 양측에 각각 배치된다(도 4 참조). 단부 냉각 유닛(71)은 시트 글래스(SG)의 표면에 근접하여 배치된다. 단부 냉각 유닛(71)은 시트 글래스(SG)의 양단부의 점도를 109.0∼1014.5dPa·초의 범위 내로 유지하도록, 시트 글래스(SG)의 양단부를 냉각한다. 또한, 단부 냉각 유닛(71)은 바람직하게는 시트 글래스(SG)의 양단부의 점도를 1010.5∼1014.5dPa·초의 범위 내로 유지하도록, 시트 글래스의 양단부를 냉각한다.The
단부 냉각 유닛(71)에서의 냉각량이 적으면, 시트 글래스(SG)의 양단부의 온도가 다시 상승하여, 시트 글래스(SG)가 폭 방향으로 수축해 버린다.When the amount of cooling in the
단부 냉각 유닛(71)은 도 4에 도시한 바와 같이, 예를 들어 단(端)상부 냉각 유닛(72)과, 단하부 냉각 유닛(73)으로 구성되어 있다. 단상부 냉각 유닛(72) 및 단하부 냉각 유닛(73)은 시트 글래스(SG)의 유하(流下) 방향을 따라 배치된다. 또한, 단상부 냉각 유닛(72) 및 단하부 냉각 유닛(73)의 온도는, 각각 독립하여 조정된다.The
단상부 냉각 유닛(72)은 시트 글래스(SG)의 두께 및/또는 휨량의 조정에 영향을 미치는 영역의 온도 프로파일을 실현하기 위한 유닛이다(제1 단부 냉각 공정). 단상부 냉각 유닛(72)은 도 4에 도시한 바와 같이, 상술한 냉각 롤러(51)의 바로 아래에 위치한다. 시트 글래스(SG)는, 단상부 냉각 유닛(72)의, 주로 복사열 전달에 의해, 소정의 냉각 속도로 냉각된다. 여기서, 소정의 냉각 속도라 함은, 냉각 롤러(51)를 통과한 글래스(SG)의 판 폭의 수축이 억제되고, 또한, 단하부 냉각 유닛(73) 이후의 냉각 과정에서 시트 글래스(SG)에 크랙이 발생하지 않는 냉각 속도이다. 즉, 단상부 냉각 유닛(72)은 시트 글래스(SG)에 악영향을 미치지 않는 범위에서 글래스(SG)를 최대한 냉각한다.The single-phase
(인하 롤러)(Reduction roller)
인하 롤러(81)는 서랭로(80)의 내부에 배치된다. 서랭로(80)는 냉각 유닛(60)의 바로 아래에 배치되는 공간이다. 서랭로(80)에서는, 시트 글래스(SG)의 온도가, 서랭점 근방의 온도로부터 실온 근방의 온도까지 냉각된다[하류 영역 냉각 공정(서랭 공정)].The lowering roller (81) is disposed inside the throat (80). The
(절단 장치)(Cutting device)
절단 장치(90)는 서랭로(80)를 통과하여 실온 근방의 온도까지 냉각된 시트 글래스(SG)를, 소정의 크기로 절단한다.The cutting
(제어 장치)(controller)
제어 장치(91)는, 예를 들어 냉각 롤러(51), 중앙 상부 냉각 유닛(62), 단상부 냉각 유닛(72), 단하부 냉각 유닛(73) 및 중앙 하부 냉각 유닛(63a, 63b)의 온도를 제어한다. 이 온도의 제어에 의해, 이하에서 설명한 바와 같이, 시트 글래스(SG)의 온도 분포가 소정의 온도 프로파일에 일치시킬 수 있다.The
(온도 프로파일)(Temperature profile)
이어서, 도 6을 참조하여, 본 실시 형태에 따른 글래스 기판의 제조 방법에서 사용하는 온도 프로파일과, 그 온도 프로파일을 실현하는 냉각용의 각 유닛의 제어에 대해 설명한다.Next, with reference to Fig. 6, the temperature profile used in the manufacturing method of the glass substrate according to the present embodiment and the control of each unit for cooling to realize the temperature profile will be described.
도 6 중, 파선으로 구분된 영역은, 냉각 롤러(51) 및 냉각 유닛에 포함되는 각 유닛(62, 63a, 63b, 72, 73)의 배치를 나타낸다. 또한, 파선으로 구분된 영역에 포함되는 곡선(10b, 10c, 10e, 10f) 및 직선(10a, 10d)은, 냉각 롤러(51) 또는 각 유닛(62, 63a, 63b, 72, 73)에 의해 실현되는 온도 프로파일(20a, 20b, 20c)에 포함되는 서브 프로파일이다.6, the broken-line regions indicate the arrangement of the
본 실시 형태에서는, 상술한 바와 같이, 시트 글래스(SG)의 유하 방향에 있어서, 복수의 온도 프로파일에 기초한 분위기 온도의 제어를 제어 장치(91)가 독립하여 행하고 있다. 시트 글래스(SG)의 온도가 소정의 온도 영역에 있을 때, 시트 글래스(SG)의 폭 방향을 따라 시트 글래스(SG)의 측부를 향하여 장력이 가해지도록, 시트 글래스(SG)는 냉각된다. 소정의 온도 영역이라 함은, 시트 글래스(SG)가 성형체(41)로부터 이격된 후, 시트 글래스(SG)의 온도가 연화점보다 높은 온도로부터 서랭점 근방으로 될 때까지의 온도 영역이다. 즉, 소정의 온도 영역이라 함은, 상술한, 시트 글래스(SG)의 상류 영역이다.In the present embodiment, as described above, the
성형체(41)를 이격한 후의 시트 글래스(SG)는, 105.7∼107.5dPa·초의 점도를 갖는다. 시트 글래스(SG)는, 냉각 롤러(51) 및 냉각 유닛(60)에 의해 냉각됨으로써, 점도가 높아진다. 즉, 시트 글래스(SG)의 점도(중앙부 및 양단부의 점도)는 시트 글래스(SG)의 유하 방향을 따라 높아진다. 바꾸어 말하면, 시트 글래스(SG)의 점도는, 시트 글래스(SG)의 하류측일수록 높아진다. 본 실시 형태에서는, 상류 영역에 있어서, 냉각 롤러(51) 및 단부 냉각 유닛(71)에 의해, 시트 글래스(SG)의 양단부가 냉각된다. 구체적으로는, 시트 글래스(SG)의 양단부는, 점도가 109.0∼1014.5dPa·초의 범위 내로 유지되도록 냉각된다. 보다 구체적으로는, 냉각 롤러(51)는 시트 글래스(SG)의 측부의 점도가, 109.0∼1010.5dPa·초의 범위 내로 되도록 시트 글래스의 양단부를 급냉하고, 단부 냉각 유닛(71)은 냉각 롤러(51)에 의해 급냉된 시트 글래스(SG)의 양단부의 점도가, 1010.5∼1014.5dPa·초의 범위 내로 되도록, 시트 글래스의 양단부를 냉각한다.The sheet glass SG after the
본 실시 형태의 시트 글래스(SG)의 온도의 제어에서는, 복수의 온도 프로파일이, 시트 글래스(SG)의 폭 방향 및 시트 글래스(SG)의 유하 방향으로, 각각 설정된다(온도 프로파일 설정 공정). 구체적으로, 복수의 온도 프로파일에는, 도 6에 나타내는 바와 같이, 제1 온도 프로파일(20a)과, 제2 온도 프로파일(20b)과, 제3 온도 프로파일(20c)이 포함된다. 제1 온도 프로파일(20a)은 제2 온도 프로파일(20b)보다도, 유하 방향에 있어서 고온측에 위치한다. 또한, 제2 온도 프로파일(20b)은 제3 온도 프로파일(20c)보다도, 유하 방향에 있어서 고온측에 위치한다.In the temperature control of the sheet glass SG according to the present embodiment, a plurality of temperature profiles are respectively set in the width direction of the sheet glass SG and the downward direction of the sheet glass SG (temperature profile setting step). Specifically, the plurality of temperature profiles includes a
제1 온도 프로파일(20a)은 시트 글래스(SG)의 폭 방향의 중앙부에 있어서의 폭 방향의 온도 분포가 균일하고, 또한, 시트 글래스(SG)의 폭 방향 양단부(양측부)의 온도가 시트 글래스(SG)의 중앙부의 온도보다 낮다. 여기서, 폭 방향의 온도 분포가 균일하다고 하는 것은, 폭 방향의 온도 분포가, 소정의 기준값(온도)에 대해 ±0℃∼10℃의 범위의 값인 것을 의미한다. 즉, 제1 온도 프로파일(20a)에 기초하여, 시트 글래스(SG)의 양단부는 급냉되고, 시트 글래스(SG)의 중앙부의 온도는, 시트 글래스(SG)의 양단부의 온도보다도 높은 온도에서, 또한, 폭 방향으로 균일한 온도로 되도록 제어된다(판 두께 균일화 공정). 또한, 제1 온도 프로파일(20a)은 시트 글래스(SG)의 중앙부의 온도(평균 온도)와 시트 글래스(SG)의 양단부의 온도가 제1 온도차(X)로 되도록 설정되어 있다. 판 두께 균일화 공정에 있어서, 시트 글래스(SG)의 중앙부에 있어서의 폭 방향의 온도 분포를 균일하게 하고, 또한, 시트 글래스(SG)의 양단부의 온도를, 중앙부의 온도보다 낮게 한다. 이에 의해, 시트 글래스(SG)의 양단부는 폭 방향의 수축이 억제되도록 냉각되고, 시트 글래스(SG)의 중앙부는 판 두께가 균일해지도록 냉각되므로, 시트 글래스(SG)의 판 두께 편차는 작아진다.The
제2 온도 프로파일(20b) 및 제3 온도 프로파일(20c)은 제1 온도 프로파일(20a)보다 저온이다. 또한, 제2 온도 프로파일(20b) 및 제3 온도 프로파일(20c)은 시트 글래스(SG)의 중앙부에 있어서 폭 방향으로 온도 구배를 갖는다. 구체적으로는, 제2 온도 프로파일(20b) 및 제3 온도 프로파일(20c)은 시트 글래스(SG)의 폭 방향의 중심에 있어서의 온도가 가장 높고, 시트 글래스(SG)의 양단부의 온도가 가장 낮다. 보다 구체적으로는, 제2 온도 프로파일(20b) 및 제3 온도 프로파일(20c)은 시트 글래스(SG)의 폭 방향의 중심으로부터 시트 글래스(SG)의 양단부를 향함에 따라서 온도가 서서히 낮아진다. 즉, 제2 온도 프로파일(20b) 및 제3 온도 프로파일(20c)에 기초하여, 시트 글래스(SG)의 폭 방향의 온도 분포는, 산형(위로 볼록부를 갖는 곡선)으로 되도록 제어된다(휨 저감 공정). 즉, 휨 저감 공정은, 온도 구배(위로 볼록부를 갖는 곡선)를 유지하면서 시트 글래스(SG)를 냉각한다. 바꾸어 말하면, 휨 저감 공정은, 온도 분포가, 위로 볼록부를 갖는 곡선의 형상을 연속해서 유지하도록, 시트 글래스(SG)를 냉각한다.The
또한, 제2 온도 프로파일(20b)에 기초한 온도의 제어는, 시트 글래스(SG)의 유하 방향에 대해 제2 온도 영역의 상류측에서 실행된다. 또한, 제3 온도 프로파일(20c)에 기초한 제어는, 시트 글래스(SG)의 유하 방향에 대해 제2 온도 영역의 하류측에서 실행된다. 여기서, 제3 온도 프로파일(20c)은 제2 온도 프로파일(20b)보다도 구배가 커지도록 설정되는 것이 바람직하다. 구체적으로, 제2 온도 프로파일(20b)은 시트 글래스(SG)의 중심의 온도와 시트 글래스(SG)의 단부의 온도가 제2 온도차(Y1)로 되도록 설정되어 있다. 또한, 제3 온도 프로파일(20c)은 시트 글래스(SG)의 중심부의 온도와 시트 글래스(SG)의 단부의 온도가 제3 온도차(Y2)로 되도록 설정되어 있다. 제3 온도차(Y2)는, 제2 온도차(Y1)보다 크다. 또한, 제2 온도차(Y1)는, 제1 온도차(X)보다 크다. 즉, 온도 프로파일(20a∼20c)은 시트 글래스(SG)의 유하 방향을 따라, 중앙부와 단부와의 온도차 또는 중앙부와 단부와의 온도차가 커지고 있다(X<Y1<Y2).Further, the control of the temperature based on the
또한, 휨 저감 공정은, 제3 온도 프로파일(20c)보다 저온의 온도 영역에 있어서, 시트 글래스(SG)의 온도가 변형점 근방을 향함에 따라서, 시트 글래스(SG)의 폭 방향의 온도 구배가 저감하도록, 시트 글래스(SG)는 냉각된다.The warp reducing process is a process in which the temperature gradient in the width direction of the sheet glass SG becomes smaller as the temperature of the sheet glass SG becomes closer to the point of deformation in the temperature region lower than the
이하, 각 유닛에 의한 온도 제어에 대해, 상세하게 설명한다.Hereinafter, the temperature control by each unit will be described in detail.
(중앙 상부 냉각 유닛에 의한 온도 제어)(Temperature control by center upper cooling unit)
중앙 상부 냉각 유닛(62)에서는, 상술한 바와 같이, 시트 글래스(SG)의 두께를 결정짓는 영역의 온도 프로파일을 실현한다(제1 중앙부 냉각 공정). 구체적으로, 시트 글래스(SG)와 대향하는 중앙 상부 냉각 유닛(62)의 폭 방향의 온도 분포는 균일하게 되어 있으므로, 시트 글래스(SG)의 폭 방향의 온도는 균일해진다[서브 프로파일(10a)].In the center
중앙 하부 냉각 유닛(63a, 63b)에서는, 상술한 바와 같이, 시트 글래스(SG)의 휨량의 조정을 개시하는 영역의 온도 프로파일을 실현한다(제2 중앙부 냉각 공정 및 제3 중앙부 냉각 공정). 구체적으로, 중앙 하부 냉각 유닛(63a, 63b)은, 시트 글래스(SG)의 폭 방향의 온도가 산형(위로 볼록부를 갖는 곡선)으로 되도록 조정된다. 구체적으로는, 중앙 하부 냉각 유닛(63a, 63b)의 길이 방향 중심의 온도를 가장 높은 온도로 한다. 또한, 중앙 하부 냉각 유닛(63a, 63b)의 길이 방향의 양단부의 온도를 가장 낮은 온도로 한다. 또한, 중심으로부터 양단부를 향해 온도가 서서히 낮아지도록 제어한다. 이와 같이 하여 시트 글래스(SG)의 폭 방향의 온도는, 산형으로 된다[서브 프로파일(10b), 서브 프로파일(10c)].The central
또한, 본 실시 형태에서는, 시트 글래스(SG)의 유하 방향을 따라, 2개의 중앙 하부 냉각 유닛(63a, 63b)을 배치하고 있다. 시트 글래스(SG)의 유하 방향 하방에 배치된 중앙 하부 냉각 유닛(63b)은 상방에 배치된 중앙 하부 냉각 유닛(63a)보다도, 큰 곡선의 온도 분포를 형성하도록 제어된다. 구체적으로는, 상술한 바와 같이, 중앙 하부 냉각 유닛(63a)에 의해 실현된 프로파일(10b)의 온도 구배(중심부와 단부와의 온도 구배)(도 6의 Y1 참조)보다도, 중앙 하부 냉각 유닛(63b)에 의해 실현된 온도 프로파일(10c)의 온도 구배(도 6의 Y2 참조)를 크게 한다(Y1<Y2).In the present embodiment, two center
냉각 롤러(51)는 상술한 바와 같이, 시트 글래스(SG)의 두께의 균일화에 영향을 미치는 영역의 온도 프로파일을 실현한다(급냉 공정). 냉각 롤러(51)는 성형체(41)의 최하단부(41a)에서 합류된 글래스의 양단부를 급냉한다. 즉, 시트 글래스(SG)의 양단부 및 양단부 주변의 분위기 온도는, 시트 글래스(SG)의 중앙부 주변의 분위기 온도보다도 낮은 온도로 된다[서브 프로파일(10d)].As described above, the cooling
단상부 냉각 유닛(72)에서는, 상술한 바와 같이, 시트 글래스(SG)의 두께 및/또는 휨량의 조정에 영향을 미치는 영역의 온도 프로파일을 실현한다(제1 단부 냉각 공정). 단상부 냉각 유닛(72)은 중앙 상부 냉각 유닛(62) 및 중앙 하부 냉각 유닛(63a)이 시트 글래스(SG)에 부여하는 온도보다 낮은 온도를 시트 글래스(SG)에 부여한다. 즉, 시트 글래스(SG)의 양단부 및 양단부 주변의 분위기 온도는, 시트 글래스(SG)의 중앙부 주변의 분위기 온도보다도 낮은 온도로 된다[서브 프로파일(10e)].The single-phase
단하부 냉각 유닛(73)에서는, 상술한 바와 같이, 시트 글래스(SG)의 휨량의 조정에 영향을 미치는 영역의 온도 프로파일을 실현한다(제2 단부 냉각 공정). 단하부 냉각 유닛(73)은 중앙 하부 냉각 유닛(63a, 63b)이 시트 글래스(SG)에 부여하는 온도보다 낮은 온도를 시트 글래스(SG)에 부여한다. 즉, 시트 글래스(SG)의 양단부의 분위기 온도는, 시트 글래스(SG)의 중앙부의 분위기 온도보다도 낮은 온도로 된다[서브 프로파일(10f)].In the
이와 같은 시트 글래스(SG)의 온도 제어가, 제어 장치(91), 냉각 롤러(51) 및 각 유닛을 통하여 행해진다. 성형체(41)가 위치하는 성형로실의 상부 공간에서는, 용융 글래스가 소정의 점도를 유지하여 성형되도록 고온의 온도 분위기가 유지된다. 한편, 구획 부재(단열 부재)(50)에 의해 상부 공간으로부터 구획되어 있는 성형로실의 하부 공간에서는, 용융 글래스로부터 성형에 의해 생성되는 시트 글래스(SG)를 냉각한다. 이로 인해, 상부 공간으로부터 하부 공간으로 열 이동이 발생하기 어렵도록, 구획 부재(50)에는, 단열성이 우수한 단열 부재가 사용된다. 구체적으로는,The temperature control of the sheet glass SG is performed through the
(1) 시트 글래스(SG)를 성형할 때, 용융 글래스(FG)가 성형체(41)를 통과할 때의 용융 글래스(FG)의 온도가 액상 온도 이상이고, 또한 용융 글래스(FG)가 성형체(41)의 최하단부를 통과할 때의 용융 글래스(FG)의 양단부의 점도가 104.3∼106dPa·초로 되고, 또한,(1) When the sheet glass SG is molded, the temperature of the molten glass FG at the time when the molten glass FG passes through the formed
(2) 시트 글래스(SG)를 냉각할 때, 시트 글래스(SG)의 중앙부의 온도가 연화점보다 높은 온도로부터 서랭점 근방으로 될 때까지의 온도 영역에 있을 때, 시트 글래스(SG)의 양단부의 점도가 109.0∼1014.5dPa·초로 되도록, 단열성을 갖는 재료가, 단열 부재에 사용된다.(2) When the sheet glass SG is cooled, when the temperature of the central portion of the sheet glass SG is in the temperature range from the temperature higher than the softening point to the vicinity of the stand-off point, A material having a heat insulating property is used for the heat insulating member so that the viscosity becomes 10 9.0 to 10 14.5 dPa · sec.
이때, 구획 부재(단열 부재)(50)의, 구획 부재(50)와 접하는 상부 공간의 분위기 온도에 있어서의 상부 공간과 하부 공간과의 사이의 열저항은 0.2㎡·K/W 이상인 것이 바람직하다. 이와 같은 열저항을 구비하는 구획 부재(50)를 사용함으로써, 하부 공간에 있어서의 시트 글래스(SG)의 수축을 억제할 수 있는 온도 프로파일을 실현할 수 있다. 구체적으로는, 구획 부재(50)의 열저항이 0.2㎡·K/W 미만일 때, 냉각 롤러(51) 및 단부 냉각 유닛(71)에 의해 급냉된 시트 글래스(SG)의 양단부는, 상부 공간으로부터 하부 공간으로 이동한 열의 영향을 받아 온도의 저하가 억제되어, 원하는 점도까지 커지지 않다. 이 경우, 시트 글래스(SG)의 양단부에 있어서의 점도는 높지 않으므로, 성형체(41)로부터 이격되어 시트 글래스(SG)가 성형되었을 때의 표면 장력의 작용에 의해 시트 글래스(SG)는, 폭 방향으로 수축되기 쉽다. 이로 인해, 시트 글래스(SG)가 목표로 하는 폭을 확보하는 것이 곤란해진다. 그러나, 구획 부재(단열 부재)(50)의 열저항을 0.2㎡·K/W 이상으로 함으로써, 급냉된 시트 글래스(SG)의 양단부는, 상부 공간으로부터 하부 공간으로 이동한 열의 영향이 저감되어, 소정의 온도 프로파일을 따라 냉각할 수 있다. 구획 부재(50)의 열저항은, 바람직하게는 0.3㎡·K/W 이상이며, 보다 바람직하게는 0.4㎡·K/W 이상이다. 또한, 열저항을 극히 크게 하기 위해서는, 예를 들어 구획 부재(50)의 두께를 극히 두껍게 할 필요가 있어, 바람직하지 않다. 그로 인해, 구획 부재(50)의 열저항은, 바람직하게는 0.2∼2㎡·K/W이며, 보다 바람직하게는 0.4∼2㎡·K/W인 것이 바람직하다.At this time, the thermal resistance between the upper space and the lower space in the upper space of the partition member (heat insulating member) 50 in contact with the
이와 같은 열저항을 갖는 구획 부재(단열 부재)(50)에는, 열전도율이 0.1∼0.4W/m·K, 보다 바람직하게는 0.1∼0.25W/m·K의 소재가 사용된다. 구획 부재(단열 부재)(50)로서, 예를 들어 알루미나의 함유율이 높은 세라믹 파이버 보드가 사용된다.A material having a thermal conductivity of 0.1 to 0.4 W / m · K, more preferably 0.1 to 0.25 W / m · K is used for the partition member (heat insulating member) 50 having such a thermal resistance. As the partition member (insulating member) 50, for example, a ceramic fiber board having a high content of alumina is used.
구획 부재(50)의 바람직한 형태로서, 시트 글래스(SG)가 성형로실의 상부 공간으로부터 하부 공간으로 이동할 때 통과하는 슬릿 형상의 간극에 접하는 구획 부재(50)의 면에 있어서의 소재의 열전도율(상부 공간의 분위기 온도에 있어서의 열전도율)은 0.5W/m·K 이하인 것이 바람직하다. 특히 바람직하게는, 구획 부재(50)가 열전도율(상부 공간의 분위기 온도에 있어서의 열전도율)이 0.25W/m·K 이하인 1개의 소재에 의해 구성되는 것이다. 이 구성에 의해, 구획 부재(50)의 판 두께를 과도하게 두껍게 하지 않고, 열저항을 0.2㎡·K/W 이상으로 할 수 있다.As a preferred form of the partitioning
본 실시 형태의 시트 글래스의 냉각에서는, 도 6에 나타낸 바와 같이, 시트 글래스(SG)의 폭 방향의 중앙부에 있어서의 폭 방향의 온도 분포를 균일하게 하고, 또한, 시트 글래스(SG)의 양단부의 온도를, 시트 글래스(SG)의 폭 방향의 중앙부의 온도보다 낮게 하는 공정(판 두께 균일화 공정)과, 이 공정에 있어서의 양단부 및 중앙부의 온도에 비해, 시트 글래스(SG)의 양단부 및 중앙부의 온도를 저온으로 하고, 또한 시트 글래스(SG)의 폭 방향의 중심으로부터 양단부를 향해 시트 글래스(SG)의 폭 방향으로 온도 구배를 형성하는 공정을 갖는다. 이 2개의 공정을 실현할 수 있도록, 제어 장치(91)는 각 유닛 및 냉각 롤러(51) 등을 사용하여 시트 글래스(SG)의 온도를 제어할 수 있다. 본 실시 형태에서는, 상기 구획 부재(50)를 설치함으로써, 성형로실의 상부 공간과 성형로실의 하부 공간의 열의 이동이 충분히 억제되므로, 성형로실의 하부 공간에서 상기 시트 글래스(SG)의 온도의 제어가 가능하게 된다.In the cooling of the sheet glass of the present embodiment, as shown in Fig. 6, the temperature distribution in the width direction at the central portion in the width direction of the sheet glass SG is made uniform, and the temperature distribution at the both ends of the sheet glass SG (Sheet thickness equalizing step) in which the temperature is lower than the temperature in the central portion in the width direction of the sheet glass SG and the temperature at both end portions and the central portion in this step are compared with each other at both ends of the sheet glass SG And a step of forming a temperature gradient in the width direction of the sheet glass SG from the center in the width direction of the sheet glass SG toward the both end portions. In order to realize these two processes, the
상술한 시트 글래스(SG)의 온도의 제어에서는, 최초의 공정에서는, 시트 글래스(SG)의 중앙부에 있어서의 폭 방향의 온도 분포를 균일하게 하므로, 시트 글래스(SG)의 폭 방향의 수축뿐만 아니라, 시트 글래스(SG)로 제작되는 글래스 기판의 판 두께 편차를 억제할 수 있다.In the above-described control of the temperature of the sheet glass SG, since the temperature distribution in the width direction at the central portion of the sheet glass SG is made uniform in the first step, not only the shrinkage in the widthwise direction of the sheet glass SG , And the sheet thickness deviation of the glass substrate made of sheet glass (SG) can be suppressed.
또한, 다음 공정에서는, 최초의 공정과 비교하여 시트 글래스(SG)의 폭 방향의 온도 분포를 저온으로 하고, 또한, 시트 글래스(SG)의 폭 방향의 중심으로부터 양단부를 향하여, 시트 글래스(SG)의 폭 방향으로 온도 구배를 형성한다. 이때, 시트 글래스(SG)의 폭 방향의 중앙부의 냉각량은, 시트 글래스(SG)의 폭 방향의 양단부의 냉각량보다도 커진다. 이에 의해, 시트 글래스(SG)의 체적 수축률은, 폭 방향의 양단부로부터 중앙부를 향하여 커지므로, 시트 글래스(SG)의 중앙부에는 인장 응력이 작용한다. 특히, 시트 글래스(SG)의 중앙부에는, 시트 글래스(SG)의 유하 방향 및 폭 방향으로 인장 응력이 작용한다. 또한, 시트 글래스(SG)의 폭 방향으로 작용하는 인장 응력보다도, 시트 글래스(SG)의 유하 방향으로 작용하는 인장 응력 쪽이 큰 것이 글래스판의 휨을 향상시키는 점에서 바람직하다. 이 인장 응력에 의해, 시트 글래스(SG)의 평면도를 유지하면서 냉각할 수 있으므로, 시트 글래스(SG), 나아가서는, 글래스판의 휨량을 저감시킬 수 있다.Further, in the next step, the temperature distribution in the width direction of the sheet glass SG is made lower than that in the first step, and the sheet glass SG is formed so as to extend from the center in the width direction of the sheet glass SG toward both ends, Thereby forming a temperature gradient in the width direction. At this time, the cooling amount at the central portion in the width direction of the sheet glass SG becomes larger than the cooling amount at both end portions in the width direction of the sheet glass SG. As a result, the volume shrinkage ratio of the sheet glass SG increases from both end portions in the width direction toward the central portion, so tensile stress acts on the central portion of the sheet glass SG. In particular, tensile stress acts on the central portion of the sheet glass SG in the downward and width directions of the sheet glass SG. It is also preferable that the tensile stress acting in the downward direction of the sheet glass SG is larger than the tensile stress acting in the width direction of the sheet glass SG in view of improving warp of the glass sheet. By this tensile stress, the sheet glass SG can be cooled while maintaining the flatness of the sheet glass SG, so that the amount of deflection of the sheet glass SG, and furthermore, the glass plate can be reduced.
또한, 글래스의 액상 온도가 높은 경우, 이 글래스의 액상 온도보다도 충분히 높은 온도의 용융 글래스를 사용하여 성형함으로써, 글래스의 실투를 방지할 수 있다. 그러나, 오버 플로우 다운드로법을 적용하기 위해서는, 성형체(41)의 최하단부(41a)에 있어서의 용융 글래스의 점도가 중앙부 및 양단부에 있어서 104.3dPa·초 이상인 것이 바람직하다. 이 점도는, 104.4Pa·초 이상인 것이 보다 바람직하고, 104.6dPa·초 이상인 것이 더욱 바람직하다. 이와 같은 점도를 확보하는 것은, 이하의 이유에 의한다. 즉, 최하단부(41a)로부터 이격된 시트 글래스(SG)는, 냉각 롤러(51)에 의해 협지되는 영역까지 자체 중량에 의해 낙하하려고 한다. 이때의 낙하 속도는, 성형체(41)의 최하단부(41a)에서의 용융 글래스의 점도에 따라 상이하기 때문이다. 최하단부(41a)에 있어서의 용융 글래스의 점도가 상기 범위보다도 작은 경우, 냉각 롤러(51)에 의한 시트 글래스(SG)의 인장 속도에 비해, 시트 글래스(SG)의 자체 중량에 의해 낙하하려고 하는 속도 쪽이 우세하게 되어, 결과적으로 냉각 롤러(51) 상에서 시트 글래스(SG)가 이완되어 버릴 우려가 있다. 이로 인해, 성형체(41)의 최하단부(41a)에 있어서의 용융 글래스의 점도가 104.3dPa·초 이상인 것이 바람직하다. 또한, 냉각 롤러(51) 및 냉각 롤러(51)보다도 하류에 위치하는 인하 롤러(81)의 주회 속도를 충분히 빠르게 하면, 냉각 롤러(51) 및 인하 롤러(81)의 주회 속도보다 글래스 리본의 자유 낙하 속도를 느리게 할 수 있다. 그러나, 이 경우, 통상, 소정의 글래스 유량의 조건하에서 얻고자 하는 시트 글래스(SG)의 두께는 미리 결정되어 있는 것 외에, 하류의 서랭 공정에서 행해지는 글래스 리본의 온도 제어를 실현하기 위해서도 냉각 롤러(51) 및 인하 롤러(81)의 주회 속도를 지나치게 빠르게 하는 것은 실용상 바람직하지 않다.Further, when the liquidus temperature of the glass is high, it is possible to prevent the glass from being deviated by using a molten glass having a temperature sufficiently higher than the liquidus temperature of the glass. However, in order to apply the overflow down-draw method, it is preferable that the viscosity of the molten glass at the
또한, 상술한 용융 글래스의 점도의 수치 범위보다도 낮은 점도로 성형을 행하기 위해 성형체(41)의 최하단부(41a)의 용융 글래스 온도를 상승시키려고 하면, 성형체(41)보다도 하류측의 분위기 온도가 상승한다. 이로 인해, 성형체(41)의 최하단부(41a)에 있어서 성형체의 양측의 벽면 각각을 흐르는 용융 글래스를 합류시켜 형성되는 시트 글래스(SG)의 폭 방향의 양단부의 점도를 충분히 상승시킬 수 없다. 이로 인해, 시트 글래스(SG)의 폭이 수축되어 버린다. 시트 글래스(SG)의 폭이 수축되어 버리면, 절단 직전의 시트 글래스(SG)의 폭이나 제품 폭을 확보할 수 없다고 하는 문제가 발생한다. 이 문제는, 글래스의 액상 온도가 높을수록(액상 점도가 작을수록) 현저해진다.If the temperature of the molten glass at the
본 실시 형태는, 구획 부재(단열 부재)(50)의 열저항을 0.2㎡·K/W 이상으로 함으로써, 성형로실의 상부 공간으로부터 하부 공간으로의 열의 이동이 억제되므로, 글래스의 액상 온도가 높기 때문에, 성형로실의 상부 공간의 분위기 온도가 높게 설정되었다고 해도, 급냉된 시트 글래스(SG)의 양단부는, 상부 공간으로부터 하부 공간으로 이동한 열의 영향을 받을 일 없어, 소정의 점도를 확보할 수 있다. 따라서, 시트 글래스(SG)의 폭이 축소되는 것을 억제할 수 있다.In the present embodiment, since the heat resistance of the partition member (insulating member) 50 is 0.2 m 2 · K / W or more, the movement of heat from the upper space to the lower space of the molding furnace is suppressed, The both ends of the quenched sheet glass SG are not affected by the heat that has moved from the upper space to the lower space and the predetermined viscosity is secured even if the atmosphere temperature in the upper space of the molding furnace is set high, . Therefore, the reduction of the width of the sheet glass SG can be suppressed.
즉, 글래스의 액상 온도가 높은(액상 점도가 작은) 글래스를 사용하는 경우에, 본 실시 형태의 효과는 현저하다. 이 경우, 열저항이 0.2㎡·K/W 이상인 단열 부재(50)를 사용하고, 시트 글래스(SG) 양단부를 향하여 인장 장력을 가하면서, 시트 글래스(SG)의 양단부의 점도를 109.0∼1014.5dPa·초로 되도록 시트 글래스(SG)를 냉각함으로써, 제품 폭을 확보할 수 있다.That is, the effect of the present embodiment is remarkable when a glass having a high liquidus temperature (low liquidus viscosity) is used. In this case, the
(글래스의 특성)(Characteristics of glass)
본 실시 형태에서 제작되는 글래스 기판은, 플랫 패널 디스플레이용 글래스 기판에 적절하게 사용된다. 또한, 글래스 기판은, 특히 열수축률이 작은 것이 요구되는, LTPS(Low Temperature Poly Silicon:저온 폴리실리콘)·TFT(Thin Film Transistor)나 산화물 반도체를 형성하고 고온 처리를 행하는 글래스 기판에도 사용할 수 있다. 또한, 표시 장치 등의 커버 글래스, 자기 디스크용 글래스 기판, 태양 전지용 글래스 기판 등에 사용할 수 있다.The glass substrate produced in the present embodiment is suitably used for a glass substrate for a flat panel display. Further, the glass substrate can be used for a glass substrate which forms LTPS (Low Temperature Poly Silicon) TFT (Thin Film Transistor) or oxide semiconductor which requires a small heat shrinkage ratio and which performs high temperature processing. Further, it can be used for a cover glass such as a display device, a glass substrate for a magnetic disk, a glass substrate for a solar cell, and the like.
또한, 본 실시 형태의 글래스 기판의 액상 점도는, 104.3dPa·초∼106.7dPa·초인 것이 바람직하다. 성형 공정에 있어서, 글래스의 실투를 발생시키지 않기 위해서는 성형체(41)의 최하단부(41a)에 있어서의 점도를 액상 점도보다도 작게 할 필요가 있고, 따라서, 성형로실의 상부 공간의 분위기 온도는 하부 공간과 비교하여 높게 설정된다. 이로 인해, 성형로실의 상부 공간과 하부 공간과의 사이에는 큰 열의 단차가 존재하여, 열의 이동이 커지기 쉽다. 본 실시 형태에서는, 성형로실의 상부 공간으로부터 하부 공간으로의 열의 이동을 억제하므로, 성형로실의 하부 공간에 있어서의 시트 글래스(SG)의 폭 방향의 수축을 억제할 수 있다. 액상 점도가 높은 글래스일수록 성형체(41)의 최하단부(41a)에 있어서의 점도를 높게 할 수 있으므로, 상술한 시트 글래스(SG)의 폭 방향의 수축을 억제할 수 있다. 따라서, 본 실시 형태의 글래스 기판의 액상 점도는, 104.7dPa·초∼106.7dPa·초인 것이 바람직하고, 105dPa·초∼106.7dPa·초인 것이 보다 바람직하다. 또한, 본 실시 형태의 글래스 기판의 액상 점도는, 105.3dPa·초 이하이어도 된다. 글래스의 액상 점도가 작을수록 성형로실의 상부 공간의 분위기 온도는 높게 설정되기 때문에, 상술한 바와 같이 시트 글래스(SG)의 폭 방향의 수축이 커지기 쉽다. 즉, 액상 점도가 105.3dPa·초 이하인 글래스를 사용하는 경우, 본 실시 형태의 효과는 현저해지고, 104.3∼105.3dPa·초이면 보다 효과가 현저해지고, 104.3dPa·초∼105.0dPa·초이면 효과가 더욱 현저해지고, 104.3dPa·초∼104.9dPa·초이면 효과가 한층 더 현저해지는 점에서 바람직하다. 액상 점도가 104.3dPa·초 미만의 글래스의 경우, 오버 플로우 다운드로 법의 적용이 곤란해진다.The glass substrate of the present embodiment preferably has a liquid viscosity of 10 4.3 dPa · sec to 10 6.7 dPa · sec. It is necessary to make the viscosity at the
또한, 본 실시 형태의 글래스 기판의 액상 온도는, 1000℃∼1250℃인 것이 바람직하다. 글래스의 액상 온도가 높을수록, 글래스의 실투를 발생시키지 않으므로, 성형로실의 상부 공간의 분위기 온도를 높게 설정할 필요가 있다. 이로 인해, 성형로실의 상부 공간과 하부 공간과의 사이의 열의 단차가 커, 열의 이동이 커지기 쉽다. 본 실시 형태에서는, 성형로실의 상부 공간으로부터 하부 공간으로의 열의 이동을 억제하므로, 성형로실의 하부 공간에 있어서의 시트 글래스(SG)의 폭 방향의 수축을 억제할 수 있다. 즉, 성형로실의 상부 공간으로부터 하부 공간으로의 열의 이동량을 저감시켜, 시트 글래스(SG)의 폭 방향의 수축을 저감시킨다고 하는 관점으로부터는, 글래스 기판의 액상 온도가 1250℃ 이하인 것이 바람직하고, 1200℃ 이하인 것이 보다 바람직하고, 1105℃ 이하인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 본 실시 형태의 글래스 기판의 액상 온도는, 1150℃∼1250℃이어도 된다. 글래스의 액상 온도가 높을수록, 글래스의 실투를 발생시키지 않으므로, 성형로실의 상부 공간의 분위기 온도를 높게 설정할 필요가 있다. 즉, 글래스의 액상 온도가 1150℃ 이상인 글래스를 시트 글래스(SG)에 사용하는 경우, 본 실시 형태의 효과는 보다 현저해진다. 또한, 글래스의 액상 온도의 상한을 1250℃로 하는 것은, 글래스의 액상 온도가 1250℃를 초과하는 경우, 성형체(41)의 크리프 현상이 발생하기 쉬워지는 등의 문제가 발생할 우려가 있기 때문이다. 즉, 본 실시 형태에서는, 글래스의 액상 온도가 1150℃∼1250℃인 것에 의해 본 실시 형태의 효과가 현저해지고, 1170℃∼1250℃이면 효과가 보다 현저해지고, 1180℃∼1250℃이면 더욱 효과가 현저해지고, 1200℃∼1250℃이면 한층 더 효과가 현저해지는 점에서 바람직하다.The liquid phase temperature of the glass substrate of the present embodiment is preferably 1000 deg. C to 1250 deg. The higher the liquidus temperature of the glass is, the more the atmosphere temperature in the upper space of the molding furnace needs to be set to be high because the glass is not discharged. As a result, the step of the heat between the upper space and the lower space of the forming furnace chamber is large, and the heat is liable to move. In this embodiment, since the movement of heat from the upper space to the lower space of the molding furnace is suppressed, contraction in the width direction of the sheet glass SG in the lower space of the molding furnace can be suppressed. That is, from the viewpoint of reducing the amount of heat transfer from the upper space to the lower space of the molding furnace and reducing the shrinkage of the sheet glass SG in the width direction, the liquid temperature of the glass substrate is preferably 1250 DEG C or lower, More preferably 1200 DEG C or lower, and still more preferably 1105 DEG C or lower. The liquidus temperature of the glass substrate of the present embodiment may be 1150 ° C to 1250 ° C. The higher the liquidus temperature of the glass is, the more the atmosphere temperature in the upper space of the molding furnace needs to be set to be high because the glass is not discharged. That is, when the glass having the glass liquid temperature of 1150 DEG C or higher is used for the sheet glass (SG), the effect of the present embodiment becomes more remarkable. The reason why the upper limit of the liquidus temperature of the glass is set to 1250 캜 is that when the liquidus temperature of the glass exceeds 1250 캜, there is a fear that a creep phenomenon of the formed
본 실시 형태의 글래스 기판의 변형점은, 670℃ 이상인 것이 바람직하다. 글래스 기판의 변형점이 670℃ 이상인 경우, 이 글래스는, 액상 온도가 높아지는 경향이 있고, 성형 공정에서 실투가 발생할 우려가 있다. 이로 인해, 변형점이 670℃ 이상인 글래스를 사용하는 경우, 성형 공정에 있어서의 실투의 발생을 억제하기 위해, 실투가 발생하기 어려운 글래스를 제조하는 경우와 비교하여 성형시의 용융 글래스의 온도를 높게 할 필요가 있어, 성형체(41)가 위치하는 성형로실의 상부 공간의 분위기 온도도 높게 설정된다. 따라서, 성형로실의 상부 공간과 하부 공간과의 사이에는 큰 열의 단차가 존재하여, 열의 이동이 커지기 쉽다. 본 실시 형태에서는, 열저항이 0.2㎡·K/W 이상인 구획 부재(50)를 사용하여 성형로실의 상부 공간으로부터 하부 공간으로의 열의 이동을 억제하므로, 성형로실의 하부 공간에 있어서의 시트 글래스(SG)의 폭 방향의 수축을 억제할 수 있다. 즉, 글래스 기판의 변형점이 670℃ 이상인 경우, 본 실시 형태의 효과는 현저하다.The deformation point of the glass substrate of this embodiment is preferably 670 캜 or higher. When the strain point of the glass substrate is 670 占 폚 or higher, the glass tends to have a higher liquidus temperature, and there is a fear that a failure may occur in the molding process. Therefore, in the case of using glass having a strain point of 670 DEG C or higher, the temperature of the molten glass at the time of molding is made higher than that in the case of producing a glass which is less prone to release, in order to suppress the occurrence of devitrification in the molding step And the atmosphere temperature in the upper space of the molding furnace where the formed
본 실시 형태에서는, 글래스 기판의 변형점이 670℃ 이상인 글래스를 사용할 수 있고, 변형점이 675℃ 이상, 변형점이 680℃ 이상인 글래스, 나아가, 변형점 690℃ 이상인 글래스를 사용해도, 시트 글래스(SG)의 폭, 제품 폭을 확보할 수 있는 점에서, 본 실시 형태의 효과는 현저하다. LTPS·TFT나 산화물 반도체를 형성하는 글래스 기판으로서는, 변형점이 675℃ 이상인 글래스가 바람직하게 사용되고, 변형점이 680℃ 이상인 글래스가 더욱 바람직하게 사용되는 점에서, 본 실시 형태에 의해 제조되는 글래스 기판은, LTPS·TFT나 산화물 반도체를 형성하는 글래스 기판으로서 바람직하다.In the present embodiment, glass having a strain point of 670 占 폚 or higher can be used as the glass substrate, glass having a strain point of 675 占 폚 or higher, a strain point of 680 占 폚 or higher, and even glass having a strain point of 690 占 폚 or higher can be used. The width and the product width can be ensured, the effect of the present embodiment is remarkable. As the glass substrate for forming the LTPS TFT or the oxide semiconductor, the glass having a strain point of 675 DEG C or higher is preferably used, and the glass having a strain point of 680 DEG C or higher is more preferably used. In the glass substrate produced by this embodiment, It is preferable as a glass substrate for forming LTPS TFT or oxide semiconductor.
또한, 글래스 기판의 열수축률이 75ppm 이하인 경우, 이 글래스의 변형점은 일반적으로 높고, 액상 온도가 높은 경향에 있다. 열수축률이 75ppm 이하인 글래스 기판을 제조하고자 하는 경우에 있어서도, 열저항이 0.2㎡·K/W 이상인 구획 부재(50)를 사용하여 성형로실의 상부 공간으로부터 하부 공간으로의 열의 이동을 억제하므로, 성형로실의 하부 공간에 있어서의 시트 글래스(SG)의 폭 방향의 수축을 억제할 수 있다. 따라서, 시트 글래스(SG)가, 성형체(41)로부터 이격되었을 때에 발생하는 시트 글래스(SG)의 폭 방향의 폭의 수축을 억제하여, 시트 글래스(SG)의 폭을 확보할 수 있다. 열수축률이 75ppm 이하인 글래스를 사용한 글래스 기판의 경우, 화상 표시 장치의 제작을 위해, 이 글래스 기판에 LTPS·TFT나 산화물 반도체를 형성하여 고온 처리를 행해도, 화상 표시 장치에 있어서의 화소의 피치 어긋남 등의 문제를 억제할 수 있다.When the heat shrinkage rate of the glass substrate is 75 ppm or less, the strain point of the glass is generally high and the liquidus temperature tends to be high. The
또한, 열수축률이라 함은, 승강온 속도가 10/분, 550℃에서 2시간 유지하는 열처리가 실시된 후의 글래스 기판의 수축량을 이용하여, 이하의 식에 의해 구해지는 값이다.The heat shrinkage ratio is a value obtained by the following equation, using the shrinkage amount of the glass substrate after the heat treatment for holding at the elevation temperature rate of 10 / min and 550 DEG C for 2 hours.
열수축률(ppm)={열처리 후의 글래스 기판의 수축량/열처리 전의 글래스 기판의 길이}×106 Heat shrinkage rate (ppm) = shrinkage of glass substrate after heat treatment / length of glass substrate before heat treatment 占 10 6
또한, 본 실시 형태의 글래스 기판은, 지르코니아를 함유해도 된다. 시트 글래스(SG)를 제작하고, 또한 이 시트 글래스(SG)로 제작하는 글래스 기판이 지르코니아를 함유하는 경우, 글래스의 액상 온도가 상승하기 때문에, 글래스의 실투가 발생하지 않기 위해서도, 성형체(41), 특히 최하단부(41a) 근방에서의 점도를 작게 할(실투가 발생하지 않는 정도로 용융 글래스 온도를 상승시킬) 필요가 있다. 본 실시 형태에서는, 성형체(41)의 최하단부(41a)에서의 용융 글래스의 점도가 작고, 상부 공간에 있어서의 분위기 온도가 높아도, 열저항이 0.2㎡·K/W 이상인 구획 부재(50)를 사용하여 상부 공간으로부터 하부 공간으로의 열의 이동을 억제하므로, 성형로실의 하부 공간에 있어서의 판 폭의 수축을 억제할 수 있다. 따라서, 이와 같은 글래스를 사용하는 경우, 본 실시 형태의 효과는 현저해진다.Further, the glass substrate of this embodiment may contain zirconia. In the case where the glass substrate SG made of sheet glass SG contains zirconia, the liquid temperature of the glass is elevated. Therefore, even in the case where the
또한, 본 실시 형태의 글래스 기판은 산화주석을 함유하는 것이 바람직하다. 산화주석은 정출되어 실투를 발생시키기 쉽다. 이로 인해, 산화주석을 함유하는 글래스를 제조하는 경우, 실투를 발생시키지 않기 위해, 성형체(41), 특히 최하단부(41a) 근방에서의 용융 글래스의 점도를 작게 할(실투가 발생하지 않는 정도로 용융 글래스 온도를 상승시킬) 필요가 있다. 본 실시 형태에서는, 상부 공간으로부터 하부 공간으로의 열의 이동을 억제하므로, 성형로실의 하부 공간에 있어서의 판 폭의 수축을 억제할 수 있다.Further, the glass substrate of the present embodiment preferably contains tin oxide. Tin oxide is easily extracted to cause a slip. Therefore, in the case of producing a glass containing tin oxide, the viscosity of the molten glass in the vicinity of the molded
또한, 도 2에 도시하는 용해 장치(11)의 용해조가, 고 지르코니아계 내화물 등의 노재를 포함하여 구성되는 경우, 용해 공정에 있어서 고 지르코니아계 내화물로부터 지르코니아가 용융 글래스 중에 용출되어 버리는 경우가 있다. 이 경우, 용융 글래스 중의 지르코니아 농도가 상승하고, 액상 온도가 상승한다. 이로 인해, 성형시의 용융 글래스의 온도를 높게 유지할 필요가 있다. 본 실시 형태에서는, 상부 공간으로부터 하부 공간으로의 열의 이동을 억제하므로, 성형로실의 하부 공간에 있어서의 판 폭의 수축을 억제할 수 있다. 따라서, 이와 같은 글래스를 사용하는 경우, 본 실시 형태의 효과는 현저해진다.When the melting tank of the dissolving
(글래스 조성)(Glass composition)
본 실시 형태에 의해 제작되는 글래스 기판은, 플랫 패널 디스플레이, 특히 액정 디스플레이용 글래스 기판에 적절하게 사용할 수 있다. 이와 같은 글래스 기판은, 예를 들어 질량% 표시로, SiO2 50∼70%, Al2O3 5∼25%, B2O3 0∼15%, MgO 0∼10%, CaO 0∼20%, SrO 0∼20%, BaO 0∼10%, ZrO2 0∼10%를 함유한다.The glass substrate manufactured by this embodiment can be suitably used for a flat panel display, particularly a glass substrate for a liquid crystal display. Such a glass substrate includes, for example, 50 to 70% of SiO 2 , 5 to 25% of Al 2 O 3 , 0 to 15% of B 2 O 3, 0 to 10% of MgO, 0 to 20% of CaO, 0 to 20% of SrO, 0 to 10% of BaO, and 0 to 10% of ZrO 2 .
또한, 본 실시 형태에 의해 제작되는 글래스 기판은, LTPS·TFT나 산화물 반도체를 글래스 표면에 형성하는 글래스 기판에 적절하게 사용할 수 있다. 이와 같은 글래스 기판은, 예를 들어 질량% 표시로, SiO2 58∼75%, Al2O3 15∼23%, B2O3 1∼12%, RO(단, RO는 MgO, CaO, SrO 및 BaO 중, 글래스판에 함유되는 전체 성분의 합량) 6∼17%를 함유하고, 변형점이 680℃ 이상이다.Further, the glass substrate manufactured by this embodiment can be suitably used for a glass substrate that forms LTPS TFT or oxide semiconductor on the surface of the glass. Such a glass substrate is, for example, expressed in terms of mass%: 58 to 75% of SiO 2 , 15 to 23% of Al 2 O 3 , 1 to 12% of B 2 O 3 , RO (where RO is MgO, CaO, SrO And the total amount of the components contained in the glass plate in BaO) of 6 to 17% and a strain point of 680 캜 or more.
이때, 하기의 수식 중 어느 하나 또는 복수를 만족하도록 하면, LTPS·TFT용 글래스판에 보다 바람직하다.At this time, if any one or more of the following expressions are satisfied, it is more preferable for the glass plate for LTPS-TFT.
·변형점을 보다 상승시키기 위해 (SiO2+Al2O3)/B2O2:8∼50 및/또는 SiO2+Al2O3:75% 이상으로 하는 것.(SiO 2 + Al 2 O 3 ) / B 2 O 2 : 8 to 50 and / or SiO 2 + Al 2 O 3 : 75% or more in order to further increase the strain point.
·변형점을 보다 상승시키기 위해, 질량비 (SiO2+Al2O3)/RO는 7.5 이상인 것.To increase the strain point further, the mass ratio (SiO 2 + Al 2 O 3 ) / RO should be at least 7.5.
·글래스의 비저항을 저하시키기 위해, Fe2O3을 0.01∼1질량% 함유하는 것.Containing 0.01 to 1% by mass of Fe 2 O 3 in order to lower the resistivity of the glass.
·글래스의 높은 변형점을 실현하면서 액상 온도의 상승을 방지하기 위해 CaO/RO를 0.65 이상으로 하는 것.CaO / RO of not less than 0.65 to prevent the rise of liquid temperature while realizing high strain point of glass.
또한, 모바일 통신 단말기와 같은 모바일 기기 등에 적용되는 것을 고려하면, 경량화의 관점에서는 SrO 및 BaO의 합계 함유율이 0∼5질량%인 것이 바람직하고, 0∼3.3질량%인 것이 더욱 바람직하다.In consideration of being applied to mobile devices such as mobile communication terminals, the total content of SrO and BaO is preferably 0 to 5 mass%, more preferably 0 to 3.3 mass% from the viewpoint of lightening.
또한, 글래스 기판은, 상술한 바와 같이 실질적으로 알칼리 금속 산화물(Na2O, K2O, Li2O)을 실질적으로 함유하지 않는 무알칼리 글래스, 또는, 알칼리 금속 산화물(Na2O, K2O, Li2O)을 0.05∼2.0질량% 포함하는 알칼리 미량 함유 글래스이어도 된다. 플랫 패널 디스플레이용의 글래스 기판은, 패널 제조 공정에서 글래스 기판으로부터 알칼리 금속이 용출되면, TFT 특성이나 반도체 특성을 열화시킬 우려가 있기 때문에, 알칼리 금속 산화물을 실질적으로 포함하지 않거나, 포함해도 0.05∼2.0질량% 포함하는 것이 바람직하다.Further, the glass substrate may be a non-alkali glass substantially containing no alkali metal oxide (Na 2 O, K 2 O, Li 2 O) or an alkali metal oxide (Na 2 O, K 2 O, Li 2 O) in an amount of 0.05 to 2.0% by mass. Since the glass substrate for a flat panel display is likely to deteriorate TFT characteristics and semiconductor characteristics when alkali metals are eluted from the glass substrate in the panel manufacturing process, the glass substrate does not substantially contain the alkali metal oxide, % By mass.
또한, 알칼리 미량 함유 글래스와 같이, 알칼리 금속을 굳이 미량 함유시킴으로써, TFT 특성이나 반도체 특성의 열화나 글래스의 열팽창을 일정 범위 내로 억제하면서, 용해성 및 청징성을 향상시킬 수 있다. 또한, 알칼리 미량 함유 글래스는, 용융 글래스의 비저항을 효과적으로 저하시킬 수 있으므로, 전기 용융 중에 용융 글래스에 전기가 통하기 쉬워지고, 상대적으로 고 지르코니아계 내화물 등의 용해조의 벽면을 구성하는 노(爐)재에 전기가 통하기 어려워진다고 생각된다. 그 결과, 노재의 침식을 억제할 수 있다. 또한, 지르코니아가 용융 글래스 중에 용출되는 것을 저감시킬 수 있으므로, 글래스의 실투를 개선할 수 있다. 이 점에서, 알칼리 미량 함유 글래스를 사용하는 것은 효과적이다.In addition, by containing a slight amount of an alkali metal such as an alkali-small-content glass, solubility and refinability can be improved while suppressing deterioration of TFT characteristics, semiconductor characteristics, and thermal expansion of glass within a certain range. Since the alkali-small-content glass can effectively lower the resistivity of the molten glass, the molten glass easily becomes electrically conductive during the melting of the molten glass, and the furnace material constituting the wall surface of the melting tank, such as relatively high- It is thought that electricity becomes difficult to pass through. As a result, erosion of the furnace can be suppressed. Further, since the elution of zirconia into the molten glass can be reduced, it is possible to improve the failure of the glass. In this respect, it is effective to use an alkali-containing glass.
상기 실시 형태에서는, 중앙 상부 냉각 유닛(62)에 의해, 시트 글래스(SG)의 폭 방향을 따라, 분위기 온도가 균일해지도록 제어하였다(판 두께 균일화 공정). 이에 의해, 상기 실시 형태에서는, 시트 글래스(SG)의 두께를 균일하게 할 수 있다. 그러나, 중앙 상부 냉각 유닛(62)은 시트 글래스(SG)의 폭 방향을 따라, 온도를 변경할 수 있는 구성을 사용할 수도 있다. 예를 들어, 중앙 냉각 유닛(62)의 내부에 형성되는 공간을 복수로 나누고, 공간마다 각각 냉각할 수 있도록 하거나, 중앙 냉각 유닛(62)의 내부에 부분적으로 보온재를 설치할 수 있는 구성을 설치함으로써, 폭 방향의 분위기 온도를 변경할 수 있도록 해도 된다. 이에 의해, 시트 글래스(SG)의 중앙부의 온도를 균일하게 하고 있음에도 불구하고, 어떠한 영향에 의해, 시트 글래스(SG)의 폭 방향의 두께의 균일화를 실현할 수 없었던 경우에도, 시트 글래스(SG)가 두께의 균일화를 도모할 수 있다.In the above embodiment, the center
[실험예 1][Experimental Example 1]
본 실시 형태의 효과를 확인하기 위해, 글래스 기판의 제조 방법을 변경하여 글래스 기판을 제작하였다.In order to confirm the effect of the present embodiment, a glass substrate was manufactured by changing the manufacturing method of the glass substrate.
(실시예 1)(Example 1)
제조되는 글래스 기판이 하기 조성으로 되도록, 용해 장치(11)의 용해조에 있어서 글래스 원료를 용해하여 용융 글래스로 하였다. 이 용융 글래스를 백금 합금제의 관을 통해 청징 장치(12)의 청징조에 반송하고, 용융 글래스의 청징을 행하였다. 이어서, 청징 후의 용융 글래스를 균질화한 후, 성형체(41)에 용융 글래스를 공급하고, 오버 플로우 다운드로법에 의해 약 2m/분의 속도로 시트 글래스(SG)를 형성하였다. 이때, 사용한 구획 부재[단열 부재(50)]의 열저항을, 0.4㎡·K/W로 하였다. 성형체(41)의 최하단부(41a)를 흐르는 용융 글래스의 양단부의 점도는, 105dPa·초이었다. 이때, 시트 글래스(SG)의 중앙부의 온도가 연화점보다 높은 온도로부터 서랭점 근방으로 될 때까지의 온도 영역에 있을 때, 시트 글래스(SG)의 양단부를 향하여 장력을 가하면서, 시트 글래스(SG)의 양단부의 점도를 109.0∼1014.5dPa·초로 되도록 냉각할 수 있었다.The glass raw material was dissolved in the melting tank of the dissolving
즉,In other words,
(1) 시트 글래스(SG)를 성형할 때, 용융 글래스(FG)가 성형체(41)를 통과할 때의 용융 글래스(FG)의 온도가 액상 온도 이상이고, 또한 용융 글래스(FG)가 성형체(41)의 최하단부를 통과할 때의 용융 글래스(FG)의 양단부의 점도가 104.3∼106dPa·초로 되고, 또한,(1) When the sheet glass SG is molded, the temperature of the molten glass FG at the time when the molten glass FG passes through the formed
(2) 시트 글래스(SG)를 냉각할 때, 시트 글래스(SG)의 중앙부의 온도가 연화점보다 높은 온도로부터 서랭점 근방으로 될 때까지의 온도 영역에 있을 때, 시트 글래스(SG)의 양단부의 점도가 109.0∼1014.5dPa·초로 되는 단열성을 갖는 재료가 단열 부재(50)에 사용되었다. 그 후, 시트 글래스(SG)를 절단하여, 두께가 0.7㎜, 사이즈가 2200㎜×2500㎜의 플랫 패널 디스플레이용 글래스 기판을 제조하였다. 또한, 제조한 플랫 패널 디스플레이용 글래스 기판의 액상 온도는 1125℃이고, 변형점은 660℃이었다.(2) When the sheet glass SG is cooled, when the temperature of the central portion of the sheet glass SG is in the temperature range from the temperature higher than the softening point to the vicinity of the stand-off point, A material having a heat resistance of 10 9.0 to 10 14.5 dPa · sec was used for the
(실시예 1의 글래스 조성)(Glass Composition of Example 1)
SiO2:60질량%, Al2O3:19.5질량%, B2O3:10질량%, CaO:5.3질량%, SrO:5질량%, SnO2:0.2질량%SiO 2: 60 mass%, Al 2 O 3: 19.5 wt%, B 2 O 3: 10 mass%, CaO: 5.3% by weight, SrO: 5% by weight, SnO 2: 0.2% by weight
(비교예 1)(Comparative Example 1)
비교예 1에서는, 실시예 1에 사용한 구획 부재(단열재)와 상이한 열저항을 갖는 구획 부재(단열재)를 사용하였다. 구획 부재(단열 부재)의 열저항을, 0.1㎡·K/W로 하였다.In Comparative Example 1, a partition member (thermal insulator) having a different thermal resistance from the partition member (heat insulator) used in Example 1 was used. The heat resistance of the partition member (heat insulating member) was 0.1 m 2 · K / W.
이로 인해,Because of this,
(1) 시트 글래스(SG)를 성형할 때, 용융 글래스(FG)가 성형체(41)를 통과할 때의 용융 글래스(FG)의 온도가 액상 온도 이상이고, 또한 용융 글래스(FG)가 성형체(41)의 최하단부를 통과할 때의 용융 글래스(FG)의 양단부의 점도가 104.3∼106dPa·초로 되고, 또한,(1) When the sheet glass SG is molded, the temperature of the molten glass FG at the time when the molten glass FG passes through the formed
(2) 시트 글래스(SG)를 냉각할 때, 시트 글래스(SG)의 중앙부의 온도가 연화점보다 높은 온도로부터 서랭점 근방으로 될 때까지의 온도 영역에 있을 때, 시트 글래스(SG)의 양단부의 점도가 109.0∼1014.5dPa·초로 되는, 조건을 만족하지 않았다.(2) When the sheet glass SG is cooled, when the temperature of the central portion of the sheet glass SG is in the temperature range from the temperature higher than the softening point to the vicinity of the stand-off point, And the viscosity was 10 9.0 to 10 14.5 dPa · sec.
상기 이외는, 실시예 1과 동일한 방법을 사용하여 글래스 기판을 제조하였다. 비교예 1의 글래스 조성은 실시예 1의 글래스 조성과 동일하게 되도록 글래스 원료를 조합하여 플랫 패널 디스플레이용 글래스 기판을 제조하였다.A glass substrate was produced in the same manner as in Example 1 except for the above. A glass substrate for a flat panel display was produced by combining glass raw materials such that the glass composition of Comparative Example 1 was the same as the glass composition of Example 1.
(시트 글래스의 폭의 수축량)(The shrinkage amount of the width of the sheet glass)
실시예 1 및 비교예 1에 있어서의 시트 글래스의 성형체 폭에 대한 폭 방향의 수축량을 측정하였다. 실시예 1의 수축량은 180㎜인 것에 대해, 비교예 1의 수축량은 230㎜이었다. 또한, 실시예 1 및 비교예 1의 제조 방법에 의해 제조한 글래스 기판에는, 실투는 발생하고 있지 않았다.The shrinkage amount in the width direction of the sheet glass in Example 1 and Comparative Example 1 with respect to the width of the formed article was measured. The shrinkage amount of Example 1 was 180 mm, while the shrinkage amount of Comparative Example 1 was 230 mm. No devitrification occurred on the glass substrate produced by the manufacturing method of Example 1 and Comparative Example 1. [
[실험예 2][Experimental Example 2]
또한, 상술한 글래스 조성과 상이한 글래스 조성의 글래스에서 본 실시 형태의 효과를 확인하기 위해, 글래스 기판의 제조 방법을 변경하여 글래스 기판을 제조하였다.Further, in order to confirm the effect of the present embodiment in the glass having the glass composition different from the above-mentioned glass composition, a manufacturing method of the glass substrate was changed to manufacture a glass substrate.
(실시예 2)(Example 2)
제작하는 글래스 기판이 하기 글래스 조성의 글래스이며, 성형체(41)의 최하단부(41a)를 흐르는 용융 글래스의 양단부의 점도는 104.6dPa·초이며, 글래스 기판의 액상 온도는 1230℃이고, 변형점은 715℃인 점 이외는 실시예 1과 동일한 구획 부재(단열 부재)의 열저항을 사용하고 동일한 방법으로 플랫 패널 디스플레이용 글래스 기판을 제조하였다.The glass substrate to be manufactured is a glass having the following glass composition and the viscosity at both ends of the molten glass flowing through the
(실시예 2의 글래스 조성)(Glass Composition of Example 2)
SiO2:61.5질량%, Al2O3:20질량%, B2O3:8.4질량%, CaO:10질량%, SnO2:0.1질량%SiO 2 : 61.5 mass%, Al 2 O 3 : 20 mass%, B 2 O 3 : 8.4 mass%, CaO: 10 mass%, SnO 2 : 0.1 mass%
(비교예 2)(Comparative Example 2)
비교예 2에서는, 실시예 2에 사용한 구획 부재와 상이한 열저항을 갖는 구획 부재를 사용하였다. 구획 부재의 열저항을, 0.1㎡·K/W로 하였다.In Comparative Example 2, a partition member having a different thermal resistance from the partition member used in Example 2 was used. The heat resistance of the partition member was 0.1 m 2 · K / W.
이로 인해,Because of this,
(1) 시트 글래스(SG)를 성형할 때, 용융 글래스(FG)가 성형체(41)를 통과할 때의 용융 글래스(FG)의 온도가 액상 온도 이상이고, 또한 용융 글래스(FG)가 성형체(41)의 최하단부를 통과할 때의 용융 글래스(FG)의 양단부의 점도가 104.3∼106dPa·초로 되고, 또한,(1) When the sheet glass SG is molded, the temperature of the molten glass FG at the time when the molten glass FG passes through the formed
(2) 시트 글래스(SG)를 냉각할 때, 시트 글래스(SG)의 중앙부의 온도가 연화점보다 높은 온도로부터 서랭점 근방으로 될 때까지의 온도 영역에 있을 때, 시트 글래스(SG)의 양단부의 점도가 109.0∼1014.5dPa·초로 되는, 조건을 만족하지 않았다.(2) When the sheet glass SG is cooled, when the temperature of the central portion of the sheet glass SG is in the temperature range from the temperature higher than the softening point to the vicinity of the stand-off point, And the viscosity was 10 9.0 to 10 14.5 dPa · sec.
상기 이외는, 실시예 2와 동일한 방법을 사용하여 글래스 기판을 제조하였다. 비교예 2의 글래스는 실시예 2의 글래스와 동일한 조성으로 되도록 글래스 원료를 조합하여 플랫 패널 디스플레이용 글래스 기판을 제조하였다.A glass substrate was produced in the same manner as in Example 2 except for the above. A glass substrate for a flat panel display was produced by combining glass raw materials so that the glass of Comparative Example 2 had the same composition as the glass of Example 2.
(실시예 3)(Example 3)
실시예 3은 제작하는 글래스 기판이 하기 글래스 조성의 글래스이며, 액상 온도가 1200℃이고, 변형점은 699℃인 점 이외는 실시예 2와 동일한 구획 부재(단열 부재)의 열저항을 사용하고 동일한 방법으로 플랫 패널 디스플레이용 글래스 기판을 제조하였다.The thermal resistance of the partition member (insulating member) in Example 3 is the same as that of Example 2 except that the glass substrate to be manufactured is a glass having the following glass composition, the liquidus temperature is 1200 캜 and the strain point is 699 캜, A glass substrate for a flat panel display was manufactured.
(실시예 3의 글래스 조성)(Glass Composition of Example 3)
SiO2:61.2질량%, Al2O3:19.5질량%, B2O3:9.0질량%, K2O:0.19질량%, CaO:10질량%, Fe2O3:0.01질량%, SnO2:0.1질량%SiO 2: 61.2% by weight, Al 2 O 3: 19.5 wt%, B 2 O 3: 9.0 wt%, K 2 O: 0.19 mass%, CaO: 10 weight%, Fe 2 O 3: 0.01 mass%, SnO 2 : 0.1 mass%
(실시예 4∼7)(Examples 4 to 7)
구획 부재(단열 부재)의 열저항을, 0.2㎡·K/W(실시예 4), 0.6㎡·K/W(실시예 5), 1.0㎡·K/W(실시예 6), 1.2㎡·K/W(실시예 7)로 변경한 것 이외에, 실시예 3과 동일한 글래스를 사용하고, 동일한 방법으로 플랫 패널 디스플레이용 글래스 기판을 제조하였다.The heat resistance of the partition member (heat insulating member) is set to 0.2 m2 K / W (Example 4), 0.6 m2 K / W (Example 5), 1.0 m2 K / W (Example 6) K / W (Example 7), the same glass as in Example 3 was used, and a glass substrate for a flat panel display was manufactured in the same manner.
(비교예 3)(Comparative Example 3)
비교예 3에서는, 실시예 3에 사용한 구획 부재와 상이한 열저항을 갖는 구획 부재를 사용하였다. 구획 부재의 열저항을, 0.1㎡·K/W로 하였다.In Comparative Example 3, a partition member having a different thermal resistance from the partition member used in Example 3 was used. The heat resistance of the partition member was 0.1 m 2 · K / W.
이로 인해,Because of this,
(1) 시트 글래스(SG)를 성형할 때, 용융 글래스(FG)가 성형체(41)를 통과할 때의 용융 글래스(FG)의 온도가 액상 온도 이상이고, 또한 용융 글래스(FG)가 성형체(41)의 최하단부를 통과할 때의 용융 글래스(FG)의 양단부의 점도가 104.3∼106dPa·초로 되고, 또한,(1) When the sheet glass SG is molded, the temperature of the molten glass FG at the time when the molten glass FG passes through the formed
(2) 시트 글래스(SG)를 냉각할 때, 시트 글래스(SG)의 중앙부의 온도가 연화점보다 높은 온도로부터 서랭점 근방으로 될 때까지의 온도 영역에 있을 때, 시트 글래스(SG)의 양단부의 점도가 109.0∼1014.5dPa·초로 되는, 조건을 만족하지 않았다.(2) When the sheet glass SG is cooled, when the temperature of the central portion of the sheet glass SG is in the temperature range from the temperature higher than the softening point to the vicinity of the stand-off point, And the viscosity was 10 9.0 to 10 14.5 dPa · sec.
상기 이외는, 실시예 3과 동일한 방법을 사용하여 글래스 기판을 제조하였다. 비교예 3의 글래스는 실시예 3의 글래스와 동일한 글래스 조성으로 되도록 글래스 원료를 조합하여 플랫 패널 디스플레이용 글래스 기판을 제조하였다.A glass substrate was produced in the same manner as in Example 3 except for the above. A glass substrate for a flat panel display was manufactured by combining glass raw materials so that the glass of Comparative Example 3 had the same glass composition as the glass of Example 3.
(시트 글래스의 폭의 수축량)(The shrinkage amount of the width of the sheet glass)
실시예 2∼7 및 비교예 2∼3의 제조 방법에 있어서의 시트 글래스의 성형체 폭에 대한 폭 방향의 수축량을 측정하였다. 실시예 2∼4의 수축량은 190㎜ 이하이고, 실시예 5의 수축량은 170㎜ 이하이고, 실시예 6의 수축량은 160㎜ 이하이고, 실시예 7의 수축량은 150㎜ 이하인 것에 대해, 비교예 2 및 실시예 3의 수축량은 220㎜을 초과하고 있었다.The shrinkage in the width direction of the sheet glass in the production methods of Examples 2 to 7 and Comparative Examples 2 to 3 with respect to the width of the molded article was measured. The shrinkage of Examples 2 to 4 was 190 mm or less, the shrinkage of Example 5 was 170 mm or less, the shrinkage of Example 6 was 160 mm or less, the shrinkage of Example 7 was 150 mm or less, And the shrinkage amount of Example 3 exceeded 220 mm.
이상의 실험예 1, 2로부터, 본 실시 형태의 효과는 명백하다. 또한, 열저항이 0.2㎡·K/W 이상인 구획 부재(단열재)를 사용하여, 시트 글래스의 양단부의 점도가 109.0∼1014.5dPa·초로 되도록 냉각하는 것이, 시트 글래스의 수축량을 억제하는 점에서 바람직한 것을 알 수 있었다.From the above Experimental Examples 1 and 2, the effect of this embodiment is clear. In addition, it is preferable to use a partition member (heat insulating material) having a thermal resistance of 0.2 m 2 · K / W or more to cool the sheet glass so that the viscosity at both ends of the sheet glass is 10 9.0 to 10 14.5 dPa · sec, Which is preferable.
이상, 본 발명의 글래스 기판의 제조 방법 및 글래스 기판 제조 장치에 대해 상세하게 설명하였지만, 본 발명은 상기 실시 형태나 실시예로 한정되지 않고, 본 발명의 주지를 일탈하지 않는 범위에서, 다양한 개량이나 변경을 해도 되는 것은 물론이다.While the present invention has been particularly shown and described with respect to a preferred embodiment thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, Needless to say, it can be changed.
32 : 온도 제어 유닛
41 : 성형체
41a : 성형체의 하단부
41b : 성형체의 정상부
50 : 구획 부재
51 : 냉각 롤러
60 : 냉각 유닛
61 : 중앙부 냉각 유닛
62 : 중앙 상부 냉각 유닛
63a, 63b : 중앙 하부 냉각 유닛
71 : 단부 냉각 유닛
72 : 단상부 냉각 유닛
73 : 단하부 냉각 유닛32: Temperature control unit
41: molded article
41a: Lower end of the molded article
41b:
50: partition member
51: cooling roller
60: cooling unit
61: central cooling unit
62: Central upper cooling unit
63a, 63b: central lower cooling unit
71: end cooling unit
72: Single phase cooling unit
73: Lower cooling unit
Claims (11)
상기 시트 글래스를, 상기 성형로실을 상부 공간과 하부 공간으로 구획하는 단열 부재에 의해 만들어지는 슬릿 형상의 간극을 통과시키는 공정과,
상기 하부 공간에 있어서, 적어도 냉각 롤러를 이용하여 상기 시트 글래스의 양단부를 냉각하는 공정을 갖고,
상기 단열 부재는, 하기 (1) 및 (2)를 실현하는 단열성을 갖는 재료가 사용되는 것으로,
(1) 상기 시트 글래스를 성형하는 공정에 있어서, 상기 용융 글래스가 상기 성형체를 통과할 때의 상기 용융 글래스의 온도가 액상 온도 이상이고, 또한 상기 용융 글래스가 상기 성형체의 최하단부를 통과할 때의 상기 용융 글래스의 양단부의 점도가 104.3∼106dPa·초로 되고,
또한,
(2) 상기 시트 글래스를 냉각하는 공정에 있어서, 상기 시트 글래스의 중앙부의 온도가 연화점에 15℃를 가산한 온도로부터, 변형점과 서랭점의 합을 2로 나눈 값의 온도까지의 온도 영역에 있을 때, 상기 냉각 롤러에 의해 상기 시트 글래스의 양단부의 점도가 109.0∼1014.5dPa·초로 되는, 글래스 기판의 제조 방법. A step of forming a sheet glass by overflowing the molten glass from the molded body in an upper space of the molding furnace surrounded by the furnace wall,
A step of passing the sheet glass through a slit-shaped gap formed by a heat insulating member that divides the molding furnace chamber into an upper space and a lower space;
And cooling the both ends of the sheet glass using at least a cooling roller in the lower space,
The heat insulating member is made of a heat insulating material that realizes the following (1) and (2)
(1) In the step of molding the sheet glass, the temperature of the molten glass when the molten glass passes through the formed body is not lower than the liquidus temperature, and when the molten glass passes through the lowermost end of the formed body, The viscosity of both ends of the molten glass is 10 4.3 to 10 6 dPa · sec,
Also,
(2) In the step of cooling the sheet glass, the temperature of the central portion of the sheet glass is set to a temperature range from a temperature obtained by adding 15 캜 to the softening point, and a temperature of a value obtained by dividing the sum of the deformation point and stand- The viscosity of both end portions of the sheet glass becomes 10 9.0 to 10 14.5 dPa · sec by the cooling roller.
상기 단열 부재의 상기 상부 공간과 상기 하부 공간과의 사이의 열저항은, 상기 상부 공간의 분위기 온도에 있어서 0.2㎡·K/W 이상인 글래스 기판의 제조 방법.The method according to claim 1,
Wherein a thermal resistance between the upper space and the lower space of the heat insulating member is 0.2 m 2 K · W or more at an atmosphere temperature of the upper space.
상기 하부 공간에 있어서,
상기 시트 글래스의 상기 중앙부에 있어서의 폭 방향의 온도 분포를 균일하게 하고, 또한, 상기 시트 글래스의 양단부의 온도를, 상기 중앙부의 온도보다 낮게 하는 공정과,
상기 양단부 및 상기 중앙부의 온도를, 상기 중앙부의 온도보다 낮게 하는 공정에 있어서의 상기 양단부 및 상기 중앙부의 온도보다 저온으로 하고, 또한, 상기 중앙부의 폭 방향의 중심으로부터 상기 양단부를 향해 상기 시트 글래스의 폭 방향으로 온도 구배를 형성하는 공정을 갖는 글래스 기판의 제조 방법.The method according to claim 1,
In the lower space,
The temperature distribution in the width direction at the central portion of the sheet glass is made uniform and the temperature at both end portions of the sheet glass is made lower than the temperature at the central portion;
The temperature of the both end portions and the central portion is lower than the temperature of the both end portions and the central portion in the step of lowering the temperature of the central portion, And forming a temperature gradient in the width direction.
상기 하부 공간에 있어서,
상기 시트 글래스의 상기 중앙부에 있어서의 폭 방향의 온도 분포를 균일하게 하고, 또한, 상기 시트 글래스의 양단부의 온도를, 상기 중앙부의 온도보다 낮게 하는 공정과,
상기 양단부 및 상기 중앙부의 온도를, 상기 중앙부의 온도보다 낮게 하는 공정에 있어서의 상기 양단부 및 상기 중앙부의 온도보다 저온으로 하고, 또한, 상기 중앙부의 폭 방향의 중심으로부터 상기 양단부를 향해 상기 시트 글래스의 폭 방향으로 온도 구배를 형성하는 공정을 갖는 글래스 기판의 제조 방법.3. The method of claim 2,
In the lower space,
The temperature distribution in the width direction at the central portion of the sheet glass is made uniform and the temperature at both end portions of the sheet glass is made lower than the temperature at the central portion;
The temperature of the both end portions and the central portion is lower than the temperature of the both end portions and the central portion in the step of lowering the temperature of the central portion, And forming a temperature gradient in the width direction.
상기 시트 글래스에 있어서의 글래스의 액상 점도가, 104.3dPa·초∼106.7dPa·초인 글래스 기판의 제조 방법.5. The method according to any one of claims 1 to 4,
Wherein a liquidus viscosity of the glass in the sheet glass is 10 4.3 dPa · sec to 10 6.7 dPa · sec.
상기 글래스 기판의 변형점은, 670℃ 이상인 글래스 기판의 제조 방법.5. The method according to any one of claims 1 to 4,
Wherein a strain point of the glass substrate is 670 캜 or higher.
상기 글래스 기판의 변형점은, 670℃ 이상인 글래스 기판의 제조 방법.6. The method of claim 5,
Wherein a strain point of the glass substrate is 670 캜 or higher.
상기 양단부를 냉각하는 공정은, 상기 시트 글래스의 양단부의 점도가 상기 냉각 롤러에 의해 109.0~1010.5dPa·초가 되도록 냉각하는 것을 포함하는, 글래스 기판의 제조 방법.5. The method according to any one of claims 1 to 4,
Wherein the step of cooling both end portions comprises cooling the sheet glass so that the viscosity of both end portions of the sheet glass is 10 9.0 to 10 10.5 dPa · sec by the cooling roller.
상기 양단부를 냉각하는 공정은, 상기 시트 글래스의 양단부의 점도가 109.0~1010.5dPa·초가 되도록 냉각 롤러에 의해 냉각하고, 상기 냉각 후, 상기 시트 글래스에 대해 이격되어 설치된 냉각 유닛에 의해, 상기 냉각 롤러에 비해 냉각능(冷却能)을 낮추어 상기 양단부를 냉각함으로써, 상기 양단부의 점도가 109.0~1014.5 dPa·초가 되는 것을 포함하는, 글래스 기판의 제조 방법.5. The method according to any one of claims 1 to 4,
Wherein the step of cooling both ends is carried out by cooling the sheet glass with a cooling roller so that the viscosity of both end portions of the sheet glass is 10 9.0 to 10 10.5 dPa · seconds, And cooling the both end portions by lowering the cooling ability (cooling ability) as compared with the cooling roller, so that the viscosity at both end portions becomes 10 9.0 to 10 14.5 dPa · sec.
상기 시트 글래스를, 상기 성형로실을 상부 공간과 하부 공간으로 구획하는 단열 부재에 의해 만들어지는 슬릿 형상의 간극을 통과시키는 공정과,
상기 하부 공간에 있어서, 상기 시트 글래스의 양단부를 냉각하는 공정을 갖고,
상기 단열 부재는,
(1) 상기 시트 글래스를 성형하는 공정에 있어서, 상기 용융 글래스가 상기 성형체를 통과할 때의 상기 용융 글래스의 온도가 액상 온도 이상이며, 또한 상기 용융 글래스가 상기 성형체의 최하단부를 통과할 때의 상기 용융 글래스의 양단부의 점도가 104.3~106dPa· 초로 되고,
또한,
(2) 상기 시트 글래스를 냉각하는 공정에 있어서, 상기 시트 글래스의 중앙부의 온도가 연화점에 15 ℃를 가산한 온도로부터, 변형점과 서랭점의 합을 2로 나눈 값의 온도까지의 온도 영역에 있을 때, 상기 시트 글래스의 양단부의 점도가 109.0~1014.5dPa·초로 되도록, 단열성을 갖는 재료가 사용되며,
상기 양단부를 냉각하는 공정에서,
상기 시트 글래스가 상기 성형체에서 이격된 후, 상기 시트 글래스의 중앙부의 온도가 상기 온도 영역에 있을 때, 상기 시트 글래스에 접촉하도록 설치되는 제 1 열처리 유닛에 의해 상기 시트 글래스의 양단부를 열처리하고, 그 후, 상기 시트 글래스와 이격되어 설치되는 제 2 열처리 유닛에 의해 상기 시트 글래스의 상기 양단부를 열처리하여, 상기 시트 글래스의 상기 양단부를 향해 장력을 가하면서 상기 양단부의 점도를 109.0~1014.5dPa·초의 범위 내에서 유지하는 것을 특징으로 하는, 글래스 기판의 제조 방법.A step of forming a sheet glass by overflowing the molten glass from the molded body in an upper space of the molding furnace surrounded by the furnace wall,
A step of passing the sheet glass through a slit-shaped gap formed by a heat insulating member that divides the molding furnace chamber into an upper space and a lower space;
And cooling the both end portions of the sheet glass in the lower space,
The heat insulating member
(1) In the step of molding the sheet glass, the temperature of the molten glass when the molten glass passes through the formed body is not lower than the liquid temperature, and when the molten glass passes through the lowermost end of the formed body, The viscosity of both ends of the molten glass becomes 10 4.3 to 10 6 dPa · sec,
Also,
(2) In the step of cooling the sheet glass, the temperature of the central portion of the sheet glass is set to a temperature range from a temperature obtained by adding 15 캜 to the softening point, and a temperature of a value obtained by dividing the sum of the deformation point and stand- A material having a heat insulating property is used so that the viscosity at both ends of the sheet glass is 10 9.0 to 10 14.5 dPa · sec,
In the step of cooling both ends,
Heat treating both ends of the sheet glass by a first heat treatment unit provided so as to be in contact with the sheet glass when the temperature of the central portion of the sheet glass is in the temperature region after the sheet glass is separated from the formed body, The both end portions of the sheet glass are heat treated by a second heat treatment unit which is disposed apart from the sheet glass so as to apply a tensile force toward the both end portions of the sheet glass and to adjust the viscosity of the both end portions to 10 9.0 to 10 14.5 dPa · Lt; RTI ID = 0.0 > (m / sec) < / RTI >
상기 성형로실을 상부 공간과 하부 공간으로 구획하고, 시트 글래스가 통과하는 슬릿 형상의 간극을 형성하는 단열 부재와,
상기 성형로실의 상기 상부 공간에 설치되고, 용융 글래스를 오버 플로우시켜 시트 글래스를 성형하는 성형체와,
상기 하부 공간에 있어서 상기 시트 글래스의 양단부를 냉각하는 냉각 부재로서 적어도 냉각 롤러를 갖고,
상기 단열 부재는, 하기 (1) 및 (2)를 실현하는 단열성을 갖는 재료가 사용되는 것으로,
(1) 상기 시트 글래스를 성형하는 공정에 있어서, 상기 용융 글래스가 상기 성형체를 통과할 때의 상기 용융 글래스의 온도가 액상 온도 이상이고, 또한 상기 용융 글래스가 상기 성형체의 최하단부를 통과할 때의 상기 용융 글래스의 양단부의 점도가 104.3∼106dPa·초로 되고,
또한,
(2) 상기 시트 글래스를 냉각하는 공정에 있어서, 상기 시트 글래스의 중앙부의 온도가 연화점에 15℃를 가산한 온도로부터, 변형점과 서랭점의 합을 2로 나눈 값의 온도까지의 온도 영역에 있을 때, 상기 냉각 롤러에 의해 상기 시트 글래스의 양단부의 점도가 109.0∼1014.5dPa·초로 되는, 글래스 기판 제조 장치.A molding furnace surrounded by a furnace wall,
An insulating member which divides the molding furnace chamber into an upper space and a lower space and forms a slit-shaped gap through which the sheet glass passes;
A molded body provided in the upper space of the molding furnace for overflowing the molten glass to form a sheet glass,
And at least a cooling roller serving as a cooling member for cooling both ends of the sheet glass in the lower space,
The heat insulating member is made of a heat insulating material that realizes the following (1) and (2)
(1) In the step of molding the sheet glass, the temperature of the molten glass when the molten glass passes through the formed body is not lower than the liquidus temperature, and when the molten glass passes through the lowermost end of the formed body, The viscosity of both ends of the molten glass is 10 4.3 to 10 6 dPa · sec,
Also,
(2) In the step of cooling the sheet glass, the temperature of the central portion of the sheet glass is set to a temperature range from a temperature obtained by adding 15 캜 to the softening point, and a temperature of a value obtained by dividing the sum of the deformation point and stand- , The viscosity of both ends of the sheet glass is 10 9.0 to 10 14.5 dPa · sec by the cooling roller.
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