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KR101585935B1 - Apparatus of heat treatment of microporous membrane - Google Patents

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KR101585935B1
KR101585935B1 KR1020140039239A KR20140039239A KR101585935B1 KR 101585935 B1 KR101585935 B1 KR 101585935B1 KR 1020140039239 A KR1020140039239 A KR 1020140039239A KR 20140039239 A KR20140039239 A KR 20140039239A KR 101585935 B1 KR101585935 B1 KR 101585935B1
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Abstract

적외선을 이용하여 낮은 수축율 및 높은 기공율을 가지면서 두께 방향 및 기계 방향으로 기공이 균일하게 형성되는 미세 다공막의 열처리를 위한 장치를 제시한다. 그 장치는 적외선을 발생시키는 적외선 발생부 및 적외선 발생부로부터 공간적으로 이격되고 미세 다공막이 접촉되는 표면에 열흡수층이 형성된 상온 롤을 포함한다. We propose an apparatus for heat treatment of microporous membranes with low shrinkage and high porosity by using infrared ray and uniformly forming pores in the thickness direction and machine direction. The apparatus includes an infrared ray generating unit for generating infrared rays and a normal temperature roll having a heat absorbing layer formed on a surface thereof which is spatially separated from the infrared ray generating unit and brought into contact with the microporous membrane.

Description

미세 다공막의 열처리를 위한 장치{Apparatus of heat treatment of microporous membrane}[0001] Apparatus for heat treatment of microporous membrane [0002]

본 발명은 미세 다공막 제조장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 적외선을 이용하여 미세 다공막에 기공을 형성하는 열처리를 위한 장치에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to an apparatus for manufacturing a microporous film, and more particularly, to a device for a heat treatment for forming pores in a microporous film by using infrared rays.

미세 다공막은 정밀한 여과막, 전지용 분리막, 콘덴서용 분리막 등에 사용된다. 그 중에서 리튬이온 전지용 분리막으로 사용하는 경우, 기계적인 강도 및 전해질의 투과도와 같이 일반적으로 요구되는 특성이 좋아야 한다. 전지용 분리막은 낮은 수축율 및 높은 기공율을 가지기 위하여 열처리 공정을 거쳐 제조된다. 열처리는 온풍, 열풍, 저습풍, 적외선, 전자선 등의 조사 등에 의해 행해지나, 최근에는 적외선의 활용이 증가하는 추세이다. 적외선을 다공막에 조사하여 열처리를 하면, 분리막에 결정화가 일어나고 이를 연신 시 기공이 형성된다. 이에 따라, 전체적으로 균일하고 높은 기공률을 갖으면서 수축이 잘 일어나지 않는 분리막을 제조하기 위해서는 열처리를 하는 장치가 매우 중요하다.Microporous membranes are used for precise filtration membranes, separators for batteries, separators for capacitors, and the like. Among them, when used as a separator for a lithium ion battery, generally required characteristics such as mechanical strength and electrolyte permeability should be good. The battery separator is manufactured through a heat treatment process so as to have a low shrinkage ratio and a high porosity. Heat treatment is carried out by irradiation with hot air, hot air, low-humidity air, infrared rays, electron beams, and the like. Recently, however, the use of infrared rays is increasing. When the infrared ray is irradiated on the porous film and subjected to heat treatment, crystallization occurs in the separation film, and pores are formed when the film is stretched. Accordingly, a device for performing a heat treatment is very important in order to manufacture a separation membrane which has uniformity, high porosity and does not shrink easily.

한편, 상기 기공은 미세 다공막의 두께 방향 및 기계방향으로 균일하게 형성되는 것이 바람직하다. 국내공개특허 제2012-0091028호는 미세 다공막의 건조를 위하여, 적외선 등을 적용하는 방법이 제시되어 있다. 하지만, 상기 특허는 적외선에서 발생한 열이 미세 다공막에 작용하여 기공을 형성하는 과정 및 미세 다공막의 기공을 두께 방향 및 기계 방향으로 균일하게 형성하는 방법 등이 구체적으로 제시되어 있지 않다. 이에 따라, 적외선을 이용하여, 미세 다공막이 낮은 수축율 및 높은 기공율을 가지도록 하는 열처리 장치 및 그에 의한 열처리 방법이 요구되고 있다. On the other hand, it is preferable that the pores are uniformly formed in the thickness direction and the machine direction of the microporous membrane. Japanese Laid-Open Patent Application No. 2012-0091028 discloses a method of applying infrared rays or the like for drying a microporous membrane. However, the above patent does not specifically disclose a process in which heat generated from infrared rays acts on a microporous membrane to form pores, and a method of uniformly forming pores of the microporous membrane in the thickness direction and the machine direction. Accordingly, there is a demand for a heat treatment apparatus and a heat treatment method therefor that use a infrared ray to make a microporous film have a low shrinkage ratio and a high porosity.

본 발명이 해결하고자 하는 과제는 적외선을 이용하여 낮은 수축율 및 높은 기공율을 가지면서 두께 방향 및 기계 방향으로 기공이 균일하게 형성되는 미세 다공막의 열처리를 위한 장치를 제공하는 데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an apparatus for heat treatment of a microporous membrane having a low shrinkage ratio and a high porosity by using infrared rays and uniformly forming pores in a thickness direction and a machine direction.

본 발명의 과제를 해결하기 위한 미세 다공막의 열처리를 위한 장치는 적외선을 발생시키는 적외선 발생부 및 상기 적외선 발생부로부터 공간적으로 이격되고, 미세 다공막이 접촉되는 표면에 열흡수층이 형성된 상온 롤을 포함한다. An apparatus for heat treatment of a microporous membrane for solving the problems of the present invention includes an infrared ray generating unit for generating infrared rays and a normal temperature roll having a heat absorbing layer formed on a surface thereof which is spatially separated from the infrared ray generating unit and is in contact with the microporous membrane .

본 발명의 장치에 있어서, 상기 적외선 발생부는 적외선 면광원을 발생할 수 있다. 상기 열흡수층의 두께는 100㎛ 내지 10,000㎛이 바람직하다. 상기 열흡수층은 열을 흡수하는 물질이 첨가된 고무 소재로 이루어질 수 있다. In the apparatus of the present invention, the infrared ray generator may generate an infrared ray surface light source. The thickness of the heat absorbing layer is preferably 100 占 퐉 to 10,000 占 퐉. The heat absorbing layer may be made of a rubber material to which a heat absorbing material is added.

본 발명의 열흡수층에 있어서, 상기 고무 소재는 테프론을 포함한 불소 고무, 아크릴 고무, 폴리우레탄 고무, 폴리아미드 고무, 천연 고무, 폴리이소부틸렌 고무, 폴리이소프렌 고무, 클로로프렌 고무, 부틸 고무, 니트릴 부틸 고무, 스티렌-부타디엔 고무, 스티렌-부타디엔-스티렌 고무, 스티렌-이소프렌-스티렌 고무, 스티렌-에틸렌-부타디엔 고무, 스티렌-에틸렌-부틸렌-스티렌 고무, 스티렌-이소프렌-프로필렌-스티렌 고무, 실리콘 고무, 클로로술폰화 폴리에틸렌 고무 중에 선택된 어느 하나 또는 이의 혼합물 중에 선택된 어느 하나일 수 있다. In the heat absorbing layer of the present invention, the rubber material may be at least one selected from the group consisting of fluorine rubber including Teflon, acrylic rubber, polyurethane rubber, polyamide rubber, natural rubber, polyisobutylene rubber, polyisoprene rubber, chloroprene rubber, butyl rubber, Butadiene-styrene rubber, styrene-isoprene-styrene rubber, styrene-ethylene-butadiene rubber, styrene-ethylene-butylene-styrene rubber, styrene-isoprene-propylene-styrene rubber, silicone rubber, And a chlorosulfonated polyethylene rubber, or a mixture thereof.

상기 열을 흡수하는 물질은 금을 포함한 금속 나노입자, 카본 블랙, 철흑, VO2, Ti2O3, NbO2, SnO, Sb2O3, Sb2O4, Sb2O5, NiS, CuF2, CuFOH, Cu(OH)2, Cu3(PO4)2ㆍ2H2O, Cu3(PO4)2, Cu2PO4(OH), Cu3(PO4)2ㆍCu(OH)2, Cu3(PO4)(OH)3, Cu5(PO4)3(OH)4, CuAl6(PO4)4(OH)8ㆍ5H2O, Cu2P2O7ㆍ3H2O, Cu2P2O7, Cu3(P3O9)2, FeF2ㆍ4H2O, FeF2, Fe3(PO4)2ㆍ8H2O, LiFePO4, NaFePO4, Fe2SiO4, FexMg2-xSiO4, FeCO3, Ni3(PO4)2ㆍ8H2O, TiP3O9. Ca2Fe(PO4)2ㆍ4H2O, MgFePO4F, YbPO4 및 AxMyO3형태의 페로브스카이트 구조(A는 금속 중에서 선택된 어느 하나이며, M은 전이금속 중에서 선택된 어느 하나이며, O는 산소이며, x, y는 0< x≤1, 0< y ≤1) 중에 선택된 적어도 어느 하나일 수 있다.Substance to absorb the heat the metal nanoparticles, including gold, carbon black, iron black, VO 2, Ti 2 O 3 , NbO 2, SnO, Sb 2 O 3, Sb 2 O 4, Sb 2 O 5, NiS, CuF 2, CuFOH, Cu (OH) 2, Cu 3 (PO 4) 2 and 2H 2 O, Cu 3 (PO 4) 2, Cu 2 PO 4 (OH), Cu 3 (PO 4) 2 and Cu (OH) 2, Cu 3 (PO 4) (OH) 3, Cu 5 (PO 4) 3 (OH) 4, CuAl 6 (PO 4) 4 (OH) 8 and 5H 2 O, Cu 2 P 2 O 7 and 3H 2 O, Cu 2 P 2 O 7 , Cu 3 (P 3 O 9 ) 2 , FeF 2揃 4H 2 O, FeF 2 , Fe 3 (PO 4 ) 2揃 8H 2 O, LiFePO 4 , NaFePO 4 , Fe 2 SiO 4 , Fe x Mg 2 - x SiO 4 , FeCO 3 , Ni 3 (PO 4 ) 2 .8H 2 O, TiP 3 O 9 . A perovskite structure in the form of Ca 2 Fe (PO 4 ) 2 .4H 2 O, MgFePO 4 F, YbPO 4 and A x M y O 3 (where A is any one selected from metals and M is any one selected from transition metals , O is oxygen, and x and y are 0 <x? 1, 0 <y? 1).

상기 열을 흡수하는 물질은 붕산염 혼합물, 탄산염 혼합물, 반토 혼합물, 질산염 혼합물, 아질산염 혼합물, 리튬 붕산염과 나트륨 붕산염, 칼륨 붕산염, 마그네슘 붕산염, 칼슘 붕산염, 스트론튬 붕산염, 바륨 붕산염, 나트륨 붕산염, 코레마나이트(colemanite), 리튬 탄산염, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 칼슘 탄산염, 방해석, CaCO3, 백운석 및 마그네사이트(magnesite) 중에 선택된 어느 하나 이상일 수 있으며, 상기 열을 흡수하는 물질은 니켈디티올계, 디티올계 금속 착체 화합물, 시아닌계, 스크와리움계, 크로코니움계, 디이모늄계, 아미늄계, 암모늄계, 프탈로시아닌계, 나프탈로시아닌계 및 아미늄계, 안트라퀴논계, 나프토퀴논계, 고분자 축합 아조계 피롤, 폴리메틴계 및 프로피린계로부터 선택되는 1종 이상의 염료일 수 있다.The heat absorbing material may be selected from the group consisting of a borate salt mixture, a carbonate mixture, an alumina mixture, a nitrate mixture, a nitrite mixture, lithium borate and sodium borate, potassium borate, magnesium borate, calcium borate, strontium borate, barium borate, sodium borate, colemanite), lithium carbonate, sodium carbonate, can be at least one selected among potassium carbonate, calcium carbonate, calcite, CaCO 3, dolomite and magnesite (magnesite), material for absorbing the heat is nickel dithiol, dithiol metal complex compound, Based polymer, a cyanine-based polymer, a cyanide-based polymer, a cyanide-based polymer, a zirconium-based polymer, a croconium-based polymer, a diimmonium- Propylene-based dyes.

바람직한 본 발명의 장치에 있어서, 상기 상온 롤 및 상기 열흡수층 사이에 열전도층을 더 구비할 수 있다. 상기 열전도층은 금, 은, 구리, 알루미늄, 니켈 중에서 선택된 어느 하나 또는 이들의 합금을 포함할 수 있다. 상기 열전도층의 두께는 100㎛ 내지 1,000㎛이 좋다.In the preferred apparatus of the present invention, a thermally conductive layer may further be provided between the normal temperature roll and the heat absorbing layer. The thermally conductive layer may include any one selected from gold, silver, copper, aluminum, and nickel, or an alloy thereof. The thickness of the heat conduction layer is preferably 100 m to 1,000 m.

본 발명의 미세 다공막의 열처리를 위한 장치에 의하면, 다공막에서 열이 투과되도록 하는 열흡수층이 형성된 상온 롤을 활용함으로써, 적외선을 이용하여 낮은 수축율 및 높은 기공율을 가지면서 두께 방향 및 기계 방향으로 기공이 균일한 미세다공막이 형성된다. 또한, 열흡수층과 상온 롤 사이에 열전도층을 부가하여, 다공막에서의 열 분포를 보다 균등하게 할 수 있다.According to the apparatus for heat treatment of the microporous membrane of the present invention, by using the normal temperature roll formed with the heat absorbing layer for allowing the heat to permeate through the porous membrane, it is possible to use the infrared ray to have a low shrinkage ratio and a high porosity, A microporous membrane having uniform pores is formed. Further, by adding a heat conductive layer between the heat absorbing layer and the normal temperature roll, the heat distribution in the porous film can be more uniform.

도 1은 본 발명에 의한 미세 다공막 열처리 장치를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 2는 본 발명에 의한 열처리 장치에 의한 열의 이동경로를 개념적으로 설명하기 위한 도면이다.
도 3a는 열흡수층이 없는 종래의 열처리 장치에 의해 제조된 미세 다공막의 전자현미경 사진이다.
도 3b는 열흡수층이 있는 본 발명의 열처리 장치에 의해 제조된 미세 다공막의 전자현미경 사진이다.
1 is a schematic view of a heat treatment apparatus for a microporous membrane according to the present invention.
FIG. 2 is a view for conceptually explaining the heat transfer path by the heat treatment apparatus according to the present invention.
3A is an electron micrograph of a microporous membrane produced by a conventional heat treatment apparatus without a heat absorbing layer.
3B is an electron micrograph of a microporous membrane produced by the heat treatment apparatus of the present invention having a heat absorbing layer.

이하 첨부된 도면을 참조하면서 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다. 다음에서 설명되는 실시예는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술되는 실시예에 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 실시예는 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위하여 제공되는 것이다. Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The embodiments described below can be modified into various other forms, and the scope of the present invention is not limited to the embodiments described below. The embodiments of the present invention are provided to enable those skilled in the art to more fully understand the present invention.

본 발명의 실시예는 적외선에 의해 다공막에 유입되는 열이 투과되도록 유도하는 열흡수층이 형성된 상온 롤을 활용함으로써, 낮은 수축율 및 높은 기공율을 가지면서 두께 방향 및 기계 방향으로 기공이 균일하게 형성되는 미세 다공막의 열처리를 위한 장치를 제시한다. 이를 위해, 열을 투과할 수 있는 상온 롤의 구조에 대하여 구체적으로 살펴보고, 그에 따른 미세 다공막의 특성에 대하여 상세하게 알아보기로 한다. 여기서, 열의 투과는 열이 산란이나 반사로 인한 영향을 받지 않고 미세 다공막의 두께 방향으로 통과하는 것을 말한다. 열의 산란 및 반사가 일어나면, 외부로의 열손실이 커져 다공막 전체에 걸쳐 열이 균등하게 분포되지 않으므로, 다공막의 결정화가 균일하게 일어나지 않는다. 본 발명의 실시예에서 열의 투과는 본 발명의 미세 다공막의 결정화에 주된 요인이 되는 것으로, 이는 본 발명의 범주 내에서 자명하다 할 것이다. The embodiment of the present invention utilizes a normal temperature roll having a heat absorbing layer for inducing heat to be transmitted through the porous membrane by infrared rays, thereby achieving uniformity of pores in the thickness direction and the machine direction with low shrinkage ratio and high porosity An apparatus for heat treatment of microporous membranes is presented. For this purpose, the structure of the roll at room temperature capable of transmitting heat will be described in detail, and the characteristics of the microporous film thus obtained will be described in detail. Here, heat transmission means that heat passes through the thickness direction of the microporous membrane without being affected by scattering or reflection. When heat is scattered and reflected, heat loss to the outside becomes large, and heat is not evenly distributed throughout the porous film, so crystallization of the porous film does not occur uniformly. In the embodiment of the present invention, heat transmission is a main factor for crystallization of the microporous membrane of the present invention, and this will be apparent within the scope of the present invention.

도 1은 본 발명의 실시예에 의한 미세 다공막 열처리 장치를 개략적으로 나타내는 도면이다. 물론, 상기 열처리 장치를 구체적으로 동작시키기 위한 부가적인 장치는 본 발명의 범주 내에서 다양하게 설치할 수 있다. 설명의 편의를 위하여, 열처리 전의 미세 다공막(30)은 결정화 전 미세 다공막(30)이고, 열처리 후의 미세 다공막(31)은 결정화된 미세 다공막(31)으로 구분한다. 결정화된 미세 다공막(30)은 추후에 연신 공정 등을 거쳐 기공이 형성된다. 미세 다공막(30)은 결정화 전 미세 다공막(30) 및 결정화된 미세 다공막(31)을 통칭하여 표현될 수 있다. 또한, 열이 상온 롤(10)의 중심으로 향하면 두께 방향 그리고, 상온 롤(10)의 회전 방향으로 향하면 기계 방향이라고 정의한다. 1 is a view schematically showing an apparatus for heat treating a microporous film according to an embodiment of the present invention. Of course, additional devices for operating the heat treatment apparatus may be variously installed within the scope of the present invention. For convenience of explanation, the microporous membrane 30 before the heat treatment is the pre-crystallization microporous membrane 30, and the microporous membrane 31 after the heat treatment is divided into the crystallized microporous membrane 31. The crystallized microporous membrane 30 is subsequently subjected to a drawing process or the like to form pores. The microporous membrane 30 can be expressed collectively as a pre-crystallization microporous membrane 30 and a crystallized microporous membrane 31. When the heat is directed to the center of the normal temperature roll 10, it is defined as the thickness direction, and when it is directed to the rotating direction of the normal temperature roll 10, it is defined as the machine direction.

도 1을 참조하면, 본 발명의 열처리 장치는 소정의 간격만큼 공간적으로 떨어진 적외선 발생부(40) 및 상온 롤(10)을 포함한다. 결정화 전 미세 다공막(30)은 공급 롤(20)로부터 공급 받아 상온 롤(10) 상에서 열처리 되고, 결정화된 미세 다공막(31)은 권취 롤(22)에 의해 권취된다. 결정화된 미세 다공막(31)은 추후 연신 공정, 열고정 공정 등을 거치면 내부에 미세한 기공들이 형성될 것으로, 여과막, 전지용 분리막, 콘덴서용 분리막 등에 사용된다. 상기 적외선은 700nm 내지 2500nm 파장 대역에 해당하며, 특히 800nm 내지 1500nm 대역에 해당하는 파장대역이 바람직하다. Referring to FIG. 1, the thermal processing apparatus of the present invention includes an infrared ray generator 40 and a room temperature roll 10 spatially separated by a predetermined interval. The pre-crystallization microporous film 30 is supplied from the supply roll 20 and heat-treated on the room temperature roll 10, and the crystallized microporous film 31 is wound by the winding roll 22. [ The crystallized microporous membrane 31 will be formed into fine pores inside the membrane after the drawing step, the heat fixing step, and the like, and is used for a filtration membrane, a separator for a battery, a separator for a condenser, and the like. The infrared ray corresponds to a wavelength band of 700 nm to 2500 nm, and particularly preferably a wavelength band corresponding to a band of 800 nm to 1500 nm.

적외선 발생부(40)에 의한 열의 공급은 열대류방식이 아닌 빛 에너지에 의한 열이 직접 미세 다공막(30)에 전달된다. 적외선 발생부(40)는 다양한 형태가 가능하나, 적외선을 발생하는 램프(도시되지 않음)가 장착된 적외선 히터가 좋다. 적외선 발생부(40)의 적외선은 상기 램프의 배열을 조절하여 상기 열이 기계 방향에 걸쳐 미세 다공막(30)에 균일하게 조사되도록 한다. 상기 기계 방향으로의 열의 분포는 적외선 발생부(40)에 의해 보다 정밀하게 조절될 수 있다.The heat generated by the light energy is transmitted directly to the microporous membrane 30 instead of the thermal flow system. The infrared ray generator 40 may take various forms, but an infrared ray heater equipped with a lamp (not shown) for generating infrared rays is preferable. The infrared rays of the infrared ray generator 40 adjust the arrangement of the lamps so that the heat is uniformly irradiated to the microporous film 30 across the machine direction. The distribution of heat in the machine direction can be more precisely controlled by the infrared ray generator 40.

상온 롤(10)은 원통 형태가 바람직하며, 둘레에는 본 발명의 실시예에 의한 열흡수층(16)이 형성되어 있다. 상온 롤(10)의 온도는 100℃ 내지 150℃의 온도를 유지하는 것이 좋고, 이를 위해 열매통로(12)에 열매가 공급될 수 있다. 상온 롤(10)은 열충격 및 부식 등에 강한 스테인레스강과 같은 금속을 사용할 수 있다. 미세 다공막(30)은 상온 롤(10)의 열흡수층(16)에 접촉되면서 이동한다. 미세 다공막(30)이 열처리되는 과정에서, 상온 롤(10)은 미세 다공막(30)이 이송되는 방향으로 회전하는 것이 바람직하다. 미세 다공막(30)은 열처리를 거치면, 내부에 결정화가 일어난다. 상기 결정화는 결정화의 배향이 일정하지 않은 형태, 즉 무배향인 것이 바람직하다. 본 발명의 실시예에 의한 무배향으로 결정화된 미세 다공막(31)은 추후에 연신 공정 및 열 고정 공정 등을 거치면, 결정들 사이의 영역에서 기공이 형성된다. 결정 사이의 무정형 부위는 상대적으로 약한 결합력을 가진다.The room temperature roll 10 is preferably in the form of a cylinder, and the heat absorbing layer 16 according to the embodiment of the present invention is formed around the roll. The temperature of the normal-temperature roll 10 is preferably maintained at a temperature of 100 ° C to 150 ° C, and the fruit passage 12 can be fed with the fruit. The normal temperature roll 10 may be made of a metal such as stainless steel which is resistant to thermal shock and corrosion. The microporous membrane 30 moves while contacting the heat absorbing layer 16 of the normal temperature roll 10. In the course of the heat treatment of the microporous membrane 30, it is preferable that the normal-temperature roll 10 be rotated in the direction in which the microporous membrane 30 is conveyed. When the microporous membrane 30 is subjected to heat treatment, crystallization occurs inside. It is preferable that the crystallization is a form in which the orientation of crystallization is not constant, that is, no orientation. The microporous film 31 crystallized in the non-oriented state according to the embodiment of the present invention forms pores in the region between the crystals after the drawing step, the heat fixing step, and the like. The amorphous part between crystals has a relatively weak bonding force.

일반적으로, 결정화된 미세 다공막(31)은 기계 방향으로 분자가 배열된다. 결정화된 미세 다공막(31)을 일정시간 동안 열에 노출시키면, 잔류응력에 의해 결정화된 미세 다공막(31)의 분자는 기계 방향의 반대 방향으로 되돌아가려는 특성으로 인하여, 열수축이 일어난다. 본 발명의 실시예와 같이, 열처리에 의해 배향으로 결정화된 미세 다공막(31)을 형성하면, 배열된 분자의 잔류 응력이 제거되어 열수축을 방지할 수 있다. 이는 결정들의 배향이 무배향으로써, 잔류 응력이 특정한 방향으로 편재되지 않은 것이기 때문이다.Generally, the crystallized microporous membrane 31 has molecules arranged in the machine direction. If the crystallized microporous membrane 31 is exposed to heat for a certain period of time, the molecules of the microporous membrane 31 crystallized by the residual stress tend to return to the opposite direction of the machine direction, resulting in heat shrinkage. As in the embodiment of the present invention, when the microporous membrane 31 crystallized in the orientation by the heat treatment is formed, the residual stress of the arranged molecules can be removed and the heat shrinkage can be prevented. This is because the orientation of the crystals is anisotropic and the residual stress is not localized in a particular direction.

열처리 영역(a)은 적외선 발생부(40)로부터 조사되는 적외선에 의해 미세 다공막(30)이 열처리되는 곳으로, 상온 롤(10)의 일부를 차지한다. 열처리 영역(a)은 본 발명의 범주 내에서 미세 다공막(30)의 열처리가 충분하게 일어나도록 하는 부분이다. 열처리 영역(a)은 미세 다공막(30)의 이동속도, 상온 롤(10)의 크기, 적외선 강도, 적외선 발생부(40)와 상온 롤(10) 사이의 거리 등을 고려하여 사전에 설정될 수 있다. 적외선 발생부(40)는 적어도 하나의 적외선 히터로 구성될 수 있으며, 경우에 따라 면광원을 형성할 수 있다. 열처리의 균일성을 확보하기 위하여, 적외선 발생부(40)는 전체에 걸쳐서 상온 롤(10)로부터 균일한 간격을 유지할 수 있다.The heat treatment region (a) is a place where the microporous membrane (30) is heat-treated by the infrared rays irradiated from the infrared ray generator (40) and occupies a part of the normal temperature roll (10). The heat treatment region (a) is a portion that allows the heat treatment of the microporous membrane 30 to occur sufficiently within the scope of the present invention. The heat treatment zone a is set in advance in consideration of the moving speed of the microporous membrane 30, the size of the room temperature roll 10, the infrared intensity, the distance between the infrared ray generator 40 and the room temperature roll 10, . The infrared ray generator 40 may include at least one infrared ray heater, and may form a planar light source as the case may be. In order to ensure the uniformity of the heat treatment, the infrared ray generator 40 can maintain uniform spacing from the normal temperature rolls 10 throughout.

열흡수층(16)은 미세 다공막(30)과의 접촉이 용이하고, 열 흡수가 잘 일어나는 소재가 사용된다. 본 발명의 실시예에 의한 열흡수층(16)은 열을 흡수하는 물질이 첨가된 고무(rubber) 소재가 바람직하다. 상기 고무 소재는 소정의 점착성이 있으므로, 미세 다공막(30)을 열흡수층(16)에 쉽게 접촉시킨다. 미세 다공막(30)이 점착성을 가진 열흡수층(16)에 접촉하게 되면, 미세 다공막(30)이 상온 롤(10) 외부의 환경에 의해 교란되는 것을 방지할 수 있다. 여기서, 교란되는 것이란, 상온 롤(10) 주위의 유체의 흐름에 의해 미세 다공막(30)이 흔들리거나 공급 롤(20)에 의해 미세 다공막(30)이 끌려가는 현상 등을 말한다. The heat absorbing layer 16 is made of a material which is easily contacted with the microporous membrane 30 and which absorbs heat well. The heat absorbing layer 16 according to the embodiment of the present invention is preferably a rubber material to which a heat absorbing material is added. Since the rubber material has predetermined tackiness, the microporous membrane 30 easily contacts the heat absorbing layer 16. It is possible to prevent the microporous membrane 30 from being disturbed by the environment outside the room temperature roll 10 when the microporous membrane 30 comes into contact with the heat absorbing layer 16 having adhesiveness. Here, the disturbance refers to a phenomenon in which the microporous membrane 30 is shaken by the flow of the fluid around the normal-temperature roll 10 or the microporous membrane 30 is pulled by the supply roll 20.

상기 고무소재는 테프론을 포함한 불소 고무, 아크릴 고무, 폴리우레탄 고무, 폴리아미드 고무, 천연 고무, 폴리이소부틸렌 고무, 폴리이소프렌 고무, 클로로프렌 고무, 부틸 고무, 니트릴 부틸 고무, 스티렌-부타디엔 고무, 스티렌-부타디엔-스티렌 고무, 스티렌-이소프렌-스티렌 고무, 스티렌-에틸렌-부타디엔 고무, 스티렌-에틸렌-부틸렌-스티렌 고무, 스티렌-이소프렌-프로필렌-스티렌 고무, 실리콘 고무, 클로로술폰화 폴리에틸렌 고무 중에 선택된 어느 하나 또는 이의 혼합물로 이루어질 수 있다. The rubber material may be at least one selected from the group consisting of fluorine rubber including Teflon, acrylic rubber, polyurethane rubber, polyamide rubber, natural rubber, polyisobutylene rubber, polyisoprene rubber, chloroprene rubber, butyl rubber, nitrile butyl rubber, styrene- Styrene-isoprene-butadiene rubber, styrene-isoprene-propylene-styrene rubber, silicone rubber, and chlorosulfonated polyethylene rubber, which are selected from the group consisting of styrene-butadiene-styrene rubber, styrene-isoprene-styrene rubber, styrene- One or a mixture thereof.

상기 열을 흡수하는 물질은 미세 다공막(30)에서의 열을 흡수하는 역할을 한다. 상기 물질은 금을 포함한 금속 나노입자, 카본 블랙, 철흑, VO2, Ti2O3, NbO2, SnO, Sb2O3, Sb2O4, Sb2O5, NiS, CuF2, CuFOH, Cu(OH)2, Cu3(PO4)2ㆍ2H2O, Cu3(PO4)2, Cu2PO4(OH), Cu3(PO4)2ㆍCu(OH)2, Cu3(PO4)(OH)3, Cu5(PO4)3(OH)4, CuAl6(PO4)4(OH)8ㆍ5H2O, Cu2P2O7ㆍ3H2O, Cu2P2O7, Cu3(P3O9)2, FeF2ㆍ4H2O, FeF2, Fe3(PO4)2ㆍ8H2O, LiFePO4, NaFePO4, Fe2SiO4, FexMg2-xSiO4, FeCO3, Ni3(PO4)2ㆍ8H2O, TiP3O9. Ca2Fe(PO4)2ㆍ4H2O, MgFePO4F, YbPO4 및 AxMyO3형태의 페로브스카이트 구조(A는 금속 중에서 선택된 어느 하나이며, M은 전이금속 중에서 선택된 어느 하나이며, O는 산소이며, x, y는 0< x≤1, 0< y ≤1) 중에 선택된 적어도 어느 하나일 수 있다. The heat absorbing material serves to absorb heat in the microporous membrane 30. The material may be selected from the group consisting of metal nanoparticles including gold, carbon black, iron oxide, VO 2 , Ti 2 O 3 , NbO 2 , SnO, Sb 2 O 3 , Sb 2 O 4 , Sb 2 O 5 , NiS, CuF 2 , CuFOH, Cu (OH) 2, Cu 3 (PO 4) 2 and 2H 2 O, Cu 3 (PO 4) 2, Cu 2 PO 4 (OH), Cu 3 (PO 4) 2 and Cu (OH) 2, Cu 3 (PO 4) (OH) 3 , Cu 5 (PO 4) 3 (OH) 4, CuAl 6 (PO 4) 4 (OH) 8 and 5H 2 O, Cu 2 P 2 O 7 and 3H 2 O, Cu 2 P 2 O 7, Cu 3 ( P 3 O 9) 2, FeF 2 and 4H 2 O, FeF 2, Fe 3 (PO 4) 2 and 8H 2 O, LiFePO 4, NaFePO 4, Fe 2 SiO 4, Fe x Mg 2 -xSiO 4, FeCO 3, Ni 3 (PO 4) 2 and 8H 2 O, TiP 3 O 9 . A perovskite structure in the form of Ca 2 Fe (PO 4 ) 2 .4H 2 O, MgFePO 4 F, YbPO 4 and A x M y O 3 (where A is any one selected from metals and M is any one selected from transition metals , O is oxygen, and x and y are 0 <x? 1, 0 <y? 1).

또한, 열을 흡수하는 물질은 붕산염 혼합물, 탄산염 혼합물, 반토 혼합물, 질산염 혼합물, 아질산염 혼합물, 리튬 붕산염과 나트륨 붕산염, 칼륨 붕산염, 마그네슘 붕산염, 칼슘 붕산염, 스트론튬 붕산염, 바륨 붕산염, 나트륨 붕산염, 코레마나이트(colemanite), 리튬 탄산염, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 칼슘 탄산염, 방해석, CaCO3, 백운석 및 마그네사이트(magnesite) 중에 선택된 어느 하나 이상일 수 있다. 나아가, 상기 물질은 니켈디티올계, 디티올계 금속 착체 화합물, 시아닌계, 스크와리움계, 크로코니움계, 디이모늄계, 아미늄계, 암모늄계, 프탈로시아닌계, 나프탈로시아닌계 및 아미늄계, 안트라퀴논계, 나프토퀴논계, 고분자 축합 아조계 피롤, 폴리메틴계 및 프로피린계로부터 선택되는 1종 이상의 염료 중에 선택된 적어도 어느 하나일 수 있다.The heat absorbing substance may also be selected from the group consisting of a borate salt mixture, a carbonate mixture, an alumina mixture, a nitrate mixture, a nitrite mixture, lithium borate and sodium borate, potassium borate, magnesium borate, calcium borate, strontium borate, barium borate, and may be at least one selected from colemanite, lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, calcium carbonate, calcite, CaCO 3 , dolomite and magnesite. Further, the material may be at least one selected from the group consisting of a nickel dithiol system, a dithiol-based metal complex compound, a cyanine system, a squarite system, a croconium system, a diimonium system, an aminium system, an ammonium system, a phthalocyanine system, a naphthalocyanine system and an aminium system, , Naphthoquinone type, polymer condensation azo type pyrrole, polymethine type, and propylene type.

열흡수층(16)은 미세 다공막(30)이 접촉되면서 미세 다공막(30)으로 인입된 적외선에 의한 열을 흡수하는 역할을 한다. 본 발명의 실시예에 의한 미세 다공막(30)의 열처리는 적외선이 상기 기계 방향으로 균일하게 조사되는 조건에서 수행된다. 균일하게 조사되는 적외선에 의한 열이 열흡수층(16)에 의해 흡수되므로, 미세 다공막(30)의 열처리는 두께 방향 및 기계 방향으로 균일하게 일어날 수 있다. 열흡수층(16)은 상기 열흡수 물질이 포함된 필름을 상온 롤(10)에 부착하거나, 상기 물질이 결합재 등과 혼합된 혼합물을 상온 롤(10)에 도포하여 형성할 수 있다. 열흡수층(16)의 두께는 상기 고무 소재의 열 전도성, 상기 열흡수 물질의 열 흡수성 등을 고려하여 조절될 수 있다. The heat absorbing layer 16 absorbs the heat generated by the infrared rays introduced into the microporous membrane 30 while the microporous membrane 30 is in contact. The heat treatment of the microporous membrane 30 according to the embodiment of the present invention is performed under the condition that the infrared rays are uniformly irradiated in the machine direction. Since the heat due to the infrared rays uniformly irradiated is absorbed by the heat absorbing layer 16, the heat treatment of the microporous membrane 30 can occur uniformly in the thickness direction and the machine direction. The heat absorbing layer 16 may be formed by attaching a film containing the heat absorbing material to the normal temperature roll 10 or by applying a mixture of the material and the binder to the normal temperature roll 10. The thickness of the heat absorbing layer 16 can be adjusted in consideration of the thermal conductivity of the rubber material, heat absorption of the heat absorbing material, and the like.

한편, 적외선을 이용하여 열처리는 미세 다공막(30)이 상온 롤(10)로부터 일정한 간격만큼 떨어지게 하여 진행하는 것이 가장 바람직하다. 그런데, 미세 다공막(30)이 상온 롤(10)로부터 떨어져 있으면, 미세 다공막(30)은 연신 및 변형이 일어날 수 있다. 상온 롤(10)과 공간적으로 이격된 미세 다공막(30)은 공급 롤(20) 및 권취 롤(22)의 장력에 의해 연신되거나, 미세 다공막(30) 주변의 유체의 흐름에 의해 미세 다공막(30)이 흔들릴 수 있다. 본 발명의 실시예는 열흡수층(16)을 이용하여 상기 문제점을 해결한다. 열흡수층(16)을 두면, 열흡수층(16)의 두께만큼 상온 롤(10)로부터 미세 다공막(30)을 공간적으로 이격되게 하는 효과를 얻는다. On the other hand, it is most preferable that the heat treatment using the infrared ray proceeds with the microporous membrane 30 being separated from the normal temperature roll 10 by a predetermined distance. However, if the microporous membrane 30 is separated from the normal-temperature roll 10, the microporous membrane 30 may be stretched and deformed. The microporous film 30 spaced apart from the normal temperature roll 10 may be stretched by the tension of the supply roll 20 and the winding roll 22 or may be stretched due to the flow of the fluid around the microporous film 30 The sclera 30 may be shaken. The embodiment of the present invention solves the above problem by using the heat absorbing layer 16. When the heat absorbing layer 16 is placed, the effect of making the microporous membrane 30 spatially separated from the normal temperature roll 10 by the thickness of the heat absorbing layer 16 is obtained.

본 발명의 실시예에 있어서, 열흡수층(16)의 두께는 100㎛ 내지 10,000㎛이 바람직하다. 열흡수층(16)의 두께가 100㎛보다 작으면, 상온 롤(10)로부터 미세 다공막(30)을 떨어지게 하는 효과가 미미하다. 두께가 10,000㎛보다 크면, 열흡수층(16)을 형성하는 비용이 상승하고 본 발명에서 원하는 물성을 구현하는 데 필요 이상으로 두껍다. 두께가 두꺼우면, 열흡수층(16)에 흡수된 열을 전달하는 시간이 오래 걸려서 균일하게 미세 다공막(30)의 열을 흡수하는 데 지장이 있다. In the embodiment of the present invention, the thickness of the heat absorbing layer 16 is preferably 100 占 퐉 to 10,000 占 퐉. If the thickness of the heat absorbing layer 16 is smaller than 100 mu m, the effect of causing the microporous membrane 30 to be detached from the normal temperature roll 10 is insignificant. If the thickness is larger than 10,000 m, the cost of forming the heat absorbing layer 16 increases and it is thicker than necessary to realize the desired properties in the present invention. If the thickness is too large, it takes a long time to transfer the heat absorbed by the heat absorbing layer 16, which hinders absorption of the heat of the microporous membrane 30 uniformly.

선택적으로, 본 발명의 실시예는 열흡수층(16) 및 상온 롤(10) 사이에 열전도층(14)을 더 형성할 수 있다. 열전도층(14)은 열흡수층(16)에 의해 흡수된 열이 상온 롤(10)로 용이하게 빠져 나갈 수 있는 경로를 제공한다. 열전도층(14)은 상기 열이 두께 방향 및 기계 방향으로 보다 효과적으로 전달되도록 한다. 열전도층(14)은 상기 흡수된 열이 균일하게 확산되어 분포하게 하므로, 상기 열이 상온 롤(10)에 용이하게 전달된다. 열전도층(14)은 상온 롤 및 열흡수층의 국부지역이 가열되는 것을 방지하여 열이 균일하게 전달되는 데에 도움을 준다. 열전도층(14)은 열전도성이 양호한 금속 물질로 이루어진 것이 바람직하며, 필름 형태로 부착되거나 증착 등을 통하여 형성할 수 있다. Alternatively, the embodiment of the present invention may further form the heat conduction layer 14 between the heat absorbing layer 16 and the room temperature roll 10. [ The thermally conductive layer 14 provides a path through which the heat absorbed by the heat absorbing layer 16 can easily escape to the normal temperature roll 10. The heat conduction layer 14 allows the heat to be more effectively transferred in the thickness direction and the machine direction. The heat conduction layer 14 allows the absorbed heat to diffuse and distribute uniformly, so that the heat is easily transferred to the room temperature roll 10. The thermally conductive layer 14 prevents the localized regions of the normal-temperature rolls and the heat-absorbing layer from being heated, thereby helping to uniformly transfer the heat. The heat conduction layer 14 is preferably made of a metal material having a good thermal conductivity, and may be attached in a film form or formed through deposition or the like.

열전도층(14)은 금, 은, 구리, 알루미늄, 니켈과 같은 금속 중에서 선택된 어느 하나, 상기 금속의 합금 또는 상기 금속 및 합금에 절연성 결합재(binder)가 혼합된 물질로 제조할 수 있다. 상기 결합재는 실리콘 폴리머, 에폭시, 폴리이미드, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 산화 폴리페닐렌, 폴리설폰, 이산화실리콘, 산화알루미늄, 산화지르코니아 및 다른 금속산화물 중에서 선택된 어느 하나 또는 그들의 조합일 수 있다. 열전도층(14)의 두께는 100㎛ 내지 1,000㎛이 바람직하다. 열전도층(14)의 두께가 100㎛보다 작으면, 열전도 효과가 제대로 일어나지 않는다. 두께가 1,000㎛보다 크면, 열전도층(14)을 형성하는 비용이 지나치게 상승하고, 본 발명에서 원하는 물성을 구현하는 데 필요 이상으로 두껍다. The heat conduction layer 14 may be made of any one selected from metals such as gold, silver, copper, aluminum, and nickel, an alloy of the metal, or a material in which an insulating binder is mixed with the metal and the alloy. The binder may be any one or a combination of silicon polymer, epoxy, polyimide, polyethylene, polypropylene, polyphenylene oxide, polysulfone, silicon dioxide, aluminum oxide, zirconia and other metal oxides. The thickness of the heat conduction layer 14 is preferably 100 占 퐉 to 1,000 占 퐉. If the thickness of the heat conduction layer 14 is less than 100 mu m, the heat conduction effect does not occur properly. If the thickness is larger than 1,000 占 퐉, the cost of forming the thermally conductive layer 14 is excessively increased and is thicker than necessary to realize the desired properties in the present invention.

도 2는 본 발명의 실시예에 의한 열처리 장치에 의한 열의 이동경로를 개념적으로 설명하기 위한 도면이다. 이때, 열의 이동경로는 주된 이동경로만을 표현하였으며, 실질적으로 일어날 수 있는 부수적인 경로는 설명의 편의상 생략하였다.FIG. 2 is a view for conceptually explaining the heat transfer path by the heat treatment apparatus according to the embodiment of the present invention. At this time, the heat transfer path represents only the main transfer path, and the auxiliary path that may actually occur is omitted for convenience of explanation.

도 2에 의하면, 미세 분리막(30)으로 투입된 적외선은 열로 변환된 후 열흡수층(16)에 흡수된다. 열흡수층(16)이 상기 열을 흡수하기 때문에, 상기 열은 미세 다공막(30)에 잔존하지 않는다. 구체적으로, 열흡수층(16)은 상기 열이 미세 다공막(30)에서 산란되거나 반사되지 않도록 하여, 상기 미세 다공막(30) 전체에 걸쳐 균일하게 분포시킨다. 열흡수층(16)이 존재하게 되면, 적외선 발생부(40)와 상온 롤(10) 사이의 온도 기울기가 일정하게 되어 미세 다공막(30)에 균일하게 열이 공급된다. 온도 기울기가 일정해지면, 미세 다공막(30)의 두께 방향으로 열이력 편차를 줄인다. 줄어든 열이력 편차에 의해, 미세 다공막(30)의 강도, 열수축율, 기공율, 결정화도 등의 제반 물성의 편차가 사라진다. 거기에다 열전도층(14)을 부가하면, 열의 분포가 보다 균질하게 되어 보다 안정된 열처리를 수행할 수 있다.2, the infrared rays injected into the microporous membrane 30 are converted into heat and then absorbed by the heat absorbing layer 16. Since the heat absorbing layer 16 absorbs the heat, the heat does not remain in the microporous membrane 30. Specifically, the heat absorbing layer 16 uniformly distributes the heat across the microporous membrane 30 so that the heat is not scattered or reflected by the microporous membrane 30. When the heat absorbing layer 16 is present, the temperature gradient between the infrared ray generating part 40 and the room temperature roll 10 becomes constant, and the heat is uniformly supplied to the microporous membrane 30. When the temperature gradient becomes constant, the thermal history deviation in the thickness direction of the microporous membrane 30 is reduced. The deviation of the physical properties such as the strength, heat shrinkage, porosity and crystallinity of the microporous membrane 30 disappears due to the reduced thermal history deviation. By adding the heat conduction layer 14 thereto, the distribution of heat becomes more homogeneous and a more stable heat treatment can be performed.

만일, 열흡수층(16)이 없다면 상기 열은 미세 다공막(30)의 표면에 집중되거나 상온 롤(10)에 의해 반사되어 불균일하게 분포하게 된다. 이 경우, 적외선 발생부(40) 및 상온 롤(10)의 온도 기울기가 불규칙하게 되어, 미세 다공막(30)의 두께 방향에 따라 열이력 편차가 발생한다. 구체적인 예로, 미세 다공막(30)의 표면 부분 또는 특정부위에는 결정화가 상대적으로 많이 일어나서 기공이 잘 형성되지만, 상온 롤(10) 근처의 미세 다공막(30)은 결정화가 제대로 되지 않아서 기공의 형성이 제대로 일어나지 않는다. 종래의 열처리 방법은 열이력 편차에 의해, 미세 다공막(30)의 강도, 열수축율, 기공율, 결정화도 등의 제반 물성에 편차가 발생하게 된다. If there is no heat absorbing layer 16, the heat is concentrated on the surface of the microporous membrane 30 or reflected by the normal temperature roll 10 and is distributed unevenly. In this case, the temperature gradients of the infrared ray generator 40 and the room temperature roll 10 become irregular, and thermal history deviations occur along the thickness direction of the microporous membrane 30. [ As a specific example, the surface portion or the specific portion of the microporous film 30 has a relatively large amount of crystallization so that pores are formed well, but the microporous film 30 near the normal temperature roll 10 is not crystallized properly, This does not happen properly. In the conventional heat treatment method, variations in the physical properties such as the strength, heat shrinkage, porosity and crystallinity of the microporous membrane 30 are caused by the thermal history deviation.

도 3a는 열흡수층이 없는 종래의 열처리 장치에 의해 제조된 미세 다공막을 전자현미경으로 20,000배 확대한 사진이고, 도 3b는 열흡수층이 있는 본 발명의 열처리 장치에 의해 제조된 미세 다공막을 전자현미경으로 20,000배 확대한 사진이다. 이때, 열처리 장치는 도 1 내지 도 2b를 참조하기로 한다. 열처리는 적외선 발생부(40)와 미세 다공막(30)의 거리를 3cm, 시간은 5초로 하였으며, 열처리 후 200% 연신을 하였다. FIG. 3A is a photograph of a microporous membrane produced by a conventional heat treatment apparatus without a heat absorbing layer by an electron microscope, and FIG. 3B is a photograph of the microporous membrane produced by the heat treatment apparatus of the present invention having a heat absorbing layer by an electron microscope It is a photo enlarged 20,000 times. At this time, the heat treatment apparatus by reference to Figure 2 to Figure 1 b. In the heat treatment, the distance between the infrared ray generator 40 and the microporous membrane 30 was 3 cm and the time was 5 seconds. After the heat treatment, the microporous membrane was stretched by 200%.

도 3a 및 도 3b에 의하면, 열흡수층이 없는 종래의 열처리 장치에 의해 제조된 미세 다공막(31)은 기공의 형성이 불균일하게 일어났다. 이는 적외선에 의한 열은 미세 다공막(30)의 표면에 집중되거나 상온 롤에 의해 반사되어 불균일하게 분포하게 되는 것에 기인한다. 불균일한 열이력 편차에 의해 미세 다공막(30)에는 불균질한 기공이 형성된다. 구체적으로, 미세 다공막(30)은 기공이 형성되지 않은 영역(b) 및 기공이 형성된 영역(c)을 보이고 있다. 영역(b, c)은 열처리에서, 상기 열이 미세 다공막(30)에 골고루 분포되지 않았음을 확인하고 있다. 이러한 열의 불균일한 분포는 기공이 형성된 영역(c)에서의 기공의 배열이 불규칙한 특성을 나타내게 한다. 3A and 3B, the microporous membrane 31 produced by the conventional heat treatment apparatus without the heat absorbing layer has nonuniform pore formation. This is because the heat due to infrared rays is concentrated on the surface of the microporous membrane 30 or reflected by the rolls at room temperature and is distributed unevenly. Inhomogeneous pore is formed in the microporous membrane (30) by uneven thermal history deviation. Specifically, the microporous membrane 30 shows regions (b) where pores are not formed and regions (c) where pores are formed. The regions (b, c) confirm that the heat is not uniformly distributed in the microporous membrane 30 in the heat treatment. This uneven distribution of the heat causes irregularities in the arrangement of the pores in the region (c) where the pores are formed.

이에 반해, 열흡수층이 있는 본 발명의 열처리 장치에 의해 제조된 미세 다공막(31)은 기공이 균일하게 형성되었다. 이는 적외선 발생부(40)와 상온 롤(10) 사이의 온도 기울기가 일정하게 되어 미세 다공막(30)에 균일하게 열이 공급된다. 온도 기울기가 일정해지면, 미세 다공막(30)의 두께 방향으로 열이력 편차를 줄인다. 균일한 열이력 편차에 의해 미세 다공막(30)에는 균일한 기공이 형성된다. 구체적으로, 미세 다공막(30) 전체에 걸쳐서 기공이 균일하면서 일정한 배열을 유지하고 있었다. 기공이 일정한 배열을 보이고 있는 것과 동시에, 기공의 크기나 모양도 종래에 비해 균일하고 일정하였다.On the other hand, the microporous membrane 31 produced by the heat treatment apparatus of the present invention having the heat absorbing layer was uniformly formed with pores. This is because the temperature gradient between the infrared ray generator 40 and the room temperature roll 10 is constant and the heat is uniformly supplied to the microporous membrane 30. When the temperature gradient becomes constant, the thermal history deviation in the thickness direction of the microporous membrane 30 is reduced. Uniform pores are formed in the microporous membrane 30 by a uniform thermal history deviation. Specifically, the pores were uniform throughout the entire microporous membrane 30 and maintained a constant arrangement. The pore size was uniform and constant compared with the conventional one.

이상, 본 발명은 바람직한 실시예를 들어 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상의 범위 내에서 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 여러 가지 변형이 가능하다. While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, but many variations and modifications may be made without departing from the scope of the present invention. It is possible.

10; 상온 롤 12; 열매통로
14; 열전도층 16; 열흡수층
20; 공급 롤 22; 권취 롤
30; 미세 다공막 40; 적외선 발생부
10; Room temperature roll 12; Fruit passage
14; A heat conduction layer 16; Heat absorbing layer
20; Feed roll 22; Winding roll
30; Microporous membrane 40; The infrared-

Claims (11)

적외선을 발생시키는 적외선 발생부; 및
상기 적외선 발생부로부터 공간적으로 이격되고, 미세 다공막이 접촉되는 표면에 열흡수층이 형성된 상온 롤을 포함하는 미세 다공막의 열처리를 위한 장치.
An infrared ray generator for generating infrared rays; And
And a room temperature roll spaced apart from the infrared ray generator and having a heat absorbing layer formed on a surface contacting the microporous membrane.
제1항에 있어서, 상기 적외선 발생부는 적외선 면광원을 발생하는 것을 특징으로 하는 미세 다공막의 열처리를 위한 장치.The apparatus of claim 1, wherein the infrared ray generator generates an infrared ray surface light source. 제1항에 있어서, 상기 열흡수층은 열을 흡수하는 물질이 첨가된 고무 소재로 이루어진 것을 특징으로 하는 미세 다공막의 열처리를 위한 장치.The apparatus for heat treatment of a microporous membrane according to claim 1, wherein the heat absorbing layer is made of a rubber material to which a heat absorbing material is added. 제3항에 있어서, 상기 고무 소재는 테프론을 포함한 불소 고무, 아크릴 고무, 폴리우레탄 고무, 폴리아미드 고무, 천연 고무, 폴리이소부틸렌 고무, 폴리이소프렌 고무, 클로로프렌 고무, 부틸 고무, 니트릴 부틸 고무, 스티렌-부타디엔 고무, 스티렌-부타디엔-스티렌 고무, 스티렌-이소프렌-스티렌 고무, 스티렌-에틸렌-부타디엔 고무, 스티렌-에틸렌-부틸렌-스티렌 고무, 스티렌-이소프렌-프로필렌-스티렌 고무, 실리콘 고무, 클로로술폰화 폴리에틸렌 고무 중에 선택된 어느 하나 또는 이의 혼합물 중에 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 미세 다공막의 열처리를 위한 장치. The rubber composition according to claim 3, wherein the rubber material is at least one selected from the group consisting of fluorine rubber including Teflon, acrylic rubber, polyurethane rubber, polyamide rubber, natural rubber, polyisobutylene rubber, polyisoprene rubber, chloroprene rubber, butyl rubber, Styrene-butadiene-styrene rubber, styrene-isoprene-styrene rubber, styrene-ethylene-butadiene rubber, styrene-ethylene-butylene-styrene rubber, styrene-isoprene- Wherein the polyolefin rubber is one selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polyethylene terephthalate, polyethylene terephthalate, polyethylene terephthalate, polyethylene terephthalate, polyethylene terephthalate, polyethylene terephthalate, and polyunsaturated polyethylene rubber. 제3항에 있어서, 상기 열을 흡수하는 물질은 금을 포함한 금속 나노입자, 카본 블랙, 철흑, VO2, Ti2O3, NbO2, SnO, Sb2O3, Sb2O4, Sb2O5, NiS, CuF2, CuFOH, Cu(OH)2, Cu3(PO4)2ㆍ2H2O, Cu3(PO4)2, Cu2PO4(OH), Cu3(PO4)2ㆍCu(OH)2, Cu3(PO4)(OH)3, Cu5(PO4)3(OH)4, CuAl6(PO4)4(OH)8ㆍ5H2O, Cu2P2O7ㆍ3H2O, Cu2P2O7, Cu3(P3O9)2, FeF2ㆍ4H2O, FeF2, Fe3(PO4)2ㆍ8H2O, LiFePO4, NaFePO4, Fe2SiO4, FexMg2-xSiO4, FeCO3, Ni3(PO4)2ㆍ8H2O, TiP3O9. Ca2Fe(PO4)2ㆍ4H2O, MgFePO4F, YbPO4 및 AxMyO3형태의 페로브스카이트 구조(A는 금속 중에서 선택된 어느 하나이며, M은 전이금속 중에서 선택된 어느 하나이며, O는 산소이며, x, y는 0< x≤1, 0< y ≤1) 중에 선택된 적어도 어느 하나인 것을 특징으로 하는 미세 다공막의 열처리를 위한 장치.The method of claim 3, wherein the heat absorbing material is selected from the group consisting of metal nanoparticles including gold, carbon black, iron black, VO 2 , Ti 2 O 3 , NbO 2 , SnO, Sb 2 O 3 , Sb 2 O 4 , Sb 2 O 5, NiS, CuF 2, CuFOH, Cu (OH) 2, Cu 3 (PO 4) 2 and 2H 2 O, Cu 3 (PO 4) 2, Cu 2 PO 4 (OH), Cu 3 (PO 4) 2 and Cu (OH) 2, Cu 3 (PO 4) (OH) 3, Cu 5 (PO 4) 3 (OH) 4, CuAl 6 (PO 4) 4 (OH) 8 and 5H 2 O, Cu 2 P 2 O 7 .3H 2 O, Cu 2 P 2 O 7 , Cu 3 (P 3 O 9 ) 2 , FeF 2揃 4H 2 O, FeF 2 , Fe 3 (PO 4 ) 2揃 8H 2 O, LiFePO 4 , NaFePO 4, Fe 2 SiO 4, Fe x Mg 2 -xSiO 4, FeCO 3, Ni 3 (PO 4) 2 and 8H 2 O, TiP 3 O 9 . A perovskite structure in the form of Ca 2 Fe (PO 4 ) 2 .4H 2 O, MgFePO 4 F, YbPO 4 and A x M y O 3 (where A is any one selected from metals and M is any one selected from transition metals And O is oxygen, and x and y are at least one selected from the group consisting of 0 < x < 1 and 0 &lt; y &lt; 1. 제3항에 있어서, 상기 열을 흡수하는 물질은 붕산염 혼합물, 탄산염 혼합물, 반토 혼합물, 질산염 혼합물, 아질산염 혼합물, 리튬 붕산염과 나트륨 붕산염, 칼륨 붕산염, 마그네슘 붕산염, 칼슘 붕산염, 스트론튬 붕산염, 바륨 붕산염, 나트륨 붕산염, 코레마나이트(colemanite), 리튬 탄산염, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 칼슘 탄산염, 방해석, CaCO3, 백운석 및 마그네사이트(magnesite) 중에 선택된 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 미세 다공막의 열처리를 위한 장치.The method of claim 3 wherein the heat absorbing material is selected from the group consisting of a borate salt mixture, a carbonate mixture, an alumina mixture, a nitrate mixture, a nitrite mixture, lithium borate and sodium borate, potassium borate, magnesium borate, calcium borate, strontium borate, barium borate, Wherein the at least one selected from the group consisting of borate, colemanite, lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, calcium carbonate, calcite, CaCO 3 , dolomite and magnesite. 제3항에 있어서, 상기 열을 흡수하는 물질은 니켈디티올계, 디티올계 금속 착체 화합물, 시아닌계, 스크와리움계, 크로코니움계, 디이모늄계, 아미늄계, 암모늄계, 프탈로시아닌계, 나프탈로시아닌계 및 아미늄계, 안트라퀴논계, 나프토퀴논계, 고분자 축합 아조계 피롤, 폴리메틴계 및 프로피린계로부터 선택되는 1종 이상의 염료인 것을 특징으로 하는 미세 다공막의 열처리를 위한 장치.4. The method of claim 3, wherein the heat absorbing material is selected from the group consisting of nickel dithiol, dithiol-based metal complex compounds, cyanine, And at least one dye selected from the group consisting of aminium, anthraquinone, naphthoquinone, polymer condensation azo-based pyrrole, polymethine-based, and propylene-based dyes. 제1항에 있어서, 상기 열흡수층의 두께는 100㎛ 내지 10,000㎛인 것을 특징으로 하는 미세 다공막의 열처리를 위한 장치.The apparatus for heat treatment of a microporous membrane according to claim 1, wherein the thickness of the heat absorbing layer is 100 m to 10,000 m. 제1항에 있어서, 상기 상온 롤 및 상기 열흡수층 사이에 열전도층을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 미세 다공막의 열처리를 위한 장치.The apparatus for heat treatment of a microporous membrane according to claim 1, further comprising a thermally conductive layer between the normal temperature roll and the heat absorbing layer. 제9항에 있어서, 상기 열전도층은 금, 은, 구리, 알루미늄, 니켈 중에서 선택된 어느 하나 또는 이들의 합금을 포함하는 것을 특징으로 하는 미세 다공막의 열처리를 위한 장치.The apparatus of claim 9, wherein the thermally conductive layer comprises any one selected from the group consisting of gold, silver, copper, aluminum, and nickel, or an alloy thereof. 제9항에 있어서, 상기 열전도층의 두께는 100㎛ 내지 1,000㎛인 것을 특징으로 하는 미세 다공막의 열처리를 위한 장치.The apparatus for heat-treating a microporous membrane according to claim 9, wherein the thickness of the thermally conductive layer is from 100 m to 1,000 m.
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