KR101561414B1 - Wet scrubber - Google Patents
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- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 88
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims abstract description 72
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims abstract description 53
- 230000006698 induction Effects 0.000 claims abstract description 38
- 239000002341 toxic gas Substances 0.000 claims abstract description 24
- 238000000746 purification Methods 0.000 claims abstract description 16
- 238000005201 scrubbing Methods 0.000 claims abstract description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 15
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 7
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 6
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 6
- 230000009471 action Effects 0.000 claims description 3
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 6
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 6
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 239000008213 purified water Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01L21/02041—Cleaning
- H01L21/02043—Cleaning before device manufacture, i.e. Begin-Of-Line process
- H01L21/02052—Wet cleaning only
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D47/00—Separating dispersed particles from gases, air or vapours by liquid as separating agent
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
- H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
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Abstract
본 발명은 웨트 스크러버에 관한 것으로서, 유해가스를 내부로 유도시킨 후, 세정하여 1차 정화처리하는 가스유도 및 세정 유닛; 및 상기 가스유도 및 세정 유닛의 상부에 착탈 가능하게 결합되며, 상기 가스유도 및 세정 유닛에서 잔류되어 상향 이동되는 잔류가스를 필터링하여 2차 정화처리하는 필터링 유닛을 포함한다.The present invention relates to a wet scrubber, and more particularly, to a wet scrubber that includes a gas guiding and cleaning unit for guiding a noxious gas into the interior thereof, And a filtering unit detachably connected to the upper portion of the gas induction and scrubbing unit, for filtering the residual gas that is remained in the gas induction and scrubbing unit and moving upward to perform a second purification treatment.
Description
본 발명은, 웨트 스크러버에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 신개념의 구조로써 유해가스를 정화처리할 수 있어 기존의 스크러버보다 정화처리 효율을 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라 유지 관리비용도 감소시킬 수 있는 웨트 스크러버에 관한 것이다.The present invention relates to a wet scrubber, and more particularly, to a wet scrubber capable of purifying noxious gas with a new concept structure and capable of improving purification treatment efficiency as compared with existing scrubbers, The present invention relates to a scrubber.
유해가스를 처리하는 기계 장치 중의 하나인 스크러버(scrubber)는 그 처리 방식에 따라 번-웨트(Burn-Wet), 번-필터(Burn-Filter), 건식(Dry), 습식(Wet) 등으로 분류될 수 있다.The scrubber, which is one of the machinery for treating harmful gas, is divided into Burn-Wet, Burn-Filter, Dry and Wet according to the treatment method. .
이러한 종류들 중에서 습식 스크러버, 즉 웨트 스크러버는 반도체 생산을 위한 설비 등에 마련되며, 공정 중에 발생되는 유해가스를 처리하여 정화시킨다.Of these types, a wet scrubber, that is, a wet scrubber, is provided on a facility for semiconductor production, etc., and treats harmful gases generated during the process and purifies it.
웨트 스크러버는 외관을 이루는 스크러버 바디와, 정화작용을 위하여 스크러버 바디 내에 마련되는 물 분사노즐, 폴링, 데미스터 등의 구성을 포함한다.The wet scrubber includes a scrubber body that forms an appearance, and water jet nozzles, poles, and demisters provided in the scrubber body for purifying operations.
이와 같은 통상의 웨트 스크러버의 작용을 살펴본다.The operation of such a conventional wet scrubber will be described below.
웨트 스크러버의 스크러버 바디 내로 유입되는 유해가스는 스크러버 바디 내에서 상부로 향하게 되는데, 이때, 물 분사노즐이 유해가스를 향해 물을 분사한다.The noxious gas flowing into the scrubber body of the wet scrubber is directed upward in the scrubber body, at which time the water jet nozzle injects water towards the noxious gas.
물의 분사로 인해 유해가스로부터 흡착된 흡착물질은 스크러버 바디 내의 폴링에 수집되고, 증기는 데미스터로 향하여 그 속의 수분이 제거될 수 있다.The adsorbed material adsorbed from the noxious gas due to the injection of water is collected in the polling in the scrubber body, and the moisture can be removed toward the demister.
이와 같은 작용으로 유해가스의 정화처리가 완료된 처리가스는 스크러버 바디의 상부 영역에 마련되는 블로워 유닛이 동작됨에 따라 배기부를 통해 배기될 수 있다.With this operation, the process gas having been subjected to the purification process of the noxious gas can be exhausted through the exhaust unit as the blower unit provided in the upper region of the scrubber body operates.
한편, 전술한 바와 같이, 웨트 스크러버는 폴링, 데미스터 등의 구성을 구비하고 있는 것이 보편적이지만 실질적으로 유해가스를 정화처리하는 효율이 다소 떨어질 뿐만 아니라 폴링을 수시로 교체하여야 하는 등 유지 관리비용이 높다는 점을 고려해볼 때, 새로운 개념의 웨트 스크러버에 대한 기술개발이 필요한 실정이다.On the other hand, as described above, it is common that the wet scrubber is provided with a configuration such as polling and demister, but the efficiency of purifying the noxious gas is somewhat lowered, and the maintenance cost is high Considering this point, it is necessary to develop a new concept of wet scrubber.
본 발명의 목적은, 신개념의 구조로써 유해가스를 정화처리할 수 있어 기존의 스크러버보다 정화처리 효율을 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라 유지 관리비용도 감소시킬 수 있는 웨트 스크러버를 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to provide a wet scrubber which can purify noxious gas with a new concept structure and thus can improve cleaning treatment efficiency and reduce maintenance cost as compared with existing scrubbers.
상기 목적은, 유해가스를 내부로 유도시킨 후, 세정하여 1차 정화처리하는 가스유도 및 세정 유닛; 및 상기 가스유도 및 세정 유닛의 상부에 착탈 가능하게 결합되며, 상기 가스유도 및 세정 유닛에서 잔류되어 상향 이동되는 잔류가스를 필터링하여 2차 정화처리하는 필터링 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 웨트 스크러버에 의해 달성된다.The object of the present invention is achieved by a gas guiding and cleaning unit for guiding a noxious gas into the inside thereof, washing it, and performing a primary purification treatment; And a filtering unit detachably connected to the upper portion of the gas guiding and cleaning unit and filtering the residual gas that is remained in the gas guiding and cleaning unit and moved upward to perform a secondary purification treatment. Lt; / RTI >
상기 가스유도 및 세정 유닛은, 단부에 제1 플랜지가 결합되는 세정 본체부와, 상기 세정 본체부보다 단면적이 좁게 형성되는 세정 네크부와, 상기 세정 본체부와 상기 세정 네크부를 경사지게 연결하는 세정 경사 연결부를 구비하는 세정 유닛 케이싱; 상기 세정 유닛 케이싱 내에 마련되며, 상기 세정 유닛 케이싱과의 사이로 유해가스의 흐름을 유도하는 가스 유도용 하부덕트; 및 하단부는 상기 가스 유도용 하부덕트의 내부에 배치되고 상단부는 상기 제1 플랜지에 접하며, 상기 가스 유도용 하부덕트 내로 흐르는 유해가스를 내부로 유도하여 상기 필터링 유닛 쪽으로 향하도록 하는 가스 유도용 상부덕트를 포함할 수 있다.The gas guiding and cleaning unit includes a cleaning main body portion to which a first flange is coupled at an end portion, a cleaning neck portion having a narrower sectional area than that of the cleaning main body portion, and a cleaning inclined portion that connects the cleaning main body portion and the cleaning neck portion in an inclined manner, A cleaning unit casing having a connection portion; A lower duct provided in the cleaning unit casing for guiding a flow of a noxious gas between the cleaning unit casing and the cleaning unit casing; And a lower end portion disposed in the gas induction lower duct and an upper end portion contacting the first flange and guiding the noxious gas flowing into the gas induction lower duct toward the filtering unit, . ≪ / RTI >
상기 가스 유도용 하부덕트는 하부 경사부와, 상기 하부 경사부의 상단부에서 수직되게 배치되는 하부 수직부를 구비하되 하부로 갈수록 단면적이 좁아지게 형성되며, 상기 가스 유도용 상부덕트는 상기 하부 수직부 내에 배치되는 상부 수직부와, 상기 상부 수직부의 단부에서 경사지게 배치되는 상부 경사부를 구비하되 상부로 갈수록 단면적이 넓게 형성될 수 있다.Wherein the gas guiding lower duct has a lower inclined portion and a lower vertical portion vertically arranged at an upper end of the lower inclined portion, the sectional area being narrower toward the lower portion, and the gas guiding upper duct is disposed in the lower vertical portion And an upper inclined portion disposed obliquely at an end of the upper vertical portion. The upper inclined portion may have a larger cross sectional area toward the upper portion.
상기 가스유도 및 세정 유닛은, 상기 가스 유도용 하부덕트와 상기 가스 유도용 상부덕트 사이로 유도되는 유해가스를 향해 세정을 위한 물을 분사하는 다수의 물 분사노즐; 및 일단부는 상기 가스 유도용 하부덕트의 하단부에 연결되고 타단부는 상기 세정 유닛 케이싱의 외부로 노출되며, 상기 물 분사노즐의 작용에 의해 1차 정화처리된 드레인수(drain water)가 드레인되는 하부 드레인 라인을 더 포함할 수 있다.The gas guiding and cleaning unit includes a plurality of water jet nozzles for jetting water for cleaning toward the noxious gas introduced between the gas induction lower duct and the gas induction upper duct; And one end is connected to the lower end of the gas guiding lower duct and the other end is exposed to the outside of the cleaning unit casing, and the lower part of the lower part, on which the drain water drained firstly by the action of the water spray nozzle, Drain line.
상기 필터링 유닛은, 하단부에 상기 가스유도 및 세정 유닛의 제1 플랜지와 착탈 가능하게 플랜지 결합되는 제2 플랜지가 형성되며, 상기 가스유도 및 세정 유닛에서 잔류되어 상향 이동되는 잔류가스를 필터링하여 장소를 형성하는 필터링 유닛 케이싱; 및 상기 필터링 유닛 케이싱 내에 마련되어 상기 잔류가스를 필터링하는 필터모듈을 포함할 수 있다.The filtering unit includes a second flange formed at a lower end of the gas introducing and cleaning unit so as to be detachably and flangeably engaged with the first flange of the gas introducing and cleaning unit, A filtering unit casing forming the filtering unit casing; And a filter module provided in the filtering unit casing to filter the residual gas.
상기 필터모듈은 내부가 일체로 되어 전체를 세정할 수 있도록 한 나선형 필터모듈 또는 각 개별층을 분리하여 세정할 수 있도록 한 적층형 필터모듈일 수 있다.The filter module may be a helical filter module in which the inside of the filter module can be cleaned as a whole, or a stacked filter module in which individual layers can be separated and cleaned.
상기 나선형 필터모듈은, 상기 필터링 유닛 케이싱 내에 배치되는 제1 모듈 하우징; 및 상기 제1 모듈 하우징 내에서 나선형으로 서로 연결되어 배열되되 판면에 다수의 튜브가 형성되는 나선형 필터 플레이트를 포함할 수 있다.The helical filter module comprising: a first module housing disposed within the filtering unit casing; And a helical filter plate arranged in a spiral manner in the first module housing and having a plurality of tubes formed on the plate surface.
상기 적층형 필터모듈은, 상기 필터링 유닛 케이싱 내에 배치되는 제2 모듈 하우징; 상기 제2 모듈 하우징 내에서 독립적으로 경사지게 층상 배열되며, 판면에 다수의 튜브가 형성되는 다수의 적층형 필터 플레이트; 및 상기 제2 모듈 하우징의 중앙 영역에서 상기 다수의 적층형 필터 플레이트를 개별적으로 고정시키는 플레이트 고정부를 포함할 수 있다.The stacked filter module includes: a second module housing disposed in the filtering unit casing; A plurality of stacked filter plates arranged independently in an inclined manner in the second module housing and having a plurality of tubes formed on the plate surface; And a plate fixing portion for individually fixing the plurality of stacked filter plates in a central region of the second module housing.
상기 필터링 유닛의 상부에 착탈 가능하게 결합되며, 정화처리가 완료된 처리가스가 배출되는 배출 유닛을 더 포함할 수 있다.And a discharge unit detachably coupled to an upper portion of the filtering unit, through which the process gas having been subjected to the purge process is discharged.
본 발명에 따르면, 신개념의 구조로써 유해가스를 정화처리할 수 있어 기존의 스크러버보다 정화처리 효율을 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라 유지 관리비용도 감소시킬 수 있는 효과가 있다.According to the present invention, it is possible to purify noxious gas with a new concept structure, which can improve cleaning treatment efficiency and reduce maintenance cost compared with existing scrubbers.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 웨트 스크러버의 구조도,
도 2는 도 1에서 가스의 흐름도를 도시한 도면,
도 3은 나선형 필터모듈의 입체 이미지,
도 4는 도 3의 절단 이미지,
도 5는 나선형 필터모듈의 개략적인 내부 구조도,
도 6은 나선형 필터 플레이트의 평면도,
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 웨트 스크러버에 적용되는 적층형 필터모듈의 개략적인 내부 구조도이다.1 is a structural view of a wet scrubber according to an embodiment of the present invention;
Figure 2 shows a flow diagram of the gas in Figure 1,
Fig. 3 shows a three-dimensional image of a helical filter module,
Figure 4 is a cutaway image of Figure 3,
Figure 5 shows a schematic internal structure of a helical filter module,
Figure 6 is a top view of the helical filter plate,
7 is a schematic internal structure of a stacked filter module applied to a wet scrubber according to another embodiment of the present invention.
이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 웨트 스크러버의 구조도, 도 2는 도 1에서 가스의 흐름도를 도시한 도면, 도 3은 나선형 필터모듈의 입체 이미지, 도 4는 도 3의 절단 이미지, 도 5는 나선형 필터모듈의 개략적인 내부 구조도, 그리고 도 6은 나선형 필터 플레이트의 평면도이다.Fig. 1 is a structural view of a wet scrubber according to an embodiment of the present invention, Fig. 2 is a flow chart of gas in Fig. 1, Fig. 3 is a stereoscopic image of a spiral filter module, Fig. 5 is a schematic internal structure of a helical filter module, and Fig. 6 is a plan view of a helical filter plate.
이들 도면을 참조하되 주로 도 1 및 도 2를 참조하면, 본 실시예에 따른 웨트 스크러버는 신개념의 구조로써 유해가스를 정화처리할 수 있어 기존의 스크러버보다 정화처리 효율을 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라 유지 관리비용도 감소시킬 수 있도록 한 것으로서, 가스유도 및 세정 유닛(110), 필터링 유닛(160), 그리고 배출 유닛(190)을 포함할 수 있다.1 and 2, the wet scrubber according to the present embodiment can purify noxious gas with a new concept structure, thereby improving purification treatment efficiency compared to conventional scrubbers, And may also include a gas induction and
가스유도 및 세정 유닛(110), 필터링 유닛(160), 그리고 배출 유닛(190)은 상호간 착탈 가능하게 플랜지 결합될 수 있다.The gas induction and
즉 가스유도 및 세정 유닛(110)과 필터링 유닛(160)은 가스유도 및 세정 유닛(110) 측의 제1 플랜지(122)와 필터링 유닛(160) 측의 제2 플랜지(171)를 맞대어 두고 제1 및 제2 플랜지(122,171)에 볼트를 체결함으로써, 가스유도 및 세정 유닛(110)과 필터링 유닛(160)을 결합시킬 수 있으며, 반대로 분해시킬 수 있다.The gas induction and
마찬가지의 방법으로 필터링 유닛(160)과 배출 유닛(190) 역시, 필터링 유닛(160) 측의 제3 플랜지(172)와 배출 유닛(190) 측의 제4 플랜지(191)를 맞대어 두고 제3 및 제4 플랜지(172,191)에 볼트를 체결함으로써, 필터링 유닛(160)과 배출 유닛(190)을 결합시킬 수 있으며, 반대로 분해시킬 수 있다.The
이처럼 가스유도 및 세정 유닛(110), 필터링 유닛(160), 그리고 배출 유닛(190)이 상호간 착탈 가능하게 플랜지 결합될 경우, 해당 유닛(110,160,190)의 운반 혹은 유지보수가 수월해지는 이점이 있다. 특히, 필터링 유닛(160) 내에 마련되는 필터모듈(180)의 세척 작업이나 교체 작업이 매우 수월해질 수 있는 이점이 있다.When the gas induction and
웨트 스크러버의 구성에 대해 자세히 살펴보면, 우선 가스유도 및 세정 유닛(110)은 유해가스를 내부로 유도시킨 후, 세정하여 1차 정화처리하고, 드레인 배출시키는 역할을 한다.The structure of the wet scrubber will be described in detail. First, the gas introducing and cleaning
이러한 가스유도 및 세정 유닛(110)은 세정 유닛 케이싱(120), 가스 유도용 하부덕트(130), 가스 유도용 상부덕트(140), 그리고 하부 드레인 라인(152)을 포함할 수 있다.The gas induction and
세정 유닛 케이싱(120)은 가스유도 및 세정 유닛(110)의 외관을 이루는데, 단순한 원통형 구조물에서 벗어나 병을 뒤집어 놓은 것과 같은 구조를 갖는다.The
즉 본 실시예에서 세정 유닛 케이싱(120)은 단부에 제1 플랜지(122)가 결합되는 세정 본체부(121)와, 세정 본체부(121)보다 단면적이 좁게 형성되는 세정 네크부(123)와, 세정 본체부(121)과 세정 네크부(123)을 경사지게 연결하는 세정 경사 연결부(124)를 포함한다.That is, in this embodiment, the
세정 유닛 케이싱(120)이 세정 본체부(121), 세정 네크부(123) 및 세정 경사 연결부(124)의 구조를 가질 경우, 원통형 구조에 비해 가스의 흐름이 원활해질 수 있는 이점이 있다.When the
가스 유도용 하부덕트(130)와 가스 유도용 상부덕트(140)는 세정 유닛 케이싱(120)에 배치되어 도 2의 화살표처럼 유해가스의 흐름을 유도하는 역할을 한다.The gas guiding
가스 유도용 하부덕트(130)는 세정 유닛 케이싱(120) 내에 마련되며, 세정 유닛 케이싱(120)과의 사이로 유해가스의 흐름을 유도하는 역할을 한다.The gas induction
이러한 가스 유도용 하부덕트(130)는 하부 경사부(131)와, 하부 경사부(131)의 상단부에서 수직되게 배치되는 하부 수직부(132)를 구비하는 고깔 구조를 가질 수 있다. 특히, 가스 유도용 하부덕트(130)는 하부로 갈수록 단면적이 좁아지게 형성됨으로써 드레인수의 배출이 용이해질 수 있도록 한다.The gas induction
가스 유도용 상부덕트(140)는 그 하단부는 가스 유도용 하부덕트(130)의 내부에 배치되고 상단부는 제1 플랜지(122)에 접하며, 가스 유도용 하부덕트(130) 내로 흐르는 유해가스를 내부로 유도하여 필터링 유닛(160) 쪽으로 향하도록 하는 역할을 한다.The lower end of the gas
이러한 가스 유도용 상부덕트(140)는 하부 수직부(132) 내에 배치되는 상부 수직부(141)와, 상부 수직부(141)의 단부에서 경사지게 배치되는 상부 경사부(142)를 가질 수 있다. 특히, 가스 유도용 상부덕트(140)는 가스 유도용 하부덕트(130)와 달리, 상부로 갈수록 단면적이 넓게 형성됨으로써, 유해가스가 필터링 유닛(160) 쪽으로 잘 유도될 수 있게끔 한다.The gas guiding
한편, 가스 유도용 하부덕트(130)와 가스 유도용 상부덕트(140) 사이에는 다수의 물 분사노즐(151)이 마련된다.A plurality of
다수의 물 분사노즐(151)는 가스 유도용 하부덕트(130)와 가스 유도용 상부덕트(140) 사이에 배치되어 이곳을 따라 흐르는 유해가스를 향해 물을 분사함으로써 유해가스를 1차로 세정하는 역할을 한다.The plurality of
하부 드레인 라인(152)은 그 일단부는 가스 유도용 하부덕트(130)의 하단부에 연결되고 타단부는 세정 유닛 케이싱(120)의 외부로 노출되는 라인으로서, 물 분사노즐(151)의 작용에 의해 1차 정화처리된 드레인수(drain water)가 드레인될 수 있도록 한다.One end of the
다음으로, 필터링 유닛(160)은 가스유도 및 세정 유닛(110)의 상부에 착탈 가능하게 결합되며, 가스유도 및 세정 유닛(110)에서 잔류되어 상향 이동되는 잔류가스를 필터링하여 2차 정화처리하는 역할을 한다.Next, the
이러한 필터링 유닛(160)은 필터링 유닛 케이싱(170)과, 필터링 유닛 케이싱(170) 내에 마련되어 잔류가스를 필터링하는 필터모듈(180)을 포함할 수 있다.This
필터링 유닛 케이싱(170)은 필터링 유닛(160)의 외관을 이루되 가스유도 및 세정 유닛(110)에서 잔류되어 상향 이동되는 잔류가스를 필터링하는 장소를 형성한다.The
앞서 기술한 것처럼 필터링 유닛 케이싱(170)의 하단부와 상단부에는 각각 제2 및 제3 플랜지(171,172)가 마련되어 가스유도 및 세정 유닛(110) 및 배출 유닛(190)과 착탈될 수 있도록 한다.The second and
필터링 유닛 케이싱(170)의 측부에는 필터링 유닛 케이싱(170)의 핸들링을 위한 러그(173)가 결합된다.A lug (173) for handling the filtering unit casing (170) is coupled to the side of the filtering unit casing (170).
그리고 필터링 유닛 케이싱(170)의 측부에는 상부 드레인 라인(175)이 더 마련된다. 상부 드레인 라인(175)은 그 일단부는 필터링 유닛 케이싱(170)에 연결되고 타단부는 필터링 유닛 케이싱(170)의 외부로 노출되며, 필터모듈(180)의 작용에 의해 2차 정화처리된 드레인수(drain water) 또는 필터모듈(180)의 세척수가 드레인되는 라인을 이룬다.An
한편, 필터모듈(180)은 필터링 유닛 케이싱(170) 내에 마련되며, 가스유도 및 세정 유닛(110)에서 잔류되어 상향 이동되는 잔류가스를 실질적으로 필터링하는 역할을 한다.The
필터모듈(180)을 통해 2차로 정화처리된 처리가스가 비로소 배출 유닛(190)을 통해 배출될 수 있다.The process gas that has been secondarily purified through the
본 실시예에서 필터모듈(180)은 내부가 일체로 되어 전체를 탈착한 후 세정할 수 있도록 한 나선형 필터모듈(180)로 적용된다.In this embodiment, the
즉 도 3 내지 도 6에 도시된 바와 같이, 나선형 필터모듈(180)은 필터링 유닛 케이싱(170) 내에 배치되는 제1 모듈 하우징(181)과, 제1 모듈 하우징(181) 내에서 나선형으로 서로 연결되어 배열되되 판면에 다수의 튜브(183)가 형성되는 나선형 필터 플레이트(182)를 포함할 수 있다.3 to 6, the
이때, 나선형 필터 플레이트(182)은 전체가 연결된 구조를 가질 수 있는데, 잔류가스는 나선형 필터모듈(180)을 지나면서 다수의 튜브(183)들을 통과하면서, 접촉되어 2차로 정화처리될 수 있다. 다수의 튜브(183)들은 결과적으로 잔류가스의 접촉면적을 넓혀 가능한 많은 유해물질이 흡착될 수 있도록 함으로써, 정화효율을 높이는 역할을 수행하게 된다.At this time, the
제1 모듈 하우징(181)의 상부에는 하우징 플랜지(181a)가 형성되어 제3 플랜지(172) 및 제4 플랜지(191)와 함께 결합되며, 측면에는 다수의 통공(181b)이 형성되어 필터모듈(180)이 세척될 때 세척수가 제1 모듈 하우징(181)의 외부로 배출되어 드레인될 수 있다.A
또한 다수의 튜브(183)은 상하로 이웃하게 배치되는 튜브들끼리 어긋나게 배치됨으로써, 상향 잔류가스가 곧바로 수직 상승하지 아니하고 상하의 필터 플레이트(182) 사이에 체류하는 시간을 연장시켜 다수의 튜브(183)들에 유해물질이 흡착될 확률을 높이게 된다. 바람직하게 다수의 튜브(183)들은 필터 플레이트(182)의 상하부로 노출되도록 설치되나, 상부의 노출길이가 더 길게 형성되는 것이 정화효율을 높이는데 더욱 유리하다.The plurality of
나선형 필터 모듈(180)의 세척시에는 배출 유닛(190)을 분리한 후 상부에서 세척수를 분사함으로써, 세척수가 다수의 튜브(183)들을 통과하여 제1 모듈 하우징(181) 측면의 다수의 통공(181b)을 통해 제1 모듈 하우징(181) 외부로 배출되어 상부 드레인 라인(175)을 통해 드레인됨으로써, 세척이 간단히 이루어질 수 있어, 나선형 필터 모듈(180)의 반영구적인 사용이 가능하여 유지 관리비용이 현저히 감소될 수 있다. When the
마지막으로, 배출 유닛(190)은 필터링 유닛(160)의 상부에 착탈 가능하게 결합되며, 정화처리가 완료된 처리가스가 배출되는 장소를 이룬다.Finally, the
이상 설명한 바와 같이, 본 실시예의 경우, 기존처럼 폴링, 데미스터 등의 구성을 구비하지 않고 가스유도 및 세정 유닛(110)에 의해 1차로 정화처리되고 이어, 필터모듈(180)을 구비하는 필터링 유닛(160)에서 2차로 정화처리된 후, 배출 유닛(190)으로 배출됨으로써, 기존의 스크러버보다 정화처리 효율을 향상시킬 수 있다.As described above, in the case of the present embodiment, the
특히, 이와 같은 방식이 적용될 경우, 유해가스인 Sox, Co 저감에 유리할 뿐만 아니라 악취 처리에 탁월하며, 유지관리가 용이하다.In particular, when such a method is applied, it is advantageous in reducing harmful gases such as Sox and Co, is excellent in odor treatment, and is easy to maintain.
그리고 구조물이 높이 방향으로 세워지는 형태이기 때문에 설치면적을 감소시킬 수 있다.Since the structure is formed in the height direction, the installation area can be reduced.
이상 설명한 바와 같은 구조와 작용을 갖는 본 실시예에 따르면, 신개념의 구조로써 유해가스를 정화처리할 수 있어 기존의 스크러버보다 정화처리 효율을 향상시킬 수 있게 된다.According to this embodiment having the structure and function as described above, it is possible to purify noxious gas with a new concept structure, and it is possible to improve purification treatment efficiency as compared with the conventional scrubber.
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 웨트 스크러버에 적용되는 적층형 필터모듈의 개략적인 내부 구조도이다.7 is a schematic internal structure of a stacked filter module applied to a wet scrubber according to another embodiment of the present invention.
이 도면을 참조하면 본 실시예의 경우, 필터모듈(270)로서, 각 개별층을 분리하여 세정할 수 있도록 한 적층형 필터모듈(270)을 적용하고 있다.Referring to this drawing, in the case of this embodiment, a
이러한 적층형 필터모듈(270)은 필터링 유닛 케이싱(170) 내에 배치되는 제2 모듈 하우징(271)과, 제2 모듈 하우징(271) 내에서 독립적으로 경사지게 층상 배열되며, 판면에 다수의 튜브(273)가 형성되는 다수의 적층형 필터 플레이트(272)와, 제2 모듈 하우징(271)의 중앙 영역에서 다수의 적층형 필터 플레이트(272)를 개별적으로 고정시키는 플레이트 고정부(274)를 포함할 수 있다. The
한편, 앞선 실시예의 나선형 필터모듈(180)은 전체적으로 이어진 하나의 나선형 필터 플레이트(182)를 적용하고 있기 때문에 필터 플레이트(182)를 각각 분리하여 세정하기는 어려우나 본 실시예의 적층형 필터모듈(270)의 경우, 다수의 적층형 필터 플레이트(272)가 적용되고 있기 때문에 필요 시 개별층으로서의 적층형 필터 플레이트(272)를 분리하여 세정할 수 있어 편리할 수 있다. 다만 가스의 상향 흐름이 나선형 필터모듈(180)에 비해 떨어질 수 있지만, 본 실시예가 적용되더라도 기존의 스크러버보다 정화처리 효율을 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라 유지 관리비용도 감소시킬 수 있는 이점이 있다.In the meantime, since the
이와 같이 본 발명은 기재된 실시예에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 다양하게 수정 및 변형할 수 있음은 이 기술의 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명하다. 따라서 그러한 수정예 또는 변형예들은 본 발명의 청구범위에 속한다 하여야 할 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the invention. It is therefore intended that such modifications or alterations be within the scope of the claims appended hereto.
110 : 가스유도 및 세정 유닛 120 : 세정 유닛 케이싱
121 : 세정 본체부 122 : 제1 플랜지
123 : 세정 네크부 124 : 세정 경사 연결부
130 : 가스 유도용 하부덕트 131 : 하부 경사부
132 : 하부 수직부 140 : 가스 유도용 상부덕트
141 : 상부 수직부 142 : 상부 경사부
151 : 물 분사노즐 152 : 하부 드레인 라인
160 : 필터링 유닛 170 : 필터링 유닛 케이싱
171 : 제2 플랜지 172 : 제3 플랜지
175 : 상부 드레인 라인 180 : 필터모듈
181 : 제1 모듈 하우징 181a : 하우징 플랜지
181b : 통공 182 : 나선형 필터 플레이트
183 : 튜브 190 : 배출 유닛
191 : 제4 플랜지110: gas induction and cleaning unit 120: cleaning unit casing
121: Cleaning body portion 122: First flange
123: cleansing neck portion 124: cleansing slope connection portion
130: lower duct for gas induction 131: lower inclined portion
132: lower vertical portion 140: upper duct for gas induction
141: upper vertical portion 142: upper inclined portion
151: Water spray nozzle 152: Lower drain line
160: Filtering unit 170: Filtering unit casing
171: second flange 172: third flange
175: upper drain line 180: filter module
181:
181b: through hole 182: helical filter plate
183: tube 190: exhaust unit
191: Fourth flange
Claims (9)
상기 가스유도 및 세정 유닛의 상부에 착탈 가능하게 결합되며, 상기 가스유도 및 세정 유닛에서 잔류되어 상향 이동되는 잔류가스를 필터링하여 2차 정화처리하는 필터링 유닛을 포함하며,
상기 가스유도 및 세정 유닛은,
단부에 제1 플랜지가 결합되는 세정 본체부와, 상기 세정 본체부보다 단면적이 좁게 형성되는 세정 네크부와, 상기 세정 본체부와 상기 세정 네크부를 경사지게 연결하는 세정 경사 연결부를 구비하는 세정 유닛 케이싱;
상기 세정 유닛 케이싱 내에 마련되며, 상기 세정 유닛 케이싱과의 사이로 유해가스의 흐름을 유도하는 가스 유도용 하부덕트; 및
하단부는 상기 가스 유도용 하부덕트의 내부에 배치되고 상단부는 상기 제1 플랜지에 접하며, 상기 가스 유도용 하부덕트 내로 흐르는 유해가스를 내부로 유도하여 상기 필터링 유닛 쪽으로 향하도록 하는 가스 유도용 상부덕트를 포함하며,
상기 가스유도 및 세정 유닛은,
상기 가스 유도용 하부덕트와 상기 가스 유도용 상부덕트 사이로 유도되는 유해가스를 향해 세정을 위한 물을 분사하는 다수의 물 분사노즐; 및
일단부는 상기 가스 유도용 하부덕트의 하단부에 연결되고 타단부는 상기 세정 유닛 케이싱의 외부로 노출되며, 상기 물 분사노즐의 작용에 의해 1차 정화처리된 드레인수(drain water)가 드레인되는 하부 드레인 라인을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 웨트 스크러버.
A gas guiding and cleaning unit for guiding the noxious gas to the inside and then cleaning and performing a primary purification treatment; And
And a filtering unit detachably connected to the upper portion of the gas induction and scrubbing unit, for filtering the residual gas remaining in the gas induction and scrubbing unit and moving upward,
The gas-guiding and cleaning unit comprises:
A cleaning main body portion having a first flange coupled to an end of the cleaning main body portion; a cleaning neck portion having a narrower sectional area than the cleaning main body portion; and a cleaning slant connection portion having a slant connection portion slantingly connecting the cleaning main body portion and the cleaning main body portion.
A lower duct provided in the cleaning unit casing for guiding a flow of a noxious gas between the cleaning unit casing and the cleaning unit casing; And
And a lower end portion disposed in the gas induction lower duct and an upper end portion contacting the first flange and guiding the noxious gas flowing into the gas induction lower duct toward the filtering unit, ≪ / RTI &
The gas-guiding and cleaning unit comprises:
A plurality of water injection nozzles for spraying water for cleaning toward the noxious gas introduced between the gas induction lower duct and the gas induction upper duct; And
And the other end is exposed to the outside of the cleaning unit casing, and the lower drain of the drain water, which is subjected to the first purification treatment by the action of the water injection nozzle, Wherein the wet scrubber further comprises a line.
상기 가스 유도용 하부덕트는 하부 경사부와, 상기 하부 경사부의 상단부에서 수직되게 배치되는 하부 수직부를 구비하며,
상기 가스 유도용 상부덕트는 상기 하부 수직부 내에 배치되는 상부 수직부와, 상기 상부 수직부의 단부에서 경사지게 배치되는 상부 경사부를 구비하되 상부로 갈수록 단면적이 넓게 형성되는 것을 특징으로 하는 웨트 스크러버.
The method according to claim 1,
Wherein the gas guiding lower duct includes a lower inclined portion and a lower vertical portion vertically disposed at an upper end of the lower inclined portion,
Wherein the gas guiding upper duct includes an upper vertical portion disposed in the lower vertical portion and an upper inclined portion disposed obliquely at an end of the upper vertical portion, and having a larger cross sectional area toward the upper portion.
상기 필터링 유닛은,
하단부에 상기 가스유도 및 세정 유닛의 제1 플랜지와 착탈 가능하게 플랜지 결합되는 제2 플랜지가 형성되며, 상기 가스유도 및 세정 유닛에서 잔류되어 상향 이동되는 잔류가스를 필터링하는 장소를 형성하는 필터링 유닛 케이싱; 및
상기 필터링 유닛 케이싱 내에 마련되어 상기 잔류가스를 필터링하는 필터모듈을 포함하는 것을 특징으로 하는 웨트 스크러버.
The method according to claim 1,
Wherein the filtering unit comprises:
And a second flange detachably engaged with the first flange of the gas introducing and cleaning unit is formed at a lower end of the filtering unit casing to form a place for filtering residual gas that remains in the gas introducing and cleaning unit, ; And
And a filter module provided in the filtering unit casing to filter the residual gas.
상기 필터모듈은 내부가 일체로 되어 상기 필터모듈 전체를 세정할 수 있도록 한 나선형 필터모듈 또는 각 개별층을 분리하여 세정할 수 있도록 한 적층형 필터모듈인 것을 특징으로 하는 웨트 스크러버.
6. The method of claim 5,
Wherein the filter module is a spiral filter module in which the inside of the filter module is cleaned so that the entire filter module can be cleaned or a stacked filter module in which each individual layer is separated and cleaned.
상기 나선형 필터모듈은,
상기 필터링 유닛 케이싱 내에 배치되는 제1 모듈 하우징; 및
상기 제1 모듈 하우징 내에서 나선형으로 서로 연결되어 배열되되 판면에 다수의 튜브가 형성되는 나선형 필터 플레이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨트 스크러버.
The method according to claim 6,
The helical filter module comprises:
A first module housing disposed within the filtering unit casing; And
And a helical filter plate arranged spirally connected to each other in the first module housing and having a plurality of tubes formed on the plate surface.
상기 적층형 필터모듈은,
상기 필터링 유닛 케이싱 내에 배치되는 제2 모듈 하우징;
상기 제2 모듈 하우징 내에서 독립적으로 경사지게 층상 배열되며, 판면에 다수의 튜브가 형성되는 다수의 적층형 필터 플레이트; 및
상기 제2 모듈 하우징의 중앙 영역에서 상기 다수의 적층형 필터 플레이트를 개별적으로 고정시키는 플레이트 고정부를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨트 스크러버.
The method according to claim 6,
The stacked filter module includes:
A second module housing disposed within the filtering unit casing;
A plurality of stacked filter plates arranged independently in an inclined manner in the second module housing and having a plurality of tubes formed on the plate surface; And
And a plate fixing portion for individually fixing the plurality of stacked filter plates in a central region of the second module housing.
상기 필터링 유닛의 상부에 착탈 가능하게 결합되며, 정화처리가 완료된 처리가스가 배출되는 배출 유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 웨트 스크러버.The method according to claim 1,
Further comprising a discharge unit detachably coupled to an upper portion of the filtering unit and discharging the process gas that has been subjected to the purification process.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (1)
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Family
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Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101685874B1 (en) * | 2016-03-11 | 2016-12-13 | 엔텍이앤씨 주식회사 | Wet scrubber porous filter and the filter case using the same |
KR200483413Y1 (en) * | 2016-11-11 | 2017-05-24 | 김용석 | Dust removal equipment |
KR101895192B1 (en) * | 2018-05-23 | 2018-09-04 | 서민수 | Scrubber equipment with inside venturi |
KR101977983B1 (en) * | 2018-10-15 | 2019-05-13 | 박홍구 | Wet scrubber including cyclone rotatory part |
KR102131658B1 (en) * | 2020-01-13 | 2020-07-08 | 제이에스엔지니어링 | The wet and dry type deodorizing apparatus |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005131509A (en) * | 2003-10-29 | 2005-05-26 | Unisem Co Ltd | Waste gas treatment and waste gas treatment method |
JP2014163344A (en) * | 2013-02-27 | 2014-09-08 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Mist elimination device for ship |
-
2015
- 2015-07-20 KR KR1020150102401A patent/KR101561414B1/en active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005131509A (en) * | 2003-10-29 | 2005-05-26 | Unisem Co Ltd | Waste gas treatment and waste gas treatment method |
JP2014163344A (en) * | 2013-02-27 | 2014-09-08 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Mist elimination device for ship |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101685874B1 (en) * | 2016-03-11 | 2016-12-13 | 엔텍이앤씨 주식회사 | Wet scrubber porous filter and the filter case using the same |
KR200483413Y1 (en) * | 2016-11-11 | 2017-05-24 | 김용석 | Dust removal equipment |
KR101895192B1 (en) * | 2018-05-23 | 2018-09-04 | 서민수 | Scrubber equipment with inside venturi |
WO2019225811A1 (en) * | 2018-05-23 | 2019-11-28 | Seo Min Su | Scrubber apparatus having integrated venturi |
KR101977983B1 (en) * | 2018-10-15 | 2019-05-13 | 박홍구 | Wet scrubber including cyclone rotatory part |
KR102131658B1 (en) * | 2020-01-13 | 2020-07-08 | 제이에스엔지니어링 | The wet and dry type deodorizing apparatus |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20150720 |
|
PA0201 | Request for examination | ||
PA0302 | Request for accelerated examination |
Patent event date: 20150722 Patent event code: PA03022R01D Comment text: Request for Accelerated Examination Patent event date: 20150720 Patent event code: PA03021R01I Comment text: Patent Application |
|
E902 | Notification of reason for refusal | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20150819 Patent event code: PE09021S01D |
|
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20151007 |
|
GRNT | Written decision to grant | ||
PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20151012 Patent event code: PR07011E01D |
|
PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20151012 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
PG1601 | Publication of registration | ||
FPAY | Annual fee payment |
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PR1001 | Payment of annual fee |
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|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20211012 Start annual number: 7 End annual number: 7 |
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PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20221011 Start annual number: 8 End annual number: 8 |
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PR1001 | Payment of annual fee |
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