KR101512567B1 - Apparatus of wet blasting - Google Patents
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Abstract
본 발명은 ? 블라스팅(wet blasting) 장치에 관한 것으로, 연마액의 유량에 관계없이 지속적인 여과펌프의 작동을 가능하도록 2차 발란싱 탱크를 더 구비하고, 1차 발란싱 탱크와 2차 발란싱 탱크의 구조를 격벽에 의한 오버 플로우 방식으로 구성한 ? 블라스팅 장치에 관한 것이다.
본 발명에 따르면 세척수 노즐과 투사기가 설치된 블라스팅 부분; 블라스팅 부분의 하부에 설치된 1차 발란싱 탱크; 1차 발란싱 탱크에서 오버 플로우된 연마액이 담기는 2차 발란싱 탱크; 2차 발란싱 탱크에서 오버 플로우된 연마액이 담기고, 세척라인으로 블라스팅 부분의 노즐과 연결되는 세척수 공급 탱크; 2차 발란싱 탱크와 여과관으로 연결된 필터;를 포함하여 구성된 ? 블라스팅 장치에 있어서, 상기 1차 발란싱 탱크는 바닥면이 경사판에 의해 경사진 형상이고, 1차 발란싱 탱크의 하부와 상부를 연결하는 순환관에 슬러리 교반 펌프가 설치되며, 1차 발란싱 탱크의 상부에 수면보다 위쪽으로 돌출되게 양분하는 격벽이 설치되고 격벽의 하단부는 경사판과 일정 거리 이격된 상태로 설치된 ? 블라스팅 장치가 제공된다.What is the present invention? The present invention relates to a wet blasting apparatus, and more particularly, to a wet blasting apparatus that further includes a secondary balancing tank for allowing continuous operation of a filtration pump regardless of the flow rate of a polishing liquid, and a structure of a primary balancing tank and a secondary balancing tank, Flow-based configuration? Blasting apparatus.
According to the present invention, there are provided a blasting part provided with a washing water nozzle and a projector; A primary balancing tank installed at the bottom of the blasting part; The secondary balancing tank containing the overflowed abrasive liquid in the primary balancing tank; A washing water supply tank containing the overflowed polishing liquid in the secondary balancing tank and connected to the nozzle of the blasting portion by the washing line; A filter connected to the secondary balancing tank and the filtration tube; In the blasting apparatus, the primary balancing tank has a bottom surface inclined by a swash plate, a slurry agitation pump is installed in a circulation pipe connecting the lower part and the upper part of the primary balancing tank, A partition wall is provided so as to protrude upward from the water surface, and a lower end portion of the partition wall is installed with a certain distance from the inclined plate. A blasting device is provided.
Description
본 발명은 ? 블라스팅(wet blasting) 장치에 관한 것으로, 연마액의 유량에 관계없이 지속적인 여과펌프의 작동을 가능하도록 2차 발란싱 탱크를 더 구비하고, 1차 발란싱 탱크와 2차 발란싱 탱크의 구조를 격벽에 의한 오버 플로우 방식으로 구성한 ? 블라스팅 장치에 관한 것이다.
What is the present invention? The present invention relates to a wet blasting apparatus, and more particularly, to a wet blasting apparatus that further includes a secondary balancing tank for allowing continuous operation of a filtration pump regardless of the flow rate of a polishing liquid, and a structure of a primary balancing tank and a secondary balancing tank, Flow-based configuration? Blasting apparatus.
? 블라스팅(Wet blasting) 장치는 연마액을 모재에 투사하여 버 제거, 표면 연마, 절단 등을 수행하는 가공장치를 통칭하는 것이다. 상기 연마액은 유리, 세라믹, 모래, 비이드 등의 연마재와, 액체인 반송유체로 구성된다.? A blasting apparatus generally refers to a processing apparatus that performs a burr removal, surface grinding, cutting, and the like by projecting a polishing liquid onto a base material. The abrasive liquid is composed of abrasives such as glass, ceramics, sand, beads, and the like, and a carrier fluid, which is a liquid.
종래의 ? 블라스팅 장치는 세척수 노즐과 투사기가 설치된 블라스팅 부분과, 블라스팅 부분의 하부에 설치된 저장탱크와, 저장탱크 내의 연마액을 순환시키는 슬러리 교반 펌프와, 저장탱크의 측부 하부와 투사기를 연결하는 투사관과, 투사관에 설치된 투사 펌프와, 저장탱크와 세척수 공급 탱크에 각각 연결된 분급 사이클론과, 저장탱크의 측부 중간과 분급 사이클론을 연결하는 분급관과, 분급관에 설치된 흡입펌프와, 분급 사이클론과 노즐과 연결된 세척수 공급 탱크와, 세척수 공급 탱크와 필터를 연결하는 여과관과, 여과관에 설치된 여과펌프와, 세척수 탱크와 노즐을 연결하는 세척라인을 포함하여 구성된다.Conventional? The blasting apparatus includes a blasting portion provided with a washing water nozzle and a projector, a storage tank provided at a lower portion of the blasting portion, a slurry stirring pump for circulating the polishing liquid in the storage tank, a projection tube connecting the lower portion of the storage tank and the projector, A classifying cyclone connected to the storage tank and the washing water supply tank, a classifying pipe connecting the middle of the side of the storage tank and the classifying cyclone, a suction pump installed on the classifying pipe, A cleaning water supply tank, a filtration pipe connecting the cleaning water supply tank and the filter, a filtration pump installed in the filtration pipe, and a cleaning line connecting the cleaning water tank and the nozzle.
따라서 연마액은 투사 펌프에 의해 투사기에서 투사되어 모재를 가공 또는 연마한 후 저장탱크로 낙하된다. 그리고 연마액은 흡입 펌프에 의해 분급 사이클론으로 보내져 깨진 연마재를 걸러 세척수 공급 탱크로 보낸다. 세척수 공급 탱크에서는 여과펌프에 의해 순환되면서 필터로 이물질과 깨진 연마재를 걸러준다. 걸러진 연마액은 세척수로 사용되고, 세척수 펌프에 의해 노즐로 송급되어 모재를 세척한다.
Therefore, the abrasive liquid is projected from the projector by the projection pump and processed or polished the base material, and then falls into the storage tank. Then, the abrasive liquid is sent to the classification cyclone by the suction pump to filter the broken abrasives and send them to the washing water supply tank. In the wash water supply tank, the filter is circulated by the filtration pump to filter foreign matter and broken abrasives. The filtered abrasive liquid is used as washing water, and is fed to the nozzle by a washing water pump to wash the base material.
이와 같은 종래의 ? 블라스팅 장치는 블라스팅 부분과 세척수 펌프의 단속적인 운전으로 유량 과대와 부족에 따라 여과펌프가 단속 운전되었다. 특히 필터로 연마액을 순환시키는 필터링 작용에서, 2단 또는 다단 필터링 시스템이 구성되는 경우 펌프 간의 유량을 일치시키기 어렵다. 따라서 세척수 저장 탱크의 범람을 방지하기 위해 크기가 커져야 하고, 유량 불균일에 의해 유량 부족현상이 발생하였다. 이러한 이유로 탱크별 센서를 부착하여 펌프 운전의 제어가 필요하고 제어 시스템의 구성이 필요하였고, 펌프의 단속적 제어로 연속 여과가 불가능하였다. 뿐만 아니라 저장탱크의 수위 변화에 따라 연마액 내에 연마재 농도가 불균일하여 모재의 가공이나 표면 처리에 있어 저급한 품질이 양산되었다.Such a conventional? In the blasting device, the intermittent operation of the blasting part and the washing water pump caused the filtration pump to intermittently operate according to the excess and shortage of the flow rate. Especially, in the filtering operation of circulating the polishing liquid with the filter, it is difficult to match the flow rate between the pumps when the two-stage or multi-stage filtering system is constituted. Therefore, the size of the washing water storage tank must be increased in order to prevent flooding, and a flow shortage phenomenon occurs due to uneven flow. For this reason, it is necessary to control the pump operation by attaching sensors according to the tank, and the configuration of the control system is required, and continuous filtration by the intermittent control of the pump is impossible. In addition, the abrasive concentration in the abrasive liquid was uneven due to the variation of the water level in the storage tank, resulting in poor quality in processing and surface treatment of the base material.
따라서 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해소하여 연속적인 여과펌프의 작동으로 연마액 내의 불순물 함량을 지속적으로 감소시킴으로써 모재 가공의 품질 향상을 가져오도록 함에 목적이 있다.
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, the present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and it is an object of the present invention to improve the quality of the base material processing by continuously reducing the impurity content in the polishing liquid by operating the continuous filtration pump.
상기와 같은 본 발명의 목적 달성을 위하여 연마액의 유량에 관계없이 지속적인 여과펌프의 작동을 가능하도록 2차 발란싱 탱크를 더 구비하고, 1차 발란싱 탱크와 2차 발란싱 탱크의 구조를 격벽에 의한 오버 플로우 방식으로 구성한 ? 블라스팅 장치를 제공하게 된다.
In order to achieve the object of the present invention as described above, a secondary balancing tank is further provided so as to enable continuous operation of the filtering pump irrespective of the flow rate of the abrasive liquid, and the structure of the primary balancing tank and the secondary balancing tank, Flow-based configuration? Thereby providing a blasting device.
본 발명에 따르면, 연속적인 여과 작용이 가능하고, 양질의 연마재만 블라스팅 부분으로 투사됨으로써, 모재의 가공에 정밀도가 향상된다.
According to the present invention, continuous filtering action is possible, and only the abrasive of good quality is projected onto the blasting part, thereby improving the accuracy in processing the base material.
도 1은 본 발명의 전체 구성도
도 2는 종래의 전체 구성도BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG.
FIG. 2 is a schematic diagram of a conventional full-
? 블라스팅(Wet blasting) 장치는 연마액을 모재(1)에 투사하여 버 제거, 표면 연마, 절단 등을 수행하는 가공장치를 통칭하는 것이다. 상기 연마액은 유리, 세라믹, 모래, 비이드 등의 연마재와, 액체인 반송유체로 구성된다.? The blotting apparatus generally refers to a processing apparatus that projects a polishing liquid onto a base material 1 to perform burr removal, surface polishing, and cutting. The abrasive liquid is composed of abrasives such as glass, ceramics, sand, beads, and the like, and a carrier fluid, which is a liquid.
본 발명에 따른 ? 블라스팅 장치는 세척수 노즐(8)과 투사기(3)가 설치된 블라스팅 부분(4); 블라스팅 부분(4)의 하부에 설치된 1차 발란싱 탱크(5); 1차 발란싱 탱크(5)에서 오버 플로우된 연마액이 담기는 2차 발란싱 탱크(6); 2차 발란싱 탱크(6)에서 오버 플로우된 연마액이 담기고, 세척라인(7)으로 블라스팅 부분(4)의 노즐(8)과 연결되는 세척수 공급 탱크(9); 2차 발란싱 탱크(6)와 여과관(10)으로 연결된 필터(11);를 포함하여 구성된다.According to the invention? The blasting apparatus comprises a blasting section (4) provided with a washing water nozzle (8) and a projector (3); A primary balancing tank 5 installed at the bottom of the
상기 블라스팅 부분(4)에는 모재(1)가 장착되고, 1~30중량％의 연마재가 혼합된 연마액이 투사기(3)를 통해 모재(1)에 투사되며, 연마액 투사 후 연마재가 없는 반송액체가 세척수 노즐(8)을 통해 분사되어 모재(1)를 세척하게 된다.The
상기 1차 발란싱 탱크(5)는 블라스팅 부분(4)에서 투사된 후 하부로 배출되는 연마액을 회수하는 용기로서, 바닥면이 경사판(17a)에 의해 경사진 형상이다. 그리고 이에는 슬러리 교반 펌프(24) 또는 교반 장치가 설치되고, 상기 슬러리 교반 펌프(24)는 1차 발란싱 탱크(5)의 하부와 상부를 연결하는 순환관(13)의 관로에 설치되어, 연마액에 포함된 연마재의 침전을 방지하도록 계속 연마액을 순환시킨다. 또한 경사판(17a)의 상부 정도의 위치에 수면보다 위쪽으로 돌출되게 양분하는 격벽(18a)이 설치되고, 격벽(18a)의 하단부는 경사판(17a)과 일정 거리 이격된 상태로 설치된다.The primary balancing tank 5 is a container for collecting the abrasive liquid that is projected from the
그리고 1차 발란싱 탱크(5)의 하부 측면에는 투사기(3)와 연결되는 투사관(14)이 접속되고, 투사관(14)의 관로상에 투사펌프(15)가 설치된다. 따라서 투사펌프(15)의 작동으로 연마액이 투사기(3)로 송급된 후 모재(1)를 향해 투사되어 소정의 목적을 이루게 된다.A
그리고 1차 발란싱 탱크(5)에 접속된 투사관(14)의 위치보다 상부인 측면에 분급관(16)이 설치되고, 분급관(16)의 타단은 분급 사이클론(19)과 연결된다. 분급관(16)의 관로상에는 흡입펌프(20)가 설치된다. 상기의 분급 사이클론(19)은 분급용 채와 같은 분급 장치로서 분급이 가능한 어떠한 장치도 가능하다. 분급 사이클론(19)에서 유효입자인 온전한 입자는 격벽(18a)에 의해 양분된 1차 발란싱 탱크(5)의 우측에 유입되고, 깨진 비드 등의 손상된 연마재와 모재(1)의 슬러지는 1차 발란싱 탱크(5)의 격벽(18a) 왼쪽 구획으로 유입된다.A classifying
따라서 1차 발란싱 탱크(5)의 격벽(18a) 왼쪽 구획으로 유입된 연마액은 2차 발란싱 탱크(6)로 흘러가고, 격벽(18a) 오른쪽 구획으로 유입된 연마액은 격벽(18a)을 넘는 오버 플로우일 경우에만 2차 발란싱 탱크(6)로 흘러가게 된다.The abrasive liquid flowing into the left compartment of the first balancing tank 5 flows into the
2차 발란싱 탱크(6)는 1차 발란싱 탱크(5)와 유사한 구조를 가지는데, 역시 경사판(17b)으로 경사진 바닥을 형성하고, 좌우를 구획하는 격벽(18b)이 바닥면과는 일정 거리 이격되게 설치된다. 1차 발란싱 탱크(5)에서 오버 플로우되는 연마액을 받아 필터(11)로 송급하는 역할을 한다. 물론 2차 발란싱 탱크(6)의 측면 하부와 필터(11)는 여과관(10)으로 연결되고, 여과관(10)의 관로상에 여과펌프(21)가 설치된다. 따라서 여과펌프(21)의 작동으로 2차 발란싱 탱크(6)의 하부에 위치하는 연마액이 필터(11)로 송급되어 연마재나 모재의 슬러지를 제거하게 된다. 상기의 필터(11)는 사이클론 방식, 여과포 방식 등 여과를 할 수 있는 어떠한 방식이라도 상관없다.The
필터(11)에서 슬러지가 걸러진 처리수는 2차 발란싱 탱크(6)의 격벽(18b) 왼쪽의 오버 플로우 공간으로 유입된다. 그리고 오버 플러우 되어 세척수 공급 탱크(9)로 유입되는 구조이다.The sludge-filtered treated water in the
세척수 공급 탱크(9)는 필터(11)에 의해 걸러진 처리수와, 2차 발란싱 탱크(6)에서 오버 플로우된 연마액이 저장되어 있다가 세척수로 공급된다. 즉 세척라인(7)에 설치된 세척수 펌프(22)에 의해 노즐(8)로 공급되어 모재(1)를 세척하게 된다. 그리고 세척수 공급 탱크(9)에는 수위조절센서가 설치되어 유량 부족시 세척수를 보충관(23)을 통해 공급된다.The wash
상기와 같은 구조에서 1차 발란싱 탱크(5)와 2차 발란싱 탱크(6)는 크린과 더티의 구분을 위한 칸막이로서 격벽(18a)(18b)이 설치된다. 이러한 격벽(18a)(18b) 구조에 의하여 오버 플로우 되는 것과, 지속적인 연마액의 순환에 의해 모재 가공의 품질이 향상된다.In the above-described structure, the first balancing tank 5 and the
1차 발란싱 탱크(5)는 블라스팅 부분(4)에서 공급되는 연마액이 없으면, 탱크 내의 보유액이 순환되면서 깨진 비드 등의 연마재를 지속적으로 배출하여 온전한 연마재만을 선별하여 품질이 향상된다.Without the abrasive liquid supplied from the
그리고 흡입펌프(20)에 의해 분급 사이클론(19)으로 송급되는 연마액은 깨진 연마재와 온전한 연마재로 분급 처리되고, 온전한 연마재가 포함된 연마액이 1차 발란싱 탱크(5)로 재유입되어 1차 발란싱 탱크(5)의 교반 효과를 가진다.The abrasive liquid fed to the
1차 발란싱 탱크(5)에 관로로 설치된 슬러리 교반펌프(24)와, 2차 발란싱 탱크(6)의 여과관(10)에 설치된 여과펌프(21)의 지속적인 작동으로 지속적인 교반 효과를 주고, 이에 의해 상대적으로 가벼운 입자상(깨어진 연마재와 모재에서 깍인 불순물) 등은 상부에 존재하고, 상대적으로 무겁고 온전한 연마재는 각각의 경사판(17a)(17b)을 타고 하부쪽으로 모이게 된다.The
2차 발란싱 탱크(6)는 교반이 없는 관계로 중력 침전 효과로 상대적으로 무거운 입자상(깨진 연마재)은 아래로 가라앉아 필터(11)로 보내지고 처리수는 상부에 존재하면서 처리수의 재유입으로 오버 플로우 되어 세척수 공급 탱크(9)에 저장된다.Since the
이와 같이 별도의 센서 등이 요구되지 않으며, 2차 발란싱 탱크(6)의 연마액은 투사펌프(15)가 가동을 중지하더라도 여과펌프(21)의 지속적인 운전으로 일정 수위를 유지하면서 여과작용을 하게 된다. 그리고 투사펌프(15)의 가동으로 연마액이 2차 발란싱 탱크(6)로의 유입이 재개되면 들어온 양만큼 처리수 양이 증가되어 오버 플로우 되어 세척수 공급 탱크(9)로 넘어간다.Thus, the polishing liquid of the
2차 발란싱 탱크(6)로 들어오는 유량이 없을 때에는, 필터(11)로부터 여과 처리수가 공급되어 유량이 일정하게 유지되고, 지속적인 여과가 가능하다. 들어오는 유량이 많을 시 여과 용량이 부족하더라도 상부액만 무거운 입자는 침전되고 상부 액만 넘어간다. 즉 1차 발란싱 탱크(5)는 가벼운 슬러지만 오버 플로우되어 2차 발란싱 탱크(6)로 가고, 2차 발란싱 탱크(6)는 처리수와 중력 침전 처리된 처리수(격벽으로 더티측 범람 방지, 크린측 오염 방지)가 세척수 공급 탱크(9)로 넘어간다. 이에 비하여 종래에는 발란싱 탱크의 범람으로 오염의 위험이 있었다.When there is no flow rate to the
상기와 같은 구조와 작용에 의하여 본 발명은 여과펌프(21)의 지속적인 운용이 가능하게 되고, 이에 따라 연마재의 균일한 농도의 연마액으로 모재를 가공할 수 있어 품질이 향상된다.According to the structure and function of the present invention, the
이에 비하여 종래의 경우 필터링 시스템에서 2단 혹은 다단 필터링 시스템이 구성되는 경우 펌프 간의 유량을 일치시키기 어려웠다. 즉 저장 탱크의 범람을 방지하기 위해 크기가 커져야 하고 유량 불균일에 의해 유량 부족현상이 발생하였다. 따라서 탱크별 센서를 부착하여 펌프 운전의 제어가 필요하고 제어 시스템의 구성이 필요하였고, 펌프의 제어로 연속 여과가 불가능하였다. 그리고 저장탱크(25)의 수위 변화에 따라 연마액 내의 연마재 량이 달라져 연마액의 농도가 불균일하여 모재를 가공함에 있어 일정하지 않은 거친 가공이 되었다. 이러한 이유는 종래의 경우 블라스팅 부분(4)과 세척 장치의 단속 운전으로 유량 과대와 부족에 빈번히 발생함에 따른 여과펌프(21)의 단속 운전에서 기인하였다.On the other hand, in the conventional case, when the two-stage or multi-stage filtering system is configured in the filtering system, it is difficult to match the flow rates between the pumps. In other words, the size must be increased to prevent the overflow of the storage tank, and the flow shortage phenomenon occurs due to the flow unevenness. Therefore, it is necessary to control the pump operation by attaching sensors according to the tank, and the configuration of the control system is required, and continuous filtration by the control of the pump is impossible. The amount of the abrasive in the abrasive liquid varies according to the change in the water level in the
그러나 본 발명은 세척수 공급 탱크(9)만 수위 조절하면 다른 곳에서는 센서와 제어 시스템 없이 자동 수위조절이 되는 구조이므로, 여과펌프(21)의 지속적인 가동에 의해 연마액이 순환 여과되어 반송액체인 세척수 내의 불순물 함량이 지속적으로 감소되는 효과를 가진다. 그리고 1차 발란싱 탱크(5)가 항상 일정 수위가 유지되므로 연마액 내의 연마재 농도가 항상 균일하게 유지되어, 모재의 가공 품질이 향상된다.
However, according to the present invention, when the water level of the wash
1 : 모재 2 : 세척수 노즐
3 : 투사기 4 : 블라스팅 부분
5 : 1차 발란싱 탱크 6 : 2차 발란싱 탱크
7 : 세척라인 8 : 노즐
9 : 세척수 공급 탱크 10 : 여과관
11 : 필터 12 : 슬러리 교반 펌프
13 : 순환관 14 : 투사관
15 : 투사펌프 16 : 분급관
17a, 17b : 경사판 18a, 18b : 격벽
19 : 분급 사이클론 20 : 흡입펌프
21 : 여과펌프 22 : 세척수 펌프
23 : 보충관 24 : 슬러리 교반펌프
25 : 저장탱크1: Base material 2: Wash water nozzle
3: Projector 4: Blasting part
5: Primary balancing tank 6: Secondary balancing tank
7: Cleaning line 8: Nozzle
9: wash water supply tank 10: filtration tube
11: Filter 12: Slurry agitation pump
13: circulation tube 14: projection tube
15: projection pump 16: classifying tube
17a and 17b:
19: Classification cyclone 20: Suction pump
21: Filtration pump 22: Washing water pump
23: Replacement tube 24: Slurry agitation pump
25: Storage tank
Claims (2)
2차 발란싱 탱크(6)는 1차 발란싱 탱크(5)보다 낮은 위치에 설치되어, 1차 발란싱 탱크(5)의 격벽(18a) 왼쪽 구획으로 유입된 연마액이 2차 발란싱 탱크(6)로 흘러가고, 격벽(18a) 오른쪽 구획으로 유입된 연마액은 격벽(18a)을 넘는 오버 플로우일 경우에만 2차 발란싱 탱크(6)로 흘러가는 구조이며; 2차 발란싱 탱크(6)는 경사판(17b)으로 경사진 바닥을 형성하고, 좌우를 구획하는 격벽(18b)이 바닥면과는 일정 거리 이격되게 설치되며; 2차 발란싱 탱크(6)의 측면 하부와 필터(11)는 여과관(10)으로 연결되고, 여과관(10)의 관로상에 여과펌프(21)가 설치되어 여과펌프(21)의 작동으로 2차 발란싱 탱크(6)의 하부에 위치하는 연마액이 필터(11)로 송급되어 연마재나 모재의 슬러지를 제거됨을 특징으로 하는 ? 블라스팅 장치.
A blasting portion 4 provided with a washing water nozzle 8 and a projector 3; A primary balancing tank 5 installed at the bottom of the blasting part 4; A secondary balancing tank 6 in which the overflowed abrasive liquid is contained in the primary balancing tank 5; A washing water supply tank 9 containing the overflowed polishing liquid in the secondary balancing tank 6 and connected to the nozzle 8 of the blasting part 4 by the cleaning line 7; A filter (11) connected to the secondary balancing tank (6) and the filtration pipe (10); In the blasting apparatus, the primary balancing tank 5 has a bottom surface inclined by a swash plate 17a, and is connected to a circulation pipe 13 connecting the lower part and the upper part of the primary balancing tank 5, A partition wall 18a is provided at an upper portion of the primary balancing tank 5 so as to protrude upward from the water surface and a lower end portion of the partition wall 18a is separated from the inclined plate 17a by a predetermined distance Lt; / RTI >
The secondary balancing tank 6 is provided at a position lower than the primary balancing tank 5 so that the abrasive liquid flowing into the left partition of the partition 18a of the primary balancing tank 5 is supplied to the secondary balancing tank 6 The polishing liquid flowing into the right compartment of the partition 18a flows into the secondary balancing tank 6 only when the polishing liquid overflows the partition 18a; The secondary balancing tank 6 forms an inclined bottom by the inclined plate 17b, and partition walls 18b partitioning the right and left are installed at a distance from the bottom surface. The lower side of the secondary balancing tank 6 and the filter 11 are connected to the filtration pipe 10 and the filtration pump 21 is installed on the channel of the filtration pipe 10 to operate the filtration pump 21 The polishing liquid located in the lower portion of the secondary balancing tank 6 is fed to the filter 11 and the sludge of the abrasive or the base material is removed. Blasting device.
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102068590B1 (en) * | 2018-10-30 | 2020-01-21 | 우남철 | Wet Blast type High Pressure Cleaning Apparatus |
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| JP2002219651A (en) * | 2001-01-24 | 2002-08-06 | Sugino Mach Ltd | Underwater deburring method and apparatus |
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-
2013
- 2013-12-13 KR KR20130155507A patent/KR101512567B1/en not_active Ceased
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