KR101497955B1 - 광투과 후면전극과 이를 이용한 태양전지 및 이들의 제조방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 후면전극을 개량한 태양전지 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 특히 태양전지 모듈(module)의 뒷면으로 조사되는 빛을 투과시킬 수 있는 후면전극에 관한 것이다. 본 발명은 태양전지의 후면전극의 제조방법에 있어서, 태양전지의 투명기판(100)을 준비하는 단계(s1000); 상기 투명기판(100) 위에 산화아연, 산화갈륨, 산화알루미늄, 산화인듐, 산화납, 산화구리, 산화티탄, 산화주석, 산화철, 이산화주석, 인듐주석산화물 및 이들 중 2 이상의 물질의 산화물 중에서 적어도 어느 하나를 포함하는 후면투명전극층(200)을 형성시키는 단계(s2000); 후면투명전극층(200) 위에 광흡수층(300)을 형성하는 단계(s3000) 를 포함하는 것을 특징으로 하는 광투과 후면전극의 제조방법 및 이에 따른 광투과 후면전극을 제공한다.
Description
본 발명은 후면전극을 개량한 태양전지 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 특히 태양전지 모듈(module)의 뒷면으로 조사되는 빛을 투과시킬 수 있는 후면전극에 관한 것이다.
태양전지 및 발전시스템은 태양에너지를 직접 전기에너지로 변환시키는 기술로 반도체, 염료, 고분자 등의 물질로 이루어진 태양전지를 이용하여 태양 빛을 받아 바로 전기를 생성한다. 이와 비교되는 기술로는 태양의 복사에너지를 흡수하여 열에너지로 변환하여 이용하는 태양열발전이 있다.
태양광발전(PV, Photovoltaic)은 무한정, 무공해의 태양에너지를 직접 전기에너지로 변환하는 발전방식으로 태양전지(모듈), PCS, 축전장치 등의 요소로 구성된다. 가장 일반적인 실리콘 태양전지의 기본 구조로서, 태양전지는 p형 반도체와 n형 반도체를 접합시키고 (p-n 접합) 양단에 금속전극을 코팅하여 제작한다. 태양 빛이 입사되어 반도체 내부에서 흡수되면 전자와 정공이 발생하여 p-n 접합에 의한 전기장에 끌려 전자는 n측으로 정공은 p측으로 이동하여 외부회로에 전류가 흐르게 된다. 태양광 시스템은 빛을 받아서 전기로 전환시켜 주는 부분(모듈)과 생산된 전기를 수요에 맞도록 교류로 변환시키고 계통에 연결시켜 주는 부분(PCS)으로 구성된다.
태양광발전 시스템의 구성 요소 기기 중 핵심부품은 태양전지이다. 태양전지는 기본적으로 반도체 소자 기술로서 태양 빛을 전기에너지로 변환하는 기능을 수행하는데, 이는 전기를 빛으로 변환시키는 레이저나 발광다이오드(Light Emitting Diode) 등 정보 표시 소자와 작동 방향이 반대일 뿐 기본 구조나 재료특성이 동일하다.
태양전지의 최소단위를 셀이라고 하며 보통 셀 1개로부터 나오는 전압이 약 0.5V로 매우 작으므로 다수의 태양전지를 직병렬로 연결하여 사용범위에 따라 실용적인 범위의 전압과 출력을 얻을 수 있도록 1매로 패키징하여 제작된 발전장치를 태양전지 모듈(PV Module)이라고 한다.
태양전지 모듈은 외부 환경으로부터 태양전지를 보호하기 위해서 유리, 완충재 및 표면재 등을 사용하여 패널 형태로 제작하며 내구성 및 내후성을 가진 출력을 인출하기 위한 외부단자를 포함한다. 복수 개의 태양전지 모듈에 태양빛이 많이 입사할 수 있도록 경사각, 방위각 등의 설치조건을 고려, 가대 및 지지대를 이용하여 전기적인 직병렬로 연결하여 사용범위에 맞게 구성한 발전장치를 태양전지 어레이(PV Array)라고 한다.
태양광발전용 PCS(Power Conditioning System)는 태양전지 어레이에서 발전된 직류전력을 교류전력으로 변환하기 위한 인버터 장치를 말한다. PCS는 태양전지 어레이에서 발전한 직류전원을 상용계통과 같은 전압과 주파수의 교류전력으로 변환하는 장치가 인버터이기 때문에 PCS를 인버터라고도 한다. PCS는 인버터, 전력제어장치 및 보호 장치로 구성되어 있다. 태양전지 본체를 제외한 주변장치 중에서 가장 큰 비중을 차지하는 요소이다.
박막 태양전지는 결정질 실리콘 태양전지에 비하여 원료사용량이 매우 적고 대면적화 및 대량생산이 가능하여 태양전지 제조단가를 낮출 수 있으며, 광흡수층 소재의 두께가 수 ㎛로 원소재 소비가 매우 적으며 5세대급의 대면적 모듈 제조가 가능하고 태양전지 및 모듈제조가 함께 이루어져 가치사슬(Value chain)이 단순하다. 또한, 실리콘 박막과 CI(G)S 및 CdTe 등의 화합물 박막을 이용한 박막 태양전지(모듈)이 상용화되고 있다. 도 1은 상기의 CI(G)S 박막 태양전지의 일반적인 형태를 도시하고 있다.
현재 생산되고 있는 대부분의 박막 태양전지는 유리기판 위에 제조되고 있으며 5세대급 모듈제조시 무게는 약 20㎏이상이 되고 있다.
이러한 박막 태양전지는 기판 위에 박막을 적층하여 제조하며, 태양광이 입사하는 방향에 따라서 상판(superstrate)형과 하판(substrate)형으로 구분된다. 상판형은 태양광이 기판을 통해서 입사하는 구조이며, 투명한 유리 기판에 전면전극을 형성하고, 광흡수층을 차례로 형성한 뒤에 마지막에 후면반사막을 형성한다. 하판형은 태양광이 기판의 반대쪽을 통해서 입사하는 구조이며, 후면 반사막의 역할을 하는 금속 기판 위에 광흡수층을 차례로 형성하고 마지막에 전면전극을 형성한다.
본 발명은, 태양전지 모듈 설치시, 태양전지 모듈의 전면으로 조사되는 태양광은 물론, 태양전지 모듈의 뒷면으로 반사되어 들어오는 태양광 까지 전기로 변환시킬 수 있도록 태양전지 모듈의 후면도 빛을 투과시킬 수 있는 태양전지를 제공하고자 한다.
이에, 본 발명은 태양전지의 후면전극의 제조방법에 있어서,
태양전지의 투명기판(100)을 준비하는 단계(s1000);
상기 투명기판(100) 위에 산화아연, 산화갈륨, 산화알루미늄, 산화인듐, 산화납, 산화구리, 산화티탄, 산화주석, 산화철, 이산화주석, 인듐주석산화물 및 이들 중 2 이상의 물질의 산화물 중에서 적어도 어느 하나를 포함하는 후면투명전극층(200)을 형성시키는 단계(s2000);
후면투명전극층(200) 위에 광흡수층(300)을 형성하는 단계(s3000);
를 포함하는 것을 특징으로 하는 광투과 후면전극의 제조방법을 제공하여 상기와 같은 문제점을 해결하고자 한다.
태양전지의 투명기판(100)을 준비하는 단계(s1000);
상기 투명기판(100) 위에 산화아연, 산화갈륨, 산화알루미늄, 산화인듐, 산화납, 산화구리, 산화티탄, 산화주석, 산화철, 이산화주석, 인듐주석산화물 및 이들 중 2 이상의 물질의 산화물 중에서 적어도 어느 하나를 포함하는 후면투명전극층(200)을 형성시키는 단계(s2000);
후면투명전극층(200) 위에 광흡수층(300)을 형성하는 단계(s3000);
를 포함하는 것을 특징으로 하는 광투과 후면전극의 제조방법을 제공하여 상기와 같은 문제점을 해결하고자 한다.
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본 발명에 따르면, 태양전지 모듈 설치시, 태양전지 모듈의 전면으로 조사되는 태양광은 물론, 태양전지 모듈의 뒷면으로 반사되어 들어오는 태양광 까지 전기로 변환시킬 수 있어 집광효과를 극대화하여 전력생산효율을 크게 향상시키는 효과가 있다.
도 1은 종래의 박막형 CIGS 태양전지의 단면도.
도 2는 본 발명의 광투과 후면전극이 적용된 태양전지의 요부발췌 사시도.
도 3은 본 발명의 광투과 후면전극이 적용된 태양전지의 요부발췌 단면도.
도 4는 본 발명의 태양전지의 효과를 설명하는 설명도.
도 5는 본 발명의 광투과 후면전극의 제조방법의 순서도.
도 6은 본 발명의 태양전지의 제조방법의 순서도.
도 2는 본 발명의 광투과 후면전극이 적용된 태양전지의 요부발췌 사시도.
도 3은 본 발명의 광투과 후면전극이 적용된 태양전지의 요부발췌 단면도.
도 4는 본 발명의 태양전지의 효과를 설명하는 설명도.
도 5는 본 발명의 광투과 후면전극의 제조방법의 순서도.
도 6은 본 발명의 태양전지의 제조방법의 순서도.
본 발명은 후면전극을 개량한 태양전지 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 특히 태양전지 모듈(module)의 뒷면으로 조사되는 빛을 투과시킬 수 있는 후면전극에 관한 것이다. 이하, 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명한다. 도 2는 본 발명의 광투과 후면전극이 적용된 태양전지의 요부발췌 사시도이고, 도 3은 본 발명의 광투과 후면전극이 적용된 태양전지의 요부발췌 단면도이다.
본 발명은 태양전지의 후면전극의 제조방법에 있어서,
태양전지의 투명기판(100)을 준비하는 단계(s1000);
상기 투명기판(100) 위에 산화아연, 산화갈륨, 산화알루미늄, 산화인듐, 산화납, 산화구리, 산화티탄, 산화주석, 산화철, 이산화주석, 인듐주석산화물 및 이들 중 2 이상의 물질의 산화물 중에서 적어도 어느 하나를 포함하는 후면투명전극층(200)을 형성시키는 단계(s2000);
후면투명전극층(200) 위에 광흡수층(300)을 형성하는 단계(s3000);
를 포함하는 것을 특징으로 하는 광투과 후면전극의 제조방법을 제공한다.
후면투명전극층(200)을 형성시키는 단계(s2000)에서의 상기 투명기판(100)은 유리 또는 플라스틱의 재질 중 선택되는 하나의 재질로 구성된다. 상기 투명기판(100)은 태양전지를 지지함과 동시에 후면으로 반사되어 들어오는 빛을 투과시키기 위해 투명한 재질을 갖는다.
즉, 본 발명은 불투명한 기판 위에 몰리브덴(Mo) 후면전극이 전체적으로 형성되는 종래의 구성에 반하여, 태양광이 투과될 수 있도록 후면을 투명하게 하기 위해 투명기판(100)과 후면투명전극층(200)으로 구성시킴으로써, 도 4에 도시되는 바와 같이, 설치된 태양전지 모듈(1000)의 정면으로 입사되는 태양광(a) 뿐 아니라, 후면으로 반사되어 들어오는 태양광(b) 까지 광흡수층(300)으로 포획할 수 있는 것이다.
후면투명전극층(200)을 형성시키는 단계(s2000)에서의 상기 후면투명전극층(200)은 RF 마그네트론 스퍼터링, DC 마그네트론 스퍼터링, MF 마그네트론 스퍼터링, 스퍼터링, 음극아크증착, 증기증착, 전자빔증착, 화학기상증착, 원자층증착, 전기화학적증착, 분사코팅, 닥터블레이드코팅, 스크린 프린트, 잉크젯 코팅, 전착법, 열증발법, 전자빔증발법, 열분무법 중 하나의 방법을 선택하여 증착되는 것이 바람직하며, 후면투명전극층(200) 위에 광흡수층(300)을 형성하는 단계(s3000)의 상기 광흡수층(300)은 CIGS(Cu(InGa)Se2), CdTs(Cadmium-Telluride), 결정질실리콘, 비결정질실리콘 중 선택된 하나 이상의 물질로 구성되는 것이 바람직하다.
후면투명전극층(200) 위에 광흡수층(300)을 형성하는 단계(s3000)는
CIGS계 전구체 화합물을 스핀코팅(Spin coating), 딥코팅(Dip coating),
스프레이코팅(Spray coating), 닥터블레이드코팅(Dr. blade coating), 롤코팅(Roll coating), 바코팅(Bar coating), 그래비에 코팅(Gravier coating), 슬롯다이코팅(Slot-die coating) 중 적어도 어느 하나의 방법으로 코팅하여 광흡수층(300)을 형성시킬 수 있으며, 또는 CIGS계 전구체 화합물을 E-beam 증착법(Electron beam evaporation), 전자빔 이온 플레이팅(Electron Beam Ion plating), 스퍼터링(Suppertering), 스퍼터링 이온 플레이팅 시스템(Suppertering Ion plating System), 레이저 분자빔 증착법(Laser Molecular Beam Epitaxy), 펄스 레이저 증착법 (Pulsed Laser Deposition), 저항 가열식 증착법(Thermal evaporation), 이온 어시스트 증착법(Ion-Assist Deposition) 중 적어도 어느 하나의 방법으로 증착하여 코팅시킬 수 있다.
본 발명은 이에 나아가,
태양전지의 제조방법에 있어서, 도 6에 도시되는 바와 같이,
태양전지의 투명기판(100)을 준비하는 단계(s100);
태양전지의 투명기판(100) 위에 후면투명전극층(200)을 형성시키는 단계(s200);
후면투명전극층(200) 위에 광흡수층(300)을 형성하는 단계(s300);
상기 광흡수층(300) 위에 CdS, ZnS, InOH 중에서 적어도 어느 하나를 포함하는 버퍼층(400)을 형성하는 단계(s400);
상기 버퍼층(400) 위에 산화아연, 산화갈륨, 산화알루미늄, 산화인듐, 산화납, 산화구리, 산화티탄, 산화주석, 산화철, 이산화주석, 인듐주석산화물 및 이들 중 2 이상의 물질의 산화물 중에서 적어도 어느 하나를 포함하는 투명전극층(500)을 형성하는 단계(s500);
를 포함하는 것을 특징으로 하는 광투과 후면전극을 이용한 태양전지의 제조방법을 제공한다.
상기의 태양전지는 필요에 따라 반사방지막(600) 또는 그리드전극(700)을 포함할 수 있다.
본 발명은 태양전지의 후면전극의 제조방법에 있어서,
태양전지의 투명기판(100)을 준비하는 단계(s1000);
상기 투명기판(100) 위에 산화아연, 산화갈륨, 산화알루미늄, 산화인듐, 산화납, 산화구리, 산화티탄, 산화주석, 산화철, 이산화주석, 인듐주석산화물 및 이들 중 2 이상의 물질의 산화물 중에서 적어도 어느 하나를 포함하는 후면투명전극층(200)을 형성시키는 단계(s2000);
후면투명전극층(200) 위에 광흡수층(300)을 형성하는 단계(s3000);
를 포함하는 것을 특징으로 하는 광투과 후면전극의 제조방법을 제공한다.
후면투명전극층(200)을 형성시키는 단계(s2000)에서의 상기 투명기판(100)은 유리 또는 플라스틱의 재질 중 선택되는 하나의 재질로 구성된다. 상기 투명기판(100)은 태양전지를 지지함과 동시에 후면으로 반사되어 들어오는 빛을 투과시키기 위해 투명한 재질을 갖는다.
즉, 본 발명은 불투명한 기판 위에 몰리브덴(Mo) 후면전극이 전체적으로 형성되는 종래의 구성에 반하여, 태양광이 투과될 수 있도록 후면을 투명하게 하기 위해 투명기판(100)과 후면투명전극층(200)으로 구성시킴으로써, 도 4에 도시되는 바와 같이, 설치된 태양전지 모듈(1000)의 정면으로 입사되는 태양광(a) 뿐 아니라, 후면으로 반사되어 들어오는 태양광(b) 까지 광흡수층(300)으로 포획할 수 있는 것이다.
후면투명전극층(200)을 형성시키는 단계(s2000)에서의 상기 후면투명전극층(200)은 RF 마그네트론 스퍼터링, DC 마그네트론 스퍼터링, MF 마그네트론 스퍼터링, 스퍼터링, 음극아크증착, 증기증착, 전자빔증착, 화학기상증착, 원자층증착, 전기화학적증착, 분사코팅, 닥터블레이드코팅, 스크린 프린트, 잉크젯 코팅, 전착법, 열증발법, 전자빔증발법, 열분무법 중 하나의 방법을 선택하여 증착되는 것이 바람직하며, 후면투명전극층(200) 위에 광흡수층(300)을 형성하는 단계(s3000)의 상기 광흡수층(300)은 CIGS(Cu(InGa)Se2), CdTs(Cadmium-Telluride), 결정질실리콘, 비결정질실리콘 중 선택된 하나 이상의 물질로 구성되는 것이 바람직하다.
후면투명전극층(200) 위에 광흡수층(300)을 형성하는 단계(s3000)는
CIGS계 전구체 화합물을 스핀코팅(Spin coating), 딥코팅(Dip coating),
스프레이코팅(Spray coating), 닥터블레이드코팅(Dr. blade coating), 롤코팅(Roll coating), 바코팅(Bar coating), 그래비에 코팅(Gravier coating), 슬롯다이코팅(Slot-die coating) 중 적어도 어느 하나의 방법으로 코팅하여 광흡수층(300)을 형성시킬 수 있으며, 또는 CIGS계 전구체 화합물을 E-beam 증착법(Electron beam evaporation), 전자빔 이온 플레이팅(Electron Beam Ion plating), 스퍼터링(Suppertering), 스퍼터링 이온 플레이팅 시스템(Suppertering Ion plating System), 레이저 분자빔 증착법(Laser Molecular Beam Epitaxy), 펄스 레이저 증착법 (Pulsed Laser Deposition), 저항 가열식 증착법(Thermal evaporation), 이온 어시스트 증착법(Ion-Assist Deposition) 중 적어도 어느 하나의 방법으로 증착하여 코팅시킬 수 있다.
본 발명은 이에 나아가,
태양전지의 제조방법에 있어서, 도 6에 도시되는 바와 같이,
태양전지의 투명기판(100)을 준비하는 단계(s100);
태양전지의 투명기판(100) 위에 후면투명전극층(200)을 형성시키는 단계(s200);
후면투명전극층(200) 위에 광흡수층(300)을 형성하는 단계(s300);
상기 광흡수층(300) 위에 CdS, ZnS, InOH 중에서 적어도 어느 하나를 포함하는 버퍼층(400)을 형성하는 단계(s400);
상기 버퍼층(400) 위에 산화아연, 산화갈륨, 산화알루미늄, 산화인듐, 산화납, 산화구리, 산화티탄, 산화주석, 산화철, 이산화주석, 인듐주석산화물 및 이들 중 2 이상의 물질의 산화물 중에서 적어도 어느 하나를 포함하는 투명전극층(500)을 형성하는 단계(s500);
를 포함하는 것을 특징으로 하는 광투과 후면전극을 이용한 태양전지의 제조방법을 제공한다.
상기의 태양전지는 필요에 따라 반사방지막(600) 또는 그리드전극(700)을 포함할 수 있다.
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본 발명을 첨부된 도면과 함께 설명하였으나, 이는 본 발명의 요지를 포함하는 다양한 실시 형태 중의 하나의 실시예에 불과하며, 당업계에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 하는 데에 그 목적이 있는 것으로, 본 발명은 상기 설명된 실시예에만 국한되는 것이 아님은 명확하다. 따라서, 본 발명의 보호범위는 하기의 청구범위에 의해 해석되어야 하며, 본 발명의 요지를 벗어나지 않는 범위 내에서의 변경, 치환, 대체 등에 의해 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함될 것이다. 또한, 도면의 일부 구성은 구성을 보다 명확하게 설명하기 위한 것으로 실제보다 과장되거나 축소되어 제공된 것임을 명확히 한다.
100. 투명기판
200. 후면투명전극층
300. 광흡수층
400. 버퍼층
500. 투명전극층
600. 반사방지막
700. 그리드전극
1000. 태양전지 모듈
200. 후면투명전극층
300. 광흡수층
400. 버퍼층
500. 투명전극층
600. 반사방지막
700. 그리드전극
1000. 태양전지 모듈
Claims (20)
- 태양전지의 후면전극의 제조방법에 있어서,
태양전지의 투명기판(100)을 준비하는 단계(s1000);
상기 투명기판(100) 위에 산화아연, 산화갈륨, 산화알루미늄, 산화인듐, 산화납, 산화구리, 산화티탄, 산화주석, 산화철, 이산화주석, 인듐주석산화물 및 이들 중 2 이상의 물질의 산화물 중에서 적어도 어느 하나를 포함하는 후면투명전극층(200)을 형성시키는 단계(s2000);
후면투명전극층(200) 위에 광흡수층(300)을 형성하는 단계(s3000);
를 포함하며,
상기 후면투명전극층(200)을 형성시키는 단계(s2000)에서의 상기 후면투명전극층(200)은 RF 마그네트론 스퍼터링, DC 마그네트론 스퍼터링, MF 마그네트론 스퍼터링, 열증발법, 전자빔증발법, 열분무법 중 선택되는 하나의 방법을 선택하여 증착되는 것임을 특징으로 하는 광투과 후면전극의 제조방법.
- 제 1항에 있어서,
후면투명전극층(200)을 형성시키는 단계(s2000)에서의 상기 투명기판(100)은 유리 또는 플라스틱 중 선택되는 하나의 재질로 구성된 것임을 특징으로 하는 광투과 후면전극의 제조방법.
- 삭제
- 제 1항에 있어서,
후면투명전극층(200) 위에 광흡수층(300)을 형성하는 단계(s3000)의 상기 광흡수층(300)은 CIGS(Cu(InGa)Se2), CdTs(Cadmium-Telluride), 결정질실리콘, 비결정질실리콘 중 선택된 하나 이상의 물질로 구성되는 것을 특징으로 하는 광투과 후면전극의 제조방법.
- 제 1항에 있어서,
후면투명전극층(200) 위에 광흡수층(300)을 형성하는 단계(s3000)는
CIGS계 전구체 화합물을 스핀코팅(Spin coating), 딥코팅(Dip coating),
스프레이코팅(Spray coating), 닥터블레이드코팅(Dr. blade coating), 롤코팅(Roll coating), 바코팅(Bar coating), 그래비에 코팅(Gravier coating), 슬롯다이코팅(Slot-die coating) 중 적어도 어느 하나의 방법으로 코팅하여 광흡수층(300)을 형성시키는 것임을 특징으로 하는 광투과 후면전극의 제조방법.
- 제 1항에 있어서,
후면투명전극층(200) 위에 광흡수층(300)을 형성하는 단계(s3000)는
CIGS계 전구체 화합물을 E-beam 증착법(Electron beam evaporation), 전자빔 이온 플레이팅(Electron Beam Ion plating), 스퍼터링(Suppertering), 스퍼터링 이온 플레이팅 시스템(Suppertering Ion plating System), 레이저 분자빔 증착법(Laser Molecular Beam Epitaxy), 펄스 레이저 증착법 (Pulsed Laser Deposition), 저항 가열식 증착법(Thermal evaporation), 이온 어시스트 증착법(Ion-Assist Deposition) 중 선택되는 적어도 어느 하나의 방법으로 증착하여 코팅하는 것임을 특징으로 하는 광투과 후면전극의 제조방법.
- 태양전지의 후면전극에 있어서,
제1항, 제2항 및 제4항 내지 제6항 중 선택되는 어느 한 항의 방법으로 제조되는 것을 특징으로 하는 광투과 후면전극.
- 태양전지의 제조방법에 있어서,
태양전지의 투명기판(100)을 준비하는 단계(s100);
태양전지의 투명기판(100) 위에 후면투명전극층(200)을 형성시키는 단계(s200);
후면투명전극층(200) 위에 광흡수층(300)을 형성하는 단계(s300);
상기 광흡수층(300) 위에 CdS, ZnS, InOH 중에서 적어도 어느 하나를 포함하는 버퍼층(400)을 형성하는 단계(s400);
상기 버퍼층(400) 위에 산화아연, 산화갈륨, 산화알루미늄, 산화인듐, 산화납, 산화구리, 산화티탄, 산화주석, 산화철, 이산화주석, 인듐주석산화물 및 이들 중 2 이상의 물질의 산화물 중에서 적어도 어느 하나를 포함하는 투명전극층(500)을 형성하는 단계(s500);
를 포함하며,
상기 태양전지의 투명기판(100) 위에 후면투명전극층(200)을 형성시키는 단계(s200)에서의 상기 후면투명전극층(200)은 산화아연, 산화갈륨, 산화알루미늄, 산화인듐, 산화납, 산화구리, 산화티탄, 산화주석, 산화철, 이산화주석, 인듐주석산화물 및 이들 중 2 이상의 물질의 산화물 중에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함하고,
상기 후면투명전극층(200)은 RF 마그네트론 스퍼터링, DC 마그네트론 스퍼터링, MF 마그네트론 스퍼터링, 열증발법, 전자빔증발법, 열분무법 중 하나의 방법을 선택하여 증착되는 것임을 특징으로 하는 광투과 후면전극을 이용한 태양전지의 제조방법.
- 제 8항에 있어서,
태양전지의 투명기판(100) 위에 후면투명전극층(200)을 형성시키는 단계(s200)에서의 상기 투명기판(100)은 유리 또는 플라스틱 중 선택되는 하나의 재질로 구성된 것임을 특징으로 하는 광투과 후면전극을 이용한 태양전지의 제조방법.
- 삭제
- 삭제
- 제 8항에 있어서,
후면투명전극층(200) 위에 광흡수층(300)을 형성하는 단계(s300)의 상기 광흡수층(300)은 CIGS(Cu(InGa)Se2), CdTs(Cadmium-Telluride), 결정질실리콘, 비결정질실리콘 중 선택된 하나 이상의 물질로 구성되는 것을 특징으로 하는 광투과 후면전극을 이용한 태양전지의 제조방법.
- 제 8항에 있어서,
후면투명전극층(200) 위에 광흡수층(300)을 형성하는 단계(s300)는
CIGS계 전구체 화합물을 스핀코팅(Spin coating), 딥코팅(Dip coating), 스프레이코팅(Spray coating), 닥터블레이드코팅(Dr. blade coating), 롤코팅(Roll coating), 바코팅(Bar coating), 그래비에 코팅(Gravier coating), 슬롯다이코팅(Slot-die coating) 중 선택되는 적어도 어느 하나의 방법으로 코팅하여 광흡수층(300)을 형성시키는 것임을 특징으로 하는 광투과 후면전극을 이용한 태양전지의 제조방법.
- 제 8항에 있어서,
후면투명전극층(200) 위에 광흡수층(300)을 형성하는 단계(s300)는
CIGS계 전구체 화합물을 E-beam 증착법(Electron beam evaporation), 전자빔 이온 플레이팅(Electron Beam Ion plating), 스퍼터링(Suppertering), 스퍼터링 이온 플레이팅 시스템(Suppertering Ion plating System), 레이저 분자빔 증착법(Laser Molecular Beam Epitaxy), 펄스 레이저 증착법 (Pulsed Laser Deposition), 저항 가열식 증착법(Thermal evaporation), 이온 어시스트 증착법(Ion-Assist Deposition) 중 선택되는 적어도 어느 하나의 방법으로 증착하여 코팅하는 것임을 특징으로 하는 광투과 후면전극을 이용한 태양전지의 제조방법.
- 기판과, 기판위에 형성되는 후면전극과, 후면전극위에 형성되는 광흡수층과, 광흡수층 위에 형성되는 버퍼층과, 버퍼층 위에 형성되는 투명전극층을 갖는 태양전지에 있어서,
제8항, 제9항 및 제12항 내지 제14항 중 선택되는 어느 한 항의 제조방법에 의해 제조되는 후면전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 광투과 후면전극을 이용한 태양전지.
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|---|---|---|---|
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| KR20110039697A (ko) * | 2009-10-12 | 2011-04-20 | 이화여자대학교 산학협력단 | 화합물 반도체 태양 전지 및 그 제조 방법 |
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