KR101491611B1 - 이차전지용 유무기 다공성분리막의 제조방법 및 이로부터 제조된 유무기 다공성분리막 - Google Patents
이차전지용 유무기 다공성분리막의 제조방법 및 이로부터 제조된 유무기 다공성분리막 Download PDFInfo
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Abstract
Description
Claims (15)
- 다공성 폴리올레핀 기재 및 상기 기재의 표면에 공기 또는 진공을 내포하는 평균 입경이 0.1~50㎛인 중공성 실리카 입자의 활성사이트를 C6~C36의 지방산 또는 산화왁스로 개질시킨 유무기 바인더 고분자혼합물로 코팅된 활성층을 포함하는 유무기 다공성분리막.
- 제 1항에 있어서,
상기 유무기 바인더 고분자혼합물은 중공성 실리카 입자 100중량부에 대하여 C6~C36의 지방산 또는 산화왁스 1~200 중량부를 포함하는 유무기 다공성분리막. - 삭제
- 제 1항에 있어서,
상기 중공성 실리카 입자의 다져진 밀도(tap density)는 0.1 ~ 1 g/㎤ 범위인 유무기 다공성분리막. - 제 1항에 있어서,
상기 활성사이트는 -COO, -NH2, -CONH2, -PO3H2, -SH, -SO3H, -SO2H, -NO2, 및 -O(CH2CH2O)nH (이때, n은 0~5의 정수) 로 구성된 친수성기 및 C3 ~ C30의 알킬기 및 C3 ~ C30의 아릴(aryl)기로 구성된 소수성기에서 선택되는 하나 또는 둘 이상인 유무기 다공성분리막. - 제 1항에 있어서,
상기 C6~C36의 지방산 또는 산화왁스는 바인더로서 말단기로 2개 이상의 지방산기를 포함하는 유무기 다공성분리막. - 제 1항에 있어서,
상기 유무기 바인더 고분자혼합물 100중량부에 대하여 1 ~ 20 중량부의 무기물입자를 더 포함하는 유무기 다공성분리막. - 제 7항에 있어서,
상기 무기물입자는 SiO2, Al2O3, TiO2, SnO2, CeO2, ZrO2, BaTiO3 , SrTiO3, Y2O3 , MgO, NiO, CaO, ZnO 및 SiC 에서 선택되는 하나 또는 둘 이상인 유무기 다공성분리막. - 제 1항에 있어서,
상기 유무기 다공성 분리막은 이온전도도가 8.0 × 10-4 ~ 9.8 × 10-4 S/cm인 유무기 다공성 분리막. - 제 1항, 제 2항 및 제 4항 내지 제 9항 중 어느 한 항에 따른 유무기 다공성분리막을 포함하는 이차전지.
- a) 공기 또는 진공을 내포하는 평균 입경이 0.1~50㎛인 중공성 실리카 입자의 활성사이트를 C6~C36의 지방산 또는 산화왁스로 개질시킨 유무기 바인더 고분자혼합물을 제조하는 단계 및
b) 다공성 폴리올레핀 기재의 적어도 일측 표면에 상기 a)의 유무기 바인더 고분자혼합물 및 용매를 포함하는 슬러리를 도포 및 건조하여 활성층을 형성하는 단계
를 포함하는 유무기 다공성분리막의 제조방법. - 제 11항에 있어서,
상기 b)의 슬러리의 용매는 C6~C36의 지방산 또는 산화왁스를 용해하며, 상기 유무기 바인더 고분자혼합물 100중량부에 대하여 10 ~ 1000 중량부를 포함하는 유무기 다공성분리막의 제조방법. - 제 11항에 있어서,
상기 b)의 활성층은 건조 후 두께가 0.1 ~ 100 ㎛인 유무기 다공성 분리막의 제조방법. - 제 11항 내지 제 13항에서 선택되는 어느 한 항의 제조방법으로 제조되는 유무기 다공성분리막.
- 제 14항의 유무기 다공성분리막을 포함하는 이차전지.
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