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KR101435352B1 - Laser processing apparatus and substrate position detecting method - Google Patents

Laser processing apparatus and substrate position detecting method Download PDF

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KR101435352B1
KR101435352B1 KR1020137007152A KR20137007152A KR101435352B1 KR 101435352 B1 KR101435352 B1 KR 101435352B1 KR 1020137007152 A KR1020137007152 A KR 1020137007152A KR 20137007152 A KR20137007152 A KR 20137007152A KR 101435352 B1 KR101435352 B1 KR 101435352B1
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KR
South Korea
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substrate
section
mark
machining
calculating
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고이치 인도
아츠히로 가네다
Original Assignee
미쓰비시덴키 가부시키가이샤
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Abstract

레이저 가공장치가 기판상에 마련된 위치결정용 마크를 순번대로 촬상하는 카메라(39)와, 가공테이블이 정지하지 않고 연속적으로 카메라(39)가 위치결정용 마크상으로 순번대로 이동해 오도록, 가공테이블로의 이동지령을 출력하는 이동지령 출력부(21)와, 카메라(39)가 위치결정용 마크상으로 이동해 왔을 때에, 카메라(39)에 촬상지시를 출력하는 촬상지령 출력부(25)와, 가공테이블로의 이동지령이 출력되고 있는 동안에, 카메라(39)가 촬상한 위치결정용 마크의 화상에 근거하여, 위치결정용 마크의 위치를 산출하는 화상처리부(27)와, 위치결정용 마크의 위치를 이용하여, 기판의 가공테이블에 대한 위치어긋남량을 산출하는 위치어긋남량 산출부(29)와, 기판의 레이저 가공위치를 위치어긋남량 산출부(29)가 산출한 위치어긋남량으로 위치보정하면서 레이저 가공을 행하는 레이저 가공부를 구비한다.A camera 39 for sequentially picking up positioning marks provided on the substrate in the laser processing apparatus, a camera 39 for continuously moving the camera 39 on the positioning mark in succession without stopping the processing table, An image pickup instruction output section 25 for outputting an image pickup instruction to the camera 39 when the camera 39 is moved on the positioning mark, An image processing section 27 for calculating the position of the positioning mark based on the image of the positioning mark captured by the camera 39 while the movement instruction to the table is being output, , A positional shift amount calculating section (29) for calculating a positional shift amount of the substrate with respect to the processing table, and a positional shift amount calculating section re Performing a low processing and a laser processing part.

Description

레이저 가공장치 및 기판위치 검출방법 {LASER PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE POSITION DETECTING METHOD}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a laser processing apparatus,

본 발명은 기판의 가공테이블에 대한 위치어긋남량을 산출하는 레이저 가공장치 및 기판위치 검출방법에 관한 것이다.The present invention relates to a laser processing apparatus and a substrate position detecting method for calculating a position shift amount with respect to a processing table of a substrate.

프린트기판 등의 워크(가공대상물)를 가공하는 장치의 하나로서, 워크에 레이저광을 조사하여 구멍내기가공 등을 행하는 레이저 가공장치(마이크로 레이저 가공기)가 있다. 이와 같은 레이저 가공장치에서는 워크상에 배치되어 있는 위치결정마크의 위치를 검출하고, 검출결과에 근거하여, 레이저 가공시의 위치보정(위치어긋남 보정)을 행하고 있다. 위치결정마크의 위치를 검출할 때에는, 예를 들면, 카메라 등을 이용하여 위치결정마크의 화상이 비추어지고, 비추어진 화상에 화상처리를 시행함으로써 위치결정마크의 위치가 검출된다.As a device for processing a work (workpiece) such as a printed board, there is a laser machining apparatus (micro laser machining apparatus) for performing a hole forming process by irradiating a work with laser light. In such a laser machining apparatus, the position of a positioning mark disposed on a work is detected, and based on the detection result, position correction (positional deviation correction) is performed during laser machining. When the position of the positioning mark is detected, for example, an image of the positioning mark is illuminated using a camera or the like, and the position of the positioning mark is detected by performing image processing on the illuminated image.

레이저 가공이 행해지는 워크는 워크면 내에서 신축이 발생하는 경우가 있으므로, 워크의 위치결정 정밀도를 향상시키기 위해서는, 위치결정마크의 개수를 다수로 해 둘 필요가 있다. 예를 들면, 특허문헌 1에 기재한 레이저 가공장치에서는, 위치결정마크상에 카메라를 이동시키고, 위치결정마크의 화상처리를 행하고 있다. 그리고, 위치결정마크의 어긋남량(위치)을 검출하고 있다. 이들 처리를 모든 위치결정마크에 대해서 반복함으로써, 모든 위치결정마크의 위치검출이 완료한다. 그 후, 위치어긋남 보정이 행해진다.Since the work to be laser-machined may extend or contract in the work surface, it is necessary to set a large number of positioning marks in order to improve the positioning precision of the work. For example, in the laser processing apparatus described in Patent Document 1, the camera is moved on the positioning mark and image processing of the positioning mark is performed. Then, the displacement amount (position) of the positioning mark is detected. By repeating these processes with respect to all of the positioning marks, position detection of all the positioning marks is completed. Thereafter, the positional deviation correction is performed.

또, 특허문헌 2에 기재한 레이저 가공장치에서는, XY테이블을 이동시키는 것에 의해서, 위치결정마크의 하나를 카메라의 아래쪽으로 이동시키고 있다. 그 후, 카메라로 위치결정마크를 촬상하고, 화상처리장치에 의해서 촬상영역 내에서의 위치결정마크의 좌표를 구하고 있다. 그리고, XY테이블의 현재 위치의 좌표와, 촬상영역 내에서의 위치결정마크의 좌표에 근거하여, 기계 원점(原點)에 대한 위치결정마크의 어긋남량을 구하고 있다. 레이저 가공장치에서는 복수의 위치결정마크에 대해서, 각각의 어긋남량을 구하고 있다. 그리고, NC장치가 어긋남량에 근거하여, 가공시에서의 기판으로의 가공위치 지령값을 보정하고 있다.In the laser processing apparatus described in Patent Document 2, one of the positioning marks is moved to the lower side of the camera by moving the XY table. Thereafter, the positioning mark is imaged by the camera, and the coordinates of the positioning mark in the imaging area are obtained by the image processing apparatus. Then, based on the coordinates of the current position of the XY table and the coordinates of the positioning mark in the imaging area, the displacement amount of the positioning mark relative to the machine origin is obtained. In the laser machining apparatus, deviation amounts of a plurality of positioning marks are obtained. Then, the NC apparatus corrects the machining position command value to the substrate at the time of machining based on the displacement amount.

[특허문헌 1] 일본국 특개2000-176666호 공보[Patent Document 1] Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-176666 [특허문헌 2] 일본국 특개평10-328863호 공보[Patent Document 2] Japanese Patent Laid-Open No. 10-328863

그렇지만, 상기 전자 및 후자의 종래기술에서는, 카메라를 위치결정마크로 이동시켜 정지한 후에, 화상취득 및 화상처리를 행하고, 그 후, 다시 카메라를 위치결정마크로 이동시킨다고 하는 처리를 반복하고 있다. 이 때문에, 화상처리에 필요로 하는 시간은 위치결정마크의 개수에 비례하여 증가한다. 그 결과, 위치결정마크의 위치검출에 장시간을 필요로 한다고 하는 문제가 있었다.However, in the former and latter technologies, the process of moving the camera to the positioning mark and then stopping the image capturing and image processing is performed, and then the camera is moved to the positioning mark again. Therefore, the time required for image processing increases in proportion to the number of positioning marks. As a result, there has been a problem that it takes a long time to detect the position of the positioning mark.

본 발명은 상기에 감안하여 이루어진 것으로서, 기판의 위치어긋남 검출을 단시간에 행할 수 있는 레이저 가공장치 및 기판위치 검출방법을 얻는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above, and an object of the present invention is to obtain a laser processing apparatus and a substrate position detecting method capable of detecting a positional deviation of a substrate in a short time.

상술한 과제를 해결하여, 목적을 달성하기 위해서, 본 발명은, 레이저 가공대상인 기판을 얹어 놓음과 아울러 상기 기판의 주면(主面)과 평행한 면 내에서 이동하는 가공테이블과, 상기 기판상에 마련되어 상기 기판상의 위치검출에 이용되는 위치결정용 마크를 순번(順番)대로 촬상하는 촬상부와, 상기 가공테이블이 정지하지 않고 연속적으로 상기 촬상부가 상기 위치결정용 마크상으로 순번대로 이동해 오도록 상기 가공테이블로의 이동지령을 출력하는 이동지령출력부와, 상기 촬상부와 상기 기판과의 사이의 상대위치를 상기 가공테이블의 위치에 근거하여 산출하는 기판위치 산출부와, 상기 촬상부가 상기 위치결정용 마크상으로 이동해 왔을 때에, 상기 기판위치 산출부가 보정한 상기 상대위치에 근거하여, 상기 촬상부에 촬상지시를 출력하는 촬상지령출력부와, 상기 이동지령출력부가 상기 가공테이블로의 이동지령을 출력하고 있는 동안에, 상기 촬상부가 촬상한 상기 위치결정용 마크의 화상에 근거하여, 상기 위치결정용 마크의 위치를 산출하는 화상처리부와, 상기 화상처리부가 산출한 상기 위치결정용 마크의 위치를 이용하여, 상기 기판의 상기 가공테이블에 대한 위치어긋남량을 산출하는 위치어긋남량 산출부와, 상기 기판의 레이저 가공위치를 상기 위치어긋남량 산출부가 산출한 위치어긋남량으로 위치보정하면서 레이저 가공을 행하는 레이저 가공부를 구비하고, 상기 기판위치 산출부는 상기 가공테이블의 이동속도에 따라 변화하는 상기 가공테이블과 상기 기판과의 사이의 위치어긋남량을 상기 가공테이블의 이동속도에 근거하여 산출하며, 산출한 위치어긋남량을 이용하여 상기 상대위치를 보정하는 것을 특징으로 한다.In order to solve the above-described problems and to achieve the object, the present invention provides a laser processing apparatus comprising: a processing table on which a substrate to be processed is placed and which moves within a plane parallel to the main surface of the substrate; An image pick-up unit for picking up a positioning mark used for position detection on the substrate in a sequential order; and a control unit for controlling the processing so that the image pick-up unit continuously moves onto the positioning mark, A substrate position calculating section for calculating a relative position between the imaging section and the substrate on the basis of the position of the processing table; On the basis of the relative position corrected by the board position calculating section when the image is moved to the mark image, an image pickup instruction is outputted to the image pickup section And the position of the positioning mark is calculated on the basis of the image of the positioning mark captured by the imaging unit while the movement instruction output unit is outputting the movement command to the processing table A positional shift amount calculating section for calculating a positional shift amount of the substrate with respect to the processing table by using the position of the positioning mark calculated by the image processing section; And a laser machining section for performing laser machining while correcting the position by the calculated position displacement amount, wherein the substrate position calculating section calculates a position between the machining table and the substrate, which changes with the moving speed of the machining table, The shift amount is calculated based on the moving speed of the processing table, and the calculated position shift amount is used And the relative position is corrected.

본 발명에 의하면, 기판의 위치어긋남 검출을 단시간에 행하는 것이 가능하게 된다고 하는 효과를 발휘한다.According to the present invention, it is possible to detect the positional deviation of the substrate in a short time.

도 1은 본 발명의 실시형태에 관한 레이저 가공장치의 구성을 나타내는 도면이다.
도 2는 가공제어장치와 XY테이블의 구성을 나타내는 도면이다.
도 3은 실시형태에 관한 가공위치 산출부의 구성을 나타내는 블럭도이다.
도 4는 기판의 위치어긋남량 산출처리순서를 나타내는 플로우차트이다.
도 5는 마크를 촬상한 화상의 일례를 나타내는 도면이다.
도 6은 마크의 배치위치의 일례를 나타내는 도면이다.
도 7은 마크의 촬상순서의 일례를 나타내는 도면이다.
도 8은 실시형태에서의 기판의 위치어긋남량 산출처리와, 종래 이용되고 있던 기판의 위치어긋남량 산출처리와의 차이점을 설명하기 위한 도면이다.
1 is a view showing a configuration of a laser machining apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 is a view showing the configuration of a machining control apparatus and an XY table.
3 is a block diagram showing a configuration of a machining position calculating section according to the embodiment.
4 is a flowchart showing the procedure of calculating the positional shift amount of the substrate.
5 is a diagram showing an example of an image of a mark.
6 is a view showing an example of the arrangement position of marks.
Fig. 7 is a diagram showing an example of the imaging sequence of marks. Fig.
8 is a diagram for explaining the difference between the positional shift amount calculating process of the substrate in the embodiment and the conventionally used substrate positional deviation calculating process.

이하에, 본 발명의 실시형태에 관한 레이저 가공장치 및 위치검출 방법을 도면에 근거하여 상세하게 설명한다. 또한, 이 실시형태에 의해 이 발명이 한정되는 것은 아니다.BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, a laser machining apparatus and a position detecting method according to embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The present invention is not limited to these embodiments.

실시형태.Embodiments.

도 1은 본 발명의 실시형태에 관한 레이저 가공장치의 구성을 나타내는 도면이다. 레이저 가공장치(100)는 레이저광(L)(펄스 레이저광)을 조사함으로써 피가공물인 기판(워크)(4)에 레이저 구멍내기가공을 행하는 장치이다. 본 실시형태의 레이저 가공장치(100)는 위치결정용 마크상으로 카메라(39)를 이동시키는 처리와, 위치결정용 마크의 화상처리(위치결정용 마크의 위치를 산출하는 처리)를 동시에 행함으로써, 기판(4)을 얹어 놓은 위치의 위치어긋남량을 산출한다.1 is a view showing a configuration of a laser machining apparatus according to an embodiment of the present invention. The laser machining apparatus 100 is a device for performing a laser drilling process on a substrate (workpiece) 4 as a workpiece by irradiating the laser beam L (pulse laser beam). The laser machining apparatus 100 of the present embodiment performs the processing of moving the camera 39 onto the positioning mark and the image processing of the positioning mark (the processing of calculating the position of the positioning mark) simultaneously , And calculates the positional shift amount of the position on which the substrate 4 is placed.

레이저 가공장치(100)는 레이저광(L)을 발진하는 레이저 발진기(1)와, 기판(4)의 레이저 가공을 행하는 레이저 가공부(3)와, 가공제어장치(2)를 구비하고 있다. 레이저 발진기(1)는 레이저광(L)을 발진하여 레이저 가공부(3)에 송출한다. 레이저 가공부(3)는 갈바노(Galvano) 미러(35X, 35Y), 갈바노 스캐너(36X, 36Y), 집광렌즈(fθ렌즈)(34), XY테이블(가공테이블)(30), 카메라(39)를 구비하고 있다.The laser processing apparatus 100 includes a laser oscillator 1 for oscillating laser light L, a laser processing section 3 for laser processing the substrate 4, and a machining control apparatus 2. The laser oscillator 1 oscillates the laser light L and sends the laser light L to the laser processing unit 3. The laser machining unit 3 includes a Galvano mirror 35X and a YY mirror 35Y and a Galvano scanner 36X and a YY condenser lens 34. An XY table 30 and a camera 39).

갈바노 스캐너(36X, 36Y)는 레이저광(L)의 궤도를 변화시켜 기판(4)으로의 조사위치를 이동시키는 기능을 가지고 있고, 레이저광(L)을 기판(4)에 설정된 각 가공에어리어 내에서 2차원적으로 주사한다. 갈바노 스캐너(36X, 36Y)는 레이저광(L)을 X-Y방향으로 주사하기 위해서, 갈바노 미러(35X, 35Y)를 소정의 각도로 회전시킨다.The galvano scanners 36X and 36Y have a function of changing the trajectory of the laser light L and moving the irradiating position to the substrate 4. The laser light L is irradiated to the respective processing areas In two dimensions. The galvanometer scanners 36X and 36Y rotate the galvanometer mirrors 35X and 35Y at predetermined angles in order to scan the laser light L in the X-Y direction.

갈바노 미러(35X, 35Y)는 레이저광(L)을 반사하여 소정의 각도로 편향(偏向)시킨다. 갈바노 미러(35X)는 레이저광(L)을 X방향으로 편향시키고, 갈바노 미러(35Y)는 레이저광(L)을 Y방향으로 편향시킨다.The galvanomirrors 35X and 35Y reflect the laser light L and deflect the laser light L at a predetermined angle. The galvanometer mirror 35X deflects the laser light L in the X direction and the galvanometer mirror 35Y deflects the laser light L in the Y direction.

집광렌즈(34)는 텔레센트릭(telecentric)성을 가진 집광렌즈이다. 집광렌즈(34)는 레이저광(L)을 기판(4)의 주면에 대해서 수직인 방향으로 편향시킴과 아울러, 레이저광(L)을 기판(4)의 가공위치(구멍위치(Hx))에 집광(조사)시킨다.The condenser lens 34 is a condenser lens having telecentricity. The condensing lens 34 deflects the laser light L in a direction perpendicular to the main surface of the substrate 4 and also fixes the laser light L to the processing position (hole position Hx) of the substrate 4 Condensed (irradiated).

기판(4)은 프린트 배선판 등의 가공대상물이며, 복수의 구멍내기가공이 행해져 관통구멍이 형성된다. 기판(4)은, 예를 들면, 동박(銅箔)(도체층), 수지(절연층), 동박(도체층)의 3층 구조를 이루고 있다.The substrate 4 is an object to be processed such as a printed wiring board, and a plurality of through holes are formed to form through holes. The substrate 4 has a three-layer structure of, for example, a copper foil (conductor layer), a resin (insulating layer), and a copper foil (conductor layer).

XY테이블(30)은 기판(4)을 얹어 놓음과 아울러, 후술하는 모터(42X, 42Y)의 구동에 의해서 XY평면 내를 이동한다. 이것에 의해, XY테이블(30)은 기판(4)을 면 내방향으로 이동시킨다.The XY table 30 moves the substrate 4 in the XY plane by driving the motors 42X and 42Y to be described later while placing the substrate 4 thereon. Thereby, the XY table 30 moves the substrate 4 in the in-plane direction.

XY테이블(30)을 이동시키지 않고 갈바노 기구의 동작(갈바노 스캐너(36X, 36Y)의 이동)에 의해서 레이저 가공이 가능한 범위(주사가능영역)가 가공에어리어(스캔 에어리어)이다. 레이저 가공장치(100)에서는 XY테이블(30)을 XY평면 내에서 이동시킨 후, 갈바노 스캐너(36X, 36Y)에 의해서 레이저광(L)을 2차원 주사한다. XY테이블(30)은 각 가공에어리어의 중심이 집광렌즈(34)의 중심 바로 아래(갈바노 원점)가 되도록 순번대로 이동해 간다. 갈바노 기구는 가공에어리어 내에 설정되어 있는 각 구멍위치(Hx)가 순번대로 레이저광(L)의 조사위치가 되도록 동작한다. XY테이블(30)에 의한 가공에어리어 사이의 이동과 갈바노 기구에 의한 가공에어리어 내에서의 레이저광(L)의 2차원 주사가 기판(4) 내에서 순번대로 행해져 간다. 이것에 의해, 기판(4) 내의 모든 구멍위치(Hx)가 모두 레이저 가공된다.(Scanable area) that can be machined by the operation of the galvanometer mechanism (movement of the galvanometer scanner 36X, 36Y) without moving the XY table 30 is the machining area (scan area). In the laser machining apparatus 100, the XY table 30 is moved in the XY plane, and the laser beam L is two-dimensionally scanned by the galvanometer scanners 36X and 36Y. The XY table 30 is moved in order so that the center of each processing area is located just below the center of the condenser lens 34 (galvano origin). The galvanometer mechanism is operated so that each hole position Hx set in the machining area sequentially irradiates the laser light L. The movement between the processing areas by the XY table 30 and the two-dimensional scanning of the laser light L in the processing area by the Galvano mechanism are sequentially performed in the substrate 4. [ As a result, all the hole positions Hx in the substrate 4 are all laser-processed.

카메라(촬상부)(39)는 레이저광(L)을 기판(4)에 조사하는 가공헤드(도시생략)의 근방에 배치되어 있다. 카메라(39)는 기판(4)에 미리 마련되어 있는 복수의 위치결정용의 마크(이하, 마크(6)라 함)를 촬상하고, 촬상한 화상을 가공제어장치(2)로 보낸다. 본 실시형태에서는, 카메라(39)를 기판(4)상에서 이동시키면서 카메라(39)가 마크(6)의 화상을 촬상한다. 이 때문에, 카메라(39)는 셔터 기능 등에 의해서 화상을 단시간에 취득한다.A camera (imaging section) 39 is disposed in the vicinity of a processing head (not shown) for irradiating the substrate 4 with the laser light L. The camera 39 picks up a plurality of positioning marks (hereinafter, referred to as mark 6) provided in advance on the substrate 4 and sends the picked-up image to the machining control device 2. In the present embodiment, the camera 39 captures an image of the mark 6 while moving the camera 39 on the substrate 4. [ For this reason, the camera 39 acquires an image in a short time by a shutter function or the like.

마크(6)는 기판(4)의 신축 등에 의해서 발생하는 기판(4)의 위치어긋남을 보정하기 위한 얼라이먼트 마크이다. 카메라(39)의 위치는 고정되어 있고, 레이저 가공장치(100)에서는 XY테이블(30)이 기판(4)의 위치를 이동시키는 것에 의해서, 카메라(39)와 기판(4)과의 사이의 상대위치를 변화시키고 있다. 또한, 이하에서는 설명의 편의상, 카메라(39)의 위치를 이동시키는 것에 의해서, 카메라(39)와 기판(4)과의 사이의 상대위치가 변화하는 것으로서, 레이저 가공장치(100)의 동작을 설명하는 경우가 있다.The mark 6 is an alignment mark for correcting the positional deviation of the substrate 4 caused by expansion and contraction of the substrate 4 or the like. The position of the camera 39 is fixed and the XY table 30 moves the position of the substrate 4 in the laser machining apparatus 100 so that the relative position between the camera 39 and the substrate 4 The position is changing. For convenience of explanation, the relative position between the camera 39 and the substrate 4 is changed by moving the position of the camera 39 to explain the operation of the laser machining apparatus 100 .

가공제어장치(2)는 레이저 발진기(1) 및 레이저 가공부(3)에 접속되어 있고(도시생략), 레이저 발진기(1) 및 레이저 가공부(3)를 제어한다. 가공제어장치(2)는 마크(6)의 실제의 위치(검출결과)와, 기계 원점(XY테이블(30)상의 기준 위치)에 대한 마크(6)의 예상 위치(위치어긋남이 없는 경우의 이론값)와의 차이(후술의 위치어긋남량(208))에 근거하여, 기판(4)의 레이저 가공위치(좌표)를 보정한다. 환언하면, 가공제어장치(2)는 카메라(39)에 의한 마크위치의 검출결과에 근거하여 위치어긋남량(208)을 산출하고, 위치어긋남량(208)을 보정하도록 기판(4)의 레이저 가공위치를 제어한다.The processing control apparatus 2 is connected to a laser oscillator 1 and a laser processing section 3 (not shown), and controls the laser oscillator 1 and the laser processing section 3. The machining control apparatus 2 determines the predicted position of the mark 6 with respect to the actual position (detection result) of the mark 6 and the mechanical origin (reference position on the XY table 30) (The positional shift amount 208 described later) of the substrate 4 (the position of the substrate 4). In other words, the machining control apparatus 2 calculates the position shift amount 208 based on the detection result of the mark position by the camera 39, and performs laser processing of the substrate 4 to correct the position shift amount 208 Control the position.

가공제어장치(2)는, 기판(4)을 레이저 가공할 때에는, 가공 프로그램에 설정된 레이저 가공조건을 레이저 발진기(1)와 레이저 가공부(3)에 지시한다. 또, 가공제어장치(2)는, 기판(4)을 레이저 가공하기 전에, 마크(6)의 검출위치에 근거하여, 기판(4)면 내의 위치어긋남량(208)을 산출해 둔다. 본 실시형태의 가공제어장치(2)는, 마크(6)를 촬상할 때에, 카메라(39)(XY테이블(30))의 이동을 정지시키지 않고, 카메라(39)를 순번대로 마크(6)상으로 이동시킨다. 그리고, 가공제어장치(2)는 카메라(39)를 XY평면 내에서 이동시키면서, 카메라(39)가 마크(6)상으로 왔을 때에, 카메라(39)에 의해서 마크(6)를 촬상한다. 이것에 의해, 가공제어장치(2)는 카메라(39)의 이동처리와 마크(6)의 촬상화상을 이용한 화상처리(마크(6)의 위치를 산출하는 처리)와를 동시에 행한다.The processing control apparatus 2 instructs the laser oscillator 1 and the laser processing section 3 to set the laser processing conditions set in the machining program when the substrate 4 is laser machined. The machining control apparatus 2 calculates the position shift amount 208 in the surface of the substrate 4 based on the detection position of the mark 6 before laser processing the substrate 4. [ The machining control apparatus 2 of the present embodiment does not stop the movement of the camera 39 (the XY table 30) when the mark 6 is picked up, . The processing control apparatus 2 captures the mark 6 by the camera 39 when the camera 39 comes on the mark 6 while moving the camera 39 in the XY plane. Thereby, the machining control apparatus 2 performs the moving process of the camera 39 and the image process (the process of calculating the position of the mark 6) using the picked-up image of the mark 6 at the same time.

가공제어장치(2)는 컴퓨터 등에 의해서 구성되어 있으며, 레이저 발진기(1)나 레이저 가공부(3)를 NC(Numerical Control)제어 등에 의해서 제어한다. 가공제어장치(2)는 CPU(Central Processing Unit), ROM(Read Only Memory), RAM(Random Access Memory) 등을 구비하여 구성되어 있다. 가공제어장치(2)가 레이저 발진기(1)나 레이저 가공부(3)를 제어할 때에는, CPU가 유저에 의한 입력부(도시생략)로부터의 입력에 의해서, ROM 내에 격납되어 있는 가공 프로그램을 읽어내어 RAM 내의 프로그램 격납영역으로 전개(展開)하여 각종 처리를 실행한다. 이 처리시에 발생하는 각종 데이터는 RAM 내에 형성되는 데이터 격납영역에 일시적으로 기억된다. 이것에 의해, 가공제어장치(2)는 레이저 발진기(1) 및 레이저 가공부(3)를 제어한다.The processing control unit 2 is constituted by a computer or the like and controls the laser oscillator 1 and the laser processing unit 3 by NC (Numerical Control) control or the like. The processing control apparatus 2 is configured by a CPU (Central Processing Unit), a ROM (Read Only Memory), a RAM (Random Access Memory), and the like. When the processing control apparatus 2 controls the laser oscillator 1 or the laser processing section 3, the CPU reads the machining program stored in the ROM by an input from an input section (not shown) by the user (Expanded) into a program storage area in the RAM and executes various processes. Various data generated during this processing are temporarily stored in a data storage area formed in the RAM. Thereby, the machining control apparatus 2 controls the laser oscillator 1 and the laser machining section 3.

다음으로, 가공제어장치(2)와 XY테이블(30)의 구성에 대해서 설명한다. 도 2는 가공제어장치와 XY테이블의 구성을 나타내는 도면이다. 가공제어장치(2)는 서보 앰프(servo amplifier)(41X, 41Y)에 접속되어 있고, 서보 앰프(41X, 41Y)는 각각 모터(42X, 42Y)에 접속되어 있다. 또, 모터(42X, 42Y)는 각각 엔코더(43X, 43Y)에 접속됨과 아울러, XY테이블(30)에 접속되어 있다.Next, the configuration of the machining control device 2 and the XY table 30 will be described. 2 is a view showing the configuration of a machining control apparatus and an XY table. The machining control apparatus 2 is connected to servo amplifiers 41X and 41Y and the servo amplifiers 41X and 41Y are connected to motors 42X and 42Y, respectively. The motors 42X and 42Y are connected to the encoders 43X and 43Y and also connected to the XY table 30, respectively.

가공제어장치(2)는 XY테이블(30)의 X방향의 위치를 제어하기 위한 제어신호(X방향 제어지령)를 서보 앰프(41X)에 출력한다. 또, 가공제어장치(2)는 XY테이블(30)의 Y방향의 위치를 제어하기 위한 제어신호(Y방향 제어지령)를 서보 앰프(41Y)에 출력한다. 서보 앰프(41X, 41Y)는 각각 가공제어장치(2)로부터 보내져 오는 X방향 제어지령, Y방향 제어지령을 증폭하여 모터(42X, 42Y)로 보낸다.The machining control device 2 outputs a control signal (X direction control command) for controlling the position of the XY table 30 in the X direction to the servo amplifier 41X. The machining control apparatus 2 outputs a control signal (Y direction control command) for controlling the position of the XY table 30 in the Y direction to the servo amplifier 41Y. The servo amplifiers 41X and 41Y amplify the X direction control command and the Y direction control command sent from the machining control device 2, respectively, and send them to the motors 42X and 42Y.

모터(42X)는 XY평면 내(기판(4)의 주면에 평행한 면 내)에서 X방향 제어지령에 따른 위치(X좌표)로 XY테이블(30)을 이동시킨다. 또, 모터(42Y)는 XY평면 내에서 Y방향 제어지령에 따른 위치(Y좌표)로 XY테이블(30)을 이동시킨다.The motor 42X moves the XY table 30 to a position (X coordinate) in accordance with the X direction control command in the XY plane (within the plane parallel to the main surface of the substrate 4). The motor 42Y moves the XY table 30 to a position (Y coordinate) in accordance with the Y direction control command in the XY plane.

XY테이블(30)은 XY테이블(30)의 X방향의 위치(좌표)를 검출하는 리니어 스케일(40X)과, XY테이블(30)의 Y방향의 위치를 검출하는 리니어 스케일(40Y)을 구비하고 있다. 리니어 스케일(40X, 40Y)은 검출한 XY테이블(30)의 XY평면 내에서의 위치(이하, 테이블 위치(101)라 함)를 가공제어장치(2)로 보낸다. 테이블 위치(101)는 카메라(39)에 대한 XY테이블(30)의 상대위치를 나타내는 정보이다.The XY table 30 includes a linear scale 40X for detecting the position (coordinate) in the X direction of the XY table 30 and a linear scale 40Y for detecting the position of the XY table 30 in the Y direction have. The linear scales 40X and 40Y send the position of the detected XY table 30 in the XY plane (hereinafter referred to as the table position 101) to the machining control device 2. The table position 101 is information indicating the relative position of the XY table 30 with respect to the camera 39.

또한, 리니어 스케일(40X, 40Y)은 XY테이블(30)의 근방에 배치해도 되고, XY테이블(30)과는 다른 별도의 위치에 배치하여 XY테이블(30)과는 별도의 구성으로 해도 된다.The linear scales 40X and 40Y may be disposed in the vicinity of the XY table 30 or may be disposed at a different position from the XY table 30 to be separate from the XY table 30. [

엔코더(43X, 43Y)는 모터(42X, 42Y) 및 가공제어장치(2)에 접속되어 있다. 엔코더(43X)는 모터(42X)의 상태(X방향 제어지령에 따른 동작 상태)를 검출하고, 검출결과를 가공제어장치(2)로 보낸다. 또, 엔코더(43Y)는 모터(42Y)의 상태(Y방향 제어지령에 따른 동작 상태)를 검출하고, 검출결과를 가공제어장치(2)로 보낸다.The encoders 43X and 43Y are connected to the motors 42X and 42Y and the machining control device 2, respectively. The encoder 43X detects the state of the motor 42X (operating state in accordance with the X direction control command) and sends the detection result to the machining control device 2. The encoder 43Y detects the state of the motor 42Y (operation state in accordance with the Y direction control command) and sends the detection result to the machining control device 2. [

카메라(39)는 기판(4)상에 배치된 마크(6)를 촬상하며, 촬상한 화상을 가공제어장치(2)로 보낸다. 가공제어장치(2)는 가공위치 산출부(20)를 가지고 있다. 가공위치 산출부(20)는 카메라(39)가 촬상한 마크(6)의 화상, 리니어 스케일(40X, 40Y)이 측정한 테이블 위치(101) 등에 근거하여, 기판(4)의 위치(XY평면 내에서의 좌표)(이하, 기판좌표(201)라 함)를 산출한다. 가공위치 산출부(20)는 XY테이블(30)의 이동속도와, XY테이블(30)의 이동에 수반하는 기판(4)의 위치어긋남량(G)과의 대응관계(후술의 기판 위치어긋남 정보(151))를 이용하여, 기판좌표(201)를 보정한다.The camera 39 picks up a mark 6 placed on the substrate 4 and sends the picked-up image to the machining control device 2. [ The machining control apparatus 2 has a machining position calculating section 20. The machining position calculating section 20 calculates the position of the substrate 4 (XY plane (XY plane)) based on the image of the mark 6 picked up by the camera 39, the table position 101 measured by the linear scale 40X, (Hereinafter, referred to as substrate coordinates 201). The machining position calculating section 20 calculates the machining position calculating section 20 based on the correspondence relation between the moving speed of the XY table 30 and the positional shift amount G of the substrate 4 accompanying the movement of the XY table 30 (Substrate 151)) is used to correct the substrate coordinates 201.

가공위치 산출부(20)는 기판좌표(201)를 보정한 후의 기판좌표(202)가 마크(6)의 좌표가 되었을 때에, 카메라(39)에 마크(6)의 화상을 촬상시키고, 촬상한 화상에 근거하여, 마크(6)의 좌표(후술하는 마크좌표(205))를 산출한다. 가공위치 산출부(20)는 XY테이블(30)의 이동속도와, 마크(6)의 촬상지령이 출력되고 나서 실제로 마크(6)가 촬상될 때까지 필요로 하는 시간과의 대응관계를 이용하여, 마크좌표(205)를 보정한다. 가공위치 산출부(20)는 마크좌표(205)의 보정에 의해서 얻어진 마크좌표(206)와, 마크(6)의 가공 프로그램상의 좌표(후술의 마크위치정보(152))와의 차이를 기판(4)의 위치어긋남량(208)으로서 산출한다. 가공위치 산출부(20)는 마크(6)마다 기판(4)의 위치어긋남량(208)을 산출한다. 가공제어장치(2)는 가공위치 산출부(20)가 산출한 기판(4)의 위치어긋남량(208)에 근거하여, 기판(4)으로의 레이저 가공위치를 보정한다.The machining position calculating unit 20 takes the image of the mark 6 on the camera 39 and makes the image of the mark 6 captured when the coordinates of the substrate 6 after the correction of the substrate coordinates 201 become the coordinates of the mark 6 (Mark coordinates 205 to be described later) of the mark 6 based on the image. The processing position calculating section 20 uses the correspondence relationship between the moving speed of the XY table 30 and the time required until the image 6 is actually picked up after the imaging instruction of the mark 6 is outputted , The mark coordinates 205 are corrected. The machining position calculating section 20 calculates the difference between the mark coordinates 206 obtained by the correction of the mark coordinates 205 and the coordinates on the machining program of the mark 6 (mark position information 152 described later) As the positional displacement amount 208 of the positional deviation. The machining position calculating unit 20 calculates the positional displacement amount 208 of the substrate 4 for each mark 6. [ The processing control apparatus 2 corrects the laser processing position on the substrate 4 based on the position shift amount 208 of the substrate 4 calculated by the processing position calculation section 20. [

다음으로, 가공위치 산출부(20)의 구성에 대해서 설명한다. 도 3은 실시형태에 관한 가공위치 산출부의 구성을 나타내는 블럭도이다. 가공위치 산출부(20)는 이동지령 출력부(21), 속도산출부(22), 테이블위치 입력부(23), 기판위치 산출부(24), 촬상지령 출력부(25), 화상입력부(26), 화상처리부(27), 좌표보정부(28), 위치어긋남량 산출부(29), 기판 위치어긋남 정보 기억부(M1), 가공 프로그램 기억부(M2), 촬상소요시간 기억부(M3)를 구비하고 있다.Next, the structure of the machining position calculating section 20 will be described. 3 is a block diagram showing a configuration of a machining position calculating section according to the embodiment. The processing position calculation section 20 includes a movement instruction output section 21, a velocity calculation section 22, a table position input section 23, a substrate position calculation section 24, an imaging instruction output section 25, an image input section 26 An image processing unit 27, a coordinate correcting unit 28, a position shift amount calculating unit 29, a substrate position shift information storing unit M1, a part program storing unit M2, an image pickup time storing unit M3, .

기판 위치어긋남 정보 기억부(M1)는 XY테이블(30)의 이동속도와, XY테이블(30)의 이동에 수반하는 기판(4)의 위치어긋남량(G)과의 대응관계를 나타내는 기판 위치어긋남 정보(151)를 기억하는 메모리 등이다. 기판 위치어긋남 정보(151)는 기판위치 산출부(24)에 의해서 읽어 내진다.The substrate position misalignment information storage section M1 stores the misalignment of the substrate position indicating the correspondence between the moving speed of the XY table 30 and the misalignment amount G of the substrate 4 due to the movement of the XY table 30 A memory for storing information 151, and the like. The board position displacement information 151 is read by the board position calculation section 24. [

가공 프로그램 기억부(M2)는 기판(4)의 레이저 가공이나 위치어긋남 검출에 이용하는 가공 프로그램을 기억하는 메모리 등이다. 가공 프로그램 기억부(M2)가 기억하는 가공 프로그램에는 마크(6)의 위치(기판(4) 내에서의 좌표)를 나타내는 마크위치정보(152)가 포함되어 있다. 마크위치정보(152)는 이동지령 출력부(21), 촬상지령 출력부(25)에 의해서 읽어 내진다.The machining program storage section M2 is a memory or the like for storing a machining program used for laser machining or positional deviation detection of the substrate 4. [ The machining program stored in the machining program storage unit M2 includes mark position information 152 indicating the position of the mark 6 (the coordinate in the substrate 4). The mark position information 152 is read by the movement instruction output section 21 and the imaging instruction output section 25. [

촬상소요시간 기억부(M3)는 마크(6)의 촬상지령이 출력되고 나서, 카메라(39)가 마크(6)의 화상을 촬상하기까지 필요로 하는 시간을 촬상소요시간 정보(153)로서 기억하는 메모리 등이다. 촬상소요시간 정보(153)는 좌표보정부(28)에 의해서 읽어 내진다.The imaging time required storage section M3 stores the time required until the camera 39 picks up the image of the mark 6 after the imaging instruction of the mark 6 is outputted as the imaging time required information 153 And the like. The imaging time required information 153 is read by the coordinate correcting unit 28. [

이동지령 출력부(21)는 XY테이블(30)상의 기준 위치에 대한 기판(4)의 원점 좌표와, 마크위치정보(152)에 근거하여, 서보 앰프(41X, 41Y)에 제어지령(X방향 제어지령, Y방향 제어지령)을 출력한다. X방향 제어지령, Y방향 제어지령은 각각 기판(4)의 X방향의 이동량, Y방향의 이동량을 지시하는 정보이다.The movement command output unit 21 outputs control commands to the servo amplifiers 41X and 41Y in the X direction on the basis of the origin coordinates of the substrate 4 with respect to the reference position on the XY table 30 and the mark position information 152 Control command, Y direction control command). The X direction control command and the Y direction control command are information indicating the movement amount of the substrate 4 in the X direction and the movement amount in the Y direction, respectively.

이동지령 출력부(21)는 기판(4)상에 배치된 각 마크(6)에 대해, 카메라(39)가 순번대로 마크(6)상을 통과하도록, 서보 앰프(41X, 41Y)에 제어지령을 출력한다. 이동지령 출력부(21)는 서보 앰프(41X, 41Y)에 출력하는 제어지령을 속도산출부(22)에도 보낸다.The movement command output section 21 outputs control commands to the servo amplifiers 41X and 41Y so that the camera 39 sequentially passes the marks 6 on the marks 6 arranged on the substrate 4. [ . The movement instruction output section 21 also sends a control command to the speed calculation section 22 to be outputted to the servo amplifiers 41X and 41Y.

속도산출부(22)는 이동지령 출력부(21)가 출력하는 제어지령에 근거하여, XY테이블(30)의 이동속도를 산출한다. 속도산출부(22)는 산출한 이동속도를 테이블 이동속도(Tv)로서 기판위치 산출부(24) 및 좌표보정부(28)로 보낸다. 테이블위치 입력부(23)는 리니어 스케일(40X, 40Y)로부터 보내져 오는 XY테이블(30)의 위치(테이블 위치(101))를 입력하여, 기판위치 산출부(24)로 보낸다.The speed calculating section 22 calculates the moving speed of the XY table 30 based on a control command output from the movement command output section 21. [ The speed calculating section 22 sends the calculated moving speed to the substrate position calculating section 24 and the coordinate correcting section 28 as the table moving speed Tv. The table position input section 23 receives the position (table position 101) of the XY table 30 sent from the linear scales 40X and 40Y and sends it to the substrate position calculating section 24. [

기판위치 산출부(24)는 시시각각과 변화하는 테이블위치 입력부(23)로부터의 테이블 위치(101)와, XY테이블(30)상의 기준 위치에 대한 기판(4)의 원점 좌표에 근거하여, 기판좌표(201)를 산출한다. 기판(4)이나 XY테이블(30)은 강성을 가지고 있다. 이 때문에, 카메라(39)와 기판(4)상과의 사이의 실제의 상대위치와 리니어 스케일(40X, 40Y)에서 검출된 테이블 위치(101)에 근거하여 산출한 기판좌표(201)와의 사이에는 위치어긋남(기판(4)의 위치어긋남)이 생기고 있다. 이 위치어긋남량(Gv)을 산출하기 위해, 본 실시형태에서는 기판 위치어긋남 정보 기억부(M1) 내의 기판 위치어긋남 정보(151)에 근거하여, 기판좌표(201)가 보정되어, 기판좌표(202)가 산출된다.Based on the table position 101 from the table position input section 23 and the origin position of the substrate 4 with respect to the reference position on the XY table 30, the substrate position calculating section 24 calculates the substrate position (201). The substrate 4 and the XY table 30 have rigidity. Therefore, between the actual relative position between the camera 39 and the substrate 4 and the substrate coordinate 201 calculated based on the table position 101 detected by the linear scales 40X and 40Y, The positional deviation (positional deviation of the substrate 4) occurs. In this embodiment, the substrate coordinates 201 are corrected based on the substrate position displacement information 151 in the substrate position misalignment information storage unit M1 to calculate the position coordinates of the substrate coordinates 202 ) Is calculated.

기판위치 산출부(24)는 테이블 이동속도(Tv)와, 기판 위치어긋남 정보(151)에 근거하여, XY테이블(30)의 이동속도에 대응하는 기판(4)의 위치어긋남량(Gv)을 산출한다. 기판위치 산출부(24)는 산출한 기판(4)의 위치어긋남량(Gv)을 기판좌표(201)에 가산함으로써, 기판좌표(202)를 산출한다. 기판위치 산출부(24)는 산출한 기판좌표(202)를 기판(4)의 위치로서 촬상지령 출력부(25)로 보낸다.The substrate position calculating section 24 calculates the position shift amount Gv of the substrate 4 corresponding to the moving speed of the XY table 30 based on the table moving speed Tv and the substrate position shift information 151 . The substrate position calculating section 24 calculates the substrate coordinates 202 by adding the calculated positional shift amount Gv of the substrate 4 to the substrate coordinates 201. [ The substrate position calculation section 24 sends the calculated substrate coordinates 202 to the imaging command output section 25 as the position of the substrate 4.

촬상지령 출력부(25)는 마크위치정보(152)와, 기판위치 산출부(24)가 산출한 기판(4)의 위치에 근거하여, 카메라(39)에 촬상지령을 출력한다. 촬상지령 출력부(25)는 카메라(39)가 마크(6)상에 도달한 타이밍에서 카메라(39)에 촬상지령을 출력한다.The imaging instruction output section 25 outputs an imaging instruction to the camera 39 based on the mark position information 152 and the position of the board 4 calculated by the board position calculation section 24. [ The imaging instruction output section 25 outputs an imaging instruction to the camera 39 at the timing when the camera 39 reaches the mark 6. [

화상입력부(26)는 카메라(39)에서 촬상된 마크(6)의 화상을 입력하여 화상처리부(27)로 보낸다. 화상처리부(27)는 마크(6)의 화상에 근거하여, 마크(6)의 중심 위치를 산출한다. 화상처리부(27)는 산출한 무게중심위치를 마크좌표(205)로서 좌표보정부(28)로 보낸다.The image input section 26 inputs an image of the mark 6 picked up by the camera 39 and sends it to the image processing section 27. The image processing section 27 calculates the center position of the mark 6 based on the image of the mark 6. [ The image processing unit 27 sends the calculated center of gravity position as the mark coordinates 205 to the coordinate correction unit 28. [

좌표보정부(28)는 촬상소요시간 정보(153)와, 속도산출부(22)로부터의 테이블 이동속도(Tv)에 근거하여, 마크좌표(205)를 보정하고, 이것에 의해 마크좌표(206)를 산출한다. 구체적으로는, 좌표보정부(28)는 촬상소요시간 정보(153)와 테이블 이동속도(Tv)에 근거하여, XY테이블(30)의 이동속도에 따른 마크좌표(205)의 위치어긋남량을 산출한다. 좌표보정부(28)는 산출한 위치어긋남량을 마크좌표(205)에 가산함으로써, 마크좌표(206)를 산출한다. 좌표보정부(28)는 마크(6)마다 마크좌표(206)를 산출한다. 좌표보정부(28)는 산출한 마크좌표(206)를 위치어긋남량 산출부(29)로 보낸다.The coordinate correcting unit 28 corrects the mark coordinate 205 based on the imaging time required information 153 and the table moving speed Tv from the speed calculating unit 22, ). Specifically, the coordinate correcting unit 28 calculates the position shift amount of the mark coordinate 205 in accordance with the moving speed of the XY table 30, based on the imaging time required information 153 and the table moving speed Tv do. The coordinate correcting unit 28 calculates the mark coordinate 206 by adding the calculated position shift amount to the mark coordinate 205. [ The coordinate correcting unit 28 calculates the mark coordinates 206 for each mark 6. [ The coordinate correcting unit 28 sends the calculated mark coordinates 206 to the position shift amount calculating unit 29.

위치어긋남량 산출부(29)는 마크좌표(206)와 가공 프로그램(마크위치정보(152))에 근거하여 산출되는 마크(6)의 이상 좌표와의 차이를 기판(4)의 위치어긋남량(208)으로서 산출한다. 위치어긋남량 산출부(29)는 마크(6)마다 위치어긋남량(208)을 산출한다. 위치어긋남량 산출부(29)는 산출한 위치어긋남량(208)을 가공 프로그램 기억부(M2)에 기억시킨다.The positional shift amount calculating section 29 calculates the difference between the mark coordinate 206 and the abnormal coordinate of the mark 6 calculated based on the machining program (mark position information 152) 208). The position shift amount calculating section 29 calculates the position shift amount 208 for each mark 6. [ The position shift amount calculating section 29 stores the calculated position shift amount 208 in the machining program storage section M2.

다음으로, 레이저 가공장치(100)에 의한 기판(4)의 위치어긋남량 산출처리(마크위치검출 처리)의 처리순서에 대해서 설명한다. 도 4는 레이저 가공장치에 의한 기판의 위치어긋남량 산출처리순서를 나타내는 플로우차트이다.Next, the processing procedure of the positional shift amount calculating process (mark position detecting process) of the substrate 4 by the laser machining apparatus 100 will be described. 4 is a flowchart showing the procedure of calculating the positional shift amount of the substrate by the laser processing apparatus.

레이저 가공장치(100)의 XY테이블(30)상에 레이저 가공대상의 기판(4)이 얹어 놓인 후, 가공위치 산출부(20)는 기판(4)의 위치어긋남량(이상값으로부터의 어긋남량)의 산출처리를 개시한다.After the substrate 4 to be laser-machined is placed on the XY table 30 of the laser machining apparatus 100, the machining position calculating section 20 calculates the positional shift amount of the substrate 4 ) Is started.

이동지령 출력부(21)는 가공 프로그램 기억부(M2)로부터 가공 프로그램 내의 마크위치정보(152)를 읽어낸다. 이동지령 출력부(21)는 마크위치정보(152)에 근거하여, 서보 앰프(41X, 41Y)에 제어지령을 출력한다. 본 실시형태에서는, 카메라(39)의 동작이나 화상처리부(27)에 의한 화상처리에 관계없이, 카메라(39)의 이동이 정지하지 않고 순번대로 마크(6)상을 통과하도록, 서보 앰프(41X, 41Y)에 제어지령이 출력된다. 이것에 의해, 카메라(39)는 마크(6)상을 정지하지 않고 순번대로 이동한다. 이동지령 출력부(21)는 서보 앰프(41X, 41Y)에 출력하는 제어지령을 속도산출부(22)에도 보낸다.The movement instruction output unit 21 reads the mark position information 152 in the machining program from the machining program storage unit M2. The movement command output section 21 outputs a control command to the servo amplifiers 41X and 41Y based on the mark position information 152. [ In this embodiment, regardless of the operation of the camera 39 or the image processing by the image processing unit 27, the camera 39 is controlled so that the movement of the camera 39 is passed through the marks 6 in order, , And 41Y. Thereby, the camera 39 moves on the mark 6 in order without stopping. The movement instruction output section 21 also sends a control command to the speed calculation section 22 to be outputted to the servo amplifiers 41X and 41Y.

속도산출부(22)는 이동지령 출력부(21)가 출력하는 제어지령에 근거하여, XY테이블(30)의 이동속도를 산출한다. 속도산출부(22)는 산출한 이동속도를 테이블 이동속도(Tv)로서 기판위치 산출부(24)로 보낸다.The speed calculating section 22 calculates the moving speed of the XY table 30 based on a control command output from the movement command output section 21. [ The speed calculating section 22 sends the calculated moving speed to the substrate position calculating section 24 as the table moving speed Tv.

리니어 스케일(40X, 40Y)은 XY테이블(30)이 이동하면, XY테이블(30)의 위치를 검출하여, 테이블위치 입력부(23)로 보낸다. 테이블위치 입력부(23)는 리니어 스케일(40X, 40Y)로부터 보내져 오는 XY테이블(30)의 위치를 테이블 위치(101)로서 입력하여, 기판위치 산출부(24)로 보낸다.The linear scales 40X and 40Y detect the position of the XY table 30 and send it to the table position input unit 23 when the XY table 30 moves. The table position input section 23 inputs the position of the XY table 30 sent from the linear scales 40X and 40Y as the table position 101 and sends it to the substrate position calculation section 24. [

기판위치 산출부(24)는 시시각각과 변화하는 테이블위치 입력부(23)로부터의 테이블 위치(101)에 근거하여 기판좌표(201)를 산출한다. 또한, 기판위치 산출부(24)는 테이블 이동속도(Tv)와, 기판 위치어긋남 정보(151)에 근거하여, XY테이블(30)의 이동속도에 대응하는 기판(4)의 위치어긋남량(Gv)을 산출한다. 기판위치 산출부(24)는 산출한 기판(4)의 위치어긋남량(Gv)을 기판좌표(201)에 가산함으로써, 카메라(39)와 기판(4)상과의 사이의 상대위치인 기판좌표(202)를 산출한다. 이것에 의해, 기판위치 산출부(24)는 XY테이블(30)이 X방향 및 Y방향으로 동시에 이동하는 코너부의 마크(6)에 대해서도 기판(4)의 정확한 위치를 산출할 수 있다. 기판위치 산출부(24)는 산출한 기판좌표(202)를 기판(4)의 위치로서 촬상지령 출력부(25)로 보낸다.The substrate position calculating section 24 calculates the substrate coordinates 201 based on the table position 101 from the table position input section 23 changing at different angles. The substrate position calculating section 24 calculates the positional shift amount Gv of the substrate 4 corresponding to the moving speed of the XY table 30 based on the table moving speed Tv and the substrate position shift information 151 ). The substrate position calculating section 24 adds the calculated positional shift amount Gv of the substrate 4 to the substrate coordinate 201 so as to determine the position of the substrate 39 relative to the camera 39, (202). Thereby, the substrate position calculating section 24 can calculate the exact position of the substrate 4 with respect to the mark 6 of the corner portion where the XY table 30 simultaneously moves in the X direction and the Y direction. The substrate position calculation section 24 sends the calculated substrate coordinates 202 to the imaging command output section 25 as the position of the substrate 4.

촬상지령 출력부(25)는 마크위치정보(152)와 기판위치 산출부(24)가 산출한 기판좌표(202)에 근거하여, 마크(6)의 위치(촬상위치)까지의 거리를 산출한다(스텝 S10).The imaging instruction output unit 25 calculates the distance to the position of the mark 6 (imaging position) based on the mark position information 152 and the substrate coordinate 202 calculated by the substrate position calculating unit 24 (Step S10).

촬상지령 출력부(25)는 카메라(39)가 마크위치에 도달했는지 여부를 판단한다(스텝 S20). 촬상지령 출력부(25)는 기판좌표(202)가 마크(6)의 좌표와 동일한 좌표가 되면, 카메라(39)가 마크위치에 도달했다고 판단한다.The imaging instruction output unit 25 determines whether or not the camera 39 has reached the mark position (step S20). The imaging instruction output unit 25 determines that the camera 39 has reached the mark position when the substrate coordinate 202 becomes the same coordinate as the coordinate of the mark 6. [

촬상지령 출력부(25)는 카메라(39)가 마크위치에 도달하고 있지 않다고 판단하면(스텝 S20, 아니오), 마크(6)의 촬상위치까지의 거리산출을 속행한다(스텝 S10). 촬상지령 출력부(25)는 카메라(39)가 마크위치에 도달했다고 판단하면(스텝 S20, 예), 카메라(39)에 촬상지령을 출력한다. 이것에 의해, 카메라(39)는 마크(6)를 촬상한다(스텝 S30). 카메라(39)는 이동하면서 마크(6)를 촬상하므로, 카메라(39)는 마크(6)를 촬상할 수 있는 정도의 충분한 광량(조명)을 이용하여 마크(6)를 촬상한다.When the camera 39 determines that the camera 39 has not reached the mark position (NO in step S20), the imaging instruction output unit 25 continues calculating the distance to the imaging position of the mark 6 (step S10). When the camera 39 determines that the camera 39 has reached the mark position (step S20, YES), the imaging instruction outputting section 25 outputs an imaging instruction to the camera 39. [ Thus, the camera 39 picks up the mark 6 (step S30). The camera 39 captures the mark 6 while moving so that the camera 39 picks up the mark 6 using a sufficient amount of light (illumination) enough to capture the mark 6. [

카메라(39)는 촬상한 화상을 화상입력부(26)로 보낸다. 화상입력부(26)는 카메라(39)에서 촬상된 마크(6)의 화상을 입력하여 화상처리부(27)로 보낸다. 화상처리부(27)는 화상입력부(26)로부터 보내져 오는 화상의 화상처리를 행한다(스텝 S40). 구체적으로는, 화상처리부(27)는 마크(6)의 화상에 근거하여, 마크(6)의 특징량(예를 들면, 마크(6)의 무게중심위치)을 산출한다. 화상처리부(27)는 산출한 무게중심위치를 마크좌표(205)로서 좌표보정부(28)로 보낸다.The camera 39 sends the captured image to the image input unit 26. The image input section 26 inputs an image of the mark 6 picked up by the camera 39 and sends it to the image processing section 27. The image processing section 27 performs image processing of the image sent from the image input section 26 (step S40). More specifically, the image processing section 27 calculates the feature quantity (e.g., the center of gravity of the mark 6) of the mark 6 based on the image of the mark 6. The image processing unit 27 sends the calculated center of gravity position as the mark coordinates 205 to the coordinate correction unit 28. [

좌표보정부(28)는 화상처리의 결과를 보정함으로써, 마크위치를 산출한다(스텝 S50). 구체적으로는, 좌표보정부(28)는 촬상소요시간 정보(153)와, 테이블 이동속도(Tv)에 근거하여, 마크좌표(205)를 보정하고, 이것에 의해 마크위치로서의 마크좌표(206)를 산출한다.The coordinate correcting unit 28 corrects the result of the image processing to calculate the mark position (step S50). More specifically, the coordinate correcting unit 28 corrects the mark coordinates 205 based on the image pickup time information 153 and the table moving speed Tv, thereby obtaining the mark coordinates 206 as the mark positions, .

마크좌표(206)를 산출하기 위해, 좌표보정부(28)는 촬상소요시간 정보(153)와, 테이블 이동속도(Tv)에 근거하여, XY테이블(30)의 이동속도에 따른 마크좌표(205)의 위치어긋남량을 산출한다. 그리고, 산출한 위치어긋남량을 마크좌표(205)에 가산함으로써, 마크좌표(206)를 산출한다.In order to calculate the mark coordinate 206, the coordinate correcting unit 28 corrects the mark coordinates 205 (x, y) according to the moving speed of the XY table 30, based on the imaging time required information 153 and the table moving speed Tv ) Is calculated. The mark coordinates 206 are calculated by adding the calculated position shift amount to the mark coordinates 205. [

도 5는 마크를 촬상한 화상의 일례를 나타내는 도면이다. 마크(6)는 기판(4)의 신축 등이 원인으로 화상(8)의 중심부(81)와, 마크(6)의 무게중심(61)이 겹친다고는 할 수 없다. 본 실시형태에서는, 카메라(39)의 시야 중심인 중심부(81)와 마크(6)의 무게중심(61)과의 위치어긋남량이 마크좌표(205)로서 산출된다. 또한, 이 위치어긋남량(205)이 촬상소요시간 정보(153)에 근거하여 보정되며, 이것에 의해 마크좌표(206)가 산출된다.5 is a diagram showing an example of an image of a mark. It can not be said that the mark 6 overlaps the center 81 of the image 8 and the center of gravity 61 of the mark 6 due to the expansion and contraction of the substrate 4. [ The position shift amount between the center portion 81 of the camera 39 and the center of gravity 61 of the mark 6 is calculated as the mark coordinate 205 in this embodiment. The position shift amount 205 is corrected based on the image pickup time information 153, thereby calculating the mark coordinates 206. [

여기서, 마크(6)의 배치위치와 마크(6)의 촬상순서에 대해서 설명한다. 도 6은 마크의 배치위치의 일례를 나타내는 도면이다. 도 7은 마크의 촬상순서의 일례를 나타내는 도면이다. 도 6 및 도 7에서는 기판(4)을 상면으로부터 본 도면을 나타내고 있다.Here, the arrangement position of the mark 6 and the imaging sequence of the mark 6 will be described. 6 is a view showing an example of the arrangement position of marks. Fig. 7 is a diagram showing an example of the imaging sequence of marks. Fig. 6 and Fig. 7 show a view of the substrate 4 as viewed from above.

도 6에 나타내는 바와 같이, 마크(6)는 기판(4)상의 4개의 정점(頂点) 근방이나, 가공구멍이 형성되는 가공구멍영역(가공구멍패턴)(5)의 주변부 근방(가공구멍영역의 외측) 등에 형성해 둔다. 도 6에서는 기판(4)상에 복수의 가공구멍영역(5)이 설정되며, 각 가공구멍영역(5)의 주변부 근방에 4개씩의 마크(6)가 배치되어 있는 경우를 나타내고 있다.6, the marks 6 are formed in the vicinity of four apexes on the substrate 4 and in the vicinity of the periphery of the machining hole region (machining hole pattern) 5 in which the machining holes are formed And the like. 6 shows a case in which a plurality of machining hole regions 5 are set on the substrate 4 and four marks 6 are arranged in the vicinity of the periphery of each machining hole region 5. [

도 7에서는 마크(6)를 마크(61 ~ 68)의 순번대로 촬상하는 경우를 나타내고 있다. 예를 들면, 기판(4)상의 좌상의 정점 근방에 배치된 마크(61)가 촬상된 후, 이 마크(61)에 가장 가까운 1번째의 가공영역(5)의 근방에 배치된 마크(62)가 촬상된다. 또한, 1번째의 가공구멍영역(5)의 주변에 배치된 마크(63), 마크(64), 마크(65)가 순번대로 촬상된다.7 shows a case where the marks 6 are picked up in the order of the marks 61 to 68 in order. A mark 62 disposed in the vicinity of the first machining area 5 closest to the mark 61 is picked up after the mark 61 arranged near the top left corner of the substrate 4 is picked up, . The mark 63, the mark 64 and the mark 65 arranged in the periphery of the first machining hole area 5 are sequentially picked up.

다음으로, 1번째의 가공구멍영역(5)의 근처에 배치된 2번째의 가공구멍영역(5)의 주변에 배치된 마크(66), 마크(67), 마크(68)가 순번대로 촬상된다. 마크(6)는 카메라(39)의 이동거리가 짧아지는 소정의 순번을 따라서 순서대로 촬상된다.The mark 66, the mark 67 and the mark 68 arranged in the vicinity of the second machining hole area 5 disposed in the vicinity of the first machining hole area 5 are successively picked up in order . The mark 6 is picked up in order according to a predetermined order in which the moving distance of the camera 39 is shortened.

좌표보정부(28)는 마크(6)마다 마크좌표(206)를 산출한다. 좌표보정부(28)는 산출한 마크좌표(206)를 위치어긋남량 산출부(29)로 보낸다. 위치어긋남량 산출부(29)는 마크좌표(206)와 마크(6)의 가공 프로그램상의 좌표(마크위치정보(152))와의 차이를 기판(4)의 위치어긋남량(208)으로서 산출한다. 위치어긋남량 산출부(29)는 산출한 위치어긋남량(208)을 가공 프로그램 기억부(M2)에 기억시킨다.The coordinate correcting unit 28 calculates the mark coordinates 206 for each mark 6. [ The coordinate correcting unit 28 sends the calculated mark coordinates 206 to the position shift amount calculating unit 29. The position shift amount calculating section 29 calculates the difference between the mark coordinates 206 and the coordinates on the machining program of the mark 6 (mark position information 152) as the position shift amount 208 of the substrate 4. The position shift amount calculating section 29 stores the calculated position shift amount 208 in the machining program storage section M2.

촬상지령 출력부(25)는 마크위치정보(152)와, 기판위치 산출부(24)가 산출한 기판좌표(202)에 근거하여, 모든 마크(6)에 대해서 카메라(39)에 촬상지령을 출력했는지 여부를 판단한다. 환언하면, 모든 마크(6)를 촬상했는지 여부가 판단된다(스텝 S60).The imaging instruction output unit 25 instructs the camera 39 to issue an imaging instruction to all the marks 6 based on the mark position information 152 and the substrate coordinates 202 calculated by the substrate position calculating unit 24 It is determined whether or not it has been output. In other words, it is determined whether or not all the marks 6 have been picked up (step S60).

촬상지령 출력부(25)는 모든 마크(6)에 대해서 카메라(39)에 촬상지령을 출력하고 있지 않으면(스텝 S60, 아니오), 다음의 마크(6)에 대해서 스텝 S10 ~ S50의 처리를 행한다. 촬상지령 출력부(25)는 모든 마크(6)에 대해서 카메라(39)에 촬상지령을 출력할 때까지 스텝 S10 ~ S50의 처리를 반복한다.The imaging instruction output unit 25 performs the processes of steps S10 to S50 with respect to the next mark 6 if no imaging instruction is output to the camera 39 for all the marks 6 (step S60, NO) . The imaging instruction output unit 25 repeats the processes of steps S10 to S50 until all the marks 6 are outputted to the camera 39 with an imaging instruction.

촬상지령 출력부(25)는 모든 마크(6)에 대해서 카메라(39)에 촬상지령을 출력하면(스텝 S60, 예), 레이저 가공장치(100)는 마크(6)로의 촬상처리를 종료한다. 이것에 의해, 각 가공구멍영역(5)에 설정된 모든 마크(6)가 카메라(39)에 의해서 촬상된다. 마크(6)는 기판(4)상의 여러 가지의 위치에 배치되어 있으므로, 가공위치 산출부(20)가 각 마크(6)상에서의 기판(4)의 위치어긋남량(208)을 산출함으로써, 기판(4)에서의 위치어긋남량(208)의 면 내 분포를 산출하는 것이 가능하게 된다.When the image pickup instruction output section 25 outputs an image pickup instruction to all the marks 6 to the camera 39 (step S60, YES), the laser processing apparatus 100 ends the image pickup processing for the marks 6. [ As a result, all the marks 6 set in the respective machining hole areas 5 are picked up by the camera 39. Since the mark 6 is disposed at various positions on the substrate 4, the processing position calculating section 20 calculates the position shift amount 208 of the substrate 4 on each mark 6, The in-plane distribution of the positional shift amount 208 in the plane 4 can be calculated.

이와 같이, 본 실시형태에서는, XY테이블(30)로의 이동지령의 출력처리와 마크(6)의 화상처리를 각각 독립적으로 행하고 있다. 환언하면, 이동지령 출력부(21)의 동작(XY테이블(30)의 이동)과, 화상처리부(27)의 동작을 각각 독립시키고 있다.As described above, in this embodiment, the output processing of the movement command to the XY table 30 and the image processing of the mark 6 are independently performed. In other words, the operation of the movement instruction output section 21 (movement of the XY table 30) and the operation of the image processing section 27 are made independent.

여기서, 본 실시형태에서의 기판(4)의 위치어긋남량 산출처리와, 종래 이용되고 있던 기판(4)의 위치어긋남량 산출처리와의 차이점에 대해서 설명한다. 도 8은 실시형태에서의 기판의 위치어긋남량 산출처리와, 종래 이용되고 있던 기판의 위치어긋남량 산출처리와의 차이점을 설명하기 위한 도면이다.Here, the difference between the positional shift amount calculating process of the substrate 4 and the conventionally used positional shift amount calculating process of the substrate 4 in the present embodiment will be described. 8 is a diagram for explaining the difference between the positional shift amount calculating process of the substrate in the embodiment and the conventionally used substrate positional deviation calculating process.

도 8의 (1)에 나타내는 바와 같이, 종래는 XY테이블(30)의 이동(71)의 후에, XY테이블(30)의 이동을 정지(72)시키고, 그 후, 마크(6)의 화상처리(73)를 행하고 있었다. 종래, 기판(4)의 위치어긋남량을 산출할 때에는, 이동(71), 정지(72), 화상처리(73)가 순번대로 반복된다. 이 때문에, XY테이블(30)의 이동(71)과 이동(71)의 사이에 XY테이블(30)의 정지(72)와 마크(6)의 화상처리(73)가 행해지게 된다. 이 때문에, 기판(4)의 위치어긋남량 산출처리에는 마크(6)의 개수와 동일한 회수분만큼, 정지(72)와 화상처리(73)의 시간이 필요하다. 따라서, 마크(6)의 개수가 증가하면, 정지(72)가 증대하여, 생산성이 떨어져 버린다.8 (1), conventionally, after the movement 71 of the XY table 30, the movement of the XY table 30 is stopped (72), and thereafter the image processing of the mark 6 (73). Conventionally, when calculating the position shift amount of the substrate 4, the movement 71, the stop 72, and the image processing 73 are repeated in order. Therefore, the stop 72 of the XY table 30 and the image processing 73 of the mark 6 are performed between the movement 71 and the movement 71 of the XY table 30. Therefore, in the process of calculating the position shift amount of the substrate 4, the stop 72 and the time of the image processing 73 are required for the same number of times as the number of the marks 6. Therefore, as the number of marks 6 increases, the stop 72 increases and the productivity decreases.

한편, 본 실시형태에서는, 도 8의 (2)에 나타내는 바와 같이, XY테이블(30)을 정지시키지 않고 XY테이블(30)의 이동(71)을 연속해서 행하고 있다. 또한, XY테이블(30)을 이동시키면서, 마크(6)의 화상처리(73)를 행하고 있다. 환언하면, XY테이블(30)을 이동시키면서, 마크 화상의 취득과 화상처리(특징량 추출)를 행하고 있다. 이와 같이, 본 실시형태에서는, 이동(71)의 태스크와 화상처리(73)의 태스크를 별도로 하고 있으므로, 이동(71)의 사이에 화상처리(73)를 실행하는 것이 가능하게 된다.On the other hand, in the present embodiment, the movement 71 of the XY table 30 is continuously performed without stopping the XY table 30 as shown in (2) of FIG. The image processing 73 of the mark 6 is performed while the XY table 30 is moved. In other words, the mark image is acquired and image processing (feature amount extraction) is performed while the XY table 30 is moved. As described above, in the present embodiment, since the task of the movement 71 is separate from the task of the image processing 73, it is possible to execute the image processing 73 during the movement 71. [

이 때문에, 위치검출을 행하는 마크(6)의 개수가 증가해도, 마크(6)의 특징량 추출에 필요로 하는 시간은 증대하지 않고, XY테이블(30)의 이동에 필요로 하는 시간이 증가하는 것에 지나지 않는다. 따라서, 정지(72), 화상처리(73)의 처리시간을 삭감하는 것이 가능하게 되므로, 택트 시간(tact time)을 단축하는 것이 가능하게 된다. 이것에 의해, 본 실시형태에서는, 종래의 방법보다도 단시간에 기판(4)의 위치어긋남량을 산출하는 것이 가능하게 되어, 생산성을 떨어뜨리지 않고 기판(4)을 레이저 가공하는 것이 가능하게 된다.Therefore, even if the number of marks 6 to be subjected to position detection is increased, the time required for the feature amount extraction of the mark 6 does not increase and the time required for the movement of the XY table 30 increases Nothing more. Therefore, it is possible to reduce the processing time of the stop 72 and the image processing 73, thereby making it possible to shorten the tact time. As a result, in the present embodiment, it is possible to calculate the position shift amount of the substrate 4 in a shorter time than the conventional method, and the substrate 4 can be laser-processed without lowering the productivity.

위치어긋남량 산출부(29)가 모든 마크(6)의 위치어긋남량(208)을 가공 프로그램 기억부(M2)에 기억시킨 후, 가공제어장치(2)는 기판(4)의 레이저 가공을 개시한다. 기판(4)의 레이저 가공을 행할 때, 가공제어장치(2)는 가공위치 산출부(20)가 산출한 기판(4)의 위치어긋남량(208)에 근거하여, 기판(4)으로의 레이저 가공위치를 보정한다.After the position shift amount calculating section 29 stores the position shift amount 208 of all marks 6 in the machining program storage section M2, the machining control device 2 starts laser machining of the substrate 4 do. The laser beam is irradiated onto the substrate 4 on the basis of the positional shift amount 208 of the substrate 4 calculated by the machining position calculating unit 20 when laser processing the substrate 4 is performed, Correct the machining position.

구체적으로는, 이동지령 출력부(21)는 가공 프로그램 기억부(M2)로부터 가공 프로그램과 위치어긋남량(208)을 읽어낸다. 그리고, 이동지령 출력부(21)는 가공 프로그램에 설정되어 있는 가공구멍(Hx)의 좌표를 가공구멍(Hx)의 위치마다 위치어긋남량(208)에 근거하여 보정한다. 그리고, 보정 후의 가공구멍(Hx)의 좌표에 대응하는 이동지령을 서보 앰프(41X, 41Y)에 출력한다. 이것에 의해, 가공구멍(Hx)의 좌표가 기판(4)의 위치어긋남량에 따른 위치만 보정되면서, 가공구멍(Hx)의 레이저 가공이 행해진다.More specifically, the movement instruction output unit 21 reads the machining program and the position shift amount 208 from the machining program storage unit M2. The movement instruction output unit 21 corrects the coordinates of the machining hole Hx set in the machining program based on the position displacement amount 208 for each position of the machining hole Hx. Then, a movement command corresponding to the coordinates of the machining hole Hx after correction is output to the servo amplifiers 41X and 41Y. Thereby, while the position of the processing hole Hx is corrected only by the positional shift amount of the substrate 4, the laser processing of the processing hole Hx is performed.

기판(4)의 위치어긋남량의 산출은 기판(4)을 XY테이블(30)에 얹어 놓을 때마다 행해진다. 환언하면, 기판(4)을 레이저 가공할 때에는 기판(4)이 XY테이블(30)에 얹어 놓여 기판(4)의 위치어긋남량이 산출되어, 기판(4)이 레이저 가공된다. 그리고, 다음의 기판(4)을 레이저 가공할 때에는, 다음의 기판(4)이 XY테이블(30)에 얹어 놓여 다음의 기판(4)의 위치어긋남량이 산출된다. 이것에 의해, 레이저 가공장치(100)에서는 XY테이블(30)상으로의 기판(4)의 얹어 놓음, 기판(4)의 위치어긋남량의 산출처리, 기판(4)으로의 레이저 가공이 반복된다.The calculation of the positional shift amount of the substrate 4 is performed each time the substrate 4 is placed on the XY table 30. In other words, when laser processing the substrate 4, the substrate 4 is placed on the XY table 30 to calculate the positional shift amount of the substrate 4, and the substrate 4 is laser-processed. When the next substrate 4 is laser-processed, the next substrate 4 is placed on the XY table 30, and the positional shift amount of the next substrate 4 is calculated. As a result, in the laser machining apparatus 100, the substrate 4 is placed on the XY table 30, the positional shift amount of the substrate 4 is calculated, and the laser processing on the substrate 4 is repeated .

또한, 레이저 가공장치(100)는 리니어 스케일(40X, 40Y)을 이용하지 않고 기판좌표(201)를 산출해도 된다. 이 경우, 모터(42X, 42Y)로의 지령값과 모터(42X, 42Y)의 실제의 회전수와의 차이인 편차 정보(드룹(droop)량)를 이용하여, 기판좌표(201)가 산출된다.Further, the laser machining apparatus 100 may calculate the substrate coordinates 201 without using the linear scales 40X and 40Y. In this case, the substrate coordinates 201 are calculated using the deviation information (droop amount) which is the difference between the command value to the motors 42X and 42Y and the actual number of rotations of the motors 42X and 42Y.

구체적으로는, 기판위치 산출부(24)가 이동지령 출력부(21)로부터 출력되는 제어지령의 적산값(합계값)으로부터 상기 편차 정보를 감산함으로써, 테이블 위치(101)가 산출된다. 모터(42X, 42Y)로의 지령값은 서보 앰프(41X, 41Y)로의 제어지령에 대응하고 있다. 또, 모터(42X, 42Y)의 실제의 회전수는 엔코더(43X, 43Y)에 의해서 검출된다. 따라서, 편차 정보는 서보 앰프(41X, 41Y)로의 제어지령의 현재값과 엔코더(43X, 43Y)에서 검출되는 회전수(현재값)와의 차이이다. XY테이블(30)의 이동속도는 서보 앰프(41X, 41Y)로의 제어지령에 따라 변화하므로, 편차 정보도 XY테이블(30)의 이동속도에 따라 변화하게 된다. 따라서, 편차 정보를 이용하여 산출되는 기판좌표(201)도 XY테이블(30)의 이동속도에 따라 변화하게 된다.More specifically, the table position 101 is calculated by subtracting the deviation information from the integrated value (sum value) of the control command output from the movement command output unit 21 by the substrate position calculation unit 24. [ The command values to the motors 42X and 42Y correspond to control commands to the servo amplifiers 41X and 41Y. The actual number of rotations of the motors 42X and 42Y is detected by the encoders 43X and 43Y. Therefore, the deviation information is a difference between the present value of the control command to the servo amplifiers 41X and 41Y and the rotational speed (current value) detected by the encoders 43X and 43Y. Since the moving speed of the XY table 30 changes in accordance with the control command to the servo amplifiers 41X and 41Y, the deviation information also changes in accordance with the moving speed of the XY table 30. [ Therefore, the substrate coordinates 201 calculated using the deviation information also change with the moving speed of the XY table 30. [

리니어 스케일(40X, 40Y)을 이용하여 기판좌표(201)를 산출하는 경우에는, 엔코더(43X, 43Y)가 불필요하고, 편차 정보를 이용하여 기판좌표(201)를 산출하는 경우에는, 리니어 스케일(40X, 40Y)이 불필요하게 된다.When the substrate coordinates 201 are calculated using the linear scales 40X and 40Y, when the encoder 43X and 43Y are unnecessary and the substrate coordinate 201 is calculated using the deviation information, 40X, and 40Y are unnecessary.

또, 마크좌표(205)로부터 마크좌표(206)로의 보정은 촬상소요시간 정보(153)와 테이블 이동속도(Tv)를 이용한 보정에 한정되지 않는다. 예를 들면, 테이블 이동속도(Tv)에 따른 마크좌표(205)로부터 마크좌표(206)로의 좌표 보정량을 미리 소정의 데이타베이스 등에 격납해 두어도 된다. 이 경우, 촬상소요시간 정보(153)와 테이블 이동속도(Tv)를 이용하여, 미리 테이블 이동속도(Tv)에 따른 좌표 보정량을 산출해 둔다.The correction from the mark coordinate 205 to the mark coordinate 206 is not limited to the correction using the imaging time required information 153 and the table movement speed Tv. For example, the coordinate correction amount from the mark coordinate 205 to the mark coordinate 206 according to the table moving speed Tv may be stored in a predetermined database or the like in advance. In this case, the coordinate correction amount in accordance with the table moving speed Tv is calculated in advance using the imaging time required information 153 and the table moving speed Tv.

또, 촬상소요시간 정보(153)에 카메라(39)의 셔터 스피드를 포함해도 된다. 또, 촬상지령 출력부(25)는 카메라(39)의 셔터 스피드를 고려하여, 조금 빨리 카메라(39)에 촬상지령을 출력해도 된다. 또, 카메라(39)는 1개에 한정하지 않고 복수 배치해도 된다. 이 경우, 복수의 카메라(39)에 의해서 복수의 마크(6)가 동시에 촬상된다. 또, 기판(4)(XY테이블(30))의 이동은 등속도 운동이라도 되고, 부등속도 운동이라도 된다.It is also possible to include the shutter speed of the camera 39 in the image pickup time information 153. The imaging instruction output unit 25 may output an imaging instruction to the camera 39 a little sooner in consideration of the shutter speed of the camera 39. [ The number of the cameras 39 is not limited to one but may be plural. In this case, a plurality of marks 6 are simultaneously picked up by the plurality of cameras 39. The movement of the substrate 4 (the XY table 30) may be a constant velocity motion or a subrange motion.

기판(4)의 이동이 등속도 운동인 경우, 기판좌표(201)로부터 기판좌표(202)로의 보정이 용이하게 된다. 또, 기판(4)의 이동이 등속도 운동인 경우, 마크좌표(205)로부터 마크좌표(206)로의 보정이 용이하게 된다.When the movement of the substrate 4 is equal to the constant velocity movement, the correction from the substrate coordinates 201 to the substrate coordinates 202 is facilitated. When the movement of the substrate 4 is a constant velocity movement, the correction from the mark coordinate 205 to the mark coordinate 206 is facilitated.

또, XY테이블(30)의 이동속도는 서보 앰프(41X, 41Y)로의 제어지령에 근거하여 산출하는 경우에 한정하지 않고, 실제로 XY테이블(30)의 이동속도를 직접 측정함으로써 구해도 된다.The moving speed of the XY table 30 is not limited to the case of calculating based on the control command to the servo amplifiers 41X and 41Y and may be obtained by directly measuring the moving speed of the XY table 30 in practice.

이와 같이 실시형태에 의하면, 각 마크(6)로의 이동처리를 행하면서, 마크(6)를 촬상한 화상의 화상처리(마크(6)의 위치를 산출하는 처리)를 행하므로, XY테이블(30)에 얹어 놓인 기판(4)의 위치어긋남 검출을 단시간에 행하는 것이 가능하게 된다.As described above, according to the embodiment, the image processing (calculation of the position of the mark 6) of the image of the image of the mark 6 is performed while the movement process to each mark 6 is performed, It is possible to detect the positional deviation of the substrate 4 placed on the substrate 4 in a short time.

또, 기판 위치어긋남 정보(151)와 테이블 이동속도(Tv)를 이용하여 기판좌표(201)를 기판좌표(202)로 보정하므로, 정확한 기판(4)상의 위치를 산출할 수 있다. 따라서, 정확한 기판(4)상의 위치에서 마크(6)의 화상을 촬상하는 것이 가능하게 된다.Since the substrate coordinates 201 are corrected to the substrate coordinates 202 by using the substrate position shift information 151 and the table movement speed Tv, the position on the substrate 4 can be accurately calculated. Therefore, it becomes possible to pick up an image of the mark 6 at the position on the substrate 4 accurately.

또, 촬상소요시간 정보(153)와 테이블 이동속도(Tv)를 이용하여 마크좌표(205)를 마크좌표(206)로 보정하므로, 정확한 마크(6)의 위치를 산출하는 것이 가능하게 된다. 따라서, 기판(4)의 위치어긋남을 정확하게 산출하는 것이 가능하게 된다.It is also possible to calculate the position of the correct mark 6 by correcting the mark coordinates 205 using the image pickup time information 153 and the table movement speed Tv with the mark coordinates 206. [ Therefore, it is possible to calculate the positional deviation of the substrate 4 accurately.

또, 모터(42X, 42Y)로의 지령값과 모터(42X, 42Y)의 실제의 회전수와의 차이인 편차 정보를 이용하여, 기판좌표(201)를 산출하는 경우에는, 리니어 스케일(40X, 40Y)이 불필요하게 되므로, 간이한 구성으로 기판좌표(201)를 산출하는 것이 가능하게 된다.When the substrate coordinate 201 is calculated using deviation information which is a difference between a command value to the motors 42X and 42Y and an actual rotation number of the motors 42X and 42Y, the linear scales 40X and 40Y ) Becomes unnecessary, it becomes possible to calculate the substrate coordinates 201 with a simple configuration.

<산업상의 이용 가능성>&Lt; Industrial Availability >

이상과 같이, 본 발명에 관한 레이저 가공장치 및 기판위치 검출방법은 기판의 가공테이블에 대한 위치어긋남량의 산출에 적합하고 있다.INDUSTRIAL APPLICABILITY As described above, the laser machining apparatus and the substrate position detecting method according to the present invention are suitable for calculating the positional shift amount with respect to the processing table of the substrate.

1 레이저 발진기 2 가공제어장치
3 레이저 가공부 4 기판
5 가공구멍영역 6 마크
20 가공위치 산출부 21 이동지령 출력부
22 속도산출부 23 테이블위치 입력부
24 기판위치 산출부 25 촬상지령 출력부
26 화상입력부 27 화상처리부
28 좌표보정부 29 위치어긋남량 산출부
30 XY테이블 39 카메라
40X, 40Y 리니어 스케일 43X, 43Y 엔코더
100 레이저 가공장치 L 레이저광
M1 기판 위치어긋남 정보 기억부 M2 가공 프로그램 기억부
M3 촬상소요시간 기억부
1 laser oscillator 2 processing control device
3 laser processing part 4 substrate
5 Machining hole area 6 marks
20 Processing position calculating section 21 Movement command output section
22 speed calculating section 23 table position input section
24 substrate position calculating section 25 imaging instruction output section
26 Image input unit 27 Image processing unit
28 Coordinate correction section 29 Position shift amount calculation section
30 XY Table 39 Camera
40X, 40Y linear scale 43X, 43Y encoder
100 Laser processing equipment L laser light
M1 Substrate position misalignment information storage section M2 The machining program storage section
M3 imaging required time storage unit

Claims (6)

레이저 가공대상인 기판을 얹어 놓음과 아울러 상기 기판의 주면(主面)과 평행한 면 내에서 이동하는 가공테이블과,
상기 기판상에 마련되어 상기 기판상의 위치검출에 이용되는 위치결정용 마크를 순번(順番)대로 촬상하는 촬상부와,
상기 가공테이블이 정지하지 않고 연속적으로 상기 촬상부가 상기 위치결정용 마크상으로 순번대로 이동해 오도록 상기 가공테이블로의 이동지령을 출력하는 이동지령출력부와,
상기 촬상부와 상기 기판과의 사이의 상대위치를 상기 가공테이블의 위치에 근거하여 산출하는 기판위치 산출부와,
상기 촬상부가 상기 위치결정용 마크상으로 이동해 왔을 때에, 상기 기판위치 산출부가 보정한 상기 상대위치에 근거하여, 상기 촬상부에 촬상지시를 출력하는 촬상지령출력부와,
상기 이동지령출력부가 상기 가공테이블로의 이동지령을 출력하고 있는 동안에, 상기 촬상부가 촬상한 상기 위치결정용 마크의 화상에 근거하여, 상기 위치결정용 마크의 위치를 산출하는 화상처리부와,
상기 화상처리부가 산출한 상기 위치결정용 마크의 위치를 이용하여, 상기 기판의 상기 가공테이블에 대한 위치어긋남량을 산출하는 위치어긋남량 산출부와,
상기 기판의 레이저 가공위치를 상기 위치어긋남량 산출부가 산출한 위치어긋남량으로 위치보정하면서 레이저 가공을 행하는 레이저 가공부를 구비하고,
상기 기판위치 산출부는 상기 가공테이블의 이동속도에 따라 변화하는 상기 가공테이블과 상기 기판과의 사이의 위치어긋남량을 상기 가공테이블의 이동속도에 근거하여 산출하며, 산출한 위치어긋남량을 이용하여 상기 상대위치를 보정하는 것을 특징으로 하는 레이저 가공장치.
A processing table on which a substrate to be processed is placed and which moves within a plane parallel to the main surface of the substrate;
An imaging unit provided on the substrate for imaging the positioning marks used for position detection on the substrate in order;
A movement instruction output unit for outputting a movement instruction to the machining table so that the image pick-up unit sequentially moves onto the positioning mark without stopping the machining table,
A substrate position calculating section for calculating a relative position between the imaging section and the substrate based on the position of the processing table,
An image pickup instruction output unit for outputting an image pickup instruction to the image pickup unit based on the relative position corrected by the substrate position calculating unit when the image pickup unit moves onto the positioning mark,
An image processing section for calculating the position of the positioning mark based on the image of the positioning mark captured by the imaging section while the movement instruction output section is outputting the movement instruction to the processing table;
A position shift amount calculating unit for calculating a position shift amount of the substrate with respect to the processing table by using the position of the positioning mark calculated by the image processing unit;
And a laser machining section for performing laser machining while correcting the position of the substrate by the positional shift amount calculated by the positional displacement calculating section,
The substrate position calculating section calculates a position shift amount between the machining table and the substrate that changes according to the moving speed of the machining table based on the moving speed of the machining table, And corrects the relative position.
삭제delete 청구항 1에 있어서,
상기 가공테이블의 위치를 검출하는 리니어 스케일을 더 구비하고,
상기 기판위치 산출부는 상기 리니어 스케일이 검출한 상기 가공테이블의 위치에 근거하여 상기 상대위치를 산출하는 것을 특징으로 하는 레이저 가공장치.
The method according to claim 1,
Further comprising a linear scale for detecting a position of the machining table,
And the substrate position calculating section calculates the relative position based on the position of the machining table detected by the linear scale.
청구항 1에 있어서,
상기 가공테이블을 이동시키는 모터와,
상기 모터의 회전수를 검출하는 엔코더를 더 구비하고,
상기 기판위치 산출부는 상기 가공테이블로의 이동지령에 대응하는 상기 모터로의 제어지령, 상기 엔코더에 의한 검출결과 및 상기 가공테이블로의 이동지령의 적산(積算)값을 이용하여 상기 상대위치를 산출하는 것을 특징으로 하는 레이저 가공장치.
The method according to claim 1,
A motor for moving the machining table,
Further comprising an encoder for detecting the number of revolutions of the motor,
Wherein the substrate position calculating section calculates the relative position by using a control command to the motor corresponding to a movement command to the machining table, a detection result of the encoder, and an integration value of a movement command to the machining table And the laser beam is irradiated with the laser beam.
청구항 1, 3, 4 중 어느 한 항에 있어서,
상기 촬상지시를 출력하고 나서 상기 위치결정용 마크의 화상이 촬상될 때까지 필요로 하는 시간과, 상기 가공테이블의 이동속도에 근거하여, 상기 화상처리부가 산출한 상기 위치결정용 마크의 위치를 보정하는 좌표보정부를 더 구비하고,
상기 위치어긋남량 산출부는 상기 좌표보정부가 보정한 위치결정용 마크의 위치를 이용하여, 상기 기판의 상기 가공테이블에 대한 위치어긋남량을 산출하는 것을 특징으로 하는 레이저 가공장치.
The method according to any one of claims 1, 3, and 4,
The position of the positioning mark calculated by the image processing section is corrected based on the time required for outputting the image pickup instruction until the image of the positioning mark is picked up and the moving speed of the processing table And a coordinate correcting unit for correcting the coordinates
Wherein the position shift amount calculating section calculates the position shift amount of the substrate with respect to the processing table by using the position of the positioning mark corrected by the coordinate correcting section.
레이저 가공대상인 기판을 얹어 놓음과 아울러 상기 기판의 주면과 평행한 면 내에서 이동하는 가공테이블과, 상기 기판상에 마련되어 상기 기판상의 위치검출에 이용되는 위치결정용 마크를 순번대로 촬상하는 촬상부를 구비한 레이저 가공장치가, 상기 가공테이블이 정지하지 않고 연속적으로 상기 촬상부가 상기 위치결정용 마크상으로 순번대로 이동해 오도록, 상기 가공테이블로의 이동지령을 출력하는 스텝과,
상기 촬상부와 상기 기판과의 사이의 상대위치를, 상기 가공테이블의 위치에 근거하여 산출하고, 또한 상기 가공테이블의 이동속도에 따라 변화하는 상기 가공테이블과 상기 기판과의 사이의 위치어긋남량을 상기 가공테이블의 이동속도에 근거하여 산출하며, 산출한 위치어긋남량을 이용하여 상기 상대위치를 보정하는 스텝과,
상기 촬상부가 상기 위치결정용 마크상으로 이동해 왔을 때에, 보정된 상기 상대위치에 근거하여, 상기 촬상부에 촬상지시를 출력하는 스텝과,
상기 가공테이블로의 이동지령이 출력되고 있는 동안에, 상기 촬상부가 촬상한 상기 위치결정용 마크의 화상에 근거하여, 상기 위치결정용 마크의 위치를 산출하는 스텝과,
산출된 상기 위치결정용 마크의 위치를 이용하여, 상기 기판의 상기 가공테이블에 대한 위치어긋남량을 산출하는 스텝을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판위치 검출방법.
A processing table on which a substrate to be laser-processed is placed and which moves within a plane parallel to the main surface of the substrate, and an image pickup section provided on the substrate and adapted to sequentially pick up a positioning mark used for position detection on the substrate A step of outputting a movement command to the machining table so that a laser machining apparatus sequentially moves the imaging section onto the positioning mark without stopping the machining table;
A relative position between the imaging section and the substrate is calculated on the basis of the position of the processing table and a positional deviation amount between the processing table and the substrate, which varies with the moving speed of the processing table, A step of calculating based on the moving speed of the machining table and correcting the relative position by using the calculated positional shift amount;
Outputting an image pickup instruction to the image pickup section based on the corrected relative position when the image pickup section has moved to the positioning mark;
Calculating a position of the positioning mark based on an image of the positioning mark captured by the image pickup unit while a movement instruction to the processing table is being output;
And calculating the positional shift amount of the substrate with respect to the processing table using the calculated position of the positioning mark.
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