KR101366706B1

KR101366706B1 - Ｎ-[ｏ-(ｐ-피발로일옥시벤젠술포닐아미노)벤조일]글리신의 신규 제조 방법 및 그 모노나트륨염ㆍ4 수화물의 동결 건조 제제의 제조 방법

Info

Publication number: KR101366706B1
Application number: KR1020120141265A
Authority: KR
Inventors: 김문식; 김창완; 백두종
Original assignee: 상명대학교서울산학협력단; 주식회사 엠씨켐
Priority date: 2012-12-06
Filing date: 2012-12-06
Publication date: 2014-02-24
Anticipated expiration: 2031-03-23
Also published as: KR20120140230A

Abstract

본 발명은 2-아미노 벤조산과 카르복실산이 보호된 글리신 유도체와 아미드 반응을 시켜 2-아미노벤조일 글리신 유도체를 제조하고, 이 화합물과 피발로일옥시 벤젠술포닐클로라이드 화합물과 술포닐아미드 반응을 시켜 카르복실기가 보호된 N-[O-(P-피발로일옥시벤젠술포닐아미노)벤조일]글리신를 제조한 다음, 보호된 N-[O-(P-피발로일옥시벤젠술포닐아미노)벤조일]글리신를 탈보호시켜 유리된 N-[O-(P-피발로일옥시벤젠술포닐아미노)벤조일]글리신를 얻고, 공지 방법으로 N-[O-(P-피발로일옥시벤젠술포닐아미노)벤조일]글리신 모노나트륨염ㆍ4H₂O를 제조한 후 정제수에 이 화합물을 현탁시켜 소디움에톡시드로 pH를 8.0~8.5로 조정 맑은 용액을 제조하여 N-[O-(P-피발로일옥시벤젠술포닐아미노)벤조일]글리신 모노나트륨염ㆍ4H₂O의 동결 건조 제품을 만드는 것을 특징으로 한다.

Description

Ｎ-[Ｏ-(Ｐ-피발로일옥시벤젠술포닐아미노)벤조일]글리신의 신규 제조 방법 및 그 모노나트륨염ㆍ4 수화물의 동결 건조 제제의 제조 방법{Process for the preparation of N-[O-(P-Pivaloyloxybenzenesulfonylamino)-benzoyl]glycin and for the formulation of the lyophilization containing its mononatrium saltㆍ4 hydrate}

본 발명은 N-[O-(P-피발로일옥시벤젠술포닐아미노)벤조일]글리신의 신규 제조 방법 및 그 모노나트륨염ㆍ4 수화물의 동결 건조 제제의 제조 방법에 관한 것이다.

상세하게는 본 발명은 안트라닐릭산을 카복실산이 알카리 조건하에서 쉽게 제거될 수 있는 보호기로 치환된 글리신 유도체와 아미드 결합을 시켜 카복실산 보호된 N-[O-(P-피발로일옥시벤젠술포닐아미노)벤조일]글리신을 얻은 후, 이 화합물을 탈 보호시켜 유리된 N-[O-(P-피발로일옥시벤젠술포닐아미노)벤조일]글리신을 얻은 다음, 그리고 나서 N-[O-(P-피발로일옥시벤젠술포닐아미노)벤조일]글리신을 물에 녹인 후 나트륨 에탄올레이트로 pH를 7.5 - 8.5로 조절하여 용액상으로 제조하고, 동결 건조하여 목적하는 N-[O-(P-피발로일옥시벤젠술포닐아미노)벤조일]글리신 모노나트륨염ㆍ4 수화물의 신규 제조 방법에 관한 것이다.

본 발명에서 사용하는 화합물은 그 유리체인 화학식 Ⅱ로 표시되는 화합물이 일본특허 공개 평성 제3-20253호의 실시예(63)에 기재되어 있고, 화학식 Ⅰ로 표시되는 나트륨염ㆍ4 수화물(이하 화학식 Ⅰ이라 약자로 표시하는 경우가 있음)은 일본특허 공개 평성 제5-194366호의 실시예 3 및 일본특허 공개 제9-40692호의 참고예에 기재되어 있다.

화학식 I의 화합물은 엘라스타제 억제 활성을 가지며, 급성 폐 장해의 치료에 이용되고 있는 매우 유용한 화합물이다. 급성 폐 장해에 있어서는 환자는 중독인 상태에 있어, 화학식 I의 화합물은 비경구, 바람직하게는 주사제로서 장시간(24시간-수일간) 연속적으로 투여해야 한다. 이러한 사용 상황에 알맞은 제제 형태는 주사제 또는 용해시켜 사용하는 고형 조성물, 바람직하게는 동결 건조 제제이며, 또한 편의성을 고려하면 유효성분 함량에 대해 바이알 사이즈가 작은 고용량 제제가 바람직하다. 또한 화학식 II 화합물의 제조 방법은 일본공개 특허 평성 제3-20253호에 반응공정식 I과 같이 예시되어 있다.

[반응공정식 I]

상기의 방법은 알려진 바와 같이 반응공정식 I에서 아미드화 반응 중 (e) 화합물의 유리 아미노기가 구핵성이 크게 약화되어 (f) 화합물의 술포닐기의 할라이드가 아미노기와 축합반응을 하여 술폰아미드 결합을 형성하면서 동시에 글리신 유도체의 카르복실산 부위와도 일부 반응을 일으킨다. 이렇게 하여 혼합된 산 무수물을 형성시키고, 결국 목적 화합물과 그 이외의 여러 가지 부산물이 형성된다.

따라서, 수율이 크게 떨어지는 결과를 초래하여 전체 공정 수득율이 약 30 % 밖에는 되지 않는다. 상기 반응공정식 I은 공업적 합성 방법으로서 만족할 만한 제조 방법이라고는 볼 수가 없다.

상기 반응공정식 I의 약점을 크게 보완시킨 방법으로, 아래 반응공정식 II가 있다.

즉, 글리신은 가격이 저렴한 것에 비해 글리신 벤질에스터(h) 화합물은 제조 방법이 까다로워 매우 고가인 것이 커다란 결점이다.

글리신 유도체 (h)는 하기와 같은 별도의 방법에 의해 제조하여 사용할 수 있다.

그러나, 벤질 보호기를 제거하기 위해 환원성 절단 반응을 해야 하는데 이 반응에서 생각지 못한 부반응이 많이 발생하여 피발로일기가 절단된 하이드록실체 및 글리신의 에스터체가 알콜체로 변화하는 복잡한 반응이 진행된다.

[반응공정식 II]

또다른 변형 방법으로, 목적하는 [II] 화합물은 하기와 같은 반응공정식 III에 따라 제조될 수 있다.

[반응공정식 III]

상기 식에서, R은 Si(CH₃)₃ 이다.

상기 반응공정식 III에서 볼 수 있는 바와 같이, 출발 물질 2-아미노벤조산(l)을 (f) 화합물과 술폰아미드 반응을 시켜 (m) 화합물을 얻고, 별도로 제조한 실릴 보호된 글리신 유도체 (n)을 축합시켜 카르복시아미드 화합물 (o)을 얻은 다음, 상기 화합물을 산수용액 내에서 탈보호시켜 목적 화합물 (II)를 얻는다. 그러나, 이 방법도 몇 가지 결점을 지니고 있다. 즉, 실릴 보호된 글리신 유도체 (n) 화합물도 별도로 제조해야 한다.

마찬가지로 글리신 유도체 (n) 화합물의 제조가 까다로워 매우 고가인 것이 커다란 결점이다.

또한, 실릴 유도체 보호기를 제거하기 위해 산수용액 내에서 탈보호 반응을 진행할 경우 피발로일기가 동시에 제거되어 목적 화합물의 수득율이 실제로는 매우 낮은 것이 결점이다.

따라서, 본 발명자들은 이러한 지금까지의 결점을 크게 보완하여 획기적인 수율로 목적 화합물 (II)를 공장화 방법으로 제조할 수 있는 기술을 개발하였기에 본 발명을 완성할 수 있었다.

보호된 N-[O-(P-피발로일옥시벤젠술포닐아미노)벤조일]글리신을 고수율로 얻고, 이를 탈보호시켜 고수율의 목적화합물 (II)를 얻는 것이다.

[발명의 상세한 설명]

본 발명의 제조 방법은 하기 반응공정식 IV로 나타낼 수 있다.

[반응공정식 IV]

다음에 본 화합물의 제조 방법에 대해 상세히 설명한다.

본 발명의 반응공정식 IV 중의 각 공정의 반응을 단계별로 설명한다.

화합물 (l)을 화합물 (p)로 아미드화 하는 반응경로로써, 화합물 (l)로는

1) 2-아미노벤조일할라이드를 이용하는 방법,

2) 2-아미노벤조산을 이용하는 방법.

3) 혼합산 무수물을 이용하는 방법이 있다.

좀더 구체적으로 아미드 반응 방법을 설명하면, 예를 들면,

첫째, 2-아미노벤조산을 불활성 유기용매 (N,N-디메칠포름아미드, 초산에틸, 클로로포름, 염화메틸렌, 디에틸에테르, 테트라하이드로푸란, 디옥산 등의 단독 또는 2종류 이상의 혼합물) 중 또는 용매 없이 산 할라이드(옥살릴클로라이드, 티오닐클로라이드 등)와 -20~환류 온도에서 반응시켜 얻어진 2-아미노벤조일클로라이드를, 삼급 아민(피콜린, 피리딘, 트리에틸아민, 디메틸아닐린, 디메틸아미노피리딘 등) 존재하에서 글리신의 카르복실기가 보호된 글리신 유도체와 불활성 유기용매 (N,N-디메틸포름아미드, 클로로포름, 염화메틸렌, 디에틸에테르, 테트라하이드로푸란, 디옥산, 초산에틸, 아세토니트릴 등) 중에서 0~환류 온도하에서 반응시켜 (q)화합물을 얻거나,

둘째, 2-아미노벤조산을 불활성 유기용매 (N,N-디메칠포름아미드, 클로로포름, 염화메틸렌, 디에틸에테르, 테트라하이드로푸란, 디옥산, 초산에틸, 아세토니트릴 등) 중에서 축합제 (1,3-디시클로헥실카르보디이미드(DCC); 1-에틸-2-[3-(디메칠아미노)푸로필]카르복시이미드(EDC); 2-클로로-1-메틸피리디늄요오드 등)과 함께 가하고 0~환류 온도하에서 반응을 시켜 생성된 불용성 물질을 여과에 의해 제거하고 여액을 농축 제거하여 (q) 화합물을 얻거나,

셋째, 2-아미노벤조산을 불활성 유기용매 (N,N-디메칠포름아미드, 초산에틸,클로로포름, 염화메틸렌, 디에틸에테르, 테트라하이드로푸란, 디옥산드의 단독 혹은 2종류 이상의 혼합물) 중 또는 용매없이 산 무수물(무수초산, 무수푸로피온산, 무수이소푸로피온산 등)과 -20~환류 온도에서 반응시켜 얻어진 2-아미노벤조일저급알킬 치환 산 무수물을, 삼급 아민(피콜린, 피리딘, 트리에틸아민, 디메틸아닐린, 디메틸아미노피리딘 등) 존재하에서 글리신의 카르복실기가 보호된 글리신 유도체와 불활성 유기용매 (N,N-디메틸포름아미드, 클로로포름, 염화메틸렌, 디에틸에테르, 테트라하이드로푸란, 디옥산, 초산에틸, 아세토니트릴 등) 중에서 0 ℃~환류 온도하에서 반응시켜 (q) 화합물을 얻는다.

이렇게 얻은 (q) 화합물을 (f) 화합물인 트리메틸 카보닐 옥시 벤젠술포닐 클로라이드와 술폰아미드 반응을 시킨다. 즉, 불활성 유기용매 (염화메틸렌, 클로로포름, 사염화탄소, 테트라클로로에탄, 헥사클로로에탄, 테트라하이드로푸란, 테트라하이드로피란, 디옥산, 디메틸에틸, 디이소푸로필에텔, 디페닐에텔, 메틸에틸에텔) 중에 (q) 화합물과 (f) 화합물을 가해 용해하고 반응액을 0 ℃~환류 온도를 유지하면서 아민류(트리에틸아민, 피리딘, 피콜린, 디메틸아닐린, 아닐린, 이소푸로필아민 등)를 유기용매에 가해 녹여서 혹은 유기용매 없이 적가하여 (r) 화합물을 얻는다. 이렇게 얻은 (r) 화합물을

첫째, 불활성 에테르 유기용매 (테트라하이드로푸란, 테트라하이드로피란, 디옥산, 디에틸에텔, 디메틸에텔 등)와 물, 초산(3 : 1 : 1)을 섞어 25 ℃ 이하에서 탈보호 반응을 시켜 (II) 화합물을 얻거나,

둘째, 나토리움설파이드를 (r) 화합물과 함께 케톤 용매(아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등)에 가하고 물을 가하여 0~ 실온에서 탈보호 반응을 시켜 (II) 화합물을 얻거나,

셋째, (r) 화합물을 불활성 유기용매 중에 가해 녹인 후 아연 분말을 가하고 0 ℃~ 실온에서 탈보호 반응을 시켜 (II) 화합물을 얻거나,

마지막으로, (r) 화합물을 불활성 유기용매 중에 가해 용해시킨 후 유기산(개미산, 트리플루오로초산, 취산을 포함한 초산, 염산을 포함한 초산) 등을 가해 0 ℃~ 실온에서 탈보호 반응을 시켜 (II) 화합물을 얻는다.

염가의 글리신을 일반적으로 용이하게 사용되는 카르복실산 보호기 t-Boc, 시아노에틸, 트리클로로에틸 등을 이용하여 화합물 (p)을 제조한다. 이렇게 얻은 (p) 화합물을 2-아미노벤조일클로라이드와 아미드 반응을 하여 (q) 화합물을 얻고 이 (q) 화합물을 (f) 화합물과 술폰아미드 반응을 시켜 (r) 화합물을 얻는다.

이 (r) 화합물을 일반적인 탈보호 반응을 시켜 목적하는 (II) 화합물을 고수율로 제조할 수 있다.

본 발명의 특징은 (q) 화합물과 (f) 화합물을 술폰아미드 반응을 시킬 때 카르복시 보호기가 있는 상태이기 때문에 아미노기와 선택적 반응을 고수율로 진행시킬 수 있으며, 이렇게 얻은 (r) 화합물을 수용액상이 아닌 유기용매 혹은 무수산상태 조건하에서 탈보호 반응을 시켜 부반응 없이 목적화합물 (II)를 고수율로 얻을 수 있다.

지금까지 공지된 방법에 비해 무수 조건하에서 탈보호 반응을 하기 때문에 수용액 상태에서 발생하는 가수 분해 반응이 일어나지 않아 고수율로 (II) 화합물을 얻는다.

참고로, 글리세린 유도체 구조식을 갖는 (p) 화합물은 다음과 같이 제조한다.

글리신을 구조식 (s) 화합물과 불활성 유기용매 내에서 삼급아민 (피콜린, 트리에틸아민, 디메틸아닐린, 디메틸아미노피리딘 등) 혹은 축합제 (1,3-디시클로헥실카르보디이미드(DCC); 1-에틸-3-3-(디메틸아미노)푸로필]카르복시이미드(EDC); 2-클로로-1-메틸피리디늄요오드 등)과 함께 에스터 반응을 시켜 구조식 (p) 화합물을 용이하게 얻는다. (p) 화합물의 예로는 t-부틸글리시네이트(p-1), 시아노에틸글리시네이트(p-2) 또는 2,2,2-트리클로로에틸글리시네이트(p-3)를 들 수 있다.

이하, 동결 건조 제제의 제조 방법에 대해서 설명한다.

상기와 같이 실시하여 유리된 화학 구조식 (Ⅱ)를 얻은 다음, 유효성분 함량에 대한 바이알 사이즈가 작은 고용량 제제를 제조하기 위해 다음과 같이 실시한다. 일반적으로 동결 건조 제품은 제조 공정 중 투명한 용액 상태를 만든다. 만약 상태가 현탁이거나 유탁이라면 약물의 함유량이 일정치가 않기 때문이다. 따라서 고용량(80 mg/ml)을 유지하면서 제제로써 사용시 녹일 때 맑은 액상을 갖도록 최대한의 용해도 조건을 맞춰 제제를 할 필요가 있다.

화학식 (Ⅱ) 화합물은 물(0.4 mg/ml) 에탄올(6.0 mg/ml)에 대한 용해도가 극히 낮기 때문에 일반적으로 사용하는 용매를 가지고서는 고용량의 동결 건조 제제를 만들기가 어려우며 때문에 맑은 조제액을 제조하기가 곤란한 이유가 된다.

일본특허 공개 제9-40692호 화학식 (Ⅱ) 화합물을 물과 에탄올 혼합용매에 현탁하여 가성소다액을 가해 가열 용해 후 냉각시켜 화학식 (Ⅰ) 화합물을 제조하는 방법이 개시되어 있다. 일본 공개특허 평성 제5-194366호에는 탄산나트륨 및 물을 이용하여 화학식 (Ⅰ)의 동결 건조 제제를 제조하는 방법이 예시되어있다. 그러나 이 방법도 용해도 80 mg/ml을 달성하기에는 부족하다.

일본 공개특허 평성 제14-80361호에는 인산 3나트륨수화물, 가성소다 또는 KOH로부터 선택한 염기로 화학식 (Ⅰ) 화합물을 수용액 중에서 pH를 7.0-8.5로 조정 후 동결 건조하여 고농도의 제제를 제조하는 방법이 예시되어 있다.

이상의 방법에 의해 제조한 동결건조 제제는 동결 건조 후 제제의 pH값이 상승함에 따라 화학식 (Ⅰ)의 화합물이 분해되는 문제가 있기 때문에 바람직한 방법이 될 수는 없다.

이러한 단점을 보완하여 난용성 약물인 화학식 (II) 화합물의 용해도를 향상시켜 고용량 동결 건조 제제를 제공하는 방법을 다음과 같이 예시한다.

화학식 (II)의 화합물의 용해성을 향상시켜 고용량의 동결 건조 제제를 얻기 위해 여러 가지로 연구해본 결과, 화학식 (II) 화합물을 최소량의 물에 현탁시킨 후 0 ℃~실온에서 소디움에톡시드로 pH를 7.5~8.5로 조절하여 맑은 용액으로 만든 후 동결 건조하여 줌으로써 난용성인 화학식 (II) 화합물의 용해도가 대폭 향상되고 그 결과 고용량의 동결 건조 제제를 제조할 수 있는 것을 발견하여 본 발명을 완성할 수가 있었다.

즉, 상기의 제조 방법에 따라 제조한 화학식 (II) 화합물 N-[O-(P-피발로일옥시벤젠술포닐아미노)벤조일]글리신을 공지의 방법으로 모노나트륨염ㆍ4 수화물을 제조하고, 이것을 물에 현탁시켜 소디움에톡시드로 pH 7.5~8.5 조정 투명한 액으로 만든 후 동결 건조시켜 목적하는 이용성 N-[O-(P-피발로일옥시벤젠술포닐아미노)벤조일]글리신 모노나트륨염ㆍ4 수화물을 얻는 제조 방법이다.

보다 상세히 설명하면, 화학식 (II) 화합물을 물에 현탁한 후 필요하면 부형제를 첨가하여 소디움 에톡시드로 pH를 7.5~8.5로 조정한다. 그리고 통상 이용되는 동결 건조기의 냉각 온도 -50 ℃ 부근에서 동결 건조시켜 동결건조 제제를 제조한다.

이때 물과 에탄올 혼합 용매를 사용할 때 발생하는 비등 현상이나 동결이 안되는 현상을 막을 수 있고 물만을 이용하기 때문에 동결 건조 후 매우 안정하고 동결건조 제제를 재 용해한 용액도 대단히 안정하여 사용의 편의성 및 안정성을 제공한다.

또한 보존 시간도 장기간에 걸쳐 우수한 용해성과 안정성을 유지한다.

본 발명에 따르면 화학식 (II) 화합물을 고수율로 제조할 수 있을 뿐만 아니라, 화학식 (I)의 안정한 동결건조를 제조할 수 있다는 특장점이 있다.

이하 실시예에 의해 본 발명을 상세히 설명하지만 본 발명은 이들에 한정되지 않는다.

< 참고예 1-3>

1. t- 부틸글리시네이트의 제조(p-1).

건조한 다이옥산 100 ml을 가하고 0~5 ℃로 냉각한다. 이용액에 진한 황산 10 ml을 가하고 동온도를 유지하면서 글리신 3.0 g (F.W 75.07, 0.04 M), 이소부틸렌 액체 50 ml을 차례로 가하고 이 혼합물을 가압 반응부내에서 28~30 ℃를 유지하면서 2시간 동안 교반한다. 반응이 종료되었음을 확인한 후 반응액에 차가운 중조 수용액 200 ml를 적가하고 이 혼합물을 초산에틸 200 ml로 2회에 걸쳐 추출한다. 추출액을 물, 포화식염수액, 물 순으로 각각 100 ml씩 세척해준다. 유기층을 무수망초로 건조하고 여과하여 여액을 감압에 의해 용매를 제거한다. 얻어진 물질은 정제 없이 다음 반응에 이용한다.

수율: 4.48 g(99 %)

H⁺NMR(CDCl₃) : δ 1.40(9H.S)

3.61(2H,S)

2.0 (2H,S)

2. 시아노에틸글리시네이트의 제조(p-2).

글리신 0.75 g(F.W 75.07, 10 mM)을 메틸렌클로라이드/디메틸아미노피리딘을 가하고 여기에 시아노에탄올 1.42 g(F.W 71.08, 20 mM)을 가한다. 상기 용액에 DCC 2.3 g(F.W 206.33, 11 mM)을 메틸렌크로라이드 50 ml에 가해 용해 후 실온에서 적가해 준다. 적가가 끝난 후 동온도에서 하룻밤 동안 교반한다. 생성된 DCU(Dicyclohexylurea)를 여과에 의해 제거하고 여액을 감압 농축하여 제거한다. 잔사를 초산에틸 50 ml에 가해 용해한 후 물, 포화식염수, 물 순으로 각각 30 ml씩 세척한다. 유기층을 무수망초로 건조하고 여과하여 여액을 감압에 의해 제거한다. 얻어진 물질은 정제 없이 다음 반응에 이용한다.

수율: 1.26 g(96 %)

H⁺NMR(CDCl₃): δ 2.0(S,2H), 2.69(S.2H)

3.61(S.2H)

4.45(S.2H)

3. 2.2.2- 트리클로로에틸글리시네이트의 제조(p-3).

글리신 0.75 g(F.W 75.07, 10 mM)을 메틸렌클로라이드/디메틸포름아미드 용액 100 ml에 가하고 촉매량의 디메틸 아미노피리딘을 가하고 여기에 2.2.2-트리클로로에탄올 2.98 g(F.W 149.10, 20 mM)을 가한다. 이하 실시 예 2와 동일한 방법으로 처리하여 표제화합물 1.98 g(수율 96 %)을 얻는다.

H⁺NMR(CDCl₃): δ 2.0(S,2H)

3.61(S,2H), 4.84(S,2H)

< 실시예 1-11>

1. t-부틸-N-(2- 아미노벤조일 ) 글리시네이트의 제조(q-1).

2-(아미노벤조산 1.37 g(F.W 137.14, 10 mM)을 메틸렌클로라이드 100 ml, t-부틸글리시네이트 1.2 g(F.W 113.8, 10.6 mM)을 차례로 가하고 균일한 용액으로 만든다. 상기 용액을 5~10 ℃로 냉각한 후 DCC 2.3 g을 서서히 30 ℃ 이하를 유지하면서 가해준다. 실온에서 하룻밤 교반한 다음 생성된 DCU를 여과에 의해 제거한다. 여액을 물, 포화식염수, 물 순으로 각각 50 mlTlr 세척을 한다. 세척된 유기층을 무수 망초로 건조하고 여과한 후 여액을 감압 유거하여 표제 화합물 2.28 g(98 %)을 얻는다.

H⁺NMR(CDCl₃) : δ1.40(9H.S), 4.0(2H.S)

4.16(2H.S), 6.64(1H.S)

6.80(1H.S), 7.26(1H.S)

7.70(1H.S), 8.0 (1H.S)

2. 시아노에틸 -N-(2- 아미노벤조일 ) 글리시네이트의 제조(q-2).

2-아미노벤조산 1.37 g(F.W 137.14, 10 mM)을 메틸렌클로라이드 100 ml, 시아노에틸글리시네이트 1.41 g(F.W 128.15, 11 mM)을 차례로 가하고 실온에서 균일한 용액으로 만든다. 상기용액을 5~10 ℃로 냉각한 후 DCC 2.3 g을 서서히 30 ℃ 이하를 유지하면서 가해준다. 이하 실시 예 1에서의 방법과 동일하게 처리하여 표제 화합물 2.35 g(95 %)을 얻는다.

H⁺NMR(CDCl₃) : δ 2.69(2H.S), 4.0(2H.S)

4.16(2H.S), 4.45(2H.S)

6.64(1H.S), 6.80(1H.S)

7.26(1H.S), 7.70(1H.S)

8.0 (1H.S)

3. 2.2.2- 트리클로로에틸 -N-(2- 아미노벤조일 ) 글리시네이트의 제조(q-3).

2-아미노벤조산 1.37 g(F.W 137.14, 10 mM)을 메틸렌클로라이드 100 ml, 2.2.2-트리클로로에틸글리시네이트 2.27 g(F.W 206.47, 11 mM)을 차례로 가하고 실온에서 균일한 용액으로 만든다. 상기 용액을 5~10 ℃로 냉각한 후 DCC 2.3 g을 서서히 30 ℃이하를 유지하면서 가해준다. 이하 실시예 1과 동일한 방법으로 처리하여 표제 화합물 3.19 g(98 %)을 얻는다.

H⁺NMR(CDCl₃) : δ 4.0(2H.S), 4.16(2H.S)

4.84(2H.S)

6.64(1H.S)

6.80(1H.S)

7.26(1H.S)

7.70(1H.S)

8.0 (1H.S)

4. t-부틸-N-[O-(P- 피발로일옥시벤젠술포닐아미노 ) 벤조일 ] 글리시네이트의 제조(r-1).

t-부틸-N-(2-아미노벤조일)글리시네이트 2.3 g(F.W 232.32, 10 mM), P-피바로일옥시벤젠술포닐클로라이드 3.6 g(F.W 276.75, 13 mM), 피리딘 25 ml을 실온에서 가하고 하룻밤 교반한다. 감압으로 피리딘을 제거한 후 잔사를 메틸렌클로라이드 50 ml에 가해 용해한 후 묽은 염산 수용액, 포화 식염수, 물 순으로 각각 20 ml씩 세척한다. 유기층을 무수망초로 건조한 다음 여과하고 감압 농축하여 유기층을 제거하여 표제 화합물 4.5 g(95 %)를 얻는다.

H⁺NMR(CDCl₃) : δ 1.19(9H.S), 1.40(9H.S)

4.16(2H.S), 6.64~6.8(2H.m)

7.35(2H.m), 7.90(2H,m)

7.0 (1H.m), 7.26(1H.S)

5. 시아노에틸 -N-[O-(P- 피발로일옥시벤젠술포닐아미노 ) 벤조일 ] 글리시네이트의 제조(r-2).

시아노에틸-N-(2-아미노벤조일)글리시네이트 2.47 g(F.W 247.29, 10 mM), P-피발로일옥시벤젠술포닐클로라이드 3.6 g(F.W 276.75, 13 mM), 피리딘 25 ml을 실온에서 가하고 하룻밤 교반한다. 이하 실시예 4와 동일한 방법으로 처리하여 표제화합물 4.69 g(96 %)을 얻었다.

H⁺NMR(CDCl₃) : δ 1.19(9H.S), 2.69(2H.S)

4.16(2H.S), 4.45(2H.S)

6.64~6.80(2H.m)

7.26~7.35(3H.m)

7.70~7.90(3H.m)

6. 2.2.2- 트리클로로에틸 -N-[O-(P- 피발로일옥시벤젠술포닐아미노 ) 벤조일 ] 글리시네이트의 제조(r-3).

2.2.2-트리클로로에틸-N-(2-아미노벤조일)글리시네이트 3.3 g(F.W 325.61, 10 mM), P-피발로일옥시벤젠술포닐클로라이드 3.6 g(F.W 276.75, 13 mM), 피리딘 25 ml을 실온에서 가하고 하룻밤 교반한다. 이하 실시예 4와 동일한 방법으로 처리하여 표제 화합물 5.4 g(97 %)을 얻었다.

H⁺NMR(CDCl₃) : δ 1.19(9H.S), 4.16(2H.S)

4.84(2H.S)

6.64~6.80(2H.m)

7.26~7.35(3H.m)

7.70~7.90(3H.m)

8.0 (1H.S)

7. N-[O-(P- 피발로일옥시벤젠술포닐아미노 ) 벤조일 ]글리신의 제조(F.W 434.46).

t-부틸-N-[O-(P-피발로일옥시벤젠술포닐아미노)벤조일]글리시네이트 7.1 g(F.W 473.07, 15 mM)을 냉 트리플루오로초산 100 ml에 가하고 실온에서 30 분간 교반한다. 감압에 의해 트리플루오로초산을 제거한 후 잔사를 메탄올 200 ml에 가해 용해하고 pH를 3 으로 조정한다. 생성된 결정을 실온에서 3시간 교반한 다음 여과하여 모은다. 상기 표제 화합물 5.87 g(90 %)를 얻는다.

H⁺NMR(CDCl₃) :δ 1.19(9H.S), 4.14(2H.S)

6.64~6.8(2H.m)

7.26~7.35(3H.m)

7.70~7.90(3H.m)

8.0 (1H.S)

M.P : 219~223 ℃

8. N-[O-(P- 피발로일옥시벤젠술포닐아미노 ) 벤조일 ]글리신의 제조.

시아노에틸-N-[O-(P-피발로일옥시벤젠술포닐아미노)벤조일]글리시네이트 4.9 g(F.W 488.04, 10 mM)을 디메틸포름아미드 50 ml에 가하고 용해시킨다. 상기 용액에 테트라하이드로푸란 용액 내 포함된 1M 테트라부틸암모늄플루오라이드 용액 10 ml(10 mM)를 가하고 실온에서 10 분간 교반한다. 반응 혼합물을 정제수 50 ml를 가하고 메틸렌클로라이드 200 ml로 추출한다. 유기층을 물, 포화 식염수 용액, 물 순으로 각각 50 ml로 세척 후 무수망초로 건조한다. 여과하고 유기층을 감압 유거하여 메탄올 20 ml로 결정화하여 상기 표제 화합물 3.9 g(90 %)을 얻는다.

9. N-[O-(P- 피발로일옥시벤젠술포닐아미노 ) 벤조일 ]글리신의 제조.

2.2.2-트리클로로에틸-N-[O-(P-피발로일옥시벤젠술포닐아미노)벤조일]글리시네이트 21 g(F.W 566.36, 37 mM)을 실온에서 테트라하이드로푸란 100 ml에 가해 용해시킨다.

이용액에 Zn분말 20 g, 1M 포타시움 디하이드로젼 포스페이트 용액 20 ml을 빠르게 교반하면서 가해준다. 이렇게 형성된 현탁물을 10 분간 교반한 후 온도를 서서히 28 ℃까지 상승시킨다. 그리고나서 여과에 의해 아연을 제거하고 여액을 감압에 의해 제거한다. 잔사에 메탄올 70 ml로 결정화하여 상기 표제 화합물 14.8 g(92 %)을 얻는다.

10. N-[O-(P- 피발로일옥시벤젠술포닐아미노 ) 벤조일 ]글리신 모노나트륨 ㆍ4 수화물의 제조.

N-[O-(P-피발로일옥시벤젠술포닐아미노)벤조일]글리신 227 g, 에탄올 3.989 ml, 정제수 2.850 ml을 가해 현탁하고 수산화나트리움 215 g을 정제수 1.059 ml에 가해 용해한 액을 20~30 ℃에서 가하고 40~60 ℃로 가온하여 용해한다. 불용물질을 여과하여 제거하고 에탄올/정제수 혼액(1:1)으로 세척하고 냉각하여 5 ℃에서 1~3 일간 방치한다. 생성된 결정을 여과해 모아 에탄올/물 (1:1) 혼합액으로 세척하고 결정을 감압 건조하였다. 에탄올이 잔존하지 않는 것을 확인 후 감압 건조기 중에서 정제수에 노출시켜 2~3 일간 방치해 준다. 이렇게 하여 표제 화합물을 얻는다.

H⁺NMR : δ 1.32 (S. 9H), 3.80(2H.S)

7.2(1H.t.j=8.5HZ), D.15(2H,d)

j=8.5HZ), 7.41(1H, t.j=8.5HZ)

7.62(1H, d,j=8.5HZ)

7.67(1H,d,j=8.5HZ)

7.75(2H,d,j=8.5HZ)

IR(Cm-¹) : γ2979, 1750, 1628, 1588, 1401, 1216, 574

T.L.C : Rf 0.3(클로로포름:메탄올:초산 = 30:3:1)

M.P : 190~193 ℃

11. 동결 건조 제품의 제조.

화학식 II 화합물 100 g, 만니톨 25 g, 정제수 1 ℓ에 가하고 현탁시킨 후 그 용액을 -50 ℃에서 소디움 에톡시드를 가해 pH를 8.5로 조정하여 맑은 용액으로 만든후 필요하면 여과를 한다. 이 용액을 -50 ℃에서 10 기압 압력하에서 20 시간 동결 건조시켜 동결 건조 제제를 제조한다.

본 발명에 따르면, 화학식 (II) 화합물을 고수율로 얻을 수 있고, 화학식 (I)의 안정한 동결 건조 제제를 제공할 수 있다는 특장점이 있다.

Claims

화학식 (II) 화합물을 수용액 중에서 현탁시킨 후, 소디움 에톡시드로 pH를 7.5~8.5로 조정하여 균일 용액으로 만든 후, -50 ℃, 10 기압, 20 시간 조건하에서 동결 건조시켜, 화학식 (I) 화합물의 동결 건조 제제를 제조하는 방법.
청구항 1에 있어서, 화학식 (II) 화합물의 수용액 조제시 물의 양은 화학식 (II)의 10 배량 이하인 제조 방법.
청구항 1에 있어서, pH는 8.0~8.5인 제조 방법.