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KR101334614B1 - 가스 방전 레이저용의, 열팽창에 내성이 있는 예비이온화기전극 - Google Patents

가스 방전 레이저용의, 열팽창에 내성이 있는 예비이온화기전극 Download PDF

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KR101334614B1
KR101334614B1 KR1020087009797A KR20087009797A KR101334614B1 KR 101334614 B1 KR101334614 B1 KR 101334614B1 KR 1020087009797 A KR1020087009797 A KR 1020087009797A KR 20087009797 A KR20087009797 A KR 20087009797A KR 101334614 B1 KR101334614 B1 KR 101334614B1
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KR
South Korea
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elongate conductive
electrode
inner diameter
tube
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토마스 디. 스티겔
리차드 씨. 유재즈도프스키
Original Assignee
사이머 엘엘씨
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Publication date
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Abstract

가스 방전 레이저용 코로나-방전 유형의, 예비이온화기 어셈블리가 개시된다. 상기 어셈블리는 튜브 내경을 형성하는 속이 빈 유전체 튜브와, 전극을 포함한다. 일 측면에서, 상기 전극은 상기 튜브의 내경에 배치되는 제 1 끝단을 가지는 제 1의 기다란 도전성 부재를 포함한다. 추가로, 상기 전극은 상기 내경에 배치되고 상기 제 1 도전성 부재의 제 1 끝단으로부터 공간을 두고 배치되는 제 1 끝단을 가지는 제 2의 기다란 도전성 부재를 포함한다. 상기 어셈블리에 대해, 상기 제 1 및 제 2 도전성 부재는 동일한 전압 퍼텐셜에서 유지된다.
튜브 내경, 유전체 튜브, 전극, 제 1 끝단, 제 1 부재, 제 2 끝단, 제 2 부재, 전압 퍼텐셜, 가스 방전 레이저, 예비이온화기 어셈블리, 로드, 구멍

Description

가스 방전 레이저용의, 열팽창에 내성이 있는 예비이온화기 전극{THERMAL­EXPANSION TOLERANT, PREIONIZER ELECTRODE FOR A GAS DISCHARGE LASER}
본 발명은 펄싱된, 가스 방전 레이저에 관한 것이다. 본 발명은 특히, 방전 불안전성을 감소시키기 위한 코로나 방전 예비이온화기를 가지는 가스 방전 레이저에 유용하지만, 그에 한정되는 것은 아니다.
예비 이온화가 없을 때에는, ArF, XeF, 및 KrF 엑시머 레이저 및 분자 플루오르 레이저와 같은 가스 방전 펄스 레이저는 일반적으로 불안정하였다. 특히, 예비 이온화가 없을 때, 적절한 레이저 방출에 필요한 글로 방전이 발생하지 않는다. 즉, 주된 가스 방전이 발생하기 바로 직전에 상기 가스 방전 영역에서의 균일한 전자의 분포를 가져오는 예비 이온화가 고 품질의, 일정한 레이저 펄스를 산출하는 데에 사용될 수 있다.
예비 이온화에서의 초창기의 시도는 전극 물질을 기화시키고, 액티브 레이저 가스를 소모하며 그를 오염시키는 바람직하지 못한 효과를 가지는 고압 전류의, 국부화된, 고밀도 스파크를 생성하는 스파크 예비 이온화를 사용하는 것을 포함하였다. 보다 근래에는, 비-스파킹 코로나 방전 예비 이온화가 개발되어, 일반적으로 UV 및 X-선 파장을 포함하는 거의 균일한 복사 방출을 생성하는 데에 사용되어왔 다. 균일한 예비 이온화를 산출하는 코로나 방전은 핫 스팟이 없는 양질의 빔 프로파일, 고 에너지 안정성, 개선된 전극 수명 및 감소된 할로겐 소모량을 가져온다. 이러한 일 방법에서, 코로나 방전은 유전체 물질의 전체에서의 전위차를 구축함으로써 산출된다.
보다 기하학적인 식으로, 일반적인 가스 방전 레이저는 가스 물질에서의 레이징을 초기화하기 위해 공간을 두고 배치된, 기다란(예를 들면 60cm 길이의) 주된 방전 전극의 쌍을 채용한다. 펄스후 방전 영역으로부터 가스를 빠르게 배출하고 다음번 펄스를 위해 전극으로 가스의 새로운 부분을 제공하도록 전극을 통과한 레이저가능한 가스 매체를 순화시키기 위해 블로어가 설치된다. 따라서, 새로운 가스 매체의 상당히 기다란, 다소 장방형인 방전 체적이 상기 주된 전극 사이에서의 방전 바로 직전에, 균일하게 예비 이온화되는 것이 필요하다.
상술한 기하학적 배치에 대해, 거의 균일한 예비 이온화를 생성하기 위한 효과적인 방식은 상기 방전 전극과 평행하게 정렬되고 상기 방전 영역에 인접하게 배치되는 유전체 물질로 만들어진 기다란 튜브를 사용하는 것을 포함한다. 도전성 예비 이온화 전극(일반적으로 구리 또는 황동으로 만들어진)은 그런 다음 상기 튜브의 내경에 배치되고, 예비 이온화 전극과 주된 방전 전극 중 어느 하나와의 사이의 전위차를 생성하는 데에 사용된다. 이러한 전위차는 유전체 튜브를 가로질러 방사형으로 뻗어나가고 상기 튜브의 외부 표면으로부터 방출된 포톤의 거의 균일한 방출을 야기한다.
일 배치에서, 알루미늄 챔버 하우징이 상기 가스 매체와 방전 영역을 봉지하 기 위해 채용된다. 상기 예비 이온화 전극의 각 끝단은 기계적으로 그리고 일부 경우에는 전기적으로 상기 하우징에 연결되고, 이것은 그런 다음 접지된다. 따라서, 상기 예비 이온화 전극과 주된 전극 사이의 전위차는 상기 주된 전극이 접지에 대해 바이어스될 때 구축된다.
예비 이온화 시스템을 설계할 때 고려되어야만 되는 중요한 팩터는 상기 레이저 챔버에서 생성되는 열에 대한 다양한 예비 이온화 구조의 반응이다. 상술한 구조로, 황동/구리 예비 이온화 전극의 열팽창에 따른 상대적으로 부서지기 쉬운 유전체 튜브의 깨짐과 같은 하나의 주된 손상 모드가 식별된다. 특히, 이들 물질 모두는 상대적으로 고 선형적 열팽창 계수(LETC)(즉, 온도 변화의 정도당 바의 길이가 분수적으로 변하는)를 가진다. 예를 들면, 섭씨 1도당 약 23 x 10-6의 LTEC를 가지는 알루미늄에 비해, 황동은 섭씨 1도당 약 19 x 10-6의 LTEC를 가지고, 구리는 섭씨 1도당 약 17 x 10-6의 LTEC를 가진다. 동작시, 상기 예비 이온화 전극은 일반적으로 알루미늄 하우징 보다 더 고온으로 가열되고, 그 결과로써, 상기 예비 이온화 전극은 열에 노출시 스테인레스 강 하우징보다 더 팽창하고, 따라서 이러한 팽창 차이는 상기 전극으로 하여금 상기 유전체 튜브를 구부러뜨리고 부수도록 할 수도 있다.
상기의 것을 고려하면서, 출원인은 상기 레이저 챔버에서 생성된 열을 수용하면서 거의 균일한 예비 이온화 체적을 제공하는 예비 이온화 시스템 및 방법을 개시한다.
가스 방전 레이저용 예비이온화기 어셈블리는 전극 및 튜브 내경을 형성하는 유전체 튜브를 포함한다. 일측면에서, 상기 전극은 상기 튜브의 내경에 배치된 제 1 끝단을 가지는 제 1의 기다란 도전성 부재를 포함한다. 추가로, 상기 전극은 상기 내경에 배치되고 상기 제 1 도전성 부재의 제 1 끝단으로부터 공간을 두고 배치된 제 1 끝단을 가지는 제 2의 기다란 도전성 부채를 포함한다. 상기 어셈블리에 대해, 상기 제 1 및 제 2 도전성 부재는 동일한 전압 퍼텐셜로 유지될 수도 있다.
특정한 실시예에서, 상기 제 1 부재의 부분은 장축을 정의하는 로드로서 형성되고, 상기 제 1 부재의 제 1 끝단은 상기 장축과 정렬되고 내부 직경 D를 가지는 거의 원통형인 구멍으로 형성된다. 이러한 실시예에 대해, 제 2 부재의 부분은 로드로서 형성되고, 상기 제 2 부재의 제 1 끝단은, d < D 인 외부직경 d를 가지는 거의 원통형인 돌출부로 형성된다. 이러한 구조로, 상기 거의 원통형인 돌출부 중 적어도 일부는 상기 거의 원통형인 구멍 내에 배치된다.
도 1은 레이저 축에 대해 횡단으로 취해진 가스 방전 레이저 챔버의 단면도를 도시한다.
도 2는 2 개의 기다란 도전성 부재를 포함하는 예비 이온화 전극을 가지는 예비 이온화 시스템의 부분의 단면도를 도시한다.
도 3은 도 2에 도시된 시스템에서 나타나는 전극에서 사용하기 위한 제 1 도전성 부재의 총 길이 측의 도면을 도시한다.
도 4는 도 2에 도시된 시스템에서 나타나는 전극에서 사용하기 위한 제 2 도전성 부재의 총 길이 측의 도면(부분적으로 단면인)을 도시한다.
도 5는 거의 평평한 끝단을 가지는 각각의 부재를 가지는 2 개의 기다란 도전성 부재를 포함하는 예비 이온화 전극을 구비하는 예비 이온화 시스템의 또다른 실시예의 부분의 단면을 도시한다.
도 6은 오목한 끝단을 가지는 하나의 부재와 볼록한 끝단을 가지는 또다른 부재를 구비하는 2 개의 기다란 도전성 부재를 포함하는 예비 이온화 전극을 구비하는 예비 이온화 시스템의 또다른 실시예의 부분의 단면을 도시한다.
도 7은 둥그런 모서리를 가지는 각각의 부재를 구비한 2 개의 기다란 도전성 부재를 포함하는 예비 이온화 전극을 갖는 예비 이온화 시스템의 또다른 실시예의 부분의 단면을 도시한다.
먼저 도 1을 참조하면, KrF 엑시머 레이저, XeF 엑시머 레이저, ArF 엑시머 레이저, 또는 분자 플루오르 레이저와 같은 펄싱된 레이저용 가스 방전 챔버가 도시되고, 전체적으로 10으로 지정된다. 상기 챔버(10)는 일반적으로 예를 들면 니켈-도금된 알루미늄과 같은 상대적으로 강하고, 내부식성 물질로 이루어진 챔버 하우징(12)을 포함하고, 닫혀진 끝단을 가진 전체적으로 장방형 구성이다. 이러한 구조로, 상기 하우징(12)은 레이저가능한 가스 매체를 수용하는 체적(14)을 둘러싼다.
상기 챔버(10)는 또한 2 개의 기다란 공간을 두고 배치되고, 그중 하나는 음극으로 지정되고, 다른 하나는 양극으로 지정되는 전극(16, 18)을 가지는 가스 방 전 시스템을 포함한다. 이러한 배치로, 가스 방전 영역(20)이 전극(16, 18) 사이에 공간을 두고 구축되고, 도 1에 도시된 챔버(10)에 대한 페이지에 거의 직각으로 뻗어나가는 레이저 빔의 축(22)을 포함한다. 각 전극(16, 18)은 예를 들면 약 40-80cm의 길이까지 기다랗고, 전체적으로 상기 축(22)에 대해 평행한 방향으로 정렬된다. 따라서, 도시된 챔버(10)에 대한 가스 방전 영역(20)은 상기 전극(16, 18)의 길이(즉, 40-80cm)에 근사한 길이와, 다소 장방형인 단면을 가지는 기다란 체적이고, 이것은 예를 들면 ArF 엑시머 레이저에 대해 공간을 두고 이격된 전극 방향으로 3mm폭에 약 12mm까지가 될 것이다. 도시된 바와 같이, 상기 전극(16)과 하우징(12) 사이의 전기적 접촉은 예를 들면 세라믹 물질과 같은, 유전체로 만들어진 주된 절연체(24)에 의해 방지된다. 일 실시예에서, 전극(18)은 예를 들면 그라운드 퍼텐셜과 같은 일정한 기준 포텐셜에서 유지되고, 전극(16)은 상기 기준 퍼텐셜에 대해 바이어스되어 상기 가스 방전 영역(20)에서 전기 방전을 개시하도록 할 수 있다. 다른 바이어싱 방법이 가능하다는 것이 이해될 수 있을 것이다.
도 1은 또한 상기 챔버(10)가 또한 속이 빈 유전체 튜브(26), 예비 이온화 전극(28) 및, 모든 실시예에 필요한 것은 아닌 도전성 심(30)을 가지는 예비 이온화 시스템을 포함하는 것이 도시된다. 도 2는 예비 이온화 전극(28)이 상기 유전체 튜브(26)의 내경(36) 내에 배치되는 끝단(34)을 가지는 기다란 도전성 부재(32)와, 상기 유전체 튜브(26)의 내경(36) 내부에 배치되는 끝단(40)을 가지는 기다란 도전성 부재(38)를 포함하는 것을 도시한다. 도시된 바와 같이, 부재(32, 38)는 상기 튜브(26) 내의 공통 축(42)을 따라 정렬된다. 적어도 하나, 일반적으로 상기 부재(32, 38) 모두는 상기 튜브(26)의 내경(36) 내에 배치되어, 상기 부재(32, 38)가 상기 튜브(26)에 대해 축방향으로 이동할 수 있도록 한다. 예비 이온화 시스템에 대해, 상기 부재(32, 34)는 황동 또는 구리와 같은 도전성 물질로 만들어지며, 상기 유전체 튜브(26)는 세라믹으로 만들어질 수도 있다.
도 2는 또한 상기 부재(32)의 끝단(34)이 상기 부재(32, 38) 중 하나 또는 두개 모두가 열팽창하는 동안, 예를 들면 부재(38)에 대해 부재(32)의 축방향 이동을 허용하면서 부재(38)의 끝단(40)으로부터 축방향으로 공간을 두고 배치되는 것을 도시한다. 도 2에 도시된 실시예에 대해, 상기 부재(38)의 끝단(40)은 축(42)에 거의 정렬된 거의 원통형 구멍(44)으로 형성된다. 이러한 실시예에 대해, 추가로, 상기 부재(32)의 끝단(34)은 거의 원통형 돌출부(46)로 형성된다. 상대적 비에 따라서, 도시된 구조에 대해, 상기 구멍(44)은 내부 직경, D를 가지고, 상기 돌출부(46)는 외부직경 d를 가지며, 상기 돌출부(46)를 상기 구멍(44) 내에 끼워맞추고 이동시키도록 하기 위해 d < D가 된다. 상기 끝단(34)과 끝단(40) 사이의 일시적인 접촉은 축방향 팽창을 수용하도록 축방향 공간을 관리하면서 발생한다는 것이 이해될 것이다. 상기 구멍(44)과 돌출부(46)에 대한 예시적인 길이의 크기는 예를 들면 L=1.1cm l=1.0cm를 포함한다. 이러한 구조에 힘입어, 상기 제 1 및 제 2 부재(30, 32)가 각각의 끝단(34, 40)에서 축방향으로 오버랩됨에 의해 특징지워짐으로써, 상대적으로 균일한 예비 이온화 방출이 상기 부재(30, 32)의 끝단(34, 40) 근방에서 얻어질 수도 있다.
도 3은 상기 부재(32)의 총길이를 도시한다. 도시된 바와 같이, 상기 부 재(32)는 거의 원통형인, 로드부(48)(상기 튜브(26)의 내부 직경보다 근소하게 작은 외부 직경을 가짐)와, 끝단(34)에서 그로부터 뻗어나가는 돌출부(46)를 포함한다. 상기 부재(32)는 또한 아크를 감소시키기 위한 감소 섹션(상기 로드부(48)에 대해)를 가지는 부분(50)과 상기 부재(32)를 하우징 벽(도시되지 않음)에 장착하기 위한 플랜지(52)를 포함한다. 상기 부재(32)는 약 57cm의 길이를 가지는 전극으로 사용하는 약 34cm의 전체 길이, L1을 가진다.
도 4는 상기 부재(38)의 총 길이를 도시한다. 도시된 바와 같이, 상기 부재(38)는 거의 원통형인, 로드부(54)(상기 튜브(26)의 내부 직경보다 근소하게 작은 외부 직경을 가짐)와, 끝단(40)에서 형성된 구멍(44)을 포함한다. 상기 부재(38)는 또한 아크를 감소시키기 위한 감소 섹션(상기 로드부(54)에 대해)를 가지는 부분(56)과 회전을 방지하기 위해 상기 유전체 튜브(26)와 맞물리는 플랜지(58)를 포함한다. 상기 부재(38)는 약 57cm의 길이를 가지는 전극으로 사용하는 약 33.5cm의 전체 길이, L2를 가진다.
도 5는 상기 유전체 튜브(26)의 내경(36)내에 배치되는 거의 평평한 끝단(34')을 가지는 기다란 도전성 부재(32')를 포함하는 예비 이온화 전극(28')을 가지는 예비 이온화 시스템의 또다른 실시예를 도시한다. 상기 전극(28')은 또한 상기 유전체 튜브(26)의 내경 내에 배치되고 상기 부재(32')의 끝단(34')으로부터 축방향으로 공간을 두고 배치된 거의 평평한 끝단(40')을 가지는 기다란 도전성 부재(38')를 포함한다. 이와 같은 축방향으로 공간을 두고 배치되는 것은 상기 유전 체 튜브(26)를 부숴뜨리지 않고서도 상기 부재(32', 38')의 열 팽창을 허용한다.
도 6은 상기 유전체 튜브(26)의 내경(36)내에 배치되는 거의 오목한 끝단(34")을 가지는 기다란 도전성 부재(32")를 포함하는 예비 이온화 전극(28")을 가지는 예비 이온화 시스템의 또다른 실시예를 도시한다. 상기 전극(28")은 또한 상기 유전체 튜브(26)의 내경 내에 배치되고 상기 부재(32")의 끝단(34")으로부터 축방향으로 공간을 두고 배치된 거의 오목한 끝단(40")을 가지는 기다란 도전성 부재(38")를 포함한다. 이와 같은 축방향으로 공간을 두고 배치되는 것은 상기 유전체 튜브(26)를 부숴뜨리지 않고서도 상기 부재(32", 38")의 열 팽창을 허용한다.
도 7은 상기 유전체 튜브(26)의 내경(36)내에 배치되는 둥그런 끝단(34'")을 가지는 기다란 도전성 부재(32'")를 포함하는 예비 이온화 전극(28'")을 가지는 예비 이온화 시스템의 또다른 실시예를 도시한다. 상기 전극(28'")은 또한 상기 유전체 튜브(26)의 내경 내에 배치되고 상기 부재(32'")의 끝단(34'")으로부터 축방향으로 공간을 두고 배치된 둥그런 끝단(40'")을 가지는 기다란 도전성 부재(38'")를 포함한다. 이와 같은 축방향으로 공간을 두고 배치되는 것은 상기 유전체 튜브(26)를 부숴뜨리지 않고서도 상기 부재(32'", 38'")의 열 팽창을 허용한다.
방위
다시 도 1을 참조하면, 동작시 전압차가 상기 유전체 튜브(26)를 가로질러 방사형으로 인가되어 주된 전극(16)과 주된 전극(18) 사이의 방전 이전에 예비 이온화 방출을 구축한다. 이러한 전압 퍼텐셜은 다양한 방식 중 하나로 달성될 수 있다. 예를 들면, 전위차는 상기 예비 이온화 전극(28)과 도전성 심(30) 사이에 구축될 수도 있다. 이러한 경우, 두 부재(32, 38) 모두는 일반적으로 동일한 전압 퍼텐셜에 유지된다. 도시된 바와 같이, 상기 도전성 심(30)은 상기 튜브(26)와 주된 절연체(24) 사이에 배치되고, 대략 상기 유전체 튜브(26)의 길이를 따라 같이 뻗어나가도록 연장될 수도 있다. 상기 도전성 심(30)은 상기 전극(16)과 전기적으로 접촉할 수도 있고, 접촉하지 않을 수도 있다. 일부 실시예에서, 상기 부재(32, 38)는 상기 하우징(12)에 전기적으로 연결되며, 이것은 그런다음 예를 들면 접지와 같은 기준 퍼텐셜에 연결된다. 상기 도전성 심(30) 및/또는 상기 전극(16, 18) 중 어느 하나는 그런 다음 상기 기준 퍼텐셜에 대해 바이어스 되어, 상기 튜브(26) 전체의 전압 차이를 구축한다.
하나의 예비 이온화 튜브(26) 만이 상기 방전 전극(16, 18)의 업스트림에 배치되는 것으로 도시되었지만, 다른 배치가 동일하게 본 출원서에 따라 적절하게 될 수 있다는 것이 이해될 것이다. 예를 들면, 예비 이온화 튜브(26)는 상기 방전 전극(16, 18)의 다운스트림에 배치되거나 또는 하나는 상기 전극(16, 18)의 업스트림에 배치되고 다른 하나는 상기 방전 전극(16, 18)의 다운스트림에 배치되는 한 쌍의 예비 이온화 튜브(26)가 사용될 수도 있다.
35 U.S.C. §112를 만족시키는 데에 필요한 본 특허 출원에서 상세히 기술되고 예시된 실시예(들)의 특정한 측면들이 상술한 실시예(들)의 측면에 의해 해결될 문제, 또는 그의 목적을 위한 기타 다른 이유를 위한 상술한 목적을 완전히 달성할 수 있지만, 당업자는, 본 발명의 상술한 실시예(들)의 본문의 기술된 측면들이 본 발명에 의해 폭넓게 사용되는 제재의 단순히 예시적이고, 일예로 든, 대표적인 실 시예임을 이해해야한다. 실시예의 현재 기술되고, 청구된 측면들의 범위는 본 명세서의 교안에 따라 당업자에 현재 명확하거나 또는 명확하게 될 다른 실시예들을 완전히 포함한다. 본 발명의 범위는 첨부된 청구범위에 의해서만 단순하게 그리고 완벽하게 한정되고 첨부된 청구범위의 인용을 벗어나는 것은 없다. 단수형으로 이러한 청구범위들의 구성요소를 참조하는 것은 명확하게 기술되지 않는다면, 이러한 청구범위의 구성요소는 "하나 이상"이 아니라 "하나 및 하나만"을 의미하도록 번역되어서도 안되고, 그것을 의도하는 것도 아니다. 당업자에 공지된 또는 차후 알려지게 될 실시예(들)의 상술한 측면들의 임의의 구성 요소에 상당하는 모든 구조적 및 기능적 등가물은 참조에 의해 본문에 통합되고, 본 청구범위에 의해 커버되도록 의도된다. 본 출원서의 명세서 및/또는 청구범위에서 사용된 용어와 표현된 주어진 의미는 이러한 용어에 대해 사전에 관계없이 또는 기타 공통으로 사용되는 의미를 가진다. 본 청구범위에 의해 커버되는 것에 대해, 본 출원서에서 개시된 실시예들의 측면에 의해 해결하고자 하는 각 문제 및 모든 문제를 처리하기 위한 실시예의 임의의 측면으로서 상기 명세서에서 개시된 디바이스 및 방법을 의도하지 않으며, 그에 필수적인 것도 아니다. 본 개시물에서의 구성요소, 컴포넌트, 및 방법의 단계 중 어떤 것도 상기 구성 요소, 컴포넌트, 또는 방법의 단계가 상기 청구범위에서 명확하게 인용되는 지 여부에 관계없이 공개되는 것을 의도하는 것은 아니다. 첨부된 청구범위에서의 청구범위의 구성요소는, 상기 구성요소가 "~을 의미한다"는 구를 사용하는 것으로, 방법 청구항의 경우에는 상기 구성요소가 "동작" 대신에 "단계"로서 기술되는 것으로 명확하게 기술되지 않는다면, 35 U.S.C. §112, 6항 규정에 따라 해석되지 않는다.
상술한 본 발명의 실시예의 측면들은 바람직한 실시예일 뿐, 어떠한 방식으로도 본 발명(들)의 설명에 한정하지 않으며, 특히 특정한 실시예에 단독으로 한정되는 것이 아님을 당업자는 이해해야한다. 다수의 변형 및 변경이 당업자에 의해 이해되고 납득이 될 개시된 발명(들)의 실시예의 개시된 측면들에 대해 이루어질 수 있다. 상기 첨부된 청구범위는 본 발명(들)의 실시예(들)의 개시된 측면의 범위 및 의미를 포함할 뿐만 아니라, 또한 이러한 등가물과 당업자에 의해 명확하게 될 다른 변형 및 변경을 포함할 것을 의도한다.

Claims (20)

  1. 튜브 내경을 형성하는 유전체 튜브; 및
    전극;을 포함하고,
    상기 전극은:
    상기 튜브 내경에 배치된 제 1 끝단과, 제 2 끝단을 구비하는 제 1의 기다란 도전성 부재; 및
    제 1 끝단과 제 2 끝단을 구비하는 제 2의 기다란 도전성 부재로서, 상기 제 2의 기다란 도전성 부재의 상기 제 1 끝단은 상기 튜브 내경에 배치되고 상기 제 1의 기다란 도전성 부재의 상기 제 1 끝단으로부터 이격되어 있어서 상기 제 1의 기다란 도전성 부재의 상기 제 1 끝단과 상기 제 2의 기다란 도전성 부재의 상기 제 1 끝단 사이에 전기적 갭(gap)이 형성되는 제 2의 기다란 도전성 부재;를 포함하고,
    상기 제 1의 기다란 도전성 부재 및 제 2의 기다란 도전성 부재는 동일한 전압 퍼텐셜을 갖는 것을 특징으로 하는 가스 방전 레이저용 예비이온화기 어셈블리.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 부재의 적어도 일부는 장축을 정의하는 로드로서 형성되고, 상기 제 1 부재의 상기 제 1 끝단은 상기 장축과 정렬된 원통형 구멍으로 형성되는 것을 특징으로 하는 가스 방전 레이저용 예비이온화기 어셈블리.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 원통형 구멍은 내부 직경, D를 가지고, 상기 제 2 부재 중 적어도 일부는 로드로서 형성되고, 상기 제 2 부재의 상기 제 1 끝단은 d < D인 외부 직경 d를 가지는 원통형인 돌출부로 형성되는 것을 특징으로 하는 가스 방전 레이저용 예비이온화기 어셈블리.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 원통형 돌출부의 상기 적어도 일부는 상기 원통형 구멍의 내부에 배치되는 것을 특징으로 하는 가스 방전 레이저용 예비이온화기 어셈블리.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 및 제 2 부재는 가스 방전 챔버 하우징에 전기적으로 연결되는 것을 특징으로 하는 가스 방전 레이저용 예비이온화기 어셈블리.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 부재의 적어도 일부는 직경 drod를 가진 로드로서 형성되고, 상기 제 1 부재의 상기 제 1 끝단은 직경 drod를 가지는 평평한 표면으로서 형성되는 것을 특징으로 하는 가스 방전 레이저용 예비이온화기 어셈블리.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 부재의 적어도 일부는 로드로서 형성되고, 상기 제 1 부재의 상기 제 1 끝단은 오목한 내부 표면을 가지는 캐비티로 형성되고, 상기 제 2 부재의 적어도 일부는 로드로서 형성되고, 상기 제 2 부재의 상기 제 1 끝단은 볼록한 외부 표면을 가지는 돌출부로 형성되는 것을 특징으로 하는 가스 방전 레이저용 예비이온화기 어셈블리.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 돌출부의 적어도 일부는 상기 캐비티 내에 배치되는 것을 특징으로 하는 가스 방전 레이저용 예비이온화기 어셈블리.
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 튜브는 세라믹 물질로 만들어지고, 상기 전극은 황동으로 만들어지는 것을 특징으로 하는 가스 방전 레이저용 예비이온화기 어셈블리.
  10. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 부재의 상기 제 1 끝단은 둥그렇고, 상기 제 2 부재의 상기 제 1 끝단은 둥그런 형상인 것을 특징으로 하는 가스 방전 레이저용 예비이온화기 어셈블리.
  11. 제 1 항에 있어서,
    상기 유전체 튜브는 외부 표면을 가지고, 상기 어셈블리는 상기 외부 표면을 상기 가스 방전 레이저의 방전 전극에 연결시키기 위한 컨덕터를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 가스 방전 레이저용 예비이온화기 어셈블리.
  12. 챔버 하우징;
    장축을 형성하는 제 1의 기다란 방전 전극;
    상기 제 1 전극으로부터 공간을 두고 배치되고, 상기 장축에 평행하게 정렬되는 제 2의 기다란 방전 전극;
    상기 하우징 내의 레이저 가스 매체;
    상기 가스 매체를 여기시키기 위해 상기 제 1 및 제 2 방전 전극 사이에 전위차를 구축하는 전압원; 및
    튜브 내경을 형성하는 유전체 튜브, 및 예비이온화기 전극을 구비하는 예비이온화기 어셈블리;를 포함하고,
    상기 예비이온화기 전극은,
    상기 장축에 평행하게 정렬되는 제 1의 기다란 도전성 부재로서, 상기 제 1 기다란 도전성 부재의 적어도 일부가 상기 튜브 내경에 배치되는 제 1의 기다란 도전성 부재; 및
    상기 장축에 평행하게 정렬되는 제 2의 기다란 도전성 부재로서, 상기 제 2 기다란 도전성 부재의 적어도 일부가 상기 튜브 내경에 배치되고 상기 제 1 기다란 도전성 부재로부터 이격되어 있어서 상기 제 1의 기다란 도전성 부재와 상기 제 2 기다란 도전성 부재의 적어도 일부 사이에 전기적 갭(gap)이 형성되는 제 2의 기다란 도전성 부재;를 구비하고,
    상기 제 1의 기다란 도전성 부재 및 제 2의 기다란 도전성 부재는 동일한 전압 퍼텐셜을 갖는 것을 특징으로 하는 가스 방전 레이저.
  13. 제 12 항에 있어서,
    상기 제 1 부재의 적어도 일부는 로드로서 형성되고, 상기 제 1 부재의 일 끝단은 원통형 구멍으로 형성되는 것을 특징으로 하는 가스 방전 레이저.
  14. 제 13 항에 있어서,
    상기 원통형 구멍은 내부 직경 D를 가지고, 상기 제 2 부재의 적어도 일부는 로드로서 형성되고, 상기 제 2 부재의 일 끝단은, d < D인, 외부 직경 d를 가지는 원통형 돌출부로 형성되는 것을 특징으로 하는 가스 방전 레이저.
  15. 제 14 항에 있어서,
    상기 원통형 돌출부의 적어도 일부는 상기 원통형 구멍의 내부에 배치되는 것을 특징으로 하는 가스 방전 레이저.
  16. 제 12 항에 있어서,
    상기 제 1 및 제 2 부재는 상기 챔버 하우징에 전기적으로 연결되는 것을 특징으로 하는 가스 방전 레이저.
  17. 튜브 내경과 외부 튜브 표면을 형성하는 유전체 튜브; 및
    예비이온화기 전극; 및
    포톤을 생성하기 위해 상기 예비이온화기 전극과 상기 외부 튜브 표면 상의 위치 사이의 전위차를 구축하는 전압원;을 포함하고,
    상기 예비이온화기 전극은,
    상기 장축에 평행하게 정렬되는 제 1의 기다란 도전성 부재로서, 상기 제 1 기다란 도전성 부재의 적어도 일부가 상기 튜브 내경에 배치되는 제 1의 기다란 도전성 부재; 및
    상기 장축에 평행하게 정렬되는 제 2의 기다란 도전성 부재로서, 상기 제 2 기다란 도전성 부재의 적어도 일부가 상기 튜브 내경에 배치되고 상기 제 1 기다란 도전성 부재로부터 이격되어 있어서 상기 제 1의 기다란 도전성 부재와 상기 제 2 기다란 도전성 부재의 적어도 일부 사이에 전기적 갭(gap)이 형성되는 제 2의 기다란 도전성 부재;를 구비하고,
    상기 제 1의 기다란 도전성 부재 및 제 2의 기다란 도전성 부재는 동일한 전압 퍼텐셜을 갖는 것을 특징으로 하는 가스 물질을 이온화시키기 위한 포톤 생성용 어셈블리.
  18. 제 17 항에 있어서,
    상기 제 1 부재의 적어도 일부는 로드로서 형성되고, 상기 제 1 부재의 일 끝단은 원통형 구멍으로 형성되는 것을 특징으로 하는 가스 물질을 이온화시키기 위한 포톤 생성용 어셈블리.
  19. 제 18 항에 있어서,
    상기 원통형 구멍은 내부 직경, D를 가지고, 상기 제 2 부재의 적어도 일부는 로드로서 형성되고, 상기 제 2 부재의 일 끝단은, d < D인, 외부 직경 d를 가진 원통형 돌출부로 형성되는 것을 특징으로 하는 가스 물질을 이온화시키기 위한 포톤 생성용 어셈블리.
  20. 제 19 항에 있어서,
    상기 원통형 돌출부의 적어도 일부는 상기 거의 원통형 구멍 내에 배치되는 것을 특징으로 하는 가스 물질을 이온화시키기 위한 포톤 생성용 어셈블리.
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Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA2778454C (en) 2009-10-26 2021-03-02 Prometheus Laboratories Inc. Assays for the detection of anti-tnf drugs and autoantibodies
RU2446530C1 (ru) * 2011-01-28 2012-03-27 Владимир Михайлович Борисов Импульсно-периодический газоразрядный лазер
KR20140047628A (ko) 2011-07-06 2014-04-22 네스텍 소시에테아노님 Ｔｎｆ알파로의 생물학적 치료요법에 대한 중화 자가항체의 검출을 위한 검정
MX2017007232A (es) 2014-12-05 2017-10-16 Nestec Sa Ensayos de desplazamiento por movilidad homogeneos indirectos para la deteccion de productos biologicos en muestras de pacientes.
WO2021071681A1 (en) * 2019-10-11 2021-04-15 Cymer, Llc Conductive member for discharge laser
US11862922B2 (en) * 2020-12-21 2024-01-02 Energetiq Technology, Inc. Light emitting sealed body and light source device
CN114696185A (zh) * 2020-12-30 2022-07-01 北京科益虹源光电技术有限公司 准分子激光器预电离管的定位工装及安装方法
WO2024201185A1 (en) 2023-03-28 2024-10-03 Cymer, Llc Laser chamber having discharge gap with acoustic control
WO2024201226A1 (en) 2023-03-29 2024-10-03 Cymer, Llc Laser chamber preionizer having acoustic scattering surface
WO2025120393A1 (en) 2023-12-07 2025-06-12 Cymer, Llc Laser chamber with discharge system having acoustic scattering surfaces
WO2025133792A1 (en) 2023-12-18 2025-06-26 Cymer, Llc Laser chamber gas flow and acoustic control

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5719896A (en) 1996-03-29 1998-02-17 Cymer Inc. Low cost corona pre-ionizer for a laser
US5847494A (en) * 1993-10-07 1998-12-08 Aea Technology Plc Corona discharge reactor
KR20010062136A (ko) * 1999-12-08 2001-07-07 다나카 아키히로 자외선을 방출하는 가스 레이저 장치
US6757315B1 (en) 1999-02-10 2004-06-29 Lambda Physik Ag Corona preionization assembly for a gas laser

Family Cites Families (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6522A (en) 1849-06-12 Padlock
US679A (en) 1838-04-07 Safety life-preserver
CH612298A5 (ko) * 1976-06-23 1979-07-13 Battelle Memorial Institute
DE3313811A1 (de) * 1983-04-15 1984-10-18 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Transversal angeregter gaslaser
IT1197768B (it) * 1983-12-29 1988-12-06 Selenia Ind Elettroniche Preionizzatore ad effetto corona per laser a gas
NO853264L (no) * 1984-10-15 1986-04-16 Siemens Ag Transversalt eksitert gasslaser og fremgangsm¨te til dens drift.
US4662173A (en) 1985-04-29 1987-05-05 Teledyne Industries, Inc. Exhaust manifold for opposed cylinder engines
JPH02214178A (ja) * 1989-02-15 1990-08-27 Hiromi Kawase ホロー陰極型放電デバイス
US5200970A (en) * 1990-12-03 1993-04-06 Summit Technology, Inc. Methods and compositions for protecting laser excitation gases from contamination
KR950013054B1 (ko) * 1991-04-23 1995-10-24 마쯔시다덴기산교 가부시기가이샤 방전여기가스레이저장치
US5331810A (en) 1992-05-21 1994-07-26 Arvin Industries, Inc. Low thermal capacitance exhaust system for an internal combustion engine
US5337330A (en) * 1992-10-09 1994-08-09 Cymer Laser Technologies Pre-ionizer for a laser
DE19523338A1 (de) * 1994-06-29 1996-02-01 Okaya Electric Industry Co Überspannungsschutzelement vom Entladungstyp und Verfahren zu dessen Herstellung
DE4426723A1 (de) * 1994-07-22 1996-01-25 Atl Lasertechnik & Accessoires Gleitentladungsvorionisation für Gaslaser
US5818865A (en) 1997-05-16 1998-10-06 Cymer, Inc. Compact excimer laser insulator with integral pre-ionizer
JP3390671B2 (ja) * 1998-04-27 2003-03-24 炳霖 ▲楊▼ チップなしサージアブソーバの製造方法
US6433482B1 (en) * 1998-05-11 2002-08-13 Wisconsin Alumni Research Foundation Barium light source method and apparatus
US6650679B1 (en) 1999-02-10 2003-11-18 Lambda Physik Ag Preionization arrangement for gas laser
US6456643B1 (en) 1999-03-31 2002-09-24 Lambda Physik Ag Surface preionization for gas lasers
US6587718B2 (en) * 1999-10-08 2003-07-01 Scimed Life Systems, Inc. Iontophoretic delivery to heart tissue
US6522679B1 (en) * 2000-02-22 2003-02-18 Tuilaser Gas laser discharge unit
US7132123B2 (en) * 2000-06-09 2006-11-07 Cymer, Inc. High rep-rate laser with improved electrodes
JP3971382B2 (ja) * 2001-09-13 2007-09-05 サイマー インコーポレイテッド 改良された電極を備える高繰返率のレーザ
US6774566B2 (en) * 2001-09-19 2004-08-10 Toshiba Lighting & Technology Corporation High pressure discharge lamp and luminaire
US6950453B2 (en) * 2003-07-03 2005-09-27 Secretary, Department Of Atomic Energy Goverment Of India Pulser driven, helium free transversely excited atmospheric-pressure (TEA) CO2 laser
JP2005183068A (ja) * 2003-12-17 2005-07-07 Ushio Inc 放電ランプ
JP2005251585A (ja) * 2004-03-04 2005-09-15 Nec Lighting Ltd 冷陰極蛍光ランプ
US7522650B2 (en) 2004-03-31 2009-04-21 Cymer, Inc. Gas discharge laser chamber improvements

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5847494A (en) * 1993-10-07 1998-12-08 Aea Technology Plc Corona discharge reactor
US5719896A (en) 1996-03-29 1998-02-17 Cymer Inc. Low cost corona pre-ionizer for a laser
US6757315B1 (en) 1999-02-10 2004-06-29 Lambda Physik Ag Corona preionization assembly for a gas laser
KR20010062136A (ko) * 1999-12-08 2001-07-07 다나카 아키히로 자외선을 방출하는 가스 레이저 장치

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WO2007038412A3 (en) 2007-06-21
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US7542502B2 (en) 2009-06-02
JP2009510783A (ja) 2009-03-12
DE602006018033D1 (de) 2010-12-16

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